TWI383247B - 轉印光罩之製造方法 - Google Patents

Description

轉印光罩之製造方法

本發明，係有關一種半導體製造用之光罩空白板，尤其，有關光罩空白板品質資訊之取得及管理，以及光罩空白板及光罩之製造。

本發明相關之習知技術，例如有日本之專利公開公報特開2003－149793號公報。該公報所記載之技術提到，空白板製造商，根據檢查結果將空白板以缺陷等級區分，附上缺陷資訊，供應給光罩製造商。

又，日本之特開2003－248299號公報揭示一種用來正確掌握光罩基板上缺陷位置之技術。

上述之習知技術中與光罩空白板一起提供之缺陷資訊，顯示存在於光罩空白板表面之缺陷彼此之相對位置關係，卻未設有使光罩空白板與缺陷資訊之位置資訊相對應的基準，因此，即便有缺陷資訊，仍無法正確得知實際之光罩空白板上之何處有缺陷，而於描繪顯影處理時產生圖案不良。再者，並不確定收納於收納箱之光罩空白板之方向與缺陷資訊之方向是否一致。因此，實際之光罩空白板與缺陷資訊有90°、180°、270°之偏差，導致描繪顯影處理時產生圖案不良。理由是，在製程取出收納於流通箱、匣箱、收納箱等容器之基板並對基板進行既定處理後再度收納於另一容器時，無法確認基板之收納方向在之前之容器與之後之容器是否相同。

以往，光罩製造商製作光罩時，上述之缺陷資訊並無太大的問題。理由是，就作為習知曝光用光源之I線(波長365nm)、KrF(波長248nm)等來說，可容許之缺陷程度，亦即，缺陷之大小及個數之容許範圍並不小。

然而，由於隨著半導體裝置之高積體化，使圖案複雜，圖案之線寬變小。為了因應這樣的問題，而將曝光用光源之波長來短波長化，並研究可否將ArF(波長193nm)、F2(157nm)等當作光源，因此，預料光罩可容許之缺陷程度比以前更低。

又，由於圖案之複雜化及微小化，導致以描繪機描繪圖案來製造光罩所需要的時間及成本大幅增加。因此，更須抑制光罩空白板引起之圖案缺陷。這種圖案缺陷例如有微粒、針孔。

另一方面，有關用來因應圖案微細化之光罩空白板，越來越需要相移光罩空白板。有一種相移光罩空白板，亦即半色調型相移光罩空白板，係形成有半色調膜、遮光膜，依情況之不同還形成有光阻膜。半色調膜具有遮光機能及相移機能，擔任與遮光膜不同的角色。

為了提高這種光罩製程之良率、簡化製程、降低成本等，必須獲得構成光罩空白板之各膜之缺陷資訊。

專利文獻1：日本之特開2003-149793號公報

專利文獻2：日本之特開2003-248299號公報

發明之揭示

然而，習知技術，不必取得各膜之缺陷資訊，僅如上所述提供最終出貨狀態下光罩空白板之檢查結果。因此，空白板製造商，在光罩空白板之製程並未管理每個基板之缺陷資訊，無法將光罩空白板各膜之缺陷資訊提供給光罩製造商。

因此，光罩製造商，在描繪顯影處理時無法抑制光罩空白板引起之缺陷所導致之圖案不良之發生。又，圖案不良通常會在圖案修正製程使用FIB(focused ion beam，聚焦離子束)或雷射等來做修正，但由於圖案之複雜化及微小化，而出現無法修正之情況。在這種情況便須重新製造光罩。

本發明，係有鑑於這種情況而開發，其目的在於提供一種光罩製作支援方法，該方法可在自光罩空白板製作光罩時抑制光罩空白板引起之圖案不良。又，另一目的在於提供一種光罩空白板之提供方法及一種光罩空白板之製造方法。該提供方法，係在由光罩空白板製作光罩時，附上膜資訊，以便能抑制光罩空白板引起之圖案不良。又，另一目的在於提供一種轉印光罩之製造方法。該製造方法，係可利用膜資訊來與待形成之圖案核對，提高製造良率，降低製造成本。

為了達成上述之目的，本發明提供下列之技術。

(1)本發明提供一種光罩製作支援方法、光罩空白板提供方法、光罩空白板製造方法、使用該光罩空白板來製造轉印光罩的方法。該等方法，係將構成光罩空白板之複數膜之膜資訊提供給光罩製造商，自光罩空白板將前述膜圖案化來製作轉印光罩時，用來抑制圖案形成之不良。

詳細來說，光罩空白板製程中，對基板賦予管理號碼，根據管理號碼核對複數膜之膜資訊，或根據複數膜之各膜資訊中形成於同一位置之表面形態資訊(凸部或凹部)來核對複數膜之膜資訊，藉此來確定複數膜資訊間之位置資訊，防止光罩製作時之圖案不良。

本發明之其他形態如下所述。

光罩空白板之製程中，藉對用於生產之每一個基板、光罩空白板賦予管理號碼等方法來進行個體之識別。

其次，於前述之基板上依序堆疊複數膜，並且取得前述膜相關之膜資訊。

所謂膜資訊，係膜之狀態資訊，包含膜之表面資訊、表面形態資訊，例如，膜面之凸形狀、凹形狀、這些之組合、或光學特性資訊等；且該膜資訊與膜面之位置資訊有關。此外，在此所稱之光學特性包含透光率、反射率、吸光率、相位差等。就堆疊於基板上之複數膜分別取得之前述之膜資訊，可根據管理號碼等做個體識別，將資訊彼此核對，因此，可確定光罩空白板個體與所取得之複數膜資訊間之關係，並且確定複數膜資訊間之關係，又，確定由複數膜資訊所含位置資訊所顯示之光罩空白板內位置。

又，在此，亦可取得有關基板之基板資訊。

基板資訊，係包含基板之表面資訊、表面形態資訊，例如，基板面之凸形狀、凹形狀、該等形狀之組合或光學特性資訊等的基板狀態資訊，該基板資訊與基板面之位置資訊相關著。又，在此所稱之光學特性包含透光率、反射率、吸光率、相位差等。

若於基板上形成膜，並且取得有關該基板之基板資訊、及有關該膜之膜資訊，基板資訊及膜資訊便可根據該管理號碼等做個體識別，亦能做核對，故能確定光罩空白板個體、與所取得之基板資訊及膜資訊間之關係，並且確定基板資訊與膜資訊之關係，確定由基板資訊或膜資訊所含位置資訊顯示之光罩空白板內位置。

又，未必要對基板賦予管理號碼。因膜之表面形態是按照該膜下層之膜之表面形態、或基板之表面形態而形成，故核對複數膜資訊、或膜資訊及基板資訊所含之形態資訊，便可確定光罩空白板個體、與所取得之膜資訊或基板資訊間之關係，確定複數膜資訊間之關係或膜資訊與基板資訊之關係，確定複數膜資訊所含之位置資訊與光罩空白板內位置之關係，又，確定基板資訊或膜資訊所含之位置資訊與光罩空白板內位置之關係。

本發明中，基板、及形成於基板上之膜所構成之光罩空白板個體已取得基板資訊及膜資訊所構成之光罩空白板資訊，或複數膜資訊所構成之光罩空白板資訊。又，光罩空白板資訊所含之位置資訊已確定光罩空白板內之位置。亦即，本發明之光罩空白板資訊，其特徵在於：係光罩空白板之立體資訊，已取得作為光罩空白板之內部資訊，亦即光罩空白板體內資訊，是可辨識的。

因可預先了解光罩空白板表面，亦可預先了解光罩空白板體內之資訊，故可防止光罩製作時不良轉印光罩之製作發生。

本發明，是使光罩空白板資訊所含位置資訊之位置之基準點、與光罩空白板之位置之基準點相對應，取得資訊。又，使該基板資訊所含位置資訊之位置之基準點、與基板之位置之基準點相對應，取得資訊。又，使該膜資訊所含位置資訊之位置之基準點、與基板或膜之位置之基準點相對應，取得資訊。

(2)本發明提供一種光罩製作支援方法、光罩空白板提供方法、光罩空白板製造方法、使用該光罩空白板來製造轉印光罩的方法，該等方法，係將包含表面形態資訊及位置資訊之光罩空白板表面資訊提供給光罩製造商，使該表面資訊及光罩空白板表面形態藉分別設置之基準點來相對應，而使光罩製作者能指定圖案形成之區域。

詳言之，在光罩空白板製造之各製程、及於對光罩製造商提供光罩空白板時使用之收納箱收納光罩空白板時，是按基板或按設於基板上之基準標記來管理基板之方向性(朝某指定之方向對齊)，故能使包含光罩空白板之表面形態資訊及位置資訊的表面資訊、與光罩空白板表面形態之位置對應，而防止光罩製作時之圖案不良。

在此，所謂膜資訊，係檢查基板上剛形成之各個膜而獲得的資訊。膜資訊，係指包含顯示膜上缺陷之位置及大小及類別等的表面形態資訊，亦包含顯示膜面內組成分布的組成分布資訊。又，該組成分布資訊，係包含膜材料所引起成分局部改變的位置及範圍及成分改變後之狀態等。又，將表面資訊稱為光罩空白板表面資訊，該表面資訊包含光罩空白板完成後成為表面之最上位膜之表面形態資訊稱之。

本發明之別的形態如下列所示。

本發明提供一種光罩製作支援方法、光罩空白板資訊提供方法、光罩空白板提供方法、光罩空白板製造方法、使用光罩空白板來製造轉印光罩的方法，該等方法，係在將前述光罩空白板資訊提供給光罩製造商時，是以可相對應之方式提供光罩空白板資訊、及該資訊相關之光罩空白板個體，故光罩製作者可選擇將於該光罩空白板形成既定光罩圖案的區域。

本發明，係使光罩空白板資訊所含位置資訊之位置之基準點、與光罩空白板之位置之基準點相對應。

本發明，係將基板或光罩空白板收納於在光罩空白板製程時及/或在對光罩製造商提供光罩空白板時所使用之收納具時，管理基板或光罩空白板之排列或方向性。例如，將複數基板或複數光罩空白板收納成往既定方向對齊。此時，亦可參考設於基板、膜或光罩空白板之基準點來進行收納。

例如，光罩空白板製程包含用來準備基板之製程、用來取得基板資訊之製程(例如，基板檢查製程)、於基板上形成膜的製程、用來取得膜資訊的製程(例如，膜之檢查製程)、為了對光罩製造商提供光罩空白板而將光罩空白板收納於收納具的製程等，而且，該等製程待進行的基板或光罩空白板之收納作業中，為了管理基板或光罩空白板之方向性，將複數基板或複數光罩空白板收納成往既定方向對齊。

在此所稱之收納具例如包含後述之保持具、箱子。在此所稱之基準點例如可以利用能識別的標記。

本發明中所利用之標記、基準標記，例如可以利用賦予給基板如後述之刻痕標記般的標記、賦予給膜如膜標記般的標記。

若提供如上述般收納著的光罩空白板，則因光罩空白板以既定排列、既定方向性對齊，故光罩製作者能識別光罩空白板個體，能在參考基準點或無參考之下得知光罩空白板之位置之基準點。

若利用本發明，光罩製作者，可透過光罩空白板之位置之基準點，根據所提供之光罩空白板資訊，了解欲製作轉印光罩的光罩空白板之表面資訊或內部資訊，故可選擇待形成既定光罩圖案的區域。亦即，光罩製作者能在形成既定光罩圖案之前，得知導致圖案不良或阻礙轉印光罩所希望機能的表面缺陷或內部缺陷之存在，故能提高製造良率，生產報酬率高的轉印光罩或生產廉價的轉印光罩。

又，本發明最好利用於形成有相移膜例如半色調膜的光罩空白板或轉印光罩。例如，半色調型相移光罩，是一種相移光罩，於透光性基板上形成有半色調膜、遮光膜。半色調膜，係兼具用來實質上遮擋曝光用光的遮光機能、及用來移動曝光用光之相位的相移機能，該半色調膜具有控制透光率及相位差加深轉印於被轉印體之圖案之圖案邊緣這樣的機能。半色調型相移光罩，係於透光性基板上形成有半色調膜之圖案，該相移光罩由光透過部及光半透過部所構成，該光透過部，未形成有半色調膜之圖案，用來使具有實質上有助於曝光之強度的光透過，該光半透過部，形成有半色調膜之圖案，用來使具有實質上無助於曝光之強度的光透過，而且，使透過該光半透過部之光之相位相對於透過光透過部之光之相位處於實質上翻轉的關係，藉以來使通過光半透過部與光透過部之邊界部附近、藉繞射現象彼此繞進對方區域的光互相抵消，使邊界部之光強度大致為零，而提高邊界部之對比。因此，形成有半色調膜之光罩空白板所需之品質，是比僅形成有遮光膜的光罩空白板還高，再者，在對光罩空白板施以圖案化處理來製造轉印光罩之情況，難以降低不良率。

本發明係提供下列的技術。

本發明提供一種光罩製作支援方法，該光罩空白板，係於基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的複數膜，該光罩製作支援方法，自該光罩空白板將該薄膜圖案化來製作轉印光罩時，為了抑制圖案形成不良，將用來指定圖案形成區域之膜資訊提供給光罩製造商，該光罩製作支援方法之特徵在於：膜資訊，係由構成光罩空白板的複數膜所獲得之資訊。

圖案，可具有用來形成相對緊密圖案的緊密圖案形成區域、及用來形成相對疏散圖案的疏散圖案形成區域。

膜資訊，可包含導致圖案缺陷的凸部或凹部之種類、凸部或凹部之大小、凸部或凹部之位置資訊中之任一者。

位置資訊，可以是以形成於基板之刻痕標記及/或形成於基板上表面上周緣部之薄膜所產生之膜標記為基準所作成的資訊。

光罩空白板資訊、基板資訊及膜資訊之一部分或全部之提供可以利用通信線路來進行。

膜，亦可包含相對曝光用光具有相移機能的相移膜。

又，本發明提供一種光罩空白板提供方法，該提供方法用來將上述之光罩製作支援方法與光罩空白板一起提供給光罩製造商，該提供方法之特徵在於：光罩空白板，係收納於收納箱內，且被保持具保持，該保持具具有用來保持該光罩空白板而形成的保持插槽，光罩空白板資訊，係藉光罩空白板指定手段來核對，該光罩空白板指定手段是間接賦予給光罩空白板的手段。

光罩空白板資訊，可藉賦予給保持具插槽的插槽號碼來核對。

又，本發明提供一種光罩空白板製造方法，該製造方法具有下列製程：用來準備光罩空白板用基板的製程、用來於基板上形成作為轉印圖案之薄膜的薄膜形成製程、用來取得薄膜膜資訊的薄膜資訊取得製程、用來將在薄膜資訊取得製程所取得的薄膜膜資訊記錄儲存於資訊貯藏媒體的薄膜資訊記錄製程、用來於薄膜上形成光阻膜的光阻膜形成製程、用來取得光阻膜膜資訊的光阻膜資訊取得製程、用來將在光阻膜資訊取得製程所取得的光阻膜膜資訊記錄儲存於資訊貯藏媒體的光阻膜資訊記錄製程、及用來核對薄膜之膜資訊及光阻膜之膜資訊的膜資訊核對製程。

又，在此，亦可在用來準備光罩空白板用基板的製程之後包含用來取得該基板之基板資訊的基板資訊取得製程，再者，亦可包含用來將在基板資訊取得製程所取得的基板資訊記錄儲存於資訊貯藏媒體的基板資訊記錄製程。又，亦可具有用來核對基板資訊及膜資訊的核對製程。

該光罩空白板製造方法，亦可具有在準備光罩空白板用基板後，用來對光罩空白板用基板賦予管理號碼的管理號碼賦予製程，根據所賦予的管理號碼來核對薄膜之膜資訊及光阻膜之膜資訊。又，亦可核對基板資訊及膜資訊。

基板資訊或膜資訊，可包含凸部或凹部之種類、凸部或凹部之大小、凸部或凹部之位置資訊中其中之一。

位置資訊，可以為以形成於基板之刻痕標記及/或於基板主表面上周緣部形成之薄膜所產生之膜標記為基準所作成的資訊。

有關基板資訊、薄膜之膜資訊、光阻膜之膜資訊，可以利用基板資訊或薄膜之膜資訊及光阻膜之膜資訊所含同一位置上所形成的特定形態例如凸部或凹部來核對。

又，本發明提供一種轉印光罩之製造方法，該製造方法中所使用之光罩空白板之基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的膜，該製造方法使用該光罩空白板，按照待形成之圖案資料將該薄膜圖案化來製作轉印光罩，該製造方法之特徵在於：核對藉上述之光罩製作支援方法所獲得之光罩空白板資訊及圖案資料，指定光罩空白板中能抑制圖案形成不良之圖案形成區域。

圖案，可以具有用來形成相對緊密圖案的緊密圖案形成區域、及用來形成相對疏散圖案的疏散圖案形成區域。

又，本發明亦包含以下之發明。亦即，一種光罩製作支援方法，所使用之光罩空白板之基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的膜，該支援方法從該光罩空白板將薄膜圖案化來製作轉印光罩時，將指定能抑制圖案形成不良之圖案形成區域所必要的光罩空白板資訊提供給光罩製作者，該支援方法之特徵在於：光罩空白板資訊，係包含表面形態資訊，用來提供給光罩製作者的光罩空白板之表面形態之位置之基準點與和表面形態資訊對應的位置資訊之基準點對應著，光罩製作者，係能透過基準點將光罩空白板資訊反應於光罩空白板，得知光罩空白板之狀態，指定圖案形成區域。

亦可在基板或基板上設置基準標記，位置資訊之基準點，則與基準標記有固定之關係而作成，與光罩空白板之表面形態之位置之基準點相對應。

亦可在基板或膜或光罩空白板設置基準標記，基板資訊或膜資訊之取得時，將資訊作成資訊所含位置資訊之基準點與基準標記有固定之關係，藉以來使光罩空白板資訊之位置之基準點與用來提供之光罩空白板之位置之基準點相對應。

基準標記，最好以能指定基板或光罩空白板之方向之方式來賦予。

基準標記，最好賦予在與基板或光罩空白板之角部鄰接的部位。在將基準標記賦予於偶數部位之情視下，當俯視基板或光罩空白板時，若不要對相對1個基準標記呈旋轉對稱之部位賦予其他之基準標記，則容易指定基板或光罩空白板之方向或方向性，所以這樣做是理想的。

基準標記，可以呈能指定基板方向性的形狀。

基準標記，亦可設於相對於與基板之邊平行、通過基板中心的線呈非對象的位置。

基準標記，亦可為形成於基板的刻痕標記及/或形成於基板主表面上之薄膜所產生之膜標記。

基板資訊或膜資訊，亦可為以基準標記為基準在指定之方向取得的資訊。

本發明，亦可具有用來將包含作為轉印圖案之薄膜的膜形成於基板上的膜形成製程、及用來取得膜表面資訊的表面資訊取得製程，在膜形成製程及表面資訊取得製程，以基準標記為基準管理基板或光罩空白板之方向性。

本發明，亦可在製造光罩空白板時之各製程，將基板或光罩空白板往各製程搬送時使用之箱子收納基板或光罩空白板時，以基準標記為基準來管理基板或光罩空白板之方向性。

如上所述，基板或光罩空白板之方向性是以既定方式管理，亦即，複數基板或光罩空白板之方向排列成固定，若即便在資訊取得時，亦使複數基板或光罩空白板往固定之方向對齊來取得資訊，則這樣做對於本發明是理想的。

表面資訊，亦可包含基板之表面資訊及膜之表面資訊中之至少1種資訊。

膜之表面資訊亦可包含相移膜之表面資訊。

表面形態，在自光罩空白板將薄膜圖案化來製作轉印光罩時，亦可包含成為圖案形成不良之表面粗糙度或起伏、凸部及/或凹部、異物或凹陷、掉膜，更包含由缺陷檢查裝置取得之微粒狀缺陷及/或針孔狀缺陷。

表面資訊，亦可包含粗糙度或起伏之高度或波長或周期、凸部之高度或大小、凹部之深度或大小、異物之高度或大小、凹陷之深度或大小、微粒之高度或大小、針孔之深度或大小的資訊。

圖案，亦可具有用來形成相對緊密圖案的緊密圖案形成區域、及用來形成相對疏散圖案的疏散圖案形成區域。

疏散圖案形成區域亦可為用來測試電氣特性所形成的監測用晶片形成區域。

轉印光罩亦可為系統LSI製造用轉印光罩。

本發明，亦可將複數片光罩空白板及與各光罩空白板對應的光罩空白板資訊提供給光罩製作者。

又，本發明提供一種光罩空白板交易系統，該交易系統用來進行上述之光罩製作支援方法；其特徵在於：對用來交給光罩製造商的複數光罩空白板直接或間接賦予用來指定各光罩空白板的管理號碼或管理記號，將光罩空白板資訊，與管理號碼或管理記號相關，並與光罩空白板一起提供給光罩製造商。

管理號碼或管理記號，亦可用來保持光罩空白板而形成有插槽的保持具、及用來收納該保持具的收納箱所賦予的插槽號碼及箱號碼。

光罩空白板資訊，可以利用通信線路來提供給光罩製造商。

光罩空白板資訊，亦可與管理號碼或管理記號相關，並儲存於資訊貯藏手段(伺服器)，光罩製造商，則利用通信線路在資訊貯藏手段(伺服器)進行資料存取，根據管理號碼或管理記號獲得光罩空白板資訊。

又，本發明提供一種光罩空白板製造方法，該製造方法，具有用來準備光罩空白板用基板的製程、用來在於基板主表面上形成包含作為轉印圖案之薄膜的膜形成製程、用來取得光罩空白板表面資訊的表面資訊取得製程、及用來將表面資訊記錄儲存於資訊貯藏媒體的表面資訊儲存製程，該光罩空白板表面資訊是在將薄膜圖案化來製作轉印光罩時指定用來抑制圖案形成不良之圖案形成區域所必要的資訊，該製造方法之特徵在於：在基板或基板上設置基準標記，以該基準標記為基準以指定方向取得表面資訊。

基準標記，亦可指定基板方向性的形狀。

基準標記，亦可設置於對基板之邊平行通過基板中心的線呈非對稱之位置。

基準標記，亦可形成於基板之刻痕標記及/或形成於基板表面上之薄膜所產生之膜標記。

本發明，亦可在製造光罩空白板時之各製程，將基板往各製程搬送時使用之箱子收納基板時，以基準標記作為基準來管理基板之方向性。

本發明，亦可在準備光罩空白板用基板之後，具有在光罩空白板用基板直接或間接賦予用來指定基板之管理號碼的管理號碼賦予製程，將根據所賦予之管理號碼來製造出之光罩空白板之表面資訊加以核對。

再者，亦可具有用來將光罩空白板收納於收納箱內並加以包裝的包裝製程，光罩空白板被形成有插槽之保持具所保持，該保持具用來保持收納於收納箱內的光罩空白板，用來核對該光罩空白板及表面資訊的光罩空白板指定方法是直接或間接來賦予給光罩空白板。

光罩空白板指定手段，亦可在保持具及收納箱作為所賦予的插槽號碼及箱號碼。

又，本發明提供一種轉印光罩製造方法，該製造方法所使用之光罩空白板之基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的膜，該製造方法，使用該光罩空白板，按照待形成圖案之資料將薄膜圖案化來製作轉印光罩，該製造方法之特徵在於：將藉由上述之光罩製作支援方法所獲得與光罩空白板之表面形態之位置相對應的光罩空白板表面資訊、與圖案資料加以核對，指定能抑制圖案形成不良的光罩空白板中之圖案形成區域。

圖案資料，亦可具有用來形成相對緊密圖案之緊密圖案形成區域、及用來形成相對疏散圖案之疏散圖案形成區域，在表面資訊含有成為圖案不良之表面形態之情況下，核對表面資訊及圖案資料，以成為圖案不良之表面形態配置於緊密圖案形成區域以外之方式來指定圖案在光罩空白板之配置。

又，本發明提供一種轉印光罩之製造方法，該製造方法所使用之光罩空白板之基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的膜，該製造方法使用光罩空白板，按照待形成圖案之資料將薄膜圖案化來製作轉印光罩，該製造方法之特徵在於：在該光罩空白板進行圖案化處理之前，將藉本發明之光罩製作支援方法所獲得之該光罩空白板之光罩空白板資訊與該圖案資料加以核對，選擇該光罩空白板中能抑制圖案形成之不良的，及/或，不妨礙轉印光罩機能的圖案形成區域。

該圖案資料，係包含具有相對緊密圖案的區域、及具有相對疏散圖案的區域，若該光罩空白板資訊含有導致圖案不良的，或，導致妨礙轉印光罩機能的狀態資訊，亦即，形態資訊、光學特性資訊等，則能選擇該狀態存在之位置以外之位置，配置用來形成相對緊密圖案的區域。

又，本發明提供一種轉印光罩之製作支援方法，用來支援轉印光罩製作者，該轉印光罩製作者所使用之光罩空白板之基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的膜，該轉印光罩製作者使用光罩空白板，按照待形成圖案之資料將薄膜圖案化來製作轉印光罩；且在該光罩空白板進行圖案化處理之前，將藉由本發明預先取得的該光罩空白板之光罩空白板資訊及該圖案資料加以核對，選擇該光罩空白板中能抑制圖案形成不良的，及/或，不妨礙轉印光罩機能的待形成圖案區域。

又，本發明提供一種轉印光罩製作支援方法，用來支援轉印光罩製作者，該轉印光罩製作者所使用之光罩空白板之基板上形成有至少包含作為轉印圖案之薄膜的膜，該轉印光罩製作者使用光罩空白板，按照待形成圖案之資料將薄膜圖案化來製作轉印光罩；且在光罩空白板進行圖案化處理之前，將藉本發明預先取得的光罩空白板之光罩空白板資訊及該圖案資料加以核對，選擇能抑制圖案形成不良的，及/或，不妨礙轉印光罩機能的特定光罩空白板。

疏散圖案形成區域可以為用來測試電氣特性而形成的監測用晶片形成區域。

轉印光罩亦可為系統LSI製造用轉印光罩。

又，本發明為一種光罩空白板提供方法，用來將上述之光罩製作支援方法與光罩空白板一起提供給光罩製造商，亦可將該光罩空白板收納於收納箱內，藉基準標記來使收納於收納箱內的光罩空白板之方向性、與用來取得表面資訊之表面資訊取得製程中之基板之方向性相對應。

亦可以在製造光罩空白板時之各製程，於將基板往各製程搬送時使用之箱子收納基板時，以基準標記為基準來管理基板之方向性。

本發明之光罩空白板資訊取得方法亦可為如下所述。

亦即，本發明提供一種光罩空白板資訊取得方法，係有關在基板面所堆疊的複數膜之光罩空白板，該光罩空白板資訊，係包含基板資訊及1種以上之膜資訊，或2種以上之膜資訊，基板資訊，係包含與基板面對應之平面座標系(二次元座標系)之位置資訊、及用來顯示與位置資訊相關之基板之狀態的狀態資訊，1種膜資訊，係包含與1個膜對應之平面座標系之位置資訊、及用來顯示與位置資訊相關之該膜之狀態的狀態資訊，光罩空白板資訊所含之基板資訊或膜資訊之平面座標系則具有既定之對應關係。

該光罩空白板資訊取得方法例如包含以下階段來實施：在基板面上形成第1膜或於基板面上所形成之另一膜上來形成第1膜之階段；來獲得所形成第1膜狀態相關之第1膜資訊之階段；於第1膜上形成第2膜之階段；取得所形成第2膜狀態相關之第2膜資訊之階段；生成包含第1膜資訊及第2膜資訊的光罩空白板資訊之階段。

該光罩空白板資訊取得方法亦可包含以下階段：準備基板；取得準備好基板狀態相關之基板資訊；於基板面上形成膜；取得所形成膜狀態相關之膜資訊；生成包含基板資訊及膜資訊的光罩空白板資訊。

基板資訊及膜資訊所含平面座標系之基準點，彼此可以具有預先決定之關係，或者是，以形成於基板之標記及形成於膜之標記中之至少1個標記為基準來決定。

該光罩空白板資訊取得方法可以進一步包含將基板資訊及/或膜資訊互相核對這樣的階段。

狀態資訊可以包含有關表面形態之資訊及有關光學特性之資訊中至少1種資訊。

至少有1個膜可以是用來移動曝光用光之相位的相移膜。

光罩空白板資訊可以包含將複數膜之膜資訊投影於平面而生成的資訊。

可以想到複數方法將用來顯示基板方向之資訊賦予給基板。

例如，可以進一步包含在膜資訊取得之前，對基板上及/或膜上預先決定的位置賦予能作為狀態資訊檢測出之基準標記這樣的階段，使光罩空白板資訊包含用來顯示根據基準標記決定出基板方向的資訊。基準標記可以具有能指定方向的形狀。基板之輪廓可以呈旋轉對稱性之形狀，包含所賦予之基準標記的基板之形狀可以具有旋轉非對稱性。基板之具代表性的輪廓為包含正方形及長方形的方形。

該光罩空白板資訊取得方法，可以包含以下階段：在賦予基準標記之情況下，藉由裝置A來在基板上形成膜a，並且測定膜a取得包含基準標記之膜資訊a；將基板自裝置A取出；以基準標記為基準，將基板以朝預先決定之方向來收納於箱子；將箱子往裝置B搬送；以基準標記為基準，將基板以朝預先決定之方向設置於裝置B；藉由裝置B在基板上形成膜b，並且測定膜b取得包含基準標記的膜資訊b。

又，該光罩空白板資訊取得方法，可以包含以下階段：在賦予基準標記之情況下，將基板設置於測定裝置測定基板，取得包含基準標記之基板資訊；將基板自測定裝置取出；以基準標記為基準，將基板以朝預先決定之方向來收納於箱子；將箱子往裝置A搬送；以基準標記為基準，將基板以朝預先決定之方向來設置於裝置A；藉裝置A於基板上形成膜a，並且測定膜a取得包含基準標記的膜資訊a。

可以參照所取得的光罩空白板資訊，藉以來識別光罩空白板之個體。

狀態資訊可以包含至少2種測定值。

該基板資訊及膜資訊之至少1種資訊，可以包含立體座標系之位置資訊，該立體座標系則進一步包含基板或膜厚度方向之座標。

又，本發明提供一種光罩空白板資訊提供方法，其特徵在於：該光罩空白板，係於基板上堆疊形成有複數膜；將藉上述之光罩空白板資訊取得方法所取得之光罩空白板資訊與該光罩空白板一起提供。

又，本發明提供一種轉印光罩製作支援方法，其特徵在於：用來將光罩空白板資訊提供給光罩製造商，支援轉印光罩之製作；包含藉上述之光罩空白板資訊提供方法來將光罩空白板資訊提供給光罩製造商這樣的階段；用來提供之光罩空白板資訊，係為了防止製作出不良的轉印光罩，在用來對應之光罩空白板形成光罩圖案之前，指定用來形成光罩空白板上光罩圖案之區域時，被當作參考資訊。

又，本發明提供一種轉印光罩製作支援方法，其特徵在於：用來將光罩空白板資訊提供給光罩製造商，支援轉印光罩之製作；包含藉上述之光罩空白板資訊提供方法來對光罩製造商提供光罩空白板資訊這樣的階段；透過基準標記通知光罩製造商光罩空白板資訊中座標系之基準點；接受提供之光罩製造商，係透過基準標記來取得平面座標系間之對應關係，根據所取得之對應關係及光罩空白板資訊來決定待形成光罩圖案之區域。

該轉印光罩製作支援方法中，形成於光罩空白板之光罩圖案可以包含相對密的圖案之區塊、及相對疏的圖案之區塊。

又，本發明提供一種轉印光罩製造方法，其特徵在於：用來於光罩空白板形成作為轉印圖案之光罩圖案，製造轉印光罩；根據藉上述之光罩空白板資訊取得方法所取得的光罩空白板資訊，來決定用來於光罩空白板配置光罩圖案的區域。

又，本發明提供一種光罩空白板製造方法，其特徵在於：包含上述之光罩空白板資訊取得方法。

又，本發明提供一種光罩空白板資訊取得系統，其特徵在於：該光罩空白板，係於基板面上堆疊有複數膜；該系統具有下列資訊取得手段中之至少2個手段、及用來生成光罩空白板資訊的手段，該光罩空白板資訊包含藉資訊取得手段所取得之資訊；該資訊取得手段，係指用來取得有關基板狀態之基板資訊的手段、用來取得有關第1膜狀態之第1膜資訊的手段、及用來取得有關第2膜狀態之第2膜資訊的手段，其中，該第1膜是形成於基板面上的膜、或形成於基板面上所形成另一膜上的膜，該第2膜是形成於基板面上所形成第1膜以外的膜。

該光罩空白板資訊取得系統中，該基板資訊，可以包含與基板面對應之平面座標系之位置資訊、及顯示與位置資訊相關之基板之狀態的狀態資訊；1種膜資訊，係包含與1個膜對應之平面座標系之位置資訊、及顯示與位置資訊相關之膜之狀態的狀態資訊；該光罩空白板資訊所包含之基板資訊或膜資訊之座標系，係具有既定的對應關係。

上述之光罩空白板資訊取得方法中，該基板，可以為多角形；且對該基板相接之兩側邊所夾的區域賦予基準標記。

上述之光罩空白板資訊取得方法中，可以將偶數個該基準標記賦予給互相呈旋轉非對稱之位置。

又，本發明提供一種轉印光罩製作支援方法，其特徵在於：用來將光罩空白板資訊提供給光罩製造商，支援轉印光罩之製作；該方法包含藉上述之光罩空白板資訊提供方法來對光罩製造商提供複數光罩空白板之光罩空白板資訊這樣的階段；用來提供之光罩空白板資訊，係在光罩圖案之形成前，選擇該複數光罩空白板之一時被當作參考資訊。

上述之光罩空白板資訊取得方法中，可以在用來取得該膜資訊b的階段後，進一步包含以基準標記為基準，將基板以朝預定之方向收納於箱子這樣的階段。

上述之光罩空白板資訊取得方法中，可以在用來取得該膜資訊a的階段後，進一步包含以基準標記為基準，將基板以朝預定之方向收納於箱子這樣的階段。

本發明提供一種光罩空白板提供方法，其特徵在於：將藉上述之光罩空白板資訊取得方法所取得之光罩空白板相關之光罩空白板資訊與光罩空白板一起提供。

能經由光罩空白板之製程來使基板資訊、膜資訊之方向與實際之基板之方向一致。又，即便在製程中以錯誤的方向處理基板，仍能透過將基板資訊、膜資訊互相比較來檢測方向之錯誤。

能根據所取得之基板資訊及膜資訊來識別各個光罩空白板。亦即，能將基板資訊、膜資訊當作一種識別符號來使用。

由於提供與基板方向對應的基板資訊、膜資訊，故能正確傳遞存在於光罩空白板基板及膜各層之缺陷之位置。

因能正確傳遞光罩空白板各層之缺陷，故能避開缺陷部來製作光罩，防止光罩圖案不良之發生。

又，即便是具有缺陷的部位，仍能根據缺陷種類及大小及數量等以及待描繪之圖案之形狀及粗密等，事先判斷為即便描繪圖案亦沒有問題之結果，而能有效利用光罩空白板。

實施發明之最佳形態

先說明作為本發明第1實施形態之光罩空白板膜資訊取得方法。又，以下實施形態之說明中，膜資訊如上所述包含表面資訊，且可以將膜資訊直接取代為表面資訊。

光罩空白板膜資訊取得方法是與製程同時進行，該製程係指自開始到於玻璃基板形成1次膜、2次膜、光阻膜所製造出之光罩空白板收納於收納箱為止所發生的製程。每次逐一形成1次膜、2次膜及光阻膜時，便進行各膜之檢查，並將與其結果對應之1次膜膜資訊、2次膜膜資訊及光阻膜膜資訊來生成、登記於主電腦。主電腦，整理該等膜資訊並將光罩空白板膜資訊生成、貯藏，按外部之要求將貯藏的光罩空白板膜資訊往紙及電子媒體及通信線路等輸出。

參照第1圖，第1圖由虛線分成上中下三段。下段顯示製造流程，中段顯示與各製程對應之製程之光罩空白板，上段顯示在檢查製程生成之膜資訊。以下，按下段製程之先後次序做說明。

(1)基板加工製程

準備形成有刻痕標記1之玻璃基板。刻痕標記，係藉形狀表示基板之玻璃種類。其次，對玻璃基板之表面做研削、研磨加工，加工至所希望之表面粗糙度及平坦度。為了除去在研磨製程使用之研磨劑而洗淨玻璃基板後，將玻璃基板收納至附有ID標籤的流通箱2。於流通箱2以刻痕標記1為基準使玻璃基板之方向一致來收納基板。

(2)1次膜成膜製程

使用來進行生產管理的主電腦，對附加在流通箱2之ID標籤賦予用來管理各基板之管理號碼。主電腦將製程之順序、製造條件之設定、各製程之資訊收集並記錄儲存。將收納於流通箱2內之玻璃基板搬入濺鍍裝置，於形成有刻痕標記1之側及相反側藉由反應性濺鍍形成作為1次膜之MoSiN半色調膜。此時，由於基板保持具而未形成MoSiN膜之處形成膜標記3。將附有MoSiN半色調膜之基板收納在異於流通箱2之流通箱4。同時，將1次膜成膜結束之資訊儲存於主電腦。將管理號碼轉送至流通箱4所附加之ID標籤。於流通箱4以刻痕標記1(或膜標記3)為基準使基板之方向一致來收納基板。

(3)1次膜檢查製程

將收納於流通箱4的附有半色調膜之基板搬入用來檢查1次膜缺陷之缺陷檢查裝置，進行缺陷檢查取得膜資訊。就每個管理號碼將缺陷之位置資訊、缺陷大小(以等級別顯示大小)、缺陷之種類(針孔、微粒、其他)儲存於主電腦，作為膜資訊(膜之表面資訊)。將在此取得的膜資訊稱為1次膜膜資訊。將缺陷檢查完成的基板收納於別的流通箱5。同時，將管理號碼轉送至流通箱5之ID標籤。於流通箱5以刻痕標記1(或膜標記3)為基準將基板以方向一致方式收納。

(4)2次膜成膜製程

將收納於流通箱5內的附有半色調膜之基板搬入生產線(inline)濺鍍裝置，於1次膜上藉反應性濺鍍形成作為2次膜之Cr遮光膜。此時，於因基板保持部而未形成Cr膜之處形成膜標記6。將附有Cr遮光膜之基板收納於別的流通箱7。同時，將2次膜成膜結束之資訊儲存於主電腦。將管理號碼轉送至附加於流通箱7之ID標籤。於流通箱7以刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準使基板之方向一致來收納基板。

(5)2次膜檢查製程

將收納於流通箱7的附有Cr遮光膜之基板搬入用來檢查2次膜缺陷之缺陷檢查裝置，進行缺陷檢查取得膜資訊(膜之表面資訊)。就每個管理號碼將缺陷之位置資訊、缺陷之大小(以等級別顯示大小)、缺陷之種類(針孔、微粒、其他)儲存於主電腦，作為膜資訊，。將在此取得之膜資訊稱為2次膜膜資訊。將缺陷檢查完成之基板收納於別的流通箱8。同時，將管理號碼轉送至附加於流通箱8之ID標籤。於流通箱8以刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準將基板以方向一致之方式收納。

(6)光阻成膜製程

將收納於流通箱8內的附有Cr遮光膜之基板搬入旋轉塗佈裝置，於2次膜上藉旋轉塗佈法塗佈光阻膜，經烘烤、冷卻形成光阻膜。將附有光阻膜之基板(光罩空白板)收納於別的流通箱9。同時，將光阻膜成膜結束之資訊儲存於主電腦。將管理號碼轉送至附加於流通箱9之ID標籤。於流通箱9以刻痕標記9(或膜標記3、6)為基準使光罩空白板之方向一致來收納基板。

(7)光阻膜檢查製程

將收納於流通箱9之附有光阻膜之基板(光罩空白板)搬入缺陷檢查裝置，進行缺陷檢查取得膜資訊。就每個管理號碼將缺陷之位置資訊、缺陷之大小(以等級別顯示大小)、缺陷之種類(針孔、微粒、其他)儲存於主電腦，作為膜資訊。將在此取得之膜資訊稱為光阻膜膜資訊。將缺陷檢查完成的基板收納於別的流通箱10。同時，將管理號碼轉送至附加於流通箱10之ID標籤。於流通箱10以刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準使光罩空白板之方向一致來收納基板。

(8)膜資訊之核對製程

將1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊互相核對，藉以來確認膜資訊彼此間方向是否一致。具體來說，以無位置變化之缺陷為基準核對各膜之缺陷資訊資料。亦即，利用若作為最下層膜之1次膜有缺陷，則作為1次膜上層膜之2次膜、光阻膜亦有缺陷產生的這個現象，以1次膜膜資訊為基準來判定另一膜資訊之方向是否正確。

因此，雖可使膜資訊彼此間方向一致，不過，例如，當將基板自特定流通箱移至別的流通箱時，有可能以錯誤的基板方向收納於流通箱，在此情況，即便膜資訊間一致，膜資訊與基板之方向仍不一致。

為了避免這種可能性，使基板進出流通箱、收納箱時，作業者參照刻痕標記1、膜標記3及6以基板朝向為基準，沿著預定之方向使基板進出。

藉此方式，能使光罩空白板製程(1)~(9)之基板方向保持固定，避免基板方向與膜資訊方向之不一致，並且使膜資訊彼此間之方向一致，故能使基板之方向與全部膜資訊之方向一致。又，確認膜資訊彼此之一致，故即便在製程中以錯誤之基板方向收納於流通箱、收納箱，仍能檢測這個錯誤。

(9)空白板包裝製程

將光罩空白板收納於收納箱20並包裝、配送給光罩製造商。在此參照第18A圖及第18B圖說明收納箱20。對每個收納箱20賦予特有之箱號碼21並附加上去。該箱號碼21與後述插槽號碼皆以和管理編號具有關連而賦予，該管理編號係於上述光罩空白板製造過程，用於使各基板和各步驟之資訊(例如膜資訊)對應而附加。且，箱號12係與保存在主機的各膜之膜資訊或基板資訊具有對應。箱號21係添附在收納箱20，但箱號21之添附並不限於印刷等可目視辨認的狀態，例如，以條碼、磁性記錄媒體、IC晶片、IC標纖等可讀取媒體添附亦可。收納箱20由蓋22及外箱23所構成，外箱23中進一步由內箱24、插槽25所構成。內箱24，收納於外箱23，具有基板保持具之作用。插槽25是基板間之分隔物，以下說明中，為求方便，有時將用來儲藏鄰接2個插槽25間基板之部分稱為插槽。因此，第18B圖中有用來儲藏5片基板之插槽。對各插槽賦予插槽號碼，將各個插槽分別稱為插槽No1、插槽No.2、插槽No.5。外箱23之外表面中靠近插槽No.1的面記載著用來顯示收納箱20方向的正面標示26。組合箱號碼及插槽號碼分辨儲藏於收納箱20之光罩空白板。為了使各光罩空白板之膜資訊之位置資訊之基準點、與用來對應收納於收納箱20之上述位置資訊之基準點的光罩空白板之基準點相對應，在將光罩空白板收納於收納箱20時，以上述之刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準使光罩空白板之方向性一致來收納。如此一來，因為在光罩空白板製程之各製程以刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準使基板之方向性一致來進行膜之形成、缺陷檢查，而且在各製程間之基板之搬送時所使用之基板流通箱亦以刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準使基板之方向性一致來收納，將光罩空白板收納於收納箱並提供給光罩製造商時亦以刻痕標記1(或膜標記3、6)為基準使光罩空白板之方向性一致來收納，所以，能使光罩空白板與缺陷資訊之位置資訊正確相對應，能防止光罩製作時之圖案不良。回來說明空白板包裝製程，此時，就每個光罩空白板將包含1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊的空白板膜資訊提供給作為配送目的地之光罩製造商。空白板膜資訊之提供方法，係(a)於收納箱20附上印有空白板膜資訊的印刷品，(b)將記錄著空白板膜資訊資料之軟碟片、CD－ROM等記錄媒體附在收納箱20，(c)透過資料通信線路將空白板膜資訊資料傳送至作為配送目的地之光罩製造商之電腦等。在(a)及(b)之情況，將空白板膜資訊本身與該資訊和插槽號碼間之對應關係一起附在收納箱20。在(c)之情況，由光罩製造商傳送箱號碼及插槽號碼，並接收符合該等號碼之空白板膜資訊，藉此來接受提供。

又，亦可於1次膜成膜製程－1次膜檢查製程、及2次膜成膜製程－2次膜檢查製程之間設置洗淨過製程。上述之(1)~(10)之製程及光罩製造商，光罩空白板之正反，係由圖3(A)及(B)所示之膜標記31及刻痕標記1來區別。如圖3(A)所示，於正面記上膜標記31。如圖3(B)所示，於反面記上刻痕標記1。

各膜資訊，係由以基板既定方向為基準預先設定於膜上之XY座標系之X座標、Y座標、缺陷大小、缺陷種類所構成。缺陷種類由針孔及微粒所構成。微粒，係指膜上附著有粒狀物質的狀態，針孔，係指暫時付著之粒狀物質脫落後所產生痕跡的狀態。

第4圖，係空白板膜資訊之例子。在1次膜之階段有缺陷之處，在2次膜及光阻膜之相同位置產生缺陷。

其次，就作為本發明第2實施形態之光罩空白板生產線控制系統50加以說明。參照第5圖，光罩空白板生產控制系統50，係由主電腦51、匣號碼插槽號碼賦予裝置52(以下記為賦予裝置52)、1次膜成膜裝置53、1次膜缺陷檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜缺陷檢查裝置56、光阻膜成膜裝置57及光阻膜缺陷檢查裝置58所構成。匣具有複數用來收納基板之插槽，並且具備ID標籤。於ID標籤記錄對該匣賦予之匣號碼。

參照第7圖，為了將基板投入生產線，而將基板收納於匣，利用賦予裝置52自輸入部521輸入匣號碼、插槽號碼、製造流程。製造流程，由製程等級、製程所用之裝置名稱、各裝置所使用之製程配方號碼所構成，是按照欲生產之光罩提供給每個匣。又，在生產線上，基板之指定是以製程內之位置、匣號碼、插槽來進行。

賦予裝置52，係將匣號碼寫入匣之ID標籤，並且藉資料送受信部522將匣號碼、插槽號碼及製造流程往主電腦51傳送。參照第6圖，主電腦51，係在資料送受信部511接收信號後，將匣號碼、插槽號碼及製造流程相關並貯藏於製造流程貯藏部512。

當經過以賦予裝置52輸入完匣號碼之匣(以下，將該匣稱為匣A)安裝於1次膜成膜裝置53之裝貨機口531時，自匣A之ID標籤讀取匣號碼並藉資料送受信部532通知主電腦51。

參照第8圖，主電腦51，回應該通知，將匣A之匣號碼、插槽號碼、濺鍍之製程配方號碼傳送給1次膜成膜裝置53。又，製程配方號碼亦可以在濺鍍裝置之動作即將開始前傳送。接收到這些信號之1次成膜裝置53，在製程配方號碼－濺鍍條件核對部533核對與製程配方號碼對應之濺鍍條件，將經核對之濺鍍條件貯藏於濺鍍條件貯藏部534。濺鍍條件控制部535根據該濺鍍條件控制濺鍍裝置536，進行濺鍍處理。濺鍍裝置536自匣A抽出基板開始做濺鍍處理。在濺鍍處理之製程，收集濺鍍實績，將該實績與插槽號碼相關。

濺鍍處理完成之基板進入在卸貨機口538預先準備好的別的匣(以下稱為匣B)之插槽。此時，插槽號碼、濺鍍實績、卸貨機插槽號碼收集部537(以下稱為收集部537)，收集在匣A之插槽號碼、被連接之濺鍍實績、在匣B之插槽號碼，並使用資料送受信部532傳送給主電腦51。又，當匣B之插槽全部被1次膜成膜後之基板佔滿時，收集部537將佔滿的訊息與匣B之匣號碼一起通知主電腦51。

主電腦51回應上述的訊息以匣號碼B、匣號碼A、製造流程之程序指定下一製程，對未圖示之匣搬送部指示搬送目的地。又，主電腦51將匣B之匣號碼、及已傳送給1次膜成膜裝置53之濺鍍之製程配方號碼傳送給1次膜缺陷檢查裝置54。

參照第9圖，1次膜缺陷檢查裝置54，係在資料送受信部541接收上述之訊息後，便將該訊息交給匣號碼－製程配方號碼核對部542。

匣搬入裝貨機543後，匣號碼－製程配方號碼核對部542便核對與自匣之ID標籤讀取之匣號碼對應的製程配方號碼。在此，若匣號碼為匣B之號碼，則獲得對收納於匣B之基板做濺鍍處理時的製程配方號碼。

於缺陷檢查條件貯藏部544事先貯藏著製程配方號碼、與對於製程配方號碼所示配方條件下所形成之膜待進行之檢查條件的對應關係，當自匣號碼－製程配方號碼核對部542接到製程配方號碼時，便輸出待進行之檢查條件。

缺陷檢查條件控制部545根據該檢查條件控制缺陷檢查裝置546進行檢查。缺陷檢查裝置546將檢查結果輸出作為缺陷檢查資訊。檢查完成之基板則收納於事先裝在卸貨機口547之別的匣(以下稱為匣C)之插槽。

卸貨機匣號碼、卸貨機插槽號碼賦予部548，用來對匣C賦予匣號碼，並且將匣C之匣號碼、匣C之插槽號碼、收納於插槽之基板之缺陷檢查資訊相關，使用資料送受信部541傳送給主電腦51。

主電腦51，將傳送的資訊，與在1次膜成膜裝置58獲得之濺鍍實績等相關，貯藏於資訊貯藏部513。

2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56省略說明，這是因為分別相較於1次膜成膜裝置53及1次膜檢查裝置54，僅有待形成之膜之種類不同所產生之差異，構成要素及動作上並無大的差異。第10圖所示之光阻膜成膜裝置57及光阻膜缺陷檢查裝置58亦是同樣的。

如此一來，缺陷資訊核對部514，根據自1次膜成膜裝置53、1次膜檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56、光阻膜成膜裝置57及光阻膜缺陷檢查裝置58收集到之資訊，來生成在第1實施形態說明過之1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊，並且將該等資訊互相核對，生成圖4所示之空白板膜資訊。

其次，就作為本發明第3實施形態之光罩製作支援系統110加以說明。

參照第11圖，光罩製作支援系統110，係由光罩空白板工廠111、用來根據光罩空白板工廠111所製造之光罩空白板來製造光罩的光罩工廠112、及用來連接兩工廠的資料通信線路113。再者，光罩空白板工廠111由主電腦51及伺服器114所構成。光罩空白板工廠111所製造之光罩空白板係收納於前述之收納箱10配送至光罩工廠112。主電腦51，係前述之光罩空白板生產線控制系統50之主電腦51。伺服器14，係自主電腦51接收必要資訊，透過網際網路113提供資訊給光罩工廠112之遠端電腦。

就以光罩製作支援系統110將圖案描繪於光罩空白板光阻膜的製程加以說明。

如第2實施形態所說明的，於主電腦51貯藏著預先製造好的光罩空白板之空白板膜資訊。空白板膜資訊，係以刻痕標記或膜標記為基準指定方向性，確定基準點。又，製造好的光罩空白板，係以刻痕標記或膜標記為基準使光罩空白板之方向性一致來收納於收納箱10並配送至光罩工廠112。此時，收納箱10附有箱號碼。箱號碼之附加，不限定於在印刷等之可目視確認的狀態下來進行，亦可以例如在條碼、磁性記錄媒體、IC晶片等之可機械讀取的狀態來進行。

參照第12圖，就在光罩工廠112之光罩描繪及顯像處理加以說明。接到收納箱10之光罩工廠112之作業者，自收納箱10藉目視確認或機械讀取之方式取得箱號碼後，使用電腦等資料通信裝置，透過網際網路等資料通信線路113將箱號碼傳送給伺服器114。伺服器114回應這個動作而回傳收納於該箱號碼收納箱各插槽之光罩空白板之空白板膜資訊(步驟S121)。

資料通信之形態可以考慮採用各種形態。例如，透過電子郵件來雙向傳送箱號碼及空白板膜資訊，或者是將用來表示箱號碼、與收納於該箱號碼收納箱各插槽之光罩空白板之空白板膜資訊的對應關係的資料庫設置於伺服器114，回傳與自光罩工廠112側輸入之箱號碼對應的空白板膜資訊。在此階段，光罩空白板具有第13A圖所示的截面，其玻璃基板上已形成1次膜、2次膜、光阻膜三層膜。

接到空白板膜資訊的光罩工廠112將空白板膜資訊與欲製造之光罩之光罩圖案加以核對(步驟S122)。如上所述，此時，光罩空白板內位置資訊之基準點、與空白板膜資訊中位置資訊之基準點是相對應的。或者是，此時，光罩空白板內位置資訊之基準點、與光罩圖案資料位置資訊之基準點是相對應的。

現在，光罩工廠112自光罩空白板工廠111接收空白板膜資訊141，正要描繪光罩圖案142。空白板膜資訊141包含1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊。

一般來說，光罩圖案具有密度高的緊密圖案形成區域143及密度低的疏散圖案形成區域144。

另一方面，一般來說，光罩空白板之針孔、微粒並非平均分布，而是特定程度地局部分散。因此，參照空白板膜資訊142，調整決定圖案描繪位置，使得針孔、微粒配置於緊密圖案形成區域143以外之區域(步驟S123)。

圖案描繪位置之調整方法上，可以考慮改變光罩圖案142相對於基板方向的方向。又，若緊密圖案形成區域143與疏散圖案形成區域144之相對位置關係可改變，則可改變該關係來做調整。

最後，根據所決定之圖案描繪位置於光阻膜描繪圖案，進行顯像(步驟S124)。

其次，就第4實施形態加以說明。本實施形態中，特別提出如何使空白板膜資訊與基板方向一致的技術並加以說明。

再度參照第1圖及3，於光罩空白板之玻璃基板記著刻痕標記1。習知技術中，刻痕標記1目的僅在顯示玻璃基板之玻璃種類，藉標記形狀之差異來顯示玻璃基板之玻璃種類。

又，膜上記著原本用來顯示膜種類的膜標記。膜標記，與刻痕標記1同樣地藉標記形狀之差異、及該膜與另一膜之位置關係來顯示膜之種類。例如，1次膜上之膜標記2具有代表為MoSiN膜的形狀，2次膜上之膜標記3具有代表為Cr膜的形狀。又，圖上之膜標記是簡化的標示，故與實際形狀並不一致。

本發明，是將該等刻痕標記、膜標記當作基板方向之標準，使基板進出流通箱、匣、收納箱等容器時，經常以相同方向收納基板。因此，1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊之方向均與基板之方向一致。

本實施形態中，膜資訊之膜的片數亦可為一片。即使習知技術中所見僅觀察即將自光罩空白板工廠出貨前之光罩空白板表面亦即表面膜上所獲得的缺陷資訊仍能適用。即使此情況，仍有確定缺陷資訊之方向與基板之方向一致的功效。

其次，就本發明之第5實施形態加以說明。第5實施形態，係將上述第1至第4實施形態全部形態之一部分加以改變的形態，以下，就光罩空白板資訊取得方法、光罩製作支援方法、提供給光罩製造商之光罩空白板之製造方法、轉印光罩之製造方法、將光罩空白板資訊取得並儲存的方法加以說明。又，亦揭示光罩空白板資訊提供方法、光罩空白板提供方法之具體例子。

又，以下實施形態之說明中，膜資訊，係包含表面資訊的資訊，可將膜資訊稱為表面資訊。

膜資訊是掃描膜之表面所取得之面資訊。又，基板資訊是掃描基板之表面所取得的面資訊。面資訊是投影於作為二次元座標的平面座標、看得懂的資訊。

又，以下，顯示利用缺陷檢查取得基板資訊或膜資訊的例，其中，缺陷，係指妨礙轉印光罩之機能或導致不良轉印光罩的表面形態或光學特性。具體來說，例如有微粒狀缺陷、針孔狀缺陷。

光罩空白板資訊之取得，如第15圖所示，係利用檢查製程來進行，其中，該檢查製程是與製程同時進行，該製程係指自開始到於玻璃基板逐一形成1次膜、2次膜、光阻膜而製造出之光罩空白板收納於箱子為止所發生之製程。若準備經鏡面研磨等加工處理的玻璃基板，在1次膜成膜之前進行基板檢查，使能取得基板資訊，在第15圖之例子中並未圖示基板檢查。

第15圖所示之實施形態中，每次形成1次膜、2次膜及光阻膜之各個薄膜時，便進行薄膜之缺陷檢查。生成與其檢查結果對應的1次膜之膜資訊、2次膜之膜資訊及光阻膜之膜資訊，使該等資訊與各基板(各光罩空白板)對應，並使該等資訊記錄儲存於主電腦。之後，核對整理記錄儲存於主電腦的基板資訊、膜資訊，生成光罩空白板資訊。光罩空白板資訊，係合併基板資訊、1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊等複數面資訊而生成。構成光罩空白板資訊的面資訊，係有關各自相同、光罩空白板不同的截面。因此，光罩空白板資訊成為將光罩空白板內部之狀態以立體方式顯示的資訊。

光罩空白板資訊，是與各個光罩空白板對應，提供給光罩製造商，該各個光罩空白板經光罩空白板之製程製造出並收納於收納箱20內。上述資訊，係利用紙張形文件、電子媒體、磁性媒體、通信線路等自光罩空白板製造商提供給光罩製造商。

參照第15圖，本圖以虛線分為上中下三段。第15圖之下段顯示光罩空白板之製程、及在各製程間搬送基板時使用之匣內收納基板或光罩空白板的方向性，亦即方向之變化製程。

第15圖之中段顯示與各製程對應的製程之膜之構造、及附有膜之基板之形態。第15圖之上段顯示在缺陷檢查製程生成之膜資訊。以下，按下段光罩空白板製程之順序詳細說明用來取得並儲存膜資訊的方法。

(1)基板加工製程

準備形成有刻痕標記1的玻璃基板。可藉由該刻痕標記來判別基板之玻璃種類。

例如，刻痕標記1具有日本實開昭62－17948號公報所示之面形狀，該面形狀，係在玻璃基板之隅角部以斜截面狀挖開主表面及形成該隅角部之2端面3面而形成。又，亦可利用所形成之刻痕標記之個數及形成位置來判別構成該玻璃基板的玻璃種類。

本發明之實施形態中，刻痕標記1用來當作指定基板方向性之基準標記、及在後述之缺陷檢查製程取得之膜資訊之基準點。刻痕標記1，具體來說，如第16A圖所示可設於基板之一主表面側之隅角部2處。有刻痕標記1形成於對角位置的這個玻璃基板之玻璃種類為合成石英玻璃。

其次，對玻璃基板之表面研削、研磨，加工至所希望之表面粗糙度及平坦度。又，為了除去研磨加工所使用之研磨劑，要洗淨玻璃基板。

其次，將玻璃基板收納於附有ID標籤2’之製程內流通用匣2。以下將該匣稱為流通匣2。該ID標籤係一種資訊管理手段，可寫入或讀取有關收納於流通匣、流通匣之基板或光罩空白板的資訊。ID標籤，係可記錄保持資訊的媒體。例如可使用IC標籤。可對ID標籤賦予用來管理收納於流通匣之各基板或各光罩空白板的管理號碼，例如識別號碼，並保持該管理號碼。該管理號碼有匣號碼及插槽號碼，該匣號碼係賦予給每個流通匣，該插槽號碼係賦予給複數溝槽，該溝槽係設置於該流通匣，用來收納複數片基板。可根據管理號碼來識別基板、管理各基板。賦予給ID標籤的管理號碼用來使下一製程以後所取得之各製程資訊與各基板相對應，該各製程資訊例如有在各薄膜檢查製程生成之膜資訊、在各薄膜形成製程所用的製造條件及製造配方等。又，流通匣2是可以區別匣之方向，亦即前後左右。又，於流通匣2相向之2個內壁，以既定間隔形成有複數上下延伸之溝槽，各個溝槽可以收納玻璃基板或光罩空白板。以刻痕標記1為基準，於該等複數溝槽分別收納著1片玻璃基板或光罩空白板，且該等基板或光罩空白板收納成彼此方向一致。具體來說，收納方式是將形成於玻璃基板之刻痕標記1配置於相對於流通匣2既定位置的既定關係。匣內複數玻璃基板或光罩空白板收納成往相同方向排列。

本實施形態中，玻璃基板是收納於流通匣2之前側，且複數片玻璃基板之刻痕標記1位於前側之特定位置。

亦即，以賦予流通匣2產生之前面為基準，將形成有刻痕標記1之基板面以朝向匣前面之方式排列，並且自匣前面來看，所收納之複數片玻璃基板之刻痕標記對齊在相同位置。

又，下一製程之後，在各製程間用來收納基板的流通匣是使用與上述流通匣2相同構造的匣。

(2)1次膜成膜製程

使用用來進行生產管理的主電腦，對附加於流通匣2的ID標籤2’賦予用來管理各基板的管理號碼。主電腦使賦予ID標籤的管理號碼與用來處理各基板的製程之順序、各製程所用之製造條件互相對應。主電腦，可以從製程內各裝置收集資訊(例如基板資訊、膜資訊等)並按各管理號碼記錄儲存資訊。

詳細來說，用來進行生產管理的主電腦，對附加於各流通匣之每一ID標籤2’，均賦予並記錄用來管理流通匣或所收納之各基板的管理號碼。又，該主電腦，使賦予ID標籤2’的管理號碼與用來處理各基板的複數製程、檢查製程之順序、及在該等製程設定之製造條件等互相對應。再者，該主電腦，可以對於各基板收集、記錄、儲存在前述複數製程取得之各製程之資訊(例如，基板資訊、在各薄膜之檢查製程生成之膜資訊、在各薄膜之形成製程所利用之製造條件、製造配方等)。

將收納於流通匣2內之玻璃基板一次取出1片，將基板配置於濺鍍裝置之保持具，且配置方式是形成有刻痕標記1之一側之基板面向上，未形成有刻痕標記之一側之基板面與濺鍍靶相對。

其次，使用MoSi之濺鍍靶，在氬氣與氮氣之混合氣大氣下，藉由反應性濺鍍法將作為相移膜之半色調膜形成於玻璃基板面。

成膜，係與形成有刻痕標記1之主表面對向(相反面)的玻璃基板主表面進行。如此一來，於玻璃基板表面形成作為含有MoSiN之半色調膜的相移膜。

於基板之保持具設置遮蔽手段，以使基板主表面之周緣部之既定區域不形成MoSiN半色調膜。

藉該遮蔽手段，於基板主表面上形成不會形成MoSiN膜的既定區域，並做成膜標記3。

可藉膜標記3形狀之不同、膜標記之位置、配置等來辨別已形成於玻璃基板上之薄膜之種類。本實施形態中，利用半色調膜用的膜標記。

膜標記3，與上述之刻痕標記1同樣地可當作用來指定基板方向性之基準標記、在後述之檢查製程取得之膜資訊之基準點來使用。

膜標記31，例如，可如第16B圖所示於形成有刻痕標記1之一側之相反側之主表面中隅角部2處如圖示般設置。

將藉濺鍍裝置於玻璃基板表面形成有MoSiN膜的附有MoSiN半色調膜之基板，收納於有別於流通匣2之流通匣4。於流通匣4以刻痕標記1或膜標記3為基準將複數片附有半色調膜之基板以基板方向一致的方式收納。

具體來說，收納方式是將形成於基板之膜標記3配置於相對於流通匣4既定位置的既定關係。

本實施形態中，複數片附有半色調膜的基板之膜標記3位於流通匣4後側特定之位置(第15圖中是在流通匣之下方)。亦即，以賦予流通匣4之前面為基準，將基板排列成膜標記3未形成之側之基板面朝向匣前面，亦即，形成有刻痕標記1的基板面朝向匣前面，並且自匣前面來看，將基板對齊而使所收納之複數片基板之膜標記3位於相同位置(第15圖中是流通匣之下方)。

1次膜成膜結束之資訊按每個管理號碼儲存於主電腦。又，將賦予上述ID標籤2’之管理號碼之資訊轉送給流通匣4附加之ID標籤4’。轉送給ID標籤4’之管理號碼，可與賦予ID標籤2’之管理號碼相同，或者是由主電腦賦予新的管理號碼。在後者之情況，將賦予ID標籤2’之管理號碼與重新賦予ID標籤4’的管理號碼相關儲存於主電腦。

(3)1次膜檢查製程

這個製程包含用來取得1次膜薄膜資訊之製程、及用來將所取得之膜資訊記錄儲存於資訊貯藏媒體的薄膜資訊記錄製程。

將收納於流通匣4之附有半色調膜的基板，將基板載置於形成檢查1次膜(MoSiN半色調膜)缺陷的缺陷檢查裝置。將基板載置於保持具，載置方式是形成有刻痕標記1的面朝下方，形成有膜標記3的面朝上方。

之後，利用1次膜之缺陷檢查裝置掃描膜之表面，取得有關該1次膜之膜資訊。膜資訊，係膜狀態相關之狀態資訊，是掃描膜表面取得的膜之表面資訊。膜資訊例如有表面形態資訊、光學特性資訊。所取得之膜資訊是投影於平面作成二次元之面資訊，是可了解的內容。

對於每個缺陷藉由缺陷檢查裝置判定在光罩製程可能引起圖案不良的缺陷之位置資訊(例如平面座標系之X座標、Y座標)、缺陷之大小、缺陷之種類等，並將判定結果按每個管理號碼儲存於主電腦。

此時，缺陷之大小，可直接儲存直徑等顯示缺陷大小的測定值，或是預先決定用來分類缺陷大小之複數等級，儲存符合之等級作為缺陷之大小。

缺陷之種類，可分成凸部形狀、凹部形狀、其他缺陷等來儲存。凸部形狀，例如有針孔狀缺陷，凹部形狀，例如有微粒狀缺陷。

微粒狀缺陷，係指膜上或膜中附著有異物(例如粒狀質等)的狀態之缺陷，針孔狀缺陷，係指膜中附著之異物脫落產生之痕跡、掉膜狀態之缺陷。掉膜，有可確認膜底狀態之完全無膜的狀態、無法確認膜底狀態的膜厚局部變薄的狀態。位置資訊，係以刻痕標記1為基準，由玻璃基板之大小算出玻璃基板主表面之中心，將此中心當作基準點(O)，以各缺陷在XY座標系中之X座標、Y座標來儲存，其中，該XY座標系，是將通過該基準點、平行於玻璃基板各邊的線當作假想的X軸、Y軸。

詳言之，上述之缺陷之位置資訊，首先，以刻痕標記1之位置為基準，根據玻璃基板之大小，例如邊長，來算出玻璃基板主表面之中心，將此中心定為基準點(O)，其次，以此基準點(O)為原點，決定沿著玻璃基板之正交之邊的直角平面座標系(XY座標系)，最後，在該二次元XY座標系算出各缺陷之X座標位置、Y座標位置，以該X座標、Y座標之值來儲存。

將在此取得的薄膜之膜資訊稱為1次膜膜資訊。

將缺陷檢查結束的附有半色調膜的基板收納於有別於流通匣4之流通匣5。以刻痕標記1或膜標記3為基準於流通匣5以複數片附有半色調膜的基板之方向一致之方式來收納。具體來說，將形成於基板之膜標記3配置於相對於流通匣5既定位置之既定關係。

本實施形態中，於流通匣5收納成複數片附有半色調膜的基板之膜標記3位於後側之特定位置(第15圖中是流通匣之下方)。

亦即，以賦予流通匣5之前面為基準，排列成形成有刻痕標記的基板面朝向匣前面，形成有膜標記3的面朝向匣前面之相反側，並且自匣前面來看，使所收納之複數片基板之膜標記3對齊在相同位置(第15圖中是流通匣之下方)。

檢查前，收納方法受到管理，使複數基板之收納方向一致，因此，在檢查製程取得的面資訊之方向性、座標系、及基準點在待檢查之複數基板間統一，取得資訊。

檢查後，收納方法受到管理，使複數基板之收納方向一致，因此，即使在下一製程，亦將維持待處理之基板之方向性(方向)。

同時，將賦予上述之ID標籤4’的管理號碼之資訊轉送給流通匣5之ID標籤5’。又，如上所述，轉送給ID標籤5’的管理號碼，即便與賦予ID標籤4’之管理號碼相同，亦可賦予新的管理號碼。

收納於匣的複數基板連同匣一起往下一製程搬送。

(4)2次膜成膜製程

其次，將收納於流通匣5內的附有半色調膜的基板載置於連續式濺鍍裝置之保持具。此時，將基板載置於保持具，載置方式是使形成有刻痕標記1的一側之基板表面向上，形成有膜標記3的一側之面向下。

使用鉻(Cr)之濺鍍靶，在氬氣、或氬氣及氧氣及/或氮氣之混合氣氣氛下，藉反應性濺鍍法於作為1次膜之MoSiN半色調膜上形成作為2次膜的含Cr遮光膜(以下稱為Cr遮光膜)。

為了不要在基板主表面周緣部之既定區域形成Cr遮光膜，故於基板保持具設有遮蔽手段。因此，於MoSiN半色調膜上形成不會形成Cr遮光膜的既定區域，並對該區域賦予膜標記6。可藉該膜標記6之形狀來辨別膜的種類。本實施形態，是利用賦予Cr遮光膜用的膜標記。

又，形成於Cr遮光膜的膜標記6，係與形成於玻璃基板的刻痕標記1或形成於半色調膜的膜標記3同樣地可用來當作指定基板方向性的基準標記、或在後述之缺陷檢查製程取得的膜資訊之基準點。

本實施形態中，MoSiN半色調膜是被Cr遮光膜覆蓋。因此，自基板用來形成膜之一側的面難以看見膜標記3。不過，賦予半色調膜之膜標記3能自基板相反側之主表面透過玻璃基板來確認。若欲藉膜標記3來指定基板之方向性，可以利用基板未形成膜的一側。

將藉連續式濺鍍裝置於MoSiN半色調膜上形成有Cr遮光膜的基板，收納於有別於流通匣5之流通匣7。以膜標記6為基準，於流通匣7收納基板方向一致的附有複數片Cr遮光膜的基板。

具體來說，收納方式是將形成於基板之膜標記6配置於相對流通匣7既定位置之既定關係。

本實施形態中，將基板收納於流通匣7，且使複數片附有Cr遮光膜的基板之膜標記6位於後側之特定位置(第15圖中是流通匣之上方)。

亦即，複數基板之排列方式，是以賦予流通匣7之前面為基準，形成有膜標記6之一側的面朝向匣前面之相反側，形成有刻痕標記1之一側的面朝向匣前面側。自匣前面來看，複數片基板之對齊方式，是所收納之複數片基板之膜標記6位於相同位置(第15圖中是流通匣之上方)。

又，將2次膜成膜結束之資訊按每個管理號碼儲存於主電腦。將賦予上述ID標籤5’之管理號碼之資訊轉送給附加於流通匣7之ID標籤7’。又，如上所述，用來轉送給ID標籤7’之管理號碼，即便與賦予ID標籤5’之管理號碼相同，亦可賦予新的管理號碼。

於基板上堆疊有1次膜、2次膜而構成的附有膜之基板將收納於匣7並往下一製程搬送。

(5)2次膜檢查製程

此製程是與1次膜檢查製程同樣的製程。此製程包含用來取得2次膜薄膜資訊的製程、及用來將所取得的膜資訊記錄儲存於資訊貯藏媒體的薄膜資訊記錄製程。

將收納於流通匣7之附有Cr遮光膜的基板，安裝於用來檢查2次膜(Cr遮光膜)缺陷之檢查裝置之基板載台。此時，將形成有刻痕標記1的面朝下方，將形成有膜標記6的面朝上方來進行載置，並且將基板配置於既定位置而使刻痕標記1面向載台。

與前述之1次膜缺陷檢查同樣地進行2次膜之缺陷檢查，取得2次膜之膜資訊。利用2次膜之缺陷檢查裝置掃描膜之表面，取得有關該2次膜之膜資訊。

膜資訊，係膜狀態相關之狀態資訊，掃描膜表面而取得之膜之表面資訊。膜資訊例如有表面形態資訊、光學特性資訊。所取得之膜資訊，是投影於平面而構成二次元面之資訊，是可了解的。

藉缺陷檢查裝置判定在光罩製程有可能引起圖案不良的缺陷之位置資訊(例如在平面座標系之X座標、Y座標)、缺陷之大小、缺陷之種類等，並將判定結果按每個管理號碼儲存於主電腦。

缺陷之大小，可個別儲存缺陷之大小，亦可例如區分既定大小等級來表示。

缺陷之種類，可分成凸部形狀、凹部形狀、其他缺陷等來儲存。凸部形狀例如有針孔狀缺陷，凹部形狀例如有微粒狀缺陷。

微粒狀缺陷，係指膜上或膜中附著有異物(例如粒狀質等)的狀態之缺陷，針孔狀缺陷，係指附著於膜中之異物脫落所產生之痕跡、掉膜的狀態之缺陷。掉膜，有可確認膜底狀態的完全無膜的狀態、無法確認膜底狀態的膜厚局部變薄的狀態。

位置資訊，係以刻痕標記1為基準，自玻璃基板之大小算出玻璃基板主表面之中心，將此中心當作基準點(O)，以XY座標系(將通過該基準點、與玻璃基板各邊平行的線當作假想的X軸、Y軸)之各缺陷之X座標、Y座標來儲存。

上述之缺陷之位置資訊，與1次膜檢查製程同樣地，首先，以刻痕標記1之位置為基準，根據玻璃基板之大小，例如邊長，來算出玻璃基板主表面之中心，將此中心定為基準點(O)，其次，以該基準點(O)為原點，決定沿正交之玻璃基板之邊的平面直角座標系(XY座標系)，最後，在該二次元之XY座標系算出各缺陷X座標位置、Y座標位置，以該X座標、Y座標之值來儲存。將在此取得之膜資訊稱為2次膜膜資訊。

將缺陷檢查結束的附有Cr遮光膜之基板收納於有別於流通匣7之流通匣8。於流通匣8收納複數片附有Cr遮光膜的基板，並以膜標記6為基準對齊基板之方向。

具體來說，將形成於基板之膜標記6配置於相對流通匣8既定位置之既定關係。

本實施形態中，於流通匣8收納複數片基板，且使複數片附有Cr遮光膜之基板之膜標記6位於後側特定位置(第15圖中是流通匣之上方)。

亦即，基板之排列方式，是以賦予流通匣8之匣前面為基準將形成有膜標記6的面朝向匣前面之相反側，亦即，將形成有刻痕標記1的面朝向匣前面。又，自匣前面來看，將所收納之複數片基板對齊成膜標記6位於同一位置(第15圖中是流通匣之上方)。

檢查前，收納方法受到管理，使複數基板之收納方向一致，因此，在檢查製程取得之面資訊之方向性、座標系及基準點在提供給檢查的複數基板間被統一，取得資訊。檢查後，收納方法受到管理，使複數基板之收納方向一致，因此，在下一製程，待處理之基板之方向性(方向)亦被維持。

將賦予上述之ID標籤7’的管理號碼之資訊轉送給附加於流通匣8之ID標籤8’。又，如上所述，用來轉送給ID標籤8’的管理號碼，即便與賦予ID標籤7’的管理號碼相同，亦可賦予新的管理號碼。

收納於匣之複數基板將以匣為單位往下一製程搬送。

(6)光阻成膜製程

將收納於流通匣8內的附有Cr遮光膜之基板搬入旋轉塗佈裝置，於2次膜上藉旋轉塗佈法塗佈光阻膜，經烘烤、冷卻，而形成光阻膜。

藉以上方式來製作基板、1次膜、2次膜、光阻膜堆疊著的光罩空白板。又，有時候不希望光阻膜形成。

將製作出之光罩空白板收納於有別於流通匣8之流通匣9。於流通匣9以膜標記6為基準、光罩空白板之方向一致的方式收納複數片光罩空白板。

具體來說，將形成於基板之膜標記6配置於相對流通匣9既定位置之既定關係。

本實施形態中，於流通匣9收納複數片光罩空白板，且使膜標記6位於後側之特定位置(第15圖中是流通匣之上方)。

亦即，基板之排列方式是以流通匣9之匣前面為基準將形成有膜標記6的面朝匣前面之相反側，亦即，將形成有刻痕標記1的面朝匣前面，並且自匣前面來看，將所收納之複數片基板對齊成膜標記6位於相同位置(第15圖中是流通匣之上方)。

又，將光阻膜成膜結束之資訊按每個基板號碼儲存於主電腦。將賦予上述之ID標籤8’的管理號碼之資訊轉送給附加於流通箱9之ID標籤9’。又，如上所述，用來轉送給ID標籤9’的管理號碼，即便與賦予ID標籤8’的管理號碼相同，亦可賦予新的管理號碼。

(7)光阻膜檢查製程

此製程，係與1次膜檢查製程、2次膜檢查製程同樣的製程。此製程包含用來取得光阻膜薄膜資訊的製程、及用來將所取得之膜資訊記錄、儲存於資訊貯藏媒體的薄膜資訊記錄的製程。

將收納於流通匣9之附有光阻膜之基板(光罩空白板)，安裝於用來載置缺陷檢查裝置基板之載台，該缺陷檢查裝置是用來檢查光阻膜之缺陷。

此時，載置於該載台之光罩空白板是形成有刻痕標記1的面朝下側，形成有膜標記6的面朝上方。又，光罩空白板是安裝成刻痕標記1配置於相對載台之既定位置。

進行光阻膜之缺陷檢查，取得光阻膜之膜資訊。利用光阻膜之缺陷檢查裝置，掃描膜之表面，取得有關該光阻膜之膜資訊。

膜資訊，係有關膜狀態之狀態資訊，是掃描膜表面而取得之膜表面資訊。膜資訊例如有表面形態資訊、光學特性資訊。所取得之膜資訊是投影於平面構成二次元之面資訊，是可了解的資訊。

藉缺陷檢查裝置來判定在光罩製程有可能引起圖案不良的缺陷之位置資訊(例如平面座標系之X座標、Y座標)、缺陷之大小、缺陷之種類等，判定結果則按每個管理號碼儲存於主電腦。

位置資訊，係以刻痕標記1為基準，自玻璃基板之大小算出玻璃基板主表面之中心，以此中心為基準點(O)，以各缺陷在XY座標系中之X座標、Y座標來儲存，該XY座標系是將通過基準點、與玻璃基板各邊平行的線當作假想之X軸、Y軸而構成。

又，上述之缺陷之位置資訊，係與上述之1次膜檢查製程、2次膜檢查製程同樣地，首先，以刻痕標記1之位置為基準，根據玻璃基板之大小(邊長)來算出玻璃基板主表面之中心，將此中心定為基準點(O)，其次，以此基準點(O)為原點，決定沿正交之玻璃基板邊的直交座標系(XY座標系)，最後，在該XY座標系算出各缺陷之X座標位置、Y座標位置，以該X座標、Y座標之值來儲存。將在此取得之膜資訊稱為光阻膜膜資訊。

將缺陷檢查完畢的光罩空白板收納於有別於流通匣9之流通匣10。於流通匣10將複數片光罩空白板收納成以膜標記6為基準光罩空白板之方向是一致的。

具體來說，將形成於基板之膜標記6配置於相對流通匣10既定位置之既定關係。

本實施形態中，於流通匣10將複數片光罩空白板收納成膜標記6位於後側之特定位置(第15圖中是流通匣之上方)。亦即，將複數光罩空白板排列成，以流通匣10之匣前面為基準，形成有膜標記6的面朝向匣前面之相反方向，亦即，形成有刻痕標記1的面朝向匣前面，自匣前面來看，將所收納之複數片基板對齊成膜標記6在相同位置(第15圖中是流通匣之上方)。

檢查前，收納方法受到管理，使複數光罩空白板之收納方向一致，因此，在檢查製程取得之面資訊之方向性、座標系及基準點在用來檢查之複數光罩空白板間被統一，取得資訊。

檢查後，收納方法受到管理，使複數光罩空白板之收納方向一致，因此，即便在下一製程，光罩空白板之方向性(方向)仍被維持。

將賦予上述之ID標籤9’之管理號碼之資訊轉送給附加於流通箱10之ID標籤10’。又，如上所述，用來轉送給ID標籤10’之管理號碼，即便是與賦予ID標籤9’的管理號碼相同，亦可賦予新的管理號碼。

(8)膜資訊之核對製程

對於依序形成於玻璃基板上之1次膜、2次膜、光阻膜各薄膜，互相核對分別取得之膜資訊。又，若已取得基板資訊，便能核對基板資訊及膜資訊。

用來核對之光罩空白板相關之膜資訊可以藉管理號碼來指定。

本發明中，膜資訊已取得作為面資訊。該面資訊中位置之基準點，係與設於基板或光罩空白板、作為基準標記的刻痕標記、膜標記具有既定關係。又，膜資訊、面資訊之取得時，基板或光罩空白板全部對齊朝相同方向，來取得資訊。可以藉將1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊互相核對，來驗證各個膜資訊是否為方向一致的面資訊。又，可根據驗證結果來使各個膜資訊之方向一致。

具體來說，在成膜製程之前後，基板上之位置不改變，亦即，能以在同一位置之形狀為基準來核對各膜之膜資訊。

例如，若作為最下層膜之1次膜存在缺陷等特定之形狀，則1次膜之形狀將反映於作為比1次膜更上層之膜的2次膜、光阻膜，因此，能以1次膜膜資訊為基準核對確認另一膜資訊之方向性，亦即位置資訊中之基準點、XY座標系是否互相一致。

例如，若作為最下層膜之1次膜有缺陷，則作為比1次膜更上層之膜的2次膜、光阻膜亦產生缺陷，因此，能以含在1次膜資訊之缺陷為基準來判定另一膜資訊之方向之對錯。第17圖，係將1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊核對過的例子。第17圖，是以檢測出在1次膜之膜資訊、2次膜之膜資訊、光阻膜之膜資訊共同的缺陷為基準。詳言之，該例子是基板上之位置座標不變，以同一位置上之缺陷(有□、△、×重疊著之處)為基準，核對2次膜、光阻膜之膜資訊的例子。

能藉此方式核對膜資訊來使膜資訊彼此之方向性(方向)，亦即，位置資訊中之基準點、XY座標系一致。

例如，將基板自特定流通匣移至別之流通匣時，可以想到有可能將基板以錯誤的方向性收納於流通匣的情況。又，將基板自流通匣移至各檢查裝置，將基板自各檢查裝置移至流通匣時，可以想到使基板以錯誤的方向性進出的情況。在這些情況，有可能導致膜資訊與光罩空白板之方向性不一致。

為了避免這樣的可能性，在使基板、光罩空白板進出流通匣、收納箱時，在將基板安裝於各膜之缺陷檢查裝置時，作業者將刻痕標記1、膜標記3及6當作用來代表基板方向之基準標記，依照預定之方向性(方向)來使基板、光罩空白板進出。

具體來說，如前所述，在各工程間用來收納基板、光罩空白板的流通匣，有複數片基板、光罩空白板之刻痕標記朝向流通匣之前側排列著，又，自匣前面來看，只要將基板、光罩空白板以刻痕標記對齊既定位置之方式收納即可。

又，雖然為了便於說明而敘述了賦予匣之前方標示的情況，但是，若例如將箱子往相同方向排列，則不固定需要可目視確認的前方標示。又，若藉主電腦等來了解、管理匣之方向，則不固定需要可目視確認的前方標示。

將基板或光罩空白板收納成，膜標記3配置於流通匣內之下方位置，且膜標記6配置於流通箱內之上方位置。又，於各膜之缺陷檢查裝置安裝基板或光罩空白板時，只要以刻痕標記、膜標記朝既定方向之方式載置於載台，並載置成刻痕標記、膜標記位於相對載台之既定位置，進行既定檢查即可。

如此一來，便可事先防止在膜資訊間方向性(方向)不一致。又，能事先防止膜資訊之方向性(方向)、與所收納之光罩空白板之方向性(方向)不一致。

由於將光罩空白板製程中之基板、光罩空白板之方向性(方向)保持固定，故能使光罩空白板之基準點、XY座標系一致，又使該光罩空白板之基準點、XY座標系與各膜之膜資訊之基準點、XY座標系一致。

如上所述，因為光罩空白板資訊是膜資訊、基板資訊所含之位置資訊之面座標、位置之基準點可相關，故該光罩空白板資訊可視為一種光罩空白板體內之內部立體資訊。

再者，因為經過上述核對製程，故能確定該光罩空白板資訊為一種可靠性高的光罩空白板體內立體資訊。

(9)光罩空白板包裝製程

將光罩空白板收納於收納箱20，並做包裝，配送至光罩製造商。

在此，參照第18A圖及18B說明收納箱20。每個收納箱20被賦予特有之箱號碼21並附加上去。

該箱號碼21，係與後述之插槽號碼一起，在上述之光罩空白板製程，與用來使各基板與各製程之資訊(例如，膜資訊)相對應而附上的管理號碼相關。又，箱號碼21，是與儲存於主電腦之各膜之膜資訊或基板資訊相對應。

箱號碼21附加於收納箱20，但箱號碼21之附加不限於印刷等可目視確認的狀態，例如，亦能以條碼、磁性記錄媒體、IC晶片、IC標籤等可讀取的媒體來附加。

收納箱20由蓋22及外箱23所構成，外箱23中進一步收納有內箱24。內箱24，係自上向下形成有插槽(複數分隔物)25，插槽25間以既定間隔形成有複數溝槽，該等溝槽可收納光罩空白板。

插槽25是光罩空白板間之分隔物，為了便於說明，以下有時將用來存放鄰接2個插槽25間之基板的溝槽部分亦稱為插槽。因此，第1圖8中有用來存放5片基板的5個溝槽，亦即，5個插槽。

將插槽號碼賦予給各個溝槽，將各號碼稱為插槽No.1、插槽No.2、...插槽No.5。外箱23外表面中靠近插槽No.1的面記載著用來代表收納箱20方向的正面標示26。

光罩空白板，係收納於各溝槽(插槽No.1、插槽No.2、...插槽No.5)並做包裝，又，形成於光罩空白板之刻痕標記1配置於正面標示26側之特定位置，且膜標記3配置於收納箱之下方，膜標記6配置於收納箱之上方。

可組合上述之箱號碼及插槽號碼來識別存放於收納箱20之各個光罩空白板。又，藉該箱號碼及插槽號碼來與存於主電腦之各膜之膜資訊或基板資訊相對應，指定光罩空白板資訊。

如上所述，由於在包裝製程亦於各溝槽將光罩空白板收納成，形成於光罩空白板之刻痕標記1配置於正面標示26側之特定位置，膜標記3配置於收納箱之下方，膜標記6配置於收納箱之上方，因此，能使各光罩空白板之基準點、XY座標系、與各膜之膜資訊或基板資訊之基準點、XY座標系一致。

因此，能使光罩空白板個體、與該光罩空白板個體相關之光罩空白板資訊正確地對應，並能防止光罩製作時之圖案不良。

又，光罩製作者不僅能了解光罩空白板之表面資訊，而且能了解光罩空白板之內部狀態。

其次，參照第19圖說明空白板包裝製程完畢、存放於收納箱的光罩空白板、用來將該光罩空白板之膜資訊提供給光罩製造商的光罩空白板提供方法、及光罩製作支援系統。

如上所述，使包含按每個管理號碼儲存於主電腦之1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊的光罩空白板之個體資訊(光罩空白板資訊)、與藉箱號碼及插槽號碼指定之光罩空白板個體相對應，並將該個體資訊與存放於收納箱的複數片光罩空白板一起提供給光罩製造商。

光罩空白板資訊之提供方法例如有，(a)於收納箱20附加印有資訊的印刷物，(b)將記錄有資訊資料的軟碟或CD－ROM等記錄媒體附加於收納箱20，(c)透過資料通信線路將資訊資料傳送給配送作為目的地的光罩製造商之電腦等。在(a)及(b)之情況下，將資訊本身與和插槽號碼之對應關係一起附加於收納箱20。在(c)之情況下，光罩製造商傳送箱號碼及插槽號碼，接收符合之資訊。又，資訊，可為第17圖所示一種可目視了解各缺陷如何配置的地圖化資訊，亦可為一種各缺陷之種類、缺陷之大小、缺陷之位置資訊(X座標、Y座標)之資料表。資訊，一般是將各膜之膜資訊分別提供給光罩製造商，但亦可如第17圖所示將各膜之膜資訊作成一個缺陷地圖提供給光罩製造商。

如上所述，作為面資訊所取得的基板資訊或膜資訊中之位置資訊，例如缺陷之位置資訊，在本實施形態中，係以刻痕標記1為基準算出基板主表面之中心，將此中心為基準點(O)，以各缺陷在通過該基準點之XY座標系之X座標、Y座標來表示，又，存放於收納箱之光罩空白板亦對齊成刻痕標記1位於相對收納箱之特定位置，故將存放於收納箱之光罩空白板之基準點、座標系、及位置資訊中之基準點、座標系，以能了解兩者對應關係之方式或兩者一致的狀態提供給光罩製造商。

如上所述，將分別對應各個光罩空白板個體的光罩空白板資訊提供給光罩製造商。用來提供之光罩空白板個體是以其位置之基準點、座標系與空白板膜資訊之位置之基準點、座標系對應的關係來提供給光罩製造商。

光罩製造商，可利用間接賦予給光罩空白板、用來指定光罩空白板的箱號碼或插槽號碼、管理號碼或管理記號等，來識別所提供之光罩空白板個體，以處於前述既定關係之基準點或座標系為媒介，核對所提供之光罩空白板及光罩空白板資訊。又，能以藉處於前述既定關係之基準點或座標系為媒介來確實了解各個光罩空白板之表面形態等之狀態。

因此，能按需求指定待既定轉印圖案(光罩圖案)的光罩空白板上之區域。因此，能抑制待形成圖案之圖案形成之不良。光罩製造商能於所提供之光罩空白板上指定用來形成包含轉印圖案之光罩圖案的區域，對形成於光罩空白板上之薄膜進行圖案化，製作轉印光罩。

其次，以透過上述(c)之資料通信線路來提供資訊的提供方法為具體例，參照第19圖說明本發明之光罩製作支援系統110。

如第19圖所示，光罩製作支援系統110，係由光罩空白板工廠111、根據在光罩空白板工廠111製造之光罩空白板來製造光罩的光罩工廠112、及用來連接兩工廠的資料通信線路113所構成。再者，光罩空白板工廠111，係由主電腦51及伺服器114所構成。

在光罩空白板工廠111製造出之光罩空白板將收納於前述之收納箱10往光罩工廠112配送。主電腦51為前述之光罩空白板生產線控制系統50之主電腦51。

伺服器114，係自主電腦51接收必要資訊(膜資訊等)，讓用來指定配送至光罩工廠112之光罩空白板的箱號碼及插槽號碼與空白板膜資訊相對應並加以儲存，透過網際網路113提供既定資訊給光罩工廠112之遠端電腦。

又，亦可讓用來指定配送至光罩工廠112之光罩空白板的箱號碼及插槽號碼與膜資訊等光罩空白板資訊相對應並儲存於主電腦51。

其次，參照第20圖說明光罩製程之一個例子，該光罩製程中的一個製程是光罩工廠112利用在光罩製作支援系統110接收到之資訊，對光罩空白板之光阻膜描繪及顯影圖案。

接收到收納箱10的光罩工廠112之作業者，係藉目視或機械讀取的方式自收納箱10取得箱號碼後，使用電腦等資料通信裝置，將箱號碼透過網際網路等資料通信線路113傳送給伺服器114。伺服器114回應這個動作使收納於該箱號碼之收納箱之各插槽的光罩空白板之膜資訊與箱號碼、插槽號碼相對應並加以回傳(步驟S121)。

有關資料通信之形態，可以想到各種形態。例如，可透過電子郵件來雙向傳送用來識別箱號碼或插槽號碼等之光罩空白板的資訊及膜資訊等光罩空白板資訊。或者是，將用來表示箱號碼、與收納於該箱號碼之收納箱之各溝槽的光罩空白板之資訊的對應關係的資料庫設置於伺服器114，回應與自光罩工廠112側輸入的箱號碼相對應的膜資訊等光罩空白板資訊。

在此階段，光罩空白板，係具有圖21A所示之截面，玻璃基板上有1次膜(半色調膜)、2次膜(遮光膜)、光阻膜複數層膜堆疊著。接收到膜資訊的光罩工廠112，係核對所取得之膜資訊、及待製造的光罩之光罩圖案資料(步驟S122)。

如上所述，此時，光罩空白板之基準點、XY座標系與膜資訊中位置資訊之基準點、XY座標系是對應著，可藉核對膜資訊及光罩圖案資料，來決定光罩圖案相對光罩空白板的配置。

在此，光罩工廠112，係欲自光罩空白板工廠111接收光罩空白板資訊141，描繪光罩圖案142的工廠。光罩空白板資訊141，係包含1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊。

一般來說，如第22圖所示，形成於光罩之光罩圖案具有圖案密度高的緊密圖案區域143、及圖案密度低的疏散圖案區域144。

具有區域143及區域144的光罩例如有系統LSI製造用光罩，該區域143形成有緊密圖案作為光罩圖案，該區域144形成有疏散圖案。

尤其，有關疏散圖案形成區域，在具有監測用晶片形成區域的光罩圖案之情況，本發明之光罩製作支援方法是特別有效，該監測用晶片形成區域是用來測試電氣特性的區域。

另一方面，一般來說，在光罩製程有可能成為圖案不良的光罩空白板缺陷，具體來說，針孔、微粒，並非平均地分布著，大多分布不均。

參照作為所接到之光罩空白板資訊的膜資訊141，調整圖案描繪位置，將有可能成為圖案不良的針孔、微粒配置於光罩圖案資料之緊密圖案形成區域M3以外之區域(步驟S123)。

圖案描繪位置之調整方法，可以想到改變光罩圖案142相對光罩空白板方向的方向。又，若緊密圖案形成區143及疏散圖案形成區域144之相對的位置關係可改變，則亦可改變該關係來作調整。

最後，依照所決定的圖案描繪位置來於光阻膜描繪、顯像圖案，藉以來獲得於玻璃基板上形成有光罩圖案(轉印圖案)的光罩(步驟S124)。

經以上步驟S121~步驟S124製作而成的光罩，因光罩空白板中有可能成為圖案不良的針孔、微粒將配置於疏散圖案形成區域，故可抑制光罩圖案之圖案形成之不良。

其次，參照第23圖詳細說明在上述之實施形態中主電腦51自各裝置收集各製程資訊(例如，在各檢查製程生成的基板資訊、膜資訊、製造條件、配方等資訊)的光罩空白板生產線控制系統50之一個例子。

參照第23圖，光罩空白板生產控制系統50由主電腦51、匣號碼及插槽號碼賦予裝置52(以下記為賦予裝置52)、1次膜成膜裝置53、1次膜缺陷檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜缺陷檢查裝置56、光阻膜成膜裝置57及光阻膜缺陷檢查裝置58所構成。

流通匣自上方往下方以既定間隔形成有複數溝槽，以收納複數片基板，流通匣又具有ID標籤。賦予ID標籤用來管理收納於流通匣各基板的資訊。具體來說，是記錄流通匣之匣號碼。

參照第24圖，為了將基板投入生產線，而將基板收納於流通匣之各溝槽，利用賦予裝置52自輸入部521將匣號碼、插槽號碼、製造流程輸入ID標籤。製造流程由製程等級、在製程將使用之裝置名、與在各裝置將進行處理之處理條件相對應的製程配方號碼所構成，是按照欲生產之光罩空白板提供給每個流通匣。又，在生產線上，基板之指定可藉製程內之位置、匣號碼、插槽號碼來進行。

賦予裝置52將匣號碼寫入流通匣之ID標籤，並且藉資料送受信部522將匣號碼、插槽號碼及製造流程傳送給主電腦51。參照第25圖，主電腦51，在資料送受信部511接收自賦予裝置52傳送之資料後，將匣號碼、插槽號碼及製造流程互連，並貯藏於製造流程貯藏部512。

當藉賦予裝置52輸入完匣號碼的流通匣(以後，將該流通匣記為匣A)於1次膜成膜裝置53之裝貨機口531安裝完成時，便自匣A之ID標籤讀取匣號碼，並藉資料送受信部532通知主電腦51。

參照第26圖，主電腦51回應上述動作將匣A之匣號碼、插槽號碼、濺鍍成膜之製程配方號碼往1次膜成膜裝置53傳送。又，製程配方號碼亦可在即將開始濺鍍成膜時傳送。

接收到訊號的1次成膜裝置53，藉製程配方號碼－濺鍍條件核對部533核對與製程配方號碼對應的濺鍍條件，於濺鍍條件貯藏部534貯藏核對完之濺鍍條件。濺鍍條件控制部535，按照濺鍍條件，控制濺鍍裝置536，進行濺鍍成膜。

濺鍍裝置536，自匣A抽出基板，開始進行濺鍍成膜。在濺鍍成膜之製程，收集濺鍍實績並與插槽號碼相關。

濺鍍成膜完畢的基板，進入在卸貨機口538預先準備好別的流通匣(以後記為匣B)之插槽。此時，插槽號碼、濺鍍實績、卸貨機插槽號碼收集部537(以後記為收集部537)，收集在匣A之插槽號碼、被連上的濺鍍實績、在匣B之插槽號碼，使用資料送受信部532往主電腦51傳送。又，匣B之插槽全部填滿1次膜成膜後之基板後，收集部537便將填滿的訊息與匣B之匣號碼一起通知主電腦51。

主電腦51回應上述動作以匣號碼B、匣號碼A、製造流程之順序指定下一製程，對未圖示之匣搬送部指示搬送目的地。又，主電腦51將匣B之匣號碼、及已傳送給1次膜成膜裝置53的濺鍍製程配方號碼傳送給1次膜缺陷檢查裝置54。

參照第27圖，1次膜缺陷檢查裝置54，在資料送受信部541接收完這些訊號後，便將這些訊號交給匣號碼－製程配方號碼核對部542。

當流通匣搬入裝貨機口543後，匣號碼－製程配方號碼核對部542便核對與自流通匣之ID標籤讀取的匣號碼對應的製程配方號碼。在此，若匣號碼為匣B，則獲得對收納於匣B的基板濺鍍成膜後之製程配方號碼。

於缺陷檢查條件貯藏部544事先貯藏有，製程配方號碼、與對在製程配方號碼所示之配方條件下成膜後之膜待進行之檢查條件的對應關係。又，自匣號碼－製程配方號碼核對部542接收完製程配方號碼後，便輸出待進行之檢查條件。

缺陷檢查條件控制部545，按照該檢查條件控制缺陷檢查裝置546進行檢查。缺陷檢查裝置546輸出檢查結果作為缺陷檢查資訊。將檢查完畢的基板收納於事先安裝於卸貨機口547的別的流通匣(以下記為匣C)之插槽。

卸貨機匣號碼、卸貨機插槽號碼賦予部548，係將匣號碼賦予給匣C，並且將匣C之匣號碼、匣C之插槽號碼與收納於插槽之基板之缺陷檢查資訊相關，使用資料送受信部541往主電腦51傳送。主電腦51將送來的資訊與在1次膜成膜裝置53獲得的濺鍍實績等相關，並貯藏於資訊貯藏部518。

有關2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56，因相較於1次膜成膜裝置53及1次膜檢查裝置54，差別僅在於待形成之膜之種類之不同，構成要素及動作上無大的差異，故省略說明。第28圖所示之光阻膜成膜裝置57及光阻膜缺陷檢查裝置58亦因同樣的理由而省略說明。

缺陷資訊核對部514，根據自1次膜成膜裝置53、1次膜檢查裝置54、2次膜成膜裝置55、2次膜檢查裝置56、光阻膜成膜裝置57及光阻膜缺陷檢查裝置58收集到的資訊，生成在第1實施形態說明過之1次膜膜資訊、2次膜膜資訊、光阻膜膜資訊，並且將此等資訊互相核對，生成圖17所示的光罩空白板資訊。上述之實施形態中，是於流通匣、收納箱、濺鍍裝置之基板之保持具、缺陷檢查裝置之載台安裝基板、光罩空白板時，管理該基板、光罩空白板以刻痕標記1、膜標記3,6為基準具有特定之方向性(方向)，不過，不限於此，亦可在光罩空白板之全部製程僅用刻痕標記1來指定基板之方向性，亦可僅用刻痕標記1來管理基板之方向性。

又，除了刻痕標記1、膜標記3,6之外，亦可使用賦予基板的基準標記。在此情況下之基準標記可為能指定基板方向性(方向)的形狀。

又，有關基板上或光罩空白板上之基準標記之配置位置，可將基準標記設置於相對基板中心之旋轉非對稱位置。

又，上述之實施形態中，是假設膜資訊為形成於基板上複數膜之膜資訊，不過，膜資訊亦可以自單一膜取得。即便是光罩空白板自光罩空白板工廠出貨時所取得的資訊一樣可適用。即便在此情況，仍可確定膜資訊之基準點及XY座標系、與光罩空白板之基準點及XY座標系是一致的。又，除了膜資訊之外，亦可包含基板表面之資訊。

又，上述之實施形態中，已經以於基板上形成有MoSiN半色調膜、Cr遮光膜、光阻膜的半色調型相移光罩空白板為例說明本發明之光罩製作支援方法，不過，不限於此，本發明之光罩製作支援方法亦可適用於光罩空白板及反射型光罩空白板，該光罩空白板是於玻璃基板上形成有Cr遮光膜、光阻膜，該反射型光罩空白板則是於玻璃基板上形成有多層反射膜、吸收體膜、光阻膜。

又，上述之光罩空白板，即便是未形成光阻膜之光罩空白板亦可利用本發明。

又，本發明，不限定於實施形態所記載之半色調膜之膜材料、遮光膜之膜材料，即便是一般可適用於光罩空白板的其他膜材料亦適用。

又，上述之實施形態中，是將ID標籤分別設於各流通箱，不過，亦可以是流通箱不同，但將ID標籤重新裝在下一製程要使用之流通箱來使用。

以上，已根據實施形態說明本發明，但本發明不限定於這些實施形態，其所屬技術領域中具有通常知識者可在通常知識之範圍內對本發明做任何變更、改良。

例如，上述之實施形態之膜資訊，係包含以基板既定方向為基準預先決定於膜上之XY座標系之X座標及Y座標、缺陷之大小、缺陷之種類，但各座標之測定值之種類及個數並沒有限定。膜資訊亦可包含平面度等形狀相關之值、電阻值等電氣特性值、折射率等光學特性值等。此等測定值可全部含在膜資訊中，亦可一部分含在膜資訊中。

又，基板資訊、各種膜資訊，是使用直角座標系作為座標系，但不限定於該座標系，亦可使用極座標系，亦可使用三次元座標系代替二次元座標系。例如，若將XYZ座標系用於膜資訊，便可引進於膜表面之X及Y所表示的點、深Z之位置存在洞這樣的資訊，而能取得更詳細的光罩空白板資訊。

1．．．刻痕標記

2．．．流通箱

2’,4’,5’,7’,8’,9’,10’．．．ID標籤

3,6,31．．．膜標記

4,5,7,8,9,10．．．流通箱

20．．．收納箱

21．．．箱號碼

22．．．蓋

23．．．外箱

24．．．內箱

25．．．插槽

26．．．正面標示

50．．．光罩空白板生產線控制系統

51．．．主電腦

52．．．匣號碼及插槽號碼賦予裝置

53．．．1次膜成膜裝置

54．．．1次膜缺陷檢查裝置

55．．．2次膜成膜裝置

56．．．2次膜缺陷檢查裝置

57．．．光阻膜成膜裝置

58．．．光阻膜缺陷檢查裝置

110．．．光罩製作支援系統

111．．．光罩空白板工廠

112．．．光罩工廠

113．．．資料通信線路(網際網路)

114．．．伺服器

142．．．光罩圖案

143．．．緊密圖案形成區域

144．．．疏散圖案形成區域

511．．．資料送受信部

512．．．製造流程貯藏部

513．．．資訊貯藏部

514．．．缺陷資訊核對部

521．．．輸入部

522．．．資料送受信部

531．．．裝貨機口

532．．．資料送受信部

533．．．製程配方號碼－濺鍍條件核對部

534．．．濺鍍條件貯藏部

535．．．濺鍍條件控制部

536．．．濺鍍裝置

537．．．插槽號碼、濺鍍實績、卸貨機插槽號碼收集部

538．．．卸貨機口

541．．．資料送受信部

542．．．匣號碼－製程配方號碼核對部

543．．．裝貨機口

544．．．缺陷檢查條件貯藏部

545．．．缺陷檢查條件控制部

546．．．缺陷檢查裝置

547．．．卸貨機口

548．．．卸貨機匣號碼，卸貨機插槽號碼賦予部

571．．．資料送受信部

572．．．裝貨機口

573．．．RC配方No.－光阻塗佈條件、光阻加熱條件、光阻冷卻條件核對部

574．．．光阻塗佈條件、光阻加熱條件、光阻冷卻條件貯藏部

575．．．光阻塗佈條件、光阻加熱條件、光阻冷卻條件控制部

576．．．光阻塗佈裝置

577．．．加熱裝置

578．．．冷卻裝置

579．．．卸貨機口

580．．．插槽號碼、光阻塗佈實績、卸貨機插槽號碼賦予部

第1圖係用來說明本發明之光罩空白板膜資訊取得方法的流程圖。

第2A圖係用來說明光罩空白板之收納箱10之剖面圖。

第2B圖係用來說明光罩空白板之收納箱10之俯視圖。

第3A圖係顯示光罩空白板正反之商標31之說明圖。

第3B圖係顯示光罩空白板正反之刻痕標記1之說明圖。

第4圖係用來說明藉本發明光罩空白板膜資訊(表面資訊)取得製程所取得之光罩空白板膜資訊(表面資訊)之一例。

第5圖係用來說明本發明光罩空白板膜資訊管理系統50之方塊圖。

第6圖係用來說明主電腦51之方塊圖。

第7圖係用來說明匣號碼、插槽號碼賦予裝置52的方塊圖。

第8圖係用來說明1次膜成膜裝置53之方塊圖。

第9圖係用來說明1次膜缺陷檢查裝置54之方塊圖。

第10圖係用來說明光阻膜成膜裝置57之方塊圖。

第11圖係用來說明光罩製作支援系統110之方塊圖。

第12圖係用來說明由訂購者/在光罩工廠12內之光罩製程進行圖案之描繪顯影處理的流程圖。

第13A圖係在光罩製程受到描繪顯影處理前之光罩空白板之剖面圖。

第13B圖係經光罩製程製作出之轉印光罩之剖面圖。

第14圖係根據空白板膜資訊及光罩圖案資料進行疏散圖案形成區域及緊密圖案形成區域之配置的說明圖。

第15圖係用來說明本發明光罩製作支援方法中光罩空白板之製程、及光罩空白板之製程中取得並儲存光罩空白板膜資訊之方法的流程圖。

第16A圖係光罩空白板之刻痕標記1之說明圖。

第16B圖係光罩空白板之膜標記31之說明圖。

第17圖係用來說明藉本發明光罩空白板膜資訊(表面資訊)取得製程所取得之光罩空白板膜資訊(表面資訊)之一例。

第18A圖係用來說明收納光罩空白板之收納箱10的剖面圖。

第18B圖係用來說明收納光罩空白板之收納箱10的俯視圖。

第19圖係用來說明光罩製作支援系統110之方塊圖。

第20圖係用來說明光罩製程之流程圖，該光罩製程具有下列之製程：光罩工廠112利用空白板膜資訊於光罩空白板之光阻膜以描繪顯影處理形成圖案。

第21A圖係進行光罩製程之描繪顯影處理前之光罩空白板之剖面圖。

第21B圖係經光罩製程製作成之轉印光罩之剖面圖。

第22圖係根據空白板膜資訊及光罩圖案資料來進行疏散圖案形成區域及緊密圖案形成區域之配置的說明圖。

第23圖係用來說明本發明之光罩空白板膜資訊管理系統50的方塊圖。

第24圖係用來說明匣號碼、插槽號碼賦予裝置52之方塊圖。

第25圖係用來說明主電腦51之方塊圖。

第26圖係用來說明1次膜成膜裝置53之方塊圖。

第27圖係用來說明1次膜缺陷檢查裝置54之方塊圖。

第28圖係用來說明光阻膜成膜裝置57之方塊圖。

1．．．刻痕標記

2．．．流通箱

3,6．．．膜標記

4,5,7,8,9,10．．．流通箱

20．．．收納箱

51．．．主電腦

Claims (27)

1. 一種轉印光罩之製造方法，其包括：準備在基板面上形成有膜之光罩空白板(mask blank)；根據光罩空白板資訊而在前述光罩空白板上劃定欲配置光罩圖案之區域；前述光罩空白板資訊係包含：基板資訊，其係包含在前述膜的成膜前所取得之顯示前述基板的狀態之狀態資訊；及膜資訊，其係包含在前述膜的成膜後所取得之顯示膜的狀態之狀態資訊；前述基板資訊係包含基板之表面資訊、表面形態資訊及光學特性資訊中的至少一者；前述膜資訊係包含膜的表面資訊、表面形態資訊及光學特性資訊中的至少一者；依照前述已劃定之區域，將前述光罩空白板圖案化而形成光罩圖案。
2. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係比對前述基板資訊與膜資訊而生成。
3. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係以針對前述基板及膜的相同位置所形成的狀態資訊為基礎下比對基板資訊與膜資訊而生 成。
4. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係與特定前述光罩空白板之管理號碼或管理記號賦予關聯。
5. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係經由通信線路而取得。
6. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述基板資訊之表面形態資訊係包含基板面之凸狀、凹狀及此等之組合中的至少一者。
7. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述基板資訊之光學特性係包含透射率、反射率、吸光率及位相差中的至少一者。
8. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述膜資訊之表面形態資訊係包含膜面之凸狀、凹狀及此等之組合中的至少一者。
9. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述膜資訊之光學特性係包含透射率、反射率、吸光率及位相差中的至少一者。
10. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述膜資訊係包含缺陷之位置資訊、缺陷之尺寸及缺陷之種類中的至少一者。
11. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述狀態資訊係包含至少兩種類的測定值。
12. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述基板係透光性基板。
13. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述膜係從移相膜、遮光膜或光阻膜中作選擇。
14. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中前述膜係從多層反射膜、吸収體膜或光阻膜中作選擇。
15. 如申請專利範圍第1項之轉印光罩之製造方法，其中在前述光罩空白板上所形成之光罩圖案係包含相對上較密之圖案的區塊及相對上較疏之圖案的區塊。
16. 一種轉印光罩之製造方法，其包括：準備在基板面上依序形成有第一膜與第二膜之光罩空白板，根據光罩空白板資訊而在前述光罩空白板上劃定欲配置光罩圖案之區域；前述光罩空白板資訊係包含：第一膜資訊，其係包含在前述第一膜的成膜後且前述第二膜的成膜前所取得之顯示、前述第一膜的狀態之狀態資訊；及第二膜資訊，其係包含在前述第二膜的成膜後所取得之顯示前述第二膜的狀態之狀態資訊；前述第一膜資訊及第二膜資訊係包含基板之表面資訊、表面形態資訊及光學特性資訊中的至少一者；依照前述已劃定之區域，將前述光罩空白板圖案化而形成光罩圖案。
17. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係比對前述第一膜資訊與第二膜資訊而生成。
18. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係以針對前述基板及膜的相同位置所形成的狀態資訊為基礎下比對第一膜資訊與第二膜資訊而生成。
19. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊係與特定前述光罩空白板之管理號碼或管理記號賦予關聯。
20. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述光罩空白板資訊經由通信線路而取得。
21. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述第一膜資訊或第二膜資訊之表面形態資訊係包含基板面之凸狀、凹狀及此等之組合中的至少一者。
22. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述第一膜資訊或第二膜資訊之光學特性係包含透射率、反射率、吸光率及位相差中的至少一者。
23. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述第一膜資訊或第二膜資訊係包含缺陷之位置資訊、缺陷之尺寸及缺陷之種類中的至少一者。
24. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述狀態資訊係包含至少兩種類的測定值。
25. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述第一膜及第二膜係從移相膜、遮光膜或光阻膜中作選擇。
26. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中前述第一膜及第二膜從多層反射膜、吸収體膜或光阻膜中作選擇。
27. 如申請專利範圍第16項之轉印光罩之製造方法，其中在前述光罩空白板上所形成之光罩圖案係包含相對上較密之圖案的區塊及相對上較疏之圖案的區塊。