TWI696552B

TWI696552B - 導電材料及處理方法

Info

Publication number: TWI696552B
Application number: TW108100542A
Authority: TW
Inventors: 後閑寛彦; 西村直哉
Original assignee: 日商三菱製紙股份有限公司
Priority date: 2018-01-11
Filing date: 2019-01-07
Publication date: 2020-06-21
Also published as: WO2019138946A1; TW201936374A; KR20200108042A; CN111448621B; CN111448621A; US20210165511A1

Abstract

本發明提供一種隨著太陽光照射而電阻值變動的情況經改善的導電材料。本發明之導電材料係在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料，且在該導電材料的具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面，更具有1mg/m²以上的銅元素。

Description

導電材料及處理方法

本發明係關於電阻值變動經改善的導電材料及其處理方法。

在智慧型手機、個人數位助理(PDA)、筆記型電腦、平板電腦、OA設備、醫療設備或是車用導航系統等的電子設備中，觸控面板感測器係作為輸入手段而被廣泛用於該等的顯示器。

根據位置檢測的方法，觸控面板感測器具有光學式、超音波式、電阻膜式、表面電容式、投影電容式等，上述顯示器用途中，較佳係使用電阻膜式與投影電容式。電阻膜式的觸控面板感測器具有下述結構：在支撐體上係使用兩片具有透光性導電層的導電材料，隔著點間隔器(dot spacer)將該等導電材料對向配置；藉由對觸控面板感測器的1點施力而透光性導電層彼此接觸，使施加於透光性導電層的電壓通過另一面透光性導電層並進行測量，藉此檢測施力的位置。另一方面，投影電容式的觸控面板感測器，係使用1片具有2層透光性導電層的導電材料，或是使用2片具有1層透光性導電層的導電材料，檢測使手指等接近時透光性導電層之間的電容變化，並且檢測手指接近的位置。後者因為沒有可動部分，因此除了耐久性優良以外，亦可同時進行多點檢測，因此尤其廣泛地被使用於智慧型手機及平板電腦等。

以往技術中，透光性導電層一般係由含有ITO(銦錫氧化物)等的透明導電性氧化物的導電膜所形成。例如，專利文獻1揭示一種觸控面板感測器構件，其係使用ITO或IZO(銦-鋅氧化物)、ZnO(氧化鋅)等的透明導電體作為透光性導電層的材料。

近年來，有人揭示一種具有網格狀金屬銀細線圖案作為透光性導電層的導電材料。例如，專利文獻2中記載可藉由下述各種方法形成網格狀金屬銀細線圖案：將含銀微粒子的印墨進行印刷而形成的方法、將含無電鍍覆觸媒的樹脂塗料進行印刷後再實施無電鍍覆的方法、在金屬層上設置光阻層並形成光阻圖案之後以蝕刻去除金屬層的消去法(Subtractive process)、使用銀鹽感光材料的方法等。

又，在具有網格狀金屬銀細線圖案的透光性導電層上具有黏著劑層與在該黏著劑層上具有功能材料的導電材料積層體亦為人所知，例如，專利文獻3中揭示，藉由在觸控面板感測器上具有相對介電係數之溫度相依性低的黏著劑層與該黏著劑層上具有保護基板的觸控式面板用積層體，可抑制在廣泛溫度環境下的錯誤運作。該黏著劑層，一般係用以使顯示裝置及觸控面板感測器等的各構件之間密合。

上述的導電材料積層體被用於各種場所，例如亦被使用於照射太陽光的場所。然而，在具有網格狀金屬銀細線圖案的透光性導電層上設置黏著劑層而作為導電材料積層體的情況，若照射太陽光，則有該透光性導電層的電阻值變動的問題，因此要求改善。

作為改善透光性導電層的電阻值隨著太陽光照射而變動的方法，專利文獻4中揭示一種導電材料積層體，其係透光性導電層的底塗層包含具有胺基之化合物，黏著劑層包含陽離子聚合型光硬化性樹脂；專利文獻5中揭示一種導電材料積層體，其係透光性導電層的底塗層包含具有胺基之化合物，黏著劑層包含使用醯基膦系化合物及三鹵烷基化合物進行聚合的樹脂。又，專利文獻6中揭示一種方法，其係將包含丙烯酸系黏著劑的觸控式面板用層間填充材料貼合於透光層導電層上的方法，該丙烯酸系黏著劑係將包含具有紫外線吸收能或光穩定性能之分子骨架的丙烯酸單體等聚合而得者；專利文獻7中揭示一種膜(導電材料積層體)，其具有金屬纖維及包含金屬粒子及金屬氧化物粒子等金屬添加劑的樹脂層；專利文獻8中揭示一種附有電容耦合式觸控式面板輸入裝置的顯示裝置(導電材料積層體)，其具備含有金屬奈米線的透光性導電層與可使特定波長以上的可見光穿透的透光層。再者，專利文獻9記載使用Fe(II)、Fe(III)、Co(II)、Co(III)、Mn(II)等的過渡金屬鹽或是配位錯合物作為光學穩定劑。然而，關於透光性導電層的電阻值隨著太陽光照射而變動的情況，仍期望進一步的改善。

另一方面，作為使金屬元素在支撐體上析出的方法，雖可舉出無電鍍覆處理，但以薄鍍銅的銅衝擊電鍍(strike plating)為例子的情況，如專利文獻10所示，鍍覆量的下限為一般為0.01μm以上，重量換算則為約90mg/m²以上。

又，作為支撐體上具有金屬元素的導電材料，在以塗布有金屬微粒子的透明導電性膜為例子的情況，如專利文獻11所示，金屬微粒子的塗布量下限一般在50mg/m²以上。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2015-32183號公報

[專利文獻2]日本特開2015-133239號公報

[專利文獻3]日本特開2014-198811號公報

[專利文獻4]日本特開2015-58662號公報

[專利文獻5]日本特開2015-106500號公報

[專利文獻6]日本特開2016-210916號公報

[專利文獻7]日本特開2016-1608號公報

[專利文獻8]日本特開2016-21170號公報

[專利文獻9]國際公開公報第2015/143383號小冊

[專利文獻10]日本特開2015-187303號公報

[專利文獻11]日本特開2001-256834號公報

本發明之課題係提供一種電阻值隨著太陽光照射而變動的情況經改善的導電材料，以及用以得到該導電材料的處理方法。又，提供一種處理方法，除了抑制電阻值變動以外，更可抑制離子遷移。

本發明的上述課題可藉由以下的發明達成。

(1)一種導電材料，其係在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料，且在該導電材料之具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面，更具有1mg/m²以上的銅元素。

(2)一種處理方法，其係用以得到上述(1)之導電材料的處理方法，係以含有銅之金屬鹽的處理液，對於支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料之具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面進行處理。

(3)如上述(2)之處理方法，其中，含有銅之金屬鹽的處理液更包含羥基酸。

根據本發明，可提供一種電阻值隨著太陽光照射而變動的情況經改善的導電材料，以及用以得到該導電材料的處理方法。又，可提供一種處理方法，除了改善該電阻值變動以外，更可抑制離子遷移。

11‧‧‧網格狀圖案

12、12’‧‧‧填滿圖案

13、13a至13e‧‧‧試驗圖案

20‧‧‧功能材料的貼合區域

31‧‧‧感測器部

32‧‧‧周邊配線

33‧‧‧端子

34‧‧‧外緣

第1圖係實施例中所使用之正型穿透原稿的概略圖。

第2圖係實施例中所製作之導電材料A的概略圖。

以下說明本發明。本發明的導電材料，係在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料，且在該導電材料之中具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面，更具有1mg/m²以上的銅元素。

本發明中的銅元素，係在離子、鹽或是膠體的狀態下，存在於具有網格狀金屬銀細線圖案之側的支撐體表面以及網格狀金屬銀細線圖案的細線表面，該具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面的銅元素量在1mg/m²以上，為了抑制透光性導電層的電阻值隨著太陽光照射而變動，此點係為必要。又，即便使銅元素量在1mg/m²以上，所得之效果亦未提升，因此並不經濟，而且光學特性(霧度、總透光率等)亦會因為支撐體著色而降低，所以銅元素量較佳為15mg/m²以下，更佳為10mg/m²以下。

上述導電材料係可使用下述處理液對於在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料進行處理而製作。

<含有銅之金屬鹽的處理液>

作為含有銅之金屬鹽的處理液所包含的銅之金屬鹽，可例示為銅的硫酸鹽、硝酸鹽、氯化物鹽等的水溶性之無機銅鹽，銅的甲酸鹽、乙酸鹽等的水溶性的有機銅鹽等。又，該等銅之金屬鹽可為單獨1種或是混合2種以上使用。

上述處理液所含有的銅之金屬鹽的含量在0.0001mol/L以上，可有效抑制導電材料的透光性導電層的電阻值隨著太陽光照射而變動，因而較佳，更佳為0.0003mol/L以上。又，從所得之效果未提升而不經濟、且銅之金屬鹽的溶解費時等的觀點來看，上述處理液所含有的銅之金屬鹽的含量較佳為0.4mol/L以下，更佳為0.1mol/L以下。

含有銅之金屬鹽的處理液其pH並未特別限定，但從有效抑制導電材料的透光性導電層的電阻值隨著太陽光照射而變動的觀點來看，較佳為2至9。為了調整pH，含有銅之金屬鹽的處理液亦可含有鹽酸、硫酸、乙酸、氫氧化鈉、氫氧化鉀、磷酸鹽、碳酸鹽、銨鹽等的pH調整劑。再者，本發明的含有銅元素之處理液，除了pH調整劑以外，亦可因應需求含有界面活性劑、消泡劑、泡沫抑制劑、增黏劑、防腐劑等的習知添加劑。

另一方面，含有銅之金屬鹽的處理液中若含有錯合劑或光澤劑，則無法有效抑制導電材料的透光性導電層之電阻值隨著太陽光照射而變動，因而不佳。

上述錯合劑，係用以防止一般無電鍍覆液中金屬鹽的沉澱、進一步使鍍覆金屬的析出反應為適當速度而抑制鍍覆浴之分解的有效成分，係在習知的無電鍍覆液中使用的各種錯合劑。作為這種錯合劑的具體例，可列舉酒石酸、蘋果酸等的氧基羧酸、其可溶性鹽；乙二胺、三乙醇胺等的胺基化合物；乙二胺四乙酸(EDTA)、Versenol(N-羥乙基乙二胺-N,N’,N’-三乙酸)、Quadroll(N,N,N’,N’-四羥乙基乙二胺)等的乙二胺衍生物、其可溶性鹽；1-羥基乙烷-1,1-二膦酸、乙二胺四(亞甲基膦酸)等的膦酸、其可溶性鹽等。

上述光澤劑係用以在一般電鍍液中得到鍍覆面之光澤的有效成分，其係可用於習知電鍍液中的各種光澤劑。作為這種光澤劑的具體例，有機硫化物、含氧高分子有機化合物等已為人所知，作為有機硫化物，可例示3-巰基丙烷磺酸及其鈉鹽、雙(3-磺酸基丙基)二硫化物及其二鈉鹽、N,N-二甲基二硫胺甲酸(3-磺酸基丙基)酯及其鈉鹽等。又，作為含氧高分子有機化合物，可例示氧伸烷基聚合物、聚乙二醇、聚丙二醇、環氧乙烷與環氧丙烷的共聚物等。

本發明中，含有銅之金屬鹽的處理液較佳係更含有羥酸。藉此，可提供一種能夠改善透光性導電層隨著太陽光照射而電阻值變動、並且更抑制離子遷移的處理方法。

作為含有銅之金屬鹽的處理液所含有的羥酸，可例示：乙醇酸、乳酸、羥丙二酸、甘油酸、白胺酸、蘋果酸、酒石酸、葡萄糖酸、檸檬酸、異檸檬酸、甲羥戊酸、廣酸、蓖麻油酸、奎尼酸、柳酸、雜酚油酸(升柳酸、羥基(甲基)苯甲酸)、香草酸、丁香酸、羥基戊酸、羥基己酸、羥基庚酸、羥基辛酸、羥基壬酸、羥基癸酸、羥基十一酸、羥基十二酸、羥基十三酸、羥基十四酸、羥基十五酸、羥基十七酸、羥基十八酸、羥基十九酸、羥基二十酸、蓖麻油酸、兒茶酚甲酸(pyrocatechuic acid)、雷鎖酸(resorcylic acid)、兒茶酸、龍膽酸、苔蘚酸、沒食子酸、杏仁酸、二苯羥乙酸、2-苯乳酸、鄰羥二氫桂皮酸、根皮酸、香豆酸、繖形酸、咖啡酸、阿魏酸、芥子酸等，及該等的鹽。該等的羥酸之中，脂肪族羥酸與其鹽可進一步抑制網格狀金屬銀細線圖案之間的離子遷移所導致之導電材料的可靠度降低，因而較佳，更佳為檸檬酸及酒石酸與該等的鹽，特佳為檸檬酸與其鹽。又，該等的羥酸可為單獨1種或是混合2種以上使用。

上述含有銅之金屬鹽的處理液所含有之羥酸的含量若在0.0002mol/L以上，則可有效抑制網格狀金屬銀細線圖案之間的離子遷移所導致之導電材料的可靠度降低，因而較佳，更佳為0.002mol/L以上。又，從所得之效果未提升而不經濟、且羥酸的溶解費時等的觀點來看，上述含有銅之金屬鹽的處理液所含有之羥酸的含量較佳為0.4mol/L以下，更佳為0.1mol/L以下。

<以含有銅之金屬鹽的處理液所進行之處理>

使用含有銅之金屬鹽的處理液對於在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料進行處理的方法並未特別限定，可使含有銅之金屬鹽的處理液與支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料之具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面接觸。具體而言，可例示：將該導電材料浸漬於含有銅之金屬鹽的處理液的方法、藉由棒塗法、旋塗法、模塗法、刮刀塗法、凹版塗法、簾幕塗法、噴塗法、吻合塗布法(kiss coating)等的習知的塗布方法，在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料的該具有圖案之側的面塗布含有銅之金屬鹽的處理液的方法、藉由凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷、網版印刷、平版印刷、凹版平版印刷、點膠(dispenser)印刷、移印等的習知的印刷方法，在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料的該具有圖案之側的面印刷含有銅之金屬鹽的處理液的方法。上述方法之中，將導電材料浸漬於含有銅之金屬鹽的處理液的方法，可使含金屬鹽之處理液容易接觸細微之網格狀金屬銀細線圖案的表面，因而較佳。

本發明中，為了使具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面以銅元素量成為1mg/m²以上的方式進行處理，較佳係使與含有銅之金屬鹽的處理液接觸的時間為1秒以上，藉此可有效抑制透光性導電層的電阻值變動，更佳為3秒以上，特佳為5秒以上。使具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面與含有銅之金屬鹽的處理液接觸的時間之上限較佳為10分鐘以下。使具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面與含有銅之金屬鹽的處理液接觸時，該處理液的溫度未特別限定，但若在10℃以上則可有效抑制透光性導電層的電阻值變動，因而較佳，更佳為30℃以上。上限較佳為70℃以下。

<水洗>

在藉由上述方法，以含有銅之金屬鹽的處理液對支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料進行處理後，以去除剩餘的含有銅之金屬鹽的處理液為目的，較佳係對該導電材料進行水洗。藉此，可避免因為處理液的附著而導致光學特性(霧度、總透光率等)降低。水洗可藉由僅以水構成之水洗液進行，亦可藉由含有磷酸鹽、碳酸鹽等的pH調整劑之水洗液進行，以防止腐敗為目的，亦可藉由含有防腐劑的水洗液進行。

水洗方法未特別限定，可例示使用擦洗輥等噴射水洗液淋浴的方法、以噴嘴等噴射水洗液的方法。設置多個淋浴或噴嘴亦可提高去除的效率。或是亦可將導電材料浸漬於水洗液中。水洗後，較佳係藉由加熱或自然乾燥使殘存於導電材料的水分乾燥。

<導電材料>

本發明的導電材料所具有的支撐體雖未特別限定，但在將導電材料使用於觸控面板感測器等的需要透光性之用途的情況，因為對於導電材料要求透明性，因此支撐體較佳係具有透光性。作為具有透光性的支撐體，可例示：聚乙烯、聚丙烯等的聚烯烴系樹脂，聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等的氯乙烯系樹脂，環氧樹脂、聚芳酯、聚碸、聚醚碸、聚醯亞胺、氟樹脂、苯氧樹脂、三乙醯基纖維素、聚對苯二甲酸乙二酯、聚醯亞胺、聚苯硫醚、聚萘二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、丙烯酸樹脂、賽珞凡(cellophane)、尼龍、聚苯乙烯系樹脂、ABS樹脂等的各種樹脂膜，石英玻璃、無鹼玻璃等的玻璃等。支撐體的總透光率較佳為60%以上，特佳為70%以上，支撐體的霧度若為0至3%則導電材料的透明性優良，因而較佳，支撐體的霧度特佳為0至2%。支撐體係在具有透光性導電層之側的面，或是在與具有透光性導電層之側的面相反側的面，亦可具有易接著層、硬塗層、抗反射層、防眩層、具有ITO或聚噻吩等的非金屬系導電材料的層等習知的層。

本發明中，構成網格狀金屬銀細線圖案的金屬銀細線的金屬組成中，相對於金屬總量，銀的質量比較佳為50質量%以上，更佳為80質量%以上，特佳為90質量%以上。又，構成金屬銀細線的黏結劑成分的質量比較佳為小於20質量%，更佳為小於10質量%。如同先前技術的段落中所記載，金屬銀細線可得到高導電性，但另一方面電阻值會隨著太陽光照射而變動或因為網格狀金屬銀細線圖案之間的離子遷移導致導電材料的可靠度大幅降低，因此在這樣的情況，本發明尤其有效。

在支撐體上形成網格狀金屬銀細線圖案的方法未特別限定，例如，可例示：依照日本特開2015-69877號公報所揭示之方法，藉由將具有金屬及黏結劑的導電性金屬印墨或導電性糊印刷於支撐體上等的方法而形成網格狀金屬銀細線圖案的方法；依照日本特開2007-59270號公報所揭示之方法，使用在支撐體上設置鹵化銀乳劑層的銀鹽感光材料作為導電材料前驅物，並使用硬化顯影方式形成網格狀金屬銀細線圖案的方法；依照日本特開2004-221564號公報、日本特開2007-12314號公報等所揭示之方法，使用在支撐體上設置鹵化銀乳劑層的銀鹽感光材料作為導電材料前驅物，並使用直接顯影的方式形成網格狀金屬銀細線圖案的方法；依照日本特開2003-77350號公報、日本特開2005-250169號公報、日本特開2007-188655號公報、日本特開2004-207001號公報等所揭示之方法，使用在支撐體上依序至少具有物理顯影核層、鹵化銀乳劑層的銀鹽感光材料作為導電材料前驅物，並使可溶性銀鹽形成劑及還原劑在鹼溶液中作用，亦即所謂的銀鹽擴散轉印法而形成網格狀金屬銀細線圖案的方法；依照日本特開2014-197531號公報所揭示之方法，使用在支撐體上積層底層、感光性光阻層的感光性光阻材料作為導電材料前驅物，將感光性光阻層曝光為任意的圖案狀後進行顯影而形成光阻圖像後，實施無電鍍覆，在未被光阻圖像被覆的底層上使金屬局部化，之後去除光阻圖像，而形成網格狀金屬銀細線圖案的方法；依照日本特開2015-82178號公報揭示之方法，在支撐體上設置金屬膜、光阻膜，使該光阻膜曝光及顯影而形成開口部，將該開口部的金屬膜蝕刻去除，以形成網格狀金屬銀細線圖案的方法；依照日本特開2012-28183號公報揭示之方法，在支撐體上形成含有金屬奈米線的層，使該層圖案化而形成網格狀金屬銀細線圖案的方法等。

上述方法之中，使用銀鹽感光材料作為導電材料前驅物的方法，及使用感光性光阻材料作為導電材料前驅物的方法，可輕易形成含有導電性優良之銀的網格狀金屬銀細線圖案，因而較佳，由於金屬銀細線的細微化容易，特佳之方法為使用銀鹽感光材料作為導電材料前驅物的銀鹽擴散轉印法。

本發明中，透光性導電層亦可在以含有銅之金屬鹽的處理液進行處理的前後，實施習知的金屬表面處理。例如，亦可使日本特開2008-34366號公報記載的還原性物質、水溶性磷含氧酸(phosphorus oxoacid)化合物、水溶性鹵化物作用，亦可使日本特開2013-196779號公報記載的分子內具有2個以上驗基的三

或其衍生物作用，亦可如日本特開2011-209626號公報所記載，藉由硫化反應實施黑化處理。又，使用銀鹽感光材料作為導電材料前驅物而形成具有網格狀金屬銀細線圖案的透光性導電層的情況，從改善透光性導電層與黏著劑層之接著性的觀點來看，如日本特開2007-12404號公報中記載，以含有蛋白質分解酵素等酵素的處理液處理透光性導電層，亦可降低殘存的明膠等。

將本發明的導電材料用於觸控面板感測器的情況，較佳係以網格狀金屬銀細線圖案形成透光性導電層，從感測器的感度與辨識性(不易辨識性)等的觀點來看，較佳係該網格狀金屬銀細線圖案具有將複數單位格子(unit cell)配置成網格狀的幾何形狀。作為單位格子的形狀，例如，可列舉將正三角形、等邊三角形、直角三角形等的三角形，正方形、長方形、菱形、平行四邊形、梯形等的四角形，六角形、八角形、十二角形、二十角形等的n角形，星形等加以組合的形狀，又可列舉該等形狀的單獨重複或是2種以上的複數形狀之組合。其中，作為單位格子的形狀，較佳為正方形或菱形。又，以沃羅諾伊圖形或德洛涅圖形、彭羅斯點陣圖形等為代表的不規則幾何形狀亦為較佳的網格狀金屬銀細線圖案形狀之一。

將本發明的導電材料用於觸控面板感測器的情況，透光性導電層較佳係具有感測器部，該感測器部具有以網格狀金屬銀細線圖案所形成的複數感測器。又，從使該感測器部不顯眼(不易辨視性)的觀點來看，透光性導電層亦可具有與感測器電絕緣的虛擬部。又，透光性導電層，除了感測器部、虛擬部以外，亦可具有設置用以將電子信號擷取至外部的端子部、與感測器部及端子部電連接的周邊配線部。該端子部及周邊配線部可由網格狀金屬銀細線圖案所構成，亦可為填滿圖案。

本發明中，構成網格狀金屬銀細線圖案的金屬銀細線的線寬，從兼具透光性與導電性的觀點來看，較佳為1.0至20μm，更佳為1.5至15μm。網格狀金屬銀細線圖案具有將單位格子配置為網格狀的幾何形狀的情況，單位格子的重複週期較佳為100至1000μm，更佳為100至400μm。

在本發明之導電材料的具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面，或是另一側的面，隔著黏著劑層設有功能材料，可作為導電材料積層體。黏著劑層係指含有橡膠系黏著劑、丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、胺基甲酸酯系黏著劑等的習知黏著劑的層。黏著劑層的厚度為5至500μm，則導電材料積層體的透明性優良，因而較佳，更佳為10至250μm。從相同的觀點來看，黏著劑層的總透光率較佳為90%以上，特佳為95%以上，黏著劑層的霧度較佳為0至3%，特佳為0至2%。

作為黏著劑層，可使用日本特開平9-251159號公報、日本特開2011-74308號公報等例示之高透明性丙烯酸系黏著劑的光學用黏著膠帶，亦可使用日本特開2009-48214號公報、日本特開2010-257208號公報等例示的高透明性硬化型樹脂之硬化物。光學用黏著膠帶、高透明性硬化型樹脂市面上皆有販售，作為前者的光學用黏著膠帶有由住友3M(股)所販售的高透明性黏著劑轉印膠帶(8171CL/8172CL/8146-1/8146-2/8146-3/8146-4等)、由日東電工(股)所販售的光學用透明黏著片(LUCIACS(註冊商標)CS9622T/CS9862UA等)等，作為後者硬化物有由Dexerials(股)販售的光學彈性樹脂SVR(註冊商標)系列(SVR1150、 SVR1320等)、由協立化學產業(股)所販售的WORLD ROCK(註冊商標)系列(HRJ(註冊商標)-46，HRJ-203等)、由Henkel Japan(股)所販售的紫外線硬化型光學透明黏著劑Loctite(註冊商標)LOCA系列(Loctite3192、Loctite3193等)等，可取得該等產品以使用。

作為功能材料，可例示具有包含本發明之導電材料、化學強化玻璃、鈉玻璃、石英玻璃、無鹼玻璃等的玻璃、聚對苯二甲酸乙二酯等各種樹脂的膜，及在上述玻璃或膜的至少一面上具有硬塗層、抗反射層、防眩層、偏光層、ITO導電膜等習知功能層的材料。

[實施例1

以下，使用實施例詳細說明本發明，但本發明只要不超過其技術範圍，即不限於以下的實施例。

<導電材料1的製作>

作為支撐體，使用厚度100μm的聚對苯二甲酸乙二酯膜。另外，支撐體的總透光率為91.8%，霧度為0.7%。

接著，將下述組成的物理顯影核層塗液藉由凹版塗布均勻塗布於支撐體上並進行乾燥，藉此設置物理顯影核層。

<硫化鈀溶膠的調製>

將A液與B液一邊攪拌一邊混合，30分鐘後使其通過填充有離子交換樹脂的管柱，得到硫化鈀溶膠。

<物理顯影核層塗液/每一平方公尺>

接著，從接近支撐體之側，藉由斜板式塗布(slide coating)依序將下述組成之中間層、鹵化銀乳劑層及保護層均勻塗布於上述物理顯影核層之上並進行乾燥，得到導電材料前驅物。鹵化銀乳劑層所含有的鹵化銀乳劑，可由受控雙注法製造。該鹵化銀乳劑所含有的鹵化銀粒子，係以氯化銀為95mol%、溴化銀為5mol%、平均粒徑為0.15μm的方式調製。依照既定方法，使用硫代硫酸鈉與氯金酸，對上述所得之鹵化銀粒子進行金硫增感。如此所得之鹵化銀乳劑，每1g的銀含有0.5g的明膠以作為保護膠體(黏結劑)。

<中間層組成/每一平方公尺>

染料1

<鹵化銀乳劑層組成/每一平方公尺>

<保護層組成/1m²>

使導電材料前驅物與第1圖所示的正型透光原稿密合，以水銀燈作為光源的密合真空接觸式曝光機，隔著將400nm以下的光過濾掉的樹脂濾光片進行曝光。該正型透光原稿具有由網格狀圖案11與填滿圖案12、12’所構成的試驗圖案13(13a至13e的5條)。構成試驗圖案13的填滿圖案12與12’係透過線寬5.0μm、一邊長度300μm、銳角為60°的菱形單位格子所形成的網格狀圖案11連接。圖中，虛線表示後述功能材料的貼合區域20。之後，在下述擴散轉印顯影液中，於20℃浸漬60秒後，再以40℃的溫水進行水洗，以去除鹵化銀乳劑層、中間層及保護層，並進行乾燥處理。如此，得到導電材料1。另外，所得之導電材料1所具有的圖案形狀、線寬等，與前述正型透光原稿相同。

<擴散轉印顯影液組成>

以水使總量為1000mL，並將pH調整至12.2。

<導電材料2至9的製作>

將如上述所得之導電材料1，於40℃下浸漬於離子交換水中含有表1所示之金屬鹽的處理液1至8中1分鐘後，藉由淋浴水洗去除含有剩餘之金屬鹽的處理液，並進行乾燥，得到導電材料2至9。另外，藉由氯化銨將含有各金屬鹽之處理液的pH調整為5.0。藉由螢光X光分析測量導電材料2至9的金屬元素量，結果記載於表2。另外，在網格狀圖案部與不存在該圖案的非畫線部的兩處實施測量，惟該等之間並未發現明顯差異。

<導電材料10、11的製作>

在導電材料1上，藉由斜板式塗布，以乾燥後的金屬元素量為8mg/m²的方式，均勻塗布離子交換水中含有表1所示之金屬鹽的處理液9、10，並進行乾燥，分別得到導電材料10、11。

<導電材料12、13的製作>

在導電材料1上，以乾燥後的金屬元素量為13mg/m²的方式，均勻塗布離子交換水中含有表1所示之金屬鹽的處理液9、10，並進行乾燥，分別得到導電材料12、13。

<導電材料14、15的製作>

在導電材料1上，以乾燥後的金屬元素量為18mg/m²的方式，均勻塗布離子交換水中含有表1所示之金屬鹽的處理液9、10，並進行乾燥，分別得到導電材料14、15。

<積層體的製作>

分別針對導電材料1至15，在功能材料的貼合區域20貼合住友3M(股)製高透明性黏著劑轉印膠帶8146-4，使成為厚度100μm的黏著劑層。接著將EAGLE XG(註冊商標)(Corning Japan(股)製無鹼玻璃)作為功能材料而貼合於黏著劑層上，以製作積層體。

<電阻值評價>

分別針對5個積層體的試驗圖案13a至13e，測量填滿圖案12與12’之間的電阻值，分別得到試驗圖案13a至13e的初始電阻值Ra至Re(單位：kΩ)。接著，對於積層體，使用SUGA試驗機(股)製氙氣耐候儀NX15，照射氙氣燈光(具有與太陽光類似之光譜分布的光)1000小時。條件依照JIS K7350-2，使放射照度為60W/m²(波長300nm至400nm)，槽內溫度為38℃，槽內濕度為50%RH，黑板溫度為63℃。照射結束後，針對5個試驗圖案13a至13e分別再次測量電阻值，得到電阻值R’a至R’e(單位：kΩ)。接著依照下式，分別對於各試驗圖案(試驗圖案13a至13e)，算出照射氙氣燈光前後的電阻值變化率(單位：%)，再將試驗圖案13a至13e的電阻值變化率加以平均，作為導電材料1至15的平均電阻值變化率(單位：%)。該結果顯示於表2。

試驗圖案13x的電阻值變化率(單位：%)若為Rav.，則Rav.={(R’x-Rx)/Rx}×100(式中x表示a至e)

從表2的結果可判斷本發明的有效性。

在導電材料2的製作中，使用乙酸銅一水合物代替含有金屬鹽的處理液1所含有的硫酸銅五水合物，除此之外，相同地操作得到導電材料2’。與前述導電材料1至15同樣地對該導電材料2’進行電阻值評價，得到與導電材料2相同的結果。

<導電材料A的製作>

使前述導電材料前驅物與具有網格狀細線圖案、周邊配線圖案、端子圖案的正型透光原稿密合，藉由以水銀燈作為光源的密分式曝光機，隔著將400nm以下的光過濾掉的樹脂濾光片進行曝光。之後，在先前記載的擴散轉印顯影液中，於20℃浸漬60秒後，接著以40℃的溫水進行水洗以去除鹵化銀乳劑層、中間層及保護層，再進行乾燥處理。藉此得到第2圖所示的導電材料A。

<導電材料A的構成>

導電材料A中，感測器部31(圖中為中央部8個)、周邊配線32(圖中，左側8條，右側8條)、端子33(圖中，左側8個，右側8個)的所有部分皆相當於導電性金屬銀細線圖案。另外，導電材料A中感測器部31，係由線寬4.5μm、一邊長度300μm、銳角為60°的菱形單位格子所構成之網格狀金屬銀細線圖案所形成，周邊配線32、端子33皆為實心圖案(填滿圖案)。周邊配線32的線寬皆為20μm，鄰接的周邊配線之間的最短距離為20μm。另外，該等的值皆與上述正型透光原稿相同。使用共焦顯微鏡(LaserTec(股)製，OPTELICS(註冊商標)C130)觀察的結果，感測器部31所具有的網格狀金屬銀細線圖案的厚度及周邊配線32、端子33的厚度皆為0.10μm。第2圖中的虛線表示後續製作之積層體所具有的黏著劑層的外緣34，導電材料A上並不存在該虛線。

<導電材料16至23的製作>

將如上述所得之導電材料A，於40℃下分別浸漬於離子交換水中含表3所示之成分的處理液11至18中1分鐘後，藉由淋浴水洗去除剩餘處理液，並進行乾燥，得到導電材料16至23。另外，使用磷酸、磷酸氫二鉀、磷酸三鉀之任一者將各處理液的pH調整至7.5。以螢光X光分析所測量之導電材料16至23的具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面的銅元素量並記載於表4。另外，在網格狀圖案部與不存在該圖案的非畫線部之兩處實施測量，惟該等之間未發現明顯差異。

<積層體的製作>

在導電材料16至23上被第2圖所示的外緣34圍住的區域，貼合住友3M(股)製高透明性黏著劑轉印膠帶8146-4。接著將EAGLE XG(註冊商標)(Corning Japan(股)製無鹼玻璃)作為功能材料貼合於黏著劑層上，製作積層體16至23。

<離子遷移評價>

在85℃、相對濕度85%的環境下，分別投入積層體16至23各1片。在該環境下，使用遷移測試儀(IMV(股)製MIG-8600B)，在各積層體的奇數端子(33-1、33-3等)與偶數端子(33-2、33-4等)之間施加1V的電壓24小時。藉由遷移測試儀所附的軟體，記錄施加電壓的過程中，奇數端子與偶數端子之間發生短路的狀況，在共發生10次短路的情況下，則自動停止對於該導電材料積層體施加電壓。電壓施加結束後，使用共焦顯微鏡，觀察被黏著劑層被覆的周邊配線的樣子。以下述基準實施離子遷移評價。

離子遷移評價基準

「5」：未發生短路，亦完全未觀察到金屬的溶出或析出。

「4」：未發生短路，稍微觀察到金屬的溶出或析出。

「3」：未發生短路，觀察到金屬的溶出或析出。

「2」：發生短路1次以上、小於10次。

「1」：發生短路10次，途中自動停止。

離子遷移評價結果顯示於表5。

<電阻值評價>

將前述導電材料前驅物與先前第1圖所示的正型透光原稿密合，進行曝光，之後進行顯影、水洗並進行乾燥，將所得之導電材料1於40℃下分別浸漬於前述含有金屬鹽之處理液11至18之中1分鐘。之後，以淋浴水洗去除剩餘處理液，並進行乾燥，得到導電材料16’至23’。如此所得之導電材料16’至23’所具有的圖案的形狀、線寬等，與該正型透光原稿相同。另外，使用磷酸、磷酸氫二鉀、磷酸三鉀之任一者將各金屬鹽含有處理液的pH調整為7.5。

<積層體的製作>

分別針對導電材料16’至23’，在功能材料的貼合區域20貼合住友3M(股)製高透明性黏著劑轉印膠帶8146-4，作成厚度100μm的黏著劑層。接著將EAGLE XG(註冊商標)(Corning Japan(股)製無鹼玻璃)作為功能材料而貼合於黏著劑層上，以製作積層體。之後，與先前的電阻值評價相同，算出氙氣燈光照射前後的電阻值變化率(單位：%)，再將試驗圖案13a至13e的電阻值變化率加以平均，算出導電材料16’至23’的平均電阻值變化率(單位：%)，皆未超過2.0%。

從上述結果可判斷藉由使含有銅之金屬鹽的處理液更含有羥酸，除了可抑制電阻值隨著太陽光照射而變動以外，更可抑制離子遷移。

Claims

一種導電材料，係在支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料，且在該導電材料的具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面，更具有1mg/m²以上15mg/m²以下的銅元素。
一種處理方法，係用於得到申請專利範圍第1項所述之導電材料的處理方法，係以含有0.0001mol/L以上0.4mol/L以下的銅之金屬鹽且pH為2至9的處理液，對於支撐體上具有網格狀金屬銀細線圖案的導電材料之具有網格狀金屬銀細線圖案之側的面進行處理。
如申請專利範圍第2項所述之處理方法，其中，含有銅之金屬鹽的處理液更包含羥酸。