KR101512515B1 - 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조방법, 마스크의 제조 방법, 및 마스크 블랭크용 기판 - Google Patents

마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조방법, 마스크의 제조 방법, 및 마스크 블랭크용 기판 Download PDF

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Abstract

본 발명의 과제는, 마스크 블랭크용 기판 및 마스크 블랭크 등의 식별이나 관리를 적절하게 행하는 것에 있다. 마스크 블랭크용 기판(10)의 제조 방법으로서, 주표면(102)이 사각형인 판 형상의 기판을 준비하는 기판 준비 공정과, 기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커(106a∼106d)를, 주표면(102)의 각 변에 각각 이어지는 기판의 4개의 끝면(104a∼104d) 중, 적어도 복수의 끝면에 형성하는 마커 형성 공정을 구비한다.
Figure 112008056387450-pat00001
마커, 끝면, 주표면, 공통 마커 부분, 끝면 고유 마커 부분, 마스크 블랭크, 회전 각도, 마스크 패턴

Description

마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법, 마스크의 제조 방법, 및 마스크 블랭크용 기판{METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MASK, SUBSTRATE FOR MASK BLANK}
본 발명은, 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법, 마스크의 제조 방법, 및 마스크 블랭크용 기판에 관한 것이다.
종래, 첨단 마스크 제조에서, 그 재료인 마스크 블랭크의 품질을 피드백하는 방법이 도입되어 있다. 예를 들면, 종래, 마스크 블랭크의 결함 개소를 피하여 패턴 형성을 행하는 방법이 알려져 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 제2001-33941호 공보(특허 문헌 1) 참조).
이와 같은 피드백을 행하기 위해서는, 개개의 마스크 블랭크를 식별할 필요가 있다. 마스크 블랭크를 식별하는 방법으로서는, 종래, 마스크 블랭크용 글래스 기판을 식별, 또는 관리하기 위한 마커를 형성한 구성이나, 광학 판독 타입의 에리어 코드가 마스크 블랭크용 글래스 기판의 끝면 등에 형성된 구성이 알려져 있다(예를 들면, 일본 특허 공개 제2006-309143호 공보(특허 문헌 2) 및 일본 특허 공 개 제2002-116533호 공보(특허 문헌 3) 참조).
마스크 블랭크의 결함 개소를 피하여 패턴 형성을 행하는 경우, 예를 들면, 마스크 블랭크에, 결함의 종류 및 결함의 좌표 등을 포함하는 결함 정보가 부여된다. 그리고, 마스크의 작성 시에, 그 결함 정보에 기초하여, 결함 개소를 피한다. 또한, 결함 개소를 피하는 방법으로서는, 예를 들면, 주표면과 평행한 면내에서 마스크 블랭크를 회전시킴으로써, 결함의 위치를 피하도록 마스크 블랭크의 방향을 변화시켜 사용하는 것이 생각된다.
그러나, 예를 들면 기판의 끝면에 마커를 형성한 마스크 블랭크를 이용하는 경우, 마스크 블랭크의 방향을 변화시키게 되면, 마커가 형성되어 있는 끝면이 향하는 방향도 변하게 된다. 그 때문에, 마스크 블랭크마다 마커가 형성되어 있는 끝면의 방향이 서로 다르게 되어, 마스크 블랭크를 관리하기 어렵게 된다.
또한，마커가 형성되어 있는 끝면의 방향이 제각각으로 되면, 예를 들면 마스크의 제조 공정에서, 판독 장치를 이용하여 자동적으로 마커를 판독하는 것이 곤란하게 된다. 또한, 그 결과, 예를 들면, 마스크의 제조 공정의 자동화를 행하기 어렵게 될 우려도 있다.
따라서, 본 발명은, 상기의 과제를 해결할 수 있는, 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법, 마스크 블랭크의 제조 방법, 마스크의 제조 방법, 및 마스크 블랭크용 기판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기의 과제를 해결하기 위해서, 본 발명은, 이하의 구성을 갖는다.
(구성 1)
마스크 블랭크용 기판의 제조 방법으로서, 주표면이 사각형인 판 형상의 기판을 준비하는 기판 준비 공정과, 기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커를, 주표면의 각 변에 각각 이어지는 기판의 4개의 끝면 중, 적어도 복수의 끝면에 형성하는 마커 형성 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
기판 준비 공정은, 예를 들면, 글래스 기판 등의 투광성의 기판을 준비한다. 또한, 기판 준비 공정은, 예를 들면, 소정의 형상으로 연삭된 기판을 준비한다. 이 경우, 예를 들면, 마커 형성 공정 후에, 기판을 연마하는 연마 공정이 행해진다. 기판 준비 공정은, 연마 후의 기판을 준비해도 된다. 기판을 식별하기 위한 마커란, 예를 들면, 기판 고유의 식별 번호 또는 식별 기호 등의 식별 코드나, 관리 번호 또는 관리 기호 등의 관리 코드 등의 식별 정보를 나타내는 마커이다. 이 마커는, 예를 들면 결함의 종류 및 결함의 좌표 등을 포함하는 결함 정보 등과 대응지어져, 마스크 블랭크용 기판의 관리에 이용된다. 마커는, 예를 들면 형상이나 광학 특성 등의, 결함 이외의 마스크 블랭크용 기판의 특성의 정보와 대응지어져도 된다. 또한, 기판을 관리하기 위한 마커란, 예를 들면, 마스크 블랭크용 기판의 특성의 정보 등의 기판을 관리하기 위한 정보를 직접 나타내는 마커이다.
이와 같이 하면, 예를 들면 마커의 형성 후에 마스크 블랭크용 기판 또는 마 스크 블랭크를 회전시키는 경우에, 어느 하나의 마커가 소정의 방향을 향하는 상태를 유지하는 것이 용이하게 된다. 또한, 이에 의해, 마스크 블랭크 등을 회전시킨 후에도 일정한 방향으로부터 마커를 판독하는 것이 가능하게 되기 때문에, 예를 들면 마스크의 제조 공정 중에서, 이 마스크 블랭크용 기판을 이용하여 제조되는 마스크 블랭크를, 필요에 따라서 적절하게 회전시킬 수 있다. 그 때문에, 이와 같이 하면, 마스크 블랭크용 기판 및 마스크 블랭크의 식별이나 관리를 적절하게 행할 수 있다. 또한, 예를 들면 결함 개소를 피하여 마스크 패턴을 적절하게 형성할 수 있다. 또한, 예를 들면 형상이나 광학 특성 등의 특성에 따른 마스크 패턴을 적절하게 형성할 수도 있다.
또한, 마커 형성 공정은, 예를 들면 기판의 끝면에 레이저광을 조사함으로써, 마커를 형성한다. 이와 같이 하면, 파티클의 발생원으로 되기 어려운 마커를 적절하게 형성할 수 있다. 마커 형성 공정은, 마커가 형성되는 복수의 끝면 중의 어느 하나에, 그 끝면을 다른 끝면과 구별 가능하게 하는 제2 마커를 더 형성하여도 된다. 이와 같이 하면, 예를 들면, 제2 마커를 원점의 마크로서 이용함으로써, 마스크 블랭크 등의 회전의 초기 위치를 적절하게 인식할 수 있다.
(구성 2)
마커 형성 공정은, 4개의 끝면에 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 구성 1에 기재된 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
주표면이 사각형이기 때문에, 마스크 블랭크용 기판 또는 마스크 블랭크를 회전시키는 경우, 회전 각도는, 통상적으로，90°, 180°, 또는 270°로 된다. 그 때문에, 이와 같이 하면, 어느 회전 각도를 이용하는 경우라도, 어느 하나의 마커가 소정의 방향을 향하는 상태를 유지할 수 있다.
(구성 3)
마커 형성 공정은, 마커로서, 4개의 끝면에서 공통의 공통 마커 부분과, 4개의 끝면의 각각에서 서로 다른 끝면 고유 마커 부분을 갖는 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 구성 2에 기재된 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
끝면 고유 마커 부분은, 예를 들면, 그 끝면 고유 마커 부분이 형성되어 있는 끝면의 위치를 나타낸다.
4개의 끝면에 형성되는 마커가 동일한 경우, 마커에 의해 각각의 끝면을 식별할 수는 없다. 그 때문에, 예를 들면 마스크 블랭크 등을 회전시킨 후에, 마커를 판독함으로써 회전 각도를 확인할 수도 없다.
이에 대하여, 이와 같이 하면, 4개의 끝면을 각각 식별할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면 일정한 방향을 향하는 1개의 끝면의 마커를 판독함으로써, 마스크 블랭크 등의 회전 각도를 확인할 수 있다. 또한, 이에 의해, 마스크 블랭크용 기판의 제조 공정이나, 그 후의 마스크 블랭크 및 마스크의 제조 공정 등을 보다 적절하게 관리할 수 있다.
(구성 4)
기판의 특성의 주표면 내의 분포를 나타내는 특성 면내 분포 정보를 취득하여, 기판의 특성을 기억할 기억 매체에, 기판에 형성되어 있는 마커와 대응지어 저장하는 기판 특성 취득 공정을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 구성 1에 기재된 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
이와 같이 하면, 예를 들면, 마스크의 제조 공정에서, 이 마스크 블랭크용 기판을 이용하여 제조되는 마스크 블랭크를 회전시켜 방향을 변경하는 경우에, 기판의 특성의 면내 분포에 적합한 방향을 적절하게 선택할 수 있다. 또한, 이에 의해, 마스크 블랭크용 기판의 특성에 따라서 적절하게 마스크를 제조할 수 있다. 또한, 예를 들면 제조 후에 마스크의 특성을 해석하는 경우 등에, 특성 면내 분포 정보에 기초하는 해석을 적절하게 행할 수 있다. 또한, 예를 들면 마스크를 이용하여 제조하는 반도체 장치 등의 불량 해석을 행하는 경우 등에, 특성 면내 분포 정보를 적절하게 이용할 수 있다.
기판의 특성의 주표면 내의 분포란, 예를 들면, 주표면과 평행한 평면에서의 기판의 특성의 2차원 분포이며, 예를 들면, 주표면의 각 위치에 대응하는 기판의 특성을 주표면의 각 위치와 대응지은 분포이다. 특성 면내 분포 정보로서는, 예를 들면, 결함, 기판의 형상, 또는 광학 특성의 분포를 나타내는 정보를 이용하는 것이 생각된다. 결함의 분포를 나타내는 정보로서는, 예를 들면, 결함의 종류 및 결함의 좌표를 포함하는 정보를 이용할 수 있다. 기판의 형상의 분포를 나타내는 정보로서는, 예를 들면, 소정의 기준면에 대한 주표면 내의 각 위치의 높이 또는 깊이를 나타내는 정보를 이용할 수 있다. 광학 특성의 분포의 정보로서는, 예를 들면 주표면 내의 각 위치의 투과율을 나타내는 정보나, 주표면 내의 복굴절의 분포를 나타내는 정보 등을 이용할 수 있다. 복굴절의 분포란, 예를 들면, 주표면 내의 각 위치에서의 복굴절의 강도의 분포나, 각 위치에서의 편향의 방위축의 각도 등이다. 특성 면내 분포 정보는, 각 특성이 소정의 기준 범위로부터 벗어나는 영역을 나타내는 정보이어도 된다.
(구성 5)
구성 1에 기재된 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법에 의해 제조된 마스크 블랭크용 기판을 이용하여 포토리소그래피용의 마스크의 제조에 이용되는 마스크 블랭크를 제조하는 마스크 블랭크의 제조 방법으로서, 마스크 블랭크용 기판 상에 마스크 패턴용 박막을 형성하는 박막 형성 공정과, 상기 마스크 패턴용 박막의 특성을 나타내는 박막 정보를 취득하여, 마커와 대응지어 기억 매체에 저장하는 박막특성 취득 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
(구성 6)
상기 마스크 패턴용 박막 상에 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 공정과, 상기 레지스트막의 특성 정보를 나타내는 레지스트 정보를 취득하여, 마커와 대응지어 기억 매체에 저장하는 레지스트 특성 취득 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 구성 5에 기재된 마스크 블랭크의 제조 방법.
(구성 7)
포토리소그래피용의 마스크의 제조 방법으로서, 구성 6에 기재된 마스크 블랭크를 준비하는 블랭크 준비 공정과, 마스크 블랭크의 마커를 판독하여 기억 매체에 조회하여, 마커에 대응하는 특성 면내 분포 정보, 박막 정보 및 레지스트 정보를 갖는 마스크 블랭크 정보를 취득하는 공정과, 상기 마스크 블랭크 정보에 기초 하여, 마스크 패턴용 박막에 전사하는 마스크 패턴에 대한 마스크 블랭크의 특정의 마커를 기준으로 한 방향을 결정하고, 마스크 블랭크를 회전시키는 회전 각도를 결정하는 회전 각도 결정 공정과, 마스크 블랭크를 특정의 마커를 기준으로 상기 회전 각도 결정 공정에서 결정한 회전 각도만큼 회전시킨 상태에서 묘화 장치에 부착하고, 레지스트막에 마스크 패턴의 묘화를 행하는 패터닝 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조 방법.
(구성 8)
마스크 블랭크의 제조에 이용되는 마스크 블랭크용 기판으로서, 상기 마스크 블랭크용 기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커가, 복수의 끝면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판.
(구성 9)
마커는, 4개의 끝면에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 구성 8에 기재된 마스크 블랭크용 기판.
(구성 10)
마커는, 상기 4개의 끝면에서 공통의 공통 마커 부분과, 상기 4개의 끝면의 각각에서 서로 다른 끝면 고유 마커 부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 구성 9에 기재된 마스크 블랭크용 기판.
본 발명에 따르면, 예를 들면, 마스크 블랭크용 기판 및 마스크 블랭크 등의 식별이나 관리를 적절하게 행할 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 실시 형태를, 도면을 참조하면서 설명한다. 도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 마스크 블랭크용 기판(10)의 구성의 일례를 설명하는 도면이다. 도 1a는 마스크 블랭크용 기판(10)의 사시도이다. 본 예에서, 마스크 블랭크용 기판(10)은, 주표면(102)이 사각형인 글래스 기판이며, 주표면(102)의 각 변에 각각 이어지는 기판의 4개의 끝면(104a, 104b, 104c, 104d)에, 마커(106a, 106b, 106c, 106d)가 형성되어 있다.
도 1b는 끝면(104a)에 형성되는 마커(106a)의 상세한 구성의 일례를 도시한다. 본 예에서，마커(106a)는, 마스크 블랭크용 기판(10)을 식별하기 위한 마커로서, 공통 마커 부분(108) 및 끝면 고유 마커 부분(110)을 갖는다. 공통 마커 부분(108)은, 4개의 끝면(104a∼104d)에서 공통의 정보를 나타내는 부분이다. 또한, 끝면 고유 마커 부분(110)은, 4개의 끝면의 각각에서 서로 다른 정보를 나타내는 부분이다. 다른 끝면(104b, 104c, 104d)에 형성되는 마커(106b, 106c, 106d)는, 마커(106a)와 동일한 공통 마커 부분(108)과, 각각의 끝면(104a∼104d)에서 서로 다른 끝면 고유 마커 부분(110)을 갖는다.
본 예에 따르면, 각 마커(106a∼106d)에서의 공통 마커 부분(108)에 의해, 마스크 블랭크용 기판(10) 고유의 식별 정보를 적절하게 나타낼 수 있다. 또한, 각 마커(106a∼106d)의 끝면 고유 마커 부분(110)에 의해, 각각의 끝면(104a∼104d)을 적절하게 식별할 수 있다.
또한, 본 예에서, 공통 마커 부분(108) 및 끝면 고유 마커 부분(110)은, 예를 들면 광학적으로 판독 가능한 이차원 코드이다. 공통 마커 부분(108)은, 마스 크 블랭크용 기판(10)에 고유의 식별 번호 또는 식별 기호 등의 식별 코드나, 관리 번호 또는 관리 기호 등의 관리 코드 등을 나타낸다. 끝면 고유 마커 부분(110)은, 각각의 끝면(104a∼104d)을 구별하는 번호 또는 기호 등을 나타낸다. 공통 마커 부분(108) 및 끝면 고유 마커 부분(110)에 사용하는 이차원 코드로서는, 예를 들면, 데이터 매트릭스, QR 코드, SP 코드, 베리 코드(VeriCode), 맥시 코드(MaxiCode), CP 코드, Code1, AztecCode, 인택터 코드(IntactaCode), 카드 e 등이 있다. 특히 데이터 매트릭스가 바람직하다.
또한, 본 예에서，마커는 기판의 끝면에 형성되어 있지만, 끝면에 접하는 영역인 주표면과의 사이에 형성된 면취면이나 노치 마크 형성부에 마커를 형성하는 형태이어도 된다. 또한, 전사 패턴을 형성하는 에리어의 외주 영역의 주표면에 마커를 형성하여도 된다. 끝면 고유 마커 부분(110)으로서는, 공통 마커 부분(108)보다도 정보량이 작은 마커를 형성하여도 된다. 또한，마커(106a∼106d)로서, 공통 마커 부분(108) 및 끝면 고유 마커 부분(110)을 일부에 포함하는 1개의 이차원 코드 또는 바코드 등을 형성하여도 된다. 이 경우, 마커(106a∼106d)로서는, 예를 들면, 각각 일부가 서로 다른 이차원 코드 또는 바코드 등이 형성된다.
도 2는 마스크 블랭크용 기판(10)을 제조하는 제조 방법의 일례를 설명하는 플로우차트이다. 마스크 블랭크용 기판(10)의 제조 공정에서, 본 예에서는, 처음에, 주표면이 사각형인 판 형상으로 연삭된 글래스 기판을 준비한다(기판 준비 공정 S102). 그리고, 글래스 기판의 4개의 끝면(104a∼104d)에, 마커(106a∼106d)를 형성한다(마커 형성 공정 S104). 이에 의해，마커 형성 공정 S104는, 마스크 블랭 크용 기판(10)을 이용하여 제조되는 마스크 블랭크에서의 전사에 영향이 없는 영역에, 마커(106a∼106d)를 형성한다. 또한，마커 형성 공정 S104는, 예를 들면 탄산 가스 레이저 등의 레이저광의 조사에 의해, 마커(106a∼106d)를 형성한다. 그리고, 마커(106a∼106d)의 형성 후에, 글래스 기판의 주표면(102) 및 끝면(104a∼104d)을 소정의 표면 거칠기로 연마한다(연마 공정 S106).
계속해서, 예를 들면 마스크 블랭크용 기판(10)의 검사를 겸하여, 글래스 기판의 특성의 주표면 내의 분포를 나타내는 특성 면내 분포 정보를 취득한다. 그리고, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성을 기억할 기억 매체에, 취득한 특성 면내 분포 정보를, 마커(106a∼106d)와 대응지어 저장한다(기판 특성 취득 공정 S108). 이 기억 매체는, 예를 들면, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성을 관리하는 데이터베이스이다.
여기서, 특성 면내 분포 정보로서는, 예를 들면, 결함, 기판의 형상, 또는 광학 특성의 분포를 나타내는 정보를 이용하는 것이 생각된다. 결함의 분포를 나타내는 정보로서는, 예를 들면, 결함의 종류 및 결함의 좌표를 포함하는 정보를 이용할 수 있다. 이 때, 결함의 좌표계란, 마커(106a∼106d) 중의 최저라도 1개에는, 그 특정의 마커와 좌표계의 원점 사이의 위치 관계에 관한 정보를 기억 매체에 저장하도록 한다. 기판의 형상의 분포를 나타내는 정보로서는, 예를 들면, 소정의 기준면에 대한 주표면 내의 각 위치의 높이 또는 깊이를 나타내는 정보를 이용할 수 있다. 광학 특성의 분포의 정보로서는, 예를 들면 주표면 내의 각 위치의 투과율을 나타내는 정보나, 주표면 내의 복굴절의 분포를 나타내는 정보 등을 이용할 수 있다.
본 예에 따르면, 예를 들면, 연마 전의 초기의 공정에서 글래스 기판에 마커(106a∼106d)를 형성함으로써, 예를 들면, 그 후의 연마 공정 S106 등을, 글래스 기판을 식별하여 행할 수 있다. 이에 의해, 예를 들면 공정의 관리를 보다 섬세하고 치밀하게 행하여, 마스크 블랭크용 기판의 제조 공정을 적절하게 관리할 수 있다.
또한, 글래스 기판의 특성 면내 분포 정보와 마커(106a∼106d)를 대응지음으로써, 마스크 블랭크용 기판(10)을 이용하여 행하는 마스크 블랭크나 마스크의 제조 공정에서도, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성을 적절하게 파악할 수 있다. 또한, 이에 의해, 각각의 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성에 따라서, 보다 적절하게 마스크 블랭크나 마스크를 제조할 수 있다. 또한, 마스크 블랭크 및 마스크의 제조 공정 등을, 보다 적절하게 관리할 수 있다.
또한, 기판 준비 공정 S102는, 연마 공정 S106이 행해진 후의 글래스 기판을 준비해도 된다. 이 경우, 마커 형성 공정 S104는, 연마 후의 글래스 기판에 마커(106a∼106d)를 형성한다. 또한，마커 형성 공정 S104는, 기판 특성 취득 공정 S108 후에 행하여져도 된다. 이 경우, 마커 형성 공정 S104는, 마스크 블랭크용 기판의 특성의 정보 등의 기판을 관리하기 위한 정보를 직접 나타내는 마커를 형성하여도 된다.
도 3a 및 도 3b는 마스크 블랭크용 기판(10)을 이용하여 제조되는 마스크 블랭크(20)에 대해서 설명하는 도면이다. 도 3a는 마스크 블랭크(20)의 구성의 일례 를 도시한다. 본 예에서, 마스크 블랭크(20)는, 마스크 블랭크용 기판(10) 및 마스크 패턴용 박막(12)을 구비한다. 마스크 패턴용 박막(12)은, 포토마스크의 제조 공정에서 마스크 패턴을 형성하기 위한 차광막 또는 반투광막 등이며, 마스크 블랭크용 기판(10) 상에 형성된다. 마스크 패턴용 박막(12)은, 복수 종류의 박막의 적층막이어도 된다. 또한, 마스크 블랭크(20)는, 마스크 패턴용 박막(12) 상에, 레지스트막을 더 구비해도 된다.
도 3b는 마스크 블랭크(20)의 제조 방법의 일례를 설명하는 플로우차트이다. 마스크 블랭크(20)의 제조 공정에서, 본 예에서는, 처음에, 도 2를 이용하여 설명한 제조 방법에 의해 제조된 마스크 블랭크용 기판(10)을 준비한다(블랭크용 기판 준비 공정 S202). 그리고, 마스크 블랭크용 기판(10) 상에, 마스크 패턴용 박막(12)을 형성한다(박막 형성 공정 S204).
계속해서, 예를 들면 마스크 블랭크(20)의 검사를 겸하여, 마스크 블랭크(20)의 특성을 나타내는 마스크 블랭크 정보를 취득한다. 그리고, 마스크 블랭크(20)의 특성을 기억할 기억 매체에, 취득한 마스크 블랭크 정보를, 마커(106a∼106d)와 대응지어 저장한다(블랭크 특성 취득 공정 S206). 이 기억 매체는, 예를 들면, 마스크 블랭크(20)의 특성을 관리하는 데이터베이스이다.
여기서, 본 예에서, 블랭크 특성 취득 공정 S206은, 적어도, 사용 시 형상 정보 취득 공정을 포함한다. 사용 시 형상 정보 취득 공정은, 마스크 블랭크 정보의 적어도 일부로서, 마스크 블랭크(20)를 이용하여 제조되는 마스크의 사용 시 형상 정보를 취득한다. 그리고, 취득한 사용 시 형상 정보를, 마스크 블랭크(20)의 특성을 기억할 기억 매체에, 마커(106a∼106d)와 대응지어 저장한다. 마스크의 사용 시 형상 정보란, 예를 들면, 마스크 블랭크(20)를 이용하여 제조되는 마스크가 노광 장치에 부착된 상태에서의 마스크의 주표면 형상을 나타내는 정보이다. 이 노광 장치는, 예를 들면 스테퍼이다.
본 예에 따르면, 예를 들면, 마스크의 제조 공정에서, 사용 시 형상 정보 등의 마스크 블랭크 정보를 적절하게 이용할 수 있다. 또한, 이에 의해, 각각의 마스크 블랭크(20)의 특성에 따라서, 보다 적절하게 마스크를 제조할 수 있다.
또한, 사용 시 형상 정보 취득 공정은, 예를 들면, 마스크 블랭크의 주표면 형상에 기초하는 시뮬레이션에 의해, 사용 시 형상 정보를 취득한다. 사용 시 형상 정보 취득 공정은, 마스크로 가공하기 전의 마스크 블랭크(20)를 노광 장치에 부착하여 표면 형상의 측정을 행하고, 측정 결과에 기초하여 사용 시 형상 정보를 산출하여도 된다.
블랭크 특성 취득 공정 S206은, 마스크 패턴용 박막(12)의 특성을 나타내는 박막 정보를 취득하는 박막 특성 취득 공정을 더 포함해도 된다. 또한, 마스크 블랭크(20)가 레지스트막을 더 구비하는 경우, 블랭크 특성 취득 공정 S206은, 레지스트막의 특성을 나타내는 레지스트 정보를 취득하는 레지스트 특성 취득 공정을 더 포함해도 된다. 이 경우, 박막 특성 취득 공정 및 레지스트 특성 취득 단계는, 취득한 박막 정보 및 레지스트 정보를, 마스크 블랭크(20)의 특성을 기억할 기억 매체에, 마커(106a∼106d)와 대응지어 저장한다. 박막 정보는, 예를 들면, 마스크 패턴용 박막(12)의 결함 등의 주표면 내의 분포를 나타내는 정보이다. 또한, 레지 스트 정보는, 예를 들면, 레지스트막의 결함 등의 주표면 내의 분포를 나타내는 정보이다.
도 4a 및 도 4b는 마스크 블랭크(20)를 이용하여 제조되는 마스크(30)에 대하여 설명하는 도면이다. 도 4a는 마스크(30)의 구성의 일례를 도시한다. 본 예에서, 마스크(30)는, 마스크 블랭크용 기판(10) 및 마스크 패턴용 박막(12)을 구비한다. 또한, 마스크 패턴용 박막(12)은, 소정의 마스크 패턴(22)으로 패터닝되어 있다.
도 4b는 마스크(30)의 제조 방법의 일례를 설명하는 플로우차트이다. 마스크(30)의 제조 공정에서, 본 예에서는, 처음에, 도 3b를 이용하여 설명한 제조 방법에 의해 제조된 마스크 블랭크(20)를 준비한다(블랭크 준비 공정 S302).
그리고, 마스크 패턴(22)의 묘화 시에서의 마스크 블랭크(20)의 배치를 나타내는 회전 각도를 결정한다(회전 각도 결정 공정 S304). 이 회전 각도는, 예를 들면, 마스크 패턴용 박막(12)에 형성할 마스크 패턴(22)의 방향을 고정하고, 이것에 마스크 블랭크(20)를 최적으로 되도록 배치하였을 때의 방향에 대하여, 현재, 마스크 블랭크(20)가 배치되어 있는 방향으로부터 어느 방향으로, 주표면(102)(도 1a 참조)과 평행한 면내에서 어느 만큼 회전시킬지를 나타내는 각도이며, 이 회전 각도는, 마스크 블랭크(20)의 미리 설정된 일 끝면에 형성된 마커(특정의 마커, 예를 들면 참조 부호 106a)를 기준으로 결정된다. 회전 각도 결정 단계 S304는, 회전 각도로서, 예를 들면, 0, 90, 180, 또는 270°중으로부터 하나의 각도를 선택한다.
여기서, 본 예에서, 회전 각도 결정 공정 S304는, 마스크 블랭크용 기판(10) 에서의 마커(106a∼106d) 중 적어도 1개를 판독한다. 그리고, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성을 기억하는 기억 매체로부터, 판독한 마커(106)에 대응하는 특성 면내 분포 정보를 취득한다. 또한, 마스크 블랭크(20)의 특성을 기억하는 기억 매체로부터, 사용 시 형상 정보 등을 포함하는 마스크 블랭크 정보를 취득한다. 그리고, 취득한 특성 면내 분포 정보 및 마스크 블랭크 정보에 기초하여, 마스크 블랭크(20)를 회전시키는 회전 각도를 결정한다.
본 예에 따르면, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성의 주표면 내의 분포에 따라서 적절하게 회전 각도를 결정할 수 있다. 예를 들면, 특성 면내 분포 정보로서 결함 정보를 이용함으로써, 결함을 피한 위치에 마스크 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 예를 들면, 특성 면내 분포 정보로서 형상이나 광학 특성 등의 정보를 이용함으로써, 그 특성의 분포에 알맞은 마스크 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 사용 시 형상 정보에 기초하여 회전 각도를 결정함으로써, 예를 들면, 마스크(30)의 사용 시에서의 주표면 형상의 변화에 대하여 최적의 회전 각도를 결정할 수 있다. 또한, 이에 의해, 마스크 패턴(22)의 위치 정밀도를 적절하게 높일 수 있다.
그리고, 회전 각도 결정 공정 S304에 계속해서, 묘화 전의 마스크 패턴(22)의 보정을 행한다(패턴 보정 공정 S306). 마스크 패턴(22)의 보정이란, 예를 들면, 마스크 패턴(22)의 묘화에 이용하는 마스크 패턴의 데이터의 보정이다.
본 예에서, 패턴 보정 공정 S306은, 마스크 블랭크용 기판(10)에서의 마커(106a∼106d) 중 적어도 1개를 판독한다. 그리고, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성을 기억하는 기억 매체로부터, 판독한 마커(106)에 대응하는 사용 시 형상 정 보를 취득한다. 그리고, 취득한 사용 시 형상 정보에 기초하여, 마스크 패턴(22)을 보정한다.
본 예에 따르면, 노광 장치에의 부착에 의한 마스크(30)의 주표면 형상의 변화를 미리 예측하여, 높은 정밀도로 마스크 패턴(22)을 보정할 수 있다. 그 때문에, 예를 들면, 마스크(30)의 사용 시에서의 주표면 형상의 변화의 영향을 적절하게 저감할 수 있다. 또한, 이에 의해, 마스크 패턴(22)의 위치 정밀도를 보다 적절하게 높일 수 있다.
또한, 패턴 보정 공정 S306은, 회전 각도 결정 단계 S304에서 취득한 사용 시 형상 정보를 이용하여도 된다. 이 경우, 패턴 보정 공정 S306은, 회전 각도 결정 단계 S304를 통하여, 마스크 블랭크용 기판(10)의 특성을 기억하는 기억 매체로부터, 사용 시 형상 정보를 취득한다. 또한, 패턴 보정 공정 S306은, 전자 빔 노광 장치 등의 묘화 장치에 마스크 블랭크(20)를 부착한 후에, 마스크 패턴(22)의 보정을 행하여도 된다.
패턴 보정 공정 S306에 계속해서, 마스크 패턴용 박막(12)을 포토리소그래피 프로세스에 의해 패터닝한다(패터닝 공정 S308). 이 포토리소그래피 프로세스는, 예를 들면, 마스크 패턴용 박막(12) 상에 형성된 레지스트막에 전자 빔을 조사함으로써, 형성할 마스크 패턴(22)을 묘화한다. 그리고, 또한 현상 및 에칭 등을 행함으로써, 마스크 패턴용 박막(12)을 패터닝한다.
본 예에서, 패터닝 공정 S308은, 전자 빔에 의한 묘화를, 전자 빔 노광 장치 등의 묘화 장치에 의해 행한다. 또한, 패터닝 공정 S308은, 미리 설정된 하나의 끝면인 끝면(104a)을 회전 각도 결정 공정 S304에서 결정한 회전 각도의 방향으로 향하게 하여, 묘화 장치에 마스크 블랭크(20)를 부착한다.
이에 의해, 패터닝 공정 S308은, 회전 각도 결정 공정 S304에서 결정한 회전 각도에 따라서, 마스크 블랭크(20)를 회전시킨다. 그 때문에, 본 예에 따르면, 형성할 마스크 패턴(22)에 대하여, 마스크 블랭크(20)를 적절하게 회전할 수 있다. 또한, 이에 의해, 예를 들면, 마스크 블랭크용 기판(10) 및 마스크 블랭크(20)의 특성에 따라서, 적절하게 마스크(30)를 제조할 수 있다.
도 5a 및 도 5b는 묘화 장치(40)에 마스크 블랭크(20)를 부착한 상태의 일례를 도시한다. 또한, 본 예에서, 묘화 장치(40)는, 마스크 블랭크(20)의 마스크 블랭크용 기판(10)에서 소정의 방향을 향하는 끝면에서의 마커를 판독하는 판독 장치(50)를 갖는다.
도 5a는 회전 각도를 0°로 하여 마스크 블랭크(20)를 부착한 상태를 도시한다. 이 상태에서, 마스크 블랭크(20)는, 끝면(104a)의 마커(106a)를 판독 장치(50)로 향하게 한 방향에서 묘화 장치(40)에 부착된다. 도 5b는 회전 각도를 90°로 하여 마스크 블랭크(20)를 부착한 상태를 도시한다. 이 상태에서, 마스크 블랭크(20)는, 도 5a의 상태로부터 시계 방향으로 90°회전시켜져, 끝면(104b)의 마커(106b)를 판독 장치(50)로 향하게 한 방향에서 묘화 장치(40)에 부착된다.
또한, 도시는 생략하였지만, 회전 각도를 180°로 한 경우, 마스크 블랭크(20)는, 끝면(104c)의 마커(106c)(도 1a 참조)를 판독 장치(50)로 향하게 한 방향에서 묘화 장치(40)에 부착된다. 회전 각도를 270°로 한 경우, 마스크 블랭 크(20)는, 끝면(104d)의 마커(106d)(도 1a 참조)를 판독 장치(50)로 향하게 한 방향에서 묘화 장치(40)에 부착된다.
이상과 같이, 본 예에서는, 마스크 블랭크(20)를 회전시키는 경우에, 마커(106a∼106d) 중 어느 하나가 판독 장치(50)의 방향을 향하는 상태를 유지할 수 있다. 또한, 이에 의해, 마스크 블랭크(20)를 회전시킨 후에도 일정한 방향에 있는 판독 장치(50)로부터 마커(106a∼106d)를 판독하는 것이 가능하게 된다. 따라서, 본 예에 따르면, 마스크의 제조 공정에서, 마스크 블랭크(20)를, 필요에 따라서 적절하게 회전시킬 수 있다.
또한, 본 예에서, 묘화 장치(40)는, 판독 장치(50)에 의해 판독한 마커(106a∼106d)에서의 공통 마커 부분(108)(도 1b 참조)에 기초하여, 묘화 장치(40)에 부착되는 마스크 블랭크(20)를 식별한다. 또한，마커(106a∼106d)에서의 끝면 고유 마커 부분(110)(도 1b 참조)에 기초하여, 마스크 블랭크(20)의 회전 각도를 식별한다. 이에 의해, 묘화 장치(40)는, 부착되는 마스크 블랭크(20) 및 마스크 블랭크(20)의 회전 각도가 올바른 것을 확인한다. 그 때문에, 본 예에 따르면, 예를 들면, 개개의 마스크 블랭크(20) 및 묘화 시의 회전 각도를 적절하게 관리할 수 있다. 또한, 이에 의해, 예를 들면, 마스크의 제조 공정의 자동화를 적절하게 진행시킬 수 있다.
또한, 본 예에서, 마스크 블랭크(20)의 회전은, 예를 들면 묘화 장치(40)에의 부착 전에 행해진다. 마스크 블랭크(20)의 회전은, 묘화 장치(40) 내에서 행하여져도 된다. 이 경우, 묘화 장치(40)는, 예를 들면, 마스크 블랭크(20)를 회전시 키는 회전 장치를 더 갖는다. 묘화 장치(40)는, 예를 들면 회전을 행하기 전의 마스크 블랭크(20)의 방향을 나타내는 회전 각도를 마커(106a∼106d)의 끝면 고유 마커 부분(110)에 기초하여 식별하고, 식별한 회전 각도로부터 회전 각도 결정 공정에서 결정된 회전 각도로, 회전 장치에 의해, 마스크 블랭크(20)를 회전시킨다.
또한, 마스크의 제조 공정에서는, 마스크 패턴(22)의 묘화 시뿐만 아니라, 그 밖의 각 프로세스 시나 검사 시 등에도, 마커(106a∼106d)를 판독하여, 마스크 블랭크(20)를 식별하는 것이 바람직하다. 또한, 필요에 따라서, 마커(106a∼106d)의 끝면 고유 마커 부분(110)에 기초하여, 마스크 블랭크(20)의 회전 각도를 식별하는 것이 바람직하다. 이 경우, 각 프로세스에서 이용되는 제조 장치나, 검사에 이용되는 검사 장치 등은, 예를 들면, 묘화 장치(40)와 동일 또는 마찬가지의 판독 장치를 갖는다. 이와 같이 하면, 마스크 블랭크(20)를 의해 적절하게 관리할 수 있다.
도 6a 및 도 6b는, 각각 본 발명에 따른 마스크 블랭크용 기판의 변형예를 설명하는 도면이다. 도 6a는 마스크 블랭크용 기판(10)의 제1 변형예를 도시한다. 본 예에서，4개의 끝면(104a∼104d)에는, 동일한 정보를 나타내는 마커(106a∼106d)가 형성되어 있다. 이 경우, 마커(106a∼106d)는, 예를 들면 도 1b를 이용하여 설명한 공통 마커 부분(108)과 동일 또는 마찬가지이어도 된다.
또한，하나의 끝면(104a)에는, 마커(106a) 외에, 원점 마크(112)가 더 형성되어 있다. 원점 마크(112)는, 끝면(104a)을 다른 끝면(104b, 104c, 104d)과 구별 가능하게 하는 마커이다. 본 예에서도, 마커(106a∼106d)에 의해, 마스크 블랭 크(20)를 적절하게 관리할 수 있다. 또한, 예를 들면 원점 마크(112)가 형성되어 있는 끝면(104a)의 방향을 확인함으로써, 예를 들면, 마스크 블랭크용 기판(10)을 이용하여 제조되는 마스크 블랭크(20)의 회전의 초기 위치를 적절하게 인식할 수 있다. 이에 의해, 마스크 블랭크(20)의 회전 각도를 적절하게 관리할 수 있다.
도 6b는 마스크 블랭크용 기판(10)의 제2 변형예를 도시한다. 본 예에서, 마스크 블랭크용 기판(10)에는, 목시용 마커(114)가 더 형성되어 있다. 목시용 마커(114)는, 예를 들면, 주표면(102)의 가장자리부 등에 형성된다. 이에 의해, 마스크 블랭크용 기판(10)의 주표면이 상하 중 어느 쪽을 향하고 있는지를 용이하게 확인할 수 있다. 또한, 목시용 마커(114)는, 예를 들면, 하나의 끝면(104a)의 근처에 형성된다. 이에 의해, 그 끝면(104a)을, 다른 끝면(104b, 104c, 104d)과 구별할 수 있다.
또한, 본 예에서，마커(106a∼l06d)는, 도 1을 이용하여 설명한 마커(106a∼106d)와 동일 또는 마찬가지이다. 본 예에 따르면, 마커(106a∼106d)의 판독에 의한 회전 각도의 확인 외에, 작업자의 목시에 의해서도, 마스크 블랭크(20)의 회전 각도를 확인할 수 있다. 이에 의해, 예를 들면, 마커(106a∼106d)의 판독 장치의 조정이나 동작의 확인을 행하는 경우 등에, 목시에 의해, 마스크 블랭크(20)의 회전 각도를 용이하게 확인할 수 있다.
또한, 목시용 마커(114)는, 마스크 블랭크용 기판(10)을 이용하는 마스크(30)(도 4a 참조)가 사용되는 경우에 전사에 영향이 없은 영역이며, 또한, 작업자가 확인하기 쉬운 장소에 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 목시용 마 커(114)는, 하나의 끝면(104a)에 형성되어도 된다. 또한, 목시용 마커(114)는, 예를 들면 마스크 블랭크(20)의 회전을 작업자의 수작업이나 조작에 따라서 행하는 경우에도 유용하다. 이 경우, 작업자는, 목시용 마커(114)에 의해, 마스크 블랭크(20)의 회전 각도를 확인한다.
이상, 본 발명을 실시 형태를 이용하여 설명하였지만, 본 발명의 기술적 범위는 상기 실시 형태에 기재된 범위에는 한정되지 않는다. 상기 실시 형태에, 다양한 변경 또는 개량을 가하는 것이 가능한 것이 당업자에게 명백하다. 그와 같은 변경 또는 개량을 가한 형태도 본 발명의 기술적 범위에 포함될 수 있는 것이, 특허 청구의 범위의 기재로부터 명백하다.
본 발명은, 예를 들면 마스크 블랭크용 기판에 적절하게 이용할 수 있다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 마스크 블랭크용 기판(10)의 구성의 일례를 설명하는 도면으로서, 도 1a는 마스크 블랭크용 기판(10)의 사시도, 도 1b는 끝면(104a)에 형성되는 마커(106a)의 상세한 구성의 일례를 도시하는 도면.
도 2는 상기 마스크 블랭크용 기판(10)을 제조하는 제조 방법의 일례를 설명하는 플로우차트.
도 3a 및 도 3b는 상기 마스크 블랭크용 기판(10)을 이용하여 제조되는 마스크 블랭크(20)에 대해서 설명하는 도면으로서, 도 3a는 상기 마스크 블랭크(20)의 구성의 일례를 도시하는 도면, 도 3b는 상기 마스크 블랭크(20)의 제조 방법의 일례를 설명하는 플로우차트.
도 4a 및 도 4b는 상기 마스크 블랭크(20)를 이용하여 제조되는 마스크(30)에 대해서 설명하는 도면으로서, 도 4a는 상기 마스크(30)의 구성의 일례를 도시하는 도면, 도 4b는 상기 마스크(30)의 제조 방법의 일례를 설명하는 플로우차트.
도 5a 및 도 5b는 묘화 장치(40)에 상기 마스크 블랭크(20)를 부착한 상태의 일례를 도시하는 도면으로서, 도 5a는 회전 각도를 0°로 하여 상기 마스크 블랭크(20)를 부착한 상태를 도시하는 도면, 도 5b는 회전 각도를 90°로 하여 상기 마스크 블랭크(20)를 부착한 상태를 도시하는 도면.
도 6a 및 도 6b는 각각 본 발명에 따른 마스크 블랭크용 기판의 변형예를 설명하는 도면으로서, 도 6a는 상기 마스크 블랭크용 기판(10)의 제1 변형예를 도시 하는 도면, 도 6b는 상기 마스크 블랭크용 기판(10)의 제2 변형예를 도시하는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 마스크 블랭크용 기판
102 : 주표면
104a∼104d : 끝면
106a∼106d : 마커
108 : 공통 마커 부분
110 : 끝면 고유 마커 부분

Claims (32)

  1. 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법으로서,
    주표면이 사각형인 판 형상으로, 4개의 끝면을 갖고, 상기 주표면과 상기 4개의 끝면 사이에는 각각 면취면(chamfered surface; 面取面)이 형성되어, 4개의 면취면을 갖는 기판을 준비하는 기판 준비 공정과,
    상기 기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커를, 상기 4개의 끝면 또는 상기 4개의 면취면에 형성하는 마커 형성 공정
    을 구비하며,
    상기 기판을 회전시키는 경우에, 상기 마커 중 적어도 1개를 판독함으로써, 상기 주표면과 평행한 면 내에 있어서 기판을 회전시키는 회전 각도를 결정하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 마커 형성 공정은, 상기 마커로서,
    상기 4개의 끝면에서 공통인 공통 마커 부분과,
    상기 4개의 끝면의 각각에서 서로 다른 고유 마커 부분을 갖는 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 4개의 끝면 중, 1개의 끝면에는 원점 마크가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상하의 어느 쪽인가의 상기 주표면에는, 목시(visual observation; 目視)용 마커가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서,
    상기 마커 형성 공정은, 상기 마커로서, 상기 4개의 면취면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 면취면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분을 갖는 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 기판의 특성의 주표면 내의 분포를 나타내는 특성 면내 분포 정보를 취득하여, 상기 기판의 특성을 기억할 기억 매체에, 상기 기판에 형성되어 있는 상기 마커와 대응지어 저장하는 기판 특성 취득 공정을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판의 제조 방법.
  9. 포토리소그래피용의 마스크의 제조에 이용되는 마스크 블랭크를 제조하는 마스크 블랭크의 제조 방법으로서,
    주표면이 사각형인 판 형상으로, 4개의 끝면을 갖고, 상기 주표면과 상기 4개의 끝면 사이에는 각각 면취면이 형성되어, 4개의 면취면을 갖는 기판을 준비하는 기판 준비 공정과,
    상기 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커를, 상기 4개의 끝면 또는 상기 4개의 면취면에 형성하는 마커 형성 공정과,
    상기 기판 상에 마스크 패턴용 박막을 형성하는 박막 형성 공정과,
    상기 마스크 패턴용 박막의 특성을 나타내는 박막 정보를 취득하여, 상기 마커와 대응지어 기억 매체에 저장하는 박막 특성 취득 공정
    을 구비하며,
    상기 마스크 블랭크를 회전시키는 경우에, 상기 마커 중 적어도 1개를 판독함으로써, 상기 주표면과 평행한 면 내에 있어서 기판을 회전시키는 회전 각도를 결정하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 마스크 패턴용 박막 상에 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 공정과,
    상기 레지스트막의 특성 정보를 나타내는 레지스트 정보를 취득하여, 상기 마커와 대응지어 기억 매체에 저장하는 레지스트 특성 취득 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조 방법.
  11. 포토리소그래피용의 마스크의 제조 방법으로서,
    주표면이 사각형인 판 형상으로, 4개의 끝면을 갖고, 상기 주표면과 상기 4개의 끝면 사이에는 각각 면취면이 형성되어, 4개의 면취면을 갖는 기판과, 상기 주표면 상에 형성된 마스크 패턴용 박막으로 이루어지고, 상기 4개의 끝면 또는 상기 4개의 면취면에, 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커가 형성된 마스크 블랭크를 준비하는 블랭크 준비 공정과,
    마스크 블랭크의 마커를 판독하여 기억 매체에 조회하여, 마커에 대응하는 특성 면내 분포 정보, 박막 정보 및 레지스트 정보를 갖는 마스크 블랭크 정보를 취득하는 공정과,
    상기 마스크 블랭크 정보에 기초하여, 상기 마스크 패턴용 박막에 전사하는 마스크 패턴에 대한 마스크 블랭크의 특정의 마커를 기준으로 한 방향을 결정하고, 마스크 블랭크를 회전시키는 회전 각도를 결정하는 회전 각도 결정 공정과,
    마스크 블랭크를 특정의 마커를 기준으로 상기 회전 각도 결정 공정에서 결정한 회전 각도만큼 회전시켜 묘화 장치에 부착하고, 레지스트막에 마스크 패턴의 묘화를 행하는 패터닝 공정
    을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조 방법.
  12. 마스크 블랭크의 제조에 이용되는 마스크 블랭크용 기판으로서,
    상기 마스크 블랭크용 기판은, 주표면이 4각형인 판 형상으로, 4개의 끝면을 갖고, 상기 주표면과 상기 4개의 끝면 사이에는 각각 면취면이 형성되어, 4개의 면취면을 갖고,
    상기 마스크 블랭크용 기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커가, 상기 4개의 끝면 또는 상기 4개의 면취면에 형성되며,
    상기 마커는, 상기 기판을 회전시키는 경우에, 마커 중 적어도 1개를 판독함으로써, 상기 주표면과 평행한 면 내에 있어서 기판을 회전시키는 회전 각도를 결정할 때에 이용되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판.
  13. 삭제
  14. 제12항에 있어서,
    상기 마커는, 상기 4개의 끝면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 끝면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판.
  15. 제12항에 있어서,
    상기 4개의 끝면 중, 1개의 끝면에는 원점 마크가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판.
  16. 제12항에 있어서,
    상하의 어느 쪽인가의 상기 주표면에는, 목시용 마커가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판.
  17. 삭제
  18. 제12항에 있어서,
    상기 마커는, 상기 4개의 면취면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 면취면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분을 갖는 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크용 기판.
  19. 포토리소그래피용의 마스크를 제조할 때에 이용되는 마스크 블랭크로서,
    상기 마스크 블랭크는, 주표면이 4각형의 판 형상인 기판과, 상기 주표면 상에 형성된 마스크 패턴용 박막으로 이루어지고,
    상기 기판은, 4개의 끝면을 갖고, 상기 주표면과 상기 4개의 끝면 사이에는 각각 면취면이 형성되어, 4개의 면취면을 갖고,
    상기 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커가, 상기 4개의 끝면 또는 상기 4개의 면취면에 형성되며,
    상기 마커는, 상기 마스크 블랭크를 회전시키는 경우에, 마커 중 적어도 1개를 판독함으로써, 상기 주표면과 평행한 면 내에 있어서 마스크 블랭크를 회전시키는 회전 각도를 결정할 때에 이용되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
  20. 삭제
  21. 제19항에 있어서,
    상기 마커는, 상기 4개의 끝면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 끝면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
  22. 제19항에 있어서,
    상기 4개의 끝면 중, 1개의 끝면에는 원점 마크가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
  23. 제19항에 있어서,
    상하의 어느 쪽인가의 상기 주표면에는, 목시용 마커가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
  24. 삭제
  25. 제19항에 있어서,
    상기 마커는, 상기 4개의 면취면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 면취면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분을 갖는 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
  26. 포토리소그래피용의 마스크로서,
    상기 마스크는, 주표면이 4각형의 판 형상인 기판과, 상기 주표면 상에 형성된 마스크 패턴용 박막으로 이루어지고,
    상기 기판은, 4개의 끝면을 갖고, 상기 주표면과 상기 4개의 끝면 사이에는 각각 면취면이 형성되어, 4개의 면취면을 갖고,
    상기 마스크 패턴용 박막에는, 마스크 패턴이 형성되어 있고,
    상기 마스크를 식별 또는 관리하기 위한 마커가, 상기 4개의 끝면 또는 상기 4개의 면취면에 형성되며,
    상기 마커는, 상기 마스크의 제조 공정에 있어서, 마커 중 적어도 1개를 판독함으로써, 상기 주표면과 평행한 면 내에 있어서 상기 기판을 회전시키는 회전 각도를 결정할 때에 이용되는 것을 특징으로 하는 마스크.
  27. 삭제
  28. 제26항에 있어서,
    상기 마커는, 상기 4개의 끝면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 끝면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 마스크.
  29. 제26항에 있어서,
    상기 4개의 끝면 중, 1개의 끝면에는 원점 마크가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크.
  30. 제26항에 있어서,
    상하의 어느 쪽인가의 상기 주표면에는, 목시용 마커가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크.
  31. 삭제
  32. 제26항에 있어서,
    상기 마커는, 상기 4개의 면취면에서 공통인 공통 마커 부분과, 상기 4개의 면취면의 각각에 서로 다른 고유 마커 부분을 갖는 마커를 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크.
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