TWI567430B - Polishing plate manufacturing method - Google Patents

Description

偏光板之製造方法

本發明係關於一種偏光板之製法方法。又，本發明係關於使用該偏光元件之偏光板、光學膜，進而係關於使用該偏光元件、偏光板、光學膜之液晶顯示裝置、有機EL(Electroluminescense，電致發光)顯示裝置、PDP(Plasma Display Panel，電漿顯示器)等圖像顯示裝置。

液晶顯示裝置由於其圖像形成方式，故而必不可少的是於形成液晶面板表面之玻璃基板之兩側配置偏光元件。偏光元件通常而言係藉由如下方式獲得：利用碘等二色性材料對聚乙烯醇系膜進行染色後，使用交聯劑進行交聯，並藉由進行單軸延伸而製膜。上述偏光元件由於係藉由延伸而製成，故而容易收縮。又，由於聚乙烯醇系膜使用有親水性聚合物，故而尤其是於加濕條件下非常容易變形。又，由於膜自身之機械強度較弱，故而存在膜開裂之問題。因此，使用有於偏光元件之兩側或單側貼合三乙醯纖維素等之透明保護膜而增加強度的偏光板。上述偏光板係藉由利用接著劑貼合偏光元件與透明保護膜而製造。

例如，於貼合偏光元件與透明保護膜而製造偏光板時採用如下方式：使用含有包含乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂及交聯劑的水溶液之水系接著劑(專利文獻1)。記載有該水系接著劑之耐濕熱性、耐水性良好。又，提出藉由使用接著劑液之黏度為3~20 mPa‧s(25℃)之接著劑作為上述水系 接著劑而獲得外觀良好之偏光板(專利文獻2)。專利文獻1、2中，未對塗佈於偏光元件或透明保護膜之接著劑溶液實施乾燥，而於塗佈狀態下直接貼合偏光元件與透明保護膜。

又，提出於使塗佈於偏光元件或透明保護膜之接著劑溶液乾燥而形成接著劑層後，使水性液存在於該等貼合面，藉此貼合偏光元件與透明保護膜而製造偏光板的方法(專利文獻3)。專利文獻3記載有藉由預先形成接著劑層，可製造與專利文獻1、2相比外觀缺陷較少之偏光板。又，提出於含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂中調配有金屬化合物膠體之接著劑可改善所獲得之偏光板之彎曲缺陷(專利文獻4)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2005-189615號公報

[專利文獻2]日本專利特開2002-365432號公報

[專利文獻3]日本專利特開2005-128490號公報

[專利文獻4]日本專利特開2009-122664號公報

另一方面，偏光板之製造時，由於作為偏光元件，水分率越低則聚乙烯醇系樹脂之配向性越提高，故而光學特性(偏光度等)越良好。然而，專利文獻3中，預先形成之接著劑層之乾燥程度較高，接著劑層變得不易溶於水中。因 此，於偏光元件之水分率較低之情形時，有接著劑層不易藉由所添加之水性液而充分地溶解之情況，而有於所獲得之偏光板中引起偏光元件與透明保護膜之接著不良之情況。又，關於在含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂中調配有金屬化合物膠體之接著劑，亦存在上述同樣之接著不良之問題。

本發明之目的在於提供一種偏光板之製造方法，其即便於使用水分率較低之偏光元件之情形時，亦可獲得偏光元件與透明保護膜之接著性良好之偏光板。

本發明者等人為了解決上述課題，反覆進行銳意研究，結果發現藉由以下所示之偏光板之製造方法等，可實現上述目的，從而完成本發明。

即，本發明係關於一種偏光板之製造方法，其特徵在於：上述偏光板於偏光元件之至少一面經由接著劑層而設置有透明保護膜，且該製造方法包括如下步驟：步驟(1)，將偏光板用之水系接著劑塗佈於上述透明保護膜後加以乾燥，而於透明保護膜上形成30秒以內產生對水之接觸角變化之塗膜狀態之接著劑層；步驟(2)，藉由上述接著劑層貼合水分率為12~25重量%之偏光元件與透明保護膜；及步驟(3)，使上述接著劑層乾燥。

於上述偏光板之製造方法中，作為上述水系接著劑，較佳為含有聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系接著劑。上述聚乙 烯醇系樹脂較佳為於側鏈具有親水性之長鏈官能基。

於本發明之偏光板之製造方法中，於步驟(1)中，雖與專利文獻3同樣地將接著劑層形成於透明保護膜上，但該接著劑層並非如專利文獻3般處於乾燥程度高之狀態，而為塗膜狀態。該半乾燥之塗膜狀態之接著劑層例如可控制塗膜狀態以滿足直至對於水之接觸角變化之時間(開始被水溶解之時間)於特定時間內產生。藉由以此種方式控制接著劑層之塗膜狀態，可於由水系接著劑形成之接著劑層中某種程度上確保水分，即便於偏光元件之水分率低之情形時，亦可良好地將偏光元件與透明保護膜接著。

又，於本發明之偏光板之製造方法中，形成於透明保護膜上之上述塗膜狀態之接著劑層之接著劑由水系接著劑形成，並可藉由偏光元件中之水分溶解。因此，於本發明之偏光板之製造方法中，並非特別需要如專利文獻3般添加水性液。又，於上述步驟(1)之塗膜狀態之接著劑層之形成時，預先將該接著劑層中之水分去除。因此，可高速地進行偏光元件與透明保護膜，可高效地進行乾燥步驟(3)，於生產性方面亦有利。

又，於先前之乾燥程度較高之狀態之接著劑層中，通常作為偏光元件，水分率必需超過25重量%，但於本發明之偏光板之製造方法中，可使用水分率為25重量%以下之偏光元件。如此，於本發明之偏光板之製造方法中，可使用水分率為25重量%以下之偏光元件，因此可提高所獲得之 偏光板之光學特性(偏光度等)。該偏光板可實現面內均勻性優異、高解析度並且高對比度之液晶顯示裝置(LCD，Liquid Crystal Display)、電致發光顯示裝置(ELD，Electroluminescent Display)等圖像顯示裝置。

本發明中，提供一種於偏光元件之至少一面經由接著劑層而設置有透明保護膜之偏光板之製造方法。

偏光元件並無特別限制，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉使碘或二色性染料等二色性材料吸附於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜並單軸延伸而成者，聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等多烯系配向膜等。該等中，較佳為包含聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質之偏光元件。該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常而言為5~80 μm左右。偏光元件之厚度較佳為15~35 μm。若偏光元件之厚度過薄，則與透明保護膜貼合時，容易受到損傷。另一方面，若偏光元件之厚度過厚，則存在乾燥效率變差之傾向，於生產性方面不佳。

利用碘對聚乙烯醇系膜進行染色並單軸延伸而成之偏光元件例如可藉由如下方式製成：藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液而染色，並延伸至原長之3~7倍。亦可視需要浸漬於硼酸、碘化鉀等之水溶液中。進而，亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系膜，可將聚乙烯醇系膜表面之污垢、抗黏連劑洗 淨，除此以外亦具有藉由使聚乙烯醇系膜膨潤而防止染色之不均等不均勻之效果。延伸可於利用碘染色後進行，亦可一面染色一面延伸，還可於延伸後利用碘染色。於硼酸、碘化鉀等之水溶液中或水浴中亦可進行延伸。

又，作為偏光元件，使用有水分率為12~25重量%之偏光元件。本發明中，於偏光元件之水分率為25重量%以下之低水分率下亦可使用。進而，於偏光元件之水分率為23重量%以下亦可使用。就可獲得光學特性良好之偏光板之方面而言，偏光元件之水分率越低越佳。又，就乾燥步驟(3)中之乾燥效率提高、可提高生產速度之生產性方面而言較佳。另一方面，若偏光元件之水分率過低，則作為偏光元件之膜之剛性變高，容易受到損傷後立刻產生外觀缺陷。就該方面而言，偏光元件之水分率較佳為12重量%以上。此種偏光元件之水分率通常可藉由偏光元件之製造步驟中之乾燥處理之條件而調整，但亦可視需要另外設置調濕處理步驟而實施於水浴中之浸漬或水滴之噴霧或者再次之加熱乾燥或減壓乾燥。

作為形成設置於上述偏光元件之單面或兩面之透明保護膜之材料，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分遮斷性、各向同性等優異之材料。例如可列舉聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物，二乙醯纖維素或三乙醯纖維素等纖維素系聚合物，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物，聚苯乙烯或丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS(acrylonitrile-styrene copolymer)樹脂)等苯乙烯系聚合 物、聚碳酸酯系聚合物等。又，作為形成上述透明保護膜之聚合物之例，亦可列舉聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物之類之聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物、或上述聚合物之共混物等。再者，通常藉由接著劑層將透明保護膜貼合於偏光元件上，作為透明保護膜，可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。於透明保護膜中亦可含1種以上之任意適當之添加劑。作為添加劑，例如可列舉紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量較好為50~100重量%，更佳為50~99重量%，進而較佳為60~98重量%，尤佳為70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂之含量為50重量%以下之情形時，有無法充分表現熱塑性樹脂原本所具有之高透明性等之虞。

作為本發明之透明保護膜，較佳為使用選自纖維素樹脂(聚合物)、聚碳酸酯樹脂(聚合物)、環狀聚烯烴樹脂(具有環系或降烯結構之聚烯烴)及(甲基)丙烯酸系樹脂中之至少1種。本發明之效果尤其是於使用包含三乙醯纖維素之 保護膜之情形時較明顯。

透明保護膜之厚度可適當地決定，通常就強度、處理性等作業性、薄層性等方面而言為1~500 μm左右。尤佳為1~300 μm，更佳為5~200 μm。

再者，於偏光元件之兩側設置透明保護膜之情形時，可於其正背使用包含相同之聚合物材料之保護膜，亦可使用包含不同之聚合物材料等之透明保護膜。

可對透明保護膜之與偏光元件接著之面實施易接著處理。作為易接著處理，可列舉電漿處理、電暈處理等乾式處理，鹼處理(皂化處理)等化學處理、形成易接著層之塗佈處理等。該等中，較佳為形成易接著層之塗佈處理或鹼處理。易接著層之形成可使用多元醇樹脂、聚羧酸樹脂、聚酯樹脂等各種易接著材料。再者，易接著層之厚度通常為0.001~10 μm左右，進而較佳為0.001~5 μm左右，尤佳為0.001~1 μm左右。

亦可對上述透明保護膜之未接著偏光元件之面實施硬塗層或抗反射處理、以防止黏附、或擴散或者防眩為目的之處理。

再者，上述防反射層、抗黏附層、擴散層或防眩層等除可設置於透明保護膜本身以外，亦可另外作為光學層而與透明保護膜獨立地設置。

作為用於形成貼合上述偏光元件與透明保護膜之接著劑層之接著劑，可使用水系接著劑。

作為水系接著劑，並無特別限定，例如可例示乙烯基聚 合物系、明膠系、乙烯系乳膠系、聚胺基甲酸酯系、異氰酸酯系、聚酯系、環氧系等。作為上述水系接著劑，較佳為使用含有乙烯基聚合物之接著劑等，作為乙烯基聚合物，較佳為聚乙烯醇系樹脂。尤其是於使用聚乙烯醇系之聚合物膜作為偏光元件之情形時，就接著性方面而言，較佳為使用含有聚乙烯醇系樹脂之接著劑。

聚乙烯醇系樹脂可列舉對聚乙酸乙烯酯進行皂化而獲得之聚乙烯醇；其衍生物；進而可列舉乙酸乙烯酯與具有共聚性之單體之共聚物之皂化物；對聚乙烯醇進行縮醛化、胺基甲酸酯化、醚化、接枝化、磷酸酯化等而成之改性聚乙烯醇。作為上述單體，可列舉順丁烯二酸(酐)、反丁烯二酸、丁烯酸、伊康酸、(甲基)丙烯酸等不飽和羧酸及其酯類，乙烯、丙烯等α-烯烴，(甲基)烯丙基磺酸(鈉)、(順丁烯二酸單烷基酯)磺酸鈉、順丁烯二酸烷基酯二磺酸鈉、N-羥甲基丙烯醯胺、丙烯醯胺烷基磺酸鹼金屬鹽、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基吡咯啶酮衍生物等。該等聚乙烯醇系樹脂可單獨使用一種或併用兩種以上。

上述聚乙烯醇系樹脂並無特別限定，就接著性方面而言，平均聚合度為100~5000左右，較佳為1000~4000，平均皂化度為85~100莫耳%左右，較佳為90~100莫耳%。

上述聚乙烯醇系樹脂較佳為於側鏈具有親水性之長鏈官能基。作為上述於側鏈具有之親水性之長鏈官能基，例如可列舉乙醯乙醯基、羰基等。就提高耐久性之方面而言，更佳為包含側鏈具有親水性之長鏈官能基(例如乙醯乙醯 基)之聚乙烯醇系樹脂的接著劑。又，由於側鏈具有親水性之長鏈官能基之聚乙烯醇系樹脂具有親水性，故而膨潤性優異，且水之吸收性良好，容易藉由水之存在而膨潤(容易溶解)，故而即便於偏光元件之水分率較低之情形時，亦可獲得良好之接著性，故而較佳。

含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂可利用公知之方法使聚乙烯醇系樹脂與雙乙烯酮反應而獲得。例如可列舉預先使聚乙烯醇系樹脂分散於乙酸等溶劑中，並於其中添加雙乙烯酮之方法；使聚乙烯醇系樹脂預先溶解於二甲基甲醯胺或二烷等溶劑中，並於其中添加雙乙烯酮之方法等。又，可列舉使雙乙烯酮氣體或液狀雙乙烯酮與聚乙烯醇直接接觸之方法。

含有乙醯乙醯基之聚乙烯醇系樹脂之乙醯乙醯基改性度只要為0.1莫耳%以上則並無特別限制。若未達0.1莫耳%，則接著劑層之耐水性不充分而不合適。乙醯乙醯基改性度較佳為0.1~40莫耳%左右，進而佳為1~20莫耳%，尤佳為2~7莫耳%。若乙醯乙醯基改性度超過40莫耳%，則耐水性之提高效果較小。乙醯乙醯基改性度係藉由NMR(Nuclear Magnetic Resonance，核磁共振)測定之值。

又，由上述水系接著劑形成之接著劑層於其水溶液之製備時亦可視需要調配交聯劑或其他之添加劑、酸等催化劑。

作為交聯劑，可並無特別限制地使用聚乙烯醇系接著劑所使用之交聯劑。可使用包含至少2個與上述聚乙烯醇系 樹脂具有反應性之官能基的化合物。例如可列舉乙二胺、三乙二胺、六亞甲基二胺等具有伸烷基與2個胺基之伸烷基二胺類；甲苯二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯加成物、三苯基甲烷三異氰酸酯、亞甲基雙(4-苯基甲烷三異氰酸酯)、異佛爾酮二異氰酸酯及該等之酮肟封端物或酚封端物等異氰酸酯類；乙二醇二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、甘油二縮水甘油醚或甘油三縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、二縮水甘油基苯胺、二縮水甘油基胺等環氧類；甲醛、乙醛、丙醛、丁醛等單醛類；乙二醛、丙二醛、丁二醛、戊二醛、順丁烯二醛、鄰苯二甲醛等二醛類；羥甲基脲、羥甲基三聚氰胺、烷基化羥甲基脲、烷基化羥甲基化三聚氰胺、乙醯胍胺、苯并胍胺與甲醛之縮合物等胺基-甲醛樹脂；乙酸鋯、硝酸鋯、碳酸鋯、氫氧化鋯、氧氯化鋯等鋯化合物；乙醛酸金屬鹽(作為金屬，例如可列舉鋰、鈉、鉀等鹼金屬，鎂、鈣等鹼土類金屬，鈦、鋯、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅等過渡金屬，鋅、鋁等)、乙醛酸胺鹽(作為胺，例如可列舉氨、單甲基胺、二甲基胺、三甲基胺等)等乙醛酸鹽；具有1個以上之鹼性基與1個以上之酸性基之胺基酸或含硫胺基酸；二甲氧基乙醛、二乙氧基乙醛、二烷氧基乙醛等縮醛化合物；進而鈉、鉀、鎂、鈣、鋁、鐵、鎳等二價金屬、或三價金屬之鹽及其氧化物。該等可單獨使用一種，或者併用兩種以上。該等中，較佳為使用具有1個以上之鹼性基與1個以 上之酸性基之胺基酸或含硫胺基酸。作為鹼性基，較佳為胺基，作為酸性基，較佳為羧基或磺基。作為上述胺基酸，例如可列舉甘胺酸、丙胺酸、苯丙胺酸、纈胺酸、白胺酸、異白胺酸、離胺酸、脯胺酸、絲胺酸、蘇胺酸、色胺酸、組胺酸、酪胺酸、精胺酸、天冬醯胺、天冬胺酸、阿司巴甜、麩醯胺、麩胺酸、以及該等胺基酸與(甲基)丙烯酸之共聚物等。作為上述含硫胺基酸，例如可列舉甲硫胺酸、半胱胺酸、胱胺酸及牛磺酸等。該等中，尤佳為使用牛磺酸等具有磺基之含硫胺基酸。又，作為交聯劑，可使用矽烷偶合劑、鈦偶合劑等偶合劑。

上述交聯劑之調配量可視聚乙烯醇系樹脂之種類等而適當設計，相對於聚乙烯醇系樹脂100重量份，通常為0.1~50重量份左右，較佳為0.2~30重量份左右，更佳為0.5~20重量份。於該範圍內可獲得良好之接著性。

本發明之偏光板之製造方法包括：步驟(1)，將接著劑塗佈於透明保護膜，而於透明保護膜上形成接著劑層；步驟(2)，利用上述接著劑層貼合偏光元件與透明保護膜；及步驟(3)，使上述接著劑層乾燥。藉由該製造方法，可獲得於偏光元件之至少一面經由接著劑層而設置有透明保護膜之偏光板。

上述步驟(1)中，將接著劑塗佈於透明保護膜後加以乾燥，而於透明保護膜上形成塗膜狀態之接著劑層。

上述接著劑對透明保護膜之塗佈較佳為以乾燥步驟(3)後之接著劑層之厚度成為10~300 nm左右之方式進行。就 獲得均勻之面內厚度及獲得充分之接著力之觀點而言，接著劑層之厚度更佳為10~200 nm，尤佳為20~150 nm。於接著劑層之厚度未達10 nm之情形時，接著力不足，於超過300 nm之情形時，光學可靠性及耐濕接著力有降低之傾向。

作為調整接著劑層之厚度之方法，並無特別限制，例如可列舉調整接著劑溶液之固體成分濃度或接著劑之塗佈裝置之方法。作為此種接著劑層厚度之測定方法，並無特別限制，較佳為使用利用SEM(Scanning Electron Microscopy，掃描式電子顯微鏡)、或TEM(Transmission Electron Microscopy，穿透式電子顯微鏡)之剖面觀察測定。

上述接著劑之塗佈操作並無特別限制，可採用凹版塗佈法、模嘴塗佈法、輥式塗佈法、噴霧塗佈法、浸漬塗佈法等各種手段，就可均勻地塗佈接著劑而言，較佳為凹版塗佈法、模嘴塗佈法。

又，上述步驟(1)中係以形成於透明保護膜上之黏著劑層成為半乾燥之塗膜狀態之方式進行控制。具體而言，形成於30秒以內產生對水之接觸角變化之塗膜狀態之黏著劑層。上述接著劑層之塗膜狀態係以接著劑層對水之接觸角之變化時間為基準而進行判斷。即，上述接著劑層之塗膜狀態可謂表示接著劑層對水之膨潤時間(接著劑層開始溶解之時間)之指標。具體而言，上述接著劑層對水之接觸角之變化時間係接著劑層對水之接觸角(初始之接著角)自水接觸接著劑層起至變化10°之時間。上述接觸角之變化 時間為30秒以下，較佳為15秒以下。若上述接觸角之變化時間為30秒以下，則即便於偏光元件之水分率較低之情形時，亦可藉由偏光元件中之水分使接著劑層膨潤而提高接著性。又，上述接觸角之變化時間越短，則意味接著劑層越快地被水溶解，就高速生產性之觀點而言較佳。另一方面，若上述接觸角之變化時間超過30秒，則於偏光元件之水分率較低之情形時，難以藉由偏光元件之水分使接著劑層膨潤，會產生接著不良。

上述塗膜狀態之接著劑層之形成例如係藉由使塗佈於透明保護膜之接著劑乾燥而進行。乾燥條件係根據接著劑之種類等而決定，乾燥溫度較佳為30~100℃，進而較佳為40~90℃。又，乾燥時間較佳為1~100秒，進而較佳為20~80秒。

藉由上述步驟(1)，於在透明保護膜上形成上述塗膜狀態之接著劑層後，實施藉由上述接著劑層貼合偏光元件與透明保護膜之步驟(2)。步驟(2)中之貼合法並無特別限定，例如可採用利用輥式層壓機等之貼合法。再者，於在偏光元件之兩面設置透明保護膜之情形時，可採用同時或逐次之任一貼合法。

繼而，於貼合步驟(2)後實施乾燥步驟(3)。藉由乾燥步驟(3)，而由上述半乾燥之塗膜狀態之接著劑層獲得形成有接著劑層、於偏光元件之至少一面經由該接著劑層設置有透明保護膜的偏光板。

上述乾燥步驟(3)之乾燥條件中，乾燥溫度為40~ 100℃、乾燥時間為1~10分鐘。乾燥溫度較佳為50~90℃，進而較佳為60~80℃。又，乾燥時間較佳為2~9分鐘，進而較佳為3~8分鐘。

藉由本發明之製造方法而獲得之偏光板於實際使用時，可作為與其他光學層積層而成之光學膜使用。對該光學層並無特別限定，可使用1層或2層以上之可用於例如反射板、半透過板、相位差板(包括1/2、1/4等之波長板)、視角補償膜等液晶顯示裝置等之形成的光學層。尤佳為於本發明之偏光板上進而積層反射板或半透過反射板而成之反射型偏光板或半透過型偏光板、於偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板、於偏光板上進而積層視角補償膜而成之廣視角偏光板、或者於偏光板上進而積層亮度提高膜而成之偏光板。

本發明之偏光板或光學膜可較佳地用於液晶顯示裝置等各種裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依照先前而進行。即，液晶顯示裝置通常係藉由將液晶單元與偏光板或光學膜、及視需要之照明系統等構成部件適當地組裝，並組入驅動電路等而形成，本發明中，除了使用本發明之偏光板或光學膜之方面以外，並無特別限定，可依照先前進行。關於液晶單元，亦可使用例如TN(Twisted Nematic，扭轉向列)型、STN(Super Twisted Nematic，超扭轉向列)型、π型等任意類型者。

可形成於液晶單元之一側或兩側配置有偏光板或光學膜之液晶顯示裝置、或將背光裝置或反射板用於照明系統者 等適當之液晶顯示裝置。於該情形時，本發明之偏光板或光學膜可設置於液晶單元之一側或兩側。於在兩側設置偏光板或光學膜之情形時，該等可相同，亦可不同。進而，液晶顯示裝置之形成時，可於適當之位置上配置1層或2層以上之例如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光裝置等適當之部件。

[實施例]

以下使用實施例及比較例進而具體地說明本發明，但本發明並不受該等實施例及比較例限定。

(偏光元件之水分率測定方法)

自獲得之偏光膜切出180 mm×500 mm之樣品，測定其初始重量(W(g))。將該樣品於120℃之乾燥機內放置2小時後，測定乾燥後重量(D(g))。根據該等測定值，藉由下式求出水分率。

水分率(%)={(W-D)/W}×100

(偏光元件之製作)

使用厚度75 μm之聚乙烯醇膜(Kuraray股份有限公司製造，VF-PS7500，寬度1000 mm)，一面於30℃之純水中浸漬60秒，一面延伸至延伸倍率2.5倍，並於30℃之碘水溶液(重量比：純水/碘(I)/碘化鉀(KI)=100/0.01/1)中染色45秒，以延伸倍率成為5.8倍之方式於4重量%硼酸水溶液中延伸，於純水中浸漬10秒後，於保持膜之張力之狀態下在60℃下乾燥3分鐘，獲得偏光元件。該偏光元件之厚度為25 μm，水分率為12重量%。將其設為偏光元件(1)。

於上述偏光元件(1)之製作中改變乾燥條件，除此以外，以與偏光元件(1)相同之方式製作水分率不同之偏光元件(2)-(5)。乾燥條件與水分率如下所示。

偏光元件(2)：乾燥條件(40℃下30秒)、水分率20重量%。

偏光元件(3)：乾燥條件(40℃下20秒)、水分率25重量%。

偏光元件(4)：乾燥條件(40℃下60秒)、水分率10重量%。

(接著劑A之製備)

將PVA(polyvinyl alcohol，聚乙烯醇)樹脂(日本合成化學工業股份有限公司製造，Ecomaty)100重量份與交聯劑(大日本油墨化學工業股份有限公司製造，Watersol)35重量份溶解於純水3760重量份中，製備接著劑A。

(接著劑B之製備)

將PVA樹脂(日本合成化學工業股份有限公司製造，GOHSEFIMER Z，含有乙醯乙醯基)100重量份與交聯劑(大日本油墨化學工業股份有限公司製造，Watersol)35重量份溶解於純水3760重量份中，製備接著劑B。

(接著劑C之製備)

相對於上述接著劑B(水溶液)100重量份，添加氧化鋁膠體水溶液(平均粒徑15 nm，固體成分濃度10重量%，正電荷)18重量份，製備接著劑C。

實施例1

(偏光板之製作)

利用狹縫式模具將上述接著劑A塗佈於厚度為80 μm之三乙醯纖維素(TAC，triacetyl cellulose)膜(富士膠片公司製造，UZ-80T，水分率1.4重量%)之單面側後，於65℃下乾燥1分鐘，獲得具有厚度0.1 μm之塗膜狀態之接著劑層的附接著劑層之TAC膜。繼而，利用輥壓機將附接著劑層之TAC膜貼合於上述偏光元件之兩面。然後，於80℃下實施5分鐘之乾燥步驟，製作偏光板。

實施例2~4及比較例1~5

實施例1中，如表1中所示般變更接著劑之種類、偏光元件之種類(水分率)，除此以外，藉由與實施例1相同之方法製作偏光板。

對上述實施例及比較例中所獲得之偏光板進行以下評價。將評價結果示於表1。

<水之接觸角變化時間>

對形成於透明保護膜上之半乾燥之塗膜狀態之黏著劑層，使其與水接觸而經時地觀察水之接觸角。測定自水接觸於上述接著劑層之時間點之接觸角(初始角度)至接觸角變化10°為止之時間。接觸角之測定、接觸角之變化之確認(時間之測定)係藉由利用液滴法之動態接觸角法(協和科學製造之接觸角計)進行。

<接著性>

自獲得之偏光板之端進行偏光元件與透明保護膜之界面剝離，將剝離者記為「×」，將未剝離者記為「○」。

<偏光度之測定>

偏光板之偏光度係使用附積分球之分光光度計(日本分光股份有限公司製造之V7100)測定380~780 nm之波長光下之分光透過率。

再者，偏光度係藉由將使2片相同之偏光板以兩者之透過軸平行之方式重疊之情形的透過率(平行透過率：Tp)及以兩者之透過軸正交之方式重疊之情形的透過率(正交透過率：Tc)應用於下式而求出。

偏光度(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}^1/2×100關於各透過率，該等透過率係根據JIS Z8701之2度視野(C光源)測定而進行可見度修正之Y值。表中表示單體透過率為42.8%時之偏光度。

Claims (3)

1. 一種偏光板之製造方法，其特徵在於：上述偏光板係於偏光元件之至少一面經由接著劑層而設置透明保護膜，且該製造方法包括：步驟(1)，將偏光板用之水系接著劑塗佈於上述透明保護膜後加以乾燥，而於透明保護膜上形成30秒以內產生對水之接觸角變化之塗膜狀態之接著劑層；步驟(2)，藉由上述接著劑層貼合水分率為12~25重量%之偏光元件與透明保護膜；及步驟(3)，使上述接著劑層乾燥。
2. 如上述請求項1之偏光板之製造方法，其中上述水系接著劑為含有聚乙烯醇系樹脂之聚乙烯醇系接著劑。
3. 如上述請求項2之偏光板之製造方法，其中上述聚乙烯醇系樹脂於側鏈具有親水性之長鏈官能基。