WO2018020861A1 - 組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物 - Google Patents

組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物 Download PDF

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compound
film
composition
mass
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賢 鮫島
佐々木　大輔
季彦 松村
友樹 平井
神保　良弘
恭平 荒山
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富士フイルム株式会社
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    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • B32B27/18—Layered products comprising a layer of synthetic resin characterised by the use of special additives
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B57/00—Other synthetic dyes of known constitution
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • G—PHYSICS
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    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures

Definitions

  • the present invention relates to a composition, a film, an optical filter, a laminate, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor, and a compound.
  • Video cameras, digital still cameras, mobile phones with camera functions, etc. use CCD (Charge Coupled Device) and CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor), which are solid-state imaging devices for color images. These solid-state imaging devices use silicon photodiodes having sensitivity to infrared rays in the light receiving portion. For this reason, visual sensitivity correction may be performed using a near-infrared cut filter.
  • CCD Charge Coupled Device
  • CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
  • Patent Documents 1 and 2 As the near-infrared absorbing compound, a pyrrolopyrrole compound or the like is known (for example, Patent Documents 1 and 2).
  • JP 2009-263614 A International Publication WO2016 / 031810
  • an object of the present invention is to provide a composition capable of producing a film having excellent spectral characteristics. Moreover, it is providing a film
  • the compound represented by the formula (1) described later has absorption in the near infrared region and is excellent in visible transparency. . And it discovered that the film
  • the present invention provides the following.
  • a composition comprising a compound represented by the following formula (1), a resin, and a solvent;
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a fluoroalkyl group, —OCOR 11 , —SOR 12 or —SO 2 R 13 ;
  • R 11 to R 13 each independently represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group;
  • n represents an integer of 1 to 3
  • R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be bonded to each other to form a ring
  • R 7 to R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • X 1 and X 2 each independently represents a hydrogen atom or —BR 21a R 22a
  • R 21a and R 22a each independently represent a substituent
  • R 21a and R 22a may be bonded to each other to form a ring.
  • R 7 to R 10 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, or a cyano group.
  • at least one of R 7 to R 10 represents a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, or a cyano group.
  • R 7 and R 9 each independently represent a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, or a cyano group
  • R 8 and R 10 each represent a hydrogen atom.
  • the compound represented by the formula (1) has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1000 nm, and is a value obtained by dividing the absorbance A 450 at a wavelength of 450 nm by the absorbance A max at the maximum absorption wavelength. 450.
  • ⁇ 6> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, further comprising a chromatic colorant.
  • ⁇ 7> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>, further comprising a colorant that transmits infrared rays and blocks visible light.
  • a film comprising the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>.
  • An optical filter having the film according to ⁇ 9>.
  • the optical filter according to ⁇ 10>, wherein the optical filter is a near-infrared cut filter or an infrared transmission filter.
  • ⁇ 12> The film pixel according to ⁇ 9>, and at least one pixel selected from red, green, blue, magenta, yellow, cyan, black, and colorless. Optical filter.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a fluoroalkyl group, —OCOR 11 , —SOR 12 or —SO 2 R 13 ;
  • R 11 to R 13 each independently represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group;
  • n represents an integer of 1 to 3
  • R 3 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be bonded to each other to form a ring
  • R 7 to R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • X 1 and X 2 each independently represents a hydrogen atom or —BR 21a R 22a
  • R 21a and R 22a each independently represent a substituent
  • R 21a and R 22a may be bonded to each other to form a ring.
  • a composition capable of producing a film having excellent spectral characteristics can be provided.
  • membrane, an optical filter, a laminated body, a solid-state image sensor, an image display apparatus, an infrared sensor, and a compound can be provided.
  • ⁇ is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value.
  • the notation in which neither substitution nor substitution is described includes a group (atomic group) having a substituent together with a group (atomic group) having no substituent.
  • the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams.
  • the light used for exposure include an emission line spectrum of a mercury lamp, actinic rays or radiation such as far ultraviolet rays, extreme ultraviolet rays (EUV light) typified by excimer laser, X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth) acrylate” represents both and / or acrylate and methacrylate
  • (meth) acryl” represents both and / or acrylic and “(meth) acrylic”.
  • Acryloyl represents both and / or acryloyl and methacryloyl.
  • a weight average molecular weight and a number average molecular weight are defined as a polystyrene conversion value in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • the weight average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) are, for example, HLC-8220 (manufactured by Tosoh Corporation), and TSKgel Super AWM-H (manufactured by Tosoh Corporation, 6) as a column.
  • 0.0 mm ID (inner diameter) ⁇ 15.0 cm) and a 10 mmol / L lithium bromide NMP (N-methylpyrrolidinone) solution as an eluent.
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • near-infrared light refers to light (electromagnetic wave) having a maximum absorption wavelength region of 700 to 2500 nm.
  • the total solid content refers to the total mass of components obtained by removing the solvent from all components of the composition.
  • the term “process” is not limited to an independent process, and is included in the term if the intended action of the process is achieved even when it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • composition of the present invention is characterized by containing a compound represented by the following formula (1) (hereinafter also referred to as “compound (1)”), a resin, and a solvent.
  • Compound (1) is excellent in visible light transparency while being excellent in infrared shielding properties.
  • the transmittance in the vicinity of a wavelength of 450 nm is high.
  • the composition of this invention containing a compound (1) can manufacture the film
  • a near-infrared cut filter having excellent visible transparency and excellent infrared shielding properties can be produced.
  • an infrared transmission filter that is excellent in spectral characteristics and selectively transmits specific infrared rays can be produced.
  • the compound (1) In the infrared transmission filter, the compound (1) has a role of limiting the transmitted light (near infrared) to the longer wavelength side. And since compound (1) is excellent in visible transparency and infrared shielding property, it is easy to control the spectrum in the visible region to be shielded and the spectrum in the infrared region to be transmitted within an appropriate range.
  • the reason why the compound (1) is excellent in the infrared shielding property and also in the visible transparency is presumed to be as follows.
  • Compound (1) can reduce the amount of absorption of visible light derived from the pyrrolopyrrole ring by introducing specific substituents described later as substituents R 1 and R 2 on the benzene ring bonded to the pyrrolopyrrole ring.
  • substituents R 1 and R 2 substituents described later as substituents R 1 and R 2 on the benzene ring bonded to the pyrrolopyrrole ring.
  • substituents are excellent in electron withdrawing property, it is assumed that the amount of visible light absorbed from the pyrrolopyrrole ring can be effectively reduced.
  • the pyrrolopyrrole compound into which these substituents are introduced can be easily synthesized, coloring impurities are hardly generated as a by-product, and as a result, improvement in visible transparency can be expected. Furthermore, the purity of the obtained pyrrolopyrrole compound can be increased, and the infrared shielding property is excellent.
  • each component of the composition of the present invention will be described.
  • composition of this invention contains the compound (compound (1)) represented by following formula (1).
  • Compound (1) is also a compound of the present invention. Since the compound (1) has a maximum absorption wavelength in the near infrared region, it is also a near infrared absorbing compound.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a fluoroalkyl group, —OCOR 11 , —SOR 12 or —SO 2 R 13 ;
  • R 11 to R 13 each independently represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group;
  • n represents an integer of 1 to 3
  • R 3 to R 6 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R 3 and R 4 , R 5 and R 6 may be bonded to each other to form a ring
  • R 7 to R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • X 1 and X 2 each independently represents a hydrogen atom or —BR 21a R 22a
  • R 21a and R 22a each independently represent a substituent
  • R 21a and R 22a may be bonded to each other to form a ring.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a fluoroalkyl group, —OCOR 11 , —SOR 12 or —SO 2 R 13 , and R 11 to R Each 13 independently represents a hydrocarbon group or a heteroaryl group.
  • halogen atom in R 1 and R 2 examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the fluoroalkyl group in R 1 and R 2 is preferably a perfluoroalkyl group.
  • the number of carbon atoms in the fluoroalkyl group is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 5.
  • the fluoroalkyl group may be linear, branched or cyclic, and is preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the hydrocarbon group in R 11 to R 13 may be an aliphatic hydrocarbon group or an aromatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group.
  • Specific examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, an alkenyl group, and an aryl group.
  • R 11 to R 13 are preferably each independently a hydrocarbon group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is more preferably 3 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 8 or more, and particularly preferably 10 or more.
  • the upper limit is more preferably 35 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched, particularly preferably branched.
  • the branched alkyl group preferably has 3 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is more preferably 5 or more, still more preferably 8 or more, and still more preferably 10 or more.
  • the upper limit is more preferably 35 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the number of branches of the branched alkyl group is preferably 2 to 10, for example, and more preferably 2 to 8. If the number of branches is in the above range, the solvent solubility is good.
  • the cyclic alkyl group may be a single ring or a condensed ring.
  • the cyclic alkyl group may have a cross-linked structure.
  • Examples of the cyclic alkyl group having a crosslinked structure include an adamantyl group.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 8 or more, and particularly preferably 10 or more.
  • the upper limit is more preferably 35 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched, particularly preferably branched.
  • the branched alkenyl group preferably has 3 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is more preferably 5 or more, still more preferably 8 or more, and still more preferably 10 or more.
  • the upper limit is more preferably 35 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the number of branches of the branched alkenyl group is preferably 2 to 10, and more preferably 2 to 8. If the number of branches is in the above range, the solvent solubility is good.
  • the cyclic alkenyl group may be a single ring or a condensed ring.
  • the cyclic alkenyl group may have a crosslinked structure.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heteroaryl group in R 11 to R 13 is preferably a single ring or a condensed ring, more preferably a single ring or a condensed ring having a condensation number of 2 to 8, and a single ring or a condensed number of 2 to 4
  • the fused ring is more preferable.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, still more preferably 3 to 12, and particularly preferably 3 to 10.
  • the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the hydrocarbon group and heteroaryl group represented by R 11 to R 13 may have a substituent or may be unsubstituted.
  • the substituent include a substituent T described later, a halogen atom, an alkyl group (including a halogenated alkyl group such as a fluoroalkyl group), an alkoxy group, a cyano group, an amino group, an acylamino group, a sulfamoyl group, and a nitro group. Etc. are preferable.
  • the hydrocarbon group and heteroaryl group represented by R 11 to R 13 have two or more substituents, the substituents may be bonded to form a ring.
  • R 11 to R 13 are groups having a long-chain alkyl group (preferably an alkyl group having 7 to 30 carbon atoms), the compound (1) has good solvent solubility, and such a compound can be used as a dye. It can be preferably used.
  • the long-chain alkyl group may be either linear or branched, but is preferably a branched alkyl group.
  • Examples of the group having a long-chain alkyl group (preferably an alkyl group having 7 to 30 carbon atoms) include an alkoxy group having 7 to 30 carbon atoms, a hydrocarbon group having an alkoxy group having 7 to 30 carbon atoms, and 7 to 30 carbon atoms. And a heteroaryl group having an alkoxy group.
  • R 11 to R 13 are a hydrocarbon group having a small carbon number (preferably a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms) or a heteroaryl group, it can be preferably used as a pigment.
  • R 1 and R 2 are each independently preferably a nitro group, a fluoroalkyl group, —OCOR 11 , or —SO 2 R 13, more preferably a nitro group, a fluoroalkyl group, or —OCOR 11.
  • —OCOR 11 is particularly preferred.
  • R 11 is preferably an unsubstituted alkyl group, an alkyl group having a substituent, an unsubstituted aryl group, or an aryl group having a substituent. According to this aspect, visible transparency can be further improved. Furthermore, heat resistance can also be improved.
  • R 11 is an aryl group having a substituent or an unsubstituted aryl group (preferably a phenyl group having a substituent or an unsubstituted phenyl group), the synthesis yield can be increased and the cost can be reduced. it can. Further, when R 11 is an aryl group having two or more substituents, and two or more substituents are bonded to each other to form a ring, more excellent visible transparency can be easily obtained. Examples of the group in the case where the substituents of the aryl group are bonded to form a ring include the following groups. In the following, the wavy line represents a connecting hand, and R represents a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • n represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
  • n is 1, and, R 1 and R 2, it is preferably introduced in the para position relative to the pyrrolo pyrrole ring. According to this aspect, the crystallinity of the compound is improved, and heat resistance and light resistance are improved.
  • R 1 and R 2 when R 1 and R 2 are introduced at the meta position with respect to the pyrrolopyrrole ring, excellent solvent solubility And excellent visible transparency.
  • two R 1 and R 2 may be the same or different.
  • R 1 and R 2 may be introduced at the meta position and the para position with respect to the pyrrolopyrrole ring. In this case, excellent visible transparency is easily obtained.
  • two R 1 and R 2 may be the same or different.
  • R 7 to R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent.
  • substituent T examples include the substituent T described later.
  • R 7 to R 10 each independently preferably represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or a cyano group.
  • the halogen atom and hydrocarbon group are the same as the halogen atom and hydrocarbon group described above for R 11 to R 13 .
  • Preferred embodiments of the formula (1) include the following embodiments (A) and (B).
  • R 7 and R 9 each independently represent a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group or a cyano group (preferably a halogen atom or a hydrocarbon group, more preferably A fluorine atom, a chlorine atom and a linear alkyl group, more preferably a fluorine atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), and R 8 and R 10 preferably represent a hydrogen atom. According to this aspect, the above-described effect is more remarkable.
  • examples of the substituent represented by R 3 to R 6 include the following substituent T.
  • R 3 and R 4 preferably represents an electron withdrawing group, and the other represents a heteroaryl group. Moreover, it is preferable that one of R 5 and R 6 represents an electron withdrawing group and the other represents a heteroaryl group.
  • a substituent having a positive Hammett ⁇ p value acts as an electron-attracting group.
  • a substituent having a Hammett ⁇ p value of 0.2 or more can be exemplified as an electron withdrawing group.
  • the ⁇ p value is preferably 0.25 or more, more preferably 0.3 or more, and particularly preferably 0.35 or more.
  • the upper limit is not particularly limited, but is preferably 0.80 or less.
  • a cyano group, an alkylcarbonyl group, an alkylsulfonyl group and an arylsulfonyl group are preferred, and a cyano group is more preferred.
  • Me represents a methyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the heteroaryl group represented by R 3 to R 6 is preferably a single ring or a condensed ring, more preferably a single ring or a condensed ring having a condensation number of 2 to 8, and a single ring or a condensed number of 2 More preferred are 4 to 4 fused rings.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, still more preferably 3 to 12, and particularly preferably 3 to 10.
  • the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heteroaryl group is preferably a group represented by the following formula (A-1) and a group represented by (A-2).
  • a 1 represents O, S, NR X1 or CR X2 R X3 , R X1 to R X3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent, R a1 and R a2 Each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and R a1 and R a2 may be bonded to each other to form a ring.
  • * represents a bonding position in the formula (1).
  • the substituent represented by R a1 , R a2 and R X1 to R X3 include a substituent T, and an alkyl group, an aryl group and a halogen atom are preferable.
  • the ring formed by combining R a1 and R a2 is preferably an aromatic ring.
  • examples of (A-1) include a group represented by the following (A-1-1) and a group represented by (A-1-2).
  • a 1 represents O, S, NR X1 or CR X2 R X3
  • R X1 to R X3 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • R 101a to R 110a each independently Represents a hydrogen atom or a substituent.
  • * represents a bonding position in the formula (1).
  • Examples of the substituent represented by R 101a to R 110a include the substituent T.
  • Y 1 to Y 4 each independently represent N or CR Y1 , at least two of Y 1 to Y 4 are CR Y1 , and R Y1 represents a hydrogen atom or a substituent And adjacent R Y1 may be bonded to each other to form a ring.
  • * Represents a bonding position in the formula (1).
  • the substituent represented by R Y1 include a substituent T, and an alkyl group, an aryl group, and a halogen atom are preferable.
  • At least two of Y 1 to Y 4 are CR Y1 , and adjacent R Y1 may be bonded to each other to form a ring.
  • the ring formed by bonding adjacent R Y1 is preferably an aromatic ring.
  • examples of (A-2) include the group represented by the following (A-2-1) and the group represented by (A-2-2). It is done.
  • R 201a to R 227a each independently represents a hydrogen atom or a substituent, and * represents a bonding position in the formula (1).
  • Examples of the substituent represented by R 201a to R 227a include the substituent T.
  • heteroaryl group represented by R 3 to R 6 include the following.
  • Bu represents a butyl group.
  • X 1 and X 2 each independently represent a hydrogen atom or —BR 21a R 22a , R 21a and R 22a each independently represent a substituent, and R 21a and R 22a represent They may be bonded to each other to form a ring.
  • substituents include the substituent T described above, preferably a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group or a heteroaryl group, more preferably a halogen atom, an aryl group or a heteroaryl group, and an aryl group. Or a heteroaryl group is still more preferable.
  • R 21a and R 22a may be the same group or different groups.
  • R 21a and R 22a are preferably the same group.
  • X 1 and X 2 may be the same group or different groups.
  • X 1 and X 2 are preferably the same group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is more preferably 3 or more.
  • the upper limit is more preferably 30 or less, and further preferably 25 or less.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, still more preferably 8 or more, and particularly preferably 10 or more.
  • the upper limit is more preferably 35 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic.
  • the alkoxy group preferably has 1 to 40 carbon atoms.
  • the lower limit is more preferably 3 or more.
  • the upper limit is more preferably 30 or less, and further preferably 25 or less.
  • the alkoxy group may be linear, branched or cyclic.
  • the aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom.
  • the heteroaryl group may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heteroaryl group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, still more preferably 3 to 12, and particularly preferably 3 to 5.
  • the heteroaryl group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom.
  • R 21a and R 22a in the group represented by —BR 21a R 22a may be bonded to each other to form a ring.
  • Examples thereof include the structures shown in the following (B-1) to (B-4).
  • R represents a substituent
  • R b1 to R b4 each independently represents a hydrogen atom or a substituent
  • m1 to m3 each independently represents an integer of 0 to 4
  • * represents a formula ( This represents the bonding position in 1).
  • substituent represented by R and R b1 to R b4 include the substituent T described above, and a halogen atom and an alkyl group are preferable.
  • X 1 and X 2 include the following.
  • Me represents a methyl group and Bu represents a butyl group.
  • the compound (1) include the following compounds.
  • Ph represents a phenyl group
  • Me represents a methyl group
  • Bu represents a butyl group.
  • Compound (1) may be a pigment or a dye.
  • compound (1) is a pigment, an effect of excellent heat resistance and light resistance can be expected.
  • compound (1) is a dye, an effect of excellent visible transparency can be expected.
  • the pigment means a compound that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the pigment preferably has a solubility in 100 g of water at 23 ° C. and a solubility in 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 23 ° C., each preferably 0.1 g or less, and more preferably 0.01 g or less.
  • a dye means the compound which is easy to melt
  • the solubility of the dye in 100 g of water at 23 ° C. or the solubility in 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 23 ° C. is preferably more than 0.1 g, and more preferably more than 1 g.
  • Compound (1) may be used as a pigment or a pigment derivative.
  • the maximum absorption wavelength of the compound (1) is preferably in the wavelength range of 700 to 1000 nm.
  • “having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 700 to 1000 nm” means a wavelength exhibiting the maximum absorbance in the wavelength range of 700 to 1000 nm in the absorption spectrum of the compound (1) in the solution. It means having.
  • the measurement solvent used for measuring the absorption spectrum of compound (1) include chloroform, ethyl acetate, and tetrahydrofuran. When the compound (1) is a compound that dissolves in chloroform, chloroform is used as a measurement solvent.
  • a 450 / A max (hereinafter also referred to as “absorbance ratio (450)”), which is a value obtained by dividing the absorbance A 450 at a wavelength of 450 nm of the compound (1) by the absorbance A max at the maximum absorption wavelength, is 0.015.
  • the following is preferable.
  • the absorbance ratio (450) is 0.015 or less, the infrared shielding property is excellent and the visible transparency is also excellent.
  • An absorbance ratio (450) of 0.015 or less can be achieved by introducing the above-described substituents as R 1 and R 2 in formula (1).
  • the content of the compound (1) is preferably 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less.
  • the composition of the present invention may further contain a near-infrared absorbing compound other than the above-described compound (1) (hereinafter also referred to as “other near-infrared absorbing compound”).
  • other near-infrared absorbing compounds include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, rylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, diimonium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds , Pyromethene compounds, azomethine compounds, anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, copper compounds, and the like.
  • Examples of pyrrolopyrrole compounds include compounds D-100 to D-104 having the following structures. Further, compounds described in paragraphs 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph numbers 0037 to 0052 of JP-A-2011-68731, paragraph numbers 0010 to of international publication WO2015 / 166873 And the like, the contents of which are incorporated herein. Examples of the squarylium compound include compounds described in JP-A-2011-208101, paragraphs 0044 to 0049, the contents of which are incorporated herein. Examples of the cyanine compound include compounds described in paragraph Nos. 0044 to 0045 of JP-A-2009-108267, and compounds described in paragraph Nos.
  • Examples of the diimonium compound include compounds described in JP-T-2008-528706, and the contents thereof are incorporated herein.
  • Examples of the phthalocyanine compound include compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631, paragraph Nos. 0013 to 0029 of JP2013-195480A. And the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the naphthalocyanine compound include compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-77153A, the contents of which are incorporated herein.
  • the cyanine compound phthalocyanine compound, naphthalocyanine compound, diimonium compound and squarylium compound
  • the compounds described in paragraph Nos. 0010 to 0081 of JP-A No. 2010-1111750 may be used. Incorporated.
  • the cyanine compound for example, “functional pigment, Nobu Okawara / Ken Matsuoka / Kojiro Kitao / Kensuke Hirashima, Kodansha Scientific”, the contents of which are incorporated herein.
  • the copper complex include a copper complex described in paragraph Nos.
  • inorganic particles can also be used as other near infrared absorbing compounds.
  • the inorganic particles are preferably metal oxide particles or metal particles in terms of better infrared shielding properties.
  • the metal oxide particles include indium tin oxide (ITO) particles, antimony tin oxide (ATO) particles, zinc oxide (ZnO) particles, Al-doped zinc oxide (Al-doped ZnO) particles, and fluorine-doped tin dioxide (F-doped).
  • ITO indium tin oxide
  • ATO antimony tin oxide
  • ZnO zinc oxide
  • Al-doped zinc oxide Al-doped zinc oxide
  • F-doped fluorine-doped tin dioxide
  • SnO 2 niobium-doped titanium dioxide (Nb-doped TiO 2 ) particles, and the like.
  • the metal particles include silver (Ag) particles, gold (Au) particles, copper (Cu) particles, and nickel (Ni) particles.
  • a tungsten oxide compound can be used as the inorganic fine particles.
  • the tungsten oxide compound is preferably cesium tungsten oxide.
  • paragraph No. 0080 of JP-A-2016-006476 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • the shape of the inorganic particles is not particularly limited, and may be a sheet shape, a wire shape, or a tube shape regardless of spherical or non-spherical.
  • the average particle size of the inorganic particles is preferably 800 nm or less, more preferably 400 nm or less, and even more preferably 200 nm or less.
  • the average particle diameter of the inorganic particles is within such a range, the visible transparency is good.
  • the average particle size is preferably as small as possible.
  • the average particle size of the inorganic particles is usually 1 nm or more.
  • the content of the other near infrared absorbing compound is preferably 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less.
  • the total content of the compound (1) and other near infrared absorbing compounds is preferably 0.01 to 50% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 0.1% by mass or more, and more preferably 0.5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, and more preferably 15% by mass or less.
  • the content of the other near infrared absorbing compound in the total mass of the compound (1) and the other near infrared absorbing compound is preferably 1 to 99% by mass.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
  • the composition of the present invention can contain a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant means a colorant other than the white colorant and the black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant having absorption in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • the pigment is preferably an organic pigment.
  • C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4 49, 49: 1, 49: 2, 52: 1, 52: 2, 53: 1, 57: 1, 60: 1, 63: 1, 66, 67, 81: 1, 81: 2, 81: 3 83, 88, 90, 105, 112, 119, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 155, 166, 168, 169, 170, 171, 172, 175, 176, 177, 178, 179, 184 185, 187, 188, 190, 200, 202, 206, 207, 208, 209, 210, 216, 220, 224, 22
  • the dye is not particularly limited, and a known dye can be used.
  • Chemical structures include pyrazole azo, anilino azo, triaryl methane, anthraquinone, anthrapyridone, benzylidene, oxonol, pyrazolotriazole azo, pyridone azo, cyanine, phenothiazine, pyrrolopyrazole azomethine, Xanthene, phthalocyanine, benzopyran, indigo, and pyromethene dyes can be used. Moreover, you may use the multimer of these dyes. Further, the dyes described in JP-A-2015-028144 and JP-A-2015-34966 can also be used.
  • the content of the chromatic colorant is preferably 0.1 to 70% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1.0% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 60% by mass or less, and more preferably 50% by mass or less.
  • the content of the chromatic colorant is preferably 10 to 1000 parts by mass and more preferably 50 to 800 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound (1).
  • the total amount of the chromatic colorant and the compound (1) is preferably 1 to 80% by mass relative to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, and more preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 70% by mass or less, and more preferably 60% by mass or less. When the composition of this invention contains 2 or more types of chromatic colorants, it is preferable that the total amount is in the said range.
  • the composition of the present invention can also contain a colorant that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as “colorant that blocks visible light”).
  • the color material that blocks visible light is preferably a color material that absorbs light in the wavelength range from purple to red.
  • the color material that blocks visible light is preferably a color material that blocks light in the wavelength region of 450 to 650 nm.
  • the color material that blocks visible light is preferably a color material that transmits light having a wavelength of 900 to 1300 nm.
  • the colorant that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (1) and (2).
  • the organic black colorant as a colorant that blocks visible light absorbs visible light but transmits at least part of infrared rays. Therefore, in the present invention, the organic black colorant as a colorant that blocks visible light does not include a black colorant that absorbs both visible light and infrared rays, such as carbon black and titanium black.
  • Examples of chromatic colorants include those described above.
  • Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, and bisbenzofuranone compounds and perylene compounds are preferable.
  • Examples of the bisbenzofuranone compounds include compounds described in JP-T 2010-534726, JP-2012-515233, JP-2012-515234, and the like, for example, “Irgaphor Black” manufactured by BASF It is available.
  • Examples of perylene compounds include C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • Examples of the azomethine compound include compounds described in JP-A-1-170601, JP-A-2-34664 and the like, and for example, “chromofine black A1103” manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd. can be obtained.
  • the colorant that blocks visible light has, for example, an A / B that is a ratio of the minimum absorbance A in the wavelength range of 450 to 650 nm and the minimum absorbance B in the wavelength range of 900 to 1300 nm. It is preferable that it is 4.5 or more.
  • the above characteristics may be satisfied by one kind of material, or may be satisfied by a combination of a plurality of materials.
  • the organic black colorant may satisfy the above spectral characteristics.
  • the above-described spectral characteristics may be satisfied by a combination of an organic black colorant and a chromatic colorant.
  • Examples of combinations of chromatic colorants in the case of forming black with a combination of two or more chromatic colorants include the following. (1) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (2) An embodiment containing a yellow colorant, a blue colorant and a red colorant. (3) An embodiment containing a yellow colorant, a purple colorant and a red colorant. (4) An embodiment containing a yellow colorant and a purple colorant. (5) An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant and a red colorant. (6) An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant. (7) An embodiment containing a green colorant, a purple colorant and a red colorant. (8) An embodiment containing a green colorant and a red colorant.
  • ratio (mass ratio) of each colorant examples include the following.
  • the content of the colorant that blocks visible light is preferably 30% by mass or less, and 20% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the following is more preferable, and 15% by mass or less is still more preferable.
  • the lower limit may be 0.01% by mass or more, and may be 0.5% by mass or more.
  • the composition of this invention can also be made into the aspect which does not contain the coloring material which shields visible light substantially.
  • substantially free of a colorant that blocks visible light means that the content of the colorant that blocks visible light is preferably 0.005% by mass or less in the total solid content of the composition of the present invention.
  • the content is more preferably 001% by mass or less, and even more preferably no colorant that blocks visible light.
  • Pigment derivative When the composition of the present invention contains a pigment, it can further contain a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds having a structure in which a part of the pigment is substituted with an acidic group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group, and the pigment derivative represented by the formula (B1) is preferable. .
  • P represents a dye structure
  • L represents a single bond or a linking group
  • X represents an acidic group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group
  • m is an integer of 1 or more.
  • N represents an integer of 1 or more.
  • P represents a dye structure, and pyrrolopyrrole dye structure, diketopyrrolopyrrole dye structure, quinacridone dye structure, anthraquinone dye structure, dianthraquinone dye structure, benzoisoindole dye structure, thiazine indigo dye structure Azo dye structure, quinophthalone dye structure, phthalocyanine dye structure, naphthalocyanine dye structure, dioxazine dye structure, perylene dye structure, perinone dye structure, benzimidazolone dye structure, benzothiazole dye structure, benzimidazole dye structure and benzoxazole dye structure At least one selected from the group consisting of pyrrolopyrrole dye structure, diketopyrrolopyrrole dye structure, quinacridone dye structure and benzoimidazolone dye structure is more preferable. Pyrrole dye structure is particularly preferred.
  • L represents a single bond or a linking group.
  • the linking group is preferably a group consisting of 1 to 100 carbon atoms, 0 to 10 nitrogen atoms, 0 to 50 oxygen atoms, 1 to 200 hydrogen atoms, and 0 to 20 sulfur atoms. , May be unsubstituted or may further have a substituent.
  • X represents an acidic group, a basic group, a group having a salt structure, or a phthalimidomethyl group.
  • pigment derivative examples include the following compounds.
  • Ph in the following structural formulas is a phenyl group.
  • the following compound is different from the compound (1) described above.
  • the following compounds do not have the specific substituents described above at sites corresponding to R 1 and R 2 in formula (1).
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment contained in the composition.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, and more preferably 30 parts by mass or less. If content of a pigment derivative is the said range, the dispersibility of a pigment can be improved and aggregation of a pigment can be suppressed efficiently. Only one type of pigment derivative may be used, or two or more types may be used, and in the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention contains a resin.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing a pigment or the like in the composition and the purpose of a binder.
  • a resin mainly used for dispersing pigments is also referred to as a “dispersant”.
  • the resin can be used for purposes other than such use.
  • Resins include (meth) acrylic resin, epoxy resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide resin , Polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin and the like. One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 100 or more, more preferably 200 to 2,000,000 in the case of an epoxy resin.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 100 or more, and more preferably 200 or more. In the case other than the epoxy resin, 2,000 to 2,000,000 is preferable.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3,000 or more, and more preferably 5,000 or more.
  • (Meth) acrylic resin includes a polymer containing a repeating unit derived from (meth) acrylic acid and / or its ester. Specific examples include polymers obtained by polymerizing at least one selected from (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters, (meth) acrylamide and (meth) acrylonitrile.
  • Polyester resins include polyols (eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylol propane), polybasic acids (eg, aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and aromatic rings thereof.
  • polyols eg, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin, trimethylol propane
  • polybasic acids eg, aromatic dicarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, naphthalenedicarboxylic acid, and aromatic rings thereof.
  • epoxy resin examples include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, aliphatic epoxy resin and the like.
  • bisphenol A type epoxy resins jER825, jER827, jER828, jER834, jER1001, jER1002, jER1003, jER1055, jER1007, jER1009, jER1010 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON860, EPICLON1051, EPICLON1051, EPICLON1051, EP DIC Corporation) and the like.
  • Examples of the bisphenol F type epoxy resin include jER806, jER807, jER4004, jER4005, jER4007, jER4010 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON830, EPICLON835 (above, made by DIC Corporation), LCE-21, RE-602S. (Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.
  • Examples of the phenol novolac type epoxy resin include jER152, jER154, jER157S70, jER157S65 (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), EPICLON N-740, EPICLON N-770, EPICLON N-775 (above, manufactured by DIC Corporation), etc. Is mentioned.
  • Cresol novolac type epoxy resins include EPICLON N-660, EPICLON N-665, EPICLON N-670, EPICLON N-673, EPICLON N-680, EPICLON N-690, EPICLON N-695 (above, manufactured by DIC Corporation) ), EOCN-1020 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.
  • ADEKA RESIN EP-4080S, EP-4085S, EP-4088S manufactured by ADEKA
  • Celoxide 2021P Celoxide 2081, Celoxide 2083, Celoxide 2085, EHPE3150, EPOLEAD PB 3600, PB 4700 (above, manufactured by Daicel Corporation), Denacol EX-212L, EX-214L, EX-216L, EX-321L, EX-850L (above, manufactured by Nagase ChemteX Corporation), and the like.
  • Epoxy resins are Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G-0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (NOF) It is also preferable to use an epoxy group-containing polymer).
  • the resin used in the present invention may have an acid group.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphate group, a sulfo group, and a phenolic hydroxyl group. These acid groups may be used alone or in combination of two or more. Resins having acid groups can also be used as alkali-soluble resins. It can also be used as a dispersant.
  • a polymer having a carboxyl group in the side chain is preferable.
  • Specific examples include methacrylic acid copolymers, acrylic acid copolymers, itaconic acid copolymers, crotonic acid copolymers, maleic acid copolymers, partially esterified maleic acid copolymers, and alkali-soluble resins such as novolac resins.
  • alkali-soluble resins such as novolac resins.
  • examples thereof include phenol resins, acidic cellulose derivatives having a carboxyl group in the side chain, and resins obtained by adding an acid anhydride to a polymer having a hydroxyl group.
  • a copolymer of (meth) acrylic acid and another monomer copolymerizable therewith is suitable as the alkali-soluble resin.
  • Examples of other monomers copolymerizable with (meth) acrylic acid include alkyl (meth) acrylates, aryl (meth) acrylates, and vinyl compounds.
  • alkyl (meth) acrylate and aryl (meth) acrylate methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate
  • Examples of vinyl compounds such as hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, tolyl (meth) acrylate, naphthyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, ⁇ -methylstyrene, vinylto
  • N-substituted maleimide monomers described in JP-A-10-300922 such as N-phenylmaleimide and N-cyclohexylmaleimide can also be used.
  • only 1 type may be sufficient as the other monomer copolymerizable with these (meth) acrylic acids, and 2 or more types may be sufficient as it.
  • Resins having an acid group include benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymer, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / 2-hydroxyethyl (meth) acrylate copolymer, benzyl (meth) Multi-component copolymers composed of acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers can be preferably used.
  • the resin having an acid group is a monomer containing a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimers”). It is also preferable to include a polymer obtained by polymerizing the components.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP 2010-168539 A can be referred to.
  • the hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent represented by R 1 and R 2 is not particularly limited, and examples thereof include methyl, ethyl, n- Linear or branched alkyl groups such as propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, tert-butyl, tert-amyl, stearyl, lauryl, 2-ethylhexyl; aryl groups such as phenyl; cyclohexyl, tert-butylcyclohexyl, Alicyclic groups such as dicyclopentadienyl, tricyclodecanyl, isobornyl, adamantyl and 2-methyl-2-adamantyl; alkyl groups substituted with alkoxy groups such as 1-methoxyethyl and 1-ethoxyethyl; benzyl An alkyl group substituted with an aryl group such as;
  • ether dimer for example, paragraph number 0317 of JP2013-29760A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification. Only one type of ether dimer may be used, or two or more types may be used.
  • the resin having an acid group may contain a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms
  • R 3 represents a hydrogen atom or a benzene ring that may contain a benzene ring.
  • n represents an integer of 1 to 15.
  • the alkylene group of R 2 preferably has 2 to 3 carbon atoms.
  • the alkyl group of R 3 has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10, and the alkyl group of R 3 may contain a benzene ring.
  • Examples of the alkyl group containing a benzene ring represented by R 3 include a benzyl group and a 2-phenyl (iso) propyl group.
  • Examples of the resin having an acid group include those described in JP-A-2012-208494, paragraphs 0558 to 0571 (corresponding to US Patent Application Publication No. 2012/0235099, paragraphs 0685 to 0700), JP-A 2012-198408.
  • the description of paragraph numbers 0076 to 0099 of the publication can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • acrylic base FF-426 manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 200 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 150 mgKOH / g or less, and more preferably 120 mgKOH / g or less.
  • the resin may have a curable group.
  • the curable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, an epoxy group, a methylol group, and an alkoxysilyl group.
  • the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the alkoxysilyl group include a monoalkoxysilyl group, a dialkoxysilyl group, and a trialkoxysilyl group.
  • the repeating unit having a curable group include the following formulas (A2-1) to (A2-4).
  • R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 carbon atom.
  • R 1 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • L 51 represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, —O—, —S—, —CO—, —COO—, —OCO—, —SO 2 —, —NR— (R represents a hydrogen atom or an alkyl group) Or a group consisting of a combination thereof, and a group consisting of at least one of an alkylene group, an arylene group and an alkylene group and —O— is preferable.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and still more preferably 1 to 10 carbon atoms.
  • the alkylene group may have a substituent, but is preferably unsubstituted.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic. Further, the cyclic alkylene group may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of carbon atoms of the arylene group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and still more preferably 6 to 10.
  • P 1 represents a curable group.
  • the curable group include a group having an ethylenically unsaturated bond, an epoxy group, a methylol group, and an alkoxysilyl group.
  • the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the alkoxysilyl group include a monoalkoxysilyl group, a dialkoxysilyl group, and a trialkoxysilyl group.
  • Examples of the resin containing a curable group include Dianal NR series (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), Photomer 6173 (COOH-containing polyurethane acrylic oligomer. Diamond Shamrock Co., Ltd.), Biscote R-264, and KS resist 106 (any) Also manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), Cyclomer P series (for example, ACA230AA), Plaxel CF200 series (both manufactured by Daicel Corporation), Ebecryl 3800 (manufactured by Daicel UCB Corporation), Acrycure-RD-F8 (Japan) Catalyst Co., Ltd.). Moreover, the product etc. which were demonstrated with the epoxy resin mentioned above are mentioned.
  • the resin when the composition of the present invention contains a pigment, the resin preferably contains a dispersant.
  • the resin acting as a dispersant is preferably an acid type resin and / or a basic type resin.
  • the acidic resin represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acid type resin is preferably a resin in which the amount of acid groups accounts for 70 mol% or more when the total amount of acid groups and basic groups in the resin is 100 mol%. A resin consisting only of groups is more preferred.
  • the acid group possessed by the acidic resin is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acid type resin is preferably 40 to 105 mgKOH / g, more preferably 50 to 105 mgKOH / g, and still more preferably 60 to 105 mgKOH / g.
  • the basic type resin is a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • the basic type resin is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups in the resin is 100 mol%.
  • the basic group possessed by the basic type resin is preferably an amine.
  • the dispersant examples include polymer dispersants [for example, resins having amine groups (polyamideamine and salts thereof), oligoimine resins, polycarboxylic acids and salts thereof, high molecular weight unsaturated acid esters, modified polyurethanes, modified polyesters, Modified poly (meth) acrylate, (meth) acrylic copolymer, naphthalenesulfonic acid formalin condensate] and the like.
  • the polymer dispersant can be further classified into a linear polymer, a terminal-modified polymer, a graft polymer, and a block polymer from the structure thereof.
  • Examples of the terminal-modified polymer include a polymer having a phosphate group at the terminal end described in JP-A-3-112992 and JP-T-2003-533455, and JP-A-2002-273191. Examples thereof include a polymer having a sulfo group at the terminal and a polymer having a partial skeleton of organic dye or a heterocyclic ring described in JP-A-9-77994. In addition, polymers having two or more pigment surface anchor sites (acid groups, basic groups, organic dye partial skeletons, heterocycles, etc.) introduced at the polymer ends described in JP-A-2007-277514 are also available. It is preferable because of excellent dispersion stability.
  • block polymer examples include block polymers described in JP-A Nos. 2003-49110 and 2009-52010.
  • Examples of the graft polymer include reaction products of poly (lower alkyleneimine) and polyester described in JP-A-54-37082, JP-A-8-507960, JP-A-2009-258668, and the like. Reaction products of polyallylamine and polyester described in JP-A-9-169821 and the like, macromonomers described in JP-A-10-339949, JP-A-2004-37986 and the like, monomers having a nitrogen atom-containing group, Copolymers of the above, graft polymers having partial skeletons and heterocyclic rings of organic dyes described in JP-A-2003-238837, JP-A-2008-9426, JP-A-2008-81732, etc. And a copolymer of a macromonomer and an acid group-containing monomer described in JP-A-106268.
  • a graft copolymer described in paragraphs 0025 to 0094 of JP 2012-255128 A or an oligoimine resin described in paragraphs 0102 to 0174 of JP 2012-255128 A is used. Can be used, the contents of which are incorporated herein.
  • a resin containing a repeating unit represented by the formula (P1) can also be used.
  • R 1 represents hydrogen or a methyl group
  • R 2 represents an alkylene group
  • Z represents a nitrogen-containing heterocyclic structure.
  • the alkylene group represented by R 2 is not particularly limited.
  • methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, hexamethylene group, 2-hydroxypropylene group, methyleneoxy group, ethyleneoxy group, methyleneoxycarbonyl Group, a methylenethio group, etc. are mentioned suitably, A methylene group, a methyleneoxy group, a methyleneoxycarbonyl group, a methylenethio group is more preferable.
  • the nitrogen-containing heterocyclic structure represented by Z is, for example, pyridine ring, pyrazine ring, pyrimidine ring, pyrrole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, indole ring, quinoline ring, acridine ring, phenothiazine ring, phenoxazine ring, acridone
  • Examples include a ring, an anthraquinone ring, a benzimidazole structure, a benztriazole structure, a benzothiazole structure, a cyclic amide structure, a cyclic urea structure, and a cyclic imide structure.
  • repeating unit represented by the formula (P1) include the following.
  • description in paragraph No. 0023 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-009426 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in this specification.
  • the resin is also available as a commercial product, and the product described in paragraph No. 0092 of JP-A No. 2015-200878 can also be used.
  • the resin content is preferably 1 to 80% by mass with respect to the total solid content of the composition of the present invention.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, and more preferably 7% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 50% by mass or less, and more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the dispersant is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, and more preferably 60 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the composition of the present invention preferably contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound is preferably a compound that can be polymerized by the action of radicals. That is, the polymerizable compound is preferably a radical polymerizable compound.
  • the polymerizable compound is preferably a compound having one or more groups having an ethylenically unsaturated bond, more preferably a compound having two or more groups having an ethylenically unsaturated bond, and 3 groups having an ethylenically unsaturated bond. More preferred are compounds having one or more.
  • the upper limit of the number of groups having an ethylenically unsaturated bond is, for example, preferably 15 or less, and more preferably 6 or less.
  • Examples of the group having an ethylenically unsaturated bond include a vinyl group, a styryl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.
  • the polymerizable compound is preferably a 3 to 15 functional (meth) acrylate compound, more preferably a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound.
  • the polymerizable compound may be in the form of either a monomer or a polymer, but is preferably a monomer.
  • the monomer type polymerizable compound preferably has a molecular weight of 100 to 3,000.
  • the upper limit is preferably 2000 or less, and more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is preferably 150 or more, and more preferably 250 or more.
  • a polymeric compound is a compound which does not have molecular weight distribution substantially.
  • “having substantially no molecular weight distribution” means that the dispersity of the compound (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) is preferably 1.0 to 1.5. 0.0 to 1.3 is more preferable.
  • polymerizable compound paragraphs 0033 to 0034 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the polymerizable compound include ethyleneoxy-modified pentaerythritol tetraacrylate (commercially available NK ester ATM-35E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), dipentaerythritol triacrylate (commercially available KAYARAD D-330).
  • Diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth) acrylate commercially available product is M-460; manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., A-TMMT
  • 1,6- Hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • These oligomer types can also be used. Examples thereof include RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the polymerizable compound may have an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, or a phosphoric acid group.
  • examples of the polymerizable compound having an acid group include esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids.
  • a polymerizable compound in which an unreacted hydroxyl group of the aliphatic polyhydroxy compound is reacted with a non-aromatic carboxylic acid anhydride to give an acid group is preferable, and particularly preferably, in this ester, the aliphatic polyhydroxy compound is Pentaerythritol and / or dipentaerythritol.
  • the acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably from 0.1 to 40 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 5 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 30 mgKOH / g or less.
  • the polymerizable compound is a compound having a caprolactone structure.
  • the polymerizable compound having a caprolactone structure is not particularly limited as long as it has a caprolactone structure in the molecule.
  • polymerizable compound having a caprolactone structure As the polymerizable compound having a caprolactone structure, the description in paragraph numbers 0042 to 0045 of JP2013-253224A can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • Compounds having a caprolactone structure include, for example, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, etc. commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as KAYARAD DPCA series.
  • SR-494 which is a tetrafunctional acrylate having four
  • TPA-330 which is a trifunctional acrylate having three isobutyleneoxy chains.
  • Examples of the polymerizable compound include urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, Also suitable are urethane compounds having an ethylene oxide skeleton as described in Japanese Patent Publication Nos. 58-49860, 56-17654, 62-39417, and 62-39418. Further, addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238 are used. Can do.
  • urethane oligomer UAS-10 UAB-140 (manufactured by Sanyo Kokusaku Pulp Co., Ltd.), UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA -306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and the like.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 30% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or less.
  • One type of polymerizable compound may be used alone, or two or more types may be used in combination. When using 2 or more types of polymeric compounds together, it is preferable that a total amount becomes the said range.
  • the composition of the present invention can contain a photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator when the composition of the present invention contains a radically polymerizable compound, it preferably contains a photopolymerization initiator.
  • a photoinitiator There is no restriction
  • a compound having photosensitivity to light in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton and compounds having an oxadiazole skeleton), acylphosphine compounds such as acylphosphine oxide, hexaarylbiimidazoles, oxime derivatives, and the like. Oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ketoxime ethers, aminoacetophenone compounds, hydroxyacetophenones, and the like.
  • the halogenated hydrocarbon compound having a triazine skeleton examples include those described in Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc.
  • Photopolymerization initiators are trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, triaryls from the viewpoint of exposure sensitivity.
  • Compounds selected from the group consisting of imidazole dimers, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds are preferred.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds As the photopolymerization initiator, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and acylphosphine compounds can also be suitably used.
  • ⁇ -aminoketone compounds described in JP-A-10-291969 and acylphosphine compounds described in Japanese Patent No. 4225898 can also be used.
  • ⁇ -hydroxyketone compound IRGACURE-184, DAROCUR-1173, IRGACURE-500, IRGACURE-2959, IRGACURE-127 (above, manufactured by BASF) can be used.
  • ⁇ -aminoketone compound IRGACURE-907, IRGACURE-369, IRGACURE-379, and IRGACURE-379EG (manufactured by BASF) can be used.
  • ⁇ -aminoketone compound compounds described in JP2009-191179A can be used.
  • acylphosphine compound commercially available products such as IRGACURE-819 and DAROCUR-TPO (above, manufactured by BASF) can be used.
  • the photopolymerization initiator is preferably an oxime compound.
  • Specific examples of the oxime compound include compounds described in JP-A No. 2001-233842, compounds described in JP-A No. 2000-80068, compounds described in JP-A No. 2006-342166, and JP-A No. 2016-21012. The description etc. are mentioned in the gazette.
  • Examples of the oxime compound that can be suitably used in the present invention include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyimibutan-2-one, 2- Acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2- ON, and 2-ethoxycarbonyloxyimino-1-phenylpropan-1-one.
  • J.H. C. S. Perkin II (1979, pp. 1653-1660) J. MoI. C.
  • TR-PBG-304 manufactured by Changzhou Powerful Electronic New Materials Co., Ltd.
  • Adeka Arcles NCI-831 manufactured by ADEKA Corporation
  • Adeka Arcles NCI-930 manufactured by ADEKA Corporation
  • Adekaoptomer N -1919 manufactured by ADEKA Corporation, photopolymerization initiator 2 described in JP2012-14052A
  • oxime compounds other than those described above compounds described in JP-T 2009-519904, in which an oxime is linked to the N-position of the carbazole ring, and those described in US Pat. No. 7,626,957 in which a hetero substituent is introduced into the benzophenone moiety
  • the oxime compound a compound represented by the following formula (OX-1) can be preferably used.
  • the oxime compound may be an oxime compound in which the oxime N—O bond is an (E) isomer, or the oxime N—O bond may be a (Z) oxime compound. Z) It may be a mixture with the body.
  • R and B each independently represent a monovalent substituent
  • A represents a divalent organic group
  • Ar represents an aryl group.
  • the description of paragraph numbers 0276 to 0304 in JP 2013-029760 A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in this specification.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466. This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP 2010-262028 A, compounds 24 and 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A 2013-164471. Compound (C-3). This content is incorporated herein.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as a photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A, paragraphs 0008 to 0012 and 0070 to 0079 of JP2014-137466A, Examples include compounds described in paragraph Nos. 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, Adeka Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • oxime compounds that are preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption in a wavelength region of 350 nm to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption in a wavelength region of 360 nm to 480 nm.
  • the oxime compound is preferably a compound having high absorbance at 365 nm and 405 nm.
  • the molar extinction coefficient at 365 nm or 405 nm of the oxime compound is preferably 1,000 to 300,000, more preferably 2,000 to 300,000 from the viewpoint of sensitivity, and 5,000 to 200,000. 000 is particularly preferred.
  • the molar extinction coefficient of the compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with an ultraviolet-visible spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g / L.
  • the photopolymerization initiator preferably contains an oxime compound and an ⁇ -aminoketone compound. By using both in combination, the developability is improved and a pattern having excellent rectangularity can be easily formed.
  • the oxime compound and the ⁇ -aminoketone compound are used in combination, the ⁇ -aminoketone compound is preferably 50 to 600 parts by mass, more preferably 150 to 400 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the oxime compound.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and still more preferably 1 to 20% by mass with respect to the total solid content of the composition. If the content of the photopolymerization initiator is within the above range, better sensitivity and pattern formability can be obtained.
  • the composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more types of photopolymerization initiators are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention preferably contains a compound having an alkoxysilyl group.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group in the alkoxysilyl group is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3, and particularly preferably 1 or 2.
  • the number of alkoxysilyl groups is preferably 2 or more, more preferably 2 to 3 in a molecule.
  • the compound having an alkoxysilyl group include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n- Propyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, octyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane, 1,6-bis (trimethoxysilyl) hexane, trifluoropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyl Trimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxy
  • the content of the compound having an alkoxysilyl group is preferably 0.1 to 40% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, and further preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 30% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or less.
  • One type of compound having an alkoxysilyl group may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more compounds having an alkoxysilyl group are used in combination, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention may further contain a catalyst.
  • a catalyst In particular, when a compound having an alkoxysilyl group is contained, the sol-gel reaction is accelerated by containing a catalyst, and a firm cured film is obtained.
  • the catalyst include an acid catalyst and a base catalyst.
  • Acid catalysts include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, sulfurous acid, hydrogen sulfide, perchloric acid, hydrogen peroxide, carbonic acid, carboxylic acids such as formic acid and acetic acid, and R in the structural formula represented by RCOOH by other atoms or substituents.
  • Substituted substituted carboxylic acid, sulfonic acid such as benzenesulfonic acid, phosphoric acid and the like can be mentioned.
  • Lewis acids such as aluminum chloride, aluminum acetylacetonate, zinc chloride, tin chloride, boron trifluoride diethyl ether complex, iodotrimethylsilane, etc.
  • the base catalyst include ammoniacal basic compounds such as aqueous ammonia and organic amines such as ethylamine and aniline.
  • the catalysts described in paragraph numbers 0070 to 0076 of JP2013-201007A can also be used.
  • the content of the catalyst is preferably 0.1 to 100 parts by weight, more preferably 0.1 to 50 parts by weight, and still more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound having an alkoxysilyl group. Part.
  • the composition of the present invention may contain only one type of catalyst or two or more types of catalysts. When two or more types of catalysts are included, the total amount is preferably within the above range.
  • the composition of the present invention contains a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the applicability of the composition, but is preferably selected in consideration of the applicability and safety of the composition.
  • organic solvents include the following organic solvents.
  • esters include ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, cyclohexyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, methyl lactate, ethyl lactate, alkyloxyalkyl acetate (Eg, methyl alkyloxyacetate, ethyl alkyloxyacetate, butyl alkyloxyacetate (eg, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate)), alkyl 3-alkyloxypropionate Esters (eg, methyl 3-alkyloxypropionate, ethyl 3-alkyloxypropionate,
  • ethers include diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monobutyl ether acetate, propylene glycol Examples thereof include monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, and propylene glycol monopropyl ether acetate.
  • ketones include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, cyclopentanone, 2-heptanone, and 3-heptanone.
  • aromatic hydrocarbons include toluene and xylene. However, aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as a solvent may be better reduced for environmental reasons (for example, 50 ppm by weight per part of organic solvent). (million) or less, or 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • Organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • a mixed solution composed of two or more selected from ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether, and propylene glycol methyl ether acetate is preferable.
  • a solvent having a low metal content it is preferable to use a solvent having a low metal content, and the metal content of the solvent is preferably 10 mass ppb (parts per billion) or less, for example. If necessary, a solvent having a mass ppt (parts per trillation) level may be used, and such a high-purity solvent is provided, for example, by Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Industry Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 nm or less, more preferably 5 nm or less, and still more preferably 3 nm or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms and different structures). Moreover, only 1 type may be included and the isomer may be included multiple types.
  • the organic solvent preferably has a peroxide content of 0.8 mmol / L or less, and more preferably contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 20 to 80% by mass, and still more preferably 25 to 75% by mass with respect to the total amount of the composition.
  • the composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable compound during the production or storage of the composition.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, primary cerium salt, etc.). Of these, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.01 to 5% by mass with respect to the total solid content of the composition.
  • the composition of the present invention may contain various surfactants from the viewpoint of further improving applicability.
  • various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • liquid properties (particularly fluidity) when prepared as a coating liquid are further improved, and uniformity of coating thickness and liquid-saving properties are further improved. be able to.
  • the interfacial tension between the coated surface and the coating liquid decreases, and the wettability to the coated surface is improved.
  • the applicability to the coated surface is improved. For this reason, it is possible to more suitably form a film having a uniform thickness with small thickness unevenness.
  • the fluorine content in the fluorosurfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid-saving properties, and has good solubility in the composition.
  • fluorosurfactant examples include surfactants described in JP-A-2014-41318, paragraph numbers 0060 to 0064 (corresponding to paragraph numbers 0060 to 0064 of international publication 2014/17669), and the like. Examples include surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP2011-132503A, the contents of which are incorporated herein.
  • fluorosurfactants include, for example, Megafac F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, F780 (above DIC Corporation), Florard FC430, FC431, FC171 (above, Sumitomo 3M Limited), Surflon S-382, SC-101, SC-103, SC-104, SC-105, SC-1068, SC-381, SC-383, S-393, KH-40 (above, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PolyFox PF636, PF656, PF6320, PF6520, PF7002 (above, OMNOVA company make) etc. are mentioned.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which the fluorine atom is volatilized by cleavage of the functional group containing the fluorine atom when heated is suitably used.
  • a fluorosurfactant include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Chemical Industry Daily, February 22, 2016) (Nikkei Sangyo Shimbun, February 23, 2016). -21, which can be used.
  • a block polymer can be used. Examples thereof include compounds described in JP2011-89090A.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group or propyleneoxy group) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the following compounds are also exemplified as the fluorosurfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example, 14,000. % Which shows the ratio of a repeating unit in said compound is the mass%.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated group in the side chain can also be used.
  • Specific examples thereof include compounds described in paragraph Nos. 0050 to 0090 and paragraph Nos. 0289 to 0295 of JP2010-164965A, for example, Megafac RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation. RS-72-K and the like.
  • the fluorine-based surfactant compounds described in paragraph numbers 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 can also be used.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF ), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (BASF) Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (manufactured by Wako Pure
  • cationic surfactants examples include organosiloxane polymer KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), (meth) acrylic acid (co) polymer polyflow No. 75, no. 90, no. 95 (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), W001 (manufactured by Yusho Co., Ltd.) and the like.
  • anionic surfactant examples include W004, W005, W017 (manufactured by Yusho Co., Ltd.), Sandet BL (manufactured by Sanyo Chemical Co., Ltd.), and the like.
  • silicone-based surfactants include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torresilicone SH21PA, Torree Silicone SH28PA, Torree Silicone SH29PA, Torree Silicone SH30PA, Torree Silicone SH8400 (above, Toray Dow Corning Co., Ltd.) )), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4442 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP341, KF6001, KF6002 (above, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.) , BYK307, BYK323, BYK330 (above, manufactured by BYK Chemie) and the like.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 2.0 mass%, more preferably 0.005 to 1.0 mass%, based on the total solid content of the composition.
  • the composition of the present invention may contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, or the like can be used.
  • Examples of commercially available conjugated diene compounds include UV-503 (manufactured by Daito Chemical Co., Ltd.).
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably from 0.01 to 10% by mass, more preferably from 0.01 to 5% by mass, based on the total solid content of the composition of the present invention.
  • the composition of the present invention contains, if necessary, a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermal curing accelerator, a thermal polymerization inhibitor, a plasticizer, an adhesion promoter, and other auxiliary agents (for example, conductive particles). , Fillers, antifoaming agents, flame retardants, leveling agents, peeling accelerators, antioxidants, fragrances, surface tension adjusting agents, chain transfer agents, and the like. With respect to these components, descriptions in paragraph numbers 0101 to 0104 and 0107 to 0109 of JP-A-2008-250074 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the antioxidant examples include a phenol compound, a phosphite compound, and a thioether compound.
  • a phenol compound having a molecular weight of 500 or more, a phosphite compound having a molecular weight of 500 or more, or a thioether compound having a molecular weight of 500 or more is more preferable. You may use these in mixture of 2 or more types.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenol-based antioxidant can be used.
  • Preferable phenolic compounds include hindered phenolic compounds. In particular, a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxyl group is preferable.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • Group, t-pentyl group, hexyl group, octyl group, isooctyl group and 2-ethylhexyl group are more preferable.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite group in the same molecule.
  • phosphorus antioxidant can also be used suitably for antioxidant.
  • phosphorus-based antioxidant tris [2-[[2,4,8,10-tetrakis (1,1-dimethylethyl) dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphine-6 -Yl] oxy] ethyl] amine, tris [2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin-2-yl And at least one compound selected from the group consisting of) oxy] ethyl] amine and ethyl bis (2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) phosphite.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, and more preferably 0.3 to 15% by mass, based on the total solid content of the composition. Only one type of antioxidant may be used, or two or more types may be used. In the case of two or more types, the total amount is preferably within the above range.
  • the viscosity (23 ° C.) of the composition of the present invention is preferably in the range of 1 to 3000 mPa ⁇ s, for example, when a film is formed by coating.
  • the lower limit is preferably 3 mPa ⁇ s or more, and more preferably 5 mPa ⁇ s or more.
  • the upper limit is preferably 2000 mPa ⁇ s or less, and more preferably 1000 mPa ⁇ s or less.
  • composition of the present invention can be preferably used for forming a near-infrared cut filter or an infrared transmission filter.
  • the composition of the present invention can be prepared by mixing the aforementioned components.
  • the respective components may be blended together, or may be blended sequentially after each component is dissolved or dispersed in a solvent.
  • the composition may be prepared by dissolving or dispersing all the components in a solvent at the same time. If necessary, two or more solutions or dispersions containing each component appropriately prepared in advance may be used. You may mix these at the time of application
  • the composition of the present invention when it contains particles such as pigments, it preferably includes a process of dispersing the particles.
  • the mechanical force used for dispersing the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like. Specific examples of these processes include a bead mill, a sand mill, a roll mill, a ball mill, a paint shaker, a microfluidizer, a high speed impeller, a sand grinder, a flow jet mixer, high pressure wet atomization, and ultrasonic dispersion.
  • the particles may be refined in the salt milling process.
  • materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling process for example, descriptions in JP-A Nos. 2015-194521 and 2012-046629 can be referred to.
  • any filter can be used without particular limitation as long as it is a filter that has been conventionally used for filtration.
  • fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resin such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight)
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferable.
  • the pore size of the filter is suitably about 0.01 to 7.0 ⁇ m, preferably about 0.01 to 3.0 ⁇ m, and more preferably about 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is in the above range, fine foreign matters can be reliably removed. It is also preferable to use a fiber-shaped filter medium.
  • the fiber-shaped filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, and glass fiber.
  • filter cartridges of SBP type series (such as SBP008), TPR type series (such as TPR002 and TPR005), and SHPX type series (such as SHPX003) manufactured by Loki Techno Co., Ltd. may be mentioned.
  • filters for example, a first filter and a second filter
  • filtration with each filter may be performed only once or may be performed twice or more.
  • the pore diameter here can refer to the nominal value of the filter manufacturer.
  • a commercially available filter for example, select from various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NXEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Integris Co., Ltd. (former Nihon Microlith Co., Ltd.) can do.
  • the second filter a filter formed of the same material as the first filter can be used.
  • filtration with a 1st filter may be performed only with respect to a dispersion liquid, and after mixing other components, it may filter with a 2nd filter.
  • the film of the present invention comprises the above-described composition of the present invention. Since the film
  • the film of the present invention may have a pattern, or may be a film without a pattern (flat film).
  • the film of the present invention may be used by being laminated on a support, or the film of the present invention may be peeled off from a support.
  • examples of the infrared transmission filter include a filter that blocks visible light and transmits light having a wavelength of 900 nm or more.
  • the above-described compound (1) and a colorant that shields visible light preferably a colorant containing two or more chromatic colorants, or Or a filter using a composition containing an organic black colorant
  • a layer of a colorant that blocks visible light in addition to the layer containing the compound (1) It is preferable that When the film of the present invention is used as an infrared transmission filter, the compound (1) has a role of limiting transmitted light (near infrared rays) to a longer wavelength side.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and further preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • a color filter can be manufactured using the coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant include the chromatic colorant described in the composition of the present invention.
  • the coloring composition can further contain a resin, a radical polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a surfactant, a solvent, a polymerization inhibitor, an ultraviolet absorber, and the like. About these details, the material demonstrated by the composition of this invention is mentioned, These can be used. Moreover, it is good also as a filter provided with the function as a near-infrared cut filter and a color filter by making the film
  • membrane of this invention contain a chromatic colorant.
  • the near-infrared cut filter means a filter that transmits light having a wavelength in the visible region (visible light) and shields at least a part of light having a wavelength in the near-infrared region (near-infrared light). .
  • the near-infrared cut filter may transmit all light having a wavelength in the visible region, and transmits light in a specific wavelength region out of light having a wavelength in the visible region, and blocks light in the specific wavelength region. You may do.
  • the color filter means a filter that allows light in a specific wavelength region to pass and blocks light in a specific wavelength region out of light having a wavelength in the visible region.
  • the infrared transmission filter means a filter that blocks light having a wavelength in the visible region and transmits at least part of light having a wavelength in the near infrared region (near infrared).
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as a near infrared cut filter, the film of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 650 to 1000 nm.
  • the average transmittance at a wavelength of 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, further preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more.
  • the transmittance in the entire range of wavelengths from 400 to 550 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and further preferably 90% or more.
  • the preferable range of the infrared shielding property of the near-infrared cut filter varies depending on the application, but the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1000 nm is preferably 20% or less, more preferably 15% or less, 10% or less is more preferable.
  • the film of the present invention When used as an infrared transmission filter, it preferably has the following spectral characteristics (1). According to this aspect, it is possible to form a film that can transmit infrared rays with less visible light-derived noise.
  • the maximum value of the light transmittance in the thickness direction of the film is 20% or less in the wavelength range of 400 to 830 nm, and the minimum value of the light transmittance in the thickness direction of the film is in the range of wavelength of 1000 to 1300 nm. Is 80% or more.
  • a film having such spectral characteristics can be preferably used as an infrared transmission filter that blocks light in the wavelength range of 400 to 750 nm and transmits light having a wavelength of 900 nm or more.
  • the spectral characteristic of the film is a value obtained by measuring the transmittance in the wavelength range of 300 to 1300 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (U-4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the film of the present invention when used as a near-infrared cut filter, in addition to the film of the present invention, it may further have a layer containing copper, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, and the like.
  • the near-infrared cut filter further has a copper-containing layer and / or a dielectric multilayer film, a near-infrared cut filter having a wide viewing angle and excellent infrared shielding properties can be easily obtained.
  • it can be set as the near-infrared cut filter excellent in ultraviolet-shielding property because a near-infrared cut filter has an ultraviolet absorption layer further.
  • the ultraviolet absorbing layer for example, the absorbing layer described in paragraph Nos.
  • the glass base material (copper containing glass base material) comprised with the glass containing copper and the layer (copper complex containing layer) containing a copper complex can also be used.
  • the copper-containing glass substrate include a phosphate glass containing copper and a fluorophosphate glass containing copper.
  • Examples of commercially available copper-containing glass include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (manufactured by Schott Corp.), CD5000 (manufactured by HOYA Co., Ltd.), and the like.
  • a copper complex content layer the layer formed using the composition containing a copper complex is mentioned.
  • the copper complex is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength region of 700 to 1200 nm.
  • the maximum absorption wavelength of the copper complex is more preferably in the wavelength region of 720 to 1200 nm, and still more preferably in the wavelength region of 800 to 1100 nm.
  • a near infrared cut filter and an infrared transmission filter can be used in combination.
  • a combination of a near-infrared cut filter and an infrared transmission filter it can be preferably used for an infrared sensor that detects infrared rays having a specific wavelength.
  • both filters are used in combination, both the near-infrared cut filter and the infrared transmission filter can be formed using the composition of the present invention, and only one of them is formed using the composition of the present invention. You can also.
  • the film of the present invention can be used for various devices such as a solid-state imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device) and a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor), an infrared sensor, and an image display device.
  • a solid-state imaging device such as a CCD (Charge Coupled Device) and a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor), an infrared sensor, and an image display device.
  • the optical filter of the present invention has the above-described film of the present invention.
  • the optical filter of the present invention can be preferably used as at least one selected from a near-infrared cut filter and an infrared transmission filter.
  • An embodiment having a pixel using the film of the present invention and a pixel selected from red, green, blue, magenta, yellow, cyan, black and colorless is also a preferred embodiment of the optical filter of the present invention.
  • the laminate of the present invention has the film of the present invention and a color filter containing a chromatic colorant.
  • the film of the present invention and the color filter may or may not be adjacent in the thickness direction.
  • the film of the present invention may be formed on a substrate different from the substrate on which the color filter is formed.
  • Another member for example, a microlens, a flattening layer, or the like constituting the solid-state imaging device may be interposed between the film and the color filter.
  • the pattern forming method includes a step of forming a composition layer on a support using the composition of the present invention, and a step of forming a pattern on the composition layer by a photolithography method or a dry etching method. It is preferable.
  • the pattern formation of the film of the present invention and the pattern formation of the color filter may be performed separately. Further, pattern formation may be performed on the laminate of the film of the present invention and the color filter (that is, pattern formation of the film of the present invention and the color filter may be performed simultaneously).
  • the case where the pattern formation of the film of the present invention and the color filter is performed separately means the following aspect.
  • a pattern is formed on one of the film and the color filter of the present invention.
  • the other filter layer is formed on the patterned filter layer.
  • pattern formation is performed with respect to the filter layer which has not performed pattern formation.
  • the pattern forming method may be a pattern forming method by a photolithography method or a pattern forming method by a dry etching method.
  • a pattern forming method by the photolithography method an effect that the number of steps can be reduced can be obtained because a dry etching step is unnecessary.
  • the concentration of the compound (1) or the like can be increased.
  • the pattern formation method of each filter layer may be performed only by the photolithography method or only by the dry etching method.
  • one filter layer may be patterned by photolithography, and the other filter layer may be patterned by dry etching.
  • pattern formation is performed using both dry etching and photolithography, pattern formation may be performed by dry etching for the first layer, and pattern formation may be performed by photolithography for the second and subsequent layers. preferable.
  • the pattern formation method by the photolithography method includes a step of forming a composition layer on a support using each composition, a step of exposing the composition layer in a pattern, and a pattern by developing and removing unexposed portions. Forming the step. If necessary, a step of baking the composition layer (pre-bake step) and a step of baking the developed pattern (post-bake step) may be provided.
  • the pattern formation method by the dry etching method includes a step of forming a composition layer on a support using each composition and curing to form a cured product layer, and a photoresist layer on the cured product layer.
  • a step of forming a step of forming, a step of patterning a photoresist layer by exposure and development to obtain a resist pattern, and a step of forming a pattern by dry etching the cured product layer using the resist pattern as an etching mask.
  • Step of Forming Composition Layer In the step of forming the composition layer, the composition layer is formed on the support using each composition.
  • a solid-state image sensor substrate in which a solid-state image sensor (light receiving element) such as a CCD or CMOS is provided on a substrate (for example, a silicon substrate) can be used.
  • the pattern may be formed on the solid-state image sensor formation surface side (front surface) of the solid-state image sensor substrate, or may be formed on the solid-state image sensor non-formation surface side (back surface).
  • an undercoat layer may be provided on the support for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface.
  • a known method can be used as a method for applying the composition to the support.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a spin coating method (spin coating); a casting coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP 2009-145395 A).
  • Methods described in the publication inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing method, etc.
  • the application method in the ink jet is not particularly limited.
  • the composition layer formed on the support may be dried (prebaked).
  • pre-baking may not be performed.
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and even more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit may be 50 ° C. or higher, and may be 80 ° C. or higher.
  • the prebake time is preferably 10 seconds to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, and even more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed with a hot plate, oven, or the like.
  • Exposure process When forming a pattern by photolithography, ⁇ Exposure process >> Next, the composition layer is exposed in a pattern (exposure process).
  • pattern exposure can be performed by exposing the composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using an exposure apparatus such as a stepper. Thereby, an exposed part can be hardened.
  • Radiation (light) that can be used for exposure is preferably ultraviolet rays such as g-line and i-line, and i-line is more preferable.
  • Irradiation dose (exposure dose) for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2, most preferably 0.08 ⁇ 0.5J / cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and can usually be selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15000 W / m 2 , 35000 W / m 2 ). .
  • Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the development removal of the unexposed portion can be performed using a developer.
  • the developer is preferably an alkaline developer that does not damage the underlying solid-state imaging device or circuit.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30 ° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the process of shaking off the developer every 60 seconds and further supplying a new developer may be repeated several times.
  • alkaline agent used in the developer examples include ammonia water, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, Organic alkalinity such as tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene Compounds, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate, sodium metasilicate Inorganic alkaline compounds such as arm and the like.
  • an alkaline aqueous solution obtained by diluting these alkaline agents with pure water is preferably used.
  • concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, and more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • a surfactant may be used for the developer. Examples of the surfactant include the surfactant described in the above-described composition, and a nonionic surfactant is preferable.
  • clean (rinse) with a pure water after image development.
  • Post-baking is a heat treatment after development for complete film curing.
  • the post-baking temperature is preferably 100 to 240 ° C., for example. From the viewpoint of film curing, 200 to 230 ° C. is more preferable.
  • the post-bake temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower. Preferably, it is 100 ° C. or less, and particularly preferably 90 ° C. or less.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher.
  • Post-bake is performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation dryer), or a high-frequency heater so as to satisfy the above conditions for the developed film. Can do. Further, when a pattern is formed by a low temperature process, post baking is not necessary.
  • the pattern formation by the dry etching method is performed by curing the composition layer formed on the support to form a cured product layer, and then using the patterned photoresist layer as a mask for the obtained cured product layer. Etching gas can be used.
  • a pre-bake treatment it is preferable to further perform a pre-bake treatment.
  • pattern formation by the dry etching method the description of paragraph numbers 0010 to 0067 of JP2013-064993A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the solid-state imaging device of the present invention has the above-described film of the present invention.
  • the configuration of the solid-state imaging device of the present invention is not particularly limited as long as it is a configuration having the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device. For example, the following configurations can be mentioned.
  • the device On the support, there are a plurality of photodiodes that constitute the light receiving area of the solid-state imaging device, and transfer electrodes made of polysilicon, etc., and light shielding made of tungsten or the like that opens only the light receiving part of the photodiodes on the photodiodes and transfer electrodes.
  • the device has a device protective film made of silicon nitride or the like formed so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion on the light shielding film, and the film of the present invention is formed on the device protective film. is there.
  • the color filter may have a structure in which a cured film that forms each color pixel is embedded in a space partitioned by a partition, for example, in a lattice shape.
  • the partition in this case preferably has a low refractive index for each color pixel. Examples of the image pickup apparatus having such a structure include apparatuses described in JP 2012-227478 A and JP 2014-179577 A.
  • the film of the present invention can also be used for image display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence (organic EL) display devices.
  • image display devices such as liquid crystal display devices and organic electroluminescence (organic EL) display devices.
  • the film of the present invention is added to each colored pixel for the purpose of blocking infrared light contained in the backlight (for example, white light emitting diode (white LED)) of the image display device, the purpose of preventing malfunction of peripheral devices. And can be used for the purpose of forming infrared pixels.
  • the image display device for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, published by Industrial Research Institute Co., Ltd., 1990)”, “Display Device (written by Junsho Ibuki, published by Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989) ) "Etc.
  • the liquid crystal display device is described, for example, in “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, Industrial Research Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the “next generation liquid crystal display technology”.
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • JP 2003-45676 A supervised by Akiyoshi Mikami, “Frontier of Organic EL Technology Development-High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection”, Technical Information Association, 326-328 pages, 2008, etc.
  • the spectrum of white light emitted from the organic EL element preferably has a strong maximum emission peak in the blue region (430 nm to 485 nm), the green region (530 nm to 580 nm) and the yellow region (580 nm to 620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 nm to 700 nm) are more preferable.
  • the infrared sensor of the present invention has the above-described film of the present invention.
  • the configuration of the infrared sensor of the present invention is not particularly limited as long as it is a configuration having the film of the present invention and functions as an infrared sensor.
  • the infrared sensor has an imaging region including a near-infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 on a solid-state image sensor 110.
  • a color filter 112 is laminated on the near infrared cut filter 111.
  • a micro lens 115 is disposed on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • a planarization layer 116 is formed so as to cover the microlens 115.
  • the near-infrared cut filter 111 transmits light in the visible region (for example, light having a wavelength of 400 to 650 nm), and light in the near infrared region (for example, light having a wavelength of 800 to 1300 nm, preferably light having a wavelength of 900 to 1200 nm, More preferably, it is a filter that shields light having a wavelength of 900 to 1000 nm.
  • the spectral characteristics of the near-infrared cut filter 111 are selected according to the emission wavelength of the infrared light-emitting diode (infrared LED) to be used.
  • the color filter 112 is a color filter in which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible light region are formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for pixel formation can be used.
  • a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.
  • R red
  • G green
  • B blue
  • paragraph numbers 0214 to 0263 in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-043556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED used.
  • the infrared transmission filter 114 preferably has a maximum light transmittance of 30% or less in the wavelength range of 400 to 650 nm in the thickness direction of the film. % Or less, more preferably 10% or less, and particularly preferably 0.1% or less. This transmittance preferably satisfies the above conditions throughout the wavelength range of 400 to 650 nm.
  • the maximum value in the wavelength range of 400 to 650 nm is usually 0.1% or more.
  • the minimum value of the light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 800 nm or more is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. More preferably, it is 90% or more.
  • This transmittance preferably satisfies the above condition in a part of the wavelength range of 800 nm or more, and preferably satisfies the above condition at a wavelength corresponding to the emission wavelength of the infrared LED.
  • the minimum value of light transmittance in the wavelength range of 900 to 1300 nm is usually 99.9% or less.
  • the film thickness of the infrared transmission filter 114 is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 15 ⁇ m or less, further preferably 5 ⁇ m or less, and particularly preferably 1 ⁇ m or less.
  • the lower limit is preferably 0.1 ⁇ m.
  • a method for measuring the spectral characteristics, film thickness, etc. of the infrared transmission filter 114 is shown below.
  • the film thickness was measured using a stylus type surface shape measuring instrument (DEKTAK150 manufactured by ULVAC) for the dried substrate having the film.
  • the spectral characteristic of the film is a value obtained by measuring the transmittance in the wavelength range of 300 to 1300 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer (U-4100, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the infrared transmission filter 114 having the spectral characteristics described above can be formed using a composition containing a colorant that blocks visible light.
  • the details of the coloring material that blocks visible light are the same as those described in the above-described composition of the present invention.
  • the infrared transmission filter 114 has a maximum light transmittance in the thickness direction of the film in the wavelength range of 450 to 650 nm of 20% or less.
  • the transmittance of light having a wavelength of 835 nm is preferably 20% or less
  • the minimum value of the transmittance of light in the thickness direction of the film in the wavelength range of 1000 to 1300 nm is preferably 70% or more.
  • the infrared transmission filter 114 having the spectral characteristics described above can be manufactured using a composition containing a colorant that blocks visible light and a compound that has a maximum absorption in the wavelength range of 750 to 950 nm.
  • the details of the coloring material that blocks visible light are the same as those described in the above-described composition of the present invention.
  • Examples of the compound having the maximum absorption in the wavelength range of 750 to 950 nm include the compound (1) described in the above-described composition of the present invention.
  • it can also form using the composition of this invention containing the coloring material which shields visible light.
  • the compound of this invention is a compound (compound (1)) represented by Formula (1) demonstrated with the composition of this invention, and its suitable range is also the same as the range mentioned above.
  • the compound of the present invention can be preferably used as an infrared absorber. It can also be used as a pigment derivative.
  • the compound of the present invention can be preferably used for forming, for example, a near infrared cut filter that shields light having a wavelength of 700 to 1000 nm.
  • an optical filter such as a heat ray shielding film, a write-once optical disc (CD-R) or a flash melt fixing material. It can also be used as an information display material in security ink or invisible barcode ink.
  • the mixture was cooled to an internal temperature of 25 ° C., and 1000 parts by mass of methanol was added dropwise over 60 minutes while maintaining the internal temperature at 30 ° C. or lower. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes. The precipitated crystals were separated by filtration and washed with 500 parts by mass of methanol. To the obtained crystals, 500 parts by mass of methanol was added, heated under reflux for 30 minutes, allowed to cool to 30 ° C., and the crystals were filtered off. The obtained crystal was blown and dried at 40 ° C. for 12 hours to obtain 56.6 parts by mass of Compound D-14-b.
  • the maximum absorption wavelength ( ⁇ max) of Compound D-14 was 883 nm as measured with chloroform.
  • impurities especially impurity metal ions, metal salts, etc.
  • HCl solution with adjusted concentration
  • the reaction solution was allowed to cool to 30 ° C., 300 mL of ethyl acetate was added, and then 300 mL of 1 mol / L hydrochloric acid water under ice cooling was added dropwise while maintaining the internal temperature at 30 ° C. or lower.
  • the solution after dropping was stirred at 20 to 30 ° C. for 30 minutes, followed by liquid separation operation, discarding the aqueous layer, adding 300 mL of 1 mol / L hydrochloric acid water to the organic layer, and stirring at 20 to 30 ° C. for 30 minutes. .
  • Liquid separation operation was performed, the aqueous layer was discarded, magnesium sulfate was added to the organic layer, and the mixture was stirred at 20 to 30 ° C.
  • compound D-44 was synthesized in the same manner as the synthesis of compound D-14.
  • Nuclear magnetic resonance analysis of compound D-44 ( 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 )): ⁇ 0.57-1.89 (m, 50H), 2.07-2.22 (s, 6H), 3 .54-3.86 (m, 4H), 6.23-6.38 (m, 2H), 6.54-6.79 (m, 4H), 6.87-7.41 (m, 28H) 7.93-8.05 (m, 2H), 8.43-8.54 (m, 2H), 8.58 (s, 2H)
  • Example 1 The compounds shown in the following table were dissolved in the measuring solvents described in the following table (concentration 2.5 ⁇ 10 ⁇ 6 mol / L), and the absorption spectrum was measured (optical path length 10 mm). From the absorption spectrum of each compound, the maximum absorption wavelength, the absorbance A max at the maximum absorption wavelength, and the absorbance A 450 at a wavelength of 450 nm were determined. The maximum absorption wavelength of each compound and exhibit absorbance ratio is a value obtained by dividing the absorbance A 450 absorbance A max (the absorbance A 450 / absorbance A max) in the table below.
  • the compounds of the examples had an absorbance ratio of 0.015 or less, and were excellent in visible transparency.
  • the compound of the comparative example had an absorbance ratio exceeding 0.015, and the visible transparency was inferior to the compound of the example.
  • ⁇ Test Example 2> The components shown in the following table were mixed and stirred at the ratio shown in the following table, and then the mixture was filtered with a nylon filter (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) having a pore size of 0.45 ⁇ m to prepare a composition.
  • a nylon filter manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.
  • Examples 2-46 to 2-50 near-infrared absorbing compounds (D-100 to D-104) other than compound (1) were blended.
  • Compounds D-34 to D-50, D-52, D-55, D-57 to D-61, D-65 to D-83 Compounds having the structure shown in the specific example of compound (1) described above.
  • Compounds D-100 to D-104 Compounds having the following structures.
  • Polymerizable compound a mixture of the following compounds (a mixture in which the molar ratio of the left compound to the right compound is 7: 3)
  • Photopolymerization initiator IRGACURE-OXE01 (manufactured by BASF)
  • Surfactant Megafac RS-72-K (manufactured by DIC Corporation, 30% by mass solution of propylene glycol monomethyl ether acetate)
  • Polymerization inhibitor p-hydroxyphenol Organic solvent: cyclohexanone
  • An infrared transmission filter that selectively transmits predetermined infrared rays can be manufactured by further blending a colorant that blocks visible light into the above composition.
  • Pigment derivative 1 a compound having the following structure.
  • Ph is a phenyl group.
  • the numerical value attached to the main chain represents the mass ratio of repeating units, and the numerical value attached to the side chain represents the number of repeating units.
  • the numerical value attached to the main chain represents the mass ratio of repeating units, and the numerical value attached to the side chain represents the number of repeating units.
  • the numerical value attached to the main chain represents the mass ratio of repeating units, and the numerical value attached to the side chain represents the number of repeating units.
  • An infrared transmission filter that selectively transmits predetermined infrared rays can be manufactured by further blending a colorant that blocks visible light into the above composition.
  • 110 Solid-state imaging device
  • 111 Near-infrared cut filter
  • 112 Color filter
  • 114 Infrared transmission filter
  • 115 Micro lens
  • 116 Flattening layer

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Abstract

分光特性に優れた膜などを製造できる組成物を提供する。また、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物を提供する。組成物は、式（１）で表される化合物と樹脂と溶剤とを含有する。式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立にハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、Ｒ11～Ｒ13はそれぞれ独立に炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、ｎは１～３の整数を表し、Ｒ3～Ｒ10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に水素原子または－ＢＲ21a Ｒ22aを表し、Ｒ21aおよびＲ22aはそれぞれ独立に置換基を表す。膜は上記組成物からなり、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサは、上記膜を有する。積層体は、上記膜とカラーフィルタとを有する。

Description

組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物
　本発明は、組成物、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物に関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このために、近赤外線カットフィルタを使用して視感度補正を行うことがある。
　近赤外線吸収化合物としては、ピロロピロール化合物などが知られている（例えば、特許文献１、２）。
特開２００９－２６３６１４号公報 国際公開ＷＯ２０１６／０３１８１０号公報
　近年、近赤外線カットフィルタなどの近赤外線吸収化合物を含む膜において、可視透明性のさらなる向上が望まれている。このため、近赤外線吸収化合物そのものにおける可視透明性のさらなる向上が望まれる。
　よって、本発明の目的は、分光特性に優れた膜などを製造できる組成物を提供することにある。また、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物を提供することにある。
　かかる状況のもと、本発明者らが鋭意検討を行った結果、後述する式（１）で表される化合物は、近赤外領域に吸収を有し、可視透明性に優れることを見出した。そして、この化合物を用いることで、分光特性に優れた膜などを製造できることを見出し、本発明を完成させるに至った。本発明は以下を提供する。
＜１＞　下記式（１）で表される化合物と、樹脂と、溶剤とを含有する組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、
　Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、
　ｎは１～３の整数を表し、
　Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素原子または－ＢＲ21aＲ22aを表し、
　Ｒ21aおよびＲ22aは、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ21aとＲ22aは互いに結合して環を形成していてもよい。
＜２＞　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表す、＜１＞に記載の組成物。
＜３＞Ｒ7～Ｒ10の少なくとも一つがハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表す、＜１＞に記載の組成物。
＜４＞　Ｒ7およびＲ9は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｒ8およびＲ10は、水素原子を表す、＜１＞に記載の組成物。
＜５＞　式（１）で表される化合物は、波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、波長４５０ｎｍの吸光度Ａ450を、極大吸収波長の吸光度Ａmaxで割った値であるＡ450／Ａmaxが０．０１５以下である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜６＞　更に、有彩色着色剤を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜７＞　更に、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜８＞　更に、ラジカル重合性化合物および光重合開始剤を含む、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の組成物。
＜９＞　＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の組成物からなる膜。
＜１０＞　＜９＞に記載の膜を有する光学フィルタ。
＜１１＞　光学フィルタが、近赤外線カットフィルタまたは赤外線透過フィルタである、＜１０＞に記載の光学フィルタ。
＜１２＞　＜９＞に記載の膜の画素と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる少なくとも１種の画素とを有する、＜１０＞または＜１１＞に記載の光学フィルタ。
＜１３＞　＜９＞に記載の膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタとを有する積層体。
＜１４＞　＜９＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
＜１５＞　＜９＞に記載の膜を有する画像表示装置。
＜１６＞　＜９＞に記載の膜を有する赤外線センサ。
＜１７＞　下記式（１）で表される化合物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、
　Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、
　ｎは１～３の整数を表し、
　Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素原子または－ＢＲ21aＲ22aを表し、
　Ｒ21aおよびＲ22aは、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ21aとＲ22aは互いに結合して環を形成していてもよい。
　本発明によれば、分光特性に優れた膜などを製造できる組成物を提供できる。また、膜、光学フィルタ、積層体、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよび化合物を提供できる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。本明細書において、重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、例えば、ＨＬＣ－８２２０（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＡＷＭ―Ｈ（東ソー（株）製、６．０ｍｍＩＤ（内径）×１５．０ｃｍ）を用い、溶離液として１０ｍｍｏｌ／Ｌ　リチウムブロミドＮＭＰ（Ｎ－メチルピロリジノン）溶液を用いることによって求めることができる。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、近赤外線とは、極大吸収波長領域が波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜組成物＞
　本発明の組成物は、後述する式（１）で表される化合物（以下、「化合物（１）」ともいう。）と、樹脂と、溶剤とを含有することを特徴とする。
　化合物（１）は、赤外遮蔽性に優れつつ、可視透明性にも優れる。特に、波長４５０ｎｍ近傍における透過率が高い。このため、化合物（１）を含む本発明の組成物は、分光特性に優れた膜を製造できる。たとえば、本発明の組成物を用いることで、可視透明性に優れ、赤外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタなどを製造することができる。また、組成物に、さらに、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材を含有させることで、分光特性に優れ、特定の赤外線を選択的に透過する赤外線透過フィルタを製造することもできる。赤外線透過フィルタにおいて、化合物（１）は、透過する光（近赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。そして、化合物（１）は、可視透明性及び赤外遮蔽性に優れるので、遮蔽させる可視領域の分光や、透過させる赤外領域の分光を適切な範囲に制御しやすい。
　化合物（１）が、赤外遮蔽性に優れつつ、可視透明性にも優れる理由としては、次によるものと推測する。化合物（１）は、ピロロピロール環に結合したベンゼン環上の置換基Ｒ1およびＲ2として、後述する特定の置換基を導入したことにより、ピロロピロール環由来の可視光の吸収量を低減でき、その結果、赤外遮蔽性に優れつつ、可視透明性をより向上できたと推測する。これらの置換基は、電子求引性に優れるため、ピロロピロール環由来の可視光の吸収量を効果的に低減できたと推測する。また、これらの置換基が導入されたピロロピロール化合物は、容易に合成できるため、着色不純物が副生しにくく、結果として可視透明性の向上が期待できる。さらには、得られるピロロピロール化合物の純度を高めることができ、赤外遮蔽性にも優れる。
　以下、本発明の組成物の各成分について説明する。
＜＜化合物（１）＞＞
　本発明の組成物は、下記式（１）で表される化合物（化合物（１））を含有する。化合物（１）は本発明の化合物でもある。化合物（１）は、近赤外領域に極大吸収波長を有することから、近赤外線吸収化合物でもある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、
　Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、
　ｎは１～３の整数を表し、
　Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素原子または－ＢＲ21aＲ22aを表し、
　Ｒ21aおよびＲ22aは、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ21aとＲ22aは互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（１）において、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表す。
　Ｒ1およびＲ2におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
　Ｒ1およびＲ2におけるフルオロアルキル基は、パーフルオロアルキル基が好ましい。フルオロアルキル基の炭素原子数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。フルオロアルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
　Ｒ11～Ｒ13における炭化水素基は、脂肪族炭化水素基であってもよく、芳香族炭化水素基であってもよい。また、脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。炭化水素基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基などが挙げられる。
　Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルキル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルキル基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルキル基の分岐数は、例えば、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。また、環状のアルキル基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状のアルキル基は、架橋構造を有していてもよい。架橋構造を有する環状のアルキル基としては、例えばアダマンチル基などが挙げられる。
　アルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、分岐が特に好ましい。分岐のアルケニル基の炭素数は、３～４０が好ましい。下限は、例えば、５以上がより好ましく、８以上が更に好ましく、１０以上が一層好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。分岐のアルケニル基の分岐数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましい。分岐数が上記範囲であれば、溶剤溶解性が良好である。また、環状のアルケニル基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、環状のアルケニル基は、架橋構造を有していてもよい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒ11～Ｒ13におけるヘテロアリール基は、単環、または、縮合環が好ましく、単環、または、縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環、または、縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましく、３～１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。
　Ｒ11～Ｒ13が表す炭化水素基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基（フルオロアルキル基などのハロゲン化アルキル基を含む）、アルコキシ基、シアノ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルファモイル基、ニトロ基などが好ましい。また、Ｒ11～Ｒ13が表す炭化水素基およびヘテロアリール基が２個以上の置換基を有している場合、置換基同士が結合して環を形成していてもよい。
　Ｒ11～Ｒ13が、長鎖アルキル基（好ましくは炭素数７～３０のアルキル基）を有する基である場合、化合物（１）は溶剤溶解性が良好であり、このような化合物は染料として好ましく用いることができる。上記の長鎖アルキル基は、直鎖、分岐のいずれでもよいが、分岐のアルキル基が好ましい。長鎖アルキル基（好ましくは炭素数７～３０のアルキル基）を有する基としては、炭素数７～３０のアルコキシ基、炭素数７～３０のアルコキシ基を有する炭化水素基、炭素数７～３０のアルコキシ基を有するヘテロアリール基などが挙げられる。
　また、Ｒ11～Ｒ13が、炭素数の小さな炭化水素基（好ましくは、炭素数１～６の炭化水素基）、ヘテロアリール基の場合、顔料として好ましく用いることができる。
　式（１）において、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、または－ＳＯ2Ｒ13が好ましく、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11が更に好ましく、－ＯＣＯＲ11が特に好ましい。また、Ｒ11は無置換のアルキル基、置換基を有するアルキル基、無置換のアリール基または置換基を有するアリール基であることが好ましい。この態様によれば、可視透明性をさらに向上できる。さらには、耐熱性を向上させることもできる。特にＲ11が置換基を有するアリール基または無置換のアリール基（好ましくは置換基を有するフェニル基または無置換のフェニル基）の場合、合成収率を高めることができ、コストダウンをはかることができる。また、Ｒ11が２個以上の置換基を有するアリール基であって、２個以上の置換基同士が結合して環を形成している場合、より優れた可視透明性が得られやすい。アリール基の置換基同士が結合して環を形成している場合の基としては、例えば以下の基が挙げられる。以下において、波線は連結手を表し、Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（１）において、ｎは１～３の整数を表し、１または２が好ましく、１がより好ましい。特に、下記式（１ａ）に示されるように、ｎが１で、かつ、Ｒ1およびＲ2が、ピロロピロール環に対してパラ位に導入されていることが好ましい。この態様によれば、化合物の結晶性が上がり、耐熱性、耐光性が向上する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　また、下記式（１ｂ－１）または式（１ｂ－２）に示されるように、Ｒ1およびＲ2が、ピロロピロール環に対してメタ位に導入されている場合においては、優れた溶剤溶解性や、優れた可視透明性が得られやすい。なお、式（１ｂ－２）において、２個のＲ1およびＲ2は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　また、下記式（１ｃ）に示されるように、Ｒ1およびＲ2が、ピロロピロール環に対してメタ位とパラ位に導入されていてもよい。この場合においては、優れた可視透明性が得られやすい。なお、式（１ｃ）において、２個のＲ1およびＲ2は、それぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（１）において、Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
　置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表すことが好ましい。ハロゲン原子および炭化水素基としては、上述したＲ11～Ｒ13で説明したハロゲン原子および炭化水素基と同様である。
　式（１）の好ましい態様としては以下の（Ａ）、（Ｂ）の態様が挙げられる。
（Ａ）：Ｒ7～Ｒ10のすべてが水素原子である態様。
（Ｂ）：Ｒ7～Ｒ10の少なくとも一つが置換基（好ましくはハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基）を表す態様。
　上記の（Ａ）の態様によれば、結晶性に優れ、耐熱性が向上するという効果が期待できる。
　上記の（Ｂ）の態様によれば、ピロロピロール環由来の可視吸収を低減し、さらに可視透明性が向上するという効果が期待できる。上記の（Ｂ）の態様において、Ｒ7およびＲ9は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表し（好ましくは、ハロゲン原子、炭化水素基を表し、より好ましくは、フッ素原子、塩素原子、直鎖アルキル基を表し、さらに好ましくは、フッ素原子、炭素数１～４のアルキル基を表し）、Ｒ8およびＲ10は、水素原子を表すことが好ましい。この態様によれば上述した効果がより顕著である。
　式（１）において、Ｒ3～Ｒ6が表す置換基としては、例えば、以下の置換基Ｔが挙げられる。
　（置換基Ｔ）
アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ヘテロアリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ヘテロアリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、ヘテロアリールスルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、ヘテロアリールスルフィニル基、ウレイド基、リン酸アミド基、メルカプト基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、シリル基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、シアノ基などが挙げられる。
　Ｒ3およびＲ4の一方は電子求引性基を表し、他方はヘテロアリール基を表すことが好ましい。また、Ｒ5およびＲ6の一方は電子求引性基を表し、他方はヘテロアリール基を表すことが好ましい。
　Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値（シグマ値）が正の置換基は、電子求引性基として作用する。本発明においては、Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値が０．２以上の置換基を電子求引性基として例示することができる。σｐ値は、好ましくは０．２５以上であり、より好ましくは０．３以上であり、特に好ましくは０．３５以上である。上限は特に制限はないが、好ましくは０．８０以下である。電子求引性基の具体例としては、シアノ基（σｐ値＝０．６６）、カルボキシル基（－ＣＯＯＨ：σｐ値＝０．４５）、アルコキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＭｅ：σｐ値＝０．４５）、アリールオキシカルボニル基（例えば、－ＣＯＯＰｈ：σｐ値＝０．４４）、カルバモイル基（例えば、－ＣＯＮＨ2：σｐ値＝０．３６）、アルキルカルボニル基（例えば、－ＣＯＭｅ：σｐ値＝０．５０）、アリールカルボニル基（例えば、－ＣＯＰｈ：σｐ値＝０．４３）、アルキルスルホニル基（例えば、－ＳＯ2Ｍｅ：σｐ値＝０．７２）、アリールスルホニル基（例えば、－ＳＯ2Ｐｈ：σｐ値＝０．６８）などが挙げられる。シアノ基、アルキルカルボニル基、アルキルスルホニル基およびアリールスルホニル基が好ましく、シアノ基がより好ましい。ここで、Ｍｅはメチル基を、Ｐｈはフェニル基を表す。Ｈａｍｍｅｔｔのσｐ値については、特開２００９－２６３６１４号公報の段落００２４～００２５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　Ｒ3～Ｒ6が表すヘテロアリール基としては、単環、または、縮合環が好ましく、単環、または、縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環、または、縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましく、３～１０が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。
　ヘテロアリール基は、下記式（Ａ－１）で表される基および（Ａ－２）で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（Ａ－１）において、Ａ1は、Ｏ、Ｓ、ＮＲX1またはＣＲX2ＲX3を表し、ＲX1～ＲX3は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒa1およびＲa2は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒa1とＲa2は、互いに結合して環を形成していてもよい。＊は、式（１）における結合位置を表す。
　Ｒa1、Ｒa2およびＲX1～ＲX3が表す置換基としては、置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基およびハロゲン原子が好ましい。
　Ｒa1とＲa2が結合して形成する環は、芳香族環が好ましい。Ｒa1とＲa2とが環を形成する場合、（Ａ－１）としては、下記の（Ａ－１－１）で表される基、（Ａ－１－２）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式中、Ａ1は、Ｏ、Ｓ、ＮＲX1またはＣＲX2ＲX3を表し、ＲX1～ＲX3は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、Ｒ101a～Ｒ110aは、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。＊は、式（１）における結合位置を表す。Ｒ101a～Ｒ110aが表す置換基としては、置換基Ｔが挙げられる。
　式（Ａ－２）において、Ｙ1～Ｙ4は、それぞれ独立に、ＮまたはＣＲY1を表し、Ｙ1～Ｙ4の少なくとも２つはＣＲY1であり、ＲY1は、水素原子または置換基を表し、隣接するＲY1同士は互いに結合して環を形成していてもよい。＊は、式（１）における結合位置を表す。ＲY1が表す置換基としては、置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基およびハロゲン原子が好ましい。
　Ｙ1～Ｙ4の少なくとも２つはＣＲY1であり、隣接するＲY1同士は互いに結合して環を形成していてもよい。隣接するＲY1同士が結合して形成する環は、芳香族環が好ましい。隣接するＲY1同士が環を形成する場合、（Ａ－２）としては、下記の（Ａ－２－１）で表される基、（Ａ－２－２）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式中、Ｒ201a～Ｒ227aは、各々独立して、水素原子または置換基を表し、＊は、式（１）における結合位置を表す。Ｒ201a～Ｒ227aが表す置換基としては、置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒ3～Ｒ6が表すヘテロアリール基の具体例としては、以下が挙げられる。以下において、Ｂｕはブチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（１）において、Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素原子または－ＢＲ21aＲ22aを表し、Ｒ21aおよびＲ22aは、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ21aとＲ22aは互いに結合して環を形成していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、ハロゲン原子、アリール基またはヘテロアリール基がより好ましく、アリール基またはヘテロアリール基が更に好ましい。Ｒ21aとＲ22aは同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ｒ21aとＲ22aは、同一の基であることが好ましい。また、Ｘ1とＸ2は同一の基であってもよく、異なる基であってもよい。Ｘ1とＸ2は同一の基であることが好ましい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
　アルキル基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましい。上限は、例えば、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましく、５以上が更に好ましく、８以上が一層好ましく、１０以上が特に好ましい。上限は、３５以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましい。上限は、例えば、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。
　アリール基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ヘテロアリール基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましく、３～５が特に好ましい。ヘテロアリール基は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　－ＢＲ21aＲ22aで表される基のＲ21aとＲ22aは、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、下記（Ｂ－１）～（Ｂ－４）に示す構造などが挙げられる。以下において、Ｒは置換基を表し、Ｒb1～Ｒb4は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、ｍ１～ｍ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、＊は、式（１）における結合位置を表す。ＲおよびＲb1～Ｒb4が表す置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子およびアルキル基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　Ｘ1およびＸ2の具体例としては、以下が挙げられる。以下において、Ｍｅはメチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　化合物（１）の具体例としては、下記化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｐｈはフェニル基を表し、Ｍｅはメチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　化合物（１）は、顔料であってもよく、染料であってもよい。化合物（１）が顔料である場合は、耐熱性、耐光性に優れるという効果が期待できる。また、化合物（１）が染料である場合は、可視透明性に優れるという効果が期待できる。なお、本発明において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい化合物を意味する。例えば、顔料は、２３℃の水１００ｇに対する溶解度、および、２３℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度が、それぞれ０．１ｇ以下であることが好ましく、０．０１ｇ以下であることがより好ましい。また、本発明において、染料とは、溶剤に対して溶解しやすい化合物を意味する。例えば、染料は、２３℃の水１００ｇに対する溶解度、または、２３℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度が、０．１ｇを超えることが好ましく、１ｇを超えることがより好ましい。また、化合物（１）は色素として用いてもよく、顔料誘導体として用いてもよい。
　化合物（１）の極大吸収波長は、波長７００～１０００ｎｍの範囲に有することが好ましい。なお、本明細書において、「波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する」とは、化合物（１）の溶液での吸収スペクトルにおいて、波長７００～１０００ｎｍの範囲に最大の吸光度を示す波長を有することを意味する。化合物（１）の吸収スペクトルの測定に用いる測定溶媒としては、クロロホルム、酢酸エチル、テトラヒドロフランが挙げられる。化合物（１）がクロロホルムで溶解する化合物である場合は、クロロホルムを測定溶媒として用いる。
　化合物（１）の波長４５０ｎｍの吸光度Ａ450を、極大吸収波長の吸光度Ａmaxで割った値であるＡ450／Ａmax（以下、「吸光度比（４５０）」ともいう。）は、０．０１５以下であることが好ましい。吸光度比（４５０）が０．０１５以下であれば、赤外遮蔽性に優れつつ、可視透明性にも優れる。吸光度比（４５０）を０．０１５以下とするには、式（１）のＲ1およびＲ2として、上述した置換基を導入することで達成できる。
　本発明の組成物において、化合物（１）の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して、０．０１～５０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
＜＜他の近赤外線吸収化合物＞＞
　本発明の組成物は、上述した化合物（１）以外の近赤外線吸収化合物（以下、「他の近赤外線吸収化合物」ともいう。）をさらに含んでもよい。
　他の近赤外線吸収化合物としては、例えば、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、リレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、ジイモニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、銅化合物などが挙げられる。ピロロピロール化合物としては、例えば、下記構造の化合物Ｄ－１００～Ｄ－１０４が挙げられる。また、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開ＷＯ２０１５／１６６８７３号公報の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。スクアリリウム化合物としては、例えば、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物としては、例えば、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ジイモニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。フタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。ナフタロシアニン化合物としては、例えば、特開２０１２－７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ジイモニウム化合物およびスクアリリウム化合物は、特開２０１０－１１１７５０号公報の段落番号００１０～００８１に記載の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。また、シアニン化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信／松岡賢／北尾悌次郎／平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。銅錯体としては、国際公開ＷＯ２０１６／０６８０３７号公報の段落番号０００９～００４９に記載された銅錯体、特開２０１４－４１３１８号公報の段落００２２～００４２に記載されたリン酸エステル銅錯体、特開２０１５－４３０６３号公報の段落番号００２１～００３９に記載されたスルホン酸銅錯体などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　また、他の近赤外線吸収化合物として、無機粒子を用いることもできる。無機粒子は、赤外線遮蔽性がより優れる点で、金属酸化物粒子または金属粒子が好ましい。金属酸化物粒子としては、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）粒子、酸化アンチモンスズ（ＡＴＯ）粒子、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子、Ａｌドープ酸化亜鉛（ＡｌドープＺｎＯ）粒子、フッ素ドープ二酸化スズ（ＦドープＳｎＯ2）粒子、ニオブドープ二酸化チタン（ＮｂドープＴｉＯ2）粒子などが挙げられる。金属粒子としては、例えば、銀（Ａｇ）粒子、金（Ａｕ）粒子、銅（Ｃｕ）粒子、ニッケル（Ｎｉ）粒子など挙げられる。また、無機微粒子としては酸化タングステン系化合物が使用できる。酸化タングステン系化合物は、セシウム酸化タングステンであることが好ましい。酸化タングステン系化合物の詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。無機粒子の形状は特に制限されず、球状、非球状を問わず、シート状、ワイヤー状、チューブ状であってもよい。
　無機粒子の平均粒子径は、８００ｎｍ以下が好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、２００ｎｍ以下が更に好ましい。無機粒子の平均粒子径がこのような範囲であることによって、可視透明性が良好である。光散乱を回避する観点からは、平均粒子径は小さいほど好ましいが、製造時における取り扱い容易性などの理由から、無機粒子の平均粒子径は、通常、１ｎｍ以上である。
　本発明の組成物が他の近赤外線吸収化合物を含有する場合、他の近赤外線吸収化合物の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して、０．０１～５０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
　また、化合物（１）と他の近赤外線吸収化合物との合計の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して、０．０１～５０質量％が好ましい。下限は、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましい。
　また、化合物（１）と他の近赤外線吸収化合物との合計質量中における他の近赤外線吸収化合物の含有量は、１～９９質量％が好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　本発明において、有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料は、有機顔料であることが好ましい。有機顔料としては、以下が挙げることができる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２７０，２７２，２７９等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，６０，６４，６６，７９，８０等（以上、青色顔料）、
　これら有機顔料は、単独若しくは種々組合せて用いることができる。
　染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリアリールメタン系、アントラキノン系、アントラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、ピロメテン系等の染料が使用できる。また、これらの染料の多量体を用いてもよい。また、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－３４９６６号公報に記載の染料を用いることもできる。
　本発明の組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して０．１～７０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１．０質量％以上がより好ましい。上限は、６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
　有彩色着色剤の含有量は、化合物（１）の１００質量部に対し、１０～１０００質量部が好ましく、５０～８００質量部がより好ましい。
　また、有彩色着色剤と化合物（１）との合計量は、本発明の組成物の全固形分に対して１～８０質量％とすることが好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、その合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、「可視光を遮光する色材」ともいう。）を含有することもできる。
　本発明において、可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、本発明において、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１３００ｎｍの光を透過する色材であることが好ましい。
　本発明において、可視光を遮光する色材は、以下の（１）および（２）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（１）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（２）：有機系黒色着色剤を含む。（２）の態様において、更に有彩色着色剤を含有することも好ましい。
　また、本発明において、可視光を遮光する色材としての有機系黒色着色剤は、可視光を吸収するが、赤外線の少なくとも一部は透過する材料である。したがって、本発明において、可視光を遮光する色材としての有機系黒色着色剤は、可視光および赤外線の両方を吸収する黒色着色剤、例えば、カーボンブラックやチタンブラックは含まない。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ系化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平１－１７０６０１号公報、特開平２－３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　本発明において、可視光を遮光する色材は、例えば、波長４５０～６５０ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ａと、波長９００～１３００ｎｍの範囲における吸光度の最小値Ｂとの比であるＡ／Ｂが４．５以上であることが好ましい。
　上記の特性は、１種類の素材で満たしていてもよく、複数の素材の組み合わせで満たしていてもよい。例えば、上記（１）の態様の場合、複数の有彩色着色剤を組み合わせて上記分光特性を満たしていることが好ましい。また、上記（２）の態様の場合、有機系黒色着色剤が上記分光特性を満たしていてもよい。また、有機系黒色着色剤と有彩色着色剤との組み合わせで上記の分光特性を満たしていてもよい。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　各着色剤の比率(質量比)としては例えば以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
　本発明の組成物が、可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、組成物の全固形分に対して３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。下限は、例えば、０．０１質量％以上とすることができ、０．５質量％以上とすることもできる。
　また、本発明の組成物は、可視光を遮光する色材を実質的に含有しない態様とすることもできる。可視光を遮光する色材を実質的に含有しないとは、可視光を遮光する色材の含有量が、本発明の組成物の全固形分中、０．００５質量％以下が好ましく、０．００１質量％以下が更に好ましく、可視光を遮光する色材を含有しないことが一層好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の組成物は、顔料を含む場合は、更に顔料誘導体を含有することができる。顔料誘導体としては、顔料の一部を、酸性基、塩基性基、塩構造を有する基又はフタルイミドメチル基で置換した構造を有する化合物が挙げられ、式（Ｂ１）で表される顔料誘導体が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合または連結基を表し、Ｘは酸性基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
　式（Ｂ１）中、Ｐは、色素構造を表し、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造、アントラキノン色素構造、ジアントラキノン色素構造、ベンゾイソインドール色素構造、チアジンインジゴ色素構造、アゾ色素構造、キノフタロン色素構造、フタロシアニン色素構造、ナフタロシアニン色素構造、ジオキサジン色素構造、ペリレン色素構造、ペリノン色素構造、ベンゾイミダゾロン色素構造、ベンゾチアゾール色素構造、ベンゾイミダゾール色素構造およびベンゾオキサゾール色素構造から選ばれる少なくとも１種が好ましく、ピロロピロール色素構造、ジケトピロロピロール色素構造、キナクリドン色素構造およびベンゾイミダゾロン色素構造から選ばれる少なくとも１種が更に好ましく、ピロロピロール色素構造が特に好ましい。
　式（Ｂ１）中、Ｌは単結合または連結基を表す。連結基としては、１～１００個の炭素原子、０～１０個の窒素原子、０～５０個の酸素原子、１～２００個の水素原子、および０～２０個の硫黄原子から成り立つ基が好ましく、無置換でもよく、置換基を更に有していてもよい。
　式（Ｂ１）中、Ｘは、酸性基、塩基性基、塩構造を有する基またはフタルイミドメチル基を表す。
　顔料誘導体の具体例としては、例えば下記の化合物が挙げられる。以下の構造式中のＰｈはフェニル基である。なお、下記の化合物は、上述した化合物（１）とは異なる。下記の化合物は、式（１）のＲ1、Ｒ2に相当する部位に、上述した特定の置換基を有していない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　本発明の組成物が顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、組成物中に含まれる顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。顔料誘導体の含有量が上記範囲であれば、顔料の分散性を高めて、顔料の凝集を効率よく抑制できる。顔料誘導体は１種類のみでも、２種類以上でもよく、２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の組成物は、樹脂を含有する。樹脂は、例えば、顔料などを組成物中で分散させる用途、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などを分散させるために用いられる樹脂を「分散剤」ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的で樹脂を使用することもできる。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、エポキシ樹脂の場合、１００以上が好ましく、２００～２，０００，０００がより好ましい。上限は、１，０００，０００以下が好ましく、５００，０００以下がより好ましい。下限は、１００以上が好ましく、２００以上がより好ましい。エポキシ樹脂以外の場合、２,０００～２,０００,０００が好ましい。上限は、１,０００,０００以下が好ましく、５００,０００以下がより好ましい。下限は、３,０００以上が好ましく、５,０００以上がより好ましい。
　（メタ）アクリル樹脂としては、（メタ）アクリル酸および／またはそのエステルに由来する繰り返し単位を含む重合体が挙げられる。具体的には、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル類、（メタ）アクリルアミドおよび（メタ）アクリロニトリルから選ばれる少なくとも１種を重合して得られる重合体が挙げられる。
　ポリエステル樹脂としては、ポリオール（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン）と、多塩基酸（例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸及びこれらの芳香族環の水素原子がメチル基、エチル基、フェニル基等で置換された芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の炭素数２～２０の脂肪族ジカルボン酸、及びシクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式ジカルボン酸など）との反応により得られるポリマーや、カプロラクトンモノマー等の環状エステル化合物の開環重合により得られるポリマー（例えばポリカプロラクトン）が挙げられる。
　エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等を挙げることができる。市販品としては、例えば、以下が挙げられる。
　ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８２７、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ８３４、ｊＥＲ１００１、ｊＥＲ１００２、ｊＥＲ１００３、ｊＥＲ１０５５、ｊＥＲ１００７、ｊＥＲ１００９、ｊＥＲ１０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８６０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５０、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５１、ＥＰＩＣＬＯＮ１０５５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ８０６、ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ４００４、ｊＥＲ４００５、ｊＥＲ４００７、ｊＥＲ４０１０（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ８３０、ＥＰＩＣＬＯＮ８３５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＬＣＥ－２１、ＲＥ－６０２Ｓ（以上、日本化薬（株）製）等が挙げられる。フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ｊＥＲ１５７Ｓ６５（以上、三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７４０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－７７５（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６６５、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６７３、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６８０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９０、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（以上、ＤＩＣ（株）製）、ＥＯＣＮ－１０２０（日本化薬（株）製）等が挙げられる。脂肪族エポキシ樹脂としては、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０８０Ｓ、同ＥＰ－４０８５Ｓ、同ＥＰ－４０８８Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、同ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－８５０Ｌ（以上、ナガセケムテックス（株）製）等が挙げられる。その他にも、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、同ＥＰ－４００３Ｓ、同ＥＰ－４０１０Ｓ、同ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ（三菱化学（株）製）等が挙げられる。また、エポキシ樹脂は、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）を使用することも好ましい。
　本発明で用いる樹脂は、酸基を有していてもよい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシル基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることもできる。また、分散剤として用いることもできる。
　酸基を有する樹脂としては、側鎖にカルボキシル基を有するポリマーが好ましい。具体例としては、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、ノボラック樹脂などのアルカリ可溶性フェノール樹脂、側鎖にカルボキシル基を有する酸性セルロース誘導体、ヒドロキシル基を有するポリマーに酸無水物を付加させた樹脂が挙げられる。特に、（メタ）アクリル酸と、これと共重合可能な他のモノマーとの共重合体が、アルカリ可溶性樹脂として好適である。（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーとしては、アルキル（メタ）アクリレート、アリール（メタ）アクリレート、ビニル化合物などが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートおよびアリール（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレート、ナフチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート等、ビニル化合物としては、スチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、グリシジルメタクリレート、アクリロニトリル、ビニルアセテート、Ｎ－ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、ポリスチレンマクロモノマー、ポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。また他のモノマーは、特開平１０－３００９２２号公報に記載のＮ位置換マレイミドモノマー、例えば、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等を用いることもできる。なお、これらの（メタ）アクリル酸と共重合可能な他のモノマーは１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　酸基を有する樹脂は、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート共重合体、ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／他のモノマーからなる多元共重合体が好ましく用いることができる。また、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートを共重合したもの、特開平７－１４０６５４号公報に記載の、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート／ポリメチルメタクリレートマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体、２－ヒドロキシエチルメタクリレート／ポリスチレンマクロモノマー／ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体なども好ましく用いることができる。
　酸基を有する樹脂は、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分を重合してなるポリマーを含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　式（ＥＤ１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　式（ＥＤ１）中、Ｒ1およびＲ2で表される置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基としては、特に制限はないが、例えば、メチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｔｅｒｔ－アミル、ステアリル、ラウリル、２－エチルヘキシル等の直鎖状または分岐状のアルキル基；フェニル等のアリール基；シクロヘキシル、ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキシル、ジシクロペンタジエニル、トリシクロデカニル、イソボルニル、アダマンチル、２－メチル－２－アダマンチル等の脂環式基；１－メトキシエチル、１－エトキシエチル等のアルコキシ基で置換されたアルキル基；ベンジル等のアリール基で置換されたアルキル基；等が挙げられる。これらの中でも特に、メチル、エチル、シクロヘキシル、ベンジル等のような酸や熱で脱離しにくい１級または２級炭素の置換基が耐熱性の点で好ましい。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。エーテルダイマーは、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。
　酸基を有する樹脂は、下記式（Ｘ）で示される化合物に由来する繰り返し単位を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　式（Ｘ）において、Ｒ1は、水素原子またはメチル基を表し、Ｒ2は炭素数２～１０のアルキレン基を表し、Ｒ3は、水素原子またはベンゼン環を含んでもよい炭素数１～２０のアルキル基を表す。ｎは１～１５の整数を表す。
　上記式（Ｘ）において、Ｒ2のアルキレン基の炭素数は、２～３が好ましい。また、Ｒ3のアルキル基の炭素数は１～２０であるが、より好ましくは１～１０であり、Ｒ3のアルキル基はベンゼン環を含んでもよい。Ｒ3で表されるベンゼン環を含むアルキル基としては、ベンジル基、２－フェニル（イソ）プロピル基等を挙げることができる。
　酸基を有する樹脂としては、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂としては、アクリベースＦＦ－４２６（（株）日本触媒製）を用いることもできる。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　樹脂は、硬化性基を有していてもよい。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられる。硬化性基を有する繰り返し単位としては、下記式（Ａ２－１）～（Ａ２－４）などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
　Ｒ1は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がさらに好ましく、１が特に好ましい。Ｒ1は、水素原子またはメチル基が好ましい。
　Ｌ51は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ2－、－ＮＲ－（Ｒは水素原子あるいはアルキル基を表し、水素原子が好ましい）、または、これらの組み合わせからなる基が挙げられ、アルキレン基、アリーレン基およびアルキレン基の少なくとも１つと－Ｏ－との組み合わせからなる基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましい。アルキレン基は、置換基を有していてもよいが、無置換が好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状のアルキレン基は、単環、多環のいずれであってもよい。アリーレン基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。
　Ｐ1は、硬化性基を表す。硬化性基としては、エチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基、メチロール基、アルコキシシリル基等が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。アルコキシシリル基としては、モノアルコキシシリル基、ジアルコキシシリル基、トリアルコキシシリル基が挙げられる。
　硬化性基を含有する樹脂としては、ダイヤナールＮＲシリーズ（三菱レイヨン株式会社製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有　ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ　ａｃｒｙｌｉｃ　ｏｌｉｇｏｍｅｒ．Ｄｉａｍｏｎｄ　Ｓｈａｍｒｏｃｋ　Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）、ビスコートＲ－２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業株式会社製）、サイクロマーＰシリーズ（例えば、ＡＣＡ２３０ＡＡ）、プラクセル　ＣＦ２００シリーズ（いずれも（株）ダイセル製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー株式会社製）、アクリキュア－ＲＤ－Ｆ８（日本触媒（株）製）などが挙げられる。また、上述したエポキシ樹脂で説明した製品なども挙げられる。
　本発明の組成物が顔料を含む場合、樹脂は分散剤を含むことが好ましい。
　分散剤として働く樹脂は、酸性型の樹脂および／または塩基性型の樹脂が好ましい。
　ここで、酸性型の樹脂とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性型の樹脂は、樹脂中の酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上を占める樹脂が好ましく、実質的に酸基のみからなる樹脂がより好ましい。酸性型の樹脂が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性型の樹脂の酸価は、４０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、６０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。
　また、塩基性型の樹脂とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性型の樹脂は、樹脂中の酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性型の樹脂が有する塩基性基は、アミンが好ましい。
　分散剤としては、高分子分散剤〔例えば、アミン基を有する樹脂（ポリアミドアミンとその塩など）、オリゴイミン系樹脂、ポリカルボン酸とその塩、高分子量不飽和酸エステル、変性ポリウレタン、変性ポリエステル、変性ポリ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル系共重合体、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物〕等を挙げることができる。高分子分散剤は、その構造から更に直鎖状高分子、末端変性型高分子、グラフト型高分子、ブロック型高分子に分類することができる。
　末端変性型高分子としては、例えば、特開平３－１１２９９２号公報、特表２００３－５３３４５５号公報等に記載の末端にリン酸基を有する高分子、特開２００２－２７３１９１号公報等に記載の末端にスルホ基を有する高分子、特開平９－７７９９４号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有する高分子などが挙げられる。また、特開２００７－２７７５１４号公報に記載の高分子末端に２個以上の顔料表面へのアンカー部位（酸基、塩基性基、有機色素の部分骨格やヘテロ環等）を導入した高分子も分散安定性に優れ好ましい。
　ブロック型高分子としては、特開２００３－４９１１０号公報、特開２００９－５２０１０号公報等に記載のブロック型高分子が挙げられる。
　グラフト型高分子としては、例えば、特開昭５４－３７０８２号公報、特表平８－５０７９６０号公報、特開２００９－２５８６６８公報等に記載のポリ（低級アルキレンイミン）とポリエステルの反応生成物、特開平９－１６９８２１号公報等に記載のポリアリルアミンとポリエステルの反応生成物、特開平１０－３３９９４９号、特開２００４－３７９８６号公報等に記載のマクロモノマーと、窒素原子含有基を有するモノマーとの共重合体、特開２００３－２３８８３７号公報、特開２００８－９４２６号公報、特開２００８－８１７３２号公報等に記載の有機色素の部分骨格や複素環を有するグラフト型高分子、特開２０１０－１０６２６８号公報等に記載のマクロモノマーと酸基含有モノマーの共重合体などが挙げられる。
　また、分散剤は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４に記載されたグラフト共重合体や、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１７４に記載されたオリゴイミン系樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤は、式（Ｐ１）で表される繰り返し単位を含む樹脂を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
　式（Ｐ１）において、Ｒ1は水素またはメチル基を表し、Ｒ2はアルキレン基を表し、Ｚは含窒素複素環構造を表す。
　Ｒ2が表すアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、２－ヒドロキシプロピレン基、メチレンオキシ基、エチレンオキシ基、メチレンオキシカルボニル基、メチレンチオ基等が好適に挙げられ、メチレン基、メチレンオキシ基、メチレンオキシカルボニル基、メチレンチオ基がより好ましい。
　Ｚが表す含窒素複素環構造は、例えば、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、キノリン環、アクリジン環、フェノチアジン環、フェノキサジン環、アクリドン環、アントラキノン環、ベンズイミダゾール構造、ベンズトリアゾール構造、ベンゾチアゾール構造、環状アミド構造、環状ウレア構造、および環状イミド構造を有するものが挙げられる。
　式（Ｐ１）で表される繰り返し単位の具体例としては、例えば以下が挙げられる。その他、特開２００８－００９４２６号公報の段落番号００２３の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　式（Ｐ１）で表される繰り返し単位を含む樹脂の具体例としては以下が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　樹脂は、市販品としても入手可能であり、特開２０１５－２００８７８号公報の段落番号００９２に記載された製品を用いることもできる。
　本発明の組成物において、樹脂の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対し、１～８０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。上限は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　また、樹脂として分散剤を含有する場合、分散剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。また、分散剤の含有量は、顔料１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がさらに好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がさらに好ましい。
＜＜重合性化合物＞＞
　本発明の組成物は、重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物は、ラジカルの作用により重合可能な化合物が好ましい。すなわち、重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。重合性化合物は、エチレン性不飽和結合を有する基を１個以上有する化合物が好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を２個以上有する化合物がより好ましく、エチレン性不飽和結合を有する基を３個以上有する化合物が更に好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基の個数の上限は、たとえば、１５個以下が好ましく、６個以下がより好ましい。エチレン性不飽和結合を有する基としては、ビニル基、スチリル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基が好ましい。重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。
　重合性化合物は、モノマー、ポリマーのいずれの形態であってもよいがモノマーが好ましい。モノマータイプの重合性化合物は、分子量が１００～３０００であることが好ましい。上限は、２０００以下が好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２５０以上が更に好ましい。また、重合性化合物は、分子量分布を実質的に有さない化合物であることも好ましい。ここで、分子量分布を実質的に有さないとは、化合物の分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））が、１．０～１．５であることが好ましく、１．０～１．３がより好ましい。
　重合性化合物の例としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３３～００３４の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。重合性化合物としては、エチレンオキシ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＮＫエステルＡＴＭ－３５Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては　ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基が、エチレングリコール残基および／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造が好ましい。またこれらのオリゴマータイプも使用できる。また、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０５８５）に記載の重合性モノマー等が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ａ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）も好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。例えば、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を有する重合性化合物としては、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルなどが挙げられる。脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応のヒドロキシル基に、非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた重合性化合物が好ましく、特に好ましくは、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトールおよび／またはジペンタエリスリトールであるものである。市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製の多塩基酸変性アクリルオリゴマーとして、アロニックスシリーズのＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０などが挙げられる。酸基を有する重合性化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましい。上限は、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましい。
　重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、分子内にカプロラクトン構造を有する限り特に限定されるものではないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、トリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンをエステル化することにより得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物としては、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等、サートマー社製のエチレンオキシ鎖を４個有する４官能アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ鎖を３個有する３官能アクリレートであるＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　重合性化合物としては、特公昭４８－４１７０８号公報、特開昭５１－３７１９３号公報、特公平２－３２２９３号公報、特公平２－１６７６５号公報に記載されているウレタンアクリレート類や、特公昭５８－４９８６０号公報、特公昭５６－１７６５４号公報、特公昭６２－３９４１７号公報、特公昭６２－３９４１８号公報に記載されているエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平１－１０５２３８号公報に記載されている分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることができる。市販品としては、ウレタンオリゴマーＵＡＳ－１０、ＵＡＢ－１４０（山陽国策パルプ社製）、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００（共栄社化学（株）製）などが挙げられる。
　本発明の組成物が重合性化合物を含有する場合、重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、例えば、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。重合性化合物は１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。重合性化合物を２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
　また、組成物がエポキシ樹脂と重合性化合物とを含む場合、重合性化合物と、エポキシ樹脂との質量比は、重合性化合物：エポキシ樹脂＝１００：１～１００：４００が好ましく、１００：１～１００：１００がより好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の組成物は、光重合開始剤を含有することができる。特に、本発明の組成物が、ラジカル重合性化合物を含む場合、光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤が好ましい。
　光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、ケトオキシムエーテル、アミノアセトフェノン化合物、ヒドロキシアセトフェノンなどが挙げられる。トリアジン骨格を有するハロゲン化炭化水素化合物としては、例えば、若林ら著、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，４２、２９２４（１９６９）記載の化合物、英国特許１３８８４９２号明細書記載の化合物、特開昭５３－１３３４２８号公報に記載の化合物、独国特許３３３７０２４号明細書に記載の化合物、Ｆ．Ｃ．ＳｃｈａｅｆｅｒなどによるＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．；２９、１５２７（１９６４）記載の化合物、特開昭６２－５８２４１号公報に記載の化合物、特開平５－２８１７２８号公報に記載の化合物、特開平５－３４９２０号公報に記載の化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載の化合物などが挙げられる。
　光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、フォスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物からなる群より選択される化合物が好ましい。
　光重合開始剤としては、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、及び、アシルホスフィン化合物も好適に用いることができる。例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のα－アミノケトン化合物、特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン化合物も用いることができる。α－ヒドロキシケトン化合物としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１８４、ＤＡＲＯＣＵＲ－１１７３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－５００、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－２９５９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）を用いることができる。α－アミノケトン化合物としては、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９、及び、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）を用いることができる。α－アミノケトン化合物は、特開２００９－１９１１７９号公報に記載の化合物を用いることができる。アシルホスフィン化合物としては、市販品であるＩＲＧＡＣＵＲＥ－８１９やＤＡＲＯＣＵＲ－ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）を用いることができる。
　光重合開始剤は、オキシム化合物を用いることが好ましい。オキシム化合物の具体例としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１６－２１０１２号公報に記載などが挙げられる。本発明において好適に用いることができるオキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）、特開２０００－６６３８５号公報、特開２０００－８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物等も挙げられる。
　市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）も好適に用いられる。また、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（（株）ＡＤＥＫＡ製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）も用いることができる。
　また上記記載以外のオキシム化合物として、カルバゾール環のＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物、ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物、色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－１５０２５号公報及び米国特許公開２００９－２９２０３９号公報に記載の化合物、国際公開ＷＯ２００９／１３１１８９号公報に記載のケトオキシム化合物、トリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含有する米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物、４０５ｎｍに極大吸収を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報に記載の化合物などを用いてもよい。
　オキシム化合物は、下記式（ＯＸ－１）で表される化合物を好ましく用いることができる。オキシム化合物は、オキシムのＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であってもよく、オキシムのＮ－Ｏ結合が（Ｚ）体のオキシム化合物であってもよく、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　式（ＯＸ－１）中、ＲおよびＢは各々独立に一価の置換基を表し、Ａは二価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。式（ＯＸ－１）の詳細については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０２７６～０３０４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明は、光重合開始剤として、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明は、光重合開始剤として、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明は、光重合開始剤として、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　オキシム化合物は、３５０ｎｍ～５００ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物が好ましく、３６０ｎｍ～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物は、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの吸光度が高い化合物が好ましい。
　オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１,０００～３００，０００であることが好ましく、２,０００～３００，０００であることがより好ましく、５,０００～２００，０００であることが特に好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤は、オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを含むことも好ましい。両者を併用することで、現像性が向上し、矩形性に優れたパターンを形成しやすい。オキシム化合物とα－アミノケトン化合物とを併用する場合、オキシム化合物１００質量部に対して、α－アミノケトン化合物が５０～６００質量部が好ましく、１５０～４００質量部がより好ましい。
　光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分に対し０．１～５０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。光重合開始剤の含有量が上記範囲であれば、より良好な感度とパターン形成性が得られる。本発明の組成物は、光重合開始剤を１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。光重合開始剤を２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜アルコキシシリル基を有する化合物＞＞
　本発明の組成物は、アルコキシシリル基を有する化合物を含有することも好ましい。アルコキシシリル基におけるアルコキシ基の炭素数は、１～５が好ましく、１～３がより好ましく、１または２が特に好ましい。アルコキシシリル基は、一分子中に２個以上有することが好ましく、２～３個有することがさらに好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｎ－プロピルトリメトキシシラン、ｎ－プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、１，６－ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレート、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、上記以外にアルコキシオリゴマーを用いることができる。また、下記化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　市販品としては、信越シリコーン社製のＫＢＭ－１３、ＫＢＭ－２２、ＫＢＭ－１０３、ＫＢＥ－１３、ＫＢＥ－２２、ＫＢＥ－１０３、ＫＢＭ－３０３３、ＫＢＥ－３０３３、ＫＢＭ－３０６３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－３０８６、ＫＢＥ－３０６３、ＫＢＥ－３０８３、ＫＢＭ－３１０３、ＫＢＭ－３０６６、ＫＢＭ－７１０３、ＳＺ－３１、ＫＰＮ－３５０４、ＫＢＭ－１００３、ＫＢＥ－１００３、ＫＢＭ－３０３、ＫＢＭ－４０２、ＫＢＭ－４０３、ＫＢＥ－４０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＭ－１４０３、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＭ－５０３、ＫＢＥ－５０２、ＫＢＥ－５０３、ＫＢＭ－５１０３、ＫＢＭ－６０２、ＫＢＭ－６０３、ＫＢＭ－９０３、ＫＢＥ－９０３、ＫＢＥ－９１０３、ＫＢＭ－５７３、ＫＢＭ－５７５、ＫＢＭ－９６５９、ＫＢＥ－５８５、ＫＢＭ－８０２、ＫＢＭ－８０３、ＫＢＥ－８４６、ＫＢＥ－９００７、Ｘ－４０－１０５３、Ｘ－４１－１０５９Ａ、Ｘ－４１－１０５６、Ｘ－４１－１８０５、Ｘ－４１－１８１８、Ｘ－４１－１８１０、Ｘ－４０－２６５１、Ｘ－４０－２６５５Ａ、ＫＲ－５１３，ＫＣ－８９Ｓ、ＫＲ－５００、Ｘ－４０－９２２５、Ｘ－４０－９２４６、Ｘ－４０－９２５０、ＫＲ－４０１Ｎ、Ｘ－４０－９２２７、Ｘ－４０－９２４７、ＫＲ－５１０、ＫＲ－９２１８、ＫＲ－２１３、Ｘ－４０－２３０８、Ｘ－４０－９２３８などが挙げられる。
　本発明の組成物がアルコキシシリル基を有する化合物を含有する場合、アルコキシシリル基を有する化合物の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．１～４０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、例えば、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。アルコキシシリル基を有する化合物は１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。アルコキシシリル基を有する化合物を２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜触媒＞＞
　本発明の組成物は、触媒をさらに含有することができる。特に、アルコキシシリル基を有する化合物を含有する場合、触媒を含有することで、ゾルゲル反応が促進して、強固な硬化膜が得られる。触媒としては、酸触媒、塩基触媒などが挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、蟻酸や酢酸等のカルボン酸、ＲＣＯＯＨで示される構造式のＲを他の原子または置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸などのスルホン酸、リン酸などが挙げられる。さらに、塩化アルミニウム、アルミニウムアセチルアセトナート、塩化亜鉛、塩化スズ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、ヨードトリメチルシランなどのルイス酸を用いてもよい。また塩基触媒としては、アンモニア水などのアンモニア性塩基化合物、エチルアミンやアニリンなどの有機アミンなどが挙げられる。また、触媒は、特開２０１３－２０１００７号公報の段落番号００７０～００７６に記載の触媒を用いることもできる。
　触媒の含有量は、アルコキシシリル基を有する化合物の１００質量部に対し０．１～１００質量部が好ましく、より好ましくは０．１～５０質量部であり、さらに好ましくは０．１～２０質量部である。本発明の組成物は、触媒を１種類のみを含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。触媒を２種類以上含む場合は、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の組成物は、溶剤を含有する。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はないが、組成物の塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
　有機溶剤の例としては、例えば、以下の有機溶剤が挙げられる。エステル類として、例えば、酢酸エチル、酢酸－ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、酢酸シクロヘキシル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、アルキルオキシ酢酸アルキル（例えば、アルキルオキシ酢酸メチル、アルキルオキシ酢酸エチル、アルキルオキシ酢酸ブチル（例えば、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル等））、３－アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、３－アルキルオキシプロピオン酸メチル、３－アルキルオキシプロピオン酸エチル等（例えば、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル等））、２－アルキルオキシプロピオン酸アルキルエステル類（例えば、２－アルキルオキシプロピオン酸メチル、２－アルキルオキシプロピオン酸エチル、２－アルキルオキシプロピオン酸プロピル等（例えば、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル））、２－アルキルオキシ－２－メチルプロピオン酸メチル及び２－アルキルオキシ－２－メチルプロピオン酸エチル（例えば、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル等）、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２－オキソブタン酸メチル、２－オキソブタン酸エチル等が挙げられる。エーテル類として、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート等が挙げられる。ケトン類として、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン等が挙げられる。芳香族炭化水素類として、例えば、トルエン、キシレン等が挙げられる。ただし溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　有機溶剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。有機溶剤を２種以上組み合わせて用いる場合、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、及びプロピレングリコールメチルエーテルアセテートから選択される２種以上で構成される混合溶液が好ましい。
　本発明において、金属含有量の少ない溶剤を用いることが好ましく、溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの溶剤を用いてもよく、そのような高純度溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましく、３ｎｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　溶剤は、異性体（同じ原子数で異なる構造の化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　本発明において、有機溶剤は、過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　溶剤の含有量は、組成物の全量に対し、１０～９０質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましく、２５～７５質量％であることが更に好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物は、組成物の製造中又は保存中において、重合性化合物の不要な熱重合を阻止するために、重合禁止剤を含有させてもよい。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましい。
＜＜＜界面活性剤＞＞＞
　本発明の組成物は、塗布性をより向上させる観点から、各種の界面活性剤を含有させてもよい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用できる。
　本発明の組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで、塗布液として調製したときの液特性（特に、流動性）がより向上し、塗布厚の均一性や省液性をより改善することができる。フッ素系界面活性剤を含有する組成物を適用した塗布液を用いて膜形成する場合においては、被塗布面と塗布液との界面張力が低下して、被塗布面への濡れ性が改善され、被塗布面への塗布性が向上する。このため、厚みムラの小さい均一厚の膜形成をより好適に行うことができる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤として具体的には、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開２０１４／１７６６９号公報の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ－１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ－３９３、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造で、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月２２日）（日経産業新聞、２０１６年２月２３日）、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられ、これらを用いることができる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。例えば特開２０１１－８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３，０００～５０，０００であり、例えば、１４，０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、例えばＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセリンエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン系界面活性剤としては、オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮｏ．７５、Ｎｏ．９０、Ｎｏ．９５（共栄社化学（株）製）、Ｗ００１（裕商（株）製）等が挙げられる。
　アニオン系界面活性剤としては、Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商（株）製）、サンデットＢＬ（三洋化成（株）製）等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ３４１、ＫＦ６００１、ＫＦ６００２（以上、信越シリコーン株式会社製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　界面活性剤は、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を組み合わせてもよい。
　界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～１．０質量％がより好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物などを用いることができる。これらの詳細については、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。共役ジエン化合物の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としてはミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）を用いてもよい。
　紫外線吸収剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分に対して、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、熱重合禁止剤、可塑剤、密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分は、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。酸化防止剤としては、分子量５００以上のフェノール化合物、分子量５００以上の亜リン酸エステル化合物又は分子量５００以上のチオエーテル化合物がより好ましい。これらは２種以上を混合して使用してもよい。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。特に、フェノール性水酸基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピオニル基、イソプロピオニル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ｔ－ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、イソオクチル基、２－エチルへキシル基がより好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。これらは、市販品として入手できる。例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（（株）ＡＤＥＫＡ）などが挙げられる。酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分に対して、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
　本発明の組成物の粘度（２３℃）は、例えば、塗布により膜を形成する場合、１～３０００ｍＰａ・ｓの範囲にあることが好ましい。下限は、３ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、５ｍＰａ・ｓ以上がより好ましい。上限は、２０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、１０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。
　本発明の組成物は、近赤外線カットフィルタや赤外線透過フィルタなどの形成に好ましく用いることができる。
＜組成物の調製方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。
　組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分を溶剤に溶解または分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序や作業条件は特に制約を受けない。例えば、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
　また、本発明の組成物が顔料などの粒子を含む場合は、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍ程度が適しており、好ましくは０．０１～３．０μｍ程度であり、更に好ましくは０．０５～０．５μｍ程度である。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物を確実に除去できる。また、ファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。具体的には、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）のフィルタカートリッジが挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。
　また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。ここでの孔径は、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択することができる。
　第２のフィルタは、第１のフィルタと同様の素材等で形成されたものを使用することができる。
　また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の組成物からなる。本発明の膜は、赤外線遮蔽性および可視透明性に優れるので、近赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。また、熱線遮蔽フィルタとして用いることもできる。本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。なお、本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、赤外線透過フィルタは、例えば、可視光を遮光し、波長９００ｎｍ以上の波長の光を透過するフィルタが挙げられる。なお、本発明の膜を、赤外線透過フィルタとして用いる場合、上述の化合物（１）と、可視光を遮光する色材（好ましくは、２種以上の有彩色着色剤を含有する色材、または、有機系黒色着色剤を少なくとも含有する色材）とを含む組成物を用いたフィルタであるか、化合物（１）を含む層の他に、可視光を遮光する色材の層が別途存在するフィルタであることが好ましい。本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、化合物（１）は、透過する光（近赤外線）をより長波長側に限定する役割を有している。
　本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上が更に好ましい。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。有彩色着色剤としては、本発明の組成物で説明した有彩色着色剤が挙げられる。着色組成物は、樹脂、ラジカル重合性化合物、光重合開始剤、界面活性剤、溶剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などをさらに含有することができる。これらの詳細については、本発明の組成物で説明した材料が挙げられ、これらを用いることができる。また、本発明の膜に有彩色着色剤を含有させて、近赤外線カットフィルタとカラーフィルタとしての機能を備えたフィルタとしてもよい。
　なお、本発明において、近赤外線カットフィルタとは、可視領域の波長の光（可視光）を透過させ、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を遮光するフィルタを意味する。近赤外線カットフィルタは、可視領域の波長の光をすべて透過するものであってもよく、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するものであってもよい。また、本発明において、カラーフィルタとは、可視領域の波長の光のうち、特定の波長領域の光を通過させ、特定の波長領域の光を遮光するフィルタを意味する。また、赤外線透過フィルタとは、可視領域の波長の光を遮光し、近赤外領域の波長の光（近赤外線）の少なくとも一部を透過させるフィルタを意味する。
　本発明の膜を、近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長６５０～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長４００～５５０ｎｍの平均透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましく、９０％以上であることが特に好ましい。また、波長４００～５５０ｎｍの全ての範囲での透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。
　また、近赤外線カットフィルタの赤外線遮蔽性の好ましい範囲は用途によって異なるが、波長７００～１０００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率が２０％以下であることが好ましく、１５％以下がより好ましく、１０％以下がさらに好ましい。
　本発明の膜を、赤外線透過フィルタとして用いる場合、以下の（１）の分光特性を有することが好ましい。この態様によれば、可視光線由来のノイズが少ない状態で赤外線を透過可能な膜とすることができる。
　（１）膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００～８３０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における最小値が８０％以上である。このような分光特性を有する膜は、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光し、波長９００ｎｍ以上の光を透過する赤外線透過フィルタとして好ましく用いることができる。
　膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製　Ｕ－４１００）を用いて、波長３００～１３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。
　本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。
　近赤外線カットフィルタが、更に、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有することで、視野角が広く、赤外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタが得られ易い。また、近赤外線カットフィルタが、更に、紫外線吸収層を有することで、紫外線遮蔽性に優れた近赤外線カットフィルタとすることができる。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開ＷＯ２０１５／０９９０６０号公報の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載の吸収層を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基材（銅含有ガラス基材）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基材としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。銅錯体含有層としては、銅錯体を含む組成物を用いて形成してなる層が挙げられる。銅錯体は、７００～１２００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。銅錯体の極大吸収波長は、７２０～１２００ｎｍの波長領域に有することがより好ましく、８００～１１００ｎｍの波長領域に有することがさらに好ましい。
　本発明の膜を、近赤外線カットフィルタまたは赤外線透過フィルタとして用いる場合、近赤外線カットフィルタと赤外線透過フィルタとを組み合わせて用いることもできる。近赤外線カットフィルタと、赤外線透過フィルタとを組み合わせて用いることで、特定波長の赤外線を検出する赤外線センサの用途に好ましく用いることができる。両者のフィルタを組み合わせて用いる場合、近赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタの両方を本発明の組成物を用いて形成することもでき、いずれか一方のみを、本発明の組成物を用いて形成することもできる。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜光学フィルタ＞
　次に、本発明の光学フィルタについて説明する。本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。本発明の光学フィルタは、近赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタから選ばれる少なくとも１種として好ましく用いることができる。また、本発明の膜を用いた画素と、赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる画素とを有する態様も本発明の光学フィルタの好ましい態様である。
＜積層体＞
　本発明の積層体は、本発明の膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタとを有する。本発明の積層体は、本発明の膜と、カラーフィルタとが厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜と、カラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された基材とは別の基材に本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
＜パターン形成方法＞
　次に、本発明の組成物を用いたパターン形成方法について説明する。パターン形成方法は、本発明の組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、フォトリソグラフィ法またはドライエッチング法により、組成物層に対してパターンを形成する工程と、を含むことが好ましい。
　本発明の膜と、カラーフィルタとが積層した積層体を製造する場合は、本発明の膜のパターン形成と、カラーフィルタのパターン形成は、別々に行ってもよい。また、本発明の膜とカラーフィルタとの積層体に対してパターン形成を行ってもよい（すなわち、本発明の膜およびカラーフィルタのパターン形成を同時に行ってもよい）。
　本発明の膜とカラーフィルタとのパターン形成を別々に行う場合とは、次の態様を意味する。本発明の膜およびカラーフィルタのいずれか一方に対してパターン形成を行う。次いで、パターン形成したフィルタ層上に、他方のフィルタ層を形成する。次いで、パターン形成を行っていないフィルタ層に対してパターン形成を行う。
　パターン形成方法は、フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法であってもよく、ドライエッチング法でのパターン形成方法であってもよい。フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法の場合、ドライエッチング工程が不要なため工程数を削減できるという効果が得られる。ドライエッチング法でのパターン形成方法の場合、フォトリソグラフィ機能が不要なため、化合物（１）などの濃度を上げることができる。
　本発明の膜のパターン形成と、カラーフィルタのパターン形成とを別々に行う場合、各フィルタ層のパターン形成方法は、フォトリソグラフィ法のみ、または、ドライエッチング法のみで行ってもよい。また、一方のフィルタ層をフォトリソグラフィ法でパターン形成し、他方のフィルタ層をドライエッチング法でパターン形成してもよい。ドライエッチング法とフォトリソグラフィ法とを併用してパターン形成を行う場合、１層目については、ドライエッチング法によりパターン形成を行い、２層目以降については、フォトリソグラフィ法によりパターン形成を行うことが好ましい。
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、各組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、未露光部を現像除去してパターンを形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、および、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。
　また、ドライエッチング法でのパターン形成方法は、各組成物を用いて支持体上に組成物層を形成し、硬化して硬化物層を形成する工程と、硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程と、露光および現像することによりフォトレジスト層をパターニングしてレジストパターンを得る工程と、レジストパターンをエッチングマスクとして硬化物層をドライエッチングしてパターンを形成する工程とを含むことが好ましい。以下、各工程について説明する。
＜＜組成物層を形成する工程＞＞
　組成物層を形成する工程では、各組成物を用いて、支持体上に組成物層を形成する。
　支持体としては、例えば、基板（例えば、シリコン基板）上にＣＣＤやＣＭＯＳ等の固体撮像素子（受光素子）が設けられた固体撮像素子用基板を用いることができる。パターンは、固体撮像素子用基板の固体撮像素子形成面側（おもて面）に形成してもよいし、固体撮像素子非形成面側（裏面）に形成してもよい。支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層を設けてもよい。
　支持体への組成物の適用方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された特許公報に記載の方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　支持体上に形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスによりパターンを形成する場合は、プリベークを行わなくてもよい。
　プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク温度を１５０℃以下で行うことにより、例えば、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合において、これらの特性をより効果的に維持することができる。
　プリベーク時間は、１０秒～３００秒が好ましく、４０～２５０秒がより好ましく、８０～２２０秒がさらに好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
＜＜露光工程＞＞
　次に、組成物層を、パターン状に露光する（露光工程）。例えば、組成物層に対し、ステッパー等の露光装置を用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等の紫外線が好ましく、ｉ線がより好ましい。照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ2が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ2がより好ましく、０．０８～０．５Ｊ／ｃｍ2が最も好ましい。
　露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ2～１０００００Ｗ／ｍ2（例えば、５０００Ｗ／ｍ2、１５０００Ｗ／ｍ2、３５０００Ｗ／ｍ2）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ2、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ2などとすることができる。
＜＜現像工程＞＞
　次に、未露光部を現像除去してパターンを形成する。未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。
　現像液としては、下地の固体撮像素子や回路などにダメージを起さない、アルカリ現像液が望ましい。
　現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液に用いるアルカリ剤としては、例えば、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。現像液は、これらのアルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液が好ましく使用される。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液には、界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤の例としては、上述した組成物で説明した界面活性剤が挙げられ、ノニオン系界面活性剤が好ましい。なお、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液を使用した場合には、現像後純水で洗浄（リンス）することが好ましい。
　現像後、乾燥を施した後に加熱処理（ポストベーク）を行うこともできる。ポストベークは、膜の硬化を完全なものとするための現像後の加熱処理である。ポストベークを行う場合、ポストベーク温度は、例えば１００～２４０℃が好ましい。膜硬化の観点から、２００～２３０℃がより好ましい。また、発光光源として有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）素子を用いた場合や、イメージセンサの光電変換膜を有機素材で構成した場合は、ポストベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１００℃以下が更に好ましく、９０℃以下が特に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができる。ポストベークは、現像後の膜に対して、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。また、低温プロセスによりパターンを形成する場合は、ポストベークは行わなくてもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、支持体上に形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、得られた硬化物層に対して、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチングガスを用いて行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジストの形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。本発明の固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。さらに、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各色画素を形成する硬化膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各色画素に対して低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載の装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の膜は、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などの画像表示装置に用いることもできる。例えば、本発明の膜を、画像表示装置のバックライト（例えば白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ））に含まれる赤外光を遮断する目的、周辺機器の誤作動を防止する目的、各着色画素に加えて赤外の画素を形成する目的で用いることができる。
　画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６－３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０ｎｍ－４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０ｎｍ－５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０ｎｍ－６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０ｎｍ－７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を有する。本発明の赤外線センサの構成としては、本発明の膜を有する構成であり、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。
　以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、赤外線センサは、固体撮像素子１１０上に、近赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とを含む撮像領域を有する。また、近赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が積層している。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　近赤外線カットフィルタ１１１は、可視領域の光（例えば、波長４００～６５０ｎｍの光）を透過し、近赤外領域の光（例えば、波長８００～１３００ｎｍの光、好ましくは波長９００～１２００ｎｍの光、更に好ましくは波長９００～１０００ｎｍの光）を遮蔽するフィルタである。近赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長により選択される。
　カラーフィルタ１１２は、可視光領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長によりその特性は選択される。例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が８５０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長４００～６５０ｎｍの範囲における最大値が３０％以下であることが好ましく、２０％以下であることがより好ましく、１０％以下であることがさらに好ましく、０．１％以下であることが特に好ましい。この透過率は、波長４００～６５０ｎｍの範囲の全域で上記の条件を満たすことが好ましい。波長４００～６５０ｎｍの範囲における最大値は、通常、０．１％以上である。
　赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光透過率の、波長８００ｎｍ以上（好ましくは８００～１３００ｎｍ）の範囲における最小値が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。この透過率は、波長８００ｎｍ以上の範囲の一部で上記の条件を満たすことが好ましく、赤外ＬＥＤの発光波長に対応する波長で上記の条件を満たすことが好ましい。波長９００～１３００ｎｍの範囲における光透過率の最小値は、通常、９９．９％以下である。
　赤外線透過フィルタ１１４の膜厚は、１００μｍ以下が好ましく、１５μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましく、１μｍ以下が特に好ましい。下限値は、０．１μｍが好ましい。膜厚が上記範囲であれば、上述した分光特性を満たす膜とすることができる。
　赤外線透過フィルタ１１４の分光特性、膜厚等の測定方法を以下に示す。
　膜厚は、膜を有する乾燥後の基板を、触針式表面形状測定器（ＵＬＶＡＣ社製　ＤＥＫＴＡＫ１５０）を用いて測定した。
　膜の分光特性は、紫外可視近赤外分光光度計（日立ハイテクノロジーズ社製　Ｕ－４１００）を用いて、波長３００～１３００ｎｍの範囲において透過率を測定した値である。
　上述した分光特性を有する赤外線透過フィルタ１１４は、可視光を遮光する色材を含む組成物を用いて形成できる。可視光を遮光する色材の詳細については、上述した本発明の組成物で説明した範囲と同様である。
　また、例えば、赤外ＬＥＤの発光波長が９４０ｎｍである場合、赤外線透過フィルタ１１４は、膜の厚み方向における光の透過率の、波長４５０～６５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下であり、膜の厚み方向における、波長８３５ｎｍの光の透過率が２０％以下であり、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上であることが好ましい。
　上述した分光特性を有する赤外線透過フィルタ１１４は、可視光を遮光する色材と、波長７５０～９５０ｎｍの範囲に極大吸収を有する化合物とを含む組成物を用いて製造できる。可視光を遮光する色材の詳細については、上述した本発明の組成物で説明した範囲と同様である。波長７５０～９５０ｎｍの範囲に極大吸収を有する化合物としては、上述した本発明の組成物で説明した化合物（１）などが挙げられる。また、可視光を遮光する色材を含有する本発明の組成物を用いて形成することもできる。
＜化合物＞
　次に、本発明の化合物について説明する。
　本発明の化合物は、本発明の組成物で説明した式（１）で表される化合物（化合物（１））であり、好適な範囲も上述した範囲と同様である。本発明の化合物は、赤外線吸収剤として好ましく用いることができる。また、顔料誘導体として用いることもできる。本発明の化合物は、例えば、波長７００～１０００ｎｍの光を遮光する近赤外線カットフィルタなどの形成に好ましく用いることができる。また、プラズマディスプレイパネルや固体撮像素子用等の近赤外線カットフィルタ、熱線遮蔽フィルムなどの光学フィルタ、追記型光ディスク（ＣＤ－Ｒ）やフラッシュ溶融定着材料における光熱変換材料としても用いることができる。また、セキュリティインクや、不可視バーコードインクにおける情報表示材料として用いることもできる。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は、質量基準である。
＜合成例＞
（化合物Ｄ－１４の合成例）
　下記スキームに従い化合物Ｄ－１４を合成した。
　４－（１－メチルヘプトキシ）ベンゾニトリルを原料にして、米国特許第５，９６９，１５４号明細書に記載された方法に従って、化合物Ｄ－１４－ａを合成した。
　化合物Ｄ－１４－ａの５０質量部と、２－（２－（６，７－ジクロロ－キノキサリル））アセトニトリルの５２．４質量部とをトルエン１０００質量部中で攪拌し、次いで、オキシ塩化リンの１２７質量部を滴下し、３．５時間加熱還流した。反応終了後、内温２５℃まで冷却し、内温３０℃以下を維持しつつメタノール１０００質量部を６０分間かけて滴下した。滴下終了後、室温で３０分間攪拌した。析出した結晶をろ別し、メタノール５００質量部で洗浄した。得られた結晶にメタノール５００質量部を加えて、３０分間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を４０℃で１２時間送風乾燥して化合物Ｄ－１４－ｂを５６．６質量部得た。
　ジフェニルボリン酸２－アミノエチルエステルの５１質量部を、１，２－ジクロロベンゼンの５００質量部中で攪拌し、反応装置の設定温度を４０℃として、そこへ四塩化チタンの７２．２質量部を１０分間かけて滴下し、３０分間攪拌した。さらにそこへ、化合物Ｄ－１４－ｂの２５質量部を添加し、設定温度を１３０℃まで昇温し、９０分間加熱還流した。内温が３０℃になるまで放冷したのち、内温を３０℃以下に維持しつつ還流後の溶液にメタノール１０００質量部を滴下した。滴下後３０分間攪拌し、結晶をろ別し、メタノール５００質量部で洗浄した。得られた結晶に２５０質量部のメタノールを加えて３０分間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を４０℃で１２時間送風乾燥して、化合物Ｄ－１４－ｃを２５質量部得た。
　化合物Ｄ－１４－ｃの２４質量部をテトラヒドロフラン７００質量部中で攪拌し、そこへトリエチルアミン８９．２質量部およびベンゾイルクロライド２５．２質量部をこの順で滴下した。反応装置の設定温度を７５℃まで昇温し１時間加熱還流した。内温が３０℃になるまで放冷し、内温を３０℃以下に維持しつつ還流後の溶液にメタノール４００質量部を滴下した。滴下後３０分間攪拌し、結晶をろ別し、メタノール５００質量部で洗浄した。得られた結晶に５００質量部のメタノールを加えて１時間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別した。得られた結晶を４０℃で１２時間送風乾燥させることで、化合物Ｄ－１４を２０質量部得た。
　化合物Ｄ－１４の核磁気共鳴分析（1Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3））：δ：９．０５（ｓ、２Ｈ）、８．３２～８．２９（ｍ、６Ｈ）、７．８１（ｓ、２Ｈ）、７．７５～７．６８（ｍ、２Ｈ）、７．５９～７．５５（ｍ、４Ｈ）、７．３８～７．３６（ｍ、１０Ｈ）、７．２６～７．１９（ｍ、１０Ｈ）、６．９６（ｄ、４Ｈ）、６．３５（ｄ、４Ｈ）
　ＭＡＬＤＩ－ＭＳ（Ｍａｔｒｉｘ　Ａｓｓｉｓｔｅｄ　Ｌａｓｅｒ　Ｄｅｓｏｒｐｔｉｏｎ／Ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ－Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）により、分子量１２９４．２のピークが観測され、化合物Ｄ－１４であると同定した。
　化合物Ｄ－１４の極大吸収波長（λｍａｘ）は、クロロホルムで測定したところ８８３ｎｍであった。
　本合成例において、得られた化合物Ｄ－１４に対し、濃度を調整したＨＣｌ溶液を用いた洗浄工程を加えることで、不純物（特に不純物金属イオン、金属塩等）を大幅に低減することもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
（化合物Ｄ－４４の合成例）
　下記スキームに従い化合物Ｄ－４４を合成した。
　トリメリット酸無水物の６５質量部をＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）４５０質量部に溶解し、氷冷下、トリデシルアミン（東京化成工業株式会社製、分岐鎖異性体混合物）の７０．８質量部を内温が３０℃以下になるように滴下した。この反応液を２０～３０℃で２０分間撹拌した後、反応装置の設定温度を１５５℃まで昇温し、３時間加熱還流した。この反応液を３０℃まで放冷したのち、酢酸エチル３００ｍＬを添加し、ついで、氷冷下の１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水３００ｍＬを内温を３０℃以下に維持して滴下した。滴下後の溶液を２０～３０℃で３０分間撹拌した後、分液操作をおこなって水層を廃棄し、有機層に１ｍｏｌ／Ｌ塩酸水３００ｍＬを添加して２０～３０℃で３０分間撹拌した。分液操作をおこなって水層を廃棄し、有機層に硫酸マグネシウムを添加して２０～３０℃で１０分間撹拌した。この有機層をろ過し、ろ液を６０℃で減圧濃縮して、化合物Ｄ－４４－Ｅを１１４質量部得た。
　化合物Ｄ－４４－Ｅの核磁気共鳴分析（1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3））：δ　０．５６－１．８０（ｍ，２５Ｈ），３．６３－３．８０（ｍ，２Ｈ），７．８９－８．００（ｍ，１Ｈ），８．４３－８．５１（ｍ，１Ｈ），８．５４（ｓ，１Ｈ），１１．７（ｂｒ　ｓ，１Ｈ）
　化合物Ｄ－４４－Ｅの２０質量部を、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）の８０質量部に溶解し、氷冷下にて、塩化オキサリルの１０．２質量部、ＤＭＦの０．０９質量部を内温が３０℃以下になるように滴下した。この反応液を４０℃で６０分間撹拌した後、４０℃で減圧濃縮し、化合物Ｄ－４４－Ｆを２１．０質量部得た。
　化合物Ｄ－４４－Ｇと、化合物Ｄ－４４－Ｆを用い、化合物Ｄ－１４の合成と同様の操作にて、化合物Ｄ－４４を合成した。
　化合物Ｄ－４４の核磁気共鳴分析（1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3））：δ　０．５７－１．８９（ｍ，５０Ｈ），２．０７－２．２２（ｓ，６Ｈ），３．５４－３．８６（ｍ，４Ｈ），６．２３－６．３８（ｍ，２Ｈ），６．５４－６．７９（ｍ，４Ｈ），６．８７－７．４１（ｍ，２８Ｈ），７．９３－８．０５（ｍ，２Ｈ），８．４３－８．５４（ｍ，２Ｈ），８．５８（ｓ，２Ｈ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
　（化合物Ｄ－４３、Ｄ－４５～Ｄ－８４の合成例）
　化合物Ｄ－１４およびＤ－４４の合成例と同様の方法で合成した。
なお、Ｄ－６３およびＤ－６４の中間体として使用する化合物Ｄ－６３－Ｅは下記の通り合成した。
　（化合物Ｄ－６３－Ｅの合成）
　トリメリット酸無水物６０質量部をＤＭＦ４２０質量部に溶解し、氷冷下にて、３－ジエチルアミンプロピルアミン４２．７質量部を、内温が３０℃以下に維持して滴下した。この反応液を２０～３０℃で２０分間撹拌した後、反応装置の設定温度を１５５℃まで昇温し、３時間加熱還流した。この反応液を３０℃まで放冷して酢酸エチル４２０ｍＬを添加し、２０～３０℃で２０分間撹拌した。この反応液をろ過し、酢酸エチル４２０ｍＬでかけ洗いし、化合物Ｄ－４４－Ｅを９０質量部得た。
　化合物Ｄ－６３－Ｅの核磁気共鳴分析（1Ｈ－ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3））：　δ　１．２２（ｔ，６Ｈ），１．９８－２．１２（ｍ，２Ｈ），３．１１－３．２５（ｍ，６Ｈ），３．７１（ｔ，２Ｈ），７．７７－７．８２（ｍ，１Ｈ），８．１０（ｓ，１Ｈ），８．１３－８．１８（ｍ，１Ｈ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
＜試験例１＞
　下記表に示す化合物を、下記表に記載の測定溶媒に溶かし（濃度２．５×１０-6ｍｏｌ／Ｌ）、吸収スペクトルを測定した（光路長１０ｍｍ）。各化合物の吸収スペクトルから、各化合物の極大吸収波長、極大吸収波長の吸光度Ａmax、波長４５０ｎｍの吸光度Ａ450をそれぞれ求めた。各化合物の極大吸収波長、及び、吸光度Ａ450を吸光度Ａmaxで割った値である吸光度比（吸光度Ａ450／吸光度Ａmax）を下記の表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
　化合物Ｄ－１、Ｄ－２、Ｄ－３、Ｄ－６、Ｄ－８、Ｄ－９、Ｄ－１２、Ｄ－１３、Ｄ－１４、Ｄ－１５、Ｄ－１７、Ｄ－１９、Ｄ－２０、Ｄ－２２、Ｄ－２３、Ｄ－３４、Ｄ－３７、Ｄ－４０、Ｄ－４３～Ｄ－８４：上述した化合物（１）の具体例で示した構造を有する化合物。
　化合物Ｅ－１：下記構造を有する化合物。構造式中、Ｐｈはフェニル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
　上記表に示す通り、実施例の化合物は、吸光度比が０．０１５以下であり、可視透明性に優れていた。これに対し、比較例の化合物は、吸光度比が０．０１５を超えており、可視透明性が実施例の化合物よりも劣っていた。
＜試験例２＞
　下記の表に示す成分を、下記の表に示す割合で混合および撹拌した後、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）で混合物をろ過して、組成物を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
　なお、実施例２―４６～２－５０においては、化合物（１）以外の近赤外線吸収化合物（Ｄ－１００～Ｄ－１０４）を配合した。
　化合物Ｄ－３４～Ｄ－５０、Ｄ－５２、Ｄ－５５、Ｄ－５７～Ｄ－６１、Ｄ－６５～Ｄ－８３：上述した化合物（１）の具体例で示した構造を有する化合物。
　化合物Ｄ－１００～Ｄ－１０４：下記構造を有する化合物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
　重合性化合物：下記化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３の混合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
　光重合開始剤：ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）
　界面活性剤：メガファックＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３０質量％溶液）
　重合禁止剤：ｐ－ヒドロキシフェノール
　有機溶剤：シクロヘキサノン
（膜の製造）
　得られた各組成物をガラス基材上に、製膜後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコート塗布し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2で全面露光した。次いで、ホットプレートを用いて、ガラス基材を２２０℃で５分間加熱し、膜を製造した。
　膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、波長４００～１３００ｎｍの範囲で透過率を測定した。これらの膜は、可視透明性および赤外線遮蔽性に優れていた。
　上記の組成物に対し、さらに可視光を遮光する色材を配合することで、所定の赤外線を選択的に透過させる赤外線透過フィルタを製造することができる。
＜試験例３＞
（色材溶液１～２９の調製）
　下記表に記載の化合物（１）と、下記表に記載の顔料誘導体と、下記表に記載の樹脂と、１５０質量部のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）と、２３０質量部の直径が０．３ｍｍのジルコニアビーズとを混合し、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ジルコニアビーズをろ過により分離して色材溶液１～２９を調製した。化合物（１）と、顔料誘導体と、樹脂との配合量は表に記載のとおりである。なお、色材溶液１６、１８、２８においては化合物Ｄ－６３を顔料誘導体として用いた。また、色材溶液１９、２９においては、化合物Ｄ－６４を顔料誘導体として用いた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
　化合物Ｄ－１、Ｄ－３、Ｄ－８、Ｄ－１２、Ｄ－１４、Ｄ－１５、Ｄ－１９、Ｄ－２０、Ｄ－３０、Ｄ－３３、Ｄ－３６、Ｄ－３９、Ｄ－４５、Ｄ－５１、Ｄ－５３、Ｄ－５４、Ｄ－５６、Ｄ－６２、Ｄ－６３、Ｄ－６４、Ｄ－８０、Ｄ－８４：上述した化合物（１）の具体例で示した構造を有する化合物。
　顔料誘導体１：下記構造を有する化合物。構造式中、Ｐｈはフェニル基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
　樹脂１：下記構造を有する樹脂（酸価＝１０５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝８０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
　樹脂２：下記構造を有する樹脂（酸価＝３２．３ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価＝４５．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝２２９００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　樹脂３：下記構造を有する樹脂（酸価＝９９．１ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量＝３８０００）。主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表し、側鎖に付記した数値は、繰り返し単位の数を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
（組成物の調製）
　下記の成分を混合して組成物を調製した。
　・上記で得られた色材溶液：５５質量部
　・樹脂（アクリベースＦＦ－４２６、（株）日本触媒製）：７．０質量部
　・重合性化合物（アロニックス　Ｍ－３０５、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物、ペンタエリスリトールトリアクリレート５５～６３質量％含有、東亞合成（株）製）：４．５質量部
　・光重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２、ＢＡＳＦ社製）：０．８質量部
　・重合禁止剤（ｐ－ヒドロキシフェノール）：０．００１質量部
　・界面活性剤（下記混合物（Ｍｗ＝１４０００）。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％は質量％である。）：０．０３質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
　・紫外線吸収剤（ＵＶ－５０３、大東化学（株）製）：１．３質量部
　・ＰＧＭＥＡ：３１質量部
（膜の製造）
　各組成物をガラス基材上に、製膜後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコート塗布し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ2で全面露光した。次いで、ホットプレートを用いて、２２０℃で５分間加熱し、膜を製造した。
　膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて、波長４００～１３００ｎｍの範囲で透過率を測定した。これらの膜は、可視透明性および赤外線遮蔽性に優れていた。
　上記の組成物に対し、さらに可視光を遮光する色材を配合することで、所定の赤外線を選択的に透過させる赤外線透過フィルタを製造することができる。
１１０：固体撮像素子、１１１：近赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (17)

  1. 　下記式（１）で表される化合物と、樹脂と、溶剤とを含有する組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    　式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、
    　Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、
    　ｎは１～３の整数を表し、
    　Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
    　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
    　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素原子または－ＢＲ21aＲ22aを表し、
    　Ｒ21aおよびＲ22aは、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ21aとＲ22aは互いに結合して環を形成していてもよい。
  2. 　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表す、請求項１に記載の組成物。
  3. 　Ｒ7～Ｒ10の少なくとも一つがハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表す、請求項１に記載の組成物。
  4. 　Ｒ7およびＲ9は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ基またはシアノ基を表し、Ｒ8およびＲ10は、水素原子を表す、請求項１に記載の組成物。
  5. 　前記式（１）で表される化合物は、波長７００～１０００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有し、波長４５０ｎｍの吸光度Ａ450を、前記極大吸収波長の吸光度Ａmaxで割った値であるＡ450／Ａmaxが０．０１５以下である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 　更に、有彩色着色剤を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  7. 　更に、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材を含む、請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物。
  8. 　更に、ラジカル重合性化合物および光重合開始剤を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の組成物。
  9. 　請求項１～８のいずれか１項に記載の組成物からなる膜。
  10. 　請求項９に記載の膜を有する光学フィルタ。
  11. 　前記光学フィルタが、近赤外線カットフィルタまたは赤外線透過フィルタである、請求項１０に記載の光学フィルタ。
  12. 　請求項９に記載の膜の画素と、
    　赤、緑、青、マゼンタ、黄、シアン、黒および無色から選ばれる少なくとも１種の画素とを有する、請求項１０または１１に記載の光学フィルタ。
  13. 　請求項９に記載の膜と、有彩色着色剤を含むカラーフィルタとを有する積層体。
  14. 　請求項９に記載の膜を有する固体撮像素子。
  15. 　請求項９に記載の膜を有する画像表示装置。
  16. 　請求項９に記載の膜を有する赤外線センサ。
  17. 　下記式（１）で表される化合物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    　式（１）中、Ｒ1およびＲ2は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、フルオロアルキル基、－ＯＣＯＲ11、－ＳＯＲ12または－ＳＯ2Ｒ13を表し、
    　Ｒ11～Ｒ13は、それぞれ独立に、炭化水素基またはヘテロアリール基を表し、
    　ｎは１～３の整数を表し、
    　Ｒ3～Ｒ6は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ3とＲ4、Ｒ5とＲ6は、それぞれ結合して環を形成していてもよく、
    　Ｒ7～Ｒ10は、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、
    　Ｘ1およびＸ2は、それぞれ独立に、水素原子または－ＢＲ21aＲ22aを表し、
    　Ｒ21aおよびＲ22aは、それぞれ独立に、置換基を表し、Ｒ21aとＲ22aは互いに結合して環を形成していてもよい。
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