JPH0571855U - フォトマスク用ガラス基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 新たな面を作成することなしに簡単なマーク
書き込み作業で、ガラス基板の表裏、材質、平坦度が全
て簡単に判別できるフォトマスク用ガラス基板。 【構成】 表面６、裏面７と端面８が交差する稜部に複
数の面取り面９が設けられてなるフォトマスク用ガラス
基板において、所定の面取り面９を砂目面１０とし、残
りの面取り面９を鏡面１１として両者の組合せにより、
表裏面の識別、基板材質の識別、表面又は裏面の平坦度
の識別の少なくとも何れか１つを可能にした。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、半導体装置製造におけるリソグラフィー工程で用いるフォトマスク 用ガラス基板に関し、特に、表裏、材質、平坦度等の識別を容易にしたフォトマ スク用ガラス基板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】

半導体装置集積回路の微細化に伴い、その製造に用いられるフォトマスクにも 、微細化と共に精度の向上が求められ、その精度に応じたガラス基板材質が求め られるようになってきた。特に、ソーダガラス基板の場合、その熱膨張率は、石 英ガラス基板に比べて２桁程度大きく、１℃の温度変化に対し、１００ｍｍ長で 約１μｍ程度の変化があり、工程での温度管理が特に難しく、そのため、最近で は、石英ガラス基板のような低熱膨張率を持つ材質の使用が主となってきている 。しかしながら、ソーダガラス基板も含め、使用されるガラス材質は各種あり、 その判別が必要とされる。

【０００３】 また、光露光による転写、描画、電子ビーム露光による描画、その他何れの描 画法、転写法によるにしても、フォトマスクパターン作製においては、その解像 性、精度の要求に応じて、基板はある範囲の平坦度内にある必要がある。フォト マスク作製に使用される基板の平坦度の種類も多いので、同様にその判別方法が 必要とされている。

【０００４】 しかし、平坦度については、必ずしも基板の表裏で同じ必要はなく、表裏で異 なっている場合が多く、また、一般には、平坦度が良い側がマスクパターン作成 面側に使用される。したがって、基板の表裏の判別も必要である。

【０００５】 ところで、従来、フォトマスク用ガラス基板において、図３（ａ）に示すよ うに、材質判別のためのマーク２を基板１の３面が交わる角部分に設けること（ 実公昭６３−８９００号）、同図（ｂ）に示すように、フォトマスクの種類を 示す記号３を基板１の側面４に設けること（特公昭６２−４０６９９号、特公昭 ６２−４０７００号）、同図（ｃ）に示すように、ガラス基板１を着色すると 共に、４つの角部にカット面５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄを入れ、その数、位置と色 の組合せにより、ガラス素材の種類を識別すること（実開昭６０−１９３５５０ 号）が知られている。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記、は新たに基板角部にカット（研磨）作業が必要にな り、しかも、自動機械で基板を保持し難いカット角度になる。は側面へ記号を 入れる作業が必要になり、さらには、はガラス素材内部に着色性不純物を混入 する作業が必要があり、何れの作業も手間がかかるもので、容易な作業ではない 。また、何れも、基板のガラス材質、平坦度、表裏の判別を簡単に全てできる方 式ではない。

【０００７】 本考案は上記のような従来技術の欠点に鑑みてなされたものであり、その目的 は、新たな面を作成することなしに、ガラス基板の表裏、材質、平坦度が全て簡 単に判別できるフォトマスク用ガラス基板を提供することである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成する本考案のフォトマスク用ガラス基板は、表裏の面と端面が 交差する稜部に複数の面取り面が設けられてなるフォトマスク用ガラス基板にお いて、所定の面取り面を砂目面とし、残りの面取り面を鏡面として両者の組合せ により、表裏面の識別、基板材質の識別、表面又は裏面の平坦度の識別の少なく とも何れか１つを可能にしたことを特徴とするものである。

【０００９】

【作用】

本考案においては、フォトマスク基板に必要な面以外の特別の面を作成するこ とを必要とせず、ガラス基板作成時の工程が１つ簡略化され、しかも、従来のガ ラス基板の表裏、材質の識別に加えて、ガラス基板表面の平坦度の識別も可能と なる。また、１面全面を鏡面に加工する作業は、ポリッシング処理による極めて 簡単なものでよく、簡単なマーク書き込み作業ですむ。

【００１０】

【実施例】

本考案のフォトマスク用ガラス基板の実施例について図１、図２を参照にして 説明する。 図１はフォトマス用ガラス基板１の斜視図（ａ）と図（ａ）の面Ｂ−Ｂに沿う 部分断面図（ｂ）であり、図２はその部分側面図であり、基板１は表面６、裏面 ７、側面８からなり、側面８と表面６、側面８と裏面７が交差する稜部に、取り 扱い時の危険防止等のために、面取り面９が形成されている。この形態は従来か ら一般的に用いられているものである。

【００１１】 本考案においては、これらの面以外に新たな面を作成する必要がなく、面取り 面９を利用し、通常８面ある面取り面９の何れか１つ又は複数を砂目面１０にし 、他の面を鏡面１１として、その位置、数の組合せにより、ガラス基板１の表裏 、材質、平坦度全てを簡単に表示するようにする。所定の面取り面９を鏡面１１ にするには、通常のガラス基板作製工程では面取り面９は砂目面１０になってい るので、必要な面のみを鏡面状に加工すればよい。そのためには、特殊な研磨は 必要とせず、簡単なポリッシングでよい。そして、特に、基板１の角部に面取り 面９が設けられているため、及び、１面全体を鏡面にするため、このポリッシン グ作業は極めて簡単である。

【００１２】 また、マークの識別は、面取り面９の表面が砂目か鏡目かにより簡単に行なえ る。

【００１３】 表示としては、例えば、ガラス基板１の平坦度の良い表面６側の砂目面数を相 対的に少なくし、平坦度の劣る裏面７側の砂目面の数と位置、表面側に設けられ た砂目面との位置関係等により、ガラス基板１の表裏を簡単に識別でき、かつ、 ガラス材質、表面の平坦度の識別の少なくとも一方が可能となる。

【００１４】 さらに、これらに組み合わせて、端面８も同様に全部あるいは一部を砂目にす ることによりガラス材質、表面６の平坦度のより多くの組合せの識別が可能とな る。

【００１５】 以上、本考案のフォトマスク用ガラス基板について、実施例に基づいて説明し てきたが、本考案はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能である。

【００１６】

【考案の効果】

以上の説明から明らかなように、本考案のフォトマスク用ガラス基板によると 、所定の面取り面を砂目面とし、残りの面取り面を鏡面として両者の組合せによ り、表裏面の識別、基板材質の識別、表面又は裏面の平坦度の識別の少なくとも 何れか１つを可能にしたので、フォトマスク基板に必要な面以外の特別の面を作 成することを必要とせず、ガラス基板作成時の工程が１つ簡略化され、しかも、 従来のガラス基板の表裏、材質の識別に加えて、ガラス基板表面の平坦度の識別 も可能となる。また、１面全面を鏡面に加工する作業は、ポリッシング処理によ る極めて簡単なものでよく、簡単なマーク書き込み作業ですむ。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案による１実施例のフォトマス用ガラス基
板の斜視図（ａ）と部分断面図（ｂ）である。

【図２】図１のフォトマス用ガラス基板の部分側面図で
ある。

【図３】従来のフォトマスク用ガラス基板の識別マーク
を説明するための図である。

【符号の説明】

１…フォトマス用ガラス基板 ６…表面 ７…裏面 ８…側面 ９…面取り面 １０…砂目面 １１…鏡面

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 表裏の面と端面が交差する稜部に複数の
   面取り面が設けられてなるフォトマスク用ガラス基板に
   おいて、所定の面取り面を砂目面とし、残りの面取り面
   を鏡面として両者の組合せにより、表裏面の識別、基板
   材質の識別、表面又は裏面の平坦度の識別の少なくとも
   何れか１つを可能にしたことを特徴とするフォトマスク
   用ガラス基板。