DE19746138A1 - Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem Festkörper - Google Patents
Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem FestkörperInfo
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title abstract description 3
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 56
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims abstract description 43
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 47
- 230000010287 polarization Effects 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- 230000015654 memory Effects 0.000 claims description 16
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 10
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 239000002772 conduction electron Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 2
- 241001432959 Chernes Species 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 230000005426 magnetic field effect Effects 0.000 description 1
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/0213—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using deviation of charged particles by the magnetic field
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/02—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
- G01R33/06—Measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux using galvano-magnetic devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/161—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect details concerning the memory cell structure, e.g. the layers of the ferromagnetic memory cell
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1673—Reading or sensing circuits or methods
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/18—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using Hall-effect devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66984—Devices using spin polarized carriers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/82—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of the magnetic field applied to the device
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10B—ELECTRONIC MEMORY DEVICES
- H10B61/00—Magnetic memory devices, e.g. magnetoresistive RAM [MRAM] devices
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/02—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
- G11C11/16—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using elements in which the storage effect is based on magnetic spin effect
- G11C11/165—Auxiliary circuits
- G11C11/1675—Writing or programming circuits or methods
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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- Hall/Mr Elements (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Detektieren der überwiegenden Polarisationsrich
tung eines durch Injektion aus einem magnetisierten ferromagnetischen Kontaktkörper eines
nicht ferromagnetischen Festkörpers in letzterem erzeugten Stroms spinpolarisierter Elek
tronen. Sie betrifft ferner eine Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens.
Das Verfahren und die Vorrichtung sind bevorzugt zur Anwendung in der Magnetspeicher
technik vorgesehen. In der Magnetspeichertechnik können äußerst hohe Speicherdichten
erreicht werden; Magnetspeicher sind nicht flüchtig. Zum Schreiben muß lediglich die Ma
gnetisierung durch Anlegen eines externen Magnetfeldes geändert werden. Schwierigkeiten
bereitet jedoch der elektronische Auslesevorgang bei Magnetspeichern.
Ein ferromagnetisches Partikel, das eine Hysterese und ein endliches Koerzitivfeld aufweist,
kann in Form seiner Magnetisierungsrichtung eine Information speichern. Dabei bedeutet
die Speicherung eines Bits eine Magnetisierung entweder parallel oder antiparallel zu einer
vorgegebenen Raumrichtung; es handelt sich hierbei um die sogenannte
Magnetspeichertechnologie. Ein Partikel, das ein Bit speichert, kann prinzipiell vollständig
in eine Richtung magnetisiert sein. Abhängig von der Zustandsdichte (Material) bedeutet
dies jedoch keine 100% Spinpolarisation der Leitungselektronen. Prinzipiell kann die Spin
polarisation der Leitungselektronen sogar umgekehrt sein. Daher wird von einer "überwie
genden" Polarisationsrichtung gesprochen. Wichtig ist nur, daß im allgemeinen ein wie auch
immer gearteter Bezug zwischen Magnetisiereinrichtung und Polarisation der Leitungselek
tronen besteht.
Die Elektronen in einem ferromagnetischen Material weisen abhängig von der Ausrichtung
des Elektronenspins eine unterschiedliche Zustandsdichte auf. Unterscheidet sich diese Zu
standsdichte an der Fermikante, so besitzen die Elektronen, die einen Strom transportieren,
eine Vorzugspinausrichtung entsprechend der Magnetisierung. Ebenso finden Elektronen,
die von einem anderen Material in einen Ferromagneten eintreten, eine unterschiedliche
Anzahl freier Zustände je nach Ausrichtung ihres Spins vor.
Nach US-PS 54 32 373 (Johnson 373) kann bei Stromfluß aus einem Ferromagneten in ei
nen Nichtferromagneten die Spinpolarisation der Elektronen über einen gewissen Abstand
zum jeweiligen Kontakt erhalten bleiben. Eine Anordnung, die im Bekannten hierfür ange
nommen wird, besteht aus einem ferromagnetischen Metallkontakt auf einem nicht ferro
magnetischen leitenden oder halbleitenden Festkörper.
Hierbei wird ausgenutzt, daß die Spinpolarisation der Leitungselektronen beim Übergang
aus dem ferromagnetischen Kontaktmaterial in das nicht ferromagnetische Festkörpermate
rial erhalten bleibt und dort einen spinpolarisierten Strom erzeugt. Im folgenden wird dies
als Injektion bezeichnet. Die Spinpolarisation der Elektronen bleibt über eine gewisse mate
rial- und temperaturabhängige Distanz erhalten. Da die meisten Streumechanismen für
Elektronen deren Spin nicht direkt beeinflussen, ist davon auszugehen, daß die Spinrelaxati
onslänge deutlich größer ist als die mittlere freie Weglänge für Elektronen. Ein elektroni
sches Ausleseverfahren einer in dem jeweiligen ferromagnetischen Kontakt gespeicherten
Information kann also darin bestehen, die Spinpolarisation des Stroms zu detektieren.
Eine aus US-PS 56 54 566 (Johnson 566) bekannte Methode zum Detektieren der Spinpola
risation der aus dem ferromagnetischen Kontakt in den leitenden oder halbleitenden Fest
körper injizierten Elektronen erfordert einen zweiten ferromagnetischen Kontakt an dem
Festkörper. Es wird hierbei angenommen, daß die Eigenschaften des zweiten Kontakts je
nach Ausrichtung seiner Magnetisierung relativ zur Spinpolarisation des Stroms variieren.
Grund hierfür soll die unterschiedliche Zustandsdichte für beide Spinausrichtungen im Fer
romagneten sein, die eine spinabhängige Eintriftswahrscheinlichkeit für die ankommenden,
spinpolarisierten Elektronen bewirken soll. Die Zustandsdichte im Halbleiter ist jedoch im
Vergleich zu den Zustandsdichten in den ferromagnetischen Kontakten so gering, daß die
Spinselektivität unmeßbar klein wird; tatsächlich finden alle Elektronen aus dem Halbleiter
einen freien Zustand im ferromagnetischen Kontakt.
Wenn man den zweiten ferromagnetischen Kontakt durch eine Tunnelbarriere vom ersten
Ferromagneten trennt, wird die Spinselektivität wieder hergestellt. In diesem Fall sind aber
ein hoher Widerstand und erhebliche Herstellungsprobleme betreffend die Tunnelbarrieren,
die üblicherweise aus einem Oxid von wenigen Nanometern Dicke bestehen und keine De
fekte aufweisen dürfen, in Kauf zu nehmen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Detektieren der Spinpolari
sation des aus einem magnetisierten ferromagnetischen Kontaktkörper in einen nicht ferro
magnetischen Festkörper injizierten Stroms spinpolarisierter Elektronen zu schaffen, bei
dem die vorbeschriebenen Nachteile vermieden werden. Es wird also nach einem neuen
Meßprinzip gesucht, das es erlaubt, die Spinpolarisation unmittelbar zu erfassen, das tech
nologisch sinnvolle Ein- und Ausgangswiderstände erreicht, Tunnelbarrieren oder derglei
chen schwierig herzustellende Hilfsmittel nicht benötigt und eine möglichst geringe Emp
findlichkeit gegenüber Drift-, Offset- und Rauschspannungen besitzt, so daß ein entspre
chend ausgebildetes Bauelement als nicht flüchtige Speicherstelle für die Informationsmen
ge 1 Bit bei im Verhältnis zu herkömmlichen, auf Silizium basierenden dynamischen Spei
chern (DRAM) hoher Integrationsdichte zu nutzen ist. Prinzipiell soll zwar nur ein Vorteil
gegenüber den nicht flüchtigen Speichern Flash-Ram, EPROM, EEPROM, erreicht werden.
Im Rahmen der Aufgabe wäre es aber ein weiterer Fortschritt, wenn zusätzlich auch noch
die flüchtigen dynamischen Speicher durch nicht flüchtige Speicher ersetzt werden können.
Die Eingangs- und Ausgangswiderstände sollten kompatibel zur herkömmlichen Technolo
gie (CMOS) sein.
Die erfindungsgemäße Lösung besteht für das eingangs genannte Verfahren darin, daß in
dem Festkörper ein das jeweils injizierte Elektron abhängig von seinem durch den Spin er
zeugten magnetischen Moment ablenkendes inhomogenes Magnetfeld erzeugt wird und daß
das durch diese magnetische Ablenkung der spinpolarisierten Elektronen aufgebaute elektri
sche Feld als Spannung detektiert wird; letzteres soll mit anderen Worten bevorzugt heißen,
daß das Integral des elektrischen Feldes als Spannung zwischen zwei Kontakten bestimmt
wird.
Bei einer bevorzugten Vorrichtung zum Durchführen dieses Verfahrens werden an den
Festkörper mindestens ein die spinpolarisierten Elektronen injizierender ferromagnetischer
Kontaktkörper (bzw. Injektorkontakt), mindestens ein das inhomogene Magnetfeld erzeu
gender Ferromagnet und mindestens ein elektrischer Kontakt zum Erfassen des elektrischen
Feldes vorgesehen. Vorzugsweise bedeutet das, daß mindestens ein Injektor und ein zweiter
Kontakt zum Stromeinprägen und mindestens ein Ferromagnet und zwei Kontakte zur Er
fassung des Feldes, von denen einer den Magneten beinhalten kann, gebraucht werden.
"Ferromagnet" steht hierbei für jedes Mittel, das in der Lage ist, die erforderlichen Magnet
felder mit der extremen Inhomogenität zu erzeugen und aufrechtzuerhalten. Einige Verbes
serungen und weitere Ausgestaltungen der Erfindung werden in den Unteransprüchen ange
geben.
Die Erfindung schlägt ein Meßverfahren vor, das von den bisher verwendeten Verfahren im
Grundsatz abweicht. Die üblichen Effekte eines Magnetfelds auf Elektronen in einem Fest
körper, insbesondere Halbleiter, lassen sich mit den Stichwörtern Magnetowiderstand und
Halleffekt zusammenfassen. Beide Effekte sind in erster Näherung vom Elektronenspin un
abhängig. Sie beruhen auf der Lorentzkraft, die eine Ablenkung bewegter Elektronen in
einer Richtung senkrecht zu der aus Strom- und Magnetfeldrichtung aufgespannten Ebene
bewirkt. Betrachtet man zusätzlich die Magnetfeldwirkung auf den spinpolarisierten Trans
port, so wird in der Literatur einzig die Präzession des Elektronenfeldes im externen homo
genen Magnetfeld erwähnt; vgl. A. G. Aronov, G. E. Pikus, Spin injection into semicon
ductors, Sov. Phys. Semicond. 10, 6, (1976), 698-700.
Erfindungsgemäß wird eine andere Kraft, nämlich eine Kraft, die es erlaubt, spinpolari
sierte Elektronen zu beschleunigen bzw. abzulenken, genutzt. Diese Kraft wurde 1921 im
sogenannten Stern-Gerlach-Versuch beim Nachweis der Spinquantisierung von Silberato
men in einem stark inhomogenen Magnetfeld entdeckt (vgl. Lehrbücher der Physik).
Die erfindungsgemäße Übertragung der für nicht geladene Teilchen konzipierten Idee des
Stern-Gerlach-Versuchs auf geladene Teilchen, nämlich Elektronen, die aufgrund eines
quantisierten Spins ein magnetisches Moment aufweisen, führt dazu, daß auf das in den
Festkörper injizierte spinpolarisierte Elektron in einem mit einem Gradienten behafteten
Magnetfeld B aufgrund des magnetischen Moments M die Kraft F = M.∇B wirkt.
Diese Kraft, die dem erfindungsgemäß zu detektierenden elektrischen Feld bzw. dem loka
len Gradienten der Spannung proportional ist, bewirkt eine zur Beschleunigung und Aus
lenkung des spinpolarisierten Elektronenstroms (also anders als bei der Lorentzkraft) inner
halb der Strom/Magnetfeld-Ebene in Richtung des B-Feldgradienten. Die erfindungsgemäß
angewendete das einzelne Elektron ablenkende Kraft F ist auch nur abhängig vom Gra
dienten des Magnetfeldes und vom magnetischen Moment des Elektrons. Diese Kraft ist
dagegen unabhängig von der Größe des (Elektronen-)Stroms. Der Polarisationsgrad und
Strom bestimmen über die Zahl der spinpolarisierten Elektronen nur den Ausgangswider
stand.
Einige weitere Vorteile der Erfindung bestehen darin, daß ein Analysekontakt und ein Ma
gnetfeldsensor nicht erforderlich sind, und vor allem, daß bei Einsatz üblicher Herstellungs
verfahren eine Speicherstelle mit weniger Prozeßaufwand und mit deutlich kleinerer Di
mension als bisher herzustellen ist. Beispielsweise läßt sich das externe Magnetfeld eines
sehr kleinen ferromagnetischen Partikels an der Partikeloberfläche aufgrund der Stetigkeits
bedingungen so hoch wie die Magnetisierung des Partikels machen, es kann also im Bereich
von 1 bis 2 Tesla liegen. In geringem Abstand von der Partikeloberfläche nimmt das (dort
inhomogene) Magnetfeld extrem schnell ab. Ein Partikel von etwa 300 nm Durchmesser
erzeugt in einem Abstand von 1 Mikrometer quasi kein Feld mehr. Das externe Magnetfeld
weist daher nahe der Partikeloberfläche - innerhalb z. B. 500 nm - einen extrem hohen Gra
dienten auf, der eine Größenordnung von 107 T/m erreichen kann. Bevorzugt sollen im
Rahmen der Erfindung den Miniaturisierungsmaßstäben entsprechend kleine ferromagneti
sche Partikel mit Durchmessern kleiner als 500 nm, insbesondere kleiner als 200 nm, einge
setzt werden. Die Partikel können, wenn möglich, noch kleiner sein. Angestrebt werden
derzeit Durchmesser von 100 nm und weniger.
Im Rahmen der Erfindung kann der Festkörper aus Halbleitermaterial oder einem leitendem
nicht ferromagnetischem Material bestehen, besonders bevorzugt als Material wird Silizium.
Ein zum Erzeugen des inhomogenen Magnetfeldes vorgesehener ferromagnetischer Kontakt
soll quer zur mittleren Injektionsrichtung der spinpolarisierten Elektronen und parallel zur
Oberfläche des die Elektronen führenden Festkörpers magnetisiert werden. Dem magneti
sierten ferromagnetischen Kontaktkörper - auch Injektorkontakt - insgesamt kann ein nicht
ferromagnetischer aber auch ein zweiter ferromagnetischer Kontaktkörper auf einer gegen
überliegenden Kante des Festkörpers zugeordnet werden.
Die Erfindung wird einschließlich weiterer Ausgestaltungen und Verbesserungen teilweise
unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung noch näher erläutert. Dabei zeigen:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht einer erfindungsgemäß ausgebilde
ten Speicherzelle mit einem Injektorkontakt;
Fig. 2 und 3 den Mechanismus von Fig. 1 bei parallelen oder antiparalleler
Ausrichtung von Spinpolarisation und Magnetfeld;
Fig. 4 und 5 den Mechanismus wie bei Fig. 2 und 3, jedoch mit einer Zelle mit
zwei Injektorkontakten;
Fig. 6 eine planare Version der Speicherzelle nach Fig. 1;
Fig. 7 den Verlauf des (inhomogenen) Magnetfeldes nach Fig. 6; und
Fig. 8 eine Speichermatrix mit einer Vielzahl von Bauelementen nach
Fig. 1 oder 6.
In der in Fig. 1 gezeigten Anordnung befinden sich auf einander gegenüberliegenden Kan
ten eines aus Halbleitermaterial, vorzugsweise Silizium, bestehenden Festkörpers 1 ein fer
romagnetischer Kontaktkörper 2 - das ist in Fig. 1 ein sogenannter Injektorkontakt - und ein
nicht ferromagnetischer Kontaktkörper 3, der in Fig. 1 nur zur Stromeinprägung dient. An
die beiden anderen Festkörperkanten grenzen ein ferromagnetischer Kontakt 4 zur Ablen
kung und Spannungsmessung und ein nicht ferromagnetischer Kontakt 5 zur Spannungs
messung an.
Der ferromagnetische Kontaktkörper 2 soll parallel zur Oberfläche des Festkörpers 1 und
quer zur Verbindungslinie der Kontaktkörper 2, 3, also der mittleren Stromrichtung 6, ma
gnetisiert sein. Die Magnetisierungsrichtung in dem Körper 2 wird mit 7 bezeichnet. Zwi
schen den Kontaktkörpern 2 und 3 sollen Elektronen 8 im Mittel längs der Stromrichtung 6
fließen. Die Elektronen 8 sollen zu einem bestimmten Prozentsatz spinpolarisiert sein. Diese
Spinpolarisation 9 entspricht von der Richtung her der Magnetisierungsrichtung 7 des
Kontaktkörpers 2 oder ist ihr entgegengesetzt, je nachdem wie die Spinpolarisation die Lei
tungselektronen mit der Magnetisierung verknüpft ist.
Im folgenden bezeichnet die Stromrichtung 6 die Bewegungsrichtung der injizierten spin
polarisierten Elektronen. Ein Strom vom Kontaktkörper 2 zum Kontaktkörper 3 durch den
Festkörper 1 wird entsprechend der durch die Magnetisierung des Kontaktkörpers 2 be
stimmten unterschiedlichen Zustandsdichte für die verschiedenen Spinrichtungen spinpola
risiert. Durch das inhomogene Magnetfeld des Kontakts 4 wirkt eine Kraft auf die spinpola
risierten Elektronen 8. Durch die Kraft kommt es zu einer Ladungstrennung, die eine Span
nung U zwischen den Kontakten 4 und 5 erzeugt. Diese Spannung wechselt ihr Vorzeichen,
je nachdem ob die (resultierende) Kraft anziehend oder abstoßend ist.
Wird der Festkörper 1 als rechteckig symbolisiert, sitzen die Kontaktkörper 2 und 3 auf den
Festkörperkanten 10 bzw. 11 und die Kontakte 4 und 5 grenzen an die Kanten 12 bzw. 13.
Die Magnetisierung 14 des Kontakts 4 soll nach Fig. 1 in Richtung auf den anderen Kontakt
5 verlaufen. Diese Richtung wird als x-Richtung bezeichnet. Der Kontakt 4 bzw. dessen
Anschluß an den Festkörper 1 befindet sich bei x = 0, der Kontakt 5 (bzw. dessen An
schlußstelle an den Festkörper 1) befindet sich bei x = d, wenn d der Abstand der gegen
überliegenden Kanten 12 und 13 des Festkörpers 1 ist.
Ohne Beschränkung der Allgemeinheit wird in Fig. 1 ein B-Feld 14 in Plus-x-Richtung an
genommen. Die Abmessungen des Kontaktes 4 und dessen Form werden so gewählt, daß
das externe Magnetfeld in Plus-x-Richtung den bereits beschriebenen hohen B-Gradienten
aufweist. Auf die spinpolarisierten Elektronen 8, die sich von dem Kontaktkörper 2 in
Richtung auf den Kontaktkörper 3 durch den Festkörper 1 bewegen, wirkt eine Kraft F auf
grund des durch den Elektronen-Spin erzeugten magnetischen Moments und des Magnet
feldgradienten.
Dadurch werden die Elektronen 8 abgelenkt, wobei die hierdurch erfolgende Ladungstren
nung aufgrund der ungleichen Verteilung der verschiedenen magnetischen Momente ein
(der Auslenkung entgegenwirkendes) elektrisches Feld E aufbaut. Dieses elektrische Feld
hat die Größe E = 1/e.M.∇B.
Zwischen den beiden Kontakten 4 und 5 liegt daher eine Spannung U, die dem Integral
über das elektrische Feld E von 4 nach 5 entspricht. Ist das Magnetfeld B vom Kontakt 4 (x
= 0) bis zum Kontakt 5 (x = d) auf Null abgefallen, so ergibt das Integral U = 1/e.M.B.
Diese Spannung kann je nach Betrag der Magnetisierung des Kontakts 4 im Bereich zwi
schen 100 Mikrovolt und 1 Millivolt liegen. Die Spannung U ist, wie aus der letzten Formel
ersichtlich ist (ganz im Gegensatz zur spinunabhängigen Hallspannung) nicht vom Strom
zwischen den Kontaktkörpern 2 und 3 abhängig. Der Strom bestimmt einzig den Aus
gangswiderstand des Bauelements bzw. Speicherelements. Das Bauelement kann also an
bestehende Schaltungen angepaßt werden. Wenn die Spannung U mit den gesonderten
Kontakten 4 und 5 gemessen wird, steckt die erfindungsgemäße Information über die Spin
polarisation nicht im Spannungspegel, sondern allein im Vorzeichen.
Fig. 2 zeigt ein Beispiel für Aufbau und Funktion eines erfindungsgemäßen Bauelements
bei paralleler Ausrichtung von Spinpolarisation 9 und ablenkendem (inhomogenen) Magnet
feld 14. Zwischen die Kontaktkörper 2 und 3 wird eine Spannungsquelle 15 gelegt, die ge
suchte Spannung U zwischen den Kontakten 4 und 5 wird an dem Meßgerät 16 abgelesen.
In Fig. 3 wird ein ähnlicher Aufbau wie in Fig. 2 dargestellt. Der Unterschied besteht im
wesentlichen darin, daß die Spinpolarisation 9 der Elektronen 8 antiparallel zum Magnetfeld
14 liegt.
Die Spinpolarisation des Elektronenstroms wird durch den Injektorkontakt vorgegeben.
Werden jedoch die Kontaktkörper 2 und 3 identisch ausgelegt, so können durch Umkehr der
Stromrichtung wahlweise die Kontaktkörper 2 oder 3 ausgelesen werden. In diesem Fall
verdoppelt sich die Integrationsdichte. In Fig. 4 und 5 werden ähnliche Verhältnisse wie bei
Fig. 2 und 3 dargestellt; jedoch wird vorgesehen, daß beide Kontaktkörper 2 und 3 ferroma
gnetisch sind und als Speicher einer Polarisations-Information dienen können. Es ist dann -
wie dargestellt - möglich, an ein und demselben Bauelement zwei Injektorkontakte (2, 3)
durch Umkehrung der Stromrichtung 6 bzw. Umpolung der Spannungsquelle 15 auszulesen.
Ein erfindungsgemäßes Bauelement kann, wie gesagt, als Speicherstelle bzw. Speicherele
ment für die Informationsmenge 1 Bit genutzt werden, wobei eine sehr hohe Integration zu
erreichen ist. Die Miniaturisierung kann wesentlich weiter als bei herkömmlichen DRAMs
getrieben werden.
Die jeweils gespeicherte Information kann wahlweise im Kontaktkörper 2 oder im Kontakt
4 gespeichert werden, wobei zum Auslesen die Magnetisierungsrichtung des jeweils ande
ren Kontakts bekannt sein muß. Im allgemeinen ist es aber günstig, den zum Speichern ver
wendeten ferromagnetischen Kontakt aus weichmagnetischem Material und den zum Er
zeugen des stark inhomogenen Magnetfeldes benutzten Kontakt aus hartmagnetischem Ma
terial herzustellen.
In Fig. 6 wird eine planare Version der Anordnung von Fig. 1 dargestellt. Das aktive Gebiet,
der Festkörper 1, wird z. B., insbesondere bei Verwendung von Halbleitermaterial, durch
Ionenimplantation erzeugt. Nach Fig. 1 befinden sich die Kontakte 4 und 5 in der Ebene des
Festkörpers 1, nach Fig. 6 befinden sich alle Kontakte 2, 3 und 4, 5 auf der Oberfläche des
Festkörpers 1. Die Kontakte 4, 5, die das inhomogene B-Feld erzeugen sollen, werden nach
Fig. 6 und 7 so dünn gemacht, daß Magnetfeld und Feldgradient an der Oberfläche (von 1)
nahezu parallel zu dieser verlaufen. Diese Herstellungsweise ist kompatibel mit herkömmli
cher Technologie.
Fig. 7 zeigt einen bevorzugten Verlauf des ablenkenden (inhomogenen) Magnetfeldes vor
dem ablenkenden Kontakt 4 in der planaren Variante nach Fig. 6. Durch einen sehr dünnen
Kontakt 4 verläuft der B-Gradient unmittelbar in bzw. an der Oberfläche des Festkörpers 1,
insbesondere also des Halbleiterkörpers.
Gemäß weiterer Erfindung werden die Kontakte 4 und 5 beide als Ferromagneten ausgelegt.
Bei beiden Kontakten 4 und 5 kann das B-Feld in die gleiche Richtung weisen, wenn nur
der B-Gradient der Kontakte 4 und 5 entgegengesetzt ist. Wird dann der Abstand d der
Kontakte 4 und 5 so gewählt, daß das Magnetfeld beider Kontakte in der Mitte (x = d/2)
zwischen den Kontakten nahezu Null ist, so addieren sich die Spannungen, die durch die
Feldgradienten erzeugt werden. Die Ausgangsspannung wird dadurch verdoppelt.
Falls eine technologische Inkompaktibilität zwischen dem Material des Kontakts 4 und
demjenigen des Festkörpers 1 bestehen sollte, kann der Kontakt 4 durch eine dünne, nicht
ferromagnetische Metallschicht 17 vom Festkörper 1 getrennt werden, ohne die Funktion
wesentlich zu beeinträchtigen. Ebenso muß der Injektormagnet 2 nicht notwendigerweise
mit dem Halbleiter 1 direkten Kontakt haben. Es ist vorstellbar, daß zur Verbesserung der
Kontakteigenschaften eine nicht ferromagnetische dünne Metallschicht eingebracht wird,
wobei in dieser der Spin nicht -jedenfalls nicht störend - relaxieren darf.
Der Kontakt 5 kann im Prinzip auch ganz weggelassen werden. In diesem Fall wird die
Spannung U zwischen den Kontakten 4 und 3 oder 4 und 2 gemessen, wobei jedoch mit
Änderung der Spinpolarisation kein Vorzeichenwechsel, sondern nur eine Spannungsände
rung auftritt. Diese Lösung ist zu bevorzugen, wenn eine ausreichend große Spannungsän
derung auftritt und eine durch den Wegfall des einen Kontakts ermöglichte höhere Integra
tionsdichte erwünscht ist.
Bei Integration werden die einzelnen Bauelemente in einer Speichermatrix angeordnet.
Hierbei verläuft in jeder Spalte und in jeder Zeile eine Leitung, wobei sich an dem umzuma
gnetisierenden Kontakt je eine Zeilen- oder Spaltenleitung überlagern. Das Magnetfeld,
welches eine Zeilen- oder Spaltenleitung allein erzeugt, ist kleiner als das Koerzitivfeld ei
nes Information speichernden Kontaktes. An der Stelle, an der sich das Feld einer
Spalten- oder Zeilenleitung überlagern, wird die Koerzitivfeldstärke überschritten. Auf diese Weise
können mit einer einfachen Ansteuerung die Kontakte selektiv ummagnetisiert (umge
schrieben) werden. Diese Zeilen- und Spaltenleitungen können auch zur Ansteuerung
(Adressierung) der einzelnen Elemente und zum Auslesen genutzt werden.
Im Rahmen der Erfindung können mehrere Speicherelemente zusammengeschaltet werden,
wobei jeweils Kontaktkörper 2 vom n-ten Element und Kontaktkörper 3 (n + 1)-ten-Element
verbunden werden. Bei Strom von Kontaktkörper 3 des ersten Elements der Kette zum
Kontaktkörper 2 des letzten Elements der Kette liegen an allen Elementen der Kette die zu
gehörigen Ausgangsspannungen an. Diese können also parallel ausgelesen werden. Alterna
tiv können mehrere Elemente zusammengeschaltet werden, wobei jeweils Kontakt 4 vom
n-ten Element mit Kontakt 5 des (n + 1)-ten Element zu verbinden ist. Bei Ansteuerung des
n-ten Bauelements der Kette über seine Kontaktkörper 2 und 3 liegt zwischen Kontakt 5 des
ersten Elements und Kontakt 4 des letzten Elements die Ausgangsspannung des n-ten Ele
ments an. Dadurch wird ein selektives Auslesen mit nur einer Ausgangssignalleitung er
möglicht.
Die vorgenannten Verkettungen können kombiniert werden, in dem die Kontaktkörper 2
und 3 beispielsweise in Spalten und die Kontaktkörper 4 und 5 in Reihen angeordnet wer
den. Es kann dann ein Strom durch eine Spalte eingeprägt und durch Auswahl einer Reihe
ein einzelnes Element der Matrix gezielt ausgelesen werden. In diesem Fall benötigt man
2n-Leitungen um n2-Elemente zu adressieren. Bei dieser Matrix-Verkettung können die
Kontakte 4 und 5 jeweils von zwei Bauelementen genutzt werden. Von der Funktionsweise
her sollen dann die Kontakte 4 und 5 bei nebeneinanderliegenden Speicherelementen sei
tenvertauscht angebracht werden. Die Zusammenfassung spart nicht nur Platz, sondern auch
Material und Herstellungsaufwand. Eine entsprechende Verschaltung und Ansteuerung an
derer Elemente in einer Matrix mit gemeinsamer Nutzung der Kontakte durch je zwei Ele
mente wird in Fig. 8 dargestellt.
Fig. 8 geht noch weiter. Es wird nämlich eine Variante mit zwei ablenkenden Magneten
eingesetzt. Da ein Magnet von beiden Enden jeweils unterschiedlich aussieht, werden alle
Elemente gleichsinnig betrieben. Zusätzlich sind alle Kontakte 2 und 3 Informationsträger.
Sie dienen aber, je nachdem welches Element betrachtet wird, entweder als Injektor oder als
zweiter Kontakt zum Stromeinprägen (hierbei stört die Magnetisierung nicht). Man hat also
zwei Kontakte gespart, bzw. man nutzt die 2 Bit Variante, liest aber nicht durch Stromum
kehr aus. Die einzelnen Zusammenhänge werden am besten aus der Zeichnung und den Be
zugszeichen von Fig. 8 verständlich.
1
Festkörper
2
,
3
Kontaktkörper
4
,
5
Kontakt
6
Elektronenstrom
7
Magnetisierung
8
Elektronen
9
Spinpolarisation
10-13
Kanten (
1
)
14
B-Feld
15
Spannungsquelle
16
Spannungsmeßgerät
17
Metallschicht
Claims (24)
1. Verfahren zum Detektieren der überwiegenden Polarisationsrichtung
eines durch Injektion aus einem magnetisierten ferromagnetischen Kontaktkörper (2) eines
nicht ferromagnetischen Festkörpers (1) in letzterem erzeugten Stroms spinpolarisierter
Elektronen (8)
dadurch gekennzeichnet,
daß in dem Festkörper (1) ein das jeweils injizierte Elektron (8) abhängig von seinem durch
den Spin erzeugten magnetischen Moment ablenkendes inhomogenes Magnetfeld erzeugt
wird und daß das durch diese magnetische Ablenkung der spinpolarisierten Elektronen (8)
aufgebaute elektrische Feld als Spannung detektiert wird.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Injektion durch Anlegen einer Spannung zwischen dem ferromagnetischen Kontakt
körper (2) und einem weiteren Kontaktkörper (3) des Festkörpers (1) erfolgt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß der ferromagnetische Kontaktkörper (2) als Informationsträger bzw. Magnetspeicher
magnetisiert wird.
4. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß das elektrische Feld als Spannung zwischen Kontakten (2, 4; 3, 4; 4, 5) des Festkörpers
(1) gemessen wird.
5. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß das elektrische Feld als Spannung zwischen zwei zusätzlich zu dem ferromagnetischen
Kontaktkörper (2) vorgesehenen Kontakten (4, 5) des Festkörpers (1) in einer Richtung im
wesentlichen quer zur mittleren Stromrichtung (6) der Elektronen (8) gemessen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß nur die Richtung des elektrischen Feldes bzw. die Polarität der Spannung gemessen
wird.
7. Verfahren nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß das inhomogene Magnetfeld mit Hilfe eines an einer Festkörperkante (12) außerhalb
des Festkörpers (1) positionierten, externen Ferromagneten (4) erzeugt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß der ferromagnetische Kontaktkörper (2) oder der externe Ferromagnet (4)
als Informationsträger bzw. Magnetspeicher magnetisiert wird.
9. Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens nach mindestens einem der Ansprüche 1
bis 8,
dadurch gekennzeichnet,
daß an dem Festkörper (1) mindestens ein die spinpolarisierten Elektronen (8) injizierender
ferromagnetischer Kontaktkörper (2), mindestens ein das inhomogene Magnetfeld erzeu
gender Ferromagnet und mindestens ein elektrischer Kontakt (4) zum Erfassen des elektri
schen Feldes vorgesehen sind.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet,
daß der die spinpolarisierten Elektronen (8) injizierende ferromagnetische
Kontaktkörper (2) und ein zweiter Kontaktkörper (3) zum Anlegen einer elektrischen Span
nung für die Elektroneninjektion an gegenüberliegenden Kanten (10, 11) des Festkörpers (1)
angeordnet sind.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10,
dadurch gekennzeichnet,
daß die beiden Kontaktkörper (2, 3) ferromagnetisch sind und zugleich oder wahlweise als
magnetisierbarer Informationsträger bzw. Magnetspeicher dienen.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10 oder 11,
dadurch gekennzeichnet,
daß an gegenüberliegenden Kanten (12, 13) des Festkörpers (1) auf einer Linie im wesentli
chen quer zur mittleren Stromrichtung (6) der spinpolarisierten Elektronen (8) je ein elektri
scher Kontakt (4, 5) zum Erfassen des elektrischen Feldes vorgesehen ist.
13. Vorrichtung nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
daß wenigstens einer der elektrischen Kontakte (4, 5) einen externen Ferromagneten zum
Erzeugen jeweils eines inhomogenen Magnetfelds im Festkörper (1) darstellt oder enthält.
14. Vorrichtung nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet,
daß als Ferromagnet ein den Miniaturisierungsmaßstäben der Magnetspeichertechnologie
entsprechend kleines ferromagnetisches Partikel, vorzugsweise unter 500 nm, insbesondere
unter 200 nm, Durchmesser, vorgesehen ist.
15. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 14,
dadurch gekennzeichnet,
daß der jeweilige externe Ferromagnet durch eine relativ zu den Festkörpermaßen dünne
Schutz- bzw. Metallschicht (17) von dem Festkörper (1) getrennt ist.
16. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 15,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Verkettung mehrerer Festkörper (1) mit Kontakten (2, 3, 4, 5) und zugehörigen
Ferromagneten vorgesehen ist, wobei jeweils ein und derselbe externe Ferromagnet bzw.
elektrische Kontakt zum Erzeugen des inhomogenen Magnetfeldes und zum Messen des
elektrischen Feldes in zwei benachbarten Festkörpern vorgesehen sind.
17. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 16,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine Verkettung mehrerer Festkörper (1) mit Kontakten (2, 3, 4, 5) und zugehörigen
Ferromagneten vorgesehen ist, wobei jeder Kontakt von je zwei Elementen genutzt ist und
jedes Element im Schnitt nur zwei Kontakte hat und wobei der Injektorkontakt des jeweils
einen Elements dem anderen unabhängig von der Magnetisierung als Kontakt zum Anlegen
der Injektionsspannung dient (Fig. 8).
18. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 17 und 22 bis 24,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Bereiche bzw. Kontakte zum Erzeugen des inhomogenen Magnetfelds so dünn sind,
daß Magnetfeld und Magnetfeldgradient an der Festkörperoberfläche nahezu parallel zu
dieser verlaufen (Fig. 7).
19. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 18,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein jeweils als Quelle der spinpolarisierten Elektronen (8) dienender ferromagnetischer
Kontaktkörper (2) aus im Sinne einer leichten Unmagnetisierbarkeit weichferromagneti
schem Material besteht.
20. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 19,
dadurch gekennzeichnet,
daß der jeweils zum Erzeugen des inhomogenen Magnetfeldes dienende Ferromagnet (4)
aus einem möglichst hartmagnetischen Material besteht.
21. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 20,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Festkörper (1) im wesentlichen aus einem Halbleitermaterial, vorzugsweise aus Si
lizium, besteht.
22. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 21,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine planare Anordnung des Festkörpers (1) mit den Kontakten (2, 3, 4, 5) vorgesehen
ist (Fig. 6).
23. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 21,
dadurch gekennzeichnet,
daß sich die Kontakte (2, 3, 4, 5) und Ferromagneten auf der Oberfläche der planaren An
ordnung befinden (Fig. 1).
24. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 9 bis 23,
dadurch gekennzeichnet,
daß ein durch Ionenimplantation erzeugtes aktives Gebiet als Festkörper (1) vorgesehen ist.
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19746138A DE19746138A1 (de) | 1997-10-18 | 1997-10-18 | Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem Festkörper |
CN98811302A CN1279765A (zh) | 1997-10-18 | 1998-10-15 | 用来探测固体中的自旋偏振电子流的方法 |
KR1020007004144A KR20010031201A (ko) | 1997-10-18 | 1998-10-15 | 고체 바디내 스핀 분극화된 전자의 흐름을 검출하기 위한방법 |
PCT/DE1998/003026 WO1999021022A2 (de) | 1997-10-18 | 1998-10-15 | Verfahren zum detektieren eines stroms spinpolarisierter elektronen in einem festkörper |
JP2000517287A JP2001521151A (ja) | 1997-10-18 | 1998-10-15 | 固体中のスピン分極した電子の流れを検出する方法 |
EP98959729A EP1046045A2 (de) | 1997-10-18 | 1998-10-15 | Verfahren zum detektieren eines stroms spinpolarisierter elektronen in einem festkörper |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19746138A DE19746138A1 (de) | 1997-10-18 | 1997-10-18 | Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem Festkörper |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19746138A1 true DE19746138A1 (de) | 1999-04-22 |
Family
ID=7845967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19746138A Withdrawn DE19746138A1 (de) | 1997-10-18 | 1997-10-18 | Verfahren zum Detektieren eines Stroms spingpolarsierter Elektronen in einem Festkörper |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1046045A2 (de) |
JP (1) | JP2001521151A (de) |
KR (1) | KR20010031201A (de) |
CN (1) | CN1279765A (de) |
DE (1) | DE19746138A1 (de) |
WO (1) | WO1999021022A2 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10019697A1 (de) * | 2000-04-20 | 2001-11-15 | Sebastian T B Goennenwein | Verfahren zur Erzeugung und Charakterisierung von spinpolarisierten Ladungsträgersystemen und darauf beruhende Bauelemente |
WO2004051754A1 (ja) | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Japan Science And Technology Agency | スピン注入素子及びスピン注入素子を用いた磁気装置 |
WO2005013372A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Spin injection devices |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101106639B1 (ko) * | 2005-08-08 | 2012-01-18 | 삼성전자주식회사 | 전자제품의 조작패널 |
CN102376872B (zh) * | 2010-08-20 | 2014-05-28 | 中国科学院微电子研究所 | 基于霍尔效应的mos晶体管 |
FR3066297B1 (fr) * | 2017-05-11 | 2019-06-14 | Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives | Dispositif quantique a qubits de spin |
CN108151931B (zh) * | 2017-12-23 | 2019-08-09 | 福州大学 | 一种估算硒化铋中线偏振光产生的自旋横向力的方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2663751B1 (fr) * | 1990-06-25 | 1992-09-18 | Commissariat Energie Atomique | Magnetometre directionnel a resonance. |
US5654566A (en) * | 1995-04-21 | 1997-08-05 | Johnson; Mark B. | Magnetic spin injected field effect transistor and method of operation |
US5652445A (en) * | 1995-04-21 | 1997-07-29 | Johnson; Mark B. | Hybrid hall effect device and method of operation |
US5801984A (en) * | 1996-11-27 | 1998-09-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic tunnel junction device with ferromagnetic multilayer having fixed magnetic moment |
-
1997
- 1997-10-18 DE DE19746138A patent/DE19746138A1/de not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-10-15 KR KR1020007004144A patent/KR20010031201A/ko not_active Application Discontinuation
- 1998-10-15 CN CN98811302A patent/CN1279765A/zh active Pending
- 1998-10-15 EP EP98959729A patent/EP1046045A2/de not_active Withdrawn
- 1998-10-15 WO PCT/DE1998/003026 patent/WO1999021022A2/de not_active Application Discontinuation
- 1998-10-15 JP JP2000517287A patent/JP2001521151A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10019697A1 (de) * | 2000-04-20 | 2001-11-15 | Sebastian T B Goennenwein | Verfahren zur Erzeugung und Charakterisierung von spinpolarisierten Ladungsträgersystemen und darauf beruhende Bauelemente |
WO2004051754A1 (ja) | 2002-11-29 | 2004-06-17 | Japan Science And Technology Agency | スピン注入素子及びスピン注入素子を用いた磁気装置 |
EP1571712A1 (de) * | 2002-11-29 | 2005-09-07 | Japan Science and Technology Agency | Drehinjektionsvorrichtung und magnetische vorrichtung mit verwendung der drehinjektionsvorrichtung |
EP1571712A4 (de) * | 2002-11-29 | 2009-05-13 | Japan Science & Tech Agency | Drehinjektionsvorrichtung und magnetische vorrichtung mit verwendung der drehinjektionsvorrichtung |
WO2005013372A2 (en) * | 2003-07-30 | 2005-02-10 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Spin injection devices |
WO2005013372A3 (en) * | 2003-07-30 | 2005-03-24 | Hewlett Packard Development Co | Spin injection devices |
US7164181B2 (en) | 2003-07-30 | 2007-01-16 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Spin injection devices |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2001521151A (ja) | 2001-11-06 |
KR20010031201A (ko) | 2001-04-16 |
EP1046045A2 (de) | 2000-10-25 |
WO1999021022A9 (de) | 1999-08-05 |
WO1999021022A3 (de) | 1999-07-01 |
WO1999021022A2 (de) | 1999-04-29 |
CN1279765A (zh) | 2001-01-10 |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
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|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |