JP2015032183A - タッチパネルセンサ部材 - Google Patents
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Abstract
【課題】透明基材の少なくとも一方の側の面上にセンサ電極と取出配線を有するタッチパネルセンサ部材において、取出配線が形成された面を目視により容易に確認することができるタッチパネルセンサ部材を提供する。
【解決手段】タッチパネルセンサ部材は、センサ電極2が透明導電体により構成され取出配線3が導電性金属により構成されるものであり、取出配線上に形成された光干渉層4は、取出配線上で光干渉作用が生じるように透明導電体により構成される。
【選択図】図3
【解決手段】タッチパネルセンサ部材は、センサ電極2が透明導電体により構成され取出配線3が導電性金属により構成されるものであり、取出配線上に形成された光干渉層4は、取出配線上で光干渉作用が生じるように透明導電体により構成される。
【選択図】図3
Description
本発明は、タッチパネルセンサ部材に関するものである。
近年、タッチパネルは、タッチ操作による接触位置を検出する入力手段として、液晶表示装置等との組合せにより携帯電話、ゲーム機、電子書籍リーダーなどのポータブルデバイス、自動販売機、パーソナルコンピューターなど種々の製品に展開されている。
タッチパネルのタッチパネルセンサは、センサ電極とその周縁に配設された取出配線から構成されており、センサ電極は、表示装置の表示領域に対応する領域に透明導電体により形成されている。従来、取出配線はタッチパネルの非アクティブ領域に対応する領域に形成されており、導電性ペースト等により形成され、最近では、センサ電極からの電気的応答を速やかにするよう導電性の高い材料として導電性金属が採用されつつある。
特許文献1には、透明なフレキシブル基板、前記透明なフレキシブル基板上に形成された透明導電膜、金属もしくは金属合金からなる配線、及び前記透明導電膜と前記配線を接続するための電極を含むタッチセンサーが提案されている。
一方、タッチパネルの生産工程において、取出配線は接続配線回路を介して制御部に接続される工程では、取出配線の端子を有する面と、接続配線回路の端子を有する面とを目視により判別して対向させて重ね合わせ、その後加熱加圧により接着して電気的接続を行う方法が採用されている。
しかしながら、特許文献1のようなタッチセンサーにおいては、取出配線が金属もしくは金属合金により形成されており、配線自体の色調が基材との差が小さい傾向があり、そのため目視によってそのパターンを確認することが困難となり易い。そのため、取出配線形成面とその反対側の取出配線が形成されていない面とを取り違えられて、例えばタッチセンサーの情報端末機器への組込時に、取出配線の端子と外部接続配線の端子とが合致しないで接続不良となり、生産性を低下させる原因となる等の問題があった。
特許文献1には、透明なフレキシブル基板、前記透明なフレキシブル基板上に形成された透明導電膜、金属もしくは金属合金からなる配線、及び前記透明導電膜と前記配線を接続するための電極を含むタッチセンサーが提案されている。
一方、タッチパネルの生産工程において、取出配線は接続配線回路を介して制御部に接続される工程では、取出配線の端子を有する面と、接続配線回路の端子を有する面とを目視により判別して対向させて重ね合わせ、その後加熱加圧により接着して電気的接続を行う方法が採用されている。
しかしながら、特許文献1のようなタッチセンサーにおいては、取出配線が金属もしくは金属合金により形成されており、配線自体の色調が基材との差が小さい傾向があり、そのため目視によってそのパターンを確認することが困難となり易い。そのため、取出配線形成面とその反対側の取出配線が形成されていない面とを取り違えられて、例えばタッチセンサーの情報端末機器への組込時に、取出配線の端子と外部接続配線の端子とが合致しないで接続不良となり、生産性を低下させる原因となる等の問題があった。
透明基材の少なくとも一方の側の面上にセンサ電極と取出配線を有するタッチパネルセンサ部材において、取出配線が形成された面を目視により容易に確認することができ、これを用いるタッチパネル組立工程の生産性を向上させることが求められている。
上記の問題を解決する第1の発明の要旨は、透明基材の少なくとも一方の側の面上に、センサ電極と取出配線を有するタッチパネルセンサ部材であって、前記センサ電極は、透明導電体により構成されるものであり、前記取出配線は、導電性金属により構成されるものであり、前記取出配線上の少なくとも一部に、光干渉層を有し、前記光干渉層は、前記取出配線上で光干渉作用が生じるように前記透明導電体により構成されるものであることを特徴とするものである。
上記の問題を解決する第2の発明の要旨は、第1の発明に記載のタッチパネルセンサ部材において、前記光干渉層は、前記光干渉層を有する前記取出配線の色と前記取出配線のみの色との色差が13.0以上となるように構成されるものであることを特徴とするものである。
上記の問題を解決する第3の発明の要旨は、第1〜2の発明のいずれかの発明に記載のタッチパネルセンサ部材において、前記透明導電体は、インジウム錫オキサイド(ITO)、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化インジウム(InO2)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物及びそれらの金属酸化物に微量の金属を添加したものとして、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)の1種または2種以上を組み合わせたものであることを特徴とするものである。
上記の問題を解決する第4の発明の要旨は、第1〜3の発明のいずれかの発明に記載のタッチパネルセンサ部材において、前記導電性金属は、金、銀、銅、鉄、白金、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、クロムの金属のうち1種の金属、または2種以上を組み合わせた合金であることを特徴とするものである。
上記の問題を解決する第2の発明の要旨は、第1の発明に記載のタッチパネルセンサ部材において、前記光干渉層は、前記光干渉層を有する前記取出配線の色と前記取出配線のみの色との色差が13.0以上となるように構成されるものであることを特徴とするものである。
上記の問題を解決する第3の発明の要旨は、第1〜2の発明のいずれかの発明に記載のタッチパネルセンサ部材において、前記透明導電体は、インジウム錫オキサイド(ITO)、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化インジウム(InO2)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物及びそれらの金属酸化物に微量の金属を添加したものとして、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)の1種または2種以上を組み合わせたものであることを特徴とするものである。
上記の問題を解決する第4の発明の要旨は、第1〜3の発明のいずれかの発明に記載のタッチパネルセンサ部材において、前記導電性金属は、金、銀、銅、鉄、白金、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、クロムの金属のうち1種の金属、または2種以上を組み合わせた合金であることを特徴とするものである。
本発明によれば、上記の如くのタッチパネルセンサ部材であることを特徴とするので、センサ電極と取出配線を有するタッチパネルセンサ部材において、形成された取出配線を目視により確認することができ、例えばタッチパネルの情報端末機器への組込時にタッチパネルセンサ部材の取出配線と外部接続配線の端子の面とを重ね合わせて、取出配線の外部端子との接続を間違いなく行える効果がある。
以下に本発明を実施するための形態について、図面を用いて説明する。
図1は、本発明のタッチパネルセンサ部材を用いた情報端末装置の一実施形態を示すための図である。図1(a)は、その情報端末装置の構成を示す概略斜視図である。図1(b)は、同じく情報端末装置の構成を示す概略断面図である。
図1(a)に示すように、情報端末装置100は、タッチパネル装置20と表示装置30とが組み合わされて構成されている。
表示装置30は、例えば液晶表示パネルのように、表示情報を表示する表示パネルと表示情報を制御する表示制御部60からなる。
タッチパネル装置20は、表示装置30の表示面の位置情報を検出するタッチパネルセンサ部材と位置情報の検出を制御する検出制御部50からなるものである。
図1(b)に示すように、情報端末装置100は、表示装置30の上にタッチパネル装置20が組み込まれて構成されている。このタッチパネル装置20は、静電容量結合方式であり、2枚のタッチパネルセンサ部材10,10’が積層され、その上にカバーシート40が積層されて構成されている。
表示装置30は、例えば液晶表示パネルのように、表示情報を表示する表示パネルと表示情報を制御する表示制御部60からなる。
タッチパネル装置20は、表示装置30の表示面の位置情報を検出するタッチパネルセンサ部材と位置情報の検出を制御する検出制御部50からなるものである。
図1(b)に示すように、情報端末装置100は、表示装置30の上にタッチパネル装置20が組み込まれて構成されている。このタッチパネル装置20は、静電容量結合方式であり、2枚のタッチパネルセンサ部材10,10’が積層され、その上にカバーシート40が積層されて構成されている。
図2は、タッチパネルセンサ部材を示す平面図であって、図2(a)にタッチパネルセンサ部材10を示し、図2(b)にタッチパネルセンサ部材10’を示すものである。
タッチパネルセンサ部材10とタッチパネルセンサ部材10’とは、図1(b)の情報端末装置100に示されるように、組み合わされてタッチパネル装置20を構成するものである。
図2(a)に示すタッチパネルセンサ部材10は、透明基材1上にセンサ電極2を有するアクティブ領域(図中の二点鎖線で囲まれた矩形状の領域)と、取出配線3を有する非アクティブ領域(図中のパネル外形と二点鎖線で囲まれた額縁状の領域)とで構成されている。
アクティブ領域は、タッチパネルのタッチ位置が検出される領域に対応するものであって組み合わされる表示装置の表示領域に対面する領域である。一方、非アクティブ領域は、アクティブ領域を囲む額縁状の領域であって、表示装置の非表示領域に対面する領域である。
タッチパネルセンサ部材10とタッチパネルセンサ部材10’とは、図1(b)の情報端末装置100に示されるように、組み合わされてタッチパネル装置20を構成するものである。
図2(a)に示すタッチパネルセンサ部材10は、透明基材1上にセンサ電極2を有するアクティブ領域(図中の二点鎖線で囲まれた矩形状の領域)と、取出配線3を有する非アクティブ領域(図中のパネル外形と二点鎖線で囲まれた額縁状の領域)とで構成されている。
アクティブ領域は、タッチパネルのタッチ位置が検出される領域に対応するものであって組み合わされる表示装置の表示領域に対面する領域である。一方、非アクティブ領域は、アクティブ領域を囲む額縁状の領域であって、表示装置の非表示領域に対面する領域である。
センサ電極2は、その配列方向と直交する方向に沿って直線状に形成されている。 図2(a)では、センサ電極2は図面の左右方向に延びる点線で示されている。
取出配線3は、センサ電極2の周囲を引き回すように形成され、一方の端部は透明基材1の一辺に集められている。この取出配線3の端部には、制御部など外部装置と接続するための端子(図示せず)が形成されている。
図2(b)に示すタッチパネルセンサ部材10’は、透明基材1’上にセンサ電極2’を有するアクティブ領域と、取出配線3’を有する非アクティブ領域とで構成されている。
センサ電極2’は、その配列方向と直交する方向に沿って直線状に形成されている。 図2(b)では、センサ電極2’は図面の縦方向に延びる点線で示されており、図2(a)のタッチパネルセンサ部材10と組み合わせた場合に、センサ電極2とセンサ電極2’とは直交するように形成されている。
ここで図2(a)及び(b)におけるセンサ電極2及び2’は、センサ電極2の電極の形状としては、例えば帯状や、直線部の途中に複数の菱形状に膨らんだ部分を有するものなどが用いられる。また、センサ電極の本数、及び取出配線の本数については適宜決められるものであり、図に示すものに限定されない。
取出配線3は、センサ電極2の周囲を引き回すように形成され、一方の端部は透明基材1の一辺に集められている。この取出配線3の端部には、制御部など外部装置と接続するための端子(図示せず)が形成されている。
図2(b)に示すタッチパネルセンサ部材10’は、透明基材1’上にセンサ電極2’を有するアクティブ領域と、取出配線3’を有する非アクティブ領域とで構成されている。
センサ電極2’は、その配列方向と直交する方向に沿って直線状に形成されている。 図2(b)では、センサ電極2’は図面の縦方向に延びる点線で示されており、図2(a)のタッチパネルセンサ部材10と組み合わせた場合に、センサ電極2とセンサ電極2’とは直交するように形成されている。
ここで図2(a)及び(b)におけるセンサ電極2及び2’は、センサ電極2の電極の形状としては、例えば帯状や、直線部の途中に複数の菱形状に膨らんだ部分を有するものなどが用いられる。また、センサ電極の本数、及び取出配線の本数については適宜決められるものであり、図に示すものに限定されない。
図3は、本発明のタッチパネルセンサ部材の一実施形態を示す部分拡大図である。
図3により、センサ電極と、センサ電極に接続される取出配線と、取出配線の上に光干渉層が積層されるタッチパネルセンサ部材の配置構成について説明する。
図3(a)は、図2(a)に示すタッチパネルセンサ部材10において、円形領域Yで囲まれた部分を拡大して示す平面図である。図3(b)は、図3(a)におけるA−A線の断面図である。また、図3(c)は、図3(a)におけるB−B線の断面図である。
図3により、センサ電極と、センサ電極に接続される取出配線と、取出配線の上に光干渉層が積層されるタッチパネルセンサ部材の配置構成について説明する。
図3(a)は、図2(a)に示すタッチパネルセンサ部材10において、円形領域Yで囲まれた部分を拡大して示す平面図である。図3(b)は、図3(a)におけるA−A線の断面図である。また、図3(c)は、図3(a)におけるB−B線の断面図である。
図3(a)に示すように、透明基材1の上に、センサ電極2と取出配線3とが設けられている。センサ電極2は、配列方向と直交する方向に、即ち、図3(a)の左右方向に3本延びている。また、センサ電極2は、その延びる方向に複数の菱形の膨出部を有する形状をしている。
図3(a)のセンサ電極2の3本のうち2本の一方の端の各々は、取出配線3に接続されている。センサ電極2と取出配線3とは電気的に接続されている。
図3(a)のセンサ電極2の3本のうち2本の一方の端の各々は、取出配線3に接続されている。センサ電極2と取出配線3とは電気的に接続されている。
透明基材1は、透明性および絶縁性を有しているものであれば使用できる。
透明基材1の材料としては、ガラスやポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート等の合成樹脂を使用することができる。
透明基材1としてフレキシブルなフィルム状のものを使用した場合には、大型のタッチパネルの製作に適している。
透明基材1の上にアンカー層を形成してもよい。アンカー層としては、透明基材1との密着性、及びセンサ電極や取出配線との密着性がよいものであって、センサ電極や取出配線のパターン形成工程で使用される液体に対して溶解又は膨潤しないものであればよい。
アンカー層の材料としては、熱可塑性樹脂、二液硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂など適宜使用することができる。
透明基材1の材料としては、ガラスやポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート等の合成樹脂を使用することができる。
透明基材1としてフレキシブルなフィルム状のものを使用した場合には、大型のタッチパネルの製作に適している。
透明基材1の上にアンカー層を形成してもよい。アンカー層としては、透明基材1との密着性、及びセンサ電極や取出配線との密着性がよいものであって、センサ電極や取出配線のパターン形成工程で使用される液体に対して溶解又は膨潤しないものであればよい。
アンカー層の材料としては、熱可塑性樹脂、二液硬化型樹脂、電離放射線硬化型樹脂など適宜使用することができる。
センサ電極2は、透明性および導電性を有するパターン状の電極として透明基材1上に形成できるものが使用され、透明導電体により構成されるものである。
透明導電体の材料としては、例えば、インジウム錫オキサイド(ITO)、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化インジウム(InO2)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物及びそれらの金属酸化物に微量の金属を添加したものとして、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)の1種または2種以上を組み合わせたものなどを用いることができる。
センサ電極2の形成方法としては、物理蒸着法及び液相成膜法の少なくともいずれか一方の方法により透明導電体層を形成し、印刷法やフォトリソ法などによりパターン状に形成することができる。
透明導電体の材料としては、例えば、インジウム錫オキサイド(ITO)、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化インジウム(InO2)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物及びそれらの金属酸化物に微量の金属を添加したものとして、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)の1種または2種以上を組み合わせたものなどを用いることができる。
センサ電極2の形成方法としては、物理蒸着法及び液相成膜法の少なくともいずれか一方の方法により透明導電体層を形成し、印刷法やフォトリソ法などによりパターン状に形成することができる。
図3(a)に示すように、取出配線3は、センサ電極2とタッチパネルセンサ部材の基板外部に制御部とを接続するため配線であり、センサ電極2の周囲を引き回して基板の一辺側に収束されている。
取出配線3の上には光干渉層4が形成されている。図3(a)の実施形態では、光干渉層4は取出配線3の上に同じ形状で積層されている。
取出配線3の上には光干渉層4が形成されている。図3(a)の実施形態では、光干渉層4は取出配線3の上に同じ形状で積層されている。
取出配線3は、導電性が高くパターン状の電極として基材上に形成できるものが使用できるもので、導電性金属により構成されるものである。
導電性金属としては、金、銀、銅、鉄、白金、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、クロムの金属のうち1種の金属、または2種以上を組み合わせた合金を用いることができる。
取出配線3の形成方法としては、物理蒸着法及び液相成膜法の少なくともいずれか一方の方法により透明導電体層を形成し、印刷法やフォトリソ法などによりパターン状に形成することができる。
導電性金属としては、金、銀、銅、鉄、白金、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、クロムの金属のうち1種の金属、または2種以上を組み合わせた合金を用いることができる。
取出配線3の形成方法としては、物理蒸着法及び液相成膜法の少なくともいずれか一方の方法により透明導電体層を形成し、印刷法やフォトリソ法などによりパターン状に形成することができる。
図3(b)に示すように、図中の右側部分では、透明基材1の上にセンサ電極2が積層されており、図中の左側部分では、同じ透明基材1の上に取出配線3と更にその上に光干渉層4が積層されている。
また、図3(c)に示すように、透明基材1の上に4つの凸状部分を有し、その凸状部分は取出配線3上に光干渉層4が積層されている。
また、図3(c)に示すように、透明基材1の上に4つの凸状部分を有し、その凸状部分は取出配線3上に光干渉層4が積層されている。
光干渉層4は、取出配線3上で光干渉作用が生じるように構成されるものである。
透明基材1に取出配線3と光干渉層4とを有する側から、観測者が目視した場合に、光干渉層4を有する取出配線3の色は、光干渉作用によって、取出配線3のみの色とは異なりそのパターンを瞬時に判別できるように構成されている。
光干渉作用は、光干渉層4の表面、即ち透明基材1側と反対側の面で反射された光と、取出配線3の層との界面で反射された光が互いに干渉し合って、特定の波長の光を強め合い打ち消しあう作用である。したがって、取出配線3を構成する導電性金属がもつ固有の色は、界面で反射された光と光干渉層4の表面との光干渉作用によって異なる色に変化する。
透明基材1に取出配線3と光干渉層4とを有する側から、観測者が目視した場合に、光干渉層4を有する取出配線3の色は、光干渉作用によって、取出配線3のみの色とは異なりそのパターンを瞬時に判別できるように構成されている。
光干渉作用は、光干渉層4の表面、即ち透明基材1側と反対側の面で反射された光と、取出配線3の層との界面で反射された光が互いに干渉し合って、特定の波長の光を強め合い打ち消しあう作用である。したがって、取出配線3を構成する導電性金属がもつ固有の色は、界面で反射された光と光干渉層4の表面との光干渉作用によって異なる色に変化する。
光干渉層4は、好ましくは光干渉層4を有する取出配線3の色と前記取出配線3のみの色との色差が13.0以上となるように構成されるものである。
上記のような色の違いを判別する方法は目視により行えるが、この方法では個人差があるので生産管理上には適さない。
一般に、物体色については、L*a*b*表色系の規定(JISZ8729)に基づいた測色器により測定されたL*、a*、 b*の値を用い、二つの物体の色の違いは、各物体のL*a*b*値から計算により求められた色差ΔE*を用いて判断される。
本発明においては、透明基材1の少なくとも一方の側の面上にセンサ電極2と取出配線3を有するタッチパネルセンサ部材において、取出配線3が形成された面を目視により容易に確認することができることが求められている。したがって、観測者が、例えばタッチパネル組立工程において取出配線3の形成面を一見して判別できることが必要である。
そのためには、取出配線3のみが透明基材1上に形成されていた場合に判別できない状態であるので、光干渉層4を有する取出配線3が形成された場合には、一見してその色が他の色と区別できる色であり、前記取出配線3のみの色と一見して区別できる色である基準が必要である。
本発明では、取出配線3上に光干渉層4の膜厚を変えて形成して、観測者の目視により判別できる色差を求めた結果、光干渉層4は、光干渉層4を有する取出配線3の色と前記取出配線3のみの色との色差ΔE*が13.0以上となるように形成することが好ましいことが認められた。
したがって、光干渉層4は、光干渉層4を有する取出配線3の色と前記取出配線3のみの色との色差が13.0以上となるように構成されることが好ましい。
上記のような色の違いを判別する方法は目視により行えるが、この方法では個人差があるので生産管理上には適さない。
一般に、物体色については、L*a*b*表色系の規定(JISZ8729)に基づいた測色器により測定されたL*、a*、 b*の値を用い、二つの物体の色の違いは、各物体のL*a*b*値から計算により求められた色差ΔE*を用いて判断される。
本発明においては、透明基材1の少なくとも一方の側の面上にセンサ電極2と取出配線3を有するタッチパネルセンサ部材において、取出配線3が形成された面を目視により容易に確認することができることが求められている。したがって、観測者が、例えばタッチパネル組立工程において取出配線3の形成面を一見して判別できることが必要である。
そのためには、取出配線3のみが透明基材1上に形成されていた場合に判別できない状態であるので、光干渉層4を有する取出配線3が形成された場合には、一見してその色が他の色と区別できる色であり、前記取出配線3のみの色と一見して区別できる色である基準が必要である。
本発明では、取出配線3上に光干渉層4の膜厚を変えて形成して、観測者の目視により判別できる色差を求めた結果、光干渉層4は、光干渉層4を有する取出配線3の色と前記取出配線3のみの色との色差ΔE*が13.0以上となるように形成することが好ましいことが認められた。
したがって、光干渉層4は、光干渉層4を有する取出配線3の色と前記取出配線3のみの色との色差が13.0以上となるように構成されることが好ましい。
光干渉層4を構成する透明導電体の材料としては、センサ電極の材料と同様に、例えば、インジウム錫オキサイド(ITO)、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化インジウム(InO2)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物及びそれらの金属酸化物に微量の金属を添加したものとして、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)の1種または2種以上を組み合わせたものなどを用いることができる。
光干渉層4は、2層以上の多層膜により形成されたものであってもよい。例えば2層の場合、上記に挙げられた透明導電体のうち、1種で構成された層と、それとは屈折率が異なる種で構成された層との多層膜を光干渉層4として用いることができる。3層以上の場合も同様に上記に挙げられた透明導電体から適宜選択して用いることができる。
光干渉層4の膜厚は、5nm〜100nmの範囲で採用することができる。光干渉作用が生じる最適な膜厚は、透明導電体の材料の屈折率と反射分光波長によって異なり適宜決定される。
光干渉層4の形成方法としては、センサ電極2の形成方法と同様に、物理蒸着法及び液相成膜法の少なくともいずれか一つの方法により形成することができ、印刷法やフォトリソ法などによりパターン状に形成することができる。
光干渉層4を形成する工程は、センサ電極2を形成する工程とは切り離して単独で行えるが、光干渉層4とセンサ電極2の各々が構成する透明導電体として同じ材料を用いる場合には、透明導電体の膜形成とパターニングの工程を共通の設備で同時に行うことができる。工程短縮の効果が得られる。
光干渉層4を形成する工程は、センサ電極2を形成する工程とは切り離して単独で行えるが、光干渉層4とセンサ電極2の各々が構成する透明導電体として同じ材料を用いる場合には、透明導電体の膜形成とパターニングの工程を共通の設備で同時に行うことができる。工程短縮の効果が得られる。
光干渉層4は、必ずしも取出配線3上の全面や、またセンサ電極2と連続して形成される必要がなく、目視により取出配線3の有無を判別し易ければ、部分的であっても、またセンサ電極2と離間して形成されていてもよい。
次に、上記のタッチパネルセンサ部材の実施態様と異なる構成の実施態様について説明する。
本発明のタッチパネルセンサ部材として、上記の実施態様以外のものにも適用できる。
上記のような2つタッチパネルセンサ部材を重ね合わせて1つのタッチパネル装置を構成するものの外に、1枚の透明基材の両面に各々センサ電極と取出配線を有する両面型のものや、1枚の透明基材の片面に直交するセンサ電極と取出配線を有するブリッジ型のもの等にも、上記の実施態様と同様に取出配線の少なくとも一部分上に、取出配線の表面と光干渉作用が生じるように形成された透明導電体を材料とする少なくとも一層以上の光干渉層を有する構成を適用することができる。
上記のような2つタッチパネルセンサ部材を重ね合わせて1つのタッチパネル装置を構成するものの外に、1枚の透明基材の両面に各々センサ電極と取出配線を有する両面型のものや、1枚の透明基材の片面に直交するセンサ電極と取出配線を有するブリッジ型のもの等にも、上記の実施態様と同様に取出配線の少なくとも一部分上に、取出配線の表面と光干渉作用が生じるように形成された透明導電体を材料とする少なくとも一層以上の光干渉層を有する構成を適用することができる。
タッチパネルセンサ部材の両面型の実施態様は、誘電体部である透明基材の一方の側の面のアクティブ領域に設けられた第1のセンサ電極と、第1のセンサ電極の一端と接続し第1のセンサ電極の周囲を引き回してなる非アクティブ領域に設けられた第1の取出配線とを有している。
上記透明基材の他方の側の面のアクティブ領域に設けられた第2のセンサ電極と、第2のセンサ電極の一端と接続し第2のセンサ電極の周囲を引き回してなる非アクティブ領域に設けられた第2の取出配線とを有している。
第1のセンサ電極及び第2のセンサ電極は、各々の配列方向と直交する方向に沿って直線状に延びており、第1のセンサ電極と第2のセンサ電極の方向は、透明基材の平面視上互いに交差するように形成されている。
第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の配線パターンの上に、光干渉層が第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の表面と光干渉作用が生じるように形成されている。
したがって、透明基材において取出配線とその上に設けられた光干渉層を有する側から、取出配線パターンを目視した場合に、光干渉作用によって反射光のピークを長波長側に偏らせて波長変調を与えることによって、目視により表裏が判別し易くなる。
上記透明基材の他方の側の面のアクティブ領域に設けられた第2のセンサ電極と、第2のセンサ電極の一端と接続し第2のセンサ電極の周囲を引き回してなる非アクティブ領域に設けられた第2の取出配線とを有している。
第1のセンサ電極及び第2のセンサ電極は、各々の配列方向と直交する方向に沿って直線状に延びており、第1のセンサ電極と第2のセンサ電極の方向は、透明基材の平面視上互いに交差するように形成されている。
第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の配線パターンの上に、光干渉層が第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の表面と光干渉作用が生じるように形成されている。
したがって、透明基材において取出配線とその上に設けられた光干渉層を有する側から、取出配線パターンを目視した場合に、光干渉作用によって反射光のピークを長波長側に偏らせて波長変調を与えることによって、目視により表裏が判別し易くなる。
タッチパネルセンサ部材のブリッジ型の実施態様は、透明基材の一方の側の同一面上のアクティブ領域に設けられた第1のセンサ電極と第2のセンサ電極を有している。 第1及び第2のセンサ電極は、各々の配列方向と直交する方向に沿って直線状に延びており、互いに透明基材の平面視上交差している。交差した部分の第1のセンサ電極と第2のセンサ電極の間には、絶縁性を有する樹脂や金属酸化物などからなる誘電体部が設けられている。
第1及び第2のセンサ電極が設けられた透明基材の同一面上に、第1及び第2のセンサ電極の一端と各々接続し、第1及び第2のセンサ電極の周囲を引き回してなる非アクティブ領域に設けられた第1及び第2の取出配線を有している。
第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の配線パターンの上に、光干渉層が第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の表面と光干渉作用が生じるように形成されている。
したがって、透明基材において取出配線とその上に設けられた光干渉層を有する側から、取出配線パターンを目視した場合に、光干渉作用によって反射光のピークを長波長側に偏らせて波長変調を与えることによって、目視により表裏が判別し易くなる。
第1及び第2のセンサ電極が設けられた透明基材の同一面上に、第1及び第2のセンサ電極の一端と各々接続し、第1及び第2のセンサ電極の周囲を引き回してなる非アクティブ領域に設けられた第1及び第2の取出配線を有している。
第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の配線パターンの上に、光干渉層が第1の取出配線及び第2の取出配線の少なくとも一方の表面と光干渉作用が生じるように形成されている。
したがって、透明基材において取出配線とその上に設けられた光干渉層を有する側から、取出配線パターンを目視した場合に、光干渉作用によって反射光のピークを長波長側に偏らせて波長変調を与えることによって、目視により表裏が判別し易くなる。
したがって、本発明のタッチパネルセンサ部材によれば、取出配線が形成された面を目視により容易に確認することができ、これを用いるタッチパネル組立工程の生産性を向上することを可能にする効果がある。
以下、実施例により説明するが、実施例により本発明が限定されるものではない。
(実施例)
<導電性金属層の形成(銅めっき)>
透明基材としてのガラス基板上の非アクティブ領域に対応する部分に、銅スパッタを施し、メッキの下地層を0.3μm厚に形成した。
次いで、硫酸銅(5水塩) 70g/l、硫酸 200g/l、塩酸 0.5ml/lを主成分とする電解銅めっき液を用いて、電解銅めっきを行い、膜厚10μmの電解銅めっき層を形成した。
<透明導電体層の形成(ITOスパッタリング)>
ガラス基板上のアクティブ領域の全面及び非アクティブ領域の前記銅めっき層上の全面に、DCマグネトロンスパッタリング法により酸化インジウムスズ(ITO)膜を、膜厚を15、16、20、40、60、70,90nmに変えて形成した。
<センサ電極、取出配線及び光干渉層の形成(フォトリソグラフィ法)>
形成されたITO膜上全面にフォトレジストを塗布し乾燥した後に、フォトマスクを介して紫外線露光、現像した。フォトマスクは、アクティブ領域に対応する部分はセンサ電極のパターンであり、非アクティブ領域に対応する部分は取出配線のパターンを有するものを用いた。ガラス基板上にアクティブ領域はセンサ電極のパターンに合せたレジスト層が残り、非アクティブ領域は、取出配線のパターンに合せたレジスト層が残された。
次に、塩化鉄(III)(45ボーメ)水溶液を用いて、ITO膜及び銅めっき層をエッチングすることにより、ITO膜からなるセンサ電極パターン、及びITO膜が重畳された銅層の取出配線パターンを形成した。その後、レジスト層をアルカステップHTO(ニチゴーモートン社製)により剥離し、純水で洗浄、乾燥して、アクティブ領域にセンサ電極と、非アクティブ領域に取出配線とその上に光干渉層とを有するタッチパネルセンサ部材を形成した。
<目視及び測色による評価>
上記で得られたタッチパネルセンサ部材において、光干渉層を有する取出配線パターンを、観測者が目視により判別し易くなった。詳しくは、取出配線のみの色と比べて、銅の取出配線3のみの色が肌色に近い色であるが、光干渉層のITO膜を有する取出配線の色は、光干渉作用によって金赤に近い色として観測され、一見して取出配線パターンが形成されている面が判別できた。
次に、分光光度計(メーカー名:島津製作所 装置名:RECORDING SPECTROPHOTOMETER UV365 )によって、光干渉層を有する取出配線と前記取出配線のみとを測定して、可視光線の380nm〜700nmの各波長の反射光から分光反射率曲線、標準の光C光源でのL*a*b*の値を得た。また、L*a*b*の値から色差ΔE*を求めた。
分光反射率曲線において波形の特徴として、取出配線のみについては波長380nm〜550nmにおいて反射率60〜65%であり、光干渉層(ITO膜厚30nm、40nm)を有する取出配線については、波長380nm〜550nmにおいて反射率20〜30%となり、光干渉作用による短波長側の反射光の低下が見られた。
ITO膜厚と色差ΔE*との関係については、ITO膜厚が16、20、40、60nmでは、色差ΔE*が13以上となり、目視による判別効果があった。一方、ITO膜厚が15nmではΔE*=12となり、70nmではΔE*=9.7となり、90nmではΔE*=6.2となって、目視による判別効果が低いものであった。
<導電性金属層の形成(銅めっき)>
透明基材としてのガラス基板上の非アクティブ領域に対応する部分に、銅スパッタを施し、メッキの下地層を0.3μm厚に形成した。
次いで、硫酸銅(5水塩) 70g/l、硫酸 200g/l、塩酸 0.5ml/lを主成分とする電解銅めっき液を用いて、電解銅めっきを行い、膜厚10μmの電解銅めっき層を形成した。
<透明導電体層の形成(ITOスパッタリング)>
ガラス基板上のアクティブ領域の全面及び非アクティブ領域の前記銅めっき層上の全面に、DCマグネトロンスパッタリング法により酸化インジウムスズ(ITO)膜を、膜厚を15、16、20、40、60、70,90nmに変えて形成した。
<センサ電極、取出配線及び光干渉層の形成(フォトリソグラフィ法)>
形成されたITO膜上全面にフォトレジストを塗布し乾燥した後に、フォトマスクを介して紫外線露光、現像した。フォトマスクは、アクティブ領域に対応する部分はセンサ電極のパターンであり、非アクティブ領域に対応する部分は取出配線のパターンを有するものを用いた。ガラス基板上にアクティブ領域はセンサ電極のパターンに合せたレジスト層が残り、非アクティブ領域は、取出配線のパターンに合せたレジスト層が残された。
次に、塩化鉄(III)(45ボーメ)水溶液を用いて、ITO膜及び銅めっき層をエッチングすることにより、ITO膜からなるセンサ電極パターン、及びITO膜が重畳された銅層の取出配線パターンを形成した。その後、レジスト層をアルカステップHTO(ニチゴーモートン社製)により剥離し、純水で洗浄、乾燥して、アクティブ領域にセンサ電極と、非アクティブ領域に取出配線とその上に光干渉層とを有するタッチパネルセンサ部材を形成した。
<目視及び測色による評価>
上記で得られたタッチパネルセンサ部材において、光干渉層を有する取出配線パターンを、観測者が目視により判別し易くなった。詳しくは、取出配線のみの色と比べて、銅の取出配線3のみの色が肌色に近い色であるが、光干渉層のITO膜を有する取出配線の色は、光干渉作用によって金赤に近い色として観測され、一見して取出配線パターンが形成されている面が判別できた。
次に、分光光度計(メーカー名:島津製作所 装置名:RECORDING SPECTROPHOTOMETER UV365 )によって、光干渉層を有する取出配線と前記取出配線のみとを測定して、可視光線の380nm〜700nmの各波長の反射光から分光反射率曲線、標準の光C光源でのL*a*b*の値を得た。また、L*a*b*の値から色差ΔE*を求めた。
分光反射率曲線において波形の特徴として、取出配線のみについては波長380nm〜550nmにおいて反射率60〜65%であり、光干渉層(ITO膜厚30nm、40nm)を有する取出配線については、波長380nm〜550nmにおいて反射率20〜30%となり、光干渉作用による短波長側の反射光の低下が見られた。
ITO膜厚と色差ΔE*との関係については、ITO膜厚が16、20、40、60nmでは、色差ΔE*が13以上となり、目視による判別効果があった。一方、ITO膜厚が15nmではΔE*=12となり、70nmではΔE*=9.7となり、90nmではΔE*=6.2となって、目視による判別効果が低いものであった。
1、1’ 透明基材
2、2’ センサ電極
3、3’ 取出配線
4 光干渉層
10、10’ タッチパネルセンサ部材
20 タッチパネル装置
30 表示装置
40 カバーシート
50 検出制御部
60 表示制御部
100 情報端末装置
2、2’ センサ電極
3、3’ 取出配線
4 光干渉層
10、10’ タッチパネルセンサ部材
20 タッチパネル装置
30 表示装置
40 カバーシート
50 検出制御部
60 表示制御部
100 情報端末装置
Claims (4)
- 透明基材の少なくとも一方の側の面上に、センサ電極と取出配線を有するタッチパネルセンサ部材であって、
前記センサ電極は、透明導電体により構成されるものであり、
前記取出配線は、導電性金属により構成されるものであり、
前記取出配線上の少なくとも一部に、光干渉層を有し、
前記光干渉層は、前記取出配線上で光干渉作用が生じるように前記透明導電体により構成されるものである
ことを特徴とするタッチパネルセンサ部材。 - 請求項1に記載のタッチパネルセンサ部材において、
前記光干渉層は、前記光干渉層を有する前記取出配線の色と前記取出配線のみの色との色差が13.0以上となるように構成されるものである
ことを特徴とするタッチパネルセンサ部材。 - 請求項1〜2のいずれか1項に記載のタッチパネルセンサ部材において、
前記透明導電体は、インジウム錫オキサイド(ITO)、インジウム亜鉛オキサイド(IZO)、酸化インジウム(InO2)、酸化錫(SnO2)、酸化亜鉛(ZnO)等の金属酸化物及びそれらの金属酸化物に微量の金属を添加したものとして、ガリウム添加酸化亜鉛(GZO)、アルミニウム添加酸化亜鉛(AZO)の1種または2種以上を組み合わせたものである
ことを特徴とするタッチパネルセンサ部材。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載のタッチパネルセンサ部材において、
前記導電性金属は、金、銀、銅、鉄、白金、アルミニウム、ニッケル、タングステン、モリブデン、クロムの金属のうち1種の金属、または2種以上を組み合わせた合金である
ことを特徴とするタッチパネルセンサ部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013162122A JP2015032183A (ja) | 2013-08-05 | 2013-08-05 | タッチパネルセンサ部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013162122A JP2015032183A (ja) | 2013-08-05 | 2013-08-05 | タッチパネルセンサ部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015032183A true JP2015032183A (ja) | 2015-02-16 |
Family
ID=52517432
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013162122A Pending JP2015032183A (ja) | 2013-08-05 | 2013-08-05 | タッチパネルセンサ部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2015032183A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170113137A (ko) | 2016-03-30 | 2017-10-12 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 광투과성 전극 적층체 |
WO2019102836A1 (ja) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 日本電気硝子株式会社 | 透明導電膜付きガラスシート、透明導電膜付きガラスロール、及びその製造方法 |
KR20200108042A (ko) | 2018-01-11 | 2020-09-16 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 도전 재료 및 처리 방법 |
-
2013
- 2013-08-05 JP JP2013162122A patent/JP2015032183A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20170113137A (ko) | 2016-03-30 | 2017-10-12 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 광투과성 전극 적층체 |
WO2019102836A1 (ja) * | 2017-11-24 | 2019-05-31 | 日本電気硝子株式会社 | 透明導電膜付きガラスシート、透明導電膜付きガラスロール、及びその製造方法 |
JP2019094235A (ja) * | 2017-11-24 | 2019-06-20 | 日本電気硝子株式会社 | 透明導電膜付きガラスシート、透明導電膜付きガラスロール、及びその製造方法 |
JP6999899B2 (ja) | 2017-11-24 | 2022-01-19 | 日本電気硝子株式会社 | 透明導電膜付きガラスロール及び透明導電膜付きガラスシートの製造方法 |
TWI767089B (zh) * | 2017-11-24 | 2022-06-11 | 日商日本電氣硝子股份有限公司 | 附透明導電膜之玻璃片材、附透明導電膜之玻璃捲筒、及其製造方法 |
KR20200108042A (ko) | 2018-01-11 | 2020-09-16 | 미쓰비시 세이시 가부시키가이샤 | 도전 재료 및 처리 방법 |
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