TWI644895B - 聚合性化合物及其混合物 - Google Patents

聚合性化合物及其混合物 Download PDF

Info

Publication number
TWI644895B
TWI644895B TW106131612A TW106131612A TWI644895B TW I644895 B TWI644895 B TW I644895B TW 106131612 A TW106131612 A TW 106131612A TW 106131612 A TW106131612 A TW 106131612A TW I644895 B TWI644895 B TW I644895B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
group
compound
substituent
carbon atoms
ring
Prior art date
Application number
TW106131612A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201808879A (zh
Inventor
坂本圭
奧山久美
桐木智史
Original Assignee
日本瑞翁股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本瑞翁股份有限公司 filed Critical 日本瑞翁股份有限公司
Publication of TW201808879A publication Critical patent/TW201808879A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI644895B publication Critical patent/TWI644895B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/66Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety
    • C07C69/67Esters of carboxylic acids having esterified carboxylic groups bound to acyclic carbon atoms and having any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, acyloxy, groups, groups, or in the acid moiety of saturated acids
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C69/00Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
    • C07C69/74Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
    • C07C69/75Esters of carboxylic acids having an esterified carboxyl group bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring of acids with a six-membered ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D277/00Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings
    • C07D277/60Heterocyclic compounds containing 1,3-thiazole or hydrogenated 1,3-thiazole rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D277/62Benzothiazoles
    • C07D277/68Benzothiazoles with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached in position 2
    • C07D277/82Nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/40Esters of unsaturated alcohols, e.g. allyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F222/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
    • C08F222/10Esters
    • C08F222/12Esters of phenols or saturated alcohols
    • C08F222/24Esters containing sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F238/00Copolymers of compounds having one or more carbon-to-carbon triple bonds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D133/00Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D133/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C09D133/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/06Non-steroidal liquid crystal compounds
    • C09K19/34Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
    • C09K19/3491Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom
    • C09K19/3497Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having sulfur as hetero atom the heterocyclic ring containing sulfur and nitrogen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38Polymers
    • C09K19/3804Polymers with mesogenic groups in the main chain
    • C09K19/3809Polyesters; Polyester derivatives, e.g. polyamides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K19/38Polymers
    • C09K19/3833Polymers with mesogenic groups in the side chain
    • C09K19/3842Polyvinyl derivatives
    • C09K19/3852Poly(meth)acrylate derivatives
    • C09K19/3861Poly(meth)acrylate derivatives containing condensed ring systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/30Polarising elements
    • G02B5/3016Polarising elements involving passive liquid crystal elements
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/86Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/141Organic polymers or oligomers comprising aliphatic or olefinic chains, e.g. poly N-vinylcarbazol, PVC or PTFE
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/10Organic polymers or oligomers
    • H10K85/151Copolymers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/60Organic compounds having low molecular weight
    • H10K85/649Aromatic compounds comprising a hetero atom
    • H10K85/656Aromatic compounds comprising a hetero atom comprising two or more different heteroatoms per ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C2601/00Systems containing only non-condensed rings
    • C07C2601/12Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
    • C07C2601/14The ring being saturated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K19/00Liquid crystal materials
    • C09K19/04Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
    • C09K2019/0444Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group
    • C09K2019/0448Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit characterized by a linking chain between rings or ring systems, a bridging chain between extensive mesogenic moieties or an end chain group the end chain group being a polymerizable end group, e.g. -Sp-P or acrylate
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528Polarisers
    • G02F1/133541Circular polarisers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/13363Birefringent elements, e.g. for optical compensation
    • G02F1/133638Waveplates, i.e. plates with a retardation value of lambda/n
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80Constructional details
    • H10K59/8791Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Abstract

本發明之課題係使具有良好的逆波長分散性(reverse wavelength dispersion property)的光學薄膜之製造成為可能。
本發明之解決手段為一種包含下述式(III)、(IV)所示的聚合性化合物之混合物[式中,Ar1、Ar2係具有D1、D2作為取代基的2價芳香族烴環基或芳香族雜環基,D1、D2係具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基,A11~A22、B11~B22係可具有取代基的環狀脂肪族基或芳香族基,Y11~Y22、L11~L22係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26係氫原子或碳數1~6的烷基,R4~R9係氫原子、甲基或氯原子,f、k係一者為1~3之整數,另一者為0~3之整數,g、j、m、q為1~20之整數,h、i、n、p為0或1]。

Description

聚合性化合物及其混合物
本發明關於在寬廣波長範圍中可進行相同的偏光轉換之光學薄膜及光學異向體、以及使用該光學異向體之偏光板、平板顯示裝置、有機電致發光顯示裝置及抗反射薄膜。
又,本發明關於上述光學薄膜及光學異向體之調製中可使用的高分子、該高分子之調製中可使用的聚合性化合物、包含該聚合性化合物的混合物及聚合性液晶組成物、以及該聚合性化合物之調製中可使用的化合物及包含該化合物的混合物。
於平板顯示裝置等之各種裝置中使用的相位差板中,有將直線偏光轉換成圓偏光之1/4波長板或將直線偏光的偏光振動面轉換90度之1/2波長板等。此等之相位差板係對於某特定的單色光,可正確地給予光線波長的1/4λ或1/2λ的相位差。
然而,於以往的相位差板中,有將通過相位差板而輸出的偏光轉換成有色的偏光之問題。此係起因於構成相位差板的材料因相位差而具有波長分散性,對於可見 光範圍的光線混合存在的合成波之白色光,在每各波長的偏光狀態下發生分布,而無法將輸入光在全部的波長區域中調整至正確的1/4λ或1/2λ的相位差之偏光。
為了解決如此的問題,對於寬廣波長範圍之光能給予均勻的相位差之寬頻帶相位差板,即所謂的具有逆波長分散性之相位差板,進行各種的檢討。
另一方面,隨著攜帶型電腦、行動電話等攜帶型的資訊終端之高機能化及普及,要求盡量將平板顯示裝置之厚度薄型化。結果,亦要求構成構件的相位差板之薄層化。
作為薄層化之方法,藉由將含有低分子聚合性化合物的聚合性組成物塗布於薄膜基材上而形成光學薄膜,製作相位差板之方法係近年來被視為最有效的方法。因此,大量進行能形成具有優異逆波長分散性的光學薄膜之聚合性化合物或使用其之聚合性組成物的開發。
而且,例如於專利文獻1及2中,提案能形成逆波長分散性優異的光學薄膜,同時具有適合加工的低熔點,容易塗布在基材上,顯示液晶性的溫度範圍廣,進而能廉價地合成之聚合性化合物及聚合性組成物。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 國際公開第2014/010325號
專利文獻2 日本特開2015-200877號公報
此處,使用含有聚合性化合物的聚合性組成物,以工業的生產規模製造光學薄膜或光學異向體(以下,亦合併兩者稱為「光學薄膜等」)時,需要寬廣的製造條件容許度(加工餘裕度)。
特別是在以大面積塗布聚合性組成物而製造光學薄膜等時,由於難以使乾燥爐內的溫度或時間條件完全均一,因而對於溫度或時間等之製造條件之容許度係大幅影響光學薄膜等的良率。
然而,於以往的聚合性化合物及聚合性組成物中,得不到能更安定地長時間維持液晶相之光學薄膜等,加工餘裕度不十分。因此,要求一種包含聚合性化合物的聚合性液晶組成物,其可形成能更安定地長時間維持液晶相之光學薄膜等。
本發明係鑒於上述的實際情況而完成者,目的在於提供一種聚合性液晶組成物,其具有實用的低熔點,可以低成本製造,而且可形成於寬廣波長範圍中可進行相同的偏光轉換及液晶相的安定長時間維持之光學薄膜等。
又,本發明之目的在於提供於該聚合性液晶組成物之調製中適用的聚合性化合物及包含該聚合性化合物的混合物、以及於該聚合性化合物之調製中適用的化合物及包含該化合物的混合物。
本發明者們為了解決上述問題而專心致力的研究,結果發現若使用下述式(III)所示之指定的聚合性化合物與下述式(IV)所示之指定的聚合性化合物之混合物,則可廉價地得到一種聚合性液晶組成物,其可形成能更安定地長時間維持液晶相,塗布偏差少,逆波長分散性優異的光學薄膜等。
如此地依照本發明,可提供下述所示的化合物、聚合性化合物、混合物、聚合性液晶組成物、高分子、光學薄膜、光學異向體、偏光板、平板顯示裝置、有機電致發光顯示裝置及抗反射薄膜。
[1]一種下述式(I)所示之化合物,
[式(I)中,A1及B1各自獨立地表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y1及L1各自獨立地表示單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R1及R2各自獨立地表示氫原子、甲基或氯原子,FG1表示羥基、羧基或胺基,a表示1~3之整數,b表示1~20之整數,c為0或1]。
[2]如前述[1]記載之化合物,其中前述FG1係羥基,前述c為0。
[3]如前述[1]記載之化合物,其中前述FG1係羧基,前述c為1。
[4]一種混合物,其包含如前述[1]~[3]中任一項記載之化合物與下述式(II)所示的化合物,
[式(II)中,A2及B2各自獨立地表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y2及L2各自獨立地表示單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R3表示氫原子、甲基或氯原子,FG2表示羥基、羧基或胺基,d表示1~20之整數,e為0或1]。
[5]如前述[4]記載之混合物,其中前述FG1及FG2係羥基,前述c及e為0。
[6]如前述[4]記載之混合物,其中前述FG1及FG2係羧基,前述c及e為1。
[7]如前述[4]~[6]中任一項記載之混合物,其中前述式(I)所示的化合物與前述式(II)所示的化合物之質量比(式(I)所示的化合物:式(II)所示的化合物)為1:1000~20:100。
[8]一種下述式(III)所示的聚合性化合物,
[式(III)中,Ar1表示具有D1作為取代基的2價芳香族烴環基或具有D1作為取代基的2價芳香族雜環基,D1表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基,Z11及Z12各自獨立地表示-CO-O-、-O-CO-、-NR31-CO-或-CO-NR32-,R31及R32各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,A11、A12、B11及B12各自獨立地表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y11、Y12、L11及L12各自獨立地表示單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R4~R7各自獨立地表示氫原子、甲基或氯原子,f及k係一者為1~3之整數,另一者為0~3之整數,g及j各自獨立地表示1~20之整數,h及i各自獨立地為0或1]。
[9]如前述[8]記載之聚合性化合物,其中前述Ar1-D1係下述式(V)所示的2價基,
[式(V)中,Ax表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基,Ra表示氫原子或可具有取代基之碳數1~20的有機基]。
[10]如前述[9]記載之聚合性化合物,其中前述Ax係下述式(VI)所示的基,
[式(VI)中,RX表示氫原子、鹵素原子、碳數1~6的烷基、氰基、硝基、碳數1~6的氟烷基、碳數1~6的烷氧基或-C(=O)-O-Rb,Rb表示可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基、或可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基,複數的RX彼此可全部相同,也可相異,構成環的至少1個C-RX係可被氮原子所取代]。
[11]如前述[9]或[10]記載之聚合性化合物,其中前述Ra係可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數2~20的炔基、或可具有取代基之碳數6~18的芳香族基。
[12]一種混合物,其包含:如前述[8]~[11]中任一項記載之聚合性化合物與下述式(IV)所示的聚合性化合物,
[式(IV)中,Ar2表示具有D2作為取代基的2價芳香族烴環基或具有D2作為取代基的2價芳香族雜環基,D2表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基,Z21及Z22各自獨立地表示-CO-O-、-O-CO-、-NR31-CO-或-CO-NR32-,R31及R32各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,A21、A22、B21及B22各自獨立地表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y21、Y22、L21及L22各自獨立地表示單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R8及R9各自獨立地表示氫原子、甲基或氯原子,m及q各自獨立地表示1~20之整數,n及p各自獨立地為0或1]。
[13]如前述[12]記載之混合物,其中前述Ar1-D1係下述式(V)所示的2價基,
[式(V)中,Ax表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基,Ra表示氫原子或可具有取代基之碳數1~20的有機基,前述Ar2-D2係下述式(VII)所示的2價基,
[式(VII)中,Ay具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基,Rc表示氫原子或可具有取代基之碳數1~20的有機基]。
[14]如前述[13]記載之混合物,其中前述Ax及Ay各自獨立地為下述式(VI)所示的基,
[式(VI)中,RX表示氫原子、鹵素原子、碳數1~6的烷基、氰基、硝基、碳數1~6的氟烷基、碳數1~6的烷氧基或-C(=O)-O-Rb,Rb表示可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基、或可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基,複數的RX彼此可全部相同,也可相異,構成環的至少1個C-RX係可被氮原子所取代]。
[15]如前述[13]或[14]記載之混合物,其中前述Ra係可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數2~20的炔基、或可具有取代基之碳數6~18的芳香族基,前述Rc係可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數2~20的炔基、或可具有取代基之碳數6~18的芳香族基。
[16]如前述[12]~[15]中任一項記載之混合物,其中前述式(III)所示的聚合性化合物與前述式(IV)所示的聚合性化合物之質量比(式(III)所示的聚合性化合物:式(IV)所示的聚合性化合物)為1:1000~20:100。
[17]一種聚合性液晶組成物,其含有如前述[12]~[16]中任一項記載之混合物及聚合起始劑。
[18]一種高分子,其係將如前述[12]~[16]中任一項記載之混合物聚合而得。
[19]一種高分子,其係將如前述[17]記載之聚合性液晶組成物聚合而得。
[20]一種光學薄膜,其係以如前述[18]或[19]記載之高分子作為構成材料。
[21]一種光學異向體,其具有以如前述[18]或[19]記載之高分子作為構成材料之層。
[22]一種偏光板,其包含如前述[21]記載之光學異向體及偏光薄膜。
[23]一種平板顯示裝置,其具備如前述[22]記載之偏光板及液晶面板。
[24]一種有機電致發光顯示裝置,其具備如前述[22]記載之偏光板及有機電致發光面板。
[25]一種抗反射薄膜,其包含如前述[22]記載之偏光板。
依照本發明,可提供一種聚合性液晶組成物,其可依低成本且寬廣加工餘裕度來製造能更安定地 長時間維持液晶相,具有實用的低熔點,且於寬廣波長範圍中可進行相同的偏光轉換之光學薄膜等。
又,依照本發明,可提供於上述聚合性液晶組成物之調製中適用的聚合性化合物及包含該聚合性化合物的混合物、以及於該聚合性化合物之調製中適用的化合物及包含該化合物的混合物。
而且,依照本發明,可提供於寬廣波長範圍中可進行相同的偏光轉換之光學薄膜及光學異向體、以及使用彼等的偏光板、平板顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置及抗反射薄膜。
圖1係顯示液晶相的安定性評價試驗中使用的積層體之構成的圖,(a)係剖面圖,(b)係顯示吸收軸與遲相軸之關係的說明圖。
圖2係自與燈箱側相反側拍攝液晶相的安定性評價試驗中使用的積層體之照片,(a)係在光學異向體無不均的狀態(評價指數:5)之積層體的照片,(b)係在光學異向體發生不均的狀態(評價指數:1)之積層體的照片。
實施發明的形態
以下,詳細說明本發明。再者,本發明中所謂的「可具有取代基」係「無取代的或具有取代基」之意思。又,當通式中所含有的烷基或芳香族烴環基等之有機基具有取代基時,於具有該取代基的有機基之碳 數中,不包括取代基之碳數。例如,當碳數6~20的芳香族烴環基具有取代基時,於碳數6~20的芳香族烴環基之碳數中,不包括如此的取代基之碳數。
此處,本發明之化合物及包含該化合物的混合物係沒有特別的限定,例如可在調製本發明之聚合性化合物時使用。
又,本發明之聚合性化合物及包含該聚合性化合物的混合物係沒有特別的限定,例如可在調製本發明之聚合性液晶組成物時使用。
再者,本發明之聚合性液晶組成物係沒有特別的限定,例如可在調製本發明本發明之高分子時使用。
而且,本發明之高分子係沒有特別的限定,例如可使用作為本發明之光學薄膜的構成材料及本發明之光學異向體所具有的層之構成材料。又,本發明之光學異向體係沒有特別的限定,例如可用於本發明之偏光板。再者,本發明之偏光板係沒有特別的限定,例如可用於本發明之平板顯示裝置、有機電致發光顯示裝置及抗反射薄膜。
(1)化合物
本發明之化合物係下述式(I)所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(I)」),適用作為後述的聚合性化合物(III)之製造中間體。
此處,式(I)中,a為1~3之整數,b為1~20之整數,較佳為2~12之整數,更佳為4~8之整數,c為0或1。
而且,FG1係羥基、羧基或胺基。再者,當c為0時,FG1較佳為羥基,當c為1時,FG1較佳為羧基。
又,A1係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,當c為0時,A1較佳為可具有取代基的芳香族基,當c為1時,較佳為可具有取代基的環狀脂肪族基。
再者,可具有取代基的環狀脂肪族基係無取代的2價環狀脂肪族基或具有取代基的2價環狀脂肪族基。而且,2價環狀脂肪族基係碳數通常為5~20之具有環狀結構的2價脂肪族基。
作為2價環狀脂肪族基之具體例,可舉出環戊烷-1,3-二基、環己烷-1,4-二基、1,4-環庚烷-1,4-二基、環辛烷-1,5-二基等之碳數5~20的環烷二基;十氫萘-1,5-二基、十氫萘-2,6-二基等之碳數5~20的雙環烷二基等。
又,可具有取代基的芳香族基係無取代的2價芳香族基或具有取代基的2價芳香族基。而且,2價芳香族基係碳數通常為2~20之具有芳香環結構的2價芳香族基。
作為2價芳香族基之具體例,可舉出1,4-伸苯基、1,4-伸萘基、1,5-伸萘基、2,6-伸萘基、4,4’-伸聯苯基等之碳數6~20的2價芳香族烴環基;呋喃-2,5-二基、噻吩 -2,5-二基、吡啶-2,5-二基、吡-2,5-二基等之碳數2~20的2價芳香族雜環基等。
而且,作為上述之2價環狀脂肪族基及2價芳香族基的取代基,例如可舉出氟原子、氯原子、溴原子等之鹵素原子;甲基、乙基等之碳數1~6的烷基;甲氧基、異丙氧基等之碳數1~5的烷氧基;硝基;氰基等。前述環狀脂肪族基及芳香族基亦可具有由上述取代基所選出的至少1個取代基。再者,當具有複數的取代基時,各取代基可相同,也可相異。
又,當c為1時,L1係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,L1較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為前述R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
再者,當c為1時,B1係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,B1較佳為可具有取代基的芳香族基。
此處,可具有取代基的環狀脂肪族基係無取代的2價環狀脂肪族基或具有取代基的2價環狀脂肪族基。而且,2價環狀脂肪族基係碳數通常為5~20之具有環狀結構的2價脂肪族基。
作為B1的2價環狀脂肪族基之具體例,可舉出與作為前述A1的2價環狀脂肪族基所例示相同者。
又,可具有取代基的芳香族基係無取代的2價芳香族基或具有取代基的2價芳香族基。而且,2價芳香族基係碳數通常為2~20之具有芳香環結構的2價芳香族基。
作為B1的2價芳香族基之具體例,可舉出與作為前述A1的2價芳香族基所例示相同者。
再者,作為B1的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基,可舉出與作為前述A1的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基所例示相同者。
又,Y1係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,Y1較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
而且,R2係氫原子、甲基或氯原,較佳為氫原子或甲基。
又,R1係氫原子、甲基或氯原子,較佳為氫原子或甲基。再者,R1更佳為與R2相同,R1及R2尤佳為皆氫原子。
上述化合物(I)係可藉由組合已知的合成反應來合成。即,可參照各式各樣的文獻(例如,MARCH’S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY)、Sandler-Karo「官能基別有機化合物合成法」稻本直樹合譯(廣川書店))記載之方法來合成。
此處,作為c為0的化合物(I)之較佳例,並沒有特別的限定,可舉出下述式(Ia):
[式(Ia)中,R1、R2、a及b表示與前述式(I)相同的定義]所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(Ia)」)。
而且,作為化合物(Ia)之製造方法,並沒有特別的約束,例如可舉出以下所示的方法。
[各式中,R1、R2、a及b表示與前述式(I)相同的定義,L表示脫離基]。
具體而言,首先藉由前述式(1)所示的氫醌與前述式(2)所示的化合物(以下,稱為「化合物(2)」)之反應,得到前述式(3)所示的單醚化合物(以下,稱為「單醚化合物(3)」)。
此處,式(2)中,L所示的脫離基係沒有特別的限定,可舉出有機化學之領域中一般脫離基。作為L,例如可舉出氯原子、溴原子、碘原子等之鹵素原子等。
又,氫醌與化合物(2)之使用比例係相對於1莫耳的化合物(2),氫醌通常為1.0~5.0莫耳,較佳為1.2~1.5莫耳。
若氫醌之使用比例過少,則作為副生成物的二醚化合物之生成量變多,有單醚化合物(3)的產率及純度降低之傾向。另一方面,若氫醌之使用比例過多,則在反應後高效率地進行純化處理者有變困難之傾向。
氫醌與化合物(2)之反應係可在惰性溶劑中,於鹼之存在下進行,也可在鹼性水溶液與疏水性有機溶劑之二相系統中進行,但從能產率更良好地得到標的物來看,較佳為後者之方法。
作為此反應所用的惰性溶劑,可舉出N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺等之醯胺系溶劑;四氫呋喃、1,3-二甲氧基乙烷、苯甲醚等之醚系溶劑;二甲基亞碸等之含硫系溶劑;正戊烷、正己烷、正庚烷、環己烷等之脂肪族烴系溶劑;苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烴系溶劑;及由此等的2種以上所成之混合溶劑等。
溶劑之使用量係沒有特別的限定,可考慮所用的化合物之種類或反應規模等而適宜決定,但相對於化合物(2)1質量份,通常為1~50質量份。
作為所用的鹼,可舉出吡啶、三甲胺、三乙胺、苯胺、甲吡啶、1,8-二氮雜雙環[5.4.0]-7-十一烯、 1,4-二氮雜雙環[2.2.2]辛烷、咪唑、N,N-二異丙基乙基胺等之有機鹼;甲醇鈉、乙醇鈉、第三丁氧化鉀等之金屬醇鹽;氫化鈉、氫化鈣等之金屬氫化物;氫氧化鈉、氫氧化鉀、氫氧化鈣等之金屬氫氧化物;碳酸鈉、碳酸鉀、碳酸鎂等之金屬碳酸鹽等。
相對於化合物(2),鹼之使用量通常為1~5當量,較佳為1~2當量。
又,後者之方法所用的鹼性水溶液係藉由使無機鹼溶解於水中而得。
作為無機鹼,可舉出碳酸鈉、碳酸鉀等之鹼金屬碳酸鹽;碳酸鎂、碳酸鈣等之鹼土類金屬碳酸鹽;碳酸氫鈉、碳酸氫鉀等之鹼金屬碳酸氫鹽;碳酸氫鎂;碳酸氫鈣等之鹼土類金屬碳酸氫鹽;氫氧化鈉、氫氧化鉀等之鹼金屬氫氧化物;氫氧化鎂;氫氧化鈣等之鹼土類金屬氫氧化物等。
無機鹼係可單獨一種或組合二種以上而使用。
鹼性水溶液中的無機鹼之含量,相對於1莫耳的化合物(2),通常為1.00~2.00莫耳,較佳為1.05~1.50莫耳。若無機鹼之含量過少,則有單醚化物之產率降低,或反應速度變慢,或化合物(2)大量地殘存之虞。另一方面,若無機鹼之使用量過多,則在反應後另外需要中和之步驟。
鹼性水溶液之使用量只要是氫醌及化合物(2)溶解之量,則沒有特別的限制。
相對於1質量份的化合物(2),鹼性水溶液之使用量通常為1~10質量份,較佳為3~6質量份。若鹼性水溶液之使用量過多,則有反應速度變慢,或生產性降低之虞。另一方面,若鹼性水溶液之使用量過少,則有原料化合物等析出,或溶液之黏度上升,或反應速度降低之虞。
疏水性有機溶劑係指在25℃的水100g中之溶解度為10(g/100g-H2O)以下之有機溶劑。
作為疏水性有機溶劑,可舉出苯、甲苯、二甲苯、均三甲苯等的芳香族烴系溶劑;正戊烷、正己烷、正庚烷、環己烷等之脂肪族烴系溶劑;苯甲醚、環戊基甲基醚(CPME)、二乙基醚、二異丙基醚等之醚系溶劑;1-丁醇、1-己醇等的碳數4以上之醇系溶劑;二氯甲烷、二氯乙烷、氯苯等之鹵化烴系溶劑等。
於此等之中,作為疏水性有機溶劑,從與水的共沸點高,可在高溫下進行反應,容易選擇地獲得標的物之單醚化合物(3)等之理由來看,較佳為芳香族烴系溶劑、醚系溶劑或碳數4以上的醇系溶劑,更佳為甲苯、二甲苯、苯甲醚、環戊基甲基醚或1-己醇。
還有,疏水性有機溶劑係可單獨一種或組合二種以上而使用。
相對於1質量份的化合物(2),疏水性有機溶劑之使用量通常為0.2~10質量份,較佳為0.5~2質量份。若疏水性有機溶劑之使用量過多,則有反應速度變慢或生產性降低之虞。另一方面,若疏水性有機溶劑之使用量過少,則有難以得到使用疏水性有機溶劑之效果,或選擇地合成單醚化物者變困難之虞。
氫醌與化合物(2)之反應係在氮氣或氬氣等之惰性氣體環境下進行。
反應溫度係沒有特別的限定,但通常為20~200℃,較佳為60~150℃,更佳為80~120℃。
反應時間亦取決於反應溫度等,但通常為1~24小時。
反應結束後,可藉由冷卻反應液,使標的物之單醚化合物(3)作為結晶析出。
單醚化合物(3)之純度(相對於單醚化物與二醚化物之合計而言單醚化物之比例)通常為70質量%以上,較佳為80質量%以上。
所得之單醚化合物(3)的結晶亦可不進行純化,而且直接供應至下一步驟,亦可按照需要藉由管柱層析法、再結晶、再沉澱等眾所周知之方法而進一步純化,作為更高純度的單醚化合物,供應至下一步驟。
還有,單醚化合物(3)之結構係可藉由測定NMR光譜、IR光譜、質譜等或進行元素分析而決定。
接著,藉由所得的單醚化合物(3)與式(4)所示的羧酸化合物(以下,稱為「化合物(4)」)之脫水縮合反應,可得到標的物之化合物(Ia)。
此處,脫水縮合反應係在適當的溶劑中,於酸觸媒之存在下進行。
作為所用的酸觸媒,並沒有特別的限制,可舉出鹽酸、硫酸、磷酸、硝酸等之礦酸;磷鎢酸等之雜多酸;對甲苯磺酸等之有機酸等。
通常相對於單醚化合物(3),酸觸媒之使用量為0.01~20質量%,較佳為0.05~10質量%,更佳為0.1~5質量%。或者,相對於1莫耳的單醚化合物(3),酸觸媒之使用量通常為0.01~1.0莫耳,較佳為0.01~0.5莫耳。
作為所用的溶劑,可舉出四氫呋喃、1,3-二甲氧基乙烷、苯甲醚等之醚系溶劑;正戊烷、正己烷、正庚烷、環己烷等之脂肪族烴系溶劑;苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烴系溶劑;及由此等的2種以上所成之混合溶劑等。
於此等之中,較佳為芳香族烴系溶劑,更佳為甲苯。
於上述反應中,為了高產率地得到標的物,較佳為一邊將所生成的水去除到系統外,一邊進行脫水縮合反應。作為如此的方法,例如可舉出使用狄安-史塔克管等之裝置,一邊將水去除到系統外,一邊進行反應之方法等。
又,為了安定化醚化合物,脫水縮合反應亦可於抗氧化劑之存在下進行。作為所用的抗氧化劑,可舉出2,6-二(第三丁基)-4-甲基苯酚(BHT)、2,2’-亞甲基雙(6-第三丁基對甲酚)、亞磷酸三苯酯等。
使用抗氧化劑時,相對於100質量份的醚化合物,其使用量通常為0.1~10質量份,較佳為0.5~5質量份。
反應溫度係沒有特別的限定,但通常為20~200℃,較佳為40~150℃,更佳為60~150℃。
反應時間亦取決於反應溫度等,但通常為1~24小時。
於反應結束後,進行有機合成化學中的通常之後處理操作,依所欲藉由蒸餾法、管柱層析法、再結晶法、再沉澱法等之眾所周知的分離‧純化方法來純化反應生成物,可高效率地單離標的物之化合物(Ia)。
標的物之結構係可藉由使用NMR光譜、IR光譜、質譜等之分析手段來鑑定、確認。
還有,化合物(4)係可藉由將丙烯酸予以2~4聚化而得。此時,通常作為除了丙烯酸2-羧基乙酯(二聚物)之外,還包含丙烯酸本身或丙烯酸的三聚物以上之寡聚物之混合物而得。
化合物(4)係可藉由將如此所得之混合物予以分離純化,而當作為單獨一種的化合物來使用。
又,如後述,當所得之混合物為包含丙烯酸與化合物(4)之混合物時,可將此混合物(以下,亦稱為「混合物(D)」)代替化合物(4)而使用。再者,混合物(D)較佳為在混合物中包含0.01~20質量%的化合物(4)。
作為化合物(4),亦可直接使用市售者。
另外,作為c為1的化合物(I)之較佳例,並沒有特別的限定,可舉出下述式(IIIa):
[式(IIIa)中,R1、R2、a及b表示與前述式(I)相同的定義]所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(IIIa)」)。
而且,作為化合物(IIIa)之製造方法,並沒有特別的約束,例如可舉出以下所示的方法(使前述化合 物(Ia)與下述式(5)所示的反式-1,4-環己烷二羧酸反應之方法)。
[各式中,R1、R2、a及b表示與前述式(I)相同的定義,Rd表示甲基、乙基等之碳數1~6的烷基、或苯基、4-甲基苯基、4-甲氧基苯基等之可具有取代基之碳數6~20的芳香族烴環基]。
具體而言,首先,在適當的溶劑中,使式(6)所表示的磺醯氯化合物對於化合物(5)在第1鹼之存在下反應。
接著,於所得之反應混合物中,添加化合物(Ia)與第2鹼,進一步進行反應。
此處,相對於1當量的化合物(5),磺醯氯化合物之使用量通常為0.5~2.1當量,較佳為0.5~1.1當量。
又,相對於1當量的化合物(5),化合物(Ia)之使用量通常為0.5~1.0當量。
再者,相對於1當量的化合物(5),第1鹼及第2鹼之使用量通常為0.5~2.1當量,較佳為0.5~1.1當量。
還有,作為第1鹼及第2鹼,可舉出三乙胺、N,N-二異丙基乙胺、4-(二甲基胺基)吡啶等。
又,反應溫度可設為-10℃~30℃,反應時間亦取決於反應規模等,但可設為數分鐘至數小時。
作為上述反應中使用的溶劑,可舉出在製造前述化合物(Ia)時作為可用的溶劑所例示者,以及二氯甲烷、氯仿等之鹵素系溶劑。其中,較佳為醚系溶劑。
還有,溶劑之使用量係沒有特別的限定,可考慮所用的化合物之種類或反應規模等而適宜決定,但相對於1質量份的化合物(Ia),通常為1~50質量份。
反應結束後,進行有機合成化學中的通常之後處理操作,可依照所欲,藉由施予使用管柱層析法、再結晶法、蒸餾法、再沉澱法等眾所周知之分離‧純化方法的純化處理,而單離標的物。
標的化合物之結構係可藉由NMR光譜、IR光譜、質譜等之測定、元素分析等來鑑定。
(2)包含化合物的混合物
本發明之混合物係包含前述化合物(I)與下述式(II)所示的化合物(以下,稱為「化合物(II)」)之混合物,例如可使用於後述的聚合性化合物(III)之製造。
還有,使用包含用混合物所調製的聚合性化合物(III)之混合物或聚合性液晶組成物來形成光學薄膜等時,從 一邊擴大加工餘裕度一邊提高所得之光學薄膜等的逆波長分散性之觀點來看,混合物中的化合物(I)與化合物(II)之質量比(化合物(I):化合物(II))較佳為1:1000~20:100,更佳為1:100~20:100。
此處,式(II)中,d為1~20之整數,較佳為2~12之整數,更佳為4~8之整數,e為0或1。
而且,FG2係羥基、羧基或胺基。再者,當e為0時,FG2較佳為羥基,當e為1時,FG2較佳為羧基。
又,A2係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,當e為0時,A2較佳為可具有取代基的芳香族基,當e為1時,較佳為可具有取代基的環狀脂肪族基。
此處,可具有取代基的環狀脂肪族基係無取代的2價環狀脂肪族基或具有取代基的2價環狀脂肪族基。而且,2價環狀脂肪族基係碳數通常為5~20之具有環狀結構的2價脂肪族基。
作為A2的2價環狀脂肪族基之具體例,可舉出與作為前述A1的2價環狀脂肪族基所例示的相同者。
又,可具有取代基的芳香族基係無取代的2價芳香族基或具有取代基的2價芳香族基。而且,2價芳香族基係碳數通常為2~20之具有芳香環結構的2價芳香族基。
作為A2的2價芳香族基之具體例,可舉出與作為前述A1的2價芳香族基所例示相同者。
再者,作為A2的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基,可舉出與作為A1的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基所例示相同者。
又,當e為1時,L2係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,L2較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
再者,作為前述R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
再者,當c為1時,B2係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,B1較佳為可具有取代基的芳香族基。
此處,可具有取代基的環狀脂肪族基係無取代的2價環狀脂肪族基或具有取代基的2價環狀脂肪族基。而且,2價環狀脂肪族基係碳數通常為5~20之具有環狀結構的2價脂肪族基。
作為B2的2價環狀脂肪族基之具體例,可舉出與作為前述A1的2價環狀脂肪族基所例示相同者。
又,可具有取代基的芳香族基係無取代的2價芳香族基或具有取代基的2價芳香族基。而且,2價芳香族基係碳數通常為2~20之具有芳香環結構的2價芳香族基。
作為B2的2價芳香族基之具體例,可舉出與作為前述A1的2價芳香族基所例示的相同者。
再者,作為B2的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基,可舉出與作為前述A1的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基所例示相同者。
又,Y2係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,Y2較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
而且,R3係氫原子、甲基或氯原子,較佳為氫原子或甲基。
上述化合物(II)係可藉由組合已知的合成反應來合成。即,可參照各式各樣的文獻(例如,MARCH’S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY)、Sandler-Karo「官能基別有機化合物合成法」稻本直樹合譯(廣川書店))記載之方法來合成。
再者,從提高光學薄膜等的逆波長分散性之觀點來看,於本發明之混合物中,化合物(I)的FG1、A1、L1、B1、Y1、R1、b及c各自較佳為與化合物(II)的FG2、A2、L2、B2、Y2、R3、d及e相同。即,化合物(II)係除了在「CH2CR1COO-」與「-(CH2)b-」之間不具有「-(CH2CHR1COO)a-」以外,較佳為具有與化合物(I)相同的結構。
而且,混合物例如可藉由以所欲的比例混合化合物(I)與化合物(II)而調製。
又,c為0的化合物(I)與e為0的化合物(II)之混合物係沒有特別的限定,亦可藉由使下述式:HO-(CH2)b-Y1-A1-FG1
[式中,Y1、A1、FG1及b表示與前述式(I)相同的定義]
所表示的化合物與前述混合物(D)反應而得。
再者,c為1的化合物(I)與e為1的化合物(II)之混合物係沒有特別的限定,亦可藉由使下述式:L3-A1-FG3
[式中,L3表示能與c為0的化合物(I)之FG1及e為0的化合物(II)之FG2反應而形成-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-之基(惟,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基),A1表示與前述式(I)相同的定義,FG3表示羥基、羧基或胺基]
所示的化合物與包含c為0的化合物(I)及e為0的化合物(II)之混合物反應而得。
還有,c為1的化合物(I)與e為1的化合物(II)之混合物亦可進一步包含下述式(α)所示的化合物。此時的下述式(α)所示的化合物之含量,相對於c為1的化合物(I)與e為1的化合物(II)之合計量而言為0.05~60質量%,較佳為0.05~50質量%,更佳為0.05~35質量%。
[式(α)中,Y1、B1、L1、A1、R1、R2及b表示與前述式(I)相同的定義,x、y各自獨立地表示0~3之整數]。
此處,作為e為0的化合物(II)之較佳例,並沒有特別的限定,可舉出下述式(IIa):
[式(IIa)中,R3及d表示與前述式(II)相同的定義]所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(IIa)」)。
而且,化合物(IIa)例如可藉由專利文獻1記載之方法等習知的方法來製造。
又,例如包含化合物(Ia)與化合物(IIa)之混合物,係可藉由以所欲的比例混合上述的化合物(Ia)與化合物(IIa)而調製。
再者,包含化合物(Ia)與化合物(IIa)之混合物例如係如以下所示,亦可於得到上述化合物(Ia)之製造方法中,藉由使用前述混合物(D)代替化合物(4)而得。
[各式中,R1、R2、a及b表示與前述式(I)相同的定義,R3及d(=b)表示與前述式(II)相同的定義]。
又,作為e為1的化合物(II)之較佳例,並沒有特別的限定,可舉出下述式(IVa):
[式(IVa)中,R3及d表示與前述式(II)相同的定義]所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(IVa)」)。
而且,化合物(IVa)例如係可藉由專利文獻1記載之方法等習知的方法來製造。
又,例如包含化合物(IIIa)與化合物(IVa)之混合物,係可藉由以所欲的比例混合上述的化合物(IIIa)與化合物(IVa)而調製。
再者,包含化合物(IIIa)與化合物(IVa)之混合物例如係如以下所示,亦可於得到上述化合物(IIIa)之製造方法中,藉由使用包含上述化合物(Ia)與化合物(IIa)之混合物代替化合物(Ia)而得。
[各式中,R1、R2、a及b表示與前述式(I)相同的定義,R3及d表示與前述式(II)相同的定義,Rd表示與前述式(6)相同的定義]。
(3)聚合性化合物
本發明之聚合性化合物係下述式(III)所示的化合物(以下,亦稱為「聚合性化合物(III)」),可在調製後述的高分子、光學薄膜及光學異向體時有利地使用。
還有,如後述,藉由使用聚合性化合物(III)與以後詳細說明的聚合性化合物(IV)(式(IV)所示的化合物)之混合物,可得到聚合性液晶組成物,其可以低成本製造能更安定地長時間維持液晶相,具有寬廣加工餘裕度,具有實用的低熔點,在通用溶劑中的溶解性優異,且於寬廣波長範圍中可進行相同偏光轉換之光學薄膜等。
此理由雖然未明,但推測由於聚合性化合物(III)具有「-(CH2CHR5COO)f-」及/或「-(OCOCHR6CH2)k-」所示的結構,故若使用聚合性化合物(III)與聚合性化合物(IV)之混合物,則與僅使用聚合性化合物(IV)的情況比較下,可一邊確保光學特性(尤其逆波長分散性),一邊形成在更低溫容易成為液晶相(即,在室溫下容易成為過冷卻狀態)之液晶層,可容易得到以高分子作為構成材料的光學薄膜等。
附帶一提,聚合性化合物(III)亦可不與聚合性化合物(IV)混合,而單獨使用於聚合性液晶組成物及高分子以及以高分子作為構成材料的光學薄膜等之調製中。
此處,式(III)中,f及k係一者為1~3之整數,另一者為0~3之整數,g及j各自獨立地為1~20之整數,較佳為2~12之整數,更佳為4~8之整數,h及i各自獨立地為0或1,較佳為1。
而且,Ar1係具有D1作為取代基的2價芳香族烴環基或具有D1作為取代基的2價芳香族雜環基。又,D1係具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基。
此處,所謂具有D1作為取代基的2價芳香族烴環基或具有D1作為取代基的2價芳香族雜環基,就是自D1已結合的芳香族烴環或D1已結合的芳香族雜環的環部分中去掉D1已結合的碳以外之碳上所結合的氫原子2個後之基。
而且,作為Ar1的2價芳香族烴環基,可舉出1,4-伸苯基、1,3-伸苯基、1,4-伸萘基、2,6-伸萘基、1,5-伸萘基、蒽基-9,10-二基、蒽基-1,4-二基、蒽基-2,6-二基等。
於此等之中,作為2價芳香族烴環基,較佳為1,4-伸苯基、1,4-伸萘基或2,6-伸萘基。
又,作為Ar1的2價芳香族雜環基,可舉出苯并噻唑-4,7-二基、1,2-苯并異噻唑-4,7-二基、苯并唑-4,7-二基、吲哚-4,7-二基、苯并咪唑-4,7-二基、苯并吡唑-4,7-二基、1-苯并呋喃-4,7-二基、2-苯并呋喃-4,7-二基、苯并[1,2-d:4,5-d’]二噻唑基-4,8-二基、苯并[1,2-d:5,4-d’]二噻唑基-4,8-二基、苯并苯硫基-4,7-二基、1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、苯并[1,2-b:5,4-b’]二苯硫基-4,8-二基、苯并[1,2-b:4,5-b’]二苯硫基-4,8-二基、苯并[1,2-b:5,4-b’]二呋喃-4,8-二基、苯并[1,2-b:4,5-b’]二呋喃-4,8-二基、苯并[2,1-b:4,5-b’]二吡咯-4,8-二基、苯并[1,2-b:5,4-b’]二吡咯-4,8-二基、苯并[1,2-d:4,5-d’]二咪唑-4,8-二基等。
於此等之中,作為2價芳香族雜環基,較佳為苯并噻唑-4,7-二基、苯并唑-4,7-二基、1-苯并呋喃-4,7-二 基、2-苯并呋喃-4,7-二基、苯并[1,2-d:4,5-d’]二噻唑基-4,8-二基、苯并[1,2-d:5,4-d’]二噻唑基-4,8-二基、苯并苯硫基-4,7-二基、1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、苯并[1,2-b:5,4-b’]二苯硫基-4,8-二基、苯并[1,2-b:4,5-b’]二苯硫基-4,8-二基、苯并[1,2-b:5,4-b’]二呋喃-4,8-二基或苯并[1,2-b:4,5-b’]二呋喃-4,8-二基。
Ar1的2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基係除了D1,還可具有由甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基、第三丁基等之碳數1~6的烷基所選出的至少1個取代基。當取代基為複數時,複數的取代基可互相相同,也可相異。作為2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基之D1以外的取代基,較佳為由甲基、乙基、丙基、第二丁基及第三丁基所選出的至少1個取代基。
又,於D1之「具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基」中,所謂的「芳香環」,就是意指具有依照海格爾(Huckel)法則之廣義芳香族性的環狀結構,即具有(4n+2)個π電子的環狀共軛結構及以噻吩、呋喃、苯并噻唑等為代表之硫、氧、氮等的雜原子之孤立電子對參與π電子系而顯示芳香族性之環狀結構。
而且,D1所具有的芳香環亦可具有1個或複數個的取代基。
又,前述Ar1及D1之中所含有的π電子之合計數通常為12以上,較佳為12以上22以下,更佳為12以上20以下。
再者,作為D1之芳香族烴環,例如可舉出苯環、萘環、蒽環、菲環、芘環、茀環等。
於此等之中,作為芳香族烴環,較佳為苯環、萘環。
又,作為D1之芳香族雜環,例如可舉出1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮環、1-苯并呋喃環、2-苯并呋喃環、吖啶環、異喹啉環、咪唑環、吲哚環、二唑環、唑環、唑并吡環、唑并吡啶環、唑并嗒環、唑并嘧啶環、喹唑啉環、喹啉環、喹啉環、噌啉環、噻二唑環、噻唑環、噻唑并吡環、噻唑并吡啶環、噻唑并嗒環、噻唑并嘧啶環、噻吩環、三環、三唑環、萘啶環、吡環、吡唑環、吡喃酮環、吡喃環、吡啶環、嗒環、嘧啶環、吡咯環、啡啶環、酞環、呋喃環、苯并[c]噻吩環、苯并異唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、苯并二唑環、苯并唑環、苯并噻二唑環、苯并噻唑環、苯并噻吩環、苯并三環、苯并三唑環、苯并吡唑環、苯并吡喃酮環、二氫吡喃環、四氫吡喃環、二氫呋喃環、四氫呋喃環等。
於此等之中,作為芳香族雜環,較佳為苯并噻唑環、苯并唑環、1-苯并呋喃環、2-苯并呋喃環、苯并噻吩環、1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮環、噻吩環、呋喃環、苯并[c]噻吩環、唑環、噻唑環、二唑環、吡喃環、苯并異唑環、噻二唑環、苯并二唑環、苯并噻二唑環。
而且,作為D1之具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數1~20的有機基,並沒有特別的限定,可舉出可具有取代基的 芳香族烴環基、可具有取代基的芳香族雜環基、或式:-RfC(=N-NRgRh)所示的基。
再者,上述式中,Rf表示氫原子、或甲基、乙基、丙基、異丙基等之碳數1~6的烷基。
又,上述式中,Rg表示氫原子或可具有取代基之碳數1~20的有機基。此處,作為碳數1~20的有機基及其取代基,可舉出與後述作為Ra之碳數1~20的有機基及其取代基之具體例所列舉的相同者。
再者,上述式中,Rh表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基。此處,作為碳數2~20的有機基及其取代基之具體例,可舉出與後述作為Ax之碳數2~20的有機基及其取代基之具體例所列舉的相同者。
具體而言,作為成為D1的芳香族烴環基,可舉出苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、茀基等。
於此等之中,作為芳香族烴環基,較佳為苯基、萘基。
又,作為成為D1的芳香族雜環基,可舉出苯二甲醯亞胺基、1-苯并呋喃基、2-苯并呋喃基、吖啶基、異喹啉基、咪唑基、吲哚基、呋咱基、唑基、唑并吡基、唑并吡啶基、唑并嗒基、唑并嘧啶基、喹唑啉基、喹啉基、喹啉基、噌啉基、噻二唑基、噻唑基、噻唑并吡基、噻唑并吡啶基、噻唑并嗒基、噻唑并嘧啶基、噻吩基、三基、三唑基、萘啶基、吡基、吡唑基、吡喃酮基、吡喃基、吡啶基、嗒 基、嘧啶基、吡咯基、啡啶基、酞基、呋喃基、苯并[c]噻吩基、苯并異唑基、苯并異噻唑基、苯并咪唑基、苯并唑基、苯并噻二唑基、苯并噻唑基、苯并噻吩基、苯并三基、苯并三唑基、苯并吡唑基、苯并吡喃酮基、二氫吡喃基、四氫吡喃基、二氫呋喃基、四氫呋喃基等。
於此等之中,作為芳香族雜環基,較佳為呋喃基、噻吩基、唑基、噻唑基、苯并噻唑基、苯并唑基、1-苯并呋喃基、2-苯并呋喃基、苯并噻吩基、噻唑并吡啶基。
作為成為D1的芳香族烴環基及芳香族雜環基,可具有由甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、第二丁基等之碳數1~20的脂肪族烴基;氟原子、氯原子等的鹵素原子;氰基;二甲基胺基等的取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;三氟甲基等之碳數1~6的鹵化烷基;-C(=O)-Rb’;-C(=O)-ORb’;-SRb’;-SO2Rd’;羥基等所選出的至少1個取代基。此處,Rb’表示可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基或可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基,Rd’表示甲基、乙基等之碳數1~6的烷基;苯基、4-甲基苯基、4-甲氧基苯基等之可具有取代基之碳數6~20的芳香族烴環基。再者,當芳香族烴環基及芳香族雜環基具有複數的取代基時,取代基可相同,也可相異。
作為Rb’之可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、及可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丁氧基等之碳數1~20的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;呋喃基、苯硫基等之碳數2~20的芳香族雜環基;環丙基、環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;三氟甲基、五氟乙基、-CH2CF3等之至少1個氫原子經氟原子取代的碳數1~12的氟烷基等。Rb’之碳數1~20的烷基、碳數2~20的烯基及碳數5~12的芳香族烴環基亦可具有由上述取代基所選出1個或複數個的取代基,當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
又,作為Rb’之碳數3~12的環烷基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;及苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴基等。Rb’之碳數3~12的環烷基亦可具有由上述取代基所選出的1個或複數個的取代基,當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
而且,作為上述之Ar1及D1的組合(Ar1-D1),可舉出經式:-RfC(=N-NRgRh)所示的基取代之伸苯基、經1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-(2-丁基)-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二 基、經4,6-二甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經6-甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4,6,7-三甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4,5,6-三甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-丙基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經7-丙基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-氟-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-氟苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-硝基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-三氟甲基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-氰基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-甲磺醯基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經噻吩-3-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-甲基噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-氯噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經噻吩并[3,2-b]噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經2-苯并噻唑基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-聯苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-丙基聯苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-噻唑基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經1-苯基伸乙基-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-吡啶基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經2-呋喃基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經萘并[1,2-b]呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-甲氧基-2-苯并噻唑基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、經苯基取代之1H-異吲哚 -1,3(2H)-二酮-4,7-二基、經4-硝基苯基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、或經2-噻唑基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基等。此處,Rf、Rg、Rh表示與前述相同的定義。
此處,作為Ar1-D1,較佳為下述式(V)所示的2價基。
[式(V)中,Ax表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基,Ra表示氫原子或可具有取代基之碳數1~20的有機基]。
還有,於本說明書中,下述式(i)所示的部分結構係意指下述式(ia)及/或(iib)所示的部分結構。
此處,於Ax之「具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數2~20的有機基」中,所謂的「芳香環」,就是意指具有依照海格爾(Huckel)法則之廣義芳香族性的環狀結構,即具有(4n+2)個π電子的環狀共軛結構及以噻吩、呋喃、苯并噻唑等為代表之硫、氧、氮等的雜原子之孤立電子對參與π電子系而顯示芳香族性之環狀結構。
Ax之具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數2~20的有機基,係可具有複數個芳香環,也可具有芳香族烴環及芳香族雜環。
再者,作為Ax之芳香族烴環,例如可舉出苯環、萘環、蒽環、菲環、芘環、茀環等。
於此等之中,作為芳香族烴環,較佳為苯環、萘環。
又,作為Ax之芳香族雜環,例如可舉出1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮環、1-苯并呋喃環、2-苯并呋喃環、吖啶環、異喹啉環、咪唑環、吲哚環、二唑環、唑環、唑并吡環、唑并吡啶環、唑并嗒環、唑并嘧啶環、喹唑啉環、喹啉環、喹啉環、噌啉環、噻二唑環、噻唑環、噻唑并吡環、噻唑并吡啶環、噻唑并嗒環、噻唑并嘧啶環、噻吩環、三環、三唑環、萘啶環、吡環、吡唑環、吡喃酮環、吡喃環、吡啶環、嗒環、嘧啶環、吡咯環、啡啶環、酞環、呋喃環、苯并[c]噻吩環、苯并異唑環、苯并異噻唑環、苯并咪唑環、苯并二唑環、苯并唑環、苯并噻二唑環、苯并噻唑環、苯并噻吩環、苯并三環、苯并三唑環、苯并吡唑環、苯并吡喃酮環、二氫吡喃環、四氫吡喃環、二氫呋喃環、四氫呋喃環等。
於此等之中,作為芳香族雜環,較佳為呋喃環、噻吩環、唑環、噻唑環等之單環的芳香族雜環;苯并噻唑環、苯并唑環、喹啉環、1-苯并呋喃環、2-苯并呋喃環、苯并噻吩環、噻唑并吡啶環、噻唑并吡環等之縮合環的芳香族雜環。
Ax所具有的芳香環亦可具有取代基。作為如此的取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;乙烯基、烯丙基等之碳數2~6的烯基;三氟甲基等之碳數1~6的鹵化烷基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;-C(=O)-Rb;-C(=O)-ORb;-SO2Rd等。此處,Rb表示可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基、或可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基。又,Rd表示甲基、乙基等之碳數1~6的烷基;苯基、4-甲基苯基、4-甲氧基苯基等的可具有取代基之碳數6~20的芳香族烴環基。於此等之中,作為Ax所具有的芳香環之取代基,較佳為鹵素原子、氰基、碳數1~6的烷基及碳數1~6的烷氧基。
還有,Ax亦可具有由上述的取代基所選出之複數的取代基。當Ax具有複數的取代基時,取代基可相同,也可相異。
作為Rb之可具有取代基之碳數1~20的烷基之碳數1~20的烷基,可舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、1-甲基戊基、1-乙基戊基、第二丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、新戊基、正己基、異己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一基、正十二基、正十三基、正十四基、正十五基、正十六基、正十七基、正十八基、正十九基、正二十基等。再者, 可具有取代之碳數1~20的烷基之碳數較佳為1~12,更佳為4~10。
作為Rb之可具有取代基之碳數2~20的烯基之碳數2~20的烯基,可舉出乙烯基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、異丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十一烯基、十二烯基、十三烯基、十四烯基、十五烯基、十六烯基、十七烯基、十八烯基、十九烯基、二十烯基等。
可具有取代基之碳數2~20的烯基之碳數較佳為2~12。
作為Rb之碳數1~20的烷基及碳數2~20的烯基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丁氧基等之碳數1~20的烷氧基;甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基等之經碳數1~12的烷氧基所取代之碳數1~12的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;三唑基、吡咯基、呋喃基、苯硫基等之碳數2~20的芳香族雜環基;環丙基、環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;環戊氧基、環己氧基等之碳數3~8的環烷氧基;四氫呋喃基、四氫吡喃基、二氧戊環基、二烷基等之碳數2~12的環狀醚基;苯氧基、萘氧基等之碳數6~14之芳氧基;三氟甲基、五氟乙基、-CH2CF3等之至少1個之氫原子經氟原子所取代之碳數1~12的氟烷基;苯并呋喃基;苯并吡喃基;苯并二茂基;苯并二烷基等。於此等之中,作為Rb之碳數1~20的烷基 及碳數2~20的烯基之取代基,較佳為氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丁氧基等之碳數1~20的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;呋喃基、苯硫基等之、碳數2~20的芳香族雜環基;環丙基、環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;三氟甲基、五氟乙基、-CH2CF3等之至少1個氫原子經氟原子所取代之碳數1~12的氟烷基。
還有,Rb之碳數1~20的烷基、碳數2~20的烯基亦可具有由上述的取代基所選出之複數的取代基。當Rb之碳數1~20的烷基、碳數2~20的烯基具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
作為Rb之可具有取代基之碳數3~12的環烷基之碳數3~12的環烷基,可舉出環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基等。於此等之中,較佳為環戊基、環己基。
作為Rb之碳數3~12的環烷基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;二甲基胺基等之取代胺基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴基等。其中,作為Rb之碳數3~12的環烷基之取代基,較佳為氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴基。
再者,當Rb之碳數3~12的環烷基亦可具有複數的取代基。當Rb之碳數3~12的環烷基具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
作為Rb之可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基之碳數5~12的芳香族烴環基,可舉出苯基、1-萘基、2-萘基等。於此等之中,較佳為苯基。
作為可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丁氧基等之碳數1~20的烷氧基;甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基等之經碳數1~12的烷氧基所取代之碳數1~12的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;三唑基、吡咯基、呋喃基、苯硫基等之碳數2~20的芳香族雜環基;環丙基、環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;環戊氧基、環己氧基等之碳數3~8的環烷氧基;四氫呋喃基、四氫吡喃基、二氧戊環基、二烷基等之碳數2~12的環狀醚基;苯氧基、萘氧基等之碳數6~14的芳氧基;三氟甲基、五氟乙基、-CH2CF3等之至少1個氫原子經氟原子所取代之碳數1~12的氟烷基;苯并映喃基;苯并吡喃基;苯并二茂基;苯并二烷基等。其中,作為碳數5~12的芳香族烴環基之取代基,較佳為由氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丁氧基等之碳數1~20的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;呋喃基、苯硫基等之碳數2~20的芳香族雜環基;環丙基、環戊 基、環己基等之碳數3~8的環烷基;三氟甲基、五氟乙基、-CH2CF3等之至少1個氫原子經氟原子取代之碳數1~12的氟烷基所選出的至少1個取代基。
還有,碳數5~12的芳香族烴環基亦可具有複數的取代基。當碳數5~12的芳香族烴環基具有複數的取代基時,取代基可相同,也可相異。
此處,Ax所具有的芳香環亦可具有複數之相同或相異的取代基,也可相鄰的二個取代基成為一起而結合形成環。所形成的環係可為單環,也可為縮合多環,可為不飽和環,也可為飽和環。
還有,Ax之碳數2~20的有機基之「碳數」係意指不包括取代基的碳原子之有機基全體的總碳數。
而且,作為Ax之具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數2~20的有機基,可舉出具有選自由苯基、萘基、蒽基、菲基、芘基、茀基等之碳數6~20的芳香族烴環基;苯二甲醯亞胺基、1-苯并呋喃基、2-苯并呋喃基、吖啶基、異喹啉基、咪唑基、吲哚基、呋咱基、唑基、唑并吡基、唑并吡啶基、唑并嗒基、唑并嘧啶基、喹唑啉基、喹啉基、喹啉基、噌啉基、噻二唑基、噻唑基、噻唑并吡基、噻唑并吡啶基、噻唑并嗒基、噻唑并嘧啶基、噻吩基、三基、三唑基、萘啶基、吡基、吡唑基、吡喃酮基、吡喃基、吡啶基、嗒基、嘧啶基、吡咯基、啡啶基、酞基、呋喃基、苯并[c]噻吩基、苯并異唑基、苯并異噻唑基、苯并咪唑基、苯并唑基、 苯并噻二唑基、苯并噻唑基、苯并苯硫基、苯并三基、苯并三唑基、苯并吡唑基、苯并吡喃酮基、二氫吡喃基、四氫吡喃基、二氫呋喃基、四氫呋喃基等之碳數2~20的芳香族雜環基;芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之烴環基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之雜環基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數3~20的烷基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數4~20的烯基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數4~20的炔基等。
作為具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之烴環基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之雜環基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數3~20的烷基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數4~20的烯基;具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數4~20的炔基之芳香族烴環及芳香族雜環的具體例,可舉出與作為上述D1之芳香族烴環及芳香族雜環的具體例所列舉相同者。
還有,上述的有機基亦可具有1個或複數個的取代基。當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
作為如此的取代基,例如可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;乙烯基、烯丙基等之碳數2~6的烯基;三氟甲基等之碳數1~6的鹵化烷基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;-C(=O)-Rb;-C(=O)-ORb;-SO2Rd等。此處,Rb、Rd表示與前述相同的定義。
於此等之中,作為Ax之有機基所具有的取代基,較佳為由鹵素原子、氰基、碳數1~6的烷基及碳數1~6的烷氧基所選出的至少1個取代基。
以下顯示作為Ax之具選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之碳數2~20的有機基之較佳具體例。惟,本發明係不限定於以下所示者。還有,於下述式中,「-」表示自環之任意位置來與高層N原子(即,式(V)中與Ax鍵結的N原子)之結合鍵。
1)芳香族烴環基
2)芳香族雜環基
[各式中,E表示-NRz-、氧原子或硫原子,此處,Rz表示氫原子、或甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基]。
[各式中,X及Y各自獨立地表示-NRz-、氧原子、硫原子、-SO-或-SO2-;此處,Rz表示氫原子、或甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基]。
[各式中,X表示與前述相同的定義]。
3)具有至少1個芳香環的烴環基
4)具有至少1個芳香環的雜環基
[各式中,X及Y表示與前述相同的定義,Z表示-NRz-、氧原子或硫原子,此處,Rz表示與前述相同的定義(惟,各式中氧原子、硫原子、-SO-、-SO2-各自不鄰接)]。
5)具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之烷基
6)具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之烯基
7)具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少一個芳香環之炔基
再者,上述之Ax的較佳具體例所具有的環亦可具有1個或複數個的取代基。而且,當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。作為如此的取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;乙烯基、烯丙基等之碳數2~6的烯基;三氟甲基等之碳數1~6的鹵化烷基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;-C(=O)-Rb;-C(=O)-ORb;-SO2Rd等。
此處,Rb及Rd表示與前述相同的定義。於此等之中,作為Ax具有之上述環所具有的取代基,較佳為鹵素原子、氰基、碳數1~6的烷基及碳數1~6的烷氧基。
此處,以下顯示Ax之更佳具體例。惟,Ax不限定於以下所示者。
[各式中,X表示與前述相同的定義]。
還有,如前述,上述環亦可具有1個或複數個的取代基。當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。作為如此的取代基,可舉出氟原子、氯原子、溴原子等之鹵素原子;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;氰基;乙烯基、烯丙基等之碳數2~6的烯基;三氟甲基、五氟乙基等之碳數1~6的鹵化烷基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;-C(=O)-Rb;-C(=O)-ORb;-SO2Rd等。此處,Rb及Rd表示與前述相同的定義。
於此等之中,作為上述環所具有的取代基,較佳為鹵素原子、氰基、碳數1~6的烷基及碳數1~6的烷氧基。
而且,作為Ax,更佳為下述式(VI)所示的基。
此處,上述式(VI)中,RX表示氫原子;氟原子、氯原子、溴原子等之鹵素原子;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;氰基;硝基;三氟甲基、五氟乙基等之碳數1~6的氟烷基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;或-C(=O)-O-Rb,Rb係如前述,表示可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基、或可具有取代基之碳數5~12的芳香族烴環基。
還有,複數的RX彼此可全部相同,也可相異,構成環的任意之C-RX亦可被氮原子所取代。
此處,下述顯示上述式(VI)所示的基之C-RX被氮原子取代的基之具體例。惟,C-RX被氮原子取代的基係不受此等所限定。
[各式中,RX表示與前述相同的定義]。
於此等之中,作為Ax,較佳為上述式(VI)所示的基之RX皆為氫原子者。
又,作為上述式(V)所示的2價基之Ra的可具有取代基之碳數1~20的有機基,並沒有特別的限制,例如可舉出可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數2~20的炔基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基、-C(=O)-Rb、-SO2-Rd、-C(=S)NH-Ri、可具有取代基之碳數6~20的芳香族烴環基、或可具有取代基之碳數2~20的芳香族雜環基。
此處,Rb及Rd表示與前述相同的定義,Ri、表示可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數3~12的環烷基、可具有取代基之碳數5~20的芳香族烴環基、或可具有取代基之碳數5~20的芳香族雜環基。
而且,作為Ri之可具有取代基之碳數1~20的烷基之碳數1~20的烷基及其取代基、可具有取代基之碳數2~20的烯基之碳數2~20的烯基及其取代基、以及可具有取代基之碳數3~12的環烷基之碳數3~12的環烷基及其取代基,可舉出與作為Rb之碳數1~20的烷基及其取代基、碳數2~20的烯基及其取代基、以及碳數3~12的環烷基及其取代基之具體例所列舉相同者。又,作為Ri之可具有取代基之碳數5~20的芳香族烴環基,可舉出苯基、1-萘基、2-萘基等,作為可具有取代基之碳數5~20的芳香族雜環基,可舉出吡啶基、喹啉基等。再者,作 為此等的芳香族烴環基及芳香族雜環基之取代基,可舉出與作為Ax之碳數2~20的有機基之取代基所例示相同者。
還有,作為Ra之可具有取代基之碳數1~20的烷基之碳數1~20的烷基,可舉出甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、1-甲基戊基、1-乙基戊基、第二丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、新戊基、正己基、異己基、正庚基、正辛基、正壬基、正癸基、正十一基、正十二基、正十三基、正十四基、正十五基、正十六基、正十七基、正十八基、正十九基、正二十基等。而且,可具有取代基之碳數1~20的烷基之碳數較佳為1~12,更佳為1~10。
又,作為Ra之可具有取代基之碳數2~20的烯基之碳數2~20的烯基,可舉出乙烯基、丙烯基、異丙烯基、丁烯基、異丁烯基、戊烯基、己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十一烯基、十二烯基、十三烯基、十四烯基、十五烯基、十六烯基、十七烯基、十八烯基、十九烯基、二十烯基等。
可具有取代基之碳數2~20的烯基之碳數較佳為2~12。
再者,作為Ra之可具有取代基之碳數2~20的炔基之碳數2~20的炔基,可舉出乙炔基、丙炔基、2-丙炔基(炔丙基)、丁炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、戊炔基、2-戊炔基、己炔基、5-己炔基、庚炔基、辛炔基、2-辛炔基、壬炔基、癸炔基、7-癸炔基等。
又,作為Ra之可具有取代基之碳數3~12的環烷基之碳數3~12的環烷基,可舉出環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環辛基等。
而且,作為Ra之碳數1~20的烷基、碳數2~20的烯基及碳數2~20的炔基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;二甲基胺基等之取代胺基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基、丁氧基等之碳數1~20的烷氧基;甲氧基甲氧基、甲氧基乙氧基等之經碳數1~12的烷氧基所取代之碳數1~12的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;三唑基、吡咯基、呋喃基、苯硫基等之碳數2~20的芳香族雜環基;環丙基、環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;環戊氧基、環己氧基等之碳數3~8的環烷氧基;四氫呋喃基、四氫吡喃基、二氧戊環基、二烷基等之碳數2~12的環狀醚基;苯氧基、萘氧基等之碳數6~14的芳氧基;三氟甲基、五氟乙基、-CH2CF3等之至少1個氫原子經氟原子所取代之碳數1~12的氟烷基;苯并呋喃基;苯并吡喃基;苯并二茂基;苯并二烷基;經-C(=O)-Rb;-C(=O)-ORb;-SO2Rd;-SRb;-SRb所取代之碳數1~12的烷氧基;羥基等。此處,Rb及Rd表示與前述相同的定義。
還有,Ra之碳數1~20的烷基、碳數2~20的烯基及碳數2~20的炔基亦可具有複數的上述取代基,當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
又,作為Ra之碳數3~12的環烷基之取代基,可舉出氟原子、氯原子等之鹵素原子;氰基;二甲 基胺基等之取代胺基;甲基、乙基、丙基等之碳數1~6的烷基;甲氧基、乙氧基、異丙氧基等之碳數1~6的烷氧基;硝基;苯基、萘基等之碳數6~20的芳香族烴環基;環丙基、環戊基、環己基等之碳數3~8的環烷基;-C(=O)-Rb;-C(=O)-ORb;-SO2Rd;羥基等。此處,Rb及Rd表示與前述相同的定義。
還有,Ra之碳數3~12的環烷基亦可具有複數的上述取代基,當具有複數的取代基時,複數的取代基可互相相同,也可相異。
又,作為Ra之碳數6~20的芳香族烴環基及碳數2~20的芳香族雜環基以及彼等的取代基,可舉出各自與作為Ax的芳香族烴環基及芳香族雜環基以及彼等的取代基所列舉的相同者。
於上述之中,作為Ra,較佳為氫原子、可具有取代基之碳數1~20的烷基、可具有取代基之碳數2~20的烯基、可具有取代基之碳數2~20的炔基、可具有取代基之碳數5~20的環烷基、可具有取代基之碳數6~18的芳香族烴環基、可具有取代基之碳數5~18的芳香族雜環基,更佳為氫原子、可具有取代基之碳數1~10的烷基、可具有取代基之碳數2~10的烯基、可具有取代基之碳數2~10的炔基、可具有取代基之碳數5~10的環烷基、碳數6~12的芳香族烴環基。
又,前述式(III)中,Z11及Z12各自獨立地為-CO-O-、-O-CO-、-NR31-CO-或-CO-NR32-,此處,R31及R32各自獨立地為氫原子或碳數1~6的烷基。其中,Z11較佳為-CO-O-。又,Z12較佳為-O-CO-。
再者,A11及A12各自獨立地係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,A11及A12較佳為可具有取代基的環狀脂肪族基。
還有,可具有取代基的環狀脂肪族基係無取代的2價環狀脂肪族基或具有取代基的2價環狀脂肪族基。而且,2價環狀脂肪族基係碳數通常為5~20之具有環狀結構的2價脂肪族基。
作為A11及A12之2價環狀脂肪族基的具體例,可舉出與作為前述式(I)之A1的2價環狀脂肪族基所例示相同者。
又,可具有取代基的芳香族基係無取代的2價芳香族基或具有取代基的2價芳香族基。而且,2價芳香族基係碳數通常為2~20之具有芳香環結構的2價芳香族基。
作為A11及A12之2價芳香族基的具體例,可舉出與作為前述式(I)之A1的2價芳香族基所例示相同者。
再者,作為A11及A12之2價環狀脂肪族基及2價芳香族基的取代基,可舉出與作為前述式(I)之A1的2價環狀脂肪族基及2價芳香族基之取代基所例示相同者。
又,當h及/或i為1時,L11及L12各自獨立地係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,L11及L12各自獨立地較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為前述R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
還有,當h及/或i為1時,B11及B12各自獨立地係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,B11及B12較佳為可具有取代基的芳香族基。
此處,可具有取代基的環狀脂肪族基係無取代的2價環狀脂肪族基或具有取代基的2價環狀脂肪族基。而且,2價環狀脂肪族基係碳數通常為5~20之具有環狀結構的2價脂肪族基。
作為B11及B12之2價環狀脂肪族基的具體例,可舉出與作為前述式(I)之A1的2價環狀脂肪族基所例示的相同者。
又,可具有取代基的芳香族基係無取代的2價芳香族基或具有取代基的2價芳香族基。而且,2價芳香族基係碳數通常為2~20之具有芳香環結構的2價芳香族基。
作為B11及B12之2價芳香族基的具體例,可舉出與作為前述式(I)之A1的2價芳香族基所例示的相同者。
再者,作為B11及B12之2價環狀脂肪族基及2價芳香族基的取代基,可舉出與作為前述式(I)之A1之2價環狀脂肪族基及2價芳香族基的取代基所例示的相同者。
又,Y11及Y12各自獨立地為單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、 -NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,Y11及Y12各自獨立地較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
而且,R4~R7各自獨立地係氫原子、甲基或氯原子,較佳為氫原子或甲基。還有,R4~R7更佳為全部相同,R4~R7尤佳為全部是氫原子。
再者,從得逆波長分散性優異的光學薄膜等之觀點來看,聚合性化合物(III)較佳為具有以Ar1-D1為中心的左右大致對稱的結構。具體而言,於聚合性化合物(III)中,較佳為R4、g及h分別與R7、j及i相同,具有以-Y11-[B11-L11]h-A11-Z11-(*)與(*)-Z12-A12-[L12-B12]i-Y12-鍵結於Ar1之側(*)作為對稱中心之對稱結構。
還有,所謂的「具有以(*)作為對稱中心之對稱結構」,例如意指具有-CO-O-(*)與(*)-O-CO-、或-O-(*)與(*)-O-、或-O-CO-(*)與(*)-CO-O-等之結構。
上述聚合性化合物(III)係可藉由組合已知的合成反應來合成。即,可參照各式各樣的文獻(例如,MARCH’S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY)、Sandler-Karo「官能基別有機化合物合成法」稻本直樹合譯(廣川書店))記載之方法來合成。
此處,作為h及i為1之聚合性化合物(III)的較佳例,並沒有特別的限定,可舉出下述式(Va):
[式(Va)中,R4~R7、Ra、Rx、f、g、j及k表示與前述相同的定義]所示的化合物(以下,亦稱為「聚合性化合物(Va)」)。
而且作為聚合性化合物(Va)之製造方法,並沒有特別的約束,例如可舉出藉由使下述式(7)所示的2,5-二羥基苯甲醛與下述式(b)所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(b)」)、下述式(c)所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(c)」)依順序反應,而得到下述式(9)所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(9)」),對於所得之化合物(9),使下述式(10)所示的肼化合物反應,而得到聚合性化合物(Va)之方法。
[各式中,R4~R7、f、g、j、k、Ra及RX表示與前述相同的定義,L係與前述式(2)相同,表示脫離基]。
還有,於化合物(b)及化合物(c)(以下,亦稱為「化合物(b)等」)中,L為鹵素原子的化合物(醯鹵)係可藉由對於上述之化合物(IIIa),於活性劑之存在下,使亞硫醯氯等之鹵化劑反應而得。
此處,作為所用的活性劑,可舉出N,N-二甲基甲醯胺、苄基三乙基氯化銨、苄基三甲基氯化銨等之四級銨鹽等。
而且,相對於1莫耳的化合物(b)等,活性劑之使用量通常為0.1~3莫耳。
又,於化合物(b)等中,L為甲烷磺醯氧基或對甲苯磺醯氧基等的烷基(芳基)磺醯氧基之化合物(混合酸酐),係可藉由在適當的溶劑中,對於上述之化合物(IIIa),使RdSO2Cl[式中,Rd表示與前述式(6)相同的定義]所示的磺醯氯化合物在鹼之存在下反應而得。
還有,作為鹼,可使用三乙胺、N,N-二異丙基乙基胺、4-(二甲基胺基)吡啶等。
又,作為上述適當的溶劑,可使用在製造前述化合物(Ia)時作為可用的溶劑所例示者以及二氯甲烷、氯仿等之鹵素系溶劑。其中,較佳為醚系溶劑。
作為上述式(7)所示的2,5-二羥基苯甲醛與化合物(b)等之反應中使用的溶劑,可舉出氯仿、二氯甲烷等之氯系溶劑;N-甲基吡咯啶酮、N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、六甲基磷酸三醯胺等之醯胺系溶劑;1,4-二烷、環戊基甲基醚、四氫呋喃、四氫吡喃、1,3-二氧戊環等之醚類;二甲基亞碸、環丁碸等之含硫系溶劑;苯、甲苯、二甲苯等的芳香族烴系溶劑;正戊烷、正己烷、正辛烷、環戊烷、環己烷等之脂肪族烴系溶劑;及由此等之溶劑的2種以上所成之混合溶劑等。
溶劑之使用量係沒有特別的限定,可考慮所用的化合物之種類或反應規模等而適宜決定,但相對於1g的化合物(b)等,通常為1~50g。
還有,標的物之聚合性化合物(Va)係可藉由使所得之化合物(9)與肼化合物(10)以莫耳比(化合物(9):肼化合物(10))為1:2~2:1,較佳為1:1.5~1.5:1之比例反應,而以高選擇且高產率製造。
此時,可添加(±)-10-樟腦磺酸、對甲苯磺酸等之有機酸;鹽酸、硫酸等之無機酸等之酸觸媒而進行反應。藉由添加酸觸媒,有縮短反應時間,產率提高之情況。相對於1莫耳的化合物(9),酸觸媒之添加量通常為0.001~1莫耳。又,酸觸媒係可直接添加,也可作為溶解於適當溶液中的溶液而添加。
作為化合物(9)與肼化合物(10)之反應中使用的溶劑,只要是在反應中呈惰性者,則沒有特別的限定。例如,可舉出甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇等之醇系溶劑;二乙基醚、四氫呋喃、1,4-二烷、環戊基甲基醚等之醚系溶劑;乙酸乙酯、乙酸丙酯等之酯系溶劑;苯、甲苯、二甲苯等之芳香族烴系溶劑;正戊烷、正己烷、正庚烷等之脂肪族烴系溶劑;N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基吡咯啶酮等之醯胺系溶劑;二甲基亞碸、環丁碸等之含硫系溶劑;氯仿、二氯甲烷等之氯系溶劑;及由此等的2種以上所成之混合溶劑等。
於此等之中,較佳為醇系溶劑、氯系溶劑、醚系溶劑及由此等的2種以上所成之混合溶劑。
還有,溶劑之使用量係沒有特別的限定,可考慮所用的化合物之種類或反應規模等而適宜決定,但相對於1g的肼化合物(10),通常為1~100g。
又,反應係在-10℃起至所用的溶劑之沸點為止的溫度範圍中順利地進行。各反應之反應時間亦取決於反應規模,但通常為數分鐘至數小時。
(4)包含聚合性化合物的混合物
本發明之混合物係包含前述聚合性化合物(III)與下述式(IV)所示的聚合性化合物(聚合性化合物(IV))之混合物,例如可用於後述的聚合性液晶組成物及高分子之製造中。
還有,使用混合物或用混合物所調製的聚合性液晶組成物來形成光學薄膜等時,從一邊擴大加工餘裕度一邊提高所得之光學薄膜等的逆波長分散性之觀點來看,混合物中的聚合性化合物(III)與聚合性化合物(IV)之質量比(聚合性化合物(III):聚合性化合物(IV))較佳為1:1000~20:100,更佳為1:100~20:100。
還有,若使用聚合性化合物(III)與聚合性化合物(IV)之混合物,則可以低成本製造能更安定地長時間維持液晶相,具有寬廣加工餘裕度,具有實用的低熔點,在通用溶劑中的溶解性優異,且於寬廣波長範圍中可進行相同偏光轉換之光學薄膜等。
此理由雖然未明,但推測由於聚合性化合物(III)具有「-(CH2CHR5COO)f-」及/或「-(OCOCHR6CH2)k-」所示的結構,故若使用聚合性化合物(III)與聚合性化合物(IV)之混合物,則與僅使用聚合性化合物(IV)的情況比較下,可一邊確保光學特性(尤其是逆波長分散性),一邊形成在更低溫容易成為液晶相(即,在室溫下容易成為過 冷卻狀態)之液晶層,可容易得到以高分子作為構成材料的光學薄膜等。
此處,式(IV)中,m及q各自獨立地為1~20之整數,較佳為2~12之整數,更佳為4~8之整數,n及p各自獨立地為0或1,較佳為1。
而且,Ar2係具有D2作為取代基的2價芳香族烴環基或具有D2作為取代基的2價芳香族雜環基。又,D2係具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基。
此處,所謂具有D2作為取代基的2價芳香族烴環基或具有D2作為取代基的2價芳香族雜環基,就是自D2已結合的芳香族烴環或D2已結合的芳香族雜環的環部分中去掉D2已結合的碳以外之碳上所結合的氫原子2個後之基。
而且,作為Ar2的2價芳香族烴環基,可舉出與作為前述聚合性化合物(III)之Ar1的2價芳香族烴環基所列舉相同者。
又,作為Ar2的2價芳香族雜環基,可舉出與作為前述聚合性化合物(III)之Ar1的2價芳香族雜環基所列舉相同者。
還有,Ar2的2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基係與聚合性化合物(III)之Ar1相同,除了D2還可具有至少1個取代基。而且,作為Ar2之2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基所具有的取代基,可舉出與作為Ar1之2價芳香族烴環基及2價芳香族雜環基具有取代基時的取代基所例示相同者。
又,作為D2之具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基,可舉出與作為前述聚合性化合物(III)的D1之具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數1~20的有機基所例示相同者。
而且,作為Ar2及D2之組合(Ar2-D2),可舉出經式:-RfC(=N-NRgRh)所示的基取代之伸苯基、經1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-(2-丁基)-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4,6-二甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經6-甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4,6,7-三甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4,5,6-三甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-甲基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-丙基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經7-丙基-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-氟-1-苯并呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-氟苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-硝基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-三氟甲基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-氰基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-甲磺醯基苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經噻吩-3-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-甲基噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-氯噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經噻吩并 [3,2-b]噻吩-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經2-苯并噻唑基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-聯苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-丙基聯苯基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-噻唑基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經1-苯基伸乙基-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經4-吡啶基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經2-呋喃基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經萘并[1,2-b]呋喃-2-基取代之苯并噻唑-4,7-二基、經5-甲氧基-2-苯并噻唑基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、經苯基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、經4-硝基苯基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基、或經2-噻唑基取代之1H-異吲哚-1,3(2H)-二酮-4,7-二基等。此處,Rf、Rg、Rh表示與前述相同的定義。
於此等之中,作為Ar2-D2,更佳為下述式(VII)所示的基。
[式(VII)中,Ay表示具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基,Rc表示氫原子或可具有取代基之碳數1~20的有機基]。
此處,作為Ay之具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20 的有機基,可舉出與作為前述式(V)之Ax的具有選自由芳香族烴環及芳香族雜環所組成之群組的至少1個芳香環之碳數2~20的有機基所例示相同者。
其中,作為Ay,與前述式(V)之Ax相同,較佳為下述式(VI)所示的基,較佳為下述式(VI)所示的基之RX皆為氫原子者。
[式(VI)中,RX表示與前述相同的定義]。
又,作為Rc之可具有取代基之碳數1~20的有機基,可舉出與作為前述式(V)之Ra的可具有取代基之碳數1~20的有機基所例示相同者。
還有,前述之式(IV)中,Z21及Z22各自獨立地為-CO-O-、-O-CO-、-NR31-CO-或-CO-NR32-,此處,R31及R32各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,Z21較佳為-CO-O-。又,Z22較佳為-O-CO-。
再者,A21及A22各自獨立地係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,A21及A22較佳為可具有取代基的環狀脂肪族基。
還有,作為A21及A22之可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,可舉出與前述聚合性化合物(III)的A11及A12之可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基相同者。
又,當n及/或p為1時,L21及L22各自獨立地係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,L21及L22各自獨立地較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為前述R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
還有,當n及/或p為1時,B21及B22各自獨立地係可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基。其中,B21及B22較佳為可具有取代基的芳香族基。
再者,作為B21及B22之可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,可舉出與前述聚合性化合物(III)的B11及B12之可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基相同者。
又,Y21及Y22各自獨立地係單鍵、-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,此處,R21~R26各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基。其中,Y21及Y22各自獨立地較佳為-O-、-CO-O-或-O-CO-。
還有,作為R21~R26之碳數1~6的烷基,例如可舉出甲基、乙基、丙基、異丙基等。
而且,R8及R9各自獨立地係氫原子、甲基或氯原子,較佳為氫原子或甲基。還有,R8更佳為與R9相同,R8及R9尤佳為皆是氫原子。
還有,從得到逆波長分散性優異的光學薄膜等之觀點來看,聚合性化合物(IV)較佳為具有以Ar2-D2為中心的左右對稱之結構。具體而言,於聚合性化合物(IV)中,較佳為R8、m及n分別與R9、q及p相同,具有以-Y21-[B21-L21]n-A21-Z21-(*)與(*)-Z22-A22-[L22-B22]p-Y22-鍵結於Ar2之側(*)作為對稱中心的對稱結構。
還有,所謂的「具有以(*)作為對稱中心之對稱結構」,例如意指具有-CO-O-(*)與(*)-O-CO-、或-O-(*)與(*)-O-、或-O-CO-(*)與(*)-CO-O-等之結構。
上述聚合性化合物(IV)係可藉由組合已知的合成反應來製造。即,可參照各式各樣的文獻(例如,MARCH’S ADVANCED ORGANIC CHEMISTRY(WILEY)、Sandler-Karo「官能基別有機化合物合成法」稻本直樹合譯(廣川書店))記載之方法來合成。
再者,雖然沒有特別的限定,但從提高光學薄膜等的逆波長分散性之觀點來看,於本發明之混合物中,較佳為聚合性化合物(III)之Ar1、Z11、Z12、A11、A12、B11、B12、Y11、Y12、L11、L12、R4、R7、g、j、h及i分別與聚合性化合物(IV)之Ar2、Z21、Z22、A21、A22、B21、B22、Y21、Y22、L21、L22、R8、R9、m、q、n及p相同。還有,D1及D2係可互相相同,也可相異。
即,除了聚合性化合物(III)之D1以外的部分係在「CH2CR4COO-」與「-(CH2)g-」之間具有「-(CH2CHR5COO)f-」,在「-OCOCR7CH2」與「-(CH2)j-」之間具有「-(OCOCHR6CH2)k-」以外,較佳為具有與聚合性化合物(IV)之D2以外的部分相同的結構。
而且,混合物例如係可藉由以所欲的比例混合聚合性化合物(III)與聚合性化合物(IV)而調製。
又,混合物係沒有特別的限定,亦可藉由使下述式所示的化合物與包含前述化合物(I)及化合物(II)的混合物反應,然後將L5轉換成D1而得。
[式中,L4係與前述化合物(I)之FG1或化合物(II)之FG2反應而能形成-CO-O-、-O-CO-、-NR31-CO-或-CO-NR32-之基(惟,R31及R32各自獨立地係氫原子或碳數1~6的烷基),L5表示可轉換成D1之基,Ar1表示與前述式(III)相同的定義]。
此處,作為n及p為1的聚合性化合物(IV)之較佳例,並沒有特別的限定,可舉出下述式(VIa):
[式(VIa)中,R8、R9、Rc、Rx、m及q表示與前述相同的定義,RX較佳為皆為氫原子]所示的化合物(以下,亦稱為「化合物(VIa)」)。
而且,化合物(VIa)例如係可藉由專利文獻1記載之方法等之習知方法來製造。
又,例如包含化合物(Va)與化合物(VIa)的混合物,係可藉由以所欲的比例混合上述之化合物(Va)與化合物(VIa)而調製。
再者,包含化合物(Va)與化合物(VIa)的混合物,例如亦可藉由於得到上述化合物(Va)之製造方法中,使用包含化合物(IIIa)與化合物(IVa)的混合物代替化合物(b)及化合物(c)而得。
(5)聚合性液晶組成物
本發明之聚合性液晶組成物含有上述之包含聚合性化合物的混合物(包含聚合性化合物(III)及聚合性化合物(IV)的混合物)與聚合起始劑。
還有,本發明之聚合性液晶組成物係如後述,適用作為本發明之高分子、光學薄膜、光學異向體之製造原料。而且,藉由本發明之聚合性液晶組成物,可以低成本製造能更安定地長時間維持液晶相,具有寬廣加工餘裕度,具有實用的低熔點,在通用溶劑中的溶解性優異,且於寬廣波長範圍中可進行相同偏光轉換之光學薄膜等。
此處,從更有效率地進行聚合性液晶組成物中所含有的聚合性化合物之聚合反應之觀點來看,摻合聚合起始劑。
而且,作為所用的聚合起始劑,可舉出自由基聚合起始劑、陰離子聚合起始劑、陽離子聚合起始劑等。
作為自由基聚合起始劑,因加熱產生能開始聚合性化合物之聚合的活性物種之化合物的熱自由基產生劑,或因可見光線、紫外線(i線等)、遠紫外線、電子線、X射線等之曝光光線的曝光,而產生能開始聚合性化合物之聚合的活性物種之化合物的光自由基產生劑,係皆可使用,但較宜使用光自由基產生劑。
作為光自由基產生劑,可舉出苯乙酮系化合物、雙咪唑系化合物、三系化合物、O-醯基肟系化合物、鎓鹽系化合物、苯偶姻系化合物、二苯基酮系化合物、α-二酮系化合物、多核醌系化合物、酮系化合物、重氮系化合物、亞胺基磺酸酯系化合物等。此等之化合物係因曝光而產生活性自由基或活性酸、或活性自由基與活性酸之兩者的成分。光自由基產生劑係可單獨一種或組合2種以上而使用。
作為苯乙酮系化合物之具體例,可舉出2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-啉代丙-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-啉代苯基)丁-1-酮、1-羥基環己基‧苯基酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮、1,2-辛烷二酮、2-苄基-2-二甲基胺基-4’-啉代苯丁酮等。
作為雙咪唑系化合物之具體例,可舉出2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧基羰基苯基)-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2-溴苯基)-4,4’,5,5’-四(4-乙氧 基羰基苯基)-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2,4-二氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2,4,6-三氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2-溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2,4-二溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-雙咪唑、2,2’-雙(2,4,6-三溴苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-雙咪唑等。
還有,於本發明中,使用雙咪唑系化合物作為光聚合起始劑(光自由基產生劑)時,合併使用氫供體者,係在能進一步改良感度之點上而較佳。
此處,所謂的「氫供體」,就是意指對於因曝光而從雙咪唑系化合物產生的自由基,可供予氫原子之化合物。作為氫供體,較佳為下述定義的硫醇系化合物、胺系化合物等。
作為硫醇系化合物,可舉出2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并唑、2-巰基苯并咪唑、2,5-二巰基-1,3,4-噻二唑、2-巰基-2,5-二甲基胺基吡啶等。作為胺系化合物,可舉出4,4’-雙(二甲基胺基)二苯基酮、4,4’-雙(二乙基胺基)二苯基酮、4-二乙基胺基苯乙酮、4-二甲基胺基苯丙酮、乙基-4-二甲基胺基苯甲酸酯、4-二甲基胺基苯甲酸、4-二甲基胺基苯甲腈等。
作為三系化合物,可舉出2,4,6-三(三氯甲基)-s-三、2-甲基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、 2-[2-(4-二乙基胺基-2-甲基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(4-乙氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三、2-(4-正丁氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三等之具有鹵甲基的三系化合物。
作為O-醯基肟系化合物之具體例,可舉出1-[4-(苯硫基)苯基]-庚烷-1,2-二酮2-(O-苯甲醯基肟)、1-[4-(苯硫基)苯基]-辛烷-1,2-二酮2-(O-苯甲醯基肟)、1-[4-(苯甲醯基)苯基]-辛烷-1,2-二酮2-(O-苯甲醯基肟)、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-乙酮1-(O-乙醯基肟)、1-[9-乙基-6-(3-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-乙酮1-(O-乙醯基肟)、1-(9-乙基-6-苯甲醯基-9H-咔唑-3-基)-乙酮1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫吡喃基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧戊環基)苯甲醯基}-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫呋喃甲氧基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-4-四氫吡喃基甲氧基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基 肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫呋喃甲氧基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基-5-四氫吡喃基甲氧基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)、乙酮-1-[9-乙基-6-{2-甲基-4-(2,2-二甲基-1,3-二氧戊環基)甲氧基苯甲醯基}-9H-咔唑-3-基]-1-(O-乙醯基肟)等。
又,作為光自由基產生劑,亦可直接使用市售品。作為具體例,可舉出BASF公司製之商品名:Irgacure 907、商品名:Irgacure 184、商品名:Irgacure 369、商品名:Irgacure 651、商品名:Irgacure 819、商品名:Irgacure 907及商品名:Irgacure OXE02、以及ADEKA公司製之商品名:ADK Optomer N1919等。
作為前述陰離子聚合起始劑,可舉出烷基鋰化合物;聯苯、萘、芘等的單鋰鹽或單鈉鹽;二鋰鹽或三鋰鹽等之多官能性起始劑等。
又,作為前述陽離子聚合起始劑,可舉出硫酸、磷酸、過氯酸、三氟甲烷磺酸等之質子酸;如三氟化硼、氯化鋁、四氯化鈦、四氯化錫之路易士酸;芳香族鎓鹽或芳香族鎓鹽與還原劑之合併使用系統。
此等之聚合起始劑係可單獨一種或組合二種以上而使用。
還有,於本發明之聚合性液晶組成物中,相對於100質量份的上述包含聚合性化合物的混合物,聚合起始劑之配合比例通常為0.1~30質量份,較佳為0.5~10質量份。
又,於本發明之聚合性液晶組成物中,為了調整表面張力,較佳為摻合界面活性劑。作為該界面活性劑,並沒有特別的限定,但一般較佳為非離子系界面活性劑。作為該非離子系界面活性劑,可使用市售品,例如可舉出分子量為數千左右的寡聚物之非離子系界面活性劑,例如NEOS公司製商品名:Ftergent 208G。
此處,於本發明之聚合性液晶組成物中,界面活性劑之配合比例,相對於100質量份的全部聚合性化合物,通常為0.01~10質量份,較佳為0.1~2質量份。
再者,於本發明之聚合性液晶組成物中,除了包含聚合性化合物的混合物、聚合起始劑、界面活性劑,在不對於本發明之效果產生影響之範圍內,亦可進一步包含其它成分。作為其它成分,可舉出金屬、金屬錯合物、染料、顏料、螢光材料、磷光材料、調平劑、搖變劑、凝膠化劑、多醣類、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗氧化劑、離子交換樹脂、氧化鈦等之金屬氧化物等。
又,作為其它成分,亦可舉出其它能共聚合的單體。具體而言,雖然沒有特別的限定,但例如可舉出4-(2-甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯甲酸-4’-甲氧基苯酯,4-(6-甲基丙烯醯氧基己氧基)苯甲酸聯苯酯,4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)苯甲酸-4’-氰基聯苯酯,4-(2-甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯甲酸-4’-氰基聯苯酯,4-(2-甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯甲酸-3’,4’-二氟苯酯,4-(2-甲基丙烯醯氧基乙氧基)苯甲酸萘酯,4-丙烯醯氧基-4’-癸基聯苯酯,4-丙烯醯氧基 -4’-氰基聯苯酯,4-(2-丙烯醯氧基乙氧基)-4’-氰基聯苯酯,4-(2-甲基丙烯醯氧基乙氧基)-4’-甲氧基聯苯酯,4-(2-甲基丙烯醯氧基乙氧基)-4’-(4”-氟苄氧基)-聯苯酯,4-丙烯醯氧基-4’-丙基環己基苯酯,4-甲基丙烯醯基-4’-丁基雙環己基、4-丙烯醯基-4’-戊基二苯基乙炔、4-丙烯醯基-4’-(3,4-二氟苯基)雙環己基、4-(2-丙烯醯氧基乙基)苯甲酸(4-戊基苯基)酯、4-(2-丙烯醯氧基乙基)苯甲酸(4-(4’-丙基環己基)苯基)酯、商品名「LC-242」(BASF公司製)、以及日本特開2007-002208號公報、日本特開2009-173893號公報、日本特開2009-274984號公報、日本特開2010-030979號公報、日本特開2010-031223號公報、日本特開2011-006360號公報及日本特開2010-24438號公報中揭示的化合物等之能共聚合的單體。
此等的其它成分之配合比例,相對於100質量份的全部聚合性化合物,通常為0.1~20質量份。
本發明之聚合性液晶組成物通常可藉由使包含聚合性化合物的混合物、聚合起始劑及依所欲摻合的其它成分等之指定量混合.溶解於適當的有機溶劑中而調製。
還有,此時作為混合物的聚合性化合物(III)與聚合性化合物(IV),係可以經預先混合的狀態添加,也可個別地添加。
作為所用的有機溶劑,可舉出環戊酮、環己酮、甲基乙基酮等之酮類;乙酸丁酯、乙酸戊酯等之 乙酸酯類;氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等之鹵化烴類;1,4-二烷、環戊基甲基醚、四氫呋喃、四氫吡喃、1,3-二氧戊環等之醚類等。
(6)高分子
本發明之高分子係將上述包含聚合性化合物的混合物(包含聚合性化合物(III)及聚合性化合物(IV)的混合物)或上述聚合性液晶組成物予以聚合而得。
此處,所謂的「聚合」,就是意指除了通常的聚合反應,還有包含交聯反應的廣義之化學反應。
而且,本發明之高分子通常具有來自聚合性化合物(III)的下述單體單元(重複單元(III)’)與來自聚合性化合物(IV)的單體單元(重複單元(IV)’)。
[式(III)’中之Ar1、D1、Z11、Z12、A11、A12、B11、B12、Y11、Y12、L11、L12、R4~R7、f、g、h、i、j及k係與式(III)相同的定義,式(IV)’中之Ar2、D2、Z21、Z22、A21、A22、B21、B22、Y21、Y22、L21、L22、R8、R9、m、n、p及q係與式(IV)相同的定義]。
還有,本發明之高分子由於使用包含聚合性化合物(III)及聚合性化合物(IV)的混合物來調製,而可良好使用作為光學薄膜等之構成材料。
又,本發明之高分子係沒有特別的限定,可作成為符合薄膜狀、粉體狀、粉體集合的層狀等之用途的任意形狀而使用。
具體而言,高分子之薄膜係可良好地使用作為後述之光學薄膜及光學異向體的構成材料,高分子之粉係可利用於塗料、防偽造物品、保全物品等,由高分子之粉所成的層係可良好地使用作為光學異向體的構成材料。
而且,本發明之高分子具體地可藉由以下之方法而適宜地製造:(α)藉由於適當的有機溶劑中,進行包含聚合性化合物的混合物或聚合性液晶組成物之聚合反應後,單離標的物之高分子,將所得之高分子溶解於適當的有機溶劑中而調製溶液,將此溶液塗布於適當的基板上,將所得之塗膜乾燥後,依所欲加熱而得到之法;(β)藉由將包含聚合性化合物的混合物或聚合性液晶組成物溶解於有機溶劑中,藉由眾所周知的塗布法,將此溶液塗布於基板上後,去除溶劑,接著加熱或照射活性能量線而進行聚合反應之方法等。
作為前述(α)之方法中聚合反應所用的有機溶劑,只要是惰性者,則沒有特別的限制。例如,可舉出甲苯、二甲苯、均三甲苯等的芳香族烴;環己酮、環戊酮、甲基乙基酮等之酮類;乙酸丁酯、乙酸戊酯等之乙酸酯類;氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等之鹵化烴類;環戊基甲基醚、四氫呋喃、四氫吡喃等之醚類等。
於此等之中,從操作性優異之觀點來看,沸點較佳為60~250℃,更佳為60~150℃。
又,作為於前述(α)之方法中用於溶解經單離的高分子之有機溶劑及前述(β)之方法所用的有機溶劑,可舉出丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環戊酮、環己酮等之酮系溶劑;乙酸丁酯、乙酸戊酯等之酯系溶劑;二氯甲烷、氯仿、二氯乙烷等之鹵化烴系溶劑;四氫呋喃、四氫吡喃、1,2-二甲氧基乙烷、1,4-二烷、環戊基甲基醚、1,3-二氧戊環等之醚系溶劑;N,N-二甲基甲醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、二甲基亞碸、γ-丁內酯、N-甲基吡咯啶酮等之非質子性極性溶劑等。於此等之中,從操作容易之點來看,溶劑的沸點較佳為60~200℃。此等之溶劑係可單獨使用,也可組合2種以上而使用。
作為前述(α)及(β)之方法中使用的基板,不論有機、無機,可使用眾所周知慣用的材質。例如,作為有機材料,可舉出聚環烯烴[例如,Zeonex、Zeonor(註冊商標;日本ZEON公司製)、Arton(註冊商標;JSR公司製)、及Apel(註冊商標;三井化學公司製)]、聚對苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、纖維素、三乙酸纖維素、聚醚碸等,作為無機材料,可舉出矽、玻璃、方解石等。
又,所用的基板係可為單層,也可為積層體。
作為基板,較佳為由有機材料所成之基板,更佳為使有機材料作成為薄膜狀之樹脂薄膜。
還有,作為基板,亦可舉出後述之光學異向體的製作中所用之基板等。
又,作為(α)之方法中將高分子的溶液塗布於基板上之方法及(β)之方法中將聚合反應用的溶液塗布於基板上之方法,可使用眾所周知之方法。具體而言,例如可使用簾幕塗布法、擠壓塗布法、輥塗法、旋轉塗布法、浸塗法、棒塗法、噴霧塗布法、滑動塗布法、印刷塗布法、凹版塗布法、模塗法、帽蓋塗布法等。
再者,作為前述(α)及(β)之方法中乾燥或去除溶劑之方法,可使用自然乾燥、加熱乾燥、減壓乾燥、減壓加熱乾燥等。
又,作為使混合物及聚合性液晶組成物聚合之方法,可舉出照射活性能量線之方法或熱聚合法等,但較佳為不需要加熱,於室溫下進行反應後,照射活性能量線之方法。其中,從操作簡便來看,較佳為照射紫外線等光之方法。
此處,光之照射時的溫度較佳設為30℃以下。光照射強度通常為1W/m2~10kW/m2之範圍,較佳為5W/m2~2kW/m2之範圍。
如上述所得之高分子亦可從基板轉印而使用,也可從基板剝離而以個體使用,也可不從基板剝離,直接當作為光學薄膜等的構成材料等來使用。
又,從基板剝離後的高分子,亦可用已知的方法粉碎成為粉體狀後使用。
如以上所得的本發明之高分子的數量平均分子量較佳為500~500,000,更佳為5,000~300,000。若該數量平均分子量為如此的範圍,則可得到高硬度,操作性亦優異而較宜。高分子的數量平均分子量係可藉由以單分散的聚苯乙烯作為標準試料,以四氫呋喃作為洗提液,藉由凝膠滲透層析法(GPC)測定。
而且,藉由本發明之高分子,可以低成本得到能更安定地長時間維持液晶相,具有寬廣加工餘裕度,具有實用的低熔點,在通用溶劑中的溶解性優異,且在寬廣波長範圍中可進行相同偏光轉換之在性能方面令人滿足的光學薄膜等。
(7)光學薄膜
本發明之光學薄膜係使用本發明之高分子所形成,包含具有光學機能的層。所謂的光學機能,就是意指僅穿透、反射、折射、雙折射等。
此處,本發明之光學薄膜係可為在可具有配向膜的配向基板上形成著之形態(配向基板/(配向膜)/光學薄膜)、在與配向基板不同的透明基板薄膜等上轉印有光學薄膜之形態(透明基板薄膜/光學薄膜)、或在光學薄膜具有自我支撐性時為光學薄膜單層形態(光學薄膜)之任一形態。
還有,作為配向膜及配向基板,可使用與後述之光學異向體相同的基板及配向膜。
而且,本發明之光學薄膜係可藉由以下之方法製造,(A)將包含聚合性化合物的混合物之溶液或聚 合性液晶組成物之溶液塗布於配向基板上,將所得之塗膜乾燥,進行熱處理(液晶之配向)以及光照射及/或加熱處理(聚合)之方法,或(B)將包含聚合性化合物的混合物或液晶性組成物予以聚合,將所得之液晶性高分子的溶液塗布於配向基板上,任意地乾燥所得的塗膜之方法。
本發明之光學薄膜係可用於光學異向體、液晶顯示元件用配向膜、彩色濾光片、低通濾光片、光偏光稜鏡、各種濾光片等。
還有,本發明之光學薄膜係自以橢圓偏光儀測定在波長449.9nm、548.5nm、650.2nm之相位差所求得的下述α值及β值較佳為在指定之範圍內。具體而言,α值較佳為0.70~0.99,更佳為0.75~0.90。又,β值較佳為1.00~1.25,更佳為1.01~1.20。
α=(在449.9nm的相位差)/(在548.5nm的相位差)
β=(在650.2nm的相位差)/(在548.5nm的相位差)
(8)光學異向體
本發明之光學異向體具有以本發明之高分子作為構成材料之層。
本發明之光學異向體例如可藉由在基板上形成配向膜,在該配向膜上進一步形成由本發明之高分子所成的層(液晶層)而得。還有,本發明之光學異向體亦可為在基板上直接形成有由本發明之高分子所成的層(液晶層)者,也可為僅由本發明之高分子所成的層(液晶層)者。
再者,由高分子所成的層亦可為由薄膜狀的高分子所成者,也可為粉體狀的高分子之集合體。
此處,配向膜係為了在面內將聚合性液晶化合物配向管制於一方向中,而形成在基板之表面。
配向膜係可藉由將含有聚醯亞胺、聚乙烯醇、聚酯、聚芳酯、聚醯胺醯亞胺、聚醚醯亞胺等聚合物之溶液(配向膜用組成物)以膜狀塗布於基板上,使其乾燥,然後在一方向中摩擦處理等而得。
配向膜之厚度較佳為0.001~5μm,更佳為0.001~1μm。
摩擦處理之方法係沒有特別的限制,可舉出例如以捲附有由尼龍等之合成纖維、木綿等之天然纖維所成的布或毛氈之輥,在一定方向中摩擦配向膜之方法。為了去除摩擦處理時所發生的微粉末(異物)而使配向膜之表面成為乾淨狀態,較佳為在摩擦處理後藉由異丙醇等洗淨配向膜。
又,除了摩擦處理之方法之外,還可藉由對於配向膜的表面照射偏光紫外線之方法,而亦具有在面內配向管制於一方向中之機能。
作為形成配向膜之基板,可舉出由玻璃基板、合成樹脂薄膜所成之基板等。作為前述合成樹脂,可舉出丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯樹脂、聚碸樹脂、聚芳酯樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚氯乙烯樹脂、二乙酸纖維素、三乙酸纖維素及脂環式烯烴聚合物等之熱塑性樹脂。
作為脂環式烯烴聚合物,可舉出日本特開平05-310845號公報、美國專利第5179171號說明書中記載之環狀烯烴無規多元共聚物、日本特開平05-97978號公報、美國專利第5202388號說明書中記載之氫化聚合物、日本特開平11-124429號公報(國際公開99/20676號)中記載之熱塑性二環戊二烯系開環聚合物及其氫化物等。
於本發明中,作為在配向膜上形成由本發明之高分子所成的液晶層之方法,可舉出與前述本發明之高分子的項目中所記載者相同之方法(前述(α)及(β))。
所得之液晶層的厚度係沒有特別的限制,但通常為1~10μm。
還有,作為本發明之光學異向體的一種,並沒有沒有特別的限定,可舉出相位差板、視野角擴大板等。
再者,本發明之光學異向體係自以橢圓偏光儀測定在波長449.9nm、548.5nm、650.2nm之相位差所求得的下述α值及β值較佳為在指定之範圍內。具體而言,α值較佳為0.70~0.99,更佳為0.75~0.90。又,β值較佳為1.00~1.25,更佳為1.01~1.20。
α=(在449.9nm的相位差)/(在548.5nm的相位差)
β=(在650.2nm的相位差)/(在548.5nm的相位差)
(9)偏光板等
本發明之偏光板包含本發明之光學異向體及偏光薄膜。
作為本發明之偏光板的具體例,可舉出於偏光薄膜上,直接或隔著其它層(玻璃板等),積層本發明之光學異向體而成者。
偏光薄膜之製造方法係沒有特別的限定。作為製造PVA系的偏光薄膜之方法,可舉出:使碘離子吸附於PVA系薄膜後,單軸延伸之方法;單軸延伸PVA系薄膜後,使其吸附碘離之方法;同時進行碘離子對於PVA系薄膜之吸附與單軸延伸之方法;以二色性染料將PVA系薄膜染色後,單軸延伸之方法;單軸延伸PVA系薄膜後,以二色性染料染色之方法;同時進行二色性染料對於PVA系薄膜之染色與單軸延伸之方法。又,作為製造多烯系的偏光薄膜之方法,可舉出:單軸延伸PVA系薄膜後,於脫水觸媒存在下加熱‧脫水之方法;單軸延伸聚氯乙烯系薄膜後,於脫鹽酸觸媒存在下加熱‧脫鹽酸之方法等之眾所周知的方法。
於本發明之偏光板中,偏光薄膜與本發明之光學異向體亦可隔著由接著劑(包含黏著劑)所成的接著層相接。接著層之平均厚度通常為0.01μm~30μm,較佳為0.1μm~15μm。前述接著層係依照JIS K7113的拉伸破壞強度較佳為40MPa以下之層。
作為構成接著層的接著劑,可舉出丙烯酸接著劑、胺基甲酸酯接著劑、聚酯接著劑、聚乙烯醇接著劑、聚烯烴系接著劑、改性聚烯烴接著劑、聚乙烯基烷基醚接著劑、橡膠接著劑、氯乙烯-乙酸乙烯酯接著劑、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物(SBS共聚物)接著劑、 其氫化物(SEBS共聚物)接著劑、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物及乙烯-苯乙烯共聚物等之乙烯接著劑、以及乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸乙酯共聚物及乙烯-丙烯酸乙酯共聚物等之丙烯酸酯接著劑等。
本發明之偏光板由於使用本發明之光學異向體,可以低成本製造,反射亮度低,且於寬廣波長範圍中可進行相同偏光轉換,性能方面亦優異。
又,藉由使用本發明之偏光板,可適合製造使用液晶面板的平板顯示裝置、或使用有機電致發光面板的有機電致發光顯示裝置、或抗反射薄膜。
[實施例]
以下,藉由實施例更詳細說明本發明。惟,本發明完全不受以下的實施例所限制。
(合成例1)化合物1之合成
步驟1:中間體A之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加17.98g(104.42mmol)的反式-1,4-環己烷二羧酸與180ml的四氫呋喃(THF)。於其中,添加6.58g(57.43mmol)的甲磺醯氯,將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為20℃。接著,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費10分鐘滴下6.34g(62.65mmol)的三乙胺。滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。
於所得之反應液中,添加0.64g(5.22mmol)的4-(二甲基胺基)吡啶及13.80g(52.21mmol)的4-(6-丙烯醯氧基-己-1-基氧基)苯酚(DKSH公司製),再度將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為15℃。於其中,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費10分鐘滴下6.34g(62.65mmol)的三乙胺,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。反應結束後,於反應液中加入1000ml的蒸餾水與100ml的飽和食鹽水,以400ml的乙酸乙酯萃取2次。收集有機層,以無水硫酸鈉乾燥,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中蒸發去除溶劑後,藉由矽凝膠管柱層析法(THF:甲苯=1:9(容積比,以下相同))將所得之殘留物純化。以高速液體層析法進行分析,重複以矽凝膠管柱層析法之純化直到純度成為99.5%以上為止。結果,得到14.11g成為白色固體的中間體A(產率:65莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6,TMS,δppm):12.12(s,1H),6.99(d,2H,J=9.0Hz),6.92(d,2H,J=9.0Hz),6.32(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.17(dd,1H,J=10.0Hz,17.5Hz),5.93(dd,1H,J=1.5Hz,10.0Hz),4.11(t,2H,J=6.5Hz),3.94(t,2H,J=6.5Hz),2.48-2.56(m,1H),2.18-2.26(m,1H),2.04-2.10(m,2H),1.93-2.00(m,2H),1.59-1.75(m,4H),1.35-1.52(m,8H)
步驟2:中間體B之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入4.00g(9.56mmol)的前述步驟1所合成之中間體A及60ml的THF,成為均勻的溶液。於其中,添加1.12g(9.78mmol)的甲磺醯氯,將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為20℃。接著,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費5分鐘滴下1.01g(9.99mmol)的三乙胺,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。於所得之反應液中,添加0.11g(0.87mmol)的4-(二甲基胺基)吡啶及0.60g(4.35mmol)的2,5-二羥基苯甲醛,再度將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為15℃。於其中,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費5分鐘滴下1.10g(10.87mmol)的三乙胺,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。反應結束後,於反應液中加入400ml的蒸餾水與50ml的飽和食 鹽水,以750ml乙酸乙酯萃取2次。收集有機層,以無水硫酸鈉乾燥,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中蒸發去除溶劑後,使所得之殘留物溶解於100ml的THF中。於其溶液中加入500ml的甲醇而使結晶析出,濾取所析出的結晶。以甲醇洗淨所得之結晶後,真空乾燥,得到2.51g白色固體的中間體B(產率:62莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6,TMS,δppm):10.02(s,1H),7.67(d,1H,J=3.0Hz),7.55(dd,1H,J=3.0Hz,8.5Hz),7.38(d,1H,J=8.5Hz),6.99-7.04(m,4H),6.91-6.96(m,4H),6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.17(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz),5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz),4.11(t,4H,J=6.5Hz),3.95(t,4H,J=6.5Hz),2.56-2.81(m,4H),2.10-2.26(m,8H),1.50-1.76(m,16H),1.33-1.49(m,8H)
步驟3:化合物1之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入2.30g(2.45mmol)的前述步驟2所合成的中間體B及25ml的THF,成為均勻的溶液,於其中加入0.49ml(0.25mmol)的濃鹽酸。於此溶液中,耗費15分鐘滴下0.40g(2.45mmol)的2-肼基苯并噻唑之5ml的THF溶液,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌1小時。反應結束後,將反應液投入400ml的甲醇中,濾取所析出的固體。以真空乾燥機乾燥所濾取的固體,得到2.4g成為淡黃色固體的化合物1(產率:90莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6,TMS,δppm):12.63(s,1H),8.10(s,1H),7.80(d,1H,J=5.0Hz),7.60(d,1H,J=3.0Hz),7.48(s,1H),7.21-7.35(m,3H),7.14(t,1H,J=7.5Hz),6.98-7.05(m,4H),6.91-6.97(m,4H),6.32(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.18(dd,2H,J=10.0Hz,17.5Hz),5.93(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz),4.12(t,4H,J=6.5Hz),3.95(t,4H,J=6.5Hz),2.56-2.83(m,4H),2.11-2.30(m,8H),1.52-1.80(m,16H),1.33-1.49(m,8H)
(合成例2)化合物2之合成
步驟1:中間體C之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入2.00g(12.1mmol)的2-肼基苯并噻唑,溶解於20ml的N,N-二甲基甲醯胺(DMF)中。於此溶液中加入8.36g(60.5mmol)的碳酸鉀、3.08g(14.5mmol)的1-碘己烷,在50℃下攪拌7小時。反應結束後,將反應液冷卻 到20℃為止,將反應液投入200mL的水中,以300ml的乙酸乙酯萃取。然後,以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(己烷:乙酸乙酯=75:25)將此黃色固體純化,得到2.10g成為白色固體的中間體C(產率:69.6莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.53(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.27(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz),7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz),4.22(s,2H),3.74(t,2H,J=7.5Hz),1.69-1.76(m,2H),1.29-1.42(m,6H),0.89(t,3H,J=7.0Hz)
步驟2:化合物2之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入697mg(2.37mmol)的前述步驟1所合成之中間體C及2.00g(2.13mmol)的合成例1之步驟2所合成之中間體B,使其溶解於3ml的乙醇及20ml的THF之混合溶劑中。於此溶液中,添加55.1mg(0.237mmol)的(±)-10-樟腦磺酸,在40℃下攪拌5小時。反應結束後,將反應液投入150ml的水中,以300ml的乙酸乙酯萃取。以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到白色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=90:10)將此白色固體純化,得到2.24g成為白色固體的化合物2(產率:86.4莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(400MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=2.5Hz),7.67-7.70(m,3H),7.34(ddd,1H,J=1.0Hz,7.0Hz,7.5Hz),7.17(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,7.5Hz),7.12(d,1H,J=9.0Hz),7.10(dd,1H,J=2.5Hz,9.0Hz),6.99(d,2H,J=9.0Hz),6.98(d,2H,J=9.0Hz),6.88(d,4H,J=9.0Hz),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz),6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.30(t,2H,J=8.0Hz),4.18(t,4H,J=6.5Hz),3.95(t,4H,J=6.5Hz),2.58-2.70(m,4H),2.31-2.35(m,8H),1.66-1.82(m,18H),1.31-1.54(m,14H),0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(合成例3)化合物3之合成
步驟1:中間體D之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入3.00g(17.69mmol)的2-氯苯并噻唑與7.65g(70.74mmol)的苯基肼,使其溶解於30ml的乙二醇中。將此溶液加熱至140℃,反應5小時。然後,於反應液中加入300ml的蒸餾水,以100ml的乙酸乙酯萃取2次。以硫酸鈉乾燥有機層,以旋轉式蒸發器濃縮後,添加15ml的THF而使其溶解,將其溶液投入300ml的蒸餾水中。過濾所析出的固體,以蒸餾水洗淨後,真空乾燥而得到黃色固體。將所得之黃色固體置入燒瓶內,添加50ml的甲苯,攪拌30分鐘後,進行過濾而去除甲苯中不溶的固體成分。以旋轉式蒸發器濃縮濾液後,藉由矽凝膠管柱層析法(THF:甲苯=2:50)純化,得到0.94g成為黃色油的中間體D(產率:22莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6,TMS,δppm):8.01(dd,2H,J=1.0Hz,9.0Hz),7.78(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.51(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.43(dd,2H,J=7.5Hz,8.5Hz),7.28(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz),7.08-7.16(m,2H),6.26(s,2H)
步驟2:化合物3之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入1.00g(1.06mmol)的合成例1之化合物1的合成步驟2所合成之中間體B,使其溶解於30ml的THF中。於此溶液中,添加0.22ml(0.22mmol)的1N鹽酸與0.38g(1.60mmol)的前述步驟1所合成之中間體D,在40 ℃下反應2小時。然後,以旋轉式蒸發器濃縮反應液後,藉由矽凝膠管柱層析法(氯仿:THF=40:1)純化,得到1.14g成為淡黃色固體的化合物3(產率:95莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.82(d,1H,J=2.5Hz),7.73(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.64-7.70(m,2H),7.60(d,2H,J=7.5Hz),7.35-7.42(m,3H),7.30(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz),7.18(dt,1H,J=1.0Hz,7.5Hz),7.03-7.12(m,2H),7.00(d,2H,J=9.0Hz),6.99(d,2H,J=9.0Hz),6.90(d,2H,J=9.0Hz),6.89(d,2H,J=9.0Hz),6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.18(t,2H,J=6.5Hz),4.18(t,2H,J=6.5Hz),3.92-3.98(m,4H),2.56-2.71(m,2H),2.41-2.50(m,1H),2.27-2.40(m,5H),2.12-2.22(m,2H),1.64-1.91(m,14H),1.41-1.56(m,10H),1.19-1.31(m,2H)
(合成例4)化合物4之合成
步驟1:中間體E之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入2.50g(16.6mmol)的環己基肼鹽酸鹽,溶解於8ml的三乙胺中。於此溶液中加入5.63g(33.2mmol)的2-氯苯并噻唑,在80℃下攪拌5小時。反應結束後,將反應液冷卻到20℃為止,將反應液投入150ml的飽和碳酸氫鈉水溶液中,以300ml的乙酸乙酯萃取。然後,以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(己烷:乙酸乙酯=75:25)將此黃色固體純化,得到1.02g成為白色固體的中間體E(產率:22.3莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(400MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.58(d,1H,J=7.8Hz),7.52(d,1H,J=8.2Hz),7.26(dd,1H,J=7.4Hz,8.2Hz),7.05(dd,1H,J=7.4Hz,7.8Hz),4.25-4.32(m,1H),4.04(s,2H),1.84-1.88(m,4H),1.68-1.73(m,1H),1.43-1.59(m,4H),1.08-1.19(m,1H)
步驟2:化合物4之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加1.40g(1.49mmol)的合成例1之化合物1的合成步驟2所 合成之中間體B、456mg(1.84mmol)的前述步驟1所合成之中間體E、38.6mg(0.166mmol)的(±)-10-樟腦磺酸、16ml的THF及4ml的乙醇,作成為均勻的溶液。然後,在40℃下反應5小時。反應結束後,將反應液投入100ml的水中,以200ml的乙酸乙酯萃取。以無水硫酸鈉乾燥所得之乙酸乙酯層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(氯仿:THF=97:3)將此黃色固體純化,得到1.24g成為淡黃色固體的化合物4(產率:71.4莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):8.15(s,1H),7.72(d,1H,J=1.5Hz),7.68(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz),7.66(dd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz),7.31-7.35(m,1H),7.14-7.18(m,1H),7.13(d,1H,J=9.0Hz),7.10(dd,1H,J=1.5Hz,9.0Hz),6.96-7.00(m,4H),6.86-6.90(m,4H),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz),6.13(dd,2H,J=10.0Hz,17.0Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.0Hz),4.62-4.70(m,1H),4.17(t,4H,J=6.5Hz),3.94(t,4H,J=6.5Hz),2.55-2.74(m,4H),2.27-2.47(m,10H),1.90-2.00(m,4H),1.65-1.85(m,16H),1.42-1.55(m,10H),1.24-1.33(m,2H)
(合成例5)化合物5之合成
步驟1:中間體F之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入2.00g(12.1mmol)的2-肼基苯并噻唑,使其溶解於30ml的DMF中。於此溶液中加入7.88g(24.2mol)的碳酸銫,冷卻到0℃,耗費5分鐘滴下1.98g(14.5mmol)的丁基2-氯乙基醚,然後使反應液回到室溫(23℃,以下相同)下,攪拌3小時。反應結束後,於反應液中加入200ml的水,以100ml的乙酸乙酯萃取2次。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(正己烷:乙酸乙酯=75:25)純化,得到1.70g成為白色固體的中間體F(產率53.0莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.61(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.50(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.27-7.29(m,1H),7.04-7.08(m,1H),4.70(s,2H),4.01(t,2H,J=5.0Hz),3.82(t,2H,J=5.0Hz),3.44(t,2H,J=7.0Hz),1.52-1.57(m,2H),1.31-1.39(m,2H),0.90(t,3H,J=7.0Hz)
步驟2:化合物5之合成
於具備溫度計的3口反應器中在氮氣流下,添加1.50g(1.60mmol)之合成例1的步驟2所合成之中間體 B、396mg(1.78mmol)的前述步驟1所合成之中間體F、41.4mg(0.178mmol)的(±)-10-樟腦磺酸、16ml的THF及4ml的乙醇,作成為均勻的溶液。然後,在40℃下反應5小時。反應結束後,將反應液投入100ml的水中,以200ml的乙酸乙酯萃取。以無水硫酸鈉乾燥所得之乙酸乙酯層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=9:1)將此黃色固體純化,得到1.31g成為淡黃色固體的化合物5(產率:69.4莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):8.03(s,1H),7.76(d,1H,J=1.5Hz),7.65-7.71(m,2H),7.34(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz),7.17(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz),7.09-7.12(m,2H),6.96-7.00(m,4H),6.87-6.90(m,4H),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.45(t,2H,J=5.5Hz),4.18(t,4H,J=7.0Hz),3.95(t,4H,J=7.0Hz),3.79(t,2H,J=5.5Hz),3.44(t,2H,J=7.0Hz),2.55-2.74(m,4H),2.28-2.40(m,8H),1.65-1.83(m,16H),1.42-1.55(m,10H),1.25-1.34(m,2H),0.85(t,3H,J=7.0Hz)
(合成例6)化合物6之合成
步驟1:中間體G之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入5.04g(30.5mmol)的2-肼基苯并噻唑,溶解於50ml的DMF中。於此溶液中加入14.9g(45.8mmol)的碳酸銫、4.94g(36.6mmol)的4-溴-1-丁烯,在室溫下攪拌7小時。反應結束後,將反應液投入200ml的水中,以300ml的乙酸乙酯萃取。然後,以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(正己烷:乙酸乙酯=70:30)將此黃色固體純化,得到4.40g成為白色固體的中間體G(產率:49.5莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.60(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.54(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.28(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz),7.06(ddd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz,8.0Hz),5.89(ddt,1H,J=7.0Hz,10.5Hz,17.0Hz),5.17(ddt,1H,J=1.5Hz,3.0Hz,17.0Hz), 5.09(ddt,1H,J=1.0Hz,3.0Hz,10.5Hz),4.26(s,2H),3.85(t,2H,J=7.0Hz),2.52(dddt,2H,J=1.0Hz,1.5Hz,7.0Hz,7.0Hz)
步驟2:化合物6之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入195mg(1.77mmol)的前述步驟1所合成之中間體G及1.50g(1.60mmol)的合成例1之化合物1的合成步驟2所合成之中間體B,使其溶解於3ml的乙醇及15ml的THF之混合溶劑中。於此溶液中加入41.2mg(0.177mmol)的(±)-10-樟腦磺酸,在40℃下攪拌8小時。反應結束後,將反應液投入150ml的水中,以300ml的乙酸乙酯萃取。然後,以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=90:10)將此黃色固體純化,得到1.26g成為白色固體的化合物6(產率:69.3莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.76(d,1H,J=2.5Hz),7.67-7.70(m,3H),7.35(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz),7.18(ddd,1H,J=1.5Hz,7.5Hz,8.0Hz),7.10-7.14(m,2H),6.99(d,2H,J=9.5Hz),6.98(d,2H,J=9.5Hz),6.88(d,4H,J=9.5Hz),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.89(ddt,1H,J=6.5Hz,10.5Hz,17.0Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz),5.18(dd,1H,J=1.5Hz,17.0Hz), 5.15(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.38(t,2H,J=7.0Hz),4.18(t,4H,J=6.5Hz),395(t,4H,J=6.5Hz),2.58-2.68(m,4H),2.51(dt,2H,J=6.5Hz,7.0Hz),2.31-2.35(m,8H),1.76-1.85(m,4H),1.65-1.74(m,12H),1.41-154(m,8H)
(合成例7)化合物7之合成
步驟1:中間體H之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入2.00g(12.1mmol)的2-肼基苯并噻唑,使其溶解於30ml的DMF中。於此溶液中加入7.88g(24.2mol)的碳酸銫,冷卻到0℃,耗費5分鐘滴下2.39g(14.5mmol)的2-溴己烷,然後使反應液回到室溫,攪拌3小時。反應結束後,於反應液中加入200ml的水,以100ml的乙酸乙酯萃取2次。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(正己烷:乙酸乙酯=93:7)純化,得到1.61g成為白色固體的中間體H(產率53.4莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(400MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.59(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.52(dd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz),7.24-7.30(m,1H),7.05(ddd,1H,J=1.0Hz,8.0Hz,8.0Hz),3.97(s,2H),1.47-1.74(m,3H),1.20-1.41(m,7H),0.89(t,3H,J=5.5Hz)
步驟2:化合物7之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加1.50g(1.60mmol)的合成例1之化合物1的合成步驟2所合成之中間體B、444mg(1.78mmol)的前述步驟1所合成之中間體H、41.4mg(0.178mmol)的(±)-10-樟腦磺酸、16ml的THF及4ml的乙醇,作成為均勻的溶液。然後,在40℃下反應5小時。反應結束後,將反應液投入100ml的水中,以200ml的氯仿萃取。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=92:8)純化,得到1.35g成為淡黃色固體的化合物7(產率:72.4莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):8.04(s,1H),7.73(d,1H,J=1.5Hz),7.69(dd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz),7.65(dd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz),7.33(ddd,1H,J=1.5Hz,7.8Hz,7.8Hz),7.07-7.19(m,3H),6.95-7.01(m,4H),6.85-6.91(m,4H),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.18(t,4H,J=6.5Hz),3.95(t,4H,J=6.5Hz), 2.54-2.73(m,4H),2.25-2.40(m,8H),1.65-1.83(m,16H),1.60-1.62(m,2H),1.57(d,3H,J=7.5Hz),1.24-1.55(m,13H),0.87(t,3H,J=7.5Hz)
(合成例8)化合物8之合成
步驟1:中間體I之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入2.00g(12.1mmol)的2-肼基苯并噻唑,溶解於30ml的DMF中。於此溶液中加入7.88g(24.2mmol)的碳酸銫、1.93g(14.5mmol)的1-溴-2-丁炔,在室溫下攪拌20小時。反應結束後,將反應液投入200ml的水中,以300ml的乙酸乙酯萃取,以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到褐色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(正己烷:乙酸乙酯=85:15)將此褐色固體純化,得到1.25g成為白色固體的中間體I(產率:47.5莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.63(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz),7.58(dd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz),7.29(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz),7.10(ddd,1H,J=1.3Hz,7.8Hz,7.8Hz),4.56(q、2H,J=2.5Hz),4.36(s,2H),1.84(t,3H,J=2.5Hz)
步驟2:化合物8之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加1.50g(1.60mmol)的合成例1之化合物1的合成步驟2所合成之中間體B、387mg(1.78mmol)的前述步驟1所合成之中間體I、41.4mg(0.178mmol)的(±)-10-樟腦磺酸、16ml的THF及4ml的乙醇,作成為均勻的溶液。然後,在40℃下反應5小時。反應結束後,將反應液投入100ml的水中,以200ml的氯仿萃取。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=9:1)純化,得到1.54g成為淡黃色固體的化合物8(產率:84.9莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.90(s,1H),7.78(d,1H,J=1.3Hz),7.67-7.73(m,2H),7.35(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz),7.18(ddd,1H,J=1.3Hz,7.5Hz,7.5Hz),7.09-7.15(m,2H),6.95-7.01(m,4H),6.85-6.91(m,4H),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz),6.13(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz),5.06(d,2H,J=2.0Hz),4.18(t,4H,J=6.0Hz),3.95(t,4H,J=6.0Hz),2.55-2.76(m,4H),2.26-2.43(m,8H),1.64-1.83(m,19H),1.41-1.55(m,8H)
(合成例9)化合物9之合成
步驟1:中間體J之合成
於具備溫度計的4口反應器中,在氮氣流下,置入5.00g(30.3mmol)的2-肼基苯并噻唑,溶解於100ml的DMF中。於此溶液中加入20.9g(152mmol)的碳酸鉀、5.17g(30.3mmol)的5-溴戊腈,在60℃下攪拌8小時。反應結束後,將反應液冷卻到20℃為止,將反應液投入500mL的水中,以500ml的乙酸乙酯萃取。以無水硫酸鈉乾燥乙酸乙酯層。過濾分離硫酸鈉後,以旋轉式蒸發器減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(正己烷:乙酸乙酯=60:40)將此黃色固體純化,得到3.41g成為白色固體的中間體J(產率:45.7莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(400MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.60(d,1H,J=7.8Hz),7.51(d,1H,J=8.1Hz),7.28(dd,1H,J=7.3、8.1Hz),7.07(dd,1H,J=7.3Hz,7.8Hz),4.23(s,2H), 3.81(t,2H,J=6.9Hz),2.46(t,2H,J=7.1Hz),1.88-1.95(m,2H),1.71-1.79(m,2H)
步驟2:化合物9之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加1.50g(1.60mmol)的合成例1之化合物1的合成步驟2所合成之中間體B、438mg(1.78mmol)的前述步驟1所合成之中間體J、41.4mg(0.178mmol)的(±)-10-樟腦磺酸、16ml的THF及4ml的乙醇,作成為均勻的溶液。然後,在40℃下反應5小時。反應結束後,將反應液投入100ml的水中,以200ml的乙酸乙酯萃取。以無水硫酸鈉乾燥所得之乙酸乙酯層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中減壓餾去乙酸乙酯,得到黃色固體。藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=85:15)將此黃色固體純化,得到1.31g成為淡黃色固體的化合物9(產率:70.2莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):7.74(d,1H,J=1.5Hz),7.64-7.72(m,3H),7.35(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz),7.19(ddd,1H,J=1.5Hz,8.0Hz,8.0Hz),7.10-7.14(m,2H),6.96-7.01(m,4H),6.86-6.91(m,4H),6.40(dd,2H,J=1.5Hz,17.0Hz),6.12(dd,2H,J=10.5Hz,17.0Hz),5.82(dd,2H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.22(t,2H,J=6.5Hz),4.18(t,4H,J=6.5Hz),3.95(t,4H,J=6.5Hz),2.58-2.75(m,4H),2.55(t,2H,J=6.5Hz),2.26-2.40(m,8H),1.96(tt,2H,J=6.5Hz,6.5Hz),1.66-1.83(m,18H),1.42-1.55(m,8H)
(實施例1)化合物X之合成
步驟1:中間體K之合成
於具備冷卻器及溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加104.77g(0.9515mol)的氫醌、100g(0.7320mol)的6-氯己醇、500g的蒸餾水、100g鄰二甲苯。一邊攪拌全部內容物,一邊更以內容物的溫度不超過40℃之方式,耗費20分鐘少量一點一點地添加35.15g(0.8784mol)的氫氧化鈉。於氫氧化鈉之添加結束後,加熱內容物,於回流條件(96℃)下更進行12小時反應。
反應結束後,將反應液之溫度降低至80℃,添加200g的蒸餾水後,藉由將反應液冷卻到10℃而使結晶析出。藉由過濾所析出的結晶而固液分離,以500g的蒸餾水洗淨所得之結晶,真空乾燥而得到123.3g的褐色結晶。
以高速液體層析法分析此褐色結晶,結果褐色結晶中所含有的化合物之含量比(莫耳比)為(氫醌/中間體K/副生成物K=1.3/90.1/8.1)。不純化此混合物,直接使用於步驟2。
步驟2:中間體L之合成
於具備附狄安-史塔克管的冷卻器及溫度計之3口反應器中,在氮氣流下,添加10.00g的前述步驟1所合成之含有中間體K的褐色結晶、100g的甲苯、0.105g(0.476mmol)的2,6-二第三丁基對甲酚,攪拌全部內容物。將溶液加熱到80℃,添加20.56g(0.1427mol)的丙烯酸2-羧基乙酯、1.37g(14.3mmol)的甲磺酸,於回流條件(110℃)下,一邊去除所生成的水,一邊進行脫水反應2小時。接著,將反應液冷卻到30℃,添加500g的蒸餾水,攪拌全部內容物後,靜置。分離取得有機層,於所得之有機層中加入500g的5%食鹽水,進行分液。分離取得有機層,以無水硫酸鈉乾燥、過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=8:1)純化,以步驟1~2總共得到7.93g成為白色固體的中間體L(產率:40莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):6.77(d,2H,J=9.0Hz),6.76(d,2H,J=9.0Hz),6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.11(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz), 5.83(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.83(s,1H),4.44(t,2H,J=6.5Hz),4.13(t,2H,J=6.5Hz),3.89(t,2H,J=6.5Hz),2.69(t,2H,J=6.5Hz),1.71-1.80(m,2H),1.62-1.70(m,2H),1.36-1.52(m,4H)
步驟3:中間體M之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加3.58g(0.0208mol)的反式-1,4-環己烷二羧酸與25ml的THF。接著,添加1.25g(0.0109mol)的甲磺醯氯,將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為5℃。然後,以反應液內溫成為15℃以下之方式,耗費15分鐘滴下1.15g(0.0114mol)的三乙胺。將反應液在5℃下攪拌1小時後,添加0.127g(1.04mmol)的4-(二甲基胺基)吡啶、3.51g(0.0104mol)的中間體L,以反應液內溫成為15℃以下之方式,耗費15分鐘滴下1.15g(0.0114mol)的三乙胺。然後,使反應液在25℃下反應2小時。反應結束後,於反應液中加入300ml的蒸餾水與30ml的飽和食鹽水,以200ml的氯仿萃取2次。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(氯仿:THF=95:5)純化,得到2.41g成為白色固體的中間體M(產率:47莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):6.96(d,2H,J=9.0Hz),6.86(d,2H,J=9.0Hz),6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.11(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.83(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.44(t,2H,J=6.5Hz),4.13(t,2H,J=6.5Hz),3.93(t,2H,J=6.5Hz),2.69(t,2H,J=6.5Hz),2.47-2.57(m,1H),2.34-2.43(m,1H),2.12-2.28(m,4H),1.73-1.82(m,2H),1.36-1.71(m,10H)
步驟4:中間體N之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加3.90g(8.85mmol)的合成例1之步驟1所合成的中間體A、0.52g(7.1mmol)的DMF、39g的甲苯。將溶液冷卻到5℃,耗費10分鐘滴下1.10g(9.3mmol)的亞硫醯氯後,在5℃下反應1小時。然後,以旋轉式蒸發器濃縮反應液後,真空乾燥而得到白色固體。
又,於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入6.10g(0.0443mol)的2,5-二羥基苯甲醛與0.985g(9.7mmol)的三乙胺,使其溶解於35g的THF中。將溶液冷卻至5℃,添加上述所得之白色固體,反應30分鐘。然後,於反應液中加入200ml的蒸餾水與10ml的飽和食鹽水,以100ml的乙酸乙酯萃取2次。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式 蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:THF=95:5)純化,得到1.53g成為白色固體的中間體N(產率:32莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,CDCl3,TMS,δppm):10.91(s,1H),9.86(s,1H),7.32(d,1H,J=3.0Hz),7.24(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz),7.01(d,1H,J=9.0Hz),6.97(d,2H,J=9.0Hz),6.87(d,2H,J=9.0Hz),6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.12(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.17(t,2H,J=6.5Hz),3.94(t,2H,J=6.5Hz),2.51-2.65(m,2H),2.20-2.35(m,4H),1.75-1.83(m,2H),1.63-1.75(m,6H),1.36-1.55(m,4H)
步驟6:中間體P之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入1.00g(2.04mmol)的前述步驟3所合成之中間體M,使其溶解於15ml的THF中。接著,添加0.234g(2.04mmol)的甲磺醯氯,將溶液冷卻到5℃,耗費10分鐘滴下0.236g(2.33mmol)的三乙胺。使反應液在5℃下反應1小時後,添加0.018g(0.15mmol)的4-二甲基胺基吡啶、0.786g(1.46mmol)的前述步驟4所合成之中間體N,耗費10分鐘滴下0.177g(1.75mmol)的三乙胺。然後,使反應液成為25℃,反應2小時後,於反應液中加 入200ml的蒸餾水與20ml的飽和食鹽水,以100ml的氯仿萃取2次。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(氯仿:THF=99:1)純化,得到1.15g成為白色固體的中間體P(產率:78莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6,TMS,δppm):10.08(s,1H),7.61(d,1H,J=3.0Hz),7.37(dd,1H,J=3.0Hz,9.0Hz),7.20(d,1H,J=9.0Hz),6.98(d,2H,J=9.0Hz),6.97(d,2H,J=9.0Hz),6.88(d,2H,J=9.0Hz),6.88(d,2H,J=9.0Hz),6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),6.11(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.83(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.44(t,2H,J=6.5Hz),4.17(t,2H,J=6.5Hz),4.13(t,2H,J=6.5Hz),3.94(t,2H,J=6.5Hz),3.94(t,2H,J=6.5Hz),2.53-2.74(m,6H),2.20-2.39(m,8H),1.60-1.83(m,16H),1.34-1.56(m,8H)
步驟7:化合物X之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,使0.944g(0.934mmol)的前述步驟6所合成之中間體P、0.279g(1.12mmol)的合成例2之步驟1所合成之中間體C、0.02g的2,6-二第三丁基對甲酚溶解於15ml的THF中。於該溶液中加入44mg(0.189mmol)的(+)-10-樟腦磺酸與2ml的乙醇,加熱到40℃且反應5小時。反應結束 後,於反應液中加入100ml的蒸餾水與15ml的飽和食鹽水,以100ml的乙酸乙酯萃取2次。以無水硫酸鈉乾燥所得之有機層,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,使所得之固體溶解於10ml的氯仿中。於其溶液中加入150ml的甲醇而使結晶析出,進行過濾,以甲醇洗淨結晶後,真空乾燥,得到0.986g成為淡黃色固體的化合物X(產率:80莫耳%)。
標的物之結構係以1H-NMR鑑定。以下顯示結果。
1H-NMR(500MHz,DMSO-d6,TMS,δppm):7.75(d,1H,J=2.5Hz),7.65-7.71(m,3H),7.34(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz),7.17(dd,1H,J=1.0Hz,7.5Hz),7.07-7.14(m,2H),6.99(d,2H,J=9.0Hz),6.98(d,2H,J=9.0Hz),6.88(d,2H,J=9.0Hz),6.88(d,2H,J=9.0Hz),6.41(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.40(dd,1H,J=1.5Hz,17.5Hz),6.13(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),6.11(dd,1H,J=10.5Hz,17.5Hz),5.83(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),5.82(dd,1H,J=1.5Hz,10.5Hz),4.44(t,2H,J=6.5Hz),4.30(t,2H,J=7.5Hz),4.18(t,2H,J=6.5Hz),4.13(t,2H,J=6.5Hz),3.95(t,2H,J=6.5Hz),3.94(t,2H,J=6.5Hz),2.54-2.74(m,6H),2.25-2.40(m,8H),1.62-1.84(m,18H),1.28-1.56(m,14H),0.90(t,3H,J=7.0Hz)
(實施例2)混合物X之合成
步驟1:中間體混合物Q之合成
於具備附狄安-史塔克管的冷卻器及溫度計之3口反應器中,在氮氣流下,添加10.00g的前述實施例1之步驟1所合成之含有中間體K的褐色結晶、100g的甲苯、0.105g(0.476mmol)的2,6-二第三丁基對甲酚,攪拌全部內容物。將溶液加熱到80℃,添加5.14g(71.3mmol)的丙烯酸、0.91g(9.51mmol)的甲磺酸,於回流條件(110℃)下,一邊去除所生成的水,一邊進行脫水反應3小時。接著,將反應液冷卻到30℃,添加500g的蒸餾水,攪拌全部內容物後,靜置。分離取得有機層,於所得之有機層中加入500g的5%食鹽水,進行分液。分離取得有機層,以無水硫酸鈉乾燥、過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器濃縮後,藉由矽凝膠管柱層析法(甲苯:乙酸乙酯=8:1)純化,得到8.2g成為白色固體的混合物Q。以高速液體層析法分析此白色固體,結果白色固體中 所含有的化合物之含量比(莫耳比)係如下述。不純化此混合物,直接使用於步驟2。
=97.5:2.5
步驟2:中間體混合物R之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,添加10.68g(62.0mmol)的反式-1,4-環己烷二羧酸與90ml的THF。於其中,添加3.9g(34.1mmol)的甲磺醯氯,將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為20℃。接著,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費10分鐘滴下3.79g(37.5mmol)的三乙胺。滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。
於所得之反應液中,添加0.38g(3.12mmol)的4-(二甲基胺基)吡啶及8.2g的先前步驟1所合成之混合物Q,再度將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為15℃。於其中,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費10分鐘滴下3.79g(37.5mmol)的三乙胺,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。反應結束後,於反應液中加入1000ml的蒸餾水與100ml的飽和食鹽水,以400ml的乙酸乙酯萃取2次。收集有機層,以無水硫酸鈉乾燥,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中 蒸發去除溶劑後,藉由矽凝膠管柱層析法(THF:甲苯=1:9)將所得之殘留物純化,得到7.1g成為白色固體的混合物R。以高速液體層析法分析此白色固體,結果白色固體中所含有的化合物之含量比(莫耳比)係如下述。不純化此混合物,直接使用於步驟3。
=98.0:2.0
步驟3:混合物S之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入7.1g的前述步驟2所合成之混合物R及100ml的THF,作成為均勻的溶液。於其中,添加2.39g(20.9mmol)的甲磺醯氯,將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為20℃。接著,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費5分鐘滴下2.16g(21.3mmol)的三乙胺,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。於所得之反應液中,添加0.19g(1.54mmol)的4-(二甲基胺基)吡啶及1.07g(7.72mmol)的2,5-二羥基苯甲醛,再度將反應器浸於水浴中而使反應液內溫成為15℃。於其中,一邊將反應液內溫保持在20~30℃,一邊耗費5分鐘滴下1.95g(19.3mmol)的三乙胺,滴下結束 後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌2小時。反應結束後,於反應液中加入400ml的蒸餾水與50ml的飽和食鹽水,以750ml的乙酸乙酯萃取2次。收集有機層,以無水硫酸鈉乾燥,過濾分離硫酸鈉。以旋轉式蒸發器自濾液中蒸發去除溶劑後,使所得之殘留物溶解於150ml的THF中。於其溶液中加入750ml的甲醇而使結晶析出,濾取所析出的結晶。以甲醇洗淨所得之結晶後,真空乾燥,得到4.5g成為白色固體的混合物S。以高速液體層析法分析此白色固體,結果白色固體所含有的化合物之含量比(莫耳比)係如下述。不純化此混合物,直接使用於步驟4。
=98.7:1.3
步驟4:混合物X之合成
於具備溫度計的3口反應器中,在氮氣流下,置入4.5g的前述步驟3所合成之混合物S及50ml的THF,作成為均勻的溶液,於其中加入0.93ml(0.48mmol)的濃鹽酸。於此溶液中,耗費15分鐘滴下1.25g(5.0mmol)的合成例2之步驟1所合成的中間體C之10ml的THF溶液,滴下結束後,將全部內容物在25℃下進一步攪拌1小時。反應結束後,將反應液投入800ml的甲醇中,濾取所析出的固體。以真空乾燥機乾燥所濾取的固體, 得到4.2g成為淡黃色固體的混合物X。以高速液體層析法分析此淡黃色固體,結果淡黃色固體中所含有的化合物之含量比(莫耳比)係如下述。
=98.8:1.2
<相轉移溫度之測定>
分別計量10mg的化合物1~9及化合物X,直接以固體狀態夾入2片附有已進行過摩擦處理之聚醯亞胺配向膜的玻璃基板(E.H.C.Co.,Ltd.製,商品名:配向處理玻璃基板)之間。將此基板載置於熱板上,從40℃升溫到200℃為止後,再降溫至40℃為止。用偏向光學顯微鏡(NIKON公司製,ECLIPSELV100POL型)觀察升溫、降溫時的組織結構之變化,求出相轉移溫度。
下述表1中顯示所測定的相轉移溫度。
表1中,「C」表示晶體(Crystal),「N」表示向列(Nematic、),「I」表示等向(Isotropic)。此處,所謂的晶體,就是表示試驗化合物在固相,所謂的向列,就是表示試驗化合物在向列液晶相,所謂的等向,就是表示試驗化合物在等向性液體相。
(實施例3~11)
分別使0.99g的合成例1~9所得之化合物1~9、10mg的實施例1所得之化合物X、30mg的光聚合起始劑(BASF公司製,商品名:Irgacure OXE02)、100mg的界面活性劑(NEOS公司製,商品名:Ftergent 208G)之1%環戊酮溶液溶解於0.3g的1,3-二氧戊環及2.0g的環戊酮之混合溶劑中。以具有0.45μm的細孔徑之拋棄器過濾器過濾此溶液,分別得到聚合性組成物(聚合性液晶組成物)1~9。
(實施例12~20)
分別使0.90g合成例1~9所得之化合物1~9、100mg的實施例1所得之化合物X、30mg的光聚合起始劑(BASF公司製,商品名:Irgacure OXE02)、100mg的界面活性劑(NEOS公司製,商品名:Ftergent 208G)之1%環戊酮溶液溶解於0.3g的1,3-二氧戊環及2.0g的環戊酮之混合溶劑中。以具有0.45μm的細孔徑之拋棄器過濾器過濾此溶液,分別得到聚合性組成物(聚合性液晶組成物10~18)。
(實施例21)
使1.0g的實施例2所得之混合物X、30mg的光聚合起始劑(BASF公司製,商品名:Irgacure OXE02)、100mg的界面活性劑(NEOS公司製,商品名:Ftergent 208G)之1%環戊酮溶液溶解於0.3g的1,3-二氧戊環及2.0g的環戊酮之混合溶劑中。以具有0.45μm的細孔徑之拋棄器過濾器過濾此溶液,得到聚合性液晶組成物19。
(比較例1~9)
分別使1.0g的合成例1~9所得之化合物1~9、30mg的光聚合起始劑(BASF公司製,商品名:Irgacure OXE02)、100mg的界面活性劑(NEOS公司製,商品名:Ftergent 208G)之1%環戊酮溶液溶解於0.3g的1,3-二氧戊環及2.0g的環戊酮之混合溶劑中。以具有0.45μm的細孔徑之拋棄器過濾器過濾此溶液,分別得到聚合性液晶組成物1r~9r。
<液晶相之安定性評價> (i)藉由聚合性液晶組成物形成液晶層
於賦有經摩擦處理的聚醯亞胺配向膜之透明玻璃基板(E.H.C.Co.,Ltd.製,商品名:配向處理玻璃基板)上,使用#4的線棒分別塗布聚合性液晶組成物1~19及1r~9r。以下述表2所示的溫度將塗膜乾燥1分鐘後,以表2所示的溫度配向處理1分鐘,而形成液晶層(厚度約2.5μm)。
(ii)光學異向體之形成
以表2所示的溫度,將上述(i)所製作的液晶層放置1分鐘或15分鐘後,從各自的液晶層之塗布面側,以表2所示的溫度照射1500mJ/cm2的紫外線而使其聚合,分別得到附透明玻璃基板的光學異向體。
(iii)液晶相安定性之判斷
如圖1所示地配置上述(ii)所得之附透明玻璃基板的光學異向體而得到積層體,目視觀察表面之狀態。沒有不均的狀態係良好狀態。將沒有不均的狀態當作5, 將發生不均的狀態當作1,以5等級評價其程度。表2中彙總評價結果。
還有,於圖1中,作為偏光薄膜,使用PVA系的偏光薄膜(住友化學公司製)。又,分別在圖2(a)、圖2(b)中顯示沒有不均的狀態(評價指數:5)、發生不均的狀態(評價指數:1)之照片。
<光學特性之測定>
對於上述(ii)所得之附透明玻璃基板的光學異向體,使用橢圓偏光儀(J.A.Woollam公司製,M2000U型)測定245.9nm至998.4nm之間的相位差。又,使用所測定的相位差,自如以下地算出的α、β值來評價波長分散性。表3中顯示結果。
α=(在449.9nm的相位差)/(在548.5nm的相位差)
β=(在650.2nm的相位差)/(在548.5nm的相位差)
再者,當顯示寬頻帶性的理想波長分散性,即,在顯示逆波長分散性時,α值小於1,β值大於1。當具有平坦的波長分散性時,α值與β值為相同程度之值。當具有一般的(通常的)波長分散性時,α值大於1,β值小於1。即,較佳為α值與β值為相同程度之值的波長分散性,特佳為α小於1、β大於1之逆波長分散性。
此處,光學異向體之膜厚係用針劃傷附透明玻璃基板的光學異向體之光學異向體,以表面形狀測定裝置DEKTAK150型(ULVAC股份有限公司製)測定其階差而計測。
由表2可知,於包含化合物X的聚合性液晶組成物中,得到能更安定地長時間維持液晶相、塗布不均少的塗膜。又,當化合物X之添加量為10%時(實施例12~20),可降低乾燥溫度,得到操作更容易的液晶組成物。
由表3可知,於實施例1~21中,α小於1,β大於1。因此,可知即使添加化合物X,亦維持顯示寬頻帶性的理想波長分散性,即維持逆波長分散性。
[產業上的利用可能性]
依照本發明,可提供一種聚合性液晶組成物,其可以低成本且寬廣加工餘裕度製造能更安定地長時間維持液晶相,具有實用的低熔點,且於寬廣波長範圍中可進行相同偏光轉換之光學薄膜等。
又,依照本發明,可提供於上述聚合性液晶組成物之調製中所適用的聚合性化合物及包含該聚合性化合物的混合物、以及於該聚合性化合物之調製中所適用的化合物及包含該化合物的混合物。
而且,依照本發明,可提供於寬廣波長範圍中能進行相同偏光轉換之光學薄膜及光學異向體、以及使用彼等的偏光板、平板顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置及抗反射薄膜。

Claims (11)

  1. 一種混合物,其包含下述式(I)所示的化合物與下述式(II)所示的化合物,[式(I)中,a表示1~3之整數,b表示1~20之整數,c為0,A1表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y1表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R1及R2各自獨立地表示氫原子、甲基或氯原子,FG1表示羥基];[式(II)中,d表示1~20之整數,e為0,A2表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y2表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R3表示氫原子、甲基或氯原子,FG2表示羥基]。
  2. 如請求項1之混合物,其中A1係可具有取代基之碳數5~20的環狀脂肪族基或可具有取代基之碳數2~20的芳香族基。
  3. 如請求項1或2之混合物,其中A1及A2各自獨立地表示可具有取代基之碳數5~20的環狀脂肪族基或可具有取代基之碳數2~20的芳香族基。
  4. 如請求項1或2之混合物,其中該式(I)所示的化合物與該式(II)所示的化合物之質量比(式(I)所示的化合物:式(II)所示的化合物)為1:1000~20:100。
  5. 一種下述式(I)所示之化合物,[式(I)中,a表示1~3之整數,b表示1~20之整數,c為1,A1及B1各自獨立地表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y1及L1各自獨立地表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R1及R2各自獨立地表示氫原子、甲基或氯原子,FG1表示羧基或胺基]。
  6. 如請求項5之化合物,其中A1及B1各自獨立地表示可具有取代基之碳數5~20的環狀脂肪族基或可具有取代基之碳數2~20的芳香族基。
  7. 一種混合物,其包含如請求項5或6之化合物與下述式(II)所示的化合物,[式(II)中,d表示1~20之整數,e為1,A2及B2各自獨立地表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y2及L2各自獨立地表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R3表示氫原子、甲基或氯原子,FG2表示羧基或胺基]。
  8. 如請求項7之混合物,其中A1、A2、B1及B2各自獨立地表示可具有取代基之碳數5~20的環狀脂肪族基或可具有取代基之碳數2~20的芳香族基。
  9. 如請求項7或8之混合物,其中該式(I)所示的化合物與該式(II)所示的化合物之質量比(式(I)所示的化合物:式(II)所示的化合物)為1:1000~20:100。
  10. 一種下述式(I)所示之化合物,[式(I)中,a表示1~3之整數,b表示1~20之整數,c為0,A1表示可具有取代基的環狀脂肪族基或可具有取代基的芳香族基,Y1表示-O-、-CO-、-CO-O-、-O-CO-、-NR21-CO-、-CO-NR22-、-O-CO-O-、-NR23-CO-O-、-O-CO-NR24-或-NR25-CO-NR26-,R21~R26各自獨立地表示氫原子或碳數1~6的烷基,R1及R2各自獨立地表示氫原子、甲基或氯原子,FG1表示羥基],(但下述式所示之受阻酚衍生物除外:
  11. 如請求項10之化合物,其中A1係可具有取代基之碳數5~20的環狀脂肪族基或可具有取代基之碳數2~20的芳香族基。
TW106131612A 2016-05-18 2017-05-08 聚合性化合物及其混合物 TWI644895B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016100009A JP6055569B1 (ja) 2016-05-18 2016-05-18 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
JP2016-100009 2016-05-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201808879A TW201808879A (zh) 2018-03-16
TWI644895B true TWI644895B (zh) 2018-12-21

Family

ID=57582177

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106115088A TWI602808B (zh) 2016-05-18 2017-05-08 Polymerizable compound, mixture, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optical anisotropy, polarizing plate, flat panel display, organic electroluminescence display, and antireflection film
TW106131612A TWI644895B (zh) 2016-05-18 2017-05-08 聚合性化合物及其混合物

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW106115088A TWI602808B (zh) 2016-05-18 2017-05-08 Polymerizable compound, mixture, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optical anisotropy, polarizing plate, flat panel display, organic electroluminescence display, and antireflection film

Country Status (6)

Country Link
US (2) US20170335193A1 (zh)
EP (1) EP3246306B1 (zh)
JP (1) JP6055569B1 (zh)
KR (1) KR102011312B1 (zh)
CN (2) CN110003008B (zh)
TW (2) TWI602808B (zh)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108698966B (zh) * 2016-03-01 2022-03-22 日本瑞翁株式会社 包含单醚化物的溶液组合物的制造方法、溶液组合物、及聚合性化合物的制造方法
JP6191754B1 (ja) * 2016-11-22 2017-09-06 日本ゼオン株式会社 重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
KR20190078591A (ko) * 2016-11-22 2019-07-04 니폰 제온 가부시키가이샤 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 광학 필름, 광학 이방체, 편광판, 플랫 패널 표시 장치, 유기 일렉트로루미네센스 표시 장치, 반사 방지 필름, 및 화합물
WO2018123622A1 (ja) * 2016-12-26 2018-07-05 日本ゼオン株式会社 混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム、並びに、混合物の製造方法
US11939510B2 (en) 2017-08-15 2024-03-26 Merck Patent Gmbh Polymerisable liquid crystal material and polymerised liquid crystal film
US11492552B2 (en) 2017-08-23 2022-11-08 Zeon Corporation Polymerizable liquid crystal material, polymerizable liquid crystal composition, polymer, optical film, optically anisotropic body, polarizing plate, anti-reflection film, display device, and method of producing polymerizable liquid crystal composition
JP2019056069A (ja) * 2017-09-21 2019-04-11 日本ゼオン株式会社 重合性液晶材料、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、反射防止フィルム、表示装置、並びに、重合性液晶組成物の製造方法
CN111212886B (zh) * 2017-11-17 2023-03-28 Dic株式会社 聚合性化合物以及使用其的液晶组合物和液晶显示元件
CN111655672B (zh) * 2018-02-05 2023-05-12 日本瑞翁株式会社 1,1-二取代肼化合物的制造方法及聚合性化合物的制造方法
KR102351458B1 (ko) * 2018-02-14 2022-01-13 후지필름 가부시키가이샤 중합성 액정 조성물, 광학 이방성막, 광학 필름, 편광판 및 화상 표시 장치
WO2019160025A1 (ja) * 2018-02-14 2019-08-22 富士フイルム株式会社 重合性液晶組成物、重合性液晶組成物の製造方法、光学異方性膜、光学フィルム、偏光板および画像表示装置
WO2019163611A1 (ja) * 2018-02-20 2019-08-29 日本ゼオン株式会社 液晶硬化層及びその製造方法、光学フィルム、偏光板、並びに、ディスプレイ装置
WO2019230625A1 (ja) * 2018-06-01 2019-12-05 住友化学株式会社 偏光フィルムおよびその製造方法、偏光板ならびに表示装置
WO2020009053A1 (ja) 2018-07-02 2020-01-09 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化物、光学部材、レンズ、及び化合物
EP3896501A4 (en) 2018-12-11 2022-09-14 Zeon Corporation AUTHENTICITY DETERMINATION VIEWER AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, METHOD OF DETERMINING THE AUTHENTICITY OF AN AUTHENTICATION MEDIA AND AUTHENTICITY DETERMINATION SET
JP7384600B2 (ja) * 2019-01-17 2023-11-21 住友化学株式会社 重合性液晶組成物、位相差板、楕円偏光板および有機el表示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101326152A (zh) * 2006-01-11 2008-12-17 株式会社艾迪科 新型聚合性化合物
CN104995219A (zh) * 2013-02-15 2015-10-21 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子、以及光学各向异性体

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5179171A (en) 1985-05-24 1993-01-12 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Random copolymer, and process for production thereof
JP3060532B2 (ja) 1990-11-30 2000-07-10 ジェイエスアール株式会社 開環重合体水素化物の製造方法
JP3063311B2 (ja) 1991-10-09 2000-07-12 ジェイエスアール株式会社 水素添加重合体
JP3237072B2 (ja) 1992-05-11 2001-12-10 三井化学株式会社 環状オレフィン系ランダム多元共重合体およびその製造方法
US5981073A (en) * 1997-01-16 1999-11-09 General Electric Company Compounds based on dibenzoylresorcinol, and related compositions and articles
JP3963035B2 (ja) * 1997-09-05 2007-08-22 大日本インキ化学工業株式会社 液晶性(メタ)アクリレート化合物と組成物及びこれを用いた光学異方体
DE69820894T2 (de) 1997-10-23 2004-12-30 Zeon Corp. Thermoplastisches Ringöffnungspolymer auf der Basis von Dicyclopentadien, hydrierte Derivate davon und Verfahren zur Herstellung von beiden
JP4707779B2 (ja) 1997-10-23 2011-06-22 日本ゼオン株式会社 熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体、及びその製造方法
JP4929546B2 (ja) * 2001-08-20 2012-05-09 Dic株式会社 重合性液晶組成物及びこれを用いた光学異方体
JP2003253265A (ja) * 2002-02-27 2003-09-10 Dainippon Ink & Chem Inc 調光層形成材料及び液晶デバイス
JP4292459B2 (ja) * 2002-12-06 2009-07-08 Dic株式会社 重合性液晶組成物及び光学異方体
JP4186980B2 (ja) 2004-11-11 2008-11-26 住友化学株式会社 光学フィルム
JP5391682B2 (ja) 2007-12-28 2014-01-15 住友化学株式会社 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
JP5453798B2 (ja) 2007-12-28 2014-03-26 住友化学株式会社 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP2009274984A (ja) 2008-05-14 2009-11-26 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルムおよび光学フィルムの製造方法
JP5451176B2 (ja) 2008-05-20 2014-03-26 住友化学株式会社 光学フィルム、偏光板、表示装置及び光学フィルムの製造方法
JP2011006360A (ja) 2009-06-26 2011-01-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 化合物、光学フィルム及び光学フィルムの製造方法
KR101985943B1 (ko) * 2011-04-27 2019-06-04 제온 코포레이션 중합성 화합물, 중합성 조성물, 고분자, 및 광학 이방체
CN107253935B (zh) * 2012-07-09 2020-10-09 日本瑞翁株式会社 肼化合物、聚合性化合物的制备方法及将肼化合物作为聚合性化合物的制造原料使用的方法
US9791745B2 (en) * 2012-09-07 2017-10-17 Lg Chem, Ltd. Photoalignment polyimide copolymer and liquid crystal alignment layer
EP2818531B1 (en) * 2013-06-25 2017-07-26 Merck Patent GmbH Polymerisable compounds and the use thereof in liquid-crystal displays
CZ305857B6 (cs) * 2013-08-12 2016-04-13 Polymer Institute Brno, Spol. S R.O. Použití činidla pro nukleaci polyolefinů pro eliminaci tvorby úsad polyolefinového prášku v plynofázních polymeračních reaktorech
JP6641683B2 (ja) * 2013-10-28 2020-02-05 日本ゼオン株式会社 樹脂フィルム、λ/4板、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び製造方法
EP3106478B1 (en) * 2014-02-14 2019-12-25 Zeon Corporation Polymerizable compound, polymerizable composition, polymer, and optically anisotropic body
KR20150113886A (ko) * 2014-03-31 2015-10-08 후지필름 가부시키가이샤 광학 필름, 편광판, 및 광학 필름의 제조 방법
JP6047604B2 (ja) 2014-03-31 2016-12-21 富士フイルム株式会社 液晶化合物および光学フィルム、ならびに光学フィルムの製造方法
JP6442886B2 (ja) * 2014-06-27 2018-12-26 日本ゼオン株式会社 複層フィルム、位相差フィルム、円偏光板、及び、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
WO2016031946A1 (ja) * 2014-08-29 2016-03-03 富士フイルム株式会社 輝度向上フィルムおよび液晶表示装置
KR20170068529A (ko) * 2014-10-09 2017-06-19 디아이씨 가부시끼가이샤 중합성 화합물 및 광학 이방체
CN105524625B (zh) * 2014-10-21 2020-10-09 富士胶片株式会社 光学各向异性层及其制造方法、层叠体、偏振片、显示装置、液晶化合物及其制造方法、羧酸化合物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101326152A (zh) * 2006-01-11 2008-12-17 株式会社艾迪科 新型聚合性化合物
CN104995219A (zh) * 2013-02-15 2015-10-21 日本瑞翁株式会社 聚合性化合物、聚合性组合物、高分子、以及光学各向异性体

Also Published As

Publication number Publication date
TWI602808B (zh) 2017-10-21
KR20170130287A (ko) 2017-11-28
KR102011312B1 (ko) 2019-08-16
EP3246306A1 (en) 2017-11-22
US11203716B2 (en) 2021-12-21
TW201808879A (zh) 2018-03-16
CN110003008B (zh) 2021-11-09
JP2017206460A (ja) 2017-11-24
JP6055569B1 (ja) 2016-12-27
US20170335193A1 (en) 2017-11-23
EP3246306B1 (en) 2020-09-02
CN110003008A (zh) 2019-07-12
CN107400100B (zh) 2019-03-29
TW201808878A (zh) 2018-03-16
US20190264107A1 (en) 2019-08-29
CN107400100A (zh) 2017-11-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI644895B (zh) 聚合性化合物及其混合物
TWI765945B (zh) 聚合性化合物、聚合性液晶混合物、高分子、光學薄膜、光學各向異性體、偏光板、顯示裝置、抗反射薄膜及化合物
JP7151699B2 (ja) 重合性化合物およびその製造方法、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、反射防止フィルム、並びに、化合物およびその使用方法
TWI749189B (zh) 聚合性化合物、聚合性液晶混合物、高分子、光學薄膜、光學各向異性體、偏光板、顯示裝置、抗反射薄膜及化合物
TW201835058A (zh) 混合物、高分子、光學薄膜、光學各向異性體、偏光板、顯示裝置及抗反射薄膜、以及混合物之製造方法
JP7180381B2 (ja) 重合性化合物、混合物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置および反射防止フィルム
JP6369594B2 (ja) 化合物、重合性化合物、混合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および反射防止フィルム
JP6137398B1 (ja) 混合物
WO2018096938A1 (ja) 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、フラットパネル表示装置、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、反射防止フィルム、および化合物
JP7484709B2 (ja) 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、並びに、反射防止フィルム
WO2019208516A1 (ja) 重合性液晶化合物、重合性液晶組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、並びに、反射防止フィルム
JP2022056258A (ja) 重合性化合物、重合性組成物、高分子、光学フィルム、光学異方体、偏光板、表示装置、および反射防止フィルム
TW201912633A (zh) 聚合性化合物、聚合性組合物、高分子、光學薄膜、光學各向異性軆、偏光板、平面顯示裝置、有機電致發光顯示裝置、抗反射薄膜及化合物