WO2021256116A1 - 赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ - Google Patents

赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ Download PDF

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季彦 松村
賢 鮫島
結美 加藤
良司 折田
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富士フイルム株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an infrared absorbing composition containing an infrared absorbing dye.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, and an infrared sensor using a composition containing an infrared absorbing dye.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the infrared cut filter is manufactured using a composition containing an infrared absorbing dye.
  • Patent Document 1 describes a resin composition containing an oxocarbon compound and a resin, wherein the uncured product of the resin composition has one or more absorption peaks having maximum absorption in the range of a wavelength of 600 nm or more and 1100 nm or less. Described is an invention relating to a resin composition having a cured product having more absorption peaks in a wavelength range of 600 nm or more and 1100 nm or less than an uncured product.
  • the present invention provides: ⁇ 1> An infrared absorbing composition containing particles of an infrared absorbing dye and a solvent.
  • the maximum absorption wavelength of the particles in the infrared absorption composition is 2 or more in the wavelength range of 650 to 1500 nm, and the absorbance at the maximum absorption wavelength on the shortest wave side in the above range is the second short wave.
  • An infrared absorption composition having an absorbance of 0.6 to 2.0 when the absorbance at the maximum absorption wavelength existing on the side is 1.
  • the infrared absorbing dye is a pyrrolopyrrole compound having at least one group represented by the formula (1) and one or more groups represented by the formula (2), and the group represented by the formula (1) and the formula (1).
  • An infrared absorbing composition which is at least one selected from a squarylium compound having one or more groups represented by 2);
  • R 1a represents an alkyl group, a halogen atom, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a cyano group
  • R 1b represents a substituent
  • n1 represents an integer of 0 to 4.
  • L 1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1- , -CO-, -COO-, -OCO-.
  • the maximum absorption wavelength existing on the shortest wave side of the particles is on the short wave side of the wavelength at which the dye solution obtained by dissolving the infrared absorbing dye constituting the particles in a good solvent of the infrared absorbing dye exhibits the largest absorbance.
  • the number of maximum absorption wavelengths that the particles show in the infrared absorbing composition in the wavelength range of 650 to 1500 nm is a dye obtained by dissolving the infrared absorbing dye constituting the particles in a good solvent of the infrared absorbing dye.
  • the infrared absorbing composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the infrared absorbing dye is a compound represented by the formula (PP-1);
  • R 1a represents an alkyl group, a halogen atom, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a cyano group.
  • R1b represents a substituent and represents a substituent.
  • R 2 represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
  • R 3 , R 4 , R 5 and R 6 independently represent a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group or a heteroaryl group, respectively.
  • R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 9 R 10 or a metal atom, respectively.
  • R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or a heteroaryloxy group, respectively.
  • R 9 and R 10 may be coupled to each other to form a ring.
  • R 7 may be covalently or coordinated with R 3 or R 5.
  • R 8 may be covalently or coordinated with R 2 , R 4 or R 6.
  • L 1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1- , -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 -or. Represents an n2 + 1 valent linking group consisting of these combinations, or a single bond.
  • RL1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • X 1 represents an acid group or a basic group.
  • n1 represents an integer from 0 to 4 and represents n2 represents an integer of 1 or more and represents m represents an integer of 1 or more.
  • n9> The infrared absorbing composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, further comprising a curable compound.
  • ⁇ 11> A film using the infrared absorbing composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
  • ⁇ 12> An optical filter containing the film according to ⁇ 11>.
  • ⁇ 13> A solid-state image sensor including the film according to ⁇ 11>.
  • ⁇ 14> An image display device including the film according to ⁇ 11>.
  • ⁇ 15> An infrared sensor including the film according to ⁇ 11>.
  • an infrared absorbing composition a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, and an infrared sensor capable of forming a film having excellent infrared shielding properties.
  • the contents of the present invention will be described in detail.
  • "to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as the lower limit value and the upper limit value.
  • the notation not describing substitution and non-substituent also includes a group having a substituent (atomic group) as well as a group having no substituent (atomic group).
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the term "exposure” includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Examples of the light used for exposure include the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, active rays such as electron beams, or radiation.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth) acrylate” represents both acrylate and methacrylate, or either
  • “(meth) acrylic” represents both acrylic and methacrylic, or either.
  • Acryloyl represents both acryloyl and / or methacryloyl.
  • weight average molecular weight and number average molecular weight are defined as polystyrene-equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurements.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • infrared rays refer to light (electromagnetic waves) having a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • the total solid content means the total mass of all the components of the composition excluding the solvent.
  • the pigment means a coloring material that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the term "process" is included in this term not only as an independent process but also as long as the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • the first aspect of the infrared absorbing composition of the present invention is An infrared absorbing composition containing particles of an infrared absorbing dye and a solvent.
  • the maximum absorption wavelength indicated by the particles in the infrared absorption composition is 2 or more in the wavelength range of 650 to 1500 nm, and the absorbance at the maximum absorption wavelength present on the shortest wave side in the above range is the second short wave side. It is characterized in that it is 0.6 to 2.0 when the absorbance at the maximum absorption wavelength existing in is 1.
  • the first aspect of the infrared absorbing composition of the present invention can form a film having excellent infrared shielding properties capable of shielding infrared rays in a wide wavelength range by containing the above-mentioned particles. Further, according to the first aspect of the infrared absorbing composition of the present invention, a film capable of shielding infrared rays in a wide wavelength range with only one kind of infrared absorbing dye without using a plurality of kinds of infrared absorbing dyes can be obtained. It can also be formed.
  • One embodiment of the particles satisfying the above spectral characteristics includes particles of an infrared absorbing dye having one or more groups represented by the formula (1) and groups represented by the formula (2).
  • the detailed reason why the above spectral characteristics can be achieved by using the infrared absorbing dye particles having such a structure is unknown, but it is presumed to be due to the following.
  • the infrared absorbing dye is dissolved in a solvent and used, it can move freely in the solution, so that it shows only the absorption peak derived from a single molecule of the infrared absorbing dye.
  • the side having the group represented by the formula (2) of the infrared absorbing dye is the solvent side in the infrared absorbing composition at the time of dispersion. It is presumed that they form a meeting so that they face each other. Since the group represented by the formula (1) has a substituent at the ortho position of the benzene ring, the infrared absorbing dye has the group represented by the formula (1) and thus absorbs infrared rays due to steric hindrance. It is presumed that the dyes do not easily overlap in parallel, the transition moments are arranged diagonally, and the infrared absorbing dyes associate with each other so as to be oriented diagonally.
  • Particles of an infrared absorbing dye having one or more groups represented by the formula (1) and a group represented by the formula (2), which will be described later, are in such an associated state (hereinafter, specified) in the infrared absorbing composition.
  • the absorption peak of the infrared absorbing dye shifts to the short wave side or the long wave side, and as a result, the absorption peak derived from a specific state in addition to the absorption peak derived from a single molecule of the infrared absorbing dye. Is presumed to occur, and it is presumed that the above spectral characteristics can be achieved.
  • the second aspect of the infrared absorbing composition of the present invention is An infrared absorbing composition containing particles of an infrared absorbing dye and a solvent.
  • the infrared absorbing dye is a pyrrolopyrrole compound having at least one group represented by the formula (1) and one or more groups represented by the formula (2), and the group represented by the formula (1) and the formula (1). It is characterized in that it is at least one selected from a squarylium compound having one or more groups represented by 2).
  • the second aspect of the infrared absorbing composition of the present invention can form a film having excellent infrared shielding properties capable of shielding infrared rays in a wide wavelength range by containing the above-mentioned particles. Further, also in the second aspect of the infrared absorbing composition of the present invention, a film capable of shielding infrared rays in a wide wavelength range is formed by using only one kind of infrared absorbing dye without using a plurality of kinds of infrared absorbing dyes. You can also do it.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can be used for ink (ink composition).
  • the ink composition include printing inks and inkjet inks.
  • a solvent containing water can also be used. That is, the infrared absorbing composition of the present invention can also be used as an aqueous ink composition.
  • the solid content concentration of the infrared absorbing composition is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 1 to 30% by mass. ..
  • the infrared absorbing composition of the present invention can also be used as a composition for an optical filter.
  • the optical filter include an infrared cut filter and an infrared transmission filter.
  • the infrared absorbing composition of the present invention it is preferable that the infrared absorbing composition of the present invention further contains a resin.
  • the solid content concentration of the infrared absorbing composition is preferably 1 to 70% by mass, more preferably 2 to 60% by mass. preferable. It is more preferably 5 to 50% by mass.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains particles of an infrared absorbing dye (hereinafter referred to as specific particles) that satisfy the following requirement 1 or requirement 2.
  • (Requirement 1) It is a particle of an infrared absorbing dye, and the maximum absorption wavelength indicated by this particle in the infrared absorbing composition is 2 or more in the wavelength range of 650 to 1500 nm, and is present on the shortest wave side in the above range.
  • the absorbance at the maximum absorption wavelength is 0.6 to 2.0 when the absorbance at the maximum absorption wavelength existing on the second short wave side is 1.
  • the absorbance at the maximum absorption wavelength existing on the short wave side is preferably 0.8 to 1.8 when the absorbance at the maximum absorption wavelength existing on the second short wave side is 1. It is more preferably 0.0 to 1.6.
  • a pyrrolopyrrole compound which is a particle of an infrared absorbing dye and the infrared absorbing dye has at least one group represented by the formula (1) and one or more groups represented by the formula (2). It is at least one selected from a squarylium compound having at least one group represented by the formula (1) and one or more groups represented by the formula (2).
  • the infrared absorbing dye is preferably a pyrrolopyrrole compound having at least one group represented by the formula (1) and one or more groups represented by the formula (2).
  • R 1a represents an alkyl group, a halogen atom, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a cyano group
  • R 1b represents a substituent
  • n1 represents an integer of 0 to 4.
  • L 1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1- , -CO-, -COO-, -OCO-.
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group
  • X 1 represents a group or a basic group
  • N2 represents an integer of 1 or more
  • * represents a concatenated hand.
  • n2 is an integer of 2 or more
  • L 1 represents a trivalent or more linking groups.
  • Examples of the halogen atom represented by R 1a include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group represented by R 1a is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, further preferably 1 to 10, further preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 3. preferable.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the carbon number of the alkenyl group represented by R 1a is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, further preferably 2 to 10, and even more preferably 2 to 5.
  • the carbon number of the alkynyl group represented by R 1a is preferably 2 to 30, more preferably 2 to 20, further preferably 2 to 10, and even more preferably 2 to 5.
  • the aryl group represented by R 1a preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group represented by R 1a is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 12. Examples of the types of heteroatoms constituting the heteroaryl group include nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensation number of 2 to 8, and even more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of 2 to 4.
  • the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 1a may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • the substituent is preferably a group other than the group represented by the formula (2).
  • R 1a of the formula (1) is preferably an alkyl group, a halogen atom or an aryl group, more preferably an alkyl group or an aryl group, and even more preferably an alkyl group.
  • the substituent represented by R 1b of the formula (1) includes an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group, an acyl group, an alkylcarbonyl group and an aryl.
  • These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent
  • N1 in the equation (1) represents an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0.
  • L 1 of the formula (2) is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1- , -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 - or represents a n2 + 1 valent linking group of a combination thereof,
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. If n2 is 1, L 1 may be a single bond.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 2 to 20, further preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 5.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic. Further, the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
  • the aliphatic hydrocarbon group may have a substituent.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a monocyclic or an aromatic hydrocarbon group having a fused ring having 2 to 4 condensation numbers, and more preferably a monocyclic aromatic hydrocarbon group.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a benzene ring group.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a fused ring having 2 to 4 condensation numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • heterocyclic group examples include piperazine ring group, pyrrolidine ring group, pyrrole ring group, piperidine ring group, pyridine ring group, imidazole ring group, pyrazole ring group, oxazole ring group, thiazole ring group, pyrazine ring group and morpholine.
  • the aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent.
  • substituents include the groups listed in Substituent T described later.
  • Number of carbon atoms of the alkyl group R L1 represents preferably 1 to 20, more preferably from 1 to 15, 1 to 8 are more preferred.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • Alkyl group R L1 represents may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • the number of carbon atoms of the aryl group R L1 represents is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • Aryl groups R L1 represents may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • Examples of the acid group represented by X 1 of the formula (2) include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a sulfonimide group, a sulfonamide group and salts thereof.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K +, etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+, etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ions.
  • Examples of the basic group represented by X 1 of the formula (2) include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimidemethyl group.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • Examples of the amino group include a group represented by ⁇ NRx 1 Rx 2 and a cyclic amino group.
  • Rx 1 and Rx 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and are preferably alkyl groups.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable, and linear is more preferable.
  • the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later. Further, Rx 1 and Rx 2 may be combined to form a ring.
  • Examples of the cyclic amino group include a pyrrolidine group, a piperidine group, a piperazine group, a morpholine group and the like. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later. Specific examples of the substituent include an alkyl group and an aryl group.
  • X 1 of the formula (2) is represented by a sulfo group, a phosphate group, a group represented by the formula (X-1), a group represented by the formula (X-2), and a group represented by the formula (X-3).
  • a group or a group represented by the formula (X-4) is preferable, and a sulfo group, a group represented by the formula (X-1) or a group represented by the formula (X-3) is more preferable.
  • R 100 to R 106 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group or an aryl group, and R 100 and R 101 are linked to each other to form a ring.
  • M represents an atom or a group of atoms constituting an anion and a salt.
  • M include alkali metal ions (Li + , Na + , K +, etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+, etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ions, and the like.
  • N2 in the formula (2) represents an integer of 1 or more, and is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • substituent T examples include the following groups.
  • Halogen atom eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group Preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heteroaryl group preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an amino group preferably an amino group.
  • Amino groups having 0 to 30 carbon atoms alkoxy groups (preferably alkoxy groups having 1 to 30 carbon atoms), aryloxy groups (preferably aryloxy groups having 6 to 30 carbon atoms), heteroaryloxy groups (preferably carbon atoms).
  • a heteroaryloxy group having a number of 1 to 30 an acyl group (preferably an acyl group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms), and an aryloxycarbonyl group (preferably an acyl group having 2 to 30 carbon atoms).
  • an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms an aminocarbonylamino group (preferably an aminocarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms).
  • Aryloxycarbonylamino group (preferably aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms), sulfamoyl group (preferably sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms), sulfamoylamino group (preferably 0 to 30 carbon atoms).
  • Sulfamoylamino group carbamoyl group (preferably carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms), alkylthio group (preferably an alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms), arylthio group (preferably arylthio group having 6 to 30 carbon atoms).
  • a heteroarylthio group preferably a heteroarylthio group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkylsulfonyl group preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkylsulfonylamino group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • alkylsulfonylamino groups arylsulfonyl groups (preferably arylsulfonyl groups with 6 to 30 carbon atoms), arylsulfonylamino groups (preferably arylsulfonylamino groups with 6 to 30 carbon atoms), heteroaryls A ruhonyl group (preferably a heteroarylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms), a heteroarylsulfonylamino group (preferably a heteroarylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms), an alkylsulfinyl group (preferably a heteroarylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms).
  • Alkyl sulfinyl group arylsulfinyl group (preferably arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms), heteroarylsulfinyl group (preferably heteroarylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably 1 to 30 carbon atoms).
  • ureido groups hydroxy group, nitro group, carboxyl group, sulfo group, phosphoric acid group, carboxylic acid amide group, sulfonic acid amide group, imide group, phosphino group, mercapto group, cyano group, alkylsulfino group, aryl Sulfino group, arylazo group, heteroarylazo group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, silyl group, hydrazino group, imino group.
  • These groups may further have a substituent if they are further substitutable groups. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
  • the particles satisfying the above requirement 1 are preferably particles of an infrared absorbing dye having at least one group represented by the above formula (1) and one or more groups represented by the above formula (2).
  • Examples of the infrared absorbing dye constituting the specific particles satisfying the above requirement 1 include pyrrolopyrrole compounds, squarylium compounds, pyrromethene compounds, croconium compounds and cyanine compounds, preferably pyrrolopyrrole compounds and squarylium compounds. It is more preferably a pyrrole compound.
  • the particles satisfying the above requirement 2 further satisfy the characteristics of the above requirement 1.
  • the difference ( ⁇ 2- ⁇ 1 ) from the maximum absorption wavelength ( ⁇ 2 ) existing on the side is preferably 20 to 90 nm, more preferably 30 to 80 nm, and even more preferably 35 to 70 nm.
  • the maximum absorption wavelength existing on the short wave side of a specific particle is on the short wave side of the wavelength at which the dye solution obtained by dissolving the infrared absorbing dye constituting the specific particle in a good solvent of the infrared absorbing dye shows the maximum absorbance. It is more preferable, it is more preferably present on the short wave side of 30 nm or more, and further preferably it is present on the short wave side of 50 nm or more. By using particles satisfying such spectral characteristics, it is possible to form a film having a good hem for absorbing infrared rays.
  • the good solvent of the infrared absorbing dye means a solvent in which the amount of the infrared absorbing dye dissolved in 100 g of the solvent at 25 ° C. is 0.1 g or more.
  • the good solvent is preferably a solvent in which the amount of the infrared absorbing dye dissolved in 100 g of the solvent at 25 ° C. is 0.1 g or more, and more preferably 0.2 g or more.
  • the type of good solvent varies depending on the type of infrared absorbing dye, and examples thereof include dimethyl sulfoxide and chloroform.
  • the maximum absorption wavelength of the specific particles in the infrared absorption composition is 3 or more in the wavelength range of 650 to 1500 nm.
  • the absorbance at the maximum absorption wavelength existing on the third short wave side is preferably 0.2 to 2 when the absorbance at the maximum absorption wavelength existing on the second short wave side is 1. It is more preferably 3 to 1.8, and even more preferably 0.4 to 1.5.
  • the difference ( ⁇ 3- ⁇ 1 ) between the maximum absorption wavelength ( ⁇ 1 ) existing on the short wave side and the maximum absorption wavelength ( ⁇ 3 ) existing on the third short wave side is preferably 60 to 200 nm. It is more preferably 70 to 170 nm, and even more preferably 80 to 150 nm.
  • the number of maximum absorption wavelengths that the specific particles indicate in the infrared absorption composition in the wavelength range of 650 to 1500 nm is such that the dye solution obtained by dissolving the infrared absorption dye constituting the specific particles in a good solvent of the infrared absorption dye has a wavelength of 650. It is preferably more than the number of maximum absorption wavelengths shown in the range of ⁇ 1500 nm.
  • the maximum absorption wavelength and the absorbance of the specific particles in the infrared absorption composition can be obtained by measuring the absorbance of the infrared absorption composition.
  • the absorbance of the composition obtained by excluding the specific particles of the kind other than the measurement target from the infrared absorbing composition is measured and obtained.
  • the maximum absorption wavelength and absorbance of the specific particles A in the infrared absorption composition are specified from the above infrared absorption composition. Obtained by measuring the absorbance of the composition excluding the particles B.
  • the maximum absorption wavelength and the absorbance of the specific particles B in the infrared absorption composition are determined by measuring the absorbance of the composition obtained by removing the specific particles A from the infrared absorption composition. Further, when the infrared absorbing composition contains materials such as an infrared absorber, a chromatic colorant, and a black colorant other than the specific particles in addition to the specific particles, these materials are excluded from the infrared absorbing composition. Obtained by measuring the absorbance of the composition.
  • the maximum absorption wavelength and the absorbance of the specific particles A in the infrared absorption composition are the above-mentioned infrared absorption composition. Obtained by measuring the absorbance of the composition obtained by removing the infrared absorber other than the specific particles from the substance.
  • the amount of the specific particles dissolved in 100 g of water at 25 ° C. is preferably 0.075 g or less, more preferably 0.05 g or less, and even more preferably 0.025 g or less.
  • the amount of the specific particles dissolved in 100 g of propylene glycol monomethyl ether at 25 ° C. is preferably 0.075 gg or less, more preferably 0.05 g or less, still more preferably 0.025 g or less.
  • the amount of the specific particles dissolved in 100 g of cyclopentanone at 25 ° C. is preferably 0.075 g or less, more preferably 0.05 g or less, and even more preferably 0.025 g or less.
  • the infrared absorbing dye constituting the specific particles is preferably a compound represented by the formula (PP-1). That is, the specific particles are preferably particles of the compound represented by the formula (PP-1).
  • R 1a represents an alkyl group, a halogen atom, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a cyano group.
  • R1b represents a substituent and represents a substituent.
  • R 2 represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group.
  • R 3 , R 4 , R 5 and R 6 independently represent a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group or a heteroaryl group, respectively.
  • R 7 and R 8 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 9 R 10 or a metal atom, respectively.
  • R 9 and R 10 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or a heteroaryloxy group, respectively.
  • R 9 and R 10 may be coupled to each other to form a ring.
  • R 7 may be covalently or coordinated with R 3 or R 5.
  • R 8 may be covalently or coordinated with R 2 , R 4 or R 6.
  • L 1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a nitrogen-containing heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1- , -CO-, -COO-, -OCO-, -SO 2 -Or represents an n2 + 1 valent linking group consisting of a combination of these, or a single bond.
  • RL1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • X 1 represents an acid group or a basic group.
  • n1 represents an integer from 0 to 4 and represents n2 represents an integer of 1 or more and represents m represents an integer of 1 or more. However, when n2 is an integer of 2 or more, L 1 represents a trivalent or more linking groups. "-L1- (X1) n2" can be bonded at a position where it can be bonded in the formula (PP-1). "
  • R 1a of the formula (PP-1), R 1b and n1 has the same meaning as R 1a, R 1b and n1 of formula (1), and preferred ranges are also the same.
  • L 1 , X 1 and n 2 of the formula (PP-1) are It is synonymous with L 1 , X 1 and n 2 of the formula (2), and the preferred range is also the same.
  • R 2 of the formula (PP-1) represents an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, and an aryl group or a heteroaryl group is preferable, and an aryl group is more preferable.
  • Number of carbon atoms of the aryl group represented by R 2 is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group represented by R 2 is from 1 to 30 preferably 1 to 12 is more preferred. Examples of the types of heteroatoms constituting the heteroaryl group include nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensation number of 2 to 8, and even more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of 2 to 4.
  • the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 2 may be unsubstituted or have a substituent. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
  • the R 2 has the formula (PP-1) of - it is preferable to "-L 1 (X 1) n2" is attached.
  • R 3 , R 4 , R 5 and R 6 of the formula (PP-1) independently represent a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group or a heteroaryl group, respectively.
  • One of R 3 and R 5, a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group or arylsulfinyl group, the other preferably represents a heteroaryl group, one cyano group R 3 and R 5 It is more preferable that the other represents a heteroaryl group.
  • R 4 and R 6 cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group or arylsulfinyl group, the other preferably represents a heteroaryl group, one cyano group R 4 and R 6 It is more preferable that the other represents a heteroaryl group.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group represented by R 3 to R 6 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 12.
  • Examples of the types of heteroatoms constituting the heteroaryl group include nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of 2 to 8, and even more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of condensed rings of 2 to 4.
  • the heteroaryl group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
  • R 7 and R 8 of the formula (PP-1) independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 9 R 10 or a metal atom, and shall be -BR 9 R 10. Is preferable.
  • Examples of the alkyl group, aryl group and heteroaryl group represented by R 7 and R 8 include the group described in R 2 described above, and the preferred range is also the same.
  • Examples of the metal atoms represented by R 7 and R 8 include magnesium, aluminum, calcium, barium, zinc, tin, aluminum, vanadium, iron, cobalt, nickel, copper, palladium, iridium, and platinum, and aluminum, zinc, and vanadium. , Iron, copper, palladium, iridium, platinum are preferred.
  • Examples of the halogen atom represented by R 9 and R 10 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group and the alkoxy group represented by R 9 and R 10 is preferably 1 to 40.
  • the lower limit is more preferably 3, for example.
  • the upper limit is, for example, more preferably 30 or less, still more preferably 25 or less.
  • the alkyl group and the alkoxy group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable.
  • the carbon number of the alkenyl group represented by R 9 and R 10 is preferably 2 to 40.
  • the lower limit is more preferably 3, for example.
  • the upper limit is, for example, more preferably 30 or less, still more preferably 25 or less.
  • the aryl group and the aryloxy group represented by R 9 and R 10 have preferably 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group and the aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and the like.
  • the heteroaryl group and the heteroaryloxy group represented by R 9 and R 10 may be monocyclic or polycyclic.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl ring of the heteroaryl group and the heteroaryloxy group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heteroaryl ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl ring is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, further preferably 3 to 12, and particularly preferably 3 to 5.
  • the heteroaryl ring is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heteroaryl group and the heteroaryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and the like.
  • Rb represents a substituent
  • Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • b1 to b3 independently represent an integer of 0 to 4
  • * represents an integer of 0 to 4, respectively.
  • Rb and Rb 1 to Rb 4 include the substituent described in the above-mentioned substituent T, and a halogen atom, an alkyl group and an alkoxy group are preferable.
  • R 7 of formula (PP-1) may be covalently or coordinated with R 3 or R 5
  • R 8 may be covalently or coordinated with R 2 , R 4 or R 6. You may be doing it.
  • M in the formula (PP-1) represents an integer of 1 or more, preferably an integer of 1 to 4, more preferably an integer of 1 to 3, and even more preferably 1 or 2. Is particularly preferable.
  • the compound represented by the formula (PP-1) is preferably a compound represented by the formula (PP-2).
  • the preferred range is similar.
  • M1 in the formula (PP-2) represents an integer of 1 to 4, preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and particularly preferably 1.
  • Specific examples of the compound represented by the formula (PP-1) include compounds having the following structures.
  • Me represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the content of the specific particles is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, still more preferably 10% by mass or more, and 15% by mass, based on the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the above is particularly preferable.
  • the upper limit of the content of the specific particles is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, and further preferably 50% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition may contain only one specific particle. It may contain two or more kinds. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents.
  • the organic solvent include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, carbonate-based solvents, hydrocarbon-based solvents and the like.
  • paragraph No. 0223 of International Publication No. 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • an ester solvent substituted with a cyclic alkyl group and a ketone solvent substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, cyclohexanone, 2-pentanone, 3-pentanone, 4-heptanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol Acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N
  • the organic solvent only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.
  • a first organic solvent which is an ester solvent and an ester solvent different from the first organic solvent, a ketone solvent, an amide solvent, and the like are used.
  • a second organic solvent containing at least one organic solvent selected from an ether solvent and a carbonate solvent is used in combination.
  • the boiling point of the second organic solvent is preferably 150 to 250 ° C.
  • the boiling point of the first organic solvent is preferably 100 to 200 ° C.
  • an organic solvent having a low metal content it is preferable to use an organic solvent having a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, an organic solvent at the mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Synthetic Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the organic solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the infrared absorbing composition of the present invention is used as an ink composition
  • water or a mixed solvent of water and an aqueous organic solvent examples include polyhydric alcohols such as glycerin, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,3-butanediol, and 2,3-butanediol; Sugar alcohols; Alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as ethanol, methanol, butanol, propanol and isopropanol; 2-Ethyl-2-methyl-1,3-propanediol, 3,3-dimethyl-1,2-butanediol, 2,2-diethyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-1,3-hexane Aliphatic diols such as diols, 2,2,4-trimethyl
  • the proportion of water in the mixed solvent is preferably 30 to 99% by mass, more preferably 40 to 99% by mass, and even more preferably 50 to 99% by mass.
  • the content of the solvent is preferably 10 to 97% by mass with respect to the total amount of the infrared absorbing composition.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, further preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. The above is particularly preferable.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, and more preferably 95% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of solvent, or may contain two or more types of solvent. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain an infrared absorber (another infrared absorber) other than the above-mentioned specific particles. Further, by containing another infrared absorber, it is possible to form a film capable of shielding infrared rays in a wider wavelength range.
  • the other infrared absorber may be a dye or a pigment (particle).
  • infrared absorbers include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonor compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, and pyromethene compounds. , Azomethin compound, anthraquinone compound, dibenzofuranone compound, dithiolene metal complex, metal oxide, metal borohydride and the like.
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include the compounds described in paragraphs 0016 to 0058 of JP2009-263614, the compounds described in paragraphs 0037-0052 of JP2011-066731A, and International Publication No. 2015/166783. Examples thereof include the compounds described in paragraphs 0010 to 0033.
  • Examples of the squarylium compound include the compounds described in paragraphs 0044 to 0049 of JP2011-208101A, the compounds described in paragraphs 0060 to 0061 of Patent No. 6065169, and paragraph numbers 0040 of International Publication No. 2016/181987. , The compound described in JP-A-2015-176046, the compound described in paragraph No. 0072 of International Publication No.
  • JP2012-077153 the oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP2013-195480.
  • Examples of the naphthalocyanine compound include the compounds described in paragraph No. 0093 of JP2012-07715A.
  • Examples of the dithiolene metal complex include the compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • the metal oxide include indium tin oxide, antimonthine oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, tungsten oxide and the like.
  • tungsten oxide paragraph number 0080 of JP-A-2016-006476 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the metal boride include lanthanum hexaboride.
  • examples of commercially available lanthanum hexaboride products include LaB 6- F (manufactured by Nippon Shinkinzoku Co., Ltd.).
  • the compound described in International Publication No. 2017/11394 can also be used.
  • examples of commercially available indium tin oxide products include F-ITO (manufactured by DOWA Hi-Tech Co., Ltd.).
  • Examples of the infrared absorber include a squarylium compound described in JP-A-2017-197437, a squarylium compound described in JP-A-2017-025311, a squarylium compound described in International Publication No. 2016/154782, and Patent No. 5884953.
  • Squarylium compound described in Japanese Patent Publication No. 6036689 Squalylium compound described in Japanese Patent No. 581604, Squalylium compound described in International Publication No. 2017/213047, Squarylium compound described in paragraphs 0090 to 0107 of International Publication No. 2017/213047, The pyrrole ring-containing compound described in paragraphs 0019 to 0075 of Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • Concatenated squalylium compound compound having a pyrrolbis-type squalylium skeleton or croconium skeleton described in JP-A-2017-141215, dihydrocarbazole-type squalylium compound described in JP-A-2017-082029, JP-A-2017-066120
  • the asymmetric compound described in paragraphs 0027 to 0114 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-067963, the pyrrol ring-containing compound (carbazole type) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-067963, the phthalocyanine compound described in Japanese Patent No. 6251530, and the like are used. You can also do it.
  • the other infrared absorber is preferably a pyrrolopyrrole compound, and more excellent dispersibility can be obtained. It is more preferable that the compound is represented by the formula (PP-100) because the storage stability of the composition can be improved.
  • R 51a and R 51c independently represent an alkyl group, a halogen atom, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heteroaryl group or a cyano group, respectively.
  • R 51b and R 51d each independently represent a substituent and represent a substituent.
  • R 53 , R 54 , R 55 and R 56 independently represent a cyano group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group or a heteroaryl group, respectively.
  • R 57 and R 58 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, -BR 59 R 60 or a metal atom, respectively.
  • R 59 and R 60 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group or a heteroaryloxy group, respectively.
  • R 59 and R 60 may be coupled to each other to form a ring.
  • R 57 may be covalently or coordinated with R 53 or R 55.
  • R 58 may be covalently or coordinated with R 54 or R 56.
  • n1 represents an integer from 0 to 4 and represents m1 represents an integer from 0 to 4.
  • R 51a and R 51c of the formula (PP-100) are synonymous with R 1a of the formula (PP-1), and the preferred range is also the same.
  • R 51b and R 51d of the formula (PP-100) are synonymous with R 1b of the formula (PP-1), and the preferred range is also the same.
  • R 53 to R 58 of the formula (PP-100) are synonymous with R 3 to R 8 of the formula (PP-1), and the preferred range is also the same.
  • N1 in the formula (PP-100) represents an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0.
  • M1 in the formula (PP-100) represents an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0.
  • infrared absorbers include infrared absorbent dyes B-1 to B-9 described in Examples described later.
  • the content of the other infrared absorber is preferably 5 to 1000 parts by mass, more preferably 10 to 500, and even more preferably 30 to 300 with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned specific particles.
  • the total content of the above-mentioned specific particles and other infrared absorbers is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, based on the total solid content of the infrared absorbing composition. It is more preferably 15% by mass or more.
  • the upper limit of the total content is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, and further preferably 50% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains the above-mentioned specific particles, it is possible to form a film capable of shielding infrared rays in a wide wavelength range without using another infrared absorber, and thus other infrared rays. It may also contain substantially no absorbent. Substantially free of other infrared absorbers means that the content of the other infrared absorbers in the total solid content of the infrared absorbing composition is 0.1% by mass or less, and is 0.05 mass by mass. % Or less, more preferably 0.01% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may further contain a dye derivative in addition to the above-mentioned specific particles.
  • the dye derivative include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to the dye skeleton.
  • the pigment skeletons constituting the pigment derivatives include squarylium pigment skeleton, pyrolopyrrole pigment skeleton, diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, quinacridone pigment skeleton, anthraquinone pigment skeleton, dianthraquinone pigment skeleton, benzoisoindole pigment skeleton, and thiazine indigo pigment skeleton.
  • Azo pigment skeleton, quinophthalone pigment skeleton, phthalocyanine pigment skeleton, naphthalocyanine pigment skeleton, dioxazine pigment skeleton, perylene pigment skeleton, perinone pigment skeleton, benzoimidazolone pigment skeleton, benzothiazole pigment skeleton, benzoimidazole pigment skeleton and benzoxazole pigment skeleton The squarylium pigment skeleton, the pyrolopyrrole pigment skeleton, the diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, the phthalocyanine pigment skeleton, the quinacridone pigment skeleton and the benzoimidazolone pigment skeleton are preferable, and the squarylium pigment skeleton and the pyrolopyrrole pigment skeleton are more preferable.
  • Examples of the acid group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a sulfonimide group, a sulfonamide group and salts thereof.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K +, etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+, etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ions.
  • Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimidemethyl group.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • the dye derivative include JP-A-56-118462, JP-A-63-264674, JP-A-01-217077, JP-A-03-09961 and JP-A-03-026767.
  • the content of the dye derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned specific particles.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one kind of dye derivative may be used, or two or more kinds may be used. When two or more kinds are used, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain a resin.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing particles such as pigments in an infrared absorbing composition or for a binder.
  • a resin mainly used for dispersing particles such as pigments is also referred to as a dispersant.
  • such an application of the resin is an example, and the resin can be used for a purpose other than such an application.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 2000 to 2000000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 3000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • the resin examples include (meth) acrylic resin, epoxy resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, and polyimide resin.
  • examples thereof include polyamide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, and polyurea resin.
  • One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • a norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Examples of commercially available norbornene resins include the ARTON series manufactured by JSR Corporation (for example, ARTON F4520).
  • the resin the resin described in the examples of International Publication No. 2016/088644 can also be used.
  • the resin has an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain, particularly a (meth) acryloyl group
  • the main chain and the ethylenically unsaturated bond-containing group are via a divalent linking group having an alicyclic structure. It is also preferable that they are bonded.
  • the infrared absorbing composition of the present invention preferably contains a resin having an acid group.
  • the resin having an acid group can be used as an alkali-soluble resin.
  • the resin having an acid group alkali-soluble resin
  • the description in paragraphs 0558-0571 of JP2012-208494A paragraph numbers 0685-0700 of the corresponding US Patent Application Publication No. 2012/0235099.
  • the descriptions in paragraphs 0076 to 0999 of JP2012-198408A can be referred to, and these contents are incorporated in the present specification.
  • the resin having an acid group a commercially available product can also be used.
  • the method for introducing an acid group into the resin is not particularly limited, and examples thereof include the method described in Japanese Patent No. 6349629.
  • a method for introducing an acid group into a resin there is also a method for introducing an acid group by reacting an acid anhydride with a hydroxy group generated by a ring opening reaction of an epoxy group.
  • Examples of the type of acid group contained in the resin having an acid group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group, and a carboxyl group is preferable.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 300 mgKOH / g or less, and even more preferably 200 mgKOH / g or less.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin having an acid group is preferably 5000 to 100,000.
  • the number average molecular weight (Mn) of the resin having an acid group is preferably 1000 to 20000.
  • the resin having an acid group preferably contains a repeating unit having an acid group in the side chain, and more preferably contains 5 to 70 mol% of the repeating unit having an acid group in the side chain in all the repeating units of the resin.
  • the upper limit of the content of the repeating unit having an acid group in the side chain is preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less.
  • the lower limit of the content of the repeating unit having an acid group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more.
  • the resin contains a repeating unit derived from a compound represented by the following formula (ED1) and / or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimer”). It is also preferable to use a resin.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP2013-209760A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the resin it is also preferable to use a resin containing a repeating unit having a polymerizable group.
  • the polymerizable group include a (meth) allyl group and a (meth) acryloyl group.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0 to 15.
  • the alkylene group represented by R 21 and R 22 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, further preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 2 or 3 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by the formula (X) include ethylene oxide of paracumylphenol or propylene oxide-modified (meth) acrylate.
  • Examples of commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the infrared absorbing composition of the present invention may also contain a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol% or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol%.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10 to 105 mgKOH / g.
  • the basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% is preferable when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%.
  • the basic group contained in the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is a graft resin.
  • the description in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group of pKa14 or less, a side chain having 40 to 10,000 atoms, and a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the resin to have is preferable.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • resins include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of the dendrimer include the polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, and 20 to 70 in all the repeating units of the resin. It is more preferably mol%.
  • the resin described in JP-A-2018-087939 can also be used as the dispersant.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DISPERBYK series manufactured by Big Chemie Japan, SOLSPERSE series manufactured by Japan Lubrizol, Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine-Techno (Ajinomoto Fine Techno). Examples include the Ajispar series manufactured by Co., Ltd. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077 can also be used.
  • the resin content is preferably 1 to 50% by mass in the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 7% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40% by mass or less, more preferably 30% by mass or less.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 0.1 to 40% by mass in the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the resin as the dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned specific particles.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 60 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may contain only one type of resin, or may contain two or more types of resin. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain a curable compound.
  • a curable compound a known compound that can be crosslinked by radicals, acids or heat can be used.
  • the curable compound include a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a cyclic ether group, and the like, and a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth) allyl group, and a (meth) acryloyl group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the curable compound used in the present invention is preferably a polymerizable compound, more preferably a radically polymerizable compound.
  • the polymerizable compound may be in any chemical form such as a monomer, a prepolymer or an oligomer, but a monomer is preferable.
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100 to 3000.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, and even more preferably 250 or more.
  • the polymerizable compound is preferably a polyfunctional polymerizable monomer.
  • the polyfunctional polymerizable monomer is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, and more preferably a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups. It is more preferable that the compound contains 3 to 6 ethylenically unsaturated bond-containing groups.
  • the polyfunctional polymerizable monomer is preferably a 3 to 15 functional (meth) acrylate compound, and more preferably a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound.
  • polymerizable compound examples include paragraph numbers 0995 to 0108 of JP2009-288705, paragraphs 0227 of JP2013-029760, paragraphs 0254 to 0257 of JP2008-292970, and JP-A. 2013-253224, Paragraph Nos. 0034 to 0038, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-208494, Paragraph Nos. 0477, Japanese Patent Laid-Open No. 2017-048637, Japanese Patent No. 6057891, Japanese Patent No. 6031807, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-194662. Examples include the compounds described in the publication, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of the polymerizable compound include dipentaerythritol triacrylate (commercially available KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available KAYARAD D-320; Nihon Kayaku Co., Ltd.).
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., NK ester A) -TMMT
  • 1,6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • 8UH-1006, 8UH-1012 manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.
  • light acrylate POB-A0 manufactured by Kyoeisha Chemical
  • trimethylolpropane tri (meth) acrylate trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, and penta.
  • a trifunctional (meth) acrylate compound such as erythritol tri (meth) acrylate.
  • commercially available trifunctional (meth) acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an acid group can also be used.
  • the polymerizable compound in the unexposed portion can be easily removed during development, and the generation of development residue can be suppressed.
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxyl group is preferable.
  • Examples of commercially available products of the polymerizable compound having an acid group include Aronix M-305, M-510, M-520, and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the preferable acid value of the polymerizable compound having an acid group is 0.1 to 40 mgKOH / g, and more preferably 5 to 30 mgKOH / g.
  • the acid value of the polymerizable compound is 0.1 mgKOH / g or more, the solubility in a developing solution is good, and when the acid value is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in production and handling.
  • the polymerizable compound is a compound having a caprolactone structure.
  • the polymerizable compound having a caprolactone structure is commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series, and examples thereof include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120.
  • a polymerizable compound having an alkyleneoxy group can also be used.
  • a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group is preferable, a polymerizable compound having an ethyleneoxy group is more preferable, and 3 to 3 having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • a hexafunctional (meth) acrylate compound is more preferred.
  • Commercially available products of the polymerizable compound having an alkyleneoxy group include SR-494, which is a tetrafunctional (meth) acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartmer, and isobutyleneoxy group manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Examples thereof include KAYARAD TPA-330, which is a trifunctional (meth) acrylate having three pieces.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used.
  • examples of commercially available products of the polymerizable compound having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., a (meth) acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the polymerizable compound it is also preferable to use a compound that does not substantially contain an environmentally regulatory substance such as toluene.
  • an environmentally regulatory substance such as toluene.
  • commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • Examples of the polymerizable compound include urethane acrylates as described in Japanese Patent Publication No. 48-041708, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-037193, Japanese Patent Laid-Open No. 02-0322293, and Japanese Patent Laid-Open No. 02-016765.
  • Urethane compounds having an ethylene oxide-based skeleton described in Japanese Patent Publication No. 58-049860, Japanese Patent Publication No. 56-017654, Japanese Patent Publication No. 62-039417, and Japanese Patent Publication No. 62-039418 are also suitable.
  • a polymerizable compound having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A No. 01-105238.
  • the polymerizable compounds include UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, and AH-600. , T-600, AI-600, LINK-202UA (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and other commercially available products can also be used.
  • the compound having a cyclic ether group used as the curable compound is preferably a compound having an epoxy group.
  • the compound having an epoxy group include a compound having one or more epoxy groups in one molecule, and a compound having two or more epoxy groups is preferable. It is preferable to have 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the epoxy group may be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the epoxy group is preferably two or more.
  • Examples of the compound having an epoxy group include the compounds described in paragraphs 0034 to 0036 of JP2013-011869, the compounds described in paragraphs 0147 to 0156 of JP2014-043556, and JP-A-2014.
  • the compounds described in paragraphs 805 to 0092 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 089408 and the compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
  • the compound having an epoxy group may be a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 2000, further, a molecular weight of less than 1000), or a polymer compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, in the case of a polymer, the weight average molecular weight is less than 1000). 1000 or more) may be used.
  • the weight average molecular weight of the compound having an epoxy group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less.
  • an epoxy resin can be preferably used as the compound having an epoxy group.
  • the epoxy resin include an epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin which is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and a glycidyl ester type.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 310 to 3300 g / eq, more preferably 310 to 1700 g / eq, and even more preferably 310 to 1000 g / eq.
  • EHPE3150 manufactured by Daicel Corporation
  • EPICLON N-695 manufactured by DIC Corporation
  • Marproof G-0150M G-0105SA, G-0130SP, G. -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (all manufactured by NOF CORPORATION, epoxy group-containing polymer) and the like can be mentioned.
  • the content of the curable compound in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.1 to 50% by mass.
  • the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, further preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 45% by mass or less, further preferably 40% by mass or less.
  • the curable compound may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total of them is in the above range.
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.1 to 50% by mass.
  • the lower limit is more preferably 0.5% by mass or more, further preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is more preferably 45% by mass or less, further preferably 40% by mass or less.
  • the polymerizable compound may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total of them is in the above range.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the infrared absorbing composition is 0.1 to 20 mass by mass. % Is preferable.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less.
  • the compound having a cyclic ether group may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total of them is in the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains a polymerizable compound and a compound having a cyclic ether group as curable compounds
  • the content of the compound having a cyclic ether group is based on 100 parts by mass of the polymerizable compound. It is preferably 1 to 400 parts by mass, and more preferably 1 to 100 parts by mass.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains a polymerizable compound
  • the infrared absorbing composition of the present invention further contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected from known photopolymerization initiators.
  • a compound having photosensitivity to light rays in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, and thio compounds. , Ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • the photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an ⁇ -hydroxyketone compound, an ⁇ -aminoketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, an oxime compound, or a triarylimidazole.
  • It is preferably a dimer, an onium compound, a benzothiazole compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a cyclopentadiene-benzene-iron complex, a halomethyloxadiazole compound and a 3-aryl substituted coumarin compound, preferably an oxime compound and an ⁇ -hydroxyketone compound.
  • ⁇ -Aminoketone compound, and a compound selected from an acylphosphine compound are more preferable, and an oxime compound is further preferable.
  • the photopolymerization initiator the compound described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 and JP-A-6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, No. Peroxide-based photopolymerization initiator described in 3, 2019, photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/221177, photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/110179, JP-A-2019-043864. Examples thereof include the photopolymerization initiator described in JP-A-2019-044030, the photopolymerization initiator described in JP-A-2019-167313, and the contents thereof are described in the present invention. Incorporated in the specification.
  • ⁇ -hydroxyketone compound Commercially available products of the ⁇ -hydroxyketone compound include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (all manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure27r, Irgacure29. (Manufactured by the company) and the like.
  • Commercially available products of ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, IGM Resins BV), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369, Irger Made) and so on.
  • acylphosphine compounds examples include Omnirad 819, Omnirad TPO (above, manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 819, and Irgacure TPO (above, manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include the compound described in JP-A-2001-233842, the compound described in JP-A-2000-080068, the compound described in JP-A-2006-342166, and J. Am. C. S. The compound according to Perkin II (1979, pp. 1653-1660), J. Mol. C. S. The compound described in Perkin II (1979, pp. 156-162), the compound described in Journal of Photopolisr Science and Technology (1995, pp. 202-232), the compound described in JP-A-2000-066385, the compound described in JP-A-2000-066385. Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2017-109766, compounds described in Japanese Patent No.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminovtan-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, and the like.
  • 2-acetoxyimino-1-phenylpropane-1-one 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy Examples thereof include imino-1-phenylpropane-1-one.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include the compound described in JP-A-2014-137466 and the compound described in Japanese Patent No. 06636081.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such an oxime compound include the compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom are described in the compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471.
  • Compound (C-3) and the like can be mentioned.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466. Examples thereof include the compound described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, ADEKA ARCULDS NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high, more preferably 1000 to 300,000, still more preferably 2000 to 300,000, and more preferably 5000 to 200,000. It is particularly preferable to have.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • two or more radicals are generated from one molecule of the photoradical polymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation is less likely to occur with time, and the stability of the composition with time can be improved.
  • Specific examples of the bifunctional or trifunctional or higher functional photo-radical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, still more preferably 1 to 20% by mass in the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the infrared absorbing composition may contain only one kind of photopolymerization initiator, or may contain two or more kinds of photopolymerization initiators. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant means a colorant other than the white colorant and the black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant having absorption in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • the chromatic colorant examples include a red colorant, a green colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and an orange colorant.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye. Pigments and dyes may be used in combination. Further, the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment. Further, as the pigment, an inorganic pigment or a material in which a part of the organic-inorganic pigment is replaced with an organic chromophore can also be used. By substituting inorganic pigments and organic-inorganic pigments with organic chromophores, hue design can be facilitated.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, still more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle size of the pigment can be obtained from an image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle-equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in the present invention is an arithmetic average value of the primary particle size for the primary particles of 400 pigments.
  • the primary particles of the pigment refer to independent particles without aggregation.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more. Is particularly preferred. Examples of the pigment include those shown below.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average of 10 to 14 halogen atoms in one molecule, an average of 8 to 12 bromine atoms, and an average of 2 to 5 chlorine atoms.
  • Specific examples include the compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • Phthalocyanine compounds, phthalocyanine compounds described in JP-A-2018-180023, compounds described in JP-A-2019-038958, and the like can also be used.
  • an aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used. Specific examples thereof include the compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP2012-247591A and paragraph numbers 0047 of JP2011-157478A.
  • the diketopyrrolopyrrole compound described in WO2012 / 102399, the diketopyrrolopyrrole compound described in WO2012 / 117965, the naphtholazo compound described in JP2012-229344 can also be used. can.
  • red pigment a compound having a structure in which an aromatic ring group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom bonded to the aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton can also be used. can.
  • a dye can also be used as the chromatic colorant.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • pyrazole azo dyes anilino azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benziliden dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, phenothiazines.
  • Examples thereof include dyes, pyropyrazole azomethine dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, and pyromethene dyes. Further, as the dye, the thiazole compound described in JP-A-2012-158649, the azo compound described in JP-A-2011-184493, and the azo compound described in JP-A-2011-145540 can also be preferably used. ..
  • the content of the chromatic colorant is preferably 1 to 50% by mass in the total solid content of the infrared absorbing composition of the present invention.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains two or more kinds of chromatic colorants, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may also contain a coloring material that transmits infrared rays to block visible light (hereinafter, also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • An infrared absorption composition containing a coloring material that blocks visible light is preferably used as an infrared absorption composition for forming an infrared transmission filter.
  • the color material that blocks visible light is preferably a color material that absorbs light in the wavelength region of purple to red. Further, the color material that blocks visible light is preferably a color material that blocks light in the wavelength region of 450 to 650 nm. Further, the color material that blocks visible light is preferably a color material that transmits light having a wavelength of 900 to 1500 nm.
  • the coloring material that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • B Contains an organic black colorant.
  • Examples of the chromatic colorant include those described above.
  • Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compound, azomethine compound, perylene compound, azo compound and the like, and bisbenzofuranone compound and perylene compound are preferable.
  • Examples of the bisbenzofuranone compound include the compounds described in JP-A-2010-534726, JP-A-2012-515233, JP-A-2012-515234, etc., for example, as "Irgaphor Black” manufactured by BASF. It is available.
  • Examples of the perylene compound include the compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like can be mentioned.
  • Examples of the azomethin compound include the compounds described in JP-A No. 01-17601, JP-A-02-0346664, and the like, and can be obtained as, for example, "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika.
  • Examples of the combination of chromatic colorants in the case of forming black color by the combination of two or more kinds of chromatic colorants include the following embodiments (1) to (8).
  • An embodiment containing a green colorant, a blue colorant, a purple colorant, and a red colorant An embodiment containing a purple colorant and an orange colorant.
  • the content of the coloring material that blocks visible light is preferably 1 to 50% by mass in the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the infrared absorbing composition of the present invention preferably contains a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant or a silicone-based surfactant.
  • the surfactant described in paragraph Nos. 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/166779 is mentioned, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • the surfactant can also be used as a dispersant for specific particles.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of Japanese Patent Laid-Open No. 2014-041318 (paragraphs 0060 to 0064 of the corresponding International Publication No. 2014/017669) and the like, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-.
  • the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of the Publication No. 132503 are mentioned and their contents are incorporated herein by reference.
  • Commercially available products of fluorine-based surfactants include, for example, Megafax F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heat is applied.
  • a fluorine-based surfactant include the Megafuck DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Megafuck. DS-21 can be mentioned.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant include the fluorine-based surfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compounds is preferably 3000 to 50,000, for example 14000.
  • % indicating the ratio of the repeating unit is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used. Specific examples thereof include the compounds described in paragraphs 0050 to 0090 and 0289 to 0295 of JP2010-164965, Megafuck RS-101, RS-102, RS-718K, manufactured by DIC Corporation. RS-72-K and the like can be mentioned. Further, as the fluorine-based surfactant, the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ethers, polyoxyethylene stearyl ethers, etc.
  • cationic surfactant examples include tetraalkylammonium salt, alkylamine salt, benzalkonium salt, alkylpyridium salt, imidazolium salt and the like. Specific examples include dihydroxyethylstearylamine, 2-heptadecenyl-hydroxyethylimidazoline, lauryldimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stealamidomethylpyridium chloride and the like.
  • anionic surfactants include dodecylbenzene sulfonic acid, sodium dodecylbenzene sulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, sodium alkylnaphthalene sulfonate, sodium dialkyl sulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, and sodium dioctyl.
  • silicone-based surfactant examples include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400 (all, Toray Dow Corning Co., Ltd.).
  • TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 all manufactured by Momentive Performance Materials
  • KP-341, KF-6000, KF-6001, KF- Examples thereof include 6002, KF-6003 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), BYK307, BYK323, BYK330 (above, manufactured by Big Chemie) and the like.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass, and 0.001 to 0.2% by mass in the total solid content of the infrared absorbing composition. More preferred.
  • the content of the surfactant is preferably 1 to 200 parts by mass, more preferably 2 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the specific particles. 5 to 50 parts by mass is more preferable.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), and the like.
  • examples thereof include 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, first cerium salt, etc.), and p-methoxyphenol is preferable.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.0001 to 5% by mass based on the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly linked to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group and the like, and an alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of the functional group other than the hydrolyzable group include a vinyl group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group, an isocyanate group and a phenyl group. And the like, the (meth) acryloyl group and the epoxy group are preferable.
  • Examples of the silane coupling agent include the compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP2009-288703 and the compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP2009-242604. Incorporated in the specification.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass, based on the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the infrared absorbing composition may contain only one kind of silane coupling agent, or may contain two or more kinds of silane coupling agents. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition can contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indol compounds, triazine compounds, merocyanine dyes and the like. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraph numbers 0317 to JP2013-066814. 0334, the compounds described in paragraph numbers 0061 to 0080 of JP 2016-162946 are mentioned, and their contents are incorporated in the present specification.
  • UV absorbers examples include the Tinuvin series and the Uvinul series manufactured by BASF.
  • examples of the benzotriazole compound include the MYUA series made of Miyoshi Oil & Fat (The Chemical Daily, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorber the compounds described in paragraphs 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 and paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No. 2016/181987 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass, based on the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of ultraviolet absorber, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include a phenol compound, a phosphite ester compound, a thioether compound and the like.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group is preferable.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule is also preferable.
  • a phosphorus-based antioxidant can also be preferably used.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, and Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (above, manufactured by ADEKA Corporation) and the like. Further, as the antioxidant, the compound described in paragraphs 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, the compound described in International Publication No. 2017/006600, and the compound described in International Publication No. 2017/1604024 are used. It can also be used.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass, based on the total solid content of the infrared absorbing composition.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of antioxidant, or may contain two or more types of antioxidant. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may be used as a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer and other auxiliary agents (for example, conductive particles, a filler, a defoaming agent), if necessary. , Flame retardant, leveling agent, peeling accelerator, fragrance, surface tension modifier, chain transfer agent, etc.) may be contained. By appropriately containing these components, properties such as film physical characteristics can be adjusted. These components are described in, for example, paragraph No. 0183 or later of JP2012-003225A (paragraph number 0237 of the corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812), paragraph 2008-250074.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst. This includes compounds in which the protecting group is desorbed and functions as an antioxidant.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Examples of commercially available products of latent antioxidants include ADEKA ARKULS GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • the infrared absorbing composition of the present invention is used as various inks such as inkjet inks and printing inks
  • other additives such as lubricants, fillers, defoamers, gelling agents, thickeners, and specific resistances are used.
  • An adjusting agent, a film forming agent, a fading inhibitor, a protective agent, a rust preventive agent and the like can be blended. Examples of these additives include those described in paragraphs 0163 to 0170 of JP2014-024980A, and these contents are incorporated in the present specification.
  • the container for containing the infrared absorbing composition of the present invention is not particularly limited, and a known container can be used.
  • a storage container a multi-layer bottle composed of 6 types and 6 layers of resin and 6 types of resin have a 7-layer structure for the purpose of suppressing contamination of raw materials and infrared absorbing composition with impurities. It is also preferable to use a bottle. Examples of such a container include the container described in JP-A-2015-123351.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass or stainless steel for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, enhancing the storage stability of the infrared absorbing composition, and suppressing deterioration of the components.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components. In preparing the infrared absorbing composition, all the components may be dissolved or dispersed in a solvent at the same time to prepare an infrared absorbing composition, or if necessary, two or more solutions in which each component is appropriately blended or The dispersion may be prepared in advance and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a composition.
  • the mechanical force used for dispersing the particles includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • the process and disperser for dispersing particles are "Dispersion Technology Complete Works, Published by Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005" and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial”. Practical application The process and disperser described in Paragraph No.
  • JP-A-2015-157893 "Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978" can be preferably used.
  • the particles may be miniaturized in the salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling step for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629 can be referred to.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide resin such as nylon (for example, nylon-6, nylon-6,6), and a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight).
  • PP polypropylene
  • a filter using a material such as (including a polyolefin resin) can be mentioned.
  • polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.
  • the pore diameter of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the nominal value of the filter manufacturer can be referred to.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. DFA4201NIEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.
  • KITZ Microfilter Co., Ltd. etc.
  • a fiber-like filter medium As the filter.
  • the fiber-like filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like.
  • examples of commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.) and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno Co., Ltd.
  • filters for example, a first filter and a second filter
  • the filtration with each filter may be performed only once or twice or more.
  • filters having different pore diameters may be combined within the above-mentioned range.
  • the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing the other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the film of the present invention is obtained from the above-mentioned infrared absorbing composition of the present invention.
  • the film of the present invention can be preferably used as an optical filter.
  • the use of the optical filter is not particularly limited, but is limited to a near-infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, for a near-infrared cut filter for a wafer level lens) and the back surface side of the solid-state image sensor (the side opposite to the light receiving side).
  • Near-infrared cut filter for ambient light sensor (for example, the illuminance sensor that adjusts the color tone of the display by sensing the illuminance and color tone of the environment where the information terminal device is placed, and the color that adjusts the color tone It can be preferably used as a correction sensor) or the like.
  • it can be preferably used as a near-infrared cut filter on the light receiving side of a solid-state image sensor.
  • it can be used as a near-infrared cut filter of an infrared sensor that detects an object by detecting light having a wavelength of 700 to 1550 nm.
  • an infrared absorbing composition containing a coloring material that transmits infrared rays and shields visible light it can also be used for forming an infrared transmission filter capable of transmitting only near infrared rays having a specific wavelength or higher.
  • the film of the present invention may have a pattern or may be a film having no pattern (flat film). Further, the film of the present invention may be used by being laminated on a support, or the film of the present invention may be peeled off from the support and used. Examples of the support include a semiconductor base material such as a silicon substrate and a transparent base material.
  • a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the semiconductor base material used as the support. Further, a black matrix that separates each pixel may be formed on the semiconductor base material. Further, if necessary, an undercoat layer may be provided on the semiconductor base material in order to improve the adhesion with the upper layer, prevent the diffusion of substances, or flatten the surface of the substrate.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a transparent conductive film or the like
  • an undercoat layer may be provided on the semiconductor base material in order to improve the adhesion with the upper layer, prevent the diffusion of substances, or flatten the surface of the substrate.
  • the transparent base material used as the support is not particularly limited as long as it is made of at least a material capable of transmitting visible light.
  • a base material made of a material such as glass or resin can be mentioned.
  • the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and ethylene vinyl acetate copolymers, norbornene resins, polyacrylates and acrylic resins such as polymethylmethacrylate, urethane resins and vinyl chloride resins. , Fluorine resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin and the like.
  • Examples of the glass include soda lime glass, borosilicate glass, non-alkali glass, quartz glass, and glass containing copper.
  • Examples of the copper-containing glass include copper-containing phosphate glass and copper-containing fluoride glass.
  • As the glass containing copper a commercially available product can also be used. Examples of commercially available copper-containing glass include NF-50 (manufactured by AGC Technoglass Co., Ltd.) and the like.
  • the thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the thickness of the film is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, still more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as an infrared cut filter, the film of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably a wavelength of 700 to 1300 nm, more preferably a wavelength of 700 to 1000 nm).
  • the average transmittance of light having a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, further preferably 80% or more, and particularly preferably 85% or more. preferable.
  • the transmittance in the entire range of the wavelength of 400 to 600 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 80% or more.
  • the film of the present invention preferably has a transmittance of 15% or less at at least one point in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably a wavelength of 700 to 1300 nm, more preferably a wavelength of 700 to 1000 nm) of 10%. The following is more preferable, and 5% or less is further preferable.
  • a 2 is preferably 0.30 or less, more preferably 0.20 or less, further preferably 0.15 or less, and particularly preferably 0.10 or less.
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as an infrared transmissive filter, the film of the present invention has a maximum transmittance of 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less) in the wavelength range of 400 to 830 nm.
  • the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is preferably 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the film of the present invention used as an infrared transmission filter preferably satisfies any of the following spectral characteristics (1) to (4).
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 900 to 1500 nm is. 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1000 to 1500 nm is. 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is. 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is. 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • the color filter can be produced by using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the color filter is arranged on the optical path of the film of the present invention.
  • the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, a microlens, a flattening layer, etc. constituting the solid-state image sensor may be interposed between the film and the color filter.
  • the film of the present invention can be used for solid-state image pickup devices such as CCD (charge-coupled device) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor), and various devices such as infrared sensors and image display devices.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the film of the present invention can be produced through a step of applying the infrared absorbing composition of the present invention.
  • Examples of the support include those described above.
  • a method for applying the infrared absorbing composition a known method can be used. For example, a drop method (drop cast); a slit coat method; a spray method; a roll coat method; a rotary coating method (spin coating); a cast coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP-A-2009-145395). Methods described in the publication); Inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • Inkjet for example, on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • the infrared absorbing composition layer formed by applying the infrared absorbing composition may be dried (prebaked).
  • the prebake temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, still more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher, or 80 ° C. or higher.
  • the prebake time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and even more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • Further baking may be performed on the infrared absorbing composition layer after prebaking.
  • additional baking it exists on the shortest wave side with respect to the aggregation of infrared absorbing dye particles generated during post-baking and the absorbance at the second short wave side in the wavelength range of 650 to 1500 nm.
  • the change in the absorbance ratio at the maximum absorption wavelength can be made smaller.
  • the additional baking temperature is preferably 100 to 180 ° C, more preferably 120 to 160 ° C.
  • the additional bake time is preferably 10 to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, still more preferably 300 to 1200 seconds. Additional baking can be done on a hot plate, oven or the like.
  • the film manufacturing method may further include a step of forming a pattern.
  • the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method, and a pattern forming method using a photolithography method is preferable.
  • the film of the present invention is used as a flat film, it is not necessary to perform the step of forming a pattern.
  • the process of forming the pattern will be described in detail.
  • the pattern forming method in the photolithography method includes a step of exposing the infrared absorbing composition layer formed by applying the infrared absorbing composition of the present invention in a pattern (exposure step) and an infrared absorbing composition of an unexposed portion. It is preferable to include a step of developing and removing the layer to form a pattern (development step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-baking step) may be provided. Hereinafter, each step will be described.
  • the infrared absorbing composition layer is exposed in a pattern.
  • the infrared absorbing composition layer can be exposed in a pattern by exposing the infrared absorbing composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. As a result, the exposed portion can be cured.
  • Examples of radiation (light) that can be used for exposure include g-line and i-line. Further, light having a wavelength of 300 nm or less (preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm), ArF line (wavelength 193 nm) and the like, and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable. Further, a long wave light source having a diameter of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method of a method in which light irradiation and pause are repeated in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).
  • Irradiation dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to the operation in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially). It may be exposed in an oxygen-free environment), or may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15,000 W / m 2 , or 35,000 W / m 2). Can be done. Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the infrared absorbing composition layer in the unexposed portion of the infrared absorbing composition layer after exposure is developed and removed to form a pattern.
  • the development and removal of the infrared absorbing composition layer in the unexposed portion can be performed by using a developing solution.
  • the infrared absorbing composition layer of the unexposed portion in the exposure step is eluted in the developer, and only the photocured portion remains on the support.
  • the temperature of the developer is preferably, for example, 20 to 30 ° C.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the steps of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
  • Examples of the developing solution include organic solvents and alkaline developing solutions, and alkaline developing solutions are preferably used.
  • the alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkaline developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • the alkaline agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • Ethyltrimethylammonium hydroxide Ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and other organic substances.
  • alkaline compounds examples include alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • the alkaline agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • a surfactant a nonionic surfactant is preferable.
  • the developer may be once produced as a concentrated solution and diluted to a concentration required for use.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set in the range of, for example, 1.5 to 100 times. It is also preferable to wash (rinse) with pure water after development.
  • the rinsing is performed by supplying the rinsing liquid to the developed composition layer while rotating the support on which the developed composition layer is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support to the peripheral edge of the support. At this time, when moving the nozzle from the central portion of the support to the peripheral portion, the nozzle may be moved while gradually reducing the moving speed. By rinsing in this way, in-plane variation of the rinse can be suppressed. Further, the same effect can be obtained by gradually reducing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the central portion of the support to the peripheral portion.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments to complete the curing.
  • the heating temperature in the post-bake is, for example, preferably 100 to 240 ° C, more preferably 200 to 240 ° C.
  • Post-baking can be performed on the developed film in a continuous or batch manner using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation type dryer), or a high frequency heater so as to meet the above conditions. ..
  • the light used for the exposure is preferably light having a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • the infrared absorbing composition layer formed by applying the infrared absorbing composition on the support is cured to form a cured product layer, and then the cured product layer is patterned.
  • the photoresist layer can be formed, and then the cured photoresist layer can be dry-etched with an etching gas using the patterned photoresist layer as a mask. In forming the photoresist layer, it is preferable to perform a prebaking treatment.
  • the description in paragraphs 0010 to 0067 of JP2013-064993 can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the optical filter of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • Examples of the optical filter include an infrared cut filter and an infrared transmission filter.
  • the optical filter of the present invention may further include a copper-containing layer, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, and the like, in addition to the film of the present invention described above.
  • the ultraviolet absorbing layer include the absorbing layer described in paragraphs 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/09960.
  • the dielectric multilayer film include the dielectric multilayer films described in paragraphs 0255 to 0259 of JP-A-2014-041318.
  • a glass substrate made of copper-containing glass (copper-containing glass substrate) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can also be used.
  • Examples of the copper-containing glass substrate include copper-containing phosphate glass and copper-containing fluoride glass.
  • Examples of commercially available copper-containing glass products include NF-50 (manufactured by AGC Technoglass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (all manufactured by Schott AG), CD5000 (manufactured by HOYA Corporation), and the like.
  • the solid-state image sensor of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state image sensor. For example, the following configuration can be mentioned.
  • the support has a transfer electrode formed of a plurality of photodiodes constituting the light receiving area of the solid-state image sensor and polyvinyl, etc., and the photodiode and the transfer electrode are made of tungsten or the like in which only the light receiving portion of the photodiode is opened.
  • the present invention has a light-shielding film to be formed, a device protective film formed of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and a photodiode light-receiving portion, and the device protective film has the present invention. It is a configuration having a diode.
  • a configuration having a condensing means for example, a microlens or the like; the same applies hereinafter) on the device protective film under the film of the present invention (on the side closer to the support), or condensing on the film of the present invention.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of the image pickup apparatus having such a structure include the apparatus described in JP-A-2012-227478 and JP-A-2014-179757.
  • the image display device of the present invention includes the film of the present invention.
  • Examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • the image display device for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1990)", “Display Device (Junaki Ibuki, Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989)” Issuance) ”and so on.
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "next-generation liquid crystal display technology".
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045676 supervised by Akiyoshi Mikami, "Frontiers of Organic EL Technology Development-High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection-", Technical Information Association, It is described on pages 326 to 328, 2008 and the like.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has a strong maximum emission peak in the blue region (430 to 485 nm), the green region (530 to 580 nm), and the yellow region (580 to 620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm) are more preferable.
  • the infrared sensor of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • an embodiment of the infrared sensor of the present invention will be described with reference to the drawings.
  • reference numeral 110 is a solid-state image sensor.
  • An infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 are arranged on the image pickup region of the solid-state image sensor 110.
  • a color filter 112 is arranged on the infrared cut filter 111.
  • a microlens 115 is arranged on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • the flattening layer 116 is formed so as to cover the microlens 115.
  • the infrared cut filter 111 can be formed by using the infrared absorbing composition of the present invention.
  • the spectral characteristics of the infrared cut filter 111 are selected according to the emission wavelength of the infrared light emitting diode (infrared LED) used.
  • the color filter 112 is a color filter on which pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region are formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for pixel formation can be used.
  • a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used.
  • the description in paragraphs 0214 to 0263 of JP2014-043556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED used.
  • an infrared cut filter (another infrared cut filter) different from the infrared cut filter 111 may be further arranged on the flattening layer 116.
  • Other infrared cut filters include those having a copper-containing layer and / or a dielectric multilayer film. These details include those mentioned above. Further, as another infrared cut filter, a dual bandpass filter may be used.
  • PGMEA described in the column of measurement solvent in the table below is an abbreviation for propylene glycol monomethyl ether acetate.
  • ⁇ Maximum absorption wavelength of infrared absorbing dye in good solvent Each infrared absorbing dye was dissolved in the solvent (good solvent) shown in the table below to prepare a dye solution having an infrared absorbing dye concentration of 2.5 ⁇ 10 -6 mol / L, and the absorption spectrum of the dye solution was measured. .. The number of maximum absorption wavelengths existing in the wavelength range of 650 to 1500 nm and the wavelength ( ⁇ max) indicating the value having the largest absorbance are shown in the table below.
  • the structures of the infrared absorbing dyes A-1 to A-7 and the comparative dyes 1 to 3 are as follows.
  • Me represents a methyl group and Ph represents a phenyl group.
  • the types of infrared absorbing dyes, surfactants, and solvents described in the dispersion column of the table below are mixed in the blending amounts described in the dispersion column of the table below, and further, zirconia beads having a diameter of 0.1 mm are mixed. After adding 500 parts by mass and treating with a planetary ball mill at 300 rpm for 5 hours, the zirconia beads were separated by filtration to prepare a dispersion.
  • Surfactant 1 Sodium dodecylbenzene sulfonate (Neogen SC, manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
  • Surfactant 2 Dodecylbenzene sulfonic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
  • Resin 1 20% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol
  • a resin composition is obtained by adding an infrared absorbing dye described in the table below to a resin solution in which the resin described in the table below is dissolved in the solvent listed in the table below, and dissolving the resin solution by filtration to remove insoluble components and the like. rice field.
  • the comparative dye 3 was dissolved in the solvent in the infrared absorbing composition.
  • (Dispersant) C-1 Resin having the following structure. (The numerical value added to the main chain is the molar ratio, and the numerical value added to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight 21000, acid value 36.0 mgKOH / g, amine value 47.0 mgKOH / g)
  • C-2 Resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio, and the numerical value added to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight 38000, acid value 99.1 mgKOH / g)
  • M-1 Mixture of compounds having the following structure (molar ratio of left compound to right compound is 7: 3)
  • M-2 Compound with the following structure
  • M-3 EPICLON N-695 (cresol novolac type epoxy resin, manufactured by DIC Corporation)
  • M-4 EHPE3150 (1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol, manufactured by Daicel Corporation)
  • F-1 Compound with the following structure
  • F-2 Compound with the following structure
  • G-1 A compound having the following structure (weight average molecular weight 14000,% value indicating the ratio of repeating units is mol%)
  • G-2 KF-6001 (Silicone-based surfactant, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
  • G-3 PolyFox PF6320 (Fluorine-based surfactant, manufactured by OMNOVA) (Polymerization inhibitor)
  • H-1 p-methoxyphenol
  • ⁇ Maximum absorption wavelength and absorbance> The absorption spectrum of each infrared absorption composition is measured, and the number of maximum absorption wavelengths existing in the wavelength range of 650 to 1500 nm and the maximum absorption wavelength existing on the shortest wave side among the maximum absorption wavelengths existing in the wavelength range of 650 to 1500 nm. ( ⁇ 1 ), the maximum absorption wavelength ( ⁇ 2 ) existing on the short wave side second among the maximum absorption wavelengths existing in the wavelength range of 650 to 1500 nm, and the absorptivity at the maximum absorption wavelength ( ⁇ 2 ) are set to 1.
  • (Production Example 2) Method for producing a cured film using the infrared absorbing compositions of Examples 6 to 12, 21, 24 and 27
  • the infrared absorbing compositions of Examples 6 to 12, 21, 24 and 27 are used on a glass substrate (Production Example 2). It was applied onto "1737") manufactured by Corning Inc. using a spin coater, and heat-treated (pre-baked) for 120 seconds using a hot plate at 100 ° C. Next, the entire surface was exposed at 500 mJ / cm 2 using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.). Next, paddle development was performed at 23 ° C.
  • the transmittance of the cured film is 10% at the maximum absorption wavelength ( ⁇ 1 ) existing on the shortest wave side among the maximum absorption wavelengths existing in the wavelength range of 650 to 1500 nm.
  • the film thickness was adjusted, and the wavelength on the longest wave side ( ⁇ SH60 ) showing a transmittance of 60% on the short wave side of ⁇ 1 was measured.
  • the difference between ⁇ 1 and ⁇ SH60 ( ⁇ 1 ⁇ ⁇ SH 60 ) was calculated, and the slope shape was evaluated according to the following criteria.
  • the thickness of the cured film is adjusted so that the transmittance at the wavelength ( ⁇ maxA) showing the highest absorbance in the wavelength range of 650 to 1500 nm is 1%, and the thickness of ⁇ max is adjusted.
  • the wavelength on the shortest wave side ( ⁇ LH20 ) showing a transmittance of 20% on the long wave side and the wavelength on the longest wave side ( ⁇ SH20 ) showing a transmittance of 20% on the short wave side of ⁇ max were measured.
  • the difference between ⁇ LH20 and ⁇ SH20 ( ⁇ LH20- ⁇ SH20 ) was calculated, and the infrared shielding property was evaluated according to the following criteria.
  • the 1.0 ⁇ m-thick cured film obtained above was heated at 200 ° C. for 3 hours using a hot plate.
  • the transmittance of the film before and after heating with respect to light having a wavelength of 400 to 2000 nm was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the change in transmittance at the wavelength where the change in transmittance before and after heating was the largest was calculated from the following formula, and the change in transmittance was evaluated according to the following criteria. It can be said that the smaller the change in transmittance, the better the heat resistance.
  • the 1.0 ⁇ m-thick cured film obtained above was set in a fading tester equipped with a super xenon lamp (200,000 lux), and 200,000 lux of light was emitted for 55 hours under the condition that no ultraviolet cut filter was used. Irradiated.
  • the transmission spectrum of the film after light irradiation was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). In the wavelength range of 400 nm to 2,000 nm, the change in transmittance at the wavelength where the change in transmittance before and after light irradiation was the largest was calculated from the following formula, and the heat resistance was evaluated according to the following criteria.
  • the infrared absorbing composition of the example had a good slope shape and excellent infrared shielding property. Further, in the infrared absorbing composition of the example, all of the infrared absorbing dyes A-1 to A-7 were present as particles in the infrared absorbing composition. Further, in the infrared absorption composition of the example, these particles had two or more maximum absorption wavelengths in the wavelength range of 650 to 1500 nm. Further, in the above-mentioned range, the absorbance (Z 1 ) at the maximum absorption wavelength ( ⁇ 1 ) existing on the short wave side is set to 1 as the absorbance at the maximum absorption wavelength ( ⁇ 2) existing on the second short wave side. When it was 0.6-2.0.
  • the difference ( ⁇ 2- ⁇ 1 ) between the maximum absorption wavelength ( ⁇ 1 ) existing on the short wave side and the maximum absorption wavelength ( ⁇ 2 ) existing on the second short wave side is 30 to 80 nm. It was a range. Further, referring to the table 3 together, the values of ⁇ 1 in the infrared absorbing compositions of Examples 1 to 27 are obtained by dissolving the infrared absorbing dyes A-1 to A-7 in a good solvent (dimethyl sulfoxide), respectively. It was present on the short wave side of the wavelength ( ⁇ max) showing the highest absorbance value in the prepared dye solution.
  • Comparative Example 3 had maximum absorption wavelengths at 749 nm and 920 nm in the state of the cured film, but the wavelength difference was as large as 100 nm or more, and the infrared shielding property was not sufficient. Noise can be further reduced by using the cured film using the infrared absorbing composition of Example 6 for the infrared sensor.
  • Example 28 In Example 6, infrared absorption was carried out in the same manner as in Example 6 except that 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-1 and 2.0 parts by mass of the ultraviolet absorber UV-1 were further blended at the time of preparing the dispersion. The composition was produced and each property was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 28 had a slope shape equivalent to that of Example 6. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 6, and the evaluation was A.
  • Example 29 In Example 9, when the dispersion was prepared, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-2 and an ultraviolet absorber (Tinuvin 326, 2- (5-chloro-2-benzotriazolyl) -6-tert- An infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 9 except that 2.0 parts by mass of butyl-p-cresol (manufactured by BASF) was blended, and each characteristic was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 29 had a slope shape equivalent to that of Example 9. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 9, and the evaluation was A.
  • Example 30 In Example 10, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-3 and 2.0 parts by mass of an ultraviolet absorber (Tinuvin 477, a hydroxyphenyltriazine compound, manufactured by BASF) were further added at the time of preparing the dispersion. Made an infrared absorbing composition in the same manner as in Example 10, and each characteristic was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 30 had a slope shape equivalent to that of Example 10. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 10, and the evaluation was A.
  • an ultraviolet absorber Tinuvin 477, a hydroxyphenyltriazine compound, manufactured by BASF
  • Example 31 In Example 11, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-4 and 2.0 parts by mass of an ultraviolet absorber (Tinuvin 460, a hydroxyphenyltriazine compound, manufactured by BASF) were further added at the time of preparing the dispersion. Made an infrared absorbing composition in the same manner as in Example 11, and each characteristic was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 31 had a slope shape equivalent to that of Example 11. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 11, and the evaluation was A.
  • an ultraviolet absorber Tinuvin 460, a hydroxyphenyltriazine compound, manufactured by BASF
  • Example 32 In Example 12, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-5 and 2.0 parts by mass of an ultraviolet absorber (Tinuvin 405, a hydroxyphenyltriazine compound, manufactured by BASF) were further added at the time of preparing the dispersion. Made an infrared absorbing composition in the same manner as in Example 12, and each characteristic was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 32 had a slope shape equivalent to that of Example 12. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 12, and the evaluation was A.
  • an ultraviolet absorber Tinuvin 405, a hydroxyphenyltriazine compound, manufactured by BASF
  • Example 33 In Example 14, when the dispersion was prepared, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-2 and 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-6 were added to the ultraviolet absorber (Tinuvin 479, hydroxyphenyltriazine compound). , BASF) was blended in 9.0 parts by mass, an infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 14, and each characteristic was evaluated by the same method as described above.
  • the infrared absorbing composition of Example 33 had a slope shape equivalent to that of Example 14.
  • the infrared shielding property was superior to that of Example 14, and the evaluation was A.
  • Example 34 In Example 15, when preparing the dispersion, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-3, 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-7, and an ultraviolet absorber (Uvinul 3050, a dihydroxybenzophenone compound, An infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 15 except that 9.0 parts by mass of (BASF) was blended, and each characteristic was evaluated by the same method as described above.
  • the infrared absorbing composition of Example 34 had a slope shape equivalent to that of Example 15.
  • the infrared shielding property was superior to that of Example 15, and the evaluation was A.
  • Example 35 In Example 16, when preparing the dispersion, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-4, 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-8, and an ultraviolet absorber (Tinuvin 477, hydroxyphenyltriazine compound). , BASF) was produced in the same manner as in Example 16 except for 9.0 parts by mass, and each characteristic was evaluated by the same method as described above.
  • the infrared absorbing composition of Example 35 had a slope shape equivalent to that of Example 16.
  • the infrared shielding property was superior to that of Example 16, and the evaluation was A.
  • Example 36 In Example 17, when preparing the dispersion, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-5, 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-9, and an ultraviolet absorber (Uvinul 3049, a dihydroxybenzophenone compound, An infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 17 except that 9.0 parts by mass was added (manufactured by BASF), and each characteristic was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 36 had a slope shape equivalent to that of Example 17. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 17, and the evaluation was A.
  • Example 37 In Example 14, when preparing the dispersion, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-10, 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-6, and the ultraviolet absorber Uvinul3050 (dihydroxybenzophenone compound, BASF) were further added. An infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 14 except that 9.0 parts by mass was blended, and each characteristic was evaluated by the same method as described above. The infrared absorbing composition of Example 37 had a slope shape equivalent to that of Example 14. In addition, the infrared shielding property was superior to that of Example 14, and the evaluation was A.
  • Example 38 In Example 20, when preparing the dispersion, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-10, 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-6, and the ultraviolet absorber Tinuvin477 (hydroxyphenyltriazine compound, An infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 20 except that 9.0 parts by mass of (BASF) was blended, and each characteristic was evaluated by the same method as described above.
  • the infrared absorbing composition of Example 38 had a slope shape equivalent to that of Example 20.
  • the infrared shielding property was superior to that of Example 20, and the evaluation was A.
  • Example 39 In Example 21, when preparing the dispersion, 1.7 parts by mass of the infrared absorbing dye B-10, 0.3 parts by mass of the infrared absorbing dye B-6, and the ultraviolet absorber Tinuvin479 (hydroxyphenyltriazine compound, An infrared absorbing composition was produced in the same manner as in Example 21 except that 9.0 parts by mass of (BASF) was blended, and each characteristic was evaluated by the same method as described above.
  • the infrared absorbing composition of Example 39 had a slope shape equivalent to that of Example 21.
  • the infrared shielding property was superior to that of Example 21, and the evaluation was A.
  • the infrared absorbing dyes B-1 to B-10 are compounds having the following structures, respectively.
  • the ultraviolet absorber UV-1 is a compound having the following structure.
  • 110 Solid-state image sensor
  • 111 Infrared cut filter
  • 112 Color filter
  • 114 Infrared transmission filter
  • 115 Microlens
  • 116 Flattening layer

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Abstract

赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる赤外線吸収組成物、赤外線吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置及び赤外線センサを提供する。赤外線吸収組成物は、赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含み、上記粒子が上記赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において２以上存在しており、上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．６～２．０である。

Description

赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサ
　本発明は、赤外線吸収色素を含む赤外線吸収組成物に関する。また、本発明は、赤外線吸収色素を含む組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このため、赤外線カットフィルタを設けて視感度補正を行うことがある。
　赤外線カットフィルタは、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて製造されている。
　特許文献１には、オキソカーボン系化合物と樹脂とを含有する樹脂組成物であって、樹脂組成物の未硬化物が、波長６００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲に極大吸収を有する吸収ピークを１つ以上有し、樹脂組成物の硬化物が、波長６００ｎｍ以上１１００ｎｍ以下の範囲に極大吸収を有する吸収ピークを未硬化物よりも多く有する樹脂組成物に関する発明が記載されている。
特開２０１８－０４１０４７号公報
　近年、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて得られる膜について、分光特性についての更なる改善が求められている。例えば、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できることなどが求められている。本発明者が特許文献１に記載された組成物について検討を進めたところ、この組成物においてもこれらの特性について更なる改善の余地があることが分かった。
　よって、本発明の目的は、赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる赤外線吸収組成物を提供することにある。また、赤外線吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含む赤外線吸収組成物であって、
　上記粒子が上記赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において２以上存在しており、上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．６～２．０である、赤外線吸収組成物。
　＜２＞　上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長と、２番目に短波側に存在する極大吸収波長との差が３０～８０ｎｍである、＜１＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜３＞　上記赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、ピロメテン化合物、クロコニウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞または＜２＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜４＞　赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含む赤外線吸収組成物であって、
　上記赤外線吸収色素は、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するピロロピロール化合物、および、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種である、赤外線吸収組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 　式（１）中、Ｒ１ａはアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、Ｒ１ｂは置換基を表し、ｎ１は０～４の整数を表し、＊は連結手を表す；
　式（２）中、Ｌ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基、または単結合を表し、ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘ１は、酸基または塩基性基を表し、＊は連結手を表す。
　＜５＞　上記粒子の最も短波側に存在する極大吸収波長は、上記粒子を構成する赤外線吸収色素を上記赤外線吸収色素の良溶剤に溶解させた色素溶液が最も大きい吸光度を示す波長よりも短波側に存在する、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物。
　＜６＞　上記粒子が上記赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において３以上存在している、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物。
　＜７＞　上記粒子が上記赤外線吸収組成物中において波長６５０～１５００ｎｍの範囲において示す極大吸収波長の数は、上記粒子を構成する赤外線吸収色素を、上記赤外線吸収色素の良溶剤に溶解させた色素溶液が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において示す極大吸収波長の数よりも多い、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物。
　＜８＞　上記赤外線吸収色素は、式（ＰＰ－１）で表される化合物である、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式中、Ｒ１ａはアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、
　Ｒ１ｂは置換基を表し、
　Ｒ２は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立してシアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ９Ｒ１０または金属原子を表し、
　Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、
　Ｒ９およびＲ１０が互いに結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ７は、Ｒ３またはＲ５と、共有結合または配位結合していてもよく、
　Ｒ８は、Ｒ２、Ｒ４またはＲ６と、共有結合または配位結合していてもよく、
　Ｌ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基、または単結合を表し、
　ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、
　Ｘ１は、酸基または塩基性基を表し、
　ｎ１は０～４の整数を表し、
　ｎ２は１以上の整数を表し、
　ｍは１以上の整数を表す。
　＜９＞　更に、硬化性化合物を含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物。
　＜１０＞　光学フィルタ用、または、インク用である、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物。
　＜１１＞　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物を用いた膜。
　＜１２＞　＜１１＞に記載の膜を含む光学フィルタ。
　＜１３＞　＜１１＞に記載の膜を含む固体撮像素子。
　＜１４＞　＜１１＞に記載の膜を含む画像表示装置。
　＜１５＞　＜１１＞に記載の膜を含む赤外線センサ。
　本発明によれば、赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置および赤外線センサを提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい色材を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜赤外線吸収組成物＞
　本発明の赤外線吸収組成物の第１の態様は、
　赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含む赤外線吸収組成物であって、
　上記粒子が赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において２以上存在しており、上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．６～２．０であることを特徴とする。
　本発明の赤外線吸収組成物の第１の態様は、上述した粒子を含むことにより、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる。また、本発明の赤外線吸収組成物の第１の態様によれば、複数種類の赤外線吸収色素を使用しなくても、１種類の赤外線吸収色素のみで、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することもできる。
　上記の分光特性を満たす粒子の一態様としては、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有する赤外線吸収色素の粒子が挙げられる。
　このような構造の赤外線吸収色素の粒子を用いることにより、上記の分光特性を達成できる詳細な理由は不明であるが、以下によるものであると推測される。
　赤外線吸収色素を溶剤に溶解させて用いた場合は、溶液中では自由に動くことができるため、赤外線吸収色素の単分子に由来する吸収ピークしか示さない。
　式（２）で表される基は親水性が高い構造の基であるため、分散時に赤外線吸収組成物中にて、赤外線吸収色素の式（２）で表される基を有する側が溶剤側を向くように会合を形成すると推測される。そして、式（１）で表される基はベンゼン環のオルト位に置換基を有しているため、赤外線吸収色素が式（１）で表される基を有することにより、立体障害により赤外線吸収色素が平行に重なりにくく、遷移モーメントが斜めに配置されて赤外線吸収色素同士が斜めに配向するように会合すると推測される。
　後述する式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有する赤外線吸収色素の粒子は、赤外線吸収組成物中においてこのような会合状態（以下、特定状態ともいう）を形成することにより、赤外線吸収色素の吸収ピークが短波側や長波側にシフトし、その結果、赤外線吸収色素の単分子に由来する吸収ピークに加えて特定状態に由来する吸収ピークが発現すると推測され、上記の分光特性を達成できると推測される。
　また、本発明の赤外線吸収組成物の第２の態様は、
　赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含む赤外線吸収組成物であって、
　上記赤外線吸収色素は、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するピロロピロール化合物、および、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする。
　本発明の赤外線吸収組成物の第２の態様は、上述した粒子を含むことにより、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる。また、本発明の赤外線吸収組成物の第２の態様においても、複数種類の赤外線吸収色素を使用しなくても、１種類の赤外線吸収色素のみで、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することもできる。
　本発明の赤外線吸収組成物は、インク用（インク組成物）として用いることができる。インク組成物としては、印刷用インク、インクジェット用インクなどが挙げられる。また、本発明の赤外線吸収組成物をインク組成物として用いる場合には、溶剤としては水を含むものを用いることもできる。すなわち、本発明の赤外線吸収組成物は、水性インク組成物として用いることもできる。本発明の赤外線吸収組成物をインク組成物として用いる場合には、赤外線吸収組成物の固形分濃度は０．１～５０質量％であることが好ましく、１～３０質量％であることがより好ましい。
　また、本発明の赤外線吸収組成物は、光学フィルタ用の組成物として用いることもできる。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。本発明の赤外線吸収組成物を光学フィルタ用の組成物として用いる場合には、本発明の赤外線吸収組成物は、更に樹脂を含むことが好ましい。本発明の赤外線吸収組成物を光学フィルタ用の組成物として用いる場合には、赤外線吸収組成物の固形分濃度は１～７０質量％であることが好ましく、２～６０質量％であることがより好ましい。
５～５０質量％であることが更に好ましい。
　以下、本発明の赤外線吸収組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜赤外線吸収色素の粒子（特定粒子）＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、以下の要件１または要件２を満たす赤外線吸収色素の粒子（以下、特定粒子という）を含む。
　（要件１）　赤外線吸収色素の粒子であって、この粒子が赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において２以上存在しており、上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．６～２．０である。上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．８～１．８であることが好ましく、１．０～１．６であることがより好ましい。
　（要件２）　赤外線吸収色素の粒子であって、赤外線吸収色素が、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するピロロピロール化合物、および、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種である。赤外線吸収色素は式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するピロロピロール化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式（１）中、Ｒ１ａはアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、Ｒ１ｂは置換基を表し、ｎ１は０～４の整数を表し、＊は連結手を表す；
　式（２）中、Ｌ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基、又は単結合を表し、ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘ１は、酸基または塩基性基を表し、ｎ２は１以上の整数を表し、＊は連結手を表す。
　但し、ｎ２が２以上の整数の場合、Ｌ１は３価以上の連結基を表す。
　Ｒ１ａが表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　Ｒ１ａが表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５であることがより一層好ましく、１～３であることが特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。
　Ｒ１ａが表すアルケニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０が更に好ましく、２～５であることがより一層好ましい。
　Ｒ１ａが表すアルキニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０が更に好ましく、２～５であることがより一層好ましい。
　Ｒ１ａが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒ１ａが表すヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。
　Ｒ１ａが表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基およびヘテロアリール基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。置換基は、式（２）で表される基以外の基であることが好ましい。
　式（１）のＲ１ａはアルキル基、ハロゲン原子またはアリール基であることが好ましく、アルキル基またはアリール基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。
　式（１）のＲ１ｂが表す置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アシル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルホニルアミノ基、スルファモイル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロアリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルフィニル基、ウレイド基、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、イミノ基、シリル基などが挙げられ、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であることが好ましい。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。置換基は、式（２）で表される基以外の基であることが好ましい。
　式（１）のｎ１は０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。
　式（２）のＬ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基を表し、ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。ｎ２が１の場合、Ｌ１は単結合でもよい。
　脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０が更に好ましく、２～５が特に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環、多環のいずれであってもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよい。
　芳香族炭化水素基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。芳香族炭化水素基は、単環または縮合数が２～４の縮合環の芳香族炭化水素基であることが好ましく、単環の芳香族炭化水素基であることがより好ましい。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基であることが好ましい。
　複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。複素環基の具体例としては、ピペラジン環基、ピロリジン環基、ピロール環基、ピペリジン環基、ピリジン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ピラジン環基、モルホリン環基、チアジン環基、インドール環基、イソインドール環基、ベンズイミダゾール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キノキサリン環基、シンノリン環基、カルバゾール環基および下記式（Ｌ－１）～（Ｌ－７）で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式中の＊は、Ｘ１等との連結手を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては、上述した式（１）で説明した置換基Ｔが挙げられる。
　脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　ＲＬ１が表すアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。ＲＬ１が表すアルキル基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　ＲＬ１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬ１が表すアリール基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（２）のＸ１が表す酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基及びこれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
　式（２）のＸ１が表す塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　アミノ基としては、－ＮＲｘ１Ｒｘ２で表される基、および、環状アミノ基が挙げられる。
　－ＮＲｘ１Ｒｘ２で表される基において、Ｒｘ１およびＲｘ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。また、Ｒｘ１とＲｘ２とは結合して環を形成していてもよい。
　環状アミノ基としては、ピロリジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、モルホリン基などが挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。置換基の具体例としては、アルキル基およびアリール基などが挙げられる。
　式（２）のＸ１は、スルホ基、リン酸基、式（Ｘ－１）で表される基、式（Ｘ－２）で表される基、式（Ｘ－３）で表される基または式（Ｘ－４）で表される基が好ましく、スルホ基、式（Ｘ－１）で表される基または式（Ｘ－３）で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 　式（Ｘ－１）～（Ｘ－４）において、Ｒ１００～Ｒ１０６は、各々独立に水素原子、アルキル基、アルケニル基またはアリール基を表し、Ｒ１００とＲ１０１は互いに連結して環を形成していてもよく、Ｍは、アニオンと塩を構成する原子または原子団を表す。Ｍとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
　式（２）のｎ２は１以上の整数を表し、１～３の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとして、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のヘテロアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールチオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニル基）、ヘテロアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド基、ホスフィノ基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、ヘテロアリールアゾ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基。これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　上記要件１を満たす粒子は、上記式（１）で表される基と上記式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有する赤外線吸収色素の粒子であることが好ましい。また、上記要件１を満たす特定粒子を構成する赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、ピロメテン化合物、クロコニウム化合物およびシアニン化合物が挙げられ、ピロロピロール化合物およびスクアリリウム化合物であることが好ましく、ピロロピロール化合物であることがより好ましい。
　上記要件２を満たす粒子は、更に上記要件１の特性を満たしていることが好ましい。
　特定粒子が赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において２以上存在しており、上記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長（λ１）と、２番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ２）との差（λ２－λ１）が２０～９０ｎｍであることが好ましく３０～８０ｎｍであることがより好ましく、３５～７０ｎｍであることが更に好ましい。上記の波長の差が上記範囲であれば、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる。
　特定粒子の最も短波側に存在する極大吸収波長は、特定粒子を構成する赤外線吸収色素をその赤外線吸収色素の良溶剤に溶解させた色素溶液が最も大きい吸光度を示す波長よりも短波側に存在することが好ましく、３０ｎｍ以上短波側に存在することがより好ましく、５０ｎｍ以上短波側に存在することが更に好ましい。このような分光特性を満たしている粒子を用いることで、赤外線の吸収の裾切れの良い膜を形成することができる。なお、本明細書において、赤外線吸収色素の良溶剤とは、２５℃の溶剤１００ｇに対する赤外線吸収色素の溶解量が０．１ｇ以上である溶剤のことを意味する。良溶剤は、２５℃の溶剤１００ｇに対する赤外線吸収色素の溶解量が０．１ｇ以上である溶剤であることが好ましく、上記溶解量が０．２ｇ以上である溶剤であることがより好ましい。良溶剤の種類は、赤外線吸収色素の種類によって異なるが、例えば、ジメチルスルホキシド、クロロホルムなどが挙げられる。
　特定粒子が赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長は、波長６５０～１５００ｎｍの範囲において３以上存在していることが好ましい。また、３番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．２～２であることが好ましく、０．３～１．８であることがより好ましく、０．４～１．５であることが更に好ましい。また、２番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ２）と３番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ３）との差（λ３－λ２）は２０～１００ｎｍであることが好ましく、３０～９０ｎｍであることがより好ましく、３５～８０ｎｍであることが更に好ましい。最も短波側に存在する極大吸収波長（λ１）と、３番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ３）との差（λ３－λ１）は６０～２００ｎｍであることが好ましく、７０～１７０ｎｍであることがより好ましく、８０～１５０ｎｍであることが更に好ましい。
　特定粒子が赤外線吸収組成物中において波長６５０～１５００ｎｍの範囲において示す極大吸収波長の数は、特定粒子を構成する赤外線吸収色素を、その赤外線吸収色素の良溶剤に溶解させた色素溶液が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において示す極大吸収波長の数よりも多いことが好ましい。このような特定粒子を用いることで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる赤外線遮蔽性に優れた膜を形成できる。
　なお、本明細書において、特定粒子の赤外線吸収組成物中における極大吸収波長および吸光度は、赤外線吸収組成物の吸光度を測定して求めることができる。また、赤外線吸収組成物中に、特定粒子を２種類以上含む場合においては、赤外線吸収組成物から測定対象以外の種類の特定粒子を除いた組成物の吸光度を測定して求める。例えば、特定粒子Ａと特定粒子Ｂと溶剤とその他添加剤を含む赤外線吸収組成物の場合においては、特定粒子Ａの赤外線吸収組成物中における極大吸収波長および吸光度は、上記赤外線吸収組成物から特定粒子Ｂを除いた組成物の吸光度を測定して求める。また、特定粒子Ｂの赤外線吸収組成物中における極大吸収波長および吸光度は、上記赤外線吸収組成物から特定粒子Ａを除いた組成物の吸光度を測定して求める。また、赤外線吸収組成物が特定粒子の他に、更に、特定粒子以外の赤外線吸収剤、有彩色着色剤、黒色着色剤などの素材を含む場合においては、赤外線吸収組成物からこれらの素材を除いた組成物の吸光度を測定して求める。例えば、特定粒子と特定粒子以外の赤外線吸収剤と溶剤とその他添加剤を含む赤外線吸収組成物の場合においては、特定粒子Ａの赤外線吸収組成物中における極大吸収波長および吸光度は、上記赤外線吸収組成物から特定粒子以外の赤外線吸収剤を除いた組成物の吸光度を測定して求める。
　特定粒子の２５℃の水１００ｇに対する溶解量は０．０７５ｇ以下であることが好ましく、０．０５ｇ以下であることがより好ましく、０．０２５ｇ以下であることが更に好ましい。
　特定粒子の２５℃のプロピレングリコールモノメチルエーテル１００ｇに対する溶解量は０．０７５ｇｇ以下であることが好ましく、０．０５ｇ以下であることがより好ましく、０．０２５ｇ以下であることが更に好ましい。
　特定粒子の２５℃のシクロペンタノン１００ｇに対する溶解量は０．０７５ｇ以下であることが好ましく、０．０５ｇ以下であることがより好ましく、０．０２５ｇ以下であることが更に好ましい。
　特定粒子を構成する赤外線吸収色素は、式（ＰＰ－１）で表される化合物であることが好ましい。すなわち、特定粒子は、式（ＰＰ－１）で表される化合物の粒子であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式中、Ｒ１ａはアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、
　Ｒ１ｂは置換基を表し、
　Ｒ２は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立してシアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ９Ｒ１０または金属原子を表し、
　Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、
　Ｒ９およびＲ１０が互いに結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ７は、Ｒ３またはＲ５と、共有結合または配位結合していてもよく、
　Ｒ８は、Ｒ２、Ｒ４またはＲ６と、共有結合または配位結合していてもよく、
　Ｌ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、含窒素複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基、又は単結合を表し、
　ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、
　Ｘ１は、酸基または塩基性基を表し、
　ｎ１は０～４の整数を表し、
　ｎ２は１以上の整数を表し、
　ｍは１以上の整数を表す。
　但し、ｎ２が２以上の整数の場合、Ｌ１は３価以上の連結基を表す。
　「－Ｌ１－（Ｘ１）ｎ２」は、式（ＰＰ－１）の結合可能な位置で結合することが出来る。」
　式（ＰＰ－１）のＲ１ａ、Ｒ１ｂおよびｎ１は、式（１）のＲ１ａ、Ｒ１ｂおよびｎ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＰＰ－１）のＬ１、Ｘ１およびｎ２は、
式（２）のＬ１、Ｘ１およびｎ２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（ＰＰ－１）のＲ２は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、アリール基がより好ましい。
　Ｒ２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましい。
　Ｒ２が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　Ｒ２が表すヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。
　Ｒ２が表す、アルキル基、アリール基およびヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　Ｒ２には、式（ＰＰ－１）の「－Ｌ１－（Ｘ１）ｎ２」が結合していることが好ましい。
　式（ＰＰ－１）のＲ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立してシアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基またはヘテロアリール基を表す。
　Ｒ３およびＲ５の一方は、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基またはアリールスルフィニル基を表し、他方はヘテロアリール基を表すことが好ましく、Ｒ３およびＲ５の一方がシアノ基を表し、他方がヘテロアリール基を表すことがより好ましい。
　Ｒ４およびＲ６の一方は、シアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基またはアリールスルフィニル基を表し、他方はヘテロアリール基を表すことが好ましく、Ｒ４およびＲ６の一方がシアノ基を表し、他方がヘテロアリール基を表すことがより好ましい。
　Ｒ３～Ｒ６が表すヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基は、無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　式（ＰＰ－１）のＲ７およびＲ８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ９Ｒ１０または金属原子を表し、－ＢＲ９Ｒ１０であることが好ましい。
　Ｒ７およびＲ８が表すアルキル基、アリール基およびヘテロアリール基としては、上述したＲ２で説明した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　Ｒ７およびＲ８が表す金属原子としては、マグネシウム、アルミニウム、カルシウム、バリウム、亜鉛、スズ、アルミニウム、バナジウム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、パラジウム、イリジウム、白金が挙げられ、アルミニウム、亜鉛、バナジウム、鉄、銅、パラジウム、イリジウム、白金が好ましい。
　－ＢＲ９Ｒ１０で表される基におけるＲ９およびＲ１０は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基が好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、または、アリール基がより好ましく、アリール基が更に好ましい。
　Ｒ９およびＲ１０が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　Ｒ９およびＲ１０が表すアルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましい。上限は、例えば、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。
　Ｒ９およびＲ１０が表すアルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましい。下限は、例えば、３以上がより好ましい。上限は、例えば、３０以下がより好ましく、２５以下が更に好ましい。
　Ｒ９およびＲ１０が表すアリール基およびアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基およびアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　Ｒ９およびＲ１０が表すヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、単環であっても多環であってもよい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基のヘテロアリール環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましく、３～５が特に好ましい。ヘテロアリール環は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　－ＢＲ９Ｒ１０のＲ９とＲ１０は、互いに結合して環を形成していてもよい。例えば、下記（Ｂ－１）～（Ｂ－４）に示す構造などが挙げられる。以下において、Ｒｂは置換基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、ｂ１～ｂ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、＊は、式（ＰＰ－１）との結合位置を表す。ＲｂおよびＲｂ１～Ｒｂ４が表す置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した置換基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（ＰＰ－１）のＲ７は、Ｒ３またはＲ５と、共有結合または配位結合していてもよく、Ｒ８は、Ｒ２、Ｒ４またはＲ６と、共有結合または配位結合していてもよい。
　式（ＰＰ－１）のｍは１以上の整数を表し、１～４の整数であることが好ましく、１～３の整数であることがより好ましく、１または２であることが更に好ましく、１であることが特に好ましい。
　式（ＰＰ－１）で表される化合物は、式（ＰＰ－２）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（ＰＰ－２）のＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ３～Ｒ８、Ｌ１、Ｘ１、ｎ１およびｎ２は、式（ＰＰ－１）のＲ１ａ、Ｒ１ｂ、Ｒ３～Ｒ８、Ｌ１、Ｘ１、ｎ１およびｎ２と同義であり、
好ましい範囲も同様である。
　式（ＰＰ－２）のｍ１は１～４の整数を表し、１～３の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが特に好ましい。
　式（ＰＰ－１）で表される化合物の具体例としては、以下に示す構造の化合物が挙げられる。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　特定粒子の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましく、１５質量％以上であることが特に好ましい。また、特定粒子の含有量の上限は、７０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましい。赤外線吸収組成物は特定粒子を１種のみ含んでいてもよく、
２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、溶剤を含有する。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられる。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、カーボネート系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－ペンタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコール、炭酸プロピレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　有機溶剤は、１種のみを用いてもよく、２種以上を併用してもよい。有機溶剤を２種以上含む場合、
２種以上の有機溶剤を併用する場合の好ましい態様の一つとして、エステル系溶剤である第１の有機溶剤と、第１の有機溶剤とは異なるエステル系溶剤、ケトン系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、カーボネート系溶剤から選ばれる少なくとも１種の有機溶剤を含む第２の有機溶剤とを併用する態様が挙げられる。この場合において、第２の有機溶剤の沸点は１５０～２５０℃であることが好ましい。また、第１の有機溶剤の沸点は１００～２００℃であることが好ましい。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物をインク用組成物として用いる場合には、溶剤としては水、または、水と水性有機溶剤との混合溶剤を用いることが好ましい。
　水溶性有機溶剤としては、グリセリン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，３－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール等の多価アルコール類；
　糖アルコール類；
　エタノール、メタノール、ブタノール、プロパノール、イソプロパノールなどの炭素数１～４のアルキルアルコール類；
　２－エチル－２－メチル－１，３－プロパンジオール、３，３－ジメチル－１，２－ブタンジオール、２，２－ジエチル－１，３－プロパンジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオールなどの脂肪族ジオール類；
　エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｔ－ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、１－メチル－１－メトキシブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｔ－ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｎ－プロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノ－ｉｓｏ－プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコールエーテル類等が挙げられる。
　混合溶剤中における水の割合は、３０～９９質量％であることが好ましく、４０～９９質量％であることがより好ましく、５０～９９質量％であることが更に好ましい。
　溶剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全量に対し、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。赤外線吸収組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の赤外線吸収剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、上述した特定粒子以外の赤外線吸収剤（他の赤外線吸収剤）を含有することができる。更に他の赤外線吸収剤を含有することで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができる。他の赤外線吸収剤は、染料であってもよく、顔料（粒子）であってもよい。他の赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　また、赤外線吸収剤としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　特定粒子を構成する赤外線吸収色素が、式（ＰＰ－１）で表される化合物である場合、他の赤外線吸収剤は、ピロロピロール化合物であることが好ましく、より優れた分散性が得られ、組成物の保存安定性などを向上できるという理由から式（ＰＰ－１００）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 　式中、Ｒ５１ａおよびＲ５１ｃはそれぞれ独立してアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、
　Ｒ５１ｂおよびＲ５１ｄはそれぞれ独立して置換基を表し、
　Ｒ５３、Ｒ５４、Ｒ５５およびＲ５６は、それぞれ独立してシアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｒ５７およびＲ５８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ５９Ｒ６０または金属原子を表し、
　Ｒ５９およびＲ６０は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、
　Ｒ５９およびＲ６０が互いに結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ５７は、Ｒ５３またはＲ５５と、共有結合または配位結合していてもよく、
　Ｒ５８は、Ｒ５４またはＲ５６と、共有結合または配位結合していてもよく、
　ｎ１は０～４の整数を表し、
　ｍ１は０～４の整数を表す。
　式（ＰＰ－１００）のＲ５１ａおよびＲ５１ｃは、式（ＰＰ－１）のＲ１ａと同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＰＰ－１００）のＲ５１ｂおよびＲ５１ｄは、式（ＰＰ－１）のＲ１ｂと同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＰＰ－１００）のＲ５３～Ｒ５８は、式（ＰＰ－１）のＲ３～Ｒ８と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（ＰＰ－１００）のｎ１は０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。式（ＰＰ－１００）のｍ１は０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。
　他の赤外線吸収剤の具体例としては、後述する実施例に記載の赤外線吸収色素Ｂ－１～Ｂ－９などが挙げられる。
　他の赤外線吸収剤の含有量は、上述した特定粒子１００質量部に対し５～１０００質量部であることが好ましく、１０～５００であることがより好ましく、３０～３００であることが更に好ましい。また、上述した特定粒子と他の赤外線吸収剤との合計の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中１質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１５質量％以上であることが更に好ましい。上記合計の含有量の上限は、７０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以下であることが更に好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物は、上述した特定粒子を含むことにより、他の赤外線吸収剤を使用しなくても、幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができるので、他の赤外線吸収剤を実質的に含有しないこともできる。他の赤外線吸収剤を実質的に含有しないとは、赤外線吸収組成物の全固形分中における他の赤外線吸収剤の含有量が０．１質量％以下であることを意味し、０．０５質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以下であることがより好ましい。
＜＜色素誘導体＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、上述した特定粒子の他に、更に色素誘導体を含有することができる。色素誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。
　色素誘導体を構成する色素骨格としては、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格が挙げられ、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、フタロシアニン色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格が好ましく、スクアリリウム色素骨格およびピロロピロール色素骨格がより好ましい。
　酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基、ボロン酸基、スルホンイミド基、スルホンアミド基及びこれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　色素誘導体の具体例としては、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４に記載の化合物も挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　色素誘導体の含有量は、上述した特定粒子１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。色素誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、樹脂を含有することができる。樹脂は、例えば、顔料などの粒子を赤外線吸収組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料などの粒子を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、３０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂は、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載の樹脂を用いることもできる。また、樹脂が側鎖にエチレン性不飽和結合含有基、特に（メタ）アクリロイル基を有する場合、主鎖とエチレン性不飽和結合含有基とが脂環構造を有する２価の連結基を介して結合していることも好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物は、酸基を有する樹脂を含むことが好ましい。酸基を有する樹脂はアルカリ可溶性樹脂として用いることができる。酸基を有する樹脂（アルカリ可溶性樹脂）については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。また、樹脂への酸基の導入方法としては、特に制限はないが、例えば、特許第６３４９６２９号公報に記載の方法が挙げられる。更に、樹脂への酸基の導入方法としては、エポキシ基の開環反応で生じたヒドロキシ基に酸無水物を反応させて酸基を導入する方法も挙げられる。
　酸基を有する樹脂が有する酸基の種類としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられ、カルボキシル基であることが好ましい。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。酸基を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００～１０００００が好ましい。また、酸基を有する樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２００００が好ましい。
　酸基を有する樹脂は、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～７０モル％含むことがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましい。
　樹脂としては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。重合性基としては、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基等が挙げられる。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　本発明の赤外線吸収組成物は、分散剤としての樹脂を含むこともできる。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。また、分散剤は、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂を用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　また、分散剤として用いる樹脂は、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）を用いることもできる。
　樹脂の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は、５質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。上限は、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
　また、本発明の赤外線吸収組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、分散剤としての樹脂の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上が更に好ましい。また、分散剤としての樹脂の含有量は、上述した特定粒子１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、６０質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物は樹脂を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化性化合物＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は硬化性化合物を含有することができる。硬化性化合物としては、ラジカル、酸または熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。硬化性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物などが挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。本発明で用いられる硬化性化合物は、重合性化合物であることが好ましく、ラジカル重合性化合物であることがより好ましい。
（重合性化合物）
　重合性化合物としては、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～３０００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。
　重合性化合物は、多官能の重合性モノマーであることが好ましい。また、多官能の重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物であることが更に好ましい。また、多官能の重合性モノマーは、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。重合性化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。また、重合性化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、重合性化合物として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物は、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基を有する重合性化合物を用いることで、現像時に未露光部の重合性化合物が除去されやすく、現像残渣の発生を抑制できる。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像液に対する溶解性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造や取扱い上、有利である。
　重合性化合物は、カプロラクトン構造を有する化合物であることも好ましい態様である。カプロラクトン構造を有する重合性化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　重合性化合物は、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する重合性化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物が更に好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）製のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　重合性化合物は、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性化合物の市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、特公昭４８－０４１７０８号公報、特開昭５１－０３７１９３号公報、特公平０２－０３２２９３号公報、特公平０２－０１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－０４９８６０号公報、特公昭５６－０１７６５４号公報、特公昭６２－０３９４１７号公報、特公昭６２－０３９４１８号公報に記載されたエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平０１－１０５２３８号公報に記載された分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物を用いることも好ましい。また、重合性化合物としては、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株））製などの市販品を用いることもできる。
（環状エーテル基を有する化合物）
　硬化性化合物として用いられる環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は、１分子内に１～１００個有することが好ましい。エポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　エポキシ基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、更には、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　エポキシ基を有する化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０～１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０～１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における硬化性化合物の含有量は０．１～５０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、４５質量％以下がより好ましく、４０質量％以下が更に好ましい。硬化性化合物は、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計が上記範囲となることが好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物が硬化性化合物として重合性化合物を含有する場合、赤外線吸収組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は０．１～５０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上が更に好ましい。上限は、４５質量％以下がより好ましく、４０質量％以下が更に好ましい。重合性化合物は、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計が上記範囲となることが好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物が硬化性化合物として環状エーテル基を有する化合物を含有する場合、赤外線吸収組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物は１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計が上記範囲となることが好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物が硬化性化合物として重合性化合物と環状エーテル基を有する化合物とをそれぞれ含む場合、環状エーテル基を有する化合物の含有量は、重合性化合物の１００質量部に対して、１～４００質量部であることが好ましく、１～１００質量部であることがより好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物が重合性化合物を含む場合、本発明の赤外線吸収組成物は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許０６６３６０８１号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　光重合開始剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。赤外線吸収組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、赤外線吸収組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物などを用いることもできる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つ臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　本発明において、有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料を使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソノール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサンテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料等が挙げられる。また、染料には、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物も好ましく用いることができる。
　本発明の赤外線吸収組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の赤外線吸収組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。本発明の赤外線吸収組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する色材を含む赤外線吸収組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の赤外線吸収組成物として好ましく用いられる。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１５００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（８）の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　本発明の赤外線吸収組成物が可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤は、フッ素系界面活性剤またはシリコーン系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。界面活性剤は特定粒子の分散剤として用いることもできる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ（以上、株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン系界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられる。具体例としては、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２－ヘプタデセニル－ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
　アニオン系界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ－オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　界面活性剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中０．００１～１質量％が好ましく、０．００１～０．５質量％がより好ましく、０．００１～０．２質量％が更に好ましい。
　また、界面活性剤を特定粒子の分散剤として用いる場合には、界面活性剤の含有量は、特定粒子１００質量部に対して１～２００質量部が好ましく、２～１００質量部がより好ましく、５～５０質量部が更に好ましい。
　赤外線吸収組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中、０．０００１～５質量％が好ましい。赤外線吸収組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物はシランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。赤外線吸収組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　赤外線吸収組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、メロシアニン色素などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物を用いることもできる。紫外線吸収剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中０．０１～３０質量％が好ましく、０．０５～２５質量％がより好ましい。赤外線吸収組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物を使用することもできる。酸化防止剤の含有量は、赤外線吸収組成物の全固形分中０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。赤外線吸収組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の赤外線吸収組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
　また、本発明の赤外線吸収組成物を、インクジェット用インクや印刷用インク等の各種インクとして用いる場合、その他添加剤として、滑剤、充填剤、消泡剤、ゲル化剤、増粘剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等を配合することができる。これらの添加剤としては、特開２０１４－０２４９８０号公報の段落番号０１６３～０１７０に記載のものを挙げることができ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜収容容器＞
　本発明の赤外線吸収組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や赤外線吸収組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、赤外線吸収組成物の保存安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜赤外線吸収組成物の調製方法＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、前述の成分を混合して調製できる。赤外線吸収組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して赤外線吸収組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
　赤外線吸収組成物の調製に際して、粒子を分散させるプロセスを含むことが好ましい。粒子を分散させるプロセスにおいて、粒子の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における粒子の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、粒子を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また粒子を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　赤外線吸収組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、赤外線吸収組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮIＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の赤外線吸収組成物から得られるものである。本発明の膜は、光学フィルタとして好ましく用いることができる。光学フィルタの用途は、特に限定されないが、固体撮像素子の受光側における近赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する近赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における近赤外線カットフィルタ、環境光センサー用の近赤外線カットフィルタ（例えば、情報端末装置が置かれた環境の照度や色調を感知してディスプレイの色調を調整する照度センサーや、色調を調整する色補正用センサー）などに好ましく用いることができる。特に、固体撮像素子の受光側における近赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。また、波長７００～１５５０ｎｍの光を検出することで物体を検出する赤外線センサの近赤外線カットフィルタなどに使用できる。また、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材を含む赤外線吸収組成物を用いることで、特定の波長以上の近赤外線のみを透過可能な赤外線透過フィルタの形成に用いることもできる。例えば、波長４００～９００ｎｍまでを遮光し、波長９００ｎｍ以上の近赤外線を透過可能な赤外線透過フィルタを形成することもできる。本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
　支持体として用いられる半導体基材上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　支持体として用いられる透明基材としては、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
　本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
　本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長７００～１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００～１０００ｎｍ）の範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長４００～６００ｎｍの光の平均透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。また、波長４００～６００ｎｍの全ての範囲での透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長７００～１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００～１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下が更に好ましい。また、本発明の膜は、波長４００～６００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ａ１と、波長６５０～１５００ｎｍの範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長における吸光度Ａ２との比（Ａ１／Ａ２）が０．３０以下であることが好ましく、０．２０以下であることがより好ましく、０．１５以下であることが更に好ましく、０．１０以下であることが特に好ましい。
　本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であることが好ましい。赤外線透過フィルタとして用いられる本発明の膜は、以下の（１）～（４）のいずれかの分光特性を満たしていることが好ましい。
　（１）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である。
　（２）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である。
　（３）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である。
　（４）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることが好ましい。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体上に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
　本発明の膜は、本発明の赤外線吸収組成物を塗布する工程を経て製造できる。
　支持体としては、上述したものが挙げられる。赤外線吸収組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　赤外線吸収組成物を塗布して形成した赤外線吸収組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　プリベーク後の赤外線吸収組成物層に対し、更に追加ベークを行ってもよい。追加ベークを行うことで、ポストベークの際に生じる赤外線吸収色素の粒子の凝集や、波長６５０～１５００ｎｍの範囲における２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度に対する、最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度の比の変化をより小さくすることができる。追加ベークを行う場合、追加ベーク温度は、１００～１８０℃が好ましく、１２０～１６０℃がより好ましい。追加ベーク時間は、１０～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、３００～１２００秒が更に好ましい。追加ベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられ、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の赤外線吸収組成物を塗布して形成した赤外線吸収組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の赤外線吸収組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
＜＜露光工程＞＞
　露光工程では赤外線吸収組成物層をパターン状に露光する。例えば、赤外線吸収組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
＜＜現像工程＞＞
　次に、露光後の赤外線吸収組成物層における未露光部の赤外線吸収組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の赤外線吸収組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の赤外線吸収組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、更に界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、上記赤外線吸収組成物を支持体上に塗布して形成した赤外線吸収組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、プリベーク処理を施すことが好ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載された吸収層が挙げられる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９に記載された誘電体多層膜が挙げられる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基板（銅含有ガラス基板）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基板としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等で形成される転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等で形成される遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等で形成されるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載された装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０の撮像領域上には、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とが配置されている。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が配置されている。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　赤外線カットフィルタ１１１は本発明の赤外線吸収組成物を用いて形成することができる。赤外線カットフィルタ１１１の分光特性は、使用する赤外発光ダイオード（赤外ＬＥＤ）の発光波長に応じて選択される。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。
＜赤外線吸収色素Ａ－１の合成例＞
　下記スキームに従い赤外線吸収色素Ａ－１を合成した。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
（化合物ａの合成）
　２－メチルベンゾイル酢酸エチル（東京化成工業（株）製）を原料にしてＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　６２　（２００６）　６０１８－６０２８に記載された方法に従って、化合物ａを合成した。
（化合物ｂの合成）
　４－（１－メチルヘプトキシ）ベンゾニトリルと化合物ａを原料にして国際公開第２０１６／１９４５２７号の段落０３４２に記載された方法に従って、化合物ｂを合成した。
（化合物ｃの合成）
　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ－Ａ　Ｅｕｒｏｐｅａｎ　Ｊｏｕｒｎａｌ，２００９，ｖｏｌ．１５，＃１９，ｐ．４８５７－４８６４に記載された方法に従って、化合物ｃを合成した。
（化合物ｄの合成）
　特許第６３５３０６０号公報の段落００７２に記載された方法に従って、化合物ｄを合成した。
（化合物ｅの合成）
　特許第６３５３０６０号公報の段落００７２に記載された方法に従って、化合物ｅを合成した。
（赤外線吸収色素Ａ－１の合成）
　化合物ｅの３．０質量部と、炭酸カリウムの１．７５質量部とを、ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）の３６質量部中で撹拌した後、ブタンスルトンの３．０質量部と、ＤＭＡｃの４質量部とを添加し、１０分間室温で撹拌した。外接温度を９５℃まで昇温させて３時間加熱した。次に、内温３０℃になるまで放冷し、析出した結晶をろ別した。４ｍｏｌ／Ｌ塩酸水溶液の３０質量部に、内温３０℃以下を維持しつつ、得られた結晶を少量ずつ添加し、３０分間室温で撹拌し、析出した結晶をろ別する操作を２回行った。得られた結晶に６０質量部の酢酸エチルを加えて、３０分間加熱還流し、３０℃になるまで放冷し、結晶をろ別する操作を２回行った。得られた結晶を５０℃２４時間送風乾燥させる事で、化合物Ａ－１を２．０質量部得た。
＜赤外線吸収色素Ａ－２～Ａ－７の合成例＞
　赤外線吸収色素Ａ－１の合成と同様の方法にて、赤外線吸収色素Ａ－２～Ａ－７を合成した。
＜赤外線吸収色素の溶解量の評価＞
　下記表に記載の赤外線吸収色素を、大気圧下にて、２５℃に温度調整した下記表に記載の測定溶剤に添加した。１時間撹拌したのち、２５℃の測定溶剤に対する各赤外線吸収色素の溶解量を求めた。以下の基準で、赤外線吸収色素の溶解量を評価した。Ａの場合を良溶剤であると判断し、Ｂの場合を貧溶剤であると判断した。貧溶剤中では赤外線吸収色素は粒子として存在している。なお、以下の表の測定溶剤の欄に記載のＰＧＭＥＡはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートの略語である。
　Ａ：２５℃の測定溶剤１００ｇに対する赤外線吸収色素の溶解量が０．１ｇ以上である。
　Ｂ：２５℃の測定溶剤１００ｇに対する赤外線吸収色素の溶解量が０．１ｇ％未満である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
＜良溶剤中の赤外線吸収色素の極大吸収波長＞
　各赤外線吸収色素を、下記表に記載の溶剤（良溶剤）に溶解させて、赤外線吸収色素濃度２．５×１０－６ｍｏｌ／Ｌの色素溶液を調製し、色素溶液の吸収スペクトルを測定した。波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在する極大吸収波長の数と、最も吸光度が大きい値を示す波長（λｍａｘ）をそれぞれ下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
　赤外線吸収色素Ａ－１～Ａ－７、比較色素１～３の構造は以下の通りである。以下の構造式中、Ｍｅはメチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
＜実施例１～５、比較例１～２の赤外線吸収組成物の調製＞
　下記に記載の原料を混合して、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）を用いてろ過して、赤外線吸収組成物を調製した。なお、実施例１～５、比較例１、２においては、赤外線吸収組成物中において、赤外線吸収色素は粒子の状態で存在していた。また、分散液は、以下のように調製した。下記表の分散液の欄に記載の種類の赤外線吸収色素と界面活性剤と溶剤とを、それぞれ下記表の分散液の欄に記載の配合量で混合し、更に、直径０．１ｍｍのジルコニアビーズの５００質量部を加え、遊星型ボールミルにて３００ｒｐｍで５時間処理を行ったのち、ジルコニアビーズをろ過で分離して分散液を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
　界面活性剤１：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム（ネオゲンＳＣ、第一工業製薬（株）製）
　界面活性剤２：ドデシルベンゼンスルホン酸（東京化成工業（株）製）
　樹脂１：ポリビニルアルコールの２０質量％水溶液
＜実施例６～２７の赤外線吸収組成物の調製＞
　下記表に記載の原料を混合して、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）を用いてろ過して、実施例６～２７の赤外線吸収組成物を調製した。各赤外線吸収組成物中において、赤外線吸収色素は粒子の状態で存在していた。なお、分散液は、以下のように調製した。下記表の分散液の欄に記載の種類の赤外線吸収色素、分散剤及び溶剤を、それぞれ下記表に記載の配合量で混合し、更に、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて８時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を調製した。
＜比較例３の赤外線吸収組成物の調製＞
下記表に記載の溶剤に下記表に記載の樹脂を溶解させた樹脂溶液に、下記表に記載の赤外線吸収色素を加えて溶解し、ろ過により不溶分等を取り除くことにより、樹脂組成物を得た。比較例３の組成物中において、比較色素３は赤外線吸収組成物中の溶剤に溶解していた。 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：シクロペンタノン
　Ｓ－３：炭酸プロピレン
　Ｓ－４：酢酸シクロヘキシル
　Ｓ－５：メチルイソブチルケトン
（分散剤）
　Ｃ－１：下記構造の樹脂。（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量２１０００、酸価３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 　Ｃ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量３８０００、酸価９９．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
（樹脂）
　Ｐ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。重量平均分子量１００００、酸価＝６９．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 　Ｐ－２：アリルメタクリレート（ＡＭＡ）とメタクリル酸（ＭＡＡ）との共重合体（組成比（質量比）：ＡＭＡ／ＭＡＡ＝８０／２０、重量平均分子量１５０００）
　Ｐ－３：α－アリルオキシメチルアクリル酸メチル（ＡＯＭＡ）とＮ－フェニルマレイミド（ＰＭＥ）との共重合体（組成比（質量比）：ＡＯＭＡ／ＰＭＥ＝６６／３４、重量平均分子量３１６００）
　Ｐ－４：メチルメタクリレート（ＭＭＡ）とグリシジルメタクリレート（ＧＭＡ）との共重合体（組成比（質量比）：ＭＭＡ／ＧＭＡ＝５０／５０、重量平均分子量２５０００）
（硬化性化合物）
　Ｍ－１：下記構造の化合物の混合物（左側化合物と右側化合物とのモル比が７：３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 　Ｍ－２：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 　Ｍ－３：ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ＤＩＣ（株）製）
　Ｍ－４：ＥＨＰＥ３１５０（２，２－ビス(ヒドロキシメチル)－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－(２－オキシラニル)シクロヘキサン付加物、（株）ダイセル製）
（光重合開始剤）
　Ｆ－１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 　Ｆ－２：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
（界面活性剤）
　Ｇ－１：下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 　Ｇ－２：ＫＦ－６００１（シリコーン系界面活性剤、信越化学工業（株）製）
　Ｇ－３：ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３２０（フッ素系界面活性剤、ＯＭＮＯＶＡ社製）
（重合禁止剤）
　Ｈ－１：ｐ－メトキシフェノール
＜極大吸収波長及び吸光度＞
　各赤外線吸収組成物の吸収スペクトルを測定し、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在する極大吸収波長の数、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在する極大吸収波長のうち最も短波側に存在する極大吸収波長（λ１）、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在する極大吸収波長のうち２番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ２）、および、極大吸収波長（λ２）での吸光度を１としたときの極大吸収波長（λ１）での吸光度の値（Ｚ１）をそれぞれ求めた。なお、実施例１～１８、比較例１～３の赤外線吸収組成物において、波長６５０～１５００ｎｍの範囲における極大吸収波長及び吸光度の特性は、各赤外線吸収組成物に含まれる赤外線吸収色素Ａ－１～Ａ－７、比較色素１～３に由来するものである。
＜硬化膜の製造＞
（製造例１）　実施例１～５、１８、比較例１～３の赤外線吸収組成物を用いた硬化膜の製造方法
　実施例１～５、１８、比較例１～３の赤外線吸収組成物をガラス基板（コーニング社製、「１７３７」）上に、スピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行い初期乾燥した。その後、イナートオーブンを用いて５０℃で３０分間窒素置換した後、１０分程度で１５０℃に昇温し、１５０℃で３０分間窒素雰囲気下で追加乾燥することにより、硬化膜を得た。
（製造例２）　実施例６～１２、２１、２４、２７の赤外線吸収組成物を用いた硬化膜の製造方法
　実施例６～１２、２１、２４、２７の赤外線吸収組成物を、ガラス基板（コーニング社製、「１７３７」）上に、スピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用して、５００ｍＪ／ｃｍ２で全面露光した。次いで現像機（ＣＤ－２０６０、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行い、次いで、純水でリンス処理し、次いで、スピン乾燥した。さらに、２００℃のホットプレートを用いて３００秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、硬化膜を得た。
（製造例３）　実施例１３～１７の赤外線吸収組成物を用いた硬化膜の製造方法
　実施例１３～１７の赤外線吸収組成物を、ガラス基板（コーニング社製、「１７３７」）上に、スピンコーターを用いて塗布し、１００℃のホットプレートを用いて１２０秒間加熱処理（プリベーク）を行った。さらに、２００℃のホットプレートを用いて４８０秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、硬化膜を得た。
（製造例４）　実施例１９、２０、２２、２３、２５、２６の赤外線吸収組成物を用いた硬化膜の製造方法
　実施例１９、２０、２２、２３、２５、２６の赤外線吸収組成物を、ガラス基板（コーニング社製、「１７３７」）上に、スピンコーターを用いて塗布し、１２０℃のホットプレートを用いて６００秒間加熱処理（プリベーク）を行った。さらに、２００℃のホットプレートを用いて４８０秒間加熱処理（ポストベーク）を行い、硬化膜を得た。
＜分光特性の評価＞
（スロープ形状）
　上記各硬化膜の製造方法で、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在する極大吸収波長のうち最も短波側に存在する極大吸収波長（λ１）での透過率が１０％となるように硬化膜の膜厚を調整し、λ１の短波側で透過率が６０％を示す最も長波側の波長（λＳＨ６０）を測定した。λ１とλＳＨ６０との差（λ１－λＳＨ６０）を算出し、以下の基準でスロープ形状を評価した。上記波長の差が小さいほど赤外線の吸収の裾切れが良く、より選択的に赤外線を遮蔽することができることを示している。
－評価基準－
　Ａ：（λ１－λＳＨ６０）≦５０ｎｍ
　Ｂ：５０ｎｍ＜（λ１－λＳＨ６０）≦７０ｎｍ
　Ｃ：７０ｎｍ＜（λ１－λＳＨ６０）
（赤外線遮蔽性）
　上記各硬化膜の製造方法で、波長６５０～１５００ｎｍの範囲において、最も吸光度が大きい値を示す波長（λｍａｘＡ）での透過率が１％となるように硬化膜の膜厚を調製し、λｍａｘの長波側で透過率が２０％を示す最も短波側の波長（λＬＨ２０）と、λｍａｘの短波側で透過率が２０％を示す最も長波側の波長（λＳＨ２０）とを測定した。λＬＨ２０とλＳＨ２０の差（λＬＨ２０－λＳＨ２０）を算出し、以下の基準で赤外線遮蔽性を評価した。上記波長の差が大きいほど幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できることを示している。
－評価基準－
　Ａ：（λＬＨ２０－λＳＨ２０）≧１１０ｎｍ
　Ｂ：８５ｎｍ≦（λＬＨ２０－λＳＨ２０）＜１１０ｎｍ
　Ｃ：６０ｎｍ≦（λＬＨ２０－λＳＨ２０）＜８５ｎｍ
　Ｄ：（λＬＨ２０－λＳＨ２０）＜６０ｎｍ
（耐熱性）
　上記で得られた厚さ１．０μｍの硬化膜を、ホットプレートを用いて、２００℃で３時間加熱した。加熱前後の膜の波長４００～２０００ｎｍの光に対する透過率を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００～１５００ｎｍの範囲において、加熱前後の透過率の変化が最も大きい波長における透過率変化を下記式から算出し、下記基準で透過率変化を評価した。透過率変化が小さいほど、耐熱性に優れるといえる。
　透過率変化＝｜（光照射後の透過率－光照射前の透過率）｜
－評価基準－
　Ａ：透過率変化が３％未満である。
　Ｂ：透過率変化が３％以上５％未満である。
　Ｃ：透過率変化が５％以上１０％未満である。
　Ｄ：透過率変化が１０％以上である。
（耐光性）
　上記で得られた厚さ１．０μｍの硬化膜をスーパーキセノンランプ（２０万ルクス）搭載の退色試験機にセットし、紫外線カットフィルタを使用しない条件下にて、２０万ルクスの光を５５時間照射した。次に、光照射後の膜の透過スペクトルを、分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～２，０００ｎｍの範囲において、光照射前後の透過率の変化が最も大きい波長における透過率変化を下記式から算出し、下記基準で耐熱性を評価した。
　透過率変化＝｜（光照射後の透過率－光照射前の透過率）｜
－評価基準－
　Ａ：透過率変化が３％未満である。
　Ｂ：透過率変化が３％以上５％未満である。
　Ｃ：透過率変化が５％以上１０％未満である。
　Ｄ：透過率変化が１０％以上である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
　上記表に示すように、実施例の赤外線吸収組成物は、スロープ形状が良好で、赤外線遮蔽性に優れていた。また、実施例の赤外線吸収組成物においては、赤外線吸収色素Ａ－１～Ａ－７は、いずれも赤外線吸収組成物中において粒子として存在していた。また、実施例の赤外線吸収組成物中において、これらの粒子は波長６５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長が２以上存在していた。また、前述の範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長（λ１）での吸光度（Ｚ１）は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ２）での吸光度を１としたとき０．６～２．０であった。また、最も短波側に存在する極大吸収波長（λ１）と、２番目に短波側に存在する極大吸収波長（λ２）との差（λ２－λ１）は、いずれも３０～８０ｎｍの範囲であった。また、表３と合わせて参照すると、実施例１～２７の赤外線吸収組成物における上記λ１の値は、赤外線吸収色素Ａ－１～Ａ－７をそれぞれ良溶剤（ジメチルスルホキシド）に溶解させて調製した色素溶液において最も吸光度が大きい値を示す波長（λｍａｘ）よりも短波側に存在していた。
　一方、比較例３は硬化膜の状態では、７４９ｎｍと９２０ｎｍに極大吸収波長を有していたが、その波長差が１００ｎｍ以上と大きく、赤外線遮蔽性が十分でなかった。
　実施例６の赤外線吸収組成物を用いた硬化膜を赤外線センサに用いることでノイズをより低減することができる。
（実施例２８）
　実施例６において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－１を１．７質量部と紫外線吸収剤ＵＶ－１を２．０質量部配合した以外は実施例６と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例２８の赤外線吸収組成物は、実施例６と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例６よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例２９）
　実施例９において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－２を１．７質量部と紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ３２６、２－（５－クロロ－２－ベンゾトリアゾリル）－６－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ＢＡＳＦ社製）を２．０質量部配合した以外は実施例９と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例２９の赤外線吸収組成物は、実施例９と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例９よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３０）
　実施例１０において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－３を１．７質量部と紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を２．０質量部配合した以外は実施例１０と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３０の赤外線吸収組成物は、実施例１０と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１０よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３１）
　実施例１１において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－４を１．７質量部と紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ４６０、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を２．０質量部配合した以外は実施例１１と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３１の赤外線吸収組成物は、実施例１１と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１１よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３２）
　実施例１２において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－５を１．７質量部と紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を２．０質量部配合した以外は実施例１２と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３２の赤外線吸収組成物は、実施例１２と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１２よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３３）
　実施例１４において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－２を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－６を０．３質量部と紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部配合した以外は実施例１４と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３３の赤外線吸収組成物は、実施例１４と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１４よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３４）
　実施例１５において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－３を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－７を０．３質量部と紫外線吸収剤（Ｕｖｉｎｕｌ３０５０、ジヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部配合した以外は実施例１５と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３４の赤外線吸収組成物は、実施例１５と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１５よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３５）
　実施例１６において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－４を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－８を０．３質量部と紫外線吸収剤（Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７、ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部した以外は実施例１６と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３５の赤外線吸収組成物は、実施例１６と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１６よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３６）
　実施例１７において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－５を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－９を０．３質量部と紫外線吸収剤（Ｕｖｉｎｕｌ３０４９、ジヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部した以外は実施例１７と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３６の赤外線吸収組成物は、実施例１７と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１７よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３７）
　実施例１４において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－１０を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－６を０．３質量部と紫外線吸収剤Ｕｖｉｎｕｌ３０５０（ジヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部配合した以外は実施例１４と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３７の赤外線吸収組成物は、実施例１４と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例１４よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３８）
　実施例２０において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－１０を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－６を０．３質量部と紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７（ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部配合した以外は実施例２０と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３８の赤外線吸収組成物は、実施例２０と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例２０よりも優れており、Ａの評価であった。
（実施例３９）
　実施例２１において、分散液の調製時に、更に赤外線吸収色素Ｂ－１０を１．７質量部と、赤外線吸収色素Ｂ－６を０．３質量部と紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９（ヒドロキシフェニルトリアジン系化合物、ＢＡＳＦ社製）を９．０質量部配合した以外は実施例２１と同様にして赤外線吸収組成物を製造し、上記と同様の方法で各特性を評価した。実施例３９の赤外線吸収組成物は、実施例２１と同等のスロープ形状を有していた。また、赤外線遮蔽性については実施例２１よりも優れており、Ａの評価であった。
　赤外線吸収色素Ｂ－１～Ｂ－１０はそれぞれ以下に示す構造の化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
　紫外線吸収剤ＵＶ－１は以下に示す構造の化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (15)

  1. 　赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含む赤外線吸収組成物であって、
    　前記粒子が前記赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において２以上存在しており、前記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長での吸光度は、２番目に短波側に存在する極大吸収波長での吸光度を１としたとき０．６～２．０である、赤外線吸収組成物。
  2. 　前記範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長と、２番目に短波側に存在する極大吸収波長との差が３０～８０ｎｍである、請求項１に記載の赤外線吸収組成物。
  3. 　前記赤外線吸収色素は、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、ピロメテン化合物、クロコニウム化合物およびシアニン化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に記載の赤外線吸収組成物。
  4. 　赤外線吸収色素の粒子と、溶剤とを含む赤外線吸収組成物であって、
    　前記赤外線吸収色素は、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するピロロピロール化合物、および、式（１）で表される基と式（２）で表される基とをそれぞれ１つ以上有するスクアリリウム化合物から選ばれる少なくとも１種である、赤外線吸収組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　式（１）中、Ｒ１ａはアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、Ｒ１ｂは置換基を表し、ｎ１は０～４の整数を表し、＊は連結手を表す；
    　式（２）中、Ｌ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基、または単結合を表し、ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘ１は、酸基または塩基性基を表し、ｎ２は１以上の整数を表し、＊は連結手を表す。
  5. 　前記粒子の最も短波側に存在する極大吸収波長は、前記粒子を構成する赤外線吸収色素を前記赤外線吸収色素の良溶剤に溶解させた色素溶液が最も大きい吸光度を示す波長よりも短波側に存在する、請求項１～４のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  6. 　前記粒子が前記赤外線吸収組成物中において示す極大吸収波長が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において３以上存在している、請求項１～５のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  7. 　前記粒子が前記赤外線吸収組成物中において波長６５０～１５００ｎｍの範囲において示す極大吸収波長の数は、前記粒子を構成する赤外線吸収色素を、前記赤外線吸収色素の良溶剤に溶解させた色素溶液が波長６５０～１５００ｎｍの範囲において示す極大吸収波長の数よりも多い、請求項１～６のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  8. 　前記赤外線吸収色素は、式（ＰＰ－１）で表される化合物である、請求項１～７のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　式中、Ｒ１ａはアルキル基、ハロゲン原子、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基またはシアノ基を表し、
    　Ｒ１ｂは置換基を表し、
    　Ｒ２は、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立してシアノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｒ７およびＲ８は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲ９Ｒ１０または金属原子を表し、
    　Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基またはヘテロアリールオキシ基を表し、
    　Ｒ９およびＲ１０が互いに結合して環を形成していてもよく、
    　Ｒ７は、Ｒ３またはＲ５と、共有結合または配位結合していてもよく、
    　Ｒ８は、Ｒ２、Ｒ４またはＲ６と、共有結合または配位結合していてもよく、
    　Ｌ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ２＋１価の連結基、または単結合を表し、
    　ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、
    　Ｘ１は、酸基または塩基性基を表し、
    　ｎ１は０～４の整数を表し、
    　ｎ２は１以上の整数を表し、
    　ｍは１以上の整数を表す。
  9. 　更に、硬化性化合物を含む、請求項１～８のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  10. 　光学フィルタ用、または、インク用である、請求項１～９のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物。
  11. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の赤外線吸収組成物を用いた膜。
  12. 　請求項１１に記載の膜を含む光学フィルタ。
  13. 　請求項１１に記載の膜を含む固体撮像素子。
  14. 　請求項１１に記載の膜を含む画像表示装置。
  15. 　請求項１１に記載の膜を含む赤外線センサ。
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