TWI422659B - A polarizing plate, a method for manufacturing the same, an optical film, and an image display device - Google Patents

A polarizing plate, a method for manufacturing the same, an optical film, and an image display device Download PDF

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TWI422659B
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Description

偏光板用接著劑、偏光板、其製造方法、光學膜及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板用接著劑。又，本發明係關於一種使用該偏光板用接著劑之偏光板及其製造方法。該偏光板可單獨，或以積層有其之光學膜之形式形成液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)等圖像顯示裝置。
對於液晶顯示裝置而言，不可或缺的是根據其圖像形成方式於形成液晶面板表面之玻璃基板之兩側配置偏光元件。偏光元件通常係藉由如下方式獲得：利用碘等二色性材料將聚乙烯醇系膜染色後，使用交聯劑進行交聯，再進行單軸延伸，藉此製成膜。由於上述偏光元件係藉由延伸而製作，故而易收縮。又，由於聚乙烯醇系膜係使用親水性聚合物，故而尤其於加濕條件下極易發生變形。又，由於膜本身之機械強度較弱，故而存在膜破裂之問題。因此，目前使用對偏光元件之兩側或單側貼合三乙醯纖維素等之透明保護膜而加強強度之偏光板。上述偏光板係藉由利用接著劑將偏光元件與透明保護膜貼合而製造。
近年來，液晶顯示裝置之用途擴大，已擴展至行動終端至家庭用大型電視之廣泛領域，根據各用途已設計出各自之規格。尤其是於行動終端用途中，由於以用戶隨身攜帶為前提，故而對耐久性之要求極為嚴格。例如，對於偏光板，要求即使於發生結露之加濕條件下特性、形狀亦無變化之耐水性。
如上所述，偏光元件係以利用透明保護膜加強強度之偏光板之形式使用。作為用於接著上述偏光元件與透明保護膜的偏光板用接著劑，較佳為水系接著劑，例如使用向聚乙烯醇水溶液中混合有交聯劑之聚乙烯醇系接著劑。但是，聚乙烯醇系接著劑於加濕條件下，有時會於偏光元件與透明保護膜之界面發生剝離。認為其原因在於：作為上述接著劑之主成分的聚乙烯醇系樹脂為水溶性高分子，其於結露狀態下可能會溶解接著劑。針對上述問題，業界提出有一種含有具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂與交聯劑的偏光板用接著劑(專利文獻1)。又，提出有一種含有聚乙烯醇樹脂、結構中具有順丁烯二酸酐骨架之樹脂及交聯劑的偏光元件用水性接著劑(專利文獻2)。
於製作偏光板時，於經由上述聚乙烯醇系接著劑貼合偏光元件與透明保護膜時，存在產生裂點(裂點缺陷)之問題。裂點係產生於偏光元件與透明保護膜之界面的局部凹凸缺陷。針對上述裂點，業界提出有如下方法：使用於規定條件下利用砑光輥處理已調整含水量之聚乙烯醇系膜之表面而成者作為偏光元件，將其與透明保護膜進行積層之方法(專利文獻3)。又，裂點尤其易發生於使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂作為聚乙烯醇系接著劑之情形時。
為了抑制裂點之產生，業界提出有一種包含含有聚乙烯醇系樹脂、交聯劑、及平均粒徑為1~100 nm之金屬化合物膠體之樹脂溶液的偏光板用接著劑(專利文獻4)。通常，金屬化合物膠體之折射率高於聚乙烯醇系樹脂，因而使用上述偏光板用接著劑之接著劑層有折射率提高之傾向。因此，於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間變得易發生光之界面反射，有偏光板之透光率降低之虞。近年來，隨著液晶面板之高對比度化，業界更加要求提昇偏光板之光學特性。
專利文獻5中提出有一種使用矽酸鹽層積層偏光核心層與外層之積層柔軟性偏光元件，並且記載有該積層柔軟性偏光元件具有熱穩定性及柔軟性。又，專利文獻6中提出有一種利用矽酸鹽層接著偏光核心層與被覆層之積層偏光元件，並且記載有該積層偏光元件具有熱穩定性及柔軟性。
但是，由矽酸鹽之水溶液形成之矽酸鹽層或矽酸鹽層由於接著力差，故而於偏光元件與透明保護膜之界面易發生剝離。
另一方面，作為聚乙烯醇系樹脂之交聯劑，已知有各種化合物，其中就耐水性之觀點而言，宜使用與乙醯乙醯基之反應性優異之胺基-甲醛樹脂。
但是，由於胺基-甲醛樹脂含有甲醛，故而強烈刺激氣味對作業環境之影響或殘留於製品中所引起之安全性令人擔憂。又，胺基-甲醛樹脂由於與乙醯乙醯基之反應性較高，故而存在如下問題：於室溫下易發生交聯反應，於保存時黏度增加使作業性降低，或最終發生凝膠化而變得無法使用，而導致適用期(pot life)縮短。
為了解決上述問題，業界對使用金屬鹽作為交聯劑之情況進行了研究，但若過量添加金屬鹽，則接著劑層之折射率增大，於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間之各層間變得易發生光之界面反射，而有偏光板之透光率降低之虞。近年來，隨著液晶面板之高對比度化，業界更加要求提高偏光板之光學特性。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開平7-198945號公報
專利文獻2：國際公開第2005/085383號手冊
專利文獻3：日本專利特開平10-166519號公報
專利文獻4：日本專利第4039682號說明書
專利文獻5：日本專利特開平8-68908號公報
專利文獻6：日本專利特開平9-178944號公報
第1發明之目的在於提供一種偏光板用接著劑，其接著力優異，可防止偏光板之透光率之降低，且抑制裂點之產生，並且除上述特性以外，即使於加濕環境下偏光板之透光率亦不易降低。
第2發明之目的在於提供一種偏光板用接著劑，其接著力優異，可防止偏光板之透光率之降低，且液體穩定性優異之偏光板用接著劑，並且除上述特性以外，即使於加濕環境下偏光板之透光率亦不易降低。
又，本發明之目的在於提供一種使用該偏光板用接著劑之偏光板及其製造方法。進而，本發明之目的在於提供一種積層有該偏光板之光學膜，進而提供一種使用該偏光板、光學膜之液晶顯示裝置等圖像顯示裝置。
本發明者等人為解決上述課題進行努力研究，結果發現利用以下所示之偏光板用接著劑可實現上述目的，從而完成本發明。
即，第1發明係關於一種偏光板用接著劑，其係用於在偏光元件之至少單面上設置透明保護膜的偏光板用接著劑，上述偏光板用接著劑，其特徵在於：其係含有聚乙烯醇系樹脂及水溶性矽酸鹽之樹脂溶液。
水溶性矽酸鹽之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，較佳為1~100重量份。於水溶性矽酸鹽之調配量未達1重量份之情形時，變得難以抑制裂點之產生，接著劑層之折射率會變得過高，因而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間變得易發生光之界面反射，而有偏光板之透光率降低之傾向。另一方面，於水溶性矽酸鹽之調配量超過100重量份之情形時，由於接著劑層之接著力降低，或接著劑層之折射率降得過低，故而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間變得易發生光之界面反射，而有偏光板之透光率降低之傾向。
上述水溶性矽酸鹽較佳為選自由矽酸鋰、矽酸鈉、及矽酸鉀所組成群中之至少1種。矽酸鋰較佳為SiO2 /Li2 O之莫耳比為2~8。於上述莫耳比未達2之情形時，接著劑層之鹼性提高，有於加濕環境下偏光板之透光率降低之傾向。另一方面，於上述莫耳比超過8之情形時，無法形成水溶性之矽酸鹽。又，矽酸鈉較佳為SiO2 /Na2 O之莫耳比為2~5。矽酸鉀較佳為SiO2 /K2 O之莫耳比為2~5。於上述莫耳比未達2之情形時，接著劑層之鹼性提高，有於加濕環境下偏光板之透光率降低之傾向。另一方面，於上述莫耳比超過5之情形時，無法形成水溶性之矽酸鹽。
本發明尤其適合於上述偏光板用接著劑中使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂作為聚乙烯醇系樹脂之情形。使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的接著劑可形成耐水性優異之接著劑層。另一方面，採用使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的偏光板用接著劑時，雖然多觀察到產生裂點，但本發明之偏光板用接著劑藉由調配水溶性矽酸鹽，可抑制使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂的偏光板用接著劑之裂點之產生。藉此可獲得具有耐水性且可抑制裂點之產生的偏光板用接著劑。
另一方面，第2發明係關於一種偏光板用接著劑，其係用於在偏光元件之至少單面上設置透明保護膜者，其特徵在於：
上述偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂、矽酸鹽、及具有1個以上胺基與1個以上酸性基之胺基酸及/或含硫胺基酸的樹脂溶液。
藉由使用具有1個以上胺基與1個以上酸性基之胺基酸及/或含硫胺基酸作為交聯劑，可獲得接著力優異之偏光板用接著劑。若使用本發明之偏光板用接著劑，則可形成即使浸漬於溫水中偏光元件與透明保護膜之界面亦不易發生剝離之接著劑層。又，由於可抑制接著劑層之折射率之上升，故而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間不易發生光之界面反射，可抑制偏光板之透光率之降低。
上述胺基酸及/或含硫胺基酸之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，較佳為5~50重量份。於未達5重量份之情形時，接著劑層之耐水性會降低，於超過50重量份之情形時，有接著劑層之接著力降低之傾向。
上述酸性基較佳為羧基或磺基。
又，聚乙烯醇系樹脂較佳為具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂。藉此可形成耐水性優異之接著劑層。
矽酸鹽較佳為選自由水溶性矽酸鋰、水溶性矽酸鈉、及水溶性矽酸鉀所組成群中之至少1種。水溶性矽酸鋰較佳為SiO2 /Li2 O之莫耳比為2~8。於上述莫耳比未達2之情形時，接著劑層之鹼性提高，有於加濕環境下偏光板之透光率降低之傾向。另一方面，於上述莫耳比超過8之情形時，無法形成水溶性之矽酸鹽。又，水溶性矽酸鈉較佳為SiO2 /Na2 O之莫耳比為2~5。水溶性矽酸鉀較佳為SiO2 /K2 O之莫耳比為2~5。於上述莫耳比未達2之情形時，接著劑層之鹼性提高，有於加濕環境下偏光板之透光率降低之傾向。另一方面，於上述莫耳比超過5之情形時，無法形成水溶性之矽酸鹽。
又，本發明係關於一種偏光板，其係於偏光元件之至少一個面上經由接著劑層而設置有透明保護膜者，其特徵在於：上述接著劑層係由上述偏光板用接著劑所形成。於上述本發明之偏光板中，接著劑層中含有水溶性矽酸鹽，貼合偏光元件與透明保護膜時產生之裂點缺陷受到抑制。又，本發明之偏光板於加濕環境下透光率不易降低。
於上述偏光板中，接著劑層之厚度較佳為10~300 nm。於接著劑層之厚度未達10 nm之情形時，接著力不充分，於超過300 nm之情形時，有光學可靠性及耐濕接著力降低之傾向。
又，接著劑層之折射率較佳為1.47~1.54。於接著劑層之折射率在1.47~1.54之範圍以外之情形時，由於接著劑層之折射率會降得過低或變得過高，故而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間變得易發生光之界面反射，而有偏光板之透光率降低之傾向。
又，本發明係關於一種偏光板之製造方法，其係於偏光元件之至少一個面上經由接著劑層而設置透明保護膜的偏光板之製造方法，其特徵在於：
包括製備上述偏光板用接著劑之步驟、於偏光元件之形成上述接著劑層之面及/或透明保護膜之形成上述接著劑層之面上塗佈上述偏光板用接著劑的步驟、及貼合偏光元件與透明保護膜之步驟。
又，本發明係關於一種光學膜，其積層有至少1片上述偏光板。
進而，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其含有上述偏光板或上述光學膜。
第1發明之偏光板用接著劑由於併用聚乙烯醇系樹脂與水溶性矽酸鹽，故而接著力優異，又，藉由水溶性矽酸鹽之作用可抑制裂點之產生。藉此，製作偏光板時之良率提高，偏光板之生產性提高。又，包含含有水溶性矽酸鹽之偏光板用接著劑的接著劑層由於與偏光元件之折射率差及與透明保護膜之折射率差較小，故而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間不易發生光之界面反射，可防止偏光板之透光率之降低。
由第2發明之偏光板用接著劑所形成之接著劑層係接著力及耐水性優異，偏光元件與透明保護膜之界面不易發生剝離之接著劑層。又，該接著劑層之折射率由於與偏光元件及透明保護膜之折射率之差值較小，故而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間不易發生光之界面反射，偏光板之透光率不易降低。進而，本發明之偏光板用接著劑由於在室溫下反應性較低，故而不僅液體穩定性優異，而且不含有甲醛，因此具有作業環境改善，製品之安全性提高的優點。
第1發明之偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂及水溶性矽酸鹽之樹脂溶液。
第2發明之偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂、矽酸鹽、及具有1個以上胺基與1個以上酸性基之胺基酸及/或含硫胺基酸之樹脂溶液。
作為聚乙烯醇系樹脂，可列舉聚乙烯醇樹脂或具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂。具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇樹脂係具有高反應性官能基之聚乙烯醇系接著劑，可提高偏光板之耐久性，故而較佳。
作為聚乙烯醇系樹脂，可列舉：將聚乙酸乙烯酯皂化而獲得之聚乙烯醇；其衍生物；進而和與乙酸乙烯酯具有共聚合性之單體的共聚物之皂化物；將聚乙烯醇縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成之改性聚乙烯醇。作為上述單體，可列舉：順丁烯二酸(酐)、反丁烯二酸、丁烯酸、衣康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類；乙烯、丙烯等α-烯烴，(甲基)丙烯基磺酸(鈉)、(順丁烯二酸單烷基酯)磺酸鈉、順丁烯二酸烷基酯二磺酸鈉、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基吡咯烷酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種，或併用兩種以上。
上述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定，就接著性方面而言，平均聚合度宜為100~5000左右，較佳為1000~4000，平均皂化度宜為85~100莫耳%左右，較佳為90~100莫耳%。
具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂係藉由公知方法使聚乙烯醇系樹脂與雙烯酮反應而獲得。例如可列舉如下方法：將聚乙烯醇系樹脂預先分散於乙酸等溶劑中，再向其中添加雙烯酮的方法；將聚乙烯醇系樹脂預先溶解於二甲基甲醯胺或二烷等溶劑中，再向其中添加雙烯酮的方法等。又，可列舉使聚乙烯醇直接接觸雙烯酮氣體或液狀雙烯酮之方法。
具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基改性度只要為0.1莫耳%以上，則無特別限制。未達0.1莫耳%時，接著劑層之耐水性不充分，故不適宜。乙醯乙醯基改性度較佳為0.1~40莫耳%左右，更佳為1~20莫耳%，尤佳為2~7莫耳%。若乙醯乙醯基改性度超過40莫耳%，則耐水性之提昇效果較小。乙醯乙醯基改性度係藉由NMR所測得之值。
於第1發明中，樹脂溶液中亦可添加交聯劑。作為交聯劑，可無特別限制地使用聚乙烯醇系接著劑所使用之交聯劑。可使用具有至少2個與上述聚乙烯醇系樹脂具有反應性之官能基的化合物。例如可列舉：乙二胺、三乙二胺、1,6-己二胺等具有伸烷基與2個胺基之烷二胺類；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷-甲苯二異氰酸酯加合物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯)、異佛酮二異氰酸酯及該等之酮肟嵌段物或苯酚嵌段物等異氰酸酯類；乙二醇二縮水甘油基醚、聚乙二醇二縮水甘油基醚、甘油二或三縮水甘油基醚、1,6-己二醇二縮水甘油基醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油基醚、二縮水甘油基苯胺、二縮水甘油基胺等環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、反丁烯二醛等二醛類；羥甲基脲、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基脲、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙胍、苯胍與甲醛之縮合物等胺基-甲醛樹脂；乙酸鋯、硝酸鋯、碳酸鋯、氫氧化鋯、氧氯化鋯等鋯化合物；乙醛酸金屬鹽(作為金屬，例如可列舉：鋰、鈉、鉀等鹼金屬，鎂、鈣等鹼土金屬，鈦、鋯、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅等過渡金屬，鋅、鋁等)、乙醛酸胺鹽(作為胺，例如可列舉：氨、單甲基胺、二甲基胺、三甲基胺等)等乙醛酸鹽；具有1個以上鹼性基與1個以上酸性基之胺基酸或含硫胺基酸；二甲氧基乙醛、二乙氧基乙醛、二烷氧基乙醛等縮醛化合物；進而鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬、或三價金屬之鹽及其氧化物。該等可單獨使用一種，或併用兩種以上。該等中，較佳為使用具有1個以上鹼性基與1個以上酸性基之胺基酸或含硫胺基酸。鹼性基較佳為胺基，酸性基較佳為羧基或磺基。作為上述胺基酸，例如可列舉：甘胺酸、丙胺酸、苯丙胺酸、纈胺酸、白胺酸、異白胺酸、離胺酸、脯胺酸、絲胺酸、蘇胺酸、色胺酸、組胺酸、酪胺酸、精胺酸、天冬醯胺、天冬醯胺酸、阿斯巴甜、麩醯胺、麩胺酸、及該等胺基酸與(甲基)丙烯酸之共聚物等。作為上述含硫胺基酸，例如可列舉：甲硫胺酸、半胱胺酸、胱胺酸、及牛磺酸等。該等中，尤佳為使用牛磺酸等具有磺基之含硫胺基酸。又，作為交聯劑，可使用矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑。
上述交聯劑之調配量可根據聚乙烯醇系樹脂之種類等而適宜設計，相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，通常為0.1~50重量份左右，較佳為0.2~30重量份左右，更佳為0.5~20重量份。於上述範圍內可獲得良好之接著性。
為了提昇耐久性，係使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂。於該情形時，交聯劑之調配量亦與上述相同。若交聯劑之調配量過多，則液體穩定性降低，作為接著劑之可使用時間(適用期)縮短，變得難以在工業上使用。
第1發明中所使用之水溶性矽酸鹽係以通式M2 O‧nSiO2 表示之化合物，M為鹼金屬、有機鹼等。作為鹼金屬，例如可列舉鋰、鈉、及鉀等；作為有機鹼，例如可列舉三級銨、四級銨、及胍鎓等。n較佳為2~8。
於第1發明中，作為水溶性矽酸鹽，較佳為使用選自由矽酸鋰、矽酸鈉、及矽酸鉀所組成群中之至少1種。矽酸鋰較佳為SiO2 /Li2 O之莫耳比為2~8。矽酸鈉較佳為SiO2 /Na2 O之莫耳比為2~5，更佳為2.5~5。矽酸鉀較佳為SiO2 /K2 O之莫耳比為2~5，更佳為2.5~5。
水溶性矽酸鹽之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，較佳為1~100重量份，更佳為1~50重量份，更佳為1~30重量份。
第1發明之偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂及水溶性矽酸鹽之樹脂溶液，通常以水溶液之形式使用。樹脂溶液濃度並無特別限定，但考慮到塗敷性或放置穩定性等，較佳為0.1~15重量%，更佳為0.5~10重量%。
樹脂溶液之黏度並無特別限定，通常使用黏度為1~50 mPa‧s之範圍者。隨著樹脂溶液之黏度下降，製作偏光板時所產生之裂點有增多之傾向，但若採用第1發明之偏光板用接著劑，則即使於如1~20 mPa‧s之低黏度範圍內，亦可抑制裂點之產生，無論樹脂溶液之黏度如何，均可抑制裂點之產生。具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂與一般聚乙烯醇樹脂相比，可將聚合度提昇至更高，雖然於如上述之低黏度下使用，但本發明即使於使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之情形時，亦可抑制由樹脂溶液之低黏度引起的裂點之產生。
另一方面，於第2發明中，作為交聯劑，係使用具有1個以上胺基與1個以上酸性基之胺基酸或含硫胺基酸。再者，該等亦可併用。酸性基較佳為羧基或磺基。
作為上述胺基酸，例如可列舉：甘胺酸、丙胺酸、苯丙胺酸、纈胺酸、白胺酸、異白胺酸、離胺酸、脯胺酸、絲胺酸、蘇胺酸、色胺酸、組胺酸、酪胺酸、精胺酸、天冬醯胺、天冬醯胺酸、阿斯巴甜、麩醯胺、麩胺酸、及該等胺基酸與(甲基)丙烯酸之共聚物等。該等可單獨使用一種，或併用兩種以上。
作為上述含硫胺基酸，例如可列舉：甲硫胺酸、半胱胺酸、胱胺酸、及牛磺酸等。該等可單獨使用一種，或併用兩種以上。該等中，尤佳為使用牛磺酸等具有磺基之含硫胺基酸。
上述胺基酸及/或含硫胺基酸之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，較佳為5~50重量份，更佳為10~40重量份。其中，於併用胺基酸與含硫胺基酸之情形時，係指合計量。
樹脂溶液中亦可添加其他交聯劑。其中，於添加其他交聯劑之情形時，其添加量相對於全部交聯劑而為50重量%以下。作為其他交聯劑，可列舉與上述相同者。
為了提昇耐久性，係使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂。於該情形時，交聯劑之調配量亦與上述相同。若交聯劑之調配量過多，則液體穩定性降低，作為接著劑之可使用時間(適用期)縮短，變得難以在工業上使用。
矽酸鹽係以通式M2 O‧nSiO2 表示之化合物，M為鹼金屬、有機鹼等。作為鹼金屬，例如可列舉鋰、鈉、及鉀等；作為有機鹼，例如可列舉三級銨、四級銨、及胍鎓等。n較佳為2~8。
於第2發明中，作為矽酸鹽，較佳為使用選自由水溶性矽酸鋰、水溶性矽酸鈉、及水溶性矽酸鉀所組成群中之至少1種。水溶性矽酸鋰較佳為SiO2 /Li2 O之莫耳比為2~8。水溶性矽酸鈉較佳為SiO2 /Na2 O之莫耳比為2~5，更佳為2.5~5。水溶性矽酸鉀較佳為SiO2 /K2 O之莫耳比為2~5，更佳為2.5~5。
矽酸鹽之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，較佳為1~100重量份，更佳為1~50重量份，更佳為1~30重量份。於矽酸鹽之調配量未達1重量份之情形時，接著劑層之折射率會變得過高，因而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間變得易發生光之界面反射，而有偏光板之透光率降低之傾向。另一方面，於超過100重量份之情形時，接著劑層之接著力降低，或接著劑層之折射率降得過低，因而於偏光元件與接著劑層之間及透明保護膜與接著劑層之間的各層間變得易發生光之界面反射，而有偏光板之透光率降低之傾向。
第2發明之偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂、矽酸鹽、及具有1個以上胺基與1個以上酸性基之胺基酸及/或含硫胺基酸之樹脂溶液，通常以水溶液之形式使用。樹脂溶液濃度並無特別限定，但考慮到塗敷性或放置穩定性等，則較佳為0.1~15重量%，更佳為0.5~10重量%。
樹脂溶液之黏度並無特別限定，通常使用黏度為1~50 mPa‧s之範圍者。
作為本發明之偏光板用接著劑的樹脂溶液之製備方法並無特別限制。通常將聚乙烯醇系樹脂及交聯劑混合並製備為適宜之濃度，向所獲得之混合物中調配矽酸鹽(水溶性矽酸鹽)，而製備樹脂溶液。又，聚乙烯醇系樹脂係使用具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂，或於交聯劑之調配量較多之情形時，考慮到溶液之穩定性，而於混合聚乙烯醇系樹脂與矽酸鹽(水溶性矽酸鹽)後，考慮到所獲得之樹脂溶液之使用期等而混合交聯劑。再者，作為偏光板用接著劑之樹脂溶液之濃度亦可於製備樹脂溶液後調整至適宜濃度。
再者，偏光板用接著劑中亦可調配各種黏著賦予劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、耐熱穩定劑、耐水解穩定劑等穩定劑等。
本發明之偏光板係藉由使用上述接著劑將透明保護膜與偏光元件貼合而製造。所獲得之偏光板於偏光元件之單側或兩側，經由利用上述偏光板接著劑所形成之接著劑層而設置有透明保護膜。
上述接著劑可塗佈於透明保護膜、偏光元件中之任一者上，亦可塗佈於兩者上。上述接著劑較佳為以乾燥後之接著劑層之厚度成為10~300 nm左右之方式進行塗佈。接著劑層之厚度就獲得均勻之面內厚度、獲得充分之接著力的觀點而言，更佳為10~200 nm，尤佳為20~150 nm。
作為調整接著劑層之厚度的方法，並無特別限制，例如可列舉調整接著劑溶液之固形物成分濃度或接著劑之塗佈裝置的方法。作為此種接著劑層厚度之測定方法，並無特別限制，較佳為利用SEM(Scanning Electron Microscopy，掃描式電子顯微鏡)或TEM(Transmission Electron Microscopy，穿透式電子顯微鏡)進行剖面觀察測定。接著劑之塗佈操作並無特別限制，可採用輥塗法、噴霧法、浸漬法等各種手段。
塗佈接著劑後，利用滾輪貼合機等將偏光元件與透明保護膜貼合。貼合後，實施乾燥步驟，形成包含塗佈乾燥層之接著劑層。乾燥溫度宜為5~150℃左右，較佳為30~120℃，乾燥時間宜為120秒鐘以上，較佳為300秒鐘以上。
偏光元件並無特別限制，可使用各種類型。作為偏光元件，例如可列舉：使碘或二色性染料等二色性材料吸附於聚乙烯醇系膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上，並進行單軸延伸而成者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限定，一般為5~80 μm左右。
利用碘將聚乙烯醇系膜染色並進行單軸延伸而成之偏光元件例如可藉由如下方式製作：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中進行染色，並延伸至原長度之3~7倍。視需要亦可浸漬於硼酸或碘化鉀等之水溶液中。進而，視需要亦可於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗，可清洗聚乙烯醇系膜表面之污垢及抗結塊劑，並且藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，亦具有防止染色不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘進行染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，又，亦可於延伸後利用碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
作為上述偏光元件之單面或兩面所設置之透明保護膜的形成材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、隔水性、等向性等優異者。例如可列舉：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，作為形成上述透明保護膜之聚合物的例子，亦可列舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系乃至降冰片烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物之類的聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之摻合物等。再者，偏光元件上通常利用接著劑層貼合透明保護膜，作為透明保護膜，可使用：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等之熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。透明保護膜中亦可含有1種以上之任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可列舉：紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較佳為50~100重量%，更佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，尤佳為70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有無法充分表現出熱塑性樹脂原本所具有之高透明性等之虞。
又，作為透明保護膜，可列舉日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)中所記載之聚合物膜，例如：含有(A)側鏈具有經取代及/或未經取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂、與(B)側鏈具有經取代及/或未經取代之苯基以及腈基之熱塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例，可列舉含有包含異丁烯與N-甲基順丁烯二醯亞胺之交替共聚物、與丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物之膜。該膜可使用包含樹脂組合物之混合擠出品等之膜。該等膜由於相位差較小且光彈性係數較小，故而可消除由偏光板之變形所引起之不均等異常，又，由於透濕度較小，故而加濕耐久性優異。
透明保護膜之厚度可適宜決定，一般就強度或操作性等作業性、薄層性等方面而言，宜為1~500 μm左右。尤其是，較佳為1~300 μm，更佳為5~200 μm。透明保護膜越薄，越容易產生裂點。因此，透明保護膜厚度尤佳為5~100 μm。
再者，於偏光元件之兩側設置透明保護膜之情形時，其表面及背面可使用包含相同聚合物材料之保護膜，亦可使用包含不同聚合物材料等之保護膜。
作為本發明之透明保護膜，較佳為使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂中之至少1種。
纖維素樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。作為此種纖維素酯系樹脂之具體例，可列舉：纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯等。該等中，尤佳為纖維素三乙酸酯。纖維素三乙酸酯目前在市面上銷售有多種製品，於易獲得性及成本方面亦較為有利。作為纖維素三乙酸酯之市售品的例子，可列舉：富士軟片公司製造之商品名「UV-50」、「UV-80」、「SH-80」、「TD-80U」、「TD-TAC」、「UZ-TAC」，或Konica公司製造之「KC系列」等。一般而言，該等纖維素三乙酸酯之面內相位差(Re)大致為零，厚度方向相位差(Rth)為~60 nm左右。
再者，厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜例如係藉由處理上述纖維素樹脂而獲得。例如可列舉如下方法：將塗敷有環戊酮、甲基乙基酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、不鏽鋼等之基材膜與一般纖維素系膜貼合，進行加熱乾燥(例如於80~150℃下加熱3~10分鐘左右)後，將基材膜剝離之方法；將降冰片烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等溶解於環戊酮、甲基乙基酮等溶劑中，將所得溶液塗敷於一般纖維素樹脂膜上並進行加熱乾燥(例如於80~150℃下加熱3~10分鐘左右)後，將塗敷膜剝離之方法等。
又，作為厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜，可使用脂肪取代度經控制之脂肪酸纖維素系樹脂膜。通常使用之三乙醯纖維素之乙酸取代度為2.8左右，較佳為將乙酸取代度控制在1.8~2.7，藉此可縮小Rth。藉由於上述脂肪酸取代纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯基三乙酯等塑化劑，可將Rth控制為較小。塑化劑之添加量相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，較佳為40重量份以下，更佳為1~20重量份，更佳為1~15重量份。
作為環狀聚烯烴樹脂之具體例，較佳為降冰片烯系樹脂。環狀烯烴系樹脂係以環狀烯烴作為聚合單元聚合而成之樹脂之統稱，例如可列舉：日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中所記載之樹脂。作為具體例，可列舉：環狀烯烴之開環(共)聚合物，環狀烯烴之加成聚合物，環狀烯烴與乙烯、丙烯等α-烯烴之共聚物(代表例為無規共聚物)，及利用不飽和羧酸或其衍生物對該等進行改性而成之接枝聚合物以及此等之氫化物等。作為環狀烯烴之具體例，可列舉降冰片烯系單體。
作為環狀聚烯烴樹脂，現市售有各種製品。作為具體例，可列舉：日本ZEON股份有限公司製造之商品名「Zeonex」、「Zeonor」，JSR股份有限公司製造之商品名「Artone」，TICONA公司製造之商品名「Topas」，三井化學股份有限公司製造之商品名「APEL」。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，其Tg(玻璃轉移溫度)較佳為115℃以上，更佳為120℃以上，更佳為125℃以上，尤佳為130℃以上。藉由使Tg為115℃以上，可形成偏光板之耐久性優異者。上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性之觀點而言，較佳為170℃以下。利用(甲基)丙烯酸系樹脂可獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為零之膜。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，於無損本發明之效果的範圍內，可採用任意適當之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉：聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片酯共聚物等)。較佳為聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1-6烷酯。更佳為以甲基丙烯酸甲酯作為主成分(50~100重量%，較佳為70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可列舉：三菱麗陽股份有限公司製造之Acrypet VH及Acrypet VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中所記載之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、藉由分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸系樹脂系。
作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。其原因在於：該具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂具有高耐熱性、高透明性，且藉由雙軸延伸而具有高機械強度。
作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉：日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中所記載之具有內酯環結構的(甲基)丙烯酸系樹脂。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂較佳為具有下述通式(化1)所表示之環狀結構。
式中，R1 、R2 及R3 分別獨立表示氫原子或碳原子數為1~20之有機殘基。再者，有機殘基亦可含有氧原子。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中之通式(化2)所表示之內酯環結構之含有比率較佳為5~90重量%，更佳為10~70重量%，更佳為10~60重量%，尤佳為10~50重量%。若具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中之通式(化2)所表示之內酯環結構之含有比率小於5重量%，則有耐熱性、耐溶劑性、表面硬度變得不充分之虞。若具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中之通式(化2)所表示之內酯環結構之含有比率大於90重量%，則有成形加工性變差之虞。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)較佳為1000~2000000，更佳為5000~1000000，更佳為10000~500000，尤佳為50000~500000。若質量平均分子量在上述範圍以外，則於成型加工性方面欠佳。
具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg較佳為115℃以上，更佳為120℃以上，更佳為125℃以上，尤佳為130℃以上。由於Tg為115℃以上，例如於作為透明保護膜而組入偏光板之情形時，會成為耐久性優異者。上述具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg之上限值並無特別限定，就成形性等觀點而言，較佳為170℃以下。
利用依據ASTM-D-1003之方法，測定具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂藉由射出成形而獲得之成形品而獲得的總光線透射率越高越好，較佳為85%以上，更佳為88%以上，更佳為90%以上。總光線透射率係透明性之標準，若總光線透射率未達85%，則有透明性降低之虞。
上述透明保護膜通常使用正面相位差未達40 nm且厚度方向相位差未達80 nm者。正面相位差Re以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)×d表示。又，Nz係數以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，膜之遲相軸方向、進相軸方向及厚度方向之折射率分別設為nx、ny、nz，膜之厚度設為d(nm)；遲相軸方向為膜面內之折射率最大之方向]。再者，透明保護膜較佳為儘可能無著色。較佳為使用厚度方向之相位差值為-90 nm~+75 nm之保護膜。藉由使用上述厚度方向之相位差值(Rth)為-90 nm~+75 nm者，可大致消除由透明保護膜所引起之偏光板之著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)更佳為-80 nm~+60 nm，尤佳為-70 nm~+45 nm。
另一方面，作為上述透明保護膜，可使用正面相位差為40 nm以上及/或厚度方向相位差為80 nm以上之相位差板。正面相位差通常控制為40~200 nm之範圍，厚度方向相位差通常控制為80~300 nm之範圍。於使用相位差板作為透明保護膜之情形時，由於該相位差板亦發揮透明保護膜之功能，故而可實現薄型化。
透明保護膜可根據欲應用之液晶顯示裝置而適宜選擇。例如於為VA(Vertical Alignment，垂直配向；包括多象限垂直配向(MVA)、圖形化垂直配向(PVA))之情形時，較期待為偏光板之至少單側(單元側)之透明保護膜具有相位差。作為具體相位差，較期待Re=0~240 nm、Rth=0~500 nm之範圍。就三維折射率方面而言，較期待nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(單軸、雙軸、Z化、負型C板)。於液晶單元之上下使用偏光板時，液晶單元之上下可共同具有相位差，或上下中之任一者之透明保護膜具有相位差。
例如於為IPS(In-Plane Switching，橫向電場切換；包括邊界電場切換(FFS))之情形時，偏光板之單側之透明保護膜具有相位差之情形、不具有相位差之情形均可使用。例如於不具有相位差之情形時，較期待液晶單元之上下(單元側)均不具有相位差。於具有相位差之情形時，較期待液晶單元之上下均具有相位差，或上下之任一者具有相位差(例如，上側Z化且下側無相位差之情形，或上側為A板且下側為正型C板之情形)。具有相位差之情形時，較期待Re=-500~500 nm、Rth=-500~500 nm之範圍。就三維折射率方面而言，較期待nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(單軸、Z化、正型C板、正型A板)。
再者，具有上述相位差之膜可另外貼合於不具有相位差之透明保護膜上而對其賦予上述功能。
透明保護膜與偏光元件之接著面可實施易接著處理。作為易接著處理，可列舉：電漿處理、電暈處理等乾式處理，鹼處理(皂化處理)等化學處理，形成易接著劑層之塗佈處理等。該等中，較適宜為形成易接著劑層之塗佈處理或鹼處理。易接著劑層可使用多元醇樹脂、多羧酸樹脂、聚酯樹脂等各種易接著材料而形成。再者，易接著劑層之厚度通常為0.001~10 μm左右，更佳為0.001~5 μm左右，尤佳為0.001~1 μm左右。
欲接著上述透明保護膜之偏光元件之面上可實施如下處理：硬塗層或抗反射處理，以防黏附、或擴散乃至防眩為目的之處理。
再者，上述抗反射層、防黏附層、擴散層或防眩層等除可設置於透明保護膜上之外，亦可另外作為光學層而設置與透明保護膜不同之膜體。
本發明之偏光板於實際使用時可與其他光學層積層製成光學膜而使用。此光學層並無特別限定，例如可使用1層或2層以上之反射板或半透射板、相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償膜等形成液晶顯示裝置等時所使用之光學層。尤佳為於本發明之偏光板上進而積層反射板或半透射反射板而成之反射型偏光板或半透射型偏光板、於偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板、於偏光板上進而積層視角補償膜而成之廣角偏光板、或者於偏光板上進而積層亮度提昇膜而成之偏光板。
本發明之偏光板或光學膜可較佳地用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依據先前方法進行。即，液晶顯示裝置通常係藉由將液晶單元與偏光板或光學膜、及視需要之照明系統等構成零件適宜組裝並組入驅動電路等而形成，本發明中，除使用本發明之偏光板或光學膜以外，其他方面並無特別限定，可依據先前方法。液晶單元例如可使用TN型或STN型、π型等任意類型者。
可形成於液晶單元之單側或兩側配置有偏光板或光學膜之液晶顯示裝置、或照明系統使用背光或者反射板者等適宜之液晶顯示裝置。於此情形時，本發明之偏光板或光學膜可設置於液晶單元之單側或兩側。於兩側設置偏光板或光學膜之情形時，此等可相同，亦可不同。進而，於形成液晶顯示裝置時，例如可於適宜位置配置1層或2層以上之擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列板、光擴散板、背光等適宜之零件。
實施例
以下，對具體揭示本發明之構成與效果之實施例等進行說明。再者，各例中，份及%只要無特別記載，則表示重量基準。
[第1發明]
實施例1
(偏光元件)
將平均聚合度為2400且皂化度為99.9莫耳%之厚度75 μm之聚乙烯醇膜於30℃之溫水中浸漬60秒鐘，使之膨潤。繼而，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)之濃度為0.3%之水溶液中，一邊延伸至3.5倍一邊將膜染色。其後，於65℃之硼酸酯水溶液中，以總延伸倍率成為6倍之方式進行延伸。延伸後，於40℃之烘箱中乾燥3分鐘，獲得偏光元件。使用分光光度計(日本分光製造，V7100)測定單獨透射率Ts，結果透光率為42.50%。
(透明保護膜)
使用厚度為80 μm之三乙醯纖維素(TAC)膜。
(接著劑水溶液之製備)
將相對於具有乙醯乙醯(AA)基之聚乙烯醇(PVA)系樹脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度：5莫耳%)100份而為10份之矽酸鈉(SiO2 /Na2 O之莫耳比：4)於30℃之溫度條件下溶解至純水中，將固形物成分濃度調整為4%，獲得接著劑水溶液。
(偏光板之製作)
於上述透明保護膜之單面上，以乾燥後之接著劑層之厚度成為80 nm之方式塗佈上述接著劑水溶液。繼而，於23℃之溫度條件下，利用滾壓機於偏光元件之兩面貼合附帶接著劑之透明保護膜，其後於55℃下乾燥6分鐘，製作偏光板。
實施例2~11、比較例1~4、及參考例1
根據表1所記載之調配組成，藉由與實施例1相同之方法製備接著劑水溶液。使用所製備之接著劑水溶液，以與實施例1相同之方式製作偏光板。
[測定、評價]
(接著劑層之折射率)
利用塗佈機，將所製備之接著劑水溶液塗佈於透明膜上，於70度下乾燥10分鐘，形成接著劑層。其後，將接著劑層(5 μm)自透明膜剝離，使用稜鏡耦合器(Sairon Technology,Inc.，SPA-4000)測定該接著劑層之折射率。
(偏光板之透光率)
使用分光光度計(日本分光製造，V7100)測定單獨透射率Ts。
(密接性)
於偏光板之端部，於偏光元件與透明保護膜之間插入切割刀之刀尖。於該插入部，抓住偏光元件與透明保護膜，各自沿相反方向拉伸。此時，將偏光元件及/或透明保護膜破裂而未能剝離之情形判斷為密接性良好：「○」，將偏光元件與透明保護膜之間有一部分剝離之情形判斷為密接性稍差：「△」，將偏光元件與透明保護膜之間完全剝離之情形判斷為密接性差：「×」。
(剝離)
以於偏光元件之吸收軸方向上成為50 mm且於與吸收軸正交之方向上成為25 mm之方式對偏光板進行切取，而製備樣品。將該樣品於60℃、95%RH之加溫加濕環境下放置200小時。此時，將偏光元件/保護膜間發生剝離之情形判斷為○，將端部隆起之情形判斷為△，將完全剝離之情形判斷為×。
(外觀評價：裂點缺陷)
以成為1000 mm×1000 mm之方式對偏光板進行切取，而製備樣品。將樣品之偏光板置於螢光燈下。於樣品之偏光板之光源側，以各自之吸收軸正交之方式設置另一偏光板，於該狀態下計數漏光部位(點狀缺陷、裂點缺陷)之個數。
(加溫加濕試驗)
將以於偏光元件之吸收軸方向上成為50 mm且於與吸收軸正交之方向上成為25 mm之方式切取之偏光板，經由黏著劑接著於玻璃板上，而製備樣品，並使用分光光度計(日本分光製造，V7100)測定該樣品之透光率。其後，將於該樣品60℃、95%RH之加溫加濕環境下放置200小時，同樣地測定透光率。將加溫加濕試驗前後之透光率之變化量(差值)示於表1。又，將該樣品於85℃、85%RH之加溫加濕環境下放置200小時，同樣地測定透光率。將加溫加濕試驗前後之透光率之變化量(差值)示於表1。
[第2發明]
實施例1
(偏光元件)
將平均聚合度為2400且皂化度為99.9莫耳%之厚度75 μm之聚乙烯醇膜於30℃之溫水中浸漬60秒鐘，使之膨潤。繼而，浸漬於碘/碘化鉀(重量比=0.5/8)之濃度0.3%之水溶液中，一邊延伸至3.5倍一邊將膜染色。其後，於65℃之硼酸酯水溶液中，以總延伸倍率成為6倍之方式進行延伸。延伸後，於40℃之烘箱中乾燥3分鐘，獲得偏光元件。使用分光光度計(日本分光製造，V7100)測定單獨透射率Ts，結果透光率為42.50%。
(透明保護膜)
使用厚度為80 μm之三乙醯纖維素(TAC)膜。
(接著劑水溶液之製備)
將具有乙醯乙醯(AA)基之聚乙烯醇(PVA)系樹脂(平均聚合度：1200，皂化度：98.5莫耳%，乙醯乙醯基化度：5莫耳%)100份、矽酸鈉(SiO2 /Na2 O之莫耳比：4)10份、牛磺酸50份於30℃之溫度條件下溶解於純水中，獲得接著劑水溶液(黏度9 mPa‧s)。
(偏光板之製作)
於上述透明保護膜之單面上，以乾燥後之接著劑層之厚度成為80 nm之方式塗佈上述接著劑水溶液。繼而，於23℃之溫度條件下，利用滾壓機，於偏光元件之兩面上貼合附帶接著劑之透明保護膜，其後，於55℃下乾燥6分鐘，製作偏光板。
實施例2~7及比較例1~5
根據表1所記載之調配組成，藉由與實施例1相同之方法製備接著劑水溶液。使用所製備之接著劑水溶液，以與實施例1相同之方式製作偏光板。
[測定、評價]
(接著劑層之折射率)
利用塗佈機，將所製備之接著劑水溶液塗佈於透明膜上，於70度下乾燥10分鐘，形成接著劑層。其後，將接著劑層(5 μm)自透明膜剝離，使用稜鏡耦合器(Sairon Technology,Inc.、SPA-4000)測定該接著劑層之折射率。
(密接性)
於偏光板之端部，於偏光元件與透明保護膜之間插入切割刀之刀尖。於該插入部，抓住偏光元件與透明保護膜，各自沿相反方向拉伸。此時，將偏光元件及/或透明保護膜破裂而未能剝離之情形判斷為密接性良好：「○」，將偏光元件與透明保護膜之間有一部分剝離之情形判斷為密接性稍差：「△」，將偏光元件與透明保護膜之間完全剝離之情形判斷為密接性差：「×」。
(剝離)
以於偏光元件之吸收軸方向上成為50 mm且於與吸收軸正交之方向上成為25 mm之方式對偏光板進行切取，而製備樣品。將該樣品浸漬於60℃之溫水中，利用游標卡尺測定經過5小時後之樣品之端部之剝離量(mm)。
(加溫加濕試驗)
將以於偏光元件之吸收軸方向上成為50 mm且於與吸收軸正交之方向上成為25 mm之方式切取之偏光板，經由黏著劑接著於玻璃板上，而製備樣品，並使用分光光度計(日本分光製造，V7100)測定該樣品之透光率。其後，將該樣品於60℃、95%RH之加溫加濕環境下放置200小時，同樣地測定透光率。將加溫加濕試驗前後之透光率之變化量(差值)示於表2。
(適用期)
使用型號為222-1267及222-1549之流變計RS1(Haake公司製造)、共軸圓筒，於23℃之液溫及氣溫下測定所製備之接著劑水溶液之黏度，而測定接著劑水溶液之黏度超過50 cps為止之時間。
產業上之可利用性
本發明之偏光板用接著劑係用於在偏光元件之至少單面接著透明保護膜。所獲得之偏光板或積層其之光學膜係用於液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、及PDP等圖像顯示裝置。

Claims (18)

  1. 一種偏光板用接著劑，其係用於在偏光元件之至少單面上設置透明保護膜者，其特徵在於：上述偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂及水溶性矽酸鹽之樹脂溶液，上述水溶性矽酸鹽為選自由矽酸鋰、矽酸鈉及矽酸鉀所組成群中之至少1種，上述矽酸鈉之SiO2 /Na2 O之莫耳比為4~5。
  2. 如請求項1之偏光板用接著劑，其中水溶性矽酸鹽之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，為1~100重量份。
  3. 如請求項1之偏光板用接著劑，其中矽酸鋰之SiO2 /Li2 O之莫耳比為2~8。
  4. 如請求項1之偏光板用接著劑，其中矽酸鉀之SiO2 /K2 O之莫耳比為2~5。
  5. 一種偏光板用接著劑，其係用於在偏光元件之至少單面上設置透明保護膜者，其特徵在於：上述偏光板用接著劑係含有聚乙烯醇系樹脂、矽酸鹽、及具有1個以上胺基與1個以上酸性基之胺基酸及/或含硫胺基酸的樹脂溶液。
  6. 如請求項5之偏光板用接著劑，其中胺基酸及/或含硫胺基酸之調配量相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，為5~50重量份。
  7. 如請求項5之偏光板用接著劑，其中酸性基為羧基或磺 基。
  8. 如請求項5之偏光板用接著劑，其中矽酸鹽為選自由水溶性矽酸鋰、水溶性矽酸鈉及水溶性矽酸鉀所組成群中之至少1種。
  9. 如請求項1或5之偏光板用接著劑，其中聚乙烯醇系樹脂為具有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂。
  10. 一種偏光板，其係於偏光元件之至少一個面上經由接著劑層而設置有透明保護膜者，其特徵在於：上述接著劑層係由如請求項1之偏光板用接著劑所形成。
  11. 一種偏光板，其係於偏光元件之至少一個面上經由接著劑層而設置有透明保護膜者，其特徵在於：上述接著劑層係由如請求項5之偏光板用接著劑所形成。
  12. 如請求項10或11之偏光板，其中接著劑層之厚度為10~300nm。
  13. 如請求項10之偏光板，其中接著劑層之折射率為1.47~1.54。
  14. 如請求項11之偏光板，其中接著劑層之折射率為1.47~1.55。
  15. 一種偏光板之製造方法，其係於偏光元件之至少一個面上經由接著劑層而設置透明保護膜之偏光板之製造方法，其特徵在於：包括調製如請求項1或5之偏光板用接著劑的步驟、於偏光元件之形成上述接著劑層之面及/或透明保護膜之形成上述接著劑層之面上塗佈上述偏光板用接著劑的步 驟、及貼合偏光元件與透明保護膜之步驟。
  16. 一種光學膜，其積層有至少1片如請求項10或11之偏光板。
  17. 一種圖像顯示裝置，其含有如請求項10或11之偏光板。
  18. 一種圖像顯示裝置，其含有如請求項16之光學膜。
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