TWI452417B - 遮罩基底用基板之製造方法、遮罩基底之製造方法、遮罩之製造方法及遮罩基底用基板 - Google Patents

Description

遮罩基底用基板之製造方法、遮罩基底之製造方法、遮罩之製造方法及遮罩基底用基板

本案係根據及主張2007年8月7日申請之日本專利申請案第2007-204922號之優先權，將其全文以參考的方式併入本文中。

本發明係關於一種遮罩基底用基板之製造方法、一種遮罩基底之製造方法、一種遮罩之製造方法、及一種遮罩基底用基板。

在先前的遮罩製造方法中，有採用一種回授遮罩材料之遮罩基底的品質之技術。例如，一種習知的方法，其執行圖案形成，同時避開遮罩基底有缺陷的部分(例如參見日本未審專利公報(JP-A)第2001-33941號(專利文獻1))。

為了執行此種回授，需要辨識個別的遮罩基底。為此，例如，已經有人提出一種形成具有標記的遮罩基底，用以辨識或管理遮罩基底玻璃基板，及一種在遮罩基底玻璃基板的端面或類似區域之上，提供光學可讀式區域碼(optically readable area code)之遮罩基底(例如參見日本未審專利公報(JP-A)第2006-309143號(專利文獻2)和日本未審專利公報(JP-A)第2002-116533號(專利文獻3))。

為了執行圖案形成，同時避開遮罩基底有缺陷的部分，例如，包含缺陷的型式和座標等等之缺陷資訊被指定到遮 罩基底。然後，當製作遮罩時，有缺陷的部分可以根據缺陷資訊避開。作為避開有缺陷的部分之方法，例如，可以考慮藉由在平行其主表面之平面將其旋轉而使用遮罩基底，藉以改變遮罩基底的方位(orientation)，以避開有缺陷的部分。

但是，例如，在使用在基板的端面上形成具有標記之遮罩基底的情形下，若遮罩基底的方位改變，則形象具有標記之端面的方位也會改變。結果，每片遮罩基底之形成具有標記之端面的方位都不同，因此很難管理遮罩基底。

再者，遮罩基底若之形成具有標記端面的方位彼此都不相同，則在遮罩製程中，例如，很難使用讀取器自動讀取標記。結果，例如，也有可能變成很難使遮罩製程自動化。

因此，本發明之目的係提供一種遮罩基底用基板之製造方法、一種遮罩基底之製造方法、一種遮罩之製造方法、及一種遮罩基底用基板，其可以解決上述之問題。

為了完成上述之目的，本發明具有下列之結構。

(結構1)一種遮罩基底用基板之製造方法，包含：製備具有矩形主表面之板狀的基板之基板製備步驟；及在基板的四個端面當中的至少複數個端面之每一個端面上，形成用以辨識或管理基板之標記的標記形成步驟，其中四個端面係分別與主表面的側邊連續。

例如，基板製備步驟係製備透光基板，如玻璃基板。再者，例如，基板製備步驟係製備研削成預定形狀之基板。 在此情形下，例如，將基板拋光之拋光步驟係在標記形成步驟之後執行。基板製備步驟可以製備已拋光之基板。例如，用以辨識基板之標記係指示對基板為唯一的辨識資訊之標記，例如，辨識碼，如辨識數字或辨識符號，或管理碼，如管理數字或管理符號。此標記係用以管理遮罩基底用基板同時與例如包含缺陷的型式和座標等等之缺陷資訊對應。除了缺陷，例如如缺陷的形狀或光學特性之外，標記也可被與關於遮罩基底用基板的特性之資訊對應。另一方面，用以管理基板之標記，例如，係直接指示用以管理基板的資訊之標記，如有關於遮罩基底用基板的特性之資訊。

關於此種組態，例如，當在標記形成之後旋轉遮罩基底用基板或遮罩基底時，很容易確保其中之一標記係被定位在預定之方向的狀態。即使在旋轉遮罩基底或類似物體之後，此使其還可以從固定方向讀取其中之一標記。因此，例如，可以因應遮罩製程之需求，適當地旋轉藉由使用此遮罩基底用基板所製造之遮罩基底。

因此，關於此種組態，可以適當地辨識或管理個別的遮罩基底用基板和遮罩基底。再者，例如，還可以適當地形成遮罩圖案，而避開有缺陷的部分。此外，例如，還可以根據如形狀或光學特性之特性適當地形成遮罩圖案。

例如，標記形成步驟藉由照射雷射光在基板的端面上形成各標記。此使其可以適當地形成很難變成微粒產生源之 標記。在形成標記的一個端面上，標記形成步驟還可以形成第二標記，其中第二標記可以使端面與另一個端面區別。利用此種組態，例如，藉由使用第二標記當作原點標記(origin mark)，其可以適當地識別遮罩基底或類似物體的旋轉起始位置。

(結構2)一種根據結構1之遮罩基底用基板之製造方法，其中標記形成步驟係形成標記在四個端面的每一個之上。

因為主表面係矩形的，所以當旋轉遮罩基底用基板或遮罩基底時，旋轉角度正常係90度，180度，或270度。因此，利用此種組態，即使當使用任何旋轉角度時，可以確保其中之一標記係被定位在預定之方向的狀態。

(結構3)一種根據結構2之遮罩基底用基板之製造方法，其中標記形成步驟，形成包含四個端面共同的共同標記部分、及四個端面當中不同的端面獨特標記部分之標記來當作標記。

例如，端面獨特標記部分指示形成關於端面獨特標記部分之端面的位置。

若形成在四個端面上之標記都是相同的，則不可能藉由標記辨識個別的端面。因此，例如，也不能在旋轉遮罩基底或類似物體之後，藉由讀取標記確定旋轉角度。

另一方面，若組態如上所述，則可以分別辨識四個端面。因此，例如，藉由讀取定位在固定方向之端面上的標記，可以確定遮罩基底或類似物體之旋轉角度。此使其可以更 適當地管理遮罩基底用基板製程，及後續的遮罩基底和遮罩製程等等。

(結構4)一種根據結構1之遮罩基底用基板之製造方法，還包含基板特性取得步驟，係獲得指示主表面上基板特性分佈的特性面內分佈資訊(the property in-plane distribution information)，和儲存特性面內分佈資訊於適合儲存基板特性的儲存媒體之中，其中特性面內分佈資訊係被儲存在儲存媒體之中以便映射於形成在基板上之標記。

利用此種組態，例如，在遮罩製程中，當旋轉藉由使用此遮罩基底用基板製作的遮罩基底，以改變其方位時，可以適當地選擇適合基板特性的面內分佈之方向。此使其可以根據遮罩基底用基板的特性適當地製造遮罩。再者，例如，當在製造遮罩之後分析遮罩的特性時，可以適當地執行以特性面內分佈資訊為基礎的分析。此外，例如，當執行藉由使用遮罩所製造之半導體元件或類似裝置的失效分析(failure anslysis)時，可以適當地使用特性面內分佈資訊。

例如，在主表面上之基板的特性分佈係在平行主表面之平面的基板特性之二維分佈，而且，例如，是一種對應主表面的個別位置之基板特性被映射到主表面的個別位置之分佈。作為特性面內分佈資訊，例如，考慮使用表示缺陷分佈，基板的形狀分佈，或光學特性的分佈之資訊。作為 表示缺陷分佈之資訊，例如，使用可以由包含缺陷的型式和座標所製成之資訊。作為表示基板的形狀分佈之資訊，例如，使用可以由表示主表面上相對於預定參考平面的每一個位置的高度或深度所製成之資訊。作為表示光學特性的分佈之資訊，例如，使用可以由表示主表面上的每一個位置的穿透率之資訊或表示主表面上的雙折射分佈之資訊所製成之資訊。例如，雙折射分佈係在主表面上的個別位置之雙折射強度的分佈或在主表面上的個別位置之極化方位軸角度(angles of polarization azimuth axes)的分佈。特性面內分佈資訊可以為表示上述特性自預定參考範圍偏離的區域之資訊。

(結構5)一種遮罩基底製造方法，其中遮罩基底係用以製造用在製造光微影製程用之遮罩的遮罩基底，遮罩基底係藉由使用根據結構1之遮罩基底用基板之製造方法所製造的遮罩基底用基板製造，遮罩基底之製造方法包含：薄膜形成步驟，係在遮罩基底用基板上形成遮罩圖案用薄膜；及薄膜特性獲得步驟，係獲得指示遮罩圖案用薄膜的特性之薄膜資訊，及將薄膜資訊與標記對應地儲存在儲存媒體之中。

(結構6)一種根據結構5之遮罩基底製造方法，還包含阻劑膜形成步驟，係在遮罩圖案用薄膜上形成阻劑膜；及阻劑特性獲得步驟，係獲得指示阻劑膜的特性之阻劑資訊，及將阻劑資訊儲存在儲存媒體之中，以便被映至標記。

(結構7)一種用以製造光微影製程用之遮罩的遮罩製造方法，遮罩製造方法包含：基底製備步驟，係製備根據結構6之遮罩基底；讀取遮罩基底的標記，並且參考儲存媒體，藉以獲得包含對應標記的特性面內分佈資訊、薄膜資訊、及阻劑資訊之遮罩基底資訊之步驟；旋轉角度決定步驟，係以遮罩基底資訊為基礎，決定相對於根據遮罩基底的特定標記而被轉移到遮罩圖案用薄膜之遮罩圖案的方向，藉以決定用於以旋轉遮罩基底的旋轉角度；及圖案化步驟，係將遮罩基底放置在寫入系統(writing system)中，藉由在旋轉角度決定步驟根據特定標記所決定之旋轉角度，使遮罩基底旋轉，然後將遮罩圖案寫在阻劑膜上。

(結構8)一種用以製造遮罩基底之遮罩基底用基板，遮罩基底用基板具有複數個端面，每一個端面形成有用以辨識或管理遮罩基底用基板的標記。

(結構9)一種根據結構8之遮罩基底用基板，其中標記係形成在遮罩基底用基板之四個端面的每一個端面上。

(結構10)一種根據結構9之遮罩基底用基板，其中標記包含四個端面共同的共同標記部分，及四個端面當中不同的端面獨特標記部分。

根據本發明，例如，可以適當地辨識或管理遮罩基底用基板，遮罩基底等等。

下面，根據本發明之實施例將參考圖式說明。第1A圖和 第1B圖為根據本發明實施例之遮罩基底用基板10的結構說明範例圖。第1A圖為遮罩基底用基板10的透視圖。在本實施例中，遮罩基底用基板10係具有方形主表面102之玻璃基板，其中標記106a，106b，106c，和106d分別形成在四個端面104a，104b，104c，和104d之上，而四個端面分別與主表面102的四個側邊連續。

第1B圖圖示形成在端面104a上之標記106a的詳細結構範例。在本實施例中，標記106a係用以辨識遮罩基底用基板10的標記，而且具有共同標記部分108和端面獨特標記部分110。共同標記部分108係指示四個端面104a到104d的共同資訊之部分。端面獨特標記部分110係指示四個端面104a到104d當中不同資訊之部分。形成在其他端面104b，104c，和104d上之標記106b，106c，和106d各自具有和標記106a相同的共同標記部分108，以及和個別端面104a到104d當中不同之端面獨特標記部分110。

根據本實施例，對遮罩基底用基板10為獨特的辨識資訊可以藉由標記106a到106d的每一個之共同標記部分108適當地指示。再者，個別的端面104a到104d可以藉由個別的標記106a到106d之端面獨特標記部分110適當地辨識。

在本實施例中，例如，共同標記部分108和端面獨特標記部分110分別為光學可讀取式二維編碼。共同標記部分108指示辨識碼，如辨識數字或辨識符號，管理碼，如管 理數字或管理符號，或類似符號，對遮罩基底用基板10為獨特。端面獨特標記部分110指示用以辨識端面104a到104d的其中之一的數字，符號，或類似符號。作為用於每一個共同標記部分108和端面獨特標記部分110之二維編碼，例如，有資料矩陣，QR碼，SP碼，VeriCode，MaxiCode，CP碼，Codel，AztecCode，Intacta Code，Card-e，等等。特別地，資料矩陣係較佳的。

在本實施例中，標記係被提供在基板的端面上，但是也可以提供在形成在主表面和端面之間的稜角表面(chamfered surface)上，在形成在主表面和端面之間的切口記號(notch mark)形成部分上，或在形成轉移圖案之區域以外的周邊區域之主表面上。作為端面獨特標記部分110，可以形成資訊量少於共同標記部分108之標記。再者，作為每一個標記106a到106d，可以形成包含共同標記部分108和端面獨特標記部分110兩者之單一的二維編碼，條碼，或類似符號。在此情形下，例如，彼此相互部分不同之二維編碼，條碼，或類似符號係被形成當作標記106a到106d。

第2圖為顯示遮罩基底用基板10之製造方法的範例流程圖。在根據本實施例的遮罩基底用基板10之製程中，首先，製備研削成具有方形主表面之平板形之玻璃基板(基板製備步驟S102)。然後，標記106a到106d被分別形成在玻璃基板的端面104a到104d之上(標記形成步驟S104)。因 此，標記形成步驟S104在藉由使用遮罩基底用基板10所製造之遮罩基底不影響轉移的區域形成標記106a到106d。例如，標記形成步驟S104係藉由照射二氧化碳氣體雷射或類似雷射之雷射光形成標記106a到106d。然後，在形成標記106a到106d之後，玻璃基板的主表面102和端面104a到104d被拋光到預定的表面粗糙度(拋光步驟S106)。

接著，獲得在其主表面上表示玻璃基板的特性分佈之特性面內分佈資訊，其中，例如，兼具遮罩基底用基板10的檢查。然後，將獲得的特性面內分佈資訊相關聯或與標記106a到106d對應地儲存在用以儲存遮罩基底用基板的特性之儲存媒體中(基板特性獲得步驟S108)。例如，此儲存媒體係用以管理遮罩基底用基板的特性之資料庫。

此處，作為特性面內分佈資訊，例如，其可以考慮使用表示缺陷分佈，基板的形狀分佈，或光學特性的分佈之資訊。作為表示缺陷分佈之資訊，例如，可以使用由包含缺陷的型式和座標所製成之資訊。在此事件中，有關於在至少一個標記106a到106d和座標系統的原點之間的位置關係之資訊係被儲存在儲存媒體中。作為表示基板的形狀分佈之資訊，例如，可以使用由表示相對於預定參考平面的主表面上每一個位置的高度或深度所製成之資訊。作為表示光學特性的分佈之資訊，例如，可以使用由表示主表面上的每一個位置的穿透率之資訊或表示主表面上的雙折射 分佈之資訊所製成之資訊。

根據本實施例，例如，藉由在拋光之前的起始步驟，在玻璃基板上形成標記106a到106d，之後就可以藉由辨識玻璃基板完成拋光步驟S106等。例如，此使其可以更精確地完成步驟的管理，因此可以適當地管理遮罩基底用基板製程。

再者，在使用遮罩基底用基板10實施之遮罩基底和遮罩製程中，藉由將玻璃基板的特性面內分佈資訊映射到標記106a到106d，遮罩基底用基板10的特性也可以適當地掌握。此使其可以根據個別的遮罩基底用基板之特性而更適當地製造遮罩基底和遮罩。再者，遮罩基底和遮罩製程可以更適當地管理。

基板製備步驟S102可以製備已被施以拋光步驟S106之玻璃基板。在此情形下，標記形成步驟S104係將標記106a到106d形成在已拋光之玻璃基板上。再者，標記形成步驟S104可以在基板特性獲得步驟S108之後執行。在此情形下，標記形成步驟S104可以形成各自直接指示用以管理遮罩基底用基板的資訊之標記，如表示遮罩基底用基板的特性之資訊。

第3A圖和第3B圖為藉由使用遮罩基底用基板10所製造之遮罩基底20的說明圖。第3A圖圖示遮罩基底20的結構範例。在本實施例中，遮罩基底20包含遮罩基底用基板10和遮罩圖案用薄膜12。遮罩圖案用薄膜12係遮光膜， 半透光膜，或類似薄膜，用以在光罩製程中形成遮罩圖案，而且其係形成在遮罩基底用基板10之上。遮罩圖案用薄膜12可以為許多種薄膜的積層體。遮罩基底20還可以具有形成在遮罩圖案用薄膜12上之阻劑膜。

第3B圖為顯示遮罩基底20之製造方法的範例流程圖。在根據本實施例之遮罩基底20的製程中，首先，製備藉由參考第2圖所說明之製造方法製造遮罩基底用基板10(基底基板製備步驟S202)。然後，將遮罩圖案用薄膜12形成在遮罩基底用基板10之上(薄膜形成步驟S204)。

接著，獲得表示遮罩基底20的特性之遮罩基底資訊，其中，例如，兼具遮罩基底20的檢查。然後，將獲得的遮罩基底資訊，與標記106a到106d對應地，儲存在用以儲存遮罩基底的特性之儲存媒體中(基底特性獲得步驟S206)。例如，此儲存媒體係用以管理遮罩基底的特性之資料庫。

此處，在本實施例中，基底特性獲得步驟S206至少包含使用中形狀資訊獲得步驟。使用中(in-use)形狀資訊獲得步驟獲得藉由使用遮罩基底20所製造之遮罩的使用中形狀資訊，當作至少部分的遮罩基底資訊。然後，將獲得的使用中形狀資訊，與標記106a到106d對應地，儲存在用以儲存遮罩基底的特性之儲存媒體中。例如，在遮罩係放置在曝光系統中之狀態下，遮罩的使用中形狀資訊係表示藉由使用遮罩基底20所製造之遮罩的主表面形狀之資訊。例如，此曝光系統係步進機。

根據本實施例，例如，遮罩基底資訊，如使用中形狀資訊，可以適合使用在遮罩製程中。此使其可以根據個別的遮罩基底之特性而更適當地製造多個遮罩。

使用中形狀資訊獲得步驟，例如，藉由根據遮罩基底的主表面形狀之模擬獲得使用中形狀資訊。其可安排為使用中形狀資訊獲得步驟設定在曝光系統中被處理成為遮罩之前的遮罩基底20而測量其表面形狀，並接著根據量測結果計算使用中形狀資訊。

基底特性獲得步驟S206還可包含薄膜特性獲得步驟，其係獲得表示遮罩圖案用薄膜12的特性之薄膜資訊。在遮罩基底20還有包含阻劑膜之情形下，基底特性獲得步驟S206還可包含阻劑特性獲得步驟，其係獲得表示阻劑膜特性之阻劑資訊。在此情形下，薄膜特性獲得步驟和阻劑特性獲得步驟都將獲得的薄膜資訊和阻劑資訊儲存在儲存媒體之中，其中儲存媒體係用以儲存遮罩基底的特性，同時將其映射到標記106a到106d。例如，薄膜資訊係表示主表面上遮罩圖案用薄膜12的缺陷或類似情形之分佈的資訊。例如，阻劑資訊係表示主表面上阻劑膜的缺陷或類似物之分佈的資訊。

第4A圖和第4B圖為藉由使用遮罩基底20所製造之遮罩30的說明圖。第4A圖圖示遮罩30的結構範例。在本實施例中，遮罩30包含遮罩基底用基板10和遮罩圖案用薄膜12。遮罩圖案用薄膜12被圖案化成預定的遮罩圖案22。

第4B圖為顯示遮罩30之製造方法的範例流程圖。在根據本實施例之遮罩30的製程中，首先，製備藉由參考第3B圖所說明之製造方法製造遮罩基底20(基底製備步驟S302)。

然後，當寫入遮罩圖案22時，決定表示遮罩基底20的於置狀態之旋轉角度(旋轉角度決定步驟S304)。例如，此旋轉角度係一角度，其指示方向及應在平行主表面102(參見第1A圖)之平面上將遮罩基底20從罩基底20現在放置的方位，旋轉到將遮罩基板20相對於方位固定之遮罩圖案22予以最適化放置以形成為遮罩圖案用薄膜12方位的度數。旋轉角度係根據提供在遮罩基底20預設的其中之一端面上之標記而決定(特定標記，如標記106a)。例如，旋轉角度決定步驟S304選擇0，90，180，和270度其中之一當作旋轉角度。

此處，在本實施例中，旋轉角度決定步驟S304至少讀取在遮罩基底用基板10上之標記106a到106d的其中之一。然後，步驟S304自儲存遮罩基底用基板特性之儲存媒體獲得對應讀取標記106之特性面內分佈資訊。再者，步驟S304自儲存遮罩基底特性之儲存媒體獲得包含使用中形狀資訊等等之遮罩基底資訊。然後，根據獲得的特性面內分佈資訊和遮罩基底資訊，步驟S304決定用於旋轉遮罩基底20之旋轉角度。

根據本實施例，可以根據在其主表面上之遮罩基底用基 板10的特性分佈適當地決定旋轉角度。例如，使用缺陷資訊當作特性面內分佈資訊，可以在避開缺陷之位置形成遮罩圖案。再者，例如，使用如形狀或光學特性之資訊當作特性面內分佈資訊，可以形成適用於其分佈之遮罩圖案。再者，例如，藉由根據使用中形狀資訊決定旋轉角度，可以針對在其使用時遮罩30的主表面形狀之改變而決定旋轉角度的最佳化。此使其可以適當地增強遮罩圖案22的位置準確性。

然後，在旋轉角度決定步驟S304之後，在執行寫入之前，實施遮罩圖案22的校正(圖案校正步驟S306)。例如，遮罩圖案22的校正係用以寫入遮罩圖案22之遮罩圖案資料的校正。

在本實施例中，圖案校正步驟S306至少讀取遮罩基底用基板10上之標記106a到106d的其中之一。然後，步驟S306自儲存遮罩基底特性之儲存媒體獲得對應讀取標記106之使用中形狀資訊。然後根據獲得的使用中形狀資訊，步驟S306校正遮罩圖案22。

根據本實施例，藉由事先預測由於其在曝光系統中之定位造成遮罩30的主表面形狀改變，可以高準確性地校正遮罩圖案22。因此，例如，可以適當地減少在其使用時遮罩30的主表面形狀改變所造成的影響。此使其可以更適當地增強遮罩圖案22的位置準確性。

圖案校正步驟S306可以使用在旋轉角度決定步驟S304 中所獲得的使用中形狀資訊。在此情形下，透過旋轉角度決定步驟S304，圖案校正步驟S306自儲存遮罩基底特性之儲存媒體獲得使用中形狀資訊。再者，在將遮罩基底20放置在寫入系統中，如電子束曝光系統，之後，圖案校正步驟S306可以校正遮罩圖案22。

在圖案校正步驟S306之後，藉由光微影製程將遮罩圖案用薄膜12製作成圖案(圖案化步驟S308)。例如，此光微影製程係將電子束照射在形成在遮罩圖案用薄膜12上之阻劑膜上，於是寫入要形成之遮罩圖案22。然後，再執行顯影、蝕刻等等，於是將遮罩圖案用薄膜12製作成圖案。

在本實施例中，圖案化步驟S308使用寫入系統，如電子束曝光系統，藉由電子束執行寫入。再者，圖案化步驟S308將遮罩基底20放置在曝光系統中，使得預設的其中之一端面的端面104a被定位在旋轉角度決定步驟S304中所決定之旋轉角度的方向。

因此，圖案化步驟S308根據在旋轉角度決定步驟S304中所決定之旋轉角度旋轉遮罩基底20。因此，根據本實施例，可以相對於要形成之遮罩圖案22適當地旋轉遮罩基底20。例如，此使其可以根據遮罩基底用基板10和遮罩基底20的特性適當地製造遮罩30。

第5A圖和第5B圖為遮罩基底20被放置在寫入系統40中之狀態的各範例說明圖。在本實施例中，寫入系統40具有讀取器50，用以讀取定位在預定方向，在遮罩基底20 的遮罩基底用基板10之端面上的標記。

第5A圖圖示遮罩基底20係以設定為0度之給定的旋轉角度放置之狀態。在此狀態下，遮罩基底20係在使得端面104a上的標記106a面對讀取器50之方位，被放置在寫入系統40之中。第5B圖圖示遮罩基底20係以設定為90度之給定的旋轉角度放置之狀態。在此狀態下，遮罩基底20係從第5A圖之狀態順時針方向旋轉90度，因此在使得端面104b上的標記106b面對讀取器50之方位，被放置在寫入系統40之中。

雖然說明被省略，但是當旋轉角度被設定為180度時，遮罩基底20係在使得端面104c上的標記106c(參見第1A圖)面對讀取器50之方位，被放置在寫入系統40之中。當旋轉角度被設定為270度時，遮罩基底20係在使得端面104d上的標記106d(參見第1A圖)面對讀取器50之方位，被放置在寫入系統40之中。

如上所述，在本實施例中，當旋轉遮罩基底20時，可以確保標記106a到106d的其中之一係面對讀取器50之狀態。此使其即使在旋轉遮罩基底20之後，仍然可以自位在固定方向之讀取器50讀取標記106a到106d的其中之一。因此，根據本實施例，可以因應遮罩製程之需求適當地旋轉遮罩基底20。

在本實施例中，寫入系統40係根據藉由讀取器50讀取之標記106a到106d其中之一的共同標記部分108(參見第 1B圖)，辨識放置在其中之遮罩基底20。再者，寫入系統40係根據讀取之標記106a到106d其中之一的端面獨特標記部分110(參見第1B圖)，辨識遮罩基底20之旋轉角度。以此辨識為基礎，寫入系統40確定放置的遮罩基底20和遮罩基底20的旋轉角度已校正。因此，根據本實施例，例如，可以在寫入時適當地管理個別的遮罩基底及其旋轉角度。例如，此使其可以適當地促進遮罩製程的自動化。

在本實施例中，例如，在放置在寫入系統40之中前，可以實施遮罩基底20的旋轉。遮罩基底20的旋轉可以在寫入系統40中實施。在此情形之下，例如，寫入系統40還具有用以旋轉遮罩基底20之旋轉單元。例如，在根據標記106a到106d其中之一的端面獨特標記部分110旋轉之前，寫入系統40辨識指示遮罩基底20的方位之旋轉角度，然後使用旋轉單元旋轉遮罩基底20，從辨識的旋轉角度到在旋轉角度決定步驟所決定的旋轉角度。

在遮罩製程中，不僅是在遮罩圖案22的寫入之時，也在其他的製程、檢查等等之時，較佳為讀取標記106a到106d而藉以辨識遮罩基底20。若有必要，較佳為根據標記106a到106d的端面獨特標記部分110辨識遮罩基底20的旋轉角度。在此情形下，例如，用在個別的製程之製造系統，用在檢查之檢查系統等等，各自具有相同於或類似於寫入系統40之讀取器。此使其可以更適當地管理個別的遮罩基底。

第6A圖和第6B圖分別為根據本發明之遮罩基底用基板的修正說明圖。第6A圖圖示遮罩基底用基板10的第一修正。在此修正例中，四個端面104a到104d分別形成有指示相同資訊之標記106a到106d。在此情形下，例如，標記106a到106d可各自為相同於或類似於參考第1B圖所說明之共同標記部分108。

在端面104a到104d之中，只有端面104a除了標記106a之外還形成有原點標記112。原點標記112係一種能使端面104a與其他端面104b，104c，和104d區別之標記。此外在此修正中，遮罩基底20可以標記106a到106d適當地管理。再者，例如，藉由確定有原點標記112形成之端面104a的方位，可以適當地識別藉由使用遮罩基底用基板10所製造之遮罩基底20的旋轉起始位置。此使其可以適當地管理個別的遮罩基底之旋轉角度。

第6B圖圖示遮罩基底用基板10的第二修正。在此修正中，遮罩基底用基板10還形成有目視標記114。例如，目視標記114係形成在主表面102的邊緣部分。此使其可以很容易確定遮罩基底用基板10的主表面102是否面朝上或朝下。再者，例如，目視標記114係接近端面104a形成。此可使端面104a與其他端面104b，104c，和104d區別。

在此修正中，標記106a到106d相同於或類似於參考第1B圖之標記106a到106d。根據此修正，遮罩基底20的旋轉角度不僅可以藉由根據標記106a到106d的讀取之旋轉 角度確定，也可以藉由操作員的目視確定。例如，當調整標記106a到106d的讀取器或確定讀取器的操作時，此使其可以很容易藉由操作員的目視確定遮罩基底20的旋轉角度。

當使用採遮罩基底用基板10的之遮罩30時(參見第4A圖)，目視標記114較佳為形成在不影響轉移的區域之中，而且還可以很容易藉由操作員確定。例如，目視標記114可以形成在端面104a上。再者，例如，當藉由操作員手動或其他操作來旋轉遮罩基底20時，目視標記114也是有用的。在此情形下，操作員使用目視標記114辨識遮罩基底20的旋轉角度。

雖然本發明已根據實施例說明，但是本發明的技術範圍並不侷限與此。熟悉此項技術之人士所作的各種不同的修正或改善，都可以加入到上述的實施例中，這是很容易瞭解的。加入那些修正或改善之模式的申請專利範圍之說明，明顯也可以包含在本發明之技術範圍中。

例如，本發明可適合應用到遮罩基底用基板。

10‧‧‧遮罩基底用基板

12‧‧‧遮罩圖案用薄膜

20‧‧‧遮罩基底

22‧‧‧遮罩圖案

30‧‧‧遮罩

40‧‧‧寫入系統

50‧‧‧讀取器

102‧‧‧主表面

104、104a、104b、104c、104d‧‧‧端面

106、106a、106b、106c、106d‧‧‧標記

108‧‧‧共同標記部分

110‧‧‧端面獨特標記部分

112‧‧‧原點標記

114‧‧‧目視標記

第1A圖和第1B圖為根據本發明實施例之遮罩基底用基板10的結構說明範例圖，其中第1A圖為遮罩基底用基板10的透視圖，而第1B圖圖示形成在端面104a上之標記106a的詳細結構範例；第2圖為顯示遮罩基底用基板10之製造方法的範例流程圖； 第3A圖和第3B圖為藉由使用遮罩基底用基板10所製造之遮罩基底20的說明圖，其中第3A圖圖示遮罩基底20的結構範例，而第3B圖為顯示遮罩基底20之製造方法的範例流程圖；第4A圖和第4B圖為藉由使用遮罩基底20所製造之遮罩30的說明圖，其中第4A圖圖示遮罩30的結構範例，而第4B圖為顯示遮罩30之製造方法的範例流程圖；第5A圖和第5B圖為遮罩基底20被放置在寫入系統40中之狀態的各範例說明圖，其中第5A圖圖示遮罩基底20係以設定為0度之給定的旋轉角度放置之狀態，而第5B圖圖示遮罩基底20係以設定為90度之給定的旋轉角度放置之狀態；及第6A圖和第6B圖分別為根據本發明之遮罩基底用基板的修正說明圖，其中第6A圖圖示遮罩基底用基板10的第一修正，而第6B圖圖示遮罩基底用基板10的第二修正例。

10‧‧‧遮罩基底用基板

102‧‧‧主表面

104a,104b,104c,104d‧‧‧端面

106a,106b,106c,106d‧‧‧標記

108‧‧‧共同標記部分

110‧‧‧端面獨特標記部分

Claims (24)

1. 一種遮罩基底用基板之製造方法，包含：基板製備步驟，係製備基板，該基板係主表面為矩形之板狀且具有四個端面，在該主表面與該四個端面之間分別形成有倒角面；及標記形成步驟，係在該四個端面或該四個倒角面，形成用以辨識或管理該基板之標記。
2. 如申請專利範圍第1項之遮罩基底用基板之製造方法，其中該標記形成步驟所形成之作為該標記的標記包含：該四個端面共同的共同標記部分；及該四個端面彼此不同的獨特標記部分。
3. 如申請專利範圍第1項之遮罩基底用基板之製造方法，其中在該四個端面當中之一個端面形成有原點標記。
4. 如申請專利範圍第1項之遮罩基底用基板之製造方法，其中在上下任一該主表面，形成有目視用標記。
5. 如申請專利範圍第1項之遮罩基底用基板之製造方法，其中該標記形成步驟，係形成具有該四個倒角面共同的共同標記部分、及該四個倒角面彼此不同的獨特標記部分的標記。
6. 如申請專利範圍第1、項之遮罩基底用基板之製造方法，還包含基板特性取得步驟，係獲得指示該基板特性之主表面內之分佈的特性面內分佈資訊(property in-plane distribution information)，及將該特性面內分佈資訊儲存 在適合儲存該基板特性的儲存媒體中，其中該特性面內分佈資訊係與形成在該基板上之該等標記對應地儲存在該儲存媒體中。
7. 一種遮罩基底之製造方法，係用以製造用在製造光微影法用之遮罩的遮罩基底，該遮罩基底係藉由使用申請專利範圍第1項之遮罩基底用基板之製造方法所製造的遮罩基底用基板製造，該遮罩基底之製造方法包含：薄膜形成步驟，係在該遮罩基底用基板上形成遮罩圖案用薄膜；及薄膜特性獲得步驟，係獲得指示該遮罩圖案用薄膜的特性之薄膜資訊，及將該薄膜資訊與標記對應地儲存在儲存媒體中。
8. 如申請專利範圍第7項之遮罩基底之製造方法，還包含：阻劑膜形成步驟，係在該遮罩圖案用薄膜上形成阻劑膜；及阻劑特性獲得步驟，係獲得指示該阻劑膜的特性資訊之阻劑資訊，及將該阻劑資訊與標記對應地儲存在儲存媒體之中。
9. 一種遮罩之製造方法，係用以製造光微影法用之遮罩之方法，其包含：基底(blank)製備步驟，係製備如申請專利範圍第8項之遮罩基底；獲取遮罩基底資訊步驟，係讀取遮罩基底的標記且 參照儲存媒體，藉以獲得包含對應標記的特性面內分佈資訊、薄膜資訊、及阻劑資訊之遮罩基底資訊；旋轉角度決定步驟，係以該遮罩基底資訊為基礎，決定以遮罩基底的特定標記對轉移到遮罩圖案用薄膜之遮罩圖案為基準的方向，藉以決定旋轉遮罩基底的旋轉角度；及圖案化步驟，係將遮罩基底放置在寫入系統(writing system)中，藉由在該旋轉角度決定步驟根據特定標記所決定之旋轉角度，使遮罩基底旋轉，然後在阻劑膜上寫入遮罩圖案。
10. 一種遮罩基底用基板，係用以製造遮罩基底之遮罩基底用基板，該遮罩基底用基板係主表面為矩形的板狀，具有四個端面，在該主表面與該四個端面之間分別形成有倒角面，用以辨識或管理該遮罩基底用基板的標記，係形成在該四個端面或該四個倒角面。
11. 如申請專利範圍第10項之遮罩基底用基板，其中該標記係由該四個端面共同的共同標記部分、及該四個端面彼此不同的獨特標記部分所構成。
12. 如申請專利範圍第10項之遮罩基底用基板，其中在該四個端面當中之一個端面形成有原點標記。
13. 如申請專利範圍第10項之遮罩基底用基板，其中在上 下任一主表面，形成有目視用標記。
14. 如申請專利範圍第10項之遮罩基底用基板，其中該標記係由在該四個倒角面共同的共同標記部分、及該四個倒角面彼此不同的獨特標記部分所構成。
15. 一種遮罩基底，係當製造光微影法用之遮罩時所使用之遮罩基底，該遮罩基底係由主表面為矩形的板狀基板、及形成在該主表面上之遮罩圖案形成用薄膜所構成，該基板具有四個端面，在該主表面與四個該端面之間分別形成有倒角面，用以辨識或管理該遮罩基底的標記，係形成在該四個端面或該四個倒角面。
16. 如申請專利範圍第15項之遮罩基底，其中該標記係由該四個端面共同的共同標記部分、及該四個端面彼此不同的獨特標記部分所構成。
17. 如申請專利範圍第15項之遮罩基底，其中在該四個端面當中之一個端面形成有原點標記。
18. 如申請專利範圍第15項之遮罩基底，其中在上下任一主表面，形成有目視用標記。
19. 如申請專利範圍第15項之遮罩基底，其中該標記係由該四個倒角面共同的共同標記部分、及該四個倒角面彼此不同的獨特標記部分所構成。
20. 一種遮罩，係光微影法用之遮罩， 該遮罩係由主表面為矩形的板狀基板、及形成在該主表面上之遮罩圖案所構成，該基板具有四個端面，在該主表面與該四個端面之間分別形成有倒角面，用以辨識或管理該遮罩的標記，係形成在該四個端面或該四個倒角面。
21. 如申請專利範圍第20項之遮罩，其中該標記係由該四個端面共同的共同標記部分、及該四個端面彼此不同的獨特標記部分所構成。
22. 如申請專利範圍第20項之遮罩，其中在該四個端面當中之一個端面形成有原點標記。
23. 如申請專利範圍第20項之遮罩，其中在上下任一主表面，形成有目視用標記。
24. 如申請專利範圍第20項之遮罩，其中該標記係由該四個倒角面共同的共同標記部分、及該四個倒角面彼此不同的獨特標記部分所構成。