JP2010530478A - 青銅の腐食保護 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1B
Description
この発明は銅および銅合金の摩滅抵抗、腐食抵抗そして接触抵抗を改善する方法および組成物、並びに特に青銅の摩滅抵抗、腐食抵抗そして接触抵抗の改善に関する。
(発明の背景)
本発明は銅あるいは銅合金表面被覆に保護有機膜を適用するための表面処理方法および処理組成物を目指している。1つの実施態様において、銅合金表面被覆は青銅表面被覆である。表面処理は青銅表面被覆の腐食抵抗、接触抵抗そして摩滅抵抗を強化する効果が見られた。
酸化リンは水酸化ニッケルと同様に反応する。上記の反応に示される一般式を有する各酸化リンは基礎金属層の表面上の1つ、2つあるいは3つの酸素原子と反応することができる。反応は酸化リン化合物を上部被覆表面上の酸化物と化学的に結合させ、一方また孔を埋めてそして曝露された基板の他の表面上に保護有機被覆を形成させる。この観点で、酸化リンは錫、ニッケル、亜鉛、クロム、鉄そしてチタン、他の金属と反応することが注目される。
ここで、R1は、例えば2個の炭素原子と24個の炭素原子の間のような、1個の炭素原子と24個の炭素原子の間の炭素原子を有するヒドロカルビルであり;そしてR2およびR3はそれぞれ独立してあるいは共に水素、電荷平衡陽イオンあるいは1個の炭素原子と4個の炭素原子の間の間の炭素原子を有するヒドロカルビルである。R1ヒドロカルビルは分鎖あるいは直鎖、置換あるいは非置換である。R1ヒドロカルビルはアルキルアリールあるいはアリールアルキルのようなアルキル、アルケニル、アルキニル、アリールあるいはこれらの組み合わせである。例えば、R1ヒドロカルビルは1個から18個の炭素原子を有するアルキル基のようなヒドロカルビル基に結合されるリン原子に結合されるフェニール基を含む。他の実施例で、R1ヒドロカルビルはリン原子に結合される1個から18個の炭素原子を有するアルキル鎖を含みさらにフェニール基を含む。望ましくは、R1ヒドロカルビルは約2個の炭素原子と約24個の炭素原子の間、望ましくは、約2個の炭素原子と22個の炭素原子の間、より望ましくは約4個の炭素原子と22個の炭素原子の間、さらにより望ましくは約6個の炭素原子と約18個の炭素原子の間、またより望ましくは約8個の炭素原子と約18個の炭素原子の間を含むアルキル鎖を含む。
ここでR1は、例えば2個の炭素原子と24個の炭素原子の間のような1個の炭素原子と24個の炭素原子の間を有するヒドロカルビルであり;そしてR2および3はそれぞれ独立してまたは共に水素、電荷平衡陽イオンあるいは1個の炭素原子と4個の炭素原子の間を有するヒドロカルビルである。R1ヒドロカルビルは、分鎖あるいは直鎖、置換または非置換である。R1ヒドロカルビルはアルキルアリールあるいはアリールアルキルのようなアルキル、アルケニル、アリールあるいはこれらの組み合わせを含む。例えば、R1ヒドロカルビルは、1個から18個の炭素原子を有するアルキル鎖のようなヒドロカルビル鎖に結合される酸素原子に結合するフェニル基を含む。他の実施例において、R1ヒドロカルビルは、酸素原子に結合する1個から18個の炭素原子を有するアルキル鎖を含みそしてさらにフェニル基を含む。望ましくは、R1ヒドロカルビルは、約2個の炭素原子と約24個の炭素原子の間、望ましくは、約2個の炭素原子と22個の炭素原子の間、より望ましくは、約4個の炭素原子と22個の炭素原子の間、さらにより望ましくは、約6個の炭素原子と約18個の炭素原子の間、またより望ましくは、約8個と約18個の炭素原子の間を含むアルキル鎖を含む。
式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立して、水素あるいは1個の炭素原子と約24個の炭素原子の間を有するヒドロカルビルであり、R1、R2およびR3のうちの少なくとも1つは、1個の炭素原子と約24個の炭素原子の間を有するヒドロカルビルである。ヒドロカルビルは、望ましくは、約6個の炭素原子と約18個の炭素原子の間を含む。ヒドロカルビルは置換あるいは非置換である。典型的な置換基は、典型的には1から4個の炭素原子を有する短炭素鎖分枝アルキル基、すなわち、メチル、エチル、プロピルおよびブチル置換基、およびフェニル、ナフテニル、窒素、酸素および硫黄を含む芳香族複素環のような芳香族基を含む。他の置換基は、アミン、チオール、カルボキシレート、リン酸、ホスホン酸、硫酸、スルホン酸、ハロゲン、アルコキシ、アリールオキシ、保護ヒドロキシ、ケト、アシル、アシルオキシ、ニトロ、シアノ、エステルおよびエーテルを含む。
ここで、R1、R2、R3、R4およびR5のそれぞれは、炭素および窒素からなる群から選択される原子であり、R1、R2、R3、R4およびR5基のうちの1つから4つは窒素であり、R1、R2、R3、R4およびR5基のうちの1つから4つは炭素であり、R11、R22、R33、R44およびR55は、それぞれ独立して、水素、炭素、硫黄、酸素および窒素からなる群から選択される。
表1 アゾール
窒素を含有する有機化合物は窒素を含む芳香族複素環であり、特にベンゾトリアゾールは約0.1質量%(約1g/L)と約1.0質量%(約10g/L)の間、例えば濃度で約0.3質量%(約3g/L)の濃度で添加される。
本発明の表面処理組成物は次の組成を有して準備された。
N−オクタデシルホスホン酸(10g)
ベンゾトリアゾール(3.0g)
2−エトキシエタノール(1000mL)
鋼鉄試験片は45質量%錫と55質量%銅を含む錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆され、そして次の手順に従って実施例1の表面処理組成物で追加的に処理された。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.循環水で洗滌。
9.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供される説明書に従って活性化。
10.循環水で洗滌。
11.実施例1の表面処理組成物を使用して青銅表面被覆を40℃、3分間撹拌を伴って浸漬することにより保護有機被膜を適用。
12.送風乾燥機で表面を熱乾燥。
鋼鉄試験片は45質量%錫および55質量%銅を有する錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆され、そして次の手順に従って実施例1の表面処理組成物で追加的に処理された。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2 の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.循環水で洗滌。
9.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って活性化。
10.循環水で洗滌。
11.実施例1の表面処理組成物を使用して青銅表面被覆を40℃、3分間撹拌を伴って浸漬することにより保護有機被膜を適用。
12.蒸留水で40℃、30秒間、洗滌。
13.送風乾燥機で表面を熱乾燥。
鋼鉄試験片は45質量%錫および55質量%銅を有する錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆され、そして次の手順に従って実施例1の表面処理組成物で追加的に処理された。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.循環水で洗滌。
9.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って活性化。
10.循環水で洗滌。
11.実施例1の表面処理組成物を使用して青銅表面被覆を40℃、3分間撹拌を伴って浸漬することにより保護有機被膜を適用。
12.蒸留水で40℃、30秒間洗滌。
13.炉で80℃、25分間、熱乾燥。
鋼鉄試験片は45質量%錫および55質量%銅を有する錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆され、そして次の手順に従って実施例1の表面処理組成物で追加的に処理された。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.循環水で洗滌。
9.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って活性化。
10.循環水で洗滌。
11.実施例2の表面処理組成物を使用して青銅表面被覆を40℃、3分間撹拌を伴って浸漬することにより保護有機被膜を適用。
12.送風乾燥機で表面を熱乾燥。
鋼鉄試験片は45質量%錫および55質量%銅を有する錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆され、そして次の手順に従って実施例1の表面処理組成物で追加的に処理された。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.循環水で洗滌。
9.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って活性化。
10.循環水で洗滌。
11.実施例2の表面処理組成物を使用して青銅表面被覆を40℃、3分間撹拌を伴って浸漬することにより保護有機被膜を適用。
蒸留水で40℃、30秒間、洗滌。
13.送風乾燥機で表面を熱乾燥。
鋼鉄試験片は45質量%錫および55質量%銅を有する錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆され、そして次の手順に従って実施例1の表面処理組成物で追加的に処理された。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.循環水で洗滌。
9.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って活性化。
10.循環水で洗滌。
11.実施例2の表面処理組成物を使用して青銅表面被覆を40℃、3分間撹拌を伴って浸漬することにより保護有機被膜を適用。
蒸留水で40℃、30秒間、洗滌。
13.炉で80℃、25分間、熱乾燥。
鋼鉄試験片は45質量%錫および55質量%銅を有する錫−銅合金でBronzex(商標)WMR(Enthone Inc.,West Haven,Conn.)を使用して被覆された。青銅表面被覆は表面処理組成物で処理されなかった。青銅表面被覆は次のようになされた。
1.55℃、5分間、熱脱グリース(5%溶液、ENPREP(商標)FECU)
2.蒸留水で洗滌。
3.55℃、5A/dm2の電流密度で3分間、陰極脱グリース(8%溶液、ENPREP(商標)FECU)。
4.蒸留水で洗滌。
5.ACTANE(商標)SEを使用してENTHONE Inc.によって提供された説明書に従って室温で活性化。
6.蒸留水で洗滌。
7.Bronzex(商標)WMRを使用して25℃、1A/dm2の電流密度で9分間青銅表面被覆を堆積しそして2.5m/minの棚振盪。青銅表面被覆は55質量%銅および45質量%錫を含む。
8.送風乾燥機で表面を熱乾燥。
実施例2−7の試験片を被覆されそして処理された青銅表面および比較実施例8の試験片を被覆されそして処理された青銅表面が湿度試験をされた。湿度試験は青銅表面被覆の試験片を85℃で湿度85%からなる大気に48時間曝露することを含んだ。試験片はもし変色および腐食が48時間曝露の後に現れないならばこの試験に合格したと考えられる。
5試験片の7組が実施例2−7および比較実施例8に記載された手順に従って青銅表面が被覆されそして処理された。7組の各々から1つの試験片(これは参照試験片)は湿度試験をされずに、7組の各々から4つの試験片は85℃で湿度85%からなる大気に48時間曝露された。48時間曝露後、試験片は脱色および腐食斑点に対して目視検査された。図1Aから1Fは参照試験片および実施例2−7に記載された方法に従って処理され湿度試験されたそれぞれの試験片の写真である。図1Gは参照試験片および比較実施例8に記載された方法に従って青銅で単に被覆され湿度試験された試験片の写真である。
実施例2−6の試験片を被覆されそして処理された青銅表面の全てと実施例7の試験片の2つは試験に合格したことは明らかである。これはそこには明らかな腐食あるいは変色はなかった。比較実施例8の試験片を被覆された青銅表面の4つの全ては試験片がひどい腐食を示したので不合格であった。
実施例2−7の試験片を被覆されそして処理された青銅表面および比較実施例8の試験片を被覆されそして非処理の青銅表面が人工水蒸気試験をされた。人工水滴試験は次の組成からなる溶液に試験片を浸漬することを含む。
塩化ナトリウム(20g/L)
塩化アンモニウム(17.5g/L)
尿素(5g/L)
酢酸(2.5g/L)
乳酸(15g/L)
溶液のpHは約4.7そして溶液の温度は約40℃である。
試験片はもし変色あるいは腐食が24時間浸漬の後に現れないならば試験に合格したと考えられる。6つの試験片は実施例2−7に記載された手順に従って被覆されそして処理された青銅表面であった。3つの試験片は比較実施例8に記載された手順に従って被覆された青銅であった。9つの全てが24時間人工水蒸気に浸漬された。24時間後、実施例2−7に記載された方法に従って青銅で被覆されそして処理された6つの試験片は明らかな変色あるいは腐食斑点を示さなかった。これらの試験片の写真である図2Aおよび2Bを参照。1と表示した試験片は実施例2に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅であった。2と表示した試験片は実施例3に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅であった。3と表示した試験片は実施例4に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅であった。4と表示した試験片は実施例5に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅であった。5と表示した試験片は実施例6に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅であった。6と表示した試験片は実施例7に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅であった。比較実施例8の全ての3つの非処理部分は本質的な変色を示した。これらの試験片の写真である図2Cを参照。
試験は実施例2−7に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅である1から6と表示された試験片でそれぞれ繰り返された。時間は48時間に延ばされた。再び、実施例2−7の処理された試験片は人工水蒸気に浸漬の48時間後にさえ明らかな変色あるいは腐食を示さなかった。
実施例2−7の試験片を被覆されそして処理された青銅表面および比較実施例8の試験片を被覆されそして非処理された青銅表面はDIN−EN−ISO9227に従って中性塩噴射試験を行われた。
中性塩噴射試験は塩化ナトリウム(50±5g/L)からなる溶液で約35℃の温度で青銅表面被覆試験片を含む。pHはほぼ中性でそして約6.5から約7.2で変化した。被覆された部分は変色および腐食斑点が目視で現れるまで噴射された。例えば、比較実施例8の非処理部分は中性塩噴射の24時間のような少なさで変色を示した。図4Aを参照。対照的に実施例2−7の処理部分は中性塩噴射の48時間後明らかな変色あるいは腐食斑点を示さなかった。実施例2−7に記載された方法に従って被覆されそして処理された青銅試料片に相当する1−6と表示された各々の試験片の写真である図4Bおよび4Cを参照。噴射72時間後、3と表示された試験片(実施例4の方法に相当)は目視できる斑点を示した。図4Dを参照。1、2、4、5および6と表示された試験片(実施例2、3および5−7の方法に各々に相当)は196時間噴射の後にのみ目視できる斑点を示した。実施例2−7に記載された方法に従って被覆されそして処理された試験片が合計320時間噴射された。全ての処理部分が320時間の噴射後目視できる腐食斑点を示したにかかわらず、処理試験片の何れも単に24時間噴射後実施例8の非処理試験片上に現れ始める広範囲の変色を示さなかった図4Fおよび4Gを参照。
Claims (24)
- 金属基板の表面上に銅あるいは銅合金層からなる前記金属基板の腐食抵抗、摩滅抵抗そして接触抵抗を強化する組成物であって、前記組成物は次を含む:
ホスホン酸、ホスホン酸塩、ホスホン酸エステル、リン酸、リン酸塩、リン酸エステルおよびこれらの組合せからなる群から選ばれる酸化リン化合物;
第一級アミン、第二級アミン、第三級アミンそして窒素を含有する複素環芳香族およびこれらの組合せを含む群から選ばれる窒素含有有機化合物;および
少なくとも約90℃の沸点を有するアルコール。 - 酸化リン化合物がメチルホスホン酸、ジメチルホスホン酸、エチルホスホン酸、n−プロピルホスホン酸、イソプロピルホスホン酸、n−ブチルホスホン酸、イソブチルホスホン酸、tert−ブチルホスホン酸、ペンチルホスホン酸、ヘキシルホスホン酸、ヘプチルホスホン酸、n−オクチルホスホン酸、n−デシルホスホン酸、n−ドデシルホスホン酸、(12−ホスホノドデシル)ホスホン酸、n−テトラデシルホスホン酸、n−ヘキサデシルホスホン酸、n−オクタデシルホスホン酸、ジイソオクチルホスホン酸、これらの塩およびこれらのエステルそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項2の組成物。
- 酸化リン化合物がメチレンジホスホン酸、ビニルホスホン酸、アリルホスホン酸、フェニルホスホン酸、ジフェニルホスホン酸(2−イソプロピルフェニル)ホスホン酸、ベンジルホスホン酸、(オルト−トリル)ホスホン酸、(メタ−トリル)ホスホン酸、(パラ−トリル)ホスホン酸、(4−エチルフェニル)ホスホン酸、(2,3−キシリル)ホスホン酸、(2,4−キシリル)ホスホン酸、(2,5−キシリル)ホスホン酸、(3,4−キシリル)ホスホン酸、(3,5−キシリル)ホスホン酸、これらの塩およびこれらのエステルそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項2の組成物。
- 酸化リン化合物がホスホノ酢酸、3−ホスホノプロピオン酸、6−ホスホノヘキサン酸、11−ホスホノウンデカン酸、16−ホスホノヘキサデカン酸、これらの塩およびこれらのエステルそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項2の組成物。
- 酸化リン化合物がエチルリン酸、n−プロピルリン酸、イソプロピルリン酸、n−ブチルリン酸、tert−ブチルリン酸、ペンチルリン酸、ヘキシルリン酸、ヘプチルリン酸、n−オクチルリン酸、n−デシルリン酸、n−ウンデシルリン酸、n−ドデシルリン酸、n−トリデシルリン酸、n−テトラデシルリン酸、n−ヘキサデシルリン酸、n−オクタデシルリン酸、それらの塩およびこれらのエステルそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項6の組成物。
- 酸化リン化合物がアリルリン酸塩、ジエチルリン酸塩、ジイソプロピルリン酸塩、ジブチルリン酸塩、トリイソブチルリン酸塩、フェニルリン酸塩、ジフェニルリン酸塩、1−ナフチルリン酸塩、2−ナフチルリン酸塩、これらの塩およびそれらのエステルそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項6の組成物。
- 窒素含有有機化合物がアミノエタン、1−アミノプロパン、2−アミノプロパン、1−アミノブタン、2−アミノブタン、1−アミノ−2−メチルプロパン、2−アミノ−2−メチルプロパン、1−アミノペンタン、2−アミノペンタン、3−アミノペンタン、ネオ−ペンチルアミン、1−アミノヘキサン、1−アミノヘプタン、2−アミノヘプタン、1−アミノオクタン、2−アミノオクタン、1−アミノノナン、1−アミノデカン、1−アミノドデカン、1−アミノトリデカン、1−アミノテトラデカン、1−アミノペンタデカン、1−アミノヘキサデカン、1−アミノヘプタデカンおよび1−アミノオクタデカンそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる第1級アミンである請求項9の組成物。
- 窒素含有有機化合物がジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、ジウンデシルアミン、ジドデシルアミン、ジトリデシルアミン、ジテトラデシルアミン、ジヘキサデシルアミン、ジオクタデシルアミンそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる第2級アミンである請求項9の組成物。
- 窒素含有有機化合物がトリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、トリウンデシルアミン、トリドデシルアミン、トリトリデシルアミン、トリテトラデシルアミン、トリヘキサデシルアミン、トリオクタデシルアミンそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる第3級アミンである請求項9の組成物。
- 窒素含有有機化合物がエチレンジアミン、2−(ジイソプロピルアミノ)エチルアミン、N,N′−ジエチルエチレンジアミン、N−イソプロピルエチレンジアミン、N−メチルエチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、1−ジメチルアミノ−2−プロピルアミン、3−(ジブチルアミノ)プロピルアミン、3−(ジエチルアミノ)プロピルアミン、3−(ジメチルアミノ)−1−プロピルアミン、3−(メチルアミノ)プロピルアミン、N−メチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミンそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項9の組成物。
- R11、R22、R33、R44およびR55のうちの1つあるいはそれ以上のいずれも炭素であり、炭素は1個の炭素原子と24個の炭素原子の間の炭素原子を有する脂肪族基の一部か、あるいは5個の炭素原子と14個の炭素原子の間の炭素原子を有するアリール基の一部である請求項14の組成物。
- 何れかの2つの連続するR11、R22、R33、R44およびR55が6員芳香族環に結合する炭素あるいは窒素原子と共に形成する請求項14の組成物。
- 窒素を含有する芳香族複素環がピロール(1H−アゾール)、イミダゾール
(1,3−ジアゾール)、ピラゾール(1,2−ジアゾール)、1,2,3−トリアゾール、1,2,4−トリアゾール、テトラゾール、イソインドール、ベンズイミダゾール(1,3−ベンゾジアゾール)、インダゾール(1,2−ベンゾジアゾール)、1H−ベンゾトリアゾール、2H−ベンゾトリアゾール、イミダゾ[4,5−b]ピリジン、インドール(1H−ベンゾ[b]ピロール)、プリン(7H−イミダゾ(4,5−d)ピリミジン)、ピラゾロ[3,4−d]ピリミジン、トリアゾロ[4,5−d]ピリミジンそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項14の組成物。 - 窒素を含有する芳香族複素環がイミダゾール(1,3−ジアゾール)、ベンズイミダゾール(1,3−ベンゾジアゾール)、1H−ベンゾトリアゾールおよび2H−ベンゾトリアゾールからなる群から選ばれる請求項14の組成物。
- 酸化リン化合物の濃度が0.1質量%と5質量%の間でそして窒素を含有する有機化合物の濃度が0.1質量%と1.0質量%の間である請求項1から請求項18のいずれか1項の組成物。
- アルコールが約110℃の沸点を有する請求項1から請求項19のいずれか1項の組成物。
- アルコールが少なくとも約150℃の沸点を有する請求項1から請求項19のいずれか1項の組成物。
- アルコールがn−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、tert−ブタノール、イソ−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタノール、他のペンタノール、1−ヘキサノール、他のヘキサノール、ヘプタノール、1−オクタノール、2−オクタノールおよび他のオクタノール、1−デカノールおよび他のデカノール、フェノール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、2−メトキシエタノール、エチレングリコール、グリセロール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、2−(シクロヘキシロキシ)エタノール、1−(2−フリル)エタノールおよび2−エトキシエタノールそしてこれらの組み合わせを含む群から選ばれる請求項1から請求項19のいずれか1項の組成物。
- アルコールが2−エトキシエタノールである請求項1から請求項19のいずれか1項の組成物。
- 金属基板の表面上に銅あるいは銅合金層からなる前記金属基板の腐食抵抗、摩滅抵抗そして接触抵抗を強化するための方法であって、該方法は請求項1から請求項23のいずれか1項の組成物に前記基板を曝露することからなる方法。
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