TWI491766B - 青銅的腐蝕防護 - Google Patents

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Description

青銅的腐蝕防護
本發明有關改善銅與銅合金之耐磨損性、抗腐蝕性與接觸電阻的方法與組成物，特別是有關青銅之耐磨損性、抗腐蝕性與接觸電阻的改良。
經常將金屬表面塗層塗在電子裝置與裝飾物品表面以提供腐蝕防護及其他期望之功能性質。經常將青銅作為廣泛消費與電子產品的表面塗層，此等產品係諸如扣件、珠寶、樂器、電連接器、軸承、接頭、工具等等。由於鎳係眾所周知的過敏源，青銅塗層特別引人注目之處係作為鎳塗層的替代物。
常使用青銅作為鈀、鈀-鎳、銀與金物品的面層或底塗層。最終沉積物提供絕佳之抗腐蝕性、耐磨損性、可焊性以及低磨擦係數。
簡而言之，本發明係關於提高在其表面上包含銅與銅合金層之金屬基材的抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻之組成物，該組成物包含磷氧化物化合物，其係選自由膦酸、膦酸鹽、膦酸酯、磷酸、磷酸鹽、磷酸酯與其組合所組成之群組；含氮有機化合物，其係選自由一級胺、二級胺、三級胺與包含氮之芳族雜環及其組合所組成之群組；以及 沸點至少約90℃之醇。
在另一方面，本發明係關於提高本發明係關於提高在其表面上包含銅與銅合金層之金屬基材的抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻之方法，該方法包含令該基材與前述組成物接觸。
本發明其他目的與特性係在下文中明顯呈現並指出。
本發明係關於一種表面處理方法一種表面處理組成物，其用於將一防護有機膜塗於銅或銅合金表面塗層。在一具體實例中，該銅合金表面塗層係青銅表面塗層。已發現該表面處理有利於提高青銅表面塗層的抗腐蝕性、接觸電阻與耐磨損性。
該表面處理方法包含令該銅或銅合金表面塗層曝露於一表面處理組成物，該表面處理組成物包含有機添加劑，其在該銅或銅合金表面上形成自組成單層，並亦滲透至該以銅為底質表面塗層中可能存在的任何孔內。因此，本發明之組成物可有效地封鎖通往下層基材的孔。此經提高之孔封鎖與該表面自組成單層的結合有利於令塗覆有銅或銅合金表面塗層(諸如青銅)之消費性產品與電子裝置的腐蝕抑制、耐磨損性提高、接觸電阻降低，及使用期限延長。
可以本發明方法防護之表面包括銅與銅合金表面，特別是青銅表面塗層。各式各樣青銅已為人習知。最常見的 青銅包含銅對錫之合金。銅一錫青銅中該錫含量變化相當廣，典型來說少至約3重量%最多至約45重量%。青銅的顏色取決於錫之存在量。例如，當錫含量為介於約30重量%與約45重量%之間時，該青銅的顏色為銀色，此等青銅稱為「白色」青銅。白色青銅較軟。當錫含量介於約15重量%與約30重量%之間時，該青銅呈金黃色。此種青銅係稱為「黃色」青銅。當錫含量為介於約3重量%與約15重量%之間時，該青銅為紅金色。此等青銅係稱為「紅色」青銅。
亦適用者係所謂磷青銅。磷青銅之錫含量較低，通常為介於約2重量%與約5重量%之間，諸如約3.5重量%，且磷含量至多約1重量%。此等合金重要之處係其韌性、強度、低磨擦係數與細微晶粒。該磷亦改善此熔融金屬的流動性，因而改善可鑄性，並藉由清理晶粒界面而改善機械性質。磷青銅係用於需要抗疲乏、耐磨損與抗化學腐蝕之彈簧與其他應用。其亦用於樂器之絃線。
該銅合金可能係習知為黃銅之合金，諸如以鋅作為主要合金元素的合金。黃銅另外包括包含銅、鋅與錫之合金。黃銅之延展性高於銅或鋅。黃銅之較低熔點(視組成物而定，為900-940℃)與其流動特徵令其成為較容易鑄造的材料。藉由改變銅與鋅之比例，該黃銅的性質會隨之改變，得以形成堅硬與柔軟之不同黃銅。黃銅合金中之鋅量可能廣泛改變，通常自5重量%至50重量%。當包括錫時，該濃度通常低，諸如介於約1重量%與約5重量%之間 。
亦適用於本發明方法之防護的是鋁青銅。鋁青銅包含鋁作為主要合金元素。鋁青銅之特徵係比其他青銅合金具有更高強度與抗腐蝕性。此等合金具有耐蝕性，並在大氣條件下顯示低腐蝕速率、在高溫下顯示低氧化速率，以及與含硫化合物及其他燃燒排放產物之反應性低。其在海水中亦具有抗腐蝕性。此等經改善性質係使用鋁組份而達成，鋁係與大氣氧反應形成薄而韌之氧化鋁表層，其作為該富含銅之合金的腐蝕障層。該鋁含量通常自5重量%至11重量%。鋁青銅可能包含少量其他元素，通常為鐵、鎳、錳與矽，其量在0.5重量%至多達6重量%。
此等與其他銅與銅合金可能塗覆作為各式各樣金屬上之面層。更明確地說，銅與銅合金通常塗覆於以鎳為底質、以鐵為底質基材以及孔狀金屬基材。以鐵為底質基材包括鋼，其包含各式各樣具有碳、錳、鎢、鉬、鉻或鎳之鐵合金，此等元素之量至多達約10重量%。常用鋼包含約0.02至2.1重量%之碳。亦適用者係具有至多達約2重量%，通常為1.5重量%錳之鋼。
本發明另外係關於銅與銅合金表面塗層之防護用的表面處理組成物。該用於本發明表面處理之表面處理組成物包含磷氧化物化合物、包含氮之芳族雜環及一種高沸點溶劑。
本發明之表面處理組成物包含磷氧化物化合物。將該磷氧化物化合物添加於表面處理組成物，以與可能存在該 銅合金表面之任何金屬或可能因以銅為底質之面塗層表面覆蓋不完全(諸如經由可能存在青銅面塗層中之孔)而曝露出之任何金屬(即，基材金屬)反應並於其上賦予一層防護有機膜。例如，錫-青銅中之主要合金元素-形成表面氧化物與氫氧化物。此外，鎳-常塗覆以銅與銅合金層之金屬-亦形成表面氧化物與氫氧化物。有利地，表面氧化物及氫氧化物係與磷氧化物化合物反應而在該氧化物及氫氧化物與磷氧化物化合物之間形成化學鍵。介於錫之氫氧化物與範例矽氧化物之間的反應如下示進行：Sn(OH)2(s) +2 R-PO3 H(aq) =>Sn-(O-PO2 -R)2 +2 H2 O磷氧化物可能同樣地與鎳之氫氧化物反應。具有上述反應中所示結構之各種磷氧化物會與該基底金屬層表面之一、二或三個氧原子反應。該反應造成磷氧化物化合物與該面層表面之氧化物化學鍵合，同時亦填滿孔銅並在曝露基材之其他區面上形成防護有機層。就此點而言，應注意的是在其他金屬當中，磷之氧化物係與錫、鎳、鋅、鉻、鐵與鈦之氧化物與氫氧化物反應。
適於添加至本發明之表面處理組成物的磷氧化物化合物較佳具有與膠束界面活性劑相似之結構，即，具有親水首基與疏水組份。如上述，在自組成反應中該包含磷氧化物部分之親水首基係與金屬氧化物及氫氧化物反應並鍵結。該疏水組份在該面層與基材表面形成，其緻密疏水膜可防水與環境濕度。因此，該磷氧化物化合物較佳地包含與疏水基鍵結之磷酸鹽或膦酸鹽部分。例如，該與磷酸或膦 酸部分鍵結的疏水基可為烷基、芳基、芳烷基或烷芳基。
範例磷氧化物化合物係膦酸鹽衍生物，其具有下示結構(I)： 其中，R1 係具有1至24個碳原子之烴基；且R2 與R3 各自獨立或一起為氫、電荷平衡陽離子，或具有一至四個碳原子之烴基。該R1 烴基可能為支鏈或直鏈、經取代或未經取代。該R1 烴基可能包含烷基、烯基、炔基、芳基或其組合，諸如烷芳基或芳烷基。例如，該R1 烴基可能包含與磷原子鍵結之苯基，該磷原子已與羥基鏈鍵結，諸如具有1至18個碳原子之烷基鏈。在其他實例中，該R1 烴基可能包含具有1至18個碳原子之烷基鏈，其係與該磷原子鍵結且額外包含苯基。較佳情況係，該R1 烴基包含具有約2至約24個碳原子之烷基鏈，更佳係具有約4至約22個碳原子，更佳係具有約6至約18個碳原子，更佳係具有約8至約18個碳原子。
除非另有指定，否則經取代烴基係被至少一個碳以外之原子取代，包括其中之碳鏈原子係被雜原子取代之部分，該等雜原子係諸如氮、氧、矽、磷、硼、硫或鹵素原子。該烴基可能被一或更多個下示取代基取代：鹵素、雜環、烷氧基、烯氧基、炔氧基、芳氧基、羥基、受保護羥基、羥基羰基、酮基、醯基、醯氧基、硝基、胺基、醯胺基 、硝基、膦基、氰基、巰基、縮酮類、縮醛類、酯類與醚類。
R2 及/或R3 可為氫；在此情況中，該磷氧化物化合物係膦酸。R2 及/或R3 可能為電荷平衡金屬陽離子，諸如鋰、鉀、鈉或鈣。該電荷平衡陽離子亦可能為銨。當R2 及/或R3 包含電荷平衡陽離子時，該磷氧化物化合物係膦酸鹽。R2 及/或R3 可能為烴基，諸如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基與第三丁基。當R2 及/或R3 係烴基時，該磷氧化物化合物係膦酸酯。
該磷氧化物化合物可能包含膦酸、膦酸鹽、膦酸酯或其混合物。具有鍵結於烷基之膦酸根部分之可用於本發明表面處理組成物範例的磷氧化物化合物包括乙基膦酸、正丙基膦酸、異丙基膦酸、正丁基膦酸、第三丁基膦酸、戊基膦酸、己基膦酸、庚基膦酸、正辛基膦酸、正癸基膦酸、正十二基膦酸、正十四基膦酸、正十六基膦酸、正十八基膦酸、其鹽類與其酯類。具有鍵結其他烴基類型之膦酸部分之可用於本發明表面處理組成物範例的磷氧化物化合物包括亞甲基二膦酸、乙烯膦酸、烯丙基膦酸、苯基膦酸、苄基膦酸、(鄰甲苯基)膦酸、(間甲苯基)膦酸、(對甲苯基)膦酸、(4-乙基苯基)膦酸、(2,4-二甲苯基)膦酸、(3,4-二甲苯基)膦酸、(2,5-二甲苯基)膦酸、(3,5-二甲苯基)膦酸、其鹽類與其酯類。亦在該等適用化合物中者為雙官能基分子，諸如包含羧酸部分之膦酸化合物，諸如膦醯基乙酸、3-膦醯基丙酸、其鹽類與其酯 類。
其他範例磷氧化物化合物係磷酸鹽衍生物，其具有下示一般結構(II)： 其中，R1 係具有1至24個碳原子之烴基；且R2 與R3 各自獨立或一起為氫、電荷平衡陽離子，或具有一至四個碳原子之烴基。該R1 烴基可能為支鏈或直鏈，經取代或未經取代。該R1 烴基可能包含烷基、烯基、炔基、芳基或其組合，諸如烷芳基或芳烷基。例如，該R1 烴基可能包含與氧原子鍵結之苯基，該氧原子已與羥基鏈鍵結，諸如具有1至18個碳原子之烷基鏈。在另一實例中，該R1 烴基可能包含具有1至18個碳原子之烷基鏈，其係與該氧原子鍵結且額外包含苯基。較佳情況係，該R1 烴基包含具有約2至約24個碳原子之烷基鏈，更佳係具有約4至約22個碳原子，更佳係具有約6至約18個碳原子，更佳係具有約8至約18個碳原子。
除非另有指定，否則經取代烴基係被至少一個碳以外之原子取代，包括其中之碳鏈原子係被雜原子取代之部分，該等雜原子係諸如氮、氧、矽、磷、硼、硫或鹵素原子。該烴基可能被一或更多個下示取代基取代：鹵素、雜環、烷氧基、烯氧基、炔氧基、芳氧基、羥基、受保護羥基、羥基羰基、酮基、醯基、醯氧基、硝基、胺基、醯胺基 、硝基、膦基、氰基、巰基、縮酮類、縮醛類、酯類與醚類。
R2 及/或R3 可為氫；在此情況中，該磷氧化物化合物係磷酸。R2 及/或R3 可能為電荷平衡金屬陽離子，諸如鋰、鉀、鈉或鈣。該電荷平衡陽離子亦可能為銨。當R2 及/或R3 包含電荷平衡陽離子時，該磷氧化物化合物係磷酸鹽。R2 及/或R3 可能為烴基，諸如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基與第三丁基。當R2 及/或R3 係烴基時，該磷氧化物化合物係磷酸酯。
該磷氧化物化合物可能包含磷酸、磷酸鹽、磷酸酯或其混合物。具有鍵結於烷基之磷酸根部分之可用於本發明表面處理組成物範例的磷氧化物化合物包括乙基磷酸、正丙基磷酸、異丙基磷酸、正丁基磷酸、第三丁基磷酸、戊基磷酸、己基磷酸、庚基磷酸、正辛基磷酸、正癸基磷酸、正十一基磷酸、正十二基磷酸、正十三基磷酸、正十四基磷酸、正十六基磷酸、正十八基磷酸、其鹽類與其酯類。具有鍵結於其他烴基類型之磷酸根部分之適用於本發明表面處理組成物的範例磷氧化物化合物包括磷酸烯丙酯、磷酸二乙酯、磷酸二異丙酯、磷酸二丁酯、磷酸三異丁酯、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、磷酸1-萘酯、磷酸2-萘酯、其鹽類與其酯類。
可添加至本發明表面處理組成物之磷氧化物化合物濃度係約0.01重量%(約0.1g/L)至約10重量%(約100g/L)，較佳係約0.1重量%(約1g/L)至約5重量% (約50g/L)，更佳係約0.1重量%(約1g/L)至約2重量%(約20g/L)，諸如約1重量%(約10g/L)。該磷氧化物化合物較佳係以至少約0.01重量%(約0.1g/L)添加至該組合物，以達成迅速塗覆。約10重量%(約100g/L)之最大濃度係由該磷氧化物化合物之溶解度決定，因此可能取決於該磷氧化物化合物之種類而高於或低於所述量。在較佳組成物中，該化合物係正十八基膦酸，其添加濃度為約0.2重量%(約2.0g/L)至約2重量%(約20g/L)，例如約1重量%(約10g/L)。
本發明之表面處理組成物另外包含有含氮有機化合物。該含氮有機化合物可選自一級胺、二級胺、三級胺與包含氮之芳族雜環。該組成物可包含此種含氮有機化合物之組合。該含氮有機化合物係添加至表面處理組成物以與銅或銅合金表面反應並防護此等表面。在不受特定理論限制情況下，一般認為該拒原子中之單獨電子對形成氮-銅鍵，因而在銅或銅合金表面上形成防護有機膜，其中該膜包含與該銅表面鍵結之含氮有機化合物的自組成層。
在一具體實例中，該含氮有機化合物包含一級胺、二級胺、三級胺或其任何組合，該胺具有下示一般結構(III)： 其中，R1 、R2 與R3 各自獨立為氫或具有一至約24個碳原子之烴基；且R1 、R2 與R3 中至少一者係具有一至約24 個碳原子之烴基。該烴基較佳包含約6至約18個碳原子。該烴基可能經取代或未經取代。代表性取代基包括短碳鏈支鏈烷基，通常具有一至四個碳原子，即，甲基、乙基、丙基與丁基取代基以及芳族基團，諸如苯基、萘基以及包含氮、氧與硫之芳族雜環。其他取代基包括胺、硫醇、羧酸根、磷酸根、膦酸根、硫酸根、磺酸根、鹵素、羥基、烷氧基、芳氧基、受保護羥基、酮基、醯基、醯氧基、硝基、氰基、酯類與醚類。在一較佳具體實例中，R1 、R2 與R3 其中一者為未經取代之非支鏈烷基，且R1 、R2 與R3 之另兩者係氫原子，因此該胺係一級胺。包含非支鏈烷基之一級胺可在銅表面上較佳地達成期望之緻密自組成單層。可單獨使用或合併用於本發明組成物之範例一級胺包括胺乙烷、1-胺丙烷、2-胺丙烷、1-胺丁烷、2-胺丁烷、1-胺基-2-甲基丙烷、2-胺基-2-甲基丙烷、1-胺戊烷、2-胺戊烷、3-胺戊烷、新戊胺、1-胺己烷、2-胺己烷、1-胺庚烷、2-胺庚烷、1-胺辛烷、2-胺辛烷、1-胺壬烷、1-胺癸烷、1-胺十二烷、1-胺十三烷、1-胺十四烷、1-胺十五烷、1-胺十六烷、1-胺十七烷、1-胺十八烷與1-胺二十烷。
在一較佳具體實例中，該含氮有機化合物包含有含氮之芳族雜環。其顯示出包含氮之芳族雜環藉由與該銅或銅合金表面之銅(I)離子交互作用而額外防護銅表面。銅(I)離子之交互作用形成一層包含以不可溶銅(I)為底質之有機金屬的膜，其沉積在該銅或銅合金表面上。此沉積物亦被視為其他機制，因而雜環在該銅或銅合金之表面 上形成一層防護有機膜。可適用於本發明表面處理組成物之包含氮的芳族雜環包括5員環(唑類)。該5員環可與另一5員或6員芳環稠合，該5員或6員芳環亦可為包含氮原子之雜環。此外，該芳族雜環可包括一或更多個氮原子，而且典型而言，該芳族雜環包含一至四個氮原子。唑類可具有下示結構(IV)： 其中，R1 、R2 、R3 、R4 與R5 係選自由碳與氮所組成之群組的原子，其中R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團當中有一至四者係氮，且R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團當中有一至四者係碳；而且R11 、R22 、R33 、R44 與R55 係各自獨立地選自由氫、碳、硫、氧與氮所組成之群組。
結構(IV)中之R11 、R22 、R33 、R44 與R55 當中之任一或更多者可為碳，其中該碳係具有1至24個碳原子之脂族基的一部分，或是具有五至十四個碳原子之芳基的一部分。該脂族基與芳基可能經取代或未經取代。該脂族基可為支鏈或直鏈。除非另外指明，否則經取代脂族基或經取代芳基係被至少一種碳以外之原子取代，包括其中之碳鏈原子係被雜原子取代之部分，該等雜原子係諸如氮、氧、矽、磷、硼、硫或鹵素原子。該脂族基或芳基可能被一或更多個下示取代基取代：鹵素、雜環、烷氧基、烯氧基 、炔氧基、芳氧基、羥基、受保護羥基、羥基羰基、酮基、醯基、醯氧基、硝基、胺基、醯胺基、硝基、膦基、氰基、巰基、縮酮類、縮醛類、酯類與醚類。
結構(IV)中，R11 、R22 、R33 、R44 與R55 當中任一對(例如R11 與R22 或R22 與R33 )可一起和與它們鍵結之碳或氮原子形成具有連續之R1 、R2 、R3 、R4 與R5 之相應對的經取代或未經取代環烷基或經取代或未經取代芳基(例如，R11 與R22 形成具有R1 與R2 的環)，如此由R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團界定之環係與其他環稠合。此環可包含一或兩個氮原子。較佳情況係，該連續之R11 、R22 、R33 、R44 及R55 與對應連續之R1 、R2 、R3 、R4 及R5 形成六員芳環。
較佳的是，結構(IV)之唑不經取代。範例唑類示於表I中。表I所列唑類當中之較佳者包括咪唑(1,3-二唑)、苯并咪唑(1,3-苯并二唑)、1H-苯并三唑與2H-苯并三唑。
上述含氮有機化合物(即，一級胺、二級胺、三級胺與包含氮之芳族雜環)之任一者可能單獨或合併用於本發明之表面處理組成物。該含氮有機化合物可能添加於本發明表面處理組成物的濃度為約0.01重量%(約0.1g/L)至約10重量%(約100g/L)，較佳係約0.1重量%(約1.0g/L)至約1.0重量%(約10g/L)。該含氮有機化合物可以至少約0.01重量%(約0.1g/L)添加於該組成物以達成充分覆蓋及防護該銅基材。約10重量%(約100g/L)之最大濃度係基於化合物的溶解度而估算，因此可能取決於該化合物之種類而高於或低於所述量。在一較佳組成物中，該含氮有機化合物係包含氮之芳族雜環，特別是苯并三唑，其添加濃度為約0.1重量%(約1g/L)至約1重量%(約10g/L)，例如約0.3重量%(約3g/L)。
令上述磷氧化物化合物與含氮有機化合物溶解於溶劑中。較佳情況係，該溶劑之特徵為具有較高沸點。因安全考量之故，以高沸點溶劑為佳。此外，已發現高沸點溶劑可提高本發明表面處理組成物之安定性。更佳情況係，該溶劑之特徵為兼具高沸點及與水之互混性。已發現與水之互混性改善最終塗覆產物的外觀，特別是，在較佳具體實例中，該基材於曝露在本發明表面處理組成物之後被加以清洗。可用溶劑包括高沸點醇，其沸點較佳係至少約90℃，且較佳係至少約110℃，更佳係至少約150℃。用於本發明表面處理組成物之範例高沸點醇包括具有四或更多個碳原子者，諸如諸如正丙醇、異丙醇、1-丁醇、2-丁醇 、第三丁醇、異丁醇、1-戊醇、2-戊醇、其他戊醇類、1-己醇、其他己醇類、庚醇類、1-辛醇、2-辛醇、與其他辛醇類、1-癸醇與其他癸醇類、酚、苄醇、糠醇、四氫糠醇、2-甲氧基乙醇、乙二醇、甘油、二甘醇、三甘醇、二甘醇一甲醚、2-(環己氧基)乙醇、1-(2-呋喃基)乙醇及2-乙氧基乙醇。在一較佳具體實例中，該溶劑係2-乙氧基乙醇。
可藉由浸漬、溢流或噴淋浸沒以本發明之表面處理組成物加以處理該銅或銅合金表面，其先決條件係塗覆方法充分濕潤該以銅為底質表面充分時間，以令該有機添加劑在銅表面及該基材之曝露區上形成自組成單層之膜。
該曝露持續時間對於本發明功效並非關鍵，而且可能部分取決於該方法的工程方面。典型曝露時間可能少至約1秒至長約10分鐘，更典型係約5秒至約600秒。實際上，該曝露時間可能為約30秒至約300秒，通常為約60秒至約180秒，諸如約180秒。鑒於此等相對較短曝露時間，本發明方法達成迅速表面塗覆。該表面處理組成物之溫度可在約20℃最高至75℃之間變動，通常在約25℃至約55℃，諸如在約25℃至約45℃。可藉由擦洗、刷洗、刮刷、攪動與攪拌加強在該表面處理組成物下之曝露。特別是，已顯示攪動係提高該組成物在基材上塗覆防護有機塗層的有效方法。該攪動可能劇烈。該基材曝露於表面處理組成物之後，可加以清洗該基材，典型係以去離子水清洗約10秒至約2分鐘並加以熱乾燥，諸如以吹風乾燥機 熱乾燥。
下列實施例進一步舉例說明本發明之表面處理組成物。
實施例 實施例1、本發明之表面處理組成物。
本發明之表面處理組成物係經製備成具有下示組份：正十八基膦酸(10g)
苯并三唑(3.0g)
2-乙氧基乙醇(1000mL)
實施例2、以實施例1之溶液處理青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫-銅合金塗覆鋼試片，並以實施例1之表面處理組成物額外加以處理，其係根據下示方案進行：1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以循環水清洗。
9、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
10、以循環水清洗。
11、使用實施例1之表面處理組成物，藉由在40℃下將該青銅表面塗層浸漬於該組成物中3分鐘並加以攪拌，而將防護有機塗層施加於青銅表面塗層。
12、以吹風乾燥機熱乾燥該表面。
實施例3、以實施例1之溶液處理青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫-銅合金塗覆鋼試片，並以實施例1之表面處理組成物額外加以處理，其係根據下示方案進行：1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以循環水清洗。
9、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
10、以循環水清洗。
11、使用實施例1之表面處理組成物，藉由在40℃下將該青銅表面塗層浸漬於該組成物中3分鐘並加以攪拌，而將防護有機塗層施加於青銅表面塗層。
12、以蒸餾水在40℃下清洗30秒。
13、以吹風乾燥機熱乾燥該表面。
實施例4、以實施例1之溶液處理青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫-銅合金塗覆鋼試片，並以實施例1之表面處理組成物額外加以處理，其係根據下示方案進行：1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以循環水清洗。
9、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
10、以循環水清洗。
11、使用實施例1之表面處理組成物，藉由在40℃下將該青銅表面塗層浸漬於該組成物中3分鐘並加以攪拌，而將防護有機塗層施加於青銅表面塗層。
12、以蒸餾水在40℃下清洗30秒。
13、在一爐中以80℃熱乾燥25分鐘。
實施例5、以實施例1之溶液處理青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫-銅合金塗覆鋼試片，並以實施例1之表面處理組成物額外加以處理，其係根據下示方案進行： 1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以循環水清洗。
9、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
10、以循環水清洗。
11、使用實施例1之表面處理組成物，藉由在40℃下將該青銅表面塗層浸漬於該組成物中3分鐘並加以攪拌，而將防護有機塗層施加於青銅表面塗層。
12、以吹風乾燥機熱乾燥該表面。
實施例6、以實施例1之溶液處理青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫一銅合金塗 覆鋼試片，並以實施例1之表面處理組成物額外加以處理，其係根據下示方案進行：1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以循環水清洗。
9、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
10、以循環水清洗。
11、使用實施例1之表面處理組成物，藉由在40℃下將該青銅表面塗層浸漬於該組成物中3分鐘並加以攪拌，而將防護有機塗層施加於青銅表面塗層。
12、以蒸餾水在40℃下清洗30秒。
13、以吹風乾燥機熱乾燥該表面。
實施例7、以實施例1之溶液處理青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫-銅合金塗覆鋼試片，並以實施例1之表面處理組成物額外加以處理，其係根據下示方案進行：1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以循環水清洗。
9、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
10、以循環水清洗。
11、使用實施例1之表面處理組成物，藉由在40℃下將該青銅表面塗層浸漬於該組成物中3分鐘並加以攪拌，而將防護有機塗層施加於青銅表面塗層。
12、以蒸餾水在40℃下清洗30秒。
13、在一爐中以80℃熱乾燥25分鐘。
比較實例8、未經處理之青銅表面塗層。
使用Bronzex® WMR (Enthone Inc., West Haven, Conn.)以包含45重量%錫與55重量%銅之錫-銅合金塗覆鋼試片。該青銅表面塗層不經表面處理組成物處理。如下示產生該青銅表面塗層：1、在55℃下熱脫脂5分鐘(5%溶液，ENPREP® FECU)。
2、以蒸餾水清洗。
3、在55℃下以5A/dm2 之電流密度陰極脫脂3分鐘(8%溶液，ENPREP® FECU)。
4、以蒸餾水清洗。
5、根據Enthone Inc提供之指示，使用ACTANE® SE在室溫下進行活化作用。
6、以蒸餾水清洗。
7、使用Bronzex® WMR於25℃、1A/dm2 之電流密度與2.5m/分鐘之齒條攪動下沉積青銅表面塗層9分鐘。該青銅表面塗層包含55重量%銅與45重量%錫。
8、以吹風乾燥機熱乾燥該表面。
實施例9、經處理與未經處理青銅表面塗層之濕度測試。
對實施例2-7之經青銅表面塗覆且經處理試片與比較 實例8之經青銅表面塗覆且未經處理之試片進行濕度測試。濕度測試包括令該青銅表面經塗覆之試片曝露於包含85%濕度且溫度為85℃之環境48小時。若於48小時曝露期間之後試片之褪色與腐蝕斑點不明顯，則該試片視為通過此測試。
根據實施例2-7與比較實例8之方案對七組五個試片進行青銅表面塗覆與處理。該七組各組有一個試片(即，參考試片)不進行濕度測試，而七組當中各組有四個試片曝露於包含85%濕度且溫度為85℃之環境48小時。曝露48小時之後，肉眼檢視褪色與腐蝕斑點。圖1A至1F分別為根據實施例2-7所述方法加以處理之參考試片與進行濕度測試試片的照片。圖1G係根據比較實例8所述之方法僅塗覆青銅層之參考試片與進行濕度測試試片的照片。
很明顯地，實施例2-6之全部青銅表面經塗覆且經處理試片以及實施例7試片其中兩個通過該測試。亦即，並無明顯腐蝕或褪色。由於比較實例8的所有四個青銅表面經塗覆試片顯示出嚴重腐蝕，其均未通過測試。
實施例10、經處理與未經處理青銅表面塗層之人工汗液測試。
對實施例2-7之經青銅表面塗覆且經處理試片及比較實例8之經青銅表面塗覆且未經處理之試片進行人工汗液測試。人工汗液測試包括將該樣本浸漬在包括下示組份之溶液中： 氯化鈉(20 g/L)
氯化銨(17.5 g/L)
脲(5 g/L)
醋酸(2.5 g/L)
乳酸(15 g/L)
該溶液之pH值約4.7，且該溶液溫度約40℃。
若浸漬至少24小時後沒有明顯褪色或腐蝕斑點，則視試片通過此測試。六個試片係根據實施例2-7所述方案予以青銅表面塗覆及處理。三個試片係根據比較實例8所述方案予以塗覆青銅。將九個試片全浸漬在該人工汗液中24小時。於24小時之後，六個塗覆青銅並根據實施例2-7所述方法處理的試片未顯示出明顯褪色或腐蝕斑點。見圖2A與2B，其係此等試片之照片。標示1之試片係根據實施例2所述方法予以塗覆青銅與處理。標示2之試片係根據實施例3所述方法予以塗覆青銅與處理。標示3之試片係根據實施例4所述方法予以塗覆青銅與處理。標示4之試片係根據實施例5所述方法予以塗覆青銅與處理。標示5之試片係根據實施例6所述方法予以塗覆青銅與處理。標示6之試片係根據實施例7所述方法予以塗覆青銅與處理。三個比較實例8之未經處理部件均顯示明顯褪色。見圖2C，其係此等試片之照片。
分別對於根據實施例2-7塗覆青銅並處理之標示為1至6的試片重複該測試。該持續期間延長至48小時。即使在人工汗液中浸漬48小時之後，實施例2-7之經處理 試片再次均未顯示明顯褪色或腐蝕斑點。見圖3A與3B，其係此等試片曝露於人工汗液中浸漬48小時之後的照片。
實施例11、經處理與未經處理青銅表面塗層之中性鹽噴霧測試。
根據DIN-EN-ISO 9227對實施例2-7之經青銅表面塗覆且處理之試片與比較實例8之經青銅表面塗覆且未經處理之試片進行中性鹽噴霧測試。
中性鹽噴霧測試包括在約35℃下對經青銅表面塗覆試片噴淋包含氯化鈉之溶液(50±5 g/L)。該pH值近乎中性，而且可在約6.5至約7.2間變化。對該經塗覆部件加以噴淋直到褪色與腐蝕斑點肉眼明顯可見為止。至於參考組，比較實例8之未經處理部件在少至24小時之中性鹽噴淋中顯示褪色。見圖4A。相較之下，實施例2-7之經處理部件在中性鹽噴淋48小時之後未顯示出明顯褪色或腐蝕斑點。見圖4B與4B，其係標示為1-6之試片的照片，分別相當於根據實施例2-7所述方法所塗覆青銅與處理之試片。噴淋72小時之後，標示為3之試片(相當於實施例4之方法)顯示肉眼可見斑點。見圖4D。該等標示為1、2、4、5與6(分別相當於實施例2、3與5-7之方法)的試片僅在196小時之後顯示肉眼可見斑點。見圖4E與4F。對根據實施例2-7所述方法塗覆青銅與處理之試片加以噴淋總共320小時。見圖4F與4G，其中顯示即 使於噴淋320小時之後所有經處理部件顯示出肉眼可見斑點，但該等經處理試片中沒有任何一者顯示出僅噴淋24小時後之實施例8未經處理試片上明顯可見的大範圍褪色。
鑒於上述，可看出已達成本發明之數項目的且已實現其他有利結果。
於介紹本發明元件或其較佳具體實例時，希望冠詞「一」與「該」意指一或更多個該元件。例如，前文描述與下示申請專利範圍所指的「一」層意指其中可能有一或更多層此種層。「包含」、「包括」與「具有」係為廣意詞，並且意指可能有所列事項以外之額外事項。
由於在不違背本發明範圍情況下可以在前文中進行各種變化，故上述說明中所包含及附錄圖示所示之所有內容應解釋為範例性質，而並無限制之意。
圖1A至1G係根據實施例9之方法進行濕度測試之塗覆有青銅之試片的照片。
圖2A至2C係根據實施例10之方法進行人工汗液測試之塗覆有青銅之試片的照片。
圖3A與3B係根據實施例10之方法進行人工汗液測試之塗覆有青銅之試片的照片。
圖4A至4H係根據實施例11之方法進行中性鹽噴霧測試之塗覆有青銅之試片的照片。

Claims (50)

  1. 一種提高金屬基材之抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻的組成物，該金屬基材包含在金屬基底之表面上的銅或銅合金層，該金屬基底包含選自由下列所組成之群組的金屬：鐵、鎳、錫、鋅、鉻、鈦及貴金屬，該組成物包含溶解於高沸點溶劑中的磷氧化物化合物及含氮有機化合物：該磷氧化物化合物係選自由膦酸、膦酸鹽、膦酸酯、磷酸、磷酸鹽、磷酸酯與其組合所組成之群組；該含氮有機化合物係選自由一級胺、二級胺、三級胺、包含氮之芳族雜環及其組合所組成之群組；該其內溶解有該磷氧化物化合物和該含氮有機化合物之高沸點溶劑具有至少110℃之沸點且包含沸點至少110℃之醇。
  2. 一種提高金屬基材之抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻的組成物，該金屬基材包含在金屬基底之表面上的銅或銅合金層，該金屬基底包含選自由下列所組成之群組的金屬：鐵、鎳、錫、鋅、鉻、鈦及貴金屬，該組成物包含：磷氧化物化合物，其係選自由膦酸、膦酸鹽、膦酸酯、磷酸、磷酸鹽、磷酸酯與其組合所組成之群組；及含氮有機化合物，其係選自由一級胺、二級胺、三級胺、包含氮之芳族雜環及其組合所組成之群組；和沸點至少110℃之醇；其中該磷氧化物化合物具有結構(I)： 其中，R1 係具有1至24個碳原子之烴基；且R2 與R3 各自獨立或一起為氫、電荷平衡陽離子，或具有一至四個碳原子之烴基。
  3. 如申請專利範圍第2項之組成物，其中該磷氧化物化合物係選自由甲基膦酸、乙基膦酸、正丙基膦酸、異丙基膦酸、正丁基膦酸、異丁基膦酸、第三丁基膦酸、戊基膦酸、己基膦酸、庚基膦酸、正辛基膦酸、正癸基膦酸、正十二基膦酸、(12-膦醯基十二基)膦酸、正十四基膦酸、正十六基膦酸、正十八基膦酸、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  4. 如申請專利範圍第2項之組成物，其中該磷氧化物化合物係選自由乙烯基膦酸、烯丙基膦酸、苯基膦酸、(2-異丙基苯基)膦酸、苄基膦酸、(鄰甲苯基)膦酸、(間甲苯基)膦酸、(對甲苯基)膦酸、(4-乙基苯基)膦酸、(2,3-二甲苯基)膦酸、(2,4-二甲苯基)膦酸、(2,5-二甲苯基)膦酸、(3,4-二甲苯基)膦酸、(3,5-二甲苯基)膦酸、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  5. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中該磷氧化物化合物具有結構(II)： 其中，R1 係具有1至24個碳原子之烴基；且R2 與R3 各自獨立或一起為氫、電荷平衡陽離子，或具有一至四個碳原子之烴基。
  6. 如申請專利範圍第5項之組成物，其中該磷氧化物化合物係選自由乙基磷酸、正丙基磷酸、異丙基磷酸、正丁基磷酸、第三丁基磷酸、戊基磷酸、己基磷酸、庚基磷酸、正辛基磷酸、正癸基磷酸、正十一基磷酸、正十二基磷酸、正十三基磷酸、正十四基磷酸、正十六基磷酸、正十八基磷酸、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  7. 如申請專利範圍第5項之組成物，其中該磷氧化物化合物係選自由磷酸烯丙酯、磷酸二乙酯、磷酸二異丙酯、磷酸二丁酯、磷酸三異丁酯、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、磷酸1-萘酯、磷酸2-萘酯、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  8. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之組成物，其中該含氮有機化合物係選自一級胺、二級胺、三級胺與其組合，且該含氮有機化合物具有下示結構(III)： 其中，R1 、R2 與R3 各自獨立為氫或具有1至24個碳 原子之烴基；且R1 、R2 與R3 中至少一者係具有1至24個碳原子之烴基。
  9. 如申請專利範圍第8項之組成物，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組的一級胺：胺乙烷、1-胺丙烷、2-胺丙烷、1-胺丁烷、2-胺丁烷、1-胺基-2-甲基丙烷、2-胺基-2-甲基丙烷、1-胺戊烷、2-胺戊烷、3-胺戊烷、新戊胺、1-胺己烷、1-胺庚烷、2-胺庚烷、1-胺辛烷、2-胺辛烷、1-胺壬烷、1-胺癸烷、1-胺十二烷、1-胺十三烷、1-胺十四烷、1-胺十五烷、1-胺十六烷、1-胺十七烷、1-胺十八烷與其組合。
  10. 如申請專利範圍第8項之組成物，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組的二級胺：二乙胺、二丙胺類、二丁胺類、二戊胺類、二己胺類、二庚胺類、二辛胺類、二壬胺類、二癸胺類、二(十一基)胺類、二(十二基)胺類、二(十三基)胺類、二(十四基)胺類、二(十六基)胺類、二(十八基)胺類及其組合。
  11. 如申請專利範圍第8項之組成物，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組的三級胺：三乙胺、三丙胺類、三丁胺類、三戊胺類、三己胺類、三庚胺類、三辛胺類、三壬胺類、三癸胺類、三(十一基)胺類、三(十三基)胺類、三(十三基)胺類、三(十四基)胺類、三(十六基)胺類、三(十八基)胺類及其組 合。
  12. 如申請專利範圍第8項之組成物，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組：乙二胺、2-(二異丙基胺基)乙基胺、N,N’-二乙基乙二胺、N-異丙基乙二胺、N-甲基乙二胺、N,N’-二甲基乙二胺、1-二甲基胺基-2-丙基胺、3-(二丁基胺基)丙基胺、3-(二乙基胺基)丙基胺、3-(二甲基胺基)-1-丙基胺、3-(甲基胺基)丙基胺、N-甲基-1,3-二胺基丙烷、N,N-二乙基-1,3-丙烷二胺及其組合。
  13. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之組成物，其中該含氮有機化合物係包含氮之芳族雜環，且該包含氮之芳族雜環具有下示結構(IV)： 其中，R1 、R2 、R3 、R4 與R5 係選自由碳與氮所組成之群組的原子，其中R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團當中有一至四者係氮，且R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團當中有一至四者係碳；以及R11 、R22 、R33 、R44 與R55 係各自獨立地選自由氫、碳、硫、氧與氮所組成之群組。
  14. 如申請專利範圍第13項之組成物，其中R11 、R22 、R33 、R44 與R55 當中任一或更多者為碳，且該碳係具 有1至24個碳原子之脂族基的一部分，或是具有五至十四個碳原子之芳基的一部分。
  15. 如申請專利範圍第13項之組成物，其中任兩個連續之R11 、R22 、R33 、R44 及R55 係與和它們鍵結之碳或氮原子一起形成六員芳族環。
  16. 如申請專利範圍第13項之組成物，其中該包含氮之芳族雜環係選自由吡咯(1H-唑)；咪唑(1,3-二唑)；吡唑(1,2-二唑)；1,2,3-三唑；1,2,4-三唑；四唑；異吲哚；苯并咪唑(1,3-苯并二唑)；吲唑(1,2-苯并二唑)；1H-苯并三唑；2H-苯并三唑；咪唑[4,5-b]吡啶；吲哚(1H-苯并[b]吡咯)；嘌呤(7H-咪唑(4,5-d)嘧啶)；吡唑并[3,4-d]嘧啶；三唑并[4,5-d]嘧啶；與其組合所組成之群組。
  17. 如申請專利範圍第13項之組成物，其中該包含氮之芳族雜環係選自由咪唑(1,3-二唑)、苯并咪唑(1,3-苯并二唑)、1H-苯并三唑與2H-苯并三唑所組成之群組。
  18. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之組成物，其中該磷氧化物化合物之濃度為介於0.1重量%與5重量%之間，且該含氮有機化合物之濃度為介於0.1重量%與1.0重量%之間。
  19. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之組成物，其中該高沸點溶劑之沸點為至少150℃。
  20. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之組成物， 其中該醇係選自由1-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、1-己醇、其他己醇類、庚醇類、1-辛醇、2-辛醇與其他辛醇類、1-癸醇與其他癸醇類、酚、苄醇、糠醇、四氫糠醇、2-甲氧基乙醇、乙二醇、甘油、二甘醇、三甘醇、二甘醇一甲醚、2-(環己氧基)乙醇、1-(2-呋喃基)乙醇、2-乙氧基乙醇與其組合所組成之群組。
  21. 如申請專利範圍第1至7項中任一項之組成物，其中該醇係2-乙氧基乙醇。
  22. 如申請專利範圍第2至4項中任一項之組成物，其中該磷氧化物化合物和該含氮化合物係溶解於沸點至少110℃且由沸點至少110℃之醇所組成之溶劑中。
  23. 如申請專利範圍第2項之組成物，其中R2 與R3 中至少一者為氫或平衡陽離子。
  24. 如申請專利範圍第1項之組成物，其中該磷氧化物化合物包含亞甲基二膦酸、其酯或其鹽。
  25. 一種提高金屬基材之抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻的方法，該金屬基材包含在金屬基底之表面上的銅或銅合金層，該金屬基底包含選自由下列所組成之群組的金屬：鐵、鎳、錫、鋅、鉻、鈦及貴金屬，該方法包含：令該基材曝露於包含溶解於高沸點溶劑中的磷氧化物化合物及含氮有機化合物之組成物：該磷氧化物化合物係選自由膦酸、膦酸鹽、膦酸酯、磷酸、磷酸鹽、磷酸酯與其組合所組成之群組；該含氮有機化合物係選自由一級胺、二級胺、三級 胺、包含氮之芳族雜環及其組合所組成之群組；且該其內溶解有該磷氧化物化合物和該含氮化合物之高沸點溶劑具有至少110℃之沸點且包含沸點至少110℃之醇。
  26. 一種提高金屬基材之抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻的方法，該金屬基材包含在金屬基底之表面上的銅或銅合金層，該金屬基底包含選自由下列所組成之群組的金屬：鐵、鎳、錫、鋅、鉻、鈦及貴金屬，該方法包含：令該基材曝露於包含下列者之組成物：磷氧化物化合物，其係選自由膦酸、膦酸鹽、膦酸酯、磷酸、磷酸鹽、磷酸酯與其組合所組成之群組；及含氮有機化合物，其係選自由一級胺、二級胺、三級胺、包含氮之芳族雜環及其組合所組成之群組；和沸點至少110℃之醇；其中該磷氧化物化合物具有結構(I)： 其中，R1 係具有1至24個碳原子之烴基；且R2 與R3 各自獨立或一起為氫、電荷平衡陽離子，或具有一至四個碳原子之烴基。
  27. 如申請專利範圍第26項之方法，其中該磷氧化物化合物係選自由甲基膦酸、二甲基膦酸、乙基膦酸、正丙基膦酸、異丙基膦酸、正丁基膦酸、異丁基膦酸、第三丁 基膦酸、戊基膦酸、己基膦酸、庚基膦酸、正辛基膦酸、正癸基膦酸、正十二基膦酸、(12-膦醯基十二基)膦酸、正十四基膦酸、正十六基膦酸、正十八基膦酸、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  28. 如申請專利範圍第26項之方法，其中該磷氧化物化合物係選自由乙烯基膦酸、烯丙基膦酸、苯基膦酸、(2-異丙基苯基)膦酸、苄基膦酸、(鄰甲苯基)膦酸、(間甲苯基)膦酸、(對甲苯基)膦酸、(4-乙基苯基)膦酸、(2,3-二甲苯基)膦酸、(2,4-二甲苯基)膦酸、(2,5-二甲苯基)膦酸、(3,4-二甲苯基)膦酸、(3,5-二甲苯基)膦酸、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  29. 一種提高金屬基材之抗腐蝕性、耐磨損性與接觸電阻的方法，該金屬基材包含在金屬基底之表面上的銅或銅合金層，該金屬基底包含選自由下列所組成之群組的金屬：鐵、鎳、錫、鋅、鉻、鈦及貴金屬，該方法包含：令該基材曝露於包含下列者之組成物：磷氧化物化合物；及含氮有機化合物，其係選自由一級胺、二級胺、三級胺、包含氮之芳族雜環及其組合所組成之群組；其中該磷氧化物化合物包含一含有羧酸部分的膦酸化合物。
  30. 如申請專利範圍第29項之方法，其中該磷氧化物化合物係選自由膦醯基乙酸、3-膦醯基丙酸、6-膦醯基己酸、11-膦醯基十一酸、16-膦醯基十六酸、其鹽類、其酯 類與其組合所組成之群組。
  31. 如申請專利範圍第25項之方法，其中該磷氧化物化合物具有結構(II)： 其中，R1 係具有1至24個碳原子之烴基；且R2 與R3 各自獨立或一起為氫、電荷平衡陽離子，或具有一至四個碳原子之烴基。
  32. 如申請專利範圍第31項之方法，其中該磷氧化物化合物係選自由乙基磷酸、正丙基磷酸、異丙基磷酸、正丁基磷酸、第三丁基磷酸、戊基磷酸、己基磷酸、庚基磷酸、正辛基磷酸、正癸基磷酸、正十一基磷酸、正十二基磷酸、正十三基磷酸、正十四基磷酸、正十六基磷酸、正十八基磷酸、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  33. 如申請專利範圍第31項之方法，其中該磷氧化物化合物係選自由磷酸烯丙酯、磷酸二乙酯、磷酸二異丙酯、磷酸二丁酯、磷酸三異丁酯、磷酸苯酯、磷酸二苯酯、磷酸1-萘酯、磷酸2-萘酯、其鹽類、其酯類與其組合所組成之群組。
  34. 如申請專利範圍第25至33項中任一項之方法，其中該含氮有機化合物係選自一級胺、二級胺、三級胺與其組合，且該含氮有機化合物具有下示結構(III)： 其中，R1 、R2 與R3 各自獨立為氫或具有1至24個碳原子之烴基；且R1 、R2 與R3 中至少一者係具有1至24個碳原子之烴基。
  35. 如申請專利範圍第34項之方法，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組的一級胺：胺乙烷、1-胺丙烷、2-胺丙烷、1-胺丁烷、2-胺丁烷、1-胺基-2-甲基丙烷、2-胺基-2-甲基丙烷、1-胺戊烷、2-胺戊烷、3-胺戊烷、新戊胺、1-胺己烷、1-胺庚烷、2-胺庚烷、1-胺辛烷、2-胺辛烷、1-胺壬烷、1-胺癸烷、1-胺十二烷、1-胺十三烷、1-胺十四烷、1-胺十五烷、1-胺十六烷、1-胺十七烷、1-胺十八烷與其組合。
  36. 如申請專利範圍第35項之方法，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組的二級胺：二乙胺、二丙胺類、二丁胺類、二戊胺類、二己胺類、二庚胺類、二辛胺類、二壬胺類、二癸胺類、二(十一基)胺類、二(十二基)胺類、二(十三基)胺類、二(十四基)胺類、二(十六基)胺類、二(十八基)胺類及其組合。
  37. 如申請專利範圍第34項之方法，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組的三級胺：三乙胺、三丙胺類、三丁胺類、三戊胺類、三己胺類、三庚胺類、三辛胺類、三壬胺類、三癸胺類、三(十一基)胺類、三 (十三基)胺類、三(十三基)胺類、三(十四基)胺類、三(十六基)胺類、三(十八基)胺類及其組合。
  38. 如申請專利範圍第34項之方法，其中該含氮有機化合物係選自由下列者所組成之群組：乙二胺、2-(二異丙基胺基)乙基胺、N,N’-二乙基乙二胺、N-異丙基乙二胺、N-甲基乙二胺、N,N’-二甲基乙二胺、1-二甲基胺基-2-丙基胺、3-(二丁基胺基)丙基胺、3-(二乙基胺基)丙基胺、3-(二甲基胺基)-1-丙基胺、3-(甲基胺基)丙基胺、N-甲基-1,3-二胺基丙烷、N,N-二乙基-1,3-丙烷二胺及其組合。
  39. 如申請專利範圍第25至33項中任一項之方法，其中該含氮有機化合物係包含氮之芳族雜環，且該包含氮之芳族雜環具有下示結構(IV)： 其中，R1 、R2 、R3 、R4 與R5 係選自由碳與氮所組成之群組的原子，其中R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團當中有一至四者係氮，且R1 、R2 、R3 、R4 與R5 基團當中有一至四者係碳；以及(i)R11 、R22 、R33 、R44 與R55 係各自獨立地選自由氫、碳、硫、氧與氮所組成之群組；或(ii)R11 、R22 、R33 、R44 與R55 當中連續的一對一起和與它們鍵結之碳或 氮原子形成經取代或未經取代環烷基或經取代或未經取代芳基，而與R1 、R2 、R3 、R4 與R5 中相對應的連續一對形成稠合至唑環的環。
  40. 如申請專利範圍第39項之方法，其中R11 、R22 、R33 、R44 與R55 當中任一或更多者為碳，且該碳係具有1至24個碳原子之脂族基的一部分，或是具有五至十四個碳原子之芳基的一部分。
  41. 如申請專利範圍第39項之方法，其中任兩個連續之R11 、R22 、R33 、R44 及R55 係與和它們鍵結之碳或氮原子一起形成六員芳族環。
  42. 如申請專利範圍第39項之方法，其中該包含氮之芳族雜環係選自由吡咯(1H-唑)；咪唑(1,3-二唑)；吡唑(1,2-二唑)；1,2,3-三唑；1,2,4-三唑；四唑；異吲哚；苯并咪唑(1,3-苯并二唑)；吲唑(1,2-苯并二唑)；1H-苯并三唑；2H-苯并三唑；咪唑[4,5-b]吡啶；吲哚(1H-苯并[b]吡咯)；嘌呤(7H-咪唑(4,5-d)嘧啶)；吡唑并[3,4-d]嘧啶；三唑并[4,5-d]嘧啶；與其組合所組成之群組。
  43. 如申請專利範圍第39項之方法，其中該包含氮之芳族雜環係選自由咪唑(1,3-二唑)、苯并咪唑(1,3-苯并二唑)、1H-苯并三唑與2H-苯并三唑所組成之群組。
  44. 如申請專利範圍第25至33項中任一項之方法，其中該磷氧化物化合物之濃度為介於0.1重量%與5重量%之間，且該含氮有機化合物之濃度為介於0.1重量%與1.0 重量%之間。
  45. 如申請專利範圍第25至33項中任一項之方法，其中該醇之沸點為至少150℃。
  46. 如申請專利範圍第25至33項中任一項之方法，其中該醇係選自由1-丁醇、1-戊醇、2-戊醇、1-己醇、其他己醇類、庚醇類、1-辛醇、2-辛醇與其他辛醇類、1-癸醇與其他癸醇類、酚、苄醇、糠醇、四氫糠醇、2-甲氧基乙醇、乙二醇、甘油、二甘醇、三甘醇、二甘醇一甲醚、2-(環己氧基)乙醇、1-(2-呋喃基)乙醇、2-乙氧基乙醇與其組合所組成之群組。
  47. 如申請專利範圍第25至33項中任一項之方法，其中該醇係2-乙氧基乙醇。
  48. 如申請專利範圍第26至33項中任一項之方法，其中該磷氧化物化合物和該含氮化合物係溶解於沸點至少110℃且實質上由沸點至少110℃之醇所組成之溶劑中。
  49. 如申請專利範圍第26項之方法，其中R2 與R3 中至少一者為氫或平衡陽離子。
  50. 如申請專利範圍第25項之方法，其中該磷氧化物化合物包含亞甲基二膦酸、其酯或其鹽。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10017863B2 (en) 2007-06-21 2018-07-10 Joseph A. Abys Corrosion protection of bronzes
TWI453301B (zh) * 2007-11-08 2014-09-21 Enthone 浸鍍銀塗層上的自組分子
US7972655B2 (en) 2007-11-21 2011-07-05 Enthone Inc. Anti-tarnish coatings
CN102268715A (zh) * 2011-08-03 2011-12-07 上海电力学院 一种黄铜表面具有缓蚀性能的自组装膜及其制备方法
FR2990433A1 (fr) * 2012-05-10 2013-11-15 Surfactis Technologies Compositions catanioniques de recouvrement de surface par des molecules phosphoniques et amines
CN103276381A (zh) * 2013-06-03 2013-09-04 海宁市科泰克金属表面技术有限公司 一种改进的护铜剂
CN105780011B (zh) * 2016-03-08 2018-11-13 克拉玛依中科恒信科技有限责任公司 一种含咪唑并[1,2-a]吡啶类化合物的缓蚀剂及其制备方法
US20200140747A1 (en) * 2016-12-13 2020-05-07 Halliburton Energy Services, Inc. Compositions and Methods for Corrosion Inhibition
US10944178B1 (en) * 2017-03-17 2021-03-09 Government Of The United States, As Represented By The Secretary Of The Air Force Physically reconfigurable structurally embedded vascular antenna
CN107011955A (zh) * 2017-04-28 2017-08-04 马健 醇基燃料金属钝化剂
US11814734B2 (en) 2019-05-13 2023-11-14 Ecolab Usa Inc. 1,2,4-triazolo[1,5-a] pyrimidine derivative as copper corrosion inhibitor
JPWO2023286555A1 (zh) * 2021-07-15 2023-01-19
TW202402773A (zh) * 2022-03-24 2024-01-16 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 銅表面保護用組成物、以及使用其之半導體中間體及半導體之製造方法
CN114959715B (zh) * 2022-05-17 2024-02-06 中北大学 硫醚类铜基自组装膜的制备及缓蚀应用

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2080299A (en) * 1935-04-12 1937-05-11 Du Pont Inhibiting corrosion of metals
US4052160A (en) * 1975-07-23 1977-10-04 Ciba-Geigy Corporation Corrosion inhibitors
US20030125502A1 (en) * 2001-11-30 2003-07-03 Roland Feola Aqueous curing agents for aqueous epoxy resin dispersions
WO2005103334A1 (en) * 2004-03-23 2005-11-03 Johnsondiversey, Inc. Cleaning and corrosion inhibition system and composition for surfaces of aluminum or colored metals and alloys thereof under alkaline conditions
US20070001150A1 (en) * 2005-06-29 2007-01-04 Hudgens Roy D Corrosion-inhibiting composition and method of use

Family Cites Families (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL126701C (zh) 1961-01-12
NL274316A (zh) 1961-02-08
NL282487A (zh) 1961-08-31
US3365312A (en) 1965-03-08 1968-01-23 Hollingshead Corp Metal cleaner, article and method
US3398003A (en) 1965-04-26 1968-08-20 Verle C. Smith Silver polish-tarnish retarder containing a dialkyl disulfide having from 8 to 20 carbon atoms in each alkyl radical
US3397150A (en) 1966-03-15 1968-08-13 Du Pont Composition and method for treating surfaces
GB1209778A (en) 1967-11-20 1970-10-21 American Home Prod Silver polish with anti-tarnish agent
US3630790A (en) * 1969-05-13 1971-12-28 Dow Chemical Co Method of protection of metal surfaces from corrosion
NL7200508A (zh) 1971-01-18 1972-07-20
DE2146262C3 (de) 1971-09-16 1981-05-21 Deutsche Gesellschaft für Wiederaufarbeitung von Kernbrennstoffen mbH, 3000 Hannover Vorrichtung zur Reduktion von Salzlösungen von Verbindungen kernphysikalisch spaltbarer Elemente
US4088751A (en) * 1972-04-07 1978-05-09 Colgate-Palmolive Company Self-heating cosmetic
US3837803A (en) * 1972-07-11 1974-09-24 Betz Laboratories Orthophosphate corrosion inhibitors and their use
GB1396795A (en) 1972-07-14 1975-06-04 Ici Ltd Coated metal
US4006026A (en) 1973-02-21 1977-02-01 Schering Aktiengesellschaft Method of improving the tarnish resistance of silver
GB1418966A (en) 1973-10-06 1975-12-24 Ciba Geigy Ag Treatment of steel with organic phosphonic or phosphonous acids
US4252662A (en) 1974-02-11 1981-02-24 Stauffer Chemical Company Functional fluids containing ammonium salts of phosphorus acids
AT344122B (de) 1974-10-03 1978-07-10 Henkel Kgaa Verfahren und vorrichtung zum maschinellen waschen und reinigen von festen werkstoffen, insbesondere von textilien und geschirr, mittels phosphatarmer oder phosphatfreier wasch- und reinigungsloesungen
US4209487A (en) 1975-06-02 1980-06-24 Monsanto Company Method for corrosion inhibition
US4165334A (en) 1975-09-05 1979-08-21 The Procter & Gamble Company Detergent compounds and compositions
US3986967A (en) 1975-10-17 1976-10-19 Mobil Oil Corporation Organophosphorus derivatives of benzotriazole and their use as load carrying additives
US4178253A (en) 1977-04-05 1979-12-11 Ciba-Geigy Corporation Corrosion inhibited lubricant compositions
US4329381A (en) 1978-02-23 1982-05-11 Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien (Henkel Kgaa) Method for providing corrosion resistance to metal objects
US4181619A (en) 1978-10-30 1980-01-01 Mobil Oil Corporation Antiwear composition
JPS5597476A (en) 1979-01-19 1980-07-24 Nippon Paint Co Ltd Metal surface treating liquid
US4350600A (en) 1979-05-29 1982-09-21 Standard Oil Company (Indiana) Method and composition for inhibiting corrosion in high temperature, high pressure gas wells
US4303568A (en) 1979-12-10 1981-12-01 Betz Laboratories, Inc. Corrosion inhibition treatments and method
US4357396A (en) 1981-01-26 1982-11-02 Ppg Industries, Inc. Silver and copper coated articles protected by treatment with mercapto and/or amino substituted thiadiazoles or mercapto substituted triazoles
JPS57198269A (en) 1981-05-28 1982-12-04 Furukawa Electric Co Ltd:The Anticorrosive treatment of silver plated stainless steel
US4395294A (en) 1981-08-17 1983-07-26 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Copper corrosion inhibitor
DE3148330A1 (de) 1981-12-07 1983-06-09 Max Planck Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V., 3400 Göttingen Verfahren zur stromlosen abscheidung von edelmetallschichten auf oberflaechen von unedlen metallen
GB8711534D0 (en) 1987-05-15 1987-06-17 Ciba Geigy Ag Corrosion inhibiting composition
US4744950A (en) 1984-06-26 1988-05-17 Betz Laboratories, Inc. Method of inhibiting the corrosion of copper in aqueous mediums
DE3519522A1 (de) * 1985-05-31 1986-12-04 Henkel KGaA, 4000 Düsseldorf Verwendung von 3-amino-5((omega)-hydroxyalkyl)-1,2,4-triazolen als korrosionsinhibitoren fuer buntmetalle in waessrigen systemen
US4649025A (en) 1985-09-16 1987-03-10 W. R. Grace & Co. Anti-corrosion composition
US5226956A (en) 1987-03-24 1993-07-13 Alcan International, Inc. Surface coating compositions
GB8707799D0 (en) 1987-04-01 1987-05-07 Ici Plc Metal treatment
DE3725629A1 (de) 1987-08-03 1989-02-16 Varta Batterie Galvanisches element
US4873139A (en) 1988-03-29 1989-10-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Corrosion resistant silver and copper surfaces
JP2909743B2 (ja) 1989-03-08 1999-06-23 富山日本電気株式会社 銅または銅合金の化学研磨方法
US5103550A (en) 1989-12-26 1992-04-14 Aluminum Company Of America Method of making a food or beverage container
US5141675A (en) 1990-10-15 1992-08-25 Calgon Corporation Novel polyphosphate/azole compositions and the use thereof as copper and copper alloy corrosion inhibitors
US5302304A (en) 1990-12-21 1994-04-12 Ethyl Corporation Silver protective lubricant composition
EP0492487B1 (de) 1990-12-22 1996-03-20 DODUCO GMBH + Co Dr. Eugen DÀ¼rrwächter Mittel zum zeitweiligen Schutz von blanken Silber- und Kupferoberflächen gegen Anlaufen und Verfahren zu seiner Anwendung
US5178916A (en) 1991-06-21 1993-01-12 At&T Bell Laboratories Process for making corrosion-resistant articles
US5300247A (en) 1992-09-02 1994-04-05 Ashchem Ip Improved corrosion inhibitor system for an intermediate heat transfer medium
US5368758A (en) 1992-10-13 1994-11-29 The Lubrizol Corporation Lubricants, greases and aqueous fluids containing additives derived from dimercaptothiadiazoles
EP0618307B1 (en) 1993-03-26 1997-11-12 C. Uyemura & Co, Ltd Electroless gold plating bath
DE69400509T2 (de) 1993-06-23 1997-04-10 Sumitomo Metal Ind Metallblech mit einem galvanisch erzeugten Zink oder Zinklegierungsdispersionsüberzug und Verfahren zur Herstellung desselben
US6183815B1 (en) 1994-04-01 2001-02-06 University Of Pittsburgh Method and composition for surface treatment of metals
BR9507630A (pt) 1994-05-13 1997-09-23 Henkel Corp Composição liquida aquosa adequada para revestir protetoramente um substrato metálico processo de trabalho a frio de um objeto metálico e composição inibidora concentrada
US5487792A (en) 1994-06-13 1996-01-30 Midwest Research Institute Molecular assemblies as protective barriers and adhesion promotion interlayer
US5463804A (en) 1994-08-31 1995-11-07 Aluminum Company Of America Coating aluminum alloy sheet to promote adhesive bonding for vehicle assemblies
ATE233805T1 (de) 1994-09-23 2003-03-15 Church & Dwight Co Inc Wässeriges metallreinigungsmittel
GB9425031D0 (en) 1994-12-09 1995-02-08 Alpha Metals Ltd Printed circuit board manufacture
GB9425090D0 (en) 1994-12-12 1995-02-08 Alpha Metals Ltd Copper coating
US5555756A (en) 1995-01-24 1996-09-17 Inland Steel Company Method of lubricating steel strip for cold rolling, particularly temper rolling
US5598193A (en) 1995-03-24 1997-01-28 Hewlett-Packard Company Treatment of an orifice plate with self-assembled monolayers
WO1997018905A1 (en) 1995-11-20 1997-05-29 Berg Technology, Inc. Method of providing corrosion protection
US6139610A (en) 1996-01-05 2000-10-31 Wayne Pigment Corp. Hybrid pigment grade corrosion inhibitor compositions and procedures
DK12497A (da) 1996-02-12 1997-08-13 Ciba Geigy Ag Korrisionsinhiberende overtrækssammensætninger til metaller
JP3547028B2 (ja) 1996-02-26 2004-07-28 四国化成工業株式会社 銅及び銅合金の表面処理剤
US6905587B2 (en) 1996-03-22 2005-06-14 Ronald Redline Method for enhancing the solderability of a surface
US6068879A (en) 1997-08-26 2000-05-30 Lsi Logic Corporation Use of corrosion inhibiting compounds to inhibit corrosion of metal plugs in chemical-mechanical polishing
GB9725898D0 (en) 1997-12-08 1998-02-04 Albright & Wilson Process for treating metal surfaces
US6117795A (en) 1998-02-12 2000-09-12 Lsi Logic Corporation Use of corrosion inhibiting compounds in post-etch cleaning processes of an integrated circuit
CA2336186A1 (en) 1998-06-19 1999-12-23 Raymond J. Colbert Method for inhibiting stains on aluminum product surfaces
JP3297861B2 (ja) 1998-06-29 2002-07-02 日本航空電子工業株式会社 めっき材
US6488868B1 (en) 1999-03-15 2002-12-03 Ondeo Nalco Energy Services, L.P. Corrosion inhibitor compositions including quaternized compounds having a substituted diethylamino moiety
US7351353B1 (en) 2000-01-07 2008-04-01 Electrochemicals, Inc. Method for roughening copper surfaces for bonding to substrates
US6586167B2 (en) 2000-07-21 2003-07-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for thermally forming image for plate making and thermally processed image recording material for plate making
US6375822B1 (en) 2000-10-03 2002-04-23 Lev Taytsas Method for enhancing the solderability of a surface
DE10050862C2 (de) 2000-10-06 2002-08-01 Atotech Deutschland Gmbh Bad und Verfahren zum stromlosen Abscheiden von Silber auf Metalloberflächen
US6461682B1 (en) 2001-03-08 2002-10-08 David Crotty Composition and method for inhibiting corrosion of aluminum and aluminum alloys using mercapto substituted silanes
US6731965B2 (en) 2001-06-20 2004-05-04 3M Innovative Properties Company Corrosion prevention in biomedical electrodes
CA2398423C (en) 2001-09-04 2009-11-10 Rohm And Haas Company Corrosion inhibiting compositions
ATE323751T1 (de) 2001-09-25 2006-05-15 Fuji Photo Film Co Ltd Verbindung enthaltend einen heterozyklischen ring sowie eine schmiermittelmischung enthaltend diese
US6930136B2 (en) 2001-09-28 2005-08-16 National Starch And Chemical Investment Holding Corporation Adhesion promoters containing benzotriazoles
JP3971593B2 (ja) 2001-10-10 2007-09-05 株式会社カネカ 硬化性組成物
US6863718B2 (en) 2001-10-31 2005-03-08 Silberline Manufacturing Co., Inc. Phosphonic acid derivative treatment of metallic flakes
FR2837209B1 (fr) 2002-03-13 2004-06-18 Rhodia Chimie Sa Utilisation de copolymers a blocs portant des fonctions phosphates et/ou phosphonates comme promoteurs d'adhesion ou comme agents de protection contre la corrosion d'une surface metallique
WO2003090319A1 (en) 2002-04-22 2003-10-30 Yazaki Corporation Electrical connectors incorporating low friction coatings and methods for making them
US6933046B1 (en) 2002-06-12 2005-08-23 Tda Research, Inc. Releasable corrosion inhibitor compositions
JP4115762B2 (ja) 2002-07-09 2008-07-09 ハリマ化成株式会社 はんだ付け用フラックス及び電子回路
US6773757B1 (en) 2003-04-14 2004-08-10 Ronald Redline Coating for silver plated circuits
US20050183793A1 (en) * 2004-02-25 2005-08-25 Hyung-Joon Kim Method of improving the performance of organic coatings for corrosion resistance
US7524535B2 (en) 2004-02-25 2009-04-28 Posco Method of protecting metals from corrosion using thiol compounds
US20050217757A1 (en) 2004-03-30 2005-10-06 Yoshihiro Miyano Preflux, flux, solder paste and method of manufacturing lead-free soldered body
US20050239295A1 (en) 2004-04-27 2005-10-27 Wang Pei-L Chemical treatment of material surfaces
US8349393B2 (en) 2004-07-29 2013-01-08 Enthone Inc. Silver plating in electronics manufacture
EP1910587B1 (en) 2005-06-24 2019-08-07 Prestone Products Corporation Method for inhibiting corrosion in brazed metal surfaces and coolants and additives for use therein
WO2007050502A2 (en) 2005-10-24 2007-05-03 Aculon, Inc. Process for applying organophosphorus-based layers on substrates
US20090301996A1 (en) 2005-11-08 2009-12-10 Advanced Technology Materials, Inc. Formulations for removing cooper-containing post-etch residue from microelectronic devices
US20070256590A1 (en) * 2006-05-02 2007-11-08 Scott Matthew S Coating compositions exhibiting corrosion resistance properties, related coated articles and methods
US7883738B2 (en) * 2007-04-18 2011-02-08 Enthone Inc. Metallic surface enhancement
US10017863B2 (en) 2007-06-21 2018-07-10 Joseph A. Abys Corrosion protection of bronzes
TWI453301B (zh) * 2007-11-08 2014-09-21 Enthone 浸鍍銀塗層上的自組分子

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2080299A (en) * 1935-04-12 1937-05-11 Du Pont Inhibiting corrosion of metals
US4052160A (en) * 1975-07-23 1977-10-04 Ciba-Geigy Corporation Corrosion inhibitors
US20030125502A1 (en) * 2001-11-30 2003-07-03 Roland Feola Aqueous curing agents for aqueous epoxy resin dispersions
WO2005103334A1 (en) * 2004-03-23 2005-11-03 Johnsondiversey, Inc. Cleaning and corrosion inhibition system and composition for surfaces of aluminum or colored metals and alloys thereof under alkaline conditions
US20070001150A1 (en) * 2005-06-29 2007-01-04 Hudgens Roy D Corrosion-inhibiting composition and method of use

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