JP2000356849A - フォトマスク用基板 - Google Patents
フォトマスク用基板Info
- Publication number
- JP2000356849A JP2000356849A JP16859099A JP16859099A JP2000356849A JP 2000356849 A JP2000356849 A JP 2000356849A JP 16859099 A JP16859099 A JP 16859099A JP 16859099 A JP16859099 A JP 16859099A JP 2000356849 A JP2000356849 A JP 2000356849A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corner
- substrate
- notch
- notch mark
- photomask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】多種類のフォトマスク用基板の識別を容易にす
る。 【解決手段】略矩形のフォトマスク用基板１のコーナー
部において、主表面とコーナー部を形成する２つの端面
との３面を斜断面状に切り落としてなるノッチマーク２
を少なくとも１以上設け、ノッチマーク２が、コーナー
部を含む対角線に対し非対称形状であることを特徴とす
るフォトマスク用基板１とする。
る。 【解決手段】略矩形のフォトマスク用基板１のコーナー
部において、主表面とコーナー部を形成する２つの端面
との３面を斜断面状に切り落としてなるノッチマーク２
を少なくとも１以上設け、ノッチマーク２が、コーナー
部を含む対角線に対し非対称形状であることを特徴とす
るフォトマスク用基板１とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造に用い
られるフォトマスク用基板に関する。
られるフォトマスク用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造に用いられるフォトマスク用
基板（以下、「マスク用基板」という）では、該マスク
用基板の種類を判別するために、実開昭６２−１７９７
４８号公報に示されるような、矩形のマスク用基板のコ
ーナー部において、主表面と該コーナー部を形成する２
つの端面との３面を斜断面状に切り落としてなる新たな
面（「ノッチマーク」と通称される、以下この称呼を使
用する）を利用することが多い。
基板（以下、「マスク用基板」という）では、該マスク
用基板の種類を判別するために、実開昭６２−１７９７
４８号公報に示されるような、矩形のマスク用基板のコ
ーナー部において、主表面と該コーナー部を形成する２
つの端面との３面を斜断面状に切り落としてなる新たな
面（「ノッチマーク」と通称される、以下この称呼を使
用する）を利用することが多い。
【０００３】図６に従来から使用されていたノッチマー
クの代表的な形状を示す。同図において、図中の数字の
単位はｍｍを示す。図６において、（ａ）は、マスク用
基板１の平面図であり、ノッチマーク５の位置を示す。
ノッチマーク５は、マスク用基板１の左上コーナー部と
右下コーナー部にそれぞれ形成されている。（ｂ）は、
（ａ）の左上コーナー部の部分拡大図であり、各部分の
寸法を示す。ノッチマーク５は、フォトマスク用基板１
の該コーナー部を含む対角線に対し略対称形状に形成さ
れる。なお、４は面取り部を示す。（ｃ）は、（ｂ）中
のＸ−Ｘ’線断面図である。
クの代表的な形状を示す。同図において、図中の数字の
単位はｍｍを示す。図６において、（ａ）は、マスク用
基板１の平面図であり、ノッチマーク５の位置を示す。
ノッチマーク５は、マスク用基板１の左上コーナー部と
右下コーナー部にそれぞれ形成されている。（ｂ）は、
（ａ）の左上コーナー部の部分拡大図であり、各部分の
寸法を示す。ノッチマーク５は、フォトマスク用基板１
の該コーナー部を含む対角線に対し略対称形状に形成さ
れる。なお、４は面取り部を示す。（ｃ）は、（ｂ）中
のＸ−Ｘ’線断面図である。
【０００４】ノッチマークの形成は、通常はダイヤモン
ド砥石等を使用した研削加工で行われる。ノッチマーク
は、マスク用基板の品質に直接影響するものではないの
で、研削加工された状態のままでもよいが、洗浄工程等
で汚れが付着しないように鏡面加工の仕上げをするもの
が多い。
ド砥石等を使用した研削加工で行われる。ノッチマーク
は、マスク用基板の品質に直接影響するものではないの
で、研削加工された状態のままでもよいが、洗浄工程等
で汚れが付着しないように鏡面加工の仕上げをするもの
が多い。
【０００５】ノッチマークを使用してマスク用基板の種
類を判別するための具体的な手段は、該ノッチマークの
個数と位置によりマスク用基板の種類を判別する方法に
よる。たとえば、ノッチマークが１個の場合はソーダラ
イムガラス製マスク用基板、ノッチマークが２個で、１
端辺の両側に並んでいる場合は低膨張ガラス製マスク用
基板、ノッチマークが２個で、矩形の対角の位置にある
場合は合成石英製マスク用基板等の取り決めで判別して
いた。
類を判別するための具体的な手段は、該ノッチマークの
個数と位置によりマスク用基板の種類を判別する方法に
よる。たとえば、ノッチマークが１個の場合はソーダラ
イムガラス製マスク用基板、ノッチマークが２個で、１
端辺の両側に並んでいる場合は低膨張ガラス製マスク用
基板、ノッチマークが２個で、矩形の対角の位置にある
場合は合成石英製マスク用基板等の取り決めで判別して
いた。
【０００６】しかし、上記方法でノッチマークをマスク
用基板の片面に形成する場合、ノッチマーク０個の場合
を含めても最大で６種の判別しかできない。該判別の例
を図７に示す。ところが、近年、新規材料、新規な品種
は増加しており、上記６種の判別では対応しきれない。
用基板の片面に形成する場合、ノッチマーク０個の場合
を含めても最大で６種の判別しかできない。該判別の例
を図７に示す。ところが、近年、新規材料、新規な品種
は増加しており、上記６種の判別では対応しきれない。
【０００７】たとえば、半導体製造におけるデザインル
ール（パターンの最小線幅）の微細化の要求とともに、
リソグラフ工程で使用される光線の波長が短くなってき
ている。このような波長の光線が透過できるガラスに
は、合成石英ガラスが挙げられるが、合成石英ガラスに
おいても図５に示されるように、３種の合成石英ガラス
間で透過率の特性が異なり、それぞれの判別が必須であ
る。
ール（パターンの最小線幅）の微細化の要求とともに、
リソグラフ工程で使用される光線の波長が短くなってき
ている。このような波長の光線が透過できるガラスに
は、合成石英ガラスが挙げられるが、合成石英ガラスに
おいても図５に示されるように、３種の合成石英ガラス
間で透過率の特性が異なり、それぞれの判別が必須であ
る。
【０００８】また、ノッチマークをマスク用基板の片面
に限らず、マスク用基板の両面に形成すれば、組み合わ
せの数は増える。しかし、ノッチマークは通常マスク用
基板の表面（すなわち、マスクパターンを形成する面）
と裏面（すなわち、マスクパターンを形成しない面）と
の判別のためにも使用されており（通常は裏面にノッチ
マークを形成する）、表面と裏面との判別が複雑とな
り、実用には向きにくい。
に限らず、マスク用基板の両面に形成すれば、組み合わ
せの数は増える。しかし、ノッチマークは通常マスク用
基板の表面（すなわち、マスクパターンを形成する面）
と裏面（すなわち、マスクパターンを形成しない面）と
の判別のためにも使用されており（通常は裏面にノッチ
マークを形成する）、表面と裏面との判別が複雑とな
り、実用には向きにくい。
【０００９】上記の各種マスク用基板を製造、加工する
工程において、製品別管理、ロット別管理等の管理を厳
格に行うことでマスク用基板の誤使用、混同の防止はで
きるが、それに費やす労力は多大である。
工程において、製品別管理、ロット別管理等の管理を厳
格に行うことでマスク用基板の誤使用、混同の防止はで
きるが、それに費やす労力は多大である。
【００１０】さらに、これ以外にも、工程中に生じた不
良品等の有効利用のため、再生を図るための再加工品で
あるマスク用基板も一定割合で生じ、これらと再加工品
でない通常の各種マスク用基板との識別も必要である。
良品等の有効利用のため、再生を図るための再加工品で
あるマスク用基板も一定割合で生じ、これらと再加工品
でない通常の各種マスク用基板との識別も必要である。
【００１１】このような各種マスク用基板の識別方法
は、ノッチマークを使用する方法以外にも考えられる
が、以下に示すように各種の不具合があり実用化には難
点がある。たとえば、マスク用基板の表面または端面等
に炭酸ガスレーザー加工、超音波加工等の方法で文字、
記号を刻印したり、端面等に円形や矩形の凹みを形成し
これにより各種マスク用基板の識別をする方法もある。
は、ノッチマークを使用する方法以外にも考えられる
が、以下に示すように各種の不具合があり実用化には難
点がある。たとえば、マスク用基板の表面または端面等
に炭酸ガスレーザー加工、超音波加工等の方法で文字、
記号を刻印したり、端面等に円形や矩形の凹みを形成し
これにより各種マスク用基板の識別をする方法もある。
【００１２】しかし、マスク用基板の一部に凹部を形成
すると、マスク用基板の加工工程である研磨加工中に研
磨材が該凹部に入り、該研磨材が残留したり、マスク用
基板の洗浄工程での残査が該凹部に残ったりする。その
結果、ウォーターマークや乾燥シミ等の欠点が発生する
こととなる。また、レチクルの製造工程で、該凹部にフ
ォトレジストが溜まる不具合も生じる。以上のように、
現状では、ノッチマークを使用する方法以外のマスク用
基板の識別方法は実用化されていない。
すると、マスク用基板の加工工程である研磨加工中に研
磨材が該凹部に入り、該研磨材が残留したり、マスク用
基板の洗浄工程での残査が該凹部に残ったりする。その
結果、ウォーターマークや乾燥シミ等の欠点が発生する
こととなる。また、レチクルの製造工程で、該凹部にフ
ォトレジストが溜まる不具合も生じる。以上のように、
現状では、ノッチマークを使用する方法以外のマスク用
基板の識別方法は実用化されていない。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述の課題
を解決すべくなされたものであり、多種類のフォトマス
ク用基板の識別を容易にすることを目的とする。
を解決すべくなされたものであり、多種類のフォトマス
ク用基板の識別を容易にすることを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、略矩形のフォ
トマスク用基板であって、該矩形のコーナー部におい
て、主表面と該コーナー部を形成する２つの端面との３
面を斜断面状に切り落としてなるノッチマークを少なく
とも１以上有し、該ノッチマークが、該フォトマスク用
基板の該コーナー部を含む対角線に対し非対称形状であ
ることを特徴とするフォトマスク用基板を提供する。こ
のようなノッチマークを設けることで、多種類のフォト
マスク用基板の識別を容易にすることができる。
トマスク用基板であって、該矩形のコーナー部におい
て、主表面と該コーナー部を形成する２つの端面との３
面を斜断面状に切り落としてなるノッチマークを少なく
とも１以上有し、該ノッチマークが、該フォトマスク用
基板の該コーナー部を含む対角線に対し非対称形状であ
ることを特徴とするフォトマスク用基板を提供する。こ
のようなノッチマークを設けることで、多種類のフォト
マスク用基板の識別を容易にすることができる。
【００１５】また、本発明は、略矩形のフォトマスク用
基板であって、該矩形のコーナー部において、主表面と
該コーナー部を形成する２つの端面との３面を斜断面状
に切り落としてなるノッチマークを少なくとも１以上有
し、該ノッチマークの長辺の長さが短辺の長さの２倍〜
４倍であることを特徴とするフォトマスク用基板を提供
する。ノッチマークを設ける場合、従来のノッチマー
ク、すなわちフォトマスク用基板の該ノッチマークを含
む対角線に対し略対称形状に形成されるノッチマークと
異なり、上記のように長辺の長さが短辺の長さの２倍〜
４倍であれば判別に便宜である。
基板であって、該矩形のコーナー部において、主表面と
該コーナー部を形成する２つの端面との３面を斜断面状
に切り落としてなるノッチマークを少なくとも１以上有
し、該ノッチマークの長辺の長さが短辺の長さの２倍〜
４倍であることを特徴とするフォトマスク用基板を提供
する。ノッチマークを設ける場合、従来のノッチマー
ク、すなわちフォトマスク用基板の該ノッチマークを含
む対角線に対し略対称形状に形成されるノッチマークと
異なり、上記のように長辺の長さが短辺の長さの２倍〜
４倍であれば判別に便宜である。
【００１６】また、本発明は、略矩形のフォトマスク用
基板であって、該矩形のコーナー部において、該コーナ
ー部を形成する２端面を切り落としてなる新たな端面を
少なくとも１以上有し、該切り落とし部の形状が、該フ
ォトマスク用基板の該コーナー部を含む対角線に対し非
対称形状であることを特徴とするフォトマスク用基板を
提供する。このような非対称形状である新たな端面を設
けることでも、多種類のフォトマスク用基板の識別を容
易にすることができる。
基板であって、該矩形のコーナー部において、該コーナ
ー部を形成する２端面を切り落としてなる新たな端面を
少なくとも１以上有し、該切り落とし部の形状が、該フ
ォトマスク用基板の該コーナー部を含む対角線に対し非
対称形状であることを特徴とするフォトマスク用基板を
提供する。このような非対称形状である新たな端面を設
けることでも、多種類のフォトマスク用基板の識別を容
易にすることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、図面に従って本発明の実施
例を説明する。図１は、本発明におけるノッチマーク２
を説明する。図１において、（ａ）は、マスク用基板の
平面図であり、ノッチマーク２は左上コーナー部および
右下コーナー部に形成されている。（ｂ）は、（ａ）の
左上コーナー部の部分拡大図であり、各部分の寸法を示
す。（ｃ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大左側
面図である。なお、図中の数字の単位はｍｍを示す。
例を説明する。図１は、本発明におけるノッチマーク２
を説明する。図１において、（ａ）は、マスク用基板の
平面図であり、ノッチマーク２は左上コーナー部および
右下コーナー部に形成されている。（ｂ）は、（ａ）の
左上コーナー部の部分拡大図であり、各部分の寸法を示
す。（ｃ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大左側
面図である。なお、図中の数字の単位はｍｍを示す。
【００１８】従来のノッチマークは、略対称の形状をし
ていた。すなわち、図６（ｂ）に示されるように、矩形
の対角線（同図で、Ｘ−Ｘ’線に相当する）に対し左右
が対称図形となっている。これに対し、本発明における
ノッチマークは非対称形状となっている。すなわち、図
１（ｂ）において、Ａ（すなわち、短辺）とＢ（すなわ
ち、長辺）の寸法が異なり、従来のノッチマークとの差
異は一目瞭然である。なお、図面上の寸法は例示に過ぎ
ず、実施可能な範囲を限定するものではない。図中、４
は面取り部を示す。
ていた。すなわち、図６（ｂ）に示されるように、矩形
の対角線（同図で、Ｘ−Ｘ’線に相当する）に対し左右
が対称図形となっている。これに対し、本発明における
ノッチマークは非対称形状となっている。すなわち、図
１（ｂ）において、Ａ（すなわち、短辺）とＢ（すなわ
ち、長辺）の寸法が異なり、従来のノッチマークとの差
異は一目瞭然である。なお、図面上の寸法は例示に過ぎ
ず、実施可能な範囲を限定するものではない。図中、４
は面取り部を示す。
【００１９】本発明における非対称形状のノッチマーク
を使用した場合、たとえば、ノッチマークの位置を図１
（ａ）に示されるようにマスク用基板の上部左端に位置
させた場合、ノッチマークの短辺（（ｂ）で示されるＡ
に相当）をマスク用基板の上部に位置させるか、側部に
位置させるかで２種類のマスク用基板の判別ができる。
この例のように、ノッチマークの向き、およびノッチマ
ークの個数を組み合わせることにより、従来のノッチマ
ークを使用した場合と比べ多くの組み合わせが選択で
き、多くの種類のマスク用基板の判別が可能となる。
を使用した場合、たとえば、ノッチマークの位置を図１
（ａ）に示されるようにマスク用基板の上部左端に位置
させた場合、ノッチマークの短辺（（ｂ）で示されるＡ
に相当）をマスク用基板の上部に位置させるか、側部に
位置させるかで２種類のマスク用基板の判別ができる。
この例のように、ノッチマークの向き、およびノッチマ
ークの個数を組み合わせることにより、従来のノッチマ
ークを使用した場合と比べ多くの組み合わせが選択で
き、多くの種類のマスク用基板の判別が可能となる。
【００２０】図３に、本発明におけるノッチマークの組
み合わせによる、マスク用基板の識別方法の例を示す。
ノッチマーク１個の場合の組み合わせは２種類しかない
が、ノッチマーク２個、３個、４個の場合の組み合わせ
は相当数が可能である。さらに、短辺（図１（ｂ）で示
されるＡに相当）と長辺（図１（ｂ）で示されるＢに相
当）との比率を変えたものを混在させれば、その組み合
わせは非常に多くなる。
み合わせによる、マスク用基板の識別方法の例を示す。
ノッチマーク１個の場合の組み合わせは２種類しかない
が、ノッチマーク２個、３個、４個の場合の組み合わせ
は相当数が可能である。さらに、短辺（図１（ｂ）で示
されるＡに相当）と長辺（図１（ｂ）で示されるＢに相
当）との比率を変えたものを混在させれば、その組み合
わせは非常に多くなる。
【００２１】短辺と長辺との長さの比率および寸法は、
該マスク用基板へのパターン形成位置、ペリクルの貼付
け位置、基板を搬送するためのチャック位置、装置に装
着するためのチャック位置、およびマスク用基板を識別
するための文字、記号、バーコード等の形成の障害とな
らなければ、任意に選択できるが、従来のノッチマーク
との判別を容易にするため、長辺の長さが短辺の長さの
２倍〜４倍であることが望ましい。
該マスク用基板へのパターン形成位置、ペリクルの貼付
け位置、基板を搬送するためのチャック位置、装置に装
着するためのチャック位置、およびマスク用基板を識別
するための文字、記号、バーコード等の形成の障害とな
らなければ、任意に選択できるが、従来のノッチマーク
との判別を容易にするため、長辺の長さが短辺の長さの
２倍〜４倍であることが望ましい。
【００２２】マスク用基板の製造工程中で、ノッチマー
クを形成する工程は、合成石英フォトマスク用基板の場
合、合成石英インゴットをスライスし基板とした工程以
降、研磨後の洗浄工程以前であれば特に制限はない。ま
た、ノッチマークを形成する方法も、ダイヤモンド砥石
等を使用する研削加工が一般的であるが、これに限定さ
れず、遊離砥粒を使用したラッピング加工等各種選択で
きる。
クを形成する工程は、合成石英フォトマスク用基板の場
合、合成石英インゴットをスライスし基板とした工程以
降、研磨後の洗浄工程以前であれば特に制限はない。ま
た、ノッチマークを形成する方法も、ダイヤモンド砥石
等を使用する研削加工が一般的であるが、これに限定さ
れず、遊離砥粒を使用したラッピング加工等各種選択で
きる。
【００２３】ノッチマークは、マスク用基板の品質に直
接影響するものではないので、研削加工等による形状形
成加工された状態のままでもよいが、洗浄工程等で汚れ
が付着したり、発塵したりしないように鏡面加工の仕上
げをすることが好ましい。
接影響するものではないので、研削加工等による形状形
成加工された状態のままでもよいが、洗浄工程等で汚れ
が付着したり、発塵したりしないように鏡面加工の仕上
げをすることが好ましい。
【００２４】次に、マスク用基板の矩形のコーナー部に
おいて、該コーナー部を形成する２端面を切り落として
なるコーナーカット部３を設けた本発明のフォトマスク
用基板について説明する。図２において、（ａ）は、マ
スク用基板の平面図であり、コーナーカット部３の位置
を示す。（ｂ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大
斜視図である。図中、４は面取り部を示す。
おいて、該コーナー部を形成する２端面を切り落として
なるコーナーカット部３を設けた本発明のフォトマスク
用基板について説明する。図２において、（ａ）は、マ
スク用基板の平面図であり、コーナーカット部３の位置
を示す。（ｂ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大
斜視図である。図中、４は面取り部を示す。
【００２５】コーナーカット部３を形成した場合にも、
以下に示すように、カット形状を非対称形状とすれば、
非対称形状のノッチマークを使用した場合と全く同様の
効果が得られる。
以下に示すように、カット形状を非対称形状とすれば、
非対称形状のノッチマークを使用した場合と全く同様の
効果が得られる。
【００２６】図４に、本発明におけるコーナーカット部
の組み合わせによる、マスク用基板の識別方法の例を示
す。コーナーカット部１個の場合の組み合わせは２種類
しかないが、コーナーカット部２個、３個、４個の場合
の組み合わせは相当数が可能である。さらに、短辺（コ
ーナーカットされた辺のうち短い方）と長辺（コーナー
カットされた辺のうち長い方）との比率を変えたものを
混在させれば、その組み合わせは非常に多くなる。
の組み合わせによる、マスク用基板の識別方法の例を示
す。コーナーカット部１個の場合の組み合わせは２種類
しかないが、コーナーカット部２個、３個、４個の場合
の組み合わせは相当数が可能である。さらに、短辺（コ
ーナーカットされた辺のうち短い方）と長辺（コーナー
カットされた辺のうち長い方）との比率を変えたものを
混在させれば、その組み合わせは非常に多くなる。
【００２７】マスク用基板の製造工程中で、コーナーカ
ット部を形成する工程は、合成石英フォトマスク用基板
の場合、合成石英インゴットをスライスし基板とした工
程以降、研磨後の洗浄工程以前であれば特に制限はな
い。また、コーナーカット部を形成する方法も、ダイヤ
モンド砥石等を使用する研削加工が一般的であるが、こ
れに限定されず、遊離砥粒を使用したラッピング加工等
各種選択できる。
ット部を形成する工程は、合成石英フォトマスク用基板
の場合、合成石英インゴットをスライスし基板とした工
程以降、研磨後の洗浄工程以前であれば特に制限はな
い。また、コーナーカット部を形成する方法も、ダイヤ
モンド砥石等を使用する研削加工が一般的であるが、こ
れに限定されず、遊離砥粒を使用したラッピング加工等
各種選択できる。
【００２８】コーナーカット部は、マスク用基板の品質
に直接影響するものではないので、研削加工等による形
状形成加工された状態のままでもよいが、洗浄工程等で
汚れが付着したり、発塵したりしないように鏡面加工の
仕上げをすることが好ましい。
に直接影響するものではないので、研削加工等による形
状形成加工された状態のままでもよいが、洗浄工程等で
汚れが付着したり、発塵したりしないように鏡面加工の
仕上げをすることが好ましい。
【００２９】また、図２（ｂ）に示されるコーナーカッ
ト稜６、すなわちコーナーカット部と、隣接する端面と
の境界である稜は、丸みを帯びた円弧形状であることが
ワレ、欠けを防ぐ点で好ましい。
ト稜６、すなわちコーナーカット部と、隣接する端面と
の境界である稜は、丸みを帯びた円弧形状であることが
ワレ、欠けを防ぐ点で好ましい。
【００３０】
【発明の効果】本発明により、フォトマスク用基板のノ
ッチマークまたはコーナーカット部で、多種類のフォト
マスク用基板の識別を容易にすることができる。
ッチマークまたはコーナーカット部で、多種類のフォト
マスク用基板の識別を容易にすることができる。
【図１】本発明におけるノッチマークを説明するもの
で、（ａ）は、マスク用基板の平面図であり、（ｂ）
は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大図であり、
（ｃ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大左側面図
である。
で、（ａ）は、マスク用基板の平面図であり、（ｂ）
は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大図であり、
（ｃ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大左側面図
である。
【図２】本発明におけるコーナーカット部を説明するも
ので、（ａ）は、マスク用基板の平面図であり、（ｂ）
は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大斜視図である。
ので、（ａ）は、マスク用基板の平面図であり、（ｂ）
は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大斜視図である。
【図３】本発明におけるノッチマークの組み合わせによ
る、フォトマスク用基板の識別方法を説明する図。
る、フォトマスク用基板の識別方法を説明する図。
【図４】本発明におけるコーナーカット部の組み合わせ
による、フォトマスク用基板の識別方法を説明する図。
による、フォトマスク用基板の識別方法を説明する図。
【図５】３種類の合成石英の分光透過率を示すグラフ。
【図６】従来より使用されていたノッチマークを説明す
るもので、（ａ）は、マスク用基板の平面図であり、
（ｂ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大図であ
り、（ｃ）は、（ｂ）におけるＸ−Ｘ’線断面図であ
る。
るもので、（ａ）は、マスク用基板の平面図であり、
（ｂ）は、（ａ）の左上コーナー部の部分拡大図であ
り、（ｃ）は、（ｂ）におけるＸ−Ｘ’線断面図であ
る。
【図７】従来より使用されていたノッチマークの組み合
わせによる、フォトマスク用基板の識別方法を説明する
図。
わせによる、フォトマスク用基板の識別方法を説明する
図。
１：フォトマスク用基板 ２：ノッチマーク ３：コーナーカット部 ４：面取り部 ５：ノッチマーク（従来形状） ６：コーナーカット稜
Claims (3)
- 【請求項１】略矩形のフォトマスク用基板であって、 該矩形のコーナー部において、主表面と該コーナー部を
形成する２つの端面との３面を斜断面状に切り落として
なるノッチマークを少なくとも１以上有し、 該ノッチマークが、該フォトマスク用基板の該コーナー
部を含む対角線に対し非対称形状であることを特徴とす
るフォトマスク用基板。 - 【請求項２】略矩形のフォトマスク用基板であって、 該矩形のコーナー部において、主表面と該コーナー部を
形成する２つの端面との３面を斜断面状に切り落として
なるノッチマークを少なくとも１以上有し、 該ノッチマークの長辺の長さが短辺の長さの２倍〜４倍
であることを特徴とするフォトマスク用基板。 - 【請求項３】略矩形のフォトマスク用基板であって、 該矩形のコーナー部において、該コーナー部を形成する
２端面を切り落としてなる新たな端面を少なくとも１以
上有し、 該切り落とし部の形状が、該フォトマスク用基板の該コ
ーナー部を含む対角線に対し非対称形状であることを特
徴とするフォトマスク用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16859099A JP2000356849A (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | フォトマスク用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16859099A JP2000356849A (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | フォトマスク用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000356849A true JP2000356849A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15870886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16859099A Pending JP2000356849A (ja) | 1999-06-15 | 1999-06-15 | フォトマスク用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000356849A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005316448A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-11-10 | Hoya Corp | マスクブランク用のガラス基板、マスクブランク、マスクブランク用のガラス基板の製造方法、及び研磨装置。 |
| JP2009224424A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント用スタンパ |
| US7635544B2 (en) | 2004-09-13 | 2009-12-22 | Hoya Corporation | Transparent substrate for mask blank and mask blank |
| WO2012157629A1 (ja) * | 2011-05-19 | 2012-11-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 |
| JP2013082612A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-05-09 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
| JP2018017933A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 画像読取装置の製造方法 |
| CN109564381A (zh) * | 2016-07-28 | 2019-04-02 | 京瓷办公信息系统株式会社 | 图像读取装置的制造方法 |
| JP2020003548A (ja) * | 2018-06-26 | 2020-01-09 | クアーズテック株式会社 | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
-
1999
- 1999-06-15 JP JP16859099A patent/JP2000356849A/ja active Pending
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005316448A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-11-10 | Hoya Corp | マスクブランク用のガラス基板、マスクブランク、マスクブランク用のガラス基板の製造方法、及び研磨装置。 |
| US7635544B2 (en) | 2004-09-13 | 2009-12-22 | Hoya Corporation | Transparent substrate for mask blank and mask blank |
| KR101004542B1 (ko) * | 2004-09-13 | 2011-01-03 | 호야 가부시키가이샤 | 마스크 블랭크용 투명기판 및 마스크 블랭크 |
| JP2009224424A (ja) * | 2008-03-14 | 2009-10-01 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント用スタンパ |
| US9400421B2 (en) | 2011-05-19 | 2016-07-26 | Hoya Corporation | Mask blank substrate, mask blank, reflective mask blank, transfer mask, reflective mask, and methods of manufacturing the same |
| WO2012157629A1 (ja) * | 2011-05-19 | 2012-11-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 |
| TWI551939B (zh) * | 2011-05-19 | 2016-10-01 | Ｈｏｙａ股份有限公司 | 空白光罩用基板、空白光罩、反射型空白光罩、轉印光罩、反射型光罩以及該等之製造方法 |
| JP2016177317A (ja) * | 2011-05-19 | 2016-10-06 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板、マスクブランク、反射型マスクブランク、転写マスク、及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 |
| TWI610124B (zh) * | 2011-05-19 | 2018-01-01 | Ｈｏｙａ股份有限公司 | 空白光罩用基板、空白光罩、反射型空白光罩、轉印光罩、反射型光罩以及該等之製造方法 |
| JP2013082612A (ja) * | 2011-09-28 | 2013-05-09 | Hoya Corp | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法、並びにインプリントモールドの製造方法 |
| JP2018017933A (ja) * | 2016-07-28 | 2018-02-01 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | 画像読取装置の製造方法 |
| CN109564381A (zh) * | 2016-07-28 | 2019-04-02 | 京瓷办公信息系统株式会社 | 图像读取装置的制造方法 |
| EP3492980A4 (en) * | 2016-07-28 | 2020-03-25 | Kyocera Document Solutions Inc. | METHOD FOR MANUFACTURING IMAGE SCANNER |
| JP2020003548A (ja) * | 2018-06-26 | 2020-01-09 | クアーズテック株式会社 | フォトマスク用基板およびその製造方法 |
| JP7037445B2 (ja) | 2018-06-26 | 2022-03-16 | クアーズテック株式会社 | Ｉｃまたはｌｃｄフォトリソグラフィ用のフォトマスク用基板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101306392B1 (ko) | 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법, 마스크 블랭크의 제조방법, 마스크의 제조방법, 마스크 블랭크 유리기판, 마스크 블랭크, 및 마스크 | |
| US20090280415A1 (en) | Transparent substrate for mask blank and mask blank | |
| EP2339399B1 (en) | Photomask-forming glass substrate and making method | |
| JP2000356849A (ja) | フォトマスク用基板 | |
| CN106933026A (zh) | 光掩模和光掩模基板及其制造方法、光掩模坯体、显示装置制造方法 | |
| TW412800B (en) | Mirror-polished semiconductor wafer and its manufacturing method | |
| JP2006224233A (ja) | マスクブランクス用ガラス基板の製造方法及びマスクブランクスの製造方法 | |
| KR20110116997A (ko) | 재생 포토마스크용 기판의 제조 방법, 재생 포토마스크용 블랭크의 제조 방법, 재생 포토마스크 및 그 제조 방법과 패턴 전사 방법 | |
| KR100803634B1 (ko) | 포토마스크 블랭크용 기판의 선정방법 | |
| US5837404A (en) | Fabrication of zero layer mask | |
| KR20050012687A (ko) | 포토마스크 블랭크용 기판의 선정방법 | |
| JPH09270396A (ja) | 半導体ウェハの製法 | |
| KR102533073B1 (ko) | 표시 장치 제조용 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법 및 마스크의 제조 방법 | |
| JPH07221166A (ja) | 位置合せマーク並びに該マークを有する電子装置及びその製造方法 | |
| JP5346243B2 (ja) | マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、露光用マスクの製造方法及びパターン転写方法 | |
| JPS6240699B2 (ja) | ||
| JPH0571855U (ja) | フォトマスク用ガラス基板 | |
| JP2001196333A (ja) | オフアングル付き半導体ウエハ | |
| US6388703B1 (en) | Method of realizing machining results | |
| JP2833936B2 (ja) | 半導体ウェーハのレーザー印字方法 | |
| JP2914638B2 (ja) | セラミック基板の面取り部形成方法 | |
| JPS626259A (ja) | フオトマスク基板 | |
| JP2001147519A (ja) | ペリクルおよびペリクル板の製造方法 | |
| KR100419742B1 (ko) | 펠리클용 프레임의 제조방법 | |
| JPH11219923A (ja) | 半導体ウェハおよび半導体ウェハの製造方法ならびに半導体装置の製造方法 |