JP5683930B2 - マスクブランク用基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 - Google Patents
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Description
そのため、マスクブランクに用いられる透明基板を露光装置にセットしたときの当該透明基板の形状を、有限要素法を用いてシミュレーションして平坦度を予測することが提案されている。しかし、有限要素法による基板形状のシミュレーションは基板主表面の形状をある程度正確に予測することはできるが、シミュレーションに要する時間が非常に長いという問題があった。
(1)透明基板の重力によるX方向(Z方向と垂直)に沿う撓み
(2)透明基板を露光装置にセットしたときのマスクステージからの吸着による、マスクステージを支点としたX方向に沿う透明基板の反り
(3)透明基板を露光装置にセットしたときのマスクステージからの吸着による、マスクステージに当接するY方向(X方向及びZ方向と垂直)に沿う透明基板の変形
続いて、これらの予測値と、予め測定した透明基板の表面形状を用いて、撓み微分方程式によりシミュレーションを行っている。シミュレーションにより算出した、露光装置にセットしたときの透明基板の表面形状から、平坦度を求め、その平坦度が仕様に適合している場合に、その透明基板からマスクブランク又は露光用マスクを作製する。
しかしながら、半導体デバイスの微細化の要求はさらに厳しくなってきており、液浸露光技術が導入されることで、NA>1の超高NAとなってきており、露光装置の焦点深度が非常に小さくなってきている。また、特にDRAM hp45nm世代以上の微細パターンを有する転写用マスクにおいては、転写用マスクをマスクステージにチャックする前後での基板形状変化に伴う転写パターン位置のマスクステージ上の基準平面に対する移動が転写精度に与える影響が大きくなってきており、それを考慮した転写パターンの設計パターンからの補正が必要になってきている。
図1は、本発明に係るマスクブランク用基板の製造方法を含む転写用マスクの製造工程を示すフローチャートである。
図2(A)に透光性基板の斜視図、同図(B)に透光性基板の外周部の断面図を示す。透光性基板は、一般的に知られている方法により作製された合成石英ガラスインゴットから、約152.4mm×約152.4mm×約6.8mmに切り出して得ることができる。得られた合成石英ガラス板に面取り加工や主表面等の研削を施し、次に、この合成石英ガラス板の表面である主表面1及び2と端面3と面取り面4とを鏡面研磨し、更に主表面1及び2を精密研磨して透光性基板(合成石英ガラス基板、約152mm×約152mm×6.35mm)5を準備する。上記主表面1に、薄膜形成工程においてパターン形成用薄膜(遮光膜、光半透過膜等)が形成される。透光性基板5の準備工程においては、透光性基板5における両主表面1及び2の表面粗さは、二乗平均平方根粗さ(Rq)で約0.2nm以下であり、端面3及び面取り面4の表面粗さは、算術平均粗さ(Ra)で約0.03μm以下とする。
透光性基板5の主表面1のマスクステージに載置する前の主表面形状であるチャック前主表面形状を取得する手段としては、公知の光干渉計を利用した平坦度測定装置(不図示)などで得ることができる。透光性基板5の自重による撓みをなるべく抑えるため透光性基板5を垂直又は略垂直に立たせた状態(フリースタンディング状態)で平坦度を測定できるものが良い。ここにいうチャック前主表面形状とは、図2に示すように、透光性基板5の主表面1内に設けられた実測領域(a×a)内における複数の測定点P(Xm,Yn)(但しm、nは整数)における基準面7(最小自乗法により算出される焦平面)からの高さ情報Zk(kは整数)をいう。そして、この高さ情報Zkは、なるべく高精度に測定できるものが良く、nmオーダーで測定できるものが良い。なお、図2において、透光性基板5の主表面1内の格子は、複数の測定点P(Xm,Yn)を表すための仮想の線であり、主表面1上に実際にある線ではない。
このシミュレーション工程では、透光性基板5を露光装置のマスクステージにセットした状態をシミュレーションして、透光性基板5の主表面1における複数の測定点P(Xm,Yn)で、基準面7(図2)からの高さ情報ZSk(但しkは整数)を求める。
図3は、透光性基板5を露光装置(不図示)のマスクステージ8にセットした様子を示す図である。図3(B)が上から見た図であり、同図(A)がIII−III断面における断面図である。図3に示すとおり、マスクステージ8は、重力方向に実質的に垂直なX−Y平面上に互いに平行に配置された2つの吸引チャック部からなる。この2つの吸引チャック部は、互いにX方向に距離L1だけ離れた位置に、長手方向がY方向(X方向と垂直)に沿うように配置されている。それぞれの吸引チャック部はX方向の幅がL2であり、Y方向の長さがL3とする。
(マスクステージに吸引チャックしたときの透光性基板の主表面における高さ情報ZSk)
=(形状測定工程で取得した透光性基板の主表面における高さ情報Zk)
+(透光性基板の重力によるX方向に沿う撓みによる変形の予測値)[重力変形量]
+(吸引チャックによるマスクステージを支点としたX方向に沿う透光性基板の反り(てこの効果)の予測値)[てこ変形量]
+(吸引チャックによるY方向(マスクステージの長手方向)に沿う透光性基板の変形の予測値)[倣い変形量]
+(透光性基板をマスクステージにセットしたときに透光性基板の捩じれが是正される方向に働く変形(捩じれ変形)の予測値)[捩じれ変形量]
ここで、X方向及びY方向は、図3(B)におけるものであり、X方向はマスクステージ8の長手方向に直交する方向であり、Y方向はマスクステージ8の長手方向に沿う方向である。また、「透光性基板がマスクステージに当接するY方向に沿う領域」は、マスクステージ8の形状情報としての、マスクステージ8が透光性基板5の主表面1に当接する領域から求められる。
図4は、シミュレーション工程で得られたチャック後主表面形状の情報から平坦度を算出する手順を説明するための図であり、透光性基板5の斜視図である。透光性基板5は図2(A)と同じ構成は、同じ番号で示している。ここでは、図4に示すように、上記シミュレーション工程によって得た主表面1の基準面からの高さ情報ZSkから、転写用マスク(不図示)の転写領域を含む算出領域(c×d)において最大値と最小値を求め、それらの差分により、露光装置に上記透光性基板5をセットしたときの当該透光性基板5の主表面1における平坦度を算出する工程である。この平坦度は、露光装置を用いたパターン転写時に良好な転写パターンの形成に寄与するものである。上記転写用マスクの転写領域を含む算出領域(c×d)は、露光波長や半導体基板上に形成する微細パターン(回路パターン)の種類等によって決められる。例えば、マスクブランクの大きさが152mm×152mmの場合、転写用マスクの転写領域を含む算出領域(c×d)を、基板主表面の中心を基準とした104mm×132mmの矩形状や、90度回転させて転写パターンを配置することを考慮して132mm×132mmの正方形状とすることができる。さらに、132mm×132mmの外周領域についても平坦度を保証するとなお好ましく、たとえば142mm×142mmの正方形状を算出領域とすると良い。
上記選定工程で、透光性基板5が露光装置のマスクステージ8にセットされたとき当該透光性基板5の平坦度が仕様に適合していると判定された場合に、その透光性基板5(つまりマスクブランク用基板5A)の主表面1上にマスクパターンを形成するためのパターン形成用薄膜をスパッタリング法により形成してマスクブランクを作製する。このパターン形成用薄膜11の成膜は、例えばDCマグネトロンスパッタリング装置を使って行う。図5(A)は、マスクブランク14の断面の一部を表している。マスクブランク14はマスクブランク用基板5Aの上にパターン形成用薄膜11を有している。
この膜応力制御工程は、例えば、パターン形成用の薄膜形成時及び/又は薄膜形成後にマスクブランクを150℃以上の温度で加熱処理する場合や、図5(B)に示すように、マスクブランク用透明基板5A上に形成するパターン形成用薄膜を複数層とし、例えば、薄膜11が圧縮応力を有する層であり、薄膜12が引張応力を有する層であり、それらを積層して、各層の薄膜11、12の膜応力を相殺する場合等がある。以下に示す実施例では、前者(加熱処理)の場合について説明する。
次に、マスクブランクにおける上記パターン形成用薄膜11の表面にレジストを塗布した後、加熱処理してレジスト膜を形成する。レジストには、微細パターンを形成可能な電子線描画露光用のものが好ましく、化学増幅型のものが特に好ましい。上記(A)透光性基板の準備工程から(E)薄膜形成工程まで(必要に応じて(F)膜応力制御工程まで)あるいは(G)レジスト膜形成工程までがマスクブランクの製造方法である。
マスクブランク上のレジスト膜に所定のパターンを描画・現像処理し、レジストパターンを形成する。次に、このレジストパターンをマスクにして、パターン形成用薄膜11をエッチングし、転写パターン(マスクパターン)を形成する。最後に、上記レジストパターンを除去して、マスクブランク用基板5A上に転写パターンが形成された転写用マスク(露光用マスク)を得る。
得られた転写用マスクを露光装置のマスクステージにセット(チャック)し、この転写用マスクを使用し、ArFエキシマレーザーを露光光として光リソグラフィー技術を用い、半導体基板に形成されているレジスト膜に転写用マスクの転写パターンを転写して、この半導体基板上に所望の回路パターンを形成し、半導体デバイスを製造する。
が好ましい。
図6は、本発明に係るマスクブランクの製造方法を含む転写用マスクの製造工程を示すフローチャートである。
以下、マスクブランク用基板の製造工程、マスクブランクの製造工程を含む転写用マスクの製造工程について、具体的に説明する。
(I)透光性基板の準備工程
正方形状の透光性基板(合成石英ガラス基板)の主表面を精密研磨し、洗浄して透光性基板(約152mm×152mm×6.35mm)を20枚準備した。
上記透光性基板20枚について、光干渉計を利用した平坦度測定装置(Corning TROPEL社製 UltraFlat200M)を用いて、透光性基板の主表面(パターン形成用薄膜が形成される主表面)の実測領域(148mm×148mm)において、256×256の各測定点につきチャック前主表面形状の情報(最小自乗法により算出される焦平面(仮想絶対平面)からの高さ情報)を取得し、その測定した透光性基板(基板搬送用ケースに付されたバーコード)と対応付けてコンピュータ(記録装置)に保存した。なお透光性基板の自重による撓みをなるべく抑えるため、透光性基板を垂直又は略垂直に立たせた状態(フリースタンディング)で平坦度を測定した。
形状測定工程で得られたチャック前主表面形状の情報と、露光装置のマスクステージが透光性基板の主表面に当接する領域(透光性基板の対向する2つの端面からそれぞれ約10mm×132mmの領域)の当該マスクステージの形状情報とから、前述の撓み微分方程式を用い各測定点について、露光装置に透光性基板をセットしたときの基準面からの高さの情報(チャック後主表面形状)をシミュレーションにより算出した。
上述のシミュレーション結果から、転写用マスクの転写領域を含む算出領域(132mm×132mm)における基準面からの最大値と最小値との差を求めて、この所定領域における平坦度を算出した。その結果、平坦度が閾値0.12μm(132mm×132mm)以下である透光性基板を選定(16枚が合格品)し、その透光性基板をマスクブランク用基板として用いた。
選定されたマスクブランク用基板に対し、主表面上に遮光層と表面反射防止層を備える遮光膜(パターン形成用薄膜)を形成した。
枚葉式DCマグネトロンスパッタ装置内に透光性基板を設置し、スパッタターゲットにモリブデン(Mo)とケイ素(Si)の混合ターゲット(原子%比 Mo:Si=21:79)を用い、アルゴンと窒素との混合ガス雰囲気で、MoSiN膜を形成した。次に、スパッタターゲットにモリブデン(Mo)とケイ素(Si)の混合ターゲット(原子%比 Mo:Si=4:96)を用い、アルゴンと窒素と酸素とヘリウムの混合ガス雰囲気で、MoSiON膜を形成した。以上により、膜厚50nmのMoSiN膜(膜組成比 Mo:14.7原子%,Si:56.2原子%,N:29.1原子%)の遮光層と膜厚10nmのMoSiON(膜組成比 Mo:2.6原子%,Si:57.1原子%,O:15.9原子%,N:24.4原子%)の表面反射防止層の2層積層構造のMoSi系材料からなる遮光膜を形成した。なお、遮光膜の各層の元素分析は、ラザフォード後方散乱分析法を用いた。この遮光膜の光学濃度(OD)は、ArFエキシマレーザーの露光光の波長に対し、3.0であった。
遮光膜が形成されたマスクブランク用基板に対し、450℃で30分間加熱処理(アニール処理)を行い、遮光膜の膜応力を低減する処理を行い、上記遮光膜の膜応力を実質的にゼロにした。
遮光膜の膜応力を低減したマスクブランク用基板に対し、遮光膜上にエッチングマスク膜(パターン形成用薄膜)を形成した。
枚葉式DCマグネトロンスパッタ装置内に透光性基板を設置し、スパッタターゲットにクロム(Cr)ターゲットを用い、アルゴンと二酸化炭素と窒素とヘリウムとの混合ガス雰囲気で、エッチングマスク膜としてCrOCN膜を膜厚10nmで形成した。
エッチングマスクが形成されたマスクブランク用基板に対し、遮光膜のアニール処理よりも低い温度で加熱処理(アニール処理)を行うことで、エッチングマスク膜の膜応力を低減する処理を行った。さらに、所定の洗浄を行い、マスクブランクを製造した。
製造したマスクブランクのエッチングマスク膜上にスピンコート法によりレジスト膜(電子線描画露光用化学増幅型レジスト:富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製 PRL009)を形成し、プリベーク処理して膜厚が100nmのレジスト膜を形成し、レジスト膜付きマスクブランクを得た。
ダブルパターニング技術を用い、DRAM hp32nm世代に相当する1つの微細・高密度な設計パターンを2つの比較的疎な設計パターンに分割した。製造したレジスト膜付きマスクブランク(以下、マスクブランク)から2枚を選択し、それぞれの遮光膜に形成する設計パターンを決定した。マスクブランク(透光性基板)と対応付けられてサーバーに保管されていた各マスクブランクのチャック前主表面形状、およびチャック後主表面形状に関する情報をダウンロードした。ダウンロードした情報からチャック前後の主表面形状変化に伴う各マスクブランクの遮光膜の移動傾向を算出し、これを基に各設計パターンを補正した。補正した各設計パターンを先に定めたマスクブランクのレジスト膜に対して、電子線描画による露光を行い、所定の現像・洗浄処理を行い、転写パターンを有するレジストパターンを形成した。
作製した2枚の転写用マスク(セット)を用い、ダブルパターニング技術(ダブル露光技術)による半導体デバイスの製造を行った。1枚目の転写用マスクを露光装置のマスクステージにセット(吸引チャック)し、半導体基板上のレジスト膜にArF露光光で1つ目の転写パターンの露光転写を行った。続いて、2枚目の転写用マスクを露光装置のマスクステージにセット(吸引)チャックし、半導体基板上の先ほどと同じレジスト膜にArF露光光で2つ目の転写パターンの露光転写を行った。これにより、半導体基板上のレジスト膜にDRAM hp32nm世代に相当する1つの微細・高密度な転写パターンの露光転写を行ったことになる。半導体基板上のレジスト膜に所定の現像を行い、レジスト膜のパターンの下にある薄膜にドライエッチングによって回路パターンを転写した。転写後の回路パターンを検査したところ、短絡や断線箇所もなく、正常に転写できていることが確認できた。すなわち、転写用マスクがマスクステージにチャックしたときの主表面形状の変化に対応した転写パターンが形成できていること、しいては、本発明の透光性基板に対するシミュレーションの精度が十分に高いことが証明された。同様にして作製した他の転写用マスクセットを用い、半導体基板上に順次回路パターンの積層構造を形成し、半導体デバイスを作成した。得られた半導体デバイスを検査したところ正常に動作していることが確認できた。
3 端面
4 面取り面
5 透光性基板
7 基準面
8 マスクステージ
Claims (28)
- 主表面が精密研磨された透光性基板を準備する工程と、
前記主表面の実測領域内に設けられた複数の測定点における基準面からの高さ情報であるチャック前主表面形状を測定する形状測定工程と、
前記透光性基板を露光装置のマスクステージにチャックしたときにおけるチャック後主表面形状を材料力学における撓み微分方程式を用いたシミュレーションにより得るシミュレーション工程と、
前記チャック後主表面形状から求められる算出領域内の平坦度が所定値以下のものをマスクブランク用基板として選定する選定工程と、
を有するマスクブランク用基板の製造方法であって、
前記撓み微分方程式は、
前記形状測定工程で取得した複数の測定点における基準面からの高さ情報に係る項と、
前記透光性基板をマスクステージに載置したときにおける主表面の重力による変形量である重力変形量に係る項と、
前記透光性基板をマスクステージにチャックしたときにおける主表面のマスクステージを支点としたてこ変形によるてこ変形量に係る項、主表面のマスクステージの形状に倣う変形による倣い変形量に係る項、および主表面の捩じれを是正する変形による捩じれ変形量に係る項とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記形状測定工程は、測定した透光性基板とチャック前主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含み、
前記シミュレーション工程は、シミュレーションした透光性基板とチャック後主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含むことを特徴とする請求項1記載のマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記算出領域は、透光性基板の中心を基準とした132mm角内の領域であることを特徴とする請求項1または2に記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記平坦度の所定値は、0.24μmであることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 主表面が精密研磨された透光性基板を準備する工程と、
前記主表面の実測領域内に設けられた複数の測定点における基準面からの高さ情報であるチャック前主表面形状を測定し、その測定した透光性基板と前記チャック前主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する形状測定工程と、
前記透光性基板を露光装置のマスクステージにチャックしたときにおけるチャック後主表面形状を材料力学における撓み微分方程式を用いたシミュレーションにより得るシミュレーション工程と
を有するマスクブランク用基板の製造方法であって、
前記撓み微分方程式は、
前記形状測定工程で取得した複数の測定点における基準面からの高さ情報に係る項と、
前記透光性基板をマスクステージに載置したときにおける主表面の重力による変形量である重力変形量に係る項と、
前記透光性基板をマスクステージにチャックしたときにおける主表面のマスクステージを支点としたてこ変形によるてこ変形量に係る項、主表面のマスクステージの形状に倣う変形による倣い変形量に係る項、および主表面の捩じれを是正する変形による捩じれ変形量に係る項とを有し、
前記シミュレーション工程は、シミュレーションした透光性基板と前記チャック後主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含むことを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。 - 前記実測領域は、露光装置のマスクステージに前記透光性基板がチャックされる領域を含む領域であることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記実測領域は、透光性基板の面取面から0mmを超え3mm以下の周縁部領域を除いた領域であることを特徴とする請求項6記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 前記チャック前主表面形状から求められる所定領域内での平坦度が0.4μm以下である透光性基板を選定する工程を有することを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法。
- 請求項1から8のいずれかに記載のマスクブランク用基板の製造方法により製造されたマスクブランク用基板の前記主表面上に、パターン形成用薄膜を形成する薄膜形成工程を有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
- 請求項9記載のマスクブランクの製造方法により製造されたマスクブランクのパターン形成用薄膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
- 透光性基板の主表面上にパターン形成用の薄膜を備えるマスクブランクを準備する工程と、
前記マスクブランクの主表面の実測領域内に設けられた複数の測定点における基準面からの高さ情報であるチャック前の主表面形状を測定する形状測定工程と、
前記マスクブランクを露光装置のマスクステージにチャックしたときにおけるチャック後の主表面形状を材料力学における撓み微分方程式を用いたシミュレーションにより得るシミュレーション工程と、
前記チャック後の主表面形状から求められる算出領域内の平坦度が所定値以下のものを選定する選定工程と、
を有するマスクブランクの製造方法であって、
前記撓み微分方程式は、
前記形状測定工程で取得した複数の測定点における基準面からの高さ情報に係る項と、
前記マスクブランクをマスクステージに載置したときにおける主表面の重力による変形量である重力変形量に係る項と、
前記マスクブランクをマスクステージにチャックしたときにおける主表面のマスクステージを支点としたてこ変形によるてこ変形量に係る項、主表面のマスクステージの形状に倣う変形による倣い変形量に係る項、および主表面の捩じれを是正する変形による捩じれ変形量に係る項とを有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。 - 前記形状測定工程は、測定したマスクブランクとチャック前の主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含み、
前記シミュレーション工程は、シミュレーションしたマスクブランクとチャック後の主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含むことを特徴とする請求項11記載のマスクブランクの製造方法。 - 前記算出領域は、マスクブランクの中心を基準とした132mm角内の領域であることを特徴とする請求項11または12に記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記平坦度の所定値は、0.24μmであることを特徴とする請求項11から13のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
- 透光性基板の主表面上にパターン形成用の薄膜を備えるマスクブランクを準備する工程と、
前記マスクブランクの主表面の実測領域内に設けられた複数の測定点における基準面からの高さ情報であるチャック前の主表面形状を測定し、その測定したマスクブランクと前記チャック前の主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する形状測定工程と、
前記マスクブランクを露光装置のマスクステージにチャックしたときにおけるチャック後の主表面形状を材料力学における撓み微分方程式を用いたシミュレーションにより得るシミュレーション工程と
を有するマスクブランクの製造方法であって、
前記撓み微分方程式は、
前記形状測定工程で取得した複数の測定点における基準面からの高さ情報に係る項と、
前記マスクブランクをマスクステージに載置したときにおける主表面の重力による変形量である重力変形量に係る項と、
前記マスクブランクをマスクステージにチャックしたときにおける主表面のマスクステージを支点としたてこ変形によるてこ変形量に係る項、主表面のマスクステージの形状に倣う変形による倣い変形量に係る項、および主表面の捩じれを是正する変形による捩じれ変形量に係る項とを有し、
前記シミュレーション工程は、シミュレーションしたマスクブランクと前記チャック後の主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含むことを特徴とするマスクブランクの製造方法。 - 前記実測領域は、露光装置のマスクステージにマスクブランクがチャックされる領域を含む領域であることを特徴とする請求項11から15のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記実測領域は、透光性基板の面取面から0mmを超え3mm以下の周縁部領域を除いた領域であることを特徴とする請求項16記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記チャック前の主表面形状から求められる所定領域内での平坦度が0.4μm以下であるマスクブランクを選定する工程を有することを特徴とする請求項11から17のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法。
- 請求項11から18のいずれかに記載のマスクブランクの製造方法により製造されたマスクブランクのパターン形成用の薄膜に転写パターンを形成する工程を有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。
- 透光性基板の主表面上にパターン形成用の薄膜を備えるマスクブランクを準備する工程と、
前記マスクブランクの主表面の実測領域内に設けられた複数の測定点における基準面からの高さ情報であるチャック前の主表面形状を測定する形状測定工程と、
前記マスクブランクを露光装置のマスクステージにチャックしたときにおけるチャック後の主表面形状を材料力学における撓み微分方程式を用いたシミュレーションにより得るシミュレーション工程と、
前記チャック後の主表面形状から求められる算出領域内の平坦度が所定値以下のものを選定する選定工程と、
前記選定工程で選定されたマスクブランクのパターン形成用の薄膜に転写パターンを形成する工程と
を有する転写用マスクの製造方法であって、
前記撓み微分方程式は、
前記形状測定工程で取得した複数の測定点における基準面からの高さ情報に係る項と、
前記マスクブランクをマスクステージに載置したときにおける主表面の重力による変形量である重力変形量に係る項と、
前記マスクブランクをマスクステージにチャックしたときにおける主表面のマスクステージを支点としたてこ変形によるてこ変形量に係る項、主表面のマスクステージの形状に倣う変形による倣い変形量に係る項、および主表面の捩じれを是正する変形による捩じれ変形量に係る項とを有することを特徴とする転写用マスクの製造方法。 - 前記形状測定工程は、測定したマスクブランクとチャック前の主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含み、
前記シミュレーション工程は、シミュレーションしたマスクブランクとチャック後の主表面形状の情報とを対応付けて記録装置に記録する工程を含むことを特徴とする請求項20記載の転写用マスクの製造方法。 - 前記実測領域は、露光装置のマスクステージにマスクブランクがチャックされる領域を含む領域であることを特徴とする請求項20または21に記載の転写用マスクの製造方法。
- 前記実測領域は、透光性基板の面取面から0mmを超え3mm以下の周縁部領域を除いた領域であることを特徴とする請求項22記載の転写用マスクの製造方法。
- 前記算出領域は、マスクブランクの中心を基準とした132mm角内の領域であることを特徴とする請求項20から23のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
- 前記平坦度の所定値は、0.24μmであることを特徴とする請求項20から24のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
- 前記チャック前の主表面形状から求められる所定領域内での平坦度が0.4μm以下であるマスクブランクを選定する工程を有することを特徴とする請求項20から25のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法。
- 請求項10記載の転写用マスクの製造方法により製造された転写用マスクを用い、半導体ウェハ上に回路パターンを形成することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
- 請求項19から26のいずれかに記載の転写用マスクの製造方法により製造された転写用マスクを用い、半導体ウェハ上に回路パターンを形成することを特徴とする半導体デバイスの製造方法。
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