WO2023204062A1 - 樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 - Google Patents

樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 Download PDF

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pigment
resin composition
resin
compounds
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慎也 林
拓貴 本橋
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富士フイルム株式会社
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
    • C09B29/34—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from other coupling components
    • C09B29/36—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from other coupling components from heterocyclic compounds
    • C09B29/3604—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from other coupling components from heterocyclic compounds containing only a nitrogen as heteroatom
    • C09B29/3647—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from other coupling components from heterocyclic compounds containing only a nitrogen as heteroatom containing a five-membered ring with two nitrogen atoms as heteroatoms
    • C09B29/3652—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from other coupling components from heterocyclic compounds containing only a nitrogen as heteroatom containing a five-membered ring with two nitrogen atoms as heteroatoms containing a 1,2-diazoles or hydrogenated 1,2-diazoles
    • C09B29/366—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from other coupling components from heterocyclic compounds containing only a nitrogen as heteroatom containing a five-membered ring with two nitrogen atoms as heteroatoms containing a 1,2-diazoles or hydrogenated 1,2-diazoles containing hydroxy-1,2-diazoles, e.g. pyrazolone
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
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    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/02—Details
    • H01L31/0232—Optical elements or arrangements associated with the device

Definitions

  • the present invention relates to a resin composition containing a pigment and a pigment derivative, and a method for producing the same.
  • the present invention also relates to pigment derivatives, films, optical filters, solid-state imaging devices, and image display devices.
  • CCD charge-coupled device
  • Optical filters such as color filters are manufactured using resin compositions containing coloring materials and resins.
  • a pigment is used as a coloring material, the pigment is dispersed together with a pigment derivative and a resin.
  • Patent Document 1 discloses that a pigment, an acidic derivative, and a resin are dispersed in which the value (S/N) obtained by dividing the main peak intensity (S) of the X-ray diffraction spectrum by the background noise intensity (N) is 90 or less.
  • a colored resin composition for a color filter is described, which includes a pigment dispersion prepared in this manner, an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator.
  • an object of the present invention is to provide a resin composition with excellent pigment dispersion stability and a method for producing the same.
  • Another object of the present invention is to provide a pigment derivative, a film, an optical filter, a solid-state image sensor, and an image display device.
  • the present invention provides the following.
  • the above dye structures include a diketopyrrolopyrrole structure, a pyrrolopyrrole structure, an azomethine structure, an isoindoline structure, a quinophthalone structure, an azo structure, an anthraquinone structure, a thiazine indigo structure, a quinacridone structure, a benzoindole structure, a phthalocyanine structure, and a dioxazine structure.
  • the resin composition according to ⁇ 2> which has at least one type selected from the group consisting of structures.
  • R D1 and R D2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • a D1 and A D2 each independently represent a substituent
  • L D1 represents a single bond or an n+1-valent linking group
  • X D1 represents an acid group or a basic group
  • m represents an integer from 1 to 10
  • n represents an integer from 1 to 10
  • the plurality of L D1 and X D1 may be different from each other
  • n is 2 or more, the plurality of X D1 may be different from each other.
  • ⁇ 5> The resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, further comprising a photopolymerization initiator and a polymerizable compound.
  • a method for producing a resin composition comprising the step of dispersing a pigment, a pigment derivative having a crystallite size of 1 to 50 nm, and a resin in a solvent.
  • the pigment derivative is a particle of a compound having at least one structure selected from the group consisting of a pigment structure and a triazine structure and an acid group or a basic group. manufacturing method.
  • the above dye structures include a diketopyrrolopyrrole structure, a pyrrolopyrrole structure, an azomethine structure, an isoindoline structure, a quinophthalone structure, an azo structure, an anthraquinone structure, a thiazine indigo structure, a quinacridone structure, a benzoindole structure, a phthalocyanine structure, and a dioxazine structure.
  • the method for producing a resin composition according to ⁇ 7> which is at least one selected from the group consisting of structures.
  • a pigment derivative which is a particle of a compound having at least one structure selected from the group consisting of a pigment structure and a triazine structure and an acid group or a basic group, and has a crystallite size of 1 to 50 nm. Pigment derivatives.
  • ⁇ 12> A film obtained using the resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 5>.
  • An optical filter having the film according to ⁇ 12>.
  • a solid-state imaging device having the film according to ⁇ 12>.
  • An image display device comprising the film according to ⁇ 12>.
  • the present invention it is possible to provide a resin composition with excellent pigment dispersion stability and a method for producing the same. Further, according to the present invention, a pigment derivative, a film, an optical filter, a solid-state image sensor, and an image display device can be provided.
  • ⁇ is used to include the numerical values described before and after it as a lower limit and an upper limit.
  • the description that does not indicate substituted or unsubstituted includes a group having a substituent (atomic group) as well as a group having no substituent (atomic group).
  • the term "alkyl group” includes not only an alkyl group without a substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • the light used for exposure include actinic rays or radiation such as the bright line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth)acrylate” represents acrylate and/or methacrylate
  • (meth)acrylic represents both acrylic and/or methacrylic
  • (meth)acrylate” represents acrylic and/or methacrylate.
  • Acryloyl refers to either or both of acryloyl and methacryloyl.
  • Me in the structural formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Pr represents a propyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are polystyrene equivalent values measured by GPC (gel permeation chromatography).
  • near-infrared rays refer to light with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • the total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • pigment means a coloring material that is difficult to dissolve in a solvent.
  • solubility of the pigment in 100 g of water at 23° C. and 100 g of propylene glycol monomethyl ether acetate at 23° C. is preferably 0.1 g or less, more preferably 0.01 g or less.
  • dye means a coloring material that is easily dissolved in a solvent.
  • process is used not only to refer to an independent process, but also to include a process in which the intended effect of the process is achieved even if the process cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • the resin composition of the present invention is pigment and A pigment derivative having a crystallite size of 50 nm or less, resin and It is characterized by containing a solvent.
  • the resin composition of the present invention has excellent pigment dispersion stability.
  • the reason for this effect is that the crystallite size of the pigment derivative is 50 nm or less, which allows the pigment derivative to be efficiently adsorbed onto the surface of the pigment, thereby forming a strong bond between the resin, pigment, and pigment derivative in the resin composition. Because the network is formed, it is possible to stably maintain the dispersion state of the pigment in the resin composition, resulting in the generation of coarse particles due to pigment aggregation during manufacturing and pigment aggregation during storage. It is presumed that the resin composition was able to suppress changes in viscosity and viscosity over time, and to have excellent pigment dispersion stability.
  • the resin composition of the present invention when a pattern is formed by photolithography using the resin composition of the present invention, generation of development residues can also be suppressed.
  • the reason why such an effect is obtained is presumed to be due to the following. If the pigment derivative exists as a single particle, it tends to adsorb to the support and remain as a development residue even after development, but the resin composition of the present invention It is assumed that the pigment derivative is unlikely to remain as a single particle because the derivative is efficiently adsorbed to the pigment. It is presumed that for these reasons, the generation of development residues can be suppressed.
  • the resin composition of the present invention when used for photolithography, it is preferable that the resin composition of the present invention further contains a polymerizable compound and a photopolymerization initiator. Moreover, it is preferable that the resin contains a resin having an acid group.
  • the resin composition of the present invention is preferably used as a resin composition for optical filters.
  • the optical filter include color filters, near-infrared transmission filters, near-infrared cut filters, etc., and color filters are preferred.
  • the resin composition of the present invention is preferably used for solid-state imaging devices. More specifically, it is preferably used as a resin composition for optical filters used for solid-state imaging devices, and more preferably used as a resin composition for forming colored pixels of color filters used for solid-state imaging devices.
  • color filters include filters that have colored pixels that transmit light of a specific wavelength.
  • colored pixels include red pixels, green pixels, blue pixels, magenta pixels, cyan pixels, yellow pixels, etc., preferably green pixels or cyan pixels, and more preferably green pixels.
  • the colored pixels of the color filter can be formed using a resin composition containing a chromatic pigment.
  • the maximum absorption wavelength of the near-infrared cut filter preferably exists in a wavelength range of 700 to 1800 nm, more preferably exists in a wavelength range of 700 to 1400 nm, and even more preferably exists in a wavelength range of 700 to 1200 nm.
  • the transmittance of the near-infrared cut filter over the entire wavelength range of 400 to 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more.
  • the transmittance at at least one point in the wavelength range of 700 to 1800 nm is preferably 20% or less.
  • the ratio of the absorbance Amax at the maximum absorption wavelength of the near-infrared cut filter to the absorbance A550 at a wavelength of 550 nm is preferably 20 to 500, more preferably 50 to 500. , more preferably from 70 to 450, particularly preferably from 100 to 400.
  • the near-infrared cut filter can be formed using a resin composition containing a near-infrared absorbing pigment.
  • a near-infrared transmission filter is a filter that transmits at least a portion of near-infrared rays.
  • the near-infrared transmission filter may be a filter (transparent film) that transmits both visible light and near-infrared rays, or may be a filter that blocks at least part of visible light and transmits at least part of near-infrared rays. Good too.
  • the near-infrared transmission filter has a maximum transmittance of 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less) in the wavelength range of 400 to 640 nm, and a transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm.
  • Preferred examples include filters that satisfy spectral characteristics with a minimum value of 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the near-infrared transmission filter is preferably a filter that satisfies any of the following spectral characteristics (1) to (5).
  • 70% or more preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 900 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1000 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • the resin composition of the present invention can also be used for light-shielding films and the like.
  • the solid content concentration of the resin composition of the present invention is preferably 5 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 7.5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less, and even more preferably 15% by mass or less.
  • the resin composition of the present invention contains a pigment.
  • the pigment include white pigments, black pigments, chromatic pigments, and near-infrared absorbing pigments. Note that in this specification, white pigments include not only pure white pigments but also light gray pigments close to white (for example, grayish white, light gray, etc.).
  • a chromatic pigment is used as the pigment.
  • the number of chromatic pigments may be one, or two or more.
  • a near-infrared absorbing pigment is used as the pigment.
  • the number of near-infrared absorbing pigments may be one type, or two or more types may be included.
  • a combination of two or more chromatic pigments or a pigment containing a black pigment is used as the pigment.
  • the average primary particle diameter of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle diameter of a pigment can be calculated
  • the average primary particle diameter in the present invention is the arithmetic mean value of the primary particle diameters of 400 pigment primary particles.
  • the primary particles of pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the specific surface area of the pigment is preferably 1 to 300 m 2 /g.
  • the lower limit is preferably 10 m 2 /g or more, more preferably 30 m 2 /g or more.
  • the upper limit is preferably 250 m 2 /g or less, more preferably 200 m 2 /g or less.
  • the value of the specific surface area is determined according to DIN 66131: determination of the specific surface area of solids by gas adsorption according to the BET (Brunauer, Emmett and Teller) method. Determination of specific surface area of solids by adsorption).
  • the crystallite size determined from the half-width of the peak derived from any crystal plane in the X-ray diffraction spectrum when the CuK ⁇ ray of the pigment is used as the X-ray source is preferably 0.1 nm to 100 nm, and preferably 0.1 nm to 100 nm.
  • the thickness is more preferably 5 nm to 50 nm, even more preferably 1 nm to 30 nm, and particularly preferably 5 nm to 25 nm.
  • Pigments used in the present invention include diketopyrrolopyrrole pigments, pyrrolopyrrole pigments, azomethine pigments, isoindoline pigments, quinophthalone pigments, azo pigments, anthraquinone pigments, thiazine indigo pigments, quinacridone pigments, benzoindole pigments, phthalocyanine pigments and dioxazine pigments. It is preferable that the pigment contains at least one selected from the group consisting of pigments.
  • the chromatic pigment is not particularly limited, and any known chromatic pigment can be used.
  • chromatic pigments include pigments having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 to 700 nm. Examples include yellow pigments, orange pigments, red pigments, green pigments, purple pigments, and blue pigments. Specific examples of these include, for example, the following.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment is used, in which the average number of halogen atoms in one molecule is 10 to 14, the average number of bromine atoms is 8 to 12, and the average number of chlorine atoms is 2 to 5. You can also do that. Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • a green pigment a compound described in Chinese Patent Application No. 106909027, a phthalocyanine compound having a phosphoric acid ester as a ligand described in International Publication No. 2012/102395, a phthalocyanine compound described in JP-A No.
  • an aluminum phthalocyanine pigment having a phosphorus atom can also be used. Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A No. 2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A No. 2011-157478.
  • an azobarbituric acid nickel complex having the following structure can also be used.
  • a compound described in JP 2017-201003 As a yellow pigment, a compound described in JP 2017-201003, a compound described in JP 2017-197719, a compound described in paragraph numbers 0011 to 0062, 0137 to 0276 of JP 2017-171912, Compounds described in paragraph numbers 0010 to 0062, 0138 to 0295 of JP 2017-171913, compounds described in paragraph numbers 0011 to 0062, 0139 to 0190 of JP 2017-171914, JP 2017-171915 Compounds described in paragraph numbers 0010 to 0065 and 0142 to 0222 of the publication, quinophthalone compounds described in paragraph numbers 0011 to 0034 of JP2013-054339, and paragraph numbers 0013 to 0058 of JP2014-026228.
  • X 1 to X 16 each independently represent a hydrogen atom or a halogen atom
  • Z 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Specific examples of the compound represented by formula (QP1) include the compound described in paragraph number 0016 of Japanese Patent No. 6443711.
  • Y 1 to Y 3 each independently represent a halogen atom.
  • n and m represent integers from 0 to 6, and p represents an integer from 0 to 5.
  • (n+m) is 1 or more.
  • Specific examples of the compound represented by formula (QP2) include compounds described in paragraph numbers 0047 to 0048 of Japanese Patent No. 6432077.
  • a red pigment As a red pigment, a diketopyrrolopyrrole compound in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP 2017-201384, a diketopyrrolopyrrole compound described in paragraph numbers 0016 to 0022 of Patent No. 6248838, Diketopyrrolopyrrole compounds described in International Publication No. 2012/102399, diketopyrrolopyrrole compounds described in International Publication No.
  • Pyrrolopyrrole pigments include those whose crystallite size in the plane direction corresponding to the maximum peak in the X-ray diffraction pattern among the eight ( ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1) crystal lattice planes is 140 ⁇ or less. It is also preferable to use Further, the physical properties of the pyrrolopyrrole pigment are also preferably set as described in paragraph numbers 0028 to 0073 of JP-A-2020-097744.
  • Two or more chromatic pigments may be used in combination.
  • the resin composition of the present invention for forming green pixels of a color filter it is preferable to use a green pigment and a yellow pigment together.
  • a red pigment and a yellow pigment together when using the resin composition of the present invention for forming red pixels of a color filter, it is preferable to use a red pigment and a yellow pigment together.
  • black may be formed by a combination of two or more chromatic pigments.
  • examples of such combinations include the following embodiments (1) to (7).
  • the resin composition of the present invention can be used for forming a near-infrared transmitting filter. It can be preferably used as a resin composition.
  • Embodiment containing a red pigment and a blue pigment (2) An embodiment containing a red pigment, a blue pigment, and a yellow pigment.
  • An embodiment containing a red pigment, a blue pigment, a yellow pigment, a purple pigment, and a green pigment An embodiment containing a red pigment, a blue pigment, a yellow pigment, and a green pigment.
  • An embodiment containing a red pigment, a blue pigment, and a green pigment An embodiment containing a red pigment, a blue pigment, and a green pigment.
  • Embodiment containing a yellow pigment and a purple pigment Embodiment containing a yellow pigment and a purple pigment.
  • White pigments include titanium oxide, strontium titanate, barium titanate, zinc oxide, magnesium oxide, zirconium oxide, aluminum oxide, barium sulfate, silica, talc, mica, aluminum hydroxide, calcium silicate, aluminum silicate, hollow Examples include resin particles and zinc sulfide.
  • the white pigment is preferably particles containing titanium atoms, and more preferably titanium oxide. Further, the white pigment is preferably a particle having a refractive index of 2.10 or more with respect to light with a wavelength of 589 nm. The above-mentioned refractive index is preferably 2.10 to 3.00, more preferably 2.50 to 2.75.
  • titanium oxide described in "Titanium oxide physical properties and applied technology, Manabu Seino, pages 13-45, published June 25, 1991, Gihodo Publishing" can also be used.
  • the white pigment is not only made of a single inorganic substance, but also particles made of a composite with other materials may be used. For example, particles with pores or other materials inside, particles with a large number of inorganic particles attached to a core particle, core and shell composite particles with a core particle made of polymer particles and a shell layer made of inorganic nanoparticles are used. It is preferable.
  • core and shell composite particles consisting of a core particle consisting of a polymer particle and a shell layer consisting of an inorganic nanoparticle for example, the description in paragraphs 0012 to 0042 of JP 2015-047520A can be referred to, This content is incorporated herein.
  • Hollow inorganic particles can also be used as the white pigment.
  • a hollow inorganic particle is an inorganic particle having a structure that has a cavity inside, and is an inorganic particle having a cavity surrounded by an outer shell.
  • Examples of hollow inorganic particles include hollow inorganic particles described in JP2011-075786A, WO2013/061621A, JP2015-164881A, etc., the contents of which are not incorporated herein. It will be done.
  • the black pigment is not particularly limited, and known ones can be used.
  • the inorganic black pigment include carbon black, titanium black, and graphite, with carbon black and titanium black being preferred, and titanium black being more preferred.
  • Titanium black is black particles containing titanium atoms, and lower titanium oxide and titanium oxynitride are preferable.
  • the surface of titanium black can be modified as necessary for the purpose of improving dispersibility, suppressing agglomeration, and the like. For example, it is possible to coat the surface of titanium black with silicon oxide, titanium oxide, germanium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, or zirconium oxide. Furthermore, treatment with a water-repellent substance as disclosed in JP-A No. 2007-302836 is also possible.
  • titanium black has a small primary particle size and an average primary particle size of each particle. Specifically, it is preferable that the average primary particle diameter is 10 to 45 nm.
  • Titanium black can also be used as a dispersion. For example, there may be mentioned a dispersion containing titanium black particles and silica particles, in which the content ratio of Si atoms to Ti atoms in the dispersion is adjusted to a range of 0.20 to 0.50.
  • the descriptions in paragraphs 0020 to 0105 of JP-A-2012-169556 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • titanium blacks examples include Titanium Black 10S, 12S, 13R, 13M, 13MC, 13R-N, 13M-T (trade name: manufactured by Mitsubishi Materials Corporation), Tilac D ( Product name: Ako Kasei Co., Ltd.).
  • organic black pigments examples include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds.
  • bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Application Publication No. 2012-515233, and Japanese Patent Application Publication No. 2012-515234, and for example, as "Irgaphor Black” manufactured by BASF. available.
  • perylene compounds include compounds described in paragraph numbers 0016 to 0020 of JP-A No. 2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32, etc.
  • the near-infrared absorbing pigment is preferably an organic pigment. Further, it is preferable that the near-infrared absorbing pigment has a maximum absorption wavelength in a range of more than 700 nm and less than 1800 nm. Further, the maximum absorption wavelength of the near-infrared absorbing pigment is preferably 1400 nm or less, more preferably 1200 nm or less, and even more preferably 1000 nm or less.
  • a 550 /A max which is the ratio of the absorbance A 550 at a wavelength of 550 nm to the absorbance A max at the maximum absorption wavelength , is preferably 0.1 or less, and preferably 0.05 or less. is more preferable, even more preferably 0.03 or less, particularly preferably 0.02 or less.
  • the lower limit is not particularly limited, but may be, for example, 0.0001 or more, or 0.0005 or more.
  • Near-infrared absorbing pigments are not particularly limited, but include pyrrolopyrrole compounds, rylene compounds, oxonol compounds, squarylium compounds, cyanine compounds, croconium compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, pyrylium compounds, azulenium compounds, indigo compounds, and pyrromethene compounds. and preferably at least one selected from the group consisting of pyrrolopyrrole compounds, squarylium compounds, cyanine compounds, phthalocyanine compounds, and naphthalocyanine compounds, and at least one selected from the group consisting of pyrrolopyrrole compounds and squarylium compounds. More preferably, it is a pyrrolopyrrole compound.
  • Examples of the pyrrolopyrrole compound include PP-Pig-1 to PP-Pig-22 described in Examples described later, compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP-A No. 2009-263614, and compounds described in JP-A No. 2011-068731. Examples include compounds described in paragraph numbers 0037 to 0052 of , and compounds described in paragraph numbers 0010 to 0033 of International Publication No. 2015/166873.
  • Examples of squarylium compounds include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0049 of JP-A No. 2011-208101, compounds described in paragraph numbers 0060 to 0061 of Japanese Patent No. 6065169, and paragraph number 0040 of International Publication No. 2016/181987.
  • Examples of cyanine compounds include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0045 of JP 2009-108267, compounds described in paragraph 0026 to 0030 of JP 2002-194040, and compounds described in JP 2015-172004.
  • Compounds described in JP 2015-172102, compounds described in JP 2008-088426, compounds described in paragraph number 0090 of WO 2016/190162, JP 2017-031394 Examples include the compounds described in .
  • Examples of the croconium compound include compounds described in JP-A No. 2017-082029.
  • Examples of iminium compounds include compounds described in Japanese Patent Publication No. 2008-528706, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2012-012399, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2007-092060, and International Publication No.
  • Examples include the compounds described in paragraph numbers 0048 to 0063 of .
  • Examples of phthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A No. 2012-077153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A 2006-343631, and paragraphs 0013 to 0029 of JP-A 2013-195480.
  • Examples include compounds described in numbers 0029 to 0076.
  • Examples of naphthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A No. 2012-077153.
  • Examples of near-infrared absorbing pigments include squarylium compounds described in JP2017-197437A, squarylium compounds described in JP2017-025311A, squarylium compounds described in International Publication No. 2016/154782, and Japanese Patent No. 5884953. Squarylium compounds described in the publication, squarylium compounds described in Patent No. 6036689, squarylium compounds described in Patent No. 5810604, squarylium compounds described in paragraph numbers 0090 to 0107 of International Publication No.
  • the pigment content in the total solid content of the resin composition is preferably 30 to 80% by mass.
  • the lower limit is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 75% by mass or less, more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the chromatic pigment in the pigment contained in the resin composition is preferably 80% by mass or more, and preferably 90% by mass or more.
  • the content is more preferably 95% by mass or more, even more preferably 99% by mass or more.
  • the content of the near-infrared absorbing pigment in the pigment contained in the resin composition is preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. It is more preferable that the amount is at least 95% by mass, even more preferably at least 99% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain a dye.
  • a dye There are no particular restrictions on the dye, and known dyes can be used. Examples of the dye include chromatic dyes, black dyes, and near-infrared absorbing dyes. As the dye, known dyes can be used.
  • a dye multimer can also be used as the dye. The dye multimer has two or more dye structures in one molecule, and preferably has three or more dye structures. The upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less.
  • the plurality of dye structures contained in one molecule may be the same dye structure or may be different dye structures.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the dye multimer is preferably 2,000 to 50,000.
  • the lower limit is more preferably 3,000 or more, and even more preferably 6,000 or more.
  • the upper limit is more preferably 30,000 or less, and even more preferably 20,000 or less.
  • the dye multimer is disclosed in JP-A No. 2011-213925, JP-A 2013-041097, JP-A 2015-028144, JP-A 2015-030742, JP-A 2016-102191, International Publication No. 2016/ Compounds described in No. 031442 and the like can also be used.
  • triarylmethane dye polymers described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0028160, xanthene compounds described in JP 2020-117638, and phthalocyanines described in International Publication No. 2020/174991 are used.
  • 10-2020-0069067 Compound represented by formula 1, compound represented by formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0069062, halogenated zinc phthalocyanine pigment described in Patent No. 6809649, JP 2020-180176 Publication
  • the isoindoline compound described in JP 2021-187913, the phenothiazine compound described in JP 2021-187913, the halogenated zinc phthalocyanine described in WO 2022/004261, the halogenated zinc phthalocyanine described in WO 2021/250883 can be used.
  • the pigment or dye may be a rotaxane, and the dye backbone may be used in the cyclic structure of the rotaxane, in the rod-like structure, or in both structures.
  • the content of the dye in the total solid content of the resin composition is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less. Further, the content of the dye in the resin composition is preferably 60 parts by mass or less, more preferably 40 parts by mass or less, and even more preferably 20 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the pigment. preferable.
  • the resin composition of the present invention does not substantially contain dye.
  • the case where the dye is not substantially contained means that the content of the dye in the total solid content of the resin composition is 0.1% by mass or less, and 0.01% by mass It is preferable that it is below, and it is more preferable that it contains no dye.
  • the resin composition of the present invention contains a pigment derivative.
  • Pigment derivatives are used as dispersion aids.
  • a dispersion aid is a material for improving the dispersibility of pigments in a resin composition.
  • the resin composition of the present invention contains a pigment derivative having a crystallite size of 50 nm or less.
  • the crystallite size of the pigment derivative is preferably 40 nm or less, more preferably 20 nm or less, and even more preferably 15 nm or less.
  • the lower limit of the crystallite size of the pigment derivative is preferably 1 nm or more.
  • the crystallite size of the pigment derivative used for producing the resin composition is preferably 1 to 50 nm.
  • the lower limit is preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more.
  • the upper limit is preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less.
  • the crystallite size of a pigment derivative is calculated from the half-width of the diffraction peak obtained by X-ray diffraction measurement of the pigment derivative, using the peak of maximum intensity, and using the Schuller formula. This is the value.
  • crystallite size of the pigment derivative can be calculated using the Schuller equation shown below.
  • Crystallite size (K ⁇ )/( ⁇ cos ⁇ ) K is the Schuller constant, ⁇ is the wavelength of the measured X-ray, ⁇ is the half-width of the diffraction peak, and ⁇ is the Bragg angle.
  • X-ray diffraction measurements of pigment derivatives can be performed using an X-ray diffractometer.
  • the X-ray diffractometer for example, PW1700 manufactured by PANalytical, which is a powder X-ray diffractometer with a focusing optical system using CuK ⁇ (CuK ⁇ 1 +CuK ⁇ 2 ) rays as an X-ray source, can be used.
  • the measurement conditions are set as, for example, a scanning range (2 ⁇ ) of 3 to 70°, a scan step width of 0.05°, a scanning speed of 3.0°/min, a divergent slit of 1°, a scattering slit of 1°, and a light receiving slit of 0.2 mm. I can do it.
  • the pigment derivative is preferably a particle of a compound having at least one structure selected from the group consisting of a pigment structure and a triazine structure and an acid group or a basic group.
  • the above dye structure consists of a diketopyrrolopyrrole structure, a pyrrolopyrrole structure, an azomethine structure, an isoindoline structure, a quinophthalone structure, an azo structure, an anthraquinone structure, a thiazine indigo structure, a quinacridone structure, a benzindole structure, a phthalocyanine structure, and a dioxazine structure. It is preferably at least one selected from the group, and more preferably a diketopyrrolopyrrole structure.
  • Examples of the acid group that the pigment derivative has include a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, an imide acid group, and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + , etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ , etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, Examples include phosphonium ions.
  • the imide acid group is preferably a group represented by -SO 2 NHSO 2 R X1 , -CONHSO 2 R X2 , -CONHCOR X3 or -SO 2 NHCOR , or -SO 2 NHCOR X4 is more preferred, and -SO 2 NHSO 2 R X1 or -CONHSO 2 R X2 is even more preferred.
  • R X1 to R X4 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl group and aryl group represented by R X1 to R X4 may have a substituent.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • R X1 to R X4 are each independently preferably an alkyl group containing a fluorine atom or an aryl group containing a fluorine atom, and more preferably an alkyl group containing a fluorine atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group containing a fluorine atom is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 3.
  • the number of carbon atoms in the aryl group containing a fluorine atom is preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12, and even more preferably 6.
  • Examples of the basic group that the pigment derivative has include an amino group, a pyridinyl group and its salts, an ammonium group salt, and a phthalimidomethyl group.
  • Examples of atoms or atomic groups constituting the salt include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • Examples of the amino group include a group represented by -NR x11 R x12 and a cyclic amino group.
  • R x11 and R x12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and preferably an alkyl group. That is, the amino group is preferably a dialkylamino group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, and even more preferably 1 to 3.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • cyclic amino group examples include a pyrrolidine group, a piperidine group, a piperazine group, and a morpholine group. These groups may further have a substituent.
  • the pigment derivative having a dye structure is preferably a compound represented by formula (B1).
  • P represents a dye structure
  • L represents a single bond or an n+1-valent linking group
  • X represents an acid group or basic group
  • m represents an integer of 1 or more
  • n represents 1 or more.
  • the plurality of L's and X's may be different from each other, and when n is 2 or more, the plurality of X's may be different from each other.
  • the dye structures represented by P in formula (B1) include a diketopyrrolopyrrole structure, a pyrrolopyrrole structure, an azomethine structure, an isoindoline structure, a quinophthalone structure, an azo structure, an anthraquinone structure, a thiazine indigo structure, a quinacridone structure, a benzoindole structure, A phthalocyanine structure or a dioxazine structure is preferable, and a diketopyrrolopyrrole structure is more preferable.
  • the n+1-valent linking group represented by L in formula (B1) is an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO- , -SO 2 -, -NR L -, -NR L CO-, -CONR L -, -NR L SO 2 -, -SO 2 NR L -, and combinations thereof.
  • R L represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.
  • the number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 20, more preferably 2 to 20, even more preferably 2 to 10, particularly preferably 2 to 5.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic. Furthermore, the cyclic aliphatic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic.
  • the aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 18 carbon atoms, more preferably 6 to 14 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a monocyclic or fused ring aromatic hydrocarbon group having 2 to 4 condensed rings.
  • the aromatic hydrocarbon group is preferably a benzene ring group.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed rings. The number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the heterocyclic group is preferably a triazine ring group.
  • the aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group and heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R L is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group represented by R L may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R L is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group represented by R L may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • Examples of the acid group and basic group represented by X in formula (B1) include the acid groups and basic groups described above.
  • n in formula (B1) is 1 or 2.
  • Examples of the pigment derivative having a triazine structure include a compound having a group represented by formula (A1).
  • * represents a bond
  • Ya 1 and Ya 2 each independently represent -N(Ra 1 )- or -O-
  • Ra 1 represents a hydrogen atom
  • an alkyl group an alkenyl group
  • an alkynyl group an aryl group
  • B 1 and B 2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Ya 1 and Ya 2 in formula (A1) each independently represent -N(Ra 1 )- or -O-, and preferably -N(Ra 1 )-.
  • Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Ra 1 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the alkenyl group represented by Ra 1 preferably has 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkenyl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the alkynyl group represented by Ra 1 is preferably 2 to 40, more preferably 2 to 30, particularly preferably 2 to 25.
  • the alkynyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkynyl group represented by Ra 1 may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by Ra 1 is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • B 1 and B 2 in formula (A1) each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • substituents include the substituent T described below, with alkyl groups, aryl groups, and heterocyclic groups being preferred, and aryl groups and heterocyclic groups being more preferred.
  • a preferred embodiment is one in which one of B 1 and B 2 is a heterocyclic group and the other is an aryl group.
  • the heterocyclic group is preferably a nitrogen-containing heterocyclic group, and more preferably a benzimidazolone group.
  • the pigment derivative having a triazine structure is preferably a compound represented by the following formula (b1). A 1 -L 1 -Z 1 ...(b1)
  • a 1 in formula (b1) represents a group represented by formula (A1) above.
  • L 1 in formula (b1) represents a single bond or a divalent linking group, and is preferably a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 1 includes an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -NR L1 -, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO- , -SO 2 NH-, -SO 2 - and combinations thereof.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, even more preferably 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the arylene group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 15.
  • the arylene group is a phenylene group.
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aryl group represented by R L1 are the same as the ranges described as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aryl group of Ra 1 .
  • the divalent linking group represented by L 1 is preferably a group represented by the following formula (L1). -L 1A -L 1B -L 1C - ...(L1)
  • L 1A and L 1C are each independently -O-, -NR L1 -, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, or , -SO 2 -
  • L 1B represents a single bond or a divalent linking group.
  • the divalent linking group represented by L 1B is an alkylene group, an arylene group, a single bond between an alkylene group and an arylene group, or -O-, -NR L1 -, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO -, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 - and combinations thereof, groups bonded together, alkylene groups or arylene groups -O-, -NR L1 -, -NHCO- , -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 -, and a group bonded through a group consisting of a combination thereof.
  • L 1 examples include groups having the following structure.
  • Z 1 in formula (b1) represents a group having an acid group or a basic group.
  • Examples of the acid group and basic group include the groups mentioned above.
  • Z 1 in formula (b1) is preferably a group represented by formula (Z1) or a group represented by formula (Z10).
  • Yz 1 represents -N(Ry 1 )- or -O-
  • Ry 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Lz 1 represents a divalent linking group
  • Rz 1 and Rz 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Rz 1 and Rz 2 may be bonded via a divalent group to form a ring
  • m represents an integer from 1 to 5.
  • * represents a bond
  • Lc 1 and Lc 2 each independently represent a single bond or a linking group
  • Rc 1 and Rc 2 each independently represent a substituent
  • Rc 1 and Rc 2 At least one of 2 represents an acid group or a basic group.
  • Yz 1 represents -N(Ry 1 )- or -O-, and preferably -N(Ry 1 )-.
  • Ry 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aryl group represented by Ry 1 are the same as the ranges described as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aryl group of Ra 1 .
  • the divalent linking group represented by Lz 1 includes an alkylene group, an arylene group, a heterocyclic group, -O-, -NR L1 -, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, - Examples include COO-, -CO-, -SO 2 NH-, -SO 2 -, and combinations thereof, with alkylene groups being preferred.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, even more preferably 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • Rz 1 and Rz 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group, preferably an alkyl group or an aryl group, and are an alkyl group. is more preferable.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, even more preferably 1 to 3, particularly preferably 1 or 2.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 10 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 2 to 5 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the alkynyl group is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 8, particularly preferably 2 to 5.
  • the alkynyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • Rz 1 and Rz 2 may be bonded via a divalent group to form a ring.
  • divalent groups include -CH 2 -, -O-, and -SO 2 -.
  • Specific examples of the ring formed by Rz 1 and Rz 2 via a divalent group include the following.
  • m represents an integer of 1 to 5, preferably 1 to 4, more preferably 1 to 3, even more preferably 2 or 3, and particularly preferably 2.
  • the group represented by formula (Z1) is preferably a group represented by formula (Z2) below.
  • * represents a bond
  • Yz 2 and Yz 3 each independently represent -N(Ry 2 )- or -O-
  • Ry 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group or an aryl group
  • Lz 2 and Lz 3 each independently represent a divalent linking group
  • Rz 3 to Rz 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group
  • Rz 3 and Rz 4 and Rz 5 and Rz 6 may be bonded to each other via a divalent group to form a ring.
  • Yz 2 and Yz 3 in formula (Z2) have the same meaning as Yz 1 in formula (Z1), and the preferred ranges are also the same.
  • Ry 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aryl group represented by Ry 2 are the same as the ranges described as the preferred ranges of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, and aryl group of Ra 1 .
  • Lz 2 and Lz 3 in formula (Z2) have the same meanings as Lz 1 in formula (Z1), and the preferred ranges are also the same.
  • Rz 3 to Rz 6 in formula (Z2) have the same meanings as Rz 1 and Rz 2 in formula (Z1), and their preferred ranges are also the same.
  • Lc 1 and Lc 2 each independently represent a single bond or a linking group, and preferably a divalent linking group.
  • the divalent linking group include an alkylene group, an arylene group, -O-, -NR L1 -, -NHCO-, -CONH-, -OCO-, -COO-, -CO-, -SO 2 NH-, - Includes SO 2 - and combinations thereof.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, even more preferably 1 to 8 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and particularly preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the arylene group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 15.
  • the arylene group is a phenylene group.
  • R L1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R L1 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group represented by R L1 may further have a substituent.
  • substituents include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R L1 is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group represented by R L1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • Rc 1 and Rc 2 each independently represent a substituent.
  • the substituent include an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a hydroxy group, an acid group, and a basic group.
  • at least one of Rc 1 and Rc 2 represents an acid group or a basic group.
  • At least one of Rc 1 and Rc 2 is preferably a basic group, and more preferably both Rc 1 and Rc 2 are basic groups.
  • the acid group and basic group include those mentioned above.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 15, even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the heterocyclic group may be a single ring or a condensed ring.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 4 condensed rings.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the alkyl group, aryl group, and heterocyclic group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the pigment derivative is preferably a compound represented by the formula (DPP).
  • DPP a compound represented by the formula (DPP).
  • R D1 and R D2 each independently represent a hydrogen atom or a substituent
  • a D1 and A D2 each independently represent a substituent
  • L D1 represents a single bond or an n+1-valent linking group
  • X D1 represents an acid group or a basic group
  • m represents an integer from 1 to 10
  • n represents an integer from 1 to 10
  • the plurality of L D1 and X D1 may be different from each other
  • n is 2 or more, the plurality of X D1 may be different from each other.
  • n+1-valent linking group represented by L D1 in formula (DPP) examples include the n+1-valent linking group represented by L in formula (B1), and the preferred ranges are also the same.
  • L D1 in formula (DPP) is preferably an n+1-valent linking group.
  • Examples of the acid group and basic group represented by X D1 in formula (DPP) include the acid group and basic group represented by X in formula (B1), and the preferred ranges are also the same.
  • R D1 and R D2 in formula (DPP) each independently represent a hydrogen atom or a substituent.
  • Substituents include alkyl groups and aryl groups.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • R D1 and R D2 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom.
  • a D1 and A D2 in formula (DPP) each independently represent a substituent.
  • Substituents include alkyl groups and aryl groups.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched, or cyclic, preferably linear or branched, and more preferably linear.
  • the alkyl group may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below.
  • the number of carbon atoms in the aryl group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 12.
  • the aryl group represented by Ra 1 may further have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described below. It is preferable that A D1 and A D2 are each independently an aryl group.
  • n in the formula (DPP) is 1 or 2.
  • substituent T examples include the following groups.
  • Halogen atom e.g. fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom
  • alkyl group preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms
  • alkenyl group preferably an alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • alkynyl group preferably an alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • an aryl group preferably an aryl group having 6 to 30 carbon atoms
  • a heteroaryl group preferably a heteroaryl group having 1 to 30 carbon atoms
  • an alkoxy group preferably (alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms)
  • aryloxy group preferably aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms
  • heteroaryloxy group preferably heteroaryloxy group having 1 to 30 carbon atoms
  • acyl group preferably is an acyl group having 2 to 30 carbon atoms
  • pigment derivatives include compounds described in the Examples described later, compounds described in JP-A-56-118462, compounds described in JP-A-63-264674, and JP-A-01-217077.
  • Compounds described in JP-A-03-009961, compounds described in JP-A-03-026767, compounds described in JP-A-03-153780, compounds described in JP-A-03-045662 Compounds described in JP-A-04-285669, compounds described in JP-A-06-145546, compounds described in JP-A-06-212088, compounds described in JP-A-06-240158 , compounds described in JP-A-10-030063, compounds described in JP-A-10-195326, compounds described in paragraph numbers 0086 to 0098 of WO 2011/024896, WO 2012/102399 Compounds described in paragraph numbers 0063 to 0094 of , compounds described in paragraph number 0082 of International Publication No.
  • the content of the pigment derivative is not particularly defined as long as the pigment can be stably dispersed, and the preferred range varies depending on the pigment, but the content is not sufficient to cover the surface of the pigment particles. In this case, the pigment particles may aggregate, resulting in insufficient stability over time and insufficient coarse particles. On the other hand, if there is too much pigment derivative, the pigment derivative may remain as particles and the development residue may deteriorate.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 70 parts by weight based on 100 parts by weight of the pigment.
  • the lower limit is preferably 2 parts by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, and even more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 60 parts by mass or less, more preferably 50 parts by mass or less, and even more preferably 40 parts by mass or less. Only one type of pigment derivative may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more types are used in combination, it is preferable that the total amount is within the above range.
  • the resin composition of the present invention contains a resin.
  • the resin is blended, for example, for use in dispersing pigments and the like in a resin composition or for use as a binder.
  • a resin used mainly for dispersing pigments is also referred to as a dispersant.
  • this use of the resin is just one example, and the resin can also be used for purposes other than this use.
  • the resin examples include (meth)acrylic resin, epoxy resin, (meth)acrylamide resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, and polyarylene.
  • examples include ether phosphine oxide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, and siloxane resin.
  • the resins include the resin described in the examples of International Publication No.
  • Polyisocyanate resin resin described in JP 2020-122052, resin described in JP 2020-111656, resin described in JP 2020-139021, JP 2017-138503 Resin containing a structural unit having a ring structure in the main chain and a structural unit having a biphenyl group in the side chain described in JP-A-2020-186373, resin described in paragraphs 0199 to 0233 of JP-A No. 2020-186325 Alkali-soluble resins described in the publication and resins represented by formula 1 described in Korean Patent Publication No. 10-2020-0078339 can also be used.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 5000 or more.
  • the resin it is preferable to use a resin having acid groups.
  • the acid group include a carboxy group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30 to 500 mgKOH/g.
  • the lower limit is more preferably 40 mgKOH/g or more, particularly preferably 50 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is more preferably 400 mgKOH/g or less, even more preferably 300 mgKOH/g or less, and particularly preferably 200 mgKOH/g or less.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin having acid groups is preferably 5,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 50,000. Further, the number average molecular weight (Mn) of the resin having acid groups is preferably 1,000 to 20,000.
  • the resin having an acid group preferably contains a repeating unit having an acid group in its side chain, and more preferably contains 5 to 70 mol% of repeating units having an acid group in its side chain based on the total repeating units of the resin.
  • the upper limit of the content of repeating units having acid groups in their side chains is preferably 50 mol% or less, more preferably 30 mol% or less.
  • the lower limit of the content of repeating units having acid groups in their side chains is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more.
  • a resin having a basic group can also be used.
  • the resin having a basic group is preferably a resin containing a repeating unit having a basic group in its side chain, and a resin having a repeating unit having a basic group in its side chain and a repeating unit not containing a basic group.
  • a polymer is more preferable, and a block copolymer having a repeating unit having a basic group in its side chain and a repeating unit not containing a basic group is even more preferable.
  • a resin having a basic group can also be used as a dispersant.
  • the amine value of the resin having a basic group is preferably 5 to 300 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH/g or more, more preferably 20 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 200 mgKOH/g or less, more preferably 100 mgKOH/g or less.
  • resins having basic groups include DISPERBYK-161, 162, 163, 164, 166, 167, 168, 174, 182, 183, 184, 185, 2000, 2001, 2050, 2150, 2163, 2164, BYK-LPN6919 (manufactured by BYK Chemie), Solsperse 11200, 13240, 13650, 13940, 24000, 26000, 28000, 32000, 32500, 32550, 32600, 33000, 34750, 35100, 35200, 37500, 3 8500, 39000, 53095, 56000, 7100 (all manufactured by Japan Lubrizol), Efka PX 4300, 4330, 4046, 4060, 4080 (all manufactured by BASF), and the like.
  • the resin having a basic group is the block copolymer (B) described in paragraph numbers 0063 to 0112 of JP2014-219665A, and the block copolymer (B) described in paragraphs 0046 to 0076 of JP2018-156021A. It is also possible to use block copolymer A1, a vinyl resin having a basic group described in paragraphs 0150 to 0153 of JP-A No. 2019-184763, the contents of which are incorporated herein.
  • the content of the resin having a basic group is preferably 20 to 500 parts by mass per 100 parts by mass of the resin having an acid group.
  • the amount is preferably 30 to 300 parts by weight, more preferably 50 to 200 parts by weight.
  • the resin is derived from a monomer component containing a compound represented by the following formula (ED1) and/or a compound represented by the following formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as "ether dimer”). It is also preferable to use a resin containing repeating units.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0 to 15.
  • the alkylene group represented by R 21 and R 22 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, even more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly 2 or 3 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by formula (X) include ethylene oxide- or propylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol.
  • Commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin it is also preferable to use a resin having a crosslinkable group.
  • the crosslinkable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups and cyclic ether groups.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a styrene group, a (meth)allyl group, and a (meth)acryloyl group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group, with an epoxy group being preferred.
  • the epoxy group may be a cycloaliphatic epoxy group. Note that the alicyclic epoxy group means a monovalent functional group having a cyclic structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed.
  • the resin it is also preferable to use a resin having an aromatic carboxy group (hereinafter also referred to as resin Ac).
  • the aromatic carboxy group may be included in the main chain of the repeating unit, or may be included in the side chain of the repeating unit.
  • the aromatic carboxy group is preferably contained in the main chain of the repeating unit.
  • an aromatic carboxy group refers to a group having a structure in which one or more carboxy groups are bonded to an aromatic ring.
  • the number of carboxy groups bonded to the aromatic ring is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2.
  • the resin Ac is preferably a resin containing at least one type of repeating unit selected from a repeating unit represented by formula (Ac-1) and a repeating unit represented by formula (Ac-2).
  • Ar 1 represents a group containing an aromatic carboxy group
  • L 1 represents -COO- or -CONH-
  • L 2 represents a divalent linking group
  • Ar 10 represents a group containing an aromatic carboxy group
  • L 11 represents -COO- or -CONH-
  • L 12 represents a trivalent linking group
  • P 10 represents a polymer Represents a chain.
  • Examples of the group containing an aromatic carboxy group represented by Ar 1 in formula (Ac-1) include a structure derived from an aromatic tricarboxylic acid anhydride, a structure derived from an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and the like.
  • Examples of the aromatic tricarboxylic anhydride and aromatic tetracarboxylic anhydride include compounds having the following structures.
  • Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, represented by the following formula (Q-1). or a group represented by the following formula (Q-2).
  • the aromatic carboxy group-containing group represented by Ar 1 may have a crosslinkable group.
  • the crosslinkable group is preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group and a cyclic ether group, and more preferably an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Specific examples of the group containing an aromatic carboxy group represented by Ar 1 include a group represented by formula (Ar-11), a group represented by formula (Ar-12), and a group represented by formula (Ar-13). Examples include groups such as
  • n1 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 2.
  • n2 represents an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and even more preferably 2.
  • n3 and n4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 1 or 2, and preferably 1. More preferred. However, at least one of n3 and n4 is an integer of 1 or more.
  • Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, the above formula (Q- Represents a group represented by 1) or a group represented by the above formula (Q-2).
  • *1 represents the bonding position with L 1 .
  • L 1 represents -COO- or -CONH-, and preferably represents -COO-.
  • the divalent linking group represented by L 2 includes an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S-, and these. Examples include groups combining two or more of the following.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic.
  • the number of carbon atoms in the arylene group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 10.
  • the alkylene group and arylene group may have a substituent.
  • the divalent linking group represented by L 2 is preferably a group represented by -L 2a -O-.
  • L 2a is an alkylene group; an arylene group; a group combining an alkylene group and an arylene group; at least one selected from an alkylene group and an arylene group, and -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, Examples include a group combining at least one selected from -NH- and -S-, and an alkylene group is preferred.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and still more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched, or cyclic.
  • the alkylene group and arylene group may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group.
  • the aromatic carboxy group-containing group represented by Ar 10 in formula (Ac-2) has the same meaning as Ar 1 in formula (Ac-1), and the preferred range is also the same.
  • L 11 represents -COO- or -CONH-, preferably -COO-.
  • the trivalent linking group represented by L 12 in formula (Ac-2) includes a hydrocarbon group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S-, and these two groups. Examples include groups that combine more than one species.
  • Examples of the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group. The number of carbon atoms in the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and even more preferably 1 to 15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched, or cyclic.
  • the aromatic hydrocarbon group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group.
  • the trivalent linking group represented by L 12 is preferably a group represented by formula (L12-1), more preferably a group represented by formula
  • L 12b represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • *1 represents the bonding position with L 11 of formula (Ac-2)
  • *2 represents the bonding position of formula (Ac-2). It represents the bonding position of Ac-2) with P10 .
  • the trivalent linking group represented by L 12b is a hydrocarbon group; a hydrocarbon group, and at least one kind selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and -S-.
  • a hydrocarbon group or a group consisting of a hydrocarbon group and -O- is preferable.
  • L 12c represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • *1 represents the bonding position with L 11 of formula (Ac-2)
  • *2 represents formula ( It represents the bonding position of Ac-2) with P10 .
  • the trivalent linking group represented by L 12c is a hydrocarbon group; a hydrocarbon group and at least one kind selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S-.
  • a hydrocarbon group is preferable.
  • P 10 represents a polymer chain.
  • the polymer chain represented by P 10 preferably has at least one structure selected from a polyester structure, a polyether structure, a polystyrene structure, and a poly(meth)acrylic structure.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain P 10 is preferably 500 to 20,000.
  • the lower limit is preferably 1000 or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less. If the weight average molecular weight of P 10 is within the above range, the pigment will have good dispersibility in the composition.
  • the resin having an aromatic carboxyl group is a resin having a repeating unit represented by formula (Ac-2), this resin is preferably used as a dispersant.
  • the polymer chain represented by P 10 may contain a crosslinkable group.
  • the crosslinkable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups and cyclic ether groups.
  • At least one type of resin selected from graft polymers, star polymers, block copolymers, and resins in which at least one end of a polymer chain is capped with an acid group.
  • Such resins are preferably used as dispersants.
  • Examples of the graft polymer include a resin having a repeating unit having a graft chain and a resin having a repeating unit represented by the above-mentioned formula (Ac-2).
  • Examples of the graft chain include a graft chain containing at least one structure selected from a polyester structure, a polyether structure, a polystyrene structure, and a poly(meth)acrylic structure.
  • the terminal structure of the graft chain is not particularly limited. It may be a hydrogen atom or a substituent. Examples of the substituent include an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthioether group, and the like.
  • alkyl groups or alkoxy groups having 5 to 30 carbon atoms are preferred.
  • the alkyl group and the alkoxy group may be linear, branched, or cyclic, and preferably linear or branched.
  • graft polymers include paragraph numbers 0025 to 0094 of JP2012-255128A, paragraphs 0022 to 0097 of JP2009-203462A, and paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A. Mention may be made of the resins mentioned.
  • star-shaped polymers include resins with a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to a core portion.
  • Specific examples of star-shaped polymers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraph numbers 0196 to 0209 of JP-A No. 2013-043962.
  • the block copolymers include a polymer block having a repeating unit containing an acid group or a basic group (hereinafter also referred to as block A), and a polymer block having a repeating unit not containing an acid group or a basic group. (hereinafter also referred to as block B) is preferably a block copolymer.
  • the block copolymers include block copolymers (B) described in paragraph numbers 0063 to 0112 of JP2014-219665A, and blocks described in paragraph numbers 0046 to 0076 of JP2018-156021A. Copolymers A1 can also be used, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin in which at least one end of the polymer chain is capped with an acid group is a resin in which at least one end of the polymer chain contains at least one type of structure selected from a polyester structure, a polyether structure, and a poly(meth)acrylic structure.
  • examples include resins with a structure sealed with acid groups.
  • acid groups that block the ends of polymer chains include carboxy groups, sulfo groups, and phosphoric acid groups.
  • the dispersant include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) refers to a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a resin in which the amount of acid groups is 70 mol % or more when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the acid group that the acidic dispersant (acidic resin) has is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10 to 105 mgKOH/g.
  • the basic dispersant refers to a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • the basic dispersant (basic resin) is preferably a resin in which the amount of basic groups exceeds 50 mol% when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol%.
  • the basic group that the basic dispersant has is preferably an amino group.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples include the Disperbyk series manufactured by Byk Chemie (for example, Disperbyk-111, 161, 2001, etc.), Solsperse manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd. series (for example, Solsperse 20000, 76500, etc.), Ajisper series manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co., Ltd., A208F (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), H-3606 (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Sandet Examples include ET (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.). Further, the product described in paragraph number 0129 of JP 2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP 2017-194662A can also be used as a dispersant.
  • Disperbyk series manufactured by Byk Chemie for example, Disperbyk-111, 161, 2001, etc.
  • the content of the resin in the total solid content of the resin composition is preferably 1 to 80% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, even more preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less.
  • the content of the resin having acid groups in the total solid content of the resin composition is preferably 1 to 80% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, even more preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 10 to 150 parts by weight per 100 parts by weight of the pigment.
  • the lower limit is preferably 15 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 100 parts by mass or less, more preferably 80 parts by mass or less.
  • the resin composition of the present invention contains a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the type of solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the coatability of the composition.
  • the organic solvent include ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, and hydrocarbon solvents.
  • paragraph number 0223 of International Publication No. 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Ester solvents substituted with a cyclic alkyl group and ketone solvents substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbyl Tall acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-di
  • aromatic hydrocarbons benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.
  • organic solvents for environmental reasons (for example, 50 mass ppm (parts) based on the total amount of organic solvents). per million), 10 mass ppm or less, and 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and it is preferable that the metal content of the organic solvent is, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, an organic solvent at a mass ppt (parts per trillion) level may be used, and such an organic solvent is provided by Toyo Gosei Co., Ltd. (Kagaku Kogyo Nippo, November 13, 2015). .
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene, or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one type of isomer may be included, or multiple types may be included.
  • the content of peroxide in the organic solvent is 0.8 mmol/L or less, and it is more preferable that the organic solvent contains substantially no peroxide.
  • the content of the solvent in the resin composition is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and even more preferably 30 to 90% by mass.
  • the resin composition of the present invention does not substantially contain environmentally regulated substances.
  • "not substantially containing environmentally controlled substances” means that the content of environmentally controlled substances in the resin composition is 50 mass ppm or less, preferably 30 mass ppm or less. , more preferably 10 mass ppm or less, particularly preferably 1 mass ppm or less.
  • environmentally controlled substances include benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; and halogenated benzenes such as chlorobenzene.
  • REACH Registration Evaluation Authorization and Restriction of CHemicals
  • PRTR Policy Release and It is registered as an environmentally regulated substance under the Transfer Register Act
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • methods for reducing environmentally controlled substances include a method of heating or reducing pressure in the system to raise the temperature above the boiling point of the environmentally controlled substance to distill off the environmentally controlled substances from the system.
  • distillation methods can be used at the stage of raw materials, at the stage of products obtained by reacting raw materials (for example, resin solution or polyfunctional monomer solution after polymerization), or at the stage of resin compositions prepared by mixing these compounds. This is possible at any stage.
  • the resin composition of the present invention contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound include compounds having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a (meth)allyl group, a (meth)acryloyl group, and the like.
  • the polymerizable compound is preferably a radically polymerizable compound.
  • the polymerizable compound may be in any chemical form such as a monomer, prepolymer, or oligomer, but monomers are preferred.
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100 to 2,500.
  • the upper limit is preferably 2000 or less, more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is preferably 150 or more, more preferably 250 or more.
  • the polymerizable compound is preferably a compound containing three or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, and more preferably a compound containing four or more ethylenically unsaturated bond-containing groups.
  • the upper limit of the ethylenically unsaturated bond-containing groups is preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 6 or less from the viewpoint of storage stability of the resin composition.
  • the polymerizable compound is preferably a trifunctional or more functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3-15 functional (meth)acrylate compound, and a 3-10 functional (meth)acrylate compound. are more preferred, and tri- to hexa-functional (meth)acrylate compounds are particularly preferred.
  • polymerizable compounds include paragraph numbers 0095 to 0108 of JP 2009-288705, paragraph 0227 of JP 2013-029760, paragraph 0254 to 0257 of JP 2008-292970, and The compounds described in paragraph numbers 0034 to 0038 of JP 2013-253224, paragraph 0477 of JP 2012-208494, JP 2017-048367, JP 6057891, and JP 6031807 are , the contents of which are incorporated herein.
  • polymerizable compounds examples include dipentaerythritol tri(meth)acrylate (commercially available product: KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetra(meth)acrylate (commercially available product: KAYARAD D-320) ; made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol penta(meth)acrylate (as a commercial product KAYARAD D-310; made by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol hexa(meth)acrylate (as a commercial product KAYARAD DPHA; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., NK ester A-DPH-12E; manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), diglycerin EO (ethylene oxide) modified (meth)acrylate (commercially available: M-460; Toa) Synthetic), pentaery
  • Polymerizable compounds include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri(meth)acrylate, and pentaerythritol.
  • Trifunctional (meth)acrylate compounds such as tri(meth)acrylate can also be used.
  • Commercially available trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, M-305.
  • M-303, M-452, M-450 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester A9300, A-GLY-9E, A-GLY-20E, A-TMM-3, A-TMM-3L, A -TMM-3LM-N, A-TMPT, TMPT (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), KAYARAD GPO-303, TMPTA, THE-330, TPA-330, PET-30 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Examples include.
  • a compound having an acid group such as a carboxy group, a sulfo group, or a phosphoric acid group can also be used.
  • Commercially available products of such compounds include Aronix M-305, M-510, M-520, Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and the like.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used.
  • the description in paragraphs 0042 to 0045 of JP-A No. 2013-253224 can be referred to, the contents of which are incorporated herein.
  • Examples of compounds having a caprolactone structure include DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120, which are commercially available from Nippon Kayaku Co., Ltd. as the KAYARAD DPCA series.
  • a polymerizable compound having an alkyleneoxy group can also be used.
  • the polymerizable compound having an alkyleneoxy group is preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and/or a propyleneoxy group, more preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group, and a polymerizable compound having 4 to 20 ethyleneoxy groups. More preferred are hexafunctional (meth)acrylate compounds.
  • Commercially available polymerizable compounds having an alkyleneoxy group include, for example, SR-494, a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer Co., Ltd., and isobutyleneoxy group manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Examples include KAYARAD TPA-330, which is a trifunctional (meth)acrylate having three.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used.
  • Commercially available products include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., (meth)acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the polymerizable compound it is also preferable to use a compound that does not substantially contain environmentally controlled substances such as toluene.
  • environmentally controlled substances such as toluene.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT, KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), and the like.
  • Examples of the polymerizable compound include urethane acrylates as described in Japanese Patent Publication No. 48-041708, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-037193, Japanese Patent Publication No. 02-032293, and Japanese Patent Publication No. 02-016765; Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in Japanese Patent Publication No. 58-049860, Japanese Patent Publication No. 56-017654, Japanese Patent Publication No. 62-039417, and Japanese Patent Publication No. 62-039418 are also suitable.
  • polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-01-105238.
  • the polymerizable compounds include UA-7200 (manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), DPHA-40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, Commercially available products such as T-600, AI-600, LINC-202UA (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) can also be used.
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the resin composition is preferably 1 to 35% by mass.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, even more preferably 20% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, more preferably 5% by mass or more.
  • the resin composition of the present invention may contain only one kind of polymerizable compound, or may contain two or more kinds of polymerizable compounds. When two or more types of polymerizable compounds are included, it is preferable that the total amount thereof falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention contains a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet to visible range are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a radical photopolymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds with a triazine skeleton, compounds with an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds with a triazine skeleton, compounds with an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyl dimethyl ketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, and hexaarylbylene compounds.
  • imidazole compounds onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones
  • the compound is more preferably a compound selected from a compound, an ⁇ -aminoketone compound, and an acylphosphine compound, and even more preferably an oxime compound.
  • photopolymerization initiators compounds described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173, compounds described in Japanese Patent No. 6301489, MATERIAL STAGE 37 to 60p, vol. 19, No.
  • hexaarylbiimidazole compounds include 2,2',4-tris(2-chlorophenyl)-5-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5-diphenyl-1,1'-biimidazole, etc. can be mentioned.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, and Irgacure 1. 173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (all BASF (manufactured by a company).
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, and Irgacure.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819, Irgacure TPO (manufactured by BASF), and the like.
  • Examples of oxime compounds include the compounds described in JP-A No. 2001-233842, the compounds described in JP-A No. 2000-080068, the compounds described in JP-A No. 2006-342166, and the compounds described in J. C. S. Perkin II (1979, pp. 1653-1660); C. S. Perkin II (1979, pp. 156-162), Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), JP-A-2000 - Compounds described in Publication No. 066385, Compounds described in Japanese Patent Publication No. 2004-534797, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2006-342166, compounds described in Japanese Patent Application Publication No. 2017-019766, compounds described in Japanese Patent No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutan-2-one, 3-acetoxyiminobutan-2-one, 3-propionyloxyiminobutan-2-one, 2-acetoxyiminopentan-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino -1-phenylpropan-1-one, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-3-cyclohexyl-propane-1,2-dione-2-(O-acetyloxime), and the like.
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used.
  • oxime compounds having a fluorene ring include compounds described in JP-A No. 2014-137466, compounds described in Japanese Patent No. 6636081, compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444, Examples include fluorenylaminoketone photoinitiators described in Japanese Patent Publication No. 2020-507664 and oxime ester compounds described in International Publication No. 2021/023144.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring is also possible.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as a photopolymerization initiator.
  • oxime compounds having a fluorine atom include compounds described in JP-A No. 2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in Japanese Patent Application Publication No. 2014-500852, and compounds described in JP-A No. 2013-164471. Examples include compound (C-3).
  • an oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator. It is also preferable that the oxime compound having a nitro group is in the form of a dimer.
  • Specific examples of oxime compounds having a nitro group include compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP 2013-114249, paragraphs 0008 to 0012, and 0070 to 0079 of JP 2014-137466, Examples include compounds described in paragraph numbers 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071, and Adeka Arcles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation).
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • photopolymerization initiator it is also possible to use an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to a carbazole skeleton.
  • photopolymerization initiators include compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in a wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or 405 nm is preferably high, more preferably from 1000 to 300,000, even more preferably from 2000 to 300,000, and even more preferably from 5000 to 200,000. It is particularly preferable that there be.
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using a known method. For example, it is preferable to measure with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian) using an ethyl acetate solvent at a concentration of 0.01 g/L.
  • the photopolymerization initiator it is also preferable to use a combination of Irgacure OXE01 (manufactured by BASF) and/or Irgacure OXE02 (manufactured by BASF) and Omnirad 2959 (manufactured by IGM Resins B.V.).
  • a difunctional, trifunctional or more functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so that good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity decreases and the solubility in solvents improves, making it difficult to precipitate over time, thereby improving the stability of the resin composition over time.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or more functional photoradical polymerization initiators include those listed in Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 20% by mass or less, more preferably 15% by mass or less.
  • the resin composition of the present invention may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types of photopolymerization initiators. When two or more types of photopolymerization initiators are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter also referred to as an epoxy compound).
  • the epoxy compound include compounds having one or more epoxy groups in one molecule, and preferably compounds having two or more epoxy groups.
  • the epoxy compound is preferably a compound having 1 to 100 epoxy groups in one molecule.
  • the upper limit of the number of epoxy groups contained in the epoxy compound can be, for example, 10 or less, or 5 or less.
  • the lower limit of the epoxy groups contained in the epoxy compound is preferably two or more.
  • epoxy compounds include those described in paragraph numbers 0034 to 0036 of JP2013-011869, paragraphs 0147 to 0156 of JP2014-043556, and paragraphs 0085 to 0092 of JP2014-089408.
  • Compounds described in JP-A No. 2017-179172 can also be used. Their contents are incorporated herein.
  • the epoxy compound may be a low-molecular compound (for example, molecular weight less than 2000, or even less than 1000), or a macromolecule (for example, molecular weight 1000 or more; in the case of a polymer, the weight average molecular weight is 1000 or more). But that's fine.
  • the weight average molecular weight of the compound having an epoxy group is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is more preferably 10,000 or less, particularly preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • EHPE3150 manufactured by Daicel Corporation
  • EPICLON N-695 manufactured by DIC Corporation
  • Marproof G-0150M G-0105SA, G-0130SP, and G-0130SP.
  • -0250SP G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (all of which are epoxy group-containing polymers manufactured by NOF Corporation).
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the resin composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is, for example, more preferably 0.5% by mass or more, and even more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is, for example, more preferably 15% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or less. Only one kind of compound having a cyclic ether group may be used, or two or more kinds thereof may be used. When two or more types are used, it is preferable that their total amount falls within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a curing accelerator.
  • the curing accelerator include thiol compounds, methylol compounds, amine compounds, phosphonium salt compounds, amidine salt compounds, amide compounds, base generators, isocyanate compounds, alkoxysilane compounds, onium salt compounds, and the like.
  • Specific examples of the curing accelerator include compounds described in paragraph numbers 0094 to 0097 of International Publication No. 2018/056189, compounds described in paragraph numbers 0246 to 0253 of JP 2015-034963, and JP 2013-041165. Compounds described in paragraph numbers 0186 to 0251 of JP-A No.
  • the content of the curing accelerator in the total solid content of the resin composition is preferably 0.3 to 8.9% by mass, more preferably 0.8 to 6.4% by mass.
  • the resin composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • the ultraviolet absorber include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, triazine compounds, dibenzoyl compounds, and the like. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP-A No. 2009-217221, paragraph numbers 0052 to 0072 of JP-A No. 2012-208374, and paragraph numbers 0317 to 0317 of JP-A No. 2013-068814.
  • UV absorbers include compounds having the following structures.
  • Examples of commercially available UV absorbers include UV-503 (manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.), Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF, and Sumisorb series manufactured by Sumika Chemtex Co., Ltd. .
  • examples of the benzotriazole compound include the MYUA series manufactured by Miyoshi Yushi (Kagaku Kogyo Nippo, February 1, 2016).
  • the ultraviolet absorbers include compounds described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Patent No. 6268967, compounds described in paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No. 2016/181987, and compounds described in International Publication No. 2020/137819. It is also possible to use the thioaryl group-substituted benzotriazole type ultraviolet absorber described in , and the reactive triazine ultraviolet absorber described in JP-A No. 2021-178918.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the resin composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain only one type of ultraviolet absorber, or may contain two or more types of ultraviolet absorbers. When two or more types of ultraviolet absorbers are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), Examples include 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.). Among them, p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the resin composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain only one kind of polymerization inhibitor, or may contain two or more kinds of polymerization inhibitors. When two or more types of polymerization inhibitors are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and can form a siloxane bond through at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction. Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, and an alkoxy group is preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of functional groups other than hydrolyzable groups include vinyl groups, (meth)allyl groups, (meth)acryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, oxetanyl groups, amino groups, ureido groups, sulfide groups, and isocyanate groups. , phenyl group, etc., and amino group, (meth)acryloyl group and epoxy group are preferable.
  • silane coupling agents include N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-602), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -amino Propyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-603), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBE-602), ⁇ -Aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-903), ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-
  • silane coupling agent examples include compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A No. 2009-288703 and compounds described in paragraph numbers 0056 to 0066 of JP-A-2009-242604. , the contents of which are incorporated herein.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the resin composition is preferably 0.01 to 15% by mass, more preferably 0.05 to 10% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types of silane coupling agents. When two or more types of silane coupling agents are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorine surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants, and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone surfactant or a fluorine surfactant.
  • fluorine-based surfactants examples include surfactants described in paragraph numbers 0060 to 0064 of JP 2014-041318 (corresponding paragraph numbers 0060 to 0064 of WO 2014/017669), and the like; Examples include the surfactants described in paragraph numbers 0117 to 0132 of Publication No. 132503 and the surfactants described in JP-A-2020-008634, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, F-144.
  • Fluorine-based surfactants include acrylic compounds that have a molecular structure with a functional group containing a fluorine atom, and when heated, the functional group containing a fluorine atom is severed and the fluorine atom volatizes. Can be used.
  • fluorine-based surfactants include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Kagaku Kogyo Nippo (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)); Fuck DS-21 is an example.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • fluorine-based surfactants include the fluorine-based surfactants described in JP-A No. 2016-216602, the content of which is incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and two or more (preferably five or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy group, propyleneoxy group) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraph numbers 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-containing surfactant used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3,000 to 50,000, for example 14,000. In the above compounds, % indicating the proportion of repeating units is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain can also be used.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A No. 2010-164965, Megafac RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation, Examples include RS-72-K.
  • compounds described in paragraph numbers 0015 to 0158 of JP-A No. 2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is also preferable to use as a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a+ represents an a-valent metal ion, a primary ammonium ion
  • a Re represents a secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH 4 + .
  • nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Japan Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fujifilm Wa
  • silicone surfactants examples include DOWSIL SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), and TS.
  • F-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) , BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-333, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK Chemie), and the like.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the resin composition is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, more preferably 0.005% to 3.0% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types of surfactant. When two or more types of surfactants are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention can contain an antioxidant.
  • the antioxidant include phenolic antioxidants, amine antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, and the like.
  • phenolic antioxidants include hindered phenol compounds.
  • the phenolic antioxidant is preferably a compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position).
  • the above-mentioned substituents are preferably substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 22 carbon atoms.
  • a compound having a phenol group and a phosphorous acid ester group in the same molecule is also preferable.
  • phosphorus-based antioxidants can also be suitably used.
  • antioxidants include, for example, Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • antioxidants include compounds described in paragraph numbers 0023 to 0048 of Patent No. 6268967, compounds described in International Publication No. 2017/006600, compounds described in International Publication No. 2017/164024, Compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2019-0059371 can also be used.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the resin composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • the resin composition of the present invention may contain only one type of antioxidant, or may contain two or more types of antioxidant. When two or more types of antioxidants are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the resin composition of the present invention may contain sensitizers, curing accelerators, fillers, thermosetting accelerators, plasticizers, and other auxiliary agents (e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, (leveling agents, peeling accelerators, fragrances, surface tension regulators, chain transfer agents, etc.) may also be included.
  • auxiliary agents e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants, (leveling agents, peeling accelerators, fragrances, surface tension regulators, chain transfer agents, etc.
  • the resin composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • a latent antioxidant is a compound whose moiety that functions as an antioxidant is protected with a protecting group, and is heated at 100 to 250°C or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst. Examples include compounds that function as antioxidants by removing protective groups. Examples of the latent antioxidant include compounds described in WO 2014/021023, WO 2017/030005, and JP 2017-008219. Commercially available latent antioxidants include Adeka Arcles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the resin composition of the present invention may also contain a light resistance improver.
  • a light resistance improver compounds described in paragraph numbers 0036 to 0037 of JP 2017-198787, compounds described in paragraph numbers 0029 to 0034 of JP 2017-146350, JP 2017-129774, Compounds described in paragraph numbers 0036 to 0037, 0049 to 0052 of JP 2017-129674, compounds described in paragraph numbers 0031 to 0034, 0058 to 0059 of JP 2017-122803, paragraph numbers 0036 to 0037 of JP 2017-122803. , compounds described in paragraph numbers 0025 to 0039 of International Publication No.
  • the resin composition of the present invention is substantially free of terephthalic acid ester.
  • substantially not containing means that the content of terephthalic acid ester is 1000 mass ppb or less in the total amount of the resin composition, more preferably 100 mass ppb or less, Particularly preferred is zero.
  • perfluoroalkyl sulfonic acids and their salts may be regulated.
  • perfluoroalkylsulfonic acids particularly perfluoroalkylsulfonic acids whose perfluoroalkyl group has 6 to 8 carbon atoms
  • salts thereof and perfluoroalkylsulfonic acids
  • the content of fluoroalkylcarboxylic acid (particularly perfluoroalkylcarboxylic acid whose perfluoroalkyl group has 6 to 8 carbon atoms) and its salt is 0.01 ppb to 1,000 ppb based on the total solid content of the resin composition.
  • the resin composition of the present invention may be substantially free of perfluoroalkylsulfonic acid and its salt, and perfluoroalkylcarboxylic acid and its salt.
  • a compound that can be substituted for perfluoroalkylsulfonic acid and its salt and a compound that can be substituted for perfluoroalkylcarboxylic acid and its salt, perfluoroalkylsulfonic acid and its salt, and perfluoroalkylcarboxylic acid
  • Compounds that can be substituted for regulated compounds include, for example, compounds that are excluded from regulated targets due to differences in the number of carbon atoms in perfluoroalkyl groups.
  • the resin composition of the present invention may contain perfluoroalkyl sulfonic acids and salts thereof, and perfluoroalkyl carboxylic acids and salts thereof, within the maximum allowable range.
  • the container for storing the resin composition is not particularly limited, and any known container can be used.
  • any known container can be used.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass, stainless steel, etc. for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, increasing stability of the resin composition over time, and suppressing component deterioration.
  • the method for producing a resin composition of the present invention is characterized by including a step of dispersing a pigment, a pigment derivative having a crystallite size of 1 to 50 nm, and a resin in a solvent.
  • the solvent, pigment, and resin examples include the solvents, pigments, and resins described above as being included in the resin composition.
  • the resin includes a resin as a dispersant.
  • the preferable chemical structure of the pigment derivative is the same as that explained in the section of the pigment derivative contained in the resin composition mentioned above.
  • the crystallite size of the pigment derivative is 1 to 50 nm.
  • the lower limit of the crystallite size is preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more.
  • the upper limit of the crystallite size is preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less.
  • crystallite size of the pigment derivative is within the above range, a resin composition with excellent pigment dispersion stability can be produced.
  • the method for producing a resin composition of the present invention includes producing a dispersion in the above step (dispersing a pigment, a pigment derivative having a crystallite size of 1 to 50 nm, and a resin in a solvent), and then dispersing the resin composition.
  • the method may further include a step of mixing the obtained dispersion with other materials such as a polymerizable compound, a photopolymerization initiator, a resin, and a solvent.
  • Other materials can be selected as appropriate depending on the use of the resin composition. For example, when producing a resin composition for photolithography, it is preferable to select a material containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator as other materials.
  • the materials described in the section of the resin composition described above such as resins, solvents, surfactants, silane coupling agents, polymerization inhibitors, and ultraviolet absorbers, may be added.
  • any filter that has been conventionally used for filtration and the like can be used without particular limitation.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE) and polyvinylidene fluoride (PVDF)
  • polyamide resins such as nylon (for example, nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP).
  • filters using materials such as (including high-density, ultra-high molecular weight polyolefin resin). Among these materials, polypropylene (including high-density polypropylene) and nylon are preferred.
  • the pore diameter of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the pore size value of the filter reference can be made to the nominal value of the filter manufacturer.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.
  • Advantech Toyo Co., Ltd., Nippon Entegris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), Kitz Microfilter Co., Ltd., etc. can be used. .
  • fibrous filter media include polypropylene fibers, nylon fibers, and glass fibers.
  • Commercially available products include the SBP type series (SBP008, etc.), the TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and the SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Loki Techno.
  • filters When using filters, different filters (for example, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. At that time, filtration with each filter may be performed only once, or may be performed two or more times. Further, filters having different pore diameters within the above-mentioned range may be combined. Alternatively, only the dispersion liquid may be filtered with the first filter, and then filtered with the second filter after other components are mixed.
  • filters for example, a first filter and a second filter, etc.
  • the pigment derivative of the present invention is a pigment derivative that is a particle of a compound having at least one structure selected from the group consisting of a pigment structure and a triazine structure and an acid group or a basic group, and has a crystallite size of 1. It is characterized by having a wavelength of ⁇ 50 nm.
  • the lower limit of the crystallite size of the pigment derivative is preferably 1 nm or more, more preferably 2 nm or more.
  • the upper limit of the crystallite size of the pigment derivative is preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less.
  • Preferred embodiments of the chemical structure of the pigment derivative are the same as those explained in the section of the pigment derivative contained in the resin composition described above.
  • the pigment derivative of the present invention is preferably a dispersion aid.
  • the film of the present invention is a film obtained from the resin composition of the present invention described above.
  • the film thickness of the film of the present invention can be adjusted as appropriate depending on the purpose.
  • the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention can be used for color filters, near-infrared transmission filters, near-infrared cut filters, black matrices, light-shielding films, and the like.
  • the film of the present invention can be preferably used as a colored pixel of a color filter. Examples of colored pixels include red pixels, green pixels, blue pixels, magenta pixels, cyan pixels, and yellow pixels.
  • the maximum absorption wavelength of the film of the present invention is preferably in the wavelength range of 700 to 1800 nm, more preferably in the wavelength range of 700 to 1400 nm, More preferably, the wavelength range is from 700 to 1200 nm.
  • the transmittance of the film over the entire wavelength range of 400 to 650 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more, and even more preferably 90% or more.
  • the transmittance of the film at at least one point in the wavelength range of 700 to 1800 nm is preferably 20% or less.
  • the ratio of absorbance Amax at the maximum absorption wavelength to absorbance A550 at a wavelength of 550 nm is preferably 20 to 500, more preferably 50 to 500, and 70 to 450. It is more preferably 100 to 400, particularly preferably 100 to 400.
  • the film of the present invention preferably has any of the following spectral properties (i1) to (i5).
  • a film having such spectral characteristics can block light in a wavelength range of 400 to 640 nm and transmit light with a wavelength exceeding 750 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 900 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 750 nm and transmit light with a wavelength exceeding 850 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1000 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 830 nm and transmit light with a wavelength exceeding 950 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1100 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in a wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light with a wavelength exceeding 1050 nm.
  • the maximum value of transmittance in the wavelength range of 400 to 1050 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of transmittance in the wavelength range of 1200 to 1500 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 1050 nm and transmit light with a wavelength exceeding 1150 nm.
  • the film of the present invention can be manufactured through a step of applying the resin composition of the present invention.
  • the film manufacturing method preferably further includes a step of forming a pattern (pixel). Examples of methods for forming patterns (pixels) include photolithography and dry etching, with photolithography being preferred.
  • Pattern formation by the photolithography method includes a step of forming a resin composition layer on a support using the resin composition of the present invention, a step of exposing the resin composition layer to light in a pattern, and a step of exposing the resin composition layer to light. It is preferable to include a step of developing and removing the exposed portion to form a pattern (pixel). If necessary, a step of baking the resin composition layer (pre-bake step) and a step of baking the developed pattern (pixel) (post-bake step) may be provided.
  • a resin composition layer is formed on a support using the resin composition of the present invention.
  • the support is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application.
  • a glass substrate, a silicon substrate, etc. may be mentioned, and a silicon substrate is preferable.
  • a charge coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, etc. may be formed on the silicon substrate.
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a black matrix that isolates each pixel may be formed on the silicon substrate.
  • the silicon substrate may be provided with a base layer for improving adhesion with the upper layer, preventing substance diffusion, or flattening the substrate surface.
  • the surface contact angle of the underlayer is preferably 20 to 70° when measured with diiodomethane. Further, it is preferable that the angle is 30 to 80° when measured with water.
  • a known method can be used as a method for applying the resin composition.
  • dropping method drop casting
  • slit coating method spray method; roll coating method; spin coating method; casting coating method; slit and spin method;
  • inkjet for example, on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection printing such as nozzle jet, flexo printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • Examples include various printing methods; transfer method using a mold, etc.; nanoimprint method, etc.
  • the application method for inkjet is not particularly limited, and for example, the method shown in "Expanding and Usable Inkjet - Infinite Possibilities Seen in Patents," Published February 2005, Sumibe Techno Research (especially from page 115). 133 pages), and methods described in JP-A No. 2003-262716, JP-A No. 2003-185831, JP-A No. 2003-261827, JP-A No. 2012-126830, JP-A No. 2006-169325, etc. Can be mentioned. Furthermore, regarding the method of applying the resin composition, the descriptions in International Publication No. 2017/030174 and International Publication No. 2017/018419 can be referred to, and the contents of these are incorporated herein.
  • the resin composition layer formed on the support may be dried (prebaked). If the film is manufactured by a low-temperature process, prebaking may not be performed.
  • the prebaking temperature is preferably 150°C or lower, more preferably 120°C or lower, and even more preferably 110°C or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50°C or higher, or 80°C or higher.
  • the prebake time is preferably 10 to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, even more preferably 80 to 220 seconds. Prebaking can be performed on a hot plate, oven, or the like.
  • the resin composition layer is exposed in a pattern (exposure step).
  • the resin composition layer can be exposed in a pattern by exposing the resin composition layer to light through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. This allows the exposed portion to be cured.
  • Radiation (light) that can be used during exposure includes g-line, i-line, etc. Furthermore, light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of light with a wavelength of 300 nm or less include KrF rays (wavelength 248 nm), ArF rays (wavelength 193 nm), and KrF rays (wavelength 248 nm). Furthermore, a long-wave light source of 300 nm or more can also be used. As a light source, an electrodeless ultraviolet lamp system, a hybrid ultraviolet and infrared curing can be used.
  • pulse exposure is an exposure method in which exposure is performed by repeating light irradiation and pauses in short cycles (for example, on the millisecond level or less).
  • the irradiation amount is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration during exposure can be appropriately selected, and in addition to being carried out in the atmosphere, for example, exposure may be carried out in a low-oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially
  • the exposure may be carried out in an oxygen-free environment (without oxygen), or in a high oxygen atmosphere with an oxygen concentration of more than 21 vol% (for example, 22 vol%, 30 vol%, or 50 vol%).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000W/m 2 to 100000W/m 2 (for example, 5000W/m 2 , 15000W/m 2 , or 35000W/m 2 ). Can be done.
  • the oxygen concentration and the exposure illuminance may be appropriately combined.
  • the illumination intensity may be 10,000 W/m 2 at an oxygen concentration of 10% by volume, or 20,000 W/m 2 at an oxygen concentration of 35% by volume.
  • the unexposed areas of the resin composition layer are developed and removed to form a pattern (pixel).
  • the unexposed areas of the resin composition layer can be removed by development using a developer.
  • the unexposed portions of the resin composition layer in the exposure step are eluted into the developer, leaving only the photocured portions.
  • the temperature of the developer is preferably, for example, 20 to 30°C.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Furthermore, in order to improve the ability to remove residues, the process of shaking off the developer every 60 seconds and supplying a new developer may be repeated several times.
  • Examples of the developer include organic solvents, alkaline developers, and alkaline developers are preferably used.
  • an alkaline aqueous solution (alkaline developer) prepared by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • ethyltrimethylammonium hydroxide ethyltrimethylammonium hydroxide
  • benzyltrimethylammonium hydroxide dimethylbis(2-hydroxyethyl)ammonium hydroxide
  • choline pyrrole
  • piperidine 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7-undecene
  • alkali agent compounds with a large molecular weight are preferable from the environmental and safety standpoints.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the developing solution may be manufactured as a concentrated solution and then diluted to a required concentration before use.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times. It is also preferable to wash (rinse) with pure water after development. Further, rinsing is preferably performed by supplying a rinsing liquid to the developed resin composition layer while rotating the support on which the developed resin composition layer is formed.
  • the nozzle that discharges the rinsing liquid from the center of the support it is also preferable to move the nozzle that discharges the rinsing liquid from the center of the support to the peripheral edge of the support.
  • the nozzle may be moved while gradually decreasing its moving speed.
  • Additional exposure processing and post-bake are post-development curing processing to complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240°C, more preferably 200 to 240°C.
  • Post-baking can be carried out in a continuous or batch manner using a heating means such as a hot plate, convection oven (hot air circulation dryer), or high-frequency heater to maintain the developed film under the above conditions.
  • the light used for exposure is preferably light with a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • Pattern formation by the dry etching method includes the steps of forming a resin composition layer on a support using the resin composition of the present invention, and curing the entire resin composition layer to form a cured product layer; A step of forming a photoresist layer on this cured material layer, a step of exposing the photoresist layer in a pattern and then developing it to form a resist pattern, and etching the cured material layer using this resist pattern as a mask. It is preferable to include a step of dry etching using gas. In forming the photoresist layer, it is preferable to further perform a prebaking process.
  • the optical filter of the present invention has the film of the present invention described above.
  • Types of optical filters include color filters, near-infrared cut filters, near-infrared transmission filters, etc., and color filters are preferred.
  • the color filter preferably has the film of the present invention as its pixels, and more preferably has the film of the present invention as its colored pixels.
  • the film thickness of the film of the present invention can be adjusted as appropriate depending on the purpose.
  • the film thickness is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the width of the pixels included in the optical filter is preferably 0.4 to 10.0 ⁇ m.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and even more preferably 0.6 ⁇ m or more.
  • the upper limit is preferably 5.0 ⁇ m or less, more preferably 2.0 ⁇ m or less, even more preferably 1.0 ⁇ m or less, and even more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the Young's modulus of the pixel is preferably 0.5 to 20 GPa, more preferably 2.5 to 15 GPa.
  • each pixel included in the optical filter has high flatness.
  • the surface roughness Ra of the pixel is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, and even more preferably 15 nm or less. Although the lower limit is not specified, it is preferably 0.1 nm or more, for example.
  • the surface roughness of a pixel can be measured using, for example, an AFM (atomic force microscope) Dimension 3100 manufactured by Veeco.
  • the contact angle of water on the pixel can be set to a suitable value, but is typically in the range of 50 to 110°. The contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT-A type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).
  • the volume resistance value of the pixel is high.
  • the volume resistance value of the pixel is preferably 10 9 ⁇ cm or more, more preferably 10 11 ⁇ cm or more.
  • the upper limit is not specified, it is preferably 10 14 ⁇ cm or less, for example.
  • the volume resistance value of a pixel can be measured using an ultra-high resistance meter 5410 (manufactured by Advantest).
  • a protective layer may be provided on the surface of the film of the present invention.
  • various functions such as oxygen blocking, low reflection, hydrophilic and hydrophobic properties, and shielding of light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near infrared rays, etc.) can be imparted.
  • the thickness of the protective layer is preferably 0.01 to 10 ⁇ m, more preferably 0.1 to 5 ⁇ m.
  • Examples of the method for forming the protective layer include a method of applying a composition for forming the protective layer, a chemical vapor deposition method, and a method of pasting a molded resin with an adhesive.
  • Components constituting the protective layer include (meth)acrylic resin, ene thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyimide.
  • Resin polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, polyol resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, aramid resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, modified silicone resin, fluorine Examples include resin, polycarbonate resin, polyacrylonitrile resin, cellulose resin, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , Si 2 N 4 and the like, and two or more of these components may be contained.
  • the protective layer preferably contains a polyol resin, SiO 2 and Si 2 N 4 .
  • the protective layer preferably contains a (meth)acrylic resin and a fluororesin.
  • the protective layer may contain organic/inorganic fine particles, absorbers for light of specific wavelengths (e.g., ultraviolet rays, near-infrared rays, etc.), refractive index adjusters, antioxidants, adhesives, surfactants, and other additives, as necessary. It may contain.
  • organic/inorganic fine particles include polymer fine particles (e.g., silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, titanium oxynitride. , magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate, and the like.
  • the absorber for light of a specific wavelength a known absorber can be used.
  • the content of these additives can be adjusted as appropriate, but is preferably 0.1 to 70% by weight, more preferably 1 to 60% by weight, based on the total weight of the protective layer.
  • the protective layer the protective layers described in paragraph numbers 0073 to 0092 of JP-A No. 2017-151176 can also be used.
  • the optical filter may have a structure in which each pixel is embedded in a space partitioned into a lattice shape by partition walls, for example.
  • the solid-state imaging device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it functions as a solid-state image sensor, but examples include the following configurations.
  • the substrate has a plurality of photodiodes that constitute the light receiving area of a solid-state image sensor (CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.) and a transfer electrode made of polysilicon or the like.
  • a device protective film made of silicon nitride or the like is formed on the light-shielding film to cover the entire surface of the light-shielding film and the light-receiving part of the photodiode. It has a configuration in which a color filter is provided on the device protective film.
  • the color filter may have a structure in which each colored pixel is embedded in a space partitioned into, for example, a lattice shape by partition walls.
  • the partition wall preferably has a lower refractive index than each colored pixel. Examples of imaging devices having such a structure include devices described in Japanese Patent Application Publication No. 2012-227478, Japanese Patent Application Publication No. 2014-179577, and International Publication No.
  • an ultraviolet absorbing layer may be provided within the structure of the solid-state image sensor to improve light resistance.
  • An imaging device equipped with the solid-state imaging device of the present invention can be used not only as a digital camera or an electronic device having an imaging function (such as a mobile phone), but also as a vehicle-mounted camera or a surveillance camera.
  • the image display device of the present invention has the film of the present invention described above.
  • Examples of the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
  • Examples of image display devices and details of each image display device see, for example, “Electronic Display Devices (written by Akio Sasaki, Kogyo Chosenkai Co., Ltd., published in 1990)” and “Display Devices (written by Junsho Ibuki, published by Sangyo Tosho)". Co., Ltd., issued in 1989).
  • liquid crystal display devices are described, for example, in "Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosenkai Co., Ltd., published in 1994)".
  • Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosenkai Co., Ltd., published in 1994)
  • the present invention can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "Next Generation Liquid Crystal Display Technology.”
  • y is the intensity
  • A is the peak height
  • x is 2 ⁇
  • x0 is the peak position
  • w is the peak width (half width at half maximum)
  • h is the baseline.
  • dispersion liquid (resin composition)> (Prescription 1) A mixed solution of a total of 15.6 parts by mass of pigment and pigment derivative, 3.9 parts by mass of resin in terms of solid content, and 80.5 parts by mass of solvent was milled in a bead mill (zirconia beads with a diameter of 0.1 mm). The mixture was mixed and dispersed for 3 hours using a . Next, dispersion treatment was performed using a high-pressure dispersion machine NANO-3000-10 (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.) with a pressure reduction mechanism under conditions of a pressure of 2000 kg/cm 2 and a flow rate of 500 g/min.
  • NANO-3000-10 manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.
  • This dispersion treatment was repeated up to 10 times to obtain a dispersion liquid.
  • the pigments, pigment derivatives, resins, and solvents shown in the table below were used. Further, the mixing ratio of pigments in the table below is a value in terms of solid content.
  • Pigment Blue15:6 blue pigment
  • I. Pigment Violet19 purple pigment
  • I. Pigment Violet23 purple pigment
  • PP-Pig-1 to PP-Pig-22 Compounds with the following structure (near-infrared absorbing pigments)
  • PP-Pig-1 to 8 were synthesized by the method described in International Publication No. 2017-146092, and the particle size was refined by solvent salt milling.
  • the synthesized PP-Pig-2 was subjected to solvent salt milling, and the crystallite size of the particles obtained was 19 nm.
  • PP-Pig-4 obtained by solvent salt milling had a crystallite size of 18 nm.
  • PP-Pig-9 to 15 were synthesized in the same manner as in the method of International Publication No. 2017-146092. Particles of PP-Pig-9 with a crystallite size of 32 nm were obtained by synthesis, and particles with a crystallite size of 20 nm were obtained by solvent salt milling.
  • Particles of PP-Pig-10 with a crystallite size of 35 nm were obtained by synthesis, and particles with a crystallite size of 18 nm were obtained by solvent salt milling.
  • Particles of PP-Pig-11 with a crystallite size of 30 nm were obtained by synthesis, and particles with a crystallite size of 17 nm were obtained by solvent salt milling.
  • Particles of PP-Pig-13 with a crystallite size of 34 nm were obtained by synthesis, and particles with a crystallite size of 19 nm were obtained by solvent salt milling.
  • PP-Pig-16 to 22 were synthesized by the method of International Publication No. 2021-039205, and the particle size was refined by solvent salt milling.
  • Particles of PP-Pig-16 with a crystallite size of 12 nm were obtained by salt milling.
  • Particles of PP-Pig-18 with a crystallite size of 11 nm were obtained by salt milling.
  • Particles of PP-Pig-19 with a crystallite size of 13 nm were obtained by salt milling.
  • Particles of PP-Pig-21 with a crystallite size of 11 nm were obtained by salt milling.
  • pigment derivative DPP-1 to DPP-30 Compounds with the following structure (pigment derivatives having a diketopyrrolopyrrole structure)
  • PP-1 to PP-29 Compounds with the following structure (pigment derivatives having a pyrrolopyrrole structure)
  • AZM-1 to AZM-36 Compounds with the following structure (pigment derivatives having an azomethine structure)
  • IIN-1 to IIN-3 Compounds with the following structure (pigment derivatives having an isoindoline structure)
  • QP-1, QP-2 Compounds with the following structure (pigment derivatives having a quinophthalone structure)
  • AZO-1, AZO-2 Compounds with the following structure (pigment derivatives having an azo structure)
  • ATQ-1 to ATQ-3 Compounds with the following structure (pigment derivatives with anthraquinone structure)
  • TI-1 Compound with the following structure (pigment derivative having a thiazine indigo structure)
  • QCD-1 Compound with the following structure (pigment derivative having a quinacridone structure)
  • BZI-1 Compound with the following structure (pigment derivative having a benzoindole structure)
  • PC-1 Compound with the following structure (pigment derivative having a phthalocyanine structure)
  • DOZ-1 Compound with the following structure (pigment derivative having a dioxazine structure)
  • TAZ-1 Compound with the following structure (pigment derivative having a triazine structure)
  • (resin) D-1 Resin D-1 synthesized by the following method 50 parts by mass of methyl methacrylate, 30 parts by mass of n-butyl methacrylate, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) were charged into a reaction vessel, and the atmosphere was changed to nitrogen gas. Replaced with. The inside of the reaction vessel was heated to 70°C, 6 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol was added, and further 0.12 parts by mass of AIBN (azobisisobutyronitrile) was added. Allowed time to react. It was confirmed by solid content measurement that 95% had reacted.
  • PMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • Resin D-2 Resin D-2 synthesized by the following method 6.0 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol, 9.5 parts by mass of pyromellitic anhydride, 62 parts by mass of PGMEA, 1,8-diazabicyclo-[5.4.0]-7 -0.2 parts by mass of undecene was charged into a reaction vessel, and the atmospheric gas was replaced with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel was heated to 100° C. and reacted for 7 hours.
  • Resin D-3 Resin D-3 synthesized by the following method Resin D-1 was synthesized in the same manner except that 20 parts by mass of t-butyl methacrylate was changed to 20 parts by mass of (3-ethyloxetan-3-yl)methyl methacrylate, acid value 43 mgKOH/g, weight Resin D-3 having the following structure and having an average molecular weight (Mw) of 9,000 was obtained.
  • Resin D-4 Resin D-4 synthesized by the following method 108 parts by mass of 1-thioglycerol, 174 parts by mass of pyromellitic anhydride, 650 parts by mass of methoxypropyl acetate, and 0.2 parts by mass of monobutyltin oxide as a catalyst were charged into a reaction vessel, and the atmosphere was replaced with nitrogen gas. After the substitution, the mixture was reacted at 120° C. for 5 hours (first step). Acid value measurement confirmed that 95% or more of the acid anhydride was half-esterified.
  • D-5 Resin with the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight 16000, acid value 67 mgKOH/g)
  • D-6 Resin with the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight 20000, acid value 36 mgKOH/g)
  • D-7 DISPERBYK-111 (manufactured by BYKChemie, acidic dispersant)
  • D-9 Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd., basic dispersant)
  • D-11 Resin with the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units. Weight average molecular weight 18000, acid value 82.1 mgKOH/g)
  • Viscosity change rate (%) (
  • D The viscosity change rate is 15%. more than %
  • the dispersions (resin compositions) of Examples had few coarse particles, excellent stability over time, and excellent pigment dispersion stability.
  • the crystallite size of the pigment derivative in the dispersion was evaluated using XRD after subjecting the dispersion to ultracentrifugation (100,000 G x 10 minutes) and drying the precipitated solid.
  • the crystallite sizes of the pigment dispersion derivatives in the dispersions of Examples 1 to 176 were all 50 nm or less.
  • the crystallite size of the pigment dispersion in the dispersion of Comparative Example 1 was over 50 nm.
  • M-1 Compound with the following structure
  • M-2 Compound with the following structure
  • M-3 KAYARAD DPHA (mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
  • M-4 Compound with the following structure
  • M-5 Mixture of compounds with the following structure (containing 55 mol% to 63 mol% of the compound on the left)
  • M-6 Compound with the following structure.
  • I-1 Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime compound)
  • I-2 Irgacure OXE02 (manufactured by BASF, oxime compound)
  • I-3 to I-8 Compounds with the following structure
  • I-10 Omnirad 907 (manufactured by IGM Resins B.V., ⁇ -aminoketone compound)
  • I-11 to I-12 Compounds with the following structure
  • resin B-1 20% by mass PGMEA solution of resin with the following structure (the numbers appended to the main chain are molar ratios; resin with acid groups, weight average molecular weight 11000, acid value 69.2mgKOH/g)
  • B-3 20% by mass of a resin with the following structure (the numerical value appended to the main chain is the molar ratio, and the numerical value appended to the side chain is the number of repeating units.
  • A-1 EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation, 1,2-epoxy-4-(2-oxiranyl)cyclohexane adduct of 2,2'-bis(hydroxymethyl)-1-butanol)
  • UV-1 Compound with the following structure (ultraviolet absorber)
  • surfactant Su-1 KF-6001 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., silicone surfactant, carbinol-modified polydimethylsiloxane at both ends, hydroxyl value 62 mgKOH/g)
  • a base layer forming composition (CT-4000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) was coated on a glass substrate using a spin coater to a thickness of 0.1 ⁇ m after post-baking, and coated on a hot plate.
  • a base layer was formed by heating at 220° C. for 1 hour to obtain a glass substrate (support) with a base layer.
  • each resin composition was applied by spin coating so that the film thickness after post-baking was 0.4 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100° C. for 3 minutes.
  • the glass substrate was placed on the horizontal rotary table of a spin shower developing machine (Model DW-30, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.), and a developer (CD-2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) was applied.
  • a spin shower developing machine Model DW-30, manufactured by Chemitronics Co., Ltd.
  • a developer CD-2000, manufactured by Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.
  • puddle development was performed at 23°C for 60 seconds using a Rinsing treatment was performed by supplying water from a jet nozzle in the form of a shower, followed by spray drying.
  • heat treatment post-bake was performed for 5 minutes using a 200° C. hot plate.
  • the absorbance A1 of the glass substrate before applying the resin composition and the absorbance A1 of the glass substrate after post-baking are measured using a spectrophotometer, and the amount of change in absorbance ⁇ A is calculated from the following formula, and the amount of change in absorbance is calculated using the following formula.
  • the development residue was evaluated using the maximum value of ⁇ A. Note that the maximum value of the amount of change in absorbance ⁇ A is the amount of change in absorbance at the wavelength where the amount of change in absorbance ⁇ A is the largest.
  • Amount of change in absorbance ⁇ A
  • B The maximum value of the absorbance change ⁇ A exceeds 0.01 and is 0.03 or less.
  • C The maximum value of the absorbance change ⁇ A is 0. More than .03 and less than 0.05
  • D Maximum value of absorbance change ⁇ A exceeds 0.05
  • Films obtained from the resin compositions of Examples can be suitably used for optical filters, solid-state imaging devices, and image display devices.

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Abstract

顔料と、結晶子サイズが５０ｎｍ以下である顔料誘導体と、樹脂と、溶剤と、を含有する樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置。

Description

樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
　本発明は、顔料および顔料誘導体を含む樹脂組成物及びその製造方法に関する。また、本発明は、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に関する。
　近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。ディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されている。
　カラーフィルタなどの光学フィルタは、色材と樹脂とを含む樹脂組成物等を用いて製造されている。色材として顔料を用いた場合には、顔料は、顔料誘導体および樹脂とともに分散させて用いられている。
　特許文献１には、Ｘ線回折スペクトルの主ピークの強度（Ｓ）をバックグラウンドノイズの強度（Ｎ）で割った値（Ｓ／Ｎ）が９０以下である顔料と酸性誘導体と樹脂とを分散させて製造した顔料分散液と、アルカリ可溶性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤とを含むカラーフィルタ用着色樹脂組成物が記載されている。
特開２０１５－１７５８８２号公報
　顔料を含む樹脂組成物に関し、近年では顔料の分散安定性について、更なる性能の向上が求められている。
　よって、本発明の目的は、顔料の分散安定性に優れた樹脂組成物及びその製造方法を提供することにある。また、本発明の目的は、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　顔料と、
　結晶子サイズが５０ｎｍ以下である顔料誘導体と、
　樹脂と、
　溶剤と、を含有する樹脂組成物。
　＜２＞　上記顔料誘導体は、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である、＜１＞に記載の樹脂組成物。
　＜３＞　上記色素構造は、ジケトピロロピロール構造、ピロロピロール構造、アゾメチン構造、イソインドリン構造、キノフタロン構造、アゾ構造、アントラキノン構造、チアジンインジゴ構造、キナクリドン構造、ベンゾインドール構造、フタロシアニン構造およびジオキサジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種である、＜２＞に記載の樹脂組成物。
　＜４＞　上記顔料誘導体は、式（ＤＰＰ）で表される化合物である、＜１＞に記載の樹脂組成物；
　式中、ＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、
　ＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、置換基を表し、
　ＬＤ１は、単結合、または、ｎ＋１価の連結基を表し、
　ＸＤ１は、酸基または塩基性基を表し、
　ｍは１～１０の整数を表し、
　ｎは１～１０の整数を表し、
　ｍが２以上の場合は複数のＬＤ１およびＸＤ１は互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸＤ１は互いに異なってもよい。
　＜５＞　更に、光重合開始剤と重合性化合物とを含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物。
　＜６＞　溶剤中で、顔料と、結晶子サイズが１～５０ｎｍである顔料誘導体と、樹脂とを分散する工程を含む、樹脂組成物の製造方法。
　＜７＞　上記顔料誘導体は、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である、＜６＞に記載の樹脂組成物の製造方法。
　＜８＞　上記色素構造は、ジケトピロロピロール構造、ピロロピロール構造、アゾメチン構造、イソインドリン構造、キノフタロン構造、アゾ構造、アントラキノン構造、チアジンインジゴ構造、キナクリドン構造、ベンゾインドール構造、フタロシアニン構造およびジオキサジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種である、＜７＞に記載の樹脂組成物の製造方法。
　＜９＞　上記顔料誘導体は、式（ＤＰＰ）で表される化合物である、＜６＞に記載の樹脂組成物の製造方法；
　式中、ＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、
　ＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、置換基を表し、
　ＬＤ１は、単結合、または、ｎ＋１価の連結基を表し、
　ＸＤ１は、酸基または塩基性基を表し、
　ｍは１～１０の整数を表し、
　ｎは１～１０の整数を表し、
　ｍが２以上の場合は複数のＬＤ１およびＸＤ１は互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸＤ１は互いに異なってもよい。
　＜１０＞　色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である顔料誘導体であって、結晶子サイズが１～５０ｎｍである顔料誘導体。
　＜１１＞　分散助剤である、＜１０＞に記載の顔料誘導体。
　＜１２＞　＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の樹脂組成物を用いて得られる膜。
　＜１３＞　＜１２＞に記載の膜を有する光学フィルタ。
　＜１４＞　＜１２＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
　＜１５＞　＜１２＞に記載の膜を有する画像表示装置。
　本発明によれば、顔料の分散安定性に優れた樹脂組成物及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、顔料誘導体、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することができる。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｒはプロピル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法により測定したポリスチレン換算値である。
　本明細書において、近赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい色材を意味する。例えば、顔料は、２３℃の水１００ｇおよび２３℃のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００ｇに対する溶解度がいずれも０．１ｇ以下であることが好ましく、０．０１ｇ以下であることがより好ましい。
　本明細書において、染料とは、溶剤に対して溶解しやすい色材を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜樹脂組成物＞
　本発明の樹脂組成物は、
　顔料と、
　結晶子サイズが５０ｎｍ以下である顔料誘導体と、
　樹脂と、
　溶剤と、を含有することを特徴とする。
　本発明の樹脂組成物は、顔料の分散安定性に優れている。このような効果が得られる理由は、顔料誘導体の結晶子サイズが５０ｎｍ以下であることにより、顔料の表面に顔料誘導体が効率よく吸着して樹脂組成物中で樹脂と顔料と顔料誘導体の強固なネットワークが形成されているため、樹脂組成物中における顔料の分散状態を安定して維持させることができ、その結果、製造時における顔料の凝集や、保管時における顔料の凝集などによる粗大粒子の発生や、粘度の経時的な変化を抑制することができ、顔料の分散安定性に優れた樹脂組成物とすることができたと推測される。
　また、本発明の樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィ法でパターン形成した場合には、現像残渣の発生を抑制することもできる。このような効果が得られる理由は、以下によるものと推測される。顔料誘導体が単体として存在していると、粒子単体として存在している顔料誘導体が支持体と吸着して、現像後も現像残渣として残りやすい傾向にあるが、本発明の樹脂組成物は、顔料誘導体が顔料に効率よく吸着しているため、顔料誘導体が粒子単体として残存しにくいと推測される。このような理由により、現像残渣の発生を抑制することができると推測される。
　本発明の樹脂組成物を、フォトリソグラフィ用として用いる場合には、本発明の樹脂組成物は、更に重合性化合物と、光重合開始剤とを含むことが好ましい。また、樹脂は、酸基を有する樹脂を含むものであることが好ましい。
　本発明の樹脂組成物は、光学フィルタ用の樹脂組成物として好ましく用いられる。光学フィルタとしては、カラーフィルタ、近赤外線透過フィルタ、近赤外線カットフィルタなどが挙げられ、カラーフィルタであることが好ましい。また、本発明の樹脂組成物は、固体撮像素子用として好ましく用いられる。より詳しくは、固体撮像素子用に用いられる光学フィルタ用の樹脂組成物として好ましく用いられ、固体撮像素子用に用いられるカラーフィルタの着色画素形成用の樹脂組成物としてより好ましく用いられる。
　カラーフィルタとしては、特定の波長の光を透過させる着色画素を有するフィルタが挙げられる。着色画素としては、赤色画素、緑色画素、青色画素、マゼンタ色画素、シアン色画素、黄色画素などが挙げられ、緑色画素またはシアン色画素であることが好ましく、緑色画素であることがより好ましい。カラーフィルタの着色画素は、有彩色顔料を含む樹脂組成物を用いて形成することができる。
　近赤外線カットフィルタの極大吸収波長は、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長７００～１４００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長７００～１２００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましい。また、近赤外線カットフィルタの波長４００～６５０ｎｍの全範囲での透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、波長７００～１８００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率は２０％以下であることが好ましい。また、近赤外線カットフィルタの極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０との比（吸光度Ａｍａｘ／吸光度Ａ５５０）は、２０～５００であることが好ましく、５０～５００であることがより好ましく、７０～４５０であることが更に好ましく、１００～４００であることが特に好ましい。近赤外線カットフィルタは、近赤外線吸収顔料を含む樹脂組成物を用いて形成することができる。
　近赤外線透過フィルタは、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタである。近赤外線透過フィルタは、可視光と近赤外線のいずれも透過させるフィルタ（透明膜）であってもよく、可視光の少なくとも一部を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタであってもよい。近赤外線透過フィルタとしては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である分光特性を満たしているフィルタなどが好ましく挙げられる。近赤外線透過フィルタは、以下の（１）～（５）のいずれかの分光特性を満たしているフィルタであることが好ましい。
　（１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（５）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　本発明の樹脂組成物は、遮光膜などにも用いることができる。
　本発明の樹脂組成物の固形分濃度は、５～３０質量％であることが好ましい。下限は、７．５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。上限は、２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましく、１５質量％以下が更に好ましい。
　以下、本発明の樹脂組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜顔料＞＞
　本発明の樹脂組成物は顔料を含む。顔料としては、白色顔料、黒色顔料、有彩色顔料、近赤外線吸収顔料が挙げられる。なお、本明細書において、白色顔料には純白色のみならず、白に近い明るい灰色（例えば灰白色、薄灰色など）の顔料などが含まれる。
　樹脂組成物をカラーフィルタ用として用いる場合には、顔料として有彩色顔料が用いられる。有彩色顔料は１種のみであってもよく、２種以上含んでいてもよい。樹脂組成物を近赤外線カットフィルタ形成用として用いる場合には、顔料として近赤外線吸収顔料が用いられる。近赤外線吸収顔料は１種のみであってもよく、２種以上含んでいてもよい。樹脂組成物を近赤外線透過フィルタ用として用いる場合には、顔料として、２種以上の有彩色顔料を組み合わせて用いたり、黒色顔料を含むものが用いられる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、樹脂組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本明細書において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　顔料の比表面積は１～３００ｍ２／ｇであることが好ましい。下限は１０ｍ２／ｇ以上であることが好ましく、３０ｍ２／ｇ以上であることがより好ましい。上限は、２５０ｍ２／ｇ以下であることが好ましく、２００ｍ２／ｇ以下であることがより好ましい。比表面積の値は、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ、ＥｍｍｅｔｔおよびＴｅｌｌｅｒ）法に準じてＤＩＮ　６６１３１：ｄｅｔｅｒｍｉｎａｔｉｏｎ　ｏｆ　ｔｈｅ　ｓｐｅｃｉｆｉｃ　ｓｕｒｆａｃｅ　ａｒｅａ　　ｏｆ　ｓｏｌｉｄｓ　ｂｙ　ｇａｓ　ａｄｓｏｒｐｔｉｏｎ（ガス吸着による固体の比表面積の測定）に従って測定することができる。
　顔料のＣｕＫα線をＸ線源としたときのＸ線回折スペクトルにおけるいずれかの結晶面に由来するピークの半値幅より求めた結晶子サイズは、０．１ｎｍ～１００ｎｍであることが好ましく、０．５ｎｍ～５０ｎｍであることがより好ましく、１ｎｍ～３０ｎｍであることが更に好ましく、５ｎｍ～２５ｎｍであることが特に好ましい。
　本発明で用いられる顔料は、ジケトピロロピロール顔料、ピロロピロール顔料、アゾメチン顔料、イソインドリン顔料、キノフタロン顔料、アゾ顔料、アントラキノン顔料、チアジンインジゴ顔料、キナクリドン顔料、ベンゾインドール顔料、フタロシアニン顔料およびジオキサジン顔料からなる群より選ばれる少なくとも１種を含むものであることが好ましい。
　以下、本発明で用いられる顔料についてさらに詳しく説明する。
（有彩色顔料）
　有彩色顔料としては、特に限定されず、公知の有彩色顔料を用いることができる。有彩色顔料としては、波長４００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する顔料が挙げられる。例えば、黄色顔料、オレンジ色顔料、赤色顔料、緑色顔料、紫色顔料、青色顔料などが挙げられる。これらの具体例としては、例えば、以下が挙げられる。
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２，２３３，２３４，２３５，２３６等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４，２９５，２９６，２９７等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４，６５，６６等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０，６１等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７，８８等（以上、青色顔料）。
　緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７０４２６号公報に記載のアルミニウムフタロシアニン化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
　青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　黄色顔料として、下記構造のアゾバルビツール酸ニッケル錯体を用いることもできる。
　黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物、特開２０２０－０９３９９４号公報に記載のアゾ化合物、特開２０２０－０８３９８２号公報に記載のペリレン化合物、国際公開第２０２０／１０５３４６号に記載のペリレン化合物、特表２０２０－５１７７９１号公報に記載のキノフタロン化合物、下記式（ＱＰ１）で表される化合物、下記式（ＱＰ２）で表される化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
　式（ＱＰ１）中、Ｘ１～Ｘ１６は各々独立に水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚ１は炭素数１～３のアルキレン基を表す。式（ＱＰ１）で表される化合物の具体例としては、特許第６４４３７１１号公報の段落番号００１６に記載されている化合物が挙げられる。
　式（ＱＰ２）中、Ｙ１～Ｙ３は、それぞれ独立にハロゲン原子を示す。ｎ、ｍは０～６の整数、ｐは０～５の整数を表す。（ｎ＋ｍ）は１以上である。式（ＱＰ２）で表される化合物の具体例としては、特許６４３２０７７号公報の段落番号００４７～００４８に記載されている化合物が挙げられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０２０－０８５９４７号公報に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色顔料、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色顔料、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物、特開２０２０－０６６７０２号公報の段落番号００２５～００４１に記載のジケトピロロピロール化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報、特開２０２０－０３３５２６号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール顔料としては結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下であるものを用いることも好ましい。また、ピロロピロール顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。
　有彩色顔料は、２種以上組み合わせて用いてもよい。例えば、本発明の樹脂組成物をカラーフィルタの緑色画素形成用として用いる場合には、緑色顔料と黄色顔料とを併用することが好ましい。また、本発明の樹脂組成物をカラーフィルタの赤色画素形成用として用いる場合には、赤色顔料と黄色顔料とを併用することが好ましい。
　有彩色顔料を２種以上組み合わせて用いる場合、２種以上の有彩色顔料の組み合わせで黒色を形成していてもよい。そのような組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（７）の態様が挙げられる。樹脂組成物中に有彩色顔料を２種以上含み、かつ、２種以上の有彩色顔料の組み合わせで黒色を呈している場合においては、本発明の樹脂組成物は、近赤外線透過フィルタ形成用の樹脂組成物として好ましく用いることができる。
（１）赤色顔料と青色顔料とを含有する態様。
（２）赤色顔料と青色顔料と黄色顔料とを含有する態様。
（３）赤色顔料と青色顔料と黄色顔料と紫色顔料とを含有する態様。
（４）赤色顔料と青色顔料と黄色顔料と紫色顔料と緑色顔料とを含有する態様。
（５）赤色顔料と青色顔料と黄色顔料と緑色顔料とを含有する態様。
（６）赤色顔料と青色顔料と緑色顔料とを含有する態様。
（７）黄色顔料と紫色顔料とを含有する態様。
（白色顔料）
　白色顔料としては、酸化チタン、チタン酸ストロンチウム、チタン酸バリウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム、シリカ、タルク、マイカ、水酸化アルミニウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、中空樹脂粒子、硫化亜鉛などが挙げられる。白色顔料は、チタン原子を有する粒子が好ましく、酸化チタンがより好ましい。また、白色顔料は、波長５８９ｎｍの光に対する屈折率が２．１０以上の粒子であることが好ましい。前述の屈折率は、２．１０～３．００であることが好ましく、２．５０～２．７５であることがより好ましい。
　また、白色顔料は「酸化チタン　物性と応用技術　清野学著　１３～４５ページ　１９９１年６月２５日発行、技報堂出版発行」に記載の酸化チタンを用いることもできる。
　白色顔料は、単一の無機物からなるものだけでなく、他の素材と複合させた粒子を用いてもよい。例えば、内部に空孔や他の素材を有する粒子、コア粒子に無機粒子を多数付着させた粒子、ポリマー粒子からなるコア粒子と無機ナノ微粒子からなるシェル層とからなるコアおよびシェル複合粒子を用いることが好ましい。上記ポリマー粒子からなるコア粒子と無機ナノ微粒子からなるシェル層とからなるコアおよびシェル複合粒子としては、例えば、特開２０１５－０４７５２０号公報の段落番号００１２～００４２の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　白色顔料は、中空無機粒子を用いることもできる。中空無機粒子とは、内部に空洞を有する構造の無機粒子であり、外殻に包囲された空洞を有する無機粒子のことを言う。中空無機粒子としては、特開２０１１－０７５７８６号公報、国際公開第２０１３／０６１６２１号、特開２０１５－１６４８８１号公報などに記載された中空無機粒子が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
（黒色顔料）
　黒色顔料としては特に限定されず、公知のものを用いることができる。無機黒色顔料としては、カーボンブラック、チタンブラック、グラファイト等が挙げられ、カーボンブラック、チタンブラックが好ましく、チタンブラックがより好ましい。チタンブラックとは、チタン原子を含有する黒色粒子であり、低次酸化チタンや酸窒化チタンが好ましい。チタンブラックは、分散性向上、凝集性抑制などの目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能である。例えば、酸化珪素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、又は、酸化ジルコニウムでチタンブラックの表面を被覆することが可能である。また、特開２００７－３０２８３６号公報に表されるような撥水性物質での処理も可能である。無機黒色顔料の具体例としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ１，７等が挙げられる。チタンブラックは、個々の粒子の一次粒子径及び平均一次粒子径のいずれもが小さいことが好ましい。具体的には、平均一次粒子径が１０～４５ｎｍであることが好ましい。チタンブラックは、分散物として用いることもできる。例えば、チタンブラック粒子とシリカ粒子とを含み、分散物中のＳｉ原子とＴｉ原子との含有比が０．２０～０．５０の範囲に調整された分散物などが挙げられる。上記分散物については、特開２０１２－１６９５５６号公報の段落００２０～０１０５の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。チタンブラックの市販品の例としては、チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ－Ｃ、１３Ｒ－Ｎ、１３Ｍ－Ｔ（商品名：三菱マテリアル（株）製）、ティラック（Ｔｉｌａｃｋ）Ｄ（商品名：赤穂化成（株）製）などが挙げられる。
　有機黒色顔料としては、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられる。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ３１，３２などが挙げられる。
（近赤外線吸収顔料）
　近赤外線吸収顔料は、有機顔料であることが好ましい。また、近赤外線吸収顔料は、波長７００ｎｍを超え１８００ｎｍ以下の範囲に極大吸収波長が存在することが好ましい。また、近赤外線吸収顔料の極大吸収波長は、１４００ｎｍ以下に存在することが好ましく、１２００ｎｍ以下に存在することがより好ましく、１０００ｎｍ以下に存在することが更に好ましい。また、近赤外線吸収顔料は、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０と極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘとの比であるＡ５５０／Ａｍａｘが０．１以下であることが好ましく、０．０５以下であることがより好ましく、０．０３以下であることが更に好ましく、０．０２以下であることが特に好ましい。下限は、特に限定はないが、例えば、０．０００１以上とすることができ、０．０００５以上とすることもできる。上述の吸光度の比が上記範囲であれば、可視透明性および近赤外線遮蔽性に優れた近赤外線吸収顔料とすることができる。
　近赤外線吸収顔料としては、特に限定はないが、ピロロピロール化合物、リレン化合物、オキソノール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、クロコニウム化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、ピリリウム化合物、アズレニウム化合物、インジゴ化合物およびピロメテン化合物が挙げられ、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物およびナフタロシアニン化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、ピロロピロール化合物およびスクアリリウム化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが更に好ましく、ピロロピロール化合物であることが特に好ましい。
　ピロロピロール化合物としては、後述する実施例に記載のＰＰ－Ｐｉｇ－１～ＰＰ－Ｐｉｇ－２２、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。
　スクアリリウム化合物としては、特開２０１１－２０８１０１号公報の段落番号００４４～００４９に記載の化合物、特許第６０６５１６９号公報の段落番号００６０～００６１に記載の化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００４０に記載の化合物、特開２０１５－１７６０４６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００７２に記載の化合物、特開２０１６－０７４６４９号公報の段落番号０１９６～０２２８に記載の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報の段落番号０１２４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１３５３５９号に記載の化合物、特開２０１７－１１４９５６号公報に記載の化合物、特許６１９７９４０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１２０１６６号に記載の化合物などが挙げられる。シアニン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載の化合物、国際公開第２０１８／１８６４８９号の段落番号００２０～００２４、国際公開第２０２０／０７１４７０号の段落番号００２９～００７６に記載の化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。
　近赤外線吸収顔料としては、特開２０１７－１９７４３７号公報に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０２５３１１号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１６／１５４７８２号に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８８４９５３号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第６０３６６８９号公報に記載のスクアリリウム化合物、特許第５８１０６０４号公報に記載のスクアリリウム化合物、国際公開第２０１７／２１３０４７号の段落番号００９０～０１０７に記載のスクアリリウム化合物、特開２０１８－０５４７６０号公報の段落番号００１９～００７５に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４０９５５号公報の段落番号００７８～００８２に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－００２７７３号公報の段落番号００４３～００６９に記載のピロール環含有化合物、特開２０１８－０４１０４７号公報の段落番号００２４～００８６に記載のアミドα位に芳香環を有するスクアリリウム化合物、特開２０１７－１７９１３１号公報に記載のアミド連結型スクアリリウム化合物、特開２０１７－１４１２１５号公報に記載のピロールビス型スクアリリウム骨格又はクロコニウム骨格を有する化合物、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載されたジヒドロカルバゾールビス型のスクアリリウム化合物、特開２０１７－０６８１２０号公報の段落番号００２７～０１１４に記載の非対称型の化合物、特開２０１７－０６７９６３号公報に記載されたピロール環含有化合物（カルバゾール型）、特許第６２５１５３０号公報に記載されたフタロシアニン化合物などを用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における顔料の含有量は３０～８０質量％であることが好ましい。下限は、４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましい。上限は７５質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましい。
　本発明の樹脂組成物をカラーフィルタ用として用いる場合には、樹脂組成物に含まれる顔料中における有彩色顔料の含有量は８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることが更に好ましく、９９質量％以上であることがより一層好ましい。
　本発明の樹脂組成物を近赤外線カットフィルタ用として用いる場合には、樹脂組成物に含まれる顔料中における近赤外線吸収顔料の含有量は８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることが更に好ましく、９９質量％以上であることがより一層好ましい。
＜＜染料＞＞
　本発明の樹脂組成物は染料を含んでいてもよい。染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。染料としては、有彩色染料、黒色染料、近赤外線吸収染料などが挙げられる。染料としては、公知の染料を用いることができる。染料としては、色素多量体を用いることもできる。色素多量体は、一分子中に、色素構造を２以上有するものであり、色素構造を３以上有することが好ましい。上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。一分子中に有する複数の色素構造は、同一の色素構造であってもよく、異なる色素構造であってもよい。色素多量体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～５００００が好ましい。下限は、３０００以上がより好ましく、６０００以上がさらに好ましい。上限は、３００００以下がより好ましく、２００００以下がさらに好ましい。色素多量体は、特開２０１１－２１３９２５号公報、特開２０１３－０４１０９７号公報、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－０３０７４２号公報、特開２０１６－１０２１９１号公報、国際公開第２０１６／０３１４４２号等に記載されている化合物を用いることもできる。
　顔料または染料として、韓国公開特許第１０－２０２０－００２８１６０号公報に記載されたトリアリールメタン染料ポリマー、特開２０２０－１１７６３８号公報に記載のキサンテン化合物、国際公開第２０２０／１７４９９１号に記載のフタロシアニン化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９４４２号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９７３０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０７０号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６７号公報に記載の式１で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０２０－００６９０６２号公報に記載の式１で表される化合物、特許第６８０９６４９号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料、特開２０２０－１８０１７６号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０２１－１８７９１３号公報に記載のフェノチアジン系化合物、国際公開第２０２２／００４２６１号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニン、国際公開第２０２１／２５０８８３号に記載のハロゲン化亜鉛フタロシアニンを用いることができる。顔料または染料は、ロタキサンであってもよく、色素骨格はロタキサンの環状構造に使用されていてもよく、棒状構造に使用されていてもよく、両方の構造に使用されていてもよい。
　樹脂組成物の全固形分中における染料の含有量は２０質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以下であることが更に好ましい。また、樹脂組成物中における染料の含有量は、顔料１００質量部に対して６０質量部以下であることが好ましく、４０質量部以下であることがより好ましく、２０質量部以下であることが更に好ましい。
　本発明の樹脂組成物は染料を実質的に含有しないことも好ましい。なお、本明細書において、染料を実質的に含有しない場合とは、樹脂組成物の全固形分中における染料の含有量が０．１質量％以下であることを意味し、０．０１質量％以下であることが好ましく、染料を含有しないことがより好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の樹脂組成物は、顔料誘導体を含む。顔料誘導体は分散助剤として用いられる。分散助剤とは、樹脂組成物中において顔料の分散性を高めるための素材のことである。
　本発明の樹脂組成物は、結晶子サイズが５０ｎｍ以下である顔料誘導体を含む。顔料誘導体の結晶子のサイズは４０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることが更に好ましい。顔料誘導体の結晶子のサイズの下限は１ｎｍ以上であることが好ましい。
　また、樹脂組成物の製造に用いられる顔料誘導体の結晶子サイズは、１～５０ｎｍであることが好ましい。下限は、１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましい。上限は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　ここで、本明細書において、顔料誘導体の結晶子のサイズとは、顔料誘導体のＸ線回折測定によって得られた回折ピークの半値幅から、最大強度のピークを用いてシュラーの式を用いて算出した値である。
　具体的には、顔料誘導体の結晶子のサイズは、以下に示すシュラーの式を用いて算出することができる。
　結晶子サイズ＝（Ｋ・λ）／（β・ｃｏｓθ）
　Ｋはシュラー定数であり、λは測定Ｘ線の波長であり、βは回折ピークの半値幅であり、θはブラッグ角である。
　顔料誘導体のＸ線回折測定は、Ｘ線回折計を用いて行うことができる。Ｘ線回折計としては、例えばＣｕＫα（ＣｕＫα１＋ＣｕＫα２）線をＸ線源とした集中光学系の粉末Ｘ線回折計であるＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製のＰＷ１７００等を用いることが出来る。
　測定条件は、例えば走査範囲（２θ）３～７０°、スキャンステップ幅０．０５°、走査速度３．０°／ｍｉｎ、発散スリット１゜、散乱スリット１°、受光スリット０．２ｍｍと設定することが出来る。
　顔料誘導体は、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子であることが好ましい。
　上記色素構造は、ジケトピロロピロール構造、ピロロピロール構造、アゾメチン構造、イソインドリン構造、キノフタロン構造、アゾ構造、アントラキノン構造、チアジンインジゴ構造、キナクリドン構造、ベンゾインドール構造、フタロシアニン構造およびジオキサジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、ジケトピロロピロール構造であることがより好ましい。
　顔料誘導体が有する酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ１、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ２、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ３または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ４で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ１、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ２、または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ４で表される基がより好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ１または－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ２が更に好ましい。ＲＸ１～ＲＸ４は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＸ１～ＲＸ４が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。ＲＸ１～ＲＸ４は、それぞれ独立に、フッ素原子を含むアルキル基またはフッ素原子を含むアリール基であることが好ましく、フッ素原子を含むアルキル基であることがより好ましい。フッ素原子を含むアルキル基の炭素数は１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。フッ素原子を含むアリール基の炭素数は６～２０が好ましく、６～１２がより好ましく、６が更に好ましい。
　顔料誘導体が有する塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　アミノ基としては、－ＮＲｘ１１Ｒｘ１２で表される基、および、環状アミノ基が挙げられる。
　－ＮＲｘ１１Ｒｘ１２で表される基において、Ｒｘ１１およびＲｘ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、アルキル基であることが好ましい。すなわち、アミノ基は、ジアルキルアミノ基であることが好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよいが、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　環状アミノ基としては、ピロリジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、モルホリン基などが挙げられる。これらの基は更に置換基を有していてもよい。
　色素構造を有する顔料誘導体としては、式（Ｂ１）で表される化合物であることが好ましい。
　式（Ｂ１）中、Ｐは色素構造を表し、Ｌは単結合またはｎ＋１価の連結基を表し、Ｘは酸基または塩基性基を表し、ｍは１以上の整数を表し、ｎは１以上の整数を表し、ｍが２以上の場合は複数のＬおよびＸは互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸは互いに異なっていてもよい。
　式（Ｂ１）のＰが表す色素構造は、ジケトピロロピロール構造、ピロロピロール構造、アゾメチン構造、イソインドリン構造、キノフタロン構造、アゾ構造、アントラキノン構造、チアジンインジゴ構造、キナクリドン構造、ベンゾインドール構造、フタロシアニン構造またはジオキサジン構造であることが好ましく、ジケトピロロピロール構造であることがより好ましい。
　式（Ｂ１）のＬが表すｎ＋１価の連結基は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－ＮＲＬ－、－ＮＲＬＣＯ－、－ＣＯＮＲＬ－、－ＮＲＬＳＯ２－、－ＳＯ２ＮＲＬ－およびこれらの組み合わせからなる基が挙げられる。ＲＬは水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～２０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１０がさらに好ましく、２～５が特に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれであってもよい。また、環状の脂肪族炭化水素基は、単環、多環のいずれであってもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～１８が好ましく、６～１４がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。芳香族炭化水素基は、単環または縮合数が２～４の縮合環の芳香族炭化水素基であることが好ましい。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環基であることが好ましい。複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。複素環基としては、トリアジン環基であることが好ましい。脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。また、ＲＬが表すアルキル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましく、直鎖状がより好ましい。ＲＬが表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。ＲＬが表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬが表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（Ｂ１）のＸが表す酸基、および塩基性基としては、上述した酸基および塩基性基が挙げられる。
　式（Ｂ１）のｍは、１または２であることが好ましい。
　式（Ｂ１）のｎは、１または２であることが好ましい。
　トリアジン構造を有する顔料誘導体としては、式（Ａ１）で表される基を有する化合物がなどが挙げられる。
　式（Ａ１）中、＊は結合手を表し、
　Ｙａ１およびＹａ２は、それぞれ独立して－Ｎ（Ｒａ１）－または－Ｏ－を表し、
　Ｒａ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
　Ｂ１およびＢ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　式（Ａ１）のＹａ１およびＹａ２は、それぞれ独立して－Ｎ（Ｒａ１）－または－Ｏ－を表し、－Ｎ（Ｒａ１）－であることが好ましい。
　Ｒａ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　Ｒａ１が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Ｒａ１が表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒａ１が表すアルケニル基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１２がより好ましく、２～８が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Ｒａ１が表すアルケニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒａ１が表すアルキニル基の炭素数は、２～４０が好ましく、２～３０がより好ましく、２～２５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Ｒａ１が表すアルキニル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　Ｒａ１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。Ｒａ１が表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（Ａ１）のＢ１およびＢ２は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基および複素環基が好ましく、アリール基および複素環基がより好ましい。好ましい一態様として、Ｂ１およびＢ２の一方が、複素環基で、他方はアリール基である態様が挙げられる。複素環基としては、含窒素複素環基であることが好ましく、ベンズイミダゾロン基であることがより好ましい。
　トリアジン構造を有する顔料誘導体は、下記式（ｂ１）で表される化合物であることが好ましい。
　Ａ１－Ｌ１－Ｚ１　　　・・・（ｂ１）
　式（ｂ１）のＡ１は、上記式（Ａ１）で表される基を表す。
　式（ｂ１）のＬ１は、単結合または２価の連結基を表し、２価の連結基であることが好ましい。Ｌ１が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、－Ｏ－、－ＮＲＬ１－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－およびそれらの組み合わせが挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリーレン基の炭素数は６～３０が好ましく、６～１５がより好ましい。アリーレン基はフェニレン基であることが好ましい。ＲＬ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。ＲＬ１が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Ｒａ１のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
　Ｌ１が表す２価の連結基は、下記式（Ｌ１）で表される基であることが好ましい。
　－Ｌ１Ａ－Ｌ１Ｂ－Ｌ１Ｃ－　　　・・・（Ｌ１）
　式中、Ｌ１ＡおよびＬ１Ｃはそれぞれ独立して、－Ｏ－、－ＮＲＬ１－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２ＮＨ－、または、－ＳＯ２－を表し、Ｌ１Ｂは、単結合または２価の連結基を表す。
　Ｌ１Ｂが表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、アルキレン基とアリーレン基を単結合または－Ｏ－、－ＮＲＬ１－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－およびそれらの組み合わせからなる基を介して結合した基、アルキレン基同士またはアリーレン基同士を－Ｏ－、－ＮＲＬ１－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－およびそれらの組み合わせからなる基を介して結合した基などが挙げられる。
　Ｌ１の具体例としては下記構造の基が挙げられる。
　式（ｂ１）のＺ１は、酸基または塩基性基を有する基を表す。酸基及び塩基性基の種類としては上述した基が挙げられる。
　式（ｂ１）のＺ１は、式（Ｚ１）で表される基または式（Ｚ１０）で表される基であることが好ましい。
　式（Ｚ１）中、＊は結合手を表し、
　Ｙｚ１は－Ｎ（Ｒｙ１）－または－Ｏ－を表し、
　Ｒｙ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
　Ｌｚ１は、２価の連結基を表し、
　Ｒｚ１およびＲｚ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
　Ｒｚ１とＲｚ２は２価の基を介して結合して環を形成していてもよく、
　ｍは１～５の整数を表す。
　式（Ｚ１０）中、＊は結合手を表し、Ｌｃ１およびＬｃ２はそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、Ｒｃ１およびＲｃ２はそれぞれ独立して置換基を表し、Ｒｃ１およびＲｃ２の少なくとも一方は酸基または塩基性基を表す。
　まず、式（Ｚ１）について説明する。
　式（Ｚ１）において、Ｙｚ１は－Ｎ（Ｒｙ１）－または－Ｏ－を表し、－Ｎ（Ｒｙ１）－であることが好ましい。Ｒｙ１は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。Ｒｙ１が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Ｒａ１のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
　式（Ｚ１）において、Ｌｚ１が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、複素環基、－Ｏ－、－ＮＲＬ１－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－およびそれらの組み合わせが挙げられ、アルキレン基が好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。
　式（Ｚ１）において、Ｒｚ１およびＲｚ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。アルキル基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましく、１または２が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルケニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましく、２～５が特に好ましい。アルケニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキニル基の炭素数は、２～１０が好ましく、２～８がより好ましく、２～５が特に好ましい。アルキニル基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　式（Ｚ１）において、Ｒｚ１とＲｚ２は２価の基を介して結合して環を形成していてもよい。２価の基としては、－ＣＨ２－、－Ｏ－、－ＳＯ２－が挙げられる。Ｒｚ１とＲｚ２とが２価の基を介して形成される環の具体例としては以下が挙げられる。
　式（Ｚ１）において、ｍは１～５の整数を表し、１～４が好ましく、１～３がより好ましく、２または３が更に好ましく、２が特に好ましい。
　式（Ｚ１）で表される基は、下記式（Ｚ２）で表される基であることが好ましい。
　式（Ｚ２）中、＊は結合手を表し、
　Ｙｚ２およびＹｚ３は、それぞれ独立して－Ｎ（Ｒｙ２）－または－Ｏ－を表し、
　Ｒｙ２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
　Ｌｚ２およびＬｚ３は、それぞれ独立して２価の連結基を表し、
　Ｒｚ３～Ｒｚ６は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、
　Ｒｚ３とＲｚ４、および、Ｒｚ５とＲｚ６は、それぞれ２価の基を介して結合して環を形成していてもよい。
　式（Ｚ２）のＹｚ２およびＹｚ３は、式（Ｚ１）のＹｚ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｒｙ２は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。Ｒｙ２が表すアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲については、Ｒａ１のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基およびアリール基の好ましい範囲として説明した範囲と同様である。
　式（Ｚ２）のＬｚ２およびＬｚ３は、式（Ｚ１）のＬｚ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。式（Ｚ２）のＲｚ３～Ｒｚ６は、式（Ｚ１）のＲｚ１およびＲｚ２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　次に、式（Ｚ１０）について説明する。
　式（Ｚ１０）において、Ｌｃ１およびＬｃ２はそれぞれ独立して単結合または連結基を表し、２価の連結基であることが好ましい。２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－ＮＲＬ１－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＣＯ－、－ＳＯ２ＮＨ－、－ＳＯ２－およびそれらの組み合わせが挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖が特に好ましい。アリーレン基の炭素数は６～３０が好ましく、６～１５がより好ましい。アリーレン基はフェニレン基であることが好ましい。ＲＬ１は、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。ＲＬ１が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。ＲＬ１が表すアルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。ＲＬ１が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。ＲＬ１が表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（Ｚ１０）において、Ｒｃ１およびＲｃ２はそれぞれ独立して置換基を表す。置換基としてはアルキル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、酸基および塩基性基が挙げられる。ただし、Ｒｃ１およびＲｃ２の少なくとも一方は酸基または塩基性基を表す。Ｒｃ１およびＲｃ２の少なくとも一方は塩基性基であることが好ましく、Ｒｃ１およびＲｃ２の両方が塩基性基であることがより好ましい。酸基および塩基性基としては、上述したものが挙げられる。アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。アルキル基、アリール基、複素環基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　顔料誘導体は、式（ＤＰＰ）で表される化合物であることが好ましい。
　式中、ＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、
　ＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、置換基を表し、
　ＬＤ１は、単結合、または、ｎ＋１価の連結基を表し、
　ＸＤ１は、酸基または塩基性基を表し、
　ｍは１～１０の整数を表し、
　ｎは１～１０の整数を表し、
　ｍが２以上の場合は複数のＬＤ１およびＸＤ１は互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸＤ１は互いに異なってもよい。
　式（ＤＰＰ）のＬＤ１が表すｎ＋１価の連結基としては、式（Ｂ１）のＬが表すｎ＋１価の連結基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（ＤＰＰ）のＬＤ１は、ｎ＋１価の連結基であることが好ましい。
　式（ＤＰＰ）のＸＤ１が表す酸基および塩基性基としては、式（Ｂ１）のＸが表す酸基および塩基性基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（ＤＰＰ）のＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表す。置換基としては、アルキル基およびアリール基が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。Ｒａ１が表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　ＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
　式（ＤＰＰ）のＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、置換基を表す。置換基としては、アルキル基およびアリール基が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。Ｒａ１が表すアリール基はさらに置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　ＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、アリール基であることが好ましい。
　式（ＤＰＰ）のｍは、１または２であることが好ましい。
　式（ＤＰＰ）のｎは、１または２であることが好ましい。
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとしては、次の基が挙げられる。ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、ヘテロアリール基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリール基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、ヘテロアリールオキシ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールオキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、ヘテロアリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のヘテロアリールオキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、ヘテロアリールチオ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールチオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、ヘテロアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニル基）、ヘテロアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、ヘテロアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のヘテロアリールスルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、イミド基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、ヘテロアリールアゾ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基。これらの基は、さらに置換可能な基である場合、さらに置換基を有してもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで説明した基が挙げられる。
　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物、特開昭５６－１１８４６２号公報に記載の化合物、特開昭６３－２６４６７４号公報に記載の化合物、特開平０１－２１７０７７号公報に記載の化合物、特開平０３－００９９６１号公報に記載の化合物、特開平０３－０２６７６７号公報に記載の化合物、特開平０３－１５３７８０号公報に記載の化合物、特開平０３－０４５６６２号公報に記載の化合物、特開平０４－２８５６６９号公報に記載の化合物、特開平０６－１４５５４６号公報に記載の化合物、特開平０６－２１２０８８号公報に記載の化合物、特開平０６－２４０１５８号公報に記載の化合物、特開平１０－０３００６３号公報に記載の化合物、特開平１０－１９５３２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４に記載の化合物、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２に記載の化合物、特開２０１５－１５１５３０号公報の段落番号０１７１に記載の化合物、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３に記載の化合物、特開２００３－０８１９７２号公報に記載の化合物、特許第５２９９１５１号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２７３２号公報に記載の化合物、特開２０１４－１９９３０８号公報に記載の化合物、特開２０１４－０８５５６２号公報に記載の化合物、特開２０１４－０３５３５１号公報に記載の化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載の化合物、特開２０１９－１０９５１２号公報に記載の化合物、特開２０１９－１３３１５４号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／００２１０６号に記載のチオール連結基を有するジケトピロロピロール化合物、特開２０２０－１６０２７９号公報に記載のイソインドリン化合物又はそれらの塩が挙げられる。
　顔料誘導体の含有量は、顔料が安定して分散されるのであれば特に規定されるものではなく、また、顔料によって好ましい範囲は異なるが、顔料の粒子表面を被覆するのに十分な量ではない場合、顔料粒子が凝集して経時安定性や粗大粒子が不十分な場合がある。一方、顔料誘導体が多すぎる場合、顔料誘導体が粒子として残存し、現像残渣が悪化する場合がある。
　顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対して、１～７０質量部であることが好ましい。下限は、２質量部以上であることが好ましく、３質量部以上であることがより好ましく、５質量部以上であることが更に好ましい。上限は６０質量部以下であることが好ましく、５０質量部以下であることがより好ましく、４０質量部以下であることが更に好ましい。顔料誘導体は、１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。　
＜＜樹脂＞＞
　本発明の樹脂組成物は、樹脂を含有する。樹脂は、例えば、顔料などを樹脂組成物中で分散させる用途やバインダーの用途で配合される。なお、主に顔料を分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外の目的で使用することもできる。
　樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリルアミド樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、シロキサン樹脂などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載された樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載された樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂、特開２０２０－１８６３７３号公報の段落０１９９～０２３３に記載の樹脂、特開２０２０－１８６３２５号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第１０－２０２０－００７８３３９号公報に記載の式１で表される樹脂を用いることもできる。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。
　酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。酸基を有する樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０００～１０００００が好ましく、５０００～５００００がより好ましい。また、酸基を有する樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、１０００～２００００が好ましい。
　酸基を有する樹脂は、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を含むことが好ましく、酸基を側鎖に有する繰り返し単位を樹脂の全繰り返し単位中５～７０モル％含むことがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の上限は、５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることがより好ましい。酸基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量の下限は、１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましい。
　酸基を有する樹脂については、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０５５８～０５７１（対応する米国特許出願公開第２０１２／０２３５０９９号明細書の段落番号０６８５～０７００）の記載、特開２０１２－１９８４０８号公報の段落番号００７６～００９９の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、酸基を有する樹脂は市販品を用いることもできる。また、樹脂への酸基の導入方法としては、特に制限はないが、例えば、特許第６３４９６２９号公報に記載の方法が挙げられる。更に、樹脂への酸基の導入方法としては、エポキシ基の開環反応で生じたヒドロキシ基に酸無水物を反応させて酸基を導入する方法も挙げられる。
　樹脂としては、塩基性基を有する樹脂を用いることもできる。塩基性基を有する樹脂は、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と塩基性基を含まない繰り返し単位とを有する共重合体であることがより好ましく、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と、塩基性基を含まない繰り返し単位とを有するブロック共重合体であることが更に好ましい。塩基性基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。塩基性基を有する樹脂のアミン価は、５～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。
　塩基性基を有する樹脂の市販品としては、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１、１６２、１６３、１６４、１６６、１６７、１６８、１７４、１８２、１８３、１８４、１８５、２０００、２００１、２０５０、２１５０、２１６３、２１６４、ＢＹＫ－ＬＰＮ６９１９（以上、ビックケミー社製）、ソルスパース１１２００、１３２４０、１３６５０、１３９４０、２４０００、２６０００、２８０００、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３８５００、３９０００、５３０９５、５６０００、７１００（以上、日本ルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ　ＰＸ　４３００、４３３０、４０４６、４０６０、４０８０（以上、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。また、塩基性基を有する樹脂は、特開２０１４－２１９６６５号公報の段落番号００６３～０１１２に記載されたブロック共重合体（Ｂ）、特開２０１８－１５６０２１号公報の段落番号００４６～００７６に記載されたブロック共重合体Ａ１、特開２０１９－１８４７６３号公報の段落番号０１５０～０１５３に記載された塩基性基を有するビニル樹脂を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂は、酸基を有する樹脂と塩基性基を有する樹脂とを用いることも好ましい。酸基を有する樹脂と塩基性基を有する樹脂とを併用する場合、塩基性基を有する樹脂の含有量は、酸基を有する樹脂の１００質量部に対して２０～５００質量部であることが好ましく、３０～３００質量部であることがより好ましく、５０～２００質量部であることが更に好ましい。
　樹脂としては、下記式（ＥＤ１）で示される化合物および／または下記式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）を含むモノマー成分に由来する繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の詳細については、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　エーテルダイマーの具体例としては、例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂としては、架橋性基を有する樹脂を用いることも好ましい。架橋性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基が挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、スチレン基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられ、エポキシ基が好ましい。エポキシ基は、脂環式エポキシ基であってもよい。なお、脂環式エポキシ基とは、エポキシ環と飽和炭化水素環とが縮合した環状構造を有する１価の官能基のことを意味する。
　樹脂としては、芳香族カルボキシ基を有する樹脂（以下、樹脂Ａｃともいう）を用いることも好ましい。樹脂Ａｃにおいて、芳香族カルボキシ基は繰り返し単位の主鎖に含まれていてもよく、繰り返し単位の側鎖に含まれていてもよい。芳香族カルボキシ基は繰り返し単位の主鎖に含まれていることが好ましい。なお、本明細書において、芳香族カルボキシ基とは、芳香族環にカルボキシ基が１個以上結合した構造の基のことである。芳香族カルボキシ基において、芳香族環に結合したカルボキシ基の数は、１～４個であることが好ましく、１～２個であることがより好ましい。
　樹脂Ａｃは、式（Ａｃ－１）で表される繰り返し単位および式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましい。
　式（Ａｃ－１）中、Ａｒ１は芳香族カルボキシ基を含む基を表し、Ｌ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表す。
　式（Ａｃ－２）中、Ａｒ１０は芳香族カルボキシ基を含む基を表し、Ｌ１１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、Ｌ１２は３価の連結基を表し、Ｐ１０はポリマー鎖を表す。
　式（Ａｃ－１）においてＡｒ１が表す芳香族カルボキシ基を含む基としては、芳香族トリカルボン酸無水物から由来する構造、芳香族テトラカルボン酸無水物から由来する構造などが挙げられる。芳香族トリカルボン酸無水物および芳香族テトラカルボン酸無水物としては、下記構造の化合物が挙げられる。
　上記式中、Ｑ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、下記式（Ｑ－１）で表される基または下記式（Ｑ－２）で表される基を表す。
　Ａｒ１が表す芳香族カルボキシ基を含む基は、架橋性基を有していてもよい。架橋性基は、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基であることがより好ましい。Ａｒ１が表す芳香族カルボキシ基を含む基の具体例としては、式（Ａｒ－１１）で表される基、式（Ａｒ－１２）で表される基、式（Ａｒ－１３）で表される基などが挙げられる。
　式（Ａｒ－１１）中、ｎ１は１～４の整数を表し、１または２であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（Ａｒ－１２）中、ｎ２は１～８の整数を表し、１～４の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、２であることが更に好ましい。
　式（Ａｒ－１３）中、ｎ３およびｎ４はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。ただし、ｎ３およびｎ４の少なくとも一方は１以上の整数である。
　式（Ａｒ－１３）中、Ｑ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、上記式（Ｑ－１）で表される基または上記式（Ｑ－２）で表される基を表す。
　式（Ａｒ－１１）～（Ａｒ－１３）中、＊１はＬ１との結合位置を表す。
　式（Ａｃ－１）においてＬ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、－ＣＯＯ－を表すことが好ましい。
　式（Ａｃ－１）においてＬ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｓ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Ｌ２が表す２価の連結基は、－Ｌ２ａ－Ｏ－で表される基であることが好ましい。Ｌ２ａは、アルキレン基；アリーレン基；アルキレン基とアリーレン基とを組み合わせた基；アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる少なくとも１種と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、アルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。
　式（Ａｃ－２）においてＡｒ１０が表す芳香族カルボキシ基を含む基としては、式（Ａｃ－１）のＡｒ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（Ａｃ－２）においてＬ１１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、－ＣＯＯ－を表すことが好ましい。
　式（Ａｃ－２）においてＬ１２が表す３価の連結基としては、炭化水素基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｓ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。炭化水素基は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Ｌ１２が表す３価の連結基は、式（Ｌ１２－１）で表される基であることが好ましく、式（Ｌ１２－２）で表される基であることがより好ましい。
　式（Ｌ１２－１）中、Ｌ１２ｂは３価の連結基を表し、Ｘ１はＳを表し、＊１は式（Ａｃ－２）のＬ１１との結合位置を表し、＊２は式（Ａｃ－２）のＰ１０との結合位置を表す。Ｌ１２ｂが表す３価の連結基としては、炭化水素基；炭化水素基と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基または炭化水素基と－Ｏ－とを組み合わせた基であることが好ましい。
　式（Ｌ１２－２）中、Ｌ１２ｃは３価の連結基を表し、Ｘ１はＳを表し、＊１は式（Ａｃ－２）のＬ１１との結合位置を表し、＊２は式（Ａｃ－２）のＰ１０との結合位置を表す。Ｌ１２ｃが表す３価の連結基としては、炭化水素基；炭化水素基と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基であることが好ましい。
　式（Ａｃ－２）においてＰ１０はポリマー鎖を表す。Ｐ１０が表すポリマー鎖は、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、ポリスチレン構造およびポリ（メタ）アクリル構造から選ばれる少なくとも１種の構造を有することが好ましい。ポリマー鎖Ｐ１０の重量平均分子量は５００～２００００が好ましい。下限は１０００以上が好ましい。上限は１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。Ｐ１０の重量平均分子量が上記範囲であれば組成物中における顔料の分散性が良好である。芳香族カルボキシ基を有する樹脂が式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位を有する樹脂である場合は、この樹脂は分散剤として好ましく用いられる。
　Ｐ１０が表すポリマー鎖は、架橋性基を含んでいてもよい。架橋性基としては、エチレン性不飽和結合含有基および環状エーテル基が挙げられる。
　樹脂として、グラフトポリマー、星形ポリマー、ブロック共重合体およびポリマー鎖の少なくとも一方の末端が酸基で封止された樹脂から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。このような樹脂は分散剤として好ましく用いられる。
　グラフトポリマーとしては、グラフト鎖を有する繰り返し単位を有する樹脂および上述した式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位を有する樹脂などが挙げられる。グラフト鎖としては、ポリエステル構造、ポリエーテル構造、ポリスチレン構造およびポリ（メタ）アクリル構造から選ばれる少なくとも１種の構造を含むグラフト鎖が挙げられる。グラフト鎖の末端構造としては、特に限定されない。水素原子であってもよく、置換基であってもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオエーテル基等が挙げられる。なかでも、顔料の分散性向上の観点から、立体反発効果を有する基が好ましく、炭素数５～３０のアルキル基又はアルコキシ基が好ましい。アルキル基およびアルコキシ基は、直鎖状、分岐状、及び、環状のいずれでもよく、直鎖状または分岐状が好ましい。
　グラフトポリマーの具体例としては、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４、特開２００９－２０３４６２号公報の段落番号００２２～００９７、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６に記載された樹脂が挙げられる。
　星形ポリマーとしては、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂が挙げられる。星型ポリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　ブロック共重合体としては、酸基または塩基性基を含む繰り返し単位を有する重合体のブロック（以下、ブロックＡともいう）と、酸基および塩基性基を含まない繰り返し単位を有する重合体のブロック（以下、ブロックＢともいう）とのブロック共重合体であることが好ましい。ブロック共重合体には、特開２０１４－２１９６６５号公報の段落番号００６３～０１１２に記載されたブロック共重合体（Ｂ）、特開２０１８－１５６０２１号公報の段落番号００４６～００７６に記載されたブロック共重合体Ａ１を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる
　ポリマー鎖の少なくとも一方の末端が酸基で封止された樹脂としては、ポリエステル構造、ポリエーテル構造およびポリ（メタ）アクリル構造から選ばれる少なくとも１種の構造を含むポリマー鎖の少なくとも一方の末端が酸基で封止された構造の樹脂が挙げられる。ポリマー鎖の末端を封止する酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基が挙げられる。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を用いることが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー社製のＤｉｓｐｅｒｂｙｋシリーズ（例えば、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ－１１１、１６１、２００１など）、日本ルーブリゾール（株）製のソルスパースシリーズ（例えば、ソルスパース２００００、７６５００など）、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ、Ａ２０８Ｆ（第一工業製薬（株）製）、Ｈ－３６０６（第一工業製薬（株）製）、サンデットＥＴ（三洋化成工業（株）製）などが挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～８０質量％であることが好ましい。下限は５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が更に好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。上限は６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
　樹脂組成物の全固形分中における酸基を有する樹脂の含有量は、１～８０質量％であることが好ましい。下限は５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が更に好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。上限は６０質量％以下が好ましく、５０質量％以下がより好ましい。
　また、分散剤としての樹脂の含有量は、顔料１００質量部に対して１０～１５０質量部であることが好ましい。下限は１５質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましい。上限は１００質量部以下が好ましく、８０質量部以下がより好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は溶剤を含有する。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤の種類は、各成分の溶解性や組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコール（別名としてダイアセトンアルコール、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン）、２－メトキシプロピルアセテート、２－メトキシ－１－プロパノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば、１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は，例えば、東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　樹脂組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。
　また、本発明の樹脂組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、樹脂組成物中における環境規制物質の含有量が５０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、３０質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えば、ベンゼン；トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類；クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、ＲＥＡＣＨ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ　Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ　Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ＣＨｅｍｉｃａｌｓ）規則、ＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ　Ｒｅｌｅａｓｅ　ａｎｄ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）法、ＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、樹脂組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として樹脂組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物（例えば、重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液）の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した樹脂組成物の段階などのいずれの段階でも可能である。
＜＜重合性化合物＞＞
　本発明の樹脂組成物は重合性化合物を含有することが好ましい。重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物などが挙げられる。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
　重合性化合物としては、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～２５００が好ましい。上限は、２０００以下が好ましく、１５００以下がより好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２５０以上がより好ましい。
　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を４個以上含む化合物であることがより好ましい。エチレン性不飽和結合含有基の上限は、樹脂組成物の保存安定性の観点から１５個以下であることが好ましく、１０個以下であることがより好ましく、６個以下であることが更に好ましい。重合性化合物は、３官能以上の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましく、３～１０官能の（メタ）アクリレート化合物であることが更に好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることが特に好ましい。重合性化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　重合性化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることもできる。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等の酸基を有する化合物を用いることもできる。このような化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０５、Ｍ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。
　重合性化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する化合物については、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落００４２～００４５の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。カプロラクトン構造を有する化合物は、例えば、日本化薬（株）からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されている、ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０等が挙げられる。
　重合性化合物としては、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する重合性化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えば、サートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）製のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　重合性化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、特公昭４８－０４１７０８号公報、特開昭５１－０３７１９３号公報、特公平０２－０３２２９３号公報、特公平０２－０１６７６５号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８－０４９８６０号公報、特公昭５６－０１７６５４号公報、特公昭６２－０３９４１７号公報、特公昭６２－０３９４１８号公報に記載されたエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物も好適である。また、特開昭６３－２７７６５３号公報、特開昭６３－２６０９０９号公報、特開平０１－１０５２３８号公報に記載された分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する重合性化合物を用いることも好ましい。また、重合性化合物は、ＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）などの市販品を用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、１～３５質量％であることが好ましい。上限は、３０質量％以下であることが好ましく、２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以下であることが更に好ましく、１０質量％以下であることが特に好ましい。下限は、２質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましい。本発明の樹脂組成物は、重合性化合物を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は光重合開始剤を含有することが好ましい。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体、国際公開第２０２０／１５２１２０号に記載の式１で表される化合物、特開２０２１－１８１４０６号公報に記載の化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　ヘキサアリールビイミダゾール化合物の具体例としては、２，２’，４－トリス（２－クロロフェニル）－５－（３，４－ジメトキシフェニル）－４，５－ジフェニル－１，１’－ビイミダゾールなどが挙げられる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物、特許第５４３０７４６号に記載の化合物、特許第５６４７７３８号に記載の化合物、特開２０２１－１７３８５８号公報の一般式（１）で表される化合物や段落００２２から００２４に記載の化合物、特開２０２１－１７００８９号公報の一般式（１）で表される化合物や段落０１１７から０１２０に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロヘキシル－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－アセチルオキシム）などが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０１、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３２７（ＴＲＯＮＬＹ社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許第６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物、特表２０２０－５０７６６４号公報に記載のフルオレニルアミノケトン類光開始剤、国際公開第２０２１／０２３１４４号に記載のオキシムエステル化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）および／またはＩｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）と、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）とを組み合わせて用いることも好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、樹脂組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　樹脂組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は０．１～３０質量％であることが好ましい。下限は、０．５質量％以上であることが好ましく、１質量％以上であることがより好ましい。上限は、２０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以下であることがより好ましい。本発明の樹脂組成物は、光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。光重合開始剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　本発明の樹脂組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）であることが好ましい。エポキシ化合物としては、１分子内にエポキシ基を１つ以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２つ以上有する化合物が好ましい。エポキシ化合物はエポキシ基を１分子内に１～１００個有する化合物であることが好ましい。エポキシ化合物に含まれるエポキシ基の上限は、例えば、１０個以下とすることもでき、５個以下とすることもできる。エポキシ化合物に含まれるエポキシ基の下限は、２個以上が好ましい。エポキシ化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
　エポキシ化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ基を有する化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がさらに好ましく、５０００以下が特に好ましく、３０００以下が一層好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　樹脂組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上がより好ましく、１質量％以上がさらに好ましい。上限は、例えば、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下がさらに好ましい。環状エーテル基を有する化合物は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化促進剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、硬化促進剤を含有することができる。硬化促進剤としては、チオール化合物、メチロール化合物、アミン化合物、ホスホニウム塩化合物、アミジン塩化合物、アミド化合物、塩基発生剤、イソシアネート化合物、アルコキシシラン化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。硬化促進剤の具体例としては、国際公開第２０１８／０５６１８９号の段落番号００９４～００９７に記載の化合物、特開２０１５－０３４９６３号公報の段落番号０２４６～０２５３に記載の化合物、特開２０１３－０４１１６５号公報の段落番号０１８６～０２５１に記載の化合物、特開２０１４－０５５１１４号公報に記載のイオン性化合物、特開２０１２－１５０１８０号公報の段落番号００７１～００８０に記載の化合物、特開２０１１－２５３０５４号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、特許第５７６５０５９号公報の段落番号００８５～００９２に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載のカルボキシ基含有エポキシ硬化剤、特開２０２１－１８１４０６号公報に記載の化合物などが挙げられる。樹脂組成物の全固形分中における硬化促進剤の含有量は０．３～８．９質量％が好ましく、０．８～６．４質量％がより好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、ジベンゾイル化合物などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０、国際公開第２０２１／１３１３５５号の段落番号００５２、００７４、国際公開第２０２１／１３２２４７号の段落番号００２２～００２４に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造の化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズ、住化ケムテックス（株）製のＳｕｍｉｓｏｒｂシリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物、国際公開第２０２０／１３７８１９号に記載されたチオアリール基置換ベンゾトリアゾール型紫外線吸収剤、特開２０２１－１７８９１８号公報に記載の反応性トリアジン紫外線吸収剤を用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。本発明の樹脂組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。紫外線吸収剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。樹脂組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。本発明の樹脂組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。重合禁止剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－６０３）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＥ－６０２）、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－９０３）、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－５０２）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－５０３）等がある。また、シランカップリング剤の具体例については、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。樹脂組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．０１～１５質量％であることが好ましく、０．０５～１０質量％であることがより好ましい。本発明の樹脂組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。シランカップリング剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤を参照することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、Ｒ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えば、メガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
　式（ｆｉ－１）中、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン性界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、ＤＯＷＳＩＬ　ＳＨ８４００、ＳＨ８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
　樹脂組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。本発明の樹脂組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。界面活性剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の樹脂組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤などが挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール系酸化防止剤は、フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－００５９３７１号公報に記載された化合物を使用することもできる。樹脂組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。本発明の樹脂組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。酸化防止剤を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の樹脂組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
　本発明の樹脂組成物は、耐光性改良剤を含んでもよい。耐光性改良剤としては、特開２０１７－１９８７８７号公報の段落番号００３６～００３７に記載の化合物、特開２０１７－１４６３５０号公報の段落番号００２９～００３４に記載の化合物、特開２０１７－１２９７７４号公報の段落番号００３６～００３７、００４９～００５２に記載の化合物、特開２０１７－１２９６７４号公報の段落番号００３１～００３４、００５８～００５９に記載の化合物、特開２０１７－１２２８０３号公報の段落番号００３６～００３７、００５１～００５４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３９に記載の化合物、特開２０１７－１８６５４６号公報の段落番号００３４～００４７に記載の化合物、特開２０１５－０２５１１６号公報の段落番号００１９～００４１に記載の化合物、特開２０１２－１４５６０４号公報の段落番号０１０１～０１２５に記載の化合物、特開２０１２－１０３４７５号公報の段落番号００１８～００２１に記載の化合物、特開２０１１－２５７５９１号公報の段落番号００１５～００１８に記載の化合物、特開２０１１－１９１４８３号公報の段落番号００１７～００２１に記載の化合物、特開２０１１－１４５６６８号公報の段落番号０１０８～０１１６に記載の化合物、特開２０１１－２５３１７４号公報の段落番号０１０３～０１５３に記載の化合物などが挙げられる。
　本発明の樹脂組成物は、テレフタル酸エステルを実質的に含まないことも好ましい。ここで、「実質的に含まない」とは、テレフタル酸エステルの含有量が、樹脂組成物の全量中、１０００質量ｐｐｂ以下であることを意味し、１００質量ｐｐｂ以下であることがより好ましく、ゼロであることが特に好ましい。
　環境規制の観点から、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用が規制されることがある。本発明の樹脂組成物において、上記した化合物の含有率を小さくする場合、パーフルオロアルキルスルホン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルスルホン酸）及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸（特にパーフルオロアルキル基の炭素数が６～８のパーフルオロアルキルカルボン酸）及びその塩の含有率は、樹脂組成物の全固形分に対して、０．０１ｐｐｂ～１，０００ｐｐｂの範囲であることが好ましく、０．０５ｐｐｂ～５００ｐｐｂの範囲であることがより好ましく、０．１ｐｐｂ～３００ｐｐｂの範囲であることが更に好ましい。本発明の樹脂組成物は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まなくてもよい。例えば、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩の代替となりうる化合物、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の代替となりうる化合物を用いることで、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を実質的に含まない樹脂組成物を選択してもよい。規制化合物の代替となりうる化合物としては、例えば、パーフルオロアルキル基の炭素数の違いによって規制対象から除外された化合物が挙げられる。ただし、上記した内容は、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩の使用を妨げるものではない。本発明の樹脂組成物は、許容される最大の範囲内で、パーフルオロアルキルスルホン酸及びその塩、並びにパーフルオロアルキルカルボン酸及びその塩を含んでもよい。
＜＜収容容器＞＞
　樹脂組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や樹脂組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、樹脂組成物の経時安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜樹脂組成物の製造方法＞
　本発明の樹脂組成物の製造方法は、溶剤中で、顔料と、結晶子サイズが１～５０ｎｍである顔料誘導体と、樹脂とを分散する工程を含むことを特徴とする。
　溶剤、顔料および樹脂としては、上述した樹脂組成物に含まれるものとして説明した溶剤、顔料および樹脂が挙げられる。樹脂は、分散剤としての樹脂を含むものであることが好ましい。
　顔料誘導体としては、化学構造の好ましい態様としては、上述した樹脂組成物に含まれる顔料誘導体の項で説明した内容と同様である。
　顔料誘導体の結晶子サイズは１～５０ｎｍである。結晶子サイズの下限は、１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましい。結晶子サイズの上限は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　顔料誘導体の結晶子のサイズが上記範囲であれば、顔料の分散安定性に優れた樹脂組成物を製造することができる。
　本発明の樹脂組成物の製造方法は、上記工程（溶剤中で、顔料と、結晶子サイズが１～５０ｎｍである顔料誘導体と、樹脂とを分散する工程）で分散液を製造した後、得られた分散液と、重合性化合物、光重合開始剤、樹脂、溶剤などのその他の素材とを混合する工程を更に含んでいてもよい。その他の素材は、樹脂組成物の用途に応じて適宜選択することができる。例えば、フォトリソグラフィ用の樹脂組成物を製造する場合には、フォトリソグラフィ用として用いる場合には、その他の素材として、重合性化合物と、光重合開始剤とを含むものを選択することが好ましい。また、その他素材として、更に、樹脂、溶剤、界面活性剤、シランカップリング剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤などの上述した樹脂組成物の項で説明した素材を添加してもよい。
　樹脂組成物の製造にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、樹脂組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜顔料誘導体＞
　本発明の顔料誘導体は、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である顔料誘導体であって、結晶子サイズが１～５０ｎｍであることを特徴とする。
　顔料誘導体の結晶子サイズの下限は、１ｎｍ以上であることが好ましく、２ｎｍ以上であることがより好ましい。顔料誘導体の結晶子サイズの上限は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましい。
　顔料誘導体の化学構造の好ましい態様としては、上述した樹脂組成物に含まれる顔料誘導体の項で説明した内容と同様である。
　本発明の顔料誘導体は、分散助剤であることが好ましい。
＜膜＞
　本発明の膜は、上述した本発明の樹脂組成物から得られる膜である。本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。例えば、膜厚は、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　本発明の膜は、カラーフィルタ、近赤外線透過フィルタ、近赤外線カットフィルタ、ブラックマトリクス、遮光膜などに用いることができる。本発明の膜は、カラーフィルタの着色画素として好ましく用いることができる。着色画素としては、赤色画素、緑色画素、青色画素、マゼンタ色画素、シアン色画素、黄色画素などが挙げられる。
　本発明の膜を近赤外線カットフィルタとして用いる場合、本発明の膜の極大吸収波長は、波長７００～１８００ｎｍの範囲に存在することが好ましく、波長７００～１４００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長７００～１２００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましい。また、膜の波長４００～６５０ｎｍの全範囲での透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることが更に好ましい。また、膜の波長７００～１８００ｎｍの範囲の少なくとも１点での透過率は２０％以下であることが好ましい。また、極大吸収波長における吸光度Ａｍａｘと、波長５５０ｎｍにおける吸光度Ａ５５０との比（吸光度Ａｍａｘ／吸光度Ａ５５０）は、２０～５００であることが好ましく、５０～５００であることがより好ましく、７０～４５０であることが更に好ましく、１００～４００であることが特に好ましい。
　本発明の膜を近赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、以下の（ｉ１）～（ｉ５）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（ｉ１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８３０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（ｉ５）：波長４００～１０５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１２００～１５００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～１０５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１１５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
＜膜の製造方法＞
　次に、本発明の膜の製造方法について説明する。本発明の膜は、本発明の樹脂組成物を塗布する工程を経て製造できる。膜の製造方法においては、更にパターン（画素）を形成する工程を含むことが好ましい。パターン（画素）の形成方法としては、フォトリソグラフィ法、ドライエッチング法が挙げられ、フォトリソグラフィ法が好ましい。
　フォトリソグラフィ法によるパターン形成は、本発明の樹脂組成物を用いて支持体上に樹脂組成物層を形成する工程と、樹脂組成物層をパターン状に露光する工程と、樹脂組成物層の未露光部を現像除去してパターン（画素）を形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、樹脂組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、および、現像されたパターン（画素）をベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。
　樹脂組成物層を形成する工程では、本発明の樹脂組成物を用いて、支持体上に樹脂組成物層を形成する。支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、シリコン基板などが挙げられ、シリコン基板であることが好ましい。また、シリコン基板には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、シリコン基板には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、シリコン基板には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。下地層の表面接触角は、ジヨードメタンで測定した際に２０～７０°であることが好ましい。また、水で測定した際に３０～８０°であることが好ましい。
　樹脂組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（例えば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えば、オンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、樹脂組成物の塗布方法については、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体上に形成した樹脂組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスにより膜を製造する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３００秒が好ましく、４０～２５０秒がより好ましく、８０～２２０秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　次に、樹脂組成物層をパターン状に露光する（露光工程）。例えば、樹脂組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。光源としては、無電極紫外線ランプシステム、紫外線と赤外線のハイブリッド硬化を使用することができる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば、酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、樹脂組成物層の未露光部を現像除去してパターン（画素）を形成する。樹脂組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、露光工程における未露光部の樹脂組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の樹脂組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の樹脂組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば、１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
　ドライエッチング法でのパターン形成は、本発明の樹脂組成物を用いて支持体上に樹脂組成物層を形成し、この樹脂組成物層の全体を硬化させて硬化物層を形成する工程と、この硬化物層上にフォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層をパターン状に露光したのち、現像してレジストパターンを形成する工程と、このレジストパターンをマスクとして硬化物層に対してエッチングガスを用いてドライエッチングする工程と、を含むことが好ましい。フォトレジスト層の形成においては、更にプリベーク処理を施すことが好ましい。特に、フォトレジスト層の形成プロセスとしては、露光後の加熱処理、現像後の加熱処理（ポストベーク処理）を実施する形態が望ましい。ドライエッチング法でのパターン形成については、特開２０１３－０６４９９３号公報の段落番号００１０～００６７の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、カラーフィルタ、近赤外線カットフィルタおよび近赤外線透過フィルタなどが挙げられ、カラーフィルタであることが好ましい。カラーフィルタは、その画素として本発明の膜を有することが好ましく、着色画素として本発明の膜を有することがより好ましい。
　光学フィルタにおいて本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　光学フィルタに含まれる画素の幅は０．４～１０．０μｍであることが好ましい。下限は、０．４μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましく、０．６μｍ以上であることが更に好ましい。上限は、５．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．８μｍ以下であることがより一層好ましい。また、画素のヤング率は０．５～２０ＧＰａであることが好ましく、２．５～１５ＧＰａがより好ましい。
　光学フィルタに含まれる各画素は高い平坦性を有することが好ましい。具体的には、画素の表面粗さＲａは、１００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限は規定されないが、例えば０．１ｎｍ以上であることが好ましい。画素の表面粗さは、例えばＶｅｅｃｏ社製のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３１００を用いて測定することができる。また、画素上の水の接触角は適宜好ましい値に設定することができるが、典型的には、５０～１１０°の範囲である。接触角は、例えば接触角計ＣＶ－ＤＴ・Ａ型（協和界面科学（株）製）を用いて測定できる。また、画素の体積抵抗値は高いことが好ましい。具体的には、画素の体積抵抗値は１０９Ω・ｃｍ以上であることが好ましく、１０１１Ω・ｃｍ以上であることがより好ましい。上限は規定されないが、例えば１０１４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。画素の体積抵抗値は、超高抵抗計５４１０（アドバンテスト社製）を用いて測定することができる。
　光学フィルタにおいては、本発明の膜の表面に保護層が設けられていてもよい。保護層を設けることで、酸素遮断化、低反射化、親疎水化、特定波長の光（紫外線、近赤外線等）の遮蔽等の種々の機能を付与することができる。保護層の厚さとしては、０．０１～１０μｍが好ましく、０．１～５μｍがより好ましい。保護層の形成方法としては、保護層形成用の組成物を塗布して形成する方法、化学気相蒸着法、成型した樹脂を接着剤で貼りつける方法等が挙げられる。保護層を構成する成分としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、Ｓｉ、Ｃ、Ｗ、Ａｌ２Ｏ３、Ｍｏ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｎ４などが挙げられ、これらの成分を二種以上含有しても良い。例えば、酸素遮断化を目的とした保護層の場合、保護層はポリオール樹脂と、ＳｉＯ２と、Ｓｉ２Ｎ４を含むことが好ましい。また、低反射化を目的とした保護層の場合、保護層は（メタ）アクリル樹脂とフッ素樹脂を含むことが好ましい。
　保護層は、必要に応じて、有機・無機微粒子、特定波長の光（例えば、紫外線、近赤外線等）の吸収剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、密着剤、界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。有機・無機微粒子の例としては、例えば、高分子微粒子（例えば、シリコーン樹脂微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、窒化チタン、酸窒化チタン、フッ化マグネシウム、中空シリカ、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。特定波長の光の吸収剤は公知の吸収剤を用いることができる。これらの添加剤の含有量は適宜調整できるが、保護層の全質量に対して０．１～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がさらに好ましい。
　また、保護層としては、特開２０１７－１５１１７６号公報の段落番号００７３～００９２に記載の保護層を用いることもできる。
　光学フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、カラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報、国際公開第２０１８／０４３６５４号に記載の装置が挙げられる。また、特開２０１９－２１１５５９号公報の中で示しているように固体撮像素子の構造内に紫外線吸収層を設けて耐光性を改良してもよい。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。また、以下に示す構造式中、Ｍｅはメチル基であり、Ｅｔはエチル基であり、Ｐｈはフェニル基である。
＜ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法での重量平均分子量および数平均分子量の測定条件＞
　カラムの種類：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺＭ－Ｈと、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ４０００と、ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫｇｅｌ　Ｓｕｐｅｒ　ＨＺ２０００とを連結したカラム
　展開溶媒：テトラヒドロフラン
　カラム温度：４０℃
　流量（サンプル注入量）：１．０μＬ（サンプル濃度：０．１質量％）
　装置名：東ソー製　ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ
　検出器：ＲＩ（屈折率）検出器
　検量線ベース樹脂：ポリスチレン樹脂
＜結晶子サイズの測定方法＞
　測定装置として、リガク製試料水平型回転対陰極式多目的Ｘ線回折装置ＲＩＮＴ－ＴＴＲＩＩＩを使用し、回折角度２θ＝５°～５５°、電圧５０ｋＶ、電流３００ｍＡ、スキャンスピード４°／ｍｉｎ、ステップ間隔０．１、スリット（散乱０．０５ｍｍ、発散１０ｍｍ、受光０．１５ｍｍ）の条件で、粉末Ｘ線回折スペクトルを測定した。得られた粉末Ｘ線回折スペクトルにおいて、回折強度が最も大きいピークを、ローレンツ関数［ｙ＝Ａ／（１＋（（ｘ－ｘ０）／ｗ）２）＋ｈ］にフィッテイングして、同ピークの半値全幅を求めた。ここで、ｙは強度、Ａはピーク高さ、ｘは２θ、ｘ０はピーク位置、ｗはピーク幅（半値半幅）、ｈはベースラインである。
＜分散液（樹脂組成物）の製造＞
（処方１）
　顔料と顔料誘導体とを合計で１５．６質量部と、樹脂を固形分換算で３.９質量部と、溶剤を８０．５質量部との混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．１ｍｍ径）を用いて３時間混合および分散した。次いで、減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製）を用いて、圧力２０００ｋｇ／ｃｍ２および流量５００ｇ／ｍｉｎの条件の下、分散処理を行った。この分散処理を全１０回まで繰り返して、分散液を得た。なお、顔料、顔料誘導体、樹脂および溶剤はそれぞれ下記表に示す素材を用いた。また、下記表中における顔料の混合比率は固形分換算での値である。
（処方２）
　顔料と顔料誘導体を合計で１３質量部と、樹脂を７．８質量部、溶剤を１５０質量部との混合液を、ビーズミル（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ径）と混合して、ペイントシェーカーを用いて５時間分散した。その後、ビーズをろ過で分離して分散液を得た。なお、顔料、顔料誘導体、樹脂および溶剤はそれぞれ下記表に示す素材を用いた。また、下記表中における顔料の混合比率は固形分換算での値である。
　上記表の略語で記載した原料の詳細は下記の通りである。
（顔料）
　Ｐ．Ｒ．１７７：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ１７７（赤色顔料）
　Ｐ．Ｒ．２５４：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ２５４（赤色顔料）
　Ｐ．Ｒ．２７２：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ２７２（赤色顔料）
　Ｐ．Ｙ．１１７：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１１７（黄色顔料）
　Ｐ．Ｙ．１２９：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１２９（黄色顔料）
　Ｐ．Ｙ．１３８：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１３８（黄色顔料）
　Ｐ．Ｙ．１３９：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１３９（黄色顔料）
　Ｐ．Ｙ．１８５：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１８５（黄色顔料）
　Ｐ．Ｂ．１５：６　：　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ１５：６（青色顔料）
　Ｐ．Ｖ．１９：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ１９（紫色顔料）
　Ｐ．Ｖ．２３：Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ２３（紫色顔料）
　ＰＰ－Ｐｉｇ－１～ＰＰ－Ｐｉｇ－２２：下記構造の化合物（近赤外線吸収顔料）
　ＰＰ－Ｐｉｇ－１～８は国際公開第２０１７－１４６０９２号の方法によって合成し、粒子径をソルベントソルトミリングによって微細化した。合成したＰＰ－Ｐｉｇ－２はソルベントソルトミリングに供し、得られた粒子の結晶子サイズ１９ｎｍであった。同様に、ソルベントソルトミリングに供して得られたＰＰ－Ｐｉｇ－４は結晶子サイズ１８ｎｍであった。
　また、ＰＰ－Ｐｉｇ－９～１５は国際公開第２０１７－１４６０９２号の方法と同様にして合成した。ＰＰ－Ｐｉｇ－９は合成によって結晶子サイズ３２ｎｍの粒子が得られ、ソルベントソルトミリングによって結晶子サイズ２０ｎｍの粒子を得た。ＰＰ－Ｐｉｇ－１０は合成によって結晶子サイズ３５ｎｍの粒子が得られ、ソルベントソルトミリングによって結晶子サイズ１８ｎｍの粒子を得た。ＰＰ－Ｐｉｇ－１１は合成によって結晶子サイズ３０ｎｍの粒子が得られ、ソルベントソルトミリングによって結晶子サイズ１７ｎｍの粒子を得た。ＰＰ－Ｐｉｇ－１３は合成によって結晶子サイズ３４ｎｍの粒子が得られ、ソルベントソルトミリングによって結晶子サイズ１９ｎｍの粒子を得た。
　ＰＰ－Ｐｉｇ－１６～２２は国際公開第２０２１－０３９２０５号の方法によって合成し、粒子径をソルベントソルトミリングによって微細化した。ＰＰ－Ｐｉｇ－１６はソルトミリングによって結晶子サイズ１２ｎｍの粒子が得られた。ＰＰ－Ｐｉｇ－１８はソルトミリングによって結晶子サイズ１１ｎｍの粒子が得られた。ＰＰ－Ｐｉｇ－１９はソルトミリングによって結晶子サイズ１３ｎｍの粒子が得られた。ＰＰ－Ｐｉｇ－２１はソルトミリングによって結晶子サイズ１１ｎｍの粒子が得られた。
（顔料誘導体）
　ＤＰＰ－１～ＤＰＰ－３０：下記構造の化合物（ジケトピロロピロール構造を有する顔料誘導体）
　ＰＰ－１～ＰＰ－２９：下記構造の化合物（ピロロピロール構造を有する顔料誘導体）
　ＡＺＭ－１～ＡＺＭ－３６：下記構造の化合物（アゾメチン構造を有する顔料誘導体）
　ＩＩＮ－１～ＩＩＮ－３：下記構造の化合物（イソインドリン構造を有する顔料誘導体）
　ＱＰ－１、ＱＰ－２：下記構造の化合物（キノフタロン構造を有する顔料誘導体）
　ＡＺＯ－１、ＡＺＯ－２：下記構造の化合物（アゾ構造を有する顔料誘導体）
　ＡＴＱ－１～ＡＴＱ－３：下記構造の化合物（アントラキノン構造を有する顔料誘導体）
　ＴＩ－１：下記構造の化合物（チアジンインジゴ構造を有する顔料誘導体）
　ＱＣＤ－１：下記構造の化合物（キナクリドン構造を有する顔料誘導体）
　ＢＺＩ－１：下記構造の化合物（ベンゾインドール構造を有する顔料誘導体）
　ＰＣ－１：下記構造の化合物（フタロシアニン構造を有する顔料誘導体）
　ＤＯＺ－１：下記構造の化合物（ジオキサジン構造を有する顔料誘導体）
　ＴＡＺ－１：下記構造の化合物（トリアジン構造を有する顔料誘導体）
（樹脂）
　Ｄ－１：以下の方法で合成した樹脂Ｄ－１
　メチルメタクリレートの５０質量部、ｎ－ブチルメタクリレートの３０質量部、ｔ－ブチルメタクリレートの２０質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）の４５．４質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した。反応容器内を７０℃に加熱して、３－メルカプト－１，２－プロパンジオールの６質量部を添加して、さらにＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）の０．１２質量部を加え、１２時間反応させた。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物の９．７質量部、ＰＧＭＥＡの７０．３質量部、触媒としてＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン）の０．２０質量部を追加し、１２０℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了して、酸価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量（Ｍｗ）９０００の下記構造の樹脂Ｄ－１を得た。
　Ｄ－２：以下の方法で合成した樹脂Ｄ－２
　３－メルカプト－１，２－プロパンジオールの６．０質量部、ピロメリット酸無水物の９．５質量部、ＰＧＭＥＡの６２質量部、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセンの０．２質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した。反応容器内を１００℃に加熱して、７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した後、系内の温度を７０℃に冷却し、メチルメタクリレートの６５質量部、エチルアクリレートの５．０質量部、ｔ－ブチルアクリレートの１５質量部、メタクリル酸の５．０質量部、ヒドロキシエチルメタクリレートの１０質量部、２，２’－アゾビスイソブチロニトリルの０．１質量部を溶解したＰＧＭＥＡ溶液の５３．５質量部を添加して、１０時間反応させた。固形分測定により重合が９５％進行したことを確認し反応を終了して、酸価７０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量（Ｍｗ）１００００の下記構造の樹脂Ｄ－２を得た。
　Ｄ－３：以下の方法で合成した樹脂Ｄ－３
　樹脂Ｄ－１の合成において、ｔ－ブチルメタクリレートの２０質量部を、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチルメタクリレートの２０質量部に変更した以外は同様にして、酸価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量（Ｍｗ）９０００の下記構造の樹脂Ｄ－３を得た。
　Ｄ－４：以下の方法で合成した樹脂Ｄ－４
　１－チオグリセロールの１０８質量部、ピロメリット酸無水物の１７４質量部、メトキシプロピルアセテートの６５０質量部、触媒としてモノブチルスズオキシドの０．２質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を固形分換算で１６０質量部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレートの２００質量部、エチルアクリレートの２００質量部、ｔ－ブチルアクリレートの１５０質量部、２－メトキシエチルアクリレートの２００質量部、メチルアクリレートの２００質量部、メタクリル酸の５０質量部、ＰＧＭＥＡの６６３質量部を反応容器に仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）の１．２質量部を添加し、１２時間反応させた（第二工程）。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０質量％ＰＧＭＥＡ溶液の５００質量部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）の２７．０質量部、ヒドロキノンの０．１質量部を反応容器に仕込み、イソシアネート基に基づく２２７０ｃｍ－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。ピーク消失の確認後、反応溶液を冷却して、酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、エチレン性不飽和結合基価０．６２ｍｍｏｌ／ｇ、重量平均分子量（Ｍｗ）１３０００の下記構造の樹脂Ｄ－４を得た。
　Ｄ－５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量１６０００、酸価６７ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｄ－６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量２００００、酸価３６ｍｇＫＯＨ／ｇ）
　Ｄ－７：ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１１１（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製、酸性分散剤）
　Ｄ－８：ＢＹＫ　ＬＰＮ－２１１１６（ＢＹＫＣｈｅｍｉｅ社製、塩基性分散剤）
　Ｄ－９：ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製、塩基性分散剤）
　Ｄ－１０：アジスパーＰＢ８２１（味の素ファインテクノ（株）製、塩基性分散剤）
　Ｄ－１１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量１８０００、酸価８２．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜分散液の評価＞
（粗大粒子）
　ガラス基板上に、製造直後の分散液、および、４５℃で７２時間保管後の分散液を加熱後の厚さが０．２５μｍとなるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて８５℃で２分間加熱し膜を形成した。この膜について、光学顕微鏡（倍率：２００倍）で５視野を観察して、最大幅０．３μｍ以上の粗大粒子の個数をカウントし、下記の評価基準に従って粗大粒子を評価した。
　製造直後の分散液を用いた場合の評価結果については、初期の欄に記載し、４５℃で７２時間保管後の分散液を用いた場合の評価結果については、経時の欄に記載する。
　Ａ：粗大粒子の個数が２０個以下である
　Ｂ：粗大粒子の個数が２０個を超え、４０個以下である
　Ｃ：粗大粒子の個数が４０個を超え、１００個以下である
　Ｄ：粗大粒子の個数が１００個を超える
（経時安定性）
　製造直後の各分散液の粘度（ｍＰａ・ｓ）をＥ型粘度計（東機産業（株）製、ＲＥ－８５Ｌ）にて測定した。測定後、各分散液を４５℃、３日間の条件にて静置した後、再度粘度を測定した。静置前後の分散液の粘度変化率を算出し、下記評価基準に従って経時安定性を評価した。粘度変化率の数値が小さいほど、経時安定性が良好であるといえる。上記粘度測定は、いずれも、温湿度を２２±５℃、６０±２０％に管理した実験室で、分散液の温度を２５℃に調整した状態で測定した。いずれの測定も３回測定を行い、平均値を用いた。
　粘度変化率（％）＝（｜４５℃で３日間静置後の分散液の粘度－製造直後の分散液の粘度｜／製造直後の分散液の粘度）×１００
　Ａ：粘度変化率が５％以下である
　Ｂ：粘度変化率が５％を超え、１０％以下である
　Ｃ：粘度変化率が１０％を超え、１５％以下である
　Ｄ：粘度変化率が１５％を超える
　上記表に示すように、実施例の分散液（樹脂組成物）は粗大粒子が少なく、経時安定性に優れており、顔料の分散安定性に優れたものであった。なお、分散液中の顔料誘導体の結晶子サイズは、分散液を超遠心（１０万Ｇ×１０分）に処し、沈降した固体を乾燥させ、ＸＲＤを用いて評価した。なお、実施例１～１７６の分散液中の顔料分散液誘導体の結晶子サイズは、いずれも５０ｎｍ以下であった。一方、比較例１の分散液中の顔料分散液の結晶子サイズは、５０ｎｍを超えていた。
＜樹脂組成物の製造＞
　各素材を、以下に示す処方１～３の割合で混合し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して各樹脂組成物を製造した。
（処方１）
　下記表に記載の分散液　　　・・・７８．８質量部
　下記表に記載の重合性モノマー　　　・・・０．６質量部
　下記表に記載の樹脂　　　・・・５．５質量部（２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液または２０質量％シクロヘキサノン溶液での配合量）
　下記表に記載の光重合開始剤　　　・・・０．５質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　　・・・０．０００１質量部
　下記表に記載の重合禁止剤　　　・・・０．００１３５質量部
　下記表に記載の溶剤　　　・・・１４．７質量部
（処方２）
　下記表に記載の分散液　　　・・・５５．０質量部
　下記表に記載の重合性モノマー　　　・・・６．４質量部
　下記表に記載の樹脂　　　・・・２７．５質量部（２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液または２０質量％シクロヘキサノン溶液での配合量）
　下記表に記載の光重合開始剤　　　・・・１．０質量部
　下記表に記載の添加剤　　　・・・０．５質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　　・・・０．０３質量部
　下記表に記載の重合禁止剤　　　・・・０．００１質量部
　下記表に記載の溶剤　　　・・・４３．２質量部
（処方３）
　下記表に記載の分散液　　　・・・７８．８質量部
　下記表に記載の重合性モノマー　　　・・・０．６質量部
　下記表に記載の樹脂　　　・・・４．０質量部（２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液または２０質量％シクロヘキサノン溶液での配合量）
　下記表に記載の光重合開始剤　　　・・・０．５質量部
　下記表に記載の添加剤　　　　　・・・０．３質量部
　下記表に記載の界面活性剤　　　・・・０．０００１質量部
　下記表に記載の重合禁止剤　　　・・・０．００１３５質量部
　下記表に記載の溶剤　　　・・・１５．９質量部
　上記表の略語で記載した原料の詳細は下記の通りである。
（重合性モノマー）
　Ｍ－１：下記構造の化合物
　Ｍ－２：下記構造の化合物
　Ｍ－３：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製）
　Ｍ－４：下記構造の化合物
　Ｍ－５：下記構造の化合物の混合物（左側化合物を５５モル％～６３モル％含有）
　Ｍ－６：下記構造の化合物。
（光重合開始剤）
　Ｉ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシム化合物）
　Ｉ－２：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、オキシム化合物）
　Ｉ－３～Ｉ－８：下記構造の化合物
　Ｉ－９：Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製、α－アミノケトン化合物）
　Ｉ－１０：Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７（ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製、α－アミノケトン化合物）
　Ｉ－１１～Ｉ－１２：下記構造の化合物
（樹脂）
　Ｂ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量１１０００、酸価６９．２ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
　Ｂ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量２１０００）の２０質量％シクロヘキサノン溶液
　Ｂ－３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量１６０００、酸価６７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
　Ｂ－４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量１８０００、酸価８２．１ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
　Ｂ－５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量１００００、酸価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
　Ｂ－６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。酸基を有する樹脂、重量平均分子量１００００、酸価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
（添加剤）
　Ａ－１：ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製、２，２’－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加物）
　ＵＶ－１：下記構造の化合物（紫外線吸収剤）
（界面活性剤）
　Ｓｕ－１：ＫＦ－６００１（信越化学工業（株）製、シリコーン系界面活性剤、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサン、ヒドロキシ基価６２ｍｇＫＯＨ／ｇ）
（重合禁止剤）
　Ｉｎ－１：ｐ－メトキシフェノール
（溶剤）
　Ｓ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜現像残渣の評価＞
　ガラス基板上に、下地層形成用組成物（ＣＴ－４０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）をポストベーク後に厚さが０．１μｍになるようにスピンコーターを用いて塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で１時間加熱して下地層を形成し、下地層付ガラス基板（支持体）を得た。次いで、各樹脂組成物をポストベーク後の膜厚が０．４μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で３分間加熱した。次いで、ガラス基板をスピン・シャワー現像機（ＤＷ－３０型、（株）ケミトロニクス製）の水平回転テーブル上に載置し、現像液（ＣＤ－２０００、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を用いて２３℃で６０秒間パドル現像を行ったのち、ガラス基板を真空チャック方式で水平回転テーブルに固定し、回転装置によってガラス基板を回転数５０ｒｐｍで回転させつつ、その回転中心の上方より純水を噴出ノズルからシャワー状に供給してリンス処理を行い、その後スプレー乾燥した。さらに、２００℃のホットプレートを用いて５分間加熱処理（ポストベーク）を行った。
　樹脂組成物を塗布前のガラス基板の吸光度Ａ１およびポストベーク後のガラス基板の吸光度Ａ１を分光光度計を用いてそれぞれ測定して吸光度の変化量ΔＡを以下の式から算出し、吸光度の変化量ΔＡの最大値の値を用いて現像残渣を評価した。なお、吸光度の変化量ΔＡの最大値とは、吸光度の変化量ΔＡが最も大きくなる波長での吸光度の変化量のことである。
　吸光度の変化量ΔＡ＝｜吸光度Ａ１－吸光度Ａ２｜
　Ａ：吸光度の変化量ΔＡの最大値が０．０１以下
　Ｂ：吸光度の変化量ΔＡの最大値が０．０１を超え、０．０３以下である
　Ｃ：吸光度の変化量ΔＡの最大値が０．０３を超え、０．０５以下である
　Ｄ：吸光度の変化量ΔＡの最大値が０．０５を超える
　上記表に示すように、実施例の樹脂組成物は現像残渣の少ない画素を形成することができた。
　実施例の樹脂組成物から得られた膜は、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に好適に使用できる。

Claims (15)

  1. 　顔料と、
    　結晶子サイズが５０ｎｍ以下である顔料誘導体と、
    　樹脂と、
    　溶剤と、を含有する樹脂組成物。
  2. 　前記顔料誘導体は、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である、請求項１に記載の樹脂組成物。
  3. 　前記色素構造は、ジケトピロロピロール構造、ピロロピロール構造、アゾメチン構造、イソインドリン構造、キノフタロン構造、アゾ構造、アントラキノン構造、チアジンインジゴ構造、キナクリドン構造、ベンゾインドール構造、フタロシアニン構造およびジオキサジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２に記載の樹脂組成物。
  4. 　前記顔料誘導体は、式（ＤＰＰ）で表される化合物である、請求項１に記載の樹脂組成物；
    　式中、ＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、
    　ＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、置換基を表し、
    　ＬＤ１は、単結合、または、ｎ＋１価の連結基を表し、
    　ＸＤ１は、酸基または塩基性基を表し、
    　ｍは１～１０の整数を表し、
    　ｎは１～１０の整数を表し、
    　ｍが２以上の場合は複数のＬＤ１およびＸＤ１は互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸＤ１は互いに異なってもよい。
  5. 　更に、光重合開始剤と重合性化合物とを含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の樹脂組成物。
  6. 　溶剤中で、顔料と、結晶子サイズが１～５０ｎｍである顔料誘導体と、樹脂とを分散する工程を含む、樹脂組成物の製造方法。
  7. 　前記顔料誘導体は、色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である、請求項６に記載の樹脂組成物の製造方法。
  8. 　前記色素構造は、ジケトピロロピロール構造、ピロロピロール構造、アゾメチン構造、イソインドリン構造、キノフタロン構造、アゾ構造、アントラキノン構造、チアジンインジゴ構造、キナクリドン構造、ベンゾインドール構造、フタロシアニン構造およびジオキサジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項７に記載の樹脂組成物の製造方法。
  9. 　前記顔料誘導体は、式（ＤＰＰ）で表される化合物である、請求項６に記載の樹脂組成物の製造方法；
    　式中、ＲＤ１およびＲＤ２はそれぞれ独立して、水素原子又は置換基を表し、
    　ＡＤ１およびＡＤ２はそれぞれ独立して、置換基を表し、
    　ＬＤ１は、単結合、または、ｎ＋１価の連結基を表し、
    　ＸＤ１は、酸基または塩基性基を表し、
    　ｍは１～１０の整数を表し、
    　ｎは１～１０の整数を表し、
    　ｍが２以上の場合は複数のＬＤ１およびＸＤ１は互いに異なっていてもよく、ｎが２以上の場合は複数のＸＤ１は互いに異なってもよい。
  10. 　色素構造およびトリアジン構造からなる群より選ばれる少なくとも１種の構造と、酸基または塩基性基とを有する化合物の粒子である顔料誘導体であって、結晶子サイズが１～５０ｎｍである顔料誘導体。
  11. 　分散助剤である、請求項１０に記載の顔料誘導体。
  12. 　請求項１または２に記載の樹脂組成物を用いて得られる膜。
  13. 　請求項１２に記載の膜を有する光学フィルタ。
  14. 　請求項１２に記載の膜を有する固体撮像素子。
  15. 　請求項１２に記載の膜を有する画像表示装置。
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