CN214645223U - 研磨装置 - Google Patents

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CN214645223U CN202120143898.3U CN202120143898U CN214645223U CN 214645223 U CN214645223 U CN 214645223U CN 202120143898 U CN202120143898 U CN 202120143898U CN 214645223 U CN214645223 U CN 214645223U
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Abstract

本公开提供一种研磨装置，用于研磨一工件。该研磨装置包括一第一滑轨模块、一滑动座、一第一致动模块、二调整机构、二打磨机及一控制模块。该滑动座承载该工件，可移动地设于该第一滑轨模块上。该第一致动模块可驱动该滑动座移动。所述调整机构互相对应地邻设于该第一滑轨模块，并分别具有一座体、一承载体及一第二致动模块。所述打磨机分别对应地设置于所述承载体上，并分别具有一打磨面，所述打磨面共同定义一间距。其中，该控制模块对该第二致动模块发出一控制信号，以驱动该承载体在该座体上移动，使该间距变化。

Description

研磨装置
技术领域
本公开涉及一种研磨装置，尤指一种用于打磨长柱状工件的研磨装置。
背景技术
塑料产品在射出成形后容易出现毛边，尤其在公母模的接合处容易会产生合模线，使得制造出的工件表面不平滑，故需要进一步进行打磨。一般的打磨机台适用于打磨刚性较强的实心对象，例如木材块或金属块，若用来磨去中空的塑料对象的合模线时，就会发生过磨(例如磨穿塑料件)或欠磨(例如合模线部分残留)的现象。因此，对于中空的长柱状塑料对象，目前多以人工的方式磨去合模线，然这种加工方式会需要较多的人力投入生产线，使得制造成本增加又造成产能降低，且相同样式的工件经人工打磨后仍会具有些微差异，导致所生产的各工件外观无法维持一致性。
实用新型内容
本公开的主要目的在于提供一研磨装置，能够以固定的机械模式打磨去除工件产品上的合模线，使相同样式的各工件可以受到相同程度的研磨，因此各工件在打磨后的外观可以维持一致，且利用本公开中的研磨装置，可减少加工处理的人力需求，有助于整体生产流程的自动化。
为达上述目的，本公开提出了一种研磨装置，用于研磨一工件的一外表面，该外表面具有相对应的二侧面区，该研磨装置包括一第一滑轨模块、一滑动座、一第一致动模块、二调整机构、二打磨机以及一控制模块。该第一滑轨模块沿一第一轴线延伸。该滑动座用于承载该工件，可移动地设于该第一滑轨模块上。该第一致动模块可驱动该滑动座在该第一滑轨模块上沿该第一轴线移动。所述调整机构互相对应地邻设于该第一滑轨模块两侧，并分别具有一座体、一承载体及一第二致动模块，该承载体可移动地设于该座体上，该第二致动模块可驱动该承载体在该座体上移动。所述打磨机分别对应地设置于所述承载体上，每一打磨机具有一打磨面，用以与所述侧面区分别对应接触，所述打磨面在一第二轴线共同定义一间距，该第二轴线与该第一轴线垂直。该控制模块用于发出一控制信号。其中，当该第二致动模块接收该控制信号时，该第二致动模块驱动该承载体在该座体上不平行该第一轴线移动，使该间距变化。
优选地，所述侧面区共同定义一工件宽度，当该工件位于所述打磨面之间且所述打磨面的该间距为一初始间距，且该第二致动模块接收该控制信号时，所述打磨面的该间距自该初始间距变化至实质上等于该工件宽度，使所述打磨面紧贴于该工件的该外表面。
优选地，当该工件位于所述打磨面之间且所述打磨面紧贴于该工件的该外表面，而该第二致动模块接收该控制信号时，所述打磨面的该间距自该工件宽度变化至该初始间距，使所述打磨面远离该工件的该外表面。
优选地，该滑动座还包含一主体及多个干涉件，该主体具有一第一端部及相对于该第一端部的一第二端部，各所述调整机构还包含一微动开关，所述干涉件没置于该主体上，并分别位于该第一端部及该第二端部上，当位于该第一端部上的所述干涉件接触所述微动开关时，该控制模块发出该控制信号，使所述第二致动模块根据该控制信号驱动所述承载体在该第二轴线互相接近，当位于该第二端部上的所述干涉件接触所述微动开关时，该控制模块发出该控制信号，使所述第二致动模块根据该控制信号驱动所述承载体在该第二轴线互相远离。
优选地，各所述打磨面分别对应所述侧面区，且在该第一轴线与一重力方向所定义的一中央平面上所述打磨面的正投影至少局部重叠。
优选地，各所述微动开关具有一滚轮，各所述滚轮位于所述干涉件至少其中之一的一动作路径上，当所述滚轮与所述干涉件接触而被触发，该控制模块向所述第二致动模块发出该控制信号。
优选地，该控制模块为一可编程序逻辑控制器(Programmable LogicController)。
优选地，各所述第二致动模块包含一空压致动器，该空压致动器根据该控制信号驱动该承载体。
优选地，各所述空压致动器还包含一第一传感器，与该控制模块电性连接，并用于检测该承载体的位置。
优选地，各所述第二致动模块包含一轴杆、一螺帽及一挡块，该轴杆与该打磨机连接，可移动地穿设于该挡块，并与该螺帽锁固，该挡块位于该打磨机与该螺帽之间，当所述承载体受所述第二致动模块驱动而移动，使所述螺帽分别与所述挡块接触时，所述打磨面的该间距为一最小间距。
优选地，该工件宽度介于该初始间距与该最小间距之间。
优选地，各所述座体还包含一第二滑轨模块，不平行该第一轴线延伸，各所述承载体具有一滑车，所述滑车分别可移动地设于所述第二滑轨模块。
优选地，各所述打磨机还具有一打磨头及一本体，该打磨面形成于该打磨头，该打磨头设于该本体，该本体固定设置于该承载体上。
优选地，该研磨装置还包含一气缸，该滑动座具有一第一夹持部及一第二夹持部，该第一夹持部及该第二夹持部至少其中之一由该气缸驱动，使该第一夹持部与该第二夹持部之间的距离可调整，以在该第一轴线共同夹持该工件。该气缸还包含一第二传感器，与该控制模块电性连接，并用于检测该第二夹持部与该工件之间的接触。
优选地，该第一致动模块包含一螺杆及连接该螺杆的一马达，该螺杆与该第一滑轨模块平行地设置，且该螺杆与该滑动座螺接，当该马达驱动该螺杆旋转，该螺杆带动该滑动座在该第一滑轨模块上移动。
优选地，研磨装置还包含一基座及至少一液管，该基座供该第一滑轨模块、该第一致动模块及所述调整机构设置，该基座还包含一罩盖，用于包覆所述打磨机及所述液管，所述液管用以向所述打磨头及该工件提供研磨液。
附图说明
图1为本公开研磨装置的立体示意图；
图2为本公开研磨装置的另一立体示意图；
图3为本公开研磨装置的局部立体图；
图4为本公开研磨装置的另一局部立体图；
图5为本公开研磨装置的第二夹持部抵顶工件的示意图；
图6为本公开研磨装置的第二夹持部远离工件的示意图；
图7为本公开研磨装置的另一局部立体图；
图8为本公开研磨装置的一局部俯视立体图；
图9为本公开研磨装置的打磨面间相夹初始间距的俯视图；
图10为本公开研磨装置的打磨面间相夹最小间距的俯视图；
图11为本公开研磨装置的打磨面间距等同工件宽度的俯视图；
图12为本公开研磨装置的控制模块与输入信号及输出信号的示意图。
附图标记说明
1000：研磨装置
2000：工件
2100：外表面
2110：侧面区
1：第一滑轨模块
11：轨道
12：伸缩管
2：滑动座
21：主体
211：滑扣
212：支撑体
213：第一端部
214：第二端部
22：干涉件
23：第一延伸板
24：第二延伸板
25：第一夹持部
26：第二夹持部
3：第一致动模块
31：螺杆
32：马达
4：调整机构
41：座体
411：第二滑轨模块
42：承载体
421：滑车
43：第二致动模块
431：空压致动器
4311：第一传感器
432：轴杆
433：螺帽
434：挡块
44：微动开关
441：滚轮
5：打磨机
51：打磨面
52：打磨头
53：本体
6：控制模块
7：气缸
71：第二传感器
8：基座
81：罩盖
9：液管
A：启动信号
C1、C2：控制信号
S1：第一感测信号
S2：第二感测信号
L：间距
L0：初始间距
Li：最小间距
W：工件宽度
E：中央平面
G：重力方向
X：第一轴线
Y：第二轴线
具体实施方式
图1及图2所示为本公开研磨装置1000的一实施例，研磨装置1000用于研磨一工件2000的一外表面2100。研磨装置1000包括一第一滑轨模块1、一滑动座2、一第一致动模块3、四调整机构4、四打磨机5、一控制模块6、一气缸7、一基座8及二液管9。
请一并参见图3，第一滑轨模块1设于基座8上，供滑动座2设置，第一滑轨模块1具有二轨道11及多个伸缩管12，所述轨道11沿一第一轴线X延伸，所述伸缩管12与滑动座2连接，并与滑动座2共同包覆所述轨道11，使打磨过程中产生的碎屑及使用的打磨液不易附着在轨道11上，而影响滑动座2在轨道11上的移动。
请再一并参见图4至图6，工件2000的外表面2100具有相对应的二侧面区2110，所述侧面区2110共同定义一工件宽度W，滑动座2可移动地设于第一滑轨模块1上，且受第一致动模块3驱动，并用于承载工件2000由一起始位置移动至一终端位置。滑动座2包含一主体21、四干涉件22、一第一延伸板23、一第二延伸板24、一第一夹持部25及一第二夹持部26。主体21与第一滑轨模块1的所述伸缩管12连接，并具有四滑扣211及一支撑体212、一第一端部213及一第二端部214。所述滑扣211扣持在所述轨道11上，因此滑动座2被限制在所述轨道11上沿第一轴线X移动，支撑体212用以与第一致动模块3连接。第一端部213与第二端部214互相对应，滑动座2位于起始位置时，第一端部213离所述打磨机5较近，而第二端部214离所述打磨机5较远，所述干涉件22分别设置于主体21的第一端部213及第二端部214上。第一延伸板23及第二延伸板24分别固定设置在主体21的第一端部213及第二端部214，第一夹持部25形成于第一延伸板23，第二夹持部26可移动地设于第二延伸板24，并与气缸7连接。本实施例中，气缸7可驱动第二夹持部26，使第一夹持部25与第二夹持部26之间的距离可调整，以在第一轴线X上共同夹持工件2000，图5所示为第二夹持部26抵接于工件2000时的状态，而图6所示为第二夹持部26与工件2000分离时的状态，在其他实施例中，也可以是第一夹持部24及第二夹持部25的至少其中之一由气缸7驱动即可。
第一致动模块3可驱动滑动座2在第一滑轨模块1上沿第一轴线X移动。第一致动模块3包含一螺杆31及一马达32。其中，螺杆31与马达32连接，并与第一滑轨模块1平行地设置，且螺杆31与滑动座2的主体21的支撑体212螺接，当马达32驱动螺杆31旋转，螺杆31相对于支撑体212旋转，带动滑动座2在第一滑轨模块1上沿第一轴线X移动。
如图2、图7及图8所示，优选地，所述调整机构4两两成对，并互相对应地邻设于第一滑轨模块1两侧。各调整机构4分别具有一座体41、一承载体42、一第二致动模块43及一微动开关44，座体41设于基座8上，承载体42可移动地设于座体41上，第二致动模块43设于座体41，并可驱动承载体42在座体41上移动。各所述座体41还包含一第二滑轨模块411，各所述承载体42具有一滑车421，所述滑车421分别可移动地设于所述第二滑轨模块411，其中，所述第二滑轨模块411须不平行第一轴线X延伸，使得所述滑车421可彼此接近或远离。
各所述第二致动模块43包含一空压致动器431、一轴杆432、一螺帽433及一挡块434。一并参见图12，各所述空压致动器431还包含一第一传感器4311，第一传感器4311与控制模块6电性连接，并用于检测承载体42的位置。轴杆432与打磨机5连接，并可移动地穿设于挡块434，螺帽433锁固在轴杆432上，挡块434位于打磨机5与螺帽433之间。所述微动开关44设于座体41上并邻设于所述打磨机5，各所述微动开关44具有一滚轮441，各所述滚轮441位于所述干涉件22至少其中之一的一动作路径上，用以与干涉件22接触。
在本实施例中，所述打磨机5数量与所述调整机构4相同，分别对应地设置于所述承载体42上，用以研磨工件2000的外表面2100。每一打磨机5具有一打磨面51、一打磨头52及一本体53，打磨面51形成于打磨头52，打磨头52设于本体53，本体53固定设置在承载体42上。各所述打磨面51分别对应所述侧面区2110，用以分别与所述侧面区2110接触。此外，所述打磨面51与所述侧面区2110接近平行，成对的二打磨面51在与第一轴线X垂直的第二轴线Y上共同定义一间距L。且在第一轴线X与一重力方向G所定义的一中央平面E上，成对的二打磨面51的正投影至少局部重叠。本实施例中，打磨机5为气动的打磨机，通过气管与一气动装置(图中未示出)连接，使打磨头52可受气动装置驱动。在其他实施例中，可替换成电驱动的打磨机。又或者，在其他实施例中，打磨机5也可替换成砂带机或砂轮机，在此需特别说明，砂轮机也有打磨面，只不过其与工件接触的打磨面相对较小且形状细长。
如图12所示，控制模块6可接收输入信号，并在判读后发出一控制信号C1、C2，以分别驱动第一致动模块3及第二致动模块43。控制模块6优选为一可编程序逻辑控制器(Programmable Logic Controller)。当所述滚轮441与所述干涉件22接触而使得微动开关44被触发，控制模块6向所述第二致动模块43发出控制信号C2。而当第二致动模块43接收控制信号C2时，第二致动模块43的空压致动器431会根据控制信号C2驱动承载体42，使承载体42在座体41上不平行第一轴线X移动，进而使间距L变化。
气缸7用于驱动第二夹持部26，使第一夹持部25及第二夹持部26能稳定地夹住工件2000，气缸7具有一第二传感器71，第二传感器71与控制模块6电性连接，并用于检测第二夹持部26与工件2000之间的接触。
请再次参见图1及图2，基座8供第一滑轨模块1、第一致动模块3及所述调整机构4设置。基座8具有一罩盖81，罩盖81包覆所述打磨机5及所述液管9。所述液管9在打磨机5打磨工件2000的外表面2100时，向所述打磨面51及工件2000提供研磨液，研磨液具有润滑效果，使所述侧面区2110和所述打磨面51之间的相对移动可以更加顺畅，且研磨液可使研磨过程降温，而不导致打磨面51或工件2000的外表面2100过热，并同时带走研磨时所产生的细屑。在所述液管9提供研磨液时，罩盖81可避免研磨液向研磨装置1000的外部喷溅。
以下说明本公开研磨装置1000的工作方式。要将工件2000安装至滑动座2时，先以气缸7带动第二夹持部26远离第一夹持部25(如图6所示)以提供足够的空间，并将工件2000卡合于滑动座2的第一夹持部25上，再以气缸7带动第二夹持部26朝第一夹持部25移动，使第一夹持部25及第二夹持部26共同夹持工件2000(如图5所示)，再由第一致动模块3驱动滑动座2带动工件2000由起始位置往终端位置移动，滑动座2经由马达32驱动螺杆31而带动，并在第一滑轨模块1上沿第一轴线X移动。
如图9及图10所示，滑动座2位于起始位置时(参见图9)，成对的所述打磨面51间的间距L为一初始间距L0，此时工件2000可在打磨面51之间通过。当所述微动开关44被触发，所述承载体42受所述第二致动模块43驱动而互相接近，若成对的打磨头52之间没有其他组件阻碍所述打磨头52彼此接近，将会移动至使锁固于所述轴杆432上的所述螺帽433分别与所述挡块434接触为止，此时所述打磨面51的间距会缩小为一最小间距L1(参见图10)。也就是所述打磨头52可在所述打磨面51间相隔初始间距L0及最小间距L1之间移动，因此，工件宽度W需介于初始间距L0与最小间距L1之间，工件2000才得以进入所述打磨头52之间，并受到打磨面51有效地打磨。此外，由于位在承载体42上的打磨机5是由空压致动器431驱动，气压推进的力道可使打磨面51维持贴附于工件2000的外表面2100上，避免工件2000的外表面2100欠磨(即侧面区2110上有合模线残留)。相对地，可调整螺帽433在轴杆432上的位置，以改变最小间距L1，以此适应不同工件宽度W的工件2000，避免在打磨过程中过磨。
另外须说明的是，参见图12，第一传感器4311会向控制模块6发出一第一感测信号S1，第二传感器71会向控制模块6发出一第二感测信号S2，微动开关44被触发会向控制模块6发出一启动信号A，控制模块6通过判断以上输入信号而发出控制信号C1、C2，以控制第一致动模块3及第二致动模块43的动作。其中，第一传感器4311用于测定承载体42是否处于彼此相距最远的位置(即所述打磨面51相距初始间距L0的位置)，第二传感器71用于测定工件是否受第二夹持部26夹持，微动开关44在滚轮441接触干涉件22时被触发。
进一步地，第一致动模块3的动作受第一感测信号S1及第二感测信号S2影响，只有在控制模块6接收的输入信号显示第一传感器4311测定所述承载体42彼此相距最远，且第二传感器71测定第二夹持部26已确实夹持着工件2000时，控制信号C1才会驱动第一致动模块3带动滑动座2往终端位置移动。第二致动模块43的动作受启动信号A及第一感测信号S1影响，在控制模块6接收启动信号A时，会结合第一感测信号S1所表示的承载体42当前的位置判断，以决定控制信号C2将驱动所述第二致动模块43带动所述承载体42彼此接近或彼此远离。具体地，若第一感测信号S1呈现当承载体42在彼此相距最远的位置，则驱动第二致动模块43让承载体42彼此靠近，同理，若第一感测信号S1呈现当承载体42彼此不在相距最远的位置，则驱动第二致动模块43让承载体42彼此远离。
在滑动座2承载工件2000接近所述打磨机5的过程中，当工件2000移动至位于所述打磨面51之间，且所述打磨面51的间距L为一初始间距L0，而此时位于第一端部213上的所述干涉件22接触所述微动开关44的滚轮441，所述微动开关44发出启动信号A至控制模块6，控制模块6结合比对当前的第一感测信号S1后发出控制信号C2，使所述第二致动模块43根据控制信号C2驱动所述承载体42在第二轴线Y上互相接近，所述打磨面51的间距L自初始间距L0变化至实质上等于工件宽度W(参见图11)，使所述打磨面51紧贴于工件2000的外表面2100，并开始研磨工件2000。
在工件2000被打磨机5研磨的过程中，工件2000维持位在所述打磨面51之间且所述打磨面51持续紧贴在工件2000的外表面2100，而当滑动座2持续移动直到位于第二端部214上的所述干涉件22接触所述微动开关44的滚轮441，所述微动开关44发出启动信号A至控制模块6，控制模块6结合比对当前的第一感测信号S1后发出控制信号C2，使所述第二致动模块43根据控制信号C2驱动所述承载体42在第二轴线Y上互相远离，所述打磨面51的间距L自工件宽度W变化至初始间距L0，使所述打磨面51远离工件2000的外表面2100。
当滑动座2带动工件2000经过两组打磨机5研磨到达终端位置，此时通过气缸7驱动第二夹持部26退离工件2000，便可由第一夹持部25取下工件2000，然后再通过第一致动模块3将滑动座2带回起始位置，即可再重复使用研磨装置1000。
综上所述，本公开的研磨装置以机械加工取代人力手动加工的方式，利用第一致动模块以可精准调控的速度带动工件在打磨头之间移动，增加打磨的精度，同时通过第二致动模块中空压致动器及螺帽与挡块的配合，维持打磨面抵顶于工件的力道，且避免欠磨及过磨，并通过控制模块与微动开关及承载体电性连接，使打磨头接触工件及脱离工件的时间可以设定得更加精准，让工件头尾两端可以维持一贯的研磨深度，不需要额外针对工件的头尾再进行后续处理。
以上所述的实施例仅用来举例说明本公开的实施方式，以及阐述本公开的技术特征，并非用来限制本公开的保护范围。在不脱离本公开的精神和原则的前提下，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本公开的保护范围之内。本公开的权利保护范围应以权利要求保护的范围为准。

Claims (16)

1.一种研磨装置，用于研磨一工件的一外表面，该外表面具有相对应的二侧面区，其特征在于，该研磨装置包括：
一第一滑轨模块，沿一第一轴线延伸；
一滑动座，用于承载该工件，可移动地设于该第一滑轨模块上；
一第一致动模块，可驱动该滑动座在该第一滑轨模块上沿该第一轴线移动；
二调整机构，互相对应地邻设于该第一滑轨模块两侧，并分别具有一座体、一承载体及一第二致动模块，该承载体可移动地设于该座体上，该第二致动模块可驱动该承载体在该座体上移动；
二打磨机，分别对应地设置于所述承载体上，每一打磨机具有一打磨面，用以与所述侧面区分别对应接触，所述打磨面在一第二轴线共同定义一间距，该第二轴线与该第一轴线垂直；以及
一控制模块，用于发出一控制信号；
其中，当该第二致动模块接收该控制信号时，该第二致动模块驱动该承载体在该座体上不平行该第一轴线移动，使该间距变化。
2.如权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述侧面区共同定义一工件宽度，当该工件位于所述打磨面之间且所述打磨面的该间距为一初始间距，且该第二致动模块接收该控制信号时，所述打磨面的该间距自该初始间距变化至实质上等于该工件宽度，使所述打磨面紧贴于该工件的该外表面。
3.如权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，当该工件位于所述打磨面之间且所述打磨面紧贴于该工件的该外表面，而该第二致动模块接收该控制信号时，所述打磨面的该间距自该工件宽度变化至该初始间距，使所述打磨面远离该工件的该外表面。
4.如权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，该滑动座还包含一主体及多个干涉件，该主体具有一第一端部及相对于该第一端部的一第二端部，各所述调整机构还包含一微动开关，所述干涉件设置于该主体上，并分别位于该第一端部及该第二端部上，当位于该第一端部上的所述干涉件接触所述微动开关时，该控制模块发出该控制信号，使所述第二致动模块根据该控制信号驱动所述承载体在该第二轴线互相接近，当位于该第二端部上的所述干涉件接触所述微动开关时，该控制模块发出该控制信号，使所述第二致动模块根据该控制信号驱动所述承载体在该第二轴线互相远离。
5.如权利要求4所述的研磨装置，其特征在于，各所述打磨面分别对应所述侧面区，且在该第一轴线与一重力方向所定义的一中央平面上所述打磨面的正投影至少局部重叠。
6.如权利要求5所述的研磨装置，其特征在于，各所述微动开关具有一滚轮，各所述滚轮位于所述干涉件至少其中之一的一动作路径上，当所述滚轮与所述干涉件接触而被触发，该控制模块向所述第二致动模块发出该控制信号。
7.如权利要求6所述的研磨装置，其特征在于，该控制模块为一可编程序逻辑控制器。
8.如权利要求7所述的研磨装置，其特征在于，各所述第二致动模块包含一空压致动器，该空压致动器根据该控制信号驱动该承载体。
9.如权利要求8所述的研磨装置，其特征在于，各所述空压致动器还包含一第一传感器，与该控制模块电性连接，并用于检测该承载体的位置。
10.如权利要求1至9中任一项所述的研磨装置，其特征在于，各所述第二致动模块包含一轴杆、一螺帽及一挡块，该轴杆与该打磨机连接，可移动地穿设于该挡块，并与该螺帽锁固，该挡块位于该打磨机与该螺帽之间，当所述承载体受所述第二致动模块驱动而移动，使所述螺帽分别与所述挡块接触时，所述打磨面的该间距为一最小间距。
11.如权利要求2至9中任一项所述的研磨装置，其特征在于，该工件宽度介于该初始间距与该最小间距之间。
12.如权利要求11所述的研磨装置，其特征在于，各所述座体还包含一第二滑轨模块，不平行该第一轴线延伸，各所述承载体具有一滑车，所述滑车分别可移动地设于所述第二滑轨模块。
13.如权利要求12所述的研磨装置，其特征在于，各所述打磨机还具有一打磨头及一本体，该打磨面形成于该打磨头，该打磨头设于该本体，该本体固定设置于该承载体上。
14.如权利要求13所述的研磨装置，其特征在于，还包含一气缸，该滑动座具有一第一夹持部及一第二夹持部，该第一夹持部及该第二夹持部至少其中之一由该气缸驱动，使该第一夹持部与该第二夹持部之间的距离可调整，以在该第一轴线共同夹持该工件，该气缸还包含一第二传感器，与该控制模块电性连接，并用于检测该第二夹持部与该工件之间的接触。
15.如权利要求14所述的研磨装置，其特征在于，该第一致动模块包含一螺杆及连接该螺杆的一马达，该螺杆与该第一滑轨模块平行地设置，且该螺杆与该滑动座螺接，当该马达驱动该螺杆旋转，该螺杆带动该滑动座在该第一滑轨模块上移动。
16.如权利要求15所述的研磨装置，其特征在于，还包含一基座及至少一液管，该基座供该第一滑轨模块、该第一致动模块及所述调整机构设置，该基座还包含一罩盖，用于包覆所述打磨机及所述液管，所述液管用以向所述打磨头及该工件提供研磨液。
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