TWI747935B - 可撓性圖像顯示裝置用積層體及可撓性圖像顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之目的在於提供一種可撓性圖像顯示裝置用積層體及配置有上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之可撓性圖像顯示裝置，該可撓性圖像顯示裝置用積層體藉由使用至少包含偏光膜之光學膜、及複數個特定之黏著劑層，即便反覆彎曲亦不會發生剝離或斷裂，耐彎曲性及密接性優異。 本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體之特徵在於：其係包含複數個黏著劑層、及至少包含偏光膜之光學膜者，並且上述偏光膜之厚度為20 μm以下，將上述複數個黏著劑層中之上述積層體彎折之情形時之凸側之最外面的黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'大致等於或小於其他黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'。

Description

可撓性圖像顯示裝置用積層體及可撓性圖像顯示裝置
本發明係關於一種包含至少包含偏光膜之光學膜及複數個特定之黏著劑層的可撓性圖像顯示裝置用積層體、以及配置有上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之可撓性圖像顯示裝置。
作為觸控感測器一體型之有機EL(electroluminescence，電致發光)顯示裝置，如圖1所示，於有機EL顯示面板10之視認側設置有光學積層體20，於光學積層體20之視認側設置有觸控面板30。光學積層體20包含於兩面接合有保護膜2-1、2-2之偏光膜1及相位差膜3，且於相位差膜3之視認側設置有偏光膜1。又，觸控面板30具有將透明導電膜4-1、透明導電膜4-2隔著隔離膜7配置之構造，上述透明導電膜4-1具有將基材膜5-1與透明導電層6-1積層之構造，上述透明導電膜4-2具有將基材膜5-2與透明導電層6-2積層之構造(例如，參照專利文獻1)。
又，期待實現攜帶性更優異之能夠彎折之有機EL顯示裝置。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2014-157745號公報
然而，如專利文獻1所示之先前之有機EL顯示裝置並非意在加以彎折 而設計者。若於有機EL顯示面板基材使用塑膠膜，則可對有機EL顯示面板賦予彎曲性。又，如對觸控面板使用塑膠膜，並組入至有機EL顯示面板中之情形時，亦可對有機EL顯示面板賦予彎曲性。但是，積層於有機EL顯示面板的先前之包含偏光膜等之光學膜會產生阻礙有機EL顯示裝置之彎曲性之問題。
因此，本發明之目的在於提供一種可撓性圖像顯示裝置用積層體及配置有上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之可撓性圖像顯示裝置，該可撓性圖像顯示裝置用積層體藉由使用至少包含偏光膜之光學膜、及複數個特定之黏著劑層，即便反覆彎曲亦不會發生剝離或斷裂，耐彎曲性及密接性優異。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體之特徵在於：其係包含複數個黏著劑層、及至少包含偏光膜之光學膜者，並且上述偏光膜之厚度為20μm以下，將上述複數個黏著劑層中之上述積層體彎折之情形時之凸側之最外面的黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'大致等於或小於其他黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為上述光學膜係包含上述偏光膜、上述偏光膜之第1面所具有之透明樹脂材料之保護膜、及上述偏光膜之與上述第1面不同之第2面所具有之相位差膜的光學積層體。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為上述複數個黏著劑層中，對於上述保護膜，於與上述偏光膜接觸之面之相反側配置有第1黏著劑層。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為上述複數個黏著劑層中，對於上述相位差膜，於與上述偏光膜接觸之面之相反側配置有第2黏著劑層。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為對於上述第2黏著劑層，於與上述相位差膜接觸之面之相反側配置有構成觸控感測器之透明導電層。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為對於上述構成觸控感測器之透明導電層，於與上述第2黏著劑層接觸之面之相反側配置有第3黏著劑層。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為對於上述第1黏著劑層，於與上述保護膜接觸之面之相反側配置有構成觸控感測器之透明導電層。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為上述複數個黏著劑層中，對於上述構成觸控感測器之透明導電層，於與上述第1黏著劑層接觸之面之相反側配置有第3黏著劑層。
關於本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體，較佳為上述複數個黏著劑層由相同之黏著劑組合物形成。
本發明之可撓性圖像顯示裝置較佳為包含上述可撓性圖像顯示裝置用積層體、及有機EL顯示面板，且對於上述有機EL顯示面板，於視認側配置上述可撓性圖像顯示裝置用積層體。
本發明之可撓性圖像顯示裝置較佳為對於上述可撓性圖像顯示裝置用積層體，於視認側配置有窗。
根據本發明，可獲得藉由使用至少包含偏光膜之光學膜、及複數個特定之黏著劑層，即便反覆彎曲亦不會發生剝離或斷裂，耐彎曲性及密接性優異之可撓性圖像顯示裝置用積層體，進而可獲得配置有上述可撓性圖像顯示裝置用積層體之可撓性圖像顯示裝置，故而有用。
以下，參照圖式等而詳細地說明本發明之光學膜或可撓性圖像顯示裝置用積層體、可撓性圖像顯示裝置之實施形態。
1:偏光膜
2:保護膜
2-1:保護膜
2-2:保護膜
3:相位差層
4-1:透明導電膜
4-2:透明導電膜
5-1:基材膜
5-2:基材膜
6:透明導電層
6-1:透明導電層
6-2:透明導電層
7:隔離膜
8:透明基材
8-1:透明基材(PET膜)
8-2:透明基材(PET膜)
9:基材(PI膜)
10:有機EL顯示面板
10-1:有機EL顯示面板(附觸控感測器)
11:可撓性圖像顯示裝置用積層體(有機EL顯示裝置用積層體)
12:黏著劑層
12-1:第1黏著劑層
12-2:第2黏著劑層
12-3:第3黏著劑層
13:加飾印刷膜
20:光學積層體
30:觸控面板
40:窗
100:可撓性圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)
10:紫外線硬化性樹脂
12:紫外線硬化性樹脂
14:基材
20:製造步驟
21:捲盤
22:模嘴
24:加壓輥
25:紫外線照射裝置
26:剝離輥
27:紫外線照射裝置
29:模嘴
30:輥版
31:搬送輥
32:模嘴
34:加壓輥
35:紫外線照射裝置
36:剝離輥
37:紫外線照射裝置
39:模嘴
40:輥版
圖1係表示先前之有機EL顯示裝置的剖視圖。
圖2係表示本發明之一實施形態之可撓性圖像顯示裝置的剖視圖。
圖3係表示本發明之另一實施形態之可撓性圖像顯示裝置的剖視圖。
圖4係表示本發明之另一實施形態之可撓性圖像顯示裝置的剖視圖。
圖5係表示耐折強度之測定方法的圖。
圖6係表示實施例中所使用之評價用樣品的剖視圖(構成A)。
圖7係表示實施例中所使用之評價用樣品的剖視圖(構成B)。
圖8係表示實施例中所使用之相位差膜之製造方法的圖。
圖9係表示實施例中所使用之相位差膜之製造方法的圖。
[可撓性圖像顯示裝置用積層體]
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體之特徵在於：包含複數個黏著劑層、及光學膜。
[光學膜]
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體之特徵在於包含至少包含偏光膜之光學膜，作為上述光學膜係指除上述偏光膜以外，亦包含例如由透 明樹脂材料形成之保護膜或相位差膜等膜者。
又，於本發明中，將包含上述偏光膜、上述偏光膜之第1面所具有之透明樹脂材料之保護膜、及上述偏光膜之與上述第1面不同之第2面所具有之相位差膜作為上述光學膜的構成稱為光學積層體。再者，上述光學膜中不包含下述之第1黏著劑層等複數個黏著劑層。
上述光學膜之厚度較佳為92μm以下，更佳為60μm以下，進而較佳為10~50μm。若為上述範圍內，則不會阻礙彎曲，成為較佳之態樣。
只要無損本發明之特性，則上述偏光膜亦可於至少單側利用接著劑(層)而貼合有保護膜(未由圖式表示)。偏光膜與保護膜之接著處理中可使用接著劑。作為接著劑，可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系乳膠系、水系聚酯等。上述接著劑通常以包含水溶液之接著劑之形式使用，通常含有0.5~60重量%之固形物成分。除上述以外，作為偏光膜與保護膜之接著劑，可列舉：紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光膜用接著劑對上述各種保護膜顯示出較佳之接著性。又，本發明中所使用之接著劑中可含有金屬化合物填料。再者，於本發明中，有時將偏光膜與保護膜利用接著劑(層)貼合而成者稱為偏光膜(偏光板)。
<偏光膜>
本發明之光學膜中所包含之偏光膜(亦稱為偏光元件)可使用藉由空中延伸(乾式延伸)或硼酸水中延伸步驟等延伸步驟進行延伸且使碘配向之聚乙烯醇(PVA)系樹脂。
作為偏光膜之製造方法，代表性而言有如於日本專利特開2004-341515號公報中有記載的包括將PVA系樹脂之單層體進行染色之步驟及 進行延伸之步驟的製法(單層延伸法)。又，可列舉如於日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、日本專利特開2001-343521號公報、國際公開第2010/100917號、日本專利特開2012-073563號公報、日本專利特開2011-2816號公報中有記載的包括將PVA系樹脂層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟的製法。若採用該製法，則即便PVA系樹脂層較薄，藉由被延伸用樹脂基材所支持，亦變得能夠在無因延伸引起之斷裂等不良情況之情形下進行延伸。
包括以積層體之狀態進行延伸之步驟及進行染色之步驟的製法中，有如於上述之日本專利特開昭51-069644號公報、日本專利特開2000-338329號公報、日本專利特開2001-343521號公報中有記載之空中延伸(乾式延伸)法。並且，就可以高倍率進行延伸而可提高偏光性能之方面而言，較佳為如於國際公開第2010/100917號、日本專利特開2012-073563號公報中有記載的包括於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法，尤佳為如日本專利特開2012-073563號公報之包括於硼酸水溶液中進行延伸之前進行空中輔助延伸之步驟的製法(2段延伸法)。又，亦較佳為如於日本專利特開2011-2816號公報中有記載的將PVA系樹脂層與延伸用樹脂基材以積層體之狀態延伸後，將PVA系樹脂層過度染色，其後進行脫色的製法(過度染色脫色法)。本發明之光學膜中所包含之偏光膜可設為如下偏光膜，該偏光膜包含如上述之使碘配向之聚乙烯醇系樹脂，且藉由包括空中輔助延伸及硼酸水中延伸之2段延伸步驟進行延伸而成。又，上述偏光膜可設為如下偏光膜，該偏光膜包含如上述之使碘配向之聚乙烯醇系樹脂，且藉由將經延伸之PVA系樹脂層與延伸用樹脂基材之積層體過度染色，其後進 行脫色而製作。
上述偏光膜之厚度為20μm以下，較佳為12μm以下，更佳為9μm以下，進而較佳為1~8μm，尤佳為3~6μm。若為上述範圍內，則不會阻礙彎曲，成為較佳之態樣。
<相位差膜>
本發明中所使用之光學膜中可包含相位差膜，上述相位差膜(亦稱為相位差膜)可使用使高分子膜延伸而獲得者或使液晶材料配向、固定化而成者。於本說明書中，相位差膜係指於面內及/或厚度方向具有雙折射者。
作為相位差膜，可列舉：抗反射用相位差膜(參照日本專利特開2012-133303號公報[0221]、[0222]、[0228])、視角補償用相差膜(參照日本專利特開2012-133303號公報[0225]、[0226])、視角補償用之傾斜配向相位差膜(參照日本專利特開2012-133303號公報[0227])等。
作為相位差膜，只要為實質上具有上述功能者，則例如相位差值、配置角度、三維雙折射率、單層亦或多層等並無特別限定，可使用公知之相位差膜。
上述相位差膜之厚度較佳為20μm以下，更佳為10μm以下，進而較佳為1~9μm，尤佳為3~8μm。若為上述範圍內，則不會阻礙彎曲，成為較佳之態樣。
<保護膜>
本發明中所使用之光學膜中可包含由透明樹脂材料形成之保護膜，上述保護膜(亦稱為透明保護膜)可使用降
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烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚乙烯、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等。
上述保護膜之厚度較佳為5~60μm，更佳為10~40μm，進而較佳為10~30μm，可適宜設置防眩層或抗反射層等表面處理層。若為上述範圍內，則不會阻礙彎曲，成為較佳之態樣。
[第1黏著劑層]
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之複數個黏著劑層中，第1黏著劑層較佳為對於上述保護膜而配置於與上述偏光膜接觸之面之相反側。
作為本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之構成第1黏著劑層之黏著劑層，可列舉：丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑、氟系黏著劑、環氧系黏著劑、聚醚系黏著劑等。再者，構成上述黏著劑層之黏著劑可單獨使用或組合2種以上而使用。其中，就透明性、加工性、耐久性、密接性、耐彎曲性等方面而言，較佳為單獨使用丙烯酸系黏著劑。
<(甲基)丙烯酸系聚合物>
於使用丙烯酸系黏著劑作為上述黏著劑組合物之情形時，較佳為含有包含具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸系單體作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用上述具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸系單體，可獲得彎曲性優異之黏著劑層。再者，本發明中之(甲基)丙烯酸系聚合物係指丙烯酸系聚合物及/或甲基丙烯酸系聚合物，又，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
作為構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的具有直鏈狀或支鏈狀 之碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸系單體之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸異庚酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯等，其中，由於玻璃轉移溫度(Tg)較低之單體通常於彎曲時之速度較快之區域亦成為黏彈性體，故而就彎曲性之觀點而言，較佳為具有直鏈狀或支鏈狀之碳數4~8之烷基之(甲基)丙烯酸系單體。作為上述(甲基)丙烯酸系單體，可使用1種或2種以上。
上述具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸系單體係成為構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中之主成分者。此處，所謂主成分，於構成(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中，具有直鏈狀或支鏈狀之碳數1~24之烷基之(甲基)丙烯酸系單體較佳為80~100重量%，更佳為90~100重量%，進而較佳為92~99.9重量%，尤佳為94~99.9。
於使用丙烯酸系黏著劑作為上述黏著劑組合物之情形時，較佳為含有包含具有反應性官能基之含羥基之單體作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用上述含羥基之單體，可獲得密接性及彎曲性優異之黏著劑層。上述含羥基之單體係於其結構中包含羥基，且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
作為上述含羥基之單體之具體性，可列舉：(甲基)丙烯酸2-羥基乙 酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥基癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯或丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯等。上述含羥基之單體中，就耐久性或密接性之方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯。再者，作為上述含羥基之單體，可使用1種或2種以上。
又，作為構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元，可含有具有反應性官能基之含羧基之單體、含胺基之單體及含醯胺基之單體等單體。藉由使用該等單體，就濕熱環境下之密接性之觀點而言較佳。
於使用丙烯酸系黏著劑作為上述黏著劑組合物之情形時，可含有包含具有反應性官能基之含羧基之單體作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用上述含羧基之單體，可獲得濕熱環境下之密接性優異之黏著劑層。上述含羧基之單體係於其結構中包含羧基，且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
作為上述含羧基之單體之具體例，例如可列舉：(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧基乙酯、(甲基)丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、丁烯酸等。
於使用丙烯酸系黏著劑作為上述黏著劑組合物之情形時，可含有包含具有反應性官能基之含胺基之單體作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用上述含胺基之單體，可獲得濕熱環境下之密接性優異之黏著劑層。上述含胺基之單體係於其結構中包含胺基，且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
作為上述含胺基之單體之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸N,N-二甲 基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基丙酯等。
於使用丙烯酸系黏著劑作為上述黏著劑組合物之情形時，可含有包含具有反應性官能基之含醯胺基之單體作為單體單元之(甲基)丙烯酸系聚合物。藉由使用上述含醯胺基之單體，可獲得密接性優異之黏著劑層。上述含醯胺基之單體係於其結構中包含醯胺基，且包含(甲基)丙烯醯基、乙烯基等聚合性不飽和雙鍵之化合物。
作為上述含醯胺基之單體之具體例，可列舉：(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基丙烯醯胺、N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-己基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基-N-丙烷(甲基)丙烯醯胺、胺基甲基(甲基)丙烯醯胺、胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、巰基甲基(甲基)丙烯醯胺、巰基乙基(甲基)丙烯醯胺等丙烯醯胺系單體；N-(甲基)丙烯醯基嗎啉、N-(甲基)丙烯醯基哌啶、N-(甲基)丙烯醯基吡咯啶等N-丙烯醯基雜環單體；N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基-ε-己內醯胺等含N-乙烯基之內醯胺系單體等。
作為構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元，上述具有反應性官能基之單體之調配比率(合計量)於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中，較佳為20重量%以下，更佳為10重量%以下，進而較佳為0.01~8重量%，尤佳為0.01~5重量%，最佳為0.05~3重量%。若超過20重量%，則交聯點變多，黏著劑(層)之柔軟性喪失，因此有缺乏應力緩和性之傾向。
作為構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體單元，除上述具有反應性官能基之單體以外，於無損本發明之效果之範圍內，可導入其他共聚合單 體。其調配比率並無特別限定，於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體中，較佳為30重量%以下，更佳為不含有。若超過30重量%，則尤其於使用(甲基)丙烯酸系單體以外之單體之情形時，有與膜之反應點變少而密接力降低之傾向。
於本發明中，於使用上述(甲基)丙烯酸系聚合物之情形時，通常使用重量平均分子量(Mw)為100萬~250萬之範圍者。若考慮到耐久性、尤其是耐熱性或彎曲性，則較佳為120萬~220萬，更佳為140萬~200萬。若重量平均分子量小於100萬，則為了確保耐久性而使聚合物鏈彼此交聯時，與重量平均分子量為100萬以上者相比，交聯點變多，黏著劑(層)之柔軟性喪失，因此無法緩和彎曲時於各膜間所產生之彎曲外側(凸側)與彎曲內側(凹側)之尺寸變化，變得容易產生膜之斷裂。又，若重量平均分子量大於250萬，則需要大量之稀釋溶劑以調整為用以進行塗敷之黏度，導致成本上升，故而欠佳，又，由於所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物之聚合物鏈彼此之交聯變得複雜，故而柔軟性差，彎曲時容易產生膜之斷裂。再者，重量平均分子量(Mw)係指藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定，並藉由聚苯乙烯換算所算出之值。
此種(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適宜選擇溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一種。
上述溶液聚合中，作為聚合溶劑，例如使用乙酸乙酯、甲苯等。作為具體之溶液聚合例，於氮氣等惰性氣體氣流下，添加聚合起始劑，通常於50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。
自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限 定，可適宜選擇而使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件進行控制，根據該等之種類而調整其適宜之使用量。
作為上述聚合起始劑，例如可列舉：2,2'-偶氮雙異丁腈、2,2'-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2'-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮雙(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮雙[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(商品名：VA-057，和光純藥工業(股份)製造)等偶氮系起始劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽；過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧化)環己烷、氫過氧化第三丁基、過氧化氫等過氧化物系起始劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等將過氧化物與還原劑組合之氧化還原系起始劑等，但並不限定於該等。
上述聚合起始劑可使用1種或混合使用2種以上，作為整體之含量例如相對於構成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之全部單體100重量份，較佳為0.005~1重量份左右，更佳為0.02~0.5重量份左右。
又，於使用鏈轉移劑、乳化聚合時所使用之乳化劑或反應性乳化劑之情形時，該等可適宜使用先前公知者。又，作為該等之添加量，可於無損本發明之效果之範圍內適宜決定。
<交聯劑>
本發明之黏著劑組合物中可含有交聯劑。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉：異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結而成者。作為多價金屬原子，可列舉：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等，作為有機化合物，可列舉：烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。其中，異氰酸酯系交聯劑(尤其是三官能之異氰酸酯系交聯劑)就耐久性之方面而言較佳，又，過氧化物系交聯劑及異氰酸酯系交聯劑(尤其是二官能之異氰酸酯系交聯劑)就彎曲性之方面而言較佳。過氧化物系交聯劑或二官能之異氰酸酯系交聯劑均形成柔軟之二維交聯，相對於此，三官能之異氰酸酯系交聯劑形成更牢固之三維交聯。彎曲時，作為更柔軟之交聯之二維交聯變得有利。但是，僅有二維交聯時，缺乏耐久性，容易產生剝離，因此二維交聯與三維交聯之混合交聯良好，故而將三官能之異氰酸酯系交聯劑與過氧化物系交聯劑或二官能之異氰酸酯系交聯劑併用為較佳之態樣。
上述交聯劑之使用量例如相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為0.01~10重量份，更佳為0.03~2重量份。若為上述範圍內，則耐彎曲性優異，成為較佳之態樣。
<其他添加劑>
進而，本發明中之黏著劑組合物中，亦可含有其他公知之添加劑，例如可根據使用用途適宜添加各種矽烷偶合劑、聚丙二醇等聚伸烷基二醇之聚醚化合物、著色劑、顏料等之粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏 著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、抗靜電劑(作為離子性化合物之鹼金屬鹽或離子液體等)、無機或有機之填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，亦可於可控制之範圍內採用添加有還原劑之氧化還原系。
[其他黏著劑層]
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之複數個黏著劑層中，可將第2黏著劑層對於上述相位差膜而配置於與上述偏光膜接觸之面之相反側。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之複數個黏著劑層中，可將第3黏著劑層對於上述構成觸控感測器之透明導電層而配置於與上述第2黏著劑層接觸之面之相反側。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之複數個黏著劑層中，可將第3黏著劑層對於上述構成觸控感測器之透明導電層而配置於與上述第1黏著劑層接觸之面之相反側。
再者，於除第1黏著劑層以外，使用第2黏著劑層及進而其他黏著劑層(例如，第3黏著劑層等)之情形時，該等黏著劑層可為具有相同組成(相同黏著劑組合物)、相同特性者，亦可為具有不同特性者，並無特別限制，但要求將上述複數個黏著劑層中之上述積層體彎折之情形時之凸側之最外面的黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'大致等於或小於其他黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'。又，就作業性、經濟性、彎曲性之觀點而言，較佳為全部黏著劑層為實質上具有相同組成、相同特性之黏著劑層。
<黏著劑層之形成>
本發明中之複數個黏著劑層較佳為由上述黏著劑組合物形成。作為 形成黏著劑層之方法，例如可列舉以下方法：將上述黏著劑組合物塗佈於經剝離處理之隔離膜等，將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層。又，亦可藉由以下方法等而製作：於偏光膜等塗佈上述黏著劑組合物，將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光膜等形成黏著劑層。再者，於塗佈黏著劑組合物時，亦可適宜新添加聚合溶劑以外之一種以上之溶劑。
作為經剝離處理之隔離膜，可較佳地使用聚矽氧剝離襯墊。於此種襯墊上塗佈本發明之黏著劑組合物並使之乾燥而形成黏著劑層之情形時，作為使黏著劑乾燥之方法，可根據目的適宜採用適當之方法。較佳為使用對上述塗佈膜進行加熱乾燥之方法。關於加熱乾燥溫度，例如於製備使用(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑之情形時，較佳為40~200℃，進而較佳為50~180℃，尤佳為70~170℃。藉由將加熱溫度設為上述範圍，可獲得具有優異之黏著特性之黏著劑。
乾燥時間可適宜採用適當之時間。關於上述乾燥時間，例如於製備使用(甲基)丙烯酸系聚合物之丙烯酸系黏著劑之情形時，較佳為5秒~20分鐘，進而較佳為5秒~10分鐘，尤佳為10秒~5分鐘。
作為上述黏著劑組合物之塗佈方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉：輥式塗佈、接觸輥式塗佈、凹版塗佈、反向塗佈、輥式刷塗、噴霧塗佈、浸漬輥塗佈、棒式塗佈、刮刀塗佈、氣刀塗佈、淋幕式塗佈、模唇塗佈、利用模嘴塗佈機等之擠出塗佈法等方法。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之黏著劑層之厚度較佳為1~200μm，更佳為5~150μm，進而較佳為10~100μm。黏著劑層可為單層，亦可具有積層構造。若為上述範圍內，則不會阻礙彎曲，又，就密接性(耐保持性)之方面而言，亦成為較佳之態樣。又，於具有複 數個黏著劑層之情形時，較佳為全部黏著劑層為上述範圍內。
特徵在於：本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之複數個黏著劑層中，將上述積層體彎折之情形時之凸側之最外面的黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'大致等於或小於其他黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'。於複數個儲存彈性模數(G')大致相同之情形時，彎曲時(彎折時)所產生之應力不會偏集於一部分層，因此各膜、各層(例如，偏光膜等光學膜)之斷裂或黏著劑層、接著劑層之剝離得到抑制，故而較佳。
又，例如於使用上述光學積層體作為上述光學膜之情形時，當以上述相位差膜側作為凸側(外側)，將上述可撓性圖像顯示裝置用積層體於中央加以彎折時，儲存彈性模數(G')朝向上述凸側變小時，相位差側之黏著劑層受到拉伸方向之力，拉伸之力自凸側(外側)向凹側(內側)逐漸變小。受到拉伸方向之力之黏著劑層係緩和應力之黏著劑層，即G'較小時施加至光學膜等膜之應力變小，變得不易產生斷裂或層間之剝離。由於自凸側(外側)向凹側(內側)所施加之應力變小，故而即便G'較最表層側變大，亦可確保耐彎曲性。與朝向上述凸側(外側)變大之情形相比，變得不再發生各膜、各層之斷裂或層間剝離，成為較佳之態樣。
再者，所謂大致相同係指黏著劑層間之儲存彈性模數(G')之差異相對於複數個黏著劑層之儲存彈性模數(G')之平均值為±15%範圍內，較佳為±10%範圍內。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之黏著劑層之儲存彈性模數(G')於25℃下較佳為1.0MPa以下，更佳為0.8MPa以下，進而較佳為0.3MPa以下。若黏著劑層之儲存彈性模數為此種範圍，則黏著劑層不易變硬，應力緩和性優異，耐彎曲性亦優異，因此可實現能夠彎曲或能 夠摺疊之可撓性圖像顯示裝置。
尤其於將上述可撓性圖像顯示裝置用積層體於中央加以彎折之情形時，上述凹側(內側)之最內側之儲存彈性模數(G')於25℃下較佳為0.05~0.2MPa，更佳為0.05~0.15MPa。若超過0.2MPa，則無法緩和彎曲時所施加之應力，變得容易產生光學膜等膜之斷裂。若未達0.05MPa，則完全追隨於連續彎曲時之膜間之尺寸變化，因此因黏著劑層之疲勞劣化而導致彎曲部之耐久性惡化，變得容易產生剝離或發泡。
又，於將上述可撓性圖像顯示裝置用積層體於中央加以彎折之情形時，上述凸側(外側)之最外側的儲存彈性模數(G')於25℃下較佳為0.01~0.15MPa，更佳為0.01~0.1MPa。若超過0.15MPa，則無法緩和於彎曲時所產生之剪切應力，變得容易產生光學膜等膜之斷裂。又，若未達0.01MPa，則完全追隨於連續彎曲時之膜間之尺寸變化，因此因黏著劑層之疲勞劣化而導致彎曲部之耐久性惡化，變得容易產生剝離或發泡。
於存在複數個黏著劑層之情形時，位於中間之黏著劑層之儲存彈性模數(G')於25℃下較佳為0.01~0.2MPa，更佳為0.01~0.15MPa。由於該黏著劑層位於積層品之中間，故而最不容易施加應力，因此將複數個黏著劑層之凸側(外側)與凹側(內側)之黏著劑層之儲存彈性模數(G')之範圍合併者成為適合範圍。並且，若為上述範圍內，則於彎曲時不產生凸側之膜之斷裂等，故而較佳。
作為本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之黏著劑層之玻璃轉移溫度(Tg)之上限值，較佳為0℃以下，更佳為-20℃以下，進而較佳為-25℃以下。若黏著劑層之Tg為此種範圍，則於彎曲時之速度較快之區域，黏著劑層亦不易變硬，應力緩和性優異，從而可實現能夠彎曲或能 夠摺疊之可撓性圖像顯示裝置。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之黏著劑層之可見光波長區域中之全光線透過率(依據JIS K7136)較佳為85%以上，更佳為90%以上。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體中所使用之黏著劑層之霧度(依據JIS K7136)較佳為3.0%以下，更佳為2.0%以下。
再者，上述全光線透過率及上述霧度例如可使用測霧計(村上色彩技術研究所製造，商品名「HM-150」)進行測定。
[透明導電層]
作為具有透明導電層之構件，並無特別限定，可使用公知者，可列舉：於透明膜等透明基材上具有透明導電層者、或者具有透明導電層與液晶單元之構件。
作為透明基材，只要為具有透明性者即可，例如可列舉包含樹脂膜等之基材(例如，片狀或膜狀、板狀之基材等)等。透明基材之厚度並無特別限定，較佳為10~200μm左右，更佳為15~150μm左右。
作為上述樹脂膜之材料，並無特別限制，可列舉具有透明性之各種塑膠材料。例如，作為其材料，可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂、乙酸酯系樹脂、聚醚碸系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。該等之中，尤佳為聚酯系樹脂、聚醯亞胺系樹脂及聚醚碸系樹脂。
又，對於上述透明基材，亦可對表面預先實施濺鍍、電暈放電、火 焰、紫外線照射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理或底塗處理，以提高設置於其上之透明導電層對上述透明基材之密接性。又，亦可於設置透明導電層之前，視需要藉由溶劑洗淨或超音波洗淨等進行除塵、淨化。
作為上述透明導電層之構成材料，並無特別限定，可使用選自由銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、矽、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢所組成之群中之至少1種金屬之金屬氧化物。該金屬氧化物中，亦可視需要進而包含上述群中所示之金屬原子。例如，可較佳地使用含有氧化錫之氧化銦(ITO(Indium Tin Oxides，氧化銦錫))、含有銻之氧化錫等，可尤佳地使用ITO。作為ITO，較佳為含有氧化銦80~99重量%及氧化錫1~20重量%。
又，作為上述ITO，可列舉：結晶性之ITO、非結晶性(非晶質)之ITO。結晶性ITO可藉由在濺鍍時施加高溫，或者將非結晶性ITO進一步加熱而獲得。
本發明之透明導電層之厚度較佳為0.005~10μm，更佳為0.01~3μm，進而較佳為0.01~1μm。若透明導電層之厚度未達0.005μm，則有透明導電層之電阻值之變化變大之傾向。另一方面，於超過10μm之情形時，有透明導電層之生產性降低，成本亦上升，進而光學特性亦降低之傾向。
本發明之透明導電層之全光線透過率較佳為80%以上，更佳為85%以上，進而較佳為90%以上。
本發明之透明導電層之密度較佳為1.0~10.5g/cm3，更佳為1.3~3.0g/cm3。
本發明之透明導電層之表面電阻值較佳為0.1~1000Ω/□，更佳為 0.5~500Ω/□，進而較佳為1~250Ω/□。
作為上述透明導電層之形成方法，並無特別限定，可採用先前公知之方法。具體而言，例如可例示：真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍覆法。又，亦可根據所需之膜厚而採用適宜之方法。
又，可於透明導電層與透明基材之間，視需要設置底塗層、低聚物抑制層等。
上述透明導電層構成觸控感測器，要求構成為能夠進行彎折。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體可將上述構成觸控感測器之透明導電層對於上述第2黏著劑層而配置於與上述相差膜接觸之面之相反側。
本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體可將上述構成觸控感測器之透明導電層對於上述第1黏著劑層而配置於與上述保護膜接觸之面之相反側。
又，本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體可將上述構成觸控感測器之透明導電層配置於上述保護膜與窗膜(OCA(Optically Clear Adhesive，光學透明膠帶))之間。
上述透明導電層於用於可撓性圖像顯示裝置之情形時，可較佳地應用於內置有內嵌型或表嵌型之觸控感測器之液晶顯示裝置，尤其亦可於有機EL顯示面板中內置(組入)觸控感測器。
[導電性層(抗靜電層)]
又，本發明之可撓性圖像顯示裝置用積層體亦可具備具有導電性之層(導電性層、抗靜電層)。上述可撓性圖像顯示裝置用積層體成為具有彎曲功能，厚度非常薄之構成，因此對製造步驟等中所產生之微弱之靜電之 反應性較大，容易受到損傷，但藉由在上述積層體設置導電性層，可大幅度減輕製造步驟等中之因靜電產生之負載，成為較佳之態樣。
又，包含上述積層體之可撓性圖像顯示裝置之一大特徵在於具有彎曲功能，但於連續彎曲之情形時，有因彎曲部之膜(基材)間之收縮而產生靜電之情形。因此，於對上述積層體賦予導電性之情形時，可將所產生之靜電迅速除去，可減輕圖像顯示裝置之因靜電引起之損傷，成為較佳之態樣。
又，上述導電性層可為具有導電性功能之底塗層，亦可為包含導電成分之黏著劑，進而亦可為包含導電成分之表面處理層。例如，可採用使用含有聚噻吩等導電性高分子及黏合劑之抗靜電劑組合物，於偏光膜與黏著劑層之間形成導電性層之方法。進而，亦可使用包含作為抗靜電劑之離子性化合物之黏著劑。又，上述導電性層較佳為具有1層以上，亦可包含2層以上。
[可撓性圖像顯示裝置]
本發明之可撓性圖像顯示裝置包含上述之可撓性圖像顯示裝置用積層體、及有機EL顯示面板，且對於有機EL顯示面板，於視認側配置可撓性圖像顯示裝置用積層體，而構成為能夠進行彎折。雖為任意，但亦可對於可撓性圖像顯示裝置用積層體，於視認側配置窗。
圖2係表示本發明之可撓性圖像顯示裝置之一實施形態的剖視圖。該可撓性圖像顯示裝置100包含可撓性圖像顯示裝置用積層體11、及構成為能夠進行彎折之有機EL顯示面板10。並且，對於有機EL顯示面板10，於視認側配置可撓性圖像顯示裝置用積層體11，可撓性圖像顯示裝置100構成為能夠進行彎折。又，雖為任意，但亦可對於可撓性圖像顯示裝置用積 層體11，於視認側經由第1黏著劑層12-1配置透明窗40。
可撓性圖像顯示裝置用積層體11包含光學積層體20、以及進而構成第2黏著劑層12-2及第3黏著劑層12-3之黏著劑層。
光學積層體20包含偏光膜1、透明樹脂材料之保護膜2及相位差膜3。透明樹脂材料之保護膜2接合於偏光膜1之視認側之第1面。相位差膜3接合於偏光膜1之與第1面不同之第2面。偏光膜1及相位差膜3例如用於產生圓偏光以防止自偏光膜1之視認側入射至內部之光發生內部反射而向視認側射出，或者用於補償視角。
於本實施形態中，相對於先前於偏光膜之兩面設置有保護膜，設為僅於單面設置保護膜之構成，偏光膜本身與先前之有機EL顯示裝置所使用之偏光膜相比，亦使用非常薄之厚度(20μm以下)之偏光膜，藉此可減小光學積層體20之厚度。又，偏光膜1由於與先前之有機EL顯示裝置所使用之偏光膜相比非常薄，故而於溫度或濕度條件下所產生之因伸縮引起之應力變得極小。因此，由偏光膜之收縮所產生之應力使鄰接之有機EL顯示面板10產生翹曲等變形之可能性大幅度減輕，從而能夠大幅度抑制因變形引起之顯示品質之降低或面板密封材料之破壞。又，藉由使用厚度較薄之偏光膜，不會阻礙彎曲，成為較佳之態樣。
於將光學積層體20以保護膜2側為內側而加以彎折之情形時，藉由使光學積層體20之厚度(例如，92μm以下)變薄，將具有如上述之儲存彈性模數之第1黏著劑層12-1對於保護膜2而配置於與相位差膜3之相反側，能夠降低對光學積層體20所施加之應力，藉此使光學積層體20能夠進行彎折。又，因此，亦可根據使用可撓性圖像顯示裝置之環境溫度而設定適當之儲存彈性模數之範圍。例如，於假定使用環境溫度為-20℃~+85℃之 情形時，可使用如於25℃下之儲存彈性模數成為適當數值範圍之第1黏著劑層。
雖為任意，但亦可對於相位差膜3，於保護膜2之相反側進而配置構成觸控感測器之能夠彎折之透明導電層6。透明導電層6藉由如例如日本專利特開2014-219667號公報所示之製造方法，成為直接接合於相位差膜3之構成，藉此可減小光學積層體20之厚度，可進一步降低將光學積層體20彎折之情形時對光學積層體20所施加之應力。
雖為任意，但亦可對於透明導電層6，於與相位差膜3之相反側進而配置構成第3黏著劑層12-3之黏著劑層。於本實施形態中，第2黏著劑層12-2直接接合於透明導電層6。藉由設置第2黏著劑層12-2，可進一步降低將光學積層體20彎折之情形時對光學積層體20所施加之應力。
圖3所示之可撓性圖像顯示裝置與圖2所示者大致相同，但於以下方面不同：於圖2之可撓性圖像顯示裝置中，對於相位差膜3於與保護膜2之相反側而配置構成觸控感測器之能夠彎折之透明導電層6，相對於此，於圖3之可撓性圖像顯示裝置中，對於第1黏著劑層12-1於與上述保護膜2之相反側而配置構成觸控感測器之能夠彎折之透明導電層6。又，於以下方面不同：於圖2之可撓性圖像顯示裝置中，將第3黏著劑層12-3對於透明導電層2而配置於與相位差膜3之相反側，相對於此，於圖3之可撓性圖像顯示裝置中，對於相位差膜3於與保護膜2之相反側配置第2黏著劑層12-2。
又，雖為任意，但於對可撓性圖像顯示裝置用積層體11而於視認側配置窗40之情形時，可配置第3黏著劑層12-3。
作為本發明之可撓性圖像顯示裝置，可較佳地用作可撓性之液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、電子紙等圖像顯示裝置。又，可無 關於電阻膜方式或靜電電容方式等觸控面板等而使用。
又，作為本發明之可撓性圖像顯示裝置，如圖4所示，亦可以構成觸控感測器之透明導電層6內置於有機EL顯示面板10-1之內嵌型之可撓性圖像顯示裝置之形式使用。
[實施例]
以下，對與本發明相關之若干實施例進行說明，但並非意在將本發明限定於該等具體例所示者。又，表中之數值為調配量(添加量)，表示固形物成分或固形物成分比(重量基準)。將調配內容及評價結果示於表1~表4。
[實施例1]
[偏光膜]
作為熱塑性樹脂基材，準備具有間苯二甲酸單元7莫耳%之非晶質之聚對苯二甲酸乙二酯(以下，亦稱為「PET」)(IPA共聚PET)膜(厚度：100μm)，對表面實施電暈處理(58W/m2/min)。另一方面，準備添加有乙醯乙醯基改性PVA(日本合成化學工業(股份)製造，商品名：GOHSEFIMER Z200(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度：5莫耳%)1重量%之PVA(聚合度4200，皂化度99.2%)，準備PVA系樹脂為5.5重量%之PVA水溶液之塗敷液，以乾燥後之膜厚成為12μm之方式進行塗敷，於60℃之氛圍下藉由熱風乾燥進行10分鐘乾燥，而製作於基材上設置有PVA系樹脂層之積層體。
繼而，將該積層體首先於空氣中以130℃進行自由端延伸至1.8倍(空中輔助延伸)，生成延伸積層體。其次，進行以下步驟：將延伸積層體於液溫30℃之硼酸不溶化水溶液中浸漬30秒，藉此使延伸積層體中所包含 之PVA分子經配向之PVA層不溶化。本步驟之硼酸不溶化水溶液係將硼酸含量相對於水100重量份設為3重量份。藉由將該延伸積層體進行染色而生成著色積層體。著色積層體係將延伸積層體於液溫30℃之包含碘及碘化鉀之染色液中，以最終生成之構成偏光膜之PVA層之單體透過率成為40~44%之方式浸漬任意時間，藉此利用碘將延伸積層體中所包含之PVA層進行染色而成。於本步驟中，染色液係以水作為溶劑，將碘濃度設為0.1~0.4重量%之範圍內，將碘化鉀濃度設為0.7~2.8重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度之比為1比7。其次，進行以下步驟：將著色積層體於30℃之硼酸交聯水溶液中浸漬60秒，藉此對吸附有碘之PVA層之PVA分子彼此實施交聯處理。本步驟之硼酸交聯水溶液係將硼酸含量相對於水100重量份設為3重量份，將碘化鉀含量相對於水100重量份設為3重量份。
進而，將所獲得之著色積層體於硼酸水溶液中以延伸溫度70℃向與前文之空氣中之延伸相同之方向延伸3.05倍(硼酸水中延伸)，獲得最終延伸倍率為5.50倍之光學膜積層體。將光學膜積層體自硼酸水溶液中取出，將附著於PVA層之表面之硼酸利用碘化鉀含量相對於水100重量份設為4重量份之水溶液洗淨。將洗淨之光學膜積層體藉由利用60℃之溫風之乾燥步驟進行乾燥。所獲得之光學膜積層體中所包含之偏光膜之厚度為5μm。
[保護膜]
作為保護膜，使用將具有戊二醯亞胺環單元之甲基丙烯酸樹脂顆粒擠出，成形為膜狀後，進行延伸而成者。該保護膜為厚度為20μm，透濕度為160g/m2之丙烯酸系膜。
繼而，使用下述所示之接著劑，將上述偏光膜與上述保護膜貼合，而製成偏光膜。
作為上述接著劑(活性能量線硬化型接著劑)，依據表1中所記載之調配表，將各成分混合，於50℃下攪拌1小時，而製備接著劑(活性能量線硬化型接著劑A)。表中之數值表示將組合物總量設為100重量%時之重量%。所使用之各成分如以下所述。
HEAA：羥基乙基丙烯醯胺
M-220：ARONIX M-220，三丙二醇二丙烯酸酯)，東亞合成公司製造
ACMO：丙烯醯基嗎啉
AAEM：甲基丙烯酸2-乙醯乙醯氧基乙酯，日本合成化學公司製造
UP-1190：ARUFON UP-1190，東亞合成公司製造
IRG907：IRGACURE 907，2-甲基-1-(4-甲基噻吩基)-2-嗎啉基丙烷-1-酮，BASF公司製造
DETX-S：KAYACURE DETX-S，二乙基-9-氧硫
Figure 106127434-A0305-02-0029-5
，日本化藥公司製造
Figure 106127434-A0305-02-0029-1
再者，於使用上述接著劑之實施例及比較例中，經由該接著劑將上述保護膜與上述偏光膜積層後，照射紫外線使該接著劑硬化，而形成接著劑層。照射紫外線時，使用封入有鎵之金屬鹵化物燈(Fusion UV Systems,Inc公司製造，商品名「Light HAMMER10」，閥門：V閥門，峰值照度：1600mW/cm2，累計照射量1000/mJ/cm2(波長380~440nm))。
[相位差膜]
本實施例之相位差膜(1/4波長相位差板)係由液晶材料經配向、固定化之1/4波長板用相位差層、1/2波長板用相位差層之2層所構成之相位差膜。具體而言，藉由如下方式製造。
(液晶材料)
作為形成1/2波長板用相位差層、1/4波長板用相位差層之材料，使用顯示向列液晶相之聚合性液晶材料(BASF公司製造：商品名PaliocolorLC242)。將針對該聚合性液晶材料之光聚合起始劑(BASF公司製造：商品名Irgacure 907)溶解於甲苯。進而，基於提高塗敷性之目的，根據液晶厚度而添加0.1%至0.5%左右之DIC製造之Megafac系列，而製備液晶塗敷液。於配向基材上，利用棒式塗佈機而塗敷該液晶塗敷液後，於90℃下進行2分鐘加熱乾燥後，於氮氣氛圍下藉由紫外線硬化使之配向固定化。基材例如使用如PET般其後可轉印液晶塗層者。進而，基於提高塗敷性之目的，根據液晶層之厚度而添加0.1%至0.5%左右之DIC製造之作為Megafac系列之氟系聚合物，使用MIBK(甲基異丁基酮)、環己酮、或MIBK與環己酮之混合溶劑，溶解至固形物成分濃度25%，而製作塗敷液。利用線棒將該塗敷液塗敷於基材，設定為65℃，經過3分鐘之乾燥步驟，於氮氣氛圍下藉由紫外線硬化進行配向固定而製作。基材例如使用如PET般其後可轉印液晶塗層者。
(製造步驟)
參照圖8，說明本實施例之製造步驟。再者，圖8中之符號與其他圖式中之符號不同。該製造步驟20中，由輥提供基材14，自供給捲盤21供給該基材14。製造步驟20中，利用模嘴22對該基材14塗佈紫外線硬化性 樹脂10之塗佈液。該製造步驟20中，輥版30係於周側面形成有1/4波長相位差板之1/4波長板用配向膜所具有之凹凸形狀的圓筒形狀之賦形用模具。製造步驟20中，利用加壓輥24將塗佈有紫外線硬化性樹脂之基材14擠壓至輥版30之周側面，藉由利用包含高壓水銀燈之紫外線照射裝置25之紫外線之照射而使紫外線硬化性樹脂硬化。藉此，製造步驟20將形成於輥版30之周側面之凹凸形狀以相對於MD方向成為75°之方式轉印至基材14。其後，利用剝離輥26將基材14與硬化之紫外線硬化性樹脂10成為一體地自輥版30剝離，利用模嘴29塗佈液晶材料。又，其後，藉由利用紫外線照射裝置27之紫外線之照射使液晶材料硬化，藉由該等步驟而製成1/4波長板用相位差層所具有之構成。
繼而，該步驟20係利用搬送輥31將基材14搬送至模嘴32，利用模嘴32於該基材14之1/4波長板用相位差層上塗佈紫外線硬化性樹脂12之塗佈液。該製造步驟20中，輥版40係於周側面形成有1/4波長相位差板之1/2波長板用配向膜所具有之凹凸形狀的圓筒形狀之賦形用模具。製造步驟20係利用加壓輥34將塗佈有紫外線硬化性樹脂之基材14擠壓至輥版40之周側面，藉由利用包含高壓水銀燈之紫外線照射裝置35之紫外線之照射使紫外線硬化性樹脂硬化。藉此，製造步驟20將形成於輥版40之周側面之凹凸形狀以相對於MD方向成為15°之方式轉印至基材14。其後，利用剝離輥36將基材14與硬化之紫外線硬化性樹脂12成為一體地自輥版40剝離，利用模嘴39塗佈液晶材料。又，其後，藉由利用紫外線照射裝置37之紫外線之照射使液晶材料硬化，藉由該等步驟而製成1/2波長板用相位差層所具有之構成，從而獲得由1/4波長板用相位差層、1/2波長板用相位差層之2層所構成之厚度7μm之相位差膜。
[光學膜(光學積層體)]
使用上述接著劑，使用卷對卷方式，將藉由上述方式所獲得之相位差膜與藉由上述方式所獲得之偏光膜連續地貼合，以遲相軸與吸收軸之軸角度成為45°之方式製作積層膜(光學積層體)。
繼而，將所獲得之積層膜(光學積層體)裁斷成15cm×5cm。
[第2黏著劑層]
<(甲基)丙烯酸系聚合物A1之製備>
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，添加含有丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸4-羥基丁酯(HBA)1重量份之單體混合物。
進而，相對於上述單體混合物(固形物成分)100重量份，將作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.1重量份與乙酸乙酯一併添加，一面緩慢地攪拌一面導入氮氣而進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持於55℃附近而進行7小時聚合反應。其後，於所獲得之反應液中添加乙酸乙酯，而製備固形物成分濃度調整為30%之重量平均分子量160萬之(甲基)丙烯酸系聚合物A1之溶液。
<丙烯酸系黏著劑組合物之製備>
相對於所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物A1溶液之固形物成分100重量份，調配異氰酸酯系交聯劑(商品名：Takenate D110N，三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯，三井化學(股份)製造)0.1重量份、過氧化物系交聯劑之過氧化苯甲醯(商品名：Nyper BMT，日本油脂(股份)製造)0.3重量份、及矽烷偶合劑(商品名：KBM403，信越化學工業(股份)製造)0.08重量份，而製備丙烯酸系黏著劑組合物。
<附黏著劑層之光學積層體之製作>
利用噴注式塗佈機，將上述丙烯酸系黏著劑組合物均勻地塗敷於利用聚矽氧系剝離劑進行處理之厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(PET膜、透明基材、隔離膜)之表面，於155℃之空氣循環式恆溫烘箱中乾燥2分鐘，於基材之表面形成厚度25μm之黏著劑層1(第2黏著劑層)。
繼而，使接著形成有黏著劑層1(第2黏著劑層)之隔離膜轉移至所獲得之光學積層體之保護膜側(電暈處理完畢)，而製作附黏著劑層之光學積層體。
[第1黏著劑層]
以與上述第2黏著劑層相同之方式，基於表2及表3之調配內容使用黏著劑層4(第1黏著劑層)，而形成厚度50μm之黏著劑層4(第1黏著劑層)，使接著形成有黏著劑層4之隔離膜轉移至厚度75μm之PET膜(透明基材，三菱樹脂(股份)製造，商品名：Diafoil)之表面(電暈處理完畢)，而形成附黏著劑層之PET膜。
[第3黏著劑層]
以與上述第2黏著劑層相同之方式，基於表2及表3之調配內容使用黏著劑層2(第3黏著劑層)，而形成厚度50μm之黏著劑層2(第3黏著劑層)，使接著形成有黏著劑層2之隔離膜轉移至厚度77μm之聚醯亞胺膜(PI膜，東麗杜邦(股份)製造，Kapton 300V，基材)之表面(電暈處理完畢)，而形成附黏著劑層之PI膜。
<可撓性圖像顯示裝置用積層體>
如圖6所示，針對藉由上述方式所獲得之第1~第3黏著劑層(與各透明基材一併)，於成為保護膜2之(甲基)丙烯酸系樹脂膜貼合第2黏著劑層 12-2，於相位差膜3貼合第3黏著劑層12-3，進而於貼附有第2黏著劑層12-2之透明基材8-2(PET膜)貼合第1黏著劑層12-1，藉此製作實施例1中所使用之相當於構成A之可撓性圖像顯示裝置用積層體11。再者，相當於構成B之可撓性圖像顯示裝置用積層體11示於圖7。
<(甲基)丙烯酸系聚合物A3之製備>
將燒瓶內之液溫保持於55℃附近而進行7小時聚合反應時，以乙酸乙酯與甲苯之調配比率(重量比)成為95/5之方式進行聚合反應，除此以外，與(甲基)丙烯酸系聚合物A1之製備同樣地進行。
<(甲基)丙烯酸系低聚物(低聚物)之製備>
於具備攪拌翼、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，添加丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸(AA)2重量份、2-巰基乙醇3重量份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮雙異丁腈0.1重量份、及甲苯140重量份，一面緩慢地進行攪拌一面導入氮氣而充分地進行氮氣置換後，將燒瓶內之液溫保持於70℃附近進行8小時聚合反應，而製備丙烯酸系低聚物溶液。上述丙烯酸系低聚物之重量平均分子量為4500。於混合交聯劑等時，添加特定量之所獲得之低聚物，製備丙烯酸系黏著劑組合物。藉由使用此種低聚物，可期待黏著劑層之耐久性提高或抑制發泡之效果。
[實施例8]
將加成反應型聚矽氧系黏著劑(商品名「X-40-3306」，信越化學工業股份有限公司製造)100重量份及鉑系觸媒(商品名「CAT-PL-50T」，信越化學工業股份有限公司製造)0.2重量份加以混合，而獲得聚矽氧系黏著劑組合物。將其塗佈於作為透明基材之PET膜及PI膜，以第1黏著劑層及第3黏著劑層乾燥後之厚度成為50μm，第2黏著劑層乾燥後之厚度成為25μm 之方式進行塗佈，於100℃下乾燥3分鐘，獲得聚矽氧系黏著劑層(黏著劑層6)(第1~第3黏著劑層共通)。
[比較例1]
[偏光膜]
使厚度50μm之聚乙烯醇膜一面浸漬於下述[1]~[5]之5浴中，一面通過周速不同之複數組之輥間而依序向膜長度方向賦予張力，以最終之延伸倍率相對於膜原長成為6.0倍之方式進行延伸。將該膜於50℃烘箱中乾燥4分鐘，而獲得厚度22μm之偏光膜。
[1]膨潤浴：30℃之純水。
[2]染色浴：相對於水100重量份，將碘濃度設為0.02~0.2重量%之範圍內，將碘化鉀濃度設為0.14~1.4重量%之範圍內。碘與碘化鉀之濃度之比為1比7。以最終之偏光膜之單體透過率成為40~44%之方式，於包含該等之30℃之水溶液中浸漬任意時間。
[3]第1交聯浴：包含3重量%之碘化鉀及3重量%之硼酸之40℃之水溶液。
[4]第2交聯浴：包含5重量%之碘化鉀及4重量%之硼酸之60℃之水溶液。
[5]洗淨浴：包含3重量%之碘化鉀之25℃之水溶液。
繼而，使用實施例1中所使用之接著劑，將上述偏光膜與實施例1中所使用之保護膜貼合，而製成偏光膜。
[光學膜(光學積層體)]
使用實施例1中所使用之接著劑，將實施例1中所使用之相位差膜與藉由上述方式所獲得之偏光膜貼合，以遲相軸與吸收軸之軸角度成為45° 之方式製作積層膜。
[實施例2~8及比較例1~3]
製備所使用之聚合物((甲基)丙烯酸系聚合物)、黏著劑組合物及黏著劑層時，除特別加以說明以外，變更為如表2~表4所示，除此以外，以與實施例1相同之方式製作可撓性圖像顯示裝置用積層體。再者，僅實施例5採用不包含第2黏著劑層之構成B(參照圖7)。
表2及表3中之簡稱如以下所述。
BA：丙烯酸正丁酯
2EHA：丙烯酸2-乙基己酯
AA：丙烯酸
HBA：丙烯酸4-羥基丁酯
HEA：丙烯酸2-羥基乙酯
D110N：三羥甲基丙烷/苯二甲基二異氰酸酯加成物(三井化學製造，商品名：Takenate D110N)
C/L：三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯(Nippon Polyurethane Industry公司製造，商品名：Coronate L)
過氧化物：過氧化苯甲醯(過氧化物系交聯劑，日本油脂(股份)製造，商品名：Nyper BMT)
[評價]
<(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)之測定>
所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)係藉由GPC(凝膠滲透層析法)而測定。
‧分析裝置：東曹公司製造，HLC-8120GPC
‧管柱：東曹公司製造，G7000HXL+GMHXL+GMHXL
‧管柱尺寸：各7.8mm
Figure 106127434-A0305-02-0037-6
×30cm合計90cm
‧管柱溫度：40℃
‧流量：0.8ml/min
‧注入量：100μl
‧溶離液：四氫呋喃
‧檢測器：示差折射計(RI)
‧標準試樣：聚苯乙烯
(厚度之測定)
偏光膜、相位差膜、保護膜、光學積層體及黏著劑層等之厚度係使用針盤量規(Mitutoyo製造)進行測定。
(黏著劑層之儲存彈性模數G'之測定)
自各實施例及比較例之黏著片剝離隔離膜，積層複數個黏著片，而製作厚度約1.5mm之試驗樣品。將該試驗樣品沖裁成直徑7.9mm之圓盤狀，夾入平行板，使用Rheometric Scientific公司製造之「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」，藉由以下之條件，進行動態黏彈性測定，根據測定結果，讀取25℃下之黏著劑層之儲存彈性模數G'。
(測定條件)
變形模式：扭轉
測定溫度：-40℃~150℃
升溫速度：5℃/分鐘
(耐折性試驗方法)
圖5中表示180°耐折性試驗機(井元製作所製造)之概略圖。本裝置成 為於恆溫槽內單側之夾盤(chuck)夾繞心軸反覆180°彎曲之機構，可藉由心軸之直徑而改變彎折半徑。成為若膜斷裂則試驗停止之機構。試驗係將各實施例及比較例中所獲得之5cm×15cm之可撓性圖像顯示裝置用積層體設置於裝置，於溫度25℃、彎曲角度180°、彎曲半徑3mm、彎曲速度1秒/次、鉛錘100g之條件下實施。以至可撓性圖像顯示裝置用積層體斷裂為止之次數評價耐折強度。此處，於彎折之次數達到20萬次之情形時，結束試驗。
再者，作為測定(評價)方法，針對以可撓性圖像顯示裝置用積層體之第1黏著劑層側為內側(凹側)而彎折之情形(僅實施例1)、以第1黏著劑層為外側(凸側)而彎折之情形之兩種彎折(彎曲)方向進行評價。
<有無斷裂>
○：無斷裂
△：於彎曲部之端部略有斷裂(實用上無問題)
×：於彎曲部之整個面有斷裂(實用上有問題)
<有無外觀(剝離)>
○：未確認到折斷、剝離等
△：於彎曲部略微確認到折斷、剝離等(實用上無問題)
×：於彎曲部之整個面確認到折斷、剝離等(實用上有問題)
Figure 106127434-A0305-02-0038-2
Figure 106127434-A0305-02-0039-3
Figure 106127434-A0305-02-0040-4
根據表4之評價結果確認到，於全部實施例中，藉由耐折性試驗，折斷或剝離均為實用上無問題之水準。即，確認到於各實施例之可撓性圖像封面裝置用積層體中，藉由使所使用之偏光膜之厚度變薄，使用複數個特定之黏著劑層，可獲得即使反覆彎曲亦不剝離或斷裂，耐彎曲性或密接性優異之可撓性圖像顯示裝置用積層體。
另一方面，確認到於比較例1中，由於偏光膜之厚度超過所需之範圍，故而耐彎曲性較差。又，確認到於比較例2及3中，由於彎折之情形時之凸側之最外面的黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'大於其他黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'，因此產生折斷或剝離等，耐彎曲性或密接性較差。
以上，參照圖式針對特定之實施形態說明了本發明，但本發明除圖示所說明之構成以外，可進行多種變更。因此，本發明並不限定於圖示所說明之構成，其範圍應僅由隨附之申請專利範圍及其同等範圍加以限定。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧保護膜
3‧‧‧相位差層
6‧‧‧透明導電層
10‧‧‧有機EL顯示面板
11‧‧‧可撓性圖像顯示裝置用積層體(有機EL顯示裝置用積層體)
12-1‧‧‧第1黏著劑層
12-2‧‧‧第2黏著劑層
12-3‧‧‧第3黏著劑層
20‧‧‧光學積層體
40‧‧‧窗
100‧‧‧可撓性圖像顯示裝置(有機EL顯示裝置)

Claims (11)

  1. 一種可撓性圖像顯示裝置用積層體，其特徵在於：其係包含複數個黏著劑層、及至少包含偏光膜之光學膜者，並且上述偏光膜之厚度為20μm以下，將上述複數個黏著劑層中之上述積層體彎折之情形時之凸側之最外面的黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'大致等於或小於其他黏著劑層於25℃下之儲存彈性模數G'。
  2. 如請求項1之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中上述光學膜係包含上述偏光膜、上述偏光膜之第1面所具有之透明樹脂材料之保護膜、及上述偏光膜之與上述第1面不同之第2面所具有之相位差膜的光學積層體。
  3. 如請求項2之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中上述複數個黏著劑層中，對於上述保護膜，於與上述偏光膜接觸之面之相反側配置有第1黏著劑層。
  4. 如請求項2之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中上述複數個黏著劑層中，對於上述相位差膜，於與上述偏光膜接觸之面之相反側配置有第2黏著劑層。
  5. 如請求項4之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中對於上述第2黏著劑層，於與上述相位差膜接觸之面之相反側配置有構成觸控感測器之透明 導電層。
  6. 如請求項5之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中對於上述構成觸控感測器之透明導電層，於與上述第2黏著劑層接觸之面之相反側配置有第3黏著劑層。
  7. 如請求項3之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中對於上述第1黏著劑層，於與上述保護膜接觸之面之相反側配置有構成觸控感測器之透明導電層。
  8. 如請求項7之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中上述複數個黏著劑層中，對於上述構成觸控感測器之透明導電層，於與上述第1黏著劑層接觸之面之相反側配置有第3黏著劑層。
  9. 如請求項1至8中任一項之可撓性圖像顯示裝置用積層體，其中上述複數個黏著劑層由相同之黏著劑組合物形成。
  10. 一種可撓性圖像顯示裝置，其包含如請求項1至9中任一項之可撓性圖像顯示裝置用積層體、及有機EL顯示面板，且對於上述有機EL顯示面板，於視認側配置上述可撓性圖像顯示裝置用積層體。
  11. 如請求項10之可撓性圖像顯示裝置，其中對於上述可撓性圖像顯示裝置用積層體，於視認側配置有窗。
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