WO2023145699A1 - 赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール - Google Patents

赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール Download PDF

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WO2023145699A1
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一成 八木
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富士フイルム株式会社
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    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09B23/00—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes
    • C09B23/02—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups
    • C09B23/06—Methine or polymethine dyes, e.g. cyanine dyes the polymethine chain containing an odd number of >CH- or >C[alkyl]- groups three >CH- groups, e.g. carbocyanines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09B67/00—Influencing the physical, e.g. the dyeing or printing properties of dyestuffs without chemical reactions, e.g. by treating with solvents grinding or grinding assistants, coating of pigments or dyes; Process features in the making of dyestuff preparations; Dyestuff preparations of a special physical nature, e.g. tablets, films
    • C09B67/006—Preparation of organic pigments
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
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    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L27/144—Devices controlled by radiation
    • H01L27/146—Imager structures

Definitions

  • the present invention relates to an infrared absorbing composition containing a squarylium dye.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor and a camera module using the infrared absorbing composition.
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal-oxide semiconductors
  • CCDs charge-coupled devices
  • CMOSs complementary metal-oxide semiconductors
  • These solid-state imaging devices use silicon photodiodes that are sensitive to infrared rays in their light receiving portions. For this reason, an infrared cut filter may be provided to correct visibility.
  • the infrared cut filter is manufactured using a composition containing infrared absorbing pigments.
  • Squarylium dyes and the like are known as infrared absorbing dyes.
  • Patent Document 1 describes manufacturing an infrared cut filter or the like using a composition using a squarylium dye as an infrared absorbing dye.
  • squarylium dyes tend to have low light resistance, and there is room for further improvement in the light resistance of films obtained using compositions containing squarylium dyes.
  • an object of the present invention is to provide an infrared absorbing composition capable of forming a film with excellent light resistance.
  • Another object of the present invention is to provide a film, an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor and a camera module using the infrared absorbing composition.
  • the present invention provides the following.
  • the squarylium dye is at least one selected from a squarylium dye represented by formula (SQ2), a squarylium dye represented by formula (SQ3), and a squarylium dye represented by formula (SQ4),
  • the compound represented by the formula (1a) is at least one selected from a compound represented by the formula (2a), a compound represented by the formula (3a), and a compound represented by the formula (4a).
  • R a1 to R a4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic ring a group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group or -NR a11 R a12 , wherein R a11 and R a12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, R b1 to R b4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl
  • the squarylium dye is a squarylium dye represented by formula (SQ4),
  • the compound represented by the above formula (1a) is a compound represented by the above formula (4a),
  • the squarylium pigment is at least one selected from squarylium pigments represented by formula (SQ5) and squarylium pigments represented by formula (SQ6),
  • the compound represented by the formula (1a) is at least one selected from compounds represented by the formula (5a) and compounds represented by the formula (6a),
  • R 51 to R 70 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , —COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, and R 71 to R 77 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a
  • the squarylium pigment is a squarylium pigment represented by formula (SQ5)
  • the compound represented by the formula (1a) is a compound represented by the formula (5a)
  • the squarylium pigment is a squarylium pigment represented by formula (SQ6)
  • the compound represented by the formula (1a) is a compound represented by the formula (6a),
  • ⁇ 10> A film obtained using the infrared absorbing composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>.
  • An optical filter including the film according to ⁇ 10>.
  • ⁇ 12> A solid-state imaging device including the film according to ⁇ 10>.
  • ⁇ 13> An image display device comprising the film according to ⁇ 10>.
  • ⁇ 14> An infrared sensor including the film according to ⁇ 10>.
  • a camera module including the film according to ⁇ 10>.
  • an infrared absorbing composition capable of forming a film with excellent light resistance.
  • the present invention can also provide a film, an optical filter, a solid-state imaging device, an image display device, an infrared sensor and a camera module using the infrared absorbing composition.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating one embodiment of an infrared sensor
  • ⁇ is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
  • a description that does not describe substitution or unsubstituted includes a group (atomic group) having no substituent as well as a group (atomic group) having a substituent.
  • an "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as electron beams and ion beams, unless otherwise specified.
  • Light used for exposure includes actinic rays or radiation such as emission line spectra of mercury lamps, far ultraviolet rays represented by excimer lasers, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, and electron beams.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth)acrylate” represents both or either acrylate and methacrylate
  • (meth)acryl represents both or either acrylic and methacrylic
  • (meth) ) acryloyl refers to acryloyl and/or methacryloyl.
  • the weight average molecular weight and number average molecular weight are defined as polystyrene equivalent values in gel permeation chromatography (GPC) measurement.
  • GPC gel permeation chromatography
  • Me in the chemical formulas represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • infrared light refers to light (electromagnetic waves) with a wavelength of 700 to 2500 nm.
  • total solid content refers to the total mass of all components of the composition excluding the solvent.
  • the term “pigment” means a coloring material that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the term "process” includes not only an independent process, but also when the intended action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. .
  • the infrared absorbing composition of the present invention comprises a squarylium dye represented by formula (SQ1), a compound represented by formula (1a), and a resin, It is characterized by containing 0.01 to 1.0 parts by mass of the compound represented by formula (1a) with respect to 100 parts by mass of the squarylium dye represented by formula (SQ1).
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains 0.01 to 1.0 parts by mass of the compound represented by formula (1a) with respect to 100 parts by mass of the squarylium dye represented by formula (SQ1). , It is presumed that the compound of formula (1a) serves as a starting point to promote the association formation of the squarylium dye and moderately increase the size of the association, resulting in the formation of a film with excellent light resistance. presumed to have been able to If the content of the compound represented by the formula (1a) is too large, sufficient light resistance cannot be obtained. .
  • the infrared absorbing composition of the present invention further contains a photopolymerization initiator and a polymerizable compound
  • a photolithography method by patterning such an infrared absorbing composition by a photolithography method, pixels having excellent rectangularity can be obtained. can also be formed.
  • pixels are formed by patterning by photolithography, a film formed on a support is exposed in a pattern and the unexposed portions are removed by development to form pixels. At the time of exposure, the lower portion of the film (on the support side) is less likely to be irradiated with the exposure light than the upper portion of the film.
  • the compound represented by formula (1a) contained in the infrared-absorbing composition of the present invention is a hydrophilic compound, it is presumed that it tends to be unevenly distributed in the lower part of the film (on the support side) during film formation. Since the compound represented by the formula (1a) is unevenly distributed in the lower part of the film, the compound represented by the formula (1a) absorbs the exposure light such as the i-line during the exposure for pattern formation. It is assumed that the generated energy or electrons can be transferred to the photoinitiator to promote the decomposition of the photoinitiator in the lower part of the film, thereby efficiently generating active species such as radicals.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can be used as a composition for optical filters.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains a squarylium dye represented by formula (SQ1) (hereinafter also referred to as squarylium dye).
  • a 1 and A 2 each independently represent an aryl group, a heterocyclic group or a group represented by formula (R1);
  • * represents a link
  • Rs 1 to Rs 3 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group
  • As 3 represents a heterocyclic group
  • n s1 represents an integer of 0 or more
  • Rs 1 and Rs 2 may combine with each other to form a ring
  • Rs 1 and As 3 may combine with each other to form a ring
  • Rs 2 and Rs 3 may combine with each other to form a ring
  • n s1 is 2 or more
  • a plurality of Rs 2 and Rs 3 may be the same or different.
  • the aryl group represented by A 1 and A 2 preferably has 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 22 carbon atoms, and particularly preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heterocyclic group represented by A 1 and A 2 is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 to 8 condensed rings, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 to 4 condensed rings. is more preferred, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 or 3 condensed rings is even more preferred.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-30, more preferably 1-18, and still more preferably 1-12.
  • the aryl group and heterocyclic group may have a substituent. Substituents include the substituent T described later.
  • R1 * in formula (R1) represents a linker.
  • Rs 1 to Rs 3 in formula (R1) each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by Rs 1 to Rs 3 is preferably 1-20, more preferably 1-15, and even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • Rs 1 to Rs 3 are preferably hydrogen atoms.
  • the heterocyclic group represented by As 3 in formula (R1) includes the heterocyclic groups described above, and the preferred range is also the same.
  • n s1 in formula (R1) represents an integer of 0 or more.
  • n s1 is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and still more preferably 0.
  • R1 Rs 1 and Rs 2 may be bonded together to form a ring, Rs 1 and As 3 may be bonded together to form a ring, Rs 2 and Rs 3 are , may combine with each other to form a ring.
  • the linking group for forming the above ring is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of -CO-, -O-, -NH-, an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms and a combination thereof.
  • An alkylene group as a linking group may be unsubstituted or may have a substituent. Examples of the substituent include the substituent T described later.
  • n s1 when n s1 is 2 or more, a plurality of Rs 2 and Rs 3 may be the same or different.
  • substituent T examples include halogen atoms (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), alkyl groups (preferably alkyl groups having 1 to 30 carbon atoms), alkenyl groups (preferably having 2 to 30 alkenyl groups), alkynyl groups (preferably alkynyl groups having 2 to 30 carbon atoms), aryl groups (preferably aryl groups having 6 to 30 carbon atoms), heterocyclic groups (preferably heterocyclic groups having 1 to 30 carbon atoms group), an amino group (preferably an amino group having 0 to 30 carbon atoms), an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms), an aryloxy group (preferably an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms), heterocyclic oxy group (preferably heterocyclic oxy group having 1 to 30 carbon atoms), acyl group (preferably acyl group having 2 to 30 carbon atoms), alkoxycarbonyl group (preferably alk
  • Examples of cations include alkali metal ions (Li + , Na + , K + , etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ions, and the like. ) and the like. These groups may further have substituents if they are substitutable groups.
  • a preferred embodiment of the squarylium dye is an embodiment in which the squarylium dye is a squarylium dye. According to this aspect, the influence of scattered light is small, and the transmittance in the wavelength region where light transmittance is required can be further improved.
  • the squarylium dye includes a squarylium dye represented by formula (SQ2) (hereinafter also referred to as squarylium dye (SQ2)), a squarylium dye represented by formula (SQ3) (hereinafter also referred to as squarylium dye (SQ3)), and It is preferably at least one selected from squarylium dyes represented by the formula (SQ4) (hereinafter also referred to as squarylium dyes (SQ4)), more preferably squarylium dyes (SQ4).
  • the squarylium dye is an embodiment in which the squarylium dye is a squarylium pigment.
  • a film having excellent heat resistance can be formed.
  • the squarylium pigment is a squarylium pigment represented by formula (SQ5) (hereinafter also referred to as squarylium pigment (SQ5)) and a squarylium pigment represented by formula (SQ6) (hereinafter also referred to as squarylium pigment (SQ6)). At least one selected is preferred.
  • the solubility of the squarylium dye in 100 g of propylene glycol methyl ether acetate at 25° C. is preferably 1 g or more, more preferably 2 g or more, and even more preferably 5 g or more.
  • the solubility of the squarylium pigment in 100 g of propylene glycol methyl ether acetate at 25° C. is preferably less than 1 g, more preferably 0.1 g or less, even more preferably 0.01 g or less.
  • R a1 to R a4 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic ring a group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or -NR a11 R a12 , wherein R a11 and R a12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, R b1 to R b4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group,
  • the halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the above alkyl group may have a substituent.
  • substituents include the substituents T described above, which are selected from the group consisting of aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, sulfo groups, hydroxy groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, phosphoric acid groups and amino groups. It is preferable that it is at least one kind.
  • the alkyl group is preferably a halogen-substituted alkyl group, and also preferably a fluoroalkyl group.
  • the aryl group preferably has 6 to 48 carbon atoms, more preferably 6 to 22 carbon atoms, and still more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryl group may have a substituent.
  • substituents include the substituents T described above, which are selected from the group consisting of alkyl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, sulfo groups, hydroxy groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, phosphoric acid groups and amino groups. It is preferable that it is at least one kind.
  • the heterocyclic group is preferably a 5-membered or 6-membered heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 to 8 condensed rings, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 to 4 condensed rings. is more preferred, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 or 3 condensed rings is even more preferred.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-30, more preferably 1-18, and even more preferably 1-12.
  • the heterocyclic group may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • the number of carbon atoms in the alkoxy group is preferably 1-20, more preferably 1-15, and even more preferably 1-8.
  • Alkoxy groups are preferably linear or branched.
  • the alkoxy group may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • the number of carbon atoms in the acyl group is preferably 2-30, more preferably 2-15, and even more preferably 2-8.
  • the acyl group include a formyl group, an alkylcarbonyl group, and an arylcarbonyl group.
  • the number of carbon atoms in the alkylcarbonyl group is preferably 2-30, more preferably 2-15, even more preferably 2-8.
  • the number of carbon atoms in the arylcarbonyl group is preferably 7-30, more preferably 7-20, even more preferably 7-12.
  • the acyl group may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • the alkoxycarbonyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 15 carbon atoms, and still more preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkoxycarbonyl group may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • R a1 and Y a1 may combine to form a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing at least one nitrogen atom
  • R a2 and Y a1 combine may form a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing at least one nitrogen atom
  • R a3 and Y a2 combine to form a 5-membered ring containing at least one nitrogen atom or
  • a 6-membered heterocyclic ring may be formed
  • R a4 and Y a2 may combine to form a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing at least one nitrogen atom.
  • the formed heterocyclic ring may have a substituent.
  • Substituents include the above-described substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • R b1 and R b2 in formula (SQ2) is —NR b11 R b12 , and the other is preferably a hydrogen atom. It is also preferred that one of R b3 and R a4 is —NR b11 R b12 and the other is a hydrogen atom.
  • R b11 and R b12 are each independently preferably an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an acyl group, more preferably an acyl group.
  • X 1 and X 2 each independently represent -O-, -S-, -Se-, -NR c10 - or -CR d10 R d11 -;
  • R c1 , R c2 and R c10 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group;
  • R d1 to R d8 , R d10 and R d11 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group, an aryl group, a hetero a cyclic group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or —NR d21 R a22 , wherein R d21 and R d22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen
  • halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, acyl group, and alkoxycarbonyl group in formula (SQ3) are the halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, It is the same as acyl group and alkoxycarbonyl group, and the preferred range is also the same.
  • two adjacent groups among R d1 to R d8 may combine to form a ring.
  • the ring formed may be a hydrocarbon ring or a heterocyclic ring.
  • the hydrocarbon ring and the heterocyclic ring may be aromatic rings or non-aromatic rings.
  • the hydrocarbon ring and heterocyclic ring may be monocyclic or condensed.
  • the ring to be formed is preferably a 5- or 6-membered hydrocarbon ring or heterocyclic ring.
  • the formed ring may have a substituent.
  • Substituents include the above-described substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • X 41 and X 42 each independently represent a divalent linking group represented by formula (X-1) or formula (X-2), R 41a and R 41b each independently represent an alkyl group or an aryl group; R 42a , R 42b , R 43a and R 43b each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group or an alkoxy group; R 44a and R 44b each independently represent an alkyl group or an aryl group; -(CR X1 R X2 ) n1 - (X-1) In formula (X-1), R 1 X1 and R 1 X2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and n1 is 2 or 3; -(CR X3 R X4 ) n2 -O-(CR X5 R X6 ) n3 - (X-2) In formula (X-2), R X
  • halogen atom, alkyl group, aryl group, and alkoxy group in formula (SQ4) are the same as the halogen atom, alkyl group, aryl group, and alkoxy group in formula (SQ2), and the preferred ranges are also the same.
  • n1 in formula (X-1) is preferably 2.
  • R 1 X1 and R 1 X2 in formula (X-1) are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group.
  • n2+n3 in formula (X-2) is preferably 1.
  • R X3 to R X6 in formula (X-2) are preferably each independently a hydrogen atom or an alkyl group.
  • X 41 and X 42 in formula (SQ4) are preferably each independently a divalent linking group represented by formula (X-1).
  • R 51 to R 70 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , —COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, and R 71 to R 77 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a hetero represents a cyclic group, wherein R 71 and R 72 may be combined to form a ring, R 73 and R 74 may be combined to form a ring, and R 76 and R 77 are may be joined together to form a ring, Two adjacent groups among R 51 to R 70 may combine to form a ring.
  • halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and alkoxy group are the same as the halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, and alkoxy group in formula (SQ2), and the preferred ranges are also the same.
  • the number of carbon atoms in the alkenyl group is preferably 1-20, more preferably 1-15, and even more preferably 1-8.
  • Alkenyl groups are preferably linear or branched.
  • the alkenyl group may have a substituent. Examples of substituents include the substituents T described above, which are selected from the group consisting of aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, sulfo groups, hydroxy groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, phosphoric acid groups and amino groups. It is preferable that it is at least one kind.
  • the number of carbon atoms in the aryloxy group is preferably 6-48, more preferably 6-22, and even more preferably 6-12.
  • the aryl group may have a substituent.
  • substituents include the substituents T described above, which are selected from the group consisting of alkyl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, sulfo groups, hydroxy groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, phosphoric acid groups and amino groups. It is preferable that it is at least one kind.
  • R 55 , R 56 , R 65 and R 66 in formula (SQ5) are preferably hydrogen atoms.
  • At least one of R 51 to R 54 in formula (SQ5) is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , —COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom is preferred, and an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom is more preferred.
  • one of R 51 to R 54 is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , — COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, the remainder preferably being hydrogen atoms, one of R 51 to R 54 being an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom and the remainder is more preferably a hydrogen atom.
  • At least one of R 57 to R 60 in formula (SQ5) is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , --COOR 75 , --CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom is preferred, and an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom is more preferred.
  • one of R 57 to R 60 is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , — COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, the remainder preferably being hydrogen atoms, one of R 57 to R 60 being an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom and the remainder is more preferably a hydrogen atom.
  • At least one of R 61 to R 64 in formula (SQ5) is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , --COOR 75 , --CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom is preferred, and an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom is more preferred.
  • one of R 61 to R 64 is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , — COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, the remainder preferably being hydrogen atoms, one of R 61 to R 64 being an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom and the remainder is more preferably a hydrogen atom.
  • At least one of R 67 to R 70 in formula (SQ5) is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , --COOR 75 , --CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom is preferred, and an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom is more preferred.
  • R 67 to R 70 is an alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , — COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, the remainder preferably being hydrogen atoms, one of R 67 to R 70 being an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom and the remainder is more preferably a hydrogen atom.
  • the ring formed may be a hydrocarbon ring or a heterocyclic ring.
  • the hydrocarbon ring and the heterocyclic ring may be aromatic rings or non-aromatic rings.
  • the hydrocarbon ring and heterocyclic ring may be monocyclic or condensed.
  • the ring to be formed is preferably a 5- or 6-membered hydrocarbon ring or heterocyclic ring.
  • the formed ring may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • Q 1a , Q 1b , Q 4a , Q 4b , Q 5a , Q 5b , Q 8a and Q 8b each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom; However, when Q 1a is a nitrogen atom, Rq 1a does not exist, when Q 1b is a nitrogen atom, Rq 1b does not exist, and when Q 4a is a nitrogen atom, Rq 4a does not exist, When Q 4b is a nitrogen atom, Rq 4b is absent, when Q 5a is a nitrogen atom, Rq 5a is absent, when Q 5b is a nitrogen atom, Rq 5b is absent, Q 8a is a nitrogen atom, Rq 8a is absent, and when Q 8b is a nitrogen atom, Rq 8b is absent; R 81a to R 85a and R 81b to R 85b each independently represent a hydrogen atom, a sulfo group,
  • the halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, and acyl group are the same as the halogen atom, alkyl group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, and acyl group in formula (SQ2), and are preferred. The same applies to the range.
  • the alkenyl group and aryloxy group are the same as the alkenyl group and aryloxy group in formula (SQ5), and the preferred ranges are also the same.
  • —SO 3 ⁇ M + represented by R 81a to R 85a and R 81b to R 85b known inorganic or organic cations represented by M + can be employed without limitation. Examples include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ions and the like.
  • Q 1a , Q 1b , Q 4a , Q 4b , Q 5a , Q 5b , Q 8a and Q 8b in formula (SQ6) are preferably carbon atoms.
  • R 81a to R 85a and R 81b to R 85b in formula (SQ6) are preferably hydrogen atoms.
  • M + is an inorganic or organic cation
  • Rq 1a to Rq 8a and Rq 1b to Rq 8b in Formula (SQ6) are each independently preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a hydroxy group, —NRq 11 Rq 12 or a halogen atom.
  • Two adjacent groups among R 81a to R 85a in formula (SQ6) may be bonded together to form a ring, and two adjacent groups among R 81b to R 85b may be bonded together to form a ring.
  • the ring formed may be a hydrocarbon ring or a heterocyclic ring.
  • the hydrocarbon ring and the heterocyclic ring may be aromatic rings or non-aromatic rings.
  • the hydrocarbon ring and heterocyclic ring may be monocyclic or condensed.
  • the ring to be formed is preferably a 5- or 6-membered hydrocarbon ring or heterocyclic ring.
  • the formed ring may have a substituent.
  • substituents include the above-mentioned substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • the squarylium dye is preferably an infrared absorber. Further, the maximum absorption wavelength of the squarylium dye preferably exists at a wavelength of 650 nm or more, more preferably in the wavelength range of 650 to 1500 nm, even more preferably in the wavelength range of 660 to 1200 nm. It is particularly preferred to be present in the range of -1000 nm.
  • squarylium dyes include the compounds shown below.
  • P001 to P006 and P101 to P106 are squarylium pigments
  • D001 to D004 are squarylium dyes.
  • the content of the squarylium dye represented by formula (SQ1) in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 1 to 60% by mass.
  • the upper limit is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of squarylium dye represented by formula (SQ1), or may contain two or more types. When two or more squarylium dyes represented by formula (SQ1) are included, the total amount thereof preferably falls within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains a compound represented by formula (1a) (hereinafter also referred to as a specific compound).
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains 0.01 to 1.0 parts by mass of a specific compound (compound represented by formula (1a)) per 100 parts by mass of the squarylium dye represented by formula (SQ1). contains.
  • the upper limit of the content of the specific compound is preferably 0.9 parts by mass or less, more preferably 0.8 parts by mass or less, because the light resistance of the resulting film can be further improved.
  • the lower limit of the content of the specific compound is preferably 0.05 parts by mass or more, and 0.1 parts by mass or more, because the light resistance of the resulting film can be further improved and the rectangularity can be further improved. is more preferably 0.2 parts by mass or more, and even more preferably 0.3 parts by mass or more.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of specific compound, or may contain two or more types thereof.
  • a 1 represents an aryl group, a heterocyclic group or a group represented by the above formula (R1)
  • R 101 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
  • a 1 in formula (1a) has the same meaning as A 1 in formula (SQ1), and the preferred range is also the same.
  • the number of carbon atoms in the alkyl group represented by R 101 is preferably 1-20, more preferably 1-15, even more preferably 1-8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the above alkyl group may have a substituent. Examples of substituents include the above-mentioned substituents T, selected from the group consisting of aryl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, sulfo groups, hydroxy groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, phosphoric acid groups and amino groups. It is preferable that it is at least one kind.
  • the number of carbon atoms in the aryl group represented by R 101 is preferably 6-48, more preferably 6-22, even more preferably 6-12.
  • the aryl group may have a substituent.
  • substituents include the substituents T described above, which are selected from the group consisting of alkyl groups, heterocyclic groups, halogen atoms, sulfo groups, hydroxy groups, cyano groups, nitro groups, carboxy groups, phosphoric acid groups and amino groups. It is preferable that it is at least one kind.
  • the heterocyclic group represented by R 101 is preferably a 5- or 6-membered heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 to 8 condensed rings, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 to 4 condensed rings. is more preferred, and a monocyclic heterocyclic group or a condensed heterocyclic group having 2 or 3 condensed rings is even more preferred.
  • a heteroatom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-3, more preferably 1-2.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1-30, more preferably 1-18, and still more preferably 1-12.
  • the heterocyclic group may have a substituent.
  • Substituents include the above-described substituents T, consisting of an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxyl group, a phosphate group and an amino group. It is preferably at least one selected from the group.
  • R 101 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, even more preferably a hydrogen atom.
  • the specific compound is a compound represented by the formula (2a) described later (hereinafter also referred to as a specific compound (2a)), a compound represented by the formula (3a) (hereinafter also referred to as a specific compound (3a)), a formula ( 4a) (hereinafter also referred to as the specific compound (4a)), the compound represented by the formula (5a) (hereinafter also referred to as the specific compound (5a)), and the formula (6a) It is preferably at least one selected from compounds (hereinafter also referred to as specific compound (6a)).
  • the squarylium dye is at least one selected from the above-mentioned squarylium dyes (SQ2), squarylium dyes (SQ3) and squarylium dyes (SQ4), and the specific compound is A combination of at least one selected from specific compound (2a), specific compound (3a) and specific compound (4a) is included.
  • a combination in which the squarylium dye is the squarylium dye (SQ2) and the specific compound is the specific compound (2a)
  • a combination in which the squarylium dye is the squarylium dye (SQ3) and the specific compound is the specific compound (3a).
  • the squarylium dye is the squarylium dye (SQ4) and the specific compound is the specific compound (4a)
  • the squarylium dye is the squarylium dye for the reason that it is possible to form pixels with more excellent lightfastness and rectangularity.
  • a more preferred combination is the squarylium dye (SQ4) and the specific compound is the specific compound (4a).
  • the squarylium dye is at least one selected from the above-described squarylium pigments (SQ5) and squarylium pigments (SQ6), and the specific compound is the specific compound (5a). and at least one selected from the specific compound (6a).
  • the squarylium pigment is a squarylium pigment (SQ5) and the specific compound is a specific compound (5a), or a combination of squarylium pigment (SQ5) and the specific compound (5a), or squarylium
  • the dye is the squarylium pigment (SQ6) and the specific compound is the specific compound (6a) is preferred.
  • R a1 and R a2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic ring a group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or -NR a11 R a12 , wherein R a11 and R a12 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, R b1 and R b2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group, an aryl group
  • R a1 , R a2 , R b1 , R b2 and Ya 1 in formula (2a) have the same meanings as R a1 , R a2 , R b1 , R b2 and Ya 1 in formula (SQ2), and the preferred ranges are also the same.
  • R 102 in formula (2a) has the same definition as R 101 in formula (1a), and the preferred range is also the same.
  • X 1 represents -O-, -S-, -Se-, -NR c10 - or -CR d10 R d11 -;
  • R c1 and R c10 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group;
  • R d1 to R d4 , R d10 and R d11 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a sulfo group, a hydroxy group, a cyano group, a nitro group, a carboxy group, a phosphate group, an alkyl group, an aryl group, a hetero a cyclic group, an alkoxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, or —NR d21 R a22 , wherein R d21 and R d22 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an ary
  • X 1 , R c1 , and R d1 to R d4 in formula (3a) have the same meanings as X 1 , R c1 , and R d1 to R d4 in formula (SQ3), and the preferred ranges are also the same.
  • R 103 in formula (3a) has the same definition as R 101 in formula (1a), and the preferred range is also the same.
  • X 41 represents a divalent linking group represented by formula (X-1) or formula (X-2) above, R 41a represents an alkyl group or an aryl group, R 42a and R 43a each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group; R 44a represents an alkyl group or an aryl group, R 104 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group.
  • X 41 , R 41a , R 42a , R 43a and R 44a in Formula (4a) have the same meanings as X 41 , R 41a , R 42a , R 43a and R 44a in Formula (SQ4), and the preferred ranges are also the same.
  • R 104 in formula (4a) has the same definition as R 101 in formula (1a), and the preferred range is also the same.
  • R 51 to R 60 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a sulfo group, —NR 71 R 72 , —SO 2 NR 73 R 74 , —COOR 75 , —CONR 76 R 77 , a nitro group, a cyano group or a halogen atom, and R 71 to R 77 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a hetero represents a cyclic group, wherein R 71 and R 72 may be combined to form a ring, R 73 and R 74 may be combined to form a ring, and R 76 and R 77 are may be joined together to form a ring, Two adjacent groups among R 51 to R 60 may be bonded to form a ring, R 105 represents
  • R 51 to R 60 in formula (5a) have the same definitions as R 51 to R 60 in formula (SQ5), and the preferred ranges are also the same.
  • R 105 in formula (5a) has the same definition as R 101 in formula (1a), and the preferred range is also the same.
  • Q 1a , Q 4a , Q 5a and Q 8a each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom; However, when Q 1a is a nitrogen atom, Rq 1a does not exist, when Q 4a is a nitrogen atom, Rq 4a is absent; Rq 5a is absent when Q 5a is a nitrogen atom, and Rq 8a is absent when Q 8a is a nitrogen atom; R 81a to R 85a each independently represent a hydrogen atom, a sulfo group, —SO 3 ⁇ M + or a halogen atom, M + represents an inorganic or organic cation; two adjacent groups among R 81a to R 85a may combine to form a ring; Rq 1a to Rq 8a each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a
  • Q 1a , Q 4a , Q 5a , Q 8a , R 81a to R 85a and Rq 1a to Rq 8a in formula (6a) are equivalent to Q 1a , Q 4a , Q 5a , Q 8a , R 81a to R 85a is synonymous with Rq 1a to Rq 8a , and the preferred ranges are also the same.
  • R 106 in formula (6a) has the same definition as R 101 in formula (1a), and the preferred range is also the same.
  • the content of the specific compound in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.005 to 0.1% by mass.
  • the upper limit is preferably 0.09% by mass or less, more preferably 0.08% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.02% by mass or more.
  • the content of the specific compound is preferably 0.05 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the photopolymerization initiator.
  • the upper limit is preferably 0.9 parts by mass or less, more preferably 0.8 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 0.2 parts by mass or more.
  • the content of the specific compound is preferably 0.025 to 0.5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound.
  • the upper limit is preferably 0.45 parts by mass or less, more preferably 0.4 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 0.05 parts by mass or more, more preferably 0.1 parts by mass or more.
  • the infrared absorbing composition of the invention contains a resin.
  • the resin is blended, for example, for dispersing a pigment or the like in the composition or for a binder.
  • a resin that is mainly used to disperse a pigment or the like in a composition is also called a dispersant.
  • such uses of the resin are only examples, and the resin can be used for purposes other than such uses.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 3,000 to 2,000,000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 5000 or more.
  • resins include (meth)acrylic resins, epoxy resins, ene-thiol resins, polycarbonate resins, polyether resins, polyarylate resins, polysulfone resins, polyethersulfone resins, polyphenylene resins, polyarylene ether phosphine oxide resins, polyimide resins, Polyamide resins, polyamideimide resins, polyolefin resins, cyclic olefin resins, polyester resins, styrene resins, vinyl acetate resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, and the like.
  • norbornene resin is preferable from the viewpoint of improving heat resistance.
  • Commercially available norbornene resins include, for example, the ARTON series manufactured by JSR Corporation (for example, ARTON F4520). Further, as the resin, the resin described in the examples of International Publication No.
  • a resin having a fluorene skeleton can also be preferably used.
  • the description of US Patent Application Publication No. 2017/0102610 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • the resin the resin described in paragraphs 0199 to 0233 of JP-A-2020-186373, the alkali-soluble resin described in JP-A-2020-186325, and the Korean Patent Publication No. 10-2020-0078339.
  • a resin represented by the formula 1 can also be used.
  • a resin having an acid group As the resin.
  • acid groups include carboxy groups, phosphoric acid groups, sulfo groups, and phenolic hydroxy groups. Only one kind of these acid groups may be used, or two or more kinds thereof may be used.
  • a resin having an acid group can be used, for example, as an alkali-soluble resin.
  • the acid value of the resin having acid groups is preferably 30-500 mgKOH/g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH/g or more, more preferably 70 mgKOH/g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH/g or less, more preferably 200 mgKOH/g or less, still more preferably 150 mgKOH/g or less, and most preferably 120 mgKOH/g or less.
  • a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the formula (ED1) and/or a compound represented by the formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as an "ether dimer"). It is also preferred to include
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description in JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP-A-2013-029760 can be referred to, the content of which is incorporated herein.
  • the resin preferably contains a resin containing a repeating unit having a polymerizable group.
  • the polymerizable group include ethylenically unsaturated bond-containing groups.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0-15.
  • the number of carbon atoms in the alkylene group represented by R 21 and R 22 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, even more preferably 1 to 3, particularly 2 or 3.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by formula (X) include ethylene oxide- or propylene oxide-modified (meth)acrylate of paracumylphenol.
  • Commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin preferably contains a resin as a dispersant.
  • Dispersants include acidic dispersants (acidic resins) and basic dispersants (basic resins).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is greater than the amount of basic groups.
  • the acidic dispersant (acidic resin) a resin having an acid group content of 70 mol % or more is preferable when the total amount of the acid group and the basic group is 100 mol %.
  • the acid group possessed by the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxy group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 10-105 mgKOH/g.
  • a basic dispersant represents a resin in which the amount of basic groups is greater than the amount of acid groups.
  • a resin containing more than 50 mol % of basic groups is preferable when the total amount of acid groups and basic groups is 100 mol %.
  • the basic group possessed by the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft resin.
  • graft resin for details of the graft resin, reference can be made to paragraphs 0025 to 0094 of JP-A-2012-255128, the contents of which are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a polyimine-based dispersant containing nitrogen atoms in at least one of its main chain and side chains.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group with a pKa of 14 or less and a side chain having 40 to 10,000 atoms, and at least one of the main chain and the side chain has a basic nitrogen atom.
  • a resin having The basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP-A-2012-255128 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core.
  • resins include, for example, dendrimers (including star polymers). Further, specific examples of dendrimers include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP-A-2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in its side chain.
  • the content of repeating units having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, more preferably 20 to 70, of the total repeating units of the resin. More preferably, it is mol %.
  • resins described in JP-A-2018-087939, block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077, Polyethyleneimine having a polyester side chain described in International Publication No. 2016/104803, a block copolymer described in International Publication No. 2019/125940, a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066687 , a block polymer having an acrylamide structural unit described in JP-A-2020-066688 can also be used.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DISPERBYK series manufactured by BYK-Chemie Japan, SOLSPERSE series manufactured by Lubrizol Japan, Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine Techno ( Co., Ltd. Ajisper series and the like.
  • the product described in paragraph number 0129 of JP-A-2012-137564 and the product described in paragraph number 0235 of JP-A-2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the resin content in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 1 to 85% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 80% by mass or less, more preferably 75% by mass or less, and even more preferably 70% by mass or less.
  • the content of the resin as a dispersant in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.5 to 40% by mass.
  • the upper limit is preferably 30% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more.
  • the content of the resin as a dispersant is preferably 1 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the squarylium dye.
  • the upper limit is preferably 80 parts by mass or less, more preferably 75 parts by mass or less.
  • the lower limit is preferably 2.5 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may contain only one type of resin, or may contain two or more types. When two or more resins are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain an infrared absorbing agent (another infrared absorbing agent) other than the squarylium dye described above. Furthermore, by containing other infrared absorbing agents, it is possible to form a film capable of shielding infrared rays in a wider wavelength range.
  • Other infrared absorbers may be dyes or pigments (particles).
  • infrared absorbers include pyrrolopyrrole compounds, polymethine compounds, phthalocyanine compounds, naphthalocyanine compounds, quaterrylene compounds, merocyanine compounds, croconium compounds, oxonol compounds, iminium compounds, dithiol compounds, triarylmethane compounds, pyrromethene compounds, and azomethine compounds. , anthraquinone compounds, dibenzofuranone compounds, dithiolene metal complexes, metal oxides, metal borides, and the like.
  • pyrrolopyrrole compound compounds described in paragraph numbers 0016 to 0058 of JP-A-2009-263614, compounds described in paragraph numbers 0037-0052 of JP-A-2011-068731, WO 2015/166873 Compounds described in Paragraph Nos. 0010 to 0033 and the like.
  • polymethine compounds include compounds described in paragraph numbers 0044 to 0045 of JP-A-2009-108267, compounds described in paragraph numbers 0026-0030 of JP-A-2002-194040, and JP-A-2015-172004.
  • Examples of croconium compounds include compounds described in JP-A-2017-082029.
  • As the iminium compound for example, compounds described in JP-A-2008-528706, compounds described in JP-A-2012-012399, compounds described in JP-A-2007-092060, International Publication No. 2018/043564 and the compounds described in paragraphs 0048 to 0063 of.
  • phthalocyanine compound examples include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153, oxytitanium phthalocyanine described in JP-A-2006-343631, and paragraph numbers 0013 to 0029 of JP-A-2013-195480. compounds, vanadium phthalocyanine compounds described in Japanese Patent No. 6081771, and compounds described in International Publication No. 2020/071470. Examples of naphthalocyanine compounds include compounds described in paragraph number 0093 of JP-A-2012-077153. Dithiolene metal complexes include compounds described in Japanese Patent No. 5733804.
  • metal oxides include indium tin oxide, antimony tin oxide, zinc oxide, Al-doped zinc oxide, fluorine-doped tin dioxide, niobium-doped titanium dioxide, and tungsten oxide.
  • metal borides include lanthanum boride.
  • Commercially available lanthanum boride products include LaB 6 -F (manufactured by Nippon New Metal Co., Ltd.).
  • a metal boride the compound as described in international publication 2017/119394 can also be used.
  • commercially available products of indium tin oxide include F-ITO (manufactured by DOWA Hitech Co., Ltd.).
  • tungsten oxide represented by the following formula described in paragraph 0025 of EP 3628645 can also be used.
  • M 1 and M 2 represent an ammonium cation or a metal cation
  • a is 0.01 to 0.5
  • b is 0 to 0.5
  • c is 1
  • d is 2.5 to 3.
  • e 0.01 to 0.75
  • n is 1, 2 or 3
  • m is 1, 2 or 3
  • R is a hydrocarbon group optionally having a substituent show.
  • the content of the other infrared absorbing agent is preferably 1 to 100 parts by mass, more preferably 3 to 60 parts by mass, and 5 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the above-described squarylium dye. is more preferred.
  • the total content of the squarylium dye and the other infrared absorbing agent in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more. % or more is more preferable.
  • the upper limit of the total content is preferably 50% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, and even more preferably 30% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition of the invention can further contain a dye derivative.
  • Dye derivatives are used as dispersing aids. Examples of dye derivatives include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to a dye skeleton.
  • the dye skeleton constituting the dye derivative includes a squarylium dye skeleton, a pyrrolopyrrole dye skeleton, a diketopyrrolopyrrole dye skeleton, a quinacridone dye skeleton, an anthraquinone dye skeleton, a dianthraquinone dye skeleton, a benzoisoindole dye skeleton, and a thiazineindigo dye skeleton.
  • a squarylium dye skeleton, a pyrrolopyrrole dye skeleton, a diketopyrrolopyrrole dye skeleton, a phthalocyanine dye skeleton, a quinacridone dye skeleton and a benzimidazolone dye skeleton are preferred, and a squarylium dye skeleton and a pyrrolopyrrole dye skeleton are more preferred.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group, a boronic acid group, a carboxylic acid amide group, a sulfonamide group, an imidic acid group and salts thereof.
  • Atoms or atomic groups constituting the salt include alkali metal ions (Li + , Na + , K + etc.), alkaline earth metal ions (Ca 2+ , Mg 2+ etc.), ammonium ions, imidazolium ions, pyridinium ions, phosphonium ion and the like.
  • the carboxylic acid amide group a group represented by —NHCOR X1 is preferable.
  • a group represented by —NHSO 2 R X2 is preferable.
  • the imidic acid group is preferably a group represented by —SO 2 NHSO 2 R X3 , —CONHSO 2 R X4 , —CONHCOR X5 or —SO 2 NHCOR X6 , more preferably —SO 2 NHSO 2 R X3 .
  • R X1 to R X6 each independently represent an alkyl group or an aryl group.
  • the alkyl groups and aryl groups represented by R X1 to R X6 may have substituents.
  • the substituent is preferably a halogen atom, more preferably a fluorine atom.
  • Basic groups include amino groups, pyridinyl groups and salts thereof, salts of ammonium groups, and phthalimidomethyl groups.
  • Atoms or atomic groups constituting salts include hydroxide ions, halogen ions, carboxylate ions, sulfonate ions, and phenoxide ions.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment.
  • the lower limit is preferably 3 parts by mass or more, more preferably 5 parts by mass or more.
  • the upper limit is preferably 40 parts by mass or less, more preferably 30 parts by mass or less. Only one dye derivative may be used, or two or more dye derivatives may be used. When two or more kinds are used, the total amount is preferably within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain a polymerizable compound.
  • a polymerizable compound known compounds that can be crosslinked by radicals, acids or heat can be used.
  • the polymerizable compound is preferably, for example, a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group. Examples of ethylenically unsaturated bond-containing groups include vinyl groups, (meth)allyl groups, and (meth)acryloyl groups.
  • the polymerizable compound used in the present invention is preferably a radically polymerizable compound.
  • the polymerizable compound may be in any chemical form such as a monomer, prepolymer, or oligomer, but is preferably a monomer.
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 100-2500.
  • the upper limit is more preferably 2000 or less, and even more preferably 1500 or less.
  • the lower limit is more preferably 150 or more, even more preferably 250 or more.
  • the polymerizable compound is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, more preferably a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups, an ethylenically unsaturated bond Compounds containing 3 to 6 containing groups are more preferred.
  • the polymerizable compound is preferably a 3- to 15-functional (meth)acrylate compound, more preferably a 3- to 6-functional (meth)acrylate compound.
  • polymerizable compound examples include paragraph numbers 0095 to 0108 of JP-A-2009-288705, paragraph 0227 of JP-A-2013-029760, paragraph numbers 0254-0257 of JP-A-2008-292970, and JP-A-2008-292970. 2013-253224, paragraphs 0034 to 0038, JP 2012-208494, paragraph 0477, JP 2017-048367, JP 6057891, the compound described in JP 6031807 , the contents of which are incorporated herein.
  • Polymerizable compounds include dipentaerythritol triacrylate (commercially available as KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol tetraacrylate (commercially available as KAYARAD D-320; Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol penta(meth)acrylate commercially available as KAYARAD D-310; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol hexa(meth)acrylate commercially available as KAYARAD DPHA; Nippon Kayaku Co., Ltd., NK Ester A-DPH-12E; Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • Compounds eg SR454, SR499, commercially available from Sartomer
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate
  • pentaerythritol tetraacrylate manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., NK Ester A -TMMT
  • 1,6-hexanediol diacrylate manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA
  • RP-1040 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • Aronix TO-2349 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • NK Oligo UA-7200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
  • DPHA-40H manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • polymerizable compounds examples include trimethylolpropane tri(meth)acrylate, trimethylolpropane propylene oxide-modified tri(meth)acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri(meth)acrylate, and pentaerythritol.
  • Trifunctional (meth)acrylate compounds such as tri(meth)acrylate can also be used.
  • Commercial products of trifunctional (meth)acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306 and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an acid group can also be used as the polymerizable compound.
  • the acid group includes a carboxy group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxy group is preferred.
  • Examples of the polymerizable compound having an acid group include succinic acid-modified dipentaerythritol penta(meth)acrylate.
  • Commercially available polymerizable compounds having an acid group include Aronix M-510, M-520 and Aronix TO-2349 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the acid value of the polymerizable compound having an acid group is preferably 0.1-40 mgKOH/g, more preferably 5-30 mgKOH/g.
  • the acid value of the polymerizable compound is 0.1 mgKOH/g or more, the solubility in the developer is good, and when it is 40 mgKOH/g or less, it is advantageous in terms of production and handling.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used as the polymerizable compound.
  • Commercially available polymerizable compounds having a caprolactone structure include KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • a polymerizable compound having an alkyleneoxy group can also be used as the polymerizable compound.
  • the polymerizable compound having an alkyleneoxy group is preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group and / or a propyleneoxy group, more preferably a polymerizable compound having an ethyleneoxy group, and 3 to 4 having 4 to 20 ethyleneoxy groups.
  • a hexafunctional (meth)acrylate compound is more preferred.
  • Commercially available polymerizable compounds having an alkyleneoxy group include, for example, SR-494, a tetrafunctional (meth)acrylate having four ethyleneoxy groups manufactured by Sartomer Co., Ltd., and an isobutyleneoxy group manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYARAD TPA-330, which is a trifunctional (meth)acrylate having three.
  • a polymerizable compound having a fluorene skeleton can also be used as the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • Commercially available products include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemicals Co., Ltd., (meth)acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • the compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group it is also preferable to use a compound such as toluene that does not substantially contain environmentally regulated substances.
  • Commercially available products of such compounds include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the content of the polymerizable compound in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.5 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition may contain only one polymerizable compound, or may contain two or more polymerizable compounds. When two or more polymerizable compounds are included, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator is not particularly limited and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators. For example, compounds having photosensitivity to light in the ultraviolet range to the visible range are preferred.
  • the photopolymerization initiator is preferably a photoradical polymerization initiator.
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • halogenated hydrocarbon derivatives e.g., compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds e.g., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole compounds, oxime compounds, organic peroxides, thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds and the like.
  • photopolymerization initiators include trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, acylphosphine compounds, phosphine oxide compounds, metallocene compounds, oxime compounds, hexaarylbi imidazole compounds, onium compounds, benzothiazole compounds, benzophenone compounds, acetophenone compounds, cyclopentadiene-benzene-iron complexes, halomethyloxadiazole compounds and 3-aryl-substituted coumarin compounds, oxime compounds, ⁇ -hydroxyketones compounds, ⁇ -aminoketone compounds, and acylphosphine compounds, more preferably oxime compounds.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacure 2959, Irgacure 127 (above, BASF company) and the like.
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 369E, and Irgacure 3.
  • acylphosphine compounds include Omnirad 819, Omnirad TPO (manufactured by IGM Resins B.V.), Irgacure 819 and Irgacure TPO (manufactured by BASF).
  • Examples of oxime compounds include compounds described in JP-A-2001-233842, compounds described in JP-A-2000-080068, compounds described in JP-A-2006-342166, J. Am. C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.1653-1660); C. S. Compounds described in Perkin II (1979, pp.156-162), compounds described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp.202-232), compounds described in JP-A-2000-066385, Compounds described in JP-A-2004-534797, compounds described in JP-A-2006-342166, compounds described in JP-A-2017-019766, compounds described in Patent No. 6065596, International Publication No.
  • oxime compounds include 3-benzoyloxyiminobutane-2-one, 3-acetoxyiminobutane-2-one, 3-propionyloxyiminobutane-2-one, 2-acetoxyiminopentane-3-one, 2-acetoxyimino-1-phenylpropan-1-one, 2-benzoyloxyimino-1-phenylpropan-1-one, 3-(4-toluenesulfonyloxy)iminobutan-2-one, 2-ethoxycarbonyloxyimino -1-phenylpropane-1-one, 1-[4-(phenylthio)phenyl]-3-cyclohexyl-propane-1,2-dione-2-(
  • An oxime compound having a fluorene ring can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorene ring include compounds described in JP-A-2014-137466, compounds described in Japanese Patent No. 6636081, and compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2016-0109444. be done.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such oxime compounds include compounds described in WO2013/083505.
  • An oxime compound having a fluorine atom can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom include compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36 to 40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. and the compound (C-3) of.
  • An oxime compound having a nitro group can be used as the photopolymerization initiator.
  • the oxime compound having a nitro group is also preferably a dimer.
  • Specific examples of the oxime compound having a nitro group include the compounds described in paragraph numbers 0031 to 0047 of JP-A-2013-114249 and paragraph numbers 0008-0012 and 0070-0079 of JP-A-2014-137466; Compounds described in paragraphs 0007 to 0025 of Japanese Patent No. 4223071 and ADEKA Arkles NCI-831 (manufactured by ADEKA Corporation) can be mentioned.
  • An oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as the photopolymerization initiator.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in WO 2015/036910.
  • an oxime compound in which a substituent having a hydroxyl group is bonded to the carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • oxime compounds preferably used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited to these.
  • the oxime compound is preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 350 to 500 nm, more preferably a compound having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 360 to 480 nm.
  • the molar extinction coefficient of the oxime compound at a wavelength of 365 nm or a wavelength of 405 nm is preferably high from the viewpoint of sensitivity, more preferably 1000 to 300000, further preferably 2000 to 300000, even more preferably 5000 to 200000. It is particularly preferred to have
  • the molar extinction coefficient of a compound can be measured using known methods. For example, it is preferably measured at a concentration of 0.01 g/L using an ethyl acetate solvent with a spectrophotometer (Cary-5 spectrophotometer manufactured by Varian).
  • a bifunctional or trifunctional or higher functional photoradical polymerization initiator may be used as the photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator two or more radicals are generated from one molecule of the radical photopolymerization initiator, so good sensitivity can be obtained.
  • the crystallinity is lowered, the solubility in a solvent or the like is improved, the precipitation becomes difficult over time, and the stability over time of the composition can be improved.
  • Specific examples of bifunctional or trifunctional or higher photoradical polymerization initiators include Japanese Patent Publication No. 2010-527339, Japanese Patent Publication No. 2011-524436, International Publication No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.5 to 30% by mass.
  • the lower limit is preferably 1% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and even more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention preferably contains a solvent.
  • the solvent include water and organic solvents, and organic solvents are preferred.
  • Organic solvents include ester-based solvents, ketone-based solvents, alcohol-based solvents, amide-based solvents, ether-based solvents, and hydrocarbon-based solvents.
  • Ester-based solvents substituted with cyclic alkyl groups and ketone-based solvents substituted with cyclic alkyl groups can also be preferably used.
  • organic solvents include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -heptanone, 3-pentanone, 4-heptanone, cyclohexanone, 2-methylcyclohexanone, 3-methylcyclohexanone, 4-methylcyclohexanone, cycloheptanone, cyclooctanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethylcarbitol acetate, butylcarbylate tall acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N,N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N,N-di
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may be better reduced for environmental reasons (e.g., 50 mass ppm (parts per million), 10 ppm by mass or less, or 1 ppm by mass or less).
  • an organic solvent with a low metal content it is preferable to use an organic solvent with a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per billion) or less. If necessary, an organic solvent with a ppt (parts per trillion) mass level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of methods for removing impurities such as metals from organic solvents include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore size of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the material of the filter is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds with the same number of atoms but different structures). Moreover, only one isomer may be contained, or a plurality of isomers may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol/L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the infrared absorbing composition is preferably 10-97% by mass.
  • the lower limit is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, still more preferably 50% by mass or more, even more preferably 60% by mass or more, and 70% by mass. It is particularly preferable that it is above.
  • the upper limit is preferably 96% by mass or less, more preferably 95% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of solvent, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain a chromatic colorant.
  • a chromatic colorant means a colorant other than a white colorant and a black colorant.
  • the chromatic colorant is preferably a colorant that absorbs in a wavelength range of 400 nm or more and less than 650 nm.
  • the chromatic colorants include red colorants, green colorants, blue colorants, yellow colorants, purple colorants and orange colorants.
  • a chromatic colorant may be a pigment or a dye.
  • a pigment and a dye may be used in combination.
  • the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment.
  • an inorganic pigment or a material in which a part of an organic-inorganic pigment is replaced with an organic chromophore can also be used. By replacing inorganic pigments or organic-inorganic pigments with organic chromophores, hue design can be facilitated.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle diameter of the pigment can be determined from the image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in the present invention is the arithmetic mean value of the primary particle sizes of 400 primary particles of the pigment. Further, the primary particles of the pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the chromatic colorant preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the chromatic colorant is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, still more preferably 80% by mass or more, and 90% by mass or more. is particularly preferred. Examples of pigments include those shown below.
  • a halogenated zinc phthalocyanine pigment having an average number of halogen atoms of 10 to 14, an average number of bromine atoms of 8 to 12, and an average number of chlorine atoms of 2 to 5 per molecule.
  • Specific examples include compounds described in International Publication No. 2015/118720.
  • Phthalocyanine compounds phthalocyanine compounds described in JP-A-2018-180023, compounds described in JP-A-2019-038958, core-shell type dyes described in JP-A-2020-076995, and the like can also be used.
  • An aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used as a blue pigment.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0022 to 0030 of JP-A-2012-247591 and paragraph number 0047 of JP-A-2011-157478.
  • red pigments diketopyrrolopyrrole compounds in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384, diketopyrrolopyrrole compounds described in paragraphs 0016 to 0022 of Japanese Patent No. 6248838, Diketopyrrolopyrrole compounds described in WO 2012/102399, diketopyrrolopyrrole compounds described in WO 2012/117965, naphthol azo compounds described in JP 2012-229344, Patent No. 6516119 Red pigment described in the publication, red pigment described in Patent No. 6525101, brominated diketopyrrolopyrrole compound described in paragraph number 0229 of JP 2020-090632, Korean Patent No.
  • 10-2019-0140741 Anthraquinone compounds described in publications, anthraquinone compounds described in Korean Patent Publication No. 10-2019-0140744, perylene compounds described in JP-A-2020-079396, and the like can also be used. Also, as a red pigment, a compound having a structure in which an aromatic ring group in which a group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom is bonded to an aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton may be used. can.
  • the pyrrolopyrrole-based pigment has a crystallite size of 140 ⁇ or less in the plane direction corresponding to the maximum peak in the X-ray diffraction pattern among the eight planes of ( ⁇ 1 ⁇ 1 ⁇ 1) among the crystal lattice planes. It is also preferred to use one. Further, the physical properties of the pyrrolopyrrole pigment are preferably set as described in paragraphs 0028 to 0073 of JP-A-2020-097744.
  • dyes can also be used as chromatic colorants.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • the dye, thiazole compounds described in JP-A-2012-158649, azo compounds described in JP-A-2011-184493, azo compounds described in JP-A-2011-145540 can also be preferably used. .
  • the content of the chromatic coloring agent in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 1 to 50% by mass.
  • the infrared absorbing composition of the present invention contains two or more chromatic colorants, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can also contain a coloring material that transmits infrared rays and blocks visible light (hereinafter also referred to as a coloring material that blocks visible light).
  • a coloring material that blocks visible light hereinafter also referred to as a coloring material that blocks visible light.
  • An infrared absorbing composition containing a coloring material that blocks visible light is preferably used as a composition for forming an infrared transmitting filter.
  • the colorant that blocks visible light is preferably a colorant that absorbs light in the wavelength range from violet to red. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that blocks light in the wavelength range of 450 to 650 nm. Further, the coloring material that blocks visible light is preferably a coloring material that transmits light having a wavelength of 900 to 1500 nm.
  • the colorant that blocks visible light preferably satisfies at least one of the following requirements (A) and (B).
  • organic black colorants include bisbenzofuranone compounds, azomethine compounds, perylene compounds, and azo compounds, with bisbenzofuranone compounds and perylene compounds being preferred.
  • bisbenzofuranone compounds include compounds described in Japanese Patent Publication No. 2010-534726, Japanese Patent Publication No. 2012-515233, Japanese Patent Publication No. 2012-515234, etc.
  • perylene compounds include compounds described in paragraphs 0016 to 0020 of JP-A-2017-226821, C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like.
  • the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-170601, JP-A-02-034664, and the like.
  • examples of the combination of chromatic colorants include the following aspects (1) to (8).
  • the content of the coloring material that blocks visible light in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 1 to 50% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, still more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as fluorine-based surfactants, nonionic surfactants, cationic surfactants, anionic surfactants and silicone surfactants can be used.
  • the surfactant is preferably a silicone-based surfactant or a fluorine-based surfactant.
  • surfactants reference can be made to surfactants described in paragraphs 0238-0245 of WO2015/166779, the contents of which are incorporated herein.
  • JP 2014-041318 Paragraph Nos. 0060 to 0064 (corresponding International Publication No. 2014/017669 Paragraph Nos. 0060 to 0064) surfactants described in, JP 2011- Examples include surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP-A-132503 and surfactants described in JP-A-2020-008634, the contents of which are incorporated herein.
  • Commercially available fluorosurfactants include Megafac F-171, F-172, F-173, F-176, F-177, F-141, F-142, F-143, and F-144.
  • the fluorosurfactant has a molecular structure with a functional group containing a fluorine atom, and an acrylic compound in which the functional group containing a fluorine atom is cleaved and the fluorine atom volatilizes when heat is applied is also suitable.
  • fluorine-based surfactants include Megafac DS series manufactured by DIC Corporation (Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Mega Fac DS-21.
  • fluorosurfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound as the fluorosurfactant.
  • fluorosurfactants include fluorosurfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated herein.
  • a block polymer can also be used as the fluorosurfactant.
  • the fluorosurfactant has a repeating unit derived from a (meth)acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meta)
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compound is preferably 3000-50000, for example 14000. In the above compounds, % indicating the ratio of repeating units is mol %.
  • a fluoropolymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in a side chain can also be used as the fluorosurfactant.
  • Specific examples include compounds described in paragraph numbers 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP-A-2010-164965, MEGAFACE RS-101, RS-102 and RS-718K manufactured by DIC Corporation, and RS-72-K.
  • compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP-A-2015-117327 can also be used.
  • a fluorine-containing imide salt compound represented by formula (fi-1) is a surfactant.
  • m represents 1 or 2
  • n represents an integer of 1 to 4
  • a represents 1 or 2
  • X a + is a valent metal ion, primary ammonium ion, Represents secondary ammonium ion, tertiary ammonium ion, quaternary ammonium ion or NH4 + .
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane and their ethoxylates and propoxylates (e.g., glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, Polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene octylphenyl ether, polyoxyethylene nonylphenyl ether, polyethylene glycol dilaurate, polyethylene glycol distearate, sorbitan fatty acid ester, Pluronic L10, L31, L61, L62, 10R5, 17R2, 25R2 (BASF company), Tetronic 304, 701, 704, 901, 904, 150R1 (manufactured by BASF), Solsperse 20000 (manufactured by Nippon Lubrizol Co., Ltd.), NCW-101, NCW-1001, NCW-1002 (Fuji
  • Silicone surfactants include DOWSIL SH8400, SH8400 FLUID, FZ-2122, 67 Additive, 74 Additive, M Additive, SF 8419 OIL (manufactured by Dow Toray Industries, Inc.), TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6000, KF-6001, KF-6002, KF-6003 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) , BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-330, BYK-333, BYK-3760, BYK-UV3510 (manufactured by BYK-Chemie) and the like.
  • a compound having the following structure can also be used as the silicone-based surfactant.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.001 to 1% by mass, more preferably 0.001 to 0.5% by mass, and 0.001 to 0.2% by mass. is more preferred.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of surfactant, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • Polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis(3-methyl-6-tert-butylphenol), 2,2′-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salts, cerous salts, etc.), and p-methoxyphenol is preferred.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of polymerization inhibitor, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain a silane coupling agent.
  • a silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly bonded to a silicon atom and capable of forming a siloxane bond by at least one of hydrolysis reaction and condensation reaction.
  • Hydrolyzable groups include, for example, halogen atoms, alkoxy groups, acyloxy groups and the like, with alkoxy groups being preferred. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Functional groups other than hydrolyzable groups include, for example, vinyl groups, styryl groups, (meth)acryloyl groups, mercapto groups, epoxy groups, oxetanyl groups, amino groups, ureido groups, sulfide groups, isocyanate groups, and phenyl groups. etc., and (meth)acryloyl groups and epoxy groups are preferred.
  • the silane coupling agent includes compounds described in paragraph numbers 0018 to 0036 of JP-A-2009-288703, and compounds described in paragraph numbers 0056-0066 of JP-A-2009-242604. incorporated into the specification.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.01 to 15.0% by mass, more preferably 0.05 to 10.0% by mass.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of silane coupling agent, or may contain two or more types. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • ultraviolet absorbers include conjugated diene compounds, aminodiene compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, acrylonitrile compounds, hydroxyphenyltriazine compounds, indole compounds, triazine compounds, and dibenzoyl compounds. Specific examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP-A-2009-217221, paragraph numbers 0052-0072 of JP-A-2012-208374, paragraph numbers 0317-0317 of JP-A-2013-068814.
  • UV absorbers include Tinuvin series and Uvinul series manufactured by BASF.
  • MYUA series made from Miyoshi oil and fats (Chemical Daily, February 1, 2016) is mentioned.
  • the ultraviolet absorber compounds described in paragraph numbers 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 and paragraph numbers 0059 to 0076 of International Publication No. 2016/181987 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.01 to 30% by mass, more preferably 0.05 to 25% by mass.
  • the infrared absorbing composition may contain only one ultraviolet absorbing agent, or may contain two or more ultraviolet absorbing agents. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • Cyclic ether groups include epoxy groups and oxetanyl groups.
  • the compound having a cyclic ether group may be a low-molecular compound (e.g., molecular weight less than 2000, further molecular weight less than 1000), or a macromolecular compound (e.g., molecular weight 1000 or more, weight-average molecular weight in the case of polymer is 1000 or more).
  • the weight average molecular weight of the epoxy compound is preferably 200-100,000, more preferably 500-50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5,000 or less, and even more preferably 3,000 or less.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter also referred to as an epoxy compound).
  • an epoxy compound paragraph numbers 0034 to 0036 of JP-A-2013-011869, paragraph numbers 0147-0156 of JP-A-2014-043556, paragraph numbers 0085-0092 of JP-A-2014-089408.
  • Compounds, compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used.
  • Epoxy resin can be preferably used as the epoxy compound.
  • epoxy resins include epoxy resins that are glycidyl etherified compounds of phenolic compounds, epoxy resins that are glycidyl etherified compounds of various novolak resins, alicyclic epoxy resins, aliphatic epoxy resins, heterocyclic epoxy resins, glycidyl esters, epoxy resins, glycidylamine-based epoxy resins, epoxy resins obtained by glycidylating halogenated phenols, condensation products of silicon compounds with epoxy groups and other silicon compounds, polymerizable unsaturated compounds with epoxy groups and others and copolymers with other polymerizable unsaturated compounds.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 310 to 3300 g/eq, more preferably 310 to 1700 g/eq, even more preferably 310 to 1000 g/eq.
  • Examples of commercially available compounds having a cyclic ether group include EHPE3150 (manufactured by Daicel Corporation), EPICLON N-695 (manufactured by DIC Corporation), Marproof G-0150M, G-0105SA, G-0130SP, G -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (these are epoxy group-containing polymers manufactured by NOF Corporation) and the like.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is, for example, preferably 0.5% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is, for example, preferably 15% by mass or less, more preferably 10% by mass or less.
  • the infrared absorbing composition may contain only one type of compound having a cyclic ether group, or may contain two or more types. When two or more types are used, the total amount thereof is preferably within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the invention preferably further contains a curing agent.
  • curing agents include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, polyvalent carboxylic acids, and thiol compounds.
  • specific examples of curing agents include succinic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, N,N-dimethyl-4-aminopyridine, pentaerythritol tetrakis(3-mercaptopropionate) and the like.
  • the curing agent compounds described in paragraphs 0072 to 0078 of JP-A-2016-075720 and compounds described in JP-A-2017-036379 can also be used.
  • the content of the curing agent is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 10 parts by mass, and 0.1 to 6.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound having a cyclic ether group. is more preferred.
  • the infrared absorbing composition of the invention can contain an antioxidant.
  • Antioxidants include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like. Any phenolic compound known as a phenolic antioxidant can be used as the phenolic compound.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site adjacent to the phenolic hydroxy group (ortho position) is preferred.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferred.
  • the antioxidant is also preferably a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule.
  • Phosphorus-based antioxidants can also be suitably used as antioxidants.
  • a phosphorus antioxidant tris[2-[[2,4,8,10-tetrakis(1,1-dimethylethyl)dibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-6 -yl]oxy]ethyl]amine, tris[2-[(4,6,9,11-tetra-tert-butyldibenzo[d,f][1,3,2]dioxaphosphepin-2-yl ) oxy]ethyl]amine, ethyl bis(2,4-di-tert-butyl-6-methylphenyl) phosphite, and the like.
  • antioxidants examples include Adekastab AO-20, Adekastab AO-30, Adekastab AO-40, Adekastab AO-50, Adekastab AO-50F, Adekastab AO-60, Adekastab AO-60G, Adekastab AO-80. , ADEKA STAB AO-330 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like.
  • antioxidants include compounds described in paragraph numbers 0023 to 0048 of Japanese Patent No. 6268967, compounds described in WO 2017/006600, and compounds described in WO 2017/164024. can also be used.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the infrared absorbing composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • the infrared absorbing composition may contain only one kind of antioxidant, or may contain two or more kinds. When two or more kinds are included, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may optionally contain a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer and other auxiliaries (e.g., conductive particles, antifoaming agents, flame retardants). , leveling agents, release accelerators, fragrances, surface tension modifiers, chain transfer agents, etc.). Properties such as film physical properties can be adjusted by appropriately containing these components. These components are, for example, described in JP 2012-003225, paragraph number 0183 and later (corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812, paragraph number 0237), JP 2008-250074 paragraph The descriptions of numbers 0101 to 0104, 0107 to 0109, etc.
  • the infrared absorbing composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site functioning as an antioxidant is protected by a protective group, and is heated at 100 to 250°C, or heated at 80 to 200°C in the presence of an acid/base catalyst.
  • a compound that functions as an antioxidant by removing the protecting group by the reaction is exemplified.
  • Examples of latent antioxidants include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Commercially available latent antioxidants include ADEKA Arkles GPA-5001 (manufactured by ADEKA Co., Ltd.).
  • the storage container for the infrared absorbing composition of the present invention is not particularly limited, and known storage containers can be used.
  • a storage container a multi-layer bottle whose inner wall is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle with a 7-layer structure of 6 types of resin are used for the purpose of suppressing the contamination of raw materials and compositions with impurities. It is also preferred to use Examples of such a container include the container described in JP-A-2015-123351.
  • the inner wall of the container is preferably made of glass or stainless steel for the purpose of preventing metal elution from the inner wall of the container, enhancing the stability of the infrared absorbing composition over time, and suppressing deterioration of components.
  • the infrared absorbing composition of the present invention can be prepared by mixing the above ingredients.
  • all the components may be dissolved or dispersed in a solvent at the same time to prepare the infrared absorbing composition, or if necessary, two or more solutions or A dispersion may be prepared in advance and mixed at the time of use (at the time of application) to prepare an infrared absorbing composition.
  • a process of dispersing a pigment may be included in the preparation of the infrared absorbing composition.
  • mechanical forces used for dispersing pigments include compression, squeezing, impact, shearing, cavitation, and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion, and the like.
  • beads with a small diameter or to increase the filling rate of the beads so as to increase the pulverization efficiency.
  • the process and dispersing machine for dispersing pigments are described in ⁇ Dispersion Technology Encyclopedia, Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005'' and ⁇ Dispersion Technology Centered on Suspension (Solid/Liquid Dispersion System) and Industrial Applications'' The actual practice of comprehensive materials, published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978", the process and dispersing machine described in paragraph number 0022 of JP-A-2015-157893 can be suitably used.
  • the pigment may be finely divided in the salt milling process. Materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling process can be referred to, for example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos.
  • Bead materials used for dispersion include zirconia, agate, quartz, titania, tungsten carbide, silicon nitride, alumina, stainless steel and glass.
  • An inorganic compound having a Mohs hardness of 2 or more can also be used for the beads.
  • the composition may contain 1 to 10000 ppm of the beads.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • fluorine resin such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resin such as nylon (eg nylon-6, nylon-6,6), polyolefin resin such as polyethylene, polypropylene (PP) (high density, ultra high molecular weight (including polyolefin resin).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon eg nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resin such as polyethylene
  • PP polypropylene
  • polypropylene including high density polypropylene
  • nylon are preferred.
  • the pore size of the filter is preferably 0.01-7.0 ⁇ m, more preferably 0.01-3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05-0.5 ⁇ m. If the pore diameter of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the pore size value of the filter reference can be made to the filter manufacturer's nominal value.
  • Various filters provided by Nippon Pall Co., Ltd. (DFA4201NXEY, DFA4201NAEY, DFA4201J006P, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Nihon Entegris Co., Ltd. (former Japan Microlith Co., Ltd.), Kitz Micro Filter Co., Ltd., etc. can be used as filters. .
  • fibrous filter media include polypropylene fibers, nylon fibers, and glass fibers.
  • Commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.), and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno.
  • filters When using filters, different filters (eg, a first filter and a second filter, etc.) may be combined. At that time, filtration with each filter may be performed only once, or may be performed twice or more. Also, filters with different pore sizes within the range described above may be combined. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing other components, the filtration with the second filter may be performed.
  • filters eg, a first filter and a second filter, etc.
  • the film of the present invention is obtained from the infrared absorbing composition of the present invention described above.
  • the film of the present invention can be preferably used as an optical filter.
  • Applications of the optical filter are not particularly limited, but include infrared cut filters, infrared transmission filters, and the like.
  • an infrared cut filter for example, an infrared cut filter on the light receiving side of the solid-state image sensor (for example, an infrared cut filter for a wafer level lens, etc.), an infrared cut filter on the back side of the solid-state image sensor (opposite to the light receiving side) , Infrared cut filters for ambient light sensors (for example, illuminance sensors that detect the illuminance and color tone of the environment in which the information terminal device is placed and adjust the color tone of the display, and color correction sensors that adjust the color tone) be done.
  • the infrared transmission filter include a filter capable of blocking visible light and selectively transmitting infrared light having a specific wavelength or longer.
  • the thickness of the film of the present invention can be adjusted as appropriate according to the purpose.
  • the thickness of the film is preferably 20 ⁇ m or less, more preferably 10 ⁇ m or less, and even more preferably 5 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention can also be used in combination with a color filter containing a chromatic colorant.
  • a color filter can be produced using a coloring composition containing a chromatic colorant.
  • the color filter is preferably arranged on the optical path of the film of the present invention.
  • the film of the present invention may be formed on a support other than the support on which the color filter is formed.
  • Other members for example, a microlens, a planarization layer, etc. constituting the solid-state imaging device may be interposed between the film and the color filter.
  • the film of the present invention can be used in various devices such as solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors), infrared sensors, and image display devices.
  • solid-state imaging devices such as CCDs (charge-coupled devices) and CMOSs (complementary metal oxide semiconductors)
  • infrared sensors and image display devices.
  • a method for manufacturing a pixel using the infrared absorbing composition of the present invention will be described.
  • a method for manufacturing a pixel includes the steps of forming a composition layer on a support using an infrared absorbing composition, exposing the composition layer in a pattern, and developing the unexposed portion of the exposed composition layer. removing to form a pattern (pixels). If necessary, a step of baking the composition layer (pre-baking step) and a step of baking the developed pattern (pixels) (post-baking step) may be provided.
  • the support is not particularly limited and can be appropriately selected according to the application. Examples thereof include glass substrates and silicon substrates, and silicon substrates are preferred. Also, a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate. In some cases, the silicon substrate is formed with a black matrix that isolates each pixel. In addition, the silicon substrate may be provided with an underlying layer for improving adhesion with the upper layer, preventing diffusion of substances, or flattening the substrate surface. The surface contact angle of the underlayer is preferably 20 to 70° when measured with diiodomethane. Further, it is preferably 30 to 80° when measured with water.
  • a known method can be used as a method for applying the infrared absorbing composition.
  • drop method drop cast
  • slit coating method spray method
  • roll coating method spin coating
  • methods described in publications inkjet (e.g., on-demand method, piezo method, thermal method), ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc. a printing method; a transfer method using a mold or the like; a nanoimprint method, and the like.
  • inkjet e.g., on-demand method, piezo method, thermal method
  • ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, etc.
  • a printing method a transfer method using a mold or the like
  • nanoimprint method and the like.
  • the application method for inkjet is not particularly limited.
  • the composition layer formed by applying the infrared absorbing composition may be dried (pre-baked).
  • the pre-baking temperature is preferably 150° C. or lower, more preferably 120° C. or lower, and even more preferably 110° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50° C. or higher, and can also be 80° C. or higher.
  • the prebaking time is preferably 10 seconds to 3000 seconds, more preferably 40 seconds to 2500 seconds, and even more preferably 80 seconds to 220 seconds. Drying can be performed using a hot plate, an oven, or the like.
  • the composition layer is exposed in a pattern.
  • the composition layer can be exposed in a pattern by exposing through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. Thereby, the exposed portion can be cured.
  • Radiation (light) that can be used for exposure includes g-line, i-line, and the like.
  • Light with a wavelength of 300 nm or less (preferably light with a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used.
  • Light having a wavelength of 300 nm or less includes KrF rays (wavelength: 248 nm), ArF rays (wavelength: 193 nm), etc., and KrF rays (wavelength: 248 nm) are preferred.
  • a long-wave light source of 300 nm or more can also be used.
  • the light when exposing, the light may be continuously irradiated and exposed, or may be irradiated and exposed in pulses (pulse exposure).
  • pulse exposure is an exposure method in which light irradiation and pause are repeated in a cycle of short time (for example, less than millisecond level).
  • the dose is, for example, preferably 0.03 to 2.5 J/cm 2 , more preferably 0.05 to 1.0 J/cm 2 .
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be selected as appropriate, and in addition to exposure in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere with an oxygen concentration of 19% by volume or less (e.g., 15% by volume, 5% by volume, or substantially oxygen-free) or in a high-oxygen atmosphere with an oxygen concentration exceeding 21% by volume (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume).
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W/m 2 to 100000 W/m 2 (eg, 5000 W/m 2 , 15000 W/m 2 or 35000 W/m 2 ). can be done. Oxygen concentration and exposure illuminance may be appropriately combined. For example, illuminance of 10000 W/m 2 at oxygen concentration of 10% by volume and illuminance of 20000 W/m 2 at oxygen concentration of 35% by volume.
  • an unexposed portion of the composition layer after exposure is removed by development to form a pattern (pixels).
  • the development and removal of the unexposed portion of the composition layer can be performed using a developer.
  • the composition layer in the unexposed areas is eluted into the developer, leaving only the photocured areas.
  • the temperature of the developer is preferably 20 to 30° C., for example.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the step of shaking off the developer every 60 seconds and then supplying new developer may be repeated several times.
  • the developer includes an organic solvent, an alkaline developer, etc., and an alkaline developer is preferably used.
  • an alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkali developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • alkaline agents include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxylamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the surfactant include the surfactants described above, and nonionic surfactants are preferred.
  • the developer may be produced once as a concentrated solution and then diluted to the required concentration when used.
  • the dilution ratio is not particularly limited, it can be set, for example, in the range of 1.5 to 100 times.
  • wash (rinse) with pure water after development. Rinsing is preferably carried out by supplying a rinse liquid to the composition layer after development while rotating the support on which the composition layer after development is formed. It is also preferable to move the nozzle for discharging the rinsing liquid from the central portion of the support to the peripheral portion of the support.
  • the moving speed of the nozzle may be gradually decreased.
  • in-plane variations in rinsing can be suppressed.
  • a similar effect can be obtained by gradually decreasing the rotation speed of the support while moving the nozzle from the center of the support to the periphery.
  • Additional exposure processing and post-baking are post-development curing treatments for complete curing.
  • the heating temperature in post-baking is, for example, preferably 100 to 240.degree. C., more preferably 200 to 240.degree.
  • Post-baking can be performed continuously or batchwise using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulating dryer), or a high-frequency heater so that the developed film satisfies the above conditions. .
  • the light used for exposure preferably has a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • optical filter of the present invention has the film of the present invention as described above.
  • Types of optical filters include infrared cut filters and infrared transmission filters.
  • the optical filter of the present invention may further have a layer containing copper, a dielectric multilayer film, an ultraviolet absorbing layer, etc., in addition to the film of the present invention described above.
  • the ultraviolet absorbing layer include the absorbing layers described in paragraphs 0040 to 0070 and 0119 to 0145 of International Publication No. 2015/099060.
  • Dielectric multilayer films include dielectric multilayer films described in paragraphs 0255 to 0259 of JP-A-2014-041318.
  • the layer containing copper a glass substrate made of glass containing copper (copper-containing glass substrate) or a layer containing a copper complex (copper complex-containing layer) can be used.
  • Copper-containing glass substrates include copper-containing phosphate glass, copper-containing fluorophosphate glass, and the like.
  • Commercially available copper-containing glasses include NF-50 (manufactured by AGC Techno Glass Co., Ltd.), BG-60, BG-61 (manufactured by Schott), CD5000 (manufactured by HOYA Corporation), and the like.
  • the solid-state imaging device of the present invention includes the film of the present invention described above.
  • the configuration of the solid-state imaging device is not particularly limited as long as it has the film of the present invention and functions as a solid-state imaging device. For example, the following configuration can be mentioned.
  • a plurality of photodiodes constituting the light receiving area of the solid-state imaging device and transfer electrodes made of polysilicon or the like are provided on the support, and light shielding made of tungsten or the like with only the light receiving portions of the photodiodes being opened on the photodiodes and the transfer electrodes.
  • a device protective film made of silicon nitride or the like is formed on the light shielding film so as to cover the entire surface of the light shielding film and the photodiode light receiving portion, and the film of the present invention is provided on the device protective film. be.
  • the color filter may have a structure in which a film forming each pixel is embedded in a space partitioned by partition walls, for example, in a grid pattern.
  • the partition in this case preferably has a lower refractive index than each pixel. Examples of imaging devices having such a structure include devices described in JP-A-2012-227478 and JP-A-2014-179577.
  • the image display device of the invention comprises the film of the invention.
  • image display devices include liquid crystal display devices and organic electroluminescence (organic EL) display devices.
  • organic EL organic electroluminescence
  • For the definition and details of the image display device see, for example, “Electronic Display Device (written by Akio Sasaki, Industrial Research Institute, 1990)", “Display Device (written by Junsho Ibuki, published by Sangyo Tosho Co., Ltd., 1989). issued)”, etc.
  • Liquid crystal display devices are described, for example, in “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Choukai Co., Ltd., 1994)". There is no particular limitation on the liquid crystal display device to which the present invention can be applied.
  • the image display device may have a white organic EL element.
  • a white organic EL device preferably has a tandem structure. Regarding the tandem structure of organic EL elements, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-045676, supervised by Akiyoshi Mikami, "Forefront of Organic EL Technology Development - High Brightness, High Precision, Long Life, Collection of Know-how -", Technical Information Association, 326-328, 2008, etc.
  • the spectrum of white light emitted by the organic EL element preferably has strong maximum emission peaks in the blue region (430-485 nm), green region (530-580 nm) and yellow region (580-620 nm). In addition to these emission peaks, those having a maximum emission peak in the red region (650 to 700 nm) are more preferred.
  • the infrared sensor of the invention comprises the membrane of the invention as described above.
  • the configuration of the infrared sensor is not particularly limited as long as it functions as an infrared sensor. An embodiment of the infrared sensor of the present invention will be described below with reference to the drawings.
  • reference numeral 110 is a solid-state imaging device.
  • An infrared cut filter 111 and an infrared transmission filter 114 are arranged on the imaging area of the solid-state imaging device 110 .
  • a color filter 112 is arranged on the infrared cut filter 111 .
  • a microlens 115 is arranged on the incident light h ⁇ side of the color filter 112 and the infrared transmission filter 114 .
  • a planarization layer 116 is formed to cover the microlens 115 .
  • the infrared cut filter 111 can be formed using the infrared absorbing composition of the present invention.
  • the color filter 112 is a color filter formed with pixels that transmit and absorb light of a specific wavelength in the visible region, and is not particularly limited, and conventionally known color filters for forming pixels can be used. For example, a color filter having red (R), green (G), and blue (B) pixels is used. For example, paragraph numbers 0214 to 0263 of JP-A-2014-043556 can be referred to, and the contents thereof are incorporated herein.
  • the characteristics of the infrared transmission filter 114 are selected according to the emission wavelength of the infrared LED used. Infrared transmission filter 114 can be formed using the infrared absorption composition of the present invention.
  • an infrared cut filter (another infrared cut filter) different from the infrared cut filter 111 may be further arranged on the planarization layer 116 .
  • Other infrared cut filters include those having copper-containing layers and/or dielectric multilayers. These details are given above.
  • a dual bandpass filter may be used as another infrared cut filter.
  • a camera module of the present invention includes a solid-state imaging device and the film of the present invention described above.
  • the camera module further includes a lens and circuitry for processing the image obtained from the solid-state image sensor.
  • the solid-state imaging device used in the camera module may be the solid-state imaging device according to the present disclosure or a known solid-state imaging device.
  • the lens used in the camera module and the circuit for processing the image obtained from the solid-state imaging device known ones can be used.
  • the camera modules described in JP-A-2016-006476 and JP-A-2014-197190 can be considered, the contents of which are incorporated herein.
  • Me represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • ⁇ Preparation of pigment dispersion> The materials shown in the table below were blended in the proportions shown in the table below to obtain a mixture with a total amount of 10 g. This mixture is mixed and dispersed for 3 hours in a bead mill (high-pressure disperser NANO-3000-10 with decompression mechanism (manufactured by Nippon BEE Co., Ltd.)) using zirconia beads with a diameter of 0.3 mm to obtain each pigment. A dispersion was prepared. The solid content concentration of the pigment dispersion was adjusted by the blending amount of the solvent.
  • Dis-001 Resin having the following structure (the numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain is the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 25000 Dis-002: Resin having the following structure (the numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain is the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 9800 is the numerical value attached to the main chain is the molar ratio, and the numerical value attached to the side chain is the number of repeating units.
  • ⁇ Preparation of infrared absorbing composition Materials other than the solvent shown in the table below are mixed in the ratio shown in the table below, and the solvent shown in the table below is added to adjust the solid content concentration to 20% by mass, then stirred and nylon with a pore size of 0.45 ⁇ m. filter (manufactured by Nippon Pall Co., Ltd.) to prepare an infrared absorbing composition.
  • the numerical values in the compounding amount column in the table are the values in parts by mass in terms of solid content. The value of parts by mass of the specific compound with respect to 100 parts by mass of the squarylium dye is indicated in the column of "proportion of specific compound" in the table below.
  • B001 Resin having the following structure (the numerical values attached to the main chain are the molar ratios of the repeating units, the weight average molecular weight is 17,000, and the degree of dispersion is 2.3)
  • B002 Resin having the following structure (the numerical value attached to the main chain is the molar ratio of the repeating unit, the weight average molecular weight is 9700, the degree of dispersion is 1.8)
  • B003 Resin having the following structure (numerical values attached to the main chain are molar ratios of repeating units, weight average molecular weight: 10,100, dispersity: 1.7)
  • B004 Resin having the following structure (the numerical values attached to the main chain are the molar ratios of the repeating units, the weight average molecular weight is 25,000, and the degree of dispersion is 2.2)
  • B005 Resin having the following structure (the numerical values attached to the main chain are the molar ratios of the repeating units, the weight average molecular weight is 10,000, and the
  • C-1 Irgacure OXE01 (manufactured by BASF, oxime ester compound)
  • C-2 A compound having the following structure
  • F-1 FTX-218D (manufactured by Neos, fluorosurfactant)
  • F-2 A compound having the following structure (weight average molecular weight: 14,000, % indicating the ratio of repeating units is mol%)
  • F-3 Megafac F-554 (manufactured by DIC Corporation, fluorine-based surfactant)
  • U-1 a compound having the following structure (antioxidant)
  • U-2 a compound having the following structure (antioxidant)
  • U-3 Uvinul 3050 (manufactured by BASF, UV absorber)
  • U-4 EPICLON NM-695 (novolac type epoxy resin, manufactured by DIC Corporation)
  • U-5 a compound having the following structure (antioxidant)
  • U-6 a compound having the following structure (antioxidant)
  • each infrared absorbing composition was spin-coated on a glass substrate so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m, and the i-line was applied.
  • a stepper exposure apparatus FPA-3000i5+ manufactured by Canon Inc.
  • the entire surface was exposed with an exposure amount of 1000 mJ/cm 2 .
  • a hot plate it was heated at 200° C. for 10 minutes to produce a film.
  • each infrared absorbing composition was spin-coated on a glass substrate so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m, and the temperature was 200 ° C. It was heated for 10 minutes to produce a membrane.
  • the transmittance in the wavelength range of 400 to 2000 nm was measured using a UV-visible-near-infrared spectrophotometer U-4100 (manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.) for the glass substrate on which the above film was formed.
  • the glass substrate on which the above film was formed was irradiated with a xenon lamp at 100,000 lux for 20 hours (equivalent to 2,000,000 lux ⁇ h), and the transmittance of the film after irradiation with the xenon lamp was measured.
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the angle of the pixel side wall is 80° or more and less than 100° 4: The angle of the pixel side wall is 100° or more and less than 110° 3: The angle of the pixel side wall is 70° or more and less than 80° 2: The angle of the pixel side wall is 110° or more 1 : The angle of the pixel sidewall is less than 70°
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • Pattern size is 0.9 ⁇ m or more and less than 1.0 ⁇ m, and all pixels are in close contact.
  • Pattern size is 1.0 ⁇ m or more and less than 1.05 ⁇ m, and all pixels are in close contact.
  • Pattern size is 1.05 ⁇ m or more and less than 1.1 ⁇ m, and all pixels are in close contact.
  • the pattern size is 1.1 ⁇ m or more and less than 1.2 ⁇ m, and all the pixels are in close contact. 1: All the pixels do not adhere unless the pattern size is 1.2 ⁇ m or more.
  • the examples were excellent in light resistance evaluation. Further, in Examples 1 to 56, it was possible to form pixels excellent in rectangularity and adhesion.
  • 110 solid-state imaging device
  • 111 infrared cut filter
  • 112 color filter
  • 114 infrared transmission filter
  • 115 microlens
  • 116 flattening layer

Landscapes

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Abstract

式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素と、式（１ａ）で表される化合物と、樹脂と、を含み、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の１００質量部に対して、式（１ａ）で表される化合物を０．０１～１．０質量部含有する、赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール。

Description

赤外線吸収組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュール
　本発明は、スクアリリウム色素を含む赤外線吸収組成物に関する。また、本発明は、赤外線吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュールに関する。
　ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、カメラ機能付き携帯電話などには、カラー画像の固体撮像素子である、ＣＣＤ（電荷結合素子）や、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）が用いられている。これら固体撮像素子は、その受光部において赤外線に感度を有するシリコンフォトダイオードを使用している。このため、赤外線カットフィルタを設けて視感度補正を行うことがある。
　赤外線カットフィルタは、赤外線吸収色素を含む組成物を用いて製造されている。赤外線吸収色素としては、スクアリリウム色素などが知られている。
　特許文献１には、赤外線吸収色素としてスクアリリウム色素を用いた組成物を用いて赤外線カットフィルタなどを製造することが記載されている。
国際公開第２０１８／１００８３４号
　しかしながら、スクアリリウム色素は耐光性が低い傾向にあり、スクアリリウム色素を含む組成物を用いて得られる膜の耐光性について、更なる改善の余地があった。
　よって、本発明の目的は、耐光性に優れた膜を形成することができる赤外線吸収組成物を提供することにある。また、本発明の目的は、赤外線吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュールを提供することにある。
　本発明は以下を提供する。
　＜１＞　式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素と、式（１ａ）で表される化合物と、樹脂と、を含み、
　上記式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の１００質量部に対して、上記式（１ａ）で表される化合物を０．０１～１．０質量部含有する、赤外線吸収組成物；
　式中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アリール基、複素環基または式（Ｒ１）で表される基を表し、
　Ｒ１０１は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
　式（Ｒ１）中、＊は連結手を表し、
　Ｒｓ１～Ｒｓ３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
　Ａｓ３は複素環基を表し、
　ｎｓ１は、０以上の整数を表し、
　Ｒｓ１とＲｓ２は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｓ１とＡｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｓ２とＲｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、
　ｎｓ１が２以上の場合、複数のＲｓ２およびＲｓ３はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
　＜２＞　上記式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素はスクアリリウム染料である、＜１＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜３＞　上記スクアリリウム染料が、式（ＳＱ２）で表されるスクアリリウム染料、式（ＳＱ３）で表されるスクアリリウム染料、および式（ＳＱ４）で表されるスクアリリウム染料から選ばれる少なくとも１種であり、
　上記式（１ａ）で表される化合物が、式（２ａ）で表される化合物、式（３ａ）で表される化合物および式（４ａ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、
　＜２＞に記載の赤外線吸収組成物；
　式（ＳＱ２）中、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基または－ＮＲａ１１Ｒａ１２を表し、Ｒａ１１およびＲａ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基または－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２を表し、Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｙａ１およびＹａ２はそれぞれ独立して－ＮＲｙ１１Ｒｙ１２を表し、Ｒｙ１１およびＲｙ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ３とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ４とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよい；
　式（ＳＱ３）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｅ－、－ＮＲｃ１０－または－ＣＲｄ１０Ｒｄ１１－を表し、
　Ｒｃ１、Ｒｃ２およびＲｃ１０はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ８、Ｒｄ１０およびＲｄ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲｄ２１Ｒａ２２を表し、Ｒｄ２１およびＲｄ２２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ８のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよい；
　式（ＳＱ４）中、Ｘ４１およびＸ４２は、それぞれ独立して、式（Ｘ－１）または式（Ｘ－２）で表される２価の連結基を表し、
　Ｒ４１ａおよびＲ４１ｂは、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基を表し、
　Ｒ４２ａ、Ｒ４２ｂ、Ｒ４３ａおよびＲ４３ｂは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、
　Ｒ４４ａおよびＲ４４ｂは、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す；
　－（ＣＲＸ１ＲＸ２）ｎ１－　　・・・（Ｘ－１）
　式（Ｘ－１）中、ＲＸ１およびＲＸ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｎ１は、２または３である；
　－（ＣＲＸ３ＲＸ４）ｎ２－Ｏ－（ＣＲＸ５ＲＸ６）ｎ３－　　・・・（Ｘ－２）
　式（Ｘ－２）中、ＲＸ３～ＲＸ６は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｎ２およびｎ３はそれぞれ独立して０～２の整数を表し、ｎ２＋ｎ３は１または２である；
　式（２ａ）中、Ｒａ１、Ｒａ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲａ１１Ｒａ１２を表し、Ｒａ１１およびＲａ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒｂ１、Ｒｂ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基または－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２を表し、Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｙａ１は－ＮＲｙ１１Ｒｙ１２を表し、Ｒｙ１１およびＲｙ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒ１０２は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
　式（３ａ）中、Ｘ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｅ－、－ＮＲｃ１０－または－ＣＲｄ１０Ｒｄ１１－を表し、
　Ｒｃ１およびＲｃ１０はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｒｄ１０およびＲｄ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲｄ２１Ｒａ２２を表し、Ｒｄ２１およびＲｄ２２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ４のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ１０３は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
　式（４ａ）中、Ｘ４１は、上記式（Ｘ－１）または上記式（Ｘ－２）で表される２価の連結基を表し、
　Ｒ４１ａは、アルキル基またはアリール基を表し、
　Ｒ４２ａおよびＲ４３ａは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、
　Ｒ４４ａは、アルキル基またはアリール基を表し、
　Ｒ１０４は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　＜４＞　上記スクアリリウム染料が、式（ＳＱ４）で表されるスクアリリウム染料であり、
　上記式（１ａ）で表される化合物が、上記式（４ａ）で表される化合物である、
　＜３＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜５＞　上記式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素はスクアリリウム顔料である、＜４＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜６＞　上記スクアリリウム顔料が、式（ＳＱ５）で表されるスクアリリウム顔料および式（ＳＱ６）で表されるスクアリリウム顔料から選ばれる少なくとも１種であり、
　上記式（１ａ）で表される化合物が、式（５ａ）で表される化合物および式（６ａ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、
　＜５＞に記載の赤外線吸収組成物；
　式（ＳＱ５）中、Ｒ５１～Ｒ７０は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ７１～Ｒ７７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ７１とＲ７２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７３とＲ７４は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７６とＲ７７は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ５１～Ｒ７０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよい；
　式（ＳＱ６）中、Ｑ１ａ、Ｑ１ｂ、Ｑ４ａ、Ｑ４ｂ、Ｑ５ａ、Ｑ５ｂ、Ｑ８ａおよびＱ８ｂは、それぞれ独立して、炭素原子又は窒素原子を表す；
　ただし、Ｑ１ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ａは存在せず、Ｑ１ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ｂは存在せず、Ｑ４ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ａは存在せず、Ｑ４ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ｂは存在せず、Ｑ５ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ａは存在せず、Ｑ５ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ｂは存在せず、Ｑ８ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ａは存在せず、Ｑ８ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ｂは存在しない；
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａ、および、Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂは、それぞれ独立して、水素原子、スルホ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋又はハロゲン原子を表し、Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表し、
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい；
　Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａ、および、Ｒｑ１ｂ～Ｒｑ８ｂは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２、スルホ基、－ＳＯ２ＮＲｑ１３Ｒｑ１４、－ＣＯＯＲｑ１５、－ＣＯＮＲｑ１６Ｒｑ１７、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、
　Ｒｑ１１～Ｒｑ１７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基又は複素環基を表し、
　Ｒｑ１１とＲｑ１２は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１３とＲｑ１４は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１６とＲｑ１７は、互いに結合して環を形成してもよい；
　式（５ａ）中、Ｒ５１～Ｒ６０は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ７１～Ｒ７７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ７１とＲ７２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７３とＲ７４は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７６とＲ７７は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ５１～Ｒ６０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよく、
　Ｒ１０５は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
　式（６ａ）中、Ｑ１ａ、Ｑ４ａ、Ｑ５ａおよびＱ８ａは、それぞれ独立して、炭素原子又は窒素原子を表す；
　ただし、Ｑ１ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ａは存在せず、
　Ｑ４ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ａは存在せず、
Ｑ５ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ａは存在せず、Ｑ８ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ａは存在しない；
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａは、それぞれ独立して、水素原子、スルホ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋又はハロゲン原子を表し、Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表し、
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい；
　Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２、スルホ基、－ＳＯ２ＮＲｑ１３Ｒｑ１４、－ＣＯＯＲｑ１５、－ＣＯＮＲｑ１６Ｒｑ１７、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、
　Ｒｑ１１～Ｒｑ１７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基又は複素環基を表し、
　Ｒｑ１１とＲｑ１２は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１３とＲｑ１４は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１６とＲｑ１７は、互いに結合して環を形成してもよい；
　Ｒ１０６は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　＜７＞　上記スクアリリウム顔料が、式（ＳＱ５）で表されるスクアリリウム顔料であり、
　上記式（１ａ）で表される化合物が、式（５ａ）で表される化合物である、
　＜６＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜８＞　上記スクアリリウム顔料が、式（ＳＱ６）で表されるスクアリリウム顔料であり、
　上記式（１ａ）で表される化合物が、式（６ａ）で表される化合物である、
　＜６＞に記載の赤外線吸収組成物。
　＜９＞　更に、光重合開始剤と重合性化合物とを含む、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物。
　＜１０＞　＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の赤外線吸収組成物を用いて得られた膜。
　＜１１＞　＜１０＞に記載の膜を含む光学フィルタ。
　＜１２＞　＜１０＞に記載の膜を含む固体撮像素子。
　＜１３＞　＜１０＞に記載の膜を含む画像表示装置。
　＜１４＞　＜１０＞に記載の膜を含む赤外線センサ。
　＜１５＞　＜１０＞に記載の膜を含むカメラモジュール。
　本発明によれば、耐光性に優れた膜を形成することができる赤外線吸収組成物を提供することができる。また、本発明は、赤外線吸収組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサおよびカメラモジュールを提供することができる。
赤外線センサの一実施形態を示す概略図である。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定でのポリスチレン換算値として定義される。
　本明細書において、化学式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、赤外線とは、波長７００～２５００ｎｍの光（電磁波）をいう。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい色材を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜赤外線吸収組成物＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素と、式（１ａ）で表される化合物と、樹脂と、を含み、
　式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の１００質量部に対して、式（１ａ）で表される化合物を０．０１～１．０質量部含有することを特徴とする。
　本発明の赤外線吸収組成物によれば、耐光性に優れた膜を形成することができる。このような効果が得られる詳細な理由は不明であるが、以下によるものと推測される。
　本発明の赤外線吸収組成物は、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の１００質量部に対して、式（１ａ）で表される化合物を０．０１～１．０質量部含有することで、式（１ａ）の化合物が起点となってスクアリリウム色素の会合形成を促進し、かつ、会合体のサイズを適度に大きくすることができると推測され、その結果、耐光性に優れた膜を形成することができたと推測される。なお、式（１ａ）で表される化合物の含有量が多すぎると、十分な耐光性は得られないが、この理由は、形成される会合体のサイズが小さくなるためであると推測される。
　本発明の赤外線吸収組成物が更に、光重合開始剤と重合性化合物とを含む場合には、このような赤外線吸収組成物をフォトリソグラフィ法でパターン形成することで、矩形性に優れた画素を形成することもできる。
　一般的に、フォトリソグラフィ法でパターン形成して画素を形成する場合、支持体上に形成した膜に対してパターン状に露光し、未露光部を現像除去して画素を形成する。露光時において、膜の下部（支持体側）は、膜の上部よりも露光光が照射されにくいため、膜の下部は、膜の上部よりも膜の硬化が不十分なことが多い。
　本発明の赤外線吸収組成物に含まれる式（１ａ）で表される化合物は、親水的な化合物であるため、製膜時に膜の下部（支持体側）に偏在しやすいと推測される。式（１ａ）で表される化合物が膜の下部に偏在することで、パターン形成の露光時において、式（１ａ）で表される化合物がｉ線などの露光光を吸収し、この化合物が吸収したエネルギーまたは電子を光重合開始剤へ伝達して、膜の下部における光重合開始剤の分解を促進させて、ラジカルなどの活性種を効率よく発生させることができると推測される。このため、露光時における膜の下部近傍の硬化性を促進させることができるので、矩形性に優れた画素を形成することができたと推測される。
　また、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素と式（１ａ）で表される化合物は近い化学構造を有することから、組成物中では式（１ａ）で表される化合物の溶解性が高く、組成物中に式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素をほぼ均一分布させることができると推測される。このため、式（１ａ）で表される化合物が膜平面にほぼ均一に分布した膜を形成することができ、ｉ線など露光光の吸収効率が膜平面に対して平均的に高めることもできると推測される。
　このような理由により、矩形性に優れた画素を形成することができたと推測される。
　本発明の赤外線吸収組成物は、光学フィルタ用の組成物として用いることができる。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　以下、本発明の赤外線吸収組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜スクアリリウム色素＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素（以下、スクアリリウム色素ともいう）を含む。
　式中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アリール基、複素環基または式（Ｒ１）で表される基を表す；
　式（Ｒ１）中、＊は連結手を表し、
　Ｒｓ１～Ｒｓ３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
　Ａｓ３は複素環基を表し、
　ｎｓ１は、０以上の整数を表し、
　Ｒｓ１とＲｓ２は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｓ１とＡｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｓ２とＲｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、
　ｎｓ１が２以上の場合、複数のＲｓ２およびＲｓ３はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
　Ａ１およびＡ２が表すアリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２２がより好ましく、６～１２が特に好ましい。
　Ａ１およびＡ２が表す複素環基は、５員環または６員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２～８の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が２～４の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２または３の縮合環の複素環基が更に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は１～３０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１２が更に好ましい。
　アリール基および複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（Ｒ１）の＊は連結手を表す。
　式（Ｒ１）のＲｓ１～Ｒｓ３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表す。Ｒｓ１～Ｒｓ３が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。Ｒｓ１～Ｒｓ３は水素原子であることが好ましい。式（Ｒ１）のＡｓ３が表す複素環基は、上述した複素環基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（Ｒ１）におけるｎｓ１は、０以上の整数を表す。ｎｓ１は０～２の整数が好ましく、０または１がより好ましく、０が更に好ましい。
　式（Ｒ１）において、Ｒｓ１とＲｓ２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒｓ１とＡｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒｓ２とＲｓ３は、互いに結合して環を形成してもよい。上記の環を形成する場合の連結基としては、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＮＨ－、炭素数１～１０のアルキレン基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基が好ましい。連結基としてのアルキレン基は無置換であってもよく、置換基を有していてもよい。置換基としては後述する置換基Ｔが挙げられる。
　式（Ｒ１）において、ｎｓ１が２以上の場合、複数のＲｓ２およびＲｓ３はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
　上述した置換基Ｔとしては、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルキニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６～３０のアリール基）、複素環基（好ましくは炭素数１～３０の複素環基）、アミノ基（好ましくは炭素数０～３０のアミノ基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１～３０のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールオキシ基）、複素環オキシ基（好ましくは炭素数１～３０の複素環オキシ基）、アシル基（好ましくは炭素数２～３０のアシル基）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニル基）、複素環オキシカルボニル基（好ましくは炭素数２～３０の複素環オキシカルボニル基）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルオキシ基）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアシルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアミノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２～３０のアルコキシカルボニルアミノ基）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７～３０のアリールオキシカルボニルアミノ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイル基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは炭素数０～３０のスルファモイルアミノ基）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１～３０のカルバモイル基）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールチオ基）、複素環チオ基（好ましくは炭素数１～３０の複素環チオ基）、アルキルスルホニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニル基）、アルキルスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルホニルアミノ基）、アリールスルホニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニル基）、アリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルホニルアミノ基）、複素環スルホニル基（好ましくは炭素数１～３０の複素環スルホニル基）、複素環スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１～３０の複素環スルホニルアミノ基）、アルキルスルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０のアルキルスルフィニル基）、アリールスルフィニル基（好ましくは炭素数６～３０のアリールスルフィニル基）、複素環スルフィニル基（好ましくは炭素数１～３０の複素環スルフィニル基）、ウレイド基（好ましくは炭素数１～３０のウレイド基）、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド基、ホスフィノ基、メルカプト基、シアノ基、アルキルスルフィノ基、アリールスルフィノ基、アリールアゾ基、複素環アゾ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、ヒドラジノ基、イミノ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋（Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表す。カチオンとしては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。）などが挙げられる。これらの基は、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有してもよい。
　なお、式（ＳＱ１）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
　スクアリリウム色素の好ましい一態様として、スクアリリウム色素がスクアリリウム染料である態様が挙げられる。この態様によれば、散乱光の影響が少なく、光透過性が求められる波長領域の透過性をより向上させることができる。スクアリリウム染料は、後述する式（ＳＱ２）で表されるスクアリリウム染料（以下、スクアリリウム染料（ＳＱ２）ともいう）、式（ＳＱ３）で表されるスクアリリウム染料（以下、スクアリリウム染料（ＳＱ３）ともいう）および式（ＳＱ４）で表されるスクアリリウム染料（以下、スクアリリウム染料（ＳＱ４）ともいう）から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、スクアリリウム染料（ＳＱ４）であることがより好ましい。
　スクアリリウム色素の好ましい別の態様として、スクアリリウム色素がスクアリリウム顔料である態様が挙げられる。この態様によれば、耐熱性に優れた膜を形成することができる。スクアリリウム顔料は、後述する式（ＳＱ５）で表されるスクアリリウム顔料（以下、スクアリリウム顔料（ＳＱ５）ともいう）および式（ＳＱ６）で表されるスクアリリウム顔料（以下、スクアリリウム顔料（ＳＱ６）ともいう）から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　スクアリリウム染料は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１００ｇへの溶解度が、１ｇ以上であることが好ましく、２ｇ以上であることがより好ましく、５ｇ以上であることがさらに好ましい。
　スクアリリウム顔料は、２５℃のプロピレングリコールメチルエーテルアセテート１００ｇへの溶解度が、１ｇ未満であることが好ましく、０．１ｇ以下であることがより好ましく、０．０１ｇ以下であることがさらに好ましい。
（スクアリリウム染料（ＳＱ２））
　式（ＳＱ２）中、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲａ１１Ｒａ１２を表し、Ｒａ１１およびＲａ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基または－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２を表し、Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｙａ１およびＹａ２はそれぞれ独立して、－ＮＲｙ１１Ｒｙ１２を表し、Ｒｙ１１およびＲｙ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ３とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ４とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよい。
　上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　上記アルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。上記アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。アルキル基は、ハロゲン置換アルキル基であることも好ましく、フルオロアルキル基であることも好ましい。
　上記アリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２２がより好ましく、６～１２が更に好ましい。上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　上記複素環基は、５員環または６員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２～８の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が２～４の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２または３の縮合環の複素環基が更に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は１～３０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１２が更に好ましい。上記複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　上記アルコキシ基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖または分岐が好ましい。上記アルコキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　上記アシル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。上記アシル基としては、ホルミル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が挙げられる。アルキルカルボニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。アリールカルボニル基の炭素数は、７～３０が好ましく、７～２０がより好ましく、７～１２が更に好ましい。上記アシル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　上記アルコキシカルボニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。上記アルコキシカルボニル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　式（ＳＱ２）において、Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、Ｒａ３とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、Ｒａ４とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよい。形成される複素環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　式（ＳＱ２）のＲｂ１およびＲｂ２の一方は、－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２で、他方は水素原子であることが好ましい。また、Ｒｂ３およびＲａ４の一方は、－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２で、他方は水素原子であることが好ましい。Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基であることが好ましく、アシル基であることがより好ましい。
（スクアリリウム染料（ＳＱ３））
　式（ＳＱ３）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｅ－、－ＮＲｃ１０－または－ＣＲｄ１０Ｒｄ１１－を表し、
　Ｒｃ１、Ｒｃ２およびＲｃ１０はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ８、Ｒｄ１０およびＲｄ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲｄ２１Ｒａ２２を表し、Ｒｄ２１およびＲｄ２２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ８のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよい。
　式（ＳＱ３）におけるハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基は、式（ＳＱ２）におけるハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基と同様であり、好ましい範囲も同様である。
　式（ＳＱ３）において、Ｒｄ１～Ｒｄ８のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよい。形成される環は、炭化水素環であってもよく、複素環であってもよい。また、炭化水素環および複素環は、芳香族環であってもよく、非芳香族環であってもよい。また、炭化水素環および複素環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。形成される環は、５員環若しくは６員環の炭化水素環または複素環であることが好ましい。また、形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
（スクアリリウム染料（ＳＱ４））
　式（ＳＱ４）中、Ｘ４１およびＸ４２は、それぞれ独立して、式（Ｘ－１）または式（Ｘ－２）で表される２価の連結基を表し、
　Ｒ４１ａおよびＲ４１ｂは、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基を表し、
　Ｒ４２ａ、Ｒ４２ｂ、Ｒ４３ａおよびＲ４３ｂは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、
　Ｒ４４ａおよびＲ４４ｂは、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す；
　－（ＣＲＸ１ＲＸ２）ｎ１－　　・・・（Ｘ－１）
　式（Ｘ－１）中、ＲＸ１およびＲＸ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｎ１は、２または３である；
　－（ＣＲＸ３ＲＸ４）ｎ２－Ｏ－（ＣＲＸ５ＲＸ６）ｎ３－　　・・・（Ｘ－２）
　式（Ｘ－２）中、ＲＸ３～ＲＸ６は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｎ２およびｎ３はそれぞれ独立して０～２の整数を表し、ｎ２＋ｎ３は１または２である。
　式（ＳＱ４）におけるハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基は、式（ＳＱ２）におけるハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基と同様であり、好ましい範囲も同様である。
　式（Ｘ－１）のｎ１は２であることが好ましい。式（Ｘ－１）のＲＸ１およびＲＸ２は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
　式（Ｘ－２）のｎ２＋ｎ３は１であることが好ましい。式（Ｘ－２）のＲＸ３～ＲＸ６は、それぞれ独立して、水素原子またはアルキル基であることが好ましい。
　式（ＳＱ４）のＸ４１およびＸ４２は、それぞれ独立して式（Ｘ－１）で表される２価の連結基であることが好ましい。
（スクアリリウム顔料（ＳＱ５））
　式（ＳＱ５）中、Ｒ５１～Ｒ７０は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ７１～Ｒ７７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ７１とＲ７２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７３とＲ７４は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７６とＲ７７は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ５１～Ｒ７０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよい。
　上記ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基は、式（ＳＱ２）におけるハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基と同様であり、好ましい範囲も同様である。
　上記アルケニル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルケニル基は、直鎖または分岐が好ましい。上記アルケニル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　上記アリールオキシ基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２２がより好ましく、６～１２が更に好ましい。上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　式（ＳＱ５）のＲ５５、Ｒ５６、Ｒ６５、Ｒ６６は水素原子であることが好ましい。
　式（ＳＱ５）のＲ５１～Ｒ５４の少なくとも一つは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子であることがより好ましい。なかでも、Ｒ５１～Ｒ５４の一つが、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることが好ましく、Ｒ５１～Ｒ５４の一つが、アルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることがより好ましい。
　式（ＳＱ５）のＲ５７～Ｒ６０の少なくとも一つは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子であることがより好ましい。なかでも、Ｒ５７～Ｒ６０の一つが、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることが好ましく、Ｒ５７～Ｒ６０の一つが、アルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることがより好ましい。
　式（ＳＱ５）のＲ６１～Ｒ６４の少なくとも一つは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子であることがより好ましい。なかでも、Ｒ６１～Ｒ６４の一つが、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることが好ましく、Ｒ６１～Ｒ６４の一つが、アルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることがより好ましい。
　式（ＳＱ５）のＲ６７～Ｒ７０の少なくとも一つは、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子であることがより好ましい。なかでも、Ｒ６７～Ｒ７０の一つが、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることが好ましく、Ｒ６７～Ｒ７０の一つが、アルキル基、アルコキシ基、またはハロゲン原子で、残りは水素原子であることがより好ましい。
　式（ＳＱ５）において、Ｒ５１～Ｒ７０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよい。形成される環は、炭化水素環であってもよく、複素環であってもよい。また、炭化水素環および複素環は、芳香族環であってもよく、非芳香族環であってもよい。また、炭化水素環および複素環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。形成される環は、５員環若しくは６員環の炭化水素環または複素環であることが好ましい。また、形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
（スクアリリウム顔料（ＳＱ６））
　式（ＳＱ６）中、Ｑ１ａ、Ｑ１ｂ、Ｑ４ａ、Ｑ４ｂ、Ｑ５ａ、Ｑ５ｂ、Ｑ８ａおよびＱ８ｂは、それぞれ独立して、炭素原子又は窒素原子を表す；
　ただし、Ｑ１ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ａは存在せず、Ｑ１ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ｂは存在せず、Ｑ４ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ａは存在せず、Ｑ４ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ｂは存在せず、Ｑ５ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ａは存在せず、Ｑ５ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ｂは存在せず、Ｑ８ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ａは存在せず、Ｑ８ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ｂは存在しない；
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａ、および、Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂは、それぞれ独立して、水素原子、スルホ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋又はハロゲン原子を表し、Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表し、
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい；
　Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａ、および、Ｒｑ１ｂ～Ｒｑ８ｂは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２、スルホ基、－ＳＯ２ＮＲｑ１３Ｒｑ１４、－ＣＯＯＲｑ１５、－ＣＯＮＲｑ１６Ｒｑ１７、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、
　Ｒｑ１１～Ｒｑ１７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基又は複素環基を表し、
　Ｒｑ１１とＲｑ１２は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１３とＲｑ１４は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１６とＲｑ１７は、互いに結合して環を形成してもよい。
　上記ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基は、式（ＳＱ２）におけるハロゲン原子、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基と同様であり、好ましい範囲も同様である。
　上記アルケニル基、アリールオキシ基は、式（ＳＱ５）におけるアルケニル基、アリールオキシ基と同様であり、好ましい範囲も同様である。
　上記Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａ、および、Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂが表す－ＳＯ３ －Ｍ＋において、Ｍ＋が表す無機又は有機のカチオンとしては、公知のものが制限なく採用できる。例えば、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。
　式（ＳＱ６）のＱ１ａ、Ｑ１ｂ、Ｑ４ａ、Ｑ４ｂ、Ｑ５ａ、Ｑ５ｂ、Ｑ８ａおよびＱ８ｂは、炭素原子であることが好ましい。
　式（ＳＱ６）のＲ８１ａ～Ｒ８５ａ、Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂは、水素原子であることが好ましい。
　Ｍ＋は無機又は有機のカチオン
　式（ＳＱ６）のＲｑ１ａ～Ｒｑ８ａ、Ｒｑ１ｂ～Ｒｑ８ｂは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２又はハロゲン原子であることが好ましい。
　式（ＳＱ６）のＲ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい。形成される環は、炭化水素環であってもよく、複素環であってもよい。また、炭化水素環および複素環は、芳香族環であってもよく、非芳香族環であってもよい。また、炭化水素環および複素環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。形成される環は、５員環若しくは６員環の炭化水素環または複素環であることが好ましい。また、形成される環は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　スクアリリウム色素は、赤外線吸収剤であることが好ましい。また、スクアリリウム色素の極大吸収波長は、波長６５０ｎｍ以上に存在することが好ましく、波長６５０～１５００ｎｍの範囲に存在することがより好ましく、波長６６０～１２００ｎｍの範囲に存在することが更に好ましく、波長６６０～１０００ｎｍの範囲に存在することが特に好ましい。
　スクアリリウム色素の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。Ｐ００１～Ｐ００６、Ｐ１０１～Ｐ１０６はスクアリリウム顔料であり、Ｄ００１～Ｄ００４はスクアリリウム染料である。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の含有量は、１～６０質量％であることが好ましい。上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましい。下限は、３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましい。赤外線吸収組成物は、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜特定化合物＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、式（１ａ）で表される化合物（以下、特定化合物ともいう）を含む。
　本発明の赤外線吸収組成物は、式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の１００質量部に対して、特定化合物（式（１ａ）で表される化合物）を０．０１～１．０質量部含有する。特定化合物の含有量の上限は、得られる膜の耐光性をより向上できるという理由から、０．９質量部以下であることが好ましく、０．８質量部以下であることがより好ましい。特定化合物の含有量の下限は、得られる膜の耐光性をより向上でき、更には矩形性もより向上できるという理由から、０．０５質量部以上であることが好ましく、０．１質量部以上であることがより好ましく、０．２質量部以上であることが更に好ましく、０．３質量部以上であることがより一層好ましい。赤外線吸収組成物は、特定化合物を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　式（１ａ）中、Ａ１は、アリール基、複素環基または上述した式（Ｒ１）で表される基を表し、
　Ｒ１０１は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　式（１ａ）のＡ１は、式（ＳＱ１）のＡ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　Ｒ１０１が表すアルキル基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。上記アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　Ｒ１０１が表すアリール基の炭素数は、６～４８が好ましく、６～２２がより好ましく、６～１２が更に好ましい。上記アリール基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　Ｒ１０１が表す複素環基は、５員環または６員環の複素環基が好ましい。また、複素環基は、単環の複素環基または縮合数が２～８の縮合環の複素環基が好ましく、単環の複素環基または縮合数が２～４の縮合環の複素環基がより好ましく、単環の複素環基または縮合数が２または３の縮合環の複素環基が更に好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は、１～３が好ましく、１～２がより好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は１～３０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１２が更に好ましい。上記複素環基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔが挙げられ、アルキル基、アリール基、複素環基、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基およびアミノ基からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　Ｒ１０１は、水素原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、水素原子またはアルキル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
　なお、式（１ａ）においてカチオンは、以下のように非局在化して存在している。
　特定化合物は、後述する式（２ａ）で表される化合物（以下、特定化合物（２ａ）ともいう）、式（３ａ）で表される化合物（以下、特定化合物（３ａ）ともいう）、式（４ａ）で表される化合物（以下、特定化合物（４ａ）ともいう）、式（５ａ）で表される化合物（以下、特定化合物（５ａ）ともいう）、および、式（６ａ）で表される化合物（以下、特定化合物（６ａ）ともいう）から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　スクアリリウム色素と特定化合物との組み合わせの好ましい一態様としては、スクアリリウム色素が上述したスクアリリウム染料（ＳＱ２）、スクアリリウム染料（ＳＱ３）およびスクアリリウム染料（ＳＱ４）から選ばれる少なくとも１種であり、特定化合物が、特定化合物（２ａ）、特定化合物（３ａ）および特定化合物（４ａ）から選ばれる少なくとも１種である組み合わせが挙げられる。この態様においては、スクアリリウム色素がスクアリリウム染料（ＳＱ２）であり、特定化合物が特定化合物（２ａ）である組み合わせ、スクアリリウム色素がスクアリリウム染料（ＳＱ３）であり、特定化合物が特定化合物（３ａ）である組み合わせ、または、スクアリリウム色素がスクアリリウム染料（ＳＱ４）であり、特定化合物が特定化合物（４ａ）である組み合わせが好ましく、より耐光性および矩形性に優れた画素を形成することができるという理由からスクアリリウム色素がスクアリリウム染料（ＳＱ４）であり、特定化合物が特定化合物（４ａ）である組み合わせがより好ましい。
　スクアリリウム色素と特定化合物との組み合わせの好ましい別の態様としては、スクアリリウム色素が上述したスクアリリウム顔料（ＳＱ５）およびスクアリリウム顔料（ＳＱ６）から選ばれる少なくとも１種であり、特定化合物が、特定化合物（５ａ）および特定化合物（６ａ）から選ばれる少なくとも１種である組み合わせが挙げられる。この態様においては、より耐光性および矩形性に優れた画素を形成できるという理由から、スクアリリウム色素がスクアリリウム顔料（ＳＱ５）で、特定化合物が特定化合物（５ａ）である組み合わせであるか、または、スクアリリウム色素がスクアリリウム顔料（ＳＱ６）で、特定化合物が特定化合物（６ａ）である組み合わせが好ましい。
（特定化合物（２ａ））
　式（２ａ）中、Ｒａ１、Ｒａ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲａ１１Ｒａ１２を表し、Ｒａ１１およびＲａ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒｂ１、Ｒｂ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基または－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２を表し、Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
　Ｙａ１は－ＮＲｙ１１Ｒｙ１２を表し、Ｒｙ１１およびＲｙ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
　Ｒ１０２は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　式（２ａ）のＲａ１、Ｒａ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｙａ１は、式（ＳＱ２）のＲａ１、Ｒａ２、Ｒｂ１、Ｒｂ２、Ｙａ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（２ａ）のＲ１０２は、式（１ａ）のＲ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
（特定化合物（３ａ））
　式（３ａ）中、Ｘ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｅ－、－ＮＲｃ１０－または－ＣＲｄ１０Ｒｄ１１－を表し、
　Ｒｃ１およびＲｃ１０はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｒｄ１０およびＲｄ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲｄ２１Ｒａ２２を表し、Ｒｄ２１およびＲｄ２２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
　Ｒｄ１～Ｒｄ４のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよく、
　Ｒ１０３は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
　式（３ａ）のＸ１、Ｒｃ１、Ｒｄ１～Ｒｄ４は、式（ＳＱ３）のＸ１、Ｒｃ１、Ｒｄ１～Ｒｄ４と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（３ａ）のＲ１０３は、式（１ａ）のＲ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
（特定化合物（４ａ））
　式（４ａ）中、Ｘ４１は、上記式（Ｘ－１）または上記式（Ｘ－２）で表される２価の連結基を表し、
　Ｒ４１ａは、アルキル基またはアリール基を表し、
　Ｒ４２ａおよびＲ４３ａは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、
　Ｒ４４ａは、アルキル基またはアリール基を表し、
　Ｒ１０４は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　式（４ａ）のＸ４１、Ｒ４１ａ、Ｒ４２ａ、Ｒ４３ａ、Ｒ４４ａは、式（ＳＱ４）のＸ４１、Ｒ４１ａ、Ｒ４２ａ、Ｒ４３ａ、Ｒ４４ａと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（４ａ）のＲ１０４は、式（１ａ）のＲ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
（特定化合物（５ａ））
　式（５ａ）中、Ｒ５１～Ｒ６０は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ７１～Ｒ７７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ７１とＲ７２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７３とＲ７４は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７６とＲ７７は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒ５１～Ｒ６０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよく、
　Ｒ１０５は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
　式（５ａ）のＲ５１～Ｒ６０は、式（ＳＱ５）のＲ５１～Ｒ６０と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（５ａ）のＲ１０５は、式（１ａ）のＲ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
（特定化合物（６ａ））
　式（６ａ）中、Ｑ１ａ、Ｑ４ａ、Ｑ５ａおよびＱ８ａは、それぞれ独立して、炭素原子又は窒素原子を表す；
　ただし、Ｑ１ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ａは存在せず、
　Ｑ４ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ａは存在せず、
Ｑ５ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ａは存在せず、Ｑ８ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ａは存在しない；
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａは、それぞれ独立して、水素原子、スルホ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋又はハロゲン原子を表し、Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表し、
　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい；
　Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２、スルホ基、－ＳＯ２ＮＲｑ１３Ｒｑ１４、－ＣＯＯＲｑ１５、－ＣＯＮＲｑ１６Ｒｑ１７、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、
　Ｒｑ１１～Ｒｑ１７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基又は複素環基を表し、
　Ｒｑ１１とＲｑ１２は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１３とＲｑ１４は、互いに結合して環を形成してもよく、
　Ｒｑ１６とＲｑ１７は、互いに結合して環を形成してもよい；
　Ｒ１０６は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
　式（６ａ）のＱ１ａ、Ｑ４ａ、Ｑ５ａ、Ｑ８ａ、Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａ、Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａは、式（ＳＱ６）のＱ１ａ、Ｑ４ａ、Ｑ５ａ、Ｑ８ａ、Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａ、Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａと同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（６ａ）のＲ１０６は、式（１ａ）のＲ１０１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　特定化合物の具体例としては、以下に示す化合物が挙げられる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における特定化合物の含有量は、０．００５～０．１質量％であることが好ましい。上限は、０．０９質量％以下であることが好ましく、０．０８質量％以下であることがより好ましい。下限は、０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０２質量％以上であることがより好ましい。
　特定化合物の含有量は、光重合開始剤１００質量部に対して０．０５～１質量部であることが好ましい。上限は、０．９質量部以下であることが好ましく、０．８質量部以下であることがより好ましい。下限は、０．１質量部以上であることが好ましく、０．２質量部以上であることがより好ましい。
　特定化合物の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して０．０２５～０．５質量部であることが好ましい。上限は、０．４５質量部以下であることが好ましく、０．４質量部以下であることがより好ましい。下限は、０．０５質量部以上であることが好ましく、０．１質量部以上であることがより好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は樹脂を含有する。樹脂は、例えば、顔料等を組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料等を組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。環状オレフィン樹脂としては、耐熱性向上の観点からノルボルネン樹脂が好ましい。ノルボルネン樹脂の市販品としては、例えば、ＪＳＲ（株）製のＡＲＴＯＮシリーズ（例えば、ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０）などが挙げられる。また、樹脂としては、国際公開第２０１６／０８８６４５号の実施例に記載された樹脂、特開２０１７－０５７２６５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０３２６８５号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０７５２４８号公報に記載された樹脂、特開２０１７－０６６２４０号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１６７５１３号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１７３７８７号公報に記載された樹脂、特開２０１７－２０６６８９号公報の段落番号００４１～００６０に記載された樹脂、特開２０１８－０１０８５６号公報の段落番号００２２～００７１に記載された樹脂、特開２０１６－２２２８９１号公報に記載されたブロックポリイソシアネート樹脂、特開２０２０－１２２０５２号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１１１６５６号公報に記載された樹脂、特開２０２０－１３９０２１号公報に記載された樹脂、特開２０１７－１３８５０３号公報に記載の主鎖に環構造を有する構成単位と側鎖にビフェニル基を有する構成単位とを含む樹脂を用いることもできる。また、樹脂としては、フルオレン骨格を有する樹脂を好ましく用いることもできる。フルオレン骨格を有する樹脂については、米国特許出願公開第２０１７／０１０２６１０号明細書の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、樹脂としては、特開２０２０－１８６３７３号公報の段落０１９９～０２３３に記載の樹脂、特開２０２０－１８６３２５号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂、韓国公開特許第１０－２０２０－００７８３３９号公報に記載の式１で表される樹脂を用いることもできる。
　樹脂として、酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は、例えば、アルカリ可溶性樹脂として用いることができる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　樹脂としては、式（ＥＤ１）で示される化合物および／または式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、重合性基を有する繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。重合性基としては、エチレン性不飽和結合含有基などが挙げられる。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を用いることも好ましい。
　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を含むことが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシ基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は、１０～１０５ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が５０モル％を超える樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えば、デンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。
　また、分散剤として、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）、国際公開第２０１６／１０４８０３号に記載のポリエステル側鎖を有するポリエチレンイミン、国際公開第２０１９／１２５９４０号に記載のブロック共重合体、特開２０２０－０６６６８７号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマー、特開２０２０－０６６６８８号公報に記載のアクリルアミド構造単位を有するブロックポリマーなどを用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における樹脂の含有量は、１～８５質量％が好ましい。下限は５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、８０質量％以下が好ましく、７５質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が更に好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物が分散剤としての樹脂を含有する場合、赤外線吸収組成物の全固形分中における分散剤としての樹脂の含有量は、０．５～４０質量％が好ましい。上限は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、５質量％以上が更に好ましい。また、分散剤としての樹脂の含有量は、スクアリリウム色素１００質量部に対して、１～１００質量部が好ましい。上限は、８０質量部以下が好ましく、７５質量部以下がより好ましい。下限は、２．５質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。
　本発明の赤外線吸収組成物は、樹脂を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜他の赤外線吸収剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、上述したスクアリリウム色素以外の赤外線吸収剤（他の赤外線吸収剤）を含有することができる。更に他の赤外線吸収剤を含有することで、より幅広い波長範囲の赤外線を遮蔽できる膜を形成することができる。他の赤外線吸収剤は、染料であってもよく、顔料（粒子）であってもよい。他の赤外線吸収剤としては、ピロロピロール化合物、ポリメチン化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、クアテリレン化合物、メロシアニン化合物、クロコニウム化合物、オキソノール化合物、イミニウム化合物、ジチオール化合物、トリアリールメタン化合物、ピロメテン化合物、アゾメチン化合物、アントラキノン化合物、ジベンゾフラノン化合物、ジチオレン金属錯体、金属酸化物、金属ホウ化物等が挙げられる。ピロロピロール化合物としては、特開２００９－２６３６１４号公報の段落番号００１６～００５８に記載の化合物、特開２０１１－０６８７３１号公報の段落番号００３７～００５２に記載の化合物、国際公開第２０１５／１６６８７３号の段落番号００１０～００３３に記載の化合物などが挙げられる。ポリメチン化合物としては、特開２００９－１０８２６７号公報の段落番号００４４～００４５に記載の化合物、特開２００２－１９４０４０号公報の段落番号００２６～００３０に記載の化合物、特開２０１５－１７２００４号公報に記載の化合物、特開２０１５－１７２１０２号公報に記載の化合物、特開２００８－０８８４２６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１６／１９０１６２号の段落番号００９０に記載の化合物、特開２０１７－０３１３９４号公報に記載の化合物などが挙げられる。クロコニウム化合物としては、特開２０１７－０８２０２９号公報に記載の化合物が挙げられる。イミニウム化合物としては、例えば、特表２００８－５２８７０６号公報に記載の化合物、特開２０１２－０１２３９９号公報に記載の化合物、特開２００７－０９２０６０号公報に記載の化合物、国際公開第２０１８／０４３５６４号の段落番号００４８～００６３に記載の化合物が挙げられる。フタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物、特開２００６－３４３６３１号公報に記載のオキシチタニウムフタロシアニン、特開２０１３－１９５４８０号公報の段落番号００１３～００２９に記載の化合物、特許第６０８１７７１号公報に記載のバナジウムフタロシアニン化合物、国際公開第２０２０／０７１４７０号に記載の化合物が挙げられる。ナフタロシアニン化合物としては、特開２０１２－０７７１５３号公報の段落番号００９３に記載の化合物が挙げられる。ジチオレン金属錯体としては、特許第５７３３８０４号公報に記載の化合物が挙げられる。金属酸化物としては、例えば、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、酸化亜鉛、Ａｌドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ二酸化スズ、ニオブドープ二酸化チタン、酸化タングステンなどが挙げられる。酸化タングステンの詳細については、特開２０１６－００６４７６号公報の段落番号００８０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。金属ホウ化物としては、ホウ化ランタンなどが挙げられる。ホウ化ランタンの市販品としては、ＬａＢ６－Ｆ（日本新金属（株）製）などが挙げられる。また、金属ホウ化物としては、国際公開第２０１７／１１９３９４号に記載の化合物を用いることもできる。酸化インジウムスズの市販品としては、Ｆ－ＩＴＯ（ＤＯＷＡハイテック（株）製）などが挙げられる。
　また、他の赤外線吸収剤として、欧州特許第３６２８６４５号明細書の段落番号００２５に記載の下記式で表される酸化タングステンを用いることもできる。
　Ｍ１ ａＭ２ ｂＷｃＯｄ（Ｐ（Ｏ）ｎＲｍ）ｅ
　Ｍ１、Ｍ２はアンモニウムカチオンまたは金属カチオンを表し、ａは０．０１～０．５であり、ｂは０～０．５であり、ｃは１であり、ｄは２．５～３であり、ｅは０．０１～０．７５であり、ｎは１、２または３であり、ｍは１、２または３であり、Ｒは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
　他の赤外線吸収剤の含有量は、上述したスクアリリウム色素１００質量部に対し１～１００質量部であることが好ましく、３～６０質量部であることがより好ましく、５～４０質量部であることが更に好ましい。また、赤外線吸収組成物の全固形分中におけるスクアリリウム色素と他の赤外線吸収剤との合計の含有量は、１質量％以上であることが好ましく、３質量％以上であることがより好ましく、５質量％以上であることが更に好ましい。上記合計の含有量の上限は、５０質量％以下であることが好ましく、４０質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以下であることが更に好ましい。
＜＜色素誘導体＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、更に色素誘導体を含有することができる。色素誘導体は分散助剤として用いられる。色素誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。
　色素誘導体を構成する色素骨格としては、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、キナクリドン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリレン色素骨格、ペリノン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、ベンゾイミダゾール色素骨格およびベンゾオキサゾール色素骨格が挙げられ、スクアリリウム色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、フタロシアニン色素骨格、キナクリドン色素骨格およびベンゾイミダゾロン色素骨格が好ましく、スクアリリウム色素骨格およびピロロピロール色素骨格がより好ましい。
　酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、ボロン酸基、カルボン酸アミド基、スルホンアミド基、イミド酸基及びこれらの塩等が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。カルボン酸アミド基としては、－ＮＨＣＯＲＸ１で表される基が好ましい。スルホンアミド基としては、－ＮＨＳＯ２ＲＸ２で表される基が好ましい。イミド酸基としては、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３、－ＣＯＮＨＳＯ２ＲＸ４、－ＣＯＮＨＣＯＲＸ５または－ＳＯ２ＮＨＣＯＲＸ６で表される基が好ましく、－ＳＯ２ＮＨＳＯ２ＲＸ３がより好ましい。ＲＸ１～ＲＸ６は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基を表す。ＲＸ１～ＲＸ６が表すアルキル基及びアリール基は、置換基を有してもよい。置換基としてはハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子であることがより好ましい。
　塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　色素誘導体の具体例としては、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４に記載の化合物も挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　色素誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対し、１～５０質量部が好ましい。下限値は、３質量部以上が好ましく、５質量部以上がより好ましい。上限値は、４０質量部以下が好ましく、３０質量部以下がより好ましい。色素誘導体は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合性化合物＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、重合性化合物を含有することができる。重合性化合物としては、ラジカル、酸または熱により架橋可能な公知の化合物を用いることができる。重合性化合物は、例えば、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基などが挙げられる。本発明で用いられる重合性化合物は、ラジカル重合性化合物であることが好ましい。
　重合性化合物としては、モノマー、プレポリマー、オリゴマーなどの化学的形態のいずれであってもよいが、モノマーであることが好ましい。重合性化合物の分子量は、１００～２５００が好ましい。上限は、２０００以下がより好ましく、１５００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。
　重合性化合物は、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物であることが更に好ましい。また、重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。重合性化合物の具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　重合性化合物としては、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。また、重合性化合物としては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（共栄社化学（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　重合性化合物としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることもできる。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基を有する重合性化合物を用いることで、現像時に未露光部の重合性化合物が除去されやすく、現像残渣の発生を抑制できる。酸基としては、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。酸基を有する重合性化合物としては、コハク酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。酸基を有する重合性化合物の市販品としては、アロニックスＭ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性化合物の好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像液に対する溶解性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造や取扱い上、有利である。
　重合性化合物としては、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０（以上、日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性化合物としては、アルキレンオキシ基を有する重合性化合物を用いることもできる。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物は、エチレンオキシ基および／またはプロピレンオキシ基を有する重合性化合物が好ましく、エチレンオキシ基を有する重合性化合物がより好ましく、エチレンオキシ基を４～２０個有する３～６官能（メタ）アクリレート化合物がさらに好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性化合物の市販品としては、例えば、サートマー社製のエチレンオキシ基を４個有する４官能（メタ）アクリレートであるＳＲ－４９４、日本化薬（株）製のイソブチレンオキシ基を３個有する３官能（メタ）アクリレートであるＫＡＹＡＲＡＤ　ＴＰＡ－３３０などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、フルオレン骨格を有する重合性化合物を用いることもできる。市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物としては、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような化合物の市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における重合性化合物の含有量は、０．５～３０質量％が好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。赤外線吸収組成物は、重合性化合物を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。重合性化合物を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は光重合開始剤を含有することができる。光重合開始剤としては、特に制限はなく、公知の光重合開始剤の中から適宜選択することができる。例えば、紫外線領域から可視領域の光線に対して感光性を有する化合物が好ましい。光重合開始剤は、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられる。光重合開始剤は、露光感度の観点から、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、オキシム化合物であることが更に好ましい。また、光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１に記載された化合物、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－１６７３１３号公報に記載の過酸化物系開始剤、特開２０２０－０５５９９２号公報に記載のオキサゾリジン基を有するアミノアセトフェノン系開始剤、特開２０１３－１９０４５９号公報に記載のオキシム系光重合開始剤、特開２０２０－１７２６１９号公報に記載の重合体、国際公開第２０２０／１５２１２０号に記載の式１で表される化合物などが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　オキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。オキシム化合物の具体例としては、３－ベンゾイルオキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－３－シクロヘキシル－プロパン－１，２－ジオン－２－（Ｏ－アセチルオキシム）などが挙げられる。市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４、ＴＲ－ＰＢＧ－３２７（トロンリー社製）、アデカオプトマーＮ－１９１９（（株）ＡＤＥＫＡ製、特開２０１２－０１４０５２号公報に記載の光重合開始剤２）が挙げられる。また、オキシム化合物としては、着色性が無い化合物や、透明性が高く変色し難い化合物を用いることも好ましい。市販品としては、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、ＮＣＩ－８３１、ＮＣＩ－９３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物、特許６６３６０８１号公報に記載の化合物、韓国公開特許第１０－２０１６－０１０９４４４号公報に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　光重合開始剤としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　光重合開始剤としては、ニトロ基を有するオキシム化合物を用いることができる。ニトロ基を有するオキシム化合物は、二量体とすることも好ましい。ニトロ基を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１３－１１４２４９号公報の段落番号００３１～００４７、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落番号０００８～００１２、００７０～００７９に記載されている化合物、特許４２２３０７１号公報の段落番号０００７～００２５に記載されている化合物、アデカアークルズＮＣＩ－８３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
　光重合開始剤としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　光重合開始剤としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　本発明において好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　オキシム化合物は、波長３５０～５００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物が好ましく、波長３６０～４８０ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する化合物がより好ましい。また、オキシム化合物の波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、高いことが好ましく、１０００～３０００００であることがより好ましく、２０００～３０００００であることが更に好ましく、５０００～２０００００であることが特に好ましい。化合物のモル吸光係数は、公知の方法を用いて測定することができる。例えば、分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチル溶媒を用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定することが好ましい。
　光重合開始剤としては、２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤を用いてもよい。そのような光ラジカル重合開始剤を用いることにより、光ラジカル重合開始剤の１分子から２つ以上のラジカルが発生するため、良好な感度が得られる。また、非対称構造の化合物を用いた場合においては、結晶性が低下して溶剤などへの溶解性が向上して、経時で析出しにくくなり、組成物の経時安定性を向上させることができる。２官能あるいは３官能以上の光ラジカル重合開始剤の具体例としては、特表２０１０－５２７３３９号公報、特表２０１１－５２４４３６号公報、国際公開第２０１５／００４５６５号、特表２０１６－５３２６７５号公報の段落番号０４０７～０４１２、国際公開第２０１７／０３３６８０号の段落番号００３９～００５５に記載されているオキシム化合物の２量体、特表２０１３－５２２４４５号公報に記載されている化合物（Ｅ）および化合物（Ｇ）、国際公開第２０１６／０３４９６３号に記載されているＣｍｐｄ１～７、特表２０１７－５２３４６５号公報の段落番号０００７に記載されているオキシムエステル類光開始剤、特開２０１７－１６７３９９号公報の段落番号００２０～００３３に記載されている光開始剤、特開２０１７－１５１３４２号公報の段落番号００１７～００２６に記載されている光重合開始剤（Ａ）、特許第６４６９６６９号公報に記載されているオキシムエステル光開始剤などが挙げられる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は、０．５～３０質量％が好ましい。下限は、１質量％以上が好ましく、３質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。上限は２５質量％以下が好ましく、２０質量％以下がより好ましい。赤外線吸収組成物は光重合開始剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、水、有機溶剤が挙げられ、有機溶剤であることが好ましい。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、３－ペンタノン、４－ヘプタノン、シクロヘキサノン、２－メチルシクロヘキサノン、３－メチルシクロヘキサノン、４－メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、プロピレングリコールジアセテート、３－メトキシブタノール、メチルエチルケトン、ガンマブチロラクトン、スルホラン、アニソール、１，４－ジアセトキシブタン、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセタート、二酢酸ブタン－１，３－ジイル、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセタート、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤は、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率が０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　赤外線吸収組成物中における溶剤の含有量は、１０～９７質量％であることが好ましい。下限は、３０質量％以上であることが好ましく、４０質量％以上であることがより好ましく、５０質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることがより一層好ましく、７０質量％以上であることが特に好ましい。上限は、９６質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましい。赤外線吸収組成物は溶剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜有彩色着色剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、有彩色着色剤を含有することができる。本発明において、有彩色着色剤とは、白色着色剤および黒色着色剤以外の着色剤を意味する。有彩色着色剤は、波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ未満の範囲に吸収を有する着色剤が好ましい。
　有彩色着色剤としては、赤色着色剤、緑色着色剤、青色着色剤、黄色着色剤、紫色着色剤およびオレンジ色着色剤が挙げられる。有彩色着色剤は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、赤外線吸収組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての一次粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　有彩色着色剤は、顔料を含むものであることが好ましい。有彩色着色剤中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。顔料としては以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ　１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｏｒａｎｇｅ　２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｒｅｄ　１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ　７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｖｉｏｌｅｔ　１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌｕｅ　１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　また、緑色顔料として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色顔料として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物、特開２０２０－０７６９９５号公報に記載のコアシェル型色素などを用いることもできる。
　また、青色顔料として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落番号００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落番号００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色顔料として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２０１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載のキノフタロン化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２５号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２４号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２３号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２２号公報に記載の化合物、特開２０２０－０３３５２１号公報に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５２００号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９９号に記載の化合物、国際公開第２０２０／０４５１９７号に記載の化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。
　赤色顔料として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つの臭素原子が置換したジケトピロロピロール化合物、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１０２３９９号に記載のジケトピロロピロール化合物、国際公開第２０１２／１１７９６５号に記載のジケトピロロピロール化合物、特開２０１２－２２９３４４号公報に記載のナフトールアゾ化合物、特許第６５１６１１９号公報に記載の赤色顔料、特許第６５２５１０１号公報に記載の赤色顔料、特開２０２０－０９０６３２号公報の段落番号０２２９に記載の臭素化ジケトピロロピロール化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４１号公報に記載のアントラキノン化合物、韓国公開特許第１０－２０１９－０１４０７４４号公報に記載のアントラキノン化合物、特開２０２０－０７９３９６号公報に記載のペリレン化合物などを用いることもできる。また、赤色顔料として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　各種顔料が有していることが好ましい回折角については、特許第６５６１８６２号公報、特許第６４１３８７２号公報、特許第６２８１３４５号公報、特開２０２０－０２６５０３号公報の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、ピロロピロール系顔料としては、結晶格子面のうち（±１±１±１）の８個の面の中でＸ線回折パターンにおける最大ピークに対応する面方向の結晶子サイズが１４０Å以下であるものを用いることも好ましい。また、ピロロピロール系顔料の物性については、特開２０２０－０９７７４４号公報の段落番号００２８～００７３に記載の通り設定することも好ましい。
　本発明において、有彩色着色剤には染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料を使用できる。例えば、ピラゾールアゾ系染料、アニリノアゾ系染料、トリアリールメタン系染料、アントラキノン系染料、アントラピリドン系染料、ベンジリデン系染料、オキソノール系染料、ピラゾロトリアゾールアゾ系染料、ピリドンアゾ系染料、シアニン系染料、フェノチアジン系染料、ピロロピラゾールアゾメチン系染料、キサンテン系染料、フタロシアニン系染料、ベンゾピラン系染料、インジゴ系染料、ピロメテン系染料等が挙げられる。また、染料には、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物も好ましく用いることができる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における有彩色着色剤の含有量は、１～５０質量％が好ましい。本発明の赤外線吸収組成物が、有彩色着色剤を２種以上含む場合、それらの合計量が上記範囲内であることが好ましい。
＜＜赤外線を透過させて可視光を遮光する色材＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、赤外線を透過させて可視光を遮光する色材（以下、可視光を遮光する色材ともいう）を含有することもできる。可視光を遮光する色材を含む赤外線吸収組成物は、赤外線透過フィルタ形成用の組成物として好ましく用いられる。
　可視光を遮光する色材は、紫色から赤色の波長領域の光を吸収する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長４５０～６５０ｎｍの波長領域の光を遮光する色材であることが好ましい。また、可視光を遮光する色材は、波長９００～１５００ｎｍの光を透過させる色材であることが好ましい。可視光を遮光する色材は、以下の（Ａ）および（Ｂ）の少なくとも一方の要件を満たすことが好ましい。
（Ａ）：２種類以上の有彩色着色剤を含み、２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成している。
（Ｂ）：有機系黒色着色剤を含む。
　有彩色着色剤としては、上述したものが挙げられる。有機系黒色着色剤としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、特開２０１７－２２６８２１号公報の段落番号００１６～００２０に記載の化合物、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　２種以上の有彩色着色剤の組み合わせで黒色を形成する場合の、有彩色着色剤の組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（８）の態様が挙げられる。
（１）黄色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（２）黄色着色剤、青色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（３）黄色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（４）黄色着色剤および紫色着色剤を含有する態様。
（５）緑色着色剤、青色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（６）紫色着色剤およびオレンジ色着色剤を含有する態様。
（７）緑色着色剤、紫色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
（８）緑色着色剤および赤色着色剤を含有する態様。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における可視光を遮光する色材の含有量は、１～５０質量％が好ましい。下限は５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましく、３０質量％以上であることが特に好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤はシリコーン系界面活性剤またはフッ素系界面活性剤であることが好ましい。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤を参照することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤、特開２０２０－００８６３４号公報に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、ＲＳ－４３、Ｒ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント２０８Ｇ、２１５Ｍ、２４５Ｆ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、６１０ＦＭ、７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、７１０ＦＳ、ＦＴＸ－２１８（以上、（株）ＮＥＯＳ製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えば、メガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　また、国際公開第２０２０／０８４８５４号に記載の界面活性剤を、炭素数６以上のパーフルオロアルキル基を有する界面活性剤の代替として用いることも、環境規制の観点から好ましい。
　また、式（ｆｉ－１）で表される含フッ素イミド塩化合物を界面活性剤として用いることも好ましい。
　式（ｆｉ－１）中、ｍは１または２を表し、ｎは１～４の整数を表し、ａは１または２を表し、Ｘａ＋はａ価の金属イオン、第１級アンモニウムイオン、第２級アンモニウムイオン、第３級アンモニウムイオン、第４級アンモニウムイオンまたはＮＨ４ ＋を表す。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、ＤＯＷＳＩＬ　ＳＨ８４００、ＳＨ８４００　ＦＬＵＩＤ、ＦＺ－２１２２、６７　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、７４　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、Ｍ　Ａｄｄｉｔｉｖｅ、ＳＦ　８４１９　ＯＩＬ（以上、ダウ・東レ（株）製）、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＦ－６００３（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ－３０７、ＢＹＫ－３２２、ＢＹＫ－３２３、ＢＹＫ－３３０、ＢＹＫ－３３３、ＢＹＫ－３７６０、ＢＹＫ－ＵＶ３５１０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　また、シリコーン系界面活性剤には下記構造の化合物を用いることもできる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１～１質量％が好ましく、０．００１～０．５質量％がより好ましく、０．００１～０．２質量％が更に好ましい。赤外線吸収組成物は界面活性剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられ、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。赤外線吸収組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は０．０００１～５質量％が好ましい。赤外線吸収組成物は重合禁止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物はシランカップリング剤を含有することができる。本明細書において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応および縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、スチリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤は、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。赤外線吸収組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。赤外線吸収組成物はシランカップリング剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物、ジベンゾイル化合物などが挙げられる。このような化合物の具体例としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の市販品としては、ＢＡＳＦ社製のＴｉｎｕｖｉｎシリーズ、Ｕｖｉｎｕｌ（ユビナール）シリーズなどが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９、国際公開第２０１６／１８１９８７号の段落番号００５９～００７６に記載された化合物を用いることもできる。赤外線吸収組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～３０質量％が好ましく、０．０５～２５質量％がより好ましい。赤外線吸収組成物は紫外線吸収剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。
　環状エーテル基を有する化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）であることが好ましい。エポキシ化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。
　エポキシ化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えば、フェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０～１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０～１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　赤外線吸収組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、例えば、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、例えば、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。赤外線吸収組成物は環状エーテル基を有する化合物を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物が環状エーテル基を有する化合物を含む場合、本発明の赤外線吸収組成物は、更に硬化剤を含むことが好ましい。硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノール系化合物、多価カルボン酸、チオール化合物などが挙げられる。硬化剤の具体例としては、コハク酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、Ｎ，Ｎ－ジメチル－４－アミノピリジン、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）などが挙げられる。硬化剤は、特開２０１６－０７５７２０号公報の段落番号００７２～００７８に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載の化合物を用いることもできる。
　硬化剤の含有量は、環状エーテル基を有する化合物の１００質量部に対し、０．０１～２０質量部が好ましく、０．０１～１０質量部がより好ましく、０．１～６．０質量部がさらに好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。リン系酸化防止剤としてはトリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、亜リン酸エチルビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）などが挙げられる。酸化防止剤の市販品としては、例えば、アデカスタブ　ＡＯ－２０、アデカスタブ　ＡＯ－３０、アデカスタブ　ＡＯ－４０、アデカスタブ　ＡＯ－５０、アデカスタブ　ＡＯ－５０Ｆ、アデカスタブ　ＡＯ－６０、アデカスタブ　ＡＯ－６０Ｇ、アデカスタブ　ＡＯ－８０、アデカスタブ　ＡＯ－３３０（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）などが挙げられる。また、酸化防止剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００２３～００４８に記載された化合物、国際公開第２０１７／００６６００号に記載された化合物、国際公開第２０１７／１６４０２４号に記載された化合物を使用することもできる。赤外線吸収組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。赤外線吸収組成物は酸化防止剤を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の赤外線吸収組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。
＜収容容器＞
　本発明の赤外線吸収組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。また、容器内壁は、容器内壁からの金属溶出を防ぎ、赤外線吸収組成物の経時安定性を高めたり、成分変質を抑制するなど目的で、ガラス製やステンレス製などにすることも好ましい。
＜赤外線吸収組成物の調製方法＞
　本発明の赤外線吸収組成物は、前述の成分を混合して調製できる。赤外線吸収組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解または分散して赤外線吸収組成物を調製してもよいし、必要に応じては、各成分を適宜配合した２つ以上の溶液または分散液をあらかじめ調製し、使用時（塗布時）にこれらを混合して赤外線吸収組成物として調製してもよい。
　赤外線吸収組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含んでいてもよい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて顔料の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。分散に使用するビーズの素材としては、ジルコニア、メノウ、石英、チタニア、タングステンカーバイト、窒化ケイ素、アルミナ、ステンレス鋼およびガラスが挙げられる。また、ビーズには、モース硬度が２以上の無機化合物を使用することもできる。組成物中に上記ビーズが１～１００００ｐｐｍ含まれていてもよい。
　赤外線吸収組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、赤外線吸収組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＸＥＹ、ＤＦＡ４２０１ＮＡＥＹ、ＤＦＡ４２０１Ｊ００６Ｐなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。
　フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　次に、本発明の膜について説明する。本発明の膜は、上述した本発明の赤外線吸収組成物から得られるものである。本発明の膜は、光学フィルタとして好ましく用いることができる。光学フィルタの用途は、特に限定されないが、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタなどが挙げられる。赤外線カットフィルタとしては、例えば、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタ（例えば、ウエハーレベルレンズに対する赤外線カットフィルタ用など）、固体撮像素子の裏面側（受光側とは反対側）における赤外線カットフィルタ、環境光センサー用の赤外線カットフィルタ（例えば、情報端末装置が置かれた環境の照度や色調を感知してディスプレイの色調を調整する照度センサーや、色調を調整する色補正用センサー）などが挙げられる。特に、固体撮像素子の受光側における赤外線カットフィルタとして好ましく用いることができる。赤外線透過フィルタとしては、可視光を遮光し、特定の波長以上の赤外線を選択的に透過可能なフィルタが挙げられる。
　本発明の膜の厚さは、目的に応じて適宜調整できる。膜の厚さは２０μｍ以下が好ましく、１０μｍ以下がより好ましく、５μｍ以下が更に好ましい。膜の厚さの下限は０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましい。
　本発明の膜は、有彩色着色剤を含むカラーフィルタと組み合わせて用いることもできる。カラーフィルタは、有彩色着色剤を含む着色組成物を用いて製造できる。本発明の膜を赤外線カットフィルタとして用い、かつ、本発明の膜とカラーフィルタと組み合わせて用いる場合、本発明の膜の光路上にカラーフィルタが配置されていることが好ましい。例えば、本発明の膜とカラーフィルタとを積層して積層体として用いることが好ましい。積層体においては、本発明の膜とカラーフィルタとは、両者が厚み方向で隣接していてもよく、隣接していなくてもよい。本発明の膜とカラーフィルタとが厚み方向で隣接していない場合は、カラーフィルタが形成された支持体とは別の支持体上に、本発明の膜が形成されていてもよく、本発明の膜とカラーフィルタとの間に、固体撮像素子を構成する他の部材（例えば、マイクロレンズ、平坦化層など）が介在していてもよい。
　本発明の膜は、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や、赤外線センサ、画像表示装置などの各種装置に用いることができる。
＜画素の製造方法＞
　本発明の赤外線吸収組成物を用いた画素の製造方法について説明する。
　画素の製造方法は、赤外線吸収組成物を用いて支持体上に組成物層を形成する工程と、組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の組成物層の未露光部を現像除去してパターン（画素）を形成する工程と、を含むことが好ましい。必要に応じて、組成物層をベークする工程（プリベーク工程）、及び、現像されたパターン（画素）をベークする工程（ポストベーク工程）を設けてもよい。
　支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、シリコン基板などが挙げられ、シリコン基板であることが好ましい。また、シリコン基板には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、シリコン基板には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、シリコン基板には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。下地層の表面接触角は、ジヨードメタンで測定した際に２０～７０°であることが好まい。また、水で測定した際に３０～８０°であることが好ましい。
　赤外線吸収組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；回転塗布法（スピンコーティング）；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（たとえば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。
　赤外線吸収組成物を塗布して形成した組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０秒～３０００秒が好ましく、４０～２５００秒がより好ましく、８０～２２０秒が更に好ましい。乾燥は、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　次に、組成物層をパターン状に露光する。例えば、組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の組成物層における未露光部の組成物層を現像除去してパターン（画素）を形成する。組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、未露光部の組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面及び安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤としては、上述した界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、赤外線カットフィルタおよび赤外線透過フィルタなどが挙げられる。
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜の他に、更に、銅を含有する層、誘電体多層膜、紫外線吸収層などを有していてもよい。紫外線吸収層としては、例えば、国際公開第２０１５／０９９０６０号の段落番号００４０～００７０、０１１９～０１４５に記載された吸収層が挙げられる。誘電体多層膜としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号０２５５～０２５９に記載された誘電体多層膜が挙げられる。銅を含有する層としては、銅を含有するガラスで構成されたガラス基板（銅含有ガラス基板）や、銅錯体を含む層（銅錯体含有層）を用いることもできる。銅含有ガラス基板としては、銅を含有する燐酸塩ガラス、銅を含有する弗燐酸塩ガラスなどが挙げられる。銅含有ガラスの市販品としては、ＮＦ－５０（ＡＧＣテクノグラス（株）製）、ＢＧ－６０、ＢＧ－６１（以上、ショット社製）、ＣＤ５０００（ＨＯＹＡ（株）製）等が挙げられる。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を含む。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を有する構成であり、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はない。例えば、以下のような構成が挙げられる。
　支持体上に、固体撮像素子の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口したタングステン等からなる遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、本発明の膜を有する構成である。更に、デバイス保護膜上であって、本発明の膜の下（支持体に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、本発明の膜上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素を形成する膜が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各画素よりも低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報に記載された装置が挙げられる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、本発明の膜を含む。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。画像表示装置は、白色有機ＥＬ素子を有するものであってもよい。白色有機ＥＬ素子としては、タンデム構造であることが好ましい。有機ＥＬ素子のタンデム構造については、特開２００３－０４５６７６号公報、三上明義監修、「有機ＥＬ技術開発の最前線－高輝度・高精度・長寿命化・ノウハウ集－」、技術情報協会、３２６～３２８ページ、２００８年などに記載されている。有機ＥＬ素子が発光する白色光のスペクトルは、青色領域（４３０～４８５ｎｍ）、緑色領域（５３０～５８０ｎｍ）及び黄色領域（５８０～６２０ｎｍ）に強い極大発光ピークを有するものが好ましい。これらの発光ピークに加え更に赤色領域（６５０～７００ｎｍ）に極大発光ピークを有するものがより好ましい。
＜赤外線センサ＞
　本発明の赤外線センサは、上述した本発明の膜を含む。赤外線センサの構成としては、赤外線センサとして機能する構成であれば特に限定はない。以下、本発明の赤外線センサの一実施形態について、図面を用いて説明する。
　図１において、符号１１０は、固体撮像素子である。固体撮像素子１１０の撮像領域上には、赤外線カットフィルタ１１１と、赤外線透過フィルタ１１４とが配置されている。また、赤外線カットフィルタ１１１上には、カラーフィルタ１１２が配置されている。カラーフィルタ１１２および赤外線透過フィルタ１１４の入射光ｈν側には、マイクロレンズ１１５が配置されている。マイクロレンズ１１５を覆うように平坦化層１１６が形成されている。
　赤外線カットフィルタ１１１は本発明の赤外線吸収組成物を用いて形成することができる。カラーフィルタ１１２は、可視領域における特定波長の光を透過及び吸収する画素が形成されたカラーフィルタであって、特に限定はなく、従来公知の画素形成用のカラーフィルタを用いることができる。例えば、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の画素が形成されたカラーフィルタなどが用いられる。例えば、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０２１４～０２６３の記載を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。赤外線透過フィルタ１１４は、使用する赤外ＬＥＤの発光波長に応じてその特性が選択される。赤外線透過フィルタ１１４は本発明の赤外線吸収組成物を用いて形成することができる。
　図１に示す赤外線センサにおいて、平坦化層１１６上には、赤外線カットフィルタ１１１とは別の赤外線カットフィルタ（他の赤外線カットフィルタ）が更に配置されていてもよい。他の赤外線カットフィルタとしては、銅を含有する層および／または誘電体多層膜を有するものなどが挙げられる。これらの詳細については、上述したものが挙げられる。また、他の赤外線カットフィルタとしては、デュアルバンドパスフィルタを用いてもよい。
＜カメラモジュール＞
　本発明のカメラモジュールは、固体撮像素子と、上述した本発明の膜を含む。カメラモジュールは、レンズ、及び、固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路を更に有することが好ましい。カメラモジュールに用いられる固体撮像素子としては、上記本開示に係る固体撮像素子であってもよいし、公知の固体撮像素子であってもよい。また、カメラモジュールに用いられるレンズ、及び、上記固体撮像素子から得られる撮像を処理する回路としては、公知のものを用いることができる。カメラモジュールの例としては、特開２０１６－００６４７６号公報、及び、特開２０１４－１９７１９０号公報に記載のカメラモジュールを参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。また、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
＜重量平均分子量及び数平均分子量の測定＞
　樹脂の重量平均分子量の測定は、測定装置としてＨＰＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）、ガードカラムとしてＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ　ＳｕｐｅｒＨＺ－Ｌ、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｍ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ３０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００を直結したカラムを用い、カラム温度を４０℃にして、試料濃度０．１質量％のテトラヒドロフラン溶液をカラムに１０μＬ注入し、溶出溶剤としてテトラヒドロフランを毎分０．３５ｍＬの流量でフローさせ、ＲＩ（示差屈折率）検出装置にて試料ピークを検出し、標準ポリスチレンを用いて作製した検量線を用いて計算した。
＜顔料分散液の調製＞
　下記表に示す素材を下記表に示す割合で配合し、総量１０ｇの混合物得た。この混合物を０．３ｍｍ径のジルコニアビーズを使用して、ビーズミル（減圧機構付き高圧分散機ＮＡＮＯ－３０００－１０（日本ビーイーイー（株）製））で、３時間、混合および分散して、各顔料分散液を調製した。顔料分散液の固形分濃度は溶剤の配合量で調整した。
　表に記載の素材の詳細は以下の通りである。
（顔料）
　Ｐ００１～Ｐ００６、Ｐ１０１～Ｐ１０６：上述したスクアリリウム色素の具体例で示した化合物Ｐ００１～Ｐ００６、Ｐ１０１～Ｐ１０６（スクアリリウム顔料、赤外線吸収剤）
（分散剤）
　Ｄｉｓ－００１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量２５０００）
　Ｄｉｓ－００２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量９８００）
（溶剤）
　Ｓ－００１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＜赤外線吸収組成物の調製＞
　下記表に示す溶剤以外の素材を下記表に示す割合で混合し、下記表に示す溶剤を加えて固形分濃度が２０質量％となるように調整した後、撹拌し、孔径０．４５μｍのナイロン製フィルタ（日本ポール（株）製）でろ過して、赤外線吸収組成物を調製した。表中の配合量欄の数値は固形分換算値での質量部の値である。下記表の「特定化合物の割合」の欄に、スクアリリウム色素１００質量部に対する、特定化合物の質量部の値を記す。
　上記表に記載の素材の詳細は以下の通りである。
（顔料分散液）
　Ａ００１～Ａ００６、Ａ１０１～Ａ１０６：上述した顔料分散液Ａ００１～Ａ００６、Ａ１０１～Ａ１０６
（染料）
　Ｄ００１～Ｄ００４：上述したスクアリリウム色素の具体例で示した化合物Ｄ００１～Ｐ００４（スクアリリウム染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０１：下記構造の化合物（スクアリリウム染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０２：下記構造の化合物（フタロシアニン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０３：下記構造の化合物（ピリリウム型ポリメチン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０４：下記構造の化合物（フタロシアニン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０５：下記構造の化合物（フタロシアニン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０６：下記構造の化合物（フタロシアニン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０７：下記構造の化合物（ピリリウム型ポリメチン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０８：下記構造の化合物（ピリリウム型ポリメチン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１０９：下記構造の化合物（ピリリウム型ポリメチン染料、赤外線吸収剤）
　Ｄ１１０：下記構造の化合物（ピリリウム型ポリメチン、赤外線吸収剤）
　Ｄ１１１：下記構造の化合物（ピリリウム型ポリメチン、赤外線吸収剤）
　Ｄ１１２：下記構造の化合物（チオピリリウム型ポリメチン、赤外線吸収剤）
　Ｄ１１３：下記構造の化合物（ベンゾ［ｃ，ｄ］インドレニン型ポリメチン、赤外線吸収剤）
（特定化合物）［式（１ａ）で表される化合物］
　０１１、０２１～０２３、０３１～０３３、１１１～１１３、１２１～１３３：下記構造の化合物
（樹脂）
　Ｂ００１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量１７０００、分散度２．３）
　Ｂ００２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量９７００、分散度１．８）
　Ｂ００３： 下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量１０１００、分散度１．７）
　Ｂ００４：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量２５０００、分散度２．２）
　Ｂ００５：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量１００００、分散度２．０）
　Ｂ００６：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量８０００、分散度１．８）
　Ｂ００７： 下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値は繰り返し単位のモル比である、重量平均分子量１０５００、分散度２．４）
　Ｂ００８：ＡＲＴＯＮ　Ｆ４５２０（ＪＳＲ（株）製、環状ポリオレフィン樹脂）
（重合性化合物）
　Ｍ－１：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物）
　Ｍ－３：アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製、多塩基酸変性アクリルオリゴマー）
（光重合開始剤）
　Ｃ－１：Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル化合物）
　Ｃ－２：下記構造の化合物
（界面活性剤）
　Ｆ－１：ＦＴＸ－２１８Ｄ（ネオス社製、フッ素系界面活性剤）
　Ｆ－２： 下記構造の化合物（重量平均分子量１４０００、繰り返し単位の割合を示す％の数値はモル％である）
　Ｆ－３：メガファックＦ－５５４（ＤＩＣ（株）製、フッ素系界面活性剤）
（重合禁止剤）
　Ｇ－１：ｐ－メトキシフェノール
（その他添加剤）
　Ｕ－１：下記構造の化合物（酸化防止剤）
　Ｕ－２：下記構造の化合物（酸化防止剤）
　Ｕ－３：Ｕｖｉｎｕｌ３０５０（ＢＡＳＦ製、紫外線吸収剤）
　Ｕ－４：ＥＰＩＣＬＯＮ　ＮＭ－６９５（ノボラック型エポキシ樹脂、ＤＩＣ（株）製）
　Ｕ－５：下記構造の化合物（酸化防止剤）
　Ｕ－６：下記構造の化合物（酸化防止剤）
（溶剤）
　Ｓ－００１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　Ｓ－００２：シクロペンタノン
＜耐光性の評価＞
　実施例１～５６、比較例１～８の赤外線吸収組成物については、各赤外線吸収組成物をガラス基材に製膜後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコート塗布し、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で全面露光した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃１０分間加熱し、膜を製造した。
　実施例１０１～１２８、比較例１０１～１０４の赤外線吸収組成物については、各赤外線吸収組成物をガラス基材に製膜後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコート塗布し、２００℃１０分間加熱し、膜を製造した。
　上記の膜を製膜したガラス基材について、紫外可視近赤外分光光度計Ｕ－４１００（（株）日立ハイテク製）を用いて、波長４００～２０００ｎｍの範囲の透過率を測定した。
　次に、上記の膜を製膜したガラス基材を、キセノンランプを用いて１０万ｌｕｘで２０時間照射（２００万ｌｕｘ・ｈ相当）し、キセノンランプ照射後の膜の透過率を測定した。
　キセノンランプ照射前後での波長６００～８００ｎｍの範囲における各波長での透過率の変化量（ΔＴ）を求め、測定波長域全体でのΔＴの最も大きい値に基づき、以下の基準で耐光性を評価した。ΔＴの値が小さいほうが耐光性が良好である。
　透過率の変化量（ΔＴ）＝｜キセノンランプ照射前の膜の透過率－キセノンランプ照射後の膜の透過率｜
　－評価基準－
　Ａ：ΔＴが１％未満である
　Ｂ：ΔＴが１％以上３％未満である
　Ｃ：ΔＴが３％以上である
＜矩形性の評価＞
　実施例１～５６、比較例１～８の赤外線吸収組成物を８インチ（１インチ＝２．５４ｃｍ）のシリコンウエハ上に、製膜後の膜厚が１．０μｍとなるようにスピンコート塗布し、その後ホットプレートで、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で２μｍのベイヤーパターンをマスクを介してｉ線を照射した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２５℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、さらに純水にて水洗した後に、ホットプレートで、２００℃で５分間加熱してパターン（画素）を形成した。
　得られた画素の断面を走査型電子顕微鏡で観察し、画素側壁の、シリコンウエハ表面に対する角度を測定して、以下の評価基準で矩形性を評価した。評価結果が５に近いほど、以下の評価基準で３～５であれば矩形性が良好であり、５が最も矩形性に優れている。
　－評価基準－
　５：画素側壁の角度が８０°以上１００°未満
　４：画素側壁の角度が１００°以上１１０°未満
　３：画素側壁の角度が７０°以上８０°未満
　２：画素側壁の角度が１１０°以上
　１：画素側壁の角度が７０°未満
＜密着性の評価＞
　ヘキサメチルジシラザンを噴霧した８インチ（１インチは２．５４ｃｍ）のシリコンウエハの上に、実施例１～５６、比較例１～８の赤外線吸収組成物を製膜後の膜厚が０．８μｍとなるようにスピンコート塗布し、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を用い、１．１μｍ四方のアイランドパターンを有するマスクを介して、５０～１７００ｍＪ／ｃｍ２の露光量でｉ線を照射した。
　次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を使用して、２５℃で４０秒間パドル現像を行った。その後、流水で３０秒間リンスした後、スプレー乾燥し、パターン（画素）を形成した。
　得られた画素について、走査型電子顕微鏡（（株）日立製作所製Ｓ－９２２０）を用いて画素上方から観察し、画素のパターンサイズの計測を行った。また光学顕微鏡を用いて密着性の評価を行った。全ての画素が密着している時のパターンサイズを下記評価基準に従って５段階で評価した。評価結果が５に近いほど、密着性に優れているといえる。
　－評価基準－
　５：パターンサイズが０．９μｍ以上１．０μｍ未満ですべての画素が密着している。
　４：パターンサイズが１．０μｍ以上１．０５μｍ未満ですべての画素が密着している。
　３：パターンサイズが１．０５μｍ以上１．１μｍ未満ですべての画素が密着している。
　２：パターンサイズが１．１μｍ以上１．２μｍ未満ですべての画素が密着している。
　１：パターンサイズが１．２μｍ以上でないとすべての画素が密着しない。
　上記表に示すように、実施例は耐光性の評価が優れていた。また、実施例１～５６については、矩形性および密着性に優れた画素を形成することもできた。
１１０：固体撮像素子、１１１：赤外線カットフィルタ、１１２：カラーフィルタ、１１４：赤外線透過フィルタ、１１５：マイクロレンズ、１１６：平坦化層

Claims (15)

  1. 　式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素と、式（１ａ）で表される化合物と、樹脂と、を含み、
    　前記式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素の１００質量部に対して、前記式（１ａ）で表される化合物を０．０１～１．０質量部含有する、赤外線吸収組成物；
    　式中、Ａ１およびＡ２は、それぞれ独立して、アリール基、複素環基または式（Ｒ１）で表される基を表し、
    　Ｒ１０１は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
    　式（Ｒ１）中、＊は連結手を表し、
    　Ｒｓ１～Ｒｓ３は、それぞれ独立して水素原子またはアルキル基を表し、
    　Ａｓ３は複素環基を表し、
    　ｎｓ１は、０以上の整数を表し、
    　Ｒｓ１とＲｓ２は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒｓ１とＡｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒｓ２とＲｓ３は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　ｎｓ１が２以上の場合、複数のＲｓ２およびＲｓ３はそれぞれ同一であってもよく、異なっていてもよい。
  2. 　前記式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素はスクアリリウム染料である、請求項１に記載の赤外線吸収組成物。
  3. 　前記スクアリリウム染料が、式（ＳＱ２）で表されるスクアリリウム染料、式（ＳＱ３）で表されるスクアリリウム染料、および式（ＳＱ４）で表されるスクアリリウム染料から選ばれる少なくとも１種であり、
    　前記式（１ａ）で表される化合物が、式（２ａ）で表される化合物、式（３ａ）で表される化合物および式（４ａ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、
    　請求項２に記載の赤外線吸収組成物；
    　式（ＳＱ２）中、Ｒａ１～Ｒａ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基または－ＮＲａ１１Ｒａ１２を表し、Ｒａ１１およびＲａ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒｂ１～Ｒｂ４はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基または－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２を表し、Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
    　Ｙａ１およびＹａ２はそれぞれ独立して－ＮＲｙ１１Ｒｙ１２を表し、Ｒｙ１１およびＲｙ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
    　Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
    　Ｒａ３とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
    　Ｒａ４とＹａ２とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよい；
    　式（ＳＱ３）中、Ｘ１およびＸ２は、それぞれ独立して、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｅ－、－ＮＲｃ１０－または－ＣＲｄ１０Ｒｄ１１－を表し、
    　Ｒｃ１、Ｒｃ２およびＲｃ１０はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒｄ１～Ｒｄ８、Ｒｄ１０およびＲｄ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲｄ２１Ｒａ２２を表し、Ｒｄ２１およびＲｄ２２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
    　Ｒｄ１～Ｒｄ８のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよい；
    　式（ＳＱ４）中、Ｘ４１およびＸ４２は、それぞれ独立して、式（Ｘ－１）または式（Ｘ－２）で表される２価の連結基を表し、
    　Ｒ４１ａおよびＲ４１ｂは、それぞれ独立してアルキル基またはアリール基を表し、
    　Ｒ４２ａ、Ｒ４２ｂ、Ｒ４３ａおよびＲ４３ｂは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、
    　Ｒ４４ａおよびＲ４４ｂは、それぞれ独立して、アルキル基またはアリール基を表す；
    　－（ＣＲＸ１ＲＸ２）ｎ１－　　・・・（Ｘ－１）
    　式（Ｘ－１）中、ＲＸ１およびＲＸ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｎ１は、２または３である；
    　－（ＣＲＸ３ＲＸ４）ｎ２－Ｏ－（ＣＲＸ５ＲＸ６）ｎ３－　　・・・（Ｘ－２）
    　式（Ｘ－２）中、ＲＸ３～ＲＸ６は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｎ２およびｎ３はそれぞれ独立して０～２の整数を表し、ｎ２＋ｎ３は１または２である；
    　式（２ａ）中、Ｒａ１、Ｒａ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲａ１１Ｒａ１２を表し、Ｒａ１１およびＲａ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、または、複素環基を表し、
    　Ｒｂ１、Ｒｂ２はそれぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基または－ＮＲｂ１１Ｒｂ１２を表し、Ｒｂ１１およびＲｂ１２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、複素環基またはアシル基を表し、
    　Ｙａ１は－ＮＲｙ１１Ｒｙ１２を表し、Ｒｙ１１およびＲｙ１２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒａ１とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
    　Ｒａ２とＹａ１とが結合して、窒素原子を少なくとも１つ含む５員環または６員環の複素環を形成していてもよく、
    　Ｒ１０２は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
    　式（３ａ）中、Ｘ１は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｅ－、－ＮＲｃ１０－または－ＣＲｄ１０Ｒｄ１１－を表し、
    　Ｒｃ１およびＲｃ１０はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒｄ１～Ｒｄ４、Ｒｄ１０およびＲｄ１１は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、ヒドロキシ基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、または－ＮＲｄ２１Ｒａ２２を表し、Ｒｄ２１およびＲｄ２２はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、
    　Ｒｄ１～Ｒｄ４のうち、隣接する二つの基同士は、結合して環を形成していてもよく、
    　Ｒ１０３は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
    　式（４ａ）中、Ｘ４１は、前記式（Ｘ－１）または前記式（Ｘ－２）で表される２価の連結基を表し、
    　Ｒ４１ａは、アルキル基またはアリール基を表し、
    　Ｒ４２ａおよびＲ４３ａは、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、または、アルコキシ基を表し、
    　Ｒ４４ａは、アルキル基またはアリール基を表し、
    　Ｒ１０４は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
  4. 　前記スクアリリウム染料が、式（ＳＱ４）で表されるスクアリリウム染料であり、
    　前記式（１ａ）で表される化合物が、前記式（４ａ）で表される化合物である、
    　請求項３に記載の赤外線吸収組成物。
  5. 　前記式（ＳＱ１）で表されるスクアリリウム色素はスクアリリウム顔料である、請求項４に記載の赤外線吸収組成物。
  6. 　前記スクアリリウム顔料が、式（ＳＱ５）で表されるスクアリリウム顔料および式（ＳＱ６）で表されるスクアリリウム顔料から選ばれる少なくとも１種であり、
    　前記式（１ａ）で表される化合物が、式（５ａ）で表される化合物および式（６ａ）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、
    　請求項５に記載の赤外線吸収組成物；
    　式（ＳＱ５）中、Ｒ５１～Ｒ７０は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ７１～Ｒ７７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ７１とＲ７２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７３とＲ７４は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７６とＲ７７は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒ５１～Ｒ７０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよい；
    　式（ＳＱ６）中、Ｑ１ａ、Ｑ１ｂ、Ｑ４ａ、Ｑ４ｂ、Ｑ５ａ、Ｑ５ｂ、Ｑ８ａおよびＱ８ｂは、それぞれ独立して、炭素原子又は窒素原子を表す；
    　ただし、Ｑ１ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ａは存在せず、Ｑ１ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ｂは存在せず、Ｑ４ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ａは存在せず、Ｑ４ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ｂは存在せず、Ｑ５ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ａは存在せず、Ｑ５ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ｂは存在せず、Ｑ８ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ａは存在せず、Ｑ８ｂが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ｂは存在しない；
    　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａ、および、Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂは、それぞれ独立して、水素原子、スルホ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋又はハロゲン原子を表し、Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表し、
    　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒ８１ｂ～Ｒ８５ｂのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい；
    　Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａ、および、Ｒｑ１ｂ～Ｒｑ８ｂは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２、スルホ基、－ＳＯ２ＮＲｑ１３Ｒｑ１４、－ＣＯＯＲｑ１５、－ＣＯＮＲｑ１６Ｒｑ１７、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、
    　Ｒｑ１１～Ｒｑ１７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基又は複素環基を表し、
    　Ｒｑ１１とＲｑ１２は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒｑ１３とＲｑ１４は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒｑ１６とＲｑ１７は、互いに結合して環を形成してもよい；
    　式（５ａ）中、Ｒ５１～Ｒ６０は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホ基、－ＮＲ７１Ｒ７２、－ＳＯ２ＮＲ７３Ｒ７４、－ＣＯＯＲ７５、－ＣＯＮＲ７６Ｒ７７、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ７１～Ｒ７７は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表し、Ｒ７１とＲ７２は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７３とＲ７４は、互いに結合して環を形成してもよく、Ｒ７６とＲ７７は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒ５１～Ｒ６０のうち、隣接する２つの基同士は結合して環を形成してもよく、
    　Ｒ１０５は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す；
    　式（６ａ）中、Ｑ１ａ、Ｑ４ａ、Ｑ５ａおよびＱ８ａは、それぞれ独立して、炭素原子又は窒素原子を表す；
    　ただし、Ｑ１ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ１ａは存在せず、
    　Ｑ４ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ４ａは存在せず、
    Ｑ５ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ５ａは存在せず、Ｑ８ａが窒素原子の場合は、Ｒｑ８ａは存在しない；
    　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａは、それぞれ独立して、水素原子、スルホ基、－ＳＯ３ －Ｍ＋又はハロゲン原子を表し、Ｍ＋は無機又は有機のカチオンを表し、
    　Ｒ８１ａ～Ｒ８５ａのうち、隣接する二つの基は互いに結合して環を形成してもよい；
    　Ｒｑ１ａ～Ｒｑ８ａは、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、－ＮＲｑ１１Ｒｑ１２、スルホ基、－ＳＯ２ＮＲｑ１３Ｒｑ１４、－ＣＯＯＲｑ１５、－ＣＯＮＲｑ１６Ｒｑ１７、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、
    　Ｒｑ１１～Ｒｑ１７は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基又は複素環基を表し、
    　Ｒｑ１１とＲｑ１２は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒｑ１３とＲｑ１４は、互いに結合して環を形成してもよく、
    　Ｒｑ１６とＲｑ１７は、互いに結合して環を形成してもよい；
    　Ｒ１０６は、水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。
  7. 　前記スクアリリウム顔料が、式（ＳＱ５）で表されるスクアリリウム顔料であり、
    　前記式（１ａ）で表される化合物が、式（５ａ）で表される化合物である、
    　請求項６に記載の赤外線吸収組成物。
  8. 　前記スクアリリウム顔料が、式（ＳＱ６）で表されるスクアリリウム顔料であり、
    　前記式（１ａ）で表される化合物が、式（６ａ）で表される化合物である、
    　請求項６に記載の赤外線吸収組成物。
  9. 　更に、光重合開始剤と重合性化合物とを含む、請求項１または２に記載の赤外線吸収組成物。
  10. 　請求項１または２に記載の赤外線吸収組成物を用いて得られた膜。
  11. 　請求項１０に記載の膜を含む光学フィルタ。
  12. 　請求項１０に記載の膜を含む固体撮像素子。
  13. 　請求項１０に記載の膜を含む画像表示装置。
  14. 　請求項１０に記載の膜を含む赤外線センサ。
  15. 　請求項１０に記載の膜を含むカメラモジュール。
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