TWI545351B - 凹凸圖案形成片及其製造方法 - Google Patents

Description

凹凸圖案形成片及其製造方法

本發明係關於一種於光擴散體中所具備之凹凸圖案形成片及其製造方法。又，本發明係關於一種使用有凹凸圖案形成片之光擴散體。且本發明係關於一種作為用以製造於表面上形成有凹凸圖案之光擴散體之模具而使用的光擴散體製造用工程片原版。進而，本發明係關於一種光擴散體之製造方法。

本發明係關於一種用作光擴散片等之光學片及光擴散片。

本發明係關於一種使來自光源之光擴散之擴散導光體。又，本發明係關於一種於液晶顯示裝置中所具備之背光單元。

本發明係關於一種於防反射體或相位差板等光學元件中所具備之凹凸圖案形成片及其製造方法。又，本發明係關於一種使用有凹凸圖案形成片之防反射體、相位差板。又，本發明係關於一種作為用以製造具有凹凸圖案之光學元件之模具而使用的光學元件製造用工程片。

本申請案根據2007年2月21日於日本申請之日本專利特願第2007-040694號、2007年6月7日於日本申請之日本專利特願第2007-151676號、2007年6月7日於日本申請之日本專利特願第2007-151677號、2007年6月7日於日本申請之日本專利特願第2007-151795號、以及2007年10月4日於日本申請之日本專利特願第2007-261176號而主張優先權，此處引用其中之內容。

一般而言，於表面上形成有波狀凹凸圖案之凹凸圖案形成片被用作光擴散體。

例如，於專利文獻1中，揭示有如下光擴散體作為形成有凹凸圖案之光擴散體，亦即，於透光性基材之至少一面上形成有複數個突起體，突起體之高度為2~20μm，突起體之頂點之間隔為1~10μm，突起體之縱橫比為1以上。又，於專利文獻1中，揭示有如下方法作為突起體之形成方法，亦即，藉由KrF準分子雷射等能量束之照射來對透光性基材之表面進行加工。

於專利文獻2中，揭示有於一面上形成有由波狀凹凸而構成之異向性擴散圖案之光擴散體。又，於專利文獻2中，揭示有如下方法作為形成異向性擴散圖案之方法，亦即，對感光性樹脂之薄膜照射雷射光而進行曝光、顯影，以形成在一面上形成有凹凸之主全息圖，將該主全息圖轉印至金屬模具上，並使用該金屬模具來使樹脂成形。

[專利文獻1]日本專利特開平10-123307號公報

[專利文獻2]日本專利特開2006-261064號公報

作為具有光擴散性等之光學片，已知於表面上形成有凹凸之片材。例如，於專利文獻3中，揭示有於基板表面上形成有大量點狀凸部之光擴散片。於專利文獻3所揭示之光學片中，藉由噴墨法將油墨噴出至基板上並使其固著，以形成點狀之凸部。

[專利文獻3]日本專利特開2004-157430號公報

已知由微細之波狀凹凸所組成之凹凸圖案形成於表面，且凹凸圖案之眾數間距為可見光之波長以下之凹凸圖案形成片可用作防反射體或相位差板等光學元件(參照非專利文獻1)。

凹凸圖案形成片可用作防反射體之理由如下：

當片表面上未設置有凹凸圖案時，會因片與空氣之界面上的折 射率之急遽變化而產生反射。然而，當在片表面，亦即片與空氣之界面上設置有波狀之凹凸圖案時，於凹凸圖案之部分，折射率之值呈現為空氣之折射率與凹凸圖案形成片之折射率之間的值(以下，稱為中間折射率)，並且，該中間折射率向凹凸圖案之深度方向連續地變化。具體而言，位置越深，則越接近凹凸圖案形成片之折射率。因中間折射率如此般連續地變化，故不會引起如上所述之界面上之折射率的急遽變化，從而可抑制光之反射。又，若凹凸圖案之間距為可見光之波長以下，則於凹凸圖案部分，難以引起由可見光之繞射亦即可見光之干涉所產生之著色。

又，凹凸圖案形成片可用作相位差板之原因在於，於凹凸圖案之部分，折射率互不相同之空氣與凹凸圖案形成片交替配置，結果對光表現出光學異向性。進而，當凹凸圖案之間距與可見光之波長為相同程度或者為可見光之波長以下時，會呈現出在較廣之可見光波長區域內顯示相同相位差之現象。

作為上述凹凸圖案形成片之具體例，例如於非專利文獻2中提出一種片，對已加熱之由聚二甲基矽氧烷構成之片之一面蒸鍍金而形成金屬層，其後進行冷卻，藉此使由聚二甲基矽氧烷構成之片收縮，以於金屬層之表面上形成波狀之凹凸圖案。

又，於專利文獻4中提出一種片，於熱收縮性合成樹脂薄膜之表面上，依次形成基底層及金屬層，其後使熱收縮性合成樹脂薄膜熱收縮，以於金屬層之表面上形成波狀之凹凸圖案。

於專利文獻5中提出一種片，形成由因曝光處理而體積收縮之材料所構成之層，並對該層進行曝光處理，以使表面形成凹凸。

然而，專利文獻4、5及非專利文獻2中揭示之凹凸圖案形成片之任一者，均未顯示出作為光學元件之優異性能。具體而言，當用作防反射體時，無法使反射率充分地低，又，當用作相位差板時，無法使 相位差充分地大，且無法遍及較廣之波長區域而產生相同之相位差。

又，作為製造凹凸圖案形成片之方法，已知使用圖案遮罩之可見光之光微影法。然而，該方法無法製造可用作光學元件且具有光之波長以下之間距的凹凸圖案形成片。因此，必須應用可進行更微細之加工之紫外線雷射干涉法或電子射線微影法。該等方法係利用紫外線雷射干涉光或電子射線對形成於基板上之光阻層進行曝光、顯影，以形成光阻圖案層，並將該光阻圖案層作為遮罩，利用乾式蝕刻法等形成凹凸形狀。然而，當應用紫外線雷射干涉法或電子射線微影法時，存在如下問題，亦即，難以在超過10cm之較廣區域內進行加工，因而不適宜大量生產。

又，於專利文獻6中提出一方法，將粒子層配置於基板上，並將粒子層作為蝕刻遮罩而對基板表面進行乾式蝕刻。然而，於此情形時，亦存在難以在超過30cm之較廣區域內進行加工，因而不適宜大量生產之問題。

[專利文獻4]日本專利特開昭63-301988號公報

[專利文獻5]日本專利特開2003-187503號公報

[專利文獻6]日本專利特開2005-279807號公報

[非專利文獻1]菊田久雄、岩田耕一著「光學」，日本光學會發行，第27卷，第1號，1998年，p.12-17

[非專利文獻2]內德．鮑頓(Ned Bowden)等著「自然(Nature)」，第393號，1998年，p.146

專利文獻1、2中揭示之光擴散體係具有充分之光擴散性者。然而，存在的問題是，專利文獻1中揭示之能量束照射之加工方法、專利文獻2中揭示之利用雷射對感光性樹脂薄膜進行曝光、顯影之方法 較為繁雜。又，並不能說專利文獻1、2之光擴散體的擴散之異向性充分。

本發明係鑒於上述狀況而研製者，其目的在於提供一種可用作光擴散體且可簡便地製造之凹凸圖案形成片。又，本發明之目的在於提供一種可簡便地製造用作光擴散體之凹凸圖案形成片的凹凸圖案形成片之製造方法。又，本發明之目的在於提供一種擴散之異向性優異的光擴散體。進而，本發明之目的在於提供一種光擴散體製造用工程片及光擴散體之製造方法，該光擴散體製造用工程片可簡便且大量地製造形成有與凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光擴散體。

當欲藉由凹凸來控制光之擴散及反射時，若凹凸部彼此之間隔為光之波長左右，則會產生因干涉而引起之著色問題，又，若該間隔超過數10μm，則有可能會被辨認為亮線等，因此要求將凹凸部彼此之間隔設為20μm以下。然而，對於專利文獻3中揭示之光學片，若凹凸部彼此之間隔為數十微米~數百微米，則可穩定地形成間隔，但當凹凸部彼此之間隔為20μm以下時，則難以獲得所需之間隔。

又，於光學片中，有時並不使光擴散性等光學特性均勻，而是使光學特性不均勻，於特定位置處或高或低。例如，對於液晶顯示器之背光單元中所使用之導光板而言，為了防止配置於其側端面上之線狀光源之影像於導光板表面映出，有時需提高該線狀光源附近之出光側表面之光擴散性。又，當液晶顯示器中使用具備複數個線狀光源或點狀光源之直下型背光單元時，隨著自線狀光源或點狀光源彼此之間靠近其正上方，有時需提高光擴散性。

為了對表面形成有凹凸之光學片進行調整以使光學特性不均勻，考慮使凹凸部彼此之間隔隨位置而變化，但就專利文獻3中揭示之光學片而言，在將凹凸部彼此之間隔設為20μm以下之後，難以使 間隔變化。由此，專利文獻3中揭示之光學片難以使光學特性於特定位置處或高或低而不均勻。

因此，本發明之目的在於提供一種目標光學特性(光擴散性等)優異且可使光學特性容易不均勻之光學片。又，本發明之目的在於提供一種目標光擴散性優異且可使光擴散性容易不均勻之光擴散片。

關於專利文獻1、2中揭示之擴散導光體，由於光之擴散之異向性不充分，故具備該等擴散導光體之背光單元無法使來自光源之光充分地異向性擴散。因此，來自擴散導光體之出射光之亮度會根據部位而不同，從而於液晶顯示裝置之圖像亮度中產生不均。

本發明之目的在於提供一種可使來自光源之光充分地異向性擴散之擴散導光體及背光單元。

本發明之目的在於提供一種在用作防反射體或相位差板等光學元件時顯示出優異性能之凹凸圖案形成片。又，本發明之目的在於提供一種可簡便、大面積、且大量地製造上述凹凸圖案形成片之凹凸圖案形成片製造方法。又，本發明之目的在於提供一種反射率較低之防反射體、遍及較廣波長區域而產生相同相位差之相位差板。進而，本發明之目的在於提供一種光學元件製造用工程片，其可簡便且大量地製造具有與凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光學元件。

本發明包含以下態樣：

[1]一種凹凸圖案形成片，其特徵在於：具備樹脂製基材、及設置於該基材之一面上之樹脂製硬質層，且於該硬質層之表面上形成有沿著一方向之凹凸圖案，構成硬質層之樹脂的玻璃轉移溫度Tg₂與構成基材之樹脂的玻璃轉移溫度Tg₁之差(Tg₂-Tg₁)為10℃以上，凹凸圖案之眾數間距超過1μm且為20μm以下，凹凸圖案之底部之平均深度 為將上述眾數間距設為100%時之10%以上。

[2]一種凹凸圖案形成片之製造方法，其特徵在於：包括以下步驟，亦即，於樹脂製基材之一面上，設置表面平滑、厚度超過0.05μm且為5.0μm以下之樹脂製硬質層，以形成積層片；以及使上述積層片之至少硬質層以摺疊之方式而變形；且硬質層藉由玻璃轉移溫度相較於構成基材之樹脂高出10℃以上之樹脂所構成。

[3]如[2]之凹凸圖案形成片之製造方法，其中使用單軸方向加熱收縮性薄膜作為樹脂製基材，且於使硬質層以摺疊之方式而變形之步驟中，對積層片進行加熱以使單軸方向加熱收縮性薄膜收縮。

[4]一種光擴散體，其具備[1]之凹凸圖案形成片，且該凹凸圖案形成片之基材及硬質層為透明。

[5]一種凹凸圖案形成片，其特徵在於：具備樹脂製基材、及設置於該基材之一面上之樹脂製硬質層，於該硬質層之表面上形成有沿著一方向之凹凸圖案，硬質層由金屬或金屬化合物構成，凹凸圖案之眾數間距超過1μm且為20μm以下，凹凸圖案之底部之平均深度為將上述眾數間距設為100%時之10%以上。

[6]如[5]之凹凸圖案形成片，其中硬質層由金屬構成。

[7]如[5]之凹凸圖案形成片，其中金屬係選自由金、鋁、銀、碳、銅、鍺、銦、鎂、鈮、鈀、鉛、鉑、矽、錫、鈦、釩、鋅、鉍所組成之群中之至少一種金屬。

[8]一種凹凸圖案形成片，其特徵在於：包括以下步驟，亦即，於樹脂製基材之一面上，設置表面平滑、厚度超過0.01μm且為0.2μm以下之金屬製或金屬化合物製硬質層，以形成積層片；以及使上述積層片之至少硬質層以摺疊之方式而變形；且硬質層由金屬或金屬化合物所構成。

[9]如[8]之凹凸圖案形成片之製造方法，其中使用單軸方向加熱 收縮性薄膜作為樹脂製基材，且於使硬質層以摺疊之方式而變形之步驟中，對積層片進行加熱以使單軸方向加熱收縮性薄膜收縮。

[10]一種光擴散體製造用工程片原版，其具備[1]、[5]或[8]之凹凸圖案形成片，且其作為用以製造於表面上形成有與該凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光擴散體之模具而使用。

[11]一種光擴散體之製造方法，其包括以下步驟：於[10]之光擴散體製造用工程片原版之形成有凹凸圖案的面上，塗佈未硬化之硬化性樹脂；以及在使該硬化性樹脂硬化，之後自工程片原版上剝離已硬化之塗膜。

[12]一種光擴散體之製造方法，其包括以下步驟：使片狀之熱可塑性樹脂接觸到[10]之光擴散體製造用工程片原版之形成有凹凸圖案的面；將該片狀之熱可塑性樹脂按壓於工程片原版上，且於此狀態下進行加熱而使其軟化，其後進行冷卻；以及自工程片原版上剝離已冷卻之片狀之熱可塑性樹脂。

[13]一種光擴散體之製造方法，其包括以下步驟：於[10]之光擴散體製造用工程片原版之形成有凹凸圖案的面上，積層凹凸圖案轉印用材料；自上述工程片原版上剝離積層於凹凸圖案上之凹凸圖案轉印用材料，以製作二次工程用成形物；於該二次工程用成形物之已與上述工程片原版之凹凸圖案接觸之一側之面上，塗佈未硬化之硬化性樹脂；以及在使該硬化性樹脂硬化，之後自二次工程用成形物上剝離已硬化之塗膜。

[14]一種光擴散體之製造方法，其包括以下步驟：於如[10]之光擴散體製造用工程片原版之形成有凹凸圖案的面上，積層凹凸圖案轉印用材料；自上述工程片原版上剝離積層於凹凸圖案上之凹凸圖案轉印用材料，以製作二次工程用成形物；使片狀之熱可塑性樹脂接觸到該二次工程用成形物之已與上述工程片原版之凹凸圖案接觸之一側之 面；將該片狀之熱可塑性樹脂按壓於二次工程用成形物上，且於此狀態下進行加熱而使其軟化，其後進行冷卻；以及自二次工程用成形物上剝離已冷卻之片狀之熱可塑性樹脂。

[15]一種光學片，其特徵在於：於平坦之一面或兩面上，分散配置有具有凹凸之凹凸區域。

[16]如[15]之光學片，其中凹凸區域不均勻地配置著。

[17]一種光擴散片，其具備[15]之光學片。

[18]如[17]之光擴散片，其中凹凸區域內之凹凸之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，凹凸之平均深度B相對於眾數間距A之比(B/A)為0.1~3.0。

[19]如[18]之光擴散片，其中凹凸區域呈點狀分散。

[20]一種擴散導光體，其特徵在於：其係由在一面上形成有蛇行之波狀凹凸圖案之透明樹脂層而構成，凹凸圖案之眾數間距超過1.0μm且為20μm以下，凹凸之平均深度B相對於眾數間距A之比(B/A)為0.1~3.0。

[21]一種背光單元，其特徵在於具備：[20]之擴散導光體；反射板，其對向於該擴散導光體之與形成有上述凹凸圖案之面相反側的面而配設；以及光源，其配設於上述擴散導光體及上述反射板之間。

[22]一種背光單元，其特徵在於具備：[20]之擴散導光體；反射板，其對向於該擴散導光體之與形成有上述凹凸圖案之面相反側的面而配設；以及光源，其鄰接於上述擴散導光體之任一個側面。

[23]一種凹凸圖案形成片，其特徵在於：具備樹脂製基材、及設置於該基材外表面之至少一部分上之樹脂製硬質層，且該硬質層具有波狀之凹凸圖案，構成硬質層之樹脂的玻璃轉移溫度Tg₂與構成基材之樹脂的玻璃轉移溫度Tg₁之差(Tg₂-Tg₁)為10℃以上，凹凸圖案之眾數間距為1μm以下，凹凸圖案之底部之平均深度為將上述眾數間距設 為100%時之10%以上。

[24]一種凹凸圖案形成片之製造方法，其特徵在於：包括以下步驟，亦即，於樹脂製基材外表面之至少一部分上，設置表面平滑之樹脂製硬質層，以形成積層片；以及使該積層片之至少硬質層蛇行變形；且硬質層藉由玻璃轉移溫度相較於構成基材之樹脂高出10℃以上之樹脂所構成。

[25]一種防反射體，其具備[23]之凹凸圖案形成片。

[26]一種相位差板，其具備[23]之凹凸圖案形成片。

[27]一種光學元件製造用工程片，其具備[23]之凹凸圖案形成片之特徵，且其作為用以製造具有與該凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光學元件之模具而使用。

本發明之凹凸圖案形成片係可用作光擴散體、且可簡便地製造者。

根據本發明之凹凸圖案形成片之製造方法，可簡便地製造用作光擴散體之凹凸圖案形成片。

本發明之光擴散體在擴散之異向性方面優異。

根據本發明之光擴散體製造用工程片及光擴散體之製造方法，可簡便且大量地製造形成有與凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光擴散體。

本發明之光學片之目標光學特性優異，且可使使光學特性易不均勻。

本發明之光擴散片之目標光擴散性優異，且可使光擴散性易不均勻。

根據本發明之擴散導光體及背光單元，可使來自光源之光充分地異向性擴散。

本發明之凹凸圖案形成片可較好地用作防反射體或相位差板等光學元件。又，本發明之凹凸圖案形成片亦可較好地用作光學元件製造用工程片，該光學元件製造用工程片作為用以製造具有波狀凹凸圖案之光學元件的模具而使用。

於本發明之凹凸圖案形成片之製造方法中，可於表面容易大面積地形成微細之凹凸圖案，因此可簡便且大量地製造能夠較好地利用於光學元件等之凹凸圖案形成片。

本發明之防反射體係反射率低、性能優異者。

本發明之相位差板係可遍及較廣之波長區域而產生相同之相位差且性能優異者。

藉由使用本發明之光學元件製造用工程片，可簡便且大量地製造具有與凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光學元件。

10‧‧‧凹凸圖案形成片

10a‧‧‧積層片

11‧‧‧基材(透明樹脂層)

11a‧‧‧加熱收縮性薄膜

12‧‧‧硬質層

12a‧‧‧凹凸圖案

12b‧‧‧底部

13‧‧‧表面平滑之樹脂製硬質層(表面平滑硬質層)

210a、210b、210c、210d‧‧‧光學片

211‧‧‧平坦之一面

212、215、216、217‧‧‧凹凸區域

213‧‧‧加熱收縮性薄膜

214‧‧‧凹凸區域形成用凸部

100、200‧‧‧背光單元

310‧‧‧擴散導光體

315‧‧‧表面

316‧‧‧背面

320‧‧‧反射板

330‧‧‧光源

340‧‧‧擴散薄膜

350‧‧‧稜鏡片

360‧‧‧亮度上升薄膜

圖1係將本發明之凹凸圖案形成片之一實施形態之一部分進行放大表示的放大立體圖。

圖2係在與凹凸圖案之形成方向正交之方向上將圖1之凹凸圖案形成片截斷後之剖面圖。

圖3係藉由表面光學顯微鏡對凹凸圖案之表面進行拍攝所得之圖像之灰度轉換圖像。

圖4係對圖3之圖像進行傅立葉轉換後所得之圖像。

圖5係對與圖4之圖像中的圓環中心之距離上的亮度所描繪之圖表。

圖6係對圖4圖像中的輔助線L₃上之亮度所描繪之圖表。

圖7係表示本發明之凹凸圖案形成片之製造方法之一實施形態的積層片之剖面圖。

圖8係使用有本發明之凹凸圖案形成片之光擴散體之製造方法之一例的說明圖。

圖9係藉由表面光學顯微鏡對比較例4中的凹凸圖案之表面進行拍攝所得之圖像之灰度轉換圖像。

圖10係對圖9之圖像進行傅立葉轉換後所得之圖像。

圖11係對與圖10之圖像中的圓環中心之距離上的亮度所描繪之圖表。

圖12係對圖10之圖像中的輔助線L₅上之亮度所描繪之圖表。

圖13係表示本發明之光學片之第1實施形態的立體圖。

圖14係表示製造圖13所示之光學片時所使用之印刷片的剖面圖。

圖15係印刷片表面之透射型電子顯微鏡照片。

圖16係光學片表面之透射型電子顯微鏡照片。

圖17係表示本發明之光學片之第2實施形態的立體圖。

圖18係表示本發明之光學片之第3實施形態的立體圖。

圖19係表示本發明之光學片之第4實施形態的立體圖。

圖20係表示本發明之擴散導光體之其他實施形態的剖面圖。

圖21係表示本發明之背光單元之第1實施形態的剖面圖。

圖22係表示本發明之背光單元之第2實施形態的剖面圖。

圖23係將本發明之凹凸圖案形成片之一實施形態之一部分進行放大表示的放大立體圖。

圖24係藉由原子間力顯微鏡對並未沿著特定方向之凹凸圖案之表面進行拍攝所得的圖像之灰度轉換圖像。

圖25係對圖24之圖像進行傅立葉轉換後所得之圖像。

圖26係對與圖25之圖像中的圓環中心之距離上的亮度所描繪之圖表。

1.凹凸圖案形成片

(凹凸圖案形成片-1)

以下對本發明之凹凸圖案形成片之一實施形態進行說明。

圖1及圖2表示本實施形態之凹凸圖案形成片。本實施形態之凹凸圖案形成片10具備基材11、及設置於基材11之一面上之硬質層12，硬質層12係具有凹凸圖案12a者。

凹凸圖案形成片10上之凹凸圖案12a具有沿著大致一方向之波狀凹凸，該波狀凹凸呈蛇行。又，本實施形態之凹凸圖案12a之凸部之頂端帶有弧度。

構成硬質層12之樹脂(以下，稱為第2樹脂)的玻璃轉移溫度Tg₂與構成基材11之樹脂(以下，稱為第1樹脂)的玻璃轉移溫度Tg₁之差(Tg₂-Tg₁)為10℃以上，較好的是20℃以上，更好的是30℃以上。因(Tg₂-Tg₁)之差為10℃以上，故可在Tg₂與Tg₁之間的溫度情況下容易加工。若將Tg₂與Tg₁之間的溫度作為加工溫度，則可在基材11之楊氏模量高於硬質層12之楊氏模量之條件下進行加工，其結果可於硬質層12上容易形成凹凸圖案12a。

又，從經濟性方面而言，缺乏使用Tg₂超過400℃之樹脂之必要性，且不存在Tg₁低於-150℃之樹脂，因此(Tg₂-Tg₁)較好的是550℃以下，更好的是200℃以下。

從可容易形成凹凸圖案12a之角度而言，製造凹凸圖案形成片10時之加工溫度中的基材11與硬質層12之楊氏模量之差較好的是0.01~300GPa，更好的是0.1~10GPa。

此處所言之加工溫度，例如係指下述之凹凸圖案形成片之製造方法中的熱收縮時之加熱溫度。又，楊氏模量係根據JIS K 7113-1995所測定出之值。

第1樹脂之玻璃轉移溫度Tg₁較好的是-150~300℃，更好的是-120~200℃。其原因在於，不存在玻璃轉移溫度Tg₁低於-150℃之樹脂，若第1樹脂之玻璃轉移溫度Tg₁為300℃以下，則可將其容易加熱至製造凹凸圖案形成片10時之加工溫度(Tg₂與Tg₁之間的溫度)。

製造凹凸圖案形成片10時之加工溫度中的第1樹脂之楊氏模量較好的是0.01~100MPa，更好的是0.1~10MPa。若第1樹脂之楊氏模量為0.01MPa以上，則其具有可用作基材11之硬度，若第1樹脂之楊氏模量為100MPa以下，則其具有於硬質層12變形時可同時隨從而變形之柔軟度。

作為第1樹脂，可列舉例如：聚對苯二甲酸乙二酯等聚酯；聚乙烯或聚丙烯等聚烯烴；苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物等聚苯乙烯系樹脂；聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、聚二甲基矽氧烷等聚矽氧樹脂；氟樹脂、ABS樹脂、聚醯胺、丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯、聚環烯烴等樹脂。

第2樹脂之玻璃轉移溫度Tg₂較好的是40~400℃，更好的是80~250℃。其原因在於，若第2樹脂之玻璃轉移溫度Tg₂為40℃以上，則可使製造凹凸圖案形成片10時之加工溫度為室溫或室溫以上而有用，且從經濟性方面而言，缺乏使用玻璃轉移溫度Tg₂超過400℃之樹脂作為第2樹脂之必要性。

製造凹凸圖案形成片10時之加工溫度中的第2樹脂之楊氏模量較好的是0.01~300GPa，更好的是0.1~10GPa。其原因在於，若第2樹脂之楊氏模量為0.01GPa以上，則可獲得較第1樹脂之加工溫度中的楊氏模量更為充分之硬度，該硬度係在形成有凹凸圖案12a之後可用以維持凹凸圖案的充分硬度，且從經濟性方面而言，缺乏使用楊氏模量超過300GPa之樹脂作為第2樹脂之必要性。

以上為第1樹脂之種類，作為第2樹脂，可使用例如聚乙烯醇、 聚苯乙烯、丙烯酸系樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚奈二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚碸、氟樹脂等。該等之中，在兼具防汙功能之方面，尤其好的是氟樹脂。

基材11之厚度較好的是0.3~500μm。若基材11之厚度為0.3μm以上，則凹凸圖案形成片10難以破裂，若基材11之厚度為500μm以下，則可使凹凸圖案形成片10容易薄型化。

又，為了支持基材11，亦可設置厚度為5~500μm之樹脂製支持體。又，當將該基板11用作光擴散體時，為了進一步提高光擴散性，亦可使含有微細氣泡之薄膜貼附於基材11上。

當將凹凸圖案形成片10用作光擴散體時，為了進一步提高光擴散效果，可在不會對透光率等光學特性造成較大損害之範圍內，使基材11中含有由無機化合物構成之光擴散劑、由有機化合物構成之有機光擴散劑。

作為無機光擴散劑，可列舉二氧化矽、白碳、滑石、氧化鎂、氧化鋅、氧化鈦、碳酸鈣、氫氧化鋁、硫酸鋇、玻璃、雲母等。

作為有機光擴散劑，可列舉苯乙烯系聚合物粒子、丙烯酸系聚合物粒子、矽氧烷系聚合物粒子等。該等光擴散劑可分別單獨使用，或者亦可將兩種以上組合使用。

從難以損害透光性之角度而言，光擴散劑之含量較好的是相對於第1樹脂100質量份為10質量份以下。

又，當將凹凸圖案形成片10用作光擴散體時，為了進一步提高擴散效果，可在不會對透光率等光學特性造成較大損害之範圍內，使基材11中含有微細氣泡。微細氣泡對光之吸收較少，難以使透光率降低。

作為微細氣泡之形成方法，可應用向基材11中混入發泡劑之方法 (例如，日本專利特開平5-212811號公報、日本專利特開平6-107842號公報中所揭示之方法)、對丙烯酸系發泡樹脂進行發泡處理以使其含有微細氣泡之方法(例如，日本專利特開2004-2812號公報中所揭示之方法)等。進而，就可實現更加均勻之面照射而言，微細氣泡之形成方法較好的是使特定位置不均勻地發泡之方法(例如，日本專利特開2006-124499號公報中所揭示之方法)。

再者，亦可併用上述光擴散劑與微細發泡。

硬質層12之厚度較好的是超過0.05μm且為5μm以下，更好的是0.1~2μm。若硬質層之厚度超過0.05μm且為5μm以下，則如下所述可容易製造凹凸圖案形成片。

又，為了提高密著性及形成更微細之構造，亦可在基材11與硬質層12之間形成底塗層。

凹凸圖案形成片10之凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，較好的是超過1μm且為10μm以下。若眾數間距A小於1μm，則光會透過，若眾數間距A超過20μm，則光擴散性會變低。

凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上(即，縱橫比0.1以上)，較好的是30%以上(亦即，縱橫比0.3以上)。若平均深度B不足將眾數間距A設為100%時之10%，則即便將凹凸圖案形成片10用作光擴散體製造用工程片原版，亦難以獲得光擴散性較高之光擴散體。

又，從可容易形成凹凸圖案12a之角度而言，平均深度B較好的是將眾數間距A設為100%時之300%以下(亦即，縱橫比3.0以下)，更好的是200%以下(亦即，縱橫比2.0以下)。

此處，底部12b係指凹凸圖案12a之凹部之極小值，平均深度B係指對將凹凸圖案形成片10沿長度方向截斷所得之剖面(參照圖2)進行觀察時，自與整個凹凸圖案形成片10之面方向平行的基準線L₁至各凸 部之頂部為止的長度B₁、B₂、B₃...之平均值(B_AV)、與自基準線L₁至各凹部之底部為止的長度b₁、b₂、b₃...之平均值(b_AV)之差(b_AV-B_AV)。

上述凸部之頂部及上述凹部之底部係與硬質層12之與基材11側相反側之面鄰接者。

作為測定平均深度B之方法，可採用下述方法等：測定由原子間力顯微鏡所拍攝之凹凸圖案之剖面之圖像中的各底部之深度，並求出該等之平均值。

為了獲得光擴散之異向性較高之光擴散體，較好的是凹凸圖案12a以某程度蛇行，相鄰之凸部彼此之間距沿著凹凸圖案12a之方向而不均勻。此處，將凹凸圖案12a之配向之不均勻稱為配向度。配向度越大，配向越不均勻。該配向度係以下述方法而求出。

首先，藉由表面光學顯微鏡來拍攝凹凸圖案之上表面，並將該圖像轉換成灰度文檔(例如，tiff格式等)。於灰度文檔之圖像(參照圖3)中，白度越低之處，則表示凹部之底部越深(白度越高之處，則凸部之頂部越高)。繼而，對灰度文檔之圖像進行傅立葉轉換。圖4中顯示傅立葉轉換後之圖像。自圖4之圖像之中心向兩側擴展之白色部分中包含凹凸圖案12a之間距及朝向之資訊。

其次，自圖4之圖像之中心沿水平方向引輔助線L₂，並對該輔助線上之亮度進行描繪(參照圖5)。圖5之描繪中橫軸表示間距之倒數，縱軸表示頻率，頻率為最大之值X的倒數1/X表示凹凸圖案12a之眾數間距。

繼而，於圖4中，引輔助線L₃，其在值X之部分與輔助線L₂正交，並對該輔助線L₃上之亮度進行描繪(參照圖6)。其中，為了可與各種凹凸構造進行比較，圖6之橫軸設為除以X值後所得之數值。圖6之橫軸表示體現相對於凹凸之形成方向(圖3中的上下方向)的傾斜程度的指標(配向性)，縱軸表示頻率。圖6之描繪中的波峰之半值寬度 W₁(頻率為最大值之一半的高度上的波峰之寬度)表示凹凸圖案之配向度。半值寬度W₁越大，則表示蛇行使得間距越不均勻。

上述配向度較好的是0.3~1.0。若配向度為0.3~1.0，則凹凸圖案12a之間距之不均勻較大，因此該凹凸圖案形成片及將該凹凸圖案形成片用作工程片原版而獲得之光擴散體之光擴散性更高。若配向度超過1.0，則凹凸圖案之方向會於某程度變得隨機，因此光擴散性變高，但異向性變低。

為了使配向度為0.3~1.0，可適當選擇凹凸圖案形成片製造時所必要的壓縮應力之作用對象。

構成硬質層12之第2樹脂的玻璃轉移溫度Tg₂與構成基材11之第1樹脂的玻璃轉移溫度Tg₁之差(Tg₂-Tg₁)為10℃以上的本發明之凹凸圖案形成片10，可藉由下述之凹凸圖案形成片之製造方法而獲得，因此可簡便地製造。

又，本發明者調查後之結果判明，當基材11及硬質層12均為透明時，凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將上述眾數間距A設為100%時之10%以上，亦即本發明之凹凸圖案形成片10具有充分之光擴散性，因此可用作光擴散體。

再者，本發明之凹凸圖案形成片並非限定於上述實施形態。例如，本發明之凹凸圖案形成片的凹凸圖案之凸部之頂端亦可為尖頂。然而，就進一步提高擴散之異向性而言，凹凸圖案之凸部較好的是頂端帶有弧度之形狀。

(凹凸圖案形成片-2)

進而，本發明者調查後之結果判明，使凹凸圖案12a之眾數間距A為1μm以下，尤其為0.04μm以下，且凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上，尤其為100%以上，藉 此可發揮作為光學元件之優異之性能。具體而言，在將凹凸圖案形成片10用作防反射體時，可降低反射率，又，在將凹凸圖案形成片10用作相位差板時，可遍及較廣之波長區域而產生相同之相位差。

其原因在於，當凹凸圖案12a之眾數間距A較短，為1μm以下時，平均深度B較深，為將眾數間距A設為100%時之10%以上。亦即，眾數間距A較短，與可見光之波長相同或者在可見光之波長以下，因而可見光難以因凹凸而產生繞射或散射。而且，因平均深度B較深，故中間折射率連續地變化之部分在厚度方向上變長，因此可顯著發揮抑制光反射之效果。又，因眾數間距A較短、平均深度B較深，故折射率彼此不同之空氣與凹凸圖案形成片交替地配置之部分在厚度方向上變長，呈現出光學異向性之部分變長，因此可產生相位差。進而，由上述凹凸圖案12a所產生之相位差遍及較廣之波長區域而大致相同。

此時之硬質層12相對於基材11而言折射率較低，但可獲得較高之防反射特性，因此較好。

進而，硬質層12之厚度較好的是1~100nm。若硬質層12之厚度為1nm以上，則硬質層12難以產生缺陷，若硬質層12之厚度為100nm以下，則硬質層12可充分確保透光性。

又，硬質層12之厚度更好的是50nm以下，尤其好的是20nm以下。若硬質層12之厚度為50nm以下，則如下所述可容易製造凹凸圖案形成片。

又，為了提高密著性及形成更微細之構造，亦可在基材11與硬質層12之間形成底塗層。

進而，亦可於硬質層12上設置樹脂層。

凹凸圖案形成片10之凹凸圖案12a之眾數間距A為1μm以下，較好的是0.4μm以下。又，從可容易形成凹凸圖案12a之角度而言，眾 數間距A較好的是0.05μm以上。

較好的是，凹凸圖案12a之各間距A₁、A₂、A₃...均為眾數間距A之±60%之範圍內，更好的是±30%之範圍內。若各間距為眾數間距A之±60%之範圍內，則間距均勻，可發揮作為光學元件之更優異之性能。

又，在滿足眾數間距A為1μm以下之後，各間距A₁、A₂、A₃...均亦可連續地變化。

較好的是，凹凸圖案12a之各深度B₁、B₂、B₃...均均為平均深度B之±60%之範圍內，更好的是±30%之範圍內。若各深度為平均深度B之±60%之範圍內，則深度均勻，可發揮作為光學元件之更優異之性能。

又，在滿足平均深度B為將眾數間距A設為100%時的10%以上之後，各深度B₁、B₂、B₃...均亦可連續地變化。

如下所述，凹凸圖案形成片10除了可應用於防反射體、相位差板等光學元件及光學元件製造用工程片以外，亦可利用於超潑水片或超親水片等。

再者，凹凸圖案形成片並非限定於上述實施形態。例如，於上述實施形態中，硬質層具有沿著該凹凸圖案形成片之寬度方向的週期性之波狀凹凸圖案，但除了該凹凸圖案以外，亦可具有沿著凹凸圖案形成片之長度方向的週期性之波狀凹凸圖案。進而，硬質層亦可具有大量沿著特定方向之波狀凹凸圖案。於該等情形時，使凹凸圖案之眾數間距為1μm以下，且凹凸圖案之底部之平均深度為將上述眾數間距設為100%時之10%以上，藉此呈現出作為光學元件之優異之性能。

從折射率角度而言，凸部之形狀較好的是頂端為尖頂，但頂端亦可帶有弧度。

當凹凸圖案並未非著特定方向時，可以下述方式求出眾數間 距。首先，藉由原子間力顯微鏡來拍攝凹凸圖案之上表面，將該圖像轉換成灰度文檔(例如，tiff格式等)。於灰度文檔之圖像(參照圖24)中，白度越低之處，則表示凹部之底部越深(白度越高之處，則凸部之頂部越高)。繼而，對灰度文檔之圖像進行傅立葉轉換。圖25中顯示傅立葉轉換後之圖像。傅立葉轉換後之圖像中，自白色部分之中心而觀察之方向表示灰度之方向性，又，自中心至白色部分為止之距離之倒數表示灰度圖像之週期。當凹凸圖案並非沿著特定方向時，成為如圖26所示之顯示有圓環之圖像。其次，自傅立葉轉換後之圖像中的圓環中心引朝向外側的直線狀之輔助線L₂，並對與中心之距離(X軸)上之亮度(Y軸)進行描繪(參照圖24)。繼而，讀取表示該描繪中之極大值的X軸之值r。該r值之倒數(1/r)為眾數間距。

(凹凸圖案形成片-3)

當硬質層12係由金屬或金屬化合物構成時，容易獲得凹凸圖案形成片10，因此金屬較好。

作為金屬，楊氏模量不會過高，可更容易形成凹凸圖案12a，因此較好的是選自由金、鋁、銀、碳、銅、鍺、銦、鎂、鈮、鈀、鉛、鉑、矽、錫、鈦、釩、鋅、鉍所組成之群中之至少一種金屬。此處所言之金屬亦包含半金屬。

作為金屬化合物，因同樣之理由，故較好的是選自由氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化鎂、氧化錫、氧化銅、氧化銦、氧化鎘、氧化鉛、氧化矽、氟化鋇、氟化鉀、氟化鎂、硫化鋅、砷化鎵所組成之群中之至少一種金屬化合物。

再者，當硬質層12由金屬構成時，有時層表面會受到空氣氧化而形成空氣氧化膜，但本發明中，如此之金屬層之表面被空氣氧化後的層亦看作由金屬所構成之層。

硬質層12之厚度較好的是超過0.01μm且為0.2μm以下，更好的 是0.02~0.1μm。若硬質層之厚度超過0.01μm且為0.2μm以下，則如下所述可容易製造凹凸圖案形成片。

又，為了提高密著性及形成更微細之構造，亦可在基材11與硬質層12之間形成底塗層。

凹凸圖案形成片10之凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，較好的是超過1μm且為10μm以下。當眾數間距A不足1μm時以及超過20μm時，即便將凹凸圖案形成片10用作光擴散體製造用工程片原版，亦難以獲得光擴散性較高之光擴散體。

2.凹凸圖案形成片之製造方法

以下對本發明之凹凸圖案形成片之製造方法之一實施形態進行說明。

如圖7所示，本實施形態之凹凸圖案形成片之製造方法包括以下步驟：於作為樹脂製基材之加熱收縮性薄膜11a之一面上，設置表面平滑之硬質層13(以下，稱為表面平滑硬質層13)，以形成積層片10a(以下，稱為第1步驟)；以及使加熱收縮性薄膜11a加熱收縮，並使積層片10a之至少表面平滑硬質層13以摺疊之方式而變形(以下，稱為第2步驟)。

此處，表面平滑硬質層13係指JIS B0601中記載之中心線平均粗糙度為0.1μm以下之層。

．第1步驟-1

於第1步驟中，作為於加熱收縮性薄膜11a之一面上設置樹脂製表面平滑硬質層13以形成積層片10a之方法，可列舉例如：於加熱收縮性薄膜11a之一面上，利用旋轉塗佈機或刮棒塗佈機等來塗佈第2樹脂之溶液或分散液，並使溶劑乾燥之方法；於加熱收縮性薄膜11a之一面上，積層預先製作之表面平滑硬質層13之方法等。

作為加熱收縮性薄膜11a，可使用例如聚對苯二甲酸乙二酯系收 縮薄膜、聚苯乙烯系收縮薄膜、聚烯烴系收縮薄膜、聚氯乙烯系收縮薄膜等。

於收縮薄膜之中，尤其好的是收縮50~70%之收縮薄膜。若使用收縮50~70%之收縮薄膜，則可使變形率為50%以上，從而可容易製造凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下、凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上的凹凸圖案形成片10。進而，亦可容易製造凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之100%以上的凹凸圖案形成片10。

此處，變形率係指(變形前之長度-變形後之長度)/(變形前之長度)×100(%)，或者係指(變形後之長度)/(變形前之長度)×100(%)。

又，利用以下步驟可使凹凸圖案12a之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之300%。

於加熱收縮性薄膜11a上，塗佈玻璃轉移溫度低於加熱收縮性薄膜11a之底塗樹脂層，並於該底塗樹脂層上形成設置有表面硬質平滑層13之積層片。使該積層片加熱收縮，藉此形成凹凸圖案形成片。

自積層片上剝離加熱收縮後之加熱收縮性薄膜11a，並貼合其他之加熱收縮性薄膜，形成積層片。使該積層片加熱收縮，藉此可使平均深度B大於使1片加熱收縮性薄膜加熱收縮後之情形。反覆進行複數次該步驟後，可使凹凸圖案12a之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之300%。

本發明中，使表面平滑硬質層13之厚度超過0.05μm且為5.0μm以下，較好的是0.1~1.0μm。將表面平滑硬質層13之厚度設為上述範圍，藉此可使凹凸圖案12a之眾數間距A可靠地超過1μm且為20μm以下。

然而，若表面平滑硬質層13之厚度為0.05μm以下，則眾數間距A有時會在1μm以下，若表面平滑硬質層13之厚度超過5.0μm，則眾 數間距A有時會超過20μm。

又，本發明中，將表面平滑硬質層13藉由玻璃轉移溫度相較於構成加熱收縮性薄膜之樹脂(第1樹脂)高出10℃以上之樹脂(第2樹脂)所構成。由於第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度滿足上述關係，故可使凹凸圖案12a之眾數間距A可靠地超過1μm且為20μm以下。

表面平滑硬質層13之厚度亦可連續地變化。當表面平滑硬質層13之厚度連續地變化時，壓縮後所形成之凹凸圖案12a之間距及深度會連續地變化。

該製造方法中，從可更容易形成凹凸圖案12a之角度而言，較好的是將表面平滑硬質層13之楊氏模量設為0.01~300GPa，更好的是將其設為0.1~10GPa。

在使積層片10a變形時，較好的是使表面平滑硬質層13以5%以上之變形率而變形。若使表面平滑硬質層13以5%以上之變形率而變形，則可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上。

進而，更好的是使表面平滑硬質層13以50%以上之變形率而變形。若使表面平滑硬質層13以50%以上之變形率而變形，則可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之100%以上。

．第1步驟-2

又，當硬質層12係由金屬或金屬化合物構成時，作為形成積層片10a之方法，可列舉例如：於加熱收縮性薄膜11a之一面上蒸鍍金屬或金屬化合物之方法；於加熱收縮性薄膜11a之一面上，積層預先製作之表面平滑硬質層13之方法等。

於該製造方法中，從可更容易形成凹凸圖案12a之角度而言，較 好的是將表面平滑硬質層13之楊氏模量設為0.1~500GPa，更好的是設為1~150GPa。

為了將表面平滑硬質層13之楊氏模量設為上述範圍，較好的是將表面平滑硬質層13藉由選自由金、鋁、銀、碳、銅、鍺、銦、鎂、鈮、鈀、鉛、鉑、矽、錫、鈦、釩、鋅、鉍所組成之群中之至少一種金屬所構成。或者，較好的是將表面平滑硬質層13藉由選自由氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化鎂、氧化錫、氧化銅、氧化銦、氧化鎘、氧化鉛、氧化矽、氟化鋇、氟化鈣、氟化鎂、硫化鋅、砷化鎵所組成之群中之至少一種金屬化合物所構成。

此處，楊氏模量係根據JIS Z 2280-1993之「金屬材料之高溫楊氏模量測試方法」，將溫度變更為23℃而測定出之值。當硬質層由金屬化合物構成時亦相同。

表面平滑硬質層13之厚度超過0.01μm且為0.2μm以下，較好的是0.02~0.1μm。將表面平滑硬質層13之厚度設為上述範圍，藉此可使凹凸圖案12a之眾數間距A可靠地超過1μm且為20μm以下。然而，若表面平滑硬質層13之厚度不足0.01μm，則眾數間距A有時會成為1μm以下，若表面平滑硬質層13之厚度超過0.2μm，則眾數間距A有時會超過20μm。

又，表面平滑硬質層13之厚度亦可連續地變化。當表面平滑硬質層13之厚度連續地變化時，壓縮後所形成之凹凸圖案12a之間距及深度會連續地變化。

當使積層片10a變形時，較好的是使表面平滑硬質層13以5%以上之變形率而變形。若使表面平滑硬質層13以5%以上之變形率而變形，則可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上。

進而，更好的是使表面平滑硬質層13以50%以上之變形率而變 形。若使表面平滑硬質層13以50%以上之變形率而變形，則可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之100%以上。

．第2步驟-1

於第2步驟中，使加熱收縮性薄膜11a熱收縮，藉此於表面平滑硬質層13上，在相對於收縮方向之垂直方向上形成波狀之凹凸圖案12a，由此獲得硬質層12。

作為使加熱收縮性薄膜11a加熱收縮時之加熱方法，可列舉於熱風、蒸氣或熱水中通過之方法等，其中，從可使加熱收縮性薄膜11a均勻地收縮之角度而言，尤其好的是於熱水中通過之方法。

使加熱收縮性薄膜11a熱收縮時之加熱溫度較好的是，根據所使用之加熱收縮性薄膜之種類、及目標凹凸圖案12a之間距與底部12b之深度而適當選擇。

於該製造方法中，若表面平滑硬質層13之厚度越薄、表面平滑硬質層13之楊氏模量越低，則凹凸圖案12a之眾數間距A越小，若基材之變形率越高，則平均深度B越深。因此，為了將凹凸圖案12a設為特定之眾數間距A及平均深度B，必須適當選擇上述條件。

於以上所說明之凹凸圖案形成片之製造方法中，由於構成表面平滑硬質層13之第2樹脂相較於構成加熱收縮性薄膜11a之第1樹脂而言，玻璃轉移溫度高出10℃以上，因此在第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度之間的溫度時，表面平滑硬質層13之楊氏模量高於加熱收縮性薄膜11a。而且，由於將表面平滑硬質層13之厚度設為超過0.05μm且為5.0μm以下，因此在第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度之間的溫度進行加工時，表面平滑硬質層13於其說厚度增加，不如說被摺疊。進而，因表面平滑硬質層13積層於加熱收縮性薄膜11a上，故加熱收縮性薄膜11a之收縮所產生的應力整 體上均勻。因此，根據本發明，使表面平滑硬質層13以摺疊之方式而變形，可簡便且大面積地製造光擴散體之性能優異之凹凸圖案形成片10。

並且，根據該製造方法，可容易使凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，並可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上。

又，作為凹凸圖案形成片之製造方法，亦可應用下述方法(1)~(4)：

方法(1)

於基材11之整個一面上，設置表面平滑硬質層13以形成積層片10a，並在沿著表面之一方向上對整個積層片10a進行壓縮。

當基材11之玻璃轉移溫度低於室溫時，積層片10a之壓縮係於室溫中進行，當基材11之玻璃轉移溫度為室溫以上時，積層片10a之壓縮係於基材11之玻璃轉移溫度以上且低於表面平滑硬質層13之玻璃轉移溫度的溫度中進行。

方法(2)

於基材11之整個一面上，設置表面平滑硬質層13以形成積層片10a，使積層片10a向一方向延伸，並使與延伸方向正交之方向收縮，且在沿著表面之一方向上對表面平滑硬質層13進行壓縮。

當基材11之玻璃轉移溫度低於室溫時，積層片10a之延伸係於室溫中進行，當基材11之玻璃轉移溫度為室溫以上時，積層片10a之延伸係於基材11之玻璃轉移溫度以上且低於表面平滑硬質層13之玻璃轉移溫度的溫度中進行。

方法(3)

於由未硬化之電離放射線硬化性樹脂所形成之基材11上，積層表面平滑硬質層13以形成積層片10a，並照射電離放射線而使基材11硬 化，藉此使其收縮，並在沿著表面之至少一方向對積層於基材11上之表面平滑硬質層13進行壓縮。

方法(4)

於使溶劑膨潤而膨脹之基材11上，積層表面平滑硬質層13以形成積層片10a，將基材11中之溶劑乾燥、去除，藉此使其收縮，並在沿著表面之至少一方向對積層於基材11上之表面平滑硬質層13進行壓縮。

於方法(1)中，作為形成積層片10a之方法，可列舉例如：於基材11之一面上，藉由旋轉塗佈機或刮棒塗佈機等來塗佈樹脂之溶液或分散液，並使溶劑乾燥之方法；於基材11之一面上，積層預先製作之表面平滑硬質層13之方法等。

作為在沿著表面之一方向上對整個積層片10a進行壓縮之方法，可列舉例如：以老虎鉗等夾住積層片10a之一端部及其相反側之端部而進行壓縮之方法等。

於方法(2)中，作為使積層片10a向一方向延伸之方法，可列舉例如：拉伸積層片10a之一端部及其相反側之端部而使其延伸之方法等。

於方法(3)中，作為電離放射線硬化性樹脂，可列舉紫外線硬化型樹脂或電子射線硬化型樹脂等。

於方法(4)中，溶劑可根據第1樹脂之種類而適當選擇。溶劑之乾燥溫度可根據溶劑之種類而適當選擇。

對於方法(2)~(4)中之表面平滑硬質層13，均可使用與方法(1)中相同之成分，且可使用相同之厚度。又，積層片10a之形成方法與方法(1)同樣地可應用以下方法：於基材11之一面上塗佈樹脂之溶液或分散液，並使溶劑乾燥之方法；於基材11之一面上積層預先製作之表面平滑硬質層13之方法。

．第2步驟-2

當將凹凸圖案12a之眾數間距A設為1μm以下時，於方法(1)中，表面平滑硬質層13之厚度較好的是50nm以下，更好的是20nm以下。若表面平滑硬質層13之厚度為50nm以下，則能夠可靠地使凹凸圖案12a之眾數間距A為1μm以下。

又，從壓縮後之硬質層12難以產生缺陷之角度而言，表面平滑硬質層13較好的是1nm以上。

於此情形時，使表面平滑硬質層13藉由玻璃轉移溫度相較於第1樹脂高出10℃以上之第2樹脂而構成。使表面平滑硬質層13藉由玻璃轉移溫度相較於第1樹脂高出10℃以上之第2樹脂所構成時，可於壓縮時使基材11變形之狀態下使表面平滑硬質層13呈波狀彎曲而蛇行變形，由此可容易形成凹凸圖案12a。

於以上所說明之凹凸圖案形成片之製造方法中，由於構成表面平滑硬質層13之第2樹脂相較於構成基材11之第1樹脂而言，玻璃轉移溫度高出10℃以上，因此在第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度之間的溫度時，表面平滑硬質層13之楊氏模量高於基材11。因而，當在第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度之間的溫度進行加工時，表面平滑硬質層13與其說厚度增加，不如說被摺疊。進而，因表面平滑硬質層13積層於基材11上，故壓縮或收縮所產生的應力整體上均勻。因此，根據本發明，可容易使表面平滑硬質層13蛇行變形而製造凹凸圖案形成片10，從而可簡便且大面積地製造性能優異之凹凸圖案形成片10作為光學元件。

並且，根據該製造方法，可容易縮短凹凸圖案12a之眾數間距A，因此可使平均深度B變深。具體而言，可容易使凹凸圖案12a之眾數間距A為1μm以下，且可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上。

進而，根據該製造方法，可容易使凹凸圖案12a中的各間距A₁、A₂、A₃...及各深度B₁、B₂、B₃...均勻。

第2步驟-3

當使用金屬或金屬化合物作為表面平滑硬質層而進行製造時，於第2步驟中，加熱收縮性薄膜11a產生熱收縮，藉此於表面平滑硬質層13上，在與收縮方向垂直之方向上形成波狀之凹凸圖案12a，從而成為硬質層12。

作為使加熱收縮性薄膜11a加熱收縮時之加熱方法，可列舉於熱風、蒸氣或熱水中通過之方法等，其中，從可使加熱收縮性薄膜11a均勻地收縮之角度而言，尤其好的是於熱水中通過之方法。

使加熱收縮性薄膜11a熱收縮時之加熱溫度較好的是，根據所使用之加熱收縮性薄膜之種類、及目標凹凸圖案12a之間距與底部12b之深度而適當選擇。

於該製造方法中，若表面平滑硬質層13之厚度越薄、表面平滑硬質層13之楊氏模量越低，則凹凸圖案12a之眾數間距A越小，若基材之變形率越高，則平均深度B越深。因此，為了將凹凸圖案12a設為特定之眾數間距A及平均深度B，必須適當選擇上述條件。

於以上所說明之凹凸圖案形成片之製造方法中，由金屬或金屬化合物構成之表面平滑硬質層13之楊氏模量遠大於加熱收縮性薄膜11a之楊氏模量，因此在對相較於加熱收縮性薄膜11a更硬之表面平滑硬質層13進行熱壓縮時，表面平滑硬質層13與其說厚度增加，不如說被摺疊。進而，由於表面平滑硬質層13積層於加熱收縮性薄膜11a上，故加熱收縮性薄膜11a之收縮所產生的應力整體上均勻。因此，根據本發明，使表面平滑硬質層13以摺疊之方式而變形，可簡便且大面積地製造性能優異之凹凸圖案形成片10作為光擴散體。

並且，根據該製造方法，可容易使凹凸圖案12a之眾數間距A超 過1μm且為20μm以下，並且可容易使凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上。

然而，先前，作為製造凹凸圖案形成用片之方法，已知有：熱奈米壓印法，將奈米壓印用模具之凹凸圖案按壓於經加熱而軟化之片狀熱可塑性樹脂後進行冷卻；以及光奈米壓印法，使未硬化之電離放射線硬化性樹脂組成物包覆於奈米壓印用模具之凹凸圖案上，之後照射電離放射線而使其硬化。

於熱奈米壓印法中，必須對模具整體施加均勻之壓力，以將具有凹凸圖案之模具按壓於熱可塑性樹脂上，但該方法中，若模具之面積較大，則施加於模具上之壓力容易不均勻，其結果會導致凹凸圖案之轉印變得不均勻。因此，不能說其適合於液晶電視之顯示器等中所使用之大面積的凹凸圖案形成片之生產。

又，於光奈米壓印法中，由於模具與已硬化之樹脂之脫模性不充分，因此有時凹凸圖案之轉印會變得不完全。並且，模具之反覆使用次數越多，該傾向越顯著。

相對於該等奈米壓印法，上述凹凸圖案形成片之製造方法可省略凹凸圖案之轉印，因此可消除奈米壓印法中之上述問題點。

再者，於上述實施形態中，係於基材之整個一面上設置硬質層，但亦可於基材之一面之一部分上設置硬質層，或於基材之兩面上全部設置硬質層，或者亦可於基材之兩面之一部分上設置硬質層。

3.光擴散體

本發明之光擴散體具備眾數間距A超過1μm且為20μm以下之上述凹凸圖案形成片10。

於本發明之光擴散體中，亦可於凹凸圖案形成片10之一面或兩面上具備其他層。例如，於凹凸圖案形成片10之形成有凹凸圖案12a之一側之面上，為了防止污染該面，亦可具備含有氟樹脂或聚矽氧樹 脂作為主成分之厚度為1~5nm左右之防汙層。

又，於光擴散體之基材11側之面上，亦可具備透明樹脂製或玻璃製的支持體。

進而，可於基材11側之面上形成黏著劑層，亦可含有色素以便適當具有功能性。

具備上述於表面上形成有凹凸圖案之凹凸圖案形成片10的本發明之光擴散體具有充分之光擴散性。

4.光擴散體製造用工程片原版及光擴散體之製造方法

本發明之光擴散體製造用工程片原版(以下，稱為工程片原版)係具備上述凹凸圖案形成片10者，且係用於以如下所示之方法將凹凸圖案12a轉印至其他素材來大面積且大量地製造凹凸圖案形成片之模具者，上述凹凸圖案形成片可用作在表面上形成有與該工程片原版具有相同之眾數間距及平均深度之凹凸圖案的光擴散體。

於工程片原版上，亦可更具備用以支持凹凸圖案形成片10之樹脂製或金屬製的支持體。

作為使用工程片原版來製造光擴散體之具體方法，可列舉例如下述方法(a)~(c)：

方法(a)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂；以及照射電離放射線而使上述硬化性樹脂硬化，之後自工程片原版上剝離已硬化之塗膜。此處，所謂電離放射線，通常係指紫外線或電子射線，本發明中亦包含可見光線、X射線、離子射線等。

方法(b)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈未硬化之液狀熱硬化性樹脂；以及加熱而使上述液狀熱硬化 性樹脂硬化，之後自工程片原版上剝離已硬化之塗膜。

方法(c)

本方法包括以下步驟：使片狀之熱可塑性樹脂接觸到工程片原版之形成有凹凸圖案之面；將該片狀之熱可塑性樹脂按壓於工程片原版上，且於此狀態下進行加熱而使其軟化，其後進行冷卻；以及自工程片原版上剝離上述已冷卻之片狀熱可塑性樹脂。

又，亦可使用工程片原版來製作二次工程用成形物，並使用該二次工程用成形物來製造光擴散體。作為二次工程用成形物，可列舉例如二次工程片。又，作為二次工程用成形物，可列舉如下電鍍輥：將工程片原版弄圓並貼附於圓筒之內側，並在將輥插入至該圓筒內側之狀態下進行電鍍，再自圓筒中取出輥，由此而獲得之電鍍輥。

作為使用二次工程用成形物之具體方法，可列舉下述方法(d)~(f)：

方法(d)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，進行鎳等之金屬電鍍，以積層電鍍層(凹凸圖案轉印用材料)；自工程片原版上剝離該電鍍層，以製作金屬製之二次工程用成形物；繼而，於二次工程用成形物之與凹凸圖案相接觸之一側之面上，塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂；以及在照射電離放射線而使上述硬化性樹脂硬化，之後自二次工程用成形物上剝離已硬化之塗膜。

方法(e)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，積層電鍍層(凹凸圖案轉印用材料)；自工程片原版上剝離該電鍍層，以製作金屬製之二次工程用成形物；於該二次工程用成形物之與凹凸圖案相接觸之一側之面上，塗佈未硬化之液狀熱硬化性樹脂；以及加熱而使該樹脂硬化，之後自二次工程用成形物上剝離已硬化之塗 膜。

方法(f)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，積層電鍍層(凹凸圖案轉印用材料)；自工程片原版上剝離該電鍍層，以製作金屬製之二次工程用成形物；使片狀之熱可塑性樹脂接觸到該二次工程用成形物之與凹凸圖案相接觸之一側之面；將該片狀之熱可塑性樹脂按壓於二次工程用成形物上，且於此狀態下進行加熱而使其軟化，其後進行冷卻；以及自二次工程用成形物剝離上述已冷卻之片狀之熱可塑性樹脂。

以下對方法(a)之具體例進行說明。如圖8所示，首先，於網狀之工程片原版110之形成有凹凸圖案112a之面上，藉由塗佈機120來塗佈未硬化之液狀電離放射線硬化性樹脂112c。繼而，將塗佈有該硬化性樹脂之工程片原版110通過輥130而進行按壓，使上述硬化性樹脂填充於工程片原版110之凹凸圖案112a內部。其後，藉由電離放射線照射裝置140而照射電離放射線，使硬化性樹脂交聯．硬化。繼而，自工程片原版110上剝離硬化後之電離放射線硬化性樹脂，藉此可製造網狀之光擴散體150。

於方法(a)中，為了賦予脫模性，在塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂之前，亦可於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上設置厚度為1~10nm左右之由聚矽氧樹脂、氟樹脂等構成之層。

作為於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂的塗佈機，可列舉T模塗佈機、輥塗佈機、刮棒塗佈機等。

作為未硬化之電離放射線硬化性樹脂，可列舉含有選自以下物質中之一種以上之成分者：環氧丙烯酸酯、環氧化油丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、不飽和聚酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、乙烯/ 丙烯酸酯、多烯/丙烯酸酯、矽酮丙烯酸酯、聚丁二烯、聚苯乙烯甲基丙烯酸甲酯等之預聚物、脂肪族丙烯酸酯、脂環式丙烯酸酯、芳香族丙烯酸酯、含氫氧基之丙烯酸酯、含烯丙基之丙烯酸酯、含縮水甘油基之丙烯酸酯、含羧基之丙烯酸酯、含鹵基之丙烯酸酯等單體。未硬化之電離放射線硬化性樹脂較好的是以溶劑等進行稀釋。

又，亦可於未硬化之電離放射線硬化性樹脂中添加氟樹脂、聚矽氧樹脂等。

當使未硬化之電離放射線硬化性樹脂藉由紫外線而硬化時，較好的是，於未硬化之電離放射線硬化性樹脂中添加苯乙酮類、二苯甲酮類等之光聚合起始劑。

於塗佈未硬化之液狀電離放射線硬化性樹脂之後，亦可將由樹脂、玻璃等構成之基材貼合後照射電離放射線。電離放射線之照射由基材、工程片原版之具有電離放射線透過性之任一者進行即可。

硬化後之電離放射線硬化性樹脂片之厚度較好的是0.1~100μm左右。若硬化後之電離放射線硬化性樹脂片之厚度為0.1μm以上，則可確保充分之強度，若為100μm以上，則可確保充分之可撓性。

於上述圖8所示之方法中，工程片原版為網狀，但亦可為單葉片。當使用單葉片之工程片時，可應用將單葉片之工程片用作平板狀之模具之標記法、將單葉片之工程片捲繞於輥上以用作圓筒狀模具之輥壓印法等。又，亦可將單葉片之工程片原版配置於射出成形機之模具之內側。

然而，於該等使用單葉片之工程片之方法中，為了大量生產光擴散體，必須多次反覆地進行形成凹凸圖案之步驟。當電離放射線硬化性樹脂與工程片原版之脫模性較低時，於多次反覆後凹凸圖案會產生堵塞，因而具有凹凸圖案之轉印不完全之傾向。

與此相對，於圖8所示之方法中，由於工程片原版為網狀，故可 大面積且連續地形成凹凸圖案，因此即便凹凸圖案形成片之反覆使用次數較少，亦可於短時間內製造所需數量之光擴散體。

於方法(b)、(e)中，作為液狀熱硬化性樹脂，可列舉例如未硬化之三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂、環氧樹脂等。

又，方法(b)中的硬化溫度較好的是低於工程片原版之玻璃轉移溫度。若硬化溫度為工程片原版之玻璃轉移溫度以上，則在硬化時工程片原版之凹凸圖案可能會產生變形。

於方法(c)、(f)中，作為熱可塑性樹脂，可列舉例如丙烯酸系樹脂、聚烯烴、聚酯等。

將片狀之熱可塑性樹脂按壓於二次工程用成形物上時之壓力較好的是1~100MPa。若按壓時之壓力為1MPa以上，則可高精度地轉印凹凸圖案，若按壓時之壓力為100MPa以下，則可防止加壓過剩。

又，方法(c)中的熱可塑性樹脂之加熱溫度較好的是低於工程片原版之玻璃轉移溫度。其原因在於，若加熱溫度為工程片原版之玻璃轉移溫度以上，則在加熱時工程片原版之凹凸圖案可能會產生變形。

作為加熱後之冷卻溫度，從可高精度地轉印凹凸圖案之角度而言，較好的是小於熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度。

於方法(a)~(c)中，亦可省略加熱步驟，從防止工程片原版之凹凸圖案之變形的角度而言，較好的是使用電離放射線硬化性樹脂之方法(a)。

於方法(d)~(f)中，較好的是將金屬製之二次工程用成形物之厚度設為50~500μm左右。若金屬製之二次工程用成形物之厚度為50μm以上，則二次工程用成形物具有充分之強度，若上述厚度為500μm以下，則可確保充分之可撓性。

於方法(d)~(f)中，由於使用熱導致之變形較小之金屬製片作為工程片，因此電離放射線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂之 任一者均可用作凹凸圖案形成片用材料。

當將由方法(a)~(f)所製造之凹凸圖案形成片用作光擴散體時，為了進一步提高光擴散效果，可使凹凸圖案形成片含有由上述無機化合物構成之光擴散劑、由有機化合物構成之有機光擴散劑或者微細氣泡。

再者，於方法(d)~(f)中，將工程片原版之凹凸圖案轉印至金屬上而獲得二次工程用成形物，但亦可轉印至樹脂上而獲得二次工程用成形物。作為此時可使用之樹脂，列舉例如聚碳酸酯、聚縮醛、聚碸、方法(a)中使用之電離放射線硬化性樹脂等。當使用電離放射線硬化性樹脂時，與方法(a)同樣地依次進行電離放射線硬化性樹脂之塗佈、硬化、剝離，由此獲得二次工程用成形物。

於以上述方式獲得之光擴散體上，亦可在與形成有凹凸圖案之面相反之面上設置黏著劑層。又，在與形成有凹凸圖案之面相反側之面上，亦可進而形成凹凸圖案。

又，亦可不剝離用作工程片原版之凹凸圖案形成片或二次工程用成形物，而將其作為保護層來使用，在即將使用光擴散體之前剝離該保護層。

藉由上述製造方法所製造之光擴散體上，形成有與上述凹凸圖案形成片10相同之凹凸圖案，因此凹凸之配向不均勻，擴散之異向性優異。

於光擴散體中，亦可於凹凸圖案形成片之一面或兩面上具備其他層。例如，於凹凸圖案形成片之形成有凹凸圖案之一側之面上，為了防止污染該面，亦可具備含有氟樹脂或聚矽氧樹脂作為主成分之厚度為1~5nm左右之防汙層。

又，於光擴散體之未形成有凹凸圖案之一側之面上，亦可具備透明樹脂製或玻璃製的支持體。

5.光學片

5-1.第1實施形態

以下對本發明之光學片之第1實施形態進行說明。

圖13表示本實施形態之光學片。再者，於圖13中，為了易於說明，將凹凸區域212放大，且將其配置零散顯示。

本實施形態之光學片210a係用作於長度方向之一端α上配置有光源330之光擴散片者，且係於平坦之一面11上，藉由如下圖案以點狀而分散配置有外形為橢圓形狀之凹凸區域212，亦即，隨著自光學片210a之長度方向之一端α朝向另一端β而逐漸變密之圖案。再者，於本發明中，所謂平坦，係指JIS B0601中記載之中心線平均粗糙度為0.1μm以下。又，凹凸區域係指JIS B0601中記載之中心線平均粗糙度超過0.1μm，尤其為0.5μm以上。

．凹凸區域

凹凸區域12係具有凹凸圖案之區域。於本實施形態中，如圖1所示，於凹凸區域12之表面上，形成有蛇行之波狀凹凸圖案12a。

在用於光擴散片之本實施形態之光學片210a中，較好的是凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，更好的是超過1μm且為10μm以下。若眾數間距A不足1μm，則該眾數間距A為可見光之波長以下，因而可見光不會因凹凸圖案12a而折射，而是光會透過，若眾數間距A超過上述上限值，則擴散之異向性會變低，因而具有亮度易產生不均之傾向。

凹凸圖案12a之凹凸之平均深度B相對於凹凸圖案12a之眾數間距A之比(B/A，以下稱為縱橫比)較好的是0.1~3.0。若縱橫比不足0.1，則有時會無法獲得目標光學特性。另一方面，若縱橫比大於3.0，則會具有在製造光學片210a時難以形成凹凸圖案12a之傾向。

此處，所謂平均深度B，係指凹凸圖案12a之底部12b之平均深 度。

又，底部12b係指凹凸圖案12a之凹部之極小點，平均深度B係指對將凹凸區域12沿短徑方向截斷所得之剖面(參照圖2)進行觀察時，自與整個光學片10a之面方向平行的基準線L₁至各凸部之頂部為止的長度B₁、B₂、B₃...之平均值(B_AV)、與自基準線L₁至各凹部之底部為止的長度b₁、b₂、b₃...之平均值(b_AV)之差(b_AV-B_AV)。

作為測定平均深度B之方法，可採用下述方法等：測定由原子間力顯微鏡所拍攝之凹凸圖案12a之剖面之圖像中的各底部12b之深度，並求出該等之平均值。

如本實施形態所示，所謂凹凸圖案12a沿著一方向之蛇行，係指以下述方法求得之凹凸圖案之配向度為0.3以上。該配向度係凹凸圖案之配向不均勻之指標，該值越大，則表示配向越不均勻。

若上述配向度不足0.3，則凹凸圖案12a之配向之不均勻較小，因此光之擴散性較小。

又，配向度較好的是1.0以下。若配向度超過1.0，則凹凸圖案12a之方向會於某程度變得隨機，因此光擴散性變高，但異向性具有變低之傾向。

為了使配向度為0.3以上，例如於下述製造中，可適當選擇加熱收縮性薄膜與凹凸區域形成用凸部。

又，亦可採用下述方法，亦即，使用在一表面上形成有配向度為0.3以上之凹凸圖案的金屬模具來使透明樹脂成形。

凹凸區域212之面積相對於光學片210a之一面之面積的面積比例取決於目標光擴散性，但較好的是30~100%。若凹凸區域212之面積比例為30%以上，則可發揮充分之光擴散性。

．光學片之構成材料

光學片210a係由可見光之透過率較高(具體而言，可見光之全光 線透過率為85%以上)之透明樹脂所構成。

又，為了使耐熱性、耐光性提高，可在不損害透光率等光學特性之範圍內，於光學片10a中含有添加劑。作為添加劑，可列舉光穩定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、光擴散劑等。其中尤其好的是添加光穩定劑，其添加量較好的是，相對於透明樹脂100質量份為0.03~2.0質量份。若光穩定劑之添加量為0.03質量份以上，則可充分發揮其添加效果，但若光穩定劑之添加量超過2.0質量份，則光穩定劑之量過剩，從而具有不必要之成本上漲之傾向。

又，為了進一步提高光擴散效果，可在不會較大地損害透光率等光學特性之範圍內，使光學片210a中含有由無機化合物構成之無機光擴散劑、由有機化合物構成之有機光擴散劑。

作為無機光擴散劑，可列舉二氧化矽、白碳、滑石、氧化鎂、氧化鋅、氧化鈦、碳酸鈣、氫氧化鋁、硫酸鋇、矽酸鈣、矽酸鎂、矽酸鋁、矽酸鋁化鈉、矽酸鋅、玻璃、雲母等。

作為有機光擴散劑，可列舉苯乙烯系聚合粒子、丙烯酸系聚合粒子、矽氧烷系聚合粒子、聚醯胺系聚合粒子等。該等光擴散劑可分別單獨使用，或者亦可將兩種以上組合而使用。

又，為了獲得優異之光散射特性，該等光擴散劑亦可設為花瓣狀或球晶狀等多孔質構造。

從難以損害透光性之角度而言，光擴散劑之含量較好的是相對於透明樹脂100質量份為10質量份以下。

進而，為了進一步提高光擴散效果，可在不會較大地損害透光率等光學特性之範圍內，使光學片210a中含有微細氣泡。微細氣泡對光之吸收較少，難以使透光率降低。

作為微細氣泡之形成方法，可應用向光學片210a中混入發泡劑之方法(例如，日本專利特開平5-212811號公報、日本專利特開平6- 107842號公報中揭示之方法)、對丙烯酸系發泡樹脂進行發泡處理以使其含有微細氣泡之方法(例如，日本專利特開2004-2812號公報中揭示之方法)等。進而，就可實現更加均勻之面照射而言，微細氣泡之形成方法較好的是使特定位置不均勻地發泡之方法(例如，日本專利特開2006-124499號公報中揭示之方法)。

再者，亦可併用上述光擴散劑與微細發泡。

．光學片之厚度

光學片10a之厚度較好的是0.02~3.0mm，更好的是0.05~2.5mm，尤其好的是0.1~2.0mm。若光學片10a之厚度不足0.02mm，則因其厚度會小於凹凸圖案12a之深度而不適當，若其厚度厚於3.0mm，則因光學片10a之質量較大而可能難以操作。

光學片210a亦可由兩層以上之樹脂層所構成。即使當光學片10a係由兩層以上之層所構成時，光學片210a之厚度亦較好的是0.02~3.0mm。

．使用方法

上述光學片210a被用作光擴散片。具體而言，光學片210a係使光源330鄰接於光學片210a之一端α而使用的。於光學片210a之一端α配置光源330，藉此可使光於光學片210a內傳播。又，使傳播於光學片210a內之光在凹凸區域212擴散，由此可使光自形成有凹凸區域212之一側之面出射。進而，由於凹凸區域212係藉由隨著自一端α朝向另一端β而逐漸變密之圖案而配置的，因此可使光之出射量隨著朝向另一端β而變多。一般而言，於光學片210a內傳播之光之強度隨著遠離光源330而變弱，但由於光之出射量隨著朝向另一端β而變多，故可使自光學片210a出射之光之強度均勻。

當使用光學片210a時，為了提高光源330之光之利用效率，較好的是於不具有凹凸區域212之面上設置反射板。

以上所說明之第1實施形態之光學片210a中，藉由形成於凹凸區域212表面之凹凸圖案12a而發揮光擴散性。又，將凹凸區域212以於光學片210a之長度方向之另一端β側變密之圖案而配置，使得光擴散性於長度方向之另一端β側變高。如上所述，由於可藉由凹凸區域212彼此之間隔來調整光擴散性，因此光學片210a可於所需之位置容易獲得所需之光擴散性。

．製造方法

以下對製造光學片210a之方法之例進行說明。

(第1製造方法)

第1製造方法係使用加熱收縮性薄膜來製造光學片210a之方法。

亦即，第1製造方法係具有以下製造步驟來製造成為光學片210a之凹凸圖案形成片的方法，上述製造步驟指：於加熱收縮性薄膜之一面上，印刷表面平滑之樹脂製凹凸區域形成用凸部以形成印刷片(以下，稱為第1步驟)；以及使加熱收縮性薄膜加熱收縮，以使印刷片之至少凹凸區域形成用凸部以摺疊之方式而變形(以下，稱為第2步驟)。

．第1步驟

於第1步驟中，如圖14及圖15所示，作為於加熱收縮性薄膜13之一面上印刷凹凸區域形成用凸部14之方法，例如可應用絲網印刷、凹板印刷、平版印刷、及噴墨印刷等。

作為加熱收縮性薄膜13，可使用例如聚對苯二甲酸乙二酯系收縮薄膜、聚苯乙烯系收縮薄膜、聚烯烴系收縮薄膜、聚氯乙烯系收縮薄膜等。

於加熱收縮性薄膜213之中，尤其好的是收縮50~70%之收縮薄膜。若使用收縮50~70%之收縮薄膜，則可使變形率為50%以上，從而可容易製造凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下、縱橫 比為0.1以上之凹凸圖案形成片。

此處，變形率係指(變形前之長度-變形後之長度)/(變形前之長度)×100(%)，或者係指(變形後之長度)/(變形前之長度)×100(%)。

從容易形成蛇行之波狀凹凸圖案12a之角度而言，凹凸區域形成用凸部214係由玻璃轉移溫度相較於構成加熱收縮性薄膜213之樹脂(第1樹脂)高出10℃以上之樹脂(第2樹脂)所構成。

作為第2樹脂，可使用例如聚乙烯醇、聚苯乙烯、丙烯酸系樹脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物、聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚奈二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚醚碸、氟樹脂等。

從可容易形成所需之凹凸圖案12a之角度而言，凹凸區域形成用凸部214之表面係指JIS B0601中記載之中心線平均粗糙度為0.1μm以下。

又，凹凸區域形成用凸部214之厚度較好的是0.05~5.0μm，更好的是0.1~1.0μm。若凹凸區域形成用凸部214之厚度為上述範圍，則能夠可靠地使凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下。然而，若凹凸區域形成用凸部214之厚度不足0.05μm，則眾數間距A有時會成為1μm以下，若凹凸區域形成用凸部214之厚度超過5.0μm，則眾數間距A有時會超過20μm。

進而，凹凸區域形成用凸部214之厚度亦可不固定，例如，其可沿著一方向而連續地變厚，亦可沿著一方向而連續地變薄。

又，從可更容易形成蛇行之波狀凹凸圖案12a之角度而言，凹凸區域形成用凸部214之楊氏模量較好的是0.01~300GPa，更好的是0.1~10GPa。

．第2步驟

於第2步驟中，使加熱收縮性薄膜213熱收縮，藉此於凹凸區域 形成用凸部214上，在與收縮方向垂直之方向上形成波狀之凹凸圖案12a，以獲得凹凸區域212(參照圖16)。

作為使加熱收縮性薄膜213加熱收縮時之加熱方法，可列舉於熱風、蒸氣或熱水中通過之方法等，其中，從可使加熱收縮性薄膜213均勻地收縮之角度而言，尤其好的是於熱水中通過之方法。

於該製造方法中，若凹凸區域形成用凸部214之厚度越薄、凹凸區域形成用凸部214之楊氏模量越低，則凹凸圖案12a之眾數間距A越小，若加熱收縮性薄膜之變形率越高，則平均深度B越深。

於上述第1製造方法中，在第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度之間的溫度情況下，凹凸區域形成用凸部214之楊氏模量高於加熱收縮性薄膜213之楊氏模量。因此，當在第1樹脂之玻璃轉移溫度與第2樹脂之玻璃轉移溫度之間的溫度進行加工時，凹凸區域形成用凸部214與其說厚度增加，不如說被摺疊。進而，由於凹凸區域形成用凸部214積層於加熱收縮性薄膜213上，故加熱收縮性薄膜213之收縮所產生的應力整體上均勻。因此，使加熱收縮性薄膜213收縮，使得凹凸區域形成用凸部214以摺疊之方式而變形，藉此可形成凹凸區域212。因而，根據上述製造方法，可獲得成為光學片210a之凹凸圖案形成片。

以上述方式獲得之凹凸圖案形成片可直接用作光學片210a。於此情形時，藉由加熱收縮性薄膜213及凹凸區域形成用凸部214而形成光學片210a。

(第2製造方法)

第2製造方法係將由第1製造方法而獲得之凹凸圖案形成片作為工程片原版來製造光學片210a之方法。

工程片原版可為單葉片狀，亦可為連續之片狀即網狀。

作為第2製造方法之具體方法，可列舉例如下述方法(a)~(c)：

方法(a)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂；以及照射電離放射線以使上述硬化性樹脂硬化，之後自工程片原版上剝離已硬化之塗膜。此處，電離放射線通常係指紫外線或電子射線，而本發明中亦包含可見光線、X射線、離子射線等。

方法(b)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈未硬化之液狀熱硬化性樹脂；以及加熱而使上述液狀熱硬化性樹脂硬化，之後自工程片原版上剝離已硬化之塗膜。

方法(c)

本方法包括以下步驟：使片狀之熱可塑性樹脂接觸到工程片原版之形成有凹凸圖案之面；將該片狀之熱可塑性樹脂按壓於工程片原版上，且於此狀態下進行加熱而使其軟化，其後進行冷卻；以及自工程片原版上剝離上述已冷卻之片狀熱可塑性樹脂。

又，亦可使用工程片原版來製作二次工程用成形物，並使用該二次工程用成形物來製造光學片10a。作為使用二次工程用成形物之具體方法，可列舉下述方法(d)~(f)：

方法(d)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，進行鎳等之金屬電鍍，以積層電鍍層；自工程片原版上剝離該電鍍層，以製作金屬製之二次工程用成形物；繼而，於二次工程用成形物之與凹凸圖案相接觸之一側之面上，塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂；以及照射電離放射線以使上述硬化性樹脂硬化，之後自二次工程用成形物上剝離已硬化之塗膜。

方法(e)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，積層電鍍層；自工程片原版上剝離該電鍍層，以製作金屬製之二次工程用成形物；於該二次工程用成形物之與凹凸圖案相接觸之一側之面上，塗佈未硬化之液狀熱硬化性樹脂；以及加熱而使該樹脂硬化，之後自二次工程用成形物上剝離已硬化之塗膜。

方法(f)

本方法包括以下步驟：於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，積層電鍍層；自工程片原版上剝離該電鍍層，以製作金屬製之二次工程用成形物；使片狀之熱可塑性樹脂接觸到該二次工程用成形物之與凹凸圖案相接觸之一側之面；將該片狀之熱可塑性樹脂按壓於二次工程用成形物上，且於此狀態下進行加熱而使其軟化，其後進行冷卻；以及自二次工程用成形物上剝離上述已冷卻之片狀熱可塑性樹脂。

以下對方法(a)之具體例進行說明。如圖8所示，首先，於網狀之工程片原版110之形成有凹凸圖案112a之面上，藉由塗佈機120來塗佈未硬化之液狀電離放射線硬化性樹脂112c。繼而，將塗佈有該硬化性樹脂之工程片原版110通過輥130而進行按壓，使上述硬化性樹脂填充於工程片原版110之凹凸圖案112a內部。其後，藉由電離放射線照射裝置140而照射電離放射線，使硬化性樹脂交聯．硬化。繼而，自工程片原版110上剝離硬化後之電離放射線硬化性樹脂，藉此可製造網狀之光學片210a。

於方法(a)中，為了賦予脫模性，在塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂之前，亦可於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上設置厚度為1~10nm左右之由聚矽氧樹脂、氟樹脂等構成之層。

作為於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上塗佈未硬化之電離放射線硬化性樹脂的塗佈機，可列舉T模塗佈機、輥塗佈機、刮棒塗 佈機等。

作為未硬化之電離放射線硬化性樹脂，可列舉含有選自以下物質中之一種以上之成分者：環氧丙烯酸酯、環氧化油丙烯酸酯、丙烯酸胺基甲酸酯、不飽和聚酯、聚酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、乙烯/丙烯酸酯、多烯/丙烯酸酯、矽酮丙烯酸酯、聚丁二烯、聚苯乙烯甲基丙烯酸甲酯等之預聚物、脂肪族丙烯酸酯、脂環式丙烯酸酯、芳香族丙烯酸酯、含氫氧基之丙烯酸酯、含烯丙基之丙烯酸酯、含縮水甘油基之丙烯酸酯、含羧基之丙烯酸酯、含鹵基之丙烯酸酯等單體。未硬化之電離放射線硬化性樹脂較好的是以溶劑等進行稀釋。

又，亦可於未硬化之電離放射線硬化性樹脂中添加氟樹脂、聚矽氧樹脂等。

當使未硬化之電離放射線硬化性樹脂藉由紫外線而硬化時，較好的是，於未硬化之電離放射線硬化性樹脂中添加苯乙酮類、二苯甲酮類等之光聚合起始劑。

方法(d)具體而言係將方法(a)中之工程片原版變更為使用該工程片原版而製作之二次工程用成形物，除此之外與上述方法(a)相同。

於方法(b)、(e)中，作為液狀熱硬化性樹脂，可列舉例如未硬化之三聚氰胺樹脂、聚氨酯樹脂、環氧樹脂等。

又，方法(b)中之硬化溫度較好的是低於工程片原版之玻璃轉移溫度。若硬化溫度為工程片原版之玻璃轉移溫度以上，則在硬化時工程片原版之凹凸圖案可能會產生變形。

作為方法(c)、(f)中之透明熱可塑性樹脂，可列舉例如苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物(MS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、環烯聚合物(COP)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、PET-G、聚醚碸(PES)、聚氯乙烯(PVC)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等樹脂等。於該等之中，從成形加工之觀點而言，尤 其好的是MS、PMMA、PS、COP、PC，從吸濕性及成本之觀點而言，更好的是MS中之苯乙烯含有率為30~90質量%者。

該等透明熱可塑性樹脂可設為單層或多層構造。例如，可使用於PS層之兩面上設置有PMMA層之三層構造之透明熱可塑性樹脂等。

進而，亦可使用於上述透明熱可塑性樹脂之表面上設置有高折射率之樹脂者。作為高折射率之樹脂，可列舉例如芴系環氧化合物、芴系丙烯酸酯化合物、芴系聚酯(OKP)、聚甲基苯基矽烷(PMPS)、聚二苯基矽烷(PDPS)等。

於方法(c)中將片狀之熱可塑性樹脂按壓於工程片原版時之壓力、及於方法(f)中將片狀之熱可塑性樹脂按壓於二次工程用成形物時之壓力較好的是1~100MPa。若按壓時之壓力為1MPa以上，則可使凹凸圖案高精度地轉印，若按壓時之壓力為100MPa以下，則可防止過剩之加壓。

又，方法(c)中之熱可塑性樹脂之加熱溫度較好的是低於工程片原版之玻璃轉移溫度。其原因在於，若加熱溫度為工程片原版之玻璃轉移溫度以上，則在加熱時工程片原版之凹凸圖案可能會產生變形。

從可使凹凸圖案高精度地轉印之角度而言，作為加熱後之冷卻溫度，較好的是小於熱可塑性樹脂之玻璃轉移溫度。

(第3製造方法)

第3製造方法係將於樹脂製的層之表面上設置有金屬製或金屬化合物製之凹凸區域的凹凸圖案形成片作為工程片原版來製造光學片210a之方法。

設置有金屬製或金屬化合物製之凹凸區域之凹凸圖案形成片可藉由以下方法而獲得：將樹脂製之凹凸區域形成用凸部替換為金屬製或金屬化合物製之凹凸區域形成用凸部，藉由蒸鍍來取代印刷而形成凹凸區域形成用凸部，除此之外，以與第1製造方法相同之方法而獲 得。

亦即，設置有金屬製或金屬化合物製之凹凸區域的凹凸圖案形成片之製造方法包括以下步驟：於加熱收縮性薄膜之一面上真空蒸鍍金屬製或金屬化合物製之凹凸區域形成用凸部，以形成蒸鍍片；以及使加熱收縮性薄膜加熱收縮，使得蒸鍍片之至少凹凸區域形成用凸部以摺疊之方式而變形。

於該凹凸圖案形成片之製造方法中，金屬製或金屬化合物製之凹凸區域形成用凸部之楊氏模量遠大於加熱收縮性薄膜之楊氏模量，因此熱壓縮時，凹凸區域形成用凸部與其說厚度增加，不如說被摺疊。其結果可獲得設置有凹凸區域之凹凸圖案形成片。再者，該凹凸圖案形成片之凹凸區域與光學片210a之凹凸區域相同。

作為第3製造方法中之構成凹凸區域形成用凸部之金屬，從可更容易形成凹凸圖案12a之角度而言，較好的是選自由金、鋁、銀、碳、銅、鍺、銦、鎂、鈮、鈀、鉛、鉑、矽、錫、鈦、釩、鋅、鉍所組成之群中之至少一種金屬。此處所言之金屬亦包含半金屬。

作為金屬化合物，因同樣之理由，故較好的是選自由氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化鎂、氧化錫、氧化銅、氧化銦、氧化鎘、氧化鉛、氧化矽、氟化鋇、氟化鉀、氟化鎂、硫化鋅、砷化鎵所組成之群中之至少一種金屬化合物。

從可容易形成所需之凹凸圖案12a之角度而言，凹凸區域形成用凸部之表面係指JIS B0601中記載之中心線平均粗糙度為0.1μm以下。

金屬製或金屬化合物製的凹凸區域形成用凸部之厚度較好的是0.01~0.2μm，更好的是0.05~0.1μm。若凹凸區域形成用凸部之厚度為上述範圍，則能夠可靠地使凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下。然而，若凹凸區域形成用凸部之厚度不足0.01μm，則眾數間距A有時會成為1μm以下，若超過0.2μm，則眾數間距A有時 會超過20μm。

進而，凹凸區域形成用凸部之厚度亦可不固定，例如，其可沿著一方向而連續地變厚，亦可沿著一方向而連續地變薄。

當於加熱收縮性薄膜上蒸鍍金屬或金屬化合物製之凹凸區域形成用凸部時，於加熱收縮性薄膜之表面上，載置藉由與欲形成之凹凸區域形成用凸部相同之圖案而開口之遮罩。

作為使加熱收縮性薄膜加熱收縮時之加熱方法，可列舉於熱風、蒸氣或熱水中通過之方法等，其中，從可使加熱收縮性薄膜均勻地收縮之角度而言，尤其好的是於熱水中通過之方法。

作為第3製造方法，具體而言可列舉下述方法：於第2製造方法中之方法(a)~(f)中，使用設置有金屬製或金屬化合物製之凹凸區域的凹凸圖案形成片作為工程片原版，以取代設置有第2樹脂製之凹凸區域的凹凸圖案形成片。

(第4製造方法)

第4製造方法係使用成形裝置，由未成形之透明熱可塑性樹脂來製造光學片10a之方法，上述成形裝置具備金屬模具、對該金屬模具進行加熱冷卻之加熱冷卻機構、以及對該金屬模具進行加壓之加壓機構。作為第4製造方法中使用之透明熱可塑性樹脂，可列舉與第2製造方法中所使用之透明熱可塑性樹脂相同者。

具體而言，於第4製造方法中，首先，將透明熱可塑性樹脂之顆粒或粉體填充於金屬模具內，藉由加熱冷卻機構對金屬模具進行加熱，並且藉由加壓機構對金屬模具內進行加壓。其次，藉由加熱冷卻機構對金屬模具內進行冷卻，並停止加壓，以獲得光學片210a。

於該製造方法中，使用在與光學片210a之出射面相接觸之面上形成有蛇行之波狀凹凸圖案者作為金屬模具。例如，作為金屬模具，可使用在一面上安裝有第1~第3製造方法中之凹凸圖案形成片者、藉由 雷射照射等而於一面上形成有蛇行之波狀凹凸圖案者。

作為第4製造方法中之成形方法，可應用例如壓製成形法、射出成形法。

藉由上述第1~第4製造方法而獲得之光學片210a可直接使用，亦可經由接著劑而貼合於透明樹脂製或玻璃製的增強用基板上而形成最終之光學片。

於以上所說明之光學片210a之製造方法中，容易於平坦之一面上，以於光學片210a之長度方向之另一端β側變密之圖案而配置凹凸區域212。因此，可容易獲得於長度方向之另一端β側光擴散性較高之光學片210a。

5-2.第2實施形態

以下對本發明之光學片之第2實施形態進行說明。

圖17表示本實施形態之光學片。再者，於圖17中，為了易於說明，將凹凸區域215放大，且將其配置零散顯示。

本實施形態之光學片210b係用作於長度方向之一端α上配置有光源330之光擴散片者，且係於平坦之一面211上，藉由以下圖案而分散配置有沿著光學片210b之寬度方向所形成的帶狀之凹凸區域215，亦即，隨著自光學片210b之長度方向之一端α朝向另一端β而逐漸變密之圖案。

以上述方式配置凹凸區域215後，可與第1實施形態之光學片210a同樣地在光學片210b之另一端β側提高光擴散性。

第2實施形態之凹凸區域215之凹凸圖案係與第1實施形態之凹凸區域212之凹凸圖案12a相同。凹凸區域215之面積相對於光學片210b之一面之面積的面積比例亦與第1實施形態中之面積比例相同。

第2實施形態之光學片210b可藉由與第1實施形態之光學片210a之製造方法相同的製造方法而製造。

5-3.第3實施形態

以下對本發明之光學片之第3實施形態進行說明。

圖18表示本實施形態之光學片。再者，於圖18中，為了易於說明，將凹凸區域216放大，且將其配置零散顯示。

本實施形態之光學片210c係用作於長度方向之一端α上配置光源330之光擴散片者，且係於平坦之一面211上，分散配置有由光學片210c的沿著長度方向之帶狀部分216a及沿著寬度方向之帶狀部分16b所構成之網狀凹凸區域216。凹凸區域216的沿著光學片210c之寬度方向之部分216b配置為，隨著自光學片210c之長度方向之一端α朝向另一端β而逐漸變密。

第3實施形態之凹凸區域216之凹凸圖案係與第1實施形態之凹凸區域212之凹凸圖案12a相同。凹凸區域216之面積相對於光學片210c之一面之面積的面積比例亦與第1實施形態中之面積比例相同。

第3實施形態之光學片210c可藉由與第1實施形態之光學片210a之製造方法相同的製造方法而製造。

5-4.第4實施形態

以下對本發明之光學片之第4實施形態進行說明。

圖19表示本實施形態之光學片。再者，於圖19中，為了易於說明，將凹凸區域217放大，且將其配置零散顯示。

本實施形態之光學片210d係用作於未形成有凹凸區域217之一側之面C上配置有線狀之光源330的光擴散片者。又，該光學片210d中，於平坦之一面211上分散配置有橢圓形狀之凹凸區域217，該凹凸區域217越靠近光源330則越密。

於本實施形態中，來自光源330之光不均勻地入射至光學片210d，但由於越強的光所到達之部分，凹凸區域217之配置會越密，故可使光在擴散之狀態下出射。因此，可使自光學片210d出射之光之 強度均勻化。

第4實施形態之凹凸區域217之凹凸圖案係與第1實施形態之凹凸區域212之凹凸圖案12a相同。凹凸區域217之面積相對於光學片210d之一面之面積的面積比例亦與第1實施形態中之面積比例相同。

第4實施形態之光學片210d可藉由與第1實施形態之光學片210a之製造方法相同的製造方法而製造。

5-5.其他實施形態

再者，本發明之光學片並未限定於上述實施形態。

例如，於上述第1實施形態、第4實施形態中，凹凸區域之外形為橢圓形，但亦可為圓形、矩形等。

又，於本發明之光學片中，凹凸區域亦可隨機地形成。

又，凹凸區域之凹凸圖案亦可不呈蛇行，而呈直線形。

又，凹凸區域亦可形成於光學片之兩面上。

又，光學片亦可藉由增強用基材而增強。

6.擴散導光體

以下對本發明之擴散導光體之一實施形態進行說明。

圖1表示本實施形態之擴散導光體。本實施形態之擴散導光體10係由在其中之一面上形成有蛇行之波狀凹凸圖案12a的透明樹脂層11所構成。本實施形態中之透明樹脂層11之另一面(背面)係並未形成有凹凸圖案的平滑之面。

凹凸圖案12a之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，較好的是超過1μm且為10μm以下。若眾數間距A不足1μm，則該眾數間距A為可見光之波長以下，因而可見光不會因凹凸而折射，而是光會透過，若眾數間距A超過20μm，則擴散之異向性會變低，從而易產生亮度不均。

凹凸圖案12a之凹凸之平均深度B相對於凹凸圖案12a之眾數間距 A之比(B/A，以下稱為縱橫比)較好的是0.1~3.0。若縱橫比不足0.1，則擴散之異向性變低，易產生亮度不均。另一方面，若縱橫比大於3.0，則在製造擴散導光體10時難以形成凹凸圖案12a。

此處，所謂平均深度B，係指凹凸圖案12a之底部12b之平均深度。又，底部12b係指凹凸圖案12a之凹部之極小值，平均深度B係指對將擴散導光體10沿長度方向截斷所得之剖面(參照圖2)進行觀察時，自與整個擴散導光體10之面方向平行的基準線L₁至各凸部之頂部為止的長度B₁、B₂、B₃...平均值(B_AV)、與自基準線L₁至各凹部之底部為止的長度b₁、b₂、b₃...之平均值(b_AV)之差(b_AV-B_AV)。

作為測定平均深度B之方法，可採用下述方法等：測定由原子間力顯微鏡所拍攝之凹凸圖案12a之剖面之圖像中的各底部12b之深度，並求出該等之平均值。

本發明中之蛇行係指以下述方法求得之凹凸之配向度為0.3以上。該配向度係凹凸之配向之不均勻的指標，該值越大，則表示配向越不均勻。

為了求出配向度，首先，藉由表面光學顯微鏡來拍攝凹凸圖案之上表面，並將該圖像轉換成灰度文檔(例如，tiff格式等)。於灰度文檔之圖像(參照圖3)中，白度越低之處，則表示凹部之底部越深(白度越高之處，則凸部之頂部越高)。繼而，對灰度文檔之圖像進行傅立葉轉換。圖4中顯示傅立葉轉換後之圖像。自圖4之圖像之中心向兩側擴展之白色部分中包含凹凸圖案12a之間距及朝向之資訊。

其次，自圖4之圖像之中心沿水平方向引輔助線L₂，並對該輔助線上之亮度進行描繪(參照圖5)。圖5之描繪中橫軸表示間距，縱軸表示頻率，頻率為最大之值X表示凹凸圖案12a之眾數間距。

繼而，於圖4中，引輔助線L₃，其在值X之部分與輔助線L₂正交，並對該輔助線L₃上之亮度進行描繪(參照圖6)。其中，為了可與 各種凹凸構造進行比較，圖6之橫軸設為除以X值後所得之數值。圖6之橫軸表示體現相對於凹凸之形成方向(圖3中的上下方向)的傾斜程度之指標(配向性)，縱軸表示頻率。圖6之描繪中的波峰之半值寬度W₁(頻率為最大值之一半的高度上的波峰之寬度)表示凹凸圖案之配向度。半值寬度W₁越大，則表示蛇行使得間距越不均勻。

若上述配向度不足0.3，則凹凸圖案12a之配向之不均勻較小，故光之擴散之異向性變小。

又，配向度較好的是1.0以下。若配向度超過1.0，則凹凸圖案之方向會於某程度變得隨機，因此光擴散性變高，但異向性具有變低之傾向。

為了使配向度為0.3以上，例如於下述製造中，可適當選擇加熱收縮性薄膜與表面平滑之硬質層。例如，加熱收縮性薄膜之收縮率越高，或者表面平滑之硬質層之楊氏模量越小，則配向性越大。藉由該製造方法而獲得之擴散導光體10係由兩層樹脂層所構成者。

又，亦可採用如下方法，亦即，使用在一表面上形成有配向度為0.3以上之凹凸圖案的金屬模具來使透明樹脂成形。藉由該製造方法而獲得之擴散導光體10係由一層樹脂層所構成者。

再者，以上述方式利用傅立葉轉換而求得之凹凸圖案之眾數間距係與平均間距相同。

透明樹脂層11係由可見光之透過率較高(具體而言，可見光之全光線透過率為85%)之透明樹脂所構成。

又，為了使耐熱性、耐光性提高，可在不損害透光率等光學特性之範圍內，於透明樹脂層11中含有添加劑。作為添加劑，可列舉光穩定劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、光擴散劑等。其中尤其好的是添加光穩定劑，其添加量較好的是，相對於透明樹脂100質量份為0.03~2.0質量份。若光穩定劑之添加量為0.03質量份以上，則可 充分發揮其添加效果，但若光穩定劑之添加量超過2.0質量份，則光穩定劑之量過剩，從而具有不必要之成本上漲之傾向。

又，為不進一步提高光擴散效果，可在不會較大地損害透光率等光學特性之範圍內，使透明樹脂層11中含有由無機化合物構成之無機光擴散劑、由有機化合物構成之有機光擴散劑。

作為無機光擴散劑，可列舉二氧化矽、白碳、滑石、氧化鎂、氧化鋅、氧化鈦、碳酸鈣、氫氧化鋁、硫酸鋇、矽酸鈣、矽酸鎂、矽酸鋁、矽酸鋁化鈉、矽酸鋅、玻璃、雲母等。

作為有機光擴散劑，可列舉苯乙烯系聚合粒子、丙烯酸系聚合粒子、矽氧烷系聚合粒子、聚醯胺系聚合粒子等。該等光擴散劑可分別單獨使用，或者亦可將兩種以上組合而使用。

又，為了獲得優異之光散射特性，該等光擴散劑亦可設為花瓣狀或球晶狀等多孔質構造。

從難以損害透光性之角度而言，光擴散劑之含量較好的是相對於透明樹脂100質量份為10質量份以下。

進而，為了進一步提高光擴散效果，可在不會較大地損害透光率等光學特性之範圍內，使透明樹脂層11中含有微細氣泡。微細氣泡對光之吸收較少，難以使透光率降低。

作為微細氣泡之形成方法，可應用向透明樹脂層11中混入發泡劑之方法(例如，日本專利特開平5-212811號公報、日本專利特開平6-107842號公報中揭示之方法)、對丙烯酸系發泡樹脂進行發泡處理以使其含有微細氣泡之方法(例如，日本專利特開2004-2812號公報中揭示之方法)等。進而，就可實現更加均勻的面照射而言，微細氣泡之形成方法較好的是使特定位置不均勻地發泡之方法(例如，日本專利特開2006-124499號公報中揭示之方法)。

再者，亦可併用上述光擴散劑與微細發泡。

透明樹脂層11之厚度較好的是0.02~3.0mm，更好的是0.05~2.5mm，尤其好的是0.1~2.0mm。若透明樹脂層11之厚度不足0.02mm，則因其厚度會小於凹凸圖案之深度而不適當，若其厚度厚於3.0mm，則因擴散導光體10之質量較大而可能難以操作。

透明樹脂層11亦可由兩層以上之樹脂層所構成。即使當透明樹脂層11係由兩層以上之層所構成時，透明樹脂層11之厚度亦較好的是0.02~3.0mm。

．製造方法

可利用與上述光學片之製造方法相同之製造方法來製造。

．功能

上述擴散導光體10具有光之異向擴散性。具體而言，當在擴散導光體10之未形成有凹凸圖案12a之一側之面(背面)側上設置有光源時，從光源發出之光自背面入射至擴散導光體10，並通過擴散導光體10內而到達凹凸面。此處，入射角為0度以上且以不足臨界角之角度到達之光在折射之狀態下出射至擴散導光體10之外。由於通過擴散導光體10內之光之方向並非為一方向，因此擴散導光體10之凹凸面與光之角度並非固定，故光以寬泛之角度折射。並且，由於凹凸呈蛇行且配向不均，因此擴散之異向性較高。

再者，以臨界角以上之角度到達凹凸面之光經全反射後再次於擴散導光體內行進，但隨後在以不足臨界角之角度到達凹凸面時出射。又，以入射角為0度之角度到達之光並不折射，而是直接出射至擴散導光體之外。

又，當於擴散導光體10之一側面側設置有光源時，亦與上述情形相同，通過擴散導光體10內後入射角為0度以上且以不足臨界角之角度到達之光在折射的狀態下出射至擴散導光體之外。此處，由於凹凸呈蛇行且配向不均，因此擴散之異向性較高。

再者，本發明之擴散導光體並非限定於上述實施形態。例如，當於透明樹脂層之背面側配置光源時，為了使光之入射效率提高，較好的是於透明樹脂層之背面形成有具有防反射功能之微細之波狀凹凸。此處，較好的是，微細之波狀凹凸之眾數間距為1μm以下，且縱橫比為0.1以上。其原因在於，若眾數間距超過1μm，或者若縱橫比超過0.1，則無法獲得防反射功能。

上述微細之波狀凹凸可與光擴散用凹凸圖案一起形成於透明樹脂層之背面。例如，當藉由壓製成形或射出成形來製造擴散導光體時，可應用如下方法，亦即，作為金屬模具，使用在與透明樹脂層之出射面(表面)側相鄰接之面上形成有光擴散用凹凸圖案、且在與透明樹脂層之入射面(背面)側相鄰接之面上形成有微細之波狀凹凸圖案者。

又，上述微細之波狀凹凸亦可與光擴散用凹凸圖案不同地另外形成於透明樹脂層之背面。例如，亦可將形成有微細之波狀凹凸圖案之薄膜經由接著劑而貼附於透明樹脂層之背面側。

又，為了進一步提高光擴散之異向性，亦可將含有微細氣泡之薄膜貼附於入射面側或出射面側。如圖20所示，當將含有微細氣泡之薄膜317貼附於入射面側時，為了有效地利用來自光源330之光，較好的是，使光源330之光較強地照射到的部分317a中之微細氣泡之含量較多，且使除此之外之部分317b中之微細氣泡之含量較少或者不含有。

本發明之擴散導光體亦可為厚度自一端朝向另一端逐漸變薄之楔形。楔形擴散導光體中係於較厚之側面配置光源。

本發明之擴散導光體係必須於一面上形成有蛇行之波狀凹凸圖案者，但並非限定於僅於一面上形成有凹凸圖案者。即，亦可於透明樹脂層之另一面上亦形成有蛇行之波狀凹凸圖案。

7.背光單元

7-1.第1實施形態

以下對本發明之背光單元之第1實施形態進行說明。

圖21表示本實施形態之背光單元。本實施形態之背光單元100係所謂之直下型背光單元，其具備：擴散導光體310；反射板320，其與擴散導光體310之形成有凹凸圖案之面(表面315)的相反側之面(背面316)對向而配設；以及複數個光源330、330...，其等配設於擴散導光體310及反射板320之間。又，於擴散導光體310之表面315側，依次積層有擴散薄膜340、稜鏡片350、及亮度上升薄膜360。

作為光源330，可列舉例如冷陰極管、發光二極體等。

作為反射板320，可列舉例如表面為鏡面狀之金屬板、或者具備此種金屬板之積層板等。

作為擴散薄膜340，可列舉例如含有透明粒子之樹脂薄膜等。擴散薄膜340係使自擴散導光體出射之光進一步擴散者。

作為稜鏡片350，可列舉例如於一面上規則地具有大量圓錐狀或角錐狀突起之樹脂片(例如，Sumitomo 3M Limited製商品名Vikuiti BEF III)等。稜鏡片350係用以使自擴散薄膜340出射之光之行進方向與垂直於面之方向一致者。

作為亮度上升薄膜360，可列舉例如僅使光之主波(P波)通過而使次波(S波)反射之片(例如，Sumitomo 3M Limited製商品名Vikuiti DBEF-D400)等。

7-2.第2實施形態

以下對本發明之背光單元之第2實施形態進行說明。

圖22表示本實施形態之背光單元。本實施形態之背光單元200係所謂端面照光型背光單元，其具備：擴散導光體310；反射板320，其與擴散導光體310之形成有凹凸圖案之面(表面315)的相反側之面(背面 316)對向而配設；以及複數個光源330，其等配設於擴散導光體310之一側面上。又，於擴散導光體310之表面315側，依次積層有擴散薄膜340、稜鏡片350、及亮度上升薄膜360。

本實施形態中所用之擴散導光體310、反射板320、光源330、擴散薄膜340、稜鏡片350以及亮度上升薄膜360係與第1實施形態相同。

具備形成有蛇行之波狀凹凸圖案之擴散導光體310的上述實施形態之背光單元100中，自光源330發出之光於擴散導光體310之凹凸面上以較高之異向性而擴散。因此，具備背光單元100、200之液晶顯示裝置中，難以產生圖像亮度之不均。

8.防反射體

本發明之防反射體係具備上述凹凸圖案形成片10者，上述凹凸圖案亦即眾數間距A為1μm以下之凹凸圖案12a。

於本發明之防反射體中，亦可於凹凸圖案形成片10之一面或兩面上具備其他層。例如，於凹凸圖案形成片10之形成有凹凸圖案12a之一側之面上，為了防止污染該面，亦可具備含有氟樹脂或聚矽氧樹脂作為主成分之厚度為1~5nm左右之防汙層。

本發明之防反射體中，於凹凸圖案形成片10之波狀凹凸圖案12a之部分，呈現出空氣之折射率與凹凸圖案形成片10之折射率(基材11之折射率)之間的中間折射率，該中間折射率連續地變化。並且，凹凸圖案12a之眾數間距A為1μm以下，凹凸圖案12a之底部12b之平均深度B為將眾數間距A設為100%時之10%以上。由此，可使光之反射率特別低，具體而言，可使反射率為大致0%。其原因在於，如上所述，當凹凸圖案形成片10之凹凸圖案12a之眾數間距A較短，為1μm以下時，平均深度B較深，為將眾數間距A設為100%時之10%以上，因此中間折射率連續地變化之部分於厚度方向上變長，從而可顯著地發揮抑制光反射之效果。

上述防反射體可安裝於例如液晶顯示面板或電漿顯示器等圖像顯示裝置、發光二極體之發光部頂端、及太陽能電池面板之表面等。

當上述防反射體安裝於圖像顯示裝置中時，由於可防止照明光之映入，故可提高圖像之辨認性。當上述防反射體安裝於發光二極體之發光部頂端時，可提高光之取出效率。當上述防反射體安裝於太陽能電池面板之表面時，由於可使光之擷取量變多，故可提高太陽能電池之發電效率。

9.相位差板

本發明之相位差板係具備上述凹凸圖案形成片10者，上述凹凸圖案亦即眾數間距A為1μm以下之凹凸圖案12a。其中，凹凸之方向並非隨機，而是沿著一方向。

於本發明之相位差板中，亦與上述防反射體同樣，亦可於凹凸圖案形成片10之一面或兩面上具備其他層，例如，亦可於凹凸圖案形成片10之形成有凹凸圖案12a之一側的面上具備防汙層。

本發明之相位差板可顯著地發揮產生相位差之效果。其原因在於，如上所述，當凹凸圖案形成片10之凹凸圖案12a之眾數間距A較短，為1μm以下時，平均深度B較深，為將眾數間距A設為100%時之10%以上，因此，折射率互不相同之空氣與凹凸圖案形成片10交替配置之部分於厚度方向上變長，從而呈現出光學異向性之部分變長。進而，當凹凸圖案之間距與可見光之波長為同程度或為可見光之波長以下時，可遍及較廣之可見光波長區域而產生相同相位差。

(光學元件製造用工程片)

本發明之光學元件製造用工程片(以下，簡稱為工程片)係具備上述凹凸圖案形成片10者，上述凹凸圖案亦即眾數間距A為1μm以下之凹凸圖案12a，且本發明之光學元件製造用工程片係作為用以藉由如下所示之方法將凹凸圖案12a轉印至其他素材來大面積且大量地製造 凹凸圖案形成片之模具而使用的，該凹凸圖案形成片具有與該工程片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案，且可用作防反射體或相位差板等光學元件。

使用工程片來製造光學元件之具體方法係與上述光學片之方法相同。

[實施例1]

下述例中之楊氏模量係使用拉伸測試機(Tester產業公司製TE-7001)並根據JIS K 7113-1995而測定之值。當未特別記載溫度時，則為23℃時之值。

(實施例1)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm且楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-60S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，藉由刮棒塗佈機來塗佈於甲苯中稀釋的聚甲基丙烯酸甲酯(POLYMER SOURCE股份有限公司製P4831-MMA，玻璃轉移溫度為100℃)，使其厚度為200nm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，於80℃對該積層片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之40%(亦即，使其以60%之變形率而變形)，以獲得硬質層具有波狀凹凸圖案之凹凸圖案形成片(光擴散體)，該波狀凹凸圖案沿著與收縮方向正交之方向具有週期。

再者，聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜及該聚甲基丙烯酸甲酯於80℃時的楊氏模量分別為50MPa、1GPa。

(實施例2)

塗佈於甲苯中稀釋的聚苯乙烯(POLYMER SOURCE股份有限公司製PS，玻璃轉移溫度為100℃)，除此之外，以與實施例1相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

再者，聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜及該聚苯乙烯於80℃時的楊氏模量分別為50MPa、1GPa。

(實施例3)

將聚苯乙烯之塗佈厚度設為1μm，除此之外，以與實施例2相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

(實施例4)

於70℃時對積層片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之90%(亦即，使其以10%之變形率而變形)，除此之外，以與實施例2相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

(實施例5)

將藉由實施例1所獲得之凹凸圖案形成片(光擴散體)用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散體。

亦即，於藉由實施例1所獲得之工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與工程片原版未相接觸之面上，將厚度為50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

其次，自三乙醯纖維素薄膜上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物硬化，並自工程片原版上剝離該硬化物，藉此獲得光擴散體。

(實施例6)

將藉由實施例1所獲得之凹凸圖案形成片(光擴散體)用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光學元件。

亦即，於藉由實施例1所獲得之工程片原版之形成有凹凸圖案的面上進行鍍鎳處理，其後剝離該鍍鎳，藉此獲得厚度為200μm之二次 工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與二次工程片未相接觸之面上，將厚度為50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

其後，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物硬化，並自二次工程片剝離該硬化物，藉此獲得光擴散體。

(實施例7)

使用熱硬化性環氧樹脂以取代紫外線硬化性樹脂組成物，並通過加熱使該熱硬化性樹脂硬化以取代紫外線照射，除此之外，以與實施例6相同之方式獲得光擴散體。

(實施例8)

以與實施例6相同之方式，獲得厚度200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，將厚度50μm之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜重疊並加熱。自兩側按壓對經加熱而軟化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜與二次工程片，之後使其冷卻．固化，並自二次工程片上剝離，藉此獲得光擴散體。

(比較例1)

將聚苯乙烯之塗佈厚度設為6μm，除此之外，以與實施例2相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

(比較例2)

將聚苯乙烯之塗佈厚度設為40nm，除此之外，以與實施例2相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

(比較例3)

使用三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S(楊氏模量為3GPa)以取代三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-60S，以及於70℃時對該積層片加熱1分鐘，使其熱收縮為加熱前之長度之97%(亦即，使其以3%之變形率而變形)，除此之外，以與實施例1相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

(比較例4)

使用專利文獻2中揭示之異向性擴散圖案之製造方法而獲得凹凸圖案形成片。

亦即，設置如下兩板：嵌入有使雷射光擴散並透過之磨砂玻璃等擴散板且具有寬度1mm、長度10cm之狹縫的遮蔽板、及塗佈有100μm厚度之市售之感光性樹脂的感光性薄膜板，使兩板彼此之間隔為1m，且使兩板彼此平行。

繼而，自上述遮蔽板側照射波長為514nm之氬雷射後，穿過上述狹縫而經磨砂玻璃擴散之氬雷射光使得感光性薄膜板上之感光性樹脂曝光。

反覆進行如上所述之曝光，使感光性薄膜板整個面上之感光性樹脂曝光。並且，對經曝光之感光性薄膜進行顯影，以獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

再者，將比較例4之灰度文檔轉換圖像顯示於圖9中，將灰度文檔圖像之傅立葉轉換圖像顯示於圖10。又，自圖10之圖像之中心沿水平方向引輔助線L₄，將對該輔助線上之亮度描繪所得之圖顯示於圖11。進而，於圖10中，引輔助線L₅，其於值Y之部分與輔助線L₄正交，並將對該輔助線L₅上之亮度描繪所得之圖顯示於圖12。

(比較例5)

嘗試使用厚度為50μm、楊氏模量為5GPa之二軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(帝人股份有限公司製G2)以取代加熱收縮性薄膜，除 此之外，以與實施例1相同之方式獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。然而，並未形成有波狀之凹凸圖案，故並未獲得凹凸圖案形成片(光擴散體)。

(比較例6)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，藉由刮棒塗佈法來塗佈將楊氏模量為2MPa之聚二甲基矽氧烷(信越化學工業股份有限公司KS847T，玻璃轉移溫度為-120℃)及鉑觸媒(信越化學工業股份有限公司CAT-PL-50T)稀釋於甲苯中所得之分散液，使其厚度為200nm，以形成硬質層而獲得積層片。

其次，於100℃時對該積層片加熱1分鐘，使其熱收縮，藉此欲獲得凹凸圖案形成片，但無法使硬質層以摺疊之方式而變形，故波狀之凹凸圖案並未形成。

藉由原子間力顯微鏡(日本Veeco公司製NanoScope III)，對實施例1~8及比較例1~6之凹凸圖案形成片之光擴散體的上表面進行拍攝。

對於實施例1~8及比較例1~4之凹凸圖案形成片，於原子間力顯微鏡之圖像中測定10處凹凸圖案之深度，將該等深度平均而求出平均深度。

又，以如下所述之方式求出凹凸圖案之配向度。

首先，藉由表面光學顯微鏡來拍攝凹凸圖案之上表面，將該圖像轉換成灰度文檔(參照圖3)。繼而，對灰度文檔之圖像進行傅立葉轉換。圖4表示傅立葉轉換後之圖像。其次，自圖4之圖像之中心沿水平方向引輔助線L₂，並對該輔助線上之亮度進行描繪(參照圖5)。其後，於圖5中，引輔助線L₃，其在值X(眾數間距之倒數)之部分與輔助線L₂正交，並對該輔助線L₃上之亮度進行描繪(參照圖6)。並且，根據 圖6之描繪中的波峰之半值寬度W₁而求出凹凸圖案之配向度。將該等值顯示於表1。

又，根據凹凸圖案之眾數間距及底部之平均深度，按以下基準來評價作為光擴散體之適應性。將該評價結果顯示於表1。

○：凹凸圖案之眾數間距超過1μm且為20μm以下，平均深度為將眾數間距設為100%時之10%以上，配向度為0.3~1.0，適宜作為光擴散體。

△：凹凸圖案之眾數間距為1μm以下或超過20μm，或平均深度小於將眾數間距設為100%時之10%，或者配向度不足0.3，未必適宜作為光擴散體。

×：無法形成凹凸圖案。

於使積層片之表面平滑硬質層以摺疊之方式而變形之實施例1~8中，可容易製造凹凸圖案形成片。

進而，實施例1~8之凹凸圖案形成片係凹凸圖案之眾數間距超過 1μm且為20μm以下、底部之平均深度為將上述眾數間距設為100%時之10%以上，故適宜作為光擴散體。於實施例1~4中，之所以有獲得如上所述之眾數間距及平均深度，係由於表面平滑硬質層之厚度超過0.05μm且為5μm以下，且變形率為10%以上。

又，根據將實施例1中獲得之凹凸圖案形成片(光擴散體)用作工程片之實施例5~8之製造方法，可簡便地製造具有與凹凸圖案形成片(光擴散體)之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光擴散體。

與此相對，於比較例1及2中，由於表面硬質平滑層之厚度為0.05μm以下或超過5μm，因此所獲得之凹凸圖案形成片(光擴散體)之凹凸圖案之眾數間距為1μm以下或超過20μm。

又，比較例3中，由於將變形率設為3%，因此所獲得之凹凸圖案形成片之凹凸圖案之底部的平均深度不足將眾數間距設為100%時之10%。又，比較例4中配向度不足0.3。該等比較例1~4未必適宜作為作光擴散體。

又，於將二軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜用作樹脂層之比較例5、以及使用有第2樹脂之玻璃轉移溫度低於第1樹脂的積層片之比較例6之製造方法中，由於表面平滑硬質層無法以摺疊之方式而變形，因此凹凸圖案並未形成。

下述例中之楊氏模量係使用拉伸測試機(Orientec股份有限公司製TENSILON RTC-1210)，並根據JIS Z 2280-1993之「金屬材料之高溫楊氏模量測試方法」，將溫度變更為23℃而測定出之值。硬質層由金屬化合物構成之情形亦同樣。

(實施例9)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm且楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S)之一面上，真空蒸鍍楊氏模量為70GPa之鋁，使其厚度為 0.05μm，以形成表面平滑硬質層而獲得積層片。

其次，於100℃時對該積層片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之40%(亦即，使其以60%之變形率而變形)，從而獲得硬質層具有波狀凹凸圖案的凹凸圖案形成片，該波狀凹凸圖案沿著與收縮方向正交之方向具有週期。

繼而，將凹凸圖案形成片用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散體。

亦即，於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

其後，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與工程片原版不相接觸之面上，將厚度50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

繼而，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂硬化，並自工程片原版上剝離該硬化物，藉此獲得光擴散體。

(實施例10)

將藉由實施例9之方法所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散體。

亦即，於藉由實施例9所獲得之工程片原版之形成有凹凸圖案之面上進行鍍鎳處理，其後剝離該鍍鎳，藉此獲得厚度為200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

其次，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與二次工程片不相接觸之面上，將厚度50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按 壓。

繼而，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之硬化性樹脂硬化，並自二次工程片上剝離該硬化物，藉此獲得光擴散體。

(實施例11)

使用熱硬化性環氧樹脂以取代紫外線硬化性樹脂組成物，並通過加熱使該熱硬化性環氧樹脂硬化以取代紫外線照射，除此之外，以與實施例10相同之方式獲得光擴散體。

(實施例12)

以與實施例10相同之方式，獲得厚度200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，將厚度為50μm之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜重疊並加熱。對經加熱而軟化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜與二次工程片自其等之兩側進行按壓，之後使其冷卻．固化，並自二次工程片上剝離已固化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，藉此獲得光擴散體。

(比較例7)

真空蒸鍍鋁，使其厚度為0.3μm，除此之外，以與實施例9相同之方式獲得光擴散體。

(比較例8)

真空蒸鍍鋁，使其厚度為0.01μm，除此之外，以與實施例9相同之方式獲得光擴散體。

(比較例9)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S)之一面上，真空蒸鍍楊氏模量為70GPa之鋁，使其厚度為0.05μm，以形成表面平滑硬質層而獲得積層片。

繼而，於70℃時對該積層片加熱1分鐘，使其收縮為加熱前之長度之97%(亦即，使其以3%之變形率而變形)，除此之外，以與實施例9相同之方式獲得光擴散體。

藉由原子間力顯微鏡(日本Veeco公司製NanoScope III)，對實施例9~12及比較例7~9之凹凸圖案形成片之光擴散體之上表面進行拍攝。

對於實施例9~12及比較例7~9之凹凸圖案形成片，於原子間力顯微鏡之圖像中測定10處凹凸圖案之深度，將該等深度平均而求出平均深度。

又，以如下所述之方式求出凹凸圖案之配向度。

首先，藉由表面光學顯微鏡來拍攝凹凸圖案之上表面，將該圖像轉換成灰度文檔(參照圖3)。繼而，對灰度文檔之圖像進行傅立葉轉換。圖4表示傅立葉轉換後之圖像。其次，自圖4之圖像之中心沿水平方向引輔助線L₂，並對該輔助線上之亮度進行描繪(參照圖5)。其後，於圖5中，引輔助線L₃，其在值X(眾數間距之倒數)之部分與輔助線L₂正交，並對該輔助線L₃上之亮度進行描繪(參照圖6)。並且，根據圖6之描繪中的波峰之半值寬度W₁而求出凹凸圖案之配向度。

將該等值顯示於表2。

又，根據凹凸圖案之眾數間距及底部之平均深度，按以下基準來評價光擴散體之適應性。將該評價結果顯示於表2。

○：凹凸圖案之眾數間距超過1μm且為20μm以下，平均深度為將眾數間距設為100%時之10%以上，配向度為0.3~1.0，適宜作為光擴散體。

△：凹凸圖案之眾數間距為1μm以下或超過20μm，或平均深度小於將眾數間距設為100%時之10%，或者配向度不足0.3，未必適宜作為光擴散體。

×：無法形成凹凸圖案。

於將使積層片之表面平滑硬質層以摺疊之方式變形而獲得之凹凸圖案形成片用作工程片原版之實施例9~12中，可容易製造具有凹凸圖案之光擴散體。尤其對於實施例9~12中獲得之光擴散體而言，凹凸圖案的眾數間距超過1μm且為20μm以下，底部之平均深度為將上述眾數間距設為100%時之10%以上，故適宜作為光擴散體。於實施例9~12中，之所以有獲得如上所述之眾數間距及平均深度，係由於表面平滑硬質層之厚度超過0.01μm且為0.2μm以下，且變形率為10%以上。

與此相對，於比較例7及8中，由於表面硬質平滑層之厚度為0.01μm以下或超過0.2μm，因此所獲得之光擴散體之凹凸圖案之眾數間距為1μm以下或超過20μm。又，比較例9中，由於將變形率設為3%，因此所獲得之光擴散體之凹凸圖案之底部的平均深度不足將眾數間距設為100%時之10%。又，比較例10中配向度不足0.3。該等比較例未必適宜作為光擴散體。

(實施例13)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-60S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，藉由凹板印刷機(松尾產業股份有限公司製K Printing Proofer)，將於甲苯中稀釋的聚苯乙烯(POLYMER SOURCE股份有限公司製PS，玻璃轉移溫度為100℃)印刷成直徑為50μm、厚度為500nm之點狀，以獲得印刷片。

點之圖案係如下所述之灰度圖案，亦即，於寬5cm×長10cm之範圍內，自其長度方向之一端朝向另一端，點面積比例於0~100%之範圍內每1cm增加10%。再者，點面積比例0%表示完全未印刷，100%表示全面印刷。

繼而，於80℃時對該印刷片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之40%(亦即，使其以60%之變形率而變形)。於80℃時，聚苯乙烯之楊氏模量(1GPa)高於聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜之楊氏模量(50MPa)。因此，於熱收縮時，點以摺疊之方式而變形，從而形成沿著與收縮方向正交之方向而具有週期之波狀凹凸圖案。藉此，獲得於平坦之一面上形成有凹凸區域之凹凸圖案形成片。

該凹凸圖案形成片之凹凸區域之凹凸圖案的眾數間距為5μm，縱橫比為1，配向度為0.3。

檢查所獲得之凹凸圖案形成片之光擴散性後得知，相較於與收縮方向垂直之方向，與收縮方向平行之方向上具有更強的使光擴散之異向擴散性。又，光擴散性沿著凹凸區域之面積比例變大之方向而逐漸增加。如此之實施例13之凹凸圖案形成片係可用作光擴散片者。

(實施例14)

使用於二軸方向上加熱收縮之厚度為25μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET PX-40S)，以取代三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-60S，除此之外，以與實施例13相同之方式獲得凹凸圖案形成片。於該凹凸圖案形成片之一面上，形成有並未沿著特定方向之波狀凹凸圖案。

該凹凸圖案形成片之凹凸區域之凹凸圖案的眾數間距為5μm，縱橫比為1。

檢查實施例14之凹凸圖案形成片之光學特性後得知，其具有等向光擴散性。因此，實施例14之凹凸圖案形成片係可用作光擴散片者。

(實施例15)

藉由噴墨印表機(FUJI FILM股份有限公司Dimatix Materials Printer DMP-2831)來印刷點，除此之外，以與實施例13相同之方式獲得凹凸圖案形成片。該凹凸圖案形成片之凹凸區域之凹凸圖案的眾數間距為5μm，縱橫比為1，配向度為0.3。

檢查所獲得之凹凸圖案形成片之光學特性後可知，其具有與實施例13相同之異向擴散性。因此，實施例15之凹凸圖案形成片係可用作光擴散片者。

(實施例16)

將藉由實施例13之方法所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散片。

亦即，於藉由實施例13所獲得之工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與工程片原版不相接觸之面上，將厚度為50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

其次，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂硬化，並自工程片原版上剝離該硬化物，藉此獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例13之光擴散片相同之凹凸區 域，係具有相同之光擴散性。

(實施例17)

將藉由實施例13之方法所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散片。

亦即，於藉由實施例13所獲得之工程片原版的形成有凹凸圖案之面上進行鍍鎳處理，其後剝離該鍍鎳，藉此獲得厚度為200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與二次工程片不相接觸之面上，將厚度為50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

繼而，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之硬化性樹脂硬化，並自二次工程片上剝離該硬化物，藉此獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例13之光擴散片相同之凹凸區域，且具有相同之光擴散性。

(實施例18)

使用熱硬化性環氧樹脂以取代紫外線硬化性樹脂組成物，並通過加熱使該熱硬化性環氧樹脂硬化以取代紫外線照射，除此之外，以與實施例17相同之方式獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例13之光擴散片相同之凹凸區域，且具有相同之光擴散性。

(實施例19)

以與實施例17相同之方式，獲得厚度為200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，將厚度為50μm之聚甲基 丙烯酸甲酯薄膜重疊並加熱。對經加熱而軟化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜與二次工程片自該等之兩側進行按壓，之後使其冷卻．固化，並自二次工程片上剝離已固化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，藉此獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例13之光擴散片相同之凹凸區域，且具有相同之光擴散性。

(實施例20)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm且楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯製加熱收縮性薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面，載置形成有大量點狀之開口部(孔徑50μm)之遮罩。

遮罩之開口部之圖案係如下所述之灰度圖案，即：於寬度5cm×長度10cm之範圍內，自其長度方向之一端朝向另一端，開口部面積比例於0~100%之範圍內每1cm增加10%。再者，開口部面積比例0%表示未開口，100%表示全面開口。

繼而，在將遮罩載置於加熱收縮性薄膜之一面之狀態下，真空蒸鍍楊氏模量為70GPa之鋁，使其厚度為0.05μm，以獲得蒸鍍片。

此時，於加熱收縮性薄膜之一面形成鋁點。該點之圖案係如下所述之灰度圖案，即：於寬度5cm×長度10cm之範圍內，自其長度方向之一端朝向另一端，開口部面積比例於0~100%之範圍內每1cm增加10%。再者，點面積比例0%表示完全未蒸鍍，100%表示全面蒸鍍。

繼而，於100℃時對該蒸鍍片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之40%(即，使其以變形率60%變形)。於熱收縮時，點以摺疊之方式變形，從而形成沿著與收縮方向正交之方向而具有週期之波狀凹凸圖案。藉此，獲得於一面形成有凹凸區域之凹凸圖案形成 片。

該凹凸圖案形成片之凹凸區域之凹凸圖案之眾數間距為3μm，縱橫比為1，配向度為0.3。

繼而，將所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散片。

即，於工程片原版之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜之與工程片原版不相接觸之面上，重疊厚度50μm之三乙醯纖維素薄膜，並進行按壓。

繼而，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂硬化，並自工程片原版上剝離該硬化物，藉此獲得光擴散片。

檢驗所獲得之光擴散片之光學特性得知，其具有與實施例13相同之異向擴散性。

(實施例21)

使用於二軸方向上加熱收縮之厚度為25μm且楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET PX-40S)，以取代三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-60S，除此之外，以與實施例20相同之方式獲得凹凸圖案形成片。該凹凸圖案形成片之凹凸區域之凹凸圖案之眾數間距為3μm，縱橫比為1。

繼而，使用該凹凸圖案形成片，以與實施例20相同之方式獲得光擴散片。檢驗實施例21之光擴散片之光學特性得知，其具有等向之光擴散性。

(實施例22)

將藉由實施例20之方法所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片原版，按如下所述之方式獲得光擴散片。

即，於藉由實施例20所獲得之工程片原版之形成有凹凸圖案之面上進行鍍鎳處理，其後剝離該鍍鎳，藉此獲得厚度200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜之與二次工程片不相接觸之面上，重疊厚度50μm之三乙醯纖維素薄膜，並進行按壓。

繼而，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之硬化性樹脂硬化，並自二次工程片剝離該硬化物，藉此獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例20之光擴散片相同之凹凸區域，且具有相同之光擴散性。

(實施例23)

使用熱硬化性環氧樹脂以取代紫外線硬化性樹脂組成物，並通過加熱使該熱硬化性環氧樹脂硬化以取代紫外線照射，除此之外，以與實施例22相同之方式獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例20之光擴散片相同之凹凸區域，且具有相同之光擴散性。

(實施例24)

以與實施例22相同之方式，獲得厚度200μm之二次工程片。於該二次工程片之形成有凹凸圖案之面上，重疊厚度50μm之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，並進行加熱。自該等之兩側按壓經加熱而軟化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜與二次工程片之後，使其冷卻．固化，自二次工程片剝離已固化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜，藉此獲得光擴散片。

所獲得之光擴散片具有與實施例20之光擴散片相同之凹凸區域，且具有相同之光擴散性。

於一面上混合存在有凹凸區域之實施例13~24之光學片中，藉由凹凸區域之凹凸圖案而使光擴散，因此光擴散性優異。又，上述光學片中，凹凸區域於長度方向之另一端側配置得較密，因此於長度方向之另一端側光擴散性較高。

下述例中之楊氏模量係使用拉伸測試機(Tester產業公司製TE-7001)，並根據JIS K 7113-1995而測定出之值。當未特別記載溫度時，則為23℃時之值。

(實施例25)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-60S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，藉由旋轉塗佈法而塗佈於甲苯中稀釋的聚甲基丙烯酸甲酯(POLYMER SOURCE股份有限公司製P4831-MMA，玻璃轉移溫度為100℃)，使其厚度為12nm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，於80℃時對該積層片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之40%(亦即，使其以60%之變形率而變形)，從而獲得硬質層具有波狀凹凸圖案的凹凸圖案形成片，上述波狀凹凸圖案沿著與收縮方向正交之方向具有週期。

再者，聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜及該聚甲基丙烯酸甲酯於80℃時的楊氏模量分別為50MPa、1GPa。

(實施例26)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-61S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，塗佈於水中稀釋的聚乙烯醇 (KURARAY股份有限公司製PVA105，玻璃轉移溫度85℃)，使其厚度為12nm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，於75℃時對該積層片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之50%(亦即，使其以50%之變形率而變形)，從而獲得硬質層具有波狀凹凸圖案之凹凸圖案形成片，上述波狀凹凸圖案沿著與收縮方向正交之方向具有週期。

再者，聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜及該聚乙烯醇於75℃時的楊氏模量分別為50MPa、1GPa。

(實施例27)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-61S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，蒸鍍並固化氟樹脂(Tandk股份有限公司製NANOS B)，使其厚度為12μm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，於75℃時對該積層片加熱1分鐘，藉此使其熱收縮為加熱前之長度之50%(亦即，使其以50%之變形率而變形)，從而獲得硬質層具有波狀凹凸圖案的凹凸圖案形成片，上述波狀凹凸圖案沿著與收縮方向正交之方向而具有週期。

(實施例28)

將由楊氏模量為2MPa之由聚二甲基矽氧烷構成的厚度5mm之片，藉由拉伸裝置而拉伸至兩倍長度，於該狀態下將其固定。其次，於該狀態下，於該片之一面上，塗佈於甲苯中稀釋之聚甲基丙烯酸甲酯(POLYMER SOURCE股份有限公司製P4831-MMA，玻璃轉移溫度為100℃)，使其厚度為12nm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，停止拉伸，使該積層片恢復至拉伸前之長度，藉此使硬質層以50%之變形率而壓縮，以獲得硬質層具有波狀凹凸圖案之凹凸 圖案形成片，上述波狀凹凸圖案沿著與收縮方向正交之方向而具有週期。

(實施例29)

於由楊氏模量為2MPa之由聚二甲基矽氧烷構成的厚度5mm之片之一面上，塗佈於甲苯中稀釋之聚甲基丙烯酸甲酯(POLYMER SOURCE股份有限公司製P4831-MMA，玻璃轉移溫度為100℃)，使其厚度為12nm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，藉由拉伸裝置將積層片拉伸至五倍長度，藉此使拉伸方向之法線方向之長度收縮50%(亦即，使其以50%之變形率而變形)，從而獲得硬質層具有波狀凹凸圖案之凹凸圖案形成片，上述波狀凹凸圖案沿著拉伸方向而具有週期。

(比較例10)

以使厚度為60nm之方式塗佈聚甲基丙烯酸甲酯，除此之外，以與實施例25相同之方式獲得凹凸圖案形成片。

(比較例11)

嘗試使用厚度為50μm、楊氏模量為5GPa之二軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(帝人股份有限公司製G2)以取代收縮薄膜，除此之外，以與實施例25相同之方式獲得凹凸圖案工程用片。然而，並未形成有波狀之凹凸圖案，故並未獲得凹凸圖案工程用片。

(比較例12)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S)之一面上，塗佈於甲苯中稀釋之聚甲基丙烯酸甲酯(POLYMER SOURCE股份有限公司製P4831-MMA，玻璃轉移溫度為100℃)，使其厚度為12nm，以形成表面平滑硬質層而獲得積層片。

繼而，於70℃時對該積層片加熱1分鐘，使其收縮為加熱前之長 度之97%(亦即，使其以3%之變形率而變形)，從而獲得凹凸圖案工程用片，除此之外，以與實施例27相同之方式獲得凹凸圖案形成片。

(比較例13)

於單軸方向熱收縮之厚度為50μm、楊氏模量為3GPa之聚對苯二甲酸乙二酯收縮薄膜(三菱樹脂股份有限公司製HISHIPET LX-10S，玻璃轉移溫度為70℃)之一面上，藉由旋轉塗佈法塗佈將楊氏模量為2MPa之聚二甲基矽氧烷(信越化學工業股份有限公司KS847T，玻璃轉移溫度為-120℃)及鉑觸媒(信越化學工業股份有限公司PS-1)稀釋於甲苯中所得之分散液，使其厚度為12nm，以形成硬質層而獲得積層片。

繼而，於100℃時對該積層片加熱1分鐘，使其熱收縮，藉此欲獲得凹凸圖案形成片，但因無法使硬質層蛇行變形，故波狀之凹凸圖案並未形成。

(實施例30)

將藉由實施例25所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片，按如下所述之方式獲得光學元件。

亦即，於藉由實施例25所獲得之工程片的形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與工程片不相接觸之面上，將厚度50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

其次，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物硬化，並自工程片上剝離該硬化物，藉此獲得光學元件。

(實施例31)

將藉由實施例25所獲得之凹凸圖案形成片用作工程片，按如下 所述之方式獲得光學元件。

亦即，於藉由實施例25所獲得之工程片的形成有凹凸圖案之面上進行鍍鎳處理，其後剝離該鍍鎳，藉此獲得厚度200μm之鍍鎳片。於該鍍鎳片之形成有凹凸圖案之面上，塗佈包含環氧丙烯酸酯系預聚物、丙烯酸-2-乙基己酯及二苯甲酮系光聚合起始劑的未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物。

繼而，於未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物之塗膜的與鍍鎳片不相接觸之面上，將厚度為50μm之三乙醯纖維素薄膜重疊並按壓。

其次，自三乙醯纖維素薄膜之上方照射紫外線，使未硬化之紫外線硬化性樹脂組成物硬化，並自鍍鎳片上剝離該硬化物，藉此獲得光學元件。

(實施例32)

使用熱硬化性環氧樹脂以取代紫外線硬化性樹脂組成物，並通過加熱使該熱硬化性樹脂硬化以取代紫外線照射，除此之外，以與實施例31相同之方式獲得光學元件。

(實施例33)

以與實施例11相同之方式，獲得厚度200μm之鍍鎳片。於該鍍鎳片之形成有凹凸圖案之面上，將厚度為50μm之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜重疊並加熱。對經加熱而軟化之聚甲基丙烯酸甲酯薄膜與鍍鎳片自該等兩側進行按壓，之後使其冷卻．固化，並自鍍鎳片上剝離，由此獲得凹凸圖案形成片。

藉由原子間力顯微鏡(日本Veeco公司製NanoScope III)，對實施例25~33及比較例10~13之凹凸圖案形成片之光學元件之上表面進行拍攝。

對於實施例25~33、比較例10~13之凹凸圖案形成片之光學元件，於原子間力顯微鏡之圖像中測定10處凹凸圖案之深度，將該等深 度平均而求出平均深度。

將該等之值顯示於表3。

又，根據凹凸圖案之眾數間距及底部之平均深度，按以下基準來評價光學元件之適用性。將該評價結果顯示於表3。

○：凹凸圖案之眾數間距為1μm以下，平均深度為將眾數間距設為100%時之10%以上，適宜作為光學元件。

×：凹凸圖案之眾數間距超過1μm，或者平均深度不足將眾數間距設為100%時之10%，不適宜作為光學元件。

實施例25~29、比較例10、12中，使於第1樹脂製基材之一面上，設置有硬質層之積層片蛇行變形，上述硬質層由玻璃轉移溫度相較於第1樹脂之玻璃轉移溫度高出10℃以上的第2樹脂所構成，於此製造方法中，可容易製造凹凸圖案形成片。又，對於實施例25~29中獲得之凹凸圖案形成片而言，凹凸圖案之眾數間距為1μm以下，底部之平均深度為將上述眾數間距設為100%時之10%以上，故適宜作為光學元件。於實施例25~29中，之所以有獲得如上所述之眾數間距及平均 深度，係由於表面平滑硬質層之厚度為50μm以下，且變形率為50%以上。

又，根據將實施例25中獲得之凹凸圖案形成片用作工程片之實施例30~33之製造方法，可簡便地製造具有與凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光學元件。

再者，比較例10中，由於表面硬質平滑層厚度超過50nm，因此所獲得之凹凸圖案形成片之凹凸圖案之眾數間距超過1μm。又，比較例12中，由於將變形率設為3%，故所獲得之凹凸圖案形成片之凹凸圖案之底部的平均深度不足將眾數間距設為100%時之10%。該等比較例未必適宜作為光學元件。

與此相對，於將二軸延伸聚對苯二甲酸乙二酯薄膜用作樹脂層之比較例11、及使用有第2樹脂之玻璃轉移溫度低於第1樹脂之玻璃轉移溫度的積層片之比較例13之製造方法中，由於表面平滑硬質層未蛇行變形，因此凹凸圖案並未形成。

[產業上之可利用性]

本發明之凹凸圖案形成片可用作光擴散體，且可簡便地製造。根據本發明之凹凸圖案形成片之製造方法，可簡便地製造用作光擴散體之凹凸圖案形成片。

本發明之光擴散體之擴散之異向性優異。根據本發明之光擴散體製造用工程片及光擴散體之製造方法，可簡便且大量地製造形成有與凹凸圖案形成片之眾數間距及平均深度相同之凹凸圖案的光擴散體。

本發明之光學片之目標光學特性優異，並且可容易使光學特性不均勻。本發明之光擴散片之目標光擴散性優異，並且可容易使光擴散性不均勻。

根據本發明之擴散導光體及背光單元，可使來自光源之光充分 地異向性擴散。

本發明之凹凸圖案形成片可較好地用作防反射體或相位差板等光學元件。又，本發明之凹凸圖案形成片亦可較好地用作光學元件製造用工程片，該光學元件製造用工程片作為用以製造具有波狀凹凸圖案之光學元件的模具而使用。

10‧‧‧凹凸圖案形成片

11‧‧‧基材(透明樹脂層)

12‧‧‧硬質層

12a‧‧‧凹凸圖案

12b‧‧‧底部

Claims (4)

1. 一種光學片，其特徵在於：於平坦之一面或兩面上，分散配置有具有蛇行之波狀凹凸圖案之凹凸區域，且上述凹凸區域內之凹凸之眾數間距A超過1μm且為20μm以下，凹凸之平均深度B相對於眾數間距A之比(B/A)為0.1~3.0。
2. 如請求項1之光學片，其中上述凹凸區域係不均勻地配置。
3. 一種光擴散片，其具備如請求項1之光學片。
4. 如請求項3之光擴散片，其中凹凸區域係呈點狀分散。