WO2022064896A1 - 組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤 - Google Patents

組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤 Download PDF

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結美 加藤
賢 鮫島
季彦 松村
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富士フイルム株式会社
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    • C08K5/00—Use of organic ingredients
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    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3415—Five-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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    • C09B55/00—Azomethine dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09B67/006—Preparation of organic pigments
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • H01L31/02—Details
    • H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device

Definitions

  • the present invention relates to a composition containing a dye and a curable compound.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, a camera module, a compound and an infrared absorber using the above-mentioned composition.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the infrared cut filter is manufactured using a composition containing an infrared absorbing dye.
  • Pyrrolopyrrole compounds and the like are known as infrared absorbing dyes (see Patent Document 1).
  • an object of the present invention is to provide a composition capable of forming a film having excellent light resistance and moisture resistance. Another object of the present invention is to provide a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, and a camera module using the composition. Another object of the present invention is to provide a compound and an infrared absorber.
  • the present invention provides: ⁇ 1> A dye having a structure represented by the formula (1) and having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 450 to 1500 nm, Curable compounds and Composition containing;
  • Ar 1 represents an aryl group or a heteroaryl group.
  • X 1 represents an oxygen atom or substituent and represents R 1 and R 2 each independently represent a substituent and represent a substituent.
  • Y 1 and Y 2 independently represent a hydrogen atom or a substituent, respectively.
  • X 1 of the above formula (1) is an oxygen atom, a group represented by the formula (X-1) or a group represented by the formula (X-2).
  • Ar 2 and Ar 3 independently represent an aryl group or a heteroaryl group, respectively, and * represents a linking hand.
  • Ar 1 of the above formula (1) is any of the groups represented by the formulas (Har-1) to (Har-10);
  • R a1 to R a49 independently represent a hydrogen atom or a substituent, and * represents a linking hand;
  • R a1 and R a2 , R a2 and R a3 , and R a3 and R a4 may be coupled to each other to form a ring;
  • R a5 and R a6 , R a6 and R a7 , and R a7 and R a8 may be coupled to each other to form a ring;
  • R a25 and R a26 , R a26 and R a27 may be coupled to each other to form a ring
  • R a28 and R a29 , R a29 and R a30 , and R a30 and R a31 may be coupled to each other to form a ring
  • R a32 and R a33 , R a33 and R a34 , R a34 and R a35 , R a35 and R a36 , and R a36 and R a37 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a38 and R a39 , R a39 and R a40 , R a40 and R a41 , R a41 and R a42 , and R a42 and R a43 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a44 and R a45 , R a45 and R a46 , R a46 and R a47 , R a47 and R a48 , and R a48 and R a49 may be coupled to each other to form a ring. .. ⁇ 4> Y 1 and Y 2 in the above equation (1) independently represent ⁇ BR Y1 RY2, respectively.
  • RY1 and RY2 independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heteroaryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heteroaryloxy group or a cyano group, respectively.
  • RY1 and RY2 may be coupled to each other to form a ring.
  • ⁇ 5> The composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein R 1 and R 2 of the above formula (1) are independently aliphatic hydrocarbon groups or aryl groups, respectively.
  • ⁇ 6> A film obtained by using the composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>.
  • the present invention it is possible to provide a composition capable of forming a film having excellent light resistance and moisture resistance. Further, according to the present invention, it is possible to provide a film, an optical filter, a solid-state image sensor, an image display device, an infrared sensor, a camera module, a compound and an infrared absorber.
  • the contents of the present invention will be described in detail.
  • "to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as the lower limit value and the upper limit value.
  • the notation not describing substitution and non-substitution also includes a group having a substituent (atomic group) as well as a group having no substituent (atomic group).
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • the term "exposure” includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Examples of the light used for exposure include emission line spectra of mercury lamps, far ultraviolet rays typified by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, active rays such as electron beams, or radiation.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth) acrylate” represents both acrylate and methacrylate, or either
  • “(meth) acrylic” represents both acrylic and methacrylic, or either.
  • Acryloyl "represents both acryloyl and / or methacryloyl.
  • weight average molecular weight and number average molecular weight are defined as polystyrene-equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurements.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Me in the chemical formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • infrared rays refer to light (electromagnetic waves) having a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • the total solid content means the total mass of all the components of the composition excluding the solvent.
  • the pigment means a coloring material that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the term "process" is included in this term not only as an independent process but also as long as the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • composition of the present invention has a structure represented by the formula (1), and is characterized by containing a dye having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 450 to 1500 nm and a curable compound.
  • composition of the present invention can be used as a composition for an optical filter.
  • optical filter include an infrared cut filter and an infrared transmission filter.
  • the composition of the present invention contains a dye having a structure represented by the formula (1) and having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 450 to 1500 nm (hereinafter, also referred to as a specific dye).
  • Ar 1 represents an aryl group or a heteroaryl group.
  • X 1 represents an oxygen atom or substituent and represents R 1 and R 2 each independently represent a substituent and represent a substituent.
  • Y 1 and Y 2 independently represent a hydrogen atom or a substituent, respectively.
  • Ar 1 of the formula (1) represents an aryl group or a heteroaryl group, and is preferably a heteroaryl group because it is excellent in visible transparency and infrared shielding property.
  • Aryl groups and heteroaryl groups may have substituents or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the group mentioned in the substituent T described later and the group represented by the formula (R-100). Specific examples include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a hydroxyl group, a sulfonic acid amide group, a phenyl group, a thienyl group, a frill group, a cyano group and a silyl group.
  • L R1 is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -NR L1- , -CO-, -COO-,-. OCO-, -SO 2 -or a combination thereof represents an n + 1 valent linking group
  • RL1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group
  • X R1 represents an acid group or a basic group
  • L R1 may be a single bond. * Represents a connecting hand.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 2 to 20, further preferably 2 to 10, and particularly preferably 2 to 5.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the aliphatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 18, more preferably 6 to 14, and even more preferably 6 to 10.
  • the aromatic hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a fused ring having 2 to 4 condensation numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • heterocyclic group examples include piperazine ring group, pyrrolidine ring group, pyrrole ring group, piperidine ring group, pyridine ring group, imidazole ring group, pyrazole ring group, oxazole ring group, thiazole ring group, pyrazine ring group and morpholine.
  • the aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent.
  • substituents include the groups mentioned in Substituent T described later, preferably a halogen atom, and more preferably a fluorine atom.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group represented by RL1 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group represented by RL1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • the aryl group represented by RL1 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group represented by RL1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • Examples of the acid group represented by X R1 of the formula (R-100) include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imic acid group and salts thereof. ..
  • alkali metal ions Li + , Na + , K + , etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+ , etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ions.
  • a group represented by -NHCOR X1 is preferable.
  • a group represented by -NHSO 2 RX2 is preferable.
  • a group represented by -SO 2 NHSO 2 R X3 , -CONHSO 2 R X4 , -CONHCOR X5 or -SO 2 NHCOR X6 is preferable, and -CONHSO 2 R X4 or -SO 2 NHSO 2 R is preferable.
  • X3 is more preferable.
  • RX1 to RX6 independently represent an alkyl group or an aryl group, respectively.
  • the alkyl group and aryl group represented by RX1 to RX6 may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Examples of the basic group represented by X R1 of the formula (R-100) include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimidemethyl group.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • Examples of the amino group include a group represented by ⁇ NRx 1 Rx 2 and a cyclic amino group.
  • Rx 1 and Rx 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and are preferably alkyl groups.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable, and linear is more preferable.
  • the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed in Substituent T described later.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group may have a substituent.
  • substituents include the groups listed in Substituent T described later.
  • Rx 1 and Rx 2 may be combined to form a ring.
  • the cyclic amino group include a pyrrolidine group, a piperidine group, a piperazine group, a morpholine group and the like. These groups may further have a substituent.
  • Examples of the substituent include the groups listed in Substituent T described later. Specific examples of the substituent include an alkyl group and an aryl group.
  • N in the formula (R-100) represents an integer of 1 or more, and is preferably an integer of 1 to 3, more preferably 1 or 2, and even more preferably 1.
  • the aryl group represented by Ar 1 in the formula (1) preferably has 6 to 40 carbon atoms, more preferably 6 to 30 carbon atoms, and even more preferably 6 to 20 carbon atoms.
  • the aryl group represented by Ar 1 may be a monocyclic ring, but is preferably a fused ring.
  • the heteroaryl group represented by Ar 1 in the formula (1) may be a monocyclic ring, but is preferably a condensed ring.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl ring of the heteroaryl group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heteroaryl ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl ring is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the heteroaryl ring is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • Examples of the heteroaryl group represented by Ar 1 in the formula (1) include groups represented by the following formulas (Har-1) to (Har-10). Among them, the group represented by the formula (Har-1), the group represented by the formula (Har-2), the group represented by the formula (Har-3), and the formula because they are excellent in light resistance and moisture resistance. A group represented by (Har-4), a group represented by the formula (Har-8), a group represented by the formula (Har-9) and a group represented by the formula (Har-10) are preferable.
  • R a1 to R a49 independently represent a hydrogen atom or a substituent, and * represents a linking hand.
  • substituent represented by R a1 to R a49 include the group described by the substituent T described later and the group represented by the above formula (R-100), which include a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group and an aryloxy. It is preferably a group, a hydroxyl group, an aryl group, a heteroaryl group, a sulfonic acid amide group, a cyano group or a silyl group.
  • R a1 and R a2 , R a2 and R a3 , and R a3 and R a4 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a5 and R a6 , R a6 and R a7 , and R a7 and R a8 may be bonded to each other to form a ring.
  • R a9 and R a10 , R a10 and R a11 , R a11 and R a12 , and R a12 and R a13 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a15 and R a16 , R a16 and R a17 , and R a17 and R a18 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a19 and R a20 , R a20 and R a21 , R a21 and R a22 , R a22 and R a23 , and R a23 and R a24 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a25 and R a26 , and R a26 and R a27 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a28 and R a29 , R a29 and R a30 , and R a30 and R a31 may be coupled to each other to form a ring.
  • R a32 and R a33 , R a33 and R a34 , R a34 and R a35 , R a35 and R a36 , and R a36 and R a37 may be coupled to each other to form a ring. ..
  • R a38 and R a39 , R a39 and R a40 , R a40 and R a41 , R a41 and R a42 , and R a42 and R a43 may be coupled to each other to form a ring. ..
  • R a44 and R a45 , R a45 and R a46 , R a46 and R a47 , R a47 and R a48 , and R a48 and R a49 may be coupled to each other to form a ring. ..
  • the ring formed by bonding the above groups to each other is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • X 1 of the formula (1) represents an oxygen atom or a substituent, and is preferably an oxygen atom, a group represented by the formula (X-1) or a group represented by the formula (X-2), and is visible. It is more preferable that the group is represented by the formula (X-1) or the group represented by the formula (X-2) because it is easy to form a film having excellent transparency and infrared shielding property, and the visible transparency is visible. Further, the group represented by the formula (X-2) is more preferable because it is excellent in infrared ray shielding property and easily forms a film having more excellent light resistance and moisture resistance.
  • Ar 2 and Ar 3 independently represent an aryl group or a heteroaryl group, respectively, and * represents a linking hand and is bound to the pyrrolopyrrole ring which is a dye mother nucleus.
  • * X1 in the formula (1) corresponds to the group represented by the formula (X-1) or the group represented by the formula (X-2).
  • the aryl group represented by Ar 2 and Ar 3 has the same meaning as the aryl group represented by Ar 1 in the formula (1), and the preferred range is also the same.
  • the heteroaryl group represented by Ar 2 and Ar 3 has the same meaning as the heteroaryl group represented by Ar 1 in the formula (1), and the preferred range is also the same.
  • Ar 2 and Ar 3 are preferably independent heteroaryl groups, and more preferably any of the groups represented by the above-mentioned formulas (Har-1) to (Har-10).
  • R 1 and R 2 of the formula (1) each independently represent a substituent.
  • Substituents include aliphatic hydrocarbon groups and aryl groups. These groups may have substituents. Examples of the substituent include a substituent T described later and a group represented by the above formula (R-100).
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 may be a saturated aliphatic hydrocarbon group or an unsaturated aliphatic hydrocarbon group.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic, but is preferably a branched or cyclic aliphatic hydrocarbon group.
  • the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be any of a monocyclic aliphatic hydrocarbon group, a fused ring aliphatic hydrocarbon group and a bridged ring aliphatic hydrocarbon group, but the monocyclic aliphatic hydrocarbon group. It is preferably a group.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 may have a substituent.
  • substituents examples include the group mentioned by the substituent T described later and the group represented by the above formula (R-100), which include a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, a ureido group, an acyl group and an alkoxycarbonyl group. It is preferably an acyloxy group, a sulfamoyl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group or a group represented by the formula (R-100). ..
  • the aliphatic hydrocarbon group examples include an alkyl group, an alkenyl group and an alkynyl group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 30.
  • the lower limit is preferably 3 or more.
  • the upper limit of the carbon number of the alkyl group is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, still more preferably 7 or less.
  • the upper limit of the carbon number of the alkyl group is preferably 25 or less, more preferably 19 or less.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably a branched or cyclic alkyl group.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms.
  • the lower limit is preferably 3 or more.
  • the upper limit of the carbon number of the alkenyl group is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, still more preferably 7 or less.
  • the upper limit of the carbon number of the alkenyl group is preferably 25 or less, more preferably 19 or less.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably a branched or cyclic alkenyl group.
  • the alkynyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms.
  • the lower limit is preferably 3 or more.
  • the upper limit of the carbon number of the alkynyl group is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, still more preferably 7 or less.
  • the upper limit of the carbon number of the alkynyl group is preferably 25 or less, more preferably 19 or less.
  • the alkynyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably a branched or cyclic alkynyl group, more preferably a branched alkynyl group.
  • the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituents examples include the group mentioned by the substituent T described later and the group represented by the above formula (R-100), which include a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, a ureido group, an acyl group and an alkoxycarbonyl group. It is preferably an acyloxy group, a sulfamoyl group, an aryloxy group, a hydroxy group, a carboxyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group or a group represented by the formula (R-100). ..
  • the aryl group represented by R 1 and R 2 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group is preferably a group represented by the following formula (AR-1).
  • R AR1 to R AR5 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituent represented by R AR1 to R AR5 include a substituent T described later and a group represented by the above formula (R-100), which include a hydroxy group, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group and an acyl group.
  • acyloxy group an alkoxycarbonyl group, a sulfamoyl group, an alkylthio group, a ureido group, an aryloxy group, a carboxyl group, a carbonyl group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imide group, a sulfo group or a formula (R-100). It is preferably a group.
  • R AR-1 it is preferable that at least one of R AR1 to R AR5 is a substituent or each of R AR1 to R AR5 is a hydrogen atom, and it is easy to form a film having excellent visible transparency. For this reason, it is more preferable that at least one of R AR1 to R AR4 is a substituent, or each of R AR1 to R AR5 is a hydrogen atom, and at least one of R AR1 to R AR4 is a substituent. Is more preferable, and it is particularly preferable that at least one of R AR1 and R AR4 is a substituent. Further, when at least one of R AR1 and R AR4 is a substituent, it is preferable that R AR2 , R AR3 , and R AR 5 are hydrogen atoms, respectively.
  • R 1 and R 2 are independently aryl groups (preferably groups represented by the formula (AR-1)).
  • Aspect 2 One of R 1 and R 2 is an aliphatic hydrocarbon group, and the other is an aryl group (preferably a group represented by the formula (AR-1)).
  • one of R1 and R2 is an alkyl group and the other is a group represented by the formula (AR-1) because it is easy to form a film having better visible transparency. It is preferable that one of R 1 and R 2 is a secondary alkyl group and the other is a group represented by the formula (AR-1).
  • the secondary alkyl group is a group represented by ⁇ C (R 5a ) (R 5b ).
  • R 5a and R 5b each independently represent an alkyl group, and R 5a and R 5b may be bonded to form an aliphatic hydrocarbon ring.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group represented by R 5a and R 5b is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 7.
  • the alkyl group represented by R 5a and R 5b is preferably a linear or branched alkyl group.
  • the alkyl group represented by R 5a and R 5b may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include a substituent T described later and a group represented by the above formula (R-100).
  • Y 1 and Y 2 of the formula (1) independently represent a hydrogen atom or a substituent, and are preferably substituents.
  • substituent represented by Y 1 and Y 2 in the formula (1) include an alkyl group, an aryl group, a heteroaryl group, and -BR Y1 RY2, and -BR Y1 RY2 is preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group represented by Y 1 and Y 2 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, further preferably 1 to 10, further preferably 1 to 5, and 1 to 3. Is particularly preferred.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but is preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • the aryl group represented by Y 1 and Y 2 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl group represented by Y 1 and Y 2 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 12.
  • Examples of the type of heteroatom constituting the heteroaryl group include nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl group is preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2.
  • the heteroaryl group is preferably a monocyclic ring or a condensed ring, more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of 2 to 8, and even more preferably a monocyclic ring or a condensed ring having a condensed number of condensed rings of 2 to 4.
  • the heteroaryl group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include the groups mentioned in Substituent T described later.
  • -BR Y1 and RY2 in the group represented by RY2 are independently hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkenyl group, aryl group, heteroaryl group, alkoxy group, aryloxy group and heteroaryl, respectively. It represents an oxy group or a cyano group and is preferably a halogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heteroaryl group, more preferably a halogen atom, an alkyl group or an aryl group, and further preferably an aryl group. preferable.
  • Examples of the halogen atom represented by RY1 and RY2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom is preferable.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group and the alkoxy group represented by RY1 and RY2 is preferably 1 to 40, more preferably 1 to 30, and even more preferably 1 to 20.
  • the alkyl group and the alkoxy group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable.
  • the alkyl group and the alkoxy group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituents examples include an aryl group, a heteroaryl group, a halogen atom and the like.
  • the carbon number of the alkenyl group represented by RY1 and RY2 is preferably 2 to 40, more preferably 2 to 30, and even more preferably 2 to 20.
  • the alkenyl group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituent examples include an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, a heteroaryl group, a halogen atom and the like.
  • the aryl group and aryloxy group represented by RY1 and RY2 preferably have 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group and the aryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted.
  • substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and the like.
  • the heteroaryl group and the heteroaryloxy group represented by RY1 and RY2 may be a monocyclic ring or a fused ring.
  • the number of heteroatoms constituting the heteroaryl ring of the heteroaryl group and the heteroaryloxy group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the heteroaryl ring is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the heteroaryl ring is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the heteroaryl ring is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring.
  • the heteroaryl group and the heteroaryloxy group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and the like.
  • the groups RY1 and RY2 represented by RY2 may be bonded to each other to form a ring.
  • Examples of the ring to be formed include the structures shown in the following (B-1) to (B-4).
  • Rb represents a substituent
  • Rb 1 to Rb 4 independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • b1 to b3 independently represent an integer of 0 to 4
  • * represents a linking hand. show.
  • Examples of the substituent represented by Rb and Rb 1 to Rb 4 include the substituent T described later, and a halogen atom, an alkyl group and an alkoxy group are preferable.
  • substituent T examples include the following groups.
  • Halogen atom eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group Preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heteroaryl group preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an amino group preferably an amino group.
  • Amino group having 0 to 30 carbon atoms alkoxy group (preferably alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), aryloxy group (preferably aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms), heteroaryloxy group (preferably carbon).
  • a heteroaryloxy group having a number of 1 to 30 an acyl group (preferably an acyl group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonyl group (preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms), and an aryloxycarbonyl group (preferably an acyl group having 2 to 30 carbon atoms).
  • an acylamino group having 2 to 30 carbon atoms an aminocarbonylamino group (preferably an aminocarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms), an alkoxycarbonylamino group (preferably an alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms).
  • Aryloxycarbonylamino group (preferably aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms), sulfamoyl group (preferably sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms), sulfamoylamino group (preferably 0 to 30 carbon atoms).
  • Sulfamoylamino group carbamoyl group (preferably carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms), alkylthio group (preferably alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms), arylthio group (preferably arylthio group having 6 to 30 carbon atoms).
  • heteroarylthio group preferably a heteroarylthio group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkylsulfonyl group preferably an alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkylsulfonylamino group preferably 1 to 30 carbon atoms
  • 30 alkylsulfonylamino groups preferably arylsulfonylamino groups with 6 to 30 carbon atoms
  • arylsulfonylamino groups preferably arylsulfonylamino groups with 6 to 30 carbon atoms
  • heteroaryls preferably arylsulfonylamino groups with 6 to 30 carbon atoms
  • a ruhonyl group (preferably a heteroarylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms), a heteroarylsulfonylamino group (preferably a heteroarylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms), an alkylsulfinyl group (preferably a heteroarylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms).
  • Alkyl sulfinyl group arylsulfinyl group (preferably arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms), heteroarylsulfinyl group (preferably heteroarylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably 1 to 30 carbon atoms).
  • ureido groups hydroxy group, nitro group, carboxyl group, sulfo group, phosphoric acid group, carboxylic acid amide group, sulfonic acid amide group, imide group, phosphino group, mercapto group, cyano group, alkylsulfino group, aryl Sulfino group, arylazo group, heteroarylazo group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, silyl group, hydrazino group, imino group.
  • These groups may further have a substituent if they are further substitutable groups. Examples of the substituent include the group described in the above-mentioned Substituent T.
  • the maximum absorption wavelength of the specific dye exists in the wavelength range of 450 to 1500 nm, preferably in the wavelength range of 550 to 1300 nm, more preferably in the wavelength range of 600 to 1300 nm, and has a wavelength of 650 to 1000 nm. It is more preferred to be in the range.
  • the specific dye has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 550 to 1500 nm in the wavelength range of 400 nm to 1500 nm, and the absorbance value at the wavelength ( ⁇ max) showing the maximum absorbance value is set to 1.
  • the value of the average absorbance in the wavelength range of 475 to 500 nm is preferably less than 0.012, more preferably less than 0.010, and even more preferably less than 0.008.
  • the absorbance of the specific dye and the value of the maximum absorption wavelength can be obtained by dissolving the specific dye in a solvent to prepare a dye solution and measuring the absorbance of the dye solution.
  • the solvent used for preparing the dye solution include chloroform, dimethyl sulfoxide (DMSO), tetrahydrofuran (THF) and the like.
  • DMSO dimethyl sulfoxide
  • THF tetrahydrofuran
  • chloroform is used as the solvent.
  • DMSO dimethyl sulfoxide
  • THF tetrahydrofuran
  • the specific dye may be a pigment or a dye.
  • the specific dye may be a dye derivative.
  • Dye derivatives are used, for example, as dispersion aids.
  • the dispersion aid is a material for enhancing the dispersibility of the pigment in the composition.
  • a network can be formed between the pigment, the dispersion aid and the resin to further improve the dispersibility of the pigment.
  • At least one of R 1 and R 2 is a group represented by the formula (AR-1), and at least one of R AR1 to R AR 4 in the formula (AR-1) is represented by the formula (R-100).
  • a compound having a structure that is a base can be preferably used as a dispersion aid.
  • the above compound can also be used as a pigment or a dye.
  • the equation (1) also includes the resonance structure thereof. That is, the compound having the resonance structure of the formula (1) is also included in the specific dye in the present invention.
  • Specific examples of the specific dye include compounds having the structures described in Examples described later (PPB-A-1 to PPB-A-19, PPB-B-1 to PPB-B-19, PPB-C-1 to PPB). -C-7), and compounds having the following structures can be mentioned.
  • the content of the specific dye is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and further preferably 5% by mass or more in the total solid content of the composition.
  • the upper limit of the content of the specific dye is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
  • the composition may contain only one type of specific dye, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention may contain a decomposition product of a specific dye.
  • the composition of the present invention contains a curable compound.
  • the curable compound include polymerizable compounds and resins.
  • the resin may be a non-polymerizable resin (a resin having no polymerizable group) or a polymerizable resin (a resin having a polymerizable group).
  • the polymerizable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group, a cyclic ether group, a methylol group, an alkoxymethyl group and the like.
  • Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acryloylamide group, and the like (meth). Allyl groups, (meth) acryloyl groups and (meth) acryloyloxy groups are preferred, and (meth) acryloyloxy groups are more preferred.
  • Examples of the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group, and an epoxy group is preferable.
  • the polymerizable compound is preferably a polymerizable monomer.
  • the curable compound it is preferable to use a compound containing at least a resin.
  • a resin and a polymerizable monomer (monomer type polymerizable compound) as the curable compound, and the resin and ethylenic property are used. It is more preferable to use a polymerizable monomer (monomer type polymerizable compound) having an unsaturated bond-containing group.
  • polymerizable compound examples include a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group, a compound having a cyclic ether group, a compound having a methylol group, and a compound having an alkoxymethyl group.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group can be preferably used as a radically polymerizable compound.
  • the compound having a cyclic ether group can be preferably used as a cationically polymerizable compound.
  • Examples of the resin type polymerizable compound include a resin containing a repeating unit having a polymerizable group.
  • the molecular weight of the monomer-type polymerizable compound is preferably less than 2000, more preferably 1500 or less.
  • the lower limit of the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100 or more, and more preferably 200 or more.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin-type polymerizable compound is preferably 2000 to 2000000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit of the weight average molecular weight is preferably 3000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group as a polymerizable monomer is preferably a 3- to 15-functional (meth) acrylate compound, and more preferably a 3- to 6-functional (meth) acrylate compound. Specific examples thereof include paragraph numbers 0995 to 0108 of JP2009-288705, paragraphs 0227 of JP2013-029760, paragraphs 0254 to 0257 of JP2008-292970, and paragraphs 0254 to 0257 of JP2013-253224.
  • Compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include dipentaerythritol triacrylate (commercially available KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available KAYARAD D-).
  • Examples thereof include compounds having a structure bonded via the above (for example, SR454, SR499 commercially available from Sartmer).
  • Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group include diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth) acrylate (commercially available M-460; manufactured by Toa Synthetic) and pentaerythritol tetraacrylate (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd. (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.).
  • NK Ester A-TMMT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 ( Toa Synthetic Co., Ltd., NK Oligo UA-7200 (Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate POB-A0 (Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) ), Etc. can also be used.
  • Examples of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propyleneoxy-modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethyleneoxy-modified tri (meth) acrylate, and isocyanuric acid. It is also preferable to use a trifunctional (meth) acrylate compound such as an ethyleneoxy-modified trimethylolpropane (meth) acrylate or pentaerythritol trimethylolpropane (meth) acrylate.
  • trifunctional (meth) acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, and M-305. , M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) And so on.
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group may further have an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, and a phosphoric acid group.
  • an acid group such as a carboxyl group, a sulfo group, and a phosphoric acid group.
  • Examples of commercially available products of such compounds include Aronix M-305, M-510, M-520, Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) and the like.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used.
  • the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP2013-253224A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • Examples of the compound having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, etc., which are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series.
  • a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an alkyleneoxy group can also be used.
  • Such a compound is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group, and is a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group and an ethyleneoxy group. It is more preferable to have a 3 to 6 functional (meth) acrylate compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • SR-494 which is a tetrafunctional (meth) acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartmer
  • KAYARAD TPA-330 which is a trifunctional (meth) acrylate having three isobutyleneoxy groups.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used.
  • examples of commercially available products include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., (meth) acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group it is also preferable to use a compound that does not substantially contain an environmentally regulatory substance such as toluene.
  • an environmentally regulatory substance such as toluene.
  • commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • Compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group include UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA- 306I, AH-600, T-600, AI-600, LINK-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), 8UH-1006, 8UH-1012 (all manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.), light acrylate POB-A0 (manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd.) It is also preferable to use Kyoeisha Chemical Co., Ltd.).
  • Examples of the compound having a cyclic ether group include a compound having an epoxy group, a compound having an oxetanyl group, and the like, and a compound having an epoxy group is preferable.
  • Examples of the compound having an epoxy group include a compound having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the number of epoxy groups may be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the number of epoxy groups is preferably two or more.
  • Examples of the compound having an epoxy group include paragraph numbers 0034 to 0036 of JP2013-011869, paragraph numbers 0147 to 0156 of JP-A-2014-0435556, and paragraph numbers 0083 to 0092 of JP-A-2014-089408.
  • the described compounds and the compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used, and their contents are incorporated in the present specification.
  • the compound having a cyclic ether group may be either a low molecular weight compound (for example, a molecular weight of less than 1000) or a polymer compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more). ..
  • the weight average molecular weight of the cyclic ether group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less.
  • Examples of the compound having a cyclic ether group include the compounds described in paragraphs 0034 to 0036 of JP2013-011869, the compounds described in paragraphs 0147 to 0156 of JP2014-043556, and JP-A-2014.
  • the compounds described in paragraphs 805 to 0092 of JP-A-089408 and the compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
  • Examples of the compound having a methylol group include compounds in which the methylol group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Examples of the compound having an alkoxymethyl group include a compound in which an alkoxymethyl group is bonded to a nitrogen atom or a carbon atom forming an aromatic ring.
  • Compounds in which an alkoxymethyl group or a methylol group is bonded to a nitrogen atom include alkoxymethylated melamine, methylolated melamine, alkoxymethylated benzoguanamine, methylolated benzoguanamine, alkoxymethylated glycoluril, methylolated glycoluril, and alkoxymethylated.
  • Urea, methylolated urea and the like are preferred.
  • the compounds described in paragraphs 0134 to 0147 of JP-A-2004-295116 and paragraphs 095 to 0126 of JP-A-2014-089408 can also be used.
  • a resin in the composition of the present invention, can be used as the curable compound. It is preferable to use a curable compound containing at least a resin.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing a pigment or the like in a composition or for a binder.
  • a resin mainly used for dispersing a pigment or the like in a composition is also referred to as a dispersant.
  • such an application of the resin is an example, and the resin can be used for purposes other than such an application.
  • the resin having a polymerizable group also corresponds to a polymerizable compound.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 3000 to 2000000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 5000 or more.
  • the resin examples include (meth) acrylic resin, epoxy resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, and polyimide resin.
  • examples thereof include polyamide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, vinyl acetate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, and polyurea resin.
  • One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • a norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Examples of commercially available norbornene resins include the ARTON series manufactured by JSR Corporation (for example, ARTON F4520).
  • the resin the resin described in Examples of International Publication No. 2016/08864, the resin described in JP-A-2017-0572565, the resin described in JP-A-2017-032685, and the Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-032685.
  • a resin having an acid group examples include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group. These acid groups may be only one kind or two or more kinds.
  • the resin having an acid group can also be used as a dispersant.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 200 mgKOH / g or less, further preferably 150 mgKOH / g or less, and most preferably 120 mgKOH / g or less.
  • a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the formula (ED1) and / or a compound represented by the formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimer”) is used. It is also preferable to include it.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP2013-209760A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the resin it is also preferable to use a resin having a polymerizable group.
  • the polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0 to 15.
  • the alkylene group represented by R 21 and R 22 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, further preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 2 or 3 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by the formula (X) include ethylene oxide of paracumylphenol or propylene oxide-modified (meth) acrylate.
  • Examples of commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin preferably contains a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol% or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol%.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10 to 105 mgKOH / g.
  • the basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% is preferable when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%.
  • the basic group contained in the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is a graft resin.
  • the description in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group of pKa14 or less, a side chain having 40 to 10,000 atoms, and a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the resin to have is preferable.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • resins include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of the dendrimer include the polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, and 20 to 70 in all the repeating units of the resin. It is more preferably mol%.
  • the resin described in JP-A-2018-087939, the block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraph numbers 0219 to 0221 of Patent No. 6432077, and the like Polyethylenimine having a polyester side chain described in WO2016 / 104803, a block copolymer described in WO2019 / 125940, and a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-06667.
  • Block polymers having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066688 can also be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DISPERBYK series manufactured by Big Chemie Japan, SOLSPERSE series manufactured by Japan Lubrizol, Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine-Techno (Ajinomoto Fine Techno). Examples include the Ajispar series manufactured by Co., Ltd. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the content of the curable compound is preferably 1 to 95% by mass in the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 94% by mass or less, more preferably 90% by mass or less, further preferably 85% by mass or less, and particularly preferably 80% by mass or less.
  • the content of the polymerizable compound is preferably 1 to 85% by mass in the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the polymerizable monomer is preferably 1 to 50% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the content of the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group is 1 to 70 mass by mass in the total solid content of the composition. % Is preferable.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 65% by mass or less, more preferably 60% by mass or less.
  • the content of the resin is preferably 1 to 85% by mass in the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 7% by mass or more, and particularly preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, further preferably 70% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 0.1 to 40% by mass in the total solid content of the composition.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the content of the resin as the dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned specific dye.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 75 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • composition of the present invention may contain only one type of curable compound, or may contain two or more types. When two or more curable compounds are contained, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention can contain an infrared absorber (another infrared absorber) other than the above-mentioned specific dye. Further, by containing another infrared absorber, it is possible to form a film capable of shielding infrared rays in a wider wavelength range.
  • the other infrared absorber may be a dye or a pigment (particle).
  • infrared absorbers include pyrrolopyrrole compounds, cyanine compounds, squarylium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonor compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, and pyromethene compounds. , Azomethin compound, anthraquinone compound, dibenzofuranone compound, dithiolene metal complex, metal oxide, metal borohydride and the like.
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include the compounds described in paragraphs 0016 to 0058 of JP2009-263614, the compounds described in paragraphs 0037-0052 of JP2011-066731A, and International Publication No. 2015/166783. Examples thereof include the compounds described in paragraphs 0010 to 0033.
  • Examples of the squarylium compound include the compounds described in paragraphs 0044 to 0049 of JP2011-208101A, the compounds described in paragraphs 0060 to 0061 of Patent No. 6065169, and paragraph numbers 0040 of International Publication No. 2016/181987. , The compound described in JP-A-2015-176046, the compound described in paragraph No. 0072 of International Publication No.
  • JP2012-077153 the oxytitanium phthalocyanine described in JP2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP2013-195480.
  • Examples of the naphthalocyanine compound include the compound described in paragraph No. 0093 of JP2012-07715.
  • dithiolene metal complex include the compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • Examples of the metal oxide include indium tin oxide, antimonthine oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, tungsten oxide and the like.
  • paragraph number 0080 of JP-A-2016-006476 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • Examples of the metal boride include lanthanum hexaboride. Examples of commercially available lanthanum hexaboride products include LaB 6 -F (manufactured by Nippon Shinkinzoku Co., Ltd.). Further, as the metal boride, the compound described in International Publication No. 2017/11394 can also be used. Examples of commercially available indium tin oxide products include F-ITO (manufactured by DOWA Hi-Tech Co., Ltd.).
  • Examples of the infrared absorber include a squarylium compound described in JP-A-2017-197437, a squarylium compound described in JP-A-2017-025311, a squarylium compound described in International Publication No. 2016/154782, and Patent No. 5884953.
  • Squarylium compound described in Japanese Patent Publication No. 6036689 Squalylium compound described in Japanese Patent No. 581604, Squalylium compound described in International Publication No. 2017/213047, Squarylium compound described in paragraphs 0090 to 0107 of International Publication No. 2017/213047, The pyrrole ring-containing compound described in paragraphs 0019 to 0075 of Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • Concatenated squalylium compound compound having a pyrrolbis-type squalylium skeleton or croconium skeleton described in JP-A-2017-141215, dihydrocarbazole-type squarylium compound described in JP-A-2017-082029, JP-A-2017-066120
  • the asymmetric compound described in paragraphs 0027 to 0114 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-067963, the pyrrol ring-containing compound (carbazole type) described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-067963, the phthalocyanine compound described in Japanese Patent No. 6251530, and the like are used. You can also do it.
  • the content of the other infrared absorber is preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 3 to 60 parts by mass, and 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned specific dye. Is more preferable.
  • the total content of the above-mentioned specific dye and the other infrared absorber is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and 5% by mass in the total solid content of the composition. % Or more is more preferable.
  • the upper limit of the total content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and further preferably 30% by mass or less.
  • the composition of the present invention may further contain a dye derivative in addition to the above-mentioned specific dye.
  • Dye derivatives are used as dispersion aids.
  • the dye derivative include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to the dye skeleton.
  • the pigment skeletons constituting the pigment derivatives include squarylium pigment skeleton, pyrolopyrrolop pigment skeleton, diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, quinacridone pigment skeleton, anthraquinone pigment skeleton, dianthraquinone pigment skeleton, benzoisoindole pigment skeleton, and thiazine indigo pigment skeleton.
  • Azo pigment skeleton, quinophthalone pigment skeleton, phthalocyanine pigment skeleton, naphthalocyanine pigment skeleton, dioxazine pigment skeleton, perylene pigment skeleton, perinone pigment skeleton, benzoimidazolone pigment skeleton, benzothiazole pigment skeleton, benzoimidazole pigment skeleton and benzoxazole pigment skeleton The squarylium pigment skeleton, the pyrolopyrrolop pigment skeleton, the diketopyrrolopyrrole pigment skeleton, the phthalocyanine pigment skeleton, the quinacridone pigment skeleton and the benzoimidazolone pigment skeleton are preferable, and the squarylium pigment skeleton and the pyrolopyrrolop pigment skeleton are more preferable.
  • Examples of the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imic acid group and salts thereof.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K + , etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+ , etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ions.
  • the carboxylic acid amide group a group represented by -NHCOR X1 is preferable.
  • sulfonamide group a group represented by -NHSO 2 RX2 is preferable.
  • imidic acid group a group represented by -SO 2 NHSO 2 R X3 , -CONHSO 2 R X4 , -CONHCOR X5 or -SO 2 NHCOR X6 is preferable, and -SO 2 NHSO 2 R X3 is more preferable.
  • RX1 to RX6 independently represent an alkyl group or an aryl group, respectively.
  • the alkyl group and aryl group represented by RX1 to RX6 may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimidemethyl group.
  • Examples of the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • the dye derivative include JP-A-56-118462, JP-A-63-264674, JP-A-01-217077, JP-A-03-09961 and JP-A-03-026767.
  • Examples thereof include the compounds described in Japanese Patent Laid-Open No. 10-030063, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-195326, paragraph numbers 0086 to 0998 of International Publication No. 2011/024896, and paragraph numbers 0063 to 0094 of International Publication No. 2012/102399. The contents of are incorporated herein by reference.
  • the content of the dye derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-mentioned specific dye.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, and more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one kind of dye derivative may be used, or two or more kinds may be used. When two or more types are used, the total amount is preferably in the above range.
  • the composition of the present invention preferably contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents, and organic solvents are preferable.
  • the organic solvent include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, hydrocarbon-based solvents and the like.
  • paragraph No. 0223 of International Publication No. 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • an ester solvent substituted with a cyclic alkyl group and a ketone solvent substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbi Tall acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-di
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may need to be reduced for environmental reasons (for example, 50 parts by mass (parts) with respect to the total amount of organic solvent. Per millision) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent having a low metal content it is preferable to use an organic solvent having a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, an organic solvent at the mass ppt (parts per tension) level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Synthetic Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the organic solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the composition is preferably 10 to 97% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, further preferably 50% by mass or more, further preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. The above is particularly preferable.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, and more preferably 95% by mass or less.
  • the composition may contain only one type of solvent, or may contain two or more types of solvent. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention contains a polymerizable compound
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and may be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, a compound having photosensitivity to light rays in the ultraviolet region to the visible region is preferable.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiator examples include halogenated hydrocarbon derivatives (for example, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazoles, oxime compounds, organic peroxides, and thio compounds. , Ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • the photopolymerization initiator is a trihalomethyltriazine compound, a benzyldimethylketal compound, an ⁇ -hydroxyketone compound, an ⁇ -aminoketone compound, an acylphosphine compound, a phosphine oxide compound, a metallocene compound, an oxime compound, or a triarylimidazole.
  • It is preferably a dimer, an onium compound, a benzothiazole compound, a benzophenone compound, an acetophenone compound, a cyclopentadiene-benzene-iron complex, a halomethyloxadiazole compound and a 3-aryl substituted coumarin compound, preferably an oxime compound and an ⁇ -hydroxyketone compound.
  • ⁇ -Aminoketone compound, and a compound selected from an acylphosphine compound are more preferable, and an oxime compound is further preferable.
  • the photopolymerization initiator the compound described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 and JP-A-6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, No. Peroxide-based photopolymerization initiator described in 3, 2019, photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/221177, photopolymerization initiator described in International Publication No. 2018/110179, JP-A-2019-043864.
  • Examples thereof include the above-mentioned aminoacetophenone-based initiators having an oxazolidine group, the oxime-based photopolymerization initiators described in JP-A-2013-190459, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (above, IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure27, Irgacure29. (Manufactured by the company) and the like.
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, IGM Resins BV), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369, Irger Made) and so on.
  • acylphosphine compounds examples include Omnirad 819, Omnirad TPO (above, manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 819, and Irgacure TPO (above, manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound include the compound described in JP-A-2001-233842, the compound described in JP-A-2000-080068, the compound described in JP-A-2006-342166, and J. Am. C. S. The compound according to Perkin II (1979, pp. 1653-1660), J. Mol. C. S. The compound described in Perkin II (1979, pp. 156-162), the compound described in Journal of Photopolisr Science and Technology (1995, pp. 202-232), the compound described in JP-A-2000-066385, the compound described in JP-A-2000-066385. Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2017-109766, compounds described in Japanese Patent No.
  • oxime compound examples include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminovtan-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, and the like.
  • 2-acetoxyimino-1-phenylpropane-1-one 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropane-1-one, 3- (4-toluenesulfonyloxy) iminobutane-2-one, and 2-ethoxycarbonyloxy Examples thereof include imino-1-phenylpropane-1-one.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include the compound described in JP-A-2014-137466, the compound described in Japanese Patent No. 6636081, and the compound described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444. Will be.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such an oxime compound include the compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom are described in the compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471.
  • Compound (C-3) and the like can be mentioned.
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraphs 0031 to 0047 of JP2013-114249A and paragraphs 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466. Examples thereof include the compound described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, ADEKA ARCULDS NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, and more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high, more preferably 1000 to 300,000, still more preferably 2000 to 300,000, and more preferably 5000 to 200,000. It is particularly preferable to have.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure at a concentration of 0.01 g / L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • two or more radicals are generated from one molecule of the photoradical polymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation is less likely to occur with time, and the stability of the composition with time can be improved.
  • Specific examples of the bifunctional or trifunctional or higher functional photo-radical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 40% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, still more preferably 1 to 20% by mass in the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one kind of photopolymerization initiator, or may contain two or more kinds of photopolymerization initiators. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • composition of the present invention contains a compound having a cyclic ether group
  • a curing agent examples include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, polyvalent carboxylic acids, thiol compounds and the like.
  • Specific examples of the curing agent include succinic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, N, N-dimethyl-4-aminopyridine, pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate) and the like.
  • the curing agent the compounds described in paragraphs 0072 to 0078 of JP-A-2016-07520 and the compounds described in JP-A-2017-036379 can also be used.
  • the content of the curing agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 10 parts by mass, and 0.1 to 6.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having a cyclic ether group. Is even more preferable.
  • the composition of the present invention can contain a chromatic colorant.
  • the chromatic colorant means a colorant other than the white colorant and the black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant having absorption in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • the chromatic colorant examples include a red colorant, a green colorant, a blue colorant, a yellow colorant, a purple colorant, and an orange colorant.
  • the chromatic colorant may be a pigment or a dye. Pigments and dyes may be used in combination. Further, the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment. Further, as the pigment, an inorganic pigment or a material in which a part of the organic-inorganic pigment is replaced with an organic chromophore can also be used. By replacing inorganic pigments and organic-inorganic pigments with organic chromophores, hue design can be facilitated.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, still more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle size of the pigment can be obtained from an image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle-equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in the present invention is an arithmetic average value of the primary particle size for the primary particles of 400 pigments.
  • the primary particles of the pigment refer to independent particles without aggregation.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and further preferably 90% by mass or more. Is particularly preferred. Examples of the pigment include those shown below.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average of 10 to 14 halogen atoms in one molecule, an average of 8 to 12 bromine atoms, and an average of 2 to 5 chlorine atoms.
  • Specific examples include the compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • a green pigment a compound described in Chinese Patent Application No. 106900927, a phthalocyanine compound having a phosphoric acid ester described in International Publication No. 2012/102395 as a ligand, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-008014.
  • Phthalocyanine compounds phthalocyanine compounds described in JP-A-2018-180023, compounds described in JP-A-2019-038958, core-shell dyes described in JP-A-2020-076955, and the like can also be used.
  • an aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used. Specific examples thereof include the compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP2012-247591A and paragraph numbers 0047 of JP2011-157478A.
  • red pigment a diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384, a diketopyrrolopyrrole compound described in paragraphs 0016 to 0022 of Japanese Patent No. 6248838, Diketopyrrolopyrrole compound described in WO2012 / 102399, diketopyrrolopyrrole compound described in WO2012 / 117965, naphtholazo compound described in JP2012-229344, patent No. 6516119.
  • the descriptions of Japanese Patent No. 6561862, Japanese Patent No. 6413872, Japanese Patent No. 6281345, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2020-026503 can be referred to. Incorporated herein.
  • the pyrolopyrrolop pigment shall have a crystallite size of 140 ⁇ or less in the plane direction corresponding to the maximum peak in the X-ray diffraction pattern among the eight planes ( ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1) of the crystal lattice planes. Is also preferable. Further, it is also preferable to set the physical characteristics of the pyrrolopyrrole pigment as described in paragraphs 0028 to 0073 of JP-A-2020-097744.
  • a dye can also be used as the chromatic colorant.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • pyrazole azo dyes anilino azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes, anthrapyridone dyes, benziliden dyes, oxonol dyes, pyrazolotriazole azo dyes, pyridone azo dyes, cyanine dyes, phenothiazines.
  • Examples thereof include dyes, pyropyrazole azomethine dyes, xanthene dyes, phthalocyanine dyes, benzopyran dyes, indigo dyes, and pyromethene dyes. Further, as the dye, the thiazole compound described in JP-A-2012-158649, the azo compound described in JP-A-2011-184493, and the azo compound described in JP-A-2011-145540 can also be preferably used. ..
  • the content of the chromatic colorant is preferably 1 to 50% by mass in the total solid content of the composition of the present invention.
  • the composition of the present invention contains two or more kinds of chromatic colorants, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention may also contain a coloring material that transmits infrared rays to block visible light (hereinafter, also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • a composition containing a coloring material that blocks visible light is preferably used as a composition for forming an infrared transmission filter.
  • the color material that blocks visible light is preferably a color material that absorbs light in the wavelength region of purple to red. Further, the color material that blocks visible light is preferably a color material that blocks light in the wavelength region of 450 to 650 nm. Further, the color material that blocks visible light is preferably a color material that transmits light having a wavelength of 900 to 1500 nm.
  • the coloring material that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • B Contains an organic black colorant.
  • Examples of the chromatic colorant include those described above.
  • Examples of the organic black colorant include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, azo compounds and the like, and bisbenzofuranone compounds and perylene compounds are preferable.
  • Examples of the bisbenzofuranone compound include the compounds described in JP-A-2010-534726, JP-A-2012-515233, JP-A-2012-515234, etc., for example, as "Irgaphor Black” manufactured by BASF. It is available.
  • Examples of the perylene compound include the compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like can be mentioned.
  • Examples of the azomethine compound include the compounds described in JP-A No. 01-17601, JP-A-02-0346664, and the like, and can be obtained as, for example, "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika.
  • Examples of the combination of chromatic colorants in the case of forming black color by the combination of two or more kinds of chromatic colorants include the following embodiments (1) to (8).
  • the content of the coloring material that blocks visible light is preferably 1 to 50% by mass in the total solid content of the composition.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the composition of the present invention preferably contains a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • the surfactant the surfactant described in paragraph Nos. 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/166779 is mentioned, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of Japanese Patent Laid-Open No. 2014-041318 (paragraphs 0060 to 0064 of the corresponding International Publication No. 2014/017669) and the like, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-.
  • the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 132503 and the surfactants described in JP-A-2020-008634 are mentioned, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • fluorine-based surfactants include, for example, Megafax F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144. , F-437, F-475, F-477, F-479, F-482, F-554, F-555-A, F-556, F-557, F-558, F-559, F-560.
  • a fluorine-based surfactant an acrylic compound having a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom and in which a portion of the functional group containing a fluorine atom is cut off and the fluorine atom volatilizes when heat is applied is also available.
  • a fluorine-based surfactant include the Megafuck DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Megafuck. DS-21 can be mentioned.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant include the fluorine-based surfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • a block polymer can also be used as the fluorine-based surfactant.
  • a fluorine-based surfactant it has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compounds is preferably 3000 to 50,000, for example 14000.
  • % indicating the ratio of the repeating unit is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used. Specific examples thereof include the compounds described in paragraphs 0050 to 0090 and 0289 to 0295 of JP2010-164965, Megafuck RS-101, RS-102, RS-718K, manufactured by DIC Corporation. RS-72-K and the like can be mentioned. Further, as the fluorine-based surfactant, the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by the formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • ⁇ represents 1 or 2
  • X ⁇ + represents an ⁇ -valent metal ion, a primary ammonium ion, and a first.
  • nonionic surfactant examples include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and the like.
  • cationic surfactant examples include tetraalkylammonium salt, alkylamine salt, benzalkonium salt, alkylpyridium salt, imidazolium salt and the like. Specific examples thereof include dihydroxyethylstearylamine, 2-heptadecenyl-hydroxyethylimidazoline, lauryldimethylbenzylammonium chloride, cetylpyridinium chloride, stealamidomethylpyridium chloride and the like.
  • anionic surfactants include dodecylbenzene sulfonic acid, sodium dodecylbenzene sulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkyldiphenyl ether disulfonate, sodium alkylnaphthalene sulfonate, sodium dialkyl sulfosuccinate, sodium stearate, potassium oleate, and sodium dioctyl.
  • silicone-based surfactant examples include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400 (all, Toray Dow Corning Co., Ltd.).
  • TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 above, manufactured by Momentive Performance Materials
  • KP-341, KF-6001, KF-6002 above, Shin-Etsu Chemical Industry Co., Ltd.
  • BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-3760, BYK-UV3510 all manufactured by Big Chemie
  • FZ-2122 Dow Toray Co., Ltd.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone-based surfactant.
  • the content of the surfactant is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass, still more preferably 0.001 to 0.2% by mass in the total solid content of the composition. ..
  • the composition may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types of surfactant. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), and the like.
  • examples thereof include 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salt (ammonium salt, first cerium salt, etc.), and p-methoxyphenol is preferable.
  • the content of the polymerization inhibitor is preferably 0.0001 to 5% by mass based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly linked to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group and the like, and an alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of the functional group other than the hydrolyzable group include a vinyl group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group, an isocyanate group and a phenyl group. And the like, the (meth) acryloyl group and the epoxy group are preferable.
  • Examples of the silane coupling agent include the compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP2009-288703 and the compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP2009-242604. Incorporated in the specification.
  • the content of the silane coupling agent is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types of silane coupling agent. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indol compounds, triazine compounds, merocyanine dyes and the like. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraph numbers 0317 to JP2013-066814. 0334, the compounds described in paragraph numbers 0061 to 0080 of JP 2016-162946 are mentioned, and their contents are incorporated in the present specification.
  • UV absorbers examples include the Tinuvin series and the Uvinul series manufactured by BASF.
  • examples of the benzotriazole compound include the MYUA series made of Miyoshi Oil & Fat (The Chemical Daily, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorber the compounds described in paragraphs 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 and paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No. 2016/181987 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of ultraviolet absorber, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include a phenol compound, a phosphite ester compound, a thioether compound and the like.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group is preferable.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule is also preferable.
  • a phosphorus-based antioxidant can also be preferably used.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, and Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (above, manufactured by ADEKA Corporation) and the like. Further, as the antioxidant, the compound described in paragraphs 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, the compound described in International Publication No. 2017/006600, and the compound described in International Publication No. 2017/1604024 are used. It can also be used.
  • the content of the antioxidant is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass, based on the total solid content of the composition.
  • the composition may contain only one type of antioxidant, or may contain two or more types. When two or more kinds are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • compositions of the present invention include sensitizers, cure accelerators, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers and other auxiliaries (eg, conductive particles, defoamers, flame retardants, leveling). Agents, peeling accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.) may be contained. By appropriately containing these components, properties such as film physical characteristics can be adjusted. These components are described in, for example, paragraph No. 0183 or later of JP2012-003225A (paragraph number 0237 of the corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812), paragraph 2008-250074. The descriptions of Nos. 0101 to 0104, 0107 to 0109, etc.
  • the composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst. This includes compounds in which the protecting group is desorbed and functions as an antioxidant.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Examples of commercially available products of latent antioxidants include ADEKA ARKULS GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • the storage container for the composition of the present invention is not particularly limited, and a known storage container can be used.
  • a storage container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle in which 6 types of resin are composed of 7 layers are used. It is also preferable to use it. Examples of such a container include the container described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-123351.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass or stainless steel for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, improving the stability of the composition over time, and suppressing the deterioration of the components.
  • composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components.
  • all the components may be dissolved or dispersed in a solvent at the same time to prepare the composition, or if necessary, two or more solutions or dispersions in which each component is appropriately mixed may be prepared in advance. They may be prepared and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare a composition.
  • a process of dispersing the pigment may be included.
  • the mechanical force used for dispersing the pigment includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • the process and disperser for dispersing pigments are "Dispersion Technology Complete Works, Published by Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005" and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial”. Practical application The process and disperser described in Paragraph No.
  • the pigment may be miniaturized in the salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling step for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629 can be referred to.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • a fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), a polyamide resin such as nylon (for example, nylon-6, nylon-6,6), and a polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight).
  • a filter using a material such as (including a polyolefin resin) can be mentioned.
  • polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferable.
  • the pore diameter of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the nominal value of the filter manufacturer can be referred to.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. DFA4201NIEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.
  • Advantech Toyo Co., Ltd. Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), KITZ Microfilter Co., Ltd., etc.
  • KITZ Microfilter Co., Ltd. etc.
  • a fiber-like filter medium As the filter.
  • the fiber-like filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like.
  • examples of commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.) and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno Co., Ltd.
  • filters for example, a first filter and a second filter
  • the filtration with each filter may be performed only once or twice or more.
  • filters having different pore diameters may be combined within the above-mentioned range.
  • the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing the other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the film of the present invention is obtained from the above-mentioned composition of the present invention.
  • the film of the present invention can be preferably used as an optical filter.
  • the use of the optical filter is not particularly limited, and examples thereof include an infrared cut filter and an infrared transmission filter.
  • the infrared cut filter include an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, for an infrared cut filter for a wafer level lens) and an infrared cut filter on the back surface side (opposite to the light receiving side) of the solid-state image sensor.
  • Infrared cut filter for ambient light sensor for example, an illuminance sensor that adjusts the color tone of the display by detecting the illuminance and color tone of the environment where the information terminal device is placed, and a color correction sensor that adjusts the color tone. Be done. In particular, it can be preferably used as an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor. Examples of the infrared transmission filter include a filter that shields visible light and can selectively transmit infrared rays having a specific wavelength or higher.
  • the film of the present invention may have a pattern or may be a film without a pattern (flat film). Further, the film of the present invention may be laminated on a support and used, or the film of the present invention may be peeled off from the support and used. Examples of the support include a semiconductor base material such as a silicon substrate and a transparent base material.
  • a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the semiconductor base material used as the support. Further, a black matrix that separates each pixel may be formed on the semiconductor base material. Further, if necessary, an undercoat layer may be provided on the semiconductor base material in order to improve the adhesion with the upper layer, prevent the diffusion of substances, or flatten the surface of the substrate.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a transparent conductive film or the like
  • an undercoat layer may be provided on the semiconductor base material in order to improve the adhesion with the upper layer, prevent the diffusion of substances, or flatten the surface of the substrate.
  • the transparent base material used as a support is not particularly limited as long as it is made of a material capable of transmitting at least visible light.
  • a base material made of a material such as glass or resin can be mentioned.
  • the resin include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene and ethylene vinyl acetate copolymers, norbornene resins, polyacrylates and acrylic resins such as polymethylmethacrylate, urethane resins and vinyl chloride resins. , Fluorine resin, polycarbonate resin, polyvinyl butyral resin, polyvinyl alcohol resin and the like.
  • Examples of the glass include soda lime glass, borosilicate glass, non-alkali glass, quartz glass, and glass containing copper.
  • Examples of the copper-containing glass include copper-containing phosphate glass and copper-containing fluoride glass.
  • As the glass containing copper a commercially available product can also be used. Examples of commercially available copper-containing glass include NF-50 (manufactured by AGC Technoglass Co., Ltd.) and the like.
  • the thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the thickness of the film is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, still more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as an infrared cut filter, the film of the present invention preferably has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably a wavelength of 700 to 1300 nm, more preferably a wavelength of 700 to 1000 nm).
  • the average transmittance of light having a wavelength of 400 to 600 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, further preferably 80% or more, and particularly preferably 85% or more. preferable.
  • the transmittance in the entire range of the wavelength of 400 to 600 nm is preferably 50% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 80% or more.
  • the film of the present invention preferably has a transmittance of 15% or less at at least one point in the wavelength range of 650 to 1500 nm (preferably a wavelength of 700 to 1300 nm, more preferably a wavelength of 700 to 1000 nm) of 10%. The following is more preferable, and 5% or less is further preferable.
  • a 2 is preferably 0.30 or less, more preferably 0.20 or less, further preferably 0.15 or less, and particularly preferably 0.10 or less.
  • the film of the present invention preferably has, for example, any of the following spectral characteristics (i1) to (i3).
  • (I1) The maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 850 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1000 to 1500 nm is.
  • a filter of 70% or more preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 850 nm and transmit light having a wavelength exceeding 950 nm.
  • (I2) The maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is.
  • a filter of 70% or more preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light having a wavelength exceeding 1050 nm.
  • (I3) The maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is.
  • a filter of 70% or more preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light having a wavelength exceeding 1150 nm.
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • the color filter can be produced by using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the color filter is arranged on the optical path of the film of the present invention.
  • the film of the present invention may be formed on a support different from the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, a microlens, a flattening layer, etc. constituting the solid-state image sensor may be interposed between the film and the color filter.
  • the film of the present invention can be used for solid-state image pickup devices such as CCD (charge-coupled device) and CMOS (complementary metal oxide semiconductor), and various devices such as infrared sensors and image display devices.
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the film of the present invention can be produced through a step of applying the composition of the present invention.
  • Examples of the support include those described above.
  • a method for applying the composition a known method can be used. For example, a drop method (drop cast); a slit coat method; a spray method; a roll coat method; a rotary coating method (spin coating); a cast coating method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP-A-2009-145395). Methods described in the publication); Inkjet (for example, on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc. Various printing methods; transfer method using a mold or the like; nano-imprint method and the like can be mentioned.
  • the method of application in inkjet is not particularly limited, and is, for example, the method shown in "Expandable / usable inkjet-infinite possibilities seen in patents-, published in February 2005, Sumi Betechno Research" (especially from page 115). Page 133), JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, and the like. Can be mentioned.
  • the composition layer formed by applying the composition may be dried (prebaked).
  • the prebake temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, still more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher, or 80 ° C. or higher.
  • the prebake time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 to 2500 seconds, and even more preferably 80 to 220 seconds. Drying can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • the film manufacturing method may further include a step of forming a pattern.
  • the pattern forming method include a pattern forming method using a photolithography method and a pattern forming method using a dry etching method, and a pattern forming method using a photolithography method is preferable.
  • the film of the present invention is used as a flat film, it is not necessary to perform the step of forming a pattern.
  • the process of forming the pattern will be described in detail.
  • the pattern forming method in the photolithography method includes a step of exposing the composition layer formed by applying the composition of the present invention in a pattern (exposure step) and developing and removing the composition layer of the unexposed portion. It is preferable to include a step of forming a pattern (development step). If necessary, a step of baking the developed pattern (post-baking step) may be provided. Hereinafter, each step will be described.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be exposed in a pattern by exposing the composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. As a result, the exposed portion can be cured.
  • Examples of radiation (light) that can be used for exposure include g-line and i-line. Further, light having a wavelength of 300 nm or less (preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm), ArF line (wavelength 193 nm) and the like, and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable. Further, a long wave light source having a diameter of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method of a method in which light irradiation and pause are repeated in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).
  • the irradiation amount is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J / cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J / cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to the oxygen concentration performed in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially). It may be exposed in an oxygen-free environment), or may be exposed in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15,000 W / m 2 , or 35,000 W / m 2 ). Can be done.
  • the oxygen concentration and the exposure illuminance may be appropriately combined with each other, and for example, the illuminance may be 10,000 W / m 2 when the oxygen concentration is 10% by volume, the illuminance may be 20000 W / m 2 when the oxygen concentration is 35% by volume, and the like.
  • the composition layer in the unexposed portion of the exposed composition layer is developed and removed to form a pattern.
  • the development and removal of the composition layer in the unexposed portion can be performed using a developing solution.
  • the composition layer of the unexposed portion in the exposure step is eluted in the developer, and only the photocured portion remains on the support.
  • the temperature of the developer is preferably, for example, 20 to 30 ° C.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the steps of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
  • Examples of the developing solution include organic solvents and alkaline developing solutions, and alkaline developing solutions are preferably used.
  • the alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkaline developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • the alkaline agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • Ethyltrimethylammonium hydroxide Ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and other organic substances.
  • alkaline compounds examples include alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • the alkaline agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • a surfactant a nonionic surfactant is preferable.
  • the developer may be once produced as a concentrated solution and diluted to a concentration required for use.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set in the range of, for example, 1.5 to 100 times. It is also preferable to wash (rinse) with pure water after development.
  • the rinsing is performed by supplying the rinsing liquid to the developed composition layer while rotating the support on which the developed composition layer is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support to the peripheral edge of the support. At this time, when moving the nozzle from the central portion of the support to the peripheral portion, the nozzle may be moved while gradually reducing the moving speed. By rinsing in this way, in-plane variation of the rinse can be suppressed. Further, the same effect can be obtained by gradually reducing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the central portion of the support to the peripheral portion.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments to complete the curing.
  • the heating temperature in the post-bake is, for example, preferably 100 to 240 ° C, more preferably 200 to 240 ° C.
  • Post-baking can be performed on the developed film in a continuous or batch manner using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation type dryer), or a high frequency heater so as to meet the above conditions. ..
  • the light used for the exposure is preferably light having a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • the composition layer formed by applying the above composition on the support is cured to form a cured product layer, and then the photoresist layer patterned on the cured product layer is formed. Then, using the patterned photoresist layer as a mask, the cured product layer can be dry-etched with an etching gas. In forming the photoresist layer, it is preferable to perform a prebaking treatment.
  • the description in paragraphs 0010 to 0067 of JP2013-064993 can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the optical filter of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • Examples of the optical filter include an infrared cut filter and an infrared transmission filter.
  • the optical filter of the present invention may further include a copper-containing layer, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, and the like, in addition to the film of the present invention described above.
  • the ultraviolet absorbing layer include the absorbing layer described in paragraphs 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/09960.
  • the dielectric multilayer film include the dielectric multilayer films described in paragraphs 0255 to 0259 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-041318.
  • a glass substrate made of copper-containing glass (copper-containing glass substrate) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can also be used.
  • Examples of the copper-containing glass substrate include copper-containing phosphate glass and copper-containing fluoride glass.
  • Examples of commercially available copper-containing glass include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (all manufactured by Schott Co., Ltd.), CD5000 (manufactured by HOYA Corporation), and the like.
  • the solid-state image sensor of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state image sensor. For example, the following configuration can be mentioned.
  • the support has a transfer electrode formed of a plurality of photodiodes constituting the light receiving area of the solid-state image sensor and polyvinyl, etc., and the photodiode and the transfer electrode are made of tungsten or the like in which only the light receiving portion of the photodiode is opened.
  • the present invention has a light-shielding film to be formed, a device protective film formed of silicon nitride or the like formed on the light-shielding film so as to cover the entire surface of the light-shielding film and a photodiode light-receiving portion, and the device protective film has the present invention. It is a configuration having a diode.
  • a configuration having a condensing means for example, a microlens or the like; the same applies hereinafter) on the device protective film under the film of the present invention (on the side closer to the support), or condensing on the film of the present invention.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of the image pickup apparatus having such a structure include the apparatus described in JP-A-2012-227478 and JP-A-2014-179757.
  • the image display device of the present invention includes the film of the present invention.
  • Examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence (organic EL) display device.
  • organic EL organic electroluminescence
  • the image display device for example, “Electronic Display Device (Akio Sasaki, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1990)", “Display Device (Junaki Ibuki, Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989)” Issuance) ”and so on.
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to, for example, various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "next-generation liquid crystal display technology".
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • the white organic EL element preferably has a tandem structure.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045676 supervised by Akiyoshi Mikami, "Frontiers of Organic EL Technology Development-High Brightness, High Precision, Long Life, Know-how Collection-", Technical Information Association, It is described on pages 326 to 328, 2008 and the like.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has a strong maximum emission peak in the blue region (430 to 485 nm), the green region (530 to 580 nm), and the yellow region (580 to 620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm) are more preferable.
  • the infrared sensor of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor.
  • an embodiment of the infrared sensor of the present invention will be described with reference to the drawings.
  • reference numeral 110 is a solid-state image sensor.
  • An infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 are arranged on the image pickup region of the solid-state image sensor 110.
  • a color filter 112 is arranged on the infrared cut filter 111.
  • a microlens 115 is arranged on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114.
  • the flattening layer 116 is formed so as to cover the microlens 115.
  • the infrared cut filter 111 can be formed by using the composition of the present invention.
  • the color filter 112 is a color filter on which pixels that transmit and absorb light having a specific wavelength in the visible region are formed, and is not particularly limited, and a conventionally known color filter for forming pixels can be used. For example, a color filter in which red (R), green (G), and blue (B) pixels are formed is used. For example, the description in paragraphs 0214 to 0263 of JP2014-043556 can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED used.
  • the infrared transmission filter 114 can be formed using the composition of the present invention.
  • an infrared cut filter (another infrared cut filter) different from the infrared cut filter 111 may be further arranged on the flattening layer 116.
  • Other infrared cut filters include those having a copper-containing layer and / or a dielectric multilayer film. These details include those mentioned above. Further, as another infrared cut filter, a dual bandpass filter may be used.
  • the camera module of the present invention includes a solid-state image sensor and the film of the present invention described above. It is preferable that the camera module further includes a lens and a circuit for processing an image pickup obtained from a solid-state image sensor.
  • the solid-state image sensor used in the camera module may be the solid-state image sensor according to the present disclosure, or may be a known solid-state image sensor.
  • the lens used for the camera module and the circuit for processing the image pickup obtained from the solid-state image pickup element known ones can be used.
  • the camera modules described in JP-A-2016-006476 and JP-A-2014-197190 can be referred to, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
  • the compound of the present invention is a compound represented by the formula (1).
  • R 1 and R 2 each independently represent a substituent.
  • Ar 1 represents an aryl group or a heteroaryl group.
  • X 1 represents an oxygen atom or substituent and represents Y 1 and Y 2 independently represent a hydrogen atom or a substituent, respectively.
  • R 1 , R 2 , Ar 1 , X 1 , Y 1 and Y 2 of the formula (1) are R 1 of the formula (1) shown as the dye (specific dye) represented by the above formula (1), respectively. , R 2 , Ar 1 , X 1 , Y 1 and Y 2 .
  • the maximum absorption wavelength of the compound of the present invention is preferably in the wavelength range of 450 to 1500 nm, more preferably in the wavelength range of 550 to 1300 nm, and even more preferably in the wavelength range of 600 to 1300 nm. , More preferably, it is particularly preferably present in the wavelength range of 650 to 1000 nm.
  • the compound of the present invention has a wavelength of 475 to 500 nm when the maximum absorption wavelength exists in the wavelength range of 550 to 1500 nm and the absorbance value at the wavelength ( ⁇ max) showing the maximum absorbance value is 1.
  • the average absorbance value in the range of is preferably less than 0.012, more preferably less than 0.010, and even more preferably less than 0.008.
  • the compound of the present invention can be preferably used as an infrared absorber.
  • the compound of the present invention can also be used as a dispersion aid. Further, the compound of the present invention can also be used as a dye for a color filter and a fluorescent dye.
  • the infrared absorber of the present invention contains a compound represented by the formula (1).
  • the infrared absorber may contain only one kind of the compound represented by the formula (1), or may contain two or more kinds.
  • Compound 1 was synthesized with reference to the method of paragraph No. 0122 of Japanese Patent No. 6329626. Under a nitrogen atmosphere, 474 mg of compound 1, 507 mg of 2-aminopyridine, and 11 mL of toluene were added to a three-necked flask, and the temperature was raised to 130 ° C. 2.19 g of triethylamine and 1.54 g of titanium tetrachloride were sequentially added dropwise thereto, and then 1.10 g of 2-aminoethoxydiphenylborane was added, and the mixture was stirred under heating under reflux for 2 and a half hours.
  • the reaction mixture was cooled to room temperature, 60 mL of distilled water and 20 mL of chloroform were added while maintaining 20 ° C to 30 ° C, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes.
  • the filtrate obtained by filtering this was extracted by a liquid separation operation to extract an organic layer, and the filtrate was washed with brine.
  • the organic layer was dried over magnesium sulfate, filtered, and the magnesium sulfate was filtered off, and the filtrate was concentrated with an evaporator. 15 mL of ethanol was added to the obtained residue, and the mixture was stirred at room temperature for 10 minutes.
  • dyes PPB-A-1 to PPB-A-19 and the dyes PPB-C-1 to PPB-C-7 are as follows. These are dyes (specific dyes) represented by the formula (1)).
  • PPB-B-1 to PPB-B-19 Compounds having the following structures (dyes represented by the formula (1) (specific dyes). All of these are dyes having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 450 to 1500 nm. Is) PPB-E-1: Compound with the following structure
  • D-1 A resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio, and the numerical value added to the side chain represents the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 38900, acid value 99.1 mgKOH / g) is propylene.
  • D-2 Resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio) The numerical value added to the side chain represents the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 21000, acid value 36.0 mgKOH / g, amine value 47.0 mgKOH / g) propylene glycol monomethyl ether acetate: propylene glycol monomethyl ether A 9: 1 (mass ratio) mixed solution prepared to have a solid content concentration of 20% by mass.
  • a dye solution was prepared by mixing 8.02 parts by mass of the dye (dye) listed in the table below and 91.98 parts by mass of the solvent listed in the table below.
  • PPB-C-1 to PPB-C-7 Compounds having the above-mentioned structure (dyes represented by the formula (1) (specific dyes))
  • PPB-F-1 Compound with the following structure
  • E-1 Copolymer resin of benzyl methacrylate, methacrylic acid, and 2-hydroxyethyl methacrylate (weight average molecular weight 14000, acid value 77 mgKOH / g, alkali-soluble resin)
  • E-2 ARTON F4520 (Cyclic polyolefin resin manufactured by JSR Corporation)
  • E-3 Resin having the following structure (weight average molecular weight 40,000, acid value 100 mgKOH / g, the numerical value added to the main chain represents the mass ratio of the repeating unit. Alkaline-soluble resin)
  • M-1 Aronix M-305 (Mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd. The content of pentaerythritol triacrylate is 55% by mass to 63% by mass).
  • M-2 KAYARAD RP-1040 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., ethylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate)
  • M-3 Aronix M-510 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., polybasic acid-modified acrylic oligomer)
  • C-1 Irgure OXE01 (BASF, oxime ester-based initiator)
  • C-2 Irgure OXE02 (BASF, oxime ester-based initiator)
  • C-3 Omnirad 907 (IGM Resins B.V., ⁇ -aminoalkylphenone-based initiator)
  • F-1 Random polymer with glycidyl methacrylate skeleton (manufactured by NOF CORPORATION, Marproof G-0150M, weight average molecular weight 10000)
  • F-2 EPICLON N-695 (Novolak type epoxy resin manufactured by DIC Corporation)
  • F-3 JER1031S (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, polyfunctional epoxy resin)
  • F-4 EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation, 1,2-epoxy-4- (2-oxylanyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol)
  • G-1 Trimellitic acid
  • G-2 Pyromellitic acid anhydride
  • G-3 N, N-dimethyl-4-aminopyridine
  • G-4 Pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate)
  • H-1 Megafuck RS-72-K (manufactured by DIC Corporation, fluorine-based surfactant)
  • H-2 Compound with the following structure (weight average molecular weight 14000,% value indicating the ratio of repeating units is mol%)
  • H-3 KF-6001 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., both-terminal carbinol-modified silicone oil)
  • the obtained film was set in a fading tester equipped with a super xenon lamp (100,000 lux), and was irradiated with 100,000 lux of light for 113 hours under the condition that no ultraviolet cut filter was used.
  • the transmission spectrum of the film after light irradiation was measured using a spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the residual rate was calculated from the following formula, and the light resistance was evaluated according to the following criteria.
  • Residual rate (%) ⁇ (absorbance at the maximum absorption wavelength of the film after light irradiation) ⁇ (absorbance at the maximum absorption wavelength of the film before light irradiation) ⁇ ⁇ 100
  • Residual rate (%) ⁇ (absorbance at the maximum absorption wavelength of the membrane after the moisture resistance test) ⁇ (absorbance at the maximum absorption wavelength of the membrane before the moisture resistance test) ⁇ ⁇ 100
  • Examples 101, 102, 104, 106, 108, 109, 110, 111, 115, 117, 120, 121, 122, 123, 125, 201, 202, 204, 206, 208, 209, 210, 211, 215, 217, 220, 221, 222, 223, 225 are particularly excellent in light resistance and moisture resistance, followed by Examples 118, 119, 126. , 218, 219 and 226 were excellent.
  • 110 Solid-state image sensor
  • 111 Infrared cut filter
  • 112 Color filter
  • 114 Infrared transmission filter
  • 115 Microlens
  • 116 Flattening layer

Abstract

耐光性および耐湿性に優れた膜を形成できる組成物を提供する。また、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤を提供する。組成物は、式（１）で表される構造を有し、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素と、硬化性化合物と、を含み、式（１）中、Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。

Description

組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤
　本発明は、色素と硬化性化合物とを含む組成物に関する。また、本発明は、前述の組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤に関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このため、赤外線カットフィルタを設けて視感度補正を行うことがある。
　赤外線カットフィルタは、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて製造されている。赤外線吸収色素としては、ピロロピロール化合物などが知られている（特許文献１参照）
特開２０１４－１８４６８８号公報
　近年、色素を含む組成物を用いて得られる膜に関し、耐光性や耐湿性についての特性の更なる向上が求められている。
　よって、本発明の目的は、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成できる組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールを提供することにある。また、本発明の目的は化合物および赤外線吸収剤を提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　式（１）で表される構造を有し、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素と、
　硬化性化合物と、
　を含む組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式（１）中、Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　＜２＞　上記式（１）のＸ１は、酸素原子、式（Ｘ－１）で表される基または式（Ｘ－２）で表される基である、＜１＞に記載の組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式中、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立してアリール基またはヘテロアリール基を表し、＊は連結手を表す。
　＜３＞　上記式（１）のＡｒ１は、式（Ｈａｒ－１）～式（Ｈａｒ－１０）で表される基のいずれかである、＜１＞または＜２＞に記載の組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 　式中、Ｒａ１～Ｒａ４９はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、＊は連結手を表す；
　式（Ｈａｒ－１）において、Ｒａ１とＲａ２、Ｒａ２とＲａ３、Ｒａ３とＲａ４は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－２）において、Ｒａ５とＲａ６、Ｒａ６とＲａ７、Ｒａ７とＲａ８は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－３）において、Ｒａ９とＲａ１０、Ｒａ１０とＲａ１１、Ｒａ１１とＲａ１２、Ｒａ１２とＲａ１３は互いに結合して環を形成していてもよい：
　式（Ｈａｒ－４）において、Ｒａ１５とＲａ１６、Ｒａ１６とＲａ１７、Ｒａ１７とＲａ１８は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－５）において、Ｒａ１９とＲａ２０、Ｒａ２０とＲａ２１、Ｒａ２１とＲａ２２、Ｒａ２２とＲａ２３、Ｒａ２３とＲａ２４は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－６）において、Ｒａ２５とＲａ２６、Ｒａ２６とＲａ２７は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－７）において、Ｒａ２８とＲａ２９、Ｒａ２９とＲａ３０、Ｒａ３０とＲａ３１は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－８）において、Ｒａ３２とＲａ３３、Ｒａ３３とＲａ３４、Ｒａ３４とＲａ３５、Ｒａ３５とＲａ３６、Ｒａ３６とＲａ３７は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－９）において、Ｒａ３８とＲａ３９、Ｒａ３９とＲａ４０、Ｒａ４０とＲａ４１、Ｒａ４１とＲａ４２、Ｒａ４２とＲａ４３は互いに結合して環を形成していてもよい；
　式（Ｈａｒ－１０）において、Ｒａ４４とＲａ４５、Ｒａ４５とＲａ４６、Ｒａ４６とＲａ４７、Ｒａ４７とＲａ４８、Ｒａ４８とＲａ４９は互いに結合して環を形成していてもよい。
　＜４＞　上記式（１）のＹ１およびＹ２は、それぞれ独立して－ＢＲＹ１ＲＹ２を表し、
　ＲＹ１およびＲＹ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基またはシアノ基を表し、
　ＲＹ１およびＲＹ２は互いに結合して環を形成していてもよい、
　＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜５＞　上記式（１）のＲ１およびＲ２は、それぞれ独立して脂肪族炭化水素基またはアリール基である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の組成物。
　＜６＞　＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の組成物を用いて得られる膜。
　＜７＞　＜６＞に記載の膜を含む光学フィルタ。
　＜８＞　＜６＞に記載の膜を含む固体撮像素子。
　＜９＞　＜６＞に記載の膜を含む画像表示装置。
　＜１０＞　＜６＞に記載の膜を含む赤外線センサ。
　＜１１＞　＜６＞に記載の膜を含むカメラモジュール。
　＜１２＞　式（１）で表される化合物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 　式（１）中、Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　＜１３＞　＜１２＞に記載の化合物を含む赤外線吸収剤。
　本発明によれば、耐光性および耐湿性に優れた膜を形成できる組成物を提供することができる。また、本発明によれば、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュール、化合物および赤外線吸収剤を提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい色材を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜組成物＞
　本発明の組成物は、式（１）で表される構造を有し、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素と、硬化性化合物と、を含むことを特徴とする。
　本発明の組成物を用いて得られる膜は、光照射前後における分光特性の変動が小さく耐光性に優れている。更には、湿度の高い環境下に膜を長期間曝した場合における分光特性の変動も小さく、耐湿性に優れている。このような効果が得られる詳細な理由は不明であるが、本発明の組成物に含まれる式（１）で表される構造の色素は、色素母核であるピロロピロール環に＝Ｎ－Ａｒ１で表される基が結合した構造を有しているので、＝Ｎ－Ａｒ１まわりの立体が空くことで色素同士の相互作用がより強くなり、光照射による分解や、水分の影響による分解（加水分解など）を抑制できると推測される。このため、光照射や湿度の影響による色素の極大吸収波長の変動を抑制でき、その結果、耐光性や耐湿性に優れた膜を形成することができたと推測される。
　本発明の組成物は、光学フィルタ用の組成物として用いることができる。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　以下、本発明の組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜式（１）で表される色素（特定色素）＞＞
　本発明の組成物は、式（１）で表される構造を有し、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素（以下、特定色素ともいう）を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 　式（１）中、Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、
　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　式（１）のＡｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、可視透明性及び赤外線遮蔽性に優れるという理由からヘテロアリール基であることが好ましい。アリール基およびヘテロアリール基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられる。具体例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシル基、スルホン酸アミド基、フェニル基、チエニル基、フリル基、シアノ基およびシリル基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（Ｒ－１００）中、ＬＲ１は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＮＲＬ１－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－もしくはこれらの組み合わせからなるｎ＋１価の連結基を表し、ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、ＸＲ１は、酸基または塩基性基を表し、ｎは１以上の整数を表す。ｎが１の場合、ＬＲ１は単結合でもよい。＊は連結手を表す。
　脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０が更に好ましく、２～５が特に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　芳香族炭化水素基の炭素数は６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０が更に好ましい。芳香族炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。複素環基の具体例としては、ピペラジン環基、ピロリジン環基、ピロール環基、ピペリジン環基、ピリジン環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ピラジン環基、モルホリン環基、チアジン環基、インドール環基、イソインドール環基、ベンズイミダゾール環基、プリン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、キノキサリン環基、シンノリン環基、カルバゾール環基および下記式（Ｌ－１）～（Ｌ－７）で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式中の＊は連結手を表す。Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられ、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　ＲＬ１が表すアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。ＲＬ１が表すアルキル基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　ＲＬ１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬ１が表すアリール基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　式（Ｒ－１００）のＸＲ１が表す酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸ１で表される基が好ましい。スルホンアミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ６で表される基が好ましく、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、または－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３がより好ましい。ＲＸ１～ＲＸ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＸ１～ＲＸ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　式（Ｒ－１００）のＸＲ１が表す塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　アミノ基としては、－ＮＲｘ１Ｒｘ２で表される基、および、環状アミノ基が挙げられる。－ＮＲｘ１Ｒｘ２で表される基において、Ｒｘ１およびＲｘ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。また、Ｒｘ１とＲｘ２とは結合して環を形成していてもよい。環状アミノ基としては、ピロリジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、モルホリン基などが挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。置換基の具体例としては、アルキル基およびアリール基などが挙げられる。
　式（Ｒ－１００）のｎは１以上の整数を表し、１～３の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
　式（１）のＡｒ１が表すアリール基の炭素数は、６～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、６～２０が更に好ましい。Ａｒ１が表すアリール基は、単環であってもよいが、縮合環であることが好ましい。
　式（１）のＡｒ１が表すヘテロアリール基は、単環であってもよいが、縮合環であることが好ましい。ヘテロアリール基のヘテロアリール環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。ヘテロアリール環は、５員環または６員環が好ましい。
　式（１）のＡｒ１が表すヘテロアリール基としては、以下に示す式（Ｈａｒ－１）～式（Ｈａｒ－１０）で表される基が挙げられる。なかでも、耐光性および耐湿性に優れるという理由から式（Ｈａｒ－１）で表される基、式（Ｈａｒ－２）で表される基、式（Ｈａｒ－３）で表される基、式（Ｈａｒ－４）で表される基、式（Ｈａｒ－８）で表される基、式（Ｈａｒ－９）で表される基および式（Ｈａｒ－１０）で表される基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式中、Ｒａ１～Ｒａ４９はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、＊は連結手を表す。Ｒａ１～Ｒａ４９が表す置換基としては、後述する置換基Ｔで挙げた基および上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、　アリールオキシ基、ヒドロキシル基、アリール基、ヘテロアリール基、スルホン酸アミド基、シアノ基またはシリル基であることが好ましい。
　式（Ｈａｒ－１）において、Ｒａ１とＲａ２、Ｒａ２とＲａ３、Ｒａ３とＲａ４は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－２）において、Ｒａ５とＲａ６、Ｒａ６とＲａ７、Ｒａ７とＲａ８は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－３）において、Ｒａ９とＲａ１０、Ｒａ１０とＲａ１１、Ｒａ１１とＲａ１２、Ｒａ１２とＲａ１３は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－４）において、Ｒａ１５とＲａ１６、Ｒａ１６とＲａ１７、Ｒａ１７とＲａ１８は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－５）において、Ｒａ１９とＲａ２０、Ｒａ２０とＲａ２１、Ｒａ２１とＲａ２２、Ｒａ２２とＲａ２３、Ｒａ２３とＲａ２４は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－６）において、Ｒａ２５とＲａ２６、Ｒａ２６とＲａ２７は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－７）において、Ｒａ２８とＲａ２９、Ｒａ２９とＲａ３０、Ｒａ３０とＲａ３１は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－８）において、Ｒａ３２とＲａ３３、Ｒａ３３とＲａ３４、Ｒａ３４とＲａ３５、Ｒａ３５とＲａ３６、Ｒａ３６とＲａ３７は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－９）において、Ｒａ３８とＲａ３９、Ｒａ３９とＲａ４０、Ｒａ４０とＲａ４１、Ｒａ４１とＲａ４２、Ｒａ４２とＲａ４３は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－１０）において、Ｒａ４４とＲａ４５、Ｒａ４５とＲａ４６、Ｒａ４６とＲａ４７、Ｒａ４７とＲａ４８、Ｒａ４８とＲａ４９は互いに結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｈａｒ－１）～式（Ｈａｒ－１０）において、上記の基同士が結合して形成される環は５員環または６員環であることが好ましい。
　式（１）のＸ１は、酸素原子または置換基を表し、酸素原子、式（Ｘ－１）で表される基または式（Ｘ－２）で表される基であることが好ましく、可視透明性及び赤外線遮蔽性に優れた膜を形成しやすいという理由から式（Ｘ－１）で表される基または式（Ｘ－２）で表される基であることがより好ましく、可視透明性及び赤外線遮蔽性に優れ、かつ、より耐光性および耐湿性に優れた膜を形成しやすいという理由から式（Ｘ－２）で表される基であることが更に好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 　式中、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立してアリール基またはヘテロアリール基を表し、＊は連結手を表し、色素母核であるピロロピロール環に結合する。なお、式（１）中の＊＝Ｘ１が式（Ｘ－１）で表される基または式（Ｘ－２）で表される基に対応する。
　Ａｒ２およびＡｒ３が表すアリール基は、式（１）のＡｒ１が表すアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ａｒ２およびＡｒ３が表すヘテロアリール基は、式（１）のＡｒ１が表すヘテロアリール基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立してヘテロアリール基であることが好ましく、上述した式（Ｈａｒ－１）～式（Ｈａｒ－１０）で表される基のいずれかであることがより好ましい。
　式（１）のＲ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表す。置換基としては、脂肪族炭化水素基およびアリール基が挙げられる。これらの基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔおよび上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられる。
　Ｒ１およびＲ２が表す脂肪族炭化水素基は、飽和脂肪族炭化水素基であってもよく、不飽和脂肪族炭化水素基であってもよい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、分岐または環状の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環の脂肪族炭化水素基、縮合環の脂肪族炭化水素基および架橋環の脂肪族炭化水素基のいずれでもよいが、単環の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
Ｒ１およびＲ２が表す脂肪族炭化水素基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基および上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルファモイル基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボニル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましい。
　脂肪族炭化水素基の具体例としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましい。下限は、３以上が好ましい。特定色素が顔料の場合には、アルキル基の炭素数の上限は１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、７以下が更に好ましい。特定色素が染料の場合には、アルキル基の炭素数の上限は２５以下が好ましく、１９以下がより好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、分岐または環状のアルキル基であることが好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～３０が好ましい。下限は、３以上が好ましい。特定色素が顔料の場合には、アルケニル基の炭素数の上限は１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、７以下が更に好ましい。特定色素が染料の場合には、アルケニル基の炭素数の上限は２５以下が好ましく、１９以下がより好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、分岐または環状のアルケニル基であることが好ましい。
　アルキニル基の炭素数は、２～３０が好ましい。下限は、３以上が好ましい。特定色素が顔料の場合には、アルキニル基の炭素数の上限は１５以下が好ましく、１０以下がより好ましく、７以下が更に好ましい。特定色素が染料の場合には、アルキニル基の炭素数の上限は２５以下が好ましく、１９以下がより好ましい。アルキニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、分岐または環状のアルキニル基であることが好ましく、分岐のアルキニル基であることがより好ましい。
　アルキル基、アルケニル基およびアルキニル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基および上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、ウレイド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルファモイル基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、カルボニル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましい。
　Ｒ１およびＲ２が表すアリール基の炭素数は６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。なかでも、アリール基は、下記式（ＡＲ－１）で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式（ＡＲ－１）中、ＲＡＲ１～ＲＡＲ５はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表す。ＲＡＲ１～ＲＡＲ５が表す置換基としては、後述する置換基Ｔおよび上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられ、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、アルキルチオ基、ウレイド基、アリールオキシ基、カルボキシル基、カルボニル基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、スルホ基または式（Ｒ－１００）で表される基であることが好ましい。
　式（ＡＲ－１）において、ＲＡＲ１～ＲＡＲ５の少なくとも一つが置換基であるか、ＲＡＲ１～ＲＡＲ５のそれぞれが水素原子であることが好ましく、可視透明性に優れた膜を形成しやすいという理由から、ＲＡＲ１～ＲＡＲ４の少なくとも一つが置換基であるか、ＲＡＲ１～ＲＡＲ５のそれぞれが水素原子であることがより好ましく、ＲＡＲ１～ＲＡＲ４の少なくとも一つが置換基であることが更に好ましく、ＲＡＲ１およびＲＡＲ４の少なくとも一つが置換基であることが特に好ましい。また、ＲＡＲ１およびＲＡＲ４の少なくとも一つが置換基である場合、ＲＡＲ２、ＲＡＲ３、ＲＡＲ５はそれぞれ水素原子であることが好ましい。
　式（１）において、Ｒ１およびＲ２の好ましい組み合わせとしては、以下の態様１、態様２が挙げられ、可視透明性に優れた膜を形成しやすいという理由から、態様２であることが好ましい。
　態様１：Ｒ１およびＲ２がそれぞれ独立してアリール基（好ましくは、式（ＡＲ－１）で表される基）である態様。
　態様２：Ｒ１およびＲ２の一方が脂肪族炭化水素基で、他方がアリール基（好ましくは、式（ＡＲ－１）で表される基）である態様。
　上記の態様２においては、より可視透明性に優れた膜を形成しやすいという理由から、Ｒ１およびＲ２の一方がアルキル基で、他方が式（ＡＲ－１）で表される基であることが好ましく、Ｒ１およびＲ２の一方が２級アルキル基で、他方が式（ＡＲ－１）で表される基であることがより好ましい。
　ここで２級アルキル基とは、－Ｃ（Ｒ５ａ）（Ｒ５ｂ）で表される基である。Ｒ５ａおよびＲ５ｂはそれぞれ独立してアルキル基を表し、Ｒ５ａとＲ５ｂは結合して脂肪族炭化水素環を形成していてもよい。Ｒ５ａおよびＲ５ｂが表すアルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～７がより好ましい。Ｒ５ａおよびＲ５ｂが表すアルキル基は、直鎖または分岐のアルキル基であることが好ましい。Ｒ５ａおよびＲ５ｂが表すアルキル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔおよび上述した式（Ｒ－１００）で表される基が挙げられる。
　式（１）のＹ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表し、置換基であることが好ましい。式（１）のＹ１およびＹ２が表す置換基としては、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、－ＢＲＹ１ＲＹ２が挙げられ、－ＢＲＹ１ＲＹ２であることが好ましい。
　Ｙ１およびＹ２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～５であることがより一層好ましく、１～３であることが特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　Ｙ１およびＹ２が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　Ｙ１およびＹ２が表すヘテロアリール基を構成する炭素原子の数は、１～３０が好ましく、１～１２がより好ましい。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の種類としては、例えば、窒素原子、酸素原子および硫黄原子を挙げることができる。ヘテロアリール基を構成するヘテロ原子の数としては、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。ヘテロアリール基は、単環または縮合環が好ましく、単環または縮合数が２～８の縮合環がより好ましく、単環または縮合数が２～４の縮合環が更に好ましい。ヘテロアリール基は置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては後述する置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　－ＢＲＹ１ＲＹ２で表される基におけるＲＹ１およびＲＹ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基またはシアノ基を表し、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはヘテロアリール基であることが好ましく、ハロゲン原子、アルキル基、または、アリール基であることがより好ましく、アリール基であることが更に好ましい。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すアルキル基およびアルコキシ基の炭素数は、１～４０が好ましく、１～３０がより好ましく、１～２０が更に好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すアルケニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２０が更に好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、ヘテロアリール基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すアリール基およびアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基およびアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　ＲＹ１およびＲＹ２が表すヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基のヘテロアリール環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。ヘテロアリール環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。ヘテロアリール環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２が更に好ましい。ヘテロアリール環は、５員環または６員環が好ましい。ヘテロアリール基およびヘテロアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
　－ＢＲＹ１ＲＹ２で表される基のＲＹ１とＲＹ２は、互いに結合して環を形成していてもよい。形成される環としては、例えば、下記（Ｂ－１）～（Ｂ－４）に示す構造などが挙げられる。以下において、Ｒｂは置換基を表し、Ｒｂ１～Ｒｂ４は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、ｂ１～ｂ３は、それぞれ独立に、０～４の整数を表し、＊は連結手を表す。ＲｂおよびＲｂ１～Ｒｂ４が表す置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられ、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとして、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリール基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のヘテロアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールチオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニル基）、ヘテロアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホン酸アミド基、イミド基、ホスフィノ基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、ヘテロアリールアゾ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基。これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　特定色素の極大吸収波長は、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に存在し、波長５５０～１３００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長６００～１３００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長６５０～１０００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましい。
　また、特定色素は、波長４００ｎｍ～１５００ｎｍの範囲において、波長５５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在し、かつ、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）での吸光度の値を１としたとき、波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度の値が０．０１２未満であることが好ましく、０．０１０未満であることがより好ましく、０．００８未満であることが更に好ましい。
　特定色素の吸光度および極大吸収波長の値は特定色素を溶媒に溶解させて色素溶液を調製し、色素溶液の吸光度を測定することで求めることができる。色素溶液の調製に用いる溶媒としては、クロロホルム、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などが挙げられる。なお、特定色素がクロロホルムに溶解する化合物の場合には溶媒としてクロロホルムを用いる。特定色素がクロロホルムに溶解しないがジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）またはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）に溶解する化合物の場合には溶媒として　ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）またはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
　を用いる。
　特定色素は、顔料であってもよく、染料であってもよい。
　また、特定色素は色素誘導体であってもよい。色素誘導体は例えば分散助剤として用いられる。分散助剤とは、組成物中において顔料の分散性を高めるための素材のことである。組成物が更に分散剤などの樹脂を含む場合には、顔料と分散助剤と樹脂との間でネットワークを形成して顔料の分散性をより向上させることができる。Ｒ１およびＲ２の少なくとも一方が式（ＡＲ－１）で表される基であって、式（ＡＲ－１）中のＲＡＲ１～ＲＡＲ４の少なくとも１つが式（Ｒ－１００）で表される基である構造の化合物は、分散助剤として好ましく用いることができる。なお、上記化合物は、顔料や染料として用いることもできる。
　なお、本明細書において、式（１）にはその共鳴構造も含まれる。すなわち、式（１）の共鳴構造の化合物も、本発明における特定色素に含まれる。
　特定色素の具体例としては、後述する実施例に記載の構造の化合物（ＰＰＢ－Ａ－１～ＰＰＢ－Ａ－１９、ＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１９、ＰＰＢ－Ｃ－１～ＰＰＢ－Ｃ－７）、及び以下に示す構造の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　特定色素の含有量は、組成物の全固形分中０．５質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。また、特定色素の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。組成物は特定色素を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
　本発明の組成物には、特定色素の分解物を含んでいてもよい。
＜＜硬化性化合物＞＞
　本発明の組成物は硬化性化合物を含有する。硬化性化合物としては、重合性化合物、樹脂等が挙げられる。樹脂は、非重合性の樹脂（重合性基を有さない樹脂）であってもよく、重合性の樹脂（重合性基を有する樹脂）であってもよい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基、環状エーテル基、メチロール基、アルコキシメチル基などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられ、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基および（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられ、エポキシ基が好ましい。重合性化合物は重合性モノマーであることが好ましい。
　硬化性化合物としては、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。また、本発明の組成物をフォトリソグラフィ用の組成物とする場合には、硬化性化合物として樹脂と、重合性モノマー（モノマータイプの重合性化合物）とを用いることが好ましく、樹脂と、エチレン性不飽和結合含有基を有する重合性モノマー（モノマータイプの重合性化合物）とを用いることがより好ましい。
（重合性化合物）
　重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物、環状エーテル基を有する化合物、メチロール基を有する化合物、アルコキシメチル基を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物はラジカル重合性化合物として好ましく用いることができる。また、環状エーテル基を有する化合物は、カチオン重合性化合物として好ましく用いることができる。
　樹脂タイプの重合性化合物としては、重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂などが挙げられる。
　モノマータイプの重合性化合物（重合性モノマー）の分子量は、２０００未満であることが好ましく、１５００以下であることがより好ましい。重合性モノマーの分子量の下限は１００以上であることが好ましく、２００以上であることがより好ましい。樹脂タイプの重合性化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～２００００００であることが好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００００以下であることが好ましく、５０００００以下であることがより好ましい。重量平均分子量の下限は、３０００以上であることが好ましく、５０００以上であることがより好ましい。
　重合性モノマーとしてのエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報、特開２０１７－１９４６６２号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの化合物の（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）などが挙げられる。また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることも好ましい。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物は、更に、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有していてもよい。このような化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基とアルキレンオキシ基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物は、エチレン性不飽和結合含有基と、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基とを有する化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基とエチレンオキシ基とを有する化合物であることがより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物であることがさらに好ましい。市販品としては、例えばサートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、イソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることも好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物などが挙げられ、エポキシ基を有する化合物であることが好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、１分子内にエポキシ基を１～１００個有する化合物が挙げられる。エポキシ基の数の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ基の数の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物（例えば分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）のいずれでもよい。環状エーテル基の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６に記載された化合物、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６に記載された化合物、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、デナコール　ＥＸ－２１２Ｌ、ＥＸ－２１２、ＥＸ－２１４Ｌ、ＥＸ－２１４、ＥＸ－２１６Ｌ、ＥＸ－２１６、ＥＸ－３２１Ｌ、ＥＸ－３２１、ＥＸ－８５０Ｌ、ＥＸ－８５０（以上、ナガセケムテックス（株）製）、ＡＤＥＫＡ　ＲＥＳＩＮ　ＥＰ－４０００Ｓ、ＥＰ－４００３Ｓ、ＥＰ－４０１０Ｓ、ＥＰ－４０１１Ｓ（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＮＣ－２０００、ＮＣ－３０００、ＮＣ－７３００、ＸＤ－１０００、ＥＰＰＮ－５０１、ＥＰＰＮ－５０２（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、ＥＨＰＥ３１５０、ＥＰＯＬＥＡＤ　ＰＢ　３６００、ＰＢ　４７００（以上、（株）ダイセル製）、サイクロマーＰ　ＡＣＡ　２００Ｍ、ＡＣＡ
　２３０ＡＡ、ＡＣＡ　Ｚ２５０、ＡＣＡ　Ｚ２５１、ＡＣＡ　Ｚ３００、ＡＣＡ　Ｚ３２０（以上、（株）ダイセル製）、ｊＥＲ１０３１Ｓ、ｊＥＲ１５７Ｓ６５、ｊＥＲ１５２、ｊＥＲ１５４、ｊＥＲ１５７Ｓ７０（以上、三菱ケミカル（株）製）、アロンオキセタンＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２２１、ＯＸ－ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亞合成（株）製）、アデカグリシロール　ＥＤ－５０５（（株）ＡＤＥＫＡ製、エポキシ基含有モノマー）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）、ＯＸＴ－１０１、ＯＸＴ－１２１、ＯＸＴ－２１２、ＯＸＴ－２２１（以上、東亞合成（株）製、オキセタニル基含有モノマー）、ＯＸＥ－１０、ＯＸＥ－３０（以上、大阪有機化学工業（株）製、オキセタニル基含有モノマー）などが挙げられる。
　メチロール基を有する化合物（以下、メチロール化合物ともいう）としては、メチロール基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。また、アルコキシメチル基を有する化合物（以下、アルコキシメチル化合物ともいう）としては、アルコキシメチル基が窒素原子または芳香族環を形成する炭素原子に結合している化合物が挙げられる。アルコキシメチル基またはメチロール基が窒素原子に結合している化合物としては、アルコキシメチル化メラミン、メチロール化メラミン、アルコキシメチル化ベンゾグアナミン、メチロール化ベンゾグアナミン、アルコキシメチル化グリコールウリル、メチロール化グリコールウリル、アルコキシメチル化尿素およびメチロール化尿素等が好ましい。また、特開２００４－２９５１１６号公報の段落０１３４～０１４７、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００９５～０１２６に記載された化合物を用いることもできる。
（樹脂）
　本発明の組成物は、硬化性化合物として樹脂を用いることができる。硬化性化合物は、樹脂を少なくとも含むものを用いることが好ましい。樹脂は、例えば、顔料等を組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料等を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。なお、重合性基を有する樹脂は、重合性化合物にも該当する。
　樹脂の重量平均分子量は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載の樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７に記載の樹脂を用いることもできる。また、樹脂としては、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂として、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　樹脂としては、式（ＥＤ１）で示される化合物および／または式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、重合性基を有する樹脂を用いることも好ましい。重合性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を含むことが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　また、分散剤として、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマーなどを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　硬化性化合物の含有量は、組成物の全固形分中１～９５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、９４質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８５質量％以下が更に好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として重合性化合物を含む場合、重合性化合物の含有量は、組成物の全固形分中１～８５質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として重合性モノマーを含む場合、重合性モノマーの含有量は、組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物としてエチレン性不飽和結合含有基を有する化合物を含む場合、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物の含有量は、組成物の全固形分中１～７０質量％が好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は、６５質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
　本発明の組成物が硬化性化合物として樹脂を含む場合、樹脂の含有量は、組成物の全固形分中１～８５質量％が好ましい。下限は２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、７質量％以上が更に好ましく、１０質量％以上が特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましく、４０質量％以下が特に好ましい。
　本発明の組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、分散剤としての樹脂の含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上が更に好ましい。また、分散剤としての樹脂の含有量は、上述した特定色素１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、７５質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
　本発明の組成物は、硬化性化合物を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。硬化性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の赤外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、上述した特定色素以外の赤外線吸収剤（他の赤外線吸収剤）を含有することができる。更に他の赤外線吸収剤を含有することで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができる。他の赤外線吸収剤は、染料であってもよく、顔料（粒子）であってもよい。他の赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載の化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　また、赤外線吸収剤としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　他の赤外線吸収剤の含有量は、上述した特定色素１００質量部に対し１～１００質量部であることが好ましく、３～６０質量部であることがより好ましく、５～４０質量部であることが更に好ましい。また、上述した特定色素と他の赤外線吸収剤との合計の含有量は、組成物の全固形分中１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。上記合計の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
＜＜色素誘導体＞＞
　本発明の組成物は、上述した特定色素の他に、更に色素誘導体を含有することができる。色素誘導体は分散助剤として用いられる。色素誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。
　色素誘導体を構成する色素骨格としては、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格が挙げられ、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、フタロシアニン色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格が好ましく、スクアリリウム色素骨格およびピロロピロール色素骨格がより好ましい。
　酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸ１で表される基が好ましい。スルホンアミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３がより好ましい。ＲＸ１～ＲＸ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＸ１～ＲＸ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　色素誘導体の具体例としては、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　色素誘導体の含有量は、上述した特定色素１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。色素誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　組成物中における溶剤の含有量は、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の組成物が重合性化合物を含む場合、本発明の組成物は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　光重合開始剤の含有量は、組成物の全固形分中０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましく、１～２０質量％が更に好ましい。組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化剤＞＞
　本発明の組成物が環状エーテル基を有する化合物を含む場合、硬化剤をさらに含むことが好ましい。硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、多価カルボン酸、チオール化合物などが挙げられる。硬化剤の具体例としては、コハク酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）などが挙げられる。硬化剤は、特開２０１６－０７５７２０号公報の段落番号００７２～００７８に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載の化合物を用いることもできる。
　硬化剤の含有量は、環状エーテル基を有する化合物の１００質量部に対し、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０１～１０質量部がより好ましく、０．１～６．０質量部がさらに好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つ臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色顔料、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色顔料、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール系顔料は結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下とすることも好ましい。また、ピロロピロール系顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。
　本発明において、有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料を使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソノール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサンテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料等が挙げられる。また、染料には、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物も好ましく用いることができる。
　本発明の組成物が、有彩色着色剤を含有する場合、有彩色着色剤の含有量は、本発明の組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。本発明の組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する色材を含む組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いられる。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１５００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（８）の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　本発明の組成物が可視光を遮光する色材を含有する場合、可視光を遮光する色材の含有量は、組成物の全固形分中１～５０質量％が好ましい。下限は５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の組成物は界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６３、Ｆ－５６５、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ
　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８、（以上、株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤として、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤として、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤として、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤として、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤として、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　式（ｆｉ－１）において、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、αは１または２を表し、Ｘα＋はα価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（和光純薬工業（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　カチオン系界面活性剤としては、テトラアルキルアンモニウム塩、アルキルアミン塩、ベンザルコニウム塩、アルキルピリジウム塩、イミダゾリウム塩等が挙げられる。具体例としては、ジヒドロキシエチルステアリルアミン、２－ヘプタデセニル－ヒドロキシエチルイミダゾリン、ラウリルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、セチルピリジニウムクロライド、ステアラミドメチルピリジウムクロライド等が挙げられる。
　アニオン系界面活性剤としては、ドデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸カリウム、ナトリウムジオクチルスルホサクシネート、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテ硫酸ナトリウム、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸ナトリウム、ジアルキルスルホコハク酸ナトリウム、ステアリン酸ナトリウム、オレイン酸ナトリウム、ｔ－オクチルフェノキシエトキシポリエトキシエチル硫酸ナトリウム塩等が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）、ＦＺ－２１２２（ダウ・東レ（株）製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　界面活性剤の含有量は、組成物の全固形分中０．００１～１質量％が好ましく、０．００１～０．５質量％がより好ましく、０．００１～０．２質量％が更に好ましい。組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の組成物は重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤の含有量は、組成物の全固形分中、０．０００１～５質量％が好ましい。組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の組成物はシランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、メロシアニン色素などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物を用いることもできる。紫外線吸収剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～３０質量％が好ましく、０．０５～２５質量％がより好ましい。組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物を使用することもできる。酸化防止剤の含有量は、組成物の全固形分中０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
＜収容容器＞
　本発明の組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、組成物の経時安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜組成物の調製方法＞
　本発明の組成物は、前述の成分を混合して調製できる。組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して組成物として調製してもよい。
　組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含んでいてもよい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の組成物から得られるものである。本発明の膜は、光学フィルタとして好ましく用いることができる。光学フィルタの用途は、特に限定されないが、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。赤外線カットフィルタとしては、例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタ、環境光センサー用の赤外線カットフィルタ（例えば、情報端末装置が置かれた環境の照度や色調を感知してディスプレイの色調を調整する照度センサーや、色調を調整する色補正用センサー）などが挙げられる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。赤外線透過フィルタとしては、可視光を遮光し、特定の波長以上の赤外線を選択的に透過可能なフィルタが挙げられる。
　本発明の膜は、パターンを有していてもよく、パターンを有さない膜（平坦膜）であってもよい。また、本発明の膜は、支持体上に積層して用いてもよく、本発明の膜を支持体から剥離して用いてもよい。支持体としては、シリコン基板などの半導体基材や、透明基材が挙げられる。
　支持体として用いられる半導体基材上には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されていてもよい。また、半導体基材上には、必要により、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下塗り層が設けられていてもよい。
　支持体として用いられる透明基材としては、少なくとも可視光を透過できる材料で構成されたものであれば特に限定されない。例えば、ガラス、樹脂などの材質で構成された基材が挙げられる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン酢酸ビニル共重合体等のポリオレフィン樹脂、ノルボルネン樹脂、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂等が挙げられる。ガラスとしては、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、銅を含有するガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスとしては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅を含有するガラスは、市販品を用いることもできる。銅を含有するガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）等が挙げられる。
　本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
　本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長７００～１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００～１０００ｎｍ）の範囲に極大吸収波長を有することが好ましい。また、波長４００～６００ｎｍの光の平均透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましく、８５％以上であることが特に好ましい。また、波長４００～６００ｎｍの全ての範囲での透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることが更に好ましい。また、本発明の膜は、波長６５０～１５００ｎｍ（好ましくは波長７００～１３００ｎｍ、より好ましくは波長７００～１０００ｎｍ）の範囲の少なくとも１点での透過率が１５％以下であることが好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下が更に好ましい。また、本発明の膜は、波長４００～６００ｎｍの範囲における吸光度の最大値Ａ１と、波長６５０～１５００ｎｍの範囲において最も短波側に存在する極大吸収波長における吸光度Ａ２との比（Ａ１／Ａ２）が０．３０以下であることが好ましく、０．２０以下であることがより好ましく、０．１５以下であることが更に好ましく、０．１０以下であることが特に好ましい。
　本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、例えば、以下の（ｉ１）～（ｉ３）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（ｉ１）：波長４００～８５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。このような分光特性を有する膜は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることが好ましい。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体上に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜膜の製造方法＞
　本発明の膜は、本発明の組成物を塗布する工程を経て製造できる。
　支持体としては、上述したものが挙げられる。組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　膜の製造方法においては、更にパターンを形成する工程を含んでいてもよい。パターン形成方法としては、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法や、ドライエッチング法を用いたパターン形成方法が挙げられ、フォトリソグラフィ法を用いたパターン形成方法が好ましい。なお、本発明の膜を平坦膜として用いる場合には、パターンを形成する工程を行わなくてもよい。以下、パターンを形成する工程について詳細に説明する。
（フォトリソグラフィ法でパターン形成する場合）
　フォトリソグラフィ法でのパターン形成方法は、本発明の組成物を塗布して形成した組成物層に対しパターン状に露光する工程（露光工程）と、未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する工程（現像工程）と、を含むことが好ましい。必要に応じて、現像されたパターンをベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。以下、各工程について説明する。
　露光工程では組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターンを形成する。未露光部の組成物層の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが支持体上に残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、更に界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
（ドライエッチング法でパターン形成する場合）
　ドライエッチング法でのパターン形成は、上記組成物を支持体上に塗布して形成した組成物層を硬化して硬化物層を形成し、次いで、この硬化物層上にパターニングされたフォトレジスト層を形成し、次いで、パターニングされたフォトレジスト層をマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングするなどの方法で行うことができる。フォトレジスト層の形成においては、プリベーク処理を施すことが好ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載された吸収層が挙げられる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９に記載された誘電体多層膜が挙げられる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基板（銅含有ガラス基板）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基板としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等で形成される転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等で形成される遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等で形成されるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載された装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０の撮像領域上には、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とが配置されている。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が配置されている。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　赤外線カットフィルタ１１１は本発明の組成物を用いて形成することができる。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。赤外線透過フィルタ１１４は本発明の組成物を用いて形成することができる。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
＜カメラモジュール＞
　本発明のカメラモジュールは、固体撮像素子と、上述した本発明の膜を含む。カメラモジュールは、レンズ、及び、固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。カメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。また、カメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。カメラモジュールの例としては、特開２０１６－００６４７６号公報、及び、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
＜化合物＞
　本発明の化合物は、式（１）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　式（１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、
　Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
　Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、
　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　式（１）のＲ１、Ｒ２、Ａｒ１、Ｘ１、Ｙ１およびＹ２は、それぞれ上述した式（１）で表される色素（特定色素）として示した式（１）のＲ１、Ｒ２、Ａｒ１、Ｘ１、Ｙ１およびＹ２と同義である。
　本発明の化合物の極大吸収波長は、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長５５０～１３００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長６００～１３００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、より好ましくは波長６５０～１０００ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。
　また、本発明の化合物は、波長５５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長が存在し、かつ、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）での吸光度の値を１としたとき、波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度の値が０．０１２未満であることが好ましく、０．０１０未満であることがより好ましく、０．００８未満であることが更に好ましい。
　本発明の化合物は、赤外線吸収剤として好ましく用いることができる。また、本発明の化合物は、分散助剤として用いることもできる。また、本発明の化合物は、カラーフィルタ用色素、蛍光色素として用いることもできる。
＜赤外線吸収剤＞
　本発明の赤外線吸収剤は、式（１）で表される化合物を含む。赤外線吸収剤は、式（１）で表される化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
＜式（１）で表される色素（特定色素）の合成＞
＜＜色素ＰＰＢ－Ｃ－５の合成例＞＞
　下記スキームに従い色素ＰＰＢ－Ｃ－５を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　特許第６３２９６２６号の段落番号０１２２の手法を参考に化合物１を合成した。
　窒素雰囲気下、三口フラスコに化合物１の４７４ｍｇ、２－アミノピリジンの５０７ｍｇ、トルエンの１１ｍＬを添加し、１３０℃に昇温した。そこにトリエチルアミンの２．１９ｇ、四塩化チタンの１．５４ｇを順次滴下した後、２－アミノエトキシジフェニルボランの１．１０ｇを添加し、加熱還流下にて２時間半撹拌した。この反応液を室温まで冷却し、２０℃～３０℃を保ちながら蒸留水６０ｍＬ、クロロホルム２０ｍＬを添加し、室温で１０分撹拌した。これをろ過することで得られたろ液を分液操作により、有機層を抽出し、ｂｒｉｎｅで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過して硫酸マグネシウムをろ別し、ろ液をエバポレーターで濃縮した。得られた残渣にエタノール１５ｍＬを添加し室温で１０分攪拌した。これをろ過し、メタノール１０ｍＬでかけ洗いをおこない、得られた粗体をクロロホルムに溶解させシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１～１０／１）で精製し、メタノール１０ｍＬで再結晶後、ろ過することで色素ＰＰＢ－Ｃ－５を７５ｍｇ（収率１０．２％）得た。
　１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝０．８６（ｍ、３８Ｈ）、１．２５（ｍ、４０Ｈ）、３．７１（ｄ、４Ｈ）、６．４２（ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ、４Ｈ）、６．６０（ｔ、Ｊ＝６．８Ｈｚ、２Ｈ）、６．８７（ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ、２Ｈ）、７．１２（ｍ、１２Ｈ）、７．２９（ｄ、Ｊ＝８．４Ｈｚ、４Ｈ）、７．３７（ｄ、Ｊ＝６．８Ｈｚ、８Ｈ）、７．４２（ｔ、Ｊ＝７．２Ｈｚ、２Ｈ）、７．６４（ｄ、Ｊ＝６．０Ｈｚ、２Ｈ）
＜可視透明性の評価＞
　下記表に記載の色素を、下記表に記載の溶媒に溶解させて色素溶液を調製した。得られた色素溶液の波長４００～１５００ｎｍの光に対する吸光度を分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ製）を用いて測定した。波長４００ｎｍ～１５００ｎｍの範囲において、吸光度が最も大きい値を示す波長（λｍａｘ）を測定し、λｍａｘでの吸光度の値を１としたとき、波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度の値を算出して、下記基準で可視透明性を評価した。
　Ａ：波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度が０．００８未満
　Ｂ：波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度が０．００８以上０．０１０未満
　Ｃ：波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度が０．０１０以上０．０１２未満
　Ｄ：波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度が０．０１２以上０．０２０未満
　Ｅ：波長４７５～５００ｎｍの範囲における平均吸光度が０．０２０以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
　色素ＰＰＢ－Ａ－１～色素ＰＰＢ－Ａ－１９、色素ＰＰＢ－Ｃ－１～色素ＰＰＢ－Ｃ－７の詳細は以下の通りである。なお、これらは式（１）で表される色素（特定色素）である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
＜分散液の調製＞
　下記表に記載の色素（顔料）の１．９０２質量部、下記表に記載の誘導体の０．３６質量部、下記表に記載の分散剤の９質量部、下記表に記載の溶剤の１８．７４質量部、及び、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ４０質量部を混合し、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
（色素）
　ＰＰＢ－Ａ－１～ＰＰＢ－Ａ－１９：上述した構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である）
　ＰＰＢ－Ｄ－１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
（誘導体）
　ＰＰＢ－Ｂ－１～ＰＰＢ－Ｂ－１９：下記構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である。これらはいずれも波長４５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 　ＰＰＢ－Ｅ－１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
（分散剤）
　Ｄ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量３８９００、酸価９９．１ｍｇＫＯＨ/g）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：プロピレングリコールモノメチルエーテル＝９：１（質量比）の混合溶液で固形分濃度を２０質量％に調製した溶液
　Ｄ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数を表す。重量平均分子量２１０００、酸価３６．０ｍｇＫＯＨ／ｇ、アミン価４７．０ｍｇＫＯＨ／ｇ）をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：プロピレングリコールモノメチルエーテル＝９：１（質量比）の混合溶液で固形分濃度を２０質量％に調製した溶液
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
＜色素溶液の調製＞
　下記表に記載の色素（染料）の８．０２質量部、下記表に記載の溶剤の９１．９８質量部を混合して色素溶液を製造した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
（色素）
　ＰＰＢ－Ｃ－１～ＰＰＢ－Ｃ－７：上述した構造の化合物（式（１）で表される色素（特定色素）である）
　ＰＰＢ－Ｆ－１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
（溶剤）
　Ｓ－３：シクロペンタノン
　Ｓ－４：シクロヘキサノン
＜組成物の製造＞
　各素材を、以下に示す処方１～４の割合で混合し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して各組成物を製造した。
＜処方１＞
　下記表に記載の分散液　　・・・１５．８７３質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・２．９４３質量部
　下記表に記載の重合性化合物　　・・・０．４５質量部
　下記表に記載の光重合開始剤　　・・・０．４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．００７５質量部
　下記表に記載の溶剤：１０．２７６質量部
＜処方２＞
　下記表に記載の分散液　　・・・１５．８７３質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・２．９４３質量部
　下記表に記載のエポキシ化合物　　・・・０．９質量部
　下記表に記載の硬化剤（表中に記載がある場合）　　・・０．０４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・１０．２７６質量部
＜処方３＞
　下記表に記載の色素溶液　　・・・１４．９２１質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・３．８９５質量部
　下記表に記載の重合性化合物　　・・・０．４５質量部
　下記表に記載の光重合開始剤　　・・・０．４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．０００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・１０．２７６質量部
＜処方４＞
　下記表に記載の色素溶液　　・・・１４．９２１質量部
　下記表に記載の樹脂　　・・・３．８９５質量部
　下記表に記載のエポキシ化合物　　・・・０．９質量部
　下記表に記載の硬化剤（表中に記載がある場合）　　・・・０．０４５質量部
　重合禁止剤（ｐ－メトキシフェノール）　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　・・・０．００７５質量部
　下記表に記載の溶剤　　・・・１０．２７６質量部
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
　上記表に記載の素材のうち、分散液および色素溶液以外の素材の詳細は以下の通りである。
（樹脂）
　Ｅ－１：メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸、メタクリル酸２－ヒドロキシエチルの共重合樹脂（重量平均分子量１４０００、酸価７７ｍｇＫＯＨ／ｇ、アルカリ可溶性樹脂）
　Ｅ－２：ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製、環状ポリオレフィン樹脂）
　Ｅ－３：下記構造の樹脂（重量平均分子量４００００、酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ、主鎖に付記した数値は繰り返し単位の質量比を表す。アルカリ可溶性樹脂）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
（重合性化合物）
　Ｍ－１：アロニックスＭ－３０５（東亞合成（株）製、ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリスリトールテトラアクリレートとの混合物。ペンタエリスリトールトリアクリレートの含有量が５５質量％～６３質量％である。）
　Ｍ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
　Ｍ－３：アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製、多塩基酸変性アクリルオリゴマー）
（光重合開始剤）
　Ｃ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル系開始剤）
　Ｃ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル系開始剤）
　Ｃ－３：Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製、α－アミノアルキルフェノン系開始剤）
（エポキシ化合物）
　Ｆ－１：メタクリル酸グリシジル骨格ランダムポリマー（日油（株）製、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、重量平均分子量１００００）
　Ｆ－２：ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製、ノボラック型エポキシ樹脂）
　Ｆ－３：ＪＥＲ１０３１Ｓ（三菱ケミカル（株）製、多官能エポキシ樹脂）
　Ｆ－４：ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製、２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物）
（硬化剤）
　Ｇ－１：トリメリット酸
　Ｇ－２：ピロメリット酸無水物
　Ｇ－３：Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン
　Ｇ－４：ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）
（界面活性剤）
　Ｈ－１：メガファックＲＳ－７２－Ｋ（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）
　Ｈ－２： 下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 　Ｈ－３：ＫＦ－６００１（信越化学工業（株）製、両末端カルビノール変性シリコーンオイル）
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－２：プロピレングリコールモノメチルエーテル
　Ｓ－３：シクロペンタノン
　Ｓ－４：シクロヘキサノン
＜膜の製造＞
（製造例１）　実施例１０１～１２６、比較例１０１、１０２の組成物を用いた膜の製造方法
　各組成物をガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して組成物層を得た。得られた組成物層を、ｉ線ステッパーを用い、５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量にて露光した。次いで、露光後の組成物層に対してホットプレートを用いて２２０℃で５分間加熱して硬化処理を行い、厚さ０．７μｍの膜を得た。
（製造例２）　実施例２０１～２２６、比較例２０１、２０２の組成物を用いた膜の製造方法
　上記で調製した各組成物を、ガラス基板上にスピンコート法で塗布し、その後ホットプレートを用いて８０℃で１０分間加熱（プリベーク）し、次いで、１５０℃で３時間加熱して硬化処理を行い、厚さ０．７μｍの膜を得た。
＜耐光性の評価＞
　得られた膜をスーパーキセノンランプ（１０万ルクス）搭載の退色試験機にセットし、紫外線カットフィルタを使用しない条件下にて、１０万ルクスの光を１１３時間照射した。次に、光照射後の膜の透過スペクトルを、分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。光照射前後における膜の極大吸収波長での吸光度について、その残存率を下記式から算出し、下記基準で耐光性を評価した。
　残存率（％）＝｛（光照射後の膜の極大吸収波長での吸光度）÷（光照射前の膜の極大吸収波長での吸光度）｝×１００
　Ａ：残存率が９５％を超え１００％以下
　Ｂ：残存率が８０％を超え９５％以下
　Ｃ：残存率が８０％以下
＜耐湿性の評価＞
　得られた膜について、波長３００～１５００ｎｍの各波長の光の透過率を測定した。次に、この膜を、８５℃湿度９５％の恒温器に入れて６ヵ月間保管して耐湿試験を行った。
耐湿試験後の膜について、波長３００～１５００ｎｍの各波長の光の透過率を測定した。膜の透過率は、分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテクノロジーズ社製）を用いて測定した。
　耐湿試験前後における膜の極大吸収波長での吸光度について、その残存率を下記式から算出し、下記基準で評価した。
　残存率（％）＝｛（耐湿試験後の膜の極大吸収波長での吸光度）÷（耐湿試験前の膜の極大吸収波長での吸光度）｝×１００
　Ａ：残存率が９５％を超え１００％以下
　Ｂ：残存率が８０％を超え９５％以下
　Ｃ：残存率が８０％以下
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
　上記表に示すように、実施例の組成物は耐光性および耐湿性に優れた膜を形成することができた。
　また、耐光性および耐湿性の評価がＡであるもののうち、実施例１０１、１０２、１０４、１０６、１０８、１０９、１１０、１１１、１１５、１１７、１２０、１２１、１２２、１２３、１２５、２０１、２０２、２０４、２０６、２０８、２０９、２１０、２１１、２１５、２１７、２２０、２２１、２２２、２２３、２２５は特に耐光性および耐湿性が優れており、その次に、実施例１１８、１１９、１２６、２１８、２１９、２２６が優れていた。
　上記膜を用いることで、耐光性および耐湿性に優れた光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、カメラモジュールを作製することができる。
１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (13)

  1. 　式（１）で表される構造を有し、波長４５０～１５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色素と、
    　硬化性化合物と、
    　を含む組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　式（１）中、Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、
    　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、
    　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
  2. 　前記式（１）のＸ１は、酸素原子、式（Ｘ－１）で表される基または式（Ｘ－２）で表される基である、請求項１に記載の組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　式中、Ａｒ２およびＡｒ３は、それぞれ独立してアリール基またはヘテロアリール基を表し、＊は連結手を表す。
  3. 　前記式（１）のＡｒ１は、式（Ｈａｒ－１）～式（Ｈａｒ－１０）で表される基のいずれかである、請求項１または２に記載の組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     　式中、Ｒａ１～Ｒａ４９はそれぞれ独立して水素原子または置換基を表し、＊は連結手を表す；
    　式（Ｈａｒ－１）において、Ｒａ１とＲａ２、Ｒａ２とＲａ３、Ｒａ３とＲａ４は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－２）において、Ｒａ５とＲａ６、Ｒａ６とＲａ７、Ｒａ７とＲａ８は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－３）において、Ｒａ９とＲａ１０、Ｒａ１０とＲａ１１、Ｒａ１１とＲａ１２、Ｒａ１２とＲａ１３は互いに結合して環を形成していてもよい：
    　式（Ｈａｒ－４）において、Ｒａ１５とＲａ１６、Ｒａ１６とＲａ１７、Ｒａ１７とＲａ１８は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－５）において、Ｒａ１９とＲａ２０、Ｒａ２０とＲａ２１、Ｒａ２１とＲａ２２、Ｒａ２２とＲａ２３、Ｒａ２３とＲａ２４は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－６）において、Ｒａ２５とＲａ２６、Ｒａ２６とＲａ２７は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－７）において、Ｒａ２８とＲａ２９、Ｒａ２９とＲａ３０、Ｒａ３０とＲａ３１は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－８）において、Ｒａ３２とＲａ３３、Ｒａ３３とＲａ３４、Ｒａ３４とＲａ３５、Ｒａ３５とＲａ３６、Ｒａ３６とＲａ３７は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－９）において、Ｒａ３８とＲａ３９、Ｒａ３９とＲａ４０、Ｒａ４０とＲａ４１、Ｒａ４１とＲａ４２、Ｒａ４２とＲａ４３は互いに結合して環を形成していてもよい；
    　式（Ｈａｒ－１０）において、Ｒａ４４とＲａ４５、Ｒａ４５とＲａ４６、Ｒａ４６とＲａ４７、Ｒａ４７とＲａ４８、Ｒａ４８とＲａ４９は互いに結合して環を形成していてもよい。
  4. 　前記式（１）のＹ１およびＹ２は、それぞれ独立して－ＢＲＹ１ＲＹ２を表し、
    　ＲＹ１およびＲＹ２は、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基またはシアノ基を表し、
    　ＲＹ１およびＲＹ２は互いに結合して環を形成していてもよい、
    　請求項１～３のいずれか１項に記載の組成物。
  5. 　前記式（１）のＲ１およびＲ２は、それぞれ独立して脂肪族炭化水素基またはアリール基である、請求項１～４のいずれか１項に記載の組成物。
  6. 　請求項１～５のいずれか１項に記載の組成物を用いて得られる膜。
  7. 　請求項６に記載の膜を含む光学フィルタ。
  8. 　請求項６に記載の膜を含む固体撮像素子。
  9. 　請求項６に記載の膜を含む画像表示装置。
  10. 　請求項６に記載の膜を含む赤外線センサ。
  11. 　請求項６に記載の膜を含むカメラモジュール。
  12. 　式（１）で表される化合物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     　式（１）中、Ａｒ１は、アリール基またはヘテロアリール基を表し、
    　Ｘ１は、酸素原子または置換基を表し、
    　Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して置換基を表し、
    　Ｙ１およびＹ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
  13. 　請求項１２に記載の化合物を含む赤外線吸収剤。
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