TWI701748B - 薄片貼附裝置及貼附方法 - Google Patents

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Abstract

薄片貼附裝置(10)，具備：在黏接薄片(AD)的一方之面，供給暫時黏著保護薄片(CS)的附保護薄片黏接薄片(CA)之供給機構(20)、將供給機構(20)所供給的附保護薄片黏接薄片(CA)，從保護薄片(CS)上向基材WF的表面(WF1)按壓貼附的按壓機構(30)；而按壓機構(30)具備：能調整按壓附保護薄片黏接薄片(CA)的按壓面(33A)位置的按壓面位置調整機構(31)。

Description

薄片貼附裝置及貼附方法
本發明係有關於薄片貼附裝置及貼附方法。
從前，已知有對在表面形成有凸塊(突起物)的半導體晶圓(以下，有單稱「晶圓」的情形)(被貼附體)，施予使突起物的前端有咬入基材薄片(保護薄片)程度的按壓力，將黏接薄片貼附於被貼附體的薄片貼附裝置(例如，參照文獻1：JP 2008-270448 A)。
但是，文獻1所記載的從前之薄片貼附裝置，雖然能夠施予使突起物的前端有咬入保護薄片程度的按壓力，但因為其為沒有考慮到被貼附體或黏接薄片的厚度，而向黏接薄片施予按壓力的構造，會發生對被貼附體施予過多的負荷，或對黏接薄片的按壓力不足的問題發生。
本發明的目的為提供一種薄片貼附裝置及貼附方法，能夠防止對被貼附體施予過多的負荷、或對黏接薄片的按壓力不足的問題發生。
本發明的附薄片裝置為，在基材的表面，對形成突起物的被貼附體，貼附補償該突起物與基材之間的黏接之黏接薄片的薄片貼附裝置，具有：供給在前述黏接薄片的一方之面暫時黏著保護薄片的附保護薄片黏接薄片之供給機構、將前述供給機構所供給的前述附保護薄片黏接薄片，從前述保護薄片上向前述基材的表面按壓貼附的按壓機構；其中，前述按壓機構具備：能調整按壓前述附保護薄片黏接薄片的按壓面位置的按壓面位置調整機構；前述按壓面位置調整機構，從前述基材的厚度加上前述突起物的厚度的被貼附體高度開始，到該被貼附體高度加上前述保護薄片的厚度的上限高度為止之間，將前述按壓面的高度以可調整的方式設置，且能夠按壓前述附保護薄片黏接薄片，使前述突起物的前端部貫通前述黏接薄片到達未貫通前述保護薄片的位置為止。
在本發明的薄片貼附裝置中，較佳為具有：促進前述突起物的前端部貫通前述黏接薄片的貫通促進機構。
在本發明的薄片貼附裝置中，較佳為具有：可以記憶前述黏接薄片的厚度、保護薄片的厚度、附保護薄片黏接薄片的厚度中的至少2個厚度之第1記憶部、至少記憶前述基材厚度的第2記憶部；其中，前述按壓面位置調整機構，係根據記憶於前述第1記憶部與第2記憶部的各個厚度，以可調整前述按壓面高度的方式設置。
在本發明的薄片貼附裝置中，較佳為具備：從貼附至前述被貼附體的附保護薄片黏接薄片將前述保護薄片剝離 的剝離機構、將殘留於前述突起物的前端部上的前述黏接薄片除去的除去機構。
本發明的薄片貼附方法為，在基材的表面，對形成突起物的被貼附體，貼附補償該突起物與基材之間的黏接之黏接薄片的薄片貼附方法，具有：供給在前述黏接薄片的一方之面暫時黏著保護薄片的附保護薄片黏接薄片之供給工程、將前述供給工程所供給的前述附保護薄片黏接薄片，從前述保護薄片上向前述基材的表面按壓貼附的按壓工程；其中，前述按壓工程具備：能調整按壓前述附保護薄片黏接薄片的按壓面位置的按壓面位置調整工程；前述按壓面位置調整工程，調整從前述基材的厚度加上前述突起物的厚度的被貼附體高度開始，到該被貼附體高度加上前述保護薄片的厚度的上限高度為止之間的前述按壓面的高度，且按壓前述附保護薄片黏接薄片，使前述突起物的前端部貫通前述黏接薄片到達未貫通前述保護薄片的位置為止。
根據以上的本發明，因為能夠考慮被貼附體與黏接薄片的厚度等，調整施加到該黏接薄片的按壓力，能夠防止對被貼附體施予過多的負荷、或對黏接薄片的按壓力不足的問題發生。
此外，若設置貫通促進機構的話，能夠促進突起物的前端部貫通黏接薄片。
再來，若根據記憶於第1記憶部與第2記憶部的各個厚度，可調整按壓面高度的話，可以有效地能夠防止對被 貼附體施予過多的負荷、或對黏接薄片的按壓力不足的問題發生。
此外，若設置剝離機構與除去機構的話，能夠防止突起物的前端部上所殘留的黏接薄片對後續的工程產生不好的影響。
10‧‧‧薄片貼附裝置
WF‧‧‧晶圓
BP‧‧‧凸塊
BW‧‧‧附凸塊晶圓
20‧‧‧供給機構
30‧‧‧按壓機構
40‧‧‧貫通促進機構
50‧‧‧剝離機構
60‧‧‧除去機構
70‧‧‧控制機構
80‧‧‧移送機構
AD‧‧‧黏接薄片
CS‧‧‧保護薄片
RS‧‧‧原材
21‧‧‧支撐輥
22‧‧‧導輥
RL‧‧‧剝離片
23‧‧‧剝離板
24A‧‧‧回動馬達
26‧‧‧回收輥
31‧‧‧直動馬達
31A‧‧‧出力軸
32‧‧‧托架
33‧‧‧按壓輥
51‧‧‧支撐輥
52‧‧‧導輥
54‧‧‧托架
55‧‧‧剝離輥
56‧‧‧回收輥
61A‧‧‧出力軸
62‧‧‧回動馬達
62A‧‧‧出力軸
63‧‧‧黏接薄片除去構件
71‧‧‧第1記憶部
72‧‧‧第2記憶部
81‧‧‧線性馬達
81A‧‧‧滑動器
82A‧‧‧支撐面
82‧‧‧載台
圖1為有關本發明之一實施形態之薄片貼附裝置的側面圖。
圖2A為圖1之薄片貼附裝置的部分側面圖。
圖2B為圖1之薄片貼附裝置的部分側面圖。
發明的實施形態的詳細說明
以下，根據圖式說明本發明的一實施形態。
此外，在本實施形態中的X軸、Y軸、Z軸分別為互相垂直的關係，X軸及Y軸作為預定平面內的軸，Z軸則作為與前述預定平面垂直的軸。再來，在本實施形態中，將從與Y軸平行的圖1的進入紙面方向觀察的情形作為基準，表示方向時，「上」為在Z軸的箭頭方向，「下」為與其相反的方向；「左」為X軸的箭頭方向，「右」為與其相反的方向；「前」為與Y軸平行的圖1中的進入紙面方向，「後」為與其相反的方向。
在圖1中，薄片貼附裝置10，係一種在作為基材的 晶圓WF的表面WF1，對形成作為突起物的凸塊BP之作為被貼附體的附凸塊晶圓BW，貼附補償該凸塊BP與晶圓WF之間的黏接之黏接薄片AD的裝置，該裝置具備：供給在黏接薄片AD的一方之面暫時黏著保護薄片CS的附保護薄片黏接薄片CA之供給機構20、將供給機構20所供給的附保護薄片黏接薄片CA，從保護薄片CS上向晶圓WF的表面WF1按壓貼附的按壓機構30、促進凸塊BP的前端部貫通黏接薄片AD的貫通促進機構40、從貼附至附凸塊晶圓BW的附保護薄片黏接薄片CA將保護薄片CS剝離的剝離機構50、將殘留於凸塊BP的前端部上的黏接薄片AD除去的除去機構60、控制該薄片貼附裝置10的全體動作的控制機構70；其中，使該附凸塊晶圓BW配置於使其能相對該薄片貼附裝置10移動的移送機構80之上方。此外，採用黏接薄片AD的厚度為未滿凸塊BP的厚度，採用保護薄片CS的厚度為凸塊BP以上的厚度。
供給機構20具備：支撐著在帶狀剝離片RL的一方之面暫時黏著附保護薄片黏接薄片CA的原材RS的支撐輥21、導引原材RS的導輥22、使剝離片RL折返，從該剝離片RL剝離附保護薄片黏接薄片CA之作為薄片剝離機構的剝離板23、藉由作為驅動機器的回動馬達24A來驅動，與夾送輥25一同夾住剝離片RL的驅動輥24、回收剝離片RL的回收輥26。
按壓機構30具備：能調整按壓附保護薄片黏接薄片 CA的按壓面33A位置的按壓面位置調整機構之作為驅動機器的直動馬達31、通過貫通促進機構40被支撐於直動馬達31的出力軸31A的托架32、以可回轉的方式被支撐於托架32，且具有按壓面33A的按壓輥33。直動馬達31如圖2A所示，從晶圓WF厚度加上凸塊BP厚度的被貼附體高度WH1開始，如圖2B所示，到被貼附體高度WH1加上保護薄片CS厚度的上限高度WH2為止之間，將按壓面33A的高度(按壓輥33的最下部位置的高度)以可調整的方式設置，且能夠按壓附保護薄片黏接薄片CA，使凸塊BP的前端部貫通黏接薄片AD到達未貫通保護薄片CS的位置為止。
貫通促進機構40，藉由支撐於直動馬達31的出力軸31A，通過托架32對按壓輥33施加振動的超音波振動裝置來構成。
剝離機構50具備：支撐剝離用膠帶PT的支撐輥51、導引剝離用膠帶PT的導輥52、被支撐於作為驅動機器的直動馬達53的出力軸53A的托架54、以可回轉的方式被支撐於托架54的剝離輥55、藉由作為驅動機器的回動馬達56A來驅動，並回收剝離用膠帶PT及保護薄片CS的回收輥56。
除去機構60具備：被支撐於作為驅動機器的直動馬達61的出力軸61A的作為驅動機器的回動馬達62、被支撐於回動馬達62的出力軸62A的黏接薄片除去構件63。
控制機構70由個人電腦或序列器等構成，且具備：記憶黏接薄片AD厚度與保護薄片CS厚度的第1記憶部71、記憶晶圓WF厚度的第2記憶部72，藉由圖所未示出的配線與構成該薄片貼附裝置10的各機構電性連接。藉此，直動馬達31係根據記憶於第1記憶部71與第2記憶部72的各個厚度，以可調整按壓面33A高度的方式設置。
移送機構80具備：被支撐於作為驅動機器的線性馬達81的滑動器81A，且藉由減壓泵或真空噴射器等圖所未示的減壓機構能吸附支撐附凸塊晶圓BW的具有支撐面82A的載台82。
以在附凸塊晶圓BW貼附黏接薄片AD的順序說明以上的薄片貼附裝置10。
首先，作業者對各構件配置於初始位置的呈圖1中實線所示狀態的薄片貼附裝置10，將原材RS及剝離用膠帶PT以圖1所示的方式設置，將黏接薄片AD的厚度、保護薄片CS的厚度、及晶圓WF的厚度輸入至操作面板或個人電腦等圖所未示的操作機構後，輸入自動運轉開始的信號。藉此，第1記憶部71記憶黏接薄片AD的厚度及保護薄片CS的厚度，第2記憶部72記憶晶圓WF厚度。接著，按壓機構30驅動直動馬達31，根據第1、第2記憶部71、72所記憶的各厚度，調整從載台82的支撐面82A到按壓面33A的最下部為止的間隔，改變按壓輥33的位置，使該間隔成為比晶圓WF的厚度、黏接薄片AD的厚度、保護薄片CS的厚度之和還短的預定間隔。此 外，該預定間隔，例如為，當施加使黏接薄片AD能夠良好地貼附於WF1的必要之按壓力時，能夠在保護薄片CS與黏接薄片AD的短縮距離以上，且當施加使晶圓WF破損的按壓力時，能夠在保護薄片CS與黏接薄片AD的短縮距離以下，該等距離可以根據作業者的經驗值來設定，也可以根據保護薄片CS、黏接薄片AD、及晶圓WF等的特性、特質、性質、材質、組成、及構成等作適當的設定。之後，供給機構20驅動回動馬達24A，將原材RS送出，當以攝影機等的攝像機構或光學感測器等(圖未示)的檢測機構，檢測出先頭的附保護薄片黏接薄片CA以預定長度被剝離板23所剝離時，供給機構20會停止回動馬達24A的驅動，呈待機狀態。
接著，藉由人手、或多關節機器人及皮帶輸送器等圖所未示的搬送機構，在載台82上載置附凸塊晶圓BW，藉由圖所未示的移送機構80驅動減壓機構，將該附凸塊晶圓BW吸附支撐於支撐面82A後，驅動線性馬達81，使載台82向左方移動。接著，利用等同於上述圖所未示的檢測機構，檢測到附凸塊晶圓BW到達預定位置時，供給機構20驅動回動馬達24A，以與載台82的移動速度一致的方式送出原材RS。藉此，附保護薄片黏接薄片CA被剝離板23從剝離片RL剝離，藉由按壓輥33按壓至附凸塊晶圓BW貼附。此時，因為按壓輥33的按壓面33A配置於上述的位置，以不會對晶圓WF施加過多的負荷且對黏接薄片AD的按壓力不會不足的方式，按壓附保護薄 片黏接薄片CA，使凸塊BP的前端部貫通黏接薄片AD，到達未貫通保護薄片CS的位置為止。此外，當將附保護薄片黏接薄片CA貼附至附凸塊晶圓BW時，也可以讓貫通促進機構40驅動超音波振動裝置，使凸塊BP的前端部容易貫通黏接薄片AD。
接著，利用等同於上述圖所未示的檢測機構，檢測到附凸塊晶圓BW到達剝離機構50的下方的預定位置時，剝離機構50驅動直動馬達53，在從支撐輥51側送出剝離用膠帶PT的同時，使剝離輥55下降，按壓剝離用膠帶PT貼附至保護薄片CS的左端。之後，剝離機構50驅動回動馬達56A，如圖1中的二點鏈線所示，藉由將剝離用膠帶PT以一致於載台82的移動速度送出，將保護薄片CS從黏接薄片AD剝離，利用回收輥56將剝離後的保護薄片CS與剝離用膠帶PT一同回收。
接著，利用等同於上述圖所未示的檢測機構，檢測到附凸塊晶圓BW到達黏接薄片除去構件63的右下的預定位置時，除去機構60驅動直動馬達61及回動馬達62，邊回轉黏接薄片除去構件63邊使其下降到預定位置。接著，繼續向載台82左方的移動，藉由回轉的黏接薄片除去構件63，將殘留於凸塊BP的前端部上的黏接薄片AD從該凸塊BP的前端部上去除去。
接著，利用等同於上述圖所未示的檢測機構，檢測到附凸塊晶圓BW通過黏接薄片除去構件63的下方而到達預定位置時，移送機構80停止線性馬達81及圖所未示的 減壓機構的驅動。接著，藉由人手或圖所未示的搬送機構，將貼附黏接薄片AD的附凸塊晶圓BW搬送至下個工程後，分別驅動各機構的驅動機器，使各構件回到初始位置，之後再重覆進行與上述一樣的動作。
根據以上的實施形態，因為能夠考慮晶圓WF與黏接薄片AD的厚度等，調整施加到該黏接薄片AD的按壓力，能夠防止對晶圓WF施予過多的負荷、或對黏接薄片AD的按壓力不足的問題發生。
如同以上所述，已於前述的記載揭示了實施本發明的最佳構成、方法等，但本發明並不以此為限。也就是說，本發明主要是對有關特定的實施形態圖示且說明，但在不超脫本發明的技術思想及目的的範圍的條件下，對以上所述的實施形態，該技術領域的通常知識者能夠對形狀、材質、數量、其他詳細的構造，做各種變形或附加。此外，上述所揭示的形狀、材質等限定記載，僅用於容易理解本發明的例示記載，因為其並非用來限定本發明，在該等形狀、材質等的限定的一部分或全部的限定以外的構件名稱的記載，也包含於本發明內。
例如，因為供給機構20在帶狀的保護薄片基材及帶狀黏接薄片基材，形成複數封閉環狀的切口，也能使其內側成為附保護薄片黏接薄片CA，向剝離片RL送出暫時黏著的原材。
當供給機構20採用帶狀的保護薄片基材及帶狀的黏接薄片基材暫時黏著至剝離片RL的原材時，可以藉由切 刀、雷射切割器、熱切割器、空氣切割器、壓縮水刀等的切斷機構，以預定形狀切斷保護薄片基材及黏接薄片基材，使其內側作為附保護薄片黏接薄片CA。此時，切斷機構可以切斷貼附至附凸塊晶圓BW前的保護薄片基材及黏接薄片基材，也可以切斷貼附至附凸塊晶圓BW後的保護薄片基材及黏接薄片基材。
供給機構20也可以是供給不暫時黏著至剝離片RL的附保護薄片黏接薄片CA的構造。
薄片剝離機構可以是圓棒或滾軸等的構造。
按壓機構30可以採用為圓棒、葉片材等按壓構件，此時，按壓面位置調整機構也可以藉由圓棒或葉片材等來調整按壓附保護薄片黏接薄片CA的按壓面位置。
按壓機構30可以採用具備平坦的按壓面的板狀按壓構件，此時，按壓零件可以具備比晶圓WF的表面WF1及附保護薄片黏接薄片CA還大的按壓面，也可以具備小按壓面，當然也可以經由一次或複數次按壓，將附保護薄片黏接薄片CA按壓至晶圓WF的表面WF1全體。
貫通促進機構40可以是偏心馬達、振動器、線圈加熱器或熱導管的加熱側等的加熱機構、熱電元件或熱導管的冷卻側等的冷卻機構、照射紫外線或紅外線等的光照射機構等，可以根據保護薄片CS或黏接薄片AD的特性、特質、性質、材質、組成、及構成等作適當的變更，或將該等適當地組合，也可以不變更或組合。
貫通促進機構40可以設於載台82側。
剝離機構50可以是不使用剝離用膠帶PT，而藉由機械夾頭或夾持筒等的夾持機構，利用庫倫力、黏接劑、黏著劑、磁力、白努利吸附等，將保護薄片CS直接或間接固定，從黏接薄片AD上剝離的構造，不是也可以。
除去機構60可以採用將大氣或空氣等的氣體、水或藥液等的液體、砂或金屬等的微粒子等吹送之物，也可以採用設有黏接薄片除去構件的環形帶等，或使黏接薄片除去構件在直線方向移動之物，將殘留於凸塊BP的前端部上的黏接薄片AD去除。
黏接薄片除去構件63可以是刷子、磨石、銼刀、砂紙、線鋸等，只要是能將殘留於凸塊BP的前端部上的黏接薄片AD去除之物都可以，其材質可以是石材、金屬材、樹脂材、布材、皮革材等。
第1記憶部71可以記憶黏接薄片AD的厚度、保護薄片CS的厚度、附保護薄片黏接薄片CA的厚度中的至少2個厚度，也可以演算未輸入的剩下的1個的厚度。
第2記憶部72可以記憶從被貼附體高度WH1減去該凸塊BP的厚度的晶圓WF厚度。
控制機構70也可以設有攝影機等的攝像機構或光學感測器等的薄片厚度檢測機構，其可以檢出黏接薄片AD的厚度、保護薄片CS的厚度、附保護薄片黏接薄片CA的厚度中的至少2個厚度，第1記憶部71可根據該薄片厚度檢測機構的檢測結果，來記憶黏接薄片AD的厚度、保護薄片CS的厚度、附保護薄片黏接薄片CA的厚度中 的至少2個厚度。
控制機構70也可以設有檢出晶圓WF的厚度之攝影機等的攝像機構或光學感測器等的被貼附體厚度檢測機構，第2記憶部72可根據該被貼附體厚度檢測機構的檢測結果，來記憶晶圓WF的厚度。
不具有第1記憶部71及第2記憶部72的其中一者也可以。
移送機構80也可以是藉由機械夾頭或夾持筒等的夾持機構，利用庫倫力、黏接劑、黏著劑、磁力、白努利吸附等，將附凸塊晶圓BW支撐的構造。
移送機構80也可以預先固定載台82的位置來移動薄片貼附裝置10，也可以移動載台82及薄片貼附裝置10的兩者。
利用其他裝置使附凸塊晶圓BW相對薄片貼附裝置10移動時，沒有移送機構80也可以。
突起物可以並不限於凸塊BP，例如，可以是針或棒狀物、球形、圓錐形、角錐形、角柱形等物或將其組合之物。
因應黏接薄片AD的特性、特質、性質、材質、組成、及構成等，可以將照射紫外線或紅外線等的能量線之能量線照射機構、線圈加熱器或熱導管等的加熱側等的加熱機構、熱電元件或熱導管的冷卻側等的冷卻機構、乾燥機、送風機、電漿照射機等的硬化機構，設於除去機構60的前段，將貼附於附凸塊晶圓BW的黏接薄片AD硬 化。藉此，不只是能增強向黏接薄片AD的晶圓WF的黏接，也能夠減少黏接薄片AD向黏接薄片除去構件63的附著。這種硬化機構也可以越過晶圓WF或越過保護薄片CS，將貼附於附凸塊晶圓BW的黏接薄片AD硬化。
本發明中的黏接薄片AD、保護薄片CS、附保護薄片黏接薄片CA、基材、及突起物的材質、類別、形狀等並沒有特別的限定。例如，黏接薄片AD可以是圓形、楕圓形、三角形、四角形等的多角形、其他的形狀，也可以是感壓黏接性、感熱黏接性等的黏接形態之物，採用感熱黏接性的黏接薄片AD時，利用設置加熱該黏接薄片AD的適當的線圈加熱器或熱導管的加熱側等的加熱機構這種適當的方法來黏接也可以。此外，這種黏接薄片AD例如可以是：只有黏接劑層的單層物、由基材薄片與黏接劑層所構成之物、在基材薄片與黏接劑層之間有中間層之物、在黏接劑層之間有中間層之物等，1層或是2層以上之物。此外，作為基材及被貼附體可以例如是以食品、樹脂容器、矽半導體晶圓或化合物半導體晶圓等的半導體晶圓、電路基板、光碟等資訊記錄基板、玻璃板、鋼板、陶器、木板、或樹脂板等任意形態的構件或物品等為對象。此外，黏接薄片AD若以功能性、用途性觀點來置換的話，例如，可以將資訊記載用標籤、裝飾用標籤、保護薄片、切割膠帶、黏晶薄膜、黏晶膠帶、底部填膠、記錄層形成樹脂片等任意形狀的任意薄片、薄膜、膠帶等貼附於前述的任意被貼附體。
本發明中的機構及工程，並不限於所說明的有關實現該等機構及工程的動作、機能、或工程，而且，並沒有要限定前述實施形態所示的僅為單一實施形態的構成物或工程的意思。例如，供給機構若是能供給在黏接薄片的一方之面使保護薄片暫時黏著的附保護薄片黏接薄片之物的話，參照申請時的通常知識，若是在該技術範圍內之物的話，就沒有任何的限制(省略有關其他機構與工程的說明)。
此外，在前述實施形態中的驅動機器在能夠採用回動馬達、直動馬達、線性馬達、單軸機器人、多關節機器人等的電動機、空氣汽缸、油壓汽缸、無桿式汽缸、及旋轉汽缸等的致動器的前提下，能夠將該等直接或間接組合採用(也有與實施形態所例示之物重複之物)。
10‧‧‧薄片貼附裝置
20‧‧‧供給機構
21‧‧‧支撐輥
22‧‧‧導輥
23‧‧‧剝離板
24‧‧‧驅動輥
24A‧‧‧回動馬達
25‧‧‧夾送輥
26‧‧‧回收輥
30‧‧‧按壓機構
31‧‧‧直動馬達
31A‧‧‧出力軸
32‧‧‧托架
33‧‧‧按壓輥
33A‧‧‧按壓面
40‧‧‧貫通促進機構
50‧‧‧剝離機構
51‧‧‧支撐輥
52‧‧‧導輥
53‧‧‧直動馬達
53A‧‧‧出力軸
54‧‧‧托架
55‧‧‧剝離輥
56‧‧‧回收輥
60‧‧‧除去機構
61‧‧‧直動馬達
61A‧‧‧出力軸
62‧‧‧回動馬達
62A‧‧‧出力軸
63‧‧‧黏接薄片除去構件
70‧‧‧控制機構
71‧‧‧第1記憶部
72‧‧‧第2記憶部
80‧‧‧移送機構
81‧‧‧線性馬達
81A‧‧‧滑動器
82‧‧‧載台
82A‧‧‧支撐面
AD‧‧‧黏接薄片
BP‧‧‧凸塊
BW‧‧‧附凸塊晶圓
CA‧‧‧黏接薄片
CS‧‧‧保護薄片
RL‧‧‧剝離片
RS‧‧‧原材
PT‧‧‧膠帶
WF1‧‧‧表面
WF‧‧‧晶圓
56A‧‧‧回動馬達

Claims (5)

  1. 一種薄片貼附裝置，其在基材的表面，對形成突起物的被貼附體，貼附補償該突起物與基材之間的黏接之黏接薄片，該薄片貼附裝置具有：供給在前述黏接薄片的一方之面暫時黏著保護薄片的附保護薄片黏接薄片之供給機構、將前述供給機構所供給的前述附保護薄片黏接薄片，從前述保護薄片上向前述基材的表面按壓貼附的按壓機構；其中，前述按壓機構具備：能調整按壓前述附保護薄片黏接薄片的按壓面位置的按壓面位置調整機構；前述按壓面位置調整機構，從前述基材的厚度加上前述突起物的厚度的被貼附體高度開始，到該被貼附體高度加上前述保護薄片的厚度的上限高度為止之間，將前述按壓面的高度以可調整的方式設置，且按壓前述附保護薄片黏接薄片，使前述突起物的前端部貫通前述黏接薄片到達未貫通前述保護薄片的位置為止。
  2. 如請求項1所記載的薄片貼附裝置，更具有：促進前述突起物的前端部貫通前述黏接薄片的貫通促進機構。
  3. 如請求項1或2所記載的薄片貼附裝置，更具備：記憶前述黏接薄片的厚度、保護薄片的厚度、附保護薄片黏接薄片的厚度中的至少2個厚度之第1記憶部、至少記憶前述基材的厚度的第2記憶部；其中，前述按壓面位置調整機構，係根據記憶於前述 第1記憶部與第2記憶部的各個厚度，以可調整前述按壓面高度的方式設置。
  4. 如請求項1或2所記載的薄片貼附裝置，更具備：從貼附至前述被貼附體的附保護薄片黏接薄片將前述保護薄片剝離的剝離機構、將殘留於前述突起物的前端部上的前述黏接薄片除去的除去機構。
  5. 一種薄片貼附方法，其在基材的表面，對形成突起物的被貼附體，貼附補償該突起物與基材之間的黏接之黏接薄片，該薄片貼附方法具有：供給在前述黏接薄片的一方之面暫時黏著保護薄片的附保護薄片黏接薄片之供給工程、將前述供給工程所供給的前述附保護薄片黏接薄片，從前述保護薄片上向前述基材的表面按壓貼附的按壓工程；其中，前述按壓工程具備：能調整按壓前述附保護薄片黏接薄片的按壓面位置的按壓面位置調整工程；前述按壓面位置調整工程，調整從前述基材的厚度加上前述突起物的厚度的被貼附體高度開始，到該被貼附體高度加上前述保護薄片的厚度的上限高度為止之間的前述按壓面的高度，且按壓前述附保護薄片黏接薄片，使前述突起物的前端部貫通前述黏接薄片到達未貫通前述保護薄片的位置為止。
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