TWI705108B

TWI705108B - 近紅外線吸收性組成物、硬化膜、紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物

Info

Publication number: TWI705108B
Application number: TW105136532A
Authority: TW
Inventors: 平井友樹; 佐佐木大輔; 神保良弘
Original assignee: 日商富士軟片股份有限公司
Priority date: 2015-12-17
Filing date: 2016-11-10
Publication date: 2020-09-21
Also published as: US11209732B2; US20180259849A1; TW201731972A; WO2017104283A1; CN112859207A; CN108291989B; JPWO2017104283A1; JP6605039B2; CN108291989A

Abstract

本發明提供一種能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之膜之近紅外線吸收性組成物、膜、紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。近紅外線吸收性組成物含有由下述式(1)表示且極大吸收波長為700nm以上之方酸菁化合物和樹脂。式中，Ar¹及Ar²分別獨立地表示具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團，R¹~R⁴分別獨立地表示氫原子或取代基。膜及紅外線截止濾波器包含近紅外線吸收性組成物。固體攝像元件具有紅外線截止濾波器。

Description

近紅外線吸收性組成物、硬化膜、紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物

本發明涉及一種近紅外線吸收性組成物、膜、紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。

攝像機、數位照相機、帶有照相機功能之行動電話等中使用作為彩色圖像的固體攝像元件的CCD(電荷耦合元件)或CMOS(互補金屬氧化物半導體)。該些固體攝像元件中，為了將感測紅外線之矽光二極體使用於受光部，需要進行視感度修正，且與紅外線截止濾波器併用之情況較多。作為近紅外線吸收性化合物，已知有方酸菁化合物等。

專利文獻1中，記載有將下述化合物等用作電子照片用調色劑之內容。

又，專利文獻2中記載有下述化合物。

[化學式2]

又，非專利文獻1係有關方酸菁化合物的雙光子吸收性之論文，記載有有關下述化合物的雙光子吸收性之內容。 [化學式3]

又，非專利文獻2中記載有下述化合物。 [化學式4]

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]：日本特開2009-15114號公報 [專利文獻2]：德國專利申請公開第4122563號說明書 [非專利文獻]

[非專利文獻1]：Chem. Eur. J., 2008 ,14, 11082-11091 [非專利文獻2]：H. Meier et al., Helv. Chem. Acta 2004, 87, 1109-1118.

對紅外線截止濾波器要求其紅外遮蔽性及可見透明性優異。近年來，要求進一步提高該些特性。

專利文獻1為有關電子照片用調色劑的發明，並未記載有關紅外線截止濾波器的內容。又，本發明人等對專利文獻1中所記載之化合物進行研究之結果，得知很難兼顧紅外遮蔽性和可見透明性。

又，專利文獻2、非專利文獻1及非專利文獻2中，雖記載有特定的方酸菁化合物，但未記載有關前述化合物的紅外遮蔽性及可見透明性之內容。進而，並未記載或暗示有關將前述化合物使用於紅外線截止濾波器之內容。

藉此，本發明的目的在於提供一種能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之膜之近紅外線吸收性組成物、膜、紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。

本發明人等進行各種研究之結果，發現藉由使用後述之含有由式（1）表示且於波長700nm以上的範圍具有極大吸收波長之方酸菁化合物和樹脂之近紅外線吸收性組成物，可實現上述目的，以至完成了本發明。本發明提供以下。＜1＞一種近紅外線吸收性組成物，其含有由下述式（1）表示且極大吸收波長為700nm以上之方酸菁化合物和樹脂， [化學式5]

式中，Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團，R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示氫原子或取代基，R¹ 可以與R² 或Ar¹ 鍵結而形成環，R³ 可以與R⁴ 或Ar² 鍵結而形成環，其中，Ar¹ 係包含硫屬原子之單環的雜芳環之情況下，R¹ 及R² 分別獨立地表示芳基或雜芳基，Ar² 係包含硫屬原子之單環的雜芳環之情況下，R³ 及R⁴ 分別獨立地表示芳基或雜芳基。＜2＞如＜1＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中方酸菁化合物中，包含式（1）的Ar¹ 及Ar² 之平面具有原子數16～54之π共軛平面。＜3＞如＜1＞或＜2＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中硫屬原子為硫原子。＜4＞如＜1＞或＜2＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環或包含該些環之二價共軛基團。＜5＞如＜1＞～＜4＞中任一個所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹ 及Ar² 分別獨立地包含噻吩環或噻唑環， R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示芳基或雜芳基。＜6＞如＜5＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中R¹ ～R⁴ 中的至少一個表示構成環之原子數為8以上的芳基或雜芳基。＜7＞如＜5＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中R¹ ～R⁴ 中的至少一個表示萘基。＜8＞如＜1＞～＜4＞中任一個所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示具有原子數8以上的π共軛平面之二價共軛基團， R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基。＜9＞如＜8＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示包含選自稠環、噻吩環或噻唑環中的至少一種之二價共軛基團，前述稠環包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種。＜10＞如＜8＞所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環。＜11＞如＜1＞～＜10＞中任一個所述之近紅外線吸收性組成物，其中選自Ar¹ 、Ar² 、R¹ 、R² 、R³ 及R⁴ 中的至少一個具有由下述式（W）表示之基團， -S¹ -L¹ -T¹ ･･････（W）式（W）中，S¹ 表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，L¹ 表示伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1 -、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1 -、-NR^L1 CO-、-SO₂ -、-OR^L2 -或組合該些而成之基團，R^L1 表示氫原子或烷基，R^L2 表示伸烷基， T¹ 表示烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、氧硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基甲矽烷基或三烷氧基矽烷基， S¹ 係單鍵，L¹ 係伸烷基，T¹ 係烷基之情況下，L¹ 和T¹ 所包含之碳數的總和係5以上， S¹ 表示伸芳基或雜伸芳基之情況下，L¹ 和T¹ 所包含之碳數的總和係5以上。＜12＞如＜1＞～＜4＞中任一個所述之近紅外線吸收性組成物，其中方酸菁化合物係由下式（1a）表示之化合物， [化學式6]

式中，Ar¹¹ 及Ar¹² 分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環， R¹¹ ～R¹⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基， R¹¹ 可以與R¹² 或Ar¹¹ 鍵結而形成環， R¹³ 可以與R¹⁴ 或Ar¹² 鍵結而形成環， Ar¹¹ 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹ 及R¹² 的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基， Ar¹² 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³ 及R¹⁴ 的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。＜13＞一種膜，其包含＜1＞至＜12＞中任一個所述之近紅外線吸收性組成物。＜14＞一種紅外線截止濾波器，其包含＜1＞至＜12＞中任一個所述之近紅外線吸收性組成物。＜15＞一種固體攝像元件，其具有＜14＞中所述之紅外線截止濾波器。＜16＞一種紅外線吸收劑，其由下式（1a）表示， [化學式7]

式中，Ar¹¹ 及Ar¹² 分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環， R¹¹ ～R¹⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基， R¹¹ 可以與R¹² 或Ar¹¹ 鍵結而形成環， R¹³ 可以與R¹⁴ 或Ar¹² 鍵結而形成環， Ar¹¹ 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹ 及R¹² 中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基， Ar¹² 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³ 及R¹⁴ 中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。＜17＞一種化合物，其由下式（1a）表示， [化學式8]

式中，Ar¹¹ 及Ar¹² 分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環， R¹¹ ～R¹⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基， R¹¹ 可以與R¹² 或Ar¹¹ 鍵結而形成環， R¹³ 可以與R¹⁴ 或Ar¹² 鍵結而形成環， Ar¹¹ 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹ 及R¹² 中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基， Ar¹² 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³ 及R¹⁴ 中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。＜18＞如＜17＞所述之化合物，其中R¹¹ ～R¹⁴ 中的至少一個表示萘基。＜19＞如＜17＞或＜18＞所述之化合物，其中選自Ar¹¹ 、Ar¹² 、R¹¹ 、R¹² 、R¹³ 及R¹⁴ 中的至少一個具有由下述式（W）表示之基團， -S¹ -L¹ -T¹ ･･････（W）式（W）中，S¹ 表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，L¹ 表示伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1 -、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1 -、-NR^L1 CO-、-SO₂ -、-OR^L2 -或組合該些而成之基團，R^L1 表示氫原子或烷基，R^L2 表示伸烷基， T¹ 表示烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、氧硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基甲矽烷基或三烷氧基矽烷基， S¹ 係單鍵，L¹ 係伸烷基，T¹ 係烷基之情況下，L¹ 和T¹ 所包含之碳數的總和係5以上， S¹ 表示伸芳基或雜伸芳基之情況下，L¹ 和T¹ 所包含之碳數的總和係5以上。 [發明效果]

依本發明，可提供一種能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之膜之近紅外線吸收性組成物。又，可提供一種紅外遮蔽性及可見透明性優異之膜、紅外線截止濾波器、固體攝像元件、紅外線吸收劑及化合物。

本說明書中，總固體成分係指從組成物的所有組成中除去溶劑之成分的總質量。又，固體成分係指25℃下之固體成分。本說明書中的基團（原子團）的標記中，未記述取代及未取代之標記一同包含不具有取代基之基團（原子團）和具有取代基之基團（原子團）。例如，“烷基”不僅包含不具有取代基之烷基（未取代烷基），亦包含具有取代基之烷基（取代烷基）。本說明書中的“放射線”，例如係指水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表的遠紫外線、極紫外線（EUV光）、X射線、電子束等。另外，本發明中，所謂光係指光化射線或放射線。關於本說明書中的“曝光”，除非另有指明，則不僅係指利用水銀燈的明線光譜、準分子鐳射所代表之遠紫外線、X射線、EUV等來進行之曝光，而且利用電子束、離子束等粒子束來進行之描繪亦包含於曝光中。本說明書中，近紅外線係指波長區域為700～2500nm的光（電磁波）。本說明書中，“（甲基）丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯雙方或任一方，“（甲基）烯丙基”表示烯丙基及甲基烯丙基雙方或任一方，“（甲基）丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸雙方或任一方，“（甲基）丙烯醯基”表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基雙方或任一方。本明細書中，化學式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。本說明書中，“製程”這一詞不僅包含獨立的製程，即使無法與其他製程明確區別之情況下，只要實現該製程的預期作用，則亦包含於本術語中。本說明書中，“重量平均分子量”及“數量平均分子量”定義為基於凝膠滲透色譜法（GPC）測定之聚苯乙烯換算值。

＜近紅外線吸收性組成物＞本發明的近紅外線吸收性組成物（以下還稱為本發明的組成物）包含由下述式（1）表示，且極大吸收波長為700nm以上之方酸菁化合物（以下，還稱為方酸菁化合物（1））和樹脂。 [化學式9]

方酸菁化合物（1）中，於Ar¹ 及Ar² 的位置導入有具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團，因此認為前述化合物的醌型貢獻度得到提高，且極大吸收波長進一步向長波長側位移。又，藉由將Ar¹ 或Ar² 設為具有二價共軛基團等較大的π共軛平面之基團，使有效共軛長度變長，該二價共軛基團具有包含硫屬原子之稠環的雜芳環（例如，包含噻吩環或噻唑環之稠環等）。藉此，由於最高佔據分子軌道（HOMO）-最低未佔有分子軌道（LUMO）間隙變小，因此能夠使化合物的極大吸收波長進一步向長波長側位移。又，Ar¹ 係包含硫屬原子之單環的雜芳環（例如，噻吩環或噻唑環等）之情況下，藉由將R¹ 及R² 設為芳基或雜芳基，有效共軛長度變長，Ar² 係包含硫屬原子之單環的雜芳環（例如，噻吩環或噻唑環等）之情況下，藉由將R³ 及R⁴ 設為芳基或雜芳基，使有效共軛長度變長。藉此，能夠縮小HOMO-LUMO間隙，因此可輕鬆地將化合物的極大吸收波長調整為700nm以上。在此，作為將方酸菁化合物（1）的極大吸收波長調整為700nm以上之方法，可舉出將包含Ar¹ 及Ar² 之平面作為較大的π共軛平面之方法（加長以-NR¹ R² 和-NR³ R⁴ 夾住之部分的共軛之方法）、將R¹ ～R⁴ 作為共軛基團之方法。其中，在將包含Ar¹ 及Ar² 之平面作為較大的π共軛平面的情況下，能夠更加有效地引發HOMO及LUMO的空間擴展，因此可輕鬆地加長有效共軛長度，因此可輕鬆地將化合物的極大吸收波長調整為700nm以上。

而且，藉由本發明人等的研究，發現由下式（1）表示之化合物中的極大吸收波長為700nm以上的化合物的可見透明性和紅外遮蔽性優異。進而，發現藉由配合方酸菁化合物（1）和包含樹脂之組成物，能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之膜。

又，方酸菁化合物（1）中，Ar¹ 及Ar² 係具有包含硫屬原子之稠環的雜芳環之二價共軛基團，藉此耐熱性和耐光性得到提高，且不易產生因加熱或光照射導致之著色。因此，依本發明的組成物，能夠製造於加熱或光照射後亦優異之具有可見透明性之膜。以下，對本發明的組成物的各成分進行說明。

＜＜由式（1）表示之方酸菁化合物＞＞本發明的組成物包含由下述式（1）表示，且極大吸收波長為700nm以上之方酸菁化合物（方酸菁化合物（1））。本發明中，方酸菁化合物（1）中，極大吸收波長為710nm以上為較佳，720nm以上為更佳。上限例如為1200nm以下為較佳，1000nm以下為更佳。藉由在上述範圍內具有極大吸收波長，能夠製造紅外遮蔽性及可見透明性優異之膜。另外，方酸菁化合物（1）的極大吸收波長的值係使用以極大吸收波長中的吸光度成為0.7～1.2的範圍之方式進行調整之方酸菁化合物的氯仿溶液來測定之值。

將方酸菁化合物（1）的含量設為組成物的總固體成分中0.1～70質量%為較佳。下限係0.5質量%以上為較佳，1.0質量%以上為更佳。上限係60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。藉由設為該範圍內，能夠賦予良好的紅外吸收能。組成物包含兩種以上的方酸菁化合物（1）之情況下，其合計量係上述範圍內為較佳。

[化學式10]

式中，Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團，R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示氫原子或取代基，R¹ 可以與R² 或Ar¹ 鍵結而形成環，R³ 可以與R⁴ 或Ar² 鍵結而形成環，其中，Ar¹ 係包含硫屬原子之單環的雜芳環之情況下，R¹ 及R² 分別獨立地表示芳基或雜芳基，Ar² 係包含硫屬原子之單環的雜芳環之情況下，R³ 及R⁴ 分別獨立地表示芳基或雜芳基。

Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團。作為硫屬原子，可舉出硫原子、氧原子、硒原子、碲原子，硫原子為較佳。另外，本發明中，雜芳環係指由兩種以上的原子構成環之芳香族環。包含硫屬原子之雜芳環基可以具有取代基，亦可以為未取代。作為取代基，可舉出以取代基T群進行說明之基團及由式（W）表示之基團。從分光及溶解性的觀點考慮，取代基係式（W）表示之基團為較佳。另外，本發明中，具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團可以僅由包含硫屬原子之雜芳環構成，亦可以係由包含硫屬原子之雜芳環和連結基構成之二價共軛基團。二價共軛基團僅由包含硫屬原子之雜芳環構成為較佳。

作為包含硫屬原子之雜芳環，例如可舉出包含由下述（Ht）表示之環及由下述（Ht）表示之環之稠環。稠環可舉出將由下述（Ht）表示之環縮合2以上之稠環或由下述（Ht）表示之環與不包含芳香族烴環和/或硫屬原子之雜芳環的稠環等。包含硫屬原子之雜芳環係包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環為較佳。稠環的縮合數係2～8為較佳，2～5為較佳，2～3為更佳。 [化學式11]

式中，X¹ 及X² 分別獨立地表示氮原子、CR^x 。R^x 表示氫原子或取代基。取代基可舉出後述之以R¹ ～R⁴ 進行說明之取代基T群及由式（W）表示之基團。Y¹ 表示硫屬原子。作為硫屬原子，可舉出硫原子、氧原子、硒原子、碲原子，硫原子為較佳。*表示連結鍵。

作為包含硫屬原子之雜芳環的具體例中，作為單環，可舉出之噻吩環、噻唑環。作為稠環，可舉出下述中所示之環。 [化學式12]

式中，Z表示-CR₂ -、-CR=CR-、-SIR₂ -、-CO-、-S-、-SO-、-SO₂ -。*表示連結鍵。R表示氫原子或取代基。取代基可舉出後述之以R¹ ～R⁴ 進行說明之取代基T群及由式（W）表示之基團。

作為具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團，例如可舉出以下的（1）～（5），（1）的態樣為較佳。又，（1）的態樣中，包含硫屬原子之雜芳環係稠環的態樣為更佳。（1）僅包含具有硫屬原子之雜芳環之基團（具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團）。（2）將兩個以上的包含硫屬原子之雜芳環經由單鍵鍵結之基團。（3）組合一個以上的包含硫屬原子之雜芳環和包含1～4個次甲基之次甲基鏈之基團。（4）將一個以上的包含硫屬原子之雜芳環和一個以上的不包含硫屬原子之雜芳環經由單鍵或包含1～4個次甲基之次甲基鏈鍵結之基團。（5）將一個以上的包含硫屬原子之雜芳環和一個以上的芳香族烴環經由單鍵或包含1～4個次甲基之次甲基鏈鍵結之基團。

Ar¹ 及Ar² 分別獨立地係噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環或包含該些環之二價共軛基團為較佳，包含選自噻吩環、噻唑環或噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環為更佳，包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環為進一步較佳。

又，Ar¹ 及Ar² 分別獨立地係具有原子數8以上（較佳為原子數8～14，更佳為原子數8～12）的π共軛平面之二價共軛基團亦為較佳。依該態樣，可輕鬆地製造可見透明性及紅外遮蔽性優異之膜。具有原子數8以上的π共軛平面之二價共軛基團係稠環或包含選自噻吩環、噻唑環及包含該些環之稠環中的至少一種之二價共軛基團為較佳，該稠環包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種，包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環為更佳。另外，本發明中的π共軛平面係由氫原子以外的原子構成者。例如，（A）的共軛基團之情況下，π共軛平面的原子數係10個，（B）的共軛基團之情況下，π共軛平面的原子數係12個，（C）的共軛基團之情況下，π共軛平面的原子數係8個。 [化學式13]

式（1）中，以式（1）的-NR¹ R² 和-NR³ R⁴ 夾住之部分具有原子數16～54（較佳為原子數16～44，更佳為原子數16～34）的π共軛平面為較佳。依該態樣，可輕鬆地進一步提高可見透明性及紅外遮蔽性。另外，本發明中的π共軛平面係由氫原子以外的原子構成者。例如，以下的化合物之情況下，以-NR¹ R² 和-NR³ R⁴ 夾住之部分具有原子數22的π共軛平面。另外，Ar¹ 和/或Ar² 具有取代基之情況下，表示除去取代基之部分的原子數。具體而言，表示藉由以氫原子取代取代基之結構而形成之π共軛平面的原子數。 [化學式14]

式（1）中，R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示氫原子或取代基。其中，Ar¹ 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹ 及R² 分別獨立地表示芳基或雜芳基，Ar² 係噻吩環或噻唑環之情況下，R³ 及R⁴ 分別獨立地表示芳基或雜芳基。

作為由R¹ ～R⁴ 表示之取代基，可舉出以取代基T群進行說明之基團及後述之由式（W）表示之基團，烷基、芳基或雜芳基為較佳，芳基或雜芳基為更佳。烷基的碳數係1～20為較佳，1～15為更佳，1～8為進一步較佳。烷基可以係直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。芳基的碳數係6～30為較佳，6～20為更佳，6～12為進一步較佳。芳基係萘基為較佳。雜芳基係單環或稠環為較佳，單環或縮合數係2～8的稠環為較佳，單環或縮合數係2～4的稠環為更佳。構成雜芳基的環之雜原子數係1～3為較佳。構成雜芳基的環之雜原子係氮原子、氧原子或硫原子為較佳。構成雜芳基的環之原子數係5以上為較佳，6以上為更佳，8以上為進一步較佳。上限例如可設為30以下，18以下為較佳，12以下為更佳。

烷基、芳基及雜芳基可以具有取代基，亦可以為未取代。作為取代基，可舉出下述取代基T群。又，作為取代基還可以具有後述之由式（W）表示之基團。

（取代基T群）鹵素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基、芳烷基、-OR_Z ¹ 、-COR_Z ¹ 、-COOR_Z ¹ 、-OCOR_Z ¹ 、-NR_Z ¹ R_Z ² 、-NHCOR_Z ¹ 、-CONR_Z ¹ R_Z ² 、-NHCONR_Z ¹ R_Z ² 、-NHCOOR_Z ¹ 、-SR_Z ¹ 、-SO₂ R_Z ¹ 、-SO₂ OR_Z ¹ 、-NHSO₂ R_Z ¹ 或-SO₂ NR_Z ¹ R_Z ² 。R_Z ¹ 及R_Z ² 分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、雜芳基或芳烷基，R_Z ¹ 與R_Z ² 可鍵結而形成環。另外，-COOR_Z ¹ 的R_Z ¹ 為氫時（亦即，羧基），氫原子可解離（亦即，碳酸酯基），亦可以係鹽的狀態。又，-SO₂ OR_Z ¹ 的R_Z ¹ 為氫原子時（亦即，磺基），氫原子可解離（亦即，磺酸鹽基），亦可以係鹽的狀態。

作為鹵素原子，可舉出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。烷基的碳數為1～20為較佳，1～15為更佳，1～8為進一步較佳。烷基可以係直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。烯基的碳數為2～20為較佳，2～12為更佳，2～8為特佳。烯基可以係直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。炔基的碳數為2～40為較佳，2～30為更佳，2～25為特佳。炔基可以係直鏈、分支、環狀的任一個，直鏈或分支為較佳。芳基的碳數為6～30為較佳，6～20為更佳，6～12為進一步較佳。芳烷基的烷基部分與上述烷基相同。芳烷基的芳基部分與上述芳基相同。芳烷基的碳數為7～40為較佳，7～30為更佳，7～25為進一步較佳。雜芳基為單環或稠環為較佳，單環或縮合數為2～8的稠環為較佳，單環或縮合數為2～4的稠環為更佳。構成雜芳基的環之雜原子的數量為1～3為較佳。構成雜芳基的環之雜原子為氮原子、氧原子或硫原子為較佳。雜芳基為5員環或6員環為較佳。構成雜芳基的環之碳原子的數量為3～30為較佳，3～18為更佳，3～12為進一步較佳。烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基及雜芳基可具有取代基亦可為無取代。作為取代基，可舉出上述之取代基T組。例如，可舉出烷基、芳基、雜芳基等。又，可作為取代基而具有後述之由式（W）表示之基團。

式（1）中，R¹ 可以與R² 或Ar¹ 鍵結而形成環，R³ 可以與R⁴ 或Ar² 鍵結而形成環。作為由R¹ 與R² 或Ar¹ 鍵結而形成之環及由R³ 與R⁴ 或Ar² 鍵結而形成之環，可舉出脂環（非芳香性的烴環）、芳香環、雜環等。環可以係單環亦可以係複環。作為形成上述環時的連結基，可藉由選自包含-CO-、-O-、-NH-、碳數1～10的伸烷基及該些的組合之群組中的二價的連結基連結。

作為R¹ （R³ ）與R² （R⁴ ）或Ar¹ （Ar² ）鍵結而形成環之結構，例如可舉出下述結構、下述結構式中，X表示氫原子或取代基。 [化學式15]

作為式（1）的較佳態樣，可舉出以下的＜1＞及＜2＞，＜2＞為較佳。

＜1＞式（1）中，Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示噻吩環或噻唑環，R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示芳基或雜芳基。＜2＞式（1）中，Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示具有原子數8以上的π共軛平面之二價共軛基團，R¹ ～R⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基。

上述＜1＞的態樣中，R¹ ～R⁴ 中的至少一個係構成環之原子數係8以上的芳基或構成環之原子數係8以上的雜芳基為較佳。依該態樣，能夠進一步提高可見透明性及紅外遮蔽性。又，芳基及雜芳基係稠環為較佳。作為具體例，可舉出萘基及下述中所示之基團等，萘基為較佳。下述結構式中，*係與氮原子的鍵結鍵。 [化學式16]

上述＜2＞的態樣中，Ar¹ 及Ar² 分別獨立地表示稠環或選自噻吩環、噻唑環及包含該些環之稠環中的至少一種之二價共軛基團為較佳，該稠環包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種，表示包含選自噻吩環及噻唑環之至少一種之稠環為更佳。依該態樣，能夠進一步提高可見透明性及紅外遮。

方酸菁化合物（1）中，選自Ar¹ 、Ar² 、R¹ 、R² 、R³ 及R⁴ 中的至少一個具有由下述式（W）表示之基團亦為較佳。依該態樣，能夠提高化合物針對溶劑或樹脂等的溶解性，並能夠抑制組成物中的化合物的凝聚或析出等。藉此，使用本發明的組成物來製造膜時，能夠抑制產生來源於不溶物等之缺陷，且能夠製造均勻且膜質良好的膜。

另外，Ar¹ （Ar² ）具有取代基之情況下，Ar¹ （Ar² ）中，相對於方酸部位於鄰位不具有芳基及雜芳基為較佳。例如，如下述化合物，於鄰位具有芳基之情況下，因位阻，有時鍵捻合而呈短波化或牢固性降低。進而，藉由來自鄰位的芳基的過渡而副吸收增加，從而有時可見透明性降低。 [化學式17]

（由式（W）表示之基團）對由式（W）表示之基團進行。 -S¹ -L¹ -T¹ ･･････（W）式（W）中，S¹ 表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，Ｌ¹ 表示伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1 -、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1 -、-NR^L1 CO-、-SO₂ -、-OR^L2 -或組合該些而成之基團，R^L1 表示氫原子或烷基，R^L2 表示伸烷基， T¹ 表示烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基甲矽烷基或三烷氧基甲矽烷基， S¹ 係單鍵，L¹ 係伸烷基，T¹ 係烷基之情況下，L¹ 和T¹ 所包含之碳數的總和係5以上， S¹ 表示伸芳基或雜伸芳基之情況下，L¹ 和T¹ 所包含之碳數的總和係5以上。

式（W）中，S¹ 表示伸芳基或雜伸芳基，單鍵為較佳。伸芳基可以係單環亦可以係多環。單環為較佳。伸芳基的碳數為6～20為較佳，6～12為更佳。雜伸芳基可以係單環亦可以係多環。單環為較佳。構成雜伸芳基的環之雜原子的數量為1～3為較佳。構成雜伸芳基的環之雜原子係氮原子、氧原子、硫原子或硒原子為較佳。構成雜伸芳基的環之碳原子的數量為3～30為較佳，3～18為更佳，3～12為進一步較佳。

式（W）中，L¹ 表示伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1 -、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1 -、-NR^L1 CO-、-SO₂ -、-OR^L2 -或組合該些而成之基團，R^L1 表示氫原子或烷基，R^L2 表示伸烷基。Ｌ¹ 係伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1 -、-COO-、-OCO-、-CONR^L1 -、-SO₂ -、-OR^L2 -或組合該些而成之基團為較佳，從柔軟性及溶劑溶解性的觀點考慮，伸烷基、伸烯基、-O-、-OR^L2 -或組合該些而成之基團為更佳，伸烷基、伸烯基、-O-或-OR^L2 -為進一步較佳，伸烷基、-O-或-OR^L2 -為特佳。

Ｌ¹ 所表示之伸烷基的碳數係1～40為較佳。下限係3以上為更佳，5以上為進一步較佳，10以上為進一步較佳，13以上為特佳。上限係35以下為更佳，30以下為進一步較佳。伸烷基可以係直鏈、分支、環狀的任一個，但直鏈或分支為較佳，分支為特佳。分支數例如為2～10為較佳，2～8為更佳。若分支數在上述範圍，則溶劑溶解性良好。Ｌ¹ 所表示之伸烯基及伸炔基的碳數係2～40為較佳。下限例如係3以上為更佳，5以上為進一步較佳，8以上為進一步較佳，10以上為特佳。上限係35以下為更佳，30以下為進一步較佳。伸烯基及伸炔基可以係直鏈、分支的任一個，但直鏈或分支為較佳，分支為特佳。分支數係2～10為較佳，2～8為更佳。如果分支數在上述範圍，則溶劑溶解性良好。

R^L1 表示氫原子或烷基，氫原子為較佳。烷基的碳數係1～20為較佳，1～10為更佳，1～4為進一步較佳，1～2為特佳。烷基可以係直鏈、分支的任一個。

R^L2 表示伸烷基。R^L2 所表示之伸烷基的含義與以Ｌ¹ 進行說明之伸烷基相同，較佳範圍亦相同。

式（W）中，T¹ 表示烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基甲矽烷基或三烷氧基甲矽烷基。烷基、三烷基甲矽烷基所具有之烷基及三烷氧基甲矽烷基所具有之烷基的碳數係1～40為較佳。下限係3以上為更佳，5以上為進一步較佳，10以上為進一步較佳，13以上為特佳。上限係35以下為更佳，30以下為進一步較佳。烷基可以係直鏈、分支、環狀的任一個，但直鏈或分支為較佳。芳基及雜芳基的含義與以R¹ 及R² 說明之芳基及雜芳基相同，較佳範圍亦相同。

式（W）中，S¹ 為單鍵，L¹ 為伸烷基，T¹ 為烷基的情況，L¹ 與T¹ 中所含之碳數的總和係5以上為較佳，從溶劑溶解性的觀點考慮，6以上為更佳，8以上為進一步較佳。上限例如係40以下為較佳，35以下為更佳。又，S¹ 表示伸芳基或雜伸芳基時，L¹ 與T¹ 中所含之碳數的總和係5以上為較佳，從溶劑溶解性的觀點考慮，6以上為更佳，8以上為進一步較佳。上限係例如40以下為較佳，35以下為更佳。 -L¹ -T¹ 部分的碳數為5以上時，溶解性良好，能夠抑制因不溶物等引起之缺陷的產生，能夠製造出均勻且膜質良好的膜。進而，藉由將-L¹ -T¹ 部分的碳數設為5以上，能夠抑制結晶性。若化合物的結晶性較高，且加熱膜，則化合物的結晶化得到進展，有時膜吸收特性發生變化，但由於能夠抑制化合物的結晶性，因此能夠抑制加熱時的化合物的結晶化，並能夠抑制加熱後的膜的吸收特性的變動。

本發明中，作為式（W）的較佳態樣，可舉出S¹ 係單鍵，且L¹ 係伸烷基、伸烯基、伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1 -、-COO-、-OCO-、-CONR^L1 -、-SO₂ -、-OR^L2 -或組合該些而成之基團，且T¹ 係烷基或三烷基甲矽烷基之組合。L¹ 係伸烷基、伸烯基、-O-、-OR^L2 -或組合該些而成之基團為更佳，伸烷基、伸烯基、-O-或-OR^L2 -為進一步較佳，伸烷基、-O-或-OR^L2 -為特佳。T¹ 係烷基為更佳。

式（W）中，-L¹ -T¹ 部分包含分支烷基結構亦為較佳。具體而言，-L¹ -T¹ 部分係分支烷基或分支烷氧基為特佳。-L¹ -T¹ 部分的分支數係2～10為較佳，2～8為更佳。-L¹ -T¹ 部分的碳數係5以上為較佳，9以上為更佳，10以上為進一步較佳。上限例如係40以下為較佳，35以下為更佳。

式（W）中，-L¹ -T¹ 部分包含不對稱碳亦為較佳。依該態樣，方酸菁化合物（1）能夠包含複數個光學異構體，其結果，能夠進一步提高化合物（1）的溶劑溶解性。不對稱碳的數量係一個以上為較佳。不對稱碳的上限並無特別限定，例如係4以下為較佳。

另外，式（1）中，陽離子如以下以非定域化的方式存在。 [化學式18]

本發明中，方酸菁化合物（1）係由下式（1a）表示之化合物為較佳。由式（1a）表示之化合物亦係本發明的化合物。 [化學式19]

式中，Ar¹¹ 及Ar¹² 分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環， R¹¹ ～R¹⁴ 分別獨立地表示烷基、芳基或雜芳基， R¹¹ 可以與R¹² 或Ar¹¹ 鍵結而形成環， R¹³ 可以與R¹⁴ 或Ar¹² 鍵結而形成環， Ar¹¹ 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹ 及R¹² 中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基， Ar¹² 係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³ 及R¹⁴ 中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。

作為Ar¹¹ 及Ar¹² 所表示之，包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環，可舉出以Ar¹ 及Ar² 進行說明之稠環，且較佳範圍亦相同。Ar¹¹ 及Ar¹² 所表示之環可以具有取代基，亦可以為未取代。作為取代基，可舉出取代基T群及上述之由式（W）表示之基團。由式（W）表示之基團為較佳。

R¹¹ ～R¹⁴ 所表示之烷基、芳基及雜芳基與以R¹ ～R⁴ 進行說明之烷基、芳基及雜芳基含義相同，較佳範圍亦相同。又，R¹¹ ～R¹⁴ 所表示之烷基、芳基及雜芳基可以具有取代基，亦可以為未取代。作為取代基，可舉出取代基T群及上述之由式（W）表示之基團。式（W）表示之基團為較佳。

由R¹¹ 與R¹² 或Ar¹¹ 鍵結而形成之環及由R¹³ 與R¹⁴ 或Ar¹² 鍵結而形成之環可舉出以式（1）進行說明之，由R¹ 與R² 或Ar¹ 鍵結而形成之環，較佳範圍亦相同。

式（1a）中，選自Ar¹¹ 、Ar¹² 、R¹¹ 、R¹² 、R¹³ 及R¹⁴ 中的至少一個具有上述之由式（W）表示之基團亦為較佳。

作為方酸菁化合物（1）的具體例，可舉出下述中所記載之化合物，但並不限定於此。 [化學式20]

[化學式21]

[化學式22]

[化學式23]

（方酸菁化合物（1）的合成方法）上述之方酸菁化合物（1）能夠藉由以往公知的方法來合成。例如，能夠依據Chem. Eur. J., 2008,14, 11082-11091中所記載之方法或日本特開2009-15114號公報的0057～0062段中所記載之方法來合成。

又，能夠藉由交叉偶聯法來合成下述中間體（A），並使所得到之中間體A與下述化合物（B）反應來合成。該合成方法以良好的收率得到目標化合物，因此為較佳。 [化學式24]

上述式中，Ar表示具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團。R分別獨立地表示氫原子或取代基。X表示氯、溴、碘等鹵素原子及三氟甲烷磺醯氧基、九氟丁烷磺醯氧基等脫離基。Y分別獨立地表示OH、Cl或OR’，R’表示芳基。

中間體（A）的合成中，使用過渡金屬觸媒並藉由交叉偶聯法合成中間體（A）為較佳。作為過渡金屬觸媒，可舉出鈀觸媒、銅觸媒、鎳觸媒等。

＜＜其他近紅外線吸收化合物＞＞本發明的組成物還可以含有上述之方酸菁化合物（1）以外的近紅外線吸收化合物（以下，還稱為其他近紅外線吸收化合物）。其他近紅外線吸收化合物係於700～1200nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為較佳，於700～1000nm的範圍具有極大吸收波長之化合物為更佳。

作為其他近紅外線吸收性化合物，例如可舉出酞菁化合物、萘酞菁化合物、苝化合物、吡咯并吡咯化合物、花青化合物、二硫醇金屬錯合物、萘醌化合物、亞銨化合物、偶氮化合物等。作為吡咯并吡咯化合物，例如可舉出日本特開2009-263614號公報的0016～0058段中記載的化合物等。又，還可利用上述方酸菁化合物（1）以外的方酸菁化合物。酞菁化合物、萘酞菁化合物、亞銨化合物、花青化合物、方酸菁化合物及克酮酸化合物可使用日本特開2010-111750號公報的0010～0081段中公開之化合物，並將該內容編入本說明書中。又，花青化合物例如可參閱“功能性色素、大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恆亮・著、講談社Scientific”，並將該內容編入本說明書中。

本發明的組成物含有其他近紅外線吸收化合物時，將其他近紅外線吸收化合物的含量設為在本發明的組成物的總固體成分中為0.1～70質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳，1.0質量%以上為更佳。上限為60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。本發明的組成物包含兩種以上的其他近紅外線吸收化合物時，其合計量為上述範圍內為較佳。又，本發明的組成物還能夠設為不包含其他近紅外線吸收化合物之態樣。本發明的組成物實質上不包含其他近紅外線吸收化合物係指其他近紅外線吸收化合物的含量在本發明的組成物的總固體成分中為0.05質量%以下為較佳，為0.01質量%以下為更佳，或者完全不包含為進一步較佳。

＜＜彩色著色劑＞＞本發明的組成物能夠含有彩色著色劑。本發明中，彩色著色劑表示白色著色劑及黑色著色劑以外的著色劑。彩色著色劑係在400～650nm的範圍具有極大吸收波長之著色劑為較佳。

本發明中，彩色著色劑可以係顔料，亦可以係染料。顔料為較佳。

顔料係有機顔料為較佳，可舉出以下的有機顔料。然而，本發明並不限定於此。比色指數（C.I.）Pigment Yellow 1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等（以上為黃色顔料）、 C.I.Pigment Orange 2、5、13、16、17:1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等（以上為橙色顔料）、 C.I.Pigment Red 1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、52:1、52:2、53:1、57:1、60:1、63:1、66、67、81:1、81:2、81:3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等（以上為紅色顔料）、 C.I.Pigment Green 7、10、36、37、58、59等（以上為綠色顔料）、 C.I.Pigment Violet 1、19、23、27、32、37、42等（以上為紫色顏料）、 C.I.Pigment Blue 1、2、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、22、60、64、66、79、80等（以上為藍色顔料），該些有機顔料可單獨使用或組合多種來使用。

作為染料，並無特別限制，可使用公知的染料。作為化學結構，吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、三苯甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、亞苄基系、氧雜菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系、呫噸（xanthene）系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系、亞甲基吡咯系等染料。又，亦可使用該些染料的多聚體。又，可使用日本特開2015-028144號公報、日本特開2015-34966號公報中記載之染料。

又，作為染料，有時能夠適當使用酸性染料和/或其衍生物。此外，還可有效地使用直接染料、鹼性染料、媒染染料、酸性媒染染料、冰染染料（Azoic dye）、分散染料、油溶性染料、食品染料和/或該些的衍生物等。

以下舉出酸性染料的具體例，但並不限定於該些。例如，可舉出以下染料及該些染料的衍生物。 acid alizarin violet N、 acid blue 1、7、9、15、18、23、25、27、29、40～45、62、70、74、80、83、86、87、90、92、103、112、113、120、129、138、147、158、171、182、192、243、324:1、 acid chrome violet K、 acid Fuchsin；acid green 1、3、5、9、16、25、27、50、 acid orange 6、7、8、10、12、50、51、52、56、63、74、95、 acId red 1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、183、198、211、215、216、217、249、252、257、260、266、274、 acid violet 6B、7、9、17、19、 acid yellow 1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116、184、243、 Food Yellow 3

又，上述以外的偶氮系、呫噸系、酞菁系的酸性染料亦為較佳，還可較佳地使用C.I.Solvent Blue 44、38；C.I.Solvent Orange 45；Rhodamine B､Rhodamine 110等酸性染料及該些染料的衍生物。其中，作為染料，係選自三芳甲烷系、蒽醌系、偶氮甲鹼系、亞苄基系、氧雜菁系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亞胺系、呫噸系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系、吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、吡唑并偶氮系、吡啶酮偶氮系、蒽吡啶酮系、亞甲基吡咯系之著色劑為較佳。而且，還可組合顔料與染料來使用。

本發明的組成物含有彩色著色劑時，彩色著色劑的含量設為在本發明的組成物的總固體成分中為0.1～70質量%為較佳。下限為0.5質量%以上為較佳，1.0質量%以上為更佳。上限為60質量%以下為較佳，50質量%以下為更佳。彩色著色劑的含量相對於方酸菁化合物（1）的100質量份，10～1000質量份為較佳，50～800質量份為更佳。又，將彩色著色劑、方酸菁化合物（1）、上述之其他近紅外線吸收性化合物的合計量設為在本發明的組成物的總固體成分中係1～80質量%為較佳。下限係5質量%以上為較佳，10質量%以上為更佳。上限係70質量%以下為較佳，60質量%以下為更佳。本發明的組成物包含兩種以上的彩色著色劑時，其合計量在上述範圍內為較佳。

＜＜使紅外區域的至少一部分光透射，且對可見區域的光進行遮光之色材（對可見光進行遮光之色材）＞＞本發明的組成物還可含有對可見光進行遮光之色材。對可見光進行遮光之色材中，顏料的含量相對於對可見光進行遮光之色材的總質量係90質量%以上為較佳，95質量%以上為更佳，99質量%以上為進一步較佳。對可見光進行遮光之色材藉由組合複數種色材，而呈現黑色、灰色或接近該些之顏色為較佳。又，對可見區域進行遮光之色材為吸收從紫色至紅色波長區域的光之材料為較佳。又，對可見區域進行遮光之色材為對波長450～650nm的波長區域的光進行遮光之色材為較佳。

本發明中，對可見區域進行遮光之色材滿足以下（1）及（2）的至少一個要件為較佳，滿足（1）的要件為更佳。（1）：包含兩種以上的彩色著色劑之態様（2）：包含有機系黑色著色劑之態様另外，本發明中，作為對可見區域進行遮光之色材之有機系黑色著色劑係指吸收可見區域的光，但使紅外區域的至少一部分光透射之材料。從而，本發明中，作為對可見區域進行遮光之色材之有機系黑色著色劑並不包含吸收紅外區域的光及可見區域的光該兩者之黑色著色劑，亦即不包含碳黑或鈦黑。

作為彩色著色劑，可舉出上述之彩色著色劑。作為有機系黑色著色劑，例如可舉出雙苯并呋喃酮化合物、甲亞胺化合物、苝化合物、偶氮系化合物等，雙苯并呋喃酮化合物、苝化合物為較佳。作為雙苯并呋喃酮化合物，可舉出日本特表2010-534726號公報、日本特表2012-515233號公報、日本特表2012-515234號公報等中所記載之化合物，例如，可作為BASF公司製“Irgaphor Black”而得到。作為苝化合物，可舉出C.I.Pigment Black 31、32等。作為甲亞胺化合物，可舉出日本特開平1-170601號公報、日本特開平2-34664號公報等中所記載之化合物，例如可作為Dainichiseika Color & Chemicals Mfg.Co.,Ltd.製“CHROMOFINEBLACKA1103”而得到。

本發明中，對可見區域進行遮光之色材中，例如作為波長450～650nm的範圍內的吸光度的最小值A與波長900～1300nm的範圍內的吸光度的最小值B之比之A/B為4.5以上為較佳。關於上述特性，可以以一種原材料滿足，亦可以組合複數種原材料來滿足。例如，上述（1）的態様之情況下，組合複數種彩色著色劑來滿足上述光譜特性為較佳。

作為對可見區域進行遮光之色材而包含兩種以上的彩色著色劑之情況下，彩色著色劑為選自紅色著色劑、綠色著色劑、藍色著色劑、黃色著色劑、紫色著色劑及橙色著色劑中的著色劑為較佳。

組合兩種以上的彩色著色劑來形成對可見光進行遮光之色材之情況下，作為彩色著色劑的組合，例如可舉出以下。（1）含有黃色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態様（2）含有黃色著色劑、藍色著色劑及紅色著色劑之態様（3）含有黃色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態様（4）含有黃色著色劑及紫色著色劑之態様（5）含有綠色著色劑、藍色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態様（6）含有紫色著色劑及橙色著色劑之態様（7）含有綠色著色劑、紫色著色劑及紅色著色劑之態様（8）含有綠色著色劑及紅色著色劑之態様

作為上述（1）態樣的具體例，可舉出含有作為黃色顏料之C.I.Pigment Yellow 139或C.I.Pigment Yellow 185、作為藍色顏料之C.I.Pigment Blue 15:6、作為紫色顏料之C.I.Pigment Violet 23及作為紅色顏料之C.I.Pigment Red 254或C.I.Pigment Red 224之態樣。作為上述（2）態樣的具體例，可舉出含有作為黃色顏料之C.I.Pigment Yellow 139或C.I.Pigment Yellow 185、作為藍色顏料之C.I.Pigment Blue 15:6及作為紅色顏料之C.I.Pigment Red 254或C.I.Pigment Red 224之態樣。作為上述（3）的態樣的具體例，可舉出含有作為黃色顏料之C.I.Pigment Yellow 139或C.I.Pigment Yellow 185、作為紫色顏料之C.I.Pigment Violet 23及作為紅色顏料之C.I.Pigment Red 254或C.I.Pigment Red 224之態樣。作為上述（4）的態樣的具體例，可舉出含有作為黃色顏料之C.I.Pigment Yellow 139或C.I.Pigment Yellow 185、作為紫色顏料之C.I.Pigment Violet 23的態樣。作為上述（5）的態樣的具體例，可舉出含有作為綠色顏料之C.I.Pigment Green 7或 C.I.Pigment Green 36、作為藍色顏料之C.I.Pigment Blue 15:6、作為紫色顏料之C.I.Pigment Violet 23、作為紅色顏料之C.I.Pigment Red 254或 C.I.Pigment Red 224之態樣。作為上述（6）的態樣的具體例，可舉出含有作為紫色顏料之C.I.Pigment Violet 23、作為橙色顏料之C.I.Pigment Orange 71之態樣。作為上述（7）的具體例，可舉出含有綠色顏料之C.I.Pigment Green 7或C.I.Pigment Green 36、作為紫色顏料之C.I.Pigment Violet 23、作為紅色顏料之C.I.Pigment Red 254或C.I.Pigment Red 224之態樣。作為上述（8）的具體例，可舉出含有作為綠色顏料之C.I.Pigment Green 7或C.I.Pigment Green 36、作為紅色顏料之C.I.Pigment Red 254或C.I.Pigment Red 224之態樣。

作為各著色劑的比率（質量比），例如可舉出以下。

[表1]

本發明的組成物含有對可見光進行遮光之色材之情況下，對可見光進行遮光之色材的含量相對於組成物的總固體成分係30質量%以下為較佳，20質量%以下為更佳，15質量%以下為進一步較佳。下限例如可為0.01質量%以上，亦可為0.5質量%以上。又，本發明的組成物可為實質上並不含有對可見光進行遮光之色材之態様。實質上並不含有對可見光進行遮光之色材之情況係指，對可見光進行遮光之色材的含量係本發明的組成物的總固體成分的0.005質量%以下為較佳，0.001質量%以下為更佳，不含有對可見光進行遮光之色材為進一步較佳。

＜＜顔料衍生物＞＞本發明的組成物能夠含有顔料衍生物。作為顔料衍生物，可舉出具有藉由酸性基、鹼性基取代顔料的一部分之結構之化合物。從分散性及分散穩定性的觀點考慮，顔料衍生物含有具有酸性基或鹼性基之顔料衍生物為較佳。

＜＜樹脂＞＞本發明的組成物包含樹脂。樹脂的重量平均分子量（Mw）為2,000~2,000,000為較佳。上限為1,000,000以下為較佳，500,000以下為更佳。下限係3,000以上為較佳，5,000以上為更佳。又，為環氧樹脂之情況下，環氧樹脂的重量平均分子量（Mw）為100以上為較佳，200~2,000,000為更佳。上限為1,000,000以下為較佳，500,000以下為更佳。下限為100以上為較佳，200以上為更佳。

作為樹脂，可舉出（甲基）丙烯酸樹脂、環氧樹脂、烯硫醇樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚樹脂、聚芳酯樹脂、聚碸樹脂、聚醚碸樹脂、聚對亞苯基樹脂、聚亞芳基醚氧化膦樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、環狀烯烴樹脂、聚酯樹脂等。該些樹脂可以單獨使用一種，亦可以混合兩種以上來使用。其中，從相對於方酸菁化合物（1）的樹脂之溶解性及可見透明性的觀點考慮，（甲基）丙烯酸樹脂、聚酯樹脂及環氧樹脂為較佳，（甲基）丙烯酸樹脂為更佳。

作為（甲基）丙烯酸樹脂，可舉出包含（甲基）丙烯酸和/或來源於其酯之結構單元之聚合物。具體而言，可舉出聚合選自（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸酯類、（甲基）丙烯醯胺及（甲基）丙烯腈中的至少一種來得到之聚合物。

作為聚酯樹脂，可舉出藉由多元醇（例如，乙二醇、丙二醇、丙三醇、三羥甲基丙烷）與多元酸（例如，對苯二甲酸、間苯二甲酸、萘二甲酸等芳香族二羧酸及該些芳香核的氫原子被甲基、乙基、苯基等取代之芳香族二羧酸、己二酸、癸二酸、十二烷二羧酸等碳數2～20的脂肪族二羧酸、及環己烷二羧酸等的脂環式二羧酸等）的反應而得到之聚合物、及藉由己內酯單體等的環狀酯化合物的開環聚合而得到之聚合物（例如，聚己內酯）。

作為環氧樹脂，能夠舉出雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。作為雙酚A型環氧樹脂，可舉出JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010（以上為Mitsubishi Chemical Co.,Ltd.製）、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055（以上為DIC CORPORATION製）等。作為雙酚F型環氧樹脂，可舉出JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010（以上為Mitsubishi Chemical Co.,Ltd.製）、EPICLON830、EPICLON835（以上為DIC CORPORATION製）、LCE-21、RE-602S（以上為Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）等。作為苯酚酚醛清漆型環氧樹脂，可舉出JER152、JER154、JER157S70、JER157S65、（以上為Mitsubishi Chemical Co.,Ltd.製）、EPICLON N-740、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775（以上為DIC CORPORATION製）等。作為甲酚酚醛清漆型環氧樹脂，可舉出EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLON N-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695（以上為DIC CORPORATION製）、EOCN-1020（以上為NIippon Kayaku Co.,Ltd.製）等。作為脂肪族環氧樹脂，可舉出ADEKA RESIN EP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S（以上為ADEKA CORPORATION製）CELOXIDE 2021P、CELOXIDE 2081、CELOXIDE 2083、CELOXIDE 2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、EPOLEAD PB 4700（以上為Daicel Corporation製）、DENACOL EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L（以上為Nagase ChemteX Corporation製）等。除此以外，可舉出ADEKA RESIN EP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESIN EP-4010S、ADEKA RESIN EP-4011S（以上、為ADEKA CORPORATION製）、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502（以上為ADEKA CORPORATION製）、JER1031S（Mitsubishi Chemical Co.,Ltd.製）、RIPOXY SPCF-9X（SHOWA DENKO K.K.製）等。

又，樹脂可以具有酸基。作為酸基，例如可舉出羧基、磷酸基、磺酸基、苯酚性羥基等。該些酸基可以僅為一種，亦可以為兩種以上。

作為具有酸基之樹脂，於側鏈具有羧基之聚合物為較佳，甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物、酚醛清漆樹脂等的鹼可溶性酚醛樹脂等，以及於側鏈具有羧基之酸性纖維素衍生物、對具有羥基之聚合物加成酸酐而得到者。尤其，（甲基）丙烯酸、及可與其共聚之與其他單體的共聚物為較佳。作為可與（甲基）丙烯酸共聚之其他單體，能夠舉出烷基（甲基）丙烯酸酯、芳基（甲基）丙烯酸酯、乙烯基化合物等。作為烷基（甲基）丙烯酸酯及芳基（甲基）丙烯酸酯，可舉出（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸異丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸辛酯、苯基（甲基）丙烯酸酯、芐基（甲基）丙烯酸酯、甲苯基（甲基）丙烯酸酯、萘基（甲基）丙烯酸酯、環己基（甲基）丙烯酸酯等，作為乙烯基化合物，可舉出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、丙烯酸四氫糠酯、聚苯乙烯大分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體等，作為日本特開平10-300922號公報所記載之N位取代馬來醯亞胺單體，可舉出N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等。另外，可與該些（甲基）丙烯酸共聚之其他單體可以僅為一種，亦可以為兩種以上。

具有酸基之樹脂，可較佳地使用包括芐基（甲基）丙烯酸酯/（甲基）丙烯酸共聚物、芐基（甲基）丙烯酸/（甲基）丙烯酸/2-羥乙基（甲基）丙烯酸酯共聚物、芐基（甲基）丙烯酸/（甲基）丙烯酸/其他單體之多元共聚物。又，還可較佳地使用將2-羥乙基（甲基）丙烯酸酯聚合者，日本特開平7-140654號公報所記載之2-羥丙基（甲基）丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯大分子單體/甲基丙烯酸芐酯/甲基丙烯酸共聚物。

具有酸基之樹脂包含如下聚合物亦為較佳，該聚合物藉由聚合包含由下述通式（ED1）表示之化合物和/或由下述通式（ED2）表示之化合物（以下，有時將該些化合物稱為“醚二聚體”。）之單體成分而成。

[化學式25]

通式（ED1）中，R¹ 及R² 分別獨立地表示氫原子或可以具有取代基之碳數1～25的烴基。 [化學式26]

通式（ED2）中，R表示氫原子或碳數1～30的有機基團。作為通式（ED2）的具體例，可參閱日本特開2010-168539號公報的記載。通式（ED1）中，作為由R¹ 及R² 表示之可以具有取代基之碳數1～25的烴基，並無特別限定，例如可舉出，甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、三級丁基、三級戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等的直鏈狀或分支狀烷基；苯基等的芳基；環己基、三級丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；被1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等烷氧基取代之烷基；被苄基等芳基取代之烷基等。其中，從耐熱性方面考慮，如甲基、乙基、環己基、苄基等不易因酸和熱而脫離之1級或2級碳的取代基為特佳。作為醚二聚體的具體例，例如，可參閱日本特開2013-29760號公報的0317段，並將該內容編入本說明書中。醚二聚體可以僅為一種，亦可以為兩種以上。由通式（ＥＤ）表示之化合物來源的結構體可以與其他單體共聚合。

具有酸基之樹脂可以含有源自由下述式（X）表示之化合物之結構單元。 [化學式27]

式（X）中，R₁ 表示氫原子或甲基，R₂ 表示碳數2～10的伸烷基，R₃ 表示氫原子或可以含有苯環之碳數1～20的烷基。n表示1～15的整數。

上述式（X）中，R₂ 的伸烷基的碳數係2～3為較佳。又，R₃ 的烷基的碳數為1～20，1～10為更佳，R₃ 的烷基可以含有苯環。作為由R₃ 表示之含有苯環之烷基，可舉出苄基、2-苯基（異）丙基等。

作為具有酸基之樹脂，可參閱日本特開2012-208494號公報的0558～0571段（相對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的＜0685＞～＜0700＞段）以後的記載、日本特開2012-198408號公報的0076～0099段的記載，並將該內容編入本說明書中。

具有酸基之樹脂的酸值係30～200mgKOH/g為較佳。下限係50mgKOH/g以上為較佳，70mgKOH/g以上為更佳。上限係150mgKOH/g以下為較佳，120mgKOH/g以下為更佳。

樹脂可以具有交聯性基團。本發明中，交聯性基團係指藉由熱、光或自由基的作用而反應來可形成化學鍵之基團。具體而言，可舉出具有乙烯性不飽和鍵之基團、環狀醚基、羥甲基、烷氧基矽烷基、氯代甲矽烷基等。作為具有交聯性基團之樹脂，例如，可舉出包含具有交聯性基團之結構單元之樹脂或上述之環氧樹脂等。作為具有交聯性基團之結構單元，可舉出下述式（A2-1）～式（A2-4）等。 [化學式28]

R¹ 表示氫原子或烷基。烷基的碳數係1～5為較佳，1～3為更佳，1為特佳。R¹ 係氫原子或甲基為較佳。

L⁵¹ 表示單鍵或2價連結基。作為2價連結基，可舉出伸烷基、伸芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO₂ -、-NR¹⁰ -（R¹⁰ 表示氫原子或烷基，氫原子為較佳）或包含它們的組合之基團，包含伸烷基、伸芳基及伸烷基的至少一個與-O-的組合之基團為較佳。伸烷基的碳數係1～30為較佳，1～15為更佳，1～10為進一步較佳。伸烷基可以具有取代基，未取代為較佳。伸烷基可以為直鏈、分支、環狀中的任意一個。又，環狀伸烷基可以為單環、多環中的任意一個。伸芳基的碳數係6～18為較佳，6～14為更佳，6～10為進一步較佳。

P¹ 表示交聯性基團。作為交聯性基團，可舉出具有乙烯性不飽和鍵之基團、環狀醚基、羥甲基、烷氧基甲矽烷基、氯代甲矽烷基等。具有乙烯性不飽和鍵之基團、環狀醚基、烷氧基甲矽烷基、氯代甲矽烷基為較佳。作為具有乙烯性不飽和鍵之基團，可舉出乙烯基、（甲基）烯丙基、（甲基）丙烯醯基、（甲基）丙烯醯氧基等。作為環狀醚基，可舉出環氧基（環氧乙基）、氧雜環丁基等。作為烷氧基甲矽烷基，可舉出單烷氧基甲矽烷基、二烷氧基甲矽烷基、三烷氧基甲矽烷基。具有乙烯性不飽和鍵之基團係（甲基）丙烯醯基、（甲基）丙烯醯氧基為較佳。環狀醚基係環氧基為較佳。烷氧基矽烷基係二烷氧基矽烷基、三烷氧基矽烷基為較佳。又，烷氧基矽烷基中的烷氧基的碳數係1～5為較佳，1～3為更佳，1或2為特佳。作為氯代甲矽烷基，可舉出單氯代甲矽烷基、二氯代甲矽烷基、三氯代甲矽烷基。二氯代甲矽烷基、三氯代甲矽烷基為較佳，三氯代甲矽烷基為更佳。

作為含有硬化性基團之樹脂，可舉出DIANAL NR系列（Mitsubishi Rayon Co., Ltd.製）、Photomer6173（含COOH聚氨酯丙烯酸低聚物.Diamond Shamrock Co.,Ltd.製）、VISCOTE R-264、KS resist106（均為OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.製）、CYCLOMER P系列（例如，ACA230AA）、PLACCEL CF200系列（均為Daicel Corporation Co.,Ltd.製）、Ebecryl3800（Daicel UCB CO., Ltd製）、Akurikyua-RD-F8（NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.製）等。又，可舉出上述之環氧樹脂等。

樹脂具有由下述式（A3-1）～式（A3-7）表示之結構單元亦為較佳。 [化學式29]

式中，R⁵ 表示氫原子或烷基，L⁴ ～L⁷ 分別獨立地表示單鍵或2價連結基，R¹⁰ ～R¹³ 分別獨立地表示烷基或芳基。R¹⁴ 及R¹⁵ 分別獨立地表示氫原子或取代基。

R⁵ 與式（A2-1）～式（A2-4）的R¹ 含義相同，較佳範圍亦相同。 L⁴ ～L⁷ 與式（A2-1）～式（A2-4）的L¹ 含義相同，較佳範圍亦相同。

R¹⁰ 所表示之烷基可以為直鏈狀、分支狀或環狀中的任意一個，環狀為較佳。烷基可以具有上述之取代基，亦可以未取代。烷基的碳數係1～30為較佳，1～20為更佳，1～10為進一步較佳。R¹⁰ 所表示之芳基的碳數係6～18為較佳，6～12為更佳，6為進一步較佳。R¹⁰ 係環狀烷基或芳基為較佳。

R¹¹ 、R¹² 所表示之烷基可以為直鏈狀、分支狀或環狀中的任意一個，直鏈狀或分支狀為較佳。烷基可以具有上述之取代基，亦可以未取代。烷基的碳數係1～12為較佳，1～6為更佳，1～4為進一步較佳。R¹¹ 、R¹² 所表示之芳基的碳數係6～18為較佳，6～12為更佳，6為進一步較佳。R¹¹ 、R¹² 係直鏈狀或分支狀烷基為較佳。

R¹³ 所表示之烷基可以為直鏈狀、分支狀或環狀的任意一個，直鏈狀或分支狀為較佳。烷基可以具有上述之取代基，亦可以未取代。烷基的碳數係1～12為較佳，1～6為更佳，1～4為進一步較佳。R¹³ 所表示之芳基的碳數係6～18為較佳，6～12為更佳，6為進一步較佳。R¹³ 係直鏈狀或分支狀烷基或芳基為較佳。

R¹⁴ 及R¹⁵ 所表示之取代基，可舉出以取代基T群進行說明之基團。其中，R¹⁴ 及R¹⁵ 的至少一個表示氰基或、-COOR^a 為較佳。Ra表示氫原子或取代基。Ra可具有之取代基可舉出以取代基T群進行說明之基團。例如，烷基、芳基為較佳。

樹脂的含量相對於組成物的總固體成分係1～80質量%為較佳。下限係5質量%以上為較佳，7質量%以上為更佳。上限係50質量%以下為較佳，30質量%以下為更佳。

＜＜具有交聯性基團之化合物（交聯性化合物）＞＞本發明的組成物可含有具有交聯性基團之化合物（交聯性化合物）。組成物含有交聯性化合物，藉此可形成耐熱性及耐溶劑性優異之膜。作為交聯性化合物可使用藉由自由基、酸、熱而可交聯之公知的化合物。例如，可舉出具有含有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物、具有環狀醚基之化合物、具有羥甲基之化合物、具有烷氧基矽烷基、氯代甲矽烷基之化合物等。關於具有乙烯性不飽和鍵之基團、環狀醚基、烷氧基矽烷基、氯代甲矽烷基的詳細內容，可舉出上述之以樹脂進行說明之基團。

交聯性化合物可以為單體、聚合物中的任一態樣，單體為較佳。單體類型交聯性化合物的分子量係100～3000為較佳。上限係2000以下為較佳，1500以下為更佳。下限係150以上為較佳，250以上為進一步較佳。又，交聯性化合物為實質上不具有分子量分佈之化合物亦為較佳。於此，實質上不具有分子量分佈係指，化合物的分散度（重量平均分子量（Mw）/數平均分子量（Mn））係1.0～1.5為較佳，1.0～1.3為更佳。

[包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物] 本發明中，作為交聯性化合物能夠使用包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物。包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物係單體為較佳。包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物的分子量係100～3000為較佳。上限係2000以下為較佳，1500以下為進一步較佳。下限係150以上為較佳，250以上為進一步較佳。包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物係3～15官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為較佳，係3～6官能的（甲基）丙烯酸酯化合物為更佳。作為上述化合物的例子，可參閱日本特開2013-253224號公報的0033～0034段的記載，並將該內容編入本說明書中。作為上述化合物，乙烯基氧基改質季戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品，為NK酯ATM-35E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製）、二季戊四醇三丙烯酸酯（作為市售品，為KAYARAD D-330；Nippon Kayaku Co.,Ltd製）、二季戊四醇四丙烯酸酯（作為市售品，為KAYARAD D-320；Nippon Kayaku Co.,Ltd製）二季戊四醇戊（甲基）丙烯酸酯（作為市售品，為KAYARAD D-310；Nippon Kayaku Co.,Ltd製）、二季戊四醇六（甲基）丙烯酸酯（作為市售品，為KAYARAD DPHA；Nippon Kayaku Co.,Ltd製、A-DPH-12E；Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製）、及該種（甲基）丙烯醯基介有乙二醇、丙二醇殘基之結構為較佳。又，還能夠使用該些的寡聚物類型。又，可參閱日本特開2013-253224號公報的0034～0038段的針對聚合性化合物的記載，並將該內容編入本說明書中。又，可舉出日本特開2012-208494號公報的0477段（對應之美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的＜0585＞段）中記載的聚合性單體等，並將該內容編入本說明書中。又，二甘油EO（環氧乙烷）改質（甲基）丙烯酸酯（作為市售品，為Ｍ-460；Toagosei Co.,Ltd.製）為較佳。季戊四醇四丙烯酸酯（Shin-Nakamura Chemical Co.,Ltd製、A-TMMT）、1，6-己二醇二丙烯酸酯（Nippon Kayaku Co.,Ltd製、KAYARAD HDDA）亦為較佳。還能夠使用該些的寡聚物類型。例如，可舉出RP-1040（Nippon Kayaku Co.,Ltd製）等。

包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物可以具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。作為具有酸基之上述化合物，可舉出脂肪族多羥基化合物與不飽和羧酸的酯等。使脂肪族多羥基化合物的未反應羥基與非芳香族羧酸酐反應而具有酸基之化合物為較佳，特佳為於該酯中，脂肪族多羥基化合物為季戊四醇和/或雙季戊四醇之化合物。作為市售品，例如作為TOAGOSEI CO., LTD.製多鹼酸改質丙烯酸寡聚物，可舉出ARONIX系列的M-305、M-510、M-520等。具有酸基之化合物的酸值係0.1～40mgKOH/g為較佳。下限係5mgKOH/g以上為較佳。上限係30mgKOH/g以下為較佳。

包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物為具有己內酯結構之化合物亦為較佳態様。作為具有己內酯結構之化合物，於分子內具有己內酯結構之範圍內並無特別限定，例如，可舉出可藉由將三羥甲基乙烷、二三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、雙甘油、三羥甲基三聚氰胺等多元醇與（甲基）丙烯酸及ε-己內酯進行酯化而得到之、ε-己內酯改質多官能（甲基）丙烯酸酯。作為具有己內酯結構之化合物，可參閱日本特開2013-253224號公報的0042～0045段中所記載之化合物，並將該內容編入本說明書中。關於具有己內酯結構之化合物，例如可舉出由Nippon Kayaku Co.,Ltd.作為KAYARAD DPCA系列而市售之、DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等、Sartomer Company, Inc製的作為具有4個伸乙氧基鏈之4官能丙烯酸酯之SR-494、作為具有3個異伸丁氧基鏈之3官能丙烯酸酯之TPA-330等。

作為包含具有乙烯性不飽和鍵之基團之化合物，日本特公昭48-41708號公報、日本特開昭51-37193號公報、日本特公平2-32293號公報、日本特公平2-16765號公報中所記載之胺基甲酸酯丙烯酸酯類，日本特公昭58-49860號公報、日本特公昭56-17654號公報、日本特公昭62-39417號公報、日本特公昭62-39418號公報中所記載之具有環氧乙烷系骨架之胺基甲酸酯化合物類亦為較佳。又，可使用日本特開昭63-277653號公報、日本特開昭63-260909號公報、日本特開平1-105238號公報中所記載之、於分子內具有胺基結構或硫醚結構之加成聚合性化合物類。作為市售品，可舉出氨基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140（Sanyo Kokusaku Pulp Co.,Ltd製）、UA-7200（Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.製）、DPHA-40H（Nippon Kayaku Co.,Ltd.製）、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600（Kyoeisha chemical Co.,Ltd.製）等。

[具有環狀醚基之化合物] 本發明中，作為交聯性化合物，可使用具有環狀醚基之化合物。作為環狀醚基，可舉出環氧基、氧雜環丁基等，環氧基為較佳。作為具有環狀醚基之化合物，可舉出單官能或多官能縮水甘油醚化合物、多官能脂肪族縮水甘油醚化合物等。又，可使用縮水甘油基（甲基）丙烯酸酯或烯丙基縮水甘油醚等作為環氧基具有縮水甘油基之化合物或具有脂環式環氧基之化合物。作為該種化合物，例如可參閱日本特開2009-265518號公報的0045段等的記載，並將該內容編入本說明書中。又，還可舉出上述之以樹脂進行說明之環氧樹脂。作為具有環狀醚基之化合物的市售品，例如可參閱日本特開2012-155288號公報的0191段等的記載，並將該內容編入本說明書中。

[具有烷氧基甲矽烷基之化合物] 本發明中，作為交聯性化合物，還可使用具有烷氧基甲矽烷基之化合物。烷氧基甲矽烷基中的烷氧基的碳數為1～5為較佳，1～3為更佳，1或2為特佳。烷氧基甲矽烷基係二烷氧基甲矽烷基或三烷氧基矽烷基為較佳。烷氧基甲矽烷基於一分子中具有兩個以上為較佳，具有2～3個有為進一步較佳。作為具有烷氧基甲矽烷基之化合物的具體例，可舉出甲基三甲氧基矽烷、二甲基二甲氧基矽烷、苯基三甲氧基矽烷、甲基三乙氧基矽烷、二甲基二乙氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷、正丙基三甲氧基矽烷、正丙基三乙氧基矽烷、己基三甲氧基矽烷、己基三乙氧基矽烷、辛基三乙氧基矽烷、癸基三甲氧基矽烷、1,6-雙（三甲氧基矽烷基）己烷、三氟丙基三甲氧基矽烷、六甲基二矽氮烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、2-（3,4-環氧基環己基）乙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基甲基二甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基甲基二乙氧基矽烷、3-縮水甘油醚丙基三乙氧基矽烷、對苯乙烯基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、N-2-（胺基乙基）-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、N-2-（胺基乙基）-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三甲氧基矽烷、3-胺基丙基三乙氧基矽烷、3-三乙氧基甲矽烷基-N-（1,3-二甲基-亞丁基）丙基胺、N-苯基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-（乙烯基芐基）-2-胺基乙基-3-胺基丙基三甲氧基矽烷的鹽酸鹽、三-（三甲氧基甲矽烷基丙基）異氰脲酸酯、3-脲丙基三乙氧基矽烷、3-巰基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷、雙（三乙氧基甲矽烷基丙基）四硫醚、3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等。又，上述以外還可使用烷氧基寡聚物。又，還可使用下述化合物。 [化學式30]

作為市售品，可舉出Shin-Etsu silicone Co., Ltd.製的KBM-13、KBM-22、KBM-103、KBE-13、KBE-22、KBE-103、KBM-3033、KBE-3033、KBM-3063、KBM-3066、KBM-3086、KBE-3063、KBE-3083、KBM-3103、KBM-3066、KBM-7103、SZ-31、KPN-3504、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007、X-40-1053、X-41-1059A、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810、X-40-2651、X-40-2655A、KR-513、KC-89S、KR-500、X-40-9225、X-40-9246、X-40-9250、KR-401N、X-40-9227、X-40-9247、KR-510、KR-9218、KR-213、X-40-2308、X-40-9238等。

[具有氯代甲矽烷之化合物] 本發明中，作為交聯性化合物，可使用具有氯代甲矽烷基之化合物。氯代甲矽烷基係二氯代甲矽烷基或三氯代甲矽烷基為較佳。氯代甲矽烷基於一分子中具有兩個以上為較佳，具有2～3個為進一步較佳。具有氯代甲矽烷基之化合物可舉出甲基三氯矽烷、乙基三氯矽烷、苯基三氯矽烷、二氯（甲基）苯基矽烷、二甲基二氯矽烷、二乙基二氯矽烷等。

交聯性化合物的含量相對於組成物的總固體成分係1～90質量%為較佳。下限係2質量%以上為較佳，5質量%以上為更佳，10質量%以上為特佳。上限係80質量%以下為較佳，75質量%以下為更佳。交聯性化合物可以僅為一種，亦可以為兩種以上。兩種以上之情況下，合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜光聚合起始劑＞＞本發明的組成物可含有光聚合起始劑。尤其，組成物包含具有如下基團之樹脂或硬化性化合物等、自由基聚合性成分之情況下，含有光聚合起始劑為較佳，該基團具有乙烯性不飽和鍵。作為光聚合起始劑，並無特別限制，可從公知的光聚合起始劑中適當選擇。例如，對從紫外線區域至可見區域的光線具有感光性者為較佳。光聚合起始劑係光自由基聚合起始劑為較佳。又，光聚合起始劑含有至少1種於約300nm～800nm（330nm～500nm為更佳。）的範圍內具有至少約50莫耳吸光係數之化合物為較佳。

作為光聚合起始劑，例如可舉出鹵化烴衍生物（例如，具有三嗪骨架者、具有噁二唑骨架者等）、醯基氧化膦等醯基膦化合物、六芳基雙咪唑、肟衍生物等肟化合物、有機過氧化物、硫化合物（thio compound）、酮化合物、芳香族鎓鹽、酮肟醚、胺基苯乙酮化合物、羥基苯乙酮等。作為具有三嗪骨架之鹵化烴化合物，例如可以舉出若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan，42，2924（1969）中所記載之化合物、英國專利第1388492號說明書中所記載之化合物、日本特開昭53-133428號公報中所記載之化合物、德國專利第3337024號說明書中所記載之化合物、基於F.C.Schaefer等之有機化學期刊（J.Org.Chem.），29，1527（1964）中所記載之化合物、日本特開昭62-58241號公報中所記載之化合物、日本特開平5-281728號公報中所記載之化合物、日本特開平5-34920號公報中所記載之化合物、美國專利第4212976號說明書中所記載之化合物等。

又，從曝光感度的觀點考慮，選自包含三鹵甲基三嗪（trihalo methyl triazine）化合物、苄基二甲基縮酮化合物、α-羥基酮化合物、α-胺基酮化合物、醯基膦化合物、氧化膦化合物、茂金屬化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑（triallyl imidazole）二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、環戊二烯-苯-鐵錯合物及其鹽、鹵甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物的群組中的化合物為較佳。

作為光聚合起始劑，還可較佳地使用羥基苯乙酮化合物、胺基苯乙酮化合物及醯基膦化合物。更具體而言，例如還可使用日本特開平10-291969號公報中所記載之胺基苯乙酮系起始劑、日本專利第4225898號公報中所記載之醯基膦系起始劑。作為羥基苯乙酮系起始劑，可使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127（產品名：均為BASF公司製）。作為胺基苯乙酮系起始劑，可以使用作為市售品之IRGACURE-907、IRGACURE-369及IRGACURE-379EG（產品名：均為BASF公司製）。胺基苯乙酮系起始劑亦可以使用吸收波長與365nm或405nm等長波光源匹配之日本特開2009-191179號公報中所記載之化合物。作為醯基膦係起始劑，可以使用作為市售品之IRGACURE-819及DAROCUR-TPO（產品名：均為BASF公司製）。

作為光聚合起始劑，可舉出肟化合物為更佳。作為肟化合物的具體例，可使用日本特開2001-233842號公報中所記載之化合物、日本特開2000-80068號公報中所記載之化合物、日本特開2006-342166號公報中所記載之化合物。

作為可較佳地使用之肟化合物，例如可以舉出3-苯甲醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-乙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、3-丙醯氧基亞胺基丁烷-2-酮、2-乙醯氧基亞胺基戊烷-3-酮、2-乙醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲醯氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮、3-（4-甲苯磺醯氧基）亞胺基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亞胺基-1-苯基丙烷-1-酮等。又，亦可以舉出J.C.S.Perkin II（1979年）pp.1653-1660、J.C.S.Perkin II（1979年）pp.156-162、光聚合物科學與技術雜誌（Journal of Photopolymer Science and Technology）（1995年）pp.202-232、日本特開2000-66385號公報中所記載之化合物、日本特開2000-80068號公報、日本特表2004-534797號公報、日本特開2006-342166號公報的各公報中所記載之化合物等。市售品中，亦可較佳地使用IRGACURE-OXE01（BASF公司製）、IRGACURE-OXE02（BASF公司製）。又，亦可以使用TR-PBG-304（CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.,LTD.製）、ADEKA ARKLS NCI-930（ADEKA CORPORATION製）。

又，作為上述記載以外的肟化合物，可以使用在咔唑的N位上連結有肟之日本特表2009-519904號公報中所記載之化合物、於二苯甲酮部位導入有雜取代基之美國專利第7626957號公報中所記載之化合物、在色素部位導入有硝基之日本特開2010-15025號公報及美國專利公開2009-292039號公報中所記載之化合物、國際公開專利2009-131189號公報中所記載之酮肟化合物、在同一分子內含有三嗪骨架和肟骨架之美國專利7556910號公報中所記載之化合物、對在405nm下具有極大吸收且對g射線光源具有良好的感度之日本特開2009-221114號公報中所記載之化合物、日本特開2014-137466號公報的0076～0079段中所記載之化合物等。較佳地、例如，可參閱日本特開2013-29760號公報的0274～0275段，並將該內容編入本說明書中。具體而言，作為肟化合物，由下述式（OX-1）所表示之化合物為較佳。另外，可以為肟的N-O鍵係（E）體的肟化合物，亦可以為（Z）體的肟化合物，亦可以係（E）體與（Z）體的混合物。

[化學式31]

通式（OX-1）中，R及B分別獨立地表示一價取代基，A表示二價有機基團，Ar表示芳基。通式（OX-1）中，作為R所表示之一價取代基，一價非金屬原子團為較佳。作為一價非金屬原子團，可舉出烷基、芳基、醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。又，該些基團可以具有1個以上的取代基。又，前述取代基可以進一步被其他取代基取代。作為取代基，可舉出鹵素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、醯氧基、醯基、烷基、芳基等。通式（OX-1）中，作為B所表示之一價取代基，芳基、雜環基、芳基羰基或雜環羰基為較佳。該些基團可以具有1個以上的取代基。作為取代基，可以例示出前述取代基。通式（OX-1）中，作為A所表示之二價有機基團，碳數1～12的伸烷基、環伸烷基、伸炔基為較佳。該些基團可以具有1個以上的取代基。作為取代基，可例示出前述取代基。

本發明中，作為光聚合起始劑，還可以使用具有芴環之肟化合物。作為具有芴環之肟化合物的具體例，可舉出日本特開2014-137466號公報中所記載之化合物。將該內容編入本說明書中。

作為光聚合起始劑亦可使用具有氟原子之肟化合物。作為具有氟原子之肟化合物的具體例，可以舉出日本特開2010-262028號公報記載的化合物、日本特表2014-500852號公報中記載的化合物24、36～40、日本特開2013-164471號公報記載的化合物（C-3）等。將該內容編入本說明書中。

作為光聚合起始劑，可使用具有硝基之肟化合物。作為具有硝基之肟化合物的具體例，可舉出日本特開2013-114249號公報的0031～0047段、日本特開2014-137466號公報的0008～0012段、0070～0079段中所記載之化合物、ADEKA ARKLS NCI-831（ADEKA CORPORATION製）。

以下示出較佳地使用之肟化合物的具體例，但本發明並不限定於此。

[化學式32]

[化學式33]

肟化合物為於350nm～500nm的波長區域具有極大吸收波長之化合物為較佳，於360nm～480nm的波長區域具有吸收波長之化合物為更佳，於365nm及405nm下的吸光度較高之化合物為特佳。

從感度的觀點考慮，肟化合物的365nm或405nm下的莫耳吸光係數為1,000～300,000為較佳，2,000～300,000為更佳，5,000～200,000為特佳。化合物的莫耳吸光係數的測定中可使用公知的方法，具體而言，例如利用紫外可見分光光度計（Varian公司製Cary-5分光光度計（spectrophotometer）），並使用乙酸乙酯溶劑以0.01g/L的濃度進行測定為較佳。

光聚合起始劑的含量相對於組成物的總固體成分為0.1～50質量%為較佳，0.5～30質量%為更佳，1～20質量%為進一步較佳。於該範圍內可得到更加良好的感度和圖案形成性。組成物可以僅含有一種光聚合起始劑，亦可以含有兩種以上。含有兩種以上之情況下，其合計量成為上述範圍為較佳。

＜＜酸產生劑＞＞本發明的組成物可含有酸產生劑。尤其，組成物包含具有環狀醚基之樹脂或交聯性化合物等陽離子聚合性成分之情況下，含有酸產生劑為較佳。酸產生劑係藉由光照射而產生酸之化合物（光酸產生劑）為較佳。作為酸產生劑，可舉出藉由光照射而分解並產生酸之、重氮鹽、鏻鹽、鋶鹽、錪鎓鹽等鎓鹽化合物、醯亞胺磺酸鹽、肟磺酸鹽、重氮二碸、二碸、鄰硝基苄基磺酸鹽等磺酸鹽化合物等。作為酸產生劑的種類、具體化合物、及較佳例子，可舉出日本特開2008-13646號公報的〔0066〕～〔0122〕段中所記載之化合物等，且可將該化合物應用於本發明中。

關於作為酸產生劑而較佳之化合物，可舉出由下述式（b1）、式（b2）、式（b3）表示之化合物。 [化學式34]

式（b1）中，R²⁰¹ 、R²⁰² 及R²⁰³ 各自獨立地表示有機基團。X^- 表示非親核性陰離子，可較佳地舉出磺酸陰離子、羧酸陰離子、雙（烷基磺醯基）醯胺陰離子、三（烷基磺醯基）甲基化物陰離子、BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、SbF₆ ^- 或以下所示之基團等，BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、SbF₆ ^- 為較佳。

作為酸產生劑的市售品，可舉出WPAG-469（Wako Pure Chemical Co., Ltd.製）、CPI-100P（San-Apro Ltd.製）等。

酸產生劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.1～50質量%為較佳，0.5～30質量%為更佳，1～20質量%為進一步較佳。本發明的組成物可以僅包含一種酸產生劑，亦可以包含兩種以上。包含兩種以上之情況下，其合計量為上述範圍為較佳。

＜＜交聯助劑＞＞本發明的組成物以促進交聯性成分（具有交聯性基團之樹脂或交聯性化合物）的交聯反應等為目的，包含交聯助劑為較佳。作為交聯助劑，包含選自多價硫醇、醇、胺及羧酸之至少一種為較佳。交聯助劑的含量相對於交聯性化合物的100質量份係1～1000質量份為較佳，更佳為1～500質量份，進一步較佳為1～200質量份。組成物可以僅包含一種交聯助劑，亦可以包含兩種以上。包含兩種以上之情況下，其合計量成為上述範圍為較佳。

（多官能硫醇）多官能硫醇可舉出於分子內具有兩個以上的硫醇基之化合物。多官能硫醇係2級烷硫醇類為較佳，尤其係具有由下述通式（T1）表示之結構之化合物為較佳。通式（T1） [化學式35]

（式（T1）中，n表示2～4的整數，L表示2～4價連結基。）

上述通式（T1）中，連結基L係碳數2～12的脂肪族基為較佳，n為2，L係碳數2～12的伸烷基為特佳。作為多官能硫醇化合物的具體例，可舉出由下述結構式（T2）～結構式（T4）表示之化合物，由式（T2）表示之化合物為特佳。多官能硫醇化合物可組合使用一種或複數種。

[化學式36]

（胺）作為交聯助劑之胺，多價胺為較佳，二胺為更佳。例如，可舉出六亞甲基二胺、三亞乙基四胺、聚乙烯亞胺等。

（醇）作為交聯助劑之醇係多元醇為較佳，二醇為更佳。例如，可舉出聚醚二醇化合物、聚酯二醇化合物、聚碳酸酯二醇化合物等。醇的具體例例如可參閱日本特開2013-253224號公報的0128～0163段、0172段的記載，並將該內容編入本說明書中。

（羧酸）作為交聯助劑之羧酸，可舉出3,3’,4,4’-聯苯四羧酸（無水物）、馬來酸、鄰苯二甲酸、偏苯三酸等。

＜＜交聯觸媒＞＞本發明的組成物可進一步含有交聯觸媒。尤其，作為交聯性化合物而含有具有烷氧基甲矽烷基或氯代甲矽烷基之化合物之情況下，藉由含有交聯觸媒，溶膠-凝膠反應得到促進，從而可得到堅固的硬化膜。作為交聯觸媒，可舉出酸觸媒、鹼觸媒等。作為酸觸媒，可舉出鹽酸、硝酸、硫酸、亞硫酸、硫化氫、高氯酸、過氧化氫、碳酸、甲酸或乙酸等羧酸、以其他原子或取代基取代RCOOH所表示之結構式R之取代羧酸、苯磺酸等磺酸、磷酸等。進而，還可使用氯化鋁、乙醯丙酮鋁、氯化鋅、氯化錫、三氟化硼二乙醚錯合物、三甲基碘矽烷等路易斯酸。又，作為鹼觸媒，可舉出氨水等氨性鹼化合物、乙胺或苯胺等有機胺等。又，交聯觸媒還可使用日本特開2013-201007號公報的0070～0076段中所記載之觸媒。交聯觸媒的含量相對於交聯性化合物的100質量份係0.1～100質量份為較佳，0.1～50質量份為更佳，0.1～20質量份為進一步較佳。組成物可以僅包含一種交聯觸媒，亦可以包含兩種以上。包含兩種以上之情況下，其合計量為上述範圍為較佳。

＜＜溶劑＞＞本發明的組成物可含有溶劑。作為溶劑，可舉出水、有機溶劑。關於溶劑，若滿足各成分的溶解性或組成物的塗佈性，則基本上並無特別限制，考慮組成物的塗佈性、安全性而進行選擇為較佳。

作為有機溶劑的例子，例如可舉出以下溶劑。作為酯類，例如可較佳地舉出乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸環己酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯（例如，氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯（例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等））、3-氧基丙酸烷基酯類（例如，3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等（例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等））、2-氧基丙酸烷基酯類（例如，2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等（例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯））、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯（例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等）、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等，以及作為醚類，例如可較佳地舉出二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、甲基纖溶劑乙酸酯、乙基纖溶劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚乙酸酯、丙二醇單乙醚乙酸酯、丙二醇單丙醚乙酸酯等，以及作為酮類，例如可較佳地舉出甲乙酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮等，以及作為芳香族烴類，例如可較佳地舉出甲苯、二甲苯等。

有機溶劑可以單獨使用一種，亦可以組合使用兩種以上。組合使用兩種以上的有機溶劑之情況下，由選自上述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基纖溶劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯中的兩種以上構成的混合溶液為特佳。

關於溶劑，使用金屬含量較少的溶劑為較佳，溶劑的金屬含量例如10ppb以下為較佳。依需要可以使用ppt級溶劑，該種高純度溶劑例如由TOYO Gosei Co.,Ltd.提供。

作為從溶劑去除金屬等雜質之方法，例如可舉出蒸餾（分子蒸餾或薄膜蒸餾等）或使用濾波器來進行之過濾。作為使用濾波器進行之過濾中的濾波器孔徑，孔徑尺寸10nm以下為較佳，5nm以下為更佳，3nm以下為進一步較佳。作為濾波器的材質，聚四氟乙烯製、聚乙烯製、尼龍製濾波器為較佳。

溶劑可以包含異構體（原子數相同但結構不同之化合物）。又，可以僅包含一種異構體，亦可以包含複數種。

有機溶劑的過氧化物含率係0.8mmol/L以下為較佳，實質上不含有過氧化物為更佳。

溶劑的含量相對於組成物的總量為10～90質量%為較佳，20～80質量%為更佳，25～75質量%為進一步較佳。

＜＜聚合抑制劑＞＞本發明的組成物中，為了在製造或保存組成物時阻止交聯性化合物的不必要的熱聚合，可以含有聚合抑制劑。作為聚合抑制劑，可舉出對苯二酚、對甲氧基苯酚、二-三級丁基-對甲酚、五倍子酚、三級丁基鄰苯二酚、苯醌、4,4’-硫雙（3-甲基-6-三級丁基苯酚）、2,2’-亞甲基雙（4-甲基-6-三級丁基苯酚）、N-亞硝基苯基羥基胺鹽（銨鹽、鈰（III）鹽等）。其中，對甲氧基苯酚為較佳。聚合抑制劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.01～5質量%為較佳。

＜＜界面活性劑＞＞從進一步提高塗佈性之觀點考慮，本發明的組成物可以含有各種界面活性劑。作為界面活性劑，可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。

使上述組成物中含有氟系界面活性劑，藉此作為塗佈液而進行製備時的液體特性（尤其流動性）得到進一步提高，且可進一步改善塗佈厚度的均勻性或省液性。亦即，使用應用了含有氟系界面活性劑之組成物之塗佈液來形成膜之情況下，被塗佈面與塗佈液之間的界面張力下降，對被塗佈面的潤濕性得到改善，且對被塗佈面的塗佈性得到提高。因此，可更為較佳地形成厚度不均較小的厚度均勻的膜。

氟系界面活性劑中的氟含有率係3～40質量%為較佳，5～30質量%為更佳，7～25質量%為特佳。從塗佈膜的厚度的均勻性及省液性方面考慮，氟含有率在該範圍內之氟系界面活性劑較有效，於組成物中的溶解性亦為良好。

作為氟系界面活性劑，具體而言可舉出日本特開2014-41318號公報的0060~0064段（相對應之國際公開WO2014/17669號小冊子的0060~0064段）等中所記載之界面活性劑，並將該內容編入本說明書中。作為氟系界面活性劑的市售品，例如可以舉出Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F475、Megafac F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780、RS-72-K（以上為DIC Corporation製）、Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171（以上為Sumitomo 3M Limited製）、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S-393、Surflon KH-40（以上為ASAHI GLASS CO.,LTD.製）、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002（OMNOVA公司製）等。

氟系界面活性劑還可以使用嵌段聚合物，作為具體例，例如可舉出日本特開2011-89090號公報中所記載之化合物。氟系界面活性劑還可較佳地使用含氟高分子化合物，該含氟高分子化合物包含源自具有氟原子之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元和源自具有2個以上（5個以上為較佳）伸烷氧基（伸乙氧基、伸丙氧基為較佳）之（甲基）丙烯酸酯化合物之重複單元，下述化合物亦作為於本發明中所使用之氟系界面活性劑而例示。 [化學式37]

上述化合物的重量平均分子量係3,000～50,000為較佳，例如，為14,000。

又，作為氟系界面活性劑還可使用於側鏈具有乙烯性不飽和基團之含氟聚合物。作為具體例，可舉出日本特開2010-164965號公報的0050～0090段及0289～0295段中所記載之化合物、例如DIC CORPORATION製的Megafac RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。另外，於側鏈具有乙烯性不飽和基團之含氟聚合物相當於界面活性劑，且係與上述之具有交聯性基團之樹脂及交聯性化合物不同之成分。氟系界面活性劑還可使用日本特開2015-117327號公報的0015～0158段中所記載之化合物。

作為非離子係界面活性劑，具體而言可舉出甘油、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷及該些乙氧基化物及丙氧基化物（例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等）、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨醇脂肪酸酯（BASF公司製的Pluronic L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、Tetronic304、701、704、901、904、150R1）、Solsperse20000（Lubrizol Japan Limited製）等。又，還可使用Wako Pure Chemical Industries, Ltd.製的NCW-101、NCW-1001、NCW-1002。

作為陽離子系界面活性劑，具體而言可舉出酞菁衍生物（產品名：EFKA-745、MORISHITA & CO.,LTD.製）、有機矽氧烷聚合物KP341（Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.製）、（甲基）丙烯酸系（共）聚合物Polyflow No.75、No.90、No.95（KYOEISHA CHEMICAL Co., Ltd.製）、W001（Yusho Co., Ltd.製）等。

作為陰離子系界面活性劑，具體而言，可以舉出W004、W005、W017（Yusho Co., Ltd.製）、Sandetto BL（Sanyo Chemical Industries,Ltd.製）等。

作為矽酮系界面活性劑，例如可以舉出Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400（以上為Dow Corning Toray Co., Ltd.製）、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452（以上為Momentive Performance Materials Inc.製）、KP341、KF6001、KF6002（以上為Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.製）、BYK307、BYK323、BYK330（以上為BYK-Chemie Corporation製）等。

界面活性劑可以僅使用一種，亦可以組合兩種以上。界面活性劑的含量相對於組成物總固體成分係0.001～2.0質量%為較佳，0.005～1.0質量%為更佳。

＜＜紫外線吸收劑＞＞本發明的組成物可以含有紫外線吸收劑。紫外線吸收劑係共軛二烯系化合物為較佳，由下述通式（1）表示之化合物為更佳。 [化學式38]

R¹ 及R² 各自獨立地表示氫原子、碳數1～20的烷基或碳數6～20的芳基，R¹ 與R² 可以彼此相同亦可以不同，但不會同時表示氫原子。 R³ 及R⁴ 表示拉電子基團。於此，拉電子基團係哈米特取代基常數σp值（以下，簡稱為“σp值”。）為0.20以上且1.0以下的基團。較佳為σp值係0.30以上且0.8以下的基團。作為R³ 、R⁴ ，醯基、胺基甲醯基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、胺磺醯基為較佳，醯基、胺基甲醯基、烷氧基羰基、芳氧羰基、氰基、烷基磺醯基、芳基磺醯基、磺醯氧基、胺磺醯基為特佳。關於上述通式（1），可參閱日本特開2010-049029號公報的0148～0158段的記載，並將該內容編入本說明書中。

作為上由述通式（1）表示之化合物的具體例，可舉出以下化合物。又，可舉出日本特開2010-049029號公報的0160～0162段中所記載之化合物，並將該內容編入本說明書中。 [化學式39]

作為紫外線吸收劑的市售品，例如可舉出UV503（DAITO CHEMICAL CO.,LTD.）等。紫外線吸收劑的含量相對於本發明的組成物的總固體成分係0.01～10質量%為較佳，0.01～5質量%為更佳。

＜＜其他成分＞＞近紅外線吸收組成物可以依需要而含有分散劑、增感劑、硬化促進劑、填料、熱硬化促進劑、熱聚合抑制劑、增塑劑、黏附促進劑及其他助劑類（例如，導電性粒子、填充劑、消泡劑、阻燃劑、調平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、表面張力調節劑、鏈轉移劑等）。藉由適當地含有該些成分，可調整作為目標之紅外線截止濾波器的穩定性、膜物性等性質。關於該些成分，例如可參閱日本特開2012-003225號公報的0183段以後（相對應之美國專利申請公開第2013/0034812號說明書的＜0237＞以後）的記載，日本特開2008-250074號公報的0101～0104、0107～0109段等的記載，並將該些內容編入本說明書中。又，作為抗氧化劑，可舉出苯酚化合物、亞磷酸酯化合物、硫醚化合物等。分子量500以上的苯酚化合物、分子量500以上的亞磷酸酯化合物或分子量500以上的硫醚化合物為更佳。該些可以混合使用兩種以上。作為苯酚化合物，可使用作為苯酚系抗氧化劑而周知之任意苯酚化合物。作為較佳的苯酚化合物，可舉出受阻酚化合物。尤其，於與苯酚性羥基相鄰之部位（鄰位）具有取代基之化合物為較佳。作為前述取代基，碳數1～22的取代或未取代的烷基為較佳，甲基、乙基、丙醯基、異丙醯基、丁基、異丁基、三級丁基、戊基、異戊基、三級戊基、己基、辛基、異辛基、2-乙基己基為更佳。又，同一分子內具有苯酚基和亞磷酸酯基之化合物（抗氧化劑）亦為較佳。又，抗氧化劑還可較佳地使用磷系抗氧化劑。作為磷系抗氧化劑，可舉出選自包含三[2-[[2,4,8,10-四(1,1-二甲基乙基)二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷環庚烷-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[（4,6,9,11-四三級丁基二苯并[d,f][1,3,2]二噁磷環庚烷-2-基）氧基]乙基]胺及亞磷酸酯乙基雙（2,4-二-三級丁基-6-甲基苯基）之群組之至少一種化合物。該些可作為市售品而輕易獲得，可舉出ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTAB AO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330（ADEKA CORPORATION）等。抗氧化劑的含量相對於組成物的總固體成分係0.01～20質量%為較佳，0.3～15質量%為更佳。抗氧化劑可以僅為一種，亦可以為兩種以上。兩種以上之情況下，合計量係上述範圍為較佳。

＜組成物的製備方法＞本發明的組成物可藉由混合前述成分來製備。製備組成物時，可以一次性配合各成分，亦可以將各成分溶解、分散於溶劑之後逐一進行配合。又，關於配合時的投入順序和作業條件，並不受特別限制。例如，可以將所有成分同時溶解、分散於溶劑來製備組成物，亦可以依需要，將各成分適當地作為兩個以上的溶液、分散液，使用時（塗佈時）將該些進行混合來製備組成物。

製備組成物時，以去除雜質或減少缺陷等為目的，利用過濾器對各成分進行過濾為較佳。作為過濾器，若係從先前就使用於過濾用途等者，則能夠無特別限定地使用。例如，可以舉出基於聚四氟乙烯（PTFE）等氟樹脂、尼龍（例如尼龍-6、尼龍-6,6）等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯（PP）等聚烯烴樹脂（包含高密度、超高分子量）等之過濾器。該些原材料中，聚丙烯（包含高密度聚丙烯）及尼龍為較佳。過濾器的孔徑係0.01～7.0μm左右為適當，0.01～3.0μm左右為較佳，0.05～0.5μm左右為更佳。藉由設為該範圍內，能夠可靠地去除在後製程中阻礙均勻及平滑的組成物的製備之微細的雜質。又，使用纖維狀濾材亦為較佳，作為濾材例如可舉出聚丙烯纖維、尼龍纖維、玻璃纖維等，具體而言可使用ROKI TECHNO CO.,LTD.製的SBP類型系列（SBP008等）、TPR類型系列（TPR002、TPR005等）、SHPX類型系列（SHPX003等）濾芯。

使用過濾器時，可以組合不同的過濾器。此時，利用第1過濾器之過濾可以僅進行一次，亦可以進行兩次以上。又，亦可以在上述範圍內組合不同孔徑的第1過濾器。此處的孔徑可參閱過濾器製造商的標稱值。作為市售的過濾器，例如可從由NIHON PALL LTD.（DFA4201NXEY等）、Advantec Toyo Kaisha, Ltd.、Japan Entegris Inc.（旧Mykrolis Corporation）或KITZ MICROFILTER CORPORATION等提供之各種過濾器中選擇。第2濾波器可使用以與上述之第1濾波器相同的材料等形成者。例如，利用第1濾波器之過濾可以僅使用分散液來進行，混合其他成分之後，可以進行利用第2濾波器之過濾。

＜膜及近紅外線截止濾波器＞接著，對本發明的膜進行說明。本發明的膜由上述之本發明的組成物組成。本發明的膜的紅外遮蔽性及可見透明性優異，因此可較佳地用作紅外線截止濾波器、紅外線透射濾波器。進而，耐熱性及耐光性亦優異。本發明的膜係可以具有圖案，亦可以係不具有圖案之膜（平坦膜）。另外，將本發明的膜用作紅外線透射濾波器之情況下，紅外線透射濾波器例如可舉出遮蔽可見光，並使波長900nm以上的波長的光透射之濾波器。另外，將本發明的膜用作紅外線透射濾波器之情況下，由包含紅外線透射濾波器、方酸菁化合物及遮蔽可見光之色材（較佳為含有兩種以上的彩色著色劑之色材或至少含有有機系黑色著色劑之色材）之組成物組成之濾波器、或除了包含方酸菁化合物之層之外，還另有遮蔽可見光之色材之層之濾波器為較佳。將本發明的膜用作紅外線透射濾波器之情況下，方酸菁化合物具有將所透射之光（紅外線）的紅外區域限定在更靠長波長側的作用。又，本發明的紅外線截止濾波器由上述之本發明的組成物組成。

本發明的膜的膜厚可依目的而適當調整。膜厚為20μm以下為較佳，10μm以下為更佳，5μm以下為進一步較佳。膜厚的下限為0.1μm以上為較佳，0.2μm以上為更佳，0.3μm以上為進一步較佳。本發明的膜可較佳地用作CCD（電荷耦合元件）或CMOS（互補型金屬氧化膜半導體）等固體攝像元件等的紅外線截止濾波器。又，還可使用於各種圖像顯示裝置。

本發明的膜（紅外線截止濾波器）可以與包含彩色著色劑之濾色器組合來使用。濾色器可藉由使用包含彩色著色劑之著色組成物來製造。作為彩色著色劑，可舉出以本發明的組成物進行說明之彩色著色劑。著色組成物可進一步含有樹脂、具有交聯性基團之化合物、光聚合起始劑、界面活性劑、溶劑、聚合抑制劑、紫外線吸收劑等。關於該些的詳細內容，可舉出以本發明的組成物進行說明之材料，並可使用該些。又，亦可將本發明的膜（紅外線截止濾波器）設為如下濾波器，即含有彩色著色劑，並具備作為紅外線截止濾波器和濾色器之功能。

另外，本發明中，紅外線截止濾波器係指，使可見光區域的波長的光（可見光）透射，且遮蔽紅外區域的波長的光（紅外線）之濾波器。紅外線截止濾波器可以為使可見光區域的所有波長的光透射者，亦可以為使可見光區域的波長的光中的特定波長區域的光透射，且遮蔽特定波長區域的光者。又，本發明中，濾色器係指，使可見光區域的波長的光中的特定波長區域的光透射，且遮蔽特定波長區域的光之濾波器。又，紅外線透射濾波器係指，遮蔽可見區域的波長的光，且使紅外區域的波長的光（紅外線）透射之濾波器。

將本發明的膜用作紅外線透射濾波器之情況下，具有以下（1）的光譜特性為較佳。依該態様，可設為能夠以源自可見光線之雜訊較少之狀態透射紅外線之膜。

（1）膜的厚度方向上的光的透射率的波長400～830nm的範圍內的最大值為20%以下，膜的厚度方向上的光的透射率的波長1000～1300nm的範圍內的最小值為80%以上。具有該種光譜特性之膜可較佳地用作遮蔽波長400～750nm的範圍的光，且透射波長900nm以上的光之紅外線透射濾波器。

膜的光譜特性為使用紫外可見近紅外分光光度計（Hitachi High-Technologies Corporation.製U-4100），於波長300～1300nm的範圍內測定透射率之值。

將本發明的膜用作紅外線截止濾波器或紅外線透射濾波器之情況下，還可組合使用紅外線截止濾波器與紅外線透射濾波器。組合使用紅外線截止濾波器與紅外線透射濾波器，藉此可較佳地使用於檢測特定波長的紅外線之紅外線感測器的用途。組合使用兩個濾波器之情況下，可使用本發明的組成物來形成紅外線截止濾波器及紅外線透射濾波器該兩者，亦可使用本發明的組成物來僅形成任意一個。

又，將本發明的膜用作紅外線截止濾波器之情況下，紅外線截止濾波器與濾色器可以於厚度方向上相鄰，亦可以不相鄰。紅外線截止濾波器與濾色器於厚度方向上不相鄰之情況下，可以於與形成有濾色器之基材不同之基材上形成紅外線截止濾波器，亦可以於紅外線截止濾波器與濾色器之間夾有構成固體攝像元件之其他部件（例如，微透鏡、平坦化層等）。

又，除了本發明的膜之外，紅外線截止濾波器還可以進一步具有介電質多層膜或紫外線吸收層等。紅外線截止濾波器進一步具有介電質多層膜，藉此可輕鬆地得到視角較廣，且紅外線遮蔽性優異之紅外線截止濾波器。又，本發明的紅外線截止濾波器進一步具有紫外線吸收層，藉此可得到紫外線遮蔽性優異之紅外線截止濾波器。作為紫外線吸收層，例如可參閱國際公開WO2015/099060號公報的0040～0070段、0119～0145段中所記載之吸收層，並將該內容編入本說明書中。作為介電質多層膜，可參閱日本特開2014-41318號公報的0255～0259段中所記載之介電質多層膜，並將該內容編入本說明書中。

＜圖案形成方法＞圖案形成方法包括於支撐體上形成由本發明的組成物組成之層之步驟、藉由光刻法或乾式蝕刻法於組成物層上形成圖案之步驟。

製造積層本發明的膜和濾色器而成之積層體之情況下，可以分別進行本發明的膜的圖案形成和濾色器的圖案形成。又，亦可以於本發明的膜與濾色器的積層體上進行圖案形成（亦即，可以同時進行本發明的膜和濾色器的圖案形成）。

分別進行本發明的膜（紅外線截止濾波器）和濾色器的圖案形成之情況係指如下態様。僅對本發明的膜（紅外線截止濾波器）及濾色器中的任意一個進行圖案形成。接著，於已圖案形成之濾波器層上形成另一濾波器層。接著，對未進行圖案形成之濾波器層進行圖案形成。

圖案形成方法可以係基於光微影之圖案形成方法，亦可以係基於乾式蝕刻之圖案形成方法。若為基於光微影之圖案形成方法，則無需進行乾式蝕刻步驟，因此可得到能夠削減步驟數之效果。若為基於乾式蝕刻之圖案形成方法，則本發明的組成物無需具有光微影功能，因此可得到能夠提高紅外線吸收劑等的濃度之效果。

分別進行本發明的膜（紅外線截止濾波器）的圖案形成和濾色器的圖案形成之情況下，各濾波器層的圖案形成方法可以僅藉由光刻法或僅藉由乾式蝕刻法來進行。又，還可以藉由光刻法對一個濾波器層進行圖案形成，且藉由乾式蝕刻法對另一濾波器層進行圖案形成。倂用乾式蝕刻法和光刻法來進行圖案形成之情況下，對第1層的圖案，藉由乾式蝕刻法來進行圖案形成，且對第2層以後的圖案，藉由光刻法來進行圖案形成為較佳。

基於光刻法之圖案形成包含如下步驟為較佳：於支撐體上形成組成物層之步驟；將組成物層曝光成圖案狀之步驟；及對未曝光部進行顯影去除而形成圖案之步驟。可依需要來設置對組成物層進行烘烤之步驟（預烘烤步驟）及對經顯影之圖案進行烘烤之步驟（後烘烤步驟）。又，基於乾式蝕刻法之圖案形成包含如下步驟為較佳：於支撐體上形成組成物層並進行硬化來形成硬化物層之步驟；於硬化物層上形成光阻劑層之步驟；藉由進行曝光及顯影而將光阻劑層圖案化來得到抗蝕劑圖案之步驟；將抗蝕劑圖案作為蝕刻遮罩而對硬化物層進行乾式蝕刻來形成圖案之步驟。

＜＜形成組成物層之步驟＞＞形成組成物層之步驟中，於支撐體上應用組成物形成組成物層。

作為支撐體，例如可使用於基板（例如，矽基板）上設有CCD或CMOS等的固體攝像元件（受光元件）之固體攝像元件用基板。圖案可以形成於固體攝像元件用基板的固體攝像元件形成面側（表面），亦可以形成於固體攝像元件非形成面側（背面）。於支撐體上，可依需要，為了改善與上部層的黏結、防止物質的擴散或基板表面的平坦化而設置底塗層。

作為將組成物應用於支撐體之方法，可舉出狹縫塗佈法、噴墨法、旋轉塗佈法、流延塗佈法、輥塗法、網版印刷法等各種方法。

形成於支撐體上之組成物層可進行乾燥（預烘）。藉由低溫工藝而形成圖案之情況下，可以不進行預烘。進行預烘之情況下，預烘溫度為150℃以下為較佳，120℃以下為更佳，110℃以下為進一步較佳。下限例如可設為50℃以上，還可設為80℃以上。藉由在150℃以下進行預烘，例如於以有機原材料構成圖像感測器的光電轉換膜之情況下，可更有效地維持該些特性。預烘時間為10～300秒鐘為較佳，40～250秒鐘為更佳，80～220秒鐘為進一步較佳。乾燥可藉由加熱板、烤箱來進行。同時對複數個層進行圖案形成之情況下，於上述組成物層上應用用於形成其他層之組成物，從而形成其他組成物層為較佳。

（藉由光刻法形成圖案之情況）＜＜曝光步驟＞＞接著，將組成物層以圖案狀曝光（曝光工序）。例如，對組成物層，使用步進機等的曝光裝置並經由具有規定的遮罩圖案之遮罩而進行曝光，藉此可進行圖案曝光。藉此，可硬化曝光部分。作為曝光時可使用之放射線（光），可較佳地使用g線、i線等紫外線（i線為特佳）。照射量（曝光量）例如為0.03～2.5J/cm² 為較佳，0.05～1.0J/cm² 為更佳，0.08～0.5J/cm² 為最佳。曝光時的氧濃度可適當選擇，除了於大氣壓下進行，例如還可以於氧濃度為19體積%以下的低氧氣氛下（例如，15體積%、5體積%、實質上為無氧）進行曝光，亦可以於氧濃度大於21體積%之高氧濃度氣氛下（例如，22體積%、30體積%、50體積%）進行曝光。又，曝光照度可適當設定，通常可選自1000W/m² ～100000W/m² （例如，5000W/m² 、15000W/m² 、35000W/m² ）的範圍。氧濃度和曝光照度可以組合適當條件，例如，可設為氧濃度10體積%且照度10000W/m² ，氧濃度35體積%且照度20000W/m² 等。

＜＜顯影步驟＞＞接著，顯影去除未曝光部來形成圖案。未曝光部的顯影去除可使用顯影液來進行。藉此，曝光步驟中的未曝光部的組成物層溶出於顯影液，而只殘留光硬化後之部分。作為顯影液，對基底的固體攝像元件或線路等中不會引起損傷之有機鹼顯影液為較佳。顯影液的溫度例如20～30℃為較佳。顯影時間為20～180秒為較佳。又，為了提高殘渣去除性，可以反覆進行將顯影液按每60秒甩去一次，進而重新供給顯影液之步驟。

作為顯影液中所使用之鹼性試劑，例如可舉出氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氫氧化銨、四乙基氫氧化銨、四丙基氫氧化銨、四丁基氫氧化銨、氫氧化苄基三甲銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一碳烯等有機鹼性化合物。可將以該些鹼性試劑的濃度成為0.001～10質量%，較佳為0.01～1質量%的方式，利用純水進行稀釋之後的鹼性水溶液較佳地用作顯影液。又，顯影液還可以使用無機鹼。作為無機鹼，例如，氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等為較佳。又，顯影液還可以使用界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可舉出以上述之組成物進行說明之界面活性劑，非離子界面活性劑為較佳。另外，使用包含該種鹼性水溶液之顯影液之情況下，通常於顯影後以純水清洗（沖洗）為較佳。

顯影後、可在實施乾燥後進行加熱處理（後烘）。後烘為用於使膜完全硬化之顯影後的加熱處理。進行後烘之情況下，後烘溫度例如為100～240℃為較佳。從膜硬化的觀點考慮，200～230℃為更佳。又，作為發光光源而使用有機電致發光（有機EL）元件之情況，或以有機原材料構成圖像感測器的光電轉換膜之情況下，後烘溫度為150℃以下為較佳，120℃以下為更佳，100℃以下為進一步較佳，90℃以下為特佳。下限例如可設為50℃以上。後烘係將可對顯影後的膜，以成為上述條件的方式使用加熱板或對流式烘箱（熱風循環式乾燥機）、高頻加熱機等加熱機構，並以連續式或間歇式進行。又，藉由低溫工藝形成圖案之情況下，可以不進行後烘。

（藉由乾式蝕刻法形成圖案之情況）關於藉由乾式蝕刻法進行之圖案形成，將形成於支撐體上之組成物層硬化來形成硬化物層，接著，可對所得到之硬化物層，以經圖案化之光阻層作為遮罩而使用蝕刻氣體來進行。具體而言，於硬化物層上塗佈正型或負型感放射線性組成物，並對其進行乾燥來形成光阻層為較佳。光阻層的形成中，進一步實施預烘處理為較佳。尤其，作為光阻層的形成工藝，實施曝光後的加熱處理、顯影後的加熱處理（後烘處理）為較佳。關於藉由乾式蝕刻法進行之圖案形成，可參閱日本特開2013-064993號公報的0010～0067段的記載，並將該內容編入本說明書中。

＜固體攝像元件＞本發明的固體攝像元件具有上述之本發明的膜。作為固體攝像元件的構成，具有本發明的膜（紅外線截止濾波器），且作為固體攝像元件而發揮功能，則並無特別限定，例如可舉出如以下構成。

固體攝像元件例如於支撐體上由複數個光電二極體、多晶矽等組成之轉移電極、遮光膜、設備保護膜及本發明的膜構成。光電二極體構成固體攝像元件的受光區域。遮光膜由於光電二極體及轉移電極上僅光電二極體的受光部開口之鎢等組成。設備保護膜由於遮光膜上具有以覆蓋整個遮光膜及光電二極體受光部的方式形成之氮化矽等組成。於設備保護膜上具有本發明的膜。進而固體攝像元件可以具有聚光機構（例如，微透鏡等），聚光機構可以配置於設備保護膜上且本發明的膜（紅外線截止濾波器）下（接近支撐體一側），亦可以配置於本發明的膜上。

＜圖像顯示裝置＞本發明的膜亦可以用於液晶顯示裝置或有機電致發光（有機EL）顯示裝置等圖像顯示裝置。例如，藉由同時使用各著色畫素（例如紅色、綠色、藍色），可以遮蔽顯示裝置的背光（例如白色發光二極體（白色LED））中所含有之紅外光，可以防止外圍設備的誤動作和除了形成各著色顯示畫素以外，亦可以以形成紅外的畫素之目的來使用。

關於顯示裝置的定義或各顯示裝置的詳細內容，例如記載於“電子顯示器件（佐佐木昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co.,Ltd.1990年發行）”、“顯示器件（伊吹順章著、Sangyo Tosho PublishingCo., Ltd.平成元年（1989年）發行）”等。又，關於液晶顯示裝置，例如記載於“下一代液晶顯示技術（內田龍男編集、工業調査會1994年發行）”。本發明可應用之液晶顯示裝置並沒有特別限制，例如，可以應用於上述“下一代液晶顯示技術”中所記載之各種方式的液晶顯示裝置。

圖像顯示裝置可以為具有白色有機EL元件者。作為白色有機EL元件，串聯結構為較佳。關於有機EL元件的串聯結構，記載於日本特開2003-45676號公報、三上明義監修、“有機EL技術開發的最前線-高亮度、高精度、長寿命化、技術秘密集-”，技術資訊協會、326-328頁、2008年等。有機EL元件所發出之白色光的光譜係於藍色區域（430nm-485nm）、綠色區域（530nm-580nm）及黃色區域（580nm-620nm）具有較強的極大發光峰值者為較佳。除了該等發光峰值以外進一步於紅色區域（650nm-700nm）具有極大發光峰值者為更佳。

＜紅外線吸收劑＞以本發明的組成物進行說明之由式（1a）表示之化合物（方酸菁化合物）可較佳地用作紅外線吸收劑。作為由式（1a）表示之化合物的紅外線吸收劑，其較佳範圍與上述方酸菁化合物的較佳範圍相同。

由式（1a）表示之化合物或紅外線吸收劑例如可較佳地使用於遮蔽波長700～1000nm的光的紅外線截止濾波器等。又，還可用作等離子顯示面板或固體攝像元件用等紅外線截止濾波器、熱線遮蔽薄膜等光學濾波器、追加記錄型光盤（CD-R）或閃光熔融定影材料中的光熱轉換材料。又，可用作防偽油墨或隱形條碼油墨中的資訊顯示材料。又，可使用於紅外線透射濾波器的形成。另外，若使將由式（1a）表示之化合物或紅外線吸收劑使用於紅外線透射濾波器，則所透射之光（紅外線）被限定為更長的長波長側的紅外光。 [實施例]

以下舉出實施例來更具體地說明本發明。以下實施例中所示出之材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等只要不脫離本發明的主旨，則可以適當進行変更。因此，本發明的範圍並不限定於以下所示出之具體例。另外，並無特別說明之範圍內，“%”及“份”為質量基準。另外，用作紅外線吸收劑中之化合物的結構係上述之以紅外線吸收劑進行說明之化學結構。

＜重量平均分子量（Mw）的測定＞藉由以下方法，作為基於凝膠滲透色譜法（GPC）測定之聚苯乙烯換算值測定了重量平均分子量（Mw）。柱的種類：TSKgel SuperHZ4000（TOSOH CORPORATION製，4.6mm（內徑）×15cm）顯影溶劑：四氫呋喃柱溫度：40℃流量（樣品注入量）：60μL裝置名：TOSOH CORPORATION製高速GPC（HLC-8220GPC）校準曲線基底樹脂：聚苯乙烯樹脂

＜化合物的合成＞（合成例1）化合物1的合成 [化學式40]

中間體M1的合成：將乙酸鈀（230mg，1.0mmol）、三級丁醇鈉（3.9g，40.4mmol）及三-三級丁基膦（450mg，2.0mmol）添加於甲苯40cm³ ，於60℃下攪拌10分鐘。將其冷卻至室溫之後，添加2,2’-二萘胺（5.5g，20.2mmol）及2-溴-4-己基噻吩（5.0g，20.2mmol）來加熱還流3小時。將反應液冷卻後進行矽藻土過濾來去除無機鹽，並減壓蒸餾甲苯（Tol）。藉由矽膠柱色譜法（顯影溶劑：甲苯/己烷）對殘渣進行提純，並減壓蒸餾溶劑來得到了中間體M1（橙色油脂狀，8.5g，收率97%）。

化合物1的合成：將中間體M1（8.5g，19.5mmol）和方酸（0.92g，8.1mmol）於正丁醇/甲苯（20cc/60cc）中共沸脫水的同時加熱還流12小時。將反應液冷卻後減壓蒸餾溶劑，並於氯仿/甲醇中將殘渣超音波分散。對所析出之固體進行吸濾來得到了目標化合物1（綠色結晶，5.9g，收率78%）。化合物1的鑒定資料： MALDI TOF-MASS（飛行時間型質量分析法）Calc. for [M+H]+：949.4, found： 949.3 NMR（400MHz，CDCl₃ ）：0.91（6H，t）、1.20（8H，m）、1.32（4H，m）、1.55（4H，m）、3.22（4H，t）、6.55（2H，s）、7.44（4H，d）、7.50（8H，m）、7.73（4H，m）、7.80-7.88（12H，m）

（合成例2）化合物2的合成 [化學式41]

中間體M2的合成：中間體M1的合成中，替代2-溴-4-己基噻吩而使用2,5-二溴噻吩并[3,2-b]噻吩，且替代2,2’-二萘胺而使用二（4-辛基苯基）胺，除此以外，以與中間體M1相同的方法合成中間體M2。中間體M3的合成：將中間體M2（1.0g、1.6mmol）、乙酸鈀（18mg、0.082mmol）、4,5-雙（二苯基膦基）-9,9-二甲基呫呸（69mg、0.12mmol、Xantphos）、三乙基矽烷（2.5g、21mmol）添加於甲苯16cm³ 來加熱還流7小時。將反應液冷卻後減壓蒸餾溶劑，並藉由矽膠柱色譜法（顯影溶劑：甲苯/己烷）對殘渣進行提純來得到了中間體M3（黃色油脂狀，0.70g，收率82%）。化合物2的合成：化合物1的合成中，替代中間體M1而使用中間體M3，除此以外，以與化合物1的合成相同的方法合成化合物2。化合物2的鑒定資料： MALDI TOF-MASS Calc. for [M+H]+：1141.6, found： 1141.6

（合成例3）化合物3的合成 [化學式42]

中間體M4的合成：於160℃下，將2-溴甲基噻吩（1.5g，8.6mmol）和亞磷酸三乙酯（1.44g，8.6mmol）加熱兩小時來得到了中間體M4。不對所得到之中間體M4進行提純而直接使用於接下來的反應中。中間體M5的合成：藉由Dyes and Pigments,2015,120,175-183中所記載之方法合成中間體M5。中間體M6：向上述中所得到之中間體M4添加N,N-二甲基甲醯胺（DMF）50cm³ 來於冰浴中冷卻至0℃之後，添加甲醇鈉（1.4g，25.8mmol）來攪拌30分鐘。在此滴加溶解中間體M5（2.5g，8.6mmol）之DMF溶液20cm³ ，滴加結束後去除冰浴來於室溫下攪拌3小時。向反應液注入水來對所析出之固體進行過濾，接著以甲醇進行清洗來得到了中間體M6（淡黃色結晶，2.6g，收率82%）。化合物3的合成：化合物1的合成中，替代中間體M1而使用中間體M6，除此以外，以與化合物1相同的方法合成化合物3。化合物3的鑒定資料： MALDI TOF-MASS Calc. for [M+H]+：818.5, found： 818.4

（合成例4）化合物4的合成 [化學式43]

中間體M7的合成：中間體M2的合成中，替代2-溴-4-己基噻吩而使用2-溴噻吩，除此以外，以與中間體M2相同的方法合成中間體M7。中間體M8的合成：將中間體M7作為原料，並藉由Chem. Eur. J. 2007,13,9637-9646中所記載之方法合成中間體M8。中間體M9的合成：中間體M6的合成中，替代中間體M5而使用中間體M8，除此以外，以與中間體M6相同的方法合成中間體M9。化合物4的合成：化合物1的合成中，替代中間體M1而使用中間體M9，除此以外，以與化合物1相同的方法合成化合物4。化合物4的鑒定資料：MALDI TOF-MASS Calc. for [M+H]+：1245.6, found： 1245.7

（合成例5）化合物5的合成 [化學式44]

中間體M10的合成：將中間體M7作為原料，並藉由J. Photochem. Photobio.A 2014,294,54-61中所記載之方法合成中間體M10。另外，上述合成方案中，NBS係N-溴代琥珀醯亞胺的簡稱。中間體M11的合成：將中間體M10作為原料，並藉由EP2407465 A1中所記載之方法合成中間體M11。化合物5的合成：化合物1的合成中，替代中間體M1而使用中間體M11，除此以外，以與化合物1相同的方法合成化合物5。化合物5的鑒定資料： MALDI TOF-MASS Calc. for [M+H]+：969.4, found： 969.4

（合成例6）化合物6的合成 [化學式45]

中間體M12的合成：中間體M1的合成中，替代2,2’-二萘胺而使用p,p’-二甲苯胺，除此以外，以與中間體M1相同的方法合成中間體M12。化合物6的合成：化合物1的合成中，替代中間體M1而使用中間體M12，除此以外，以與化合物1相同的方法合成化合物6。化合物6的鑒定資料： MALDI TOF-MASS Calc. for [M+H]+：805.4, found：805.3 NMR（400MHz、CDCl₃ ）：0.92（6H,t）、1.18-1.27（12H,m）、1.32（4H,m）、2.36（12H,s）、3.20（4H,t）、6.33（2H,s）、7.18（16H,m）

＜極大吸收波長＞將所得到之各化合物溶解於氯仿中來製備1g/L的濃度的溶液。接著，以極大吸收波長下的吸光度成為0.7～1.2的範圍的方式適當稀釋溶解各化合物之溶液的吸收光譜之後、使用SHIMADZU CORPORATION製UV-1800進行測定，從而測定極大吸收波長（λmax）。將各化合物的極大吸收波長（λmax）示於下述表中。

＜化合物的溶解性＞以如下基準評價相對於25℃下的各溶劑（環己酮、丙二醇單甲醚乙酸酯（PGMEA）、甲苯）之各化合物的溶解性。 A：相對於25℃下的溶劑的化合物的溶解度為2質量%以上。 B：相對於25℃下的溶劑的化合物的溶解度為1質量%以上且小於2質量%。 C：相對於25℃下的溶劑的化合物的溶解度為0.5質量%以上且小於1質量%。 D：相對於25℃下的溶劑的化合物的溶解度小於0.5質量%。 [表2]

關於下述化合物R-1～化合物R-3，以與化合物1～化合物6相同的方式測定極大吸收波長，並評價溶解性。化合物R-1係DE4122563號中所記載之化合物，並藉由所述文獻中所記載之方法來合成。化合物R-2係日本特開2009-15114號公報中所記載之化合物，並藉由所述文獻中所記載之方法來合成。化合物R-3係Chem. Eur. J., 2008 ,14, 11082-11091中所記載之化合物，並藉由所述文獻中所記載之方法來合成。 [化學式46]

化合物1～化合物6的極大吸收波長為700nm以上。而且，相對於各溶劑之溶解性優異。另一方面，化合物R-1、化合物R-2的極大吸收波長小於700nm。又，化合物R-1、化合物R-3的溶解性不夠充分。

＜近紅外線吸收組成物的製備＞混合下述組成來製備近紅外線吸收組成物。＜組成1＞下述表中所示之化合物：2.3份樹脂1：12.9份交聯性化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯（Nippon Kayaku Co.,Ltd製、產品名 KAYARAD DPHA）：12.9份光聚合起始劑：IRGACURE-OXE01〔2-（鄰-苯甲醯肟）-1-[4-（苯硫基）苯基]-1,2-辛二酮〕、BASF公司製：2.5份紫外線吸收劑：UV503（DAITO CHEMICAL CO.,LTD.）：0.5份界面活性劑：下述混合物（Mw=14000）：0.04份 [化學式47]

聚合抑制劑：對甲氧基苯酚：0.006份環己酮：49.6份丙二醇單甲醚乙酸酯：19.3份

＜組成2＞下述表中所示之化合物：2.8份樹脂2：10.5份交聯性化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯（Nippon Kayaku Co.,Ltd製、產品名 KAYARAD DPHA）：2.0份光聚合起始劑：IRGACURE-OXE01〔2-（鄰-苯甲醯肟）-1-[4-（苯硫基）苯基]-1,2-辛二酮〕、BASF公司製：2.2份紫外線吸收劑：UV503（DAITO CHEMICAL CO.,LTD.）：0.5份界面活性劑：MEGAFAC RS-72-K（DIC CORPORATION）2.3份聚合抑制劑：對甲氧基苯酚：0.001份環己酮：74.5份丙二醇單甲醚乙酸酯：5.3份

＜組成3＞下述表中所示之化合物：2.8份樹脂3或樹脂4：14.7份紫外線吸收劑：UV503（DAITO CHEMICAL CO.,LTD.）：0.5份界面活性劑：MEGAFAC RS-72-K（DIC CORPORATION）2.3份環己酮：74.5份丙二醇單甲醚乙酸酯：5.3份

·樹脂1：甲基丙烯酸芐酯（BzMA）與甲基丙烯酸（MAA）的共聚物（組成比（質量比）：（BzMA/MAA）=（80/20）、Mw=15,000） ·樹脂2：甲基丙烯酸烯丙酯（Allyl-MA）與甲基丙烯酸（MAA）的共聚物（組成比（質量比）：（Allyl-MA/MAA）=（80/20）、Mw=15,000） ·樹脂3：聚苯乙烯（Aldrich、Mw=15,000） ·樹脂4：ARTON F4520（JSR CORPORATION）

＜膜的製作＞於玻璃基板（Corning Incorporated製1737）上，以乾燥後的膜厚成為1.0μm的方式使用旋轉塗佈機塗佈各組成物，並使用100℃的加熱板進行120秒鐘的加熱處理（預烘）。關於組成1及組成2，於預烘之後，使用i線步進機曝光裝置FPA-3000i5+（Canon Inc.製），以500mJ/cm² 進行全面曝光。接著使用顯影機（CD-2060、FUJIFILM Electronic Materials Co., Ltd.製）於23℃下進行60秒鐘的攪拌式顯影之後，用純水進行沖洗處理。將沖洗處理後的玻璃基板旋轉乾燥，進而使用200℃的加熱板進行300秒鐘的加熱處理（後烘）來得到硬化膜。關於實施例3及實施例4，使用預烘處理後進行乾燥之膜來直接進行評價。

＜塗佈膜的評價＞用肉眼觀察所得到之膜的狀態。 A：不存在化合物的析出。 B：存在化合物的析出。

＜膜的極大吸收波長（λmax）＞使用分光光度計UV-3100PC（SHIMADZU CORPORATION製）測定所得到之膜的吸收光譜，並測定膜的極大吸收波長（λmax）。

＜紅外線遮蔽性的評價＞使用分光光度計U-4100（Hitachi High-Technologies Corporation.製）來測定各膜的波長700nm下的透射率。以如下基準評價紅外線遮蔽性。將結果示於以下表中。 A：波長700nm的透射率≤5% B：5%＜波長700nm的透射率≤7% C：7%＜波長700nm的透射率≤10% D：10%＜波長700nm的透射率

＜可見透明性的評價＞使用分光光度計U-4100（Hitachi High-Technologies Corporation.製）來測定各膜的波長450～600nm下的透射率。以如下基準評價可見透明性。將結果示於以下表中。 A：95%≤波長450～600nm的透射率的最小值 B：90%≤波長450～600nm的透射率的最小值＜95% C：80%≤波長450～600nm的透射率的最小值＜90% D：波長450～600nm的透射率的最小值＜80%

＜耐熱性的評價＞將所得到之膜於200℃下加熱5分鐘來進行各膜的耐熱測試。利用色度計MCPD-1000（Otsuka Electronics Co.,Ltd.製）測定耐熱測試前後的各膜的色差ΔEab值。基於使用了ΔEab值之下述判定基準評價了耐熱性。另外，較小的ΔEab值表示耐熱性為良好。另外，ΔEab值係依據基於CIE1976（L*,a*,b*）空間表色系之以下色差公式求出之值（THE COLOR SCIENCE ASSOCIATION OF JAPAN編著新編色彩科學小冊子（昭和60年）p.266）。 ΔEab={（ΔL*）² +（Δa*）² +（Δb*）² }^1/2 （判定基準） A：ΔEab值＜3 B：3≤ΔEab值＜5 C：5≤ΔEab值＜10 D：10≤ΔEab值＜20 E：20≤ΔEab值

＜耐光性的評價＞相對於所得到之膜，將1萬勒克斯的光利用Xe燈通過紫外線截止濾波器來照射10小時，從而進行耐光測試。利用色度計MCPD-1000（Otsuka Electronics Co.,Ltd.製）測定耐光測試前後的各膜的色差ΔEab值。基於使用ΔEab值之下述判定基準評價耐光性。另外，較小的ΔEab值表示耐光性為良好。（判定基準） A：ΔEab值＜3 B：3≤ΔEab值＜5 C：5≤ΔEab值＜10 D：10≤ΔEab值＜20 E：20≤ΔEab值

[表3]

藉由上述結果，實施例中，紅外遮蔽性及可見透明性優異。尤其，使用了化合物1～化合物6之實施例1～實施例9中，紅外遮蔽性及可見透明性進一步優異。進而，形成塗佈膜時，無化合物的析出，塗佈膜的性狀為良好。進而，耐熱性及耐光性亦優異。另一方面，比較例1、比較例2中，紅外遮蔽性及可見透明性較差。又，實施例1～實施例10中，藉由進一步配合彩色著色劑，得到了特定的可見光以外的透射性及紅外遮蔽性良好，且耐熱性及耐光性優異之濾波器。又，組合介電質多層膜和由實施例1～實施例10的組成物得到之膜之積層膜亦得到較佳效果。

無

Claims

一種近紅外線吸收性組成物，其含有由下述式(1)表示，且極大吸收波長為700nm以上之方酸菁化合物和樹脂，
式中，Ar¹及Ar²分別獨立地表示具有包含硫屬原子之雜芳環之二價共軛基團，R¹~R⁴分別獨立地表示氫原子、C1~C20的烷基、芳基或雜芳基，R¹可以與R²或Ar¹鍵結而形成環，R³可以與R⁴或Ar²鍵結而形成環，其中，Ar¹係包含硫屬原子之單環的雜芳環之情況下，R¹及R²分別獨立地表示芳基或雜芳基，Ar²係包含硫屬原子之單環的雜芳環之情況下，R³及R⁴分別獨立地表示芳基或雜芳基。
如申請專利範圍第1項所述之近紅外線吸收性組成物，其中前述方酸菁化合物中，包含式(1)的Ar¹及Ar²之平面具有原子數16~54之π共軛平面。
如申請專利範圍第1項所述之近紅外線吸收性組成物，其中前述硫屬原子為硫原子。
如申請專利範圍第1項所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹及Ar²分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環，或包含該些環之二價共軛基團。
如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹及Ar²分別獨立地包含噻吩環或噻唑環，R¹~R⁴分別獨立地表示芳基或雜芳基。
如申請專利範圍第5項所述之近紅外線吸收性組成物，其中R¹~R⁴中的至少一個表示構成環之原子數為8以上的芳基或雜芳基。
如申請專利範圍第5項所述之近紅外線吸收性組成物，其中R¹~R⁴中的至少一個表示萘基。
如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹及Ar²分別獨立地表示具有原子數8以上的π共軛平面之二價共軛基團，R¹~R⁴分別獨立地表示C1~C20的烷基、芳基或雜芳基。
如申請專利範圍第8項所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹及Ar²分別獨立地表示包含選自稠環、噻吩環或噻唑環中的至少一種之二價共軛基團，前述稠環包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種。
如申請專利範圍第8項所述之近紅外線吸收性組成物，其中Ar¹及Ar²分別獨立地表示包含選自噻吩環及噻唑環中的至少一種之稠環。
如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之近紅外線吸收性組成物，其中選自Ar¹、Ar²、R¹、R²、R³及R⁴中的至少一個具有由下述式(W)表示之基團，-S¹-L¹-T¹……(W)式(W)中，S¹表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，L¹表示C1~C20的伸烷基、C2~C20的伸烯基、C2~C20的伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或組合該些而成之基團，R^L1表示氫原子或C1~C20的烷基，R^L2表示C1~C20的伸烷基，T¹表示C1~C20的烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、氧硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基甲矽烷基或三烷氧基矽烷基，S¹係單鍵，L¹係C1~C20的伸烷基，T¹係C1~C20的烷基之情況下，L¹和T¹所包含之碳數的總和係5以上，S¹表示伸芳基或雜伸芳基之情況下，L¹和T¹所包含之碳數的總和係5以上。
如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述之近紅外線吸收性組成物，其中前述方酸菁化合物係由下式(1a)表示之化合物，
式中，Ar¹¹及Ar¹²分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環，R¹¹~R¹⁴分別獨立地表示C1~C20的烷基、芳基或雜芳基，R¹¹可以與R¹²或Ar¹¹鍵結而形成環，R¹³可以與R¹⁴或Ar¹²鍵結而形成環，Ar¹¹係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹及R¹²的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基，Ar¹²係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³及R¹⁴的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。
一種硬化膜，其包含如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述之近紅外線吸收性組成物。
一種紅外線截止濾波器，其包含如申請專利範圍第1項至第12項中任一項所述之近紅外線吸收性組成物。
一種固體攝像元件，其具有如申請專利範圍第14項所述之紅外線截止濾波器。
一種紅外線吸收劑，其由下式(1a)表示，
式中，Ar¹¹及Ar¹²分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環， R¹¹~R¹⁴分別獨立地表示芳基或雜芳基，R¹¹可以與R¹²或Ar¹¹鍵結而形成環，R¹³可以與R¹⁴或Ar¹²鍵結而形成環，Ar¹¹係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹及R¹²中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基，Ar¹²係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³及R¹⁴中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。
一種化合物，其由下式(1a)表示，
式中，Ar¹¹及Ar¹²分別獨立地表示噻吩環、噻唑環或包含該些環的至少一種之稠環，R¹¹~R¹⁴分別獨立地表示芳基或雜芳基，R¹¹可以與R¹²或Ar¹¹鍵結而形成環，R¹³可以與R¹⁴或Ar¹²鍵結而形成環，Ar¹¹係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹¹及R¹²中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基，Ar¹²係噻吩環或噻唑環之情況下，R¹³及R¹⁴中的至少一個表示原子數8以上的芳基或雜芳基。
如申請專利範圍第17項所述之化合物，其中 R¹¹~R¹⁴中的至少一個表示萘基。
如申請專利範圍第17項或第18項所述之化合物，其中選自Ar¹¹、Ar¹²、R¹¹、R¹²、R¹³及R¹⁴中的至少一個具有由下述式(W)表示之基團，-S¹-L¹-T¹……(W)式(W)中，S¹表示單鍵、伸芳基或雜伸芳基，L¹表示C1~C20的伸烷基、C2~C20的伸烯基、C2~C20的伸炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或組合該些而成之基團，R^L1表示氫原子或C1~C20的烷基，R^L2表示C1~C20的伸烷基，T¹表示C1~C20的烷基、氰基、羥基、甲醯基、羧基、胺基、硫醇基、磺基、磷醯基、氧硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、雜芳基、三烷基甲矽烷基或三烷氧基矽烷基，S¹係單鍵，L¹係C1~C20的伸烷基，T¹係C1~C20的烷基之情況下，L¹和T¹所包含之碳數的總和係5以上，S¹表示伸芳基或雜伸芳基之情況下，L¹和T¹所包含之碳數的總和係5以上。