JPS6240699B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6240699B2
JPS6240699B2 JP2799582A JP2799582A JPS6240699B2 JP S6240699 B2 JPS6240699 B2 JP S6240699B2 JP 2799582 A JP2799582 A JP 2799582A JP 2799582 A JP2799582 A JP 2799582A JP S6240699 B2 JPS6240699 B2 JP S6240699B2
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JP
Japan
Prior art keywords
face
marking
substrate
polished
protective film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP2799582A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS58144829A (ja
Inventor
Kazufumi Asakawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
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Publication of JPS58144829A publication Critical patent/JPS58144829A/ja
Publication of JPS6240699B2 publication Critical patent/JPS6240699B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/38Masks having auxiliary features, e.g. special coatings or marks for alignment or testing; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明はフオトマスクブランクスの種類を識
別するため、フオトマスクブランクス用基板(以
下基板という)の側面に所定の識別記号をマーキ
ングする方法に関する。
[従来の技術] フオトマスクブランクスを識別するための従来
からあるマーキング方法としては大きく分けて次
の3種類がある。
1 基板のエツジを削る方法。
2 基板の側周辺部に着色する方法。
3 基板表面の周縁部に印を施す方法。
上記従来例1)の方法は、第1図に示すように
基板側面1,1の交差する個所の一部を所定の角
度をつけて削り取り、マーク3を付するものであ
る。なお、2は面取り部である。2)の方法は第
2図に示すように、基板側面1に染料4等を用い
て着色する。3)の方法は第3図に示すように基
板表面の周縁部に表示部5を設けるものである。
[発明が解決しようとする問題点] 上記1)の方法においては、識別するためにマ
ーク3の個数で分類しなければならないため、識
別に時間がかかる上、マーク3自体も小さく見に
くい。これは基板表面の有効エリア(フオトマス
クのパターンを形成する領域をいう。)のためで
ある。
また2)の方法においては、染料4が研磨、洗
浄等の工程でダメージを受けたり剥がれたりし、
その工程に対して害をなし、さらにクリーンルー
ムに、剥がれた染料4からなるチツプをもちこむ
ことになるので多大な悪影響がある。しかも表示
が薄くなつて見にくくなる。
3)の方法においては、基板の表面の有効エリ
ア外に表示部5を設けて印をつけなければならな
いため、印が小さい上に表示部5が他の部分と高
さが違うようになるため、コンタクト露光におい
て害になる。また研磨、洗浄工程のリサイクル、
特に研磨において消えてしまい、もう一度印字し
なければならない。
この発明は、上記のような従来の欠点を除去す
るためになされたもので、基板の種類、薄膜の種
類の識別を簡単に行うことができ、フオトマスク
ブランクスの目的とする回路パターン作成にはな
んら害を与えることなく、しかもそのマークが半
永久的に持続するフオトマスクブランクス用基板
を得ることを目的とするものである。
[問題点を解決するための手段] すなわち本発明のマーキング方法は、フオトマ
スクブランクス用基板の端面をつや出し加工し、
次いでこのつや出し部分に所定の識別記号を精密
加工によりマーキングすることを特徴とするもの
である。
[作用] 本発明において、特につや出し部分を一端面の
他部にし、かつその一部をつや消しにした理由
は、一端全面をつや出ししてしまうとあまり目立
たなくなつてしまうからで、一端面の他部をつや
出しすることにより、基板を目視したとき、つや
消ししたところが目安となりどの角度からでも、
マーキング箇所が識別できるようにしたものであ
る。さらに、識別記号をマーキングするとき、マ
ーキングすべき一端面の部分を明確にすることも
できる。
本発明において、つや出し部分作成の最に遊離
砥粒を用いて行なつた場合は保護膜が必要である
が、第6図のように固定砥粒(ポリツシングベル
ト)10を用いて行なうと、つや消し工程も省く
ことができる。勿論つや出しを行なう研磨剤、ポ
リシヤは何ら限定されることはなく、また研磨時
間もつや出しおよびつや消しとともに適宜決定す
ることができる。
またマーキング方法もレーザー加工により行な
うことができるが、他にも精密加工のできるもの
であれば、超音波加工、電子ビーム加工等を用い
てもかまわない。
[実施例] 以下本発明をその一実施例に基づいて詳細に説
明する。
第4図に示すように、基板4×4×0.09
(inch)のQ―18〔(株)保谷電子商品名〕の一端面
の一部分に保護膜6を被着し、被着されていない
一端面の他の部分のつや出しを、ポリシヤ(ポリ
ウレタン)8と研磨剤(酸化セリウム+水)7の
相対運動(約3分)で行なう。なお、この一端面
のつや出しされた他の部分の大きさは、識別記号
をマーキングすることができるだけの大きさを有
している。
次に、第5図に示すように、上記した一端面1
の一部分に被着した保護膜を除去し、上記とは逆
につや出し部分に保護膜6を被着し、サンドベル
ト(SiC砥粒付着)9によりごく弱い力でつや消
しを行なう(約1分)。
最後にレーザーマーカーによりつや出し部分に
「Q―18」とのマーキングを行なう。このときの
レーザー加工としてはCO2ガスレーザーを用い
る。マークの大きさは一文字2mm×2mmとした。
[発明の効果] 以上本発明のマーキング方法でマーキングを施
されたフオトマスクブランクス用基板によれば、
硝種、薄膜の種類が一ケ所を確認するだけで簡単
に、しかも詳細な部分までわかる。そしてマスク
ブランクスによるIC回路パターン作成工程に何
ら害を及ぼさない。しかもそのマーキングは半永
久的である。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図はそれぞれ従来例を示す斜
視図、第4図および第5図は本発明の一実施例を
示し、第4図はつや出し工程を、第5図はつや消
し工程をそれぞれ示す斜視図、第6図は他の実施
例を示す斜視図である。 1……端面、2……面取り部、3……マーク、
4……染料、5……表示部、6……保護膜、7…
…研磨剤、8……ポリシヤ、9……サイドベル
ト、10……固定砥粒。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 フオトマスクブランクス用基板の端面に、所
    定の識別記号をマーキングするフオトマスクブラ
    ンクス用基板のマーキング方法において、前記基
    板の一端面の一部に保護膜を被着し、次に前記保
    護膜により保護されておらず、かつ前記記号をマ
    ーキングすることができる大きさを有する、前記
    一端面の他部をつや出し加工し、次に前記一端面
    の一部に被着した保護膜を除去して前記一端面の
    つや出し加工された他部に保護膜を被着し、次に
    前記一端面の一部をつや消し加工し、その後前記
    一端面のつや出し加工された一部に前記記号をマ
    ーキングすることを特徴とするフオトマスクブラ
    ンクス用基板のマーキング方法。
JP57027995A 1982-02-22 1982-02-22 フオトマスクブランクス用基板のマ−キング方法 Granted JPS58144829A (ja)

Priority Applications (1)

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JP57027995A JPS58144829A (ja) 1982-02-22 1982-02-22 フオトマスクブランクス用基板のマ−キング方法

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58144829A JPS58144829A (ja) 1983-08-29
JPS6240699B2 true JPS6240699B2 (ja) 1987-08-29

Family

ID=12236400

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JP57027995A Granted JPS58144829A (ja) 1982-02-22 1982-02-22 フオトマスクブランクス用基板のマ−キング方法

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6080450U (ja) * 1983-11-07 1985-06-04 日本電気株式会社 フオトマスク基板
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JPS6341157U (ja) * 1986-09-02 1988-03-17
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JP2002116533A (ja) * 2000-10-11 2002-04-19 Dainippon Printing Co Ltd エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5888239U (ja) * 1981-12-01 1983-06-15 三洋電機株式会社 半導体装置用マスク

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Publication number Publication date
JPS58144829A (ja) 1983-08-29

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