TWM613067U - 研磨裝置 - Google Patents

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TWM613067U
TWM613067U TW110200001U TW110200001U TWM613067U TW M613067 U TWM613067 U TW M613067U TW 110200001 U TW110200001 U TW 110200001U TW 110200001 U TW110200001 U TW 110200001U TW M613067 U TWM613067 U TW M613067U
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module
polishing
grinding
carrier
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TW110200001U
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吳丞峰
葉建成
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信錦企業股份有限公司
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Abstract

本創作係關於一種研磨裝置，用於研磨一工件。該研磨裝置包括一第一滑軌模組、一滑動座、一第一致動模組、二調整機構、二打磨機及一控制模組。該滑動座承載該工件，可動地設於該第一滑軌模組上。該第一致動模組可驅動該滑動座移動。所述調整機構互相對應地鄰設於該第一滑軌模組，並分別具有一座體、一承載體及一第二致動模組。 所述打磨機分別對應地設置於所述承載體，並分別具有一打磨面，所述打磨面共同定義一間距。其中，該控制模組對該第二致動模組發出一控制訊號，以驅動該承載體於該座體上移動，使該間距變化。

Description

研磨裝置
本創作係關於一種研磨裝置，尤指一種用於打磨長柱狀工件的研磨裝置。
塑膠產品在射出成形後容易出現毛邊，尤其在公母模的接合處容易會產生合模線，使得製造出的工件表面不平滑，故需要進一步進行打磨。一般的打磨機台適用於打磨剛性較強的實心物件，例如木材塊或金屬塊，若用來磨去中空的塑膠物件的合模線時，就會發生過磨(例如磨穿塑膠件)或欠磨(例如合模線部分殘留)的現象。因此，對於中空的長柱狀塑膠物件，目前多以人工的方式磨去合模線，然此種加工方式會需要較多的人力投入生產線，使得製造成本增加又造成產能降低，且相同樣式的工件經人工打磨後仍會具有些微差異，導致所生產的各工件外觀無法維持一致性。
本創作之一主要目的在於，提供一研磨裝置，能夠以固定的機械模式打磨去除工件產品上的合模線，使相同樣式的各工件可以受到相同程度的研磨，因此各工件在打磨後的外觀可以維持 一致，且藉由本創作的研磨裝置，可減少加工處理的人力需求，有助於整體生產流程的自動化。
為達上述目的，本創作揭露一種研磨裝置，用於研磨一工件的一外表面，該外表面具有相對應的二側面區，該研磨裝置包括一第一滑軌模組、一滑動座、一第一致動模組、二調整機構、二打磨機以及一控制模組。該第一滑軌模組沿一第一軸線延伸。該滑動座用於承載該工件，可動地設於該第一滑軌模組上。該第一致動模組可驅動該滑動座於該第一滑軌模組上沿該第一軸線移動。所述調整機構互相對應地鄰設於該第一滑軌模組兩側，並分別具有一座體、一承載體及一第二致動模組，該承載體可移動地設於該座體上，該第二致動模組可驅動該承載體於該座體上移動。所述打磨機分別對應地設置於所述承載體，每一打磨機具有一打磨面，用以與所述側面區分別對應接觸，所述打磨面在一第二軸線上共同定義一間距，該第二軸線與該第一軸線垂直。該控制模組可發出一控制訊號。其中，當該第二致動模組接收該控制訊號時，該第二致動模組驅動該承載體於該座體上不平行該第一軸線移動，使該間距變化。
所述側面區共同定義一工件寬度，當該工件位於所述打磨面之間且所述打磨面的該間距為一初始間距，且該第二致動模組接收該控制訊號時，所述打磨面的該間距自該初始間距變化至實質上等於該工件寬度，使所述打磨面緊貼於該工件之該外表面。
當該工件位於所述打磨面之間且所述打磨面緊貼於該工件之該外表面，而該第二致動模組接收該控制訊號時，所述打磨 面的該間距自該工件寬度變化至該初始間距，使所述打磨面遠離該工件之該外表面。
該滑動座更包含一主體及複數個干涉件，該主體具有一第一端部及相對於該第一端部的一第二端部，各所述調整機構更包含一微動開關，所述干涉件設置於該主體，並分別位於該第一端部及該第二端部上，當位於該第一端部上的所述干涉件接觸所述微動開關時，該控制模組發出該控制訊號，使所述第二致動模組因應該控制訊號驅動所述承載體在該第二軸線上互相接近，當位於該第二端部上的所述干涉件接觸所述微動開關時，該控制模組發出該控制訊號，使所述第二致動模組因應該控制訊號驅動所述承載體在該第二軸線上互相遠離。
各所述打磨面分別對應所述側面區，且於該第一軸線與一重力方向所定義的一中央平面上所述打磨面的正投影至少局部重疊。
各所述微動開關具有一滾輪，各所述滾輪位於所述干涉件至少其中之一的一移動路徑上，當所述滾輪與所述干涉件接觸而被觸發，該控制模組向所述第二致動模組發出該控制訊號。
於一較佳實施例中，該控制模組為一可程式邏輯控制器(Programmable Logic Controller)。
各所述第二致動模組包含一空壓致動器，該空壓致動器因應該控制訊號而驅動該承載體。
各所述空壓致動器更包含一第一感測器，與該控制模組電性連接，並用於偵測該承載體的位置。
各所述第二致動模組包含一軸桿、一螺帽及一擋塊，該軸桿與該打磨機連接，可移動地穿設於該擋塊，並與該螺帽鎖固，該擋塊位於該打磨機與該螺帽之間，當所述承載體受所述第二致動模組驅動而移動，使所述螺帽分別與所述擋塊接觸時，所述打磨面的該間距為一最小間距。
該工件寬度介於該初始間距與該最小間距之間。
各所述座體更包含一第二滑軌模組，不平行該第一軸線延伸，各所述承載體具有一滑車，所述滑車分別可移動地設於所述第二滑軌模組。
各所述打磨機更具有一打磨頭及一本體，該打磨面形成於該打磨頭，該打磨頭設於該本體，該本體固設於該承載體上。
該研磨裝置更包含一氣缸，該滑動座具有一第一夾持部及一第二夾持部，該第一夾持部及該第二夾持部至少其中之一由該氣缸驅動，使該第一夾持部與該第二夾持部之間的距離可調整，以在該第一軸線上共同夾持該工件。
該氣缸更包含一第二感測器，與該控制模組電性連接，並用於偵測該第二夾持部與該工件之間的接觸。
該第一致動模組包含一螺桿及連接該螺桿之一馬達，該螺桿與該第一滑軌模組平行地設置，且該螺桿與該滑動座螺接， 當該馬達驅動該螺桿旋轉，該螺桿帶動該滑動座於該第一滑軌模組上移動。
研磨裝置更包含一基座，供該第一滑軌模組、該第一致動模組及所述調整機構設置。
研磨裝置，更包含至少一液管，用以朝所述打磨頭及該工件提供研磨液。
該基座更包含一罩蓋，包覆所述打磨機及所述液管。
1000:研磨裝置
2000:工件
2100:外表面
2110:側面區
1:第一滑軌模組
11:軌道
12:伸縮管
2:滑動座
21:主體
211:滑扣
212:支撐體
213:第一端部
214:第二端部
22:干涉件
23:第一延伸板
24:第二延伸板
25:第一夾持部
26:第二夾持部
3:第一致動模組
31:螺桿
32:馬達
4:調整機構
41:座體
411:第二滑軌模組
42:承載體
421:滑車
43:第二致動模組
431:空壓致動器
4311:第一感測器
432:軸桿
433:螺帽
434:擋塊
44:微動開關
441:滾輪
5:打磨機
51:打磨面
52:打磨頭
53:本體
6:控制模組
7:氣缸
71:第二感測器
8:基座
81:罩蓋
9:液管
A:啟動訊號
C1、C2:控制訊號
S1:第一感測訊號
S2:第二感測訊號
L:間距
L0:初始間距
L1:最小間距
W:工件寬度
E:中央平面
G:重力方向
X:第一軸線
Y:第二軸線
圖1為本創作研磨裝置的立體示意圖；圖2為本創作研磨裝置的另一立體示意圖；圖3為本創作研磨裝置的局部立體圖；圖4為本創作研磨裝置的另一局部立體圖；圖5為本創作研磨裝置的第二夾持部抵頂工件的示意圖；圖6為本創作研磨裝置的第二夾持部遠離工件的示意圖；圖7為本創作研磨裝置的另一局部立體圖；圖8為本創作研磨裝置的一局部俯視立體圖；圖9為本創作研磨裝置的打磨面間相夾初始間距的俯視圖；圖10為本創作研磨裝置的打磨面間相夾最小間距的俯視圖；圖11為本創作研磨裝置的打磨面間距等同工件寬度的俯視圖；以及 圖12為本創作研磨裝置的控制模組與輸入訊號及輸出訊號的示意圖。
圖1及圖2所示為本創作研磨裝置1000的一實施例，研磨裝置1000用於研磨一工件2000的一外表面2100。研磨裝置1000包括一第一滑軌模組1、一滑動座2、一第一致動模組3、四調整機構4、四打磨機5、一控制模組6、一氣缸7、一基座8及二液管9。
請一併參閱圖3，第一滑軌模組1設於基座8上，供滑動座2設置，第一滑軌模組1具有二軌道11及複數伸縮管12，所述軌道11沿一第一軸線X延伸，所述伸縮管12與滑動座2連接，並與滑動座2共同包覆所述軌道11，使打磨過程中產生的碎屑及使用的打磨液不易附著於軌道11上，而影響滑動座2於軌道11上的移動。
請再一併參閱圖4至圖6，工件2000的外表面2100具有相對應的二側面區2110，所述側面區2110共同定義一工件寬度W，滑動座2可動地設於第一滑軌模組1上，且受第一致動模組3驅動，並用於承載工件2000由一起始位置移動至一終端位置。滑動座2包含一主體21、四干涉件22、一第一延伸板23、一第二延伸板24、一第一夾持部25及一第二夾持部26。主體21與第一滑軌模組1的所述伸縮管12連接，並具有四滑扣211及一支撐體212、一第一端部213及一第二端部214。所述滑扣211扣持於所述軌道11上，因此滑動座2被限制於所述軌道11上沿第一軸線X移動，支撐體212用以與第一致動 模組3連接。第一端部213與第二端部214互相對應，滑動座2位於起始位置時，第一端部213離所述打磨機5較近，而第二端部214離所述打磨機5較遠，所述干涉件22分別設置於主體21的第一端部213及第二端部214上。第一延伸板23及第二延伸板24分別固設於主體21的第一端部213及第二端部214，第一夾持部25形成於第一延伸板23，第二夾持部26可動地設於第二延伸板24，並與氣缸7連接。本實施例中，氣缸7可驅動第二夾持部26，使第一夾持部25與第二夾持部26之間的距離可調整，以在第一軸線X上共同夾持工件2000，圖5所示為第二夾持部26抵接於工件2000時的狀態，而圖6所示為第二夾持部26與工件2000分離時的狀態，於其他實施例中，也可以是第一夾持部25及第二夾持部26的至少其中之一由氣缸7驅動即可。
第一致動模組3可驅動滑動座2於第一滑軌模組1上沿第一軸線X移動。第一致動模組3包含一螺桿31及一馬達32。其中，螺桿31與馬達32連接，並與第一滑軌模組1平行地設置，且螺桿31與滑動座2的主體21的支撐體212螺接，當馬達32驅動螺桿31旋轉，螺桿31相對於支撐體212旋轉，帶動滑動座2於第一滑軌模組1上沿第一軸線X移動。
如圖2、圖7及圖8所示，較佳地，所述調整機構4兩兩成對，並互相對應地鄰設於第一滑軌模組1兩側。各調整機構4分別具有一座體41、一承載體42、一第二致動模組43及一微動開關44，座體41設於基座8上，承載體42可移動地設於座體41上，第二致動模組43設於座體41，並可驅動承載體42於座體41上移動。各所述座 體41更包含一第二滑軌模組411，各所述承載體42具有一滑車421，所述滑車421分別可移動地設於所述第二滑軌模組411，其中，所述第二滑軌模組411須不平行第一軸線X延伸，使得所述滑車421可彼此接近或遠離。
各所述第二致動模組43包含一空壓致動器431、一軸桿432、一螺帽433及一擋塊434。一併參圖12，各所述空壓致動器431更包含一第一感測器4311，第一感測器4311與控制模組6電性連接，並用於偵測承載體42的位置。軸桿432與打磨機5連接，並可移動地穿設於擋塊434，螺帽433鎖固於軸桿432上，擋塊434位於打磨機5與螺帽433之間。所述微動開關44設於座體41上並鄰設於所述打磨機5，各所述微動開關44具有一滾輪441，各所述滾輪441位於所述干涉件22至少其中之一的一移動路徑上，用以與干涉件22接觸。
於本實施例中，所述打磨機5數量與所述調整機構4相同，分別對應地設置於所述承載體42，用以研磨工件2000的外表面2100。每一打磨機5具有一打磨面51、一打磨頭52及一本體53，打磨面51形成於打磨頭52，打磨頭52設於本體53，本體53固設於承載體42上。各所述打磨面51分別對應所述側面區2110，用以分別與所述側面區2110接觸。此外，所述打磨面51與所述側面區2110概略平行，成對的二打磨面51在與第一軸線X垂直的第二軸線Y上共同定義一間距L。且於第一軸線X與一重力方向G所定義的一中央平面E上，成對的二打磨面51的正投影至少局部重疊。本實施例中，打磨機5為氣動的打磨機，透過氣管與一氣動裝置(圖未示)連接，使打磨 頭52可受氣動裝置驅動。於其他實施例中，可替換成電驅動的打磨機。又或於其他實施例中，打磨機5也可替換成砂帶機或砂輪機，在此需特別說明，砂輪機也有打磨面，只不過其與工件接觸的打磨面相對較小且形狀細長。
如圖12所示，控制模組6可接收輸入訊號，並於判讀後發出一控制訊號C1、C2，以分別驅動第一致動模組3及第二致動模組43。控制模組6較佳為一可程式邏輯控制器(Programmable Logic Controller)。當所述滾輪441與所述干涉件22接觸而使得微動開關44被觸發，控制模組6向所述第二致動模組43發出控制訊號C2。而當第二致動模組43接收控制訊號C2時，第二致動模組43的空壓致動器431會因應控制訊號C2以驅動承載體42，使承載體42於座體41上不平行第一軸線X移動，進而使間距L變化。
氣缸7用於驅動第二夾持部26，使第一夾持部25及第二夾持部26能穩定地夾住工件2000，氣缸7具有一第二感測器71，第二感測器71與控制模組6電性連接，並用於偵測第二夾持部26與工件2000之間的接觸。
請再次參圖1及圖2，基座8供第一滑軌模組1、第一致動模組3及所述調整機構4設置。基座8具有一罩蓋81，罩蓋81包覆所述打磨機5及所述液管9。所述液管9在打磨機5打磨工件2000的外表面2100時，朝所述打磨面51及工件2000提供研磨液，研磨液具有潤滑效果，使所述側面區2110和所述打磨面51之間的相對移動可以 更加順暢，且研磨液可使研磨過程降溫，而不導致打磨面51或工件2000的外表面2100過熱，並同時帶走研磨時所產生的細屑。在所述液管9提供研磨液時，罩蓋81可避免研磨液朝研磨裝置1000的外部噴濺。
以下說明本創作研磨裝置1000的作動方式。要將工件2000安裝至滑動座2時，先以氣缸7帶動第二夾持部26遠離第一夾持部25(如圖6)提供足夠的空間，並將工件2000卡合於滑動座2的第一夾持部25上，再以氣缸7帶動第二夾持部26朝第一夾持部25移動，使第一夾持部25及第二夾持部26共同夾持工件2000(如圖5)，再由第一致動模組3驅動滑動座2帶動工件2000由起始位置往終端位置移動，滑動座2是經由馬達32驅動螺桿31而帶動，並在第一滑軌模組1上沿第一軸線X移動。
如圖9及圖10所示，滑動座2位於起始位置時(參圖9)，成對的所述打磨面51間的間距L為一初始間距L0，此時工件2000可於打磨面51之間通過。當所述微動開關44被觸發，所述承載體42受所述第二致動模組43驅動而互相接近，若成對的打磨頭52之間沒有其他元件阻礙所述打磨頭52彼此接近，將會移動至使鎖固於所述軸桿432上的所述螺帽433分別與所述擋塊434接觸為止，此時所述打磨面51的間距會縮小為一最小間距L1(參圖10)。也就是所述打磨頭52可在所述打磨面51間相隔初始間距L0及最小間距L1之間移動，因此，工件寬度W需介於初始間距L0與最小間距L1之間，工件2000才得以進入所述打磨頭52之間，並受到打磨面51有效地打磨。此外， 由於位在承載體42上的打磨機5是由空壓致動器431驅動，氣壓推進的力道可使打磨面51維持貼附於工件2000的外表面2100上，避免工件2000的外表面2100欠磨(即側面區2110上有合模線殘留)。相對地，螺帽433可調整於軸桿432上的位置，以改變最小間距L1，藉此可因應不同工件寬度W的工件2000，避免在打磨過程中過磨。
另外須說明的是，參圖12，第一感測器4311會向控制模組6發出一第一感測訊號S1，第二感測器71會向控制模組6發出一第二感測訊號S2，微動開關44被觸發會向控制模組6發出一啟動訊號A，控制模組6藉由判斷以上輸入訊號而發出控制訊號C1、C2，以控制第一致動模組3及第二致動模組43的作動。其中，第一感測器4311用於測定承載體42是否處於彼此相距最遠的位置(即所述打磨面51相距初始間距L0的位置)，第二感測器71用於測定工件是否受第二夾持部26夾持，微動開關44在滾輪441接觸干涉件22時被觸發。
進一步而言，第一致動模組3的作動受第一感測訊號S1及第二感測訊號S2所影響，只有在控制模組6接收的輸入訊號顯示第一感測器4311測定所述承載體42彼此相距最遠，且第二感測器71測定第二夾持部26已確實夾持著工件2000時，控制訊號C1才會驅動第一致動模組3帶動滑動座2往終端位置移動。第二致動模組43的作動受啟動訊號A及第一感測訊號S1影響，在控制模組6接收啟動訊號A時，會結合第一感測訊號S1所表示的承載體42當前的位置判斷，以決定控制訊號C2將驅動所述第二致動模組43帶動所述承載體42彼此接近或彼此遠離。詳細而言，若第一感測訊號S1呈現當承載 體42在彼此相距最遠的位置，則驅動第二致動模組43讓承載體42彼此靠近，同理，若第一感測訊號S1呈現當承載體42彼此不在相距最遠的位置，則驅動第二致動模組43讓承載體42彼此遠離。
在滑動座2承載工件2000接近所述打磨機5的過程中，當工件2000移動至位於所述打磨面51之間，且所述打磨面51的間距L為一初始間距L0，而此時位於第一端部213上的所述干涉件22接觸所述微動開關44的滾輪441，所述微動開關44發出啟動訊號A至控制模組6，控制模組6結合比對當前的第一感測訊號S1後發出控制訊號C2，使所述第二致動模組43因應控制訊號C2驅動所述承載體42在第二軸線Y上互相接近，所述打磨面51的間距L自初始間距L0變化至實質上等於工件寬度W(參圖11)，使所述打磨面51緊貼於工件2000之外表面2100，而開始研磨工件2000。
在工件2000被打磨機5研磨的過程中，工件2000維持位於所述打磨面51之間且所述打磨面51持續緊貼於工件2000之外表面2100，而當滑動座2持續移動直到位於第二端部214上的所述干涉件22接觸所述微動開關44的滾輪441，所述微動開關44發出啟動訊號A至控制模組6，控制模組6結合比對當前的第一感測訊號S1後發出控制訊號C2，使所述第二致動模組43因應控制訊號C2驅動所述承載體42在第二軸線Y上互相遠離，所述打磨面51的間距L自工件寬度W變化至初始間距L0，使所述打磨面51遠離工件2000之外表面2100。
當滑動座2帶動工件2000經過兩組打磨機5研磨到達終端位置，此時透過氣缸7驅動第二夾持部26退離工件2000，便可由第一夾持部25取下工件2000，然後再透過第一致動模組3將滑動座2帶回起始位置，即可再重複使用研磨裝置1000。
綜上所述，本創作研磨裝置以機械加工取代人力手動加工的方式，藉第一致動模組以可精準調控的速度帶動工件在打磨頭之間移動，增加打磨的精度，同時藉由第二致動模組中空壓致動器及螺帽與擋塊的配合，維持打磨面抵頂於工件的力道，且避免欠磨及過磨，並藉由控制模組與微動開關及承載體電性連接，使打磨頭接觸工件及脫離工件的時間可以設定得更加精準，讓工件頭尾兩端可以維持一貫的研磨深度，不需要額外針對工件的頭尾再進行後續處理。
上述的實施例僅用來例舉本創作的實施態樣，以及闡釋本創作的技術特徵，並非用來限制本創作的保護範疇。任何熟悉此技術者可輕易完成的改變或均等性的安排均屬於本創作所主張的範圍，本創作的權利保護範圍應以申請專利範圍為準。
1000:研磨裝置
2000:工件
2:滑動座
3:第一致動模組
7:氣缸
8:基座
81:罩蓋

Claims (19)

  1. 一種研磨裝置，用於研磨一工件的一外表面，該外表面具有相對應的二側面區，該研磨裝置包括：一第一滑軌模組，沿一第一軸線延伸；一滑動座，用於承載該工件，可動地設於該第一滑軌模組上；一第一致動模組，可驅動該滑動座於該第一滑軌模組上沿該第一軸線移動；二調整機構，互相對應地鄰設於該第一滑軌模組兩側，並分別具有一座體、一承載體及一第二致動模組，該承載體可移動地設於該座體上，該第二致動模組可驅動該承載體於該座體上移動；二打磨機，分別對應地設置於所述承載體，每一打磨機具有一打磨面，用以與所述側面區分別對應接觸，所述打磨面在一第二軸線上共同定義一間距，該第二軸線與該第一軸線垂直；以及一控制模組，可發出一控制訊號；其中，當該第二致動模組接收該控制訊號時，該第二致動模組驅動該承載體於該座體上不平行該第一軸線移動，使該間距變化。
  2. 如請求項1所述之研磨裝置，其中，所述側面區共同定義一工件寬度，當該工件位於所述打磨面之間且所述打磨面的該間距為一初始間距，且該第二致動模組接收該控制訊號時，所述打磨面的該間距自該初始間距變化至實質上等於該工件寬度，使所述打磨面緊貼於該工件之該外表面。
  3. 如請求項2所述之研磨裝置，其中，當該工件位於所述打磨面之間且所述打磨面緊貼於該工件之該外表面，而該第二致動模組接收該控制訊號時，所述打磨面的該間距自該工件寬度變化至該初始間距，使所述打磨面遠離該工件之該外表面。
  4. 如請求項3所述之研磨裝置，其中，該滑動座更包含一主體及複數個干涉件，該主體具有一第一端部及相對於該第一端部的一第二端部，各所述調整機構更包含一微動開關，所述干涉件設置於該主體，並分別位於該第一端部及該第二端部上，當位於該第一端部上的所述干涉件接觸所述微動開關時，該控制模組發出該控制訊號，使所述第二致動模組因應該控制訊號驅動所述承載體在該第二軸線上互相接近，當位於該第二端部上的所述干涉件接觸所述微動開關時，該控制模組發出該控制訊號，使所述第二致動模組因應該控制訊號驅動所述承載體在該第二軸線上互相遠離。
  5. 如請求項4所述之研磨裝置，其中，各所述打磨面分別對應所述側面區，且於該第一軸線與一重力方向所定義的一中央平面上所述打磨面的正投影至少局部重疊。
  6. 如請求項5所述之研磨裝置，其中，各所述微動開關具有一滾輪，各所述滾輪位於所述干涉件至少其中之一的一移動路徑上，當所述滾輪與所述干涉件接觸而被觸發，該控制模組向所述第二致動模組發出該控制訊號。
  7. 如請求項6所述之研磨裝置，其中，該控制模組為一可程式邏輯控制器(Programmable Logic Controller)。
  8. 如請求項7所述之研磨裝置，其中，各所述第二致動模組包含一空壓致動器，該空壓致動器因應該控制訊號而驅動該承載體。
  9. 如請求項8所述之研磨裝置，其中，各所述空壓致動器更包含一第一感測器，與該控制模組電性連接，並用於偵測該承載體的位置。
  10. 如請求項2至9中任一項所述之研磨裝置，其中，各所述第二致動模組包含一軸桿、一螺帽及一擋塊，該軸桿與該打磨機連接，可移動地穿設於該擋塊，並與該螺帽鎖固，該擋塊位於該打磨機與該螺帽之間，當所述承載體受所述第二致動模組驅動而移動，使所述螺帽分別與所述擋塊接觸時，所述打磨面的該間距為一最小間距。
  11. 如請求項10所述之研磨裝置，其中，該工件寬度介於該初始間距與該最小間距之間。
  12. 如請求項11所述之研磨裝置，其中，各所述座體更包含一第二滑軌模組，不平行該第一軸線延伸，各所述承載體具有一滑車，所述滑車分別可移動地設於所述第二滑軌模組。
  13. 如請求項12所述之研磨裝置，其中，各所述打磨機更具有一打磨頭及一本體，該打磨面形成於該打磨頭，該打磨頭設於該本體，該本體固設於該承載體上。
  14. 如請求項13所述之研磨裝置，更包含一氣缸，該滑動座具有一第一夾持部及一第二夾持部，該第一夾持部及該第二夾持部至少其中之一由該氣缸驅動，使該第一夾持部與該第二夾持部之間的距離可調整，以在該第一軸線上共同夾持該工件。
  15. 如請求項14所述之研磨裝置，其中，該氣缸更包含一第二感測器，與該控制模組電性連接，並用於偵測該第二夾持部與該工件之間的接觸。
  16. 如請求項15所述之研磨裝置，其中，該第一致動模組包含一螺桿及連接該螺桿之一馬達，該螺桿與該第一滑軌模組平行地設置，且該螺桿與該滑動座螺接，當該馬達驅動該螺桿旋轉，該螺桿帶動該滑動座於該第一滑軌模組上移動。
  17. 如請求項16所述之研磨裝置，更包含一基座，供該第一滑軌模組、該第一致動模組及所述調整機構設置。
  18. 如請求項17所述之研磨裝置，更包含至少一液管，用以朝所述打磨頭及該工件提供研磨液。
  19. 如請求項18所述之研磨裝置，其中，該基座更包含一罩蓋，包覆所述打磨機及所述液管。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWM589399U (zh) * 2018-10-30 2020-01-11 信錦企業股份有限公司 可升降支撐裝置
TWM613067U (zh) * 2020-08-12 2021-06-11 信錦企業股份有限公司 研磨裝置
TWM620095U (zh) * 2021-01-19 2021-11-21 信錦企業股份有限公司 支撐架
CN114607902B (zh) * 2022-04-02 2023-05-26 兴义民族师范学院 一种计算机视觉识别装置

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2453442A (en) * 1946-12-23 1948-11-09 David G Lewis Folding camera support
US6494005B2 (en) * 2001-02-02 2002-12-17 Suspa Incorporated Telescopic linear actuator
US6655645B1 (en) * 2002-12-31 2003-12-02 Shin Zu Shing Co., Ltd. Automatically adjusting support for an LCD monitor
US20050045077A1 (en) * 2003-02-10 2005-03-03 Wieslaw Bober Motorized lift device
US7128003B2 (en) * 2003-05-05 2006-10-31 Marek Okninski Lifting device for visual screens
US6712321B1 (en) * 2003-05-21 2004-03-30 Compal Electronics, Inc. Adjustable supporting device for a display panel
US20050035246A1 (en) * 2003-07-28 2005-02-17 Coleman Ludlow Peter Remotely controllable revolving support for speaker
WO2005022024A1 (ja) * 2003-08-29 2005-03-10 Murakami Corporation 回転スタンド
US7044423B2 (en) * 2003-11-25 2006-05-16 Wieslaw Bober Compound lift device
US7296774B2 (en) * 2004-01-02 2007-11-20 Clo Systems, Llc Viewing angle adjustment system for a monitor
KR100671198B1 (ko) * 2004-01-14 2007-01-18 삼성전자주식회사 디스플레이 장치
US7063424B1 (en) * 2004-08-19 2006-06-20 Brinkman Robert E Video screen storage and deployment system
WO2007062214A2 (en) * 2005-11-21 2007-05-31 Clo Systems, Llc Motorized mount system for repositioning a monitor
JP4876833B2 (ja) * 2006-10-10 2012-02-15 船井電機株式会社 トルクリミッタ装置を含む表示装置の台座およびトルクリミッタ装置
JP4222410B2 (ja) * 2006-11-07 2009-02-12 船井電機株式会社 表示画面旋回装置
JP3132678U (ja) * 2006-12-18 2007-06-21 下西技研工業株式会社 モニタ用スイーベル装置
US20080236014A1 (en) * 2007-03-29 2008-10-02 Kinpo Electronics, Inc. Autorotative digital photo frame
CN100520148C (zh) * 2007-07-06 2009-07-29 深圳路美特科技有限公司 车载显示屏升降装置
US20090173702A1 (en) * 2008-01-04 2009-07-09 Modernsolid Industrial Co., Ltd. Electrically controlled pitch adjustable flat panel display bracket
JP4530071B2 (ja) * 2008-04-23 2010-08-25 船井電機株式会社 表示画面旋回装置およびテレビジョン装置
TWM348883U (en) * 2008-09-10 2009-01-11 Amtran Technology Co Ltd Electronic device
TWM365047U (en) * 2009-02-04 2009-09-11 Syncmold Entpr Corp Supporting frame
EP2241255B1 (en) * 2009-04-15 2014-12-24 Samsung Medison Co., Ltd. Imaging apparatus with height adjustment device
TWM511577U (zh) * 2015-08-21 2015-11-01 Syncmold Entpr Corp 用以支撐顯示裝置的支撐座
TWM513310U (zh) * 2015-08-21 2015-12-01 Syncmold Entpr Corp 用以支撐顯示裝置的支撐座
TWM516683U (zh) * 2015-09-23 2016-02-01 信錦企業股份有限公司 承載力可調之升降結構
TWM539214U (zh) * 2016-12-30 2017-04-01 信錦企業股份有限公司 快拆樞紐模組及支撐裝置
CN209262585U (zh) * 2018-01-19 2019-08-16 信锦企业股份有限公司 支撑装置
US10890288B2 (en) * 2018-04-13 2021-01-12 Microsoft Technology Licensing, Llc Systems and methods of providing a multipositional display
CN111679731A (zh) * 2019-03-11 2020-09-18 三星电子株式会社 显示装置及其控制方法
KR20210081107A (ko) * 2019-12-23 2021-07-01 삼성전자주식회사 디스플레이 장치 및 이의 제어 방법
US20210293371A1 (en) * 2020-03-20 2021-09-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Display apparatus and the control method thereof
TWM613067U (zh) * 2020-08-12 2021-06-11 信錦企業股份有限公司 研磨裝置
US11320088B1 (en) * 2020-12-07 2022-05-03 Ubtech North America Research And Development Center Corp Display stand with height adjustment and tilt adjustment

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