JP2017205838A - 板状基板の片面ポリッシング装置 - Google Patents

Abstract

【課題】板状基板を容易に吸着面に装着し得るとともに、ポリッシング加工精度を高めることができるポリッシング装置を提供する。
【解決手段】片面ポリッシング装置１０は、吸着テーブル１３が設けられたワーク支持台１２を有し、ワーク支持台１２の両側に相互に平行となってガイドレール１６ａ，１６ｂが配置され、ガイドレール１９がガイドレール１６ａ，１６ｂに移動自在に装着される。ガイドレール１９には、吸着テーブル１３の上方を吸着テーブル１３に沿って２軸方向に移動するポリッシングヘッド２１が配置され、ポリッシングヘッド２１に上下方向に移動自在に設けられる回転軸３３の下端部には加工具３６が装着され、吸着テーブル１３に固定されたワークとしての板状基板の上面は加工具３６によりポリッシング加工される。
【選択図】図１

Description

本発明は、プリント配線基板等の板状基板の片面をポリッシング加工する板状基板の片面ポリッシング装置に関する。

板状基板の表面を平坦化処理するために表面はポリッシング加工される。板状基板であるプリント配線基板は、絶縁基板と、その表面または表面と内部にプリントにより形成された導体からなる配線パターンとを有している。プリント配線基板の表面に配線パターンをプリントする前に、絶縁基板の表面はポリッシング加工により平坦に仕上げ処理される。

特許文献１に記載されたガラス基板の片面研磨装置は、研磨布が上面に設けられた研磨盤と、ガラス基板を保持して研磨布に押し付ける加圧盤とを有し、加圧盤は研磨盤の上方に配置されている。この片面研磨装置においては、研磨盤の回転によってその上面に加圧される加圧盤を追従回転させることにより、加圧盤を揺動させつつガラス基板が研磨加工される。

特許文献２には、半導体ウエハ等の基板の表面を研磨加工する研磨装置が記載されている。この研磨装置は、上面に研磨パッドが設けられ回転駆動される研磨テーブルと、基板を保持するトップリングを有し、トップリングは研磨テーブルの上方に配置されて回転駆動される。基板は、トップリングの下面に保持されて基板受け渡し位置から研磨位置に搬送され、研磨位置において研磨テーブルの研磨パッドに押し付けられる。

特開２００４−２７６１３３号公報 特開２０１４−８６６６６号公報

従来のように、加圧盤やトップリング等のワーク保持部材が研磨盤や研磨テーブル等の研磨部材の上方に配置され、ワーク保持部材の下面に板状基板つまりワークを装着するようにした研磨装置においては、ワーク保持部材の下面に下側からワークを装着しなければならないので、ワークの装着操作を容易に行うことができない。特に、プリント配線基板のような大型で薄い板状基板をワークとするポリッシング装置においては、ワーク保持部材の下面に下側からワークの装着操作を容易に行うことができない。

さらに、従来のように、ワークを吸着保持するワーク保持部材と、研磨部材との両方を回転駆動するようにした研磨装置においては、両方の回転軸の軸振れにより、ワーク表面の研磨の加工精度を高めることができなくなる。

本発明の目的は、板状基板を容易に吸着面に装着し得るとともに、ポリッシング加工精度を高めることができるポリッシング装置を提供することにある。

本発明の板状基板の片面ポリッシング装置は、吸着面が設けられ板状基板を保持する吸着テーブルが設けられたワーク支持台と、前記ワーク支持台の両側に相互に平行となって配置される第１のガイドレールと、前記第１のガイドレールに対して直角方向に配置されて前記第１のガイドレールに移動自在に装着される第２のガイドレールと、前記第２のガイドレールに装着され、前記吸着テーブルの上方を前記吸着テーブルに沿って２軸方向に移動するポリッシングヘッドと、前記ポリッシングヘッドに上下方向に移動自在に設けられる回転軸の下端部に装着される加工具と、を有し、前記吸着テーブルに固定された板状基板の上面を前記加工具によりポリッシング加工する。

ワークである板状基板は吸着テーブルの上面に装着して吸着固定されるので、板状基板は吸着テーブルの上側から吸着テーブルに装着することができ、板状基板の吸着テーブルに対する装着作業を容易に行うことができるとともに、装着作業の自動化も容易に行うことができる。一方、回転軸が設けられたポリッシングヘッドは、第１のガイドレールと、第２のガイドレールにより２軸方向に移動自在となっている。板状基板を吸着テーブルにより吸着固定し、加工具を回転駆動するポリッシングヘッドを２軸方向に移動させるようにしたので、ポリッシングヘッドの剛性を高めて、板状基板の上方で高精度に移動させることができ、板状基板のポリッシング加工の精度を高めることができる。

一実施の形態である板状基板の片面ポリッシング装置を示す正面図である。 図１の平面図である。 図１の左側面図である。 図２に示されたＹ軸方向の駆動側のガイドレールを示し、（Ａ）は駆動側ガイドレールの平面図であり、(Ｂ)は（Ａ）の正面図であり、（Ｃ）は（Ａ）における４Ｃ−４Ｃ線断面図である。 図２に示されたＹ軸方向の従動側のガイドレールを示し、（Ａ）は従動側のガイドレールの平面図であり、(Ｂ)は（Ａ）の正面図であり、（Ｃ）は（Ａ）における５Ｃ−５Ｃ線断面図である。 図１に示されたポリッシングヘッドの一部切欠き拡大正面図である。 （Ａ）は図６における７Ａ−７Ａ線拡大断面図であり、（Ｂ）は（Ａ）における７Ｂ−７Ｂ線断面図である。 ワーク支持台を示す正面図である。 図８における９−９線拡大断面図である。 ワーク支持台の上面を示す平面図である。 吸着テーブルとワークガイドの一部を示す拡大断面図である。 ワーク支持台とポリッシングヘッドの一部を拡大して示す断面図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。片面ポリッシング装置１０は、図１〜図３に示されるように、平面視において四辺形のベッド１１を有している。ベッド１１にはワーク支持台１２が設けられており、ワーク支持台１２は、図２においてベッド１１の左右方向の中央部であって、上下方向の下側に寄せて、ベッド１１に取り付けられている。明細書において片面ポリッシング装置１０は、図２において下側を前面とし、ワーク支持台１２はベッド１１の正面側に配置される。板状基板であるプリント配線基板をワークＷとしてこれを吸着して保持する吸着テーブル１３がワーク支持台１２に設けられている。吸着テーブル１３の上面にはワークを吸着保持する吸着面１３ａが形成されている。吸着テーブル１３の平面形状は、正方形のワークＷであるプリント配線基板の形状に対応させて、図２に示されるように、正方形となっている。ただし、吸着テーブル１３の平面形状としては、プリント配線基板の平面形状に応じて長方形や円形としても良い。

ベッド１１の左右両側には、図１に示されるように、台座１４ａ，１４ｂが前後方向に延びて相互に平行となって取り付けられ、それぞれの台座１４ａ，１４ｂには、支持プレート１５ａ，１５ｂが取り付けられ、第１のガイドレールとしてのガイドレール１６ａ，１６ｂが支持プレート１５ａ，１５ｂに２本ずつ設けられている。ガイドレール１６ａにはスライドプレート１７ａが移動自在に装着され、ガイドレール１６ｂにはスライドプレート１７ｂが移動自在に装着される。

両方のスライドプレート１７ａ，１７ｂの上には支持プレート１８が配置される。支持プレート１８の一端部はスライドプレート１７ａに取り付けられ、支持プレート１８の他端部はスライドプレート１７ｂに取り付けられており、支持プレート１８は吸着テーブル１３の上方をベッド１１の前後方向に移動する。第２のガイドレールとしてのガイドレール１９が支持プレート１８に２本設けられている。ガイドレール１９はガイドレール１６ａ，１６ｂに対して直角方向に配置されている。

ガイドレール１９には、ポリッシングヘッド２１が左右方向に移動自在に装着される。ポリッシングヘッド２１がガイドレール１９により案内されて移動する方向をＸ軸方向とし、支持プレート１８がガイドレール１６ａ，１６ｂに案内されて移動する方向をＹ軸方向とすると、ポリッシングヘッド２１はＸ，Ｙの２軸方向に移動する。

図４に示されるように、支持プレート１５ａには２本のガイドレール１６ａが間隔を隔てて設けられている。スライドプレート１７ａの下面には、図４（Ｂ）に示されるように、ガイドレール１６ａを摺動するガイド部材２２ａが取り付けられている。２本のガイドレール１６ａの間に位置させて、支持プレート１５ａには送りねじ２３が回転自在に装着され、送りねじ２３にねじ結合されるナット２４がスライドプレート１７ａの下面に固定されている。送りねじ２３を回転駆動するために、電動モータ２５が支持プレート１５ａに取り付けられている。

図５に示されるように、支持プレート１５ｂには２本のガイドレール１６ｂが間隔を隔てて設けられている。スライドプレート１７ｂの下面には、図５（Ｂ）に示されるように、ガイドレール１６ｂを摺動するガイド部材２２ｂが取り付けられている。したがって、電動モータ２５を駆動すると、駆動側のスライドプレート１７ａと従動側のスライドプレート１７ｂは、ガイドレール１６ａ，１６ｂによってＹ軸方向に駆動され、ポリッシングヘッド２１はＹ軸方向に直線往復動する。このように、スライドプレート１７ａは駆動側となっており、他のスライドプレート１７ｂは従動側となっており、電動モータ２５により、支持プレート１８はＹ軸方向に駆動される。

図２に示されるように、支持プレート１８には２本のガイドレール１９が間隔を隔てて設けられている。ポリッシングヘッド２１の底板２６には、図１に示されるように、ガイドレール１９を摺動するガイド部材２７が取り付けられている。支持プレート１８には、一方のガイドレール１９の上側に位置させて送りねじ２８が回転自在に装着され、送りねじ２８にねじ結合される図示しないナットがポリッシングヘッド２１の底板２６に固定されている。送りねじ２８を回転駆動するために、電動モータ２９が支持プレート１８に取り付けられている。したがって、電動モータ２９により、ポリッシングヘッド２１は、ガイドレール１９に案内されてＸ軸方向に駆動されて直線往復動される。なお、ガイドレール１９は、図１において二点鎖線で示される蛇腹状のカバー３０により覆われる。

図６はポリッシングヘッド２１の一部切欠き拡大正面図であり、底板２６にはヘッドコラム３１が取り付けられ、ヘッドコラム３１の内側に位置させて底板２６には軸受ユニット３２が固定されている。ヘッドコラム３１の内部には回転軸３３が配置され、回転軸３３の下端部は軸受ユニット３２に回転自在かつ上下方向に移動自在に支持されている。軸受ユニット３２は底板２６の下方に突出している。図２に示されるように、支持プレート１８には左右方向つまりＸ軸方向に延びる長孔３４が形成されており、ポリッシングヘッド２１が図２において左右方向に移動するときに、軸受ユニット３２は長孔３４内を直線往復動する。回転軸３３の下端部には、ユニバーサルジョイント３５を介して加工具３６が装着される。加工具３６は、加工ディスク３７とその下面に貼り付けられるポリッシングパッド３８とを備えている。

上述のように、ワークＷは吸着テーブル１３の上面に装着して吸着固定されるので、ワークＷは吸着テーブル１３の上側から吸着テーブル１３に装着することができ、ワークの装着作業を容易に行うことができるとともに装着作業の自動化を行うことができる。一方、回転軸３３が設けられたポリッシングヘッド２１は、ガイドレール１６ａ，１６ｂによる支持プレート１８のＹ軸方向の移動と、ガイドレール１９によるＸ軸方向の移動とにより２軸方向に移動される。ポリッシングヘッド２１には、加工具３６を回転駆動する回転軸３３が設けられている。このように、ワークＷを吸着テーブル１３により吸着固定し、加工具３６を回転駆動するポリッシングヘッド２１を２軸方向に移動させるようにしたので、ポリッシングヘッド２１の剛性を高めて、ワークＷの上方で高精度に移動させることができ、ワークＷのポリッシング加工精度を高めることができる。

図６に示されるように、ヘッドコラム３１にはガイドレール４１が上下方向に延びて設けられている。このガイドレール４１に摺動自在に装着されるスライダ４２には、回転軸３３の上端部を回転自在に支持する上下動ブロック４３が設けられている。上下動ブロック４３には回転軸３３を回転自在に支持する軸受が設けられている。回転軸３３を上下方向に往復動するために、ヘッドコラム３１には、空気圧シリンダ４４が設けられ、空気圧シリンダ４４のロッド４５が連結部材４６を介して上下動ブロック４３に連結されている。上下動ブロック４３は回転軸３３を回転自在に支持し、空気圧シリンダ４４のロッド４５の上下動を回転軸３３の上下方向の駆動に伝達する。空気圧シリンダ４４により加工具３６にはワークＷに対して加圧力が加えられる。

図６に示されるように、ヘッドコラム３１に隣接して底板２６に設けられた支持フレーム４７には、加工具回転用の電動モータ４８が設けられ、電動モータ４８の主軸は減速機４９に連結されている。減速機４９の出力軸には駆動側のプーリ５１が固定され、プーリ５１に掛け渡されたタイミングベルト５２は、回転軸３３の外側に配置された従動側のプーリ５３に掛け渡されている。回転軸３３の外周面にはスプライン５４が設けられ、従動側のプーリ５３は回転軸３３にスプライン結合されている。したがって、上下動自在の回転軸３３は、加工具回転用の電動モータ４８によりタイミングベルト５２を介して回転駆動され、さらに回転軸３３が上下動されると、回転軸３３は従動側のプーリ５３に対して上下動する。

ユニバーサルジョイント３５は、図７（Ｂ）に示されるように、回転軸３３の下端部に固定される支持ディスク５５を有し、支持ディスク５５には支持ブロック５６が取り付けられている。回転軸３３の回転中心に対して直角方向にそれぞれ延在する２本の揺動支持軸５７が支持ブロック５６に同軸状に固定され、軸受５８がそれぞれの揺動支持軸５７に設けられている。支持ブロック５６の径方向外方には内側揺動リング５９が配置され、内側揺動リング５９には軸受５８が固定されている。これにより、内側揺動リング５９は同一軸状の２本の揺動支持軸５７を中心に揺動自在に支持ブロック５６に連結されている。

内側揺動リング５９の径方向外方には外側揺動リング６１が配置され、外側揺動リング６１には回転軸３３の回転中心に対して直角方向であって、揺動支持軸５７に対して直角方向に延在する２本の揺動支持軸６２が同軸状に固定される。軸受６３がそれぞれの揺動支持軸６２に設けられており、軸受６３は内側揺動リング５９に固定されている。これにより、外側揺動リング６１は、同軸状の２本の揺動支持軸６２を中心に揺動自在に内側揺動リング５９に連結される。外側揺動リング６１は、加工具３６が取り付けられるホルダ６４に固定される。

したがって、加工具３６は、第１の揺動支持軸としての２本の揺動支持軸５７と、これに対して直角方向の第２の揺動支持軸としての２本の揺動支持軸６２とを中心に、回転軸３３に対して首振り運動自在となっている。加工具３６が回転軸３３に対して直角方向の姿勢となるように、ばね力を加えるために、支持ディスク５５とホルダ６４との間には、複数の圧縮コイルばね６５が装着されている。圧縮コイルばね６５は、図７（Ａ）において破線で示すように、円周方向に等間隔を隔てて６つ設けられている。

回転軸３３の中心部には、図６に示されるように、ポリッシング液供給管６６が設けられている。ポリッシング液供給管６６の上端部は回転軸３３の上端面よりも上方に突出し、継手６７により連結部材４６に取り付けられている。継手６７に接続される図示しないポリッシング液供給ホースによりポリッシング液供給管６６にはポリッシング液が注入される。ポリッシング液供給管６６の下端部は加工具３６の中心部に設けられた開口部６８に入り込んでおり、ポリッシング液が開口部６８を通って加工具３６とワークＷとの間に供給される。

図８に示されるように、吸着テーブル１３の外側には吸着テーブル１３の外周を囲むように四辺形のワークガイド７０がワーク支持台１２に上下方向に移動動自在に装着されている。吸着テーブル１３には、図１０に点を付して示されるように、吸着面１３ａに開口する多数の吸気孔７１が設けられており、それぞれの吸気孔７１はワーク支持台１２の内部に設けられた吸引機構により吸着テーブル１３の上面側からワーク支持台１２の内部に外部空気が吸引される。この吸引される空気によって、ワークＷは吸着テーブル１３の上面に吸着保持される。

ワークガイド７０を上下方向に駆動するために、図９に示されるように、ワーク支持台１２の側面にはガイドレール７２が上下方向に延びて設けられている。ガイドレール７２にはスライダ７３が上下動自在に装着されており、スライダ７３には前後に２本の駆動ロッド７４が取り付けられている。図９はワーク支持台１２の一方の側面に設けられたガイドレール７２を示しており、ワーク支持台の反対側の側面にも同様にガイドレール７２が設けられている。それぞれの駆動ロッド７４は、図８に示されるように、台座７５によりワークガイド７０に連結される。ワーク支持台１２にはガイド上下動用の電動モータ７６が設けられており、電動モータ７６の主軸に連結された送りねじ７７がスライダ７３に固定されたナット７８にねじ結合されている。送りねじ７７はワーク支持台１２に固定される軸受７９により支持される。それぞれの送りねじ７７はボールねじである。

したがって、両方の電動モータ７６の駆動により、ワークガイド７０を上下動すると、図１１に示されるように、ワークガイド７０の上面と吸着面１３ａの上面との間に段差Ｓを形成することができるとともに、段差Ｓの寸法を任意の値に設定することができる。図１１においては、ワークＷであるプリント配線基板が吸着面１３ａに吸着保持された状態を示す。

段差ＳをワークＷの厚みよりも小さく設定すると、図１１に示されるように、ワークＷの上面はワークガイド７０の上面よりも上方に突出する。これにより、ワークＷの上面とワークガイド７０の上面との間にギャップＧを形成することができる。例えば、数１０〜５μｍ程度の高さでワークＷの上面をワークガイド７０の上面よりも上方に突出させた状態、つまりギャップＧを数１０〜５μｍ程度に設定することができる。さらに、ギャップＧをゼロとして、ワークガイド７０とワークＷの表面とを同一面としてもワークＷのポリッシング加工を行うことができる。加工具３６のポリッシングパッド３８をワークＷに押し付けてポリッシング加工すると、ポリッシングパッド３８がワークＷの外周部をポリッシング加工するときには、ポリッシングパッド３８はワークＷの上面とワークガイド７０の上面とに押し付けられる。したがって、ポリッシングパッド３８の沈み込みが極めて少なくなり、ワークＷの外周部は、だれることなく、ワークＷの上面は全体的に平坦にポリッシング加工される。

ワークガイド７０を設けない場合には、図１１において、二点鎖線で示されるように、ワークＷの外周部の表面が中央部分よりも過度にポリッシング加工さて、ワークＷの外周部の表面にだれＥが発生する。これに対し、ワーク支持台１２にワークガイド７０を設けることにより、ワークＷの外周部に、だれＥが発生することなく、ワークＷの上面全体を高精度にポリッシング加工することができる。なお、図１１においては、段差ＳおよびギャップＧがそれぞれ誇張して示されている。

図１１においては、ワークＷの外周面がワークガイド７０の内周面に接近した形状のワークＷを示す。ただし、ワークＷの形状としては、図１１に示されるサイズよりも小さいワークであって、ワークＷの外周面とワークガイド７０の内周面との間に隙間が発生しても、ポリッシングパッド３８がその隙間を跨ぐように、ワークＷとワークガイド７０とに押し付けられるので、ワークＷの上面全体を高精度にポリッシング加工することができる。ワークガイド７０は、図１１に示されるように、基板７０ａとその表面に交換自在にねじ止めされる表面板７０ｂとを有しており、表面板７０ｂの磨耗が進行した場合には、表面板７０ｂを交換することができる。

プリント配線基板をワークＷとしてその上面をポリッシング加工する場合には、ポリッシング加工した後に上面に導体からなる配線パターンが形成される。ポリッシング加工前においては、プリント配線基板の表面は所望の平坦度となっておらず、そのまま配線パターンをプリント加工した場合には、高精度で配線パターンをプリントすることができなくなるが、プリント加工前にプリント配線基板の上面をポリッシング加工することにより、プリント加工の歩留まりを向上させることができるとともに、配線パターンを高精度に形成することができる。プリント配線基板の表裏両面にポリッシング加工を行う場合には、一方の面を加工した後に他方の面が加工される。

図１２は、ワーク支持台１２とポリッシングヘッド２１の一部を拡大して示す断面図である。図１２においては、ワークＷが吸着テーブル１３の上面に保持されていない状態を示す。

ポリッシングヘッド２１の正面側に上下方向に延びて設けられた支柱８１には、ワークＷとワークガイド７０との間の段差を検出する測定具８２が設けられている。測定具８２は、支柱８１に取り付けられたロッドレスエアシリンダ８３により上下動する上下動プレート８４を有し、上下動プレート８４の下端部にはマグネスケール８５が設けられている。マグネスケール８５の接触子８６をロッドレスエアシリンダ８３により吸着テーブル１３の吸着面１３ａに当接させ、ワークガイド７０の上面に接触子８６を当接させると、吸着面１３ａとワークガイド７０の上面との間の段差Ｓの値を検出することができる。さらに、吸着面１３ａの上にワークＷを搭載して、ワークＷの上面に接触子８６を当接させることにより、ワークＷの厚みとワークＷの上面とワークガイド７０の上面との間の寸法、つまりワークＷの上面がワークガイド７０よりも突出する突出寸法であるギャップＧを検出することができる。ワークＷについては、例えば、ワークＷの四隅に接触子８６を接触させることにより、４個所の厚みを測定する。測定具８２としては、上述したマグネケール８５に代えてレーザービームを照射する光式の測定具などを用いることができる。

次に、上述した片面ポリッシング装置１０に板状基板であるプリント配線基板をワークＷとして装填し、その上面をポリッシング加工する手順について説明する。

ワークＷは図示しない搬送手段または手作業により吸着テーブル１３に上に搭載される。吸着テーブル１３は、ポリッシングヘッド２１に設けられた加工具３６の下側に配置されているので、ワークＷを吸着テーブル１３の上に容易に搭載することができる。特に、プリント配線基板をワークとする場合には、吸着面１３ａが上方に向けられており、比較的大型の板状基板を容易に吸着面１３ａに搭載することができる。吸着テーブル１３の上に搭載されたワークＷに測定具８２の接触子８６を接触させることによって、マグネスケール８５によりワークＷの厚みが測定される。ワークＷの厚みを測定するときには、ポリッシングヘッド２１を２軸方向、つまりワークＷの表面に沿う方向に移動させる。さらに、ポリッシングヘッド２１を移動させて接触子８６をワークガイド７０の表面に接触させることにより、マグネスケール８５によりワークガイド７０の上面がワークＷよりも突出しているギャップＧを測定する。ギャップＧの量を変化させるときには、図８に示されたガイド上下動用の電動モータ７６を駆動することにより、ワークガイド７０を上下動させる。

このようにして、ワークＷの上面とワークガイド７０とのギャップＧが調整された状態のもとで、ポリッシングヘッド２１をワークＷの上側に移動させ、回転軸３３を上下動する空気圧シリンダ４４を駆動して加工具３６のポリッシングパッド３８をワークＷの上面に押し付ける。ポリッシング液供給管６６からポリッシング液を供給しながら、加工具回転用の電動モータ４８により回転軸３３を介して加工具３６を回転駆動する。これにより、ワークＷの表面はポリッシング加工される。加工具３６は回転軸３３にユニバーサルジョイント３５を介して首振り移動自在に連結されているので、ポリッシングパッド３８はワークＷの表面に均一な加圧力で押圧される。電動モータ２５によりポリッシングヘッド２１をＹ軸方向に移動し、電動モータ２９によりポリッシングヘッド２１をＸ軸方向に駆動することにより、加工具３６は２軸方向に移動され、ワークＷの全面が平坦にポリッシング加工され、全体的に均一な厚みに加工される。

ワークＷの上面をポリッシング加工するときには、加工具３６のポリッシングパッド３８は、ワークＷの上面とワークガイド７０の上面とに接触する。特に、ワークＷの外周部をポリッシング加工するときには、ポリッシングパッド３８はワークＷの上面とワークガイド７０の上面とに接触し、ポリッシングパッド３８の下面は平坦に保持されるので、ワークＷの外周部にはだれが発生することなく、高精度でワークＷの表面を平坦に加工することができる。

本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能である。例えば、上述した片面ポリッシング装置１０は、プリント配線基板をワークＷとしてその上面をポリッシング加工する場合について説明したが、ワークＷとしてはプリント配線基板以外の板状基板であれば、種々のワークについてポリッシング加工することができる。

１１ ベッド
１２ ワーク支持台
１３ 吸着テーブル
１３ａ 吸着面
１６ａ，１６ｂ ガイドレール
１７ａ，１７ｂ スライドプレート
１８ 支持プレート
１９ ガイドレール
２１ ポリッシングヘッド
２３ 送りねじ
２５ 電動モータ
２６ 底板
２８ 送りねじ
２９ 電動モータ
３１ ヘッドコラム
３３ 回転軸
３５ ユニバーサルジョイント
３６ 加工具
３７ 加工ディスク
３８ ポリッシングパッド
４１ ガイドレール
４４ 空気圧シリンダ
４７ 支持フレーム
４８ 電動モータ
５５ 支持ディスク
５６ 支持ブロック
５７，６２ 揺動支持軸
６６ ポリッシング液供給管
７０ ワークガイド
７２ ガイドレール
７３ スライダ
７４ 駆動ロッド
７６ 電動モータ
７７ 送りねじ
８１ 支柱
８２ 測定具
８５ マグネスケール
８６ 接触子
Ｇ ギャップ
Ｓ 段差
Ｗ ワーク

Claims (4)

1. 吸着面が設けられ板状基板を保持する吸着テーブルが設けられたワーク支持台と、
   前記ワーク支持台の両側に相互に平行となって配置される第１のガイドレールと、
   前記第１のガイドレールに対して直角方向に配置されて前記第１のガイドレールに移動自在に装着される第２のガイドレールと、
   前記第２のガイドレールに装着され、前記吸着テーブルの上方を前記吸着テーブルに沿って２軸方向に移動するポリッシングヘッドと、
   前記ポリッシングヘッドに上下方向に移動自在に設けられる回転軸の下端部に装着される加工具と、
   を有し、
   前記吸着テーブルに固定された板状基板の上面を前記加工具によりポリッシング加工する板状基板の片面ポリッシング装置。
2. 請求項１記載の板状基板の片面ポリッシング装置において、
   前記吸着面との間に段差を形成するワークガイドを、前記ワーク支持台に上下方向に移動自在に装着した、板状基板の片面ポリッシング装置。
3. 請求項２記載の板状基板の片面ポリッシング装置において、
   前記吸着面に装着された板状基板と前記ワークガイドとの間の段差を検出する測定具を、前記ポリッシングヘッドに設けた、板状基板の片面ポリッシング装置。
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の板状基板の片面ポリッシング装置において、
   前記加工具は、前記回転軸の回転中心に対して直角方向に延在する第１の揺動支持軸と、前記回転中心と前記第１の揺動支持軸とに対して直角方向に延在する第２の揺動支持軸とを有するユニバーサルジョイントにより首振り移動自在に前記回転軸に装着される、板状基板の片面ポリッシング装置。

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