CN108291989B - 近红外线吸收性组合物、膜、红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线吸收剂及化合物 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种能够制造红外遮蔽性及可见透明性优异的膜的近红外线吸收性组合物、膜、红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线吸收剂及化合物。近红外线吸收性组合物含有由下述式(1)表示且极大吸收波长为700nm以上的方酸内鎓盐化合物和树脂。式中，Ar¹及Ar²分别独立地表示具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团，R¹～R⁴分别独立地表示氢原子或取代基。膜及红外线截止滤波器由近红外线吸收性组合物组成。固体摄像元件具有红外线截止滤波器。

Description

近红外线吸收性组合物、膜、红外线截止滤波器、固体摄像元 件、红外线吸收剂及化合物

技术领域

本发明涉及一种近红外线吸收性组合物、膜、红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线吸收剂及化合物。

背景技术

摄像机、数码照相机、带照相机功能的移动电话等中使用作为彩色图像的固体摄像元件的CCD(电荷耦合元件)或CMOS(互补型金属氧化膜半导体)。这些固体摄像元件中，为了将感知红外线的硅光电二极管用于受光部，需要进行发光效率校正，且与红外线截止滤波器并用的情况较多。作为近红外线吸收性化合物，已知有方酸内鎓盐化合物等。

专利文献1中，记载有将下述化合物等用作电子照片用调色剂的内容。

[化学式1]

而且，专利文献2中记载有下述化合物。

[化学式2]

而且，非专利文献1为关于方酸内鎓盐化合物的双光子吸收性的论文，记载有关于下述化合物的双光子吸收性的内容。

[化学式3]

而且，非专利文献2中记载有下述化合物。

[化学式4]

以往技术文献

专利文献

[专利文献1]：日本特开2009-15114号公报

[专利文献2]：德国专利申请公开第4122563号说明书

非专利文献

[非专利文献1]：Chem.Eur.J.，2008，14，11082-11091

[非专利文献2]：H.Meier et al.，Helv.Chem.Acta 2004，87，1109-1118.

发明内容

发明要解决的技术课题

对红外线截止滤波器要求其红外遮蔽性及可见透明性优异。近年来，要求讲一步提高这些特件。

专利文献1为关于电子照片用调色剂的发明，并未记载关于红外线截止滤波器的内容。而且，本发明人等对专利文献1中所记载的化合物进行研究的结果，得知很难兼顾红外遮蔽性和可见透明性。

而且，专利文献2、非专利文献1及非专利文献2中，虽记载有特定的方酸内鎓盐化合物，但未记载关于所述化合物的红外遮蔽性及可见透明性的内容。而且，并未记载或暗示关于将所述化合物用于红外线截止滤波器的内容。

因此，本发明的目的在于提供一种能够制造红外遮蔽性及可见透明性优异的膜的近红外线吸收性组合物、膜、红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线吸收剂及化合物。

用于解决技术课题的手段

本发明人等进行了各种研究的结果，发现通过使用后述的含有由式(1)表示且于波长700nm以上的范围具有极大吸收波长的方酸内鎓盐化合物和树脂的近红外线吸收性组合物，可实现上述目的，以至完成了本发明。本发明提供以下内容。

<1>一种近红外线吸收性组合物，其含有由下述式(1)表示且极大吸收波长为700nm以上的方酸内鎓盐化合物和树脂，

[化学式5]

式中，Ar¹及Ar²分别独立地表示具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团，R¹～R⁴分别独立地表示氢原子或取代基，R¹可以与R²或Ar¹键结而形成环，R³可以与R⁴或Ar²键结而形成环，

其中，Ar¹为包含硫属原子的单环的杂芳环的情况下，R¹及R²分别独立地表示芳基或杂芳基，Ar²为包含硫属原子的单环的杂芳环的情况下，R³及R⁴分别独立地表示芳基或杂芳基。

<2>根据<1>所述的近红外线吸收性组合物，其中，方酸内鎓盐化合物中，包含式(1)的Ar¹及Ar²的平面具有原子数16～54的π共轭平面。

<3>根据<1>或<2>所述的近红外线吸收性组合物，其中，硫属原子为硫原子。

<4>根据<1>或<2>所述的近红外线吸收性组合物，其中，Ar¹及Ar²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环或包含这些环的二价共轭基团。

<5>根据<1>～<4>中任一个所述的近红外线吸收性组合物，其中，Ar¹及Ar²分别独立地包含噻吩环或噻唑环，

R¹～R⁴分别独立地表示芳基或杂芳基。

<6>根据<5>所述的近红外线吸收性组合物，其中，R¹～R⁴中的至少一个表示构成环的原子数为8以上的芳基或杂芳基。

<7>根据<5>所述的近红外线吸收性组合物，其中，R¹～R⁴中的至少一个表示萘基。

<8>根据<1>～<4>中任一个所述的近红外线吸收性组合物，其中，Ar¹及Ar²分别独立地表示具有原子数8以上的π共轭平面的二价共轭基团，

R¹～R⁴分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基。

<9>根据<8>所述的近红外线吸收性组合物，其中，Ar¹及Ar²分别独立地表示包含选自稠环、噻吩环或噻唑环中的至少一种的二价共轭基团，所述稠环包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种。

<10>根据<8>所述的近红外线吸收性组合物，其中，Ar¹及Ar²分别独立地表示包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环。

<11>根据<1>～<10>中任一个所述的近红外线吸收性组合物，其中，选自Ar¹、Ar²、R¹、R²、R³及R⁴中的至少一个具有由下述式(W)表示的基团，

-S¹-L¹-T¹……(W)

式(W)中，S¹表示单键、亚芳基或杂亚芳基，L¹表示亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，R^L1表示氢原子或烷基，R^L2表示亚烷基，

T¹表示烷基、氰基、羟基、甲酰基、羧基、氨基、硫醇基、磺基、磷酰基、硼烷基、乙烯基、乙炔基、芳基、杂芳基、三烷基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基，

S¹为单键，L¹为亚烷基，T¹为烷基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上，

S¹表示亚芳基或杂亚芳基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上。

<12>根据<1>～<4>中任一个所述的近红外线吸收性组合物，其中，方酸内鎓盐化合物为由下式(1a)表示的化合物，

[化学式6]

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

<13>一种膜，其由<1>至<12>中任一个所述的近红外线吸收性组合物形成。

<14>一种红外线截止滤波器，其由<1>至<12>中任一个所述的近红外线吸收性组合物形成。

<15>一种固体摄像元件，其具有<14>中所述的红外线截止滤波器。

<16>一种红外线吸收剂，其由下式(1a)表示，

[化学式7]

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

<17>一种化合物，其由下式(1a)表示，

[化学式8]

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

<18>根据<17>所述的化合物，其中，R¹¹～R¹⁴中的至少一个表示萘基。

<19>根据<17>或<18>所述的化合物，其中，选自Ar¹¹、Ar¹²、R¹¹、R¹²、R¹³及R¹⁴中的至少一个具有由下述式(W)表示的基团，

-S¹-L¹-T¹……(W)

式(W)中，S¹表示单键、亚芳基或杂亚芳基，L¹表示亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，R^L1表示氢原子或烷基，R^L2表示亚烷基，

T¹表示烷基、氰基、羟基、甲酰基、羧基、氨基、硫醇基、磺基、磷酰基、硼烷基、乙烯基、乙炔基、芳基、杂芳基、三烷基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基，

S¹为单键，L¹为亚烷基，T¹为烷基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上，

S¹表示亚芳基或杂亚芳基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上。

发明效果

根据本发明，可提供一种能够制造红外遮蔽性及可见透明性优异的膜的近红外线吸收性组合物。而且，可提供一种红外遮蔽性及可见透明性优异的膜、红外线截止滤波器、固体摄像元件、红外线吸收剂及化合物。

具体实施方式

本说明书中，总固体成分是指从组合物的所有组成中除去溶剂的成分的总质量。而且，固体成分是指25℃下的固体成分。

本说明书中的基团(原子团)的标记中，未记述取代及未经取代的标记一同包含不具有取代基的基团(原子团)和具有取代基的基团(原子团)。例如，“烷基”不仅包含不具有取代基的烷基(未经取代烷基)，也包含具有取代基的烷基(取代烷基)。

本说明书中的“放射线”，例如是指水银灯的明线光谱、准分子激光所代表的远紫外线、极紫外线(EUV光)、X射线、电子束等。另外，本发明中，所谓光是指活化光线或放射线。关于本说明书中的“曝光”，除非另有指明，则不仅是指利用水银灯的明线光谱、准分子激光所代表的远紫外线、X射线、EUV等来进行的曝光，而且利用电子束、离子束等粒子束来进行的描绘也包含于曝光中。

本说明书中，近红外线是指波长区域为700～2500nm的光(电磁波)。

本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯双方或任一方，“(甲基)烯丙基”表示烯丙基及甲基烯丙基双方或任一方，“(甲基)丙烯酸”表示丙烯酸及甲基丙烯酸双方或任一方，“(甲基)丙烯酰基”表示丙烯酰基及甲基丙烯酰基双方或任一方。

本明细书中，化学式中的Me表示甲基，Et表示乙基，Pr表示丙基，Bu表示丁基，Ph表示苯基。

本说明书中，“工序”这一词不仅包含独立的工序，即使在无法与其他工序明确区分的情况下，只要实现该工序的预期作用，则也包含于本术语中。

本说明书中，“重均分子量”及“数均分子量”定义为基于凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算值。

<近红外线吸收性组合物>

本发明的近红外线吸收性组合物(以下还称为本发明的组合物)包含由下述式(1)表示，且极大吸收波长为700nm以上的方酸内鎓盐化合物(以下，还称为方酸内鎓盐化合物(1))和树脂。

[化学式9]

方酸内鎓盐化合物(1)中，于Ar¹及Ar²的位置导入有具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团，因此认为所述化合物的醌型的贡献度得到提高，且极大吸收波长进一步向长波长侧位移。

而且，通过将Ar¹或Ar²设为具有二价共轭基团等较大的π共轭平面的基团，使有效共轭长度变长，该二价共轭基团具有包含硫属原子的稠环的杂芳环(例如，包含噻吩环或噻唑环的稠环等)。由此，最高占据分子轨道HOMO)-最低未占分子轨道(LUMO)间隙变小，因此能够使化合物的极大吸收波长进一步向长波长侧位移。

而且，Ar¹为包含硫属原子的单环的杂芳环(例如，噻吩环或噻唑环等)的情况下，通过将R¹及R²设为芳基或杂芳基，有效共轭长度变长，Ar²为包含硫属原子的单环的杂芳环(例如，噻吩环或噻唑环等)的情况下，通过将R³及R⁴设为芳基或杂芳基，使有效共轭长度变长。由此，能够缩小HOMO-LUMO间隙，因此可轻松地将化合物的极大吸收波长调整为700nm以上。

在此，作为将方酸内鎓盐化合物(1)的极大吸收波长调整为700nm以上的方法，可举出将包含Ar¹及Ar²的平面作为较大的π共轭平面的方法(加长以-NR¹R²和-NR³R⁴夹住的部分的共轭的方法)、将R¹～R⁴作为共轭基团的方法。其中，在将包含Ar¹及Ar²的平面作为较大的π共轭平面的情况下，能够更加有效地引发HOMO及LUMO的空间扩展，因此可轻松地加长有效共轭长度，因此可轻松地将化合物的极大吸收波长调整为700nm以上。

而且，通过本发明人等的研究，发现由下式(1)表示的化合物中的极大吸收波长为700nm以上的化合物的可见透明性和红外遮蔽性优异。而且，发现通过掺和方酸内鎓盐化合物(1)和包含树脂的组合物，能够制造红外遮蔽性及可见透明性优异的膜。

而且，方酸内鎓盐化合物(1)中，Ar¹及Ar²为具有包含硫属原子的稠环的杂芳环的二价共轭基团，由此耐热性和耐光性得到提高，且不易产生因加热或光照射导致的着色。因此，根据本发明的组合物，能够制造在加热或光照射后也具有优异的可见透明性的膜。

以下，对本发明的组合物的各成分进行说明。

<<由式(1)表示的方酸内鎓盐化合物>>

本发明的组合物包含由下述式(1)表示，且极大吸收波长为700nm以上的方酸内鎓盐化合物(方酸内鎓盐化合物(1))。本发明中，方酸内鎓盐化合物(1)的极大吸收波长优选710nm以上，更优选720nm以上。上限例如优选1200nm以下，更优选1000nm以下。通过在上述范围内具有极大吸收波长，能够制造红外遮蔽性及可见透明性优异的膜。

另外，方酸内鎓盐化合物(1)的极大吸收波长的值为使用以极大吸收波长中的吸光度成为0.7～1.2的范围的方式进行调整的方酸内鎓盐化合物的氯彷溶液来测定的值。

将方酸内鎓盐化合物(1)的含量在组合物的总固体成分中优选设为0.1～70质量％。下限优选0.5质量％以上，更优选1.0质量％以上。上限优选60质量％以下，更优选50质量％以下。通过设为该范围内，能够赋予良好的红外吸收能。组合物包含两种以上的方酸内鎓盐化合物(1)的情况下，其合计量优选在上述范围内。

[化学式10]

式中，Ar¹及Ar²分别独立地表示具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团，R¹～R⁴分别独立地表示氢原子或取代基，R¹可以与R²或Ar¹键结而形成环，R³可以与R⁴或Ar²键结而形成环，

其中，Ar¹为包含硫属原子的单环的杂芳环的情况下，R¹及R²分别独立地表示芳基或杂芳基，Ar²为包含硫属原子的单环的杂芳环的情况下，R³及R⁴分别独立地表示芳基或杂芳基。

Ar¹及Ar²分别独立地表示具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团。作为硫属原子，可举出硫原子、氧原子、硒原子、碲原子，优选硫原子。另外，本发明中，杂芳环是指由两种以上的原子构成环的芳香族环。

包含硫属原子的杂芳环基可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出以取代基T群进行说明的基团及由式(W)表示的基团。从分光及溶解性的观点考虑，取代基优选式(W)表示的基团。另外，本发明中，具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团可以仅由包含硫属原子的杂芳环构成，也可以为由包含硫属原子的杂芳环和连接基团构成的二价共轭基团。二价共轭基团优选仅由包含硫属原子的杂芳环构成。

作为包含硫属原子的杂芳环，例如可举出包含由下述(Ht)表示的环及由下述(Ht)表示的环的稠环。稠环可举出将由下述(Ht)表示的环缩合2以上的稠环或由下述(Ht)表示的环与不包含芳香族烃环和/或硫属原子的杂芳环的稠环等。包含硫属原子的杂芳环优选包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环。稠环的缩合数优选2～8，更优选2～5，进一步优选2～3。

[化学式11]

式中，X¹及X²分别独立地表示氮原子、CR^x。R^x表示氢原子或取代基。取代基可举出后述的以R¹～R⁴进行说明的取代基T群及由式(W)表示的基团。Y¹表示硫属原子。作为硫属原子，可举出硫原子、氧原子、硒原子、碲原子，优选硫原子。*表示连结键。

作为包含硫属原子的杂芳环的具体例中，作为单环，可举出的噻吩环、噻唑环。作为稠环，可举出下述中所示的环。

[化学式12]

式中，Z表示-CR₂-、-CR＝CR-、-SIR₂-、-CO-、-S-、-SO-、-SO₂-。*表示连结键。R表示氢原子或取代基。取代基可举出后述的以R¹～R⁴进行说明的取代基T群及由式(W)表示的基团。

作为具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团，例如可举出以下的(1)～(5)，优选(1)的方式。而且，(1)的方式中，更优选包含硫属原子的杂芳环为稠环的方式。

(1)仅由具有硫属原子的杂芳环组成的基团(由具有包含硫属原子的杂芳环组成的二价共轭基团)。

(2)将两个以上的包含硫属原子的杂芳环经由单键键结的基团。

(3)组合一个以上的包含硫属原子的杂芳环和包含1～4个次甲基的次甲基链的基团。

(4)将一个以上的包含硫属原子的杂芳环和一个以上的不包含硫属原子的杂芳环经由单键或包含1～4个次甲基的次甲基链键结的基团。

(5)将一个以上的包含硫属原子的杂芳环和一个以上的芳香族烃环经由单键或包含1～4个次甲基的次甲基链键结的基团。

优选Ar¹及Ar²分别独立地为噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环或包含这些环的二价共轭基团，更优选包含选自噻吩环、噻唑环或噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环，进一步优选包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环。

而且，Ar¹及Ar²分别独立地为具有原子数8以上(原子数优选8～14，原子数更优选8～12)的π共轭平面的二价共轭基团也优选。根据该方式，可轻松地制造可见透明性及红外遮蔽性优异的膜。

具有原子数8以上的π共轭平面的二价共轭基团优选包含以下环的二价共轭基团：包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环或包含选自噻吩环、噻唑环及包含这些环的稠环中的至少一种，更优选包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环。另外，本发明中的π共轭平面由氢原子以外的原子构成。例如，(A)的共轭基团的情况下，π共轭平面的原子数为10个，(B)的共轭基团的情况下，π共轭平面的原子数为12个，(C)的共轭基团的情况下，π共轭平面的原子数为8个。

[化学式13]

式(1)中，以式(1)的-NR¹R²和-NR³R⁴夹住的部分优选具有原子数16～54(原子数优选16～44，原子数更优选16～34)的π共轭平面。根据根据该方式，可轻松地进一步提高可见透明性及红外遮蔽性。另外，本发明中的π共轭平面为由氢原子以外的原子构成者。例如，以下的化合物的情况下，以-NR¹R²和-NR³R⁴夹住的部分具有原子数22的π共轭平面。另外，Ar¹和/或Ar²具有取代基的情况下，表示除去取代基的部分的原子数。具体而言，表示通过以氢原子取代取代基的结构而形成的π共轭平面的原子数。

[化学式14]

式(1)中，R¹～R⁴分别独立地表示氢原子或取代基。其中，Ar¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹及R²分别独立地表示芳基或杂芳基，Ar²为噻吩环或噻唑环的情况下，R³及R⁴分别独立地表示芳基或杂芳基。

作为由R¹～R⁴表示的取代基，可举出以取代基T群进行说明的基团及后述的由式(W)表示的基团，优选烷基、芳基或杂芳基，更优选芳基或杂芳基。

烷基的碳原子数优选1～20，更优选1～15，进一步优选1～8。烷基可以为直链、分支、环状的任一个，优选直链或分支。

芳基的碳原子数优选6～30，更优选6～20，进一步优选6～12。芳基优选萘基。

杂芳基优选单环或稠环，优选单环或缩合数为2～8的稠环，更优选单环或缩合数为2～4的稠环。构成杂芳基的环的杂原子数优选1～3。构成杂芳基的环的杂原子优选氮原子、氧原子或硫原子。构成杂芳基的环的原子数优选5以上，更优选6以上，进一步优选8以上。上限例如可设为30以下，优选18以下，更优选12以下。

烷基、芳基及杂芳基可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出下述取代基T群。而且，作为取代基还可以具有后述的由式(W)表示的基团。

(取代基T群)

卤素原子、氰基、硝基、烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基、芳烷基、-OR_Z ¹、-COR_Z ¹、-COOR_Z ¹、-OCOR_Z ¹、-NR_Z ¹R_Z ²、-NHCOR_Z ¹、-CONR_Z ¹R_Z ²、-NHCONR_Z ¹R_Z ²、-NHCOOR_Z ¹、-SR_Z ¹、-SO₂R_Z ¹、-SO₂OR_Z ¹、-NHSO₂R_Z ¹或-SO₂NR_Z ¹R_Z ²。R_Z ¹及R_Z ²分别独立地表示氢原子、烷基、烯基、炔基、芳基、杂芳基或芳烷基，R_Z ¹与R_Z ²可键结而形成环。另外，-COOR_Z ¹的R_Z ¹为氢时(即，羧基)，氢原子可解离(即，碳酸酯基)，也可以为盐的状态。而且，-SO₂OR_Z ¹的R_Z ¹为氢原子时(即，磺基)，氢原子可解离(即，磺酸盐基)，也可以为盐的状态。

作为卤素原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子。

烷基的碳原子数优选1～20，更优选1～15，进一步优选1～8。烷基可以为直链、分支、环状的任一个，优选直链或分支。

烯基的碳原子数优选2～20，更优选2～12，尤其优选2～8。烯基可以为直链、分支、环状的任一个，优选直链或分支。

炔基的碳原子数优选2～40，更优选2～30，尤其优选2～25。炔基可以为直链、分支、环状的任一个，优选直链或分支。

芳基的碳原子数优选6～30，更优选6～20，进一步优选6～12。

芳烷基的烷基部分与上述烷基相同。芳烷基的芳基部分与上述芳基相同。芳烷基的碳原子数优选7～40，更优选7～30，进一步优选7～25。

杂芳基优选单环或稠环，优选单环或缩合数为2～8的稠环，更优选单环或缩合数为2～4的稠环。构成杂芳基的环的杂原子的数量优选1～3。构成杂芳基的环的杂原子优选氮原子、氧原子或硫原子。杂芳基优选5员环或6员环。构成杂芳基的环的碳原子的数量优选3～30，更优选3～18，进一步优选3～12。

烷基、烯基、炔基、芳烷基、芳基及杂芳基可具有取代基也可为无取代。作为取代基，可举出上述的取代基T组。例如，可举出烷基、芳基、杂芳基等。而且，可作为取代基而具有后述的由式(W)表示的基团。

式(1)中，R¹可以与R²或Ar¹键结而形成环，R³可以与R⁴或Ar²键结而形成环。作为由R¹与R²或Ar¹键结而形成的环及由R³与R⁴或Ar²键结而形成的环，可举出脂环(非芳香性的烃环)、芳香环、杂环等。环可以为单环也可以为多环。作为形成上述环时的连接基团，可通过选自包含-CO-、-O-、-NH-、碳原子数1～10的亚烷基及它们的组合的群组中的二价的连接基团连结。

作为R¹(R³)与R²(R⁴)或Ar¹(Ar²)键结而形成环的结构，例如可举出下述结构、下述结构式中，X表示氢原子或取代基。

[化学式15]

作为式(1)的优选方式，可举出以下的<1>及<2>，优选<2>。

<1>式(1)中，Ar¹及Ar²分别独立地表示噻吩环或噻唑环，R¹～R⁴分别独立地表示芳基或杂芳基。

<2>式(1)中，Ar¹及Ar²分别独立地表示具有原子数8以上的π共轭平面的二价共轭基团，R¹～R⁴分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基。

上述<1>的方式中，R¹～R⁴中的至少一个优选构成环的原子数为8以上的芳基或构成环的原子数为8以上的杂芳基。根据该方式，能够进一步提高可见透明性及红外遮蔽性。而且，芳基及杂芳基优选稠环。作为具体例，可举出萘基及下述中所示的基团等，优选萘基。下述结构式中，*为与氮原子的键结键。

[化学式16]

上述<2>的方式中，Ar¹及Ar²优选分别独立地表示包含以下环的二价共轭基团：包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环或选自噻吩环、噻唑环及包含这些环的稠环中的至少一种，更优选表示包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环。根据该方式，能够进一步提高可见透明性及红外遮。

方酸内鎓盐化合物(1)中，选自Ar¹、Ar²、R¹、R²、R³及R⁴中的至少一个也优选具有由下述式(W)表示的基团。

根据该方式，能够提高化合物针对溶剂或树脂等的溶解性，并能够抑制组合物中的化合物的凝聚或析出等。由此，使用本发明的组合物来制造膜时，能够抑制产生来源于不溶物等的缺陷，且能够制造均匀且膜质良好的膜。

另外，Ar¹(Ar²)具有取代基的情况下，Ar¹(Ar²)优选相对于方酸部位在邻位不具有芳基及杂芳基。例如，如下述化合物，在邻位具有芳基的情况下，因位阻，具有键扭曲而呈短波化或牢固性降低的倾向。而且，通过来自邻位的芳基的过渡而副吸收增加，从而有时可见透明性降低。

[化学式17]

(由式(W)表示的基团)

对由式(W)表示的基团进行。

-S¹-L¹-T¹……(W)

式(W)中，S¹表示单键、亚芳基或杂亚芳基，

L¹表示亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，R^L1表示氢原子或烷基，R^L2表示亚烷基，

T¹表示烷基、氰基、羟基、甲酰基、羧基、氨基、硫醇基、磺基、磷酰基、硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、杂芳基、三烷基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基，

S¹为单键，L¹为亚烷基，T¹为烷基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上，

S¹表示亚芳基或杂亚芳基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上。

式(W)中，S¹表示亚芳基或杂亚芳基，优选单键。

亚芳基可以为单环也可以为多环。优选单环。亚芳基的碳原子数优选6～20，更优选6～12。

杂亚芳基可以为单环也可以为多环。优选单环。构成杂亚芳基的环的杂原子的数量优选1～3。构成杂亚芳基的环的杂原子优选氮原子、氧原子、硫原子或硒原子。构成杂亚芳基的环的碳原子的数量优选3～30，更优选3～18，进一步优选3～12。

式(W)中，L¹表示亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，R^L1表示氢原子或烷基，R^L2表示亚烷基。L¹优选亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，从柔软性及溶剂溶解性的观点考虑，更优选亚烷基、亚烯基、-O-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，进一步优选亚烷基、亚烯基、-O-或-OR^L2-，尤其优选亚烷基、-O-或-OR^L2-。

L¹所表示的亚烷基的碳原子数优选1～40。下限更优选3以上，进一步优选5以上，进一步优选10以上，尤其优选13以上。上限更优选35以下，进一步优选30以下。亚烷基可以为直链、分支、环状的任一个，但优选直链或分支，尤其优选分支。分支数例如优选2～10，更优选2～8。若分支数在上述范围，则溶剂溶解性良好。

L¹所表示的亚烯基及亚炔基的碳原子数优选2～40。下限例如更优选3以上，进一步优选5以上，进一步优选8以上，尤其优选10以上。上限更优选35以下，进一步优选30以下。亚烯基及亚炔基可以为直链、分支的任一个，但优选直链或分支，尤其优选分支。分支数优选2～10，更优选2～8。如果分支数在上述范围，则溶剂溶解性良好。

R^L1表示氢原子或烷基，优选氢原子。烷基的碳原子数优选1～20，更优选1～10，进一步优选1～4，尤其优选1～2。烷基可以为直链、分支的任一个。

R^L2表示亚烷基。R^L2所表示的亚烷基的含义与以L¹进行说明的亚烷基相同，优选范围也相同。

式(W)中，T¹表示烷基、氰基、羟基、甲酰基、羧基、氨基、硫醇基、磺基、磷酰基、硼基、乙烯基、乙炔基、芳基、杂芳基、三烷基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基。

烷基、三烷基甲硅烷基所具有的烷基及三烷氧基甲硅烷基所具有的烷基的碳原子数优选1～40。下限更优选3以上，进一步优选5以上，进一步优选10以上，尤其优选13以上。上限更优选35以下，进一步优选30以下。烷基可以为直链、分支、环状的任一个，但优选直链或分支。

芳基及杂芳基的含义与以R¹及R²说明的芳基及杂芳基相同，优选范围也相同。

式(W)中，S¹为单键，L¹为亚烷基，T¹为烷基的情况，L¹与T¹中所含的碳原子数的总和优选5以上，从溶剂溶解性的观点考虑，更优选6以上，进一步优选8以上。上限例如优选40以下，更优选35以下。而且，S¹表示亚芳基或杂亚芳基时，L¹与T¹中所含的碳原子数的总和优选5以上，从溶剂溶解性的观点考虑，更优选6以上，进一步优选8以上。上限例如优选40以下，更优选35以下。

-L¹-T¹部分的碳原子数为5以上时，溶解性良好，能够抑制因不溶物等引起的缺陷的产生，能够制造出均匀且膜质良好的膜。而且，通过将-L¹-T¹部分的碳原子数设为5以上，能够抑制结晶性。若化合物的结晶性较高，且加热膜，则化合物的结晶化得到进展，有时膜吸收特性发生变化，但由于能够抑制化合物的结晶性，因此能够抑制加热时的化合物的结晶化，并能够抑制加热后的膜的吸收特性的变动。

本发明中，作为式(W)的优选方式，可举出S¹为单键，且L¹为亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，且T¹为烷基或三烷基甲硅烷基的组合。L¹更优选亚烷基、亚烯基、-O-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，进一步优选亚烷基、亚烯基、-O-或-OR^L2-，尤其优选亚烷基、-O-或-OR^L2-。T¹更优选烷基。

式(W)中，-L¹-T¹部分也优选包含分支烷基结构。具体而言，尤其优选-L¹-T¹部分为分支烷基或分支烷氧基。-L¹-T¹部分的分支数优选2～10，更优选2～8。-L¹-T¹部分的碳原子数优选5以上，更优选9以上，进一步优选10以上。上限例如优选40以下，更优选35以下。

式(W)中，-L¹-T¹部分也优选包含不对称碳。根据该方式，方酸内鎓盐化合物(1)能够包含多个光学异构体，其结果，能够进一步提高化合物(1)的溶剂溶解性。不对称碳的数量优选一个以上。不对称碳的上限并无特别限定，例如优选4以下。

另外，式(1)中，阳离子如以下，以非定域化的方式存在。

[化学式18]

本发明中，方酸内鎓盐化合物(1)优选由下式(1a)表示的化合物。由式(1a)表示的化合物也为本发明的化合物。

[化学式19]

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示烷基、芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

作为Ar¹¹及Ar¹²所表示的，包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环，可举出以Ar¹及Ar²进行说明的稠环，且优选范围也相同。Ar¹¹及Ar¹²所表示的环可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出取代基T群及上述的由式(W)表示的基团。优选由式(W)表示的基团。

R¹¹～R¹⁴所表示的烷基、芳基及杂芳基与以R¹～R⁴进行说明的烷基、芳基及杂芳基含义相同，优选范围也相同。而且，R¹¹～R¹⁴所表示的烷基、芳基及杂芳基可以具有取代基，也可以未经取代。作为取代基，可举出取代基T群及上述的由式(W)表示的基团。优选式(W)表示的基团。

由R¹¹与R¹²或Ar¹¹键结而形成的环及由R¹³与R¹⁴或Ar¹²键结而形成的环可举出以式(1)进行说明的，由R¹与R²或Ar¹键结而形成的环，优选范围也相同。

式(1a)中，也优选选自Ar¹¹、Ar¹²、R¹¹、R¹²、R¹³及R¹⁴中的至少一个具有上述的由式(W)表示的基团。

作为方酸内鎓盐化合物(1)的具体例，可举出下述中所记载的化合物，但并不限定在此。

[化学式20]

[化学式21]

[化学式22]

[化学式23]

(方酸内鎓盐化合物(1)的合成方法)

上述的方酸内鎓盐化合物(1)能够通过以往公知的方法来合成。例如，能够根据Chem.Eur.J.，2008，14，11082-11091中所记载的方法或日本特开2009-15114号公报的0057～0062段中所记载的方法来合成。

而且，能够通过交叉耦合法来合成下述中间体(A)，并使所得到的中间体A与下述化合物(B)反应来合成。该合成方法以良好的产率得到目标化合物，因此优选。

[化学式24]

上述式中，Ar表示具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团。R分别独立地表示氢原子或取代基。X表示氯、溴、碘等卤素原子及三氟甲烷磺酰氧基、九氟丁烷磺酰氧基等脱离基。Y分别独立地表示OH、Cl或OR’，R’表示芳基。

中间体(A)的合成中，优选使用过渡金属催化剂并通过交叉耦合法合成中间体(A)。作为过渡金属催化剂，可举出钯催化剂、铜催化剂、镍催化剂等。

<<其他近红外线吸收化合物>>

本发明的组合物还可以含有上述的方酸内鎓盐化合物(1)以外的近红外线吸收化合物(以下，还称为其他近红外线吸收化合物)。其他近红外线吸收化合物优选在700～1200nm的范围具有极大吸收波长的化合物，更优选在700～1000nm的范围具有极大吸收波长的化合物。

作为其他近红外线吸收性化合物，例如可举出酞菁化合物、萘酞菁化合物、苝化合物、吡咯并吡咯化合物、花青化合物、二硫醇金属络合物、萘醌化合物、亚铵化合物、偶氮化合物等。作为吡咯并吡咯化合物，例如可举出日本特开2009-263614号公报的0016～0058段中记载的化合物等。而且，还可利用上述方酸内鎓盐化合物(1)以外的方酸内鎓盐化合物。酞菁化合物、萘酞菁化合物、亚铵化合物、花青化合物、方酸内鎓盐化合物及克酮酸化合物可使用日本特开2010-111750号公报的0010～0081段中公开的化合物，并将该内容编入本说明书中。而且，花青化合物例如可参考“功能性色素、大河原信/松冈贤/北尾悌次郎/平岛恒亮·著，讲谈社科技(Kodansha Scientific)”，并将该内容编入本说明书中。

本发明的组合物含有其他近红外线吸收化合物时，将其他近红外线吸收化合物的含量优选设为在本发明的组合物的总固体成分中为0.1～70质量％。下限优选0.5质量％以上，更优选1.0质量％以上。上限优选60质量％以下，更优选50质量％以下。本发明的组合物包含两种以上的其他近红外线吸收化合物时，其合计量优选在上述范围内。

而且，本发明的组合物还能够设为不包含其他近红外线吸收化合物的方式。本发明的组合物实质上不包含其他近红外线吸收化合物是指其他近红外线吸收化合物的含量在本发明的组合物的总固体成分中优选0.05质量％以下，更优选0.01质量％以下，进一步优选不包含。

<<彩色着色剂>>

本发明的组合物能够含有彩色着色剂。本发明中，彩色着色剂表示白色着色剂及黑色着色剂以外的着色剂。彩色着色剂优选在400～650nm的范围具有极大吸收波长的着色剂。

本发明中，彩色着色剂可以为颜料，也可以为染料。优选颜料。

颜料优选有机颜料，可举出以下的有机颜料。然而，本发明并不限定在此。

比色指数(C.I.)颜料黄1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35：1、36、36：1、37、37：1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等(以上为黄色颜料)、

C.I.颜料橙2、5、13、16、17：1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64、71、73等(以上为橙色颜料)、

C.I.颜料红1、2、3、4、5、6、7、9、10、14、17、22、23、31、38、41、48：1、48：2、48：3、48：4、49、49：1、49：2、52：1、52：2、53：1、57：1、60：1、63：1、66、67、81：1、81：2、81：3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等(以上为红色颜料)、

C.I.颜料绿7、10、36、37、58、59等(以上为绿色颜料)、

C.I.颜料紫1、19、23、27、32、37、42等(以上为紫色颜料)、

C.I.颜料蓝1、2、15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、22、60、64、66、79、80等(以上为蓝色颜料)，

这些有机颜料可单独使用或组合多种来使用。

作为染料，并无特别限制，可使用公知的染料。作为化学结构，吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、三苯甲烷系、蒽醌系、蒽吡啶酮系、亚苄基系、氧杂菁系、吡唑并三唑偶氮系、吡啶酮偶氮系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亚胺系、呫吨(xanthene)系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系、亚甲基吡咯系等染料。而且，也可使用这些染料的多聚体。而且，能够使用日本特开2015-028144号公报、日本特开2015-34966号公报中记载的染料。

而且，作为染料，有时能够适当使用酸性染料和/或其衍生物。

此外，还可有效地使用直接染料、碱性染料、媒染染料、酸性媒染染料、冰染染料(Azoic dye)、分散染料、油溶性染料、食品染料和/或它们的衍生物等。

以下举出酸性染料的具体例，但并不限定于这些。例如，可举出以下染料及这些染料的衍生物。

酸性茜素紫N、

酸性蓝1、7、9、15、18、23、25、27、29、40～45、62、70、74、80、83、86、87、90、92、103、112、113、120、129、138、147、158、171、182、192、243、324：1、

酸性铬紫K、

酸性品红；酸性绿1、3、5、9、16、25、27、50、

酸性橙6、7、8、10、12、50、51、52、56、63、74、95、

酸性红1、4、8、14、17、18、26、27、29、31、34、35、37、42、44、50、51、52、57、66、73、80、87、88、91、92、94、97、103、111、114、129、133、134、138、143、145、150、151、158、176、183、198、211、215、216、217、249、252、257、260、266、274、

酸性紫6B、7、9、17、19、

酸性黄1、3、7、9、11、17、23、25、29、34、36、42、54、72、73、76、79、98、99、111、112、114、116、184、243、

食品黄3

而且，也优选上述以外的偶氮系、呫吨系、酞菁系的酸性染料，还可优选使用C.I.溶剂蓝44、38；C.I.溶剂橙45；罗丹明B、罗丹明110等酸性染料及这些染料的衍生物。

其中，作为染料，优选选自三芳甲烷系、蒽醌系、偶氮甲碱系、亚苄基系、氧杂菁系、花青系、啡噻嗪系、吡咯并吡唑甲亚胺系、呫吨系、酞菁系、苯并吡喃系、靛蓝系、吡唑偶氮系、苯胺偶氮系、吡唑并偶氮系、吡啶酮偶氮系、蒽吡啶酮系、亚甲基吡咯系的着色剂。

而且，还可组合颜料与染料来使用。

本发明的组合物含有彩色着色剂时，彩色着色剂的含量优选设为在本发明的组合物的总固体成分中为0.1～70质量％。下限优选0.5质量％以上，更优选1.0质量％以上。上限优选60质量％以下，更优选50质量％以下。

彩色着色剂的含量相对于方酸内鎓盐化合物(1)的100质量份，优选10～1000质量份，更优选50～800质量份。

而且，将彩色着色剂、方酸内鎓盐化合物(1)、上述的其他近红外线吸收性化合物的合计量优选设为在本发明的组合物的总固体成分中为1～80质量％。下限优选5质量％以上，更优选10质量％以上。上限优选70质量％以下，更优选60质量％以下。

本发明的组合物包含两种以上的彩色着色剂时，其合计量优选在上述范围内。

<<使红外区域的至少一部分光透射，且对可见区域的光进行遮光的色材(对可见光进行遮光的色材)>>

本发明的组合物还可含有对可见光进行遮光的色材。对可见光进行遮光的色材中，颜料的含量相对于对可见光进行遮光的色材的总质量优选90质量％以上，更优选95质量％以上，进一步优选99质量％以上。对可见光进行遮光的色材通过组合多种色材，优选呈现黑色、灰色或接近它们的颜色。而且，对可见光进行遮光的色材优选吸收从紫色至红色波长区域的光的材料。而且，对可见光进行遮光的色材优选对波长450～650nm的波长区域的光进行遮光的色材。

本发明中，对可见光进行遮光的色材优选满足以下(1)及(2)中的至少一个要素，更优选满足(1)的要素。

(1)：包含两种以上的彩色着色剂的方式

(2)：包含有机系黑色着色剂的方式

另外，本发明中，作为对可见光进行遮光的色材的有机系黑色着色剂是指吸收可见区域的光，但使红外区域的至少一部分光透射的材料。从而，本发明中，作为对可见光进行遮光的色材的有机系黑色着色剂并不包含吸收红外区域的光及可见区域的光该两者的黑色着色剂，即不包含碳黑或钛黑。

作为彩色着色剂，可举出上述的彩色着色剂。作为有机系黑色着色剂，例如可举出双苯并呋喃酮化合物、甲亚胺化合物、苝化合物、偶氮系化合物等，优选双苯并呋喃酮化合物、苝化合物。作为双苯并呋喃酮化合物，可举出日本特表2010-534726号公报、日本特表2012-515233号公报、日本特表2012-515234号公报等中所记载的化合物，例如，可作为BASF公司制“Irgaphor Black”而得到。作为苝化合物，可举出C.I.颜料黑31、32等。作为甲亚胺化合物，可举出日本特开平1-170601号公报、日本特开平2-34664号公报等中所记载的化合物，例如可作为Dainichiseika Color&Chemicals Mfg.Co.，Ltd.制“CHROMOFINE BLACKA1103”而得到。

本发明中，对可见光进行遮光的色材中，例如作为波长450～650nm的范围内的吸光度的最小值A与波长900～1300nm的范围内的吸光度的最小值B之比的A/B优选4.5以上。

关于上述特性，可以以一种原材料满足，也可以组合多种原材料来满足。例如，上述(1)的方式的情况下，优选组合多种彩色着色剂来满足上述光谱特性。

作为对可见光进行遮光的色材而包含两种以上的彩色着色剂的情况下，彩色着色剂优选选自红色着色剂、绿色着色剂、蓝色着色剂、黄色着色剂、紫色着色剂及橙色着色剂中的着色剂。

组合两种以上的彩色着色剂来形成对可见光进行遮光的色材的情况下，作为彩色着色剂的组合，例如可举出以下。

(1)含有黄色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式

(2)含有黄色着色剂、蓝色着色剂及红色着色剂的方式

(3)含有黄色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式

(4)含有黄色着色剂及紫色着色剂的方式

(5)含有绿色着色剂、蓝色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式

(6)含有紫色着色剂及橙色着色剂的方式

(7)含有绿色着色剂、紫色着色剂及红色着色剂的方式

(8)含有绿色着色剂及红色着色剂的方式

作为上述(1)方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为蓝色颜料的C.I.颜料蓝15：6、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23及作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。

作为上述(2)方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为蓝色颜料的C.I.颜料蓝15：6及作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。

作为上述(3)的方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23及作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。

作为上述(4)的方式的具体例，可举出含有作为黄色颜料的C.I.颜料黄139或C.I.颜料黄185、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23的方式。

作为上述(5)的方式的具体例，可举出含有作为绿色颜料的C.I.颜料绿7或C.I.颜料绿36、作为蓝色颜料的C.I.颜料蓝15：6、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。

作为上述(6)的方式的具体例，可举出含有作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为橙色颜料的C.I.颜料橙71的方式。

作为上述(7)的具体例，可举出含有绿色颜料的C.I.颜料绿7或C.I.颜料绿36、作为紫色颜料的C.I.颜料紫23、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。

作为上述(8)的具体例，可举出含有作为绿色颜料的C.I.颜料绿7或C.I.颜料绿36、作为红色颜料的C.I.颜料红254或C.I.颜料红224的方式。

作为各着色剂的比率(质量比)，例如可举出以下。

[表1]

No.

黄色着色剂

绿色着色剂

蓝色着色剂

紫色着色剂

红色着色剂

橙色着色剂

1

0.1～0.4

0.1～0.6

0.01～0.3

0.1～0.6

2

0.1～0.4

0.1～0.6

0.2～0.7

3

0.1～0.6

0.1～0.6

0.1～0.6

4

0.2～0.8

0.2～0.8

5

0.1～0.4

0.1～0.4

0.1～0.4

0.1～0.4

6

0.2～0.6

0.4～0.8

7

0.1～0.5

0.2～0.7

0.1～0.4

8

0.5～0.8

0.2～0.5

本发明的组合物含有对可见光进行遮光的色材的情况下，对可见光进行遮光的色材的含量相对于组合物的总固体成分优选30质量％以下，更优选20质量％以下，进一步优选15质量％以下。下限例如能够设为0.01质量％以上，也能够设为0.5质量％以上。

而且，本发明的组合物能够设为实质上并不含有对可见光进行遮光的色材的方式。实质上并不含有对可见光进行遮光的色材的情况是指，对可见光进行遮光的色材的含量优选本发明的组合物的总固体成分的0.005质量％以下，更优选0.001质量％以下，进一步优选不含有对可见光进行遮光的色材。

<<颜料衍生物>>

本发明的组合物能够含有颜料衍生物。作为颜料衍生物，可举出具有通过酸性基、碱性基取代颜料的一部分的结构的化合物。从分散性及分散稳定性的观点考虑，优选颜料衍生物含有具有酸性基或碱性基的颜料衍生物。

<<树脂>>

本发明的组合物包含树脂。树脂的重均分子量(Mw)优选2,000～2,000,000。上限优选1,000,000以下，更优选500,000以下。下限优选3,000以上，更优选5,000以上。

而且，环氧树脂的情况下，环氧树脂的重均分子量(Mw)优选100以上，更优选200～2,000,000。上限优选1,000,000以下，更优选500,000以下。下限优选100以上，更优选200以上。

作为树脂，可举出(甲基)丙烯酸树脂、环氧树脂、烯硫醇树脂、聚碳酸酯树脂、聚醚树脂、聚芳酯树脂、聚砜树脂、聚醚砜树脂、聚对亚苯基树脂、聚亚芳基醚氧化膦树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、环状烯烃树脂、聚酯树脂等。这些树脂可以单独使用一种，也可以混合两种以上来使用。

其中，从相对于方酸内鎓盐化合物(1)的树脂的溶解性及可见透明性的观点考虑，优选(甲基)丙烯酸树脂、聚酯树脂及环氧树脂，更优选(甲基)丙烯酸树脂。

作为(甲基)丙烯酸树脂，可举出包含(甲基)丙烯酸和/或来源于其酯的结构单元的聚合物。具体而言，可举出聚合选自(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯类、(甲基)丙烯酰胺及(甲基)丙烯腈中的至少一种来得到的聚合物。

作为聚酯树脂，可举出通过多元醇(例如，乙二醇、丙二醇、丙三醇、三羟甲基丙烷)与多元酸(例如，对苯二甲酸、间苯二甲酸、萘二甲酸等芳香族二羧酸及这些芳香核的氢原子被甲基、乙基、苯基等取代的芳香族二羧酸、己二酸、癸二酸、十二烷二羧酸等碳原子数2～20的脂肪族二羧酸、及环己烷二羧酸等的脂环式二羧酸等)的反应而得到的聚合物、及通过己内酯单体等的环状酯化合物的开环聚合而得到的聚合物(例如，聚己内酯)。

作为环氧树脂，能够举出双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、苯酚酚醛清漆型环氧树脂、甲酚酚醛清漆型环氧树脂、脂肪族环氧树脂等。

作为双酚A型环氧树脂，可举出JER827、JER828、JER834、JER1001、JER1002、JER1003、JER1055、JER1007、JER1009、JER1010(以上为Mitsubishi Chemical Co.，Ltd.制)、EPICLON860、EPICLON1050、EPICLON1051、EPICLON1055(以上为DIC CORPORATION制)等。

作为双酚F型环氧树脂，可举出JER806、JER807、JER4004、JER4005、JER4007、JER4010(以上为Mitsubishi Chemical Co.，Ltd.制)、EPICLON830、EPICLON835(以上为DICCORPORATION制)、LCE-21、RE-602S(以上为Nippon Kayaku Co.，Ltd.制)等。

作为苯酚酚醛清漆型环氧树脂，可举出JER152、JER154、JER157S70、JER157S65、(以上为Mitsubishi Chemical Co.，Ltd.制)、EPICLON N-740、EPICLON N-770、EPICLON N-775(以上为DIC CORPORATION制)等。

作为甲酚酚醛清漆型环氧树脂，可举出EPICLON N-660、EPICLON N-665、EPICLONN-670、EPICLON N-673、EPICLON N-680、EPICLON N-690、EPICLON N-695(以上为DICCORPORATION制)、EOCN-1020(以上为Nippon Kayaku Co.，Ltd.制)等。

作为脂肪族环氧树脂，可举出ADEKA RESIN EP-4080S、ADEKA RESIN EP-4085S、ADEKA RESIN EP-4088S(以上为ADEKA CORPORATION制)CELOXIDE 2021P、CELOXIDE 2081、CELOXIDE 2083、CELOXIDE 2085、EHPE3150、EPOLEAD PB 3600、EPOLEAD PB 4700(以上为Daicel Corporation制)、DENACOL EX-212L、EX-214L、EX-216L、EX-321L、EX-850L(以上为Nagase ChemteX Corporation制)等。

除此以外，可举出ADEKA RESIN EP-4000S、ADEKA RESIN EP-4003S、ADEKA RESINEP-4010S、ADEKA RESIN EP-4011S(以上、为ADEKA CORPORATION制)、NC-2000、NC-3000、NC-7300、XD-1000、EPPN-501、EPPN-502(以上为ADEKA CORPORATION制)、JER1031S(MitsubishiChemical Co.，Ltd.制)、RIPOXY SPCF-9X(SHOWA DENKO K.K.制)等。

而且，树脂可以具有酸基。作为酸基，例如可举出羧基、磷酸基、磺酸基、苯酚性羟基等。这些酸基可以仅为一种，也可以为两种以上。

作为具有酸基的树脂，优选在侧链具有羧基的聚合物，甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、巴豆酸共聚物、马来酸共聚物、部分酯化马来酸共聚物、酚醛清漆树脂等碱可溶性酚醛树脂等，以及在侧链具有羧基的酸性纤维素衍生物、对具有羟基的聚合物加成酸酐而得到的树脂。尤其优选(甲基)丙烯酸和能够与其共聚的其他单体的共聚物。作为可与(甲基)丙烯酸共聚的其他单体，能够举出烷基(甲基)丙烯酸酯、芳基(甲基)丙烯酸酯、乙烯基化合物等。作为烷基(甲基)丙烯酸酯及芳基(甲基)丙烯酸酯，可举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、苯基(甲基)丙烯酸酯、苄基(甲基)丙烯酸酯、甲苯基(甲基)丙烯酸酯、萘基(甲基)丙烯酸酯、环己基(甲基)丙烯酸酯等，作为乙烯基化合物，可举出苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、丙烯酸四氢糠酯、聚苯乙烯大分子单体、聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体等，作为日本特开平10-300922号公报所记载的N位取代马来酰亚胺单体，可举出N-苯基马来酰亚胺、N-环己基马来酰亚胺等。另外，可与这些(甲基)丙烯酸共聚的其他单体可以仅为一种，也可以为两种以上。

具有酸基的树脂，能够优选使用包括苄基(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酸共聚物、苄基(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸/2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯共聚物、苄基(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸/其他单体的多元共聚物。而且，还能够优选使用2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯的共聚物，日本特开平7-140654号公报所记载的2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、2-羟基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羟基乙酯/聚苯乙烯大分子单体/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物。

具有酸基的树脂也优选包含如下聚合物，该聚合物通过聚合包含由下述通式(ED1)表示的化合物和/或由下述通式(ED2)表示的化合物(以下，有时将这些化合物称为“醚二聚体”。)的单体成分而成。

[化学式25]

通式(ED1)中，R¹及R²分别独立地表示氢原子或可以具有取代基的碳原子数1～25的烃基。

[化学式26]

通式(ED2)中，R表示氢原子或碳原子数1～30的有机基团。作为通式(ED2)的具体例，可参考日本特开2010-168539号公报的记载。

通式(ED1)中，作为由R¹及R²表示的可以具有取代基的碳原子数1～25的烃基，并无特别限定，例如可举出，甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、叔丁基、叔戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等的直链状或分支状烷基；苯基等的芳基；环己基、叔丁基环己基、二环戊二烯基、三环癸基、异冰片基、金刚烷基、2-甲基-2-金刚烷基等脂环式基；被1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基等烷氧基取代的烷基；被苄基等芳基取代的烷基等。其中，从耐热性方面考虑，尤其优选如甲基、乙基、环己基、苄基等不易因酸和热而脱离的1级或2级碳的取代基。

作为醚二聚体的具体例，例如，可参考日本特开2013-29760号公报的0317段，并将该内容编入本说明书中。醚二聚体可以仅为一种，也可以为两种以上。由通式(ED)表示的化合物来源的结构体可以与其他单体共聚合。

具有酸基的树脂可以含有源自由下述式(X)表示的化合物的结构单元。

[化学式27]

式(X)中，R₁表示氢原子或甲基，R₂表示碳原子数2～10的亚烷基，R₃表示氢原子或可以含有苯环的碳原子数1～20的烷基。n表示1～15的整数。

上述式(X)中，R₂的亚烷基的碳原子数优选2～3。而且，R₃的烷基的碳原子数为1～20，但更优选1～10，R₃的烷基可以含有苯环。作为由R₃表示的含有苯环的烷基，可举出苄基、2-苯基(异)丙基等。

作为具有酸基的树脂，可参考日本特开2012-208494号公报的0558～0571段(相对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的<0685>～<0700>段)以后的记载、日本特开2012-198408号公报的0076～0099段的记载，并将该内容编入本说明书中。

具有酸基的树脂的酸值优选30～200mgKOH/g。下限优选50mgKOH/g以上，更优选70mgKOH/g以上。上限优选150mgKOH/g以下，更优选120mgKOH/g以下。

树脂可以具有交联性基团。本发明中，交联性基团是指通过热、光或自由基的作用而反应，从而能够形成化学键的基团。具体而言，可举出具有烯属不饱和键的基团、环状醚基、羟甲基、烷氧基硅烷基、氯代甲硅烷基等。作为具有交联性基团的树脂，例如，可举出包含具有交联性基团的结构单元的树脂或上述的环氧树脂等。作为具有交联性基团的结构单元，可举出下述式(A2-1)～式(A2-4)等。

[化学式28]

R¹表示氢原子或烷基。烷基的碳原子数优选1～5，更优选1～3，尤其优选1。R¹优选氢原子或甲基。

L⁵¹表示单键或二价连接基团。作为二价连接基团，可举出亚烷基、亚芳基、-O-、-S-、-CO-、-COO-、-OCO-、-SO₂-、-NR¹⁰-(R¹⁰表示氢原子或烷基，优选氢原子)或包含它们的组合的基团，优选包含亚烷基、亚芳基及亚烷基中的至少一个与-O-的组合的基团。亚烷基的碳原子数优选1～30，更优选1～15，进一步优选1～10。亚烷基可以具有取代基，优选未经取代。亚烷基可以为直链、分支、环状中的任意一个。而且，环状亚烷基可以为单环、多环中的任意一个。亚芳基的碳原子数优选6～18，更优选6～14，进一步优选6～10。

P¹表示交联性基团。作为交联性基团，可举出具有烯属不饱和键的基团、环状醚基、羟甲基、烷氧基甲硅烷基、氯代甲硅烷基等。优选具有烯属不饱和键的基团、环状醚基、烷氧基甲硅烷基、氯代甲硅烷基。作为具有烯属不饱和键的基团，可举出乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基等。作为环状醚基，可举出环氧基(环氧乙基)、氧杂环丁基等。作为烷氧基甲硅烷基，可举出单烷氧基甲硅烷基、二烷氧基甲硅烷基、三烷氧基甲硅烷基。具有烯属不饱和键的基团优选(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基。环状醚基优选环氧基。烷氧基硅烷基优选二烷氧基硅烷基、三烷氧基甲硅烷基。而且，烷氧基硅烷基中的烷氧基的碳原子数优选1～5，更优选1～3，尤其优选1或2。作为氯代甲硅烷基，可举出单氯代甲硅烷基、二氯代甲硅烷基、三氯代甲硅烷基。优选二氯代甲硅烷基、三氯代甲硅烷基，更优选三氯代甲硅烷基。

作为含有交联性基团的树脂，可举出DIANAL NR系列(Mitsubishi Rayon Co.，LTD.制)、Photomer6173(含COOH聚氨酯丙烯酸低聚物.Diamond Shamrock Co.，Ltd.制)、VISCOTE R-264、KS resist106(均为OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRYLTD.制)、CYCLOMER P系列(例如，ACA230AA)、PLACCEL CF200系列(均为Daicel Corporation Co.，Ltd.制)、Ebecryl3800(Daicel UCB CO.，LTD制)、Akurikyua-RD-F8(NIPPON SHOKUBAICO.，LTD.制)等。而且，可举出上述的环氧树脂等。

树脂也优选具有由下述式(A3-1)～式(A3-7)表示的结构单元。

[化学式29]

式中，R⁵表示氢原子或烷基，L⁴～L⁷分别独立地表示单键或二价连接基团，R¹⁰～R¹³分别独立地表示烷基或芳基。R¹⁴及R¹⁵分别独立地表示氢原子或取代基。

R⁵与式(A2-1)～式(A2-4)的R¹含义相同，优选范围也相同。

L⁴～L⁷与式(A2-1)～式(A2-4)的L¹含义相同，优选范围也相同。

R¹⁰所表示的烷基可以为直链状、分支状或环状中的任意一个，优选环状。烷基可以具有上述的取代基，也可以未经取代。烷基的碳原子数优选1～30，更优选1～20，进一步优选1～10。R¹⁰所表示的芳基的碳原子数优选6～18，更优选6～12，进一步优选6。R¹⁰优选环状烷基或芳基。

R¹¹、R¹²所表示的烷基可以为直链状、分支状或环状中的任意一个，优选直链状或分支状。烷基可以具有上述的取代基，也可以未经取代。烷基的碳原子数优选1～12，更优选1～6，进一步优选1～4。R¹¹、R¹²所表示的芳基的碳原子数优选6～18，更优选6～12，进一步优选6。R¹¹、R¹²优选直链状或分支状烷基。

R¹¹所表示的烷基可以为直链状、分支状或环状的任意一个，优选直链状或分支状。烷基可以具有上述的取代基，也可以未经取代。烷基的碳原子数优选1～12，更优选1～6，进一步优选1～4。R¹³所表示的芳基的碳原子数优选6～18，更优选6～12，进一步优选6。R¹³优选直链状或分支状烷基或芳基。

R¹⁴及R¹⁵所表示的取代基，可举出以取代基T群进行说明的基团。其中，优选R¹⁴及R¹⁵中的至少一个表示氰基或、-COOR^a。Ra表示氢原子或取代基。Ra可具有的取代基可举出以取代基T群进行说明的基团。例如，优选烷基、芳基。

树脂的含量相对于组合物的总固体成分优选1～80质量％。下限优选5质量％以上，更优选7质量％以上。上限优选50质量％以下，更优选30质量％以下。

<<具有交联性基团的化合物(交联性化合物)>>

本发明的组合物可含有具有交联性基团的化合物(交联性化合物)。组合物含有交联性化合物，由此可形成耐热性及耐溶剂性优异的膜。作为交联性化合物能够使用通过自由基、酸、热而可交联的公知的化合物。例如，可举出具有含有烯属不饱和键的基团的化合物、具有环状醚基的化合物、具有羟甲基的化合物、具有烷氧基硅烷基、氯代甲硅烷基的化合物等。关于具有烯属不饱和键的基团、环状醚基、烷氧基硅烷基、氯代甲硅烷基的详细内容，可举出在上述的树脂中说明的基团。

交联性化合物可以为单体、聚合物中的任一方式，优选单体。单体类型交联性化合物的分子量优选100～3000。上限优选2000以下，更优选1500以下。下限优选150以上，进一步优选250以上。而且，交联性化合物也优选实质上不具有分子量分布的化合物。在此，实质上不具有分子量分布是指，化合物的分散度(重均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))优选1.0～1.5，更优选1.0～1.3。

[包含具有烯属不饱和键的基团的化合物]

本发明中，作为交联性化合物能够使用包含具有烯属不饱和键的基团的化合物。包含具有烯属不饱和键的基团的化合物优选单体。包含具有烯属不饱和键的基团的化合物的分子量优选100～3000。上限优选2000以下，进一步优选1500以下。下限优选150以上，进一步优选250以上。包含具有烯属不饱和键的基团的化合物优选3～15官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，更优选3～6官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。

作为上述化合物的例子，可参考日本特开2013-253224号公报的0033～0034段的记载，并将该内容编入本说明书中。作为上述化合物，优选乙烯基氧基改质季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品，为NK酯ATM-35E；Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd制)、二季戊四醇三丙烯酸酯(作为市售品，为KAYARAD D-330；Nippon Kayaku Co.，Ltd制)、二季戊四醇四丙烯酸酯(作为市售品，为KAYARAD D-320；Nippon Kayaku Co.，Ltd制)二季戊四醇戊(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，为KAYARAD D-310；Nippon Kayaku Co.，Ltd制)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，为KAYARAD DPHA；Nippon Kayaku Co.，Ltd制、A-DPH-12E；Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd制)、及这些这种(甲基)丙烯酰基介有乙二醇、丙二醇残基的结构。而且，还能够使用它们的低聚物类型。而且，能够参考日本特开2013-253224号公报的0034～0038段的针对聚合性化合物的记载，并将该内容编入本说明书中。而且，可举出日本特开2012-208494号公报的0477段(对应的美国专利申请公开第2012/0235099号说明书的<0585>段)中记载的聚合性单体等，并将该内容编入本说明书中。

而且，优选二甘油EO(环氧乙烷)改质(甲基)丙烯酸酯(作为市售品，为M-460；Toagosei Co.，Ltd.制)。季戊四醇四丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd制、A-TMMT)、1，6-己二醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.，Ltd制、KAYARAD HDDA)也优选。还能够使用它们的低聚物类型。例如，可举出RP-1040(Nippon Kayaku Co.，Ltd制)等。

包含具有烯属不饱和键的基团的化合物可以具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。作为具有酸基的上述化合物，可举出脂肪族多羟基化合物与不饱和羧酸的酯等。优选使脂肪族多羟基化合物的未反应羟基与非芳香族羧酸酐反应而具有酸基的化合物，尤其优选在该酯中，脂肪族多羟基化合物为季戊四醇和/或双季戊四醇的化合物。作为市售品，例如作为TOAGOSEI CO.，LTD.制多碱酸改质丙烯酸低聚物，可举出ARONIX系列的M-305、M-510、M-520等。具有酸基的化合物的酸值优选0.1～40mgKOH/g。下限优选5mgKOH/g以上。上限优选30mgKOH/g以下。

作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物，具有己内酯结构的化合物也是优选方式。作为具有己内酯结构的化合物，在分子内具有己内酯结构的范围内并无特别限定，例如，能够举出可通过将三羟甲基乙烷、二三羟甲基乙烷、三羟甲基丙烷、二三羟甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、双甘油、三羟甲基三聚氰胺等多元醇与(甲基)丙烯酸及ε-己内酯进行酯化而得到的ε-己内酯改质多官能(甲基)丙烯酸酯。作为具有己内酯结构的化合物，可参考日本特开2013-253224号公报的0042～0045段中所记载的化合物，并将该内容编入本说明书中。关于具有己内酯结构的化合物，例如可举出由Nippon KayakuCo.，Ltd.作为KAYARAD DPCA系列而市售的DPCA-20、DPCA-30、DPCA-60、DPCA-120等、Sartomer Company，Inc制的作为具有4个乙烯氧基链的4官能丙烯酸酯的SR-494、作为具有3个异伸丁氧基链的3官能丙烯酸酯的TPA-330等。

作为包含具有烯属不饱和键的基团的化合物，也优选日本特公昭48-41708号公报、日本特开昭51-37193号公报、日本特公平2-32293号公报、日本特公平2-16765号公报中所记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类，日本特公昭58-49860号公报、日本特公昭56-17654号公报、日本特公昭62-39417号公报、日本特公昭62-39418号公报中所记载的具有环氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物类。而且，可使用日本特开昭63-277653号公报、日本特开昭63-260909号公报、日本特开平1-105238号公报中所记载的、在分子内具有氨基结构或硫醚结构的加成聚合性化合物类。

作为市售品，可举出氨基甲酸酯低聚物UAS-10、UAB-140(Sanyo Kokusaku PulpCo.，Ltd制)、UA-7200(Shin-Nakamura Chemical Co.，LTD.制)、DPHA-40H(Nippon KayakuCo.，Ltd.制)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(Kyoeisha chemicalCo.，Ltd.制)等。

[具有环状醚基的化合物]

本发明中，作为交联性化合物，能够使用具有环状醚基的化合物。作为环状醚基，可举出环氧基、氧杂环丁基等，优选环氧基。作为具有环状醚基的化合物，可举出单官能或多官能缩水甘油醚化合物、多官能脂肪族缩水甘油醚化合物等。而且，能够使用缩水甘油基(甲基)丙烯酸酯或烯丙基缩水甘油醚等作为环氧基具有缩水甘油基的化合物或具有脂环式环氧基的化合物。作为这种化合物，例如可参考日本特开2009-265518号公报的0045段等的记载，并将该内容编入本说明书中。而且，还可举出在上述的树脂中说明的环氧树脂。作为具有环状醚基的化合物的市售品，例如可参考日本特开2012-155288号公报的0191段等的记载，并将该内容编入本说明书中。

[具有烷氧基甲硅烷基的化合物]

本发明中，作为交联性化合物，还能够使用具有烷氧基甲硅烷基的化合物。烷氧基甲硅烷基中的烷氧基的碳原子数优选1～5，更优选1～3，尤其优选1或2。烷氧基甲硅烷基优选二烷氧基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基。烷氧基甲硅烷，优选在一分子中具有两个以上，进一步优选具有2～3个。作为具有烷氧基甲硅烷基的化合物的具体例，可举出甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、辛基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、1，6-双(三甲氧基硅烷基)己烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚丙基甲基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚丙基甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油醚丙基三乙氧基硅烷、对苯乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1，3-二甲基-亚丁基)丙基氨、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(乙烯基苄基)-2-氨基乙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷的盐酸盐、三-(三甲氧基甲硅烷基丙基)异氰脲酸酯、3-脲丙基三乙氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、双(三乙氧基甲硅烷基丙基)四硫醚、3-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷等。而且，上述以外还能够使用烷氧基低聚物。而且，还能够使用下述化合物。

[化学式30]

作为市售品，可举出Shin-Etsu silicone Co.，LTD.制的KBM-13、KBM-22、KBM-103、KBE-13、KBE-22、KBE-103、KBM-3033、KBE-3033、KBM-3063、KBM-3066、KBM-3086、KBE-3063、KBE-3083、KBM-3103、KBM-3066、KBM-7103、SZ-31、KPN-3504、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846、KBE-9007、X-40-1053、X-41-1059A、X-41-1056、X-41-1805、X-41-1818、X-41-1810、X-40-2651、X-40-2655A、KR-513、KC-89S、KR-500、X-40-9225、X-40-9246、X-40-9250、KR-401N、X-40-9227、X-40-9247、KR-510、KR-9218、KR-213、X-40-2308、X-40-9238等。

[具有氯代甲硅烷基的化合物]

本发明中，作为交联性化合物，可使用具有氯代甲硅烷基的化合物。氯代甲硅烷基为二氯代甲硅烷基或三氯代甲硅烷基。氯代甲硅烷基于一分子中优选具有两个以上，进一步优选具有2～3个。具有氯代甲硅烷基的化合物可举出甲基三氯硅烷、乙基三氯硅烷、苯基三氯硅烷、二氯(甲基)苯基硅烷、二甲基二氯硅烷、二乙基二氯硅烷等。

交联性化合物的含量相对于组合物的总固体成分优选1～90质量％。下限优选2质量％以上，更优选5质量％以上，尤其优选10质量％以上。上限优选80质量％以下，更优选75质量％以下。

交联性化合物可以仅为一种，也可以为两种以上。两种以上的情况下，合计量优选在上述范围。

<<光聚合引发剂>>

本发明的组合物可含有光聚合引发剂。尤其，组合物包含具有如下基团的树脂或交联性化合物等、自由基聚合性成分的情况下，优选含有光聚合引发剂，该基团具有烯属不饱和键。作为光聚合引发剂，并无特别限制，可从公知的光聚合引发剂中适当选择。例如，优选对从紫外线区域至可见区域的光线具有感光性的聚合引发剂。光聚合引发剂优选光自由基聚合引发剂。而且，优选光聚合引发剂含有至少1种在约300nm～800nm(更优选330nm～500nm。)的范围内具有至少约50摩尔吸光系数的化合物。

作为光聚合引发剂，例如可举出卤化烃衍生物(例如，具有三嗪骨架、具有噁二唑骨架等)、酰基氧化膦等酰基膦化合物、六芳基双咪唑、肟衍生物等肟化合物、有机过氧化物、硫化合物(thio compound)、酮化合物、芳香族鎓盐、酮肟醚、氨基苯乙酮化合物、羟基苯乙酮等。作为具有三嗪骨架的卤化烃化合物，例如可以举出若林等著、Bull.Chem.Soc.Japan，42，2924(1969)中所记载的化合物、英国专利1388492号说明书中所记载的化合物、日本特开昭53-133428号公报中所记载的化合物、德国专利3337024号说明书中所记载的化合物、基于F.C.Schaefer等有机化学期刊(J.Org.Chem.)，29，1527(1964)中所记载的化合物、日本特开昭62-58241号公报中所记载的化合物、日本特开平5-281728号公报中所记载的化合物、日本特开平5-34920号公报中所记载的化合物、美国专利第4212976号说明书中所记载的化合物等。

而且，从曝光灵敏度的观点考虑，优选选自包含三卤甲基三嗪(trihalo methyltriazine)化合物、苄基二甲基缩酮化合物、α-羟基酮化合物、α-氨基酮化合物、酰基膦化合物、氧化膦化合物、茂金属化合物、肟化合物、三烯丙基咪唑(triallyl imidazole)二聚物、鎓化合物、苯并噻唑化合物、二苯甲酮化合物、苯乙酮化合物及其衍生物、环戊二烯-苯-铁络合物及其盐、卤甲基噁二唑化合物、3-芳基取代香豆素化合物的群组中的化合物。

作为光聚合引发剂，还可优选使用羟基苯乙酮化合物、氨基苯乙酮化合物及酰基膦化合物。更具体而言，例如还能够使用日本特开平10-291969号公报中所记载的氨基苯乙酮系引发剂、日本专利第4225898号公报中所记载的酰基膦系引发剂。作为羟基苯乙酮系引发剂，可使用IRGACURE-184、DAROCUR-1173、IRGACURE-500、IRGACURE-2959、IRGACURE-127(产品名：均为BASF公司制)。作为氨基苯乙酮系引发剂，可以使用作为市售品的IRGACURE-907、IRGACURE-369及IRGACURE-379EG(产品名：均为BASF公司制)。氨基苯乙酮系引发剂也可以使用吸收波长与365nm或405nm等长波光源匹配的日本特开2009-191179号公报中所记载的化合物。

作为酰基膦为起始剂，能够使用作为市售品的IRGACURE-819及DAROCUR-TPO(产品名：均为BASF公司制)。

作为光聚合引发剂，更优选可举出肟化合物。作为肟化合物的具体例，能够使用日本特开2001-233842号公报中所记载的化合物、日本特开2000-80068号公报中所记载的化合物、日本特开2006-342166号公报中所记载的化合物。

作为能够优选使用的肟化合物，例如可以举出3-苯甲酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-乙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、3-丙酰氧基亚氨基丁烷-2-酮、2-乙酰氧基亚氨基戊烷-3-酮、2-乙酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、2-苯甲酰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮、3-(4-甲苯磺酰氧基)亚氨基丁烷-2-酮及2-乙氧基羰氧基亚氨基-1-苯基丙烷-1-酮等。而且，也可以举出J.C.S.Perkin II(1979年)pp.1653-1660、J.C.S.Perkin II(1979年)pp.156-162、光聚合物科学与技术杂志(Journal of Photopolymer Science and Technology)(1995年)pp.202-232、日本特开2000-66385号公报中所记载的化合物、日本特开2000-80068号公报、日本特表2004-534797号公报、日本特开2006-342166号公报的各公报中所记载的化合物等。市售品中，也能够优选使用IRGACURE-OXE01(BASF公司制)、IRGACURE-OXE02(BASF公司制)。而且，也能够使用TR-PBG-304(CHANGZHOU TRONLY NEW ELECTRONIC MATERIALS CO.，LTD.制)、ADEKA ARKLS NCI-930(ADEKA CORPORATION制)。

而且，作为上述记载以外的肟化合物，可以使用在咔唑的N位上连结有肟的日本特表2009-519904号公报中所记载的化合物、在二苯甲酮部位导入有杂取代基的美国专利7626957号公报中所记载的化合物、在色素部位导入有硝基的日本特开2010-15025号公报及美国专利公开2009-292039号公报中所记载的化合物、国际公开专利2009-131189号公报中所记载的酮肟化合物、在同一分子内含有三嗪骨架和肟骨架的美国专利7556910号公报中所记载的化合物、对在405nm下具有极大吸收且对g射线光源具有良好的灵敏度的日本特开2009-221114号公报中所记载的化合物、日本特开2014-137466号公报的0076～0079段中所记载的化合物等。

优选的是例如，能够参考日本特开2013-29760号公报的0274～0275段，并将该内容编入本说明书中。

具体而言，作为肟化合物，优选由下述式(OK-1)所表示的化合物。另外，可以为肟的N-O键为(E)体的肟化合物，也可以为(Z)体的肟化合物，也可以为(E)体与(Z)体的混合物。

[化学式31]

通式(OX-1)中，R及B分别独立地表示一价取代基，A表示二价有机基团，Ar表示芳基。

通式(OX-1)中，作为R所表示的一价取代基，优选一价非金属原子团。

作为一价非金属原子团，可举出烷基、芳基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、杂环基、烷硫基羰基、芳硫基羰基等。而且，这些基团可以具有1个以上的取代基。而且，所述取代基可以进一步被其他取代基取代。

作为取代基，可举出卤素原子、芳氧基、烷氧基羰基或芳氧基羰基、酰氧基、酰基、烷基、芳基等。

通式(OX-1)中，作为B所表示的一价取代基，优选芳基、杂环基、芳基羰基或杂环羰基。这些基团可以具有1个以上的取代基。作为取代基，可以例示出所述取代基。

通式(OX-1)中，作为A所表示的二价有机基团，优选碳原子数1～12的亚烷基、环亚烷基、亚炔基。这些基团可以具有1个以上的取代基。作为取代基，可例示出所述取代基。

本发明中，作为光聚合引发剂，还可以使用具有芴环的肟化合物。作为具有芴环的肟化合物的具体例，可举出日本特开2014-137466号公报中所记载的化合物。将该内容编入本说明书中。

作为光聚合引发剂也能够使用具有氟原子的肟化合物。作为具有氟原子的肟化合物的具体例，可以举出日本特开2010-262028号公报记载的化合物、日本特表2014-500852号公报中记载的化合物24、36～40、日本特开2013-164471号公报记载的化合物(C-3)等。将该内容编入本说明书中。

作为光聚合引发剂，可使用具有硝基的肟化合物。作为具有硝基的肟化合物的具体例，可举出日本特开2013-114249号公报的0031～0047段、日本特开2014-137466号公报的0008～0012段、0070～0079段中所记载的化合物、ADEKA ARKLS NCI-831(ADEKACORPORATION制)。

以下示出优选使用的肟化合物的具体例，但本发明并不限定在此。

[化学式32]

[化学式33]

肟化合物优选在350nm～500nm的波长区域具有极大吸收波长的化合物，更优选在360nm～480nm的波长区域具有吸收波长的化合物，尤其优选在365nm及405nm下的吸光度较高的化合物。

从灵敏度的观点考虑，肟化合物的365nm或405nm下的摩尔吸光系数优选1,000～300,000，更优选2,000～300,000，尤其优选5,000～200,000。化合物的摩尔吸光系数的测定中可使用公知的方法，具体而言，例如优选利用紫外可见分光光度计(Varian公司制Cary-5分光光度计(spectrophoto meter))，并使用乙酸乙酯溶剂以0.01g/L的浓度进行测定。

光聚合引发剂的含量相对于组合物的总固体成分优选0.1～50质量％，更优选0.5～30质量％，进一步优选1～20质量％。于该范围内可得到更加良好的灵敏度和图案形成性。组合物可以仅含有一种光聚合引发剂，也可以含有两种以上。含有两种以上的情况下，其合计量优选成为上述范围。

<<产酸剂>>

本发明的组合物可含有产酸剂。尤其，组合物包含具有环状醚基的树脂或交联性化合物等阳离子聚合性成分的情况下，优选含有产酸剂。产酸剂优选通过光照射而产生酸的化合物(光产酸剂)。作为产酸剂，能够举出通过光照射而分解并产生酸的重氮盐、鏻盐、锍盐、錪鎓盐等鎓盐化合物、酰亚胺磺酸盐、肟磺酸盐、重氮二砜、二砜、邻硝基苄基磺酸盐等磺酸盐化合物等。作为产酸剂的种类、具体化合物、及优选例子，能够举出日本特开2008-13646号公报的〔0066〕～〔0122〕段中所记载的化合物等，且可将该化合物适用于本发明中。

关于作为产酸剂而优选的化合物，能够举出由下述式(b1)、式(b2)、式(b3)表示的化合物。

[化学式34]

式(b1)中，R²⁰¹、R²⁰²及R²⁰³各自独立地表示有机基团。X表示非亲核性阴离子，可优选举出磺酸阴离子、羧酸阴离子、双(烷基磺酰基)酰胺阴离子、三(烷基磺酰基)甲基化物阴离子、BF₄ ^-、PF₆ ^-、SbF₆ ^-或以下所示的基团等，优选BF₄ ^-、PF₆ ^-、SbF₆ ^-。

作为产酸剂的市售品，可举出WPAG-469(Wako Pure ChemicalCo.，LTD.制)、CPI-100P(San-AproLTD.制)等。

产酸剂的含量相对于组合物的总固体成分优选0.1～50质量％，更优选0.5～30质量％，进一步优选1～20质量％。本发明的组合物可以仅包含一种产酸剂，也可以包含两种以上。包含两种以上的情况下，其合计量优选在上述范围。

<<交联助剂>>

本发明的组合物以促进交联性成分(具有交联性基团的树脂或交联性化合物)的交联反应等为目的，优选包含交联助剂。作为交联助剂，优选包含选自多价硫醇、醇、胺及羧酸的至少一种。交联助剂的含量相对于交联性化合物的100质量份优选1～1000质量份，更优选1～500质量份，进一步优选1～200质量份。组合物可以仅包含一种交联助剂，也可以包含两种以上。包含两种以上的情况下，其合计量优选成为上述范围。

(多官能硫醇)

多官能硫醇可举出在分子内具有两个以上的硫醇基的化合物。多官能硫醇优选2级烷硫醇类，尤其优选具有由下述通式(T1)表示的结构的化合物。

通式(T1)

[化学式35]

(式(T1)中，n表示2～4的整数，L表示2～4价连接基团。)

上述通式(T1)中，连接基团L优选碳原子数2～12的脂肪族基，尤其优选n为2，L为碳原子数2～12的亚烷基。作为多官能硫醇化合物的具体例，可举出由下述结构式(T2)～(T4)表示的化合物，尤其优选由式(T2)表示的化合物。多官能硫醇化合物可组合使用一种或多种。

[化学式36]

(胺)

作为交联助剂的胺，优选多价胺，更优选二胺。例如，可举出六亚甲基二胺、三亚乙基四胺、聚乙烯亚胺等。

(醇)

作为交联助剂的醇优选多元醇，更优选二醇。例如，可举出聚醚二醇化合物、聚酯二醇化合物、聚碳酸酯二醇化合物等。醇的具体例例如可参考日本特开2013-253224号公报的0128～0163段、0172段的记载，并将该内容编入本说明书中。

(羧酸)

作为交联助剂的羧酸，可举出3，3’，4，4’-联苯四羧酸(无水物)、马来酸、邻苯二甲酸、偏苯三酸等。

<<交联催化剂>>

本发明的组合物能够进一步含有交联催化剂。尤其，作为交联性化合物而含有具有烷氧基甲硅烷基或氯代甲硅烷基的化合物的情况下，通过含有交联催化剂，溶胶-凝胶反应得到促进，从而可得到坚固的固化膜。作为交联催化剂，可举出酸催化剂、碱催化剂等。作为酸催化剂，可举出盐酸、硝酸、硫酸、亚硫酸、硫化氢、高氯酸、过氧化氢、碳酸、甲酸或乙酸等羧酸、以其他原子或取代基取代RCOOH所表示的结构式R的取代羧酸、苯磺酸等磺酸、磷酸等。而且，还可使用氯化铝、乙酰丙酮铝、氯化锌、氯化锡、三氟化硼二乙醚络合物、三甲基碘硅烷等路易斯酸。而且，作为碱催化剂，可举出氨水等氨性碱化合物、乙胺或苯胺等有机胺等。而且，交联催化剂还可使用日本特开2013-201007号公报的0070～0076段中所记载的催化剂。

交联催化剂的含量相对于交联性化合物的100质量份优选0.1～100质量份，更优选0.1～50质量份，进一步优选0.1～20质量份。组合物可以仅包含一种交联催化剂，也可以包含两种以上。包含两种以上的情况下，其合计量优选在上述范围。

<<溶剂>>

本发明的组合物可含有溶剂。作为溶剂，可举出水、有机溶剂。关于溶剂，若满足各成分的溶解性或组合物的涂布性，则基本上并无特别限制，优选考虑组合物的涂布性、安全性而进行选择。

作为有机溶剂的例子，例如可举出以下溶剂。

作为酯类，例如可优选举出乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸异丁酯、乙酸环己酯、甲酸戊酯、乙酸异戊酯、丙酸丁酯、丁酸异丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯(例如，氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯类(例如，3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯类(例如，2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等，以及作为醚类，例如可优选举出二乙二醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丙醚乙酸酯等，以及作为酮类，例如可优选举出甲乙酮、环己酮、环戊酮、2-庚酮、3-庚酮等，以及作为芳香族烃类，例如可优选举出甲苯、二甲苯等。

有机溶剂可以单独使用一种，也可以组合使用两种以上。组合使用两种以上的有机溶剂的情况下，尤其优选由选自上述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚及丙二醇甲醚乙酸酯中的两种以上构成的混合溶液。

关于溶剂，优选使用金属含量较少的溶剂，溶剂的金属含量例如优选10ppb以下。根据需要可以使用ppt级溶剂，这种高纯度溶剂例如由TOYO Gosei Co.，Ltd.提供。

作为从溶剂去除金属等杂质的方法，例如可举出蒸馏(分子蒸馏或薄膜蒸馏等)或使用滤波器来进行的过滤。作为使用滤波器进行的过滤中的滤波器孔径，优选孔径尺寸10nm以下，更优选5nm以下，进一步优选3nm以下。作为滤波器的材质，优选聚四氟乙烯制、聚乙烯制、尼龙制滤波器。

溶剂可以包含异构体(原子数相同但结构不同的化合物)。而且，可以仅包含一种异构体，也可以包含多种。

有机溶剂的过氧化物含有率优选0.8mmol/L以下，更优选实质上不含有过氧化物。

溶剂的含量相对于组合物的总量优选10～90质量％，更优选20～80质量％，进一步优选25～75质量％。

<<阻聚剂>>

本发明的组合物中，为了在制造或保存组合物时阻止交联性化合物的不必要的热聚合，可以含有阻聚剂。

作为阻聚剂，可举出对苯二酚、对甲氧基苯酚、二-叔丁基-对甲酚、邻苯三酚、叔丁基邻苯二酚、苯醌、4，4’-硫双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺盐(铵盐、伯铈盐等)。其中，优选对甲氧基苯酚。

阻聚剂的含量相对于组合物的总固体成分优选0.01～5质量％。

<<表面活性剂>>

从进一步提高涂布性的观点考虑，本发明的组合物可以含有各种表面活性剂。作为表面活性剂，可使用氟系表面活性剂、非离子系表面活性剂、阳离子系表面活性剂、阴离子系表面活性剂、硅酮系表面活性剂等各种表面活性剂。

使上述组合物中含有氟系表面活性剂，由此作为涂布液而进行制备时的液体特性(尤其流动性)得到进一步提高，且可进一步改善涂布厚度的均匀性或省液性。即，使用适用了含有氟系表面活性剂的组合物的涂布液来形成膜的情况下，被涂布面与涂布液之间的表面张力下降，对被涂布面的润湿性得到改善，且对被涂布面的涂布性得到提高。因此，能够更适当地形成厚度不均较小的厚度均匀的膜。

氟系表面活性剂中的氟含有率优选3～40质量％，更优选5～30质量％，尤其优选7～25质量％。从涂布膜的厚度的均匀性及省液性方面考虑，氟含有率在该范围内的氟系表面活性剂较有效，在组合物中的溶解性也良好。

作为氟系表面活性剂，具体而言可举出日本特开2014-41318号公报的0060～0064段(相对应的国际公开WO2014/17669号小册子的0060～0064段)等中所记载的表面活性剂，并将该内容编入本说明书中。作为氟系表面活性剂的市售品，例如可以举出MEGAFACEF171、MEGAFACE F172、MEGAFACE F173、MEGAFACE F176、MEGAFACE F177、MEGAFACE F141、MEGAFACE F142、MEGAFACE F143、MEGAFACE F144、MEGAFACE R30、MEGAFACE F437、MEGAFACEF475、MEGAFACE F479、MEGAFACE F482、MEGAFACE F554、MEGAFACE F780、RS-72-K(以上为DIC Corporation制)、Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171(以上为Sumitomo3M Limited制)、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S-393、Surflon KH-40(以上为ASAHI GLASS CO.，LTD.制)、PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(OMNOVA公司制)等。

氟系表面活性剂还可以使用嵌段聚合物，作为具体例，例如可举出日本特开2011-89090号公报中所记载的化合物。氟系表面活性剂还可优选使用含氟高分子化合物，该含氟高分子化合物包含源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元和源自具有2个以上(优选5个以上)亚烷氧基(优选乙烯氧基、丙烯氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的重复单元，下述化合物也作为在本发明中所使用的氟系表面活性剂而例示。

[化学式37]

上述化合物的重均分子量优选3,000～50,000，例如为14,000。

而且，作为氟系表面活性剂还可用于侧链具有烯属不饱和基团的含氟聚合物。作为具体例，可举出日本特开2010-164965号公报的0050～0090段及0289～0295段中所记载的化合物、例如DIC CORPORATION制的MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K等。另外，在侧链具有烯属不饱和基团的含氟聚合物相当于表面活性剂，且为与上述的具有交联性基团的树脂及交联性化合物不同的成分。氟系表面活性剂还可使用日本特开2015-117327号公报的0015～0158段中所记载的化合物。

作为非离子为表面活性剂，具体而言可举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷及这些乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨醇脂肪酸酯(BASF公司制的PluronicL10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、Tetronic304、701、704、901、904、150R1)、Solsperse20000(Lubrizol Japan Limited制)等。而且，还可使用Wako Pure ChemicalIndustries，LTD.制的NCW-101、NCW-1001、NCW-1002。

作为阳离子系表面活性剂，具体而言可举出酞菁衍生物(产品名：EFKA-745、MORISHITA&CO.，LTD.制)、有机硅氧烷聚合物KP341(Shin-Etsu Chemical Co.，LTD.制)、(甲基)丙烯酸系(共)聚合物Polyflow No.75、No.90、No.95(KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制)、W001(Yusho Co.，LTD.制)等。

作为阴离子系表面活性剂，具体而言，可以举出W004、W005、W017(Yusho Co.，LTD.制)、Sandetto BL(Sanyo Chemical Industries，Ltd.制)等。

作为硅酮系表面活性剂，例如可以举出Toray Silicone DC3PA、Toray SiliconeSH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、ToraySilicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上为Dow CorningToray Co.，LTD.制)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上为Momentive Performance Materials Inc.制)、KP341、KF6001、KF6002(以上为Shin-EtsuSilicone Co.，LTD.制)、BYK307、BYK323、BYK330(以上为BYK-Chemie Corporation制)等。

表面活性剂可以仅使用一种，也可以组合两种以上。

表面活性剂的含量相对于组合物总固体成分优选0.001～2.0质量％，更优选0.005～1.0质量％。

<<紫外线吸收剂>>

本发明的组合物可以含有紫外线吸收剂。紫外线吸收剂优选共轭二烯系化合物，更优选由下述通式(1)表示的化合物。

[化学式38]

R¹及R²各自独立地表示氢原子、碳原子数1～20的烷基或碳原子数6～20的芳基，R¹与R²可以彼此相同也可以不同，但不会同时表示氢原子。

R³及R⁴表示吸电子基团。在此，吸电子基团是哈米特取代基常数σp值(以下，简称为“σp值”。)为0.20以上且1.0以下的基团。优选σp值为0.30以上且0.8以下的基团。作为R³、R⁴，优选酰基、氨基甲酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、硝基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺酰氧基、氨基磺酰基，尤其优选酰基、氨基甲酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺酰氧基、氨基磺酰基。关于上述通式(1)，可参考日本特开2010-049029号公报的0148～0158段的记载，并将该内容编入本说明书中。

作为由上述通式(1)表示的化合物的具体例，可举出以下化合物。而且，可举出日本特开2010-049029号公报的0160～0162段中所记载的化合物，并将该内容编入本说明书中。

[化学式39]

作为紫外线吸收剂的市售品，例如可举出UV503(DAITO CHEMICAL CO.，LTD.)等。

紫外线吸收剂的含量相对于本发明的组合物的总固体成分优选0.01～10质量％，更优选0.01～5质量％。

<<其他成分>>

近红外线吸收组合物可以根据需要含有分散剂、增感剂、固化促进剂、填料、热固化促进剂、热聚合抑制剂、增塑剂、粘合促进剂及其他助剂类(例如，导电性粒子、填充剂、消泡剂、阻燃剂、流平剂、剥离促进剂、抗氧化剂、香料、表面张力调节剂、链转移剂等)。通过适当地含有这些成分，能够调整作为目标的红外线截止滤波器的稳定性、膜物性等性质。关于这些成分，例如可参考日本特开2012-003225号公报的0183段以后(相对应的美国专利申请公开第2013/0034812号说明书的<0237>以后)的记载，日本特开2008-250074号公报的0101～0104、0107～0109段等的记载，并将这些内容编入本说明书中。而且，作为抗氧化剂，可举出苯酚化合物、亚磷酸酯化合物、硫醚化合物等。更优选分子量500以上的苯酚化合物、分子量500以上的亚磷酸酯化合物或分子量500以上的硫醚化合物。这些可以混合使用两种以上。作为苯酚化合物，可使用作为苯酚系抗氧化剂而周知的任意苯酚化合物。作为优选的苯酚化合物，可举出受阻酚化合物。尤其优选在与苯酚性羟基相邻的部位(邻位)具有取代基的化合物。作为所述取代基，优选碳原子数1～22的取代或未经取代的烷基，更优选甲基、乙基、丙酰基、异丙酰基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基、异戊基、叔戊基、己基、辛基、异辛基、2-乙基己基。而且，也优选同一分子内具有苯酚基和亚磷酸酯基的化合物(抗氧化剂)。而且，抗氧化剂还能够适当使用磷系抗氧化剂。作为磷系抗氧化剂，可举出选自包含三[2-[[2，4，8，10-四(1，1-二甲基乙基)二苯并[d，f][1，3，2]二噁磷环庚烷-6-基]氧基]乙基]胺、三[2-[(4，6，9，11-四叔丁基二苯并[d，f][1，3，2]二噁磷环庚烷-2-基)氧基]乙基]胺及亚磷酸酯乙基双(2，4-二-叔丁基-6-甲基苯基)的群组的至少一种化合物。这些可作为市售品而轻易获得，可举出ADKSTAB AO-20、ADKSTAB AO-30、ADKSTAB AO-40、ADKSTAB AO-50、ADKSTABAO-50F、ADKSTAB AO-60、ADKSTAB AO-60G、ADKSTAB AO-80、ADKSTAB AO-330(ADEKACORPORATION)等。抗氧化剂的含量相对于组合物的总固体成分优选0.01～20质量％，更优选0.3～15质量％。抗氧化剂可以仅为一种，也可以为两种以上。两种以上的情况下，合计量优选在上述范围。

<组合物的制备方法>

本发明的组合物可通过混合所述成分来制备。

制备组合物时，可以一次性掺和各成分，也可以将各成分溶解/分散于溶剂之后逐一进行掺和。而且，关于掺和时的投入顺序和作业条件，并不受特别限制。例如，可以将所有成分同时溶解/分散于溶剂中来制备组合物，也可以根据需要预先将各成分适当地制成两份以上的溶液/分散液，使用时(涂布时)将这些进行混合来制备组合物。

制备组合物时，以去除杂质或减少缺陷等为目的，优选利用过滤器对各成分进行过滤。作为过滤器，只要是从以往就用于过滤用途等的过滤器，则能够无特别限制地使用。例如，可以举出基于聚四氟乙烯(PTFE)等氟树脂、尼龙(例如尼龙-6、尼龙-6，6)等聚酰胺系树脂、聚乙烯、聚丙烯(PP)等聚烯烃树脂(包含高密度、超高分子量)等的过滤器。这些原材料中，优选聚丙烯(包含高密度聚丙烯)及尼龙。

过滤器的孔径为0.01～7.0μm左右为适当，优选0.01～3.0μm左右，更优选0.05～0.5μm左右。通过设为该范围内，能够可靠地去除在后工序中阻碍制备均匀及平滑的组合物的微细的杂质。而且，也优选使用纤维状滤材，作为滤材例如可举出聚丙烯纤维、尼龙纤维、玻璃纤维等，具体而言可使用ROKI TECHNO CO.，LTD.制的SBP类型系列(SBP008等)、TPR类型系列(TPR002、TPR005等)、SHPX类型系列(SHPX003等)滤芯。

使用过滤器时，可以组合不同的过滤器。此时，利用第1过滤器的过滤可以只进行一次，也可以进行两次以上。

而且，也可以在上述范围内组合不同孔径的第1过滤器。此处的孔径可参考过滤器制造商的标称值。作为市售的过滤器，例如能够从由NIHON PALLLTD.(DFA4201NXEY等)、Advantec Toyo Kaisha，LTD.、Japan Entegris Inc.(旧Nippon Mykrolis Corporation)或KITZ MICROFILTER CORPORATION等提供的各种过滤器中选择。

第2滤波器能够使用以与上述的第1滤波器相同的材料等形成的过滤器。

例如，利用第1滤波器的过滤只在分散液中进行，混合其他成分之后，可以进行利用第2滤波器的过滤。

<膜及近红外线截止滤波器>

接着，对本发明的膜进行说明。本发明的膜由上述的本发明的组合物形成。本发明的膜的红外遮蔽性及可见透明性优异，因此能够优选用作红外线截止滤波器、红外线透射滤波器。而且，耐热性及耐光性也优异。本发明的膜可以具有图案，也可以为不具有图案的膜(平坦膜)。另外，将本发明的膜用作红外线透射滤波器的情况下，红外线透射滤波器例如可举出遮蔽可见光，并透射波长900nm以上的波长的光的滤波器。另外，将本发明的膜用作红外线透射滤波器的情况下，红外线透射滤波器优选由包含方酸内鎓盐化合物及遮蔽可见光的色材(优选含有两种以上的彩色着色剂的色材或至少含有有机系黑色着色剂的色材)的组合物形成的滤波器、或除了包含方酸内鎓盐化合物的层以外，还另外设有遮蔽可见光的色材的层的滤波器。将本发明的膜用作红外线透射滤波器的情况下，方酸内鎓盐化合物具有将所透射的光(红外线)的红外区域限定在靠长波长侧的作用。

而且，本发明的红外线截止滤波器由上述的本发明的组合物组成。

本发明的膜的膜厚能够根据目的适当调整。膜厚优选20μm以下，更优选10μm以下，进一步优选5μm以下。膜厚的下限优选0.1μm以上，更优选0.2μm以上，进一步优选0.3μm以上。本发明的膜能够优选用作CCD(电荷耦合元件)或CMOS(互补型金属氧化膜半导体)等固体摄像元件等的红外线截止滤波器。而且，还能够用于各种图像显示装置。

本发明的膜(红外线截止滤波器)可以与包含彩色着色剂的滤色器组合来使用。

滤色器能够通过使用包含彩色着色剂的着色组合物来制造。作为彩色着色剂，可举出在本发明的组合物中说明的彩色着色剂。着色组合物可进一步含有树脂、具有交联性基团的化合物、光聚合引发剂、表面活性剂、溶剂、阻聚剂、紫外线吸收剂等。关于它们的详细内容，可举出在本发明的组合物中说明的材料，并能够使用这些。而且，也可使本发明的膜(红外线截止滤波器)含有彩色着色剂，由此设为具备作为红外线截止滤波器和滤色器的功能的滤波器。

另外，本发明中，红外线截止滤波器是指，使可见光区域的波长的光(可见光)透射，且遮蔽红外区域的波长的光(红外线)的滤波器。红外线截止滤波器可以透射可见光区域的所有波长的光，也可以透射可见光区域的波长的光中的特定波长区域的光，且遮蔽特定波长区域的光。而且，本发明中，滤色器是指透射可见光区域的波长的光中的特定波长区域的光，且遮蔽特定波长区域的光的滤波器。而且，红外线透射滤波器是指，遮蔽可见区域的波长的光，且透射红外区域的波长的光(红外线)的滤波器。

将本发明的膜用作红外线透射滤波器的情况下，优选具有以下(1)的光谱特性。根据该方式，能够设为能够以源自可见光线的干扰少的状态透射红外线的膜。

(1)膜的厚度方向上的光的透射率在波长400～830nm的范围内的最大值为20％以下，膜的厚度方向上的光的透射率在波长1000～1300nm的范围内的最小值为80％以上。具有这种光谱特性的膜能够优选用作遮蔽波长400～750nm的范围的光，且透射波长900nm以上的光的红外线透射滤波器。

膜的光谱特性为使用紫外可见近红外分光光度计(Hitachi High-TechnologiesCorporation制U-4100)，在波长300～1300nm的范围内测定透射率的值。

将本发明的膜用作红外线截止滤波器或红外线透射滤波器的情况下，还能够组合使用红外线截止滤波器与红外线透射滤波器。通过组合使用红外线截止滤波器与红外线透射滤波器，能够优选用于检测特定波长的红外线的红外线传感器的用途。组合使用两个滤波器的情况下，能够使用本发明的组合物来形成红外线截止滤波器及红外线透射滤波器这两者，也能够使用本发明的组合物来仅形成任意一个。

而且，将本发明的膜用作红外线截止滤波器的情况下，红外线截止滤波器与滤色器在厚度方向上可以相邻，也可以不相邻。红外线截止滤波器与滤色器在厚度方向上不相邻的情况下，可以在与形成滤色器的基材不同的基材上形成有红外线截止滤波器，也可以在红外线截止滤波器与滤色器之间夹有构成固体摄像元件的其他部件(例如，微透镜、平坦化层等)。

而且，红外线截止滤波器除了本发明的膜以外，还可以进一步具有介电质多层膜或紫外线吸收层等。红外线截止滤波器进一步具有介电质多层膜，由此可以容易得到视角广，且红外线遮蔽性优异的红外线截止滤波器。而且，本发明的红外线截止滤波器进一步具有紫外线吸收层，由此能够得到紫外线遮蔽性优异的红外线截止滤波器。作为紫外线吸收层，例如能够参考国际公开WO2015/099060号的0040～0070段、0119～0145段中所记载的吸收层，并将该内容编入本说明书中。作为介电质多层膜，能够参考日本特开2014-41318号公报的0255～0259段中所记载的介电质多层膜，并将该内容编入本说明书中。

<图案形成方法>

图案形成方法包括在支撑体上形成由本发明的组合物形成的层的工序、通过光刻法或干式蚀刻法在组合物层上形成图案的工序。

在制造层叠了本发明的膜和滤色器而成的层叠体时，可以分别进行本发明的膜的图案形成和滤色器的图案形成。而且，也可以在本发明的膜与滤色器的层叠体上进行图案形成(即，可以同时进行本发明的膜和滤色器的图案形成)。

分别进行本发明的膜(红外线截止滤波器)和滤色器的图案形成的情况是指如下方式。仅对本发明的膜(红外线截止滤波器)及滤色器中的任意一个进行图案形成。接着，在已进行了图案形成的滤波器层上形成另一滤波器层。接着，对未进行图案形成的滤波器层进行图案形成。

图案形成方法可以为基于光刻的图案形成方法，也可以为基于干式蚀刻的图案形成方法。

若为基于光刻的图案形成方法，则无需进行干式蚀刻工序，因此可得到能够减少工序数的效果。

若为基于干式蚀刻的图案形成方法，则本发明的组合物无需具有光刻功能，因此可得到能够提高红外线吸收剂等的浓度的效果。

分别进行本发明的膜(红外线截止滤波器)的图案形成和滤色器的图案形成的情况下，各滤波器层的图案形成方法可以仅通过光刻法或仅通过干式蚀刻法来进行。而且，还可以通过光刻法对一个滤波器层进行图案形成，且通过干式蚀刻法对另一滤波器层进行图案形成。并用干式蚀刻法和光刻法来进行图案形成的情况下，优选通过干式蚀刻法来进行对第1层的图案的图案形成，且通过光刻法来进行对第2层以后的图案的图案形成。

基于光刻法的图案形成优选包括如下工序：在支撑体上形成组合物层的工序；将组合物层曝光成图案状的工序；及对未曝光部进行显影去除而形成图案的工序。可根据需要来设置对组合物层进行烘烤的工序(预烘烤工序)及对经显影的图案进行烘烤的工序(后烘烤工序)。

而且，基于干式蚀刻法的图案形成优选包括如下工序：在支撑体上形成组合物层并进行固化来形成固化物层的工序；在固化物层上形成光阻剂层的工序；通过进行曝光及显影而将光阻剂层图案化来得到抗蚀剂图案的工序；将抗蚀剂图案作为蚀刻掩模而对固化物层进行干式蚀刻来形成图案的工序。以下，对各工序进行说明。

<<形成组合物层的工序>>

形成组合物层的工序中，在支撑体上适用组合物来形成组合物层。

作为支撑体，例如能够使用在基板(例如，硅基板)上设有CCD或CMOS等固体摄像元件(受光元件)的固体摄像元件用基板。

图案可以形成于固体摄像元件用基板的固体摄像元件形成面侧(表面)，也可以形成于固体摄像元件非形成面侧(背面)。

可根据需要，为了改善与上部层的密合、防止物质的扩散或基板表面的平坦化而在支撑体上设置底涂层。

作为将组合物适用于支撑体的方法，可举出狭缝涂布法、喷墨法、旋涂法、流延涂布法、辊涂法、网版印刷法等各种方法。

形成于支撑体上的组合物层可进行干燥(预烘烤)。通过低温工艺而形成图案时，可以不进行预烘烤。

进行预烘烤时，预烘烤温度优选150℃以下，更优选120℃以下，进一步优选110℃以下。下限例如能够设为50℃以上，还能够设为80℃以上。通过在150℃以下进行预烘烤，例如在以有机原材料构成图像传感器的光电转换膜的情况下，可更有效地维持这些特性。

预烘烤时间优选10～300秒钟，更优选40～250秒钟，进一步优选80～220秒钟。能够通过加热板、烤箱等来进行干燥。

同时对多个层进行图案形成的情况下，优选在上述组合物层上适用用于形成其他层的组合物，从而形成其他组合物层。

(通过光刻法形成图案的情况)

<<曝光工序>>

接着，以图案状曝光组合物层(曝光工序)。例如使用步进机等曝光装置并经由具有规定的掩模图案的掩模而对组合物层进行曝光，由此能够进行图案曝光。由此，能够固化曝光部分。

作为曝光时能够使用的放射线(光)，可优选使用g射线、i射线等紫外线(尤其优选i射线)。照射量(曝光量)例如优选0.03～2.5J/cm²，更优选0.05～1.0J/cm²，最优选0.08～0.5J/cm²。

能够适当选择曝光时的氧浓度，除了在大气压下进行以外，例如还可以在氧浓度为19体积％以下的低氧气氛下(例如，15体积％、5体积％、实质上为无氧)进行曝光，也可以在氧浓度大于21体积％的高氧浓度气氛下(例如，22体积％、30体积％、50体积％)进行曝光。而且，能够适当设定曝光照度，通常能够选自1000W/m²～100000W/m²(例如，5000W/m²、15000W/m²、35000W/m²)的范围。氧浓度和曝光照度可以组合适当条件，例如，能够设为氧浓度10体积％且照度10000W/m²，氧浓度35体积％且照度20000W/m²等。

<<显影工序>>

接着，显影去除未曝光部来形成图案。未曝光部的显影去除能够使用显影液来进行。由此，曝光工序中的未曝光部的组合物层溶出至显影液，而只残留光固化的部分。

作为显影液，优选不会损伤基底的固体摄像元件或线路等的有机碱显影液。

显影液的温度例如优选20～30℃。显影时间优选20～180秒。而且，为了提高残渣去除性，可以反复进行将按每60秒甩掉一次显影液，而且重新供给显影液的工序。

作为显影液中所使用的碱性试剂，例如可举出氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、胆碱、吡咯、哌啶、1，8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯等有机碱性化合物。可将以这些碱性试剂的浓度成为0.001～10质量％，优选0.01～1质量％的方式，利用纯水进行稀释的碱性水溶液优选用作显影液。而且，显影液还可以使用无机碱。作为无机碱，例如优选氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠、硅酸钠、偏硅酸钠等。而且，显影液还可以使用表面活性剂。作为表面活性剂的例子，可举出在上述的组合物中说明的表面活性剂，优选非离子系表面活性剂。另外，使用由这种碱性水溶液组成的显影液的情况下，通常优选在显影后以纯水清洗(冲洗)。

显影后，还能够在实施干燥后进行加热处理(后烘烤)。后烘烤为用于使膜完全固化的显影后的加热处理。进行后烘烤时，后烘烤温度例如优选100～240℃。从膜固化的观点考虑，更优选200～230℃。而且，作为发光光源而使用有机电致发光(有机EL)元件时，或以有机原材料构成图像传感器的光电转换膜时，后烘烤温度优选150℃以下，更优选120℃以下，进一步优选100℃以下，尤其优选90℃以下。下限例如能够设为50℃以上。能够使用加热板或对流式烘箱(热风循环式干燥机)、高频加热器等加热机构，以连续式或间断式，对显影后的膜进行后烘烤，以成为上述条件。而且，通过低温工艺形成图案时，可以不进行后烘烤。

(通过干式蚀刻法形成图案的情况)

关于通过干式蚀刻法进行的图案形成，能够将形成于支撑体上的组合物层固化来形成固化物层，接着，对所得到的固化物层，以经图案化的光阻层作为掩模，使用蚀刻气体来进行。具体而言，优选通过在固化物层上涂布正型或负型感放射线性组合物，并使其干燥来形成光阻层。光阻层的形成中，优选进一步实施预烘烤处理。尤其，作为光阻层的形成工艺，优选实施曝光后的加热处理、显影后的加热处理(后烘烤处理)的方式。关于通过干式蚀刻法进行的图案形成，能够参考日本特开2013-064993号公报的0010～0067段的记载，并将该内容编入本说明书中。

<固体摄像元件>

本发明的固体摄像元件具有上述的本发明的膜。作为固体摄像元件的结构，只要是具有本发明的膜(红外线截止滤波器)，且作为固体摄像元件而发挥功能的结构，则并无特别限定，例如可举出以下结构。

固体摄像元件例如在支撑体上由包含多个光电二极管、多晶硅等的转移电极、遮光膜、设备保护膜及本发明的膜构成。光电二极管构成固体摄像元件的受光区域。遮光膜在光电二极管及转移电极上，由仅光电二极管的受光部开口的钨等形成。设备保护膜在遮光膜上，由以覆盖整个遮光膜及光电二极管受光部的方式形成的氮化硅等形成。本发明的膜在设备保护膜上。

而且固体摄像元件可以具有聚光机构(例如，微透镜等)，聚光机构可以配置在设备保护膜上且在本发明的膜(红外线截止滤波器)下(接近支撑体一侧)，也可以配置在本发明的膜上。

<图像显示装置>

本发明的膜也能够用于液晶显示装置或有机电致发光(有机EL)显示装置等图像显示装置。例如，通过与各着色像素(例如红色、绿色、蓝色)一起使用，能够以遮蔽显示装置的背光(例如白色发光二极管(白色LED))中所含有的红外光，防止周边设备的误动作为目的或以除了形成各着色显示像素以外还形成红外像素为目的来使用。

关于显示装置的定义或各显示装置的详细内容，例如记载于“电子显示装置(佐佐木昭夫著、Kogyo Chosakai Publishing Co.，Ltd.1990年发行)”、“显示装置(伊吹顺章著、Sangyo Tosho Publishing Co.，LTD.平成元年(1989年)发行)”等。而且，关于液晶显示装置，例如记载于“下一代液晶显示技术(内田龙男编集、工业调查会1994年发行)”。本发明能够适用的液晶显示装置并没有特别限制，例如，可以适用于上述“下一代液晶显示技术”中所记载的各种方式的液晶显示装置。

图像显示装置可以具有白色有机EL元件。作为白色有机EL元件，优选串联结构。关于有机EL元件的串联结构，记载于日本特开2003-45676号公报、三上明义监修、“有机EL技术开发的最前线-高亮度/高精度/长寿命化/技术集-”，TECHNICAL INFORMATIONINSTITUTE CO.，LTD.、326-328页、2008年等。有机EL元件所发出的白色光的光谱优选在蓝色区域(430nm-485nm)、绿色区域(530nm-580nm)及黄色区域(580nm-620nm)具有强的极大发光峰值。更优选除了在这些发光峰值以外，进一步在红色区域(650nm-700nm)具有极大发光峰值。

<红外线吸收剂>

在本发明的组合物中说明的由式(1a)表示的化合物(方酸内鎓盐化合物)可优选用作红外线吸收剂。作为由式(1a)表示的化合物的红外线吸收剂，其优选范围与上述方酸内鎓盐化合物的优选范围相同。

由式(1a)表示的化合物或红外线吸收剂例如能够优选用于形成遮蔽波长700～1000nm的光的红外线截止滤波器等。而且，还能够用作等离子显示面板或固体摄像元件用等的红外线截止滤波器、热射线遮蔽薄膜等光学滤波器、追记型光盘(CD-R)或闪光熔融定影材料中的光热转换材料。而且，可用作防伪油墨或隐形条码油墨中的信息显示材料。而且，可用于形成红外线透射滤波器。另外，若使将由式(1a)表示的化合物或红外线吸收剂用于红外线透射滤波器，则所透射的光(红外线)被限定为长波长侧的红外光。

实施例

以下举出实施例来更具体地说明本发明。以下实施例中所示出的材料、使用量、比例、处理内容、处理顺序等只要不脱离本发明的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示出的具体例。另外，如没有特别指明，“％”及“份”为质量基准。

另外，用作红外线吸收剂中的化合物为上述的红外线吸收剂中说明的化学结构的化合物。

<重均分子量(Mw)的测定>

通过以下方法，作为基于凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算值测定了重均分子量(Mw)。

柱的种类：TSKgel SuperHZ4000(TOSOH CORPORATION制，4.6mm(内径)×15cm)

显影溶剂：四氢呋喃

柱温度：40℃

流量(样品注入量)：60μL

装置名：TOSOH CORPORATION制高速GPC(HLC-8220GPC)

校准曲线基础树脂：聚苯乙烯树脂

<化合物的合成>

(合成例1)化合物1的合成

[化学式40]

中间体M1的合成：

将乙酸钯(230mg，1.0mmol)、叔丁醇钠(3.9g，40.4mmol)及三-叔丁基膦(450mg，2.0mmol)添加至甲苯40cm³，在60℃下搅拌10分钟。将其冷却至室温之后，添加2，2’-二萘胺(5.5g，20.2mmol)及2-溴-4-己基噻吩(5.0g，20.2mmol)来加热回流3小时。将反应液冷却后，通过进行硅藻土过滤来去除无机盐，并减压蒸馏甲苯(Tol)。通过硅胶柱色谱法(显影溶剂：甲苯/己烷)对残渣进行提纯，并通过减压蒸馏溶剂得到了中间体M1(橙色油脂状，8.5g，收率97％)。

化合物1的合成：

将中间体M1(8.5g，19.5mmol)和方酸(0.92g，8.1mmol)在正丁醇/甲苯(20cc/60cc)中共沸脱水的同时加热回流12小时。将反应液冷却后减压蒸馏溶剂，并在氯彷/甲醇中将残渣超声波分散。通过对所析出的固体进行吸滤来得到了目标化合物1(绿色晶体，5.9g，收率78％)。

化合物1的鉴定资料：

MALDI TOF-MASS(飞行时间型质量分析法)Calc.for[M+H]+：949.4，found：949.3

NMR(400MHz，CDCl₃)：0.91(6H，t)、1.20(8H，m)、1.32(4H，m)、1.55(4H，m)、3.22(4H，t)、6.55(2H，s)、7.44(4H，d)、7.50(8H，m)、7.73(4H，m)、7.80-7.88(12H，m)

(合成例2)化合物2的合成

[化学式41]

中间体M2的合成：

中间体M1的合成中，替代2-溴-4-己基噻吩而使用2，5-二溴噻吩并[3，2-b]噻吩，且替代2，2’-二萘胺而使用二(4-辛基苯基)胺，除此以外，以与中间体M1相同的方法合成了中间体M2。

中间体M3的合成：

将中间体M2(1.0g，1.6mmol)、乙酸钯(18mg，0.082mmol)、4，5-双(二苯基膦基)-9，9-二甲基呫呸(69mg、0.12mmol、Xantphos)、三乙基硅烷(2.5g、21mmol)添加至甲苯16cm³来加热回流7小时。将反应液冷却后减压蒸馏溶剂，并通过硅胶柱色谱法(显影溶剂：甲苯/己烷)对残渣进行提纯来得到了中间体M3(黄色油脂状，0.70g，产率82％)。

化合物2的合成：

化合物1的合成中，替代中间体M1而使用了中间体M3，除此以外，以与化合物1的合成相同的方法合成了化合物2。

化合物2的鉴定资料：

MALDI TOF-MASS Calc.for[M+H]+：1141.6，found：1141.6

(合成例3)化合物3的合成

[化学式42]

中间体M4的合成：

在160℃下，将2-溴甲基噻吩(1.5g，8.6mmol)和亚磷酸三乙酯(1.44g，8.6mmol)加热两小时来得到了中间体M4。不对所得到的中间体M4进行提纯而直接用于接下来的反应中。

中间体M5的合成：

通过Dyes and Pigments，2015，120，175-183中所记载的方法合成中间体M5。

中间体M6：向上述中所得到的中间体M4添加N，N-二甲基甲酰胺(DMF)50cm³，用冰浴冷却至0℃之后，添加甲醇钠(1.4g，25.8mmol)来搅拌30分钟。在此滴加溶解中间体M5(2.5g，8.6mmol)的DMF溶液20cm³，滴加结束后取下冰浴在室温下搅拌3小时。向反应液注入水，对所析出的固体进行过滤，接着以甲醇进行清洗，从而得到了中间体M6(澹黄色晶体，2.6g，产率82％)。

化合物3的合成：

化合物1的合成中，替代中间体M1而使用了中间体M6，除此以外，以与化合物1相同的方法合成了化合物3。

化合物3的鉴定资料：

MALDI TOF-MASS Calc.for[M+H]+：818.5，found：818.4

(合成例4)化合物4的合成

[化学式43]

中间体M7的合成：

中间体M2的合成中，替代2-溴-4-己基噻吩而使用了2-溴噻吩，除此以外，以与中间体M2相同的方法合成了中间体M7。

中间体M8的合成：

将中间体M7作为原料，并通过Chem.Eur.J.2007，13，9637-9646中所记载的方法合成了中间体M8。

中间体M9的合成：

中间体M6的合成中，替代中间体M5而使用了中间体M8，除此以外，以与中间体M6相同的方法合成了中间体M9。

化合物4的合成：

化合物1的合成中，替代中间体M1而使用了中间体M9，除此以外，以与化合物1相同的方法合成了化合物4。

化合物4的鉴定资料：MALDI TOF-MASS Calc.for[M+H]+：1245.6，found：1245.7

(合成例5)化合物5的合成

[化学式44]

中间体M10的合成：

将中间体M7作为原料，并通过J.Photochem.Photobio.A 2014，294，54-61中所记载的方法合成了中间体M10。另外，上述合成方案中，NBS为N-溴代琥珀酰亚胺的简称。

中间体M11的合成：

将中间体M10作为原料，并通过EP2407465 A1中所记载的方法合成了中间体M11。

化合物5的合成：

化合物1的合成中，替代中间体M1而使用了中间体M11，除此以外，以与化合物1相同的方法合成了化合物5。

化合物5的鉴定资料：MALDI TOF-MASS Calc.for[M+H]+：969.4，found：969.4

(合成例6)化合物6的合成

[化学式45]

中间体M12的合成：

中间体M1的合成中，替代2，2’-二萘胺而使用了p，p’-二甲苯胺，除此以外，以与中间体M1相同的方法合成了中间体M12。

化合物6的合成：

化合物1的合成中，替代中间体M1而使用了中间体M12，除此以外，以与化合物1相同的方法合成了化合物6。

化合物6的鉴定资料：

MALDI TOF-MASS Calc.for[M+H]+：805.4，found：805.3

NMR(400MHz，CDCl₃)：0.92(6H，t)、1.18-1.27(12H，m)、1.32(4H，m)、2.36(12H，s)、3.20(4H，t)、6.33(2H，s)、7.18(16H，m)

<极大吸收波长>

将所得到的各化合物溶解于氯彷中来制备了1g/L的浓度的溶液。接着，以极大吸收波长下的吸光度成为0.7～1.2的范围的方式适当稀释溶解了各化合物的溶液的吸收光谱之后使用SHIMADZU CORPORATION制UV-1800进行测定，并测定了极大吸收波长(λmax)。将各化合物的极大吸收波长(λmax)示于下述表中。

<化合物的溶解性>

以如下基准评价了各化合物对25℃下的各溶剂(环己酮、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、甲苯)的溶解性。

A：对25℃下的溶剂的化合物的溶解度为2质量％以上。

B：对25℃下的溶剂的化合物的溶解度为1质量％以上且小于2质量％。

C：对25℃下的溶剂的化合物的溶解度为0.5质量％以上且小于1质量％。

D：对25℃下的溶剂的化合物的溶解度小于0.5质量％。

[表2]

关于下述化合物R-1～R-3，以与化合物1～6相同的方式测定了极大吸收波长，并评价了溶解性。

化合物R-1为DE4122563号中所记载的化合物，并通过所述文献中记载的方法来进行了合成。化合物R-2为日本特开2009-15114号公报中所记载的化合物，并通过所述文献中记载的方法来进行了合成。化合物R-3为Chem.Eur.J.，2008，14，11082-11091中所记载的化合物，并通过所述文献中记载的方法来进行了合成。

[化学式46]

化合物1～6的极大吸收波长为700nm以上。而且，对于各溶剂的溶解性优异。

另一方面，化合物R-1、化合物R-2的极大吸收波长小于700nm。而且，化合物R-1、R-3的溶解性不充分。

<近红外线吸收组合物的制备>

混合下述组成来制备近红外线吸收组合物。

<组成1>

下述表中所示的化合物：2.3份

树脂1：12.9份

交联性化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.，Ltd制、产品名KAYARAD DPHA)：12.9份

光聚合引发剂：IRGACURE-OXE01〔2-(邻苯甲酰肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮〕、BASF公司制：2.5份

紫外线吸收剂：UV503(DAITO CHEMICAL CO.，LTD.)：0.5份

表面活性剂：下述混合物(Mw＝14000)：0.04份

[化学式47]

阻聚剂：对甲氧基苯酚：0.006份

环己酮：49.6份

丙二醇单甲醚乙酸酯：19.3份

<组成2>

下述表中所示的化合物：2.8份

树脂2：10.5份

交联性化合物：二季戊四醇六丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.，Ltd制、产品名KAYARAD DPHA)：2.0份

光聚合引发剂：IRGACURE-OXE01〔2-(邻-苯甲酰肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮〕、BASF公司制：2.2份

紫外线吸收剂：UV503(DAITO CHEMICAL CO.，LTD.)：0.5份

表面活性剂：MEGAFACE RS-72-K(DIC CORPORATION)2.3份

阻聚剂：对甲氧基苯酚：0.001份

环己酮：74.5份

丙二醇单甲醚乙酸酯：5.3份

<组成3>

下述表中所示的化合物：2.8份

树脂3或树脂4：14.7份

紫外线吸收剂：UV503(DAITO CHEMICAL CO.，LTD.)：0.5份

表面活性剂：MEGAFACE RS-72-K(DIC CORPORATION)2.3份

环己酮：74.5份

丙二醇单甲醚乙酸酯：5.3份

·树脂1：甲基丙烯酸苄酯(BzMA)与甲基丙烯酸(MAA)的共聚物(组成比(质量比)：(BzMA/MAA)＝(80/20)、Mw＝15,000)

·树脂2：甲基丙烯酸烯丙酯(Allyl-MA)与甲基丙烯酸(MAA)的共聚物(组成比(质量比)：(Allyl-MA/MAA)＝(80/20)、Mw＝15,000)

·树脂3：聚苯乙烯(Aldrich、Mw＝15,000)

·树脂4：ARTON F4520(JSR CORPORATION)

<膜的制作>

在玻璃基板(Corning Incorporated制1737)上，以干燥后的膜厚成为1.0μm的方式使用旋涂机涂布各组合物，并使用100℃的加热板进行120秒钟的加热处理(预烘烤)。

关于组成1及组成2，在预烘烤之后，使用i射线步进机曝光装置FPA-3000i5+(Canon Inc.制)，以500mJ/cm²进行整体曝光。

接着使用显影机(CD-2060、FUJIFILM Electronic Materials Co.，LTD.制)在23℃下进行60秒钟的旋覆浸没显影之后，用纯水进行冲洗处理。将冲洗处理后的玻璃基板旋转干燥，进而使用200℃的加热板进行了300秒钟的加热处理(后烘烤)，从而得到了固化膜。

关于实施例3及实施例4，使用预烘烤处理后进行干燥的膜，直接进行了评价。

<涂布膜的评价>

用肉眼观察所得到的膜的状态。

A：不存在化合物的析出。

B：存在化合物的析出。

<膜的极大吸收波长(λmax)>

使用分光光度计UV-3100PC(SHIMADZU CORPORATION制)测定所得到的膜的吸收光谱，并测定了膜的极大吸收波长(λmax)。

<红外线遮蔽性的评价>

使用分光光度计U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation.制)来测定了各膜在波长700nm下的透射率。以如下基准评价了红外线遮蔽性。将结果示于以下表中。

A：波长700nm的透射率≤5％

B：5％＜波长700nm的透射率≤7％

C：7％＜波长700nm的透射率≤10％

D：10％＜波长700nm的透射率

<可见透明性的评价>

使用分光光度计U-4100(Hitachi High-Technologies Corporation.制)来测定了各膜在波长450～600nm下的透射率。以如下基准评价了可见透明性。将结果示于以下表中。

A：95％≤波长450～600nm下的透射率的最小值

B：90％≤波长450～600nm下的透射率的最小值＜95％

C：80％≤波长450～600nm下的透射率的最小值＜90％

D：波长450～600nm下的透射率的最小值＜80％

<耐热性的评价>

将所得到的膜在200℃下加热5分钟来进行了各膜的耐热测试。利用色度计MCPD-1000(Otsuka Flectronics Co.，Ltd.制)测定耐热测试前后的各膜的色差ΔEab值。基于使用了ΔEab值的下述判定基准评价了耐热性。另外，较小的ΔEab值表示耐热性为良好。

另外，ΔEab值为根据基于CIE1976(L*，a*，b*)空间表色系统的以下色差公式求出的值(THE COLOR SCIENCE ASSOCIATION OF JAPAN编著新编色彩科学小册子(昭和60年)p.266)。

ΔEab＝{(ΔL*)²+(Δa*)²+(Δb*)²}^1/2

(判定基准)

A：ΔEab值＜3

B：3≤ΔEab值＜5

C：5≤ΔEab值＜10

D：10≤ΔEab值＜20

E：20≤ΔEab值

<耐光性的评价>

利用Xe灯，通过紫外线截止滤波器对所得到的膜照射1万勒克斯的光10小时，从而进行了耐光测试。利用色度计MCPD-1000(Otsuka Electronics Co.，Ltd.制)测定了耐光测试前后的各膜的色差ΔEab值。基于使用ΔEab值的下述判定基准评价了耐光性。另外，较小的ΔEab值表示耐光性良好。

(判定基准)

A：ΔEab值＜3

B：3≤ΔEab值＜5

C：5≤ΔEab值＜10

D：10≤ΔEab值＜20

E：20≤ΔEab值

[表3]

通过上述结果，实施例的红外遮蔽性及可见透明性优异。尤其，使用了化合物1～6的实施例1～9的红外遮蔽性及可见透明性更优异。而且，形成涂布膜时，无化合物的析出，涂布膜的性状良好。而且，耐热性及耐光性也优异。

另一方面，比较例1、2中，红外遮蔽性及可见透明性差。

而且，实施例1～10中，通过进一步掺和彩色着色剂，得到了特定的可见光以外的透射性及红外遮蔽性良好，且耐热性及耐光性优异的滤波器。

而且，组合介电质多层膜和由实施例1～10的组合物得到的膜的层叠膜也得到了优选效果。

Claims (19)

1.一种近红外线吸收性组合物，其含有由下述式(1)表示，且极大吸收波长为700nm以上的方酸内鎓盐化合物和树脂，

式中，Ar¹及Ar²分别独立地表示具有包含硫属原子的杂芳环的二价共轭基团，R¹～R⁴分别独立地表示芳基或杂芳基，R¹可以与R²或Ar¹键结而形成环，R³可以与R⁴或Ar²键结而形成环。

2.根据权利要求1所述的近红外线吸收性组合物，其中，

所述方酸内鎓盐化合物中，包含式(1)的Ar¹及Ar²的平面具有原子数16～54的π共轭平面。

3.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性组合物，其中，

所述硫属原子为硫原子。

4.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性组合物，其中，

Ar¹及Ar²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环或包含这些环的二价共轭基团。

5.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性组合物，其中，

Ar¹及Ar²分别独立地包含噻吩环或噻唑环。

6.根据权利要求5所述的近红外线吸收性组合物，其中，

R¹～R⁴中的至少一个表示构成环的原子数为8以上的芳基或杂芳基。

7.根据权利要求5所述的近红外线吸收性组合物，其中，

R¹～R⁴中的至少一个表示萘基。

8.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性组合物，其中，

Ar¹及Ar²分别独立地表示具有原子数8以上的π共轭平面的二价共轭基团。

9.根据权利要求8所述的近红外线吸收性组合物，其中，

Ar¹及Ar²分别独立地表示包含选自噻吩环或噻唑环中的至少一种的稠环、或包含选自噻吩环或噻唑环中的至少一种的二价共轭基团。

10.根据权利要求8所述的近红外线吸收性组合物，其中，

Ar¹及Ar²分别独立地表示包含选自噻吩环及噻唑环中的至少一种的稠环。

11.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性组合物，其中，

选自Ar¹、Ar²、R¹、R²、R³及R⁴中的至少一个具有由下述式(W)表示的基团，

-S¹-L¹-T¹……(W)

式(W)中，S¹表示单键、亚芳基或杂亚芳基，

L¹表示亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，R^L1表示氢原子或烷基，R^L2表示亚烷基，

T¹表示烷基、氰基、羟基、甲酰基、羧基、氨基、硫醇基、磺基、磷酰基、硼烷基、乙烯基、乙炔基、芳基、杂芳基、三烷基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基，

S¹为单键，L¹为亚烷基，T¹为烷基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上，

S¹表示亚芳基或杂亚芳基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上。

12.根据权利要求1或2所述的近红外线吸收性组合物，其中，

所述方酸内鎓盐化合物为由下式(1a)表示的化合物，

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

13.一种膜，其由权利要求1至12中任一项所述的近红外线吸收性组合物形成。

14.一种红外线截止滤波器，其由权利要求1至12中任一项所述的近红外线吸收性组合物形成。

15.一种固体摄像元件，其具有权利要求14所述的红外线截止滤波器。

16.一种红外线吸收剂，其由下式(1a)表示，

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

17.一种化合物，其由下式(1a)表示，

式中，Ar¹¹及Ar¹²分别独立地表示噻吩环、噻唑环或包含这些环中的至少一种的稠环，

R¹¹～R¹⁴分别独立地表示芳基或杂芳基，

R¹¹可以与R¹²或Ar¹¹键结而形成环，

R¹³可以与R¹⁴或Ar¹²键结而形成环，

Ar¹¹为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹¹及R¹²中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基，

Ar¹²为噻吩环或噻唑环的情况下，R¹³及R¹⁴中的至少一个表示原子数8以上的芳基或杂芳基。

18.根据权利要求17所述的化合物，其中，

R¹¹～R¹⁴中的至少一个表示萘基。

19.根据权利要求17或18所述的化合物，其中，

选自Ar¹¹、Ar¹²、R¹¹、R¹²、R¹³及R¹⁴中的至少一个具有由下述式(W)表示的基团，

-S¹-L¹-T¹……(W)

式(W)中，S¹表示单键、亚芳基或杂亚芳基，

L¹表示亚烷基、亚烯基、亚炔基、-O-、-S-、-NR^L1-、-CO-、-COO-、-OCO-、-CONR^L1-、-NR^L1CO-、-SO₂-、-OR^L2-或组合这些而成的基团，R^L1表示氢原子或烷基，R^L2表示亚烷基，

T¹表示烷基、氰基、羟基、甲酰基、羧基、氨基、硫醇基、磺基、磷酰基、硼烷基、乙烯基、乙炔基、芳基、杂芳基、三烷基甲硅烷基或三烷氧基甲硅烷基，

S¹为单键，L¹为亚烷基，T¹为烷基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上，

S¹表示亚芳基或杂亚芳基的情况下，L¹和T¹所包含的碳原子数的总和为5以上。