JP3947154B2 - マスク基板情報生成方法およびマスク基板の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程とを備え、この第2の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に基づきマスク基板が選択されることを特徴とする。
本発明に係るマスク基板情報生成方法は、複数のマスクパターン形成前のマスク基板の各々について、測定装置により測定した主面の平坦度に関する情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから各マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する情報を生成する工程とを備え、前記工程で生成された情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に関する情報を管理することを特徴とする。
本発明に係るマスク基板の製造方法は、測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程と、この第2の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、前記基板の主面を研磨した後、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とする。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る露光マスクの製造方法の流れを示すフローチャートである。
第1の実施形態では、図2(a)に示したマスク基板1の主面の第1の領域1についてのみ表面形状および平坦度を取得したが(ステップS1)、本実施形態では、第1の領域1とこの第1の領域1を囲む第2の領域2との二つの領域のそれぞれについて表面形状および平坦度を取得する。
しかしながら、現在のマスク製造技術では、マスク基板1の主面全体を平坦にすることは非常に困難であり、マスク基板1の主面の平坦度は端部で急激に悪化しているのが現状であり、そのため第1の領域1を広げてしまうと、マスク基板1の中心部の平坦度はいいのだが、マスク基板1の端部の平坦度が悪いために、マスク基板1の主面全体についての平坦度の測定結果が低下することになる そこで、本実施形態では、上述の如く、マスク中心を含む第1の領域1と、それを囲む第2の領域2とのそれぞれについて平坦度および表面形状を取得する。
本実施形態では、真空チャックによるチャック後のマスク基板の主面の表面形状に相当するマスク基板の主面の表面形状を、シミュレーションにより取得する。
本実施形態では、真空チャックによるチャック後のマスク基板の主面の表面形状に相当するマスク基板の主面の表面形状を、シミュレーションにより取得する。
次に、本発明の第5の実施形態に係るマスク基板情報生成方法について説明する。
図6は、本発明の第6の実施形態に係るサーバー・システムを模式的に示す図である。第5の実施形態では、呈示の例示としてシールをあげたが、本実施形態ではサーバー(サーバー装置)上で呈示し、これによりこの実施形態のマスク基板情報生成方法をe−ビジネス(電子メールビジネス)に利用できるようになる。
Claims (11)
- 測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程と、を有することを特徴とするマスク基板情報生成方法。
- 測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程とを備え、この第2の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に基づきマスク基板が選択されることを特徴とするマスク基板情報生成方法。
- シミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程は、マスクステージ上に配置されるマスク基板の配置方向が互いに90度異なる2方向に対してそれぞれ生成されることを特徴とする請求項1又は2記載のマスク基板情報生成方法。
- 複数のマスクパターン形成前のマスク基板の各々について、測定装置により測定した主面の平坦度に関する情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから各マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する情報を生成する工程とを備え、前記工程で生成された情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度に関する情報を管理することを特徴とするマスク基板情報生成方法。
- 前記各マスク基板と前記工程でシミュレーションにより生成された平坦度に関する情報とを各マスク基板が収容される容器に対して前記マスク基板の主面の平坦度に関する情報を管理することを特徴とする請求項4に記載のマスク基板情報生成方法。
- 前記マスク基板には、位置合わせ用マークが予め形成されていることを特徴とする請求項1、2、3、4、5のいずれかに記載のマスク基板情報生成方法。
- 前記シミュレーションによる第2の情報の取得は、有限要素法を用いたことを特徴とする請求項1、2、3、4、5のいずれかに記載のマスク基板情報生成方法。
- 石英基板上に遮光体が形成されたマスク基板を準備する工程と、測定装置により前記マスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程と、この第2の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程と、を備えることを特徴とするマスク基板の製造方法。
- 測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程と、この第2の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とするマスク基板の製造方法。
- 測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報を生成する工程と、この第2の情報から得られる前記マスク基板の主面の平坦度が仕様に合うか否かを判断する工程とを備え、前記マスク基板の平坦度が仕様に合っていないと判断された場合には、前記マスク基板の主面上の遮光体を剥離し、前記基板の主面を研磨した後、新たな遮光体を前記基板の主面に形成することを特徴とするマスク基板の製造方法。
- 測定装置によりマスクパターン形成前のマスク基板の主面の平坦度に関する第1の情報を取得する工程と、前記第1の情報と露光装置のマスクチャックの構造に関する情報とから前記マスク基板を前記露光装置にセットした時のシミュレーションによる前記主面の平坦度に関する第2の情報とを生成する工程と、この第2の情報に基づき前記マスク基板が仕様に合うように選択されることを特徴とするマスク基板の検査方法。
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