KR20060106745A - 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법, 마스크 블랭크의제조방법, 마스크의 제조방법, 마스크 블랭크 유리기판,마스크 블랭크, 및 마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명에 따른 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법은, 마스크 블랭크 유리기판의 표면 상의, 전사(transfer)에 영향을 미치지 않는 영역의 경면(mirror-like surface)으로 레이저광을 조사함으로써, 상기 마스크 블랭크 유리기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커(marker)로서 사용되는 피트(pit)를 형성하는 마킹 단계를 포함한다.
Description
도 1A 및 도 1B는 본 발명의 바람직한 실시형태에 따른 마스크 블랭크의 구조의 일례를 나타내는 도면으로서, 도 1A는 마스크 블랭크의 측면도이고, 도 1B는 마커(marker)의 구조의 일례를 나타내는 도면;
도 2는 마커의 피트(pit)의 상세한 형상의 일례를 나타내는 도면;
도 3은 마스크 블랭크의 제조방법의 일례를 나타내는 플로우차트;
도 4는 제조된 마스크 블랭크를 사용하여 새로운 마스크 블랭크를 제조하기 위한 제조방법의 일례를 나타내는 플로우차트이다.
본 발명은 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법, 마스크 블랭크의 제조방법, 마스크의 제조방법, 마스크 블랭크 유리기판, 마스크 블랭크, 및 마스크에 관한 것이다.
종래에는, 유리기판의 단면(端面; end surface) 또는 이면(back surface) 상에 형성된 금속막 형태의 광학적으로 판독가능한 영역코드(area code)가 제공된 마스크 블랭크가 공지되어 있다(일본 특허공개공보(JP-A) 제2002-116533호 참고). 또한, 유리기판의 측면(단면) 상의 그 포레스티드 부분(frosted portion)에 소정의 심벌(symbol)이 마킹된 마스크 블랭크도 공지되어 있다(일본 특허공개공보(JP-A) 소화59-15938호 참고).
최근에는, 노광광원의 파장이 200nm 이하로 단파장화되고 있다. 그리하여, 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크에 요구되는 품질(예컨대, 허용가능한 결함 크기, 허용가능한 결함의 수, 또는 소자의 패턴 특성에 영향을 미치는 레지스트막의 평면내(in-plane) 두께 균일성)이 점점 높아지고 있다. 영역 코드 등의 형성 방식에 따라서, 후공정(later process)에서 먼지가 발생될 수도 있다. 따라서, 요구되는 품질을 만족하기가 어렵게 될 수 있다. 또한, 영역코드 등의 형성 방식 및 그 형성 위치에 따라서, 스핀코팅법에 의해 형성된 레지스트막의 평면내 두께 균일성이 저하될 수도 있다. 그 결과, 요구되는 품질을 만족하기가 어렵게 될 수 있다. 특히, 최근의 패턴의 소형화를 위해 두께 300nm 이하를 가진 레지스트 박막의 경우, 평면내 두께의 변화로 인해 패턴 형성에 가해지는 영향은 그전보다 증대되며, 따라서 그 문제가 더욱 심각해진다. 또, 최근에는 마스크 블랭크 유리기판의 단면이 경면연마(mirror polishing)되는 경우도 있다. 따라서, 광택 있는 심벌(lustered symbol) 등으로부터 충분한 판독 정확도를 얻기가 어려운 경우가 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 상술한 문제점을 해결할 수 있는 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법, 마스크 블랭크의 제조방법, 마스크의 제조방법, 마스크 블랭크 유리기판, 마스크 블랭크, 및 마스크를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 다음의 구조를 가진다.
(구조 1)
본 발명에 따른 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법은,
마스크 블랭크 유리기판의 표면 상의, 전사(transfer)에 영향을 미치지 않는 영역의 경면(mirror-like surface)으로 레이저광을 조사함으로써, 상기 마스크 블랭크 유리기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커(marker)로서 사용되는 피트(pit)를 형성하는 마킹 단계를 포함한다.
상기 마킹 단계에서는 마크를 형성하는데, 예컨대, 전사에 영향을 미치지 않는 둘레영역에, 마스크 패턴 박막이 형성되지 않은 유리기판의 주요표면 상에, 전사에 영향을 미치지 않는 유리기판의 측면 상에, 상기 주요표면과 측면 사이에 형성된 모따기면(chamfered surface)상에, 유리기판의 노치 마크(notch mark) 등에 형성한다. 상기 마킹 단계에서는 피트를 형성하는데, 예컨대, 레이저광의 조사에 의해 유리기판의 경면의 일부를 융해시키거나 승화시킴으로써 형성한다. 이와 같이 형성된 마커는 충분한 판독 정확도를 확보하며, 후공정에서 먼지가 생성될 가능성을 제거한다.
상기 마커는, 예컨대 제조된 마스크 블랭크 유리기판에 독특한 식별정보/식 별심벌(식별코드) 또는 관리심벌(관리코드)로서 사용할 수 있다. 이는 종래에 달성할 수 없었던 마스크 블랭크 유리기판의 원-바이-원(one-by-one) 관리(하나씩 차례로 관리)가 가능하도록 한다.
또한, 이 식별정보는, 예컨대, 제조단계에서 얻어진 정보(기판 정보: 결함 정보, 표면거칠기 또는 평탄도 등의 표면 형태 정보, 두께 또는 크기 등의 형상 등) 또는 유리기판이 가지는 독특한 기판 정보(재료, 성분, 조성, 순도, 복굴절율, 투과율 등)와 상호관련될 수 있다. 이는 얻어진 또는 작성된 정보와 마스크 블랭크 유리기판의 상관관계를 신뢰성있게 달성할 수 있도록 한다.
식별정보/식별심벌 또는 관리심벌을 암시하는 마커 대신에 또는 추가적으로, 상기 마킹 단계에서는, 제조단계에서 얻어진 기판 정보, 유리기판이 가지는 독특한 기판 정보 등을 직접 나타내는 마커를 형성할 수도 있다. 이 경우에도, 마스크 블랭크 유리기판의 원-바이-원 관리를 가능하도록 한다.
유리기판 재료로서는, 예컨대 합성석영유리 또는 SiO2-TiO2계 다성분 유리로 이루어진 것을 사용할 수 있다. 유리기판의 재료에 따르면, 레이저광의 조사에 의해 유리기판의 일부를 융해 또는 승화시킴으로써 피트를 형성하기 위해 레이저광의 파장이 선택된다. 유리기판의 상기 재료의 경우, 마킹 단계에서, 예컨대 이산화탄소(CO2) 가스 레이저를 사용한 레이저 마커에 의해 마커를 형성할 수 있다. 레이저광의 에너지를 적당히 조절함으로써 유리기판의 표면의 일부를 적절히 융해 또는 승화할 수 있으며, 상기 융해 또는 승화에 의해 형성된 피트를 매우 정확하게 판독 할 수 있다. 또한, 시간 경과에 따른 열화(aged deterioration)에 의해 크랙(crack)이 발생하는 것을 억제할 수도 있다. 또, 상기 마킹 단계에서는 피트가 있을 각 위치로 장시간 레이저광을 조사함으로써 복수의 피트를 형성할 수도 있다. 이는 복수의 피트의 형상의 변화를 감소시킬 수 있다. 따라서, 마커의 판독 정확도를 향상시킬 수 있다. 복수의 피트는, 예컨대 데이터 매트릭스(data matrix) 또는 QR 코드 등의 2차원 코드의 각 포인트를 형성할 수 있으며, 또는 제3자가 마커 정보를 이해하는 것을 방지하기 위한 숨겨진 코드 또는 난수 코드(random number code)일 수도 있다.
유리기판의 재료에 따라서 레이저광의 적당한 파장의 선택이 이루어지지 않는다면, 레이저광이 조사되는 부분에, 예컨대 크랙과 같은(crake-like) 마커가 형성된다. 이 경우, 크랙과 같은 마커는 원치않게도 먼지의 발생을 야기시킨다.
또한, 유리기판의 측면상에, 모따기면 등의 유리기판의 단면 상에, 또는 유리기판의 노치 마크에 마커를 형성함으로써, 마커의 형성으로 인해 유리기판의 주요표면 또는 상기 주요표면상에 형성된 마스크 패턴 박막 상에 새로운 결함 등이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 또, 단면 연마 등에 의해 마커를 제거할 수 있기 때문에, 예컨대, 마커를 변경할 필요가 있을 경우에도, 유리기판의 두께를 감소시키지 않고 새로운 마커를 형성할 수 있다.
마킹 단계는, 예컨대 유리기판을 수용할 때와 같은 유리기판을 래핑(lapping)/연마(polishing)하기 전에 또는 래핑/ 연마 및 기판 검사를 수행한 후에, 실시된다. 상기 마킹 단계는 예컨대, 유리기판을 래핑한 후, 유리기판을 단면 연마한 후, 또는 유리기판의 주요표면을 경면 연마한 후에 래핑/연마의 각 단계 동안 수행될 수 있다. 마킹 단계가 기판 검사 이전에 수행될 때, 예컨대 유리기판의 식별정보/식별심벌 또는 관리심벌을 암시하는 마커가 형성된다.
또한, 예컨대, 유리기판의 단면 연마시에 정밀 연마 및 초정밀 연마가 수행될 때, 마킹 단계는 단면에 관한 정밀 연마와 초정밀 연마 사이에 수행될 수도 있다. 이는 마커의 내부 및 마커 이외의 단면의 표면거칠기를 감소시킬 수 있으며, 따라서 먼지의 발생을 방지하는데 보다 효과적이다. 정밀 연마란, 예컨대 산화세륨 및 물 등의 용매를 함유하는 연마 용액과 연마 브러시(polishing brush) 또는 연마 패드(polishing pad)를 사용하여 수행되는 연마이다. 초정밀 연마란, 예컨대 콜로이드 실리카와 물 등의 용매를 함유하는 연마 용액과 연마 브러시 또는 연마 패드를 사용하여 수행되는 연마이다. 마킹 단계는, 예컨대, 정밀 연마와 초정밀 연마 사이에서 유리기판의 주요표면 상에 수행될 수 있다. 이 경우, 마커의 형성 후에 주요표면의 초정밀 연마를 수행하기 때문에, 마커가 먼지를 발생시킬 가능성을 더욱 감소시킬 수 있다.
(구조 2)
구조 1에 따른 방법에 있어서,
상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보를 작성하는 단계를 더 포함하며,
상기 기판 정보는 상기 마커와 상호관련된다.
이는 표면 형상, 평탄도, 및 유리기판의 결함에 관한 정보 등의 기판 정보를 유리기판과 직접 상호관련시킬 수 있도록 한다.
유리기판에 관한 기판 정보의 작성이란, 제조단계에서 얻어진 기판 정보 또는 개별적인 유리기판이 가지는 독특한 기판 정보의 작성을 나타낸다. 예컨대, 제조단계에서 얻어진 기판 정보는 기판 검사 단계에서 얻어진 기판 정보를 포함한다.
상기 기판 검사 단계는, 예컨대 유리기판의 주요표면의 형상에 관하여 두께, 표면 형상(주요표면의 굽음(warp) 형상 또는 전체 주요표면의 요철 상태), 평탄도, 평행 정도 등을 확인한다. 이는, 예컨대 마스크 블랭크 제조시 마스크 패턴 박막(예컨대, 위상시프트막, 차광막 등)을 형성하는 막 형성 단계를 효과적으로 수행할 수 있도록 한다.
또한, 상기 기판 검사 단계는, 예컨대 유리기판의 주요표면의 결함에 관한 위치, 종류(볼록 결함(파티클(particle) 등), 오목 결함(핀홀, 크랙 등) 등), 크기를 확인한다. 이러한 결함 데이터가 알려지면, 예컨대, 마스크 제조시 결함을 회피하도록 마스크 패턴을 설계할 수 있다.
(구조 3)
구조 2에 따른 방법에 있어서,
상기 기판 정보는 마스크 블랭크 유리기판의 물리적 특성, 화학적 특성, 광학 특성, 표면 형태, 표면 형상, 재료, 및 결함 중 적어도 하나를 포함하는 정보이다.
유리기판의 물리적 특성으로는, 복굴절률, 굴절률, 흡수계수 등이 언급된다. 유리기판의 화학적 특성으로는, 내산성, 알칼리내성 등이 언급된다. 유리기판의 광 학 특성으로는, 흡수계수, 투과율 등이 언급된다. 유리기판의 표면 형태로는, 표면거칠기, 표면기복(waviness), 평탄도, 평행 정도, 볼록 형상, 오목 형상 등이 언급된다. 유리기판의 형상으로는, 두께, 크기 등이 언급된다. 유리기판의 재료로는, 유리의 타입, 조성 등이 언급된다. 유리기판의 결함으로는, 맥리(striae), 기포, 또는 불순물의 혼입으로 인한 투과율의 이상(abnormality) 등의 기판 내부의 결함, 파티클, 크랙 또는 핀홀 등의 기판 표면상의 결함 등이 언급된다. 상술한 바와 같이, 유리기판의 결함에 대하여, 상술한 종류의 결함 이외에 유리기판내의 결함의 위치 또는 크기 등의 정보를 추가함으로써, 예컨대, 마스크 제조시에 결함을 회피하도록 마스크 패턴을 설계하거나, 또는 상대적으로 장파장 영역에서 사용하기에 적합한 마스크 블랭크 또는 결함이 의심되지 않는 정도의 마스크 블랭크에 유리기판을 적용함으로써 마스크 패턴을 취급할 수 있다.
(구조 4)
본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제조방법은,
상기 구조 1에 따른 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크 유리기판의 주요표면 상에 마스크 패턴 박막을 형성하는 막 형성 단계를 포함한다.
마스크 블랭크에 대하여, 노광파장에 따른 상이한 품질 또는 용도(패턴 형성)를 가진 복수의 등급이 있다. 허용가능한 결함의 크기, 허용가능한 결함의 수 등이 상기 등급에 따라 다르다. 또한, 복수의 종류의 마스크 패턴 박막(위상시프트막, 차광막(불투명막) 등) 및 마스크 블랭크의 제조시에 형성되는 레지스트막이 있다. 따라서, 마스크 블랭크를 제조할 때, 형성될 레지스트막 및 박막의 종류 및 등 급을 관리하는 것이 쉽지 않다.
그러나, 구조 4에 따르면, 마스크 블랭크의 원-바이-원 관리를 수행할 수 있게 된다. 따라서, 마스크 블랭크 제조시에 형성될 레지스트막 및 박막의 종류 및 등급을 적절히 관리할 수 있다. 마커는, 예컨대 마스크 블랭크 유리기판의 식별정보/식별심벌 또는 관리심벌을 나타낸다. 식별정보/식별심벌 또는 관리심벌은, 예컨대 마스크 블랭크 유리기판에 의해 형성될 마스크 블랭크의 종류과 상호관련된다. 또한, 마스크 블랭크는 신뢰성 있게 원-바이-원 관리가 가능하기 때문에, 예컨대, 마스크 블랭크에 따라 마스크 블랭크에 관한 정보를 마스크 제작자 등에게 공급할 때, 상기 정보와 마스크 블랭크 사이를 신뢰성 있게 상호관련시킬 수 있다.
(구조 5)
본 발명에 따른 마스크 블랭크의 제조방법은,
유리기판의 주요표면상에 마스크 패턴 박막을 형성하는 막 형성 단계; 및
상기 유리기판의 표면 상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면으로 레이저광을 조사함으로써, 상기 유리기판 및/또는 상기 유리기판상에 마스크 패턴 박막이 형성된 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커로서 사용되는 피트를 형성하는 마킹 단계를 포함한다.
구조 5에 따르면, 구조 4와 동일한 효과를 얻을 수 있다. 구조 5의 마킹 단계는 구조 1에서 언급된 유리기판 제조공정에서 수행될 수 있지만, 유리기판 제조공정 이후 마스크 패턴 박막을 형성하기 전 또는 후에 수행될 수도 있다.
(구조 6)
구조 5에 따른 방법에 있어서,
상기 막 형성 단계 이전에 상기 유리기판에 관한 기판 정보를 작성하는 단계로서, 상기 마커는 상기 기판 정보와 상호관련되는 단계; 및
상기 마커로부터 판독된 기판 정보에 기초하여, 형성될 마스크 패턴 박막을 결정하는 박막 결정 단계를 더 포함하며,
상기 막 형성 단계는 상기 박막 결정 단계에서 결정된 마스크 패턴 박막을 형성한다.
이는 예컨대, 기판 정보를 작성하는 단계에서의 기판 정보(구체적으로, 기판 검사 단계(유리기판의 주요 표면의 표면형상, 평탄도 및 결함 중 적어도 하나를 검사하는 기판 검사 단계)의 검사 결과)에 따라서, 막 형성 단계에서 형성될 마스크 패턴 박막의 종류를 결정할 수 있도록 한다. 따라서, 마스크 블랭크 유리기판을 낭비없이 효과적으로 사용할 수 있다.
상기 박막 결정 단계에서는, 예컨대 마스크 블랭크 유리기판의 기판 정보 중 하나인 형상으로서 주요표면의 표면 형상을 식별한다. 마스크 패턴 박막내에 막 응력이 존재할 경우, 마스크 블랭크가 형성될 때의 주요표면은, 주요표면의 표면 형상이 오목한 경우와 볼록한 경우에 서로 다르다. 따라서, 박막 결정 단계에서는 기판 검사 단계의 검사 결과를 고려하여, 형성될 마스크 패턴 박막의 종류 및 두께를 결정한다. 이는 예컨대, 막 형성 단계에서 형성될 마스크 패턴 박막의 종류가 미리 결정된 경우와 비교해서 수율을 향상시킨다.
(구조 7)
구조 5에 따른 방법에 있어서,
상기 막 형성 단계 이후에 상기 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보를 작성하는 박막 정보 작성 단계를 더 포함하며,
상기 마커는 상기 박막 정보 작성 단계에서 얻어지는 박막 정보와 상호관련된다.
구체적으로, 박막 정보 작성 단계는, 예컨대 마스크 패턴 박막의 광학 특성, 표면 형상 및 결함 중 적어도 하나 등의 박막 정보를 검사하는 박막 검사 단계를 나타낸다. 이는 광학 특성, 표면 형상, 결함 등에 관한 박막 정보 등의 마스크 패턴 박막의 박막 정보를 마스크 블랭크와 직접 상호관련시킬 수 있도록 한다.
(구조 8)
구조 7에 따른 방법에 있어서,
상기 박막 정보는 상기 마스크 패턴 박막의 물리적 특성, 화학적 특성, 전기적 특성, 광학 특성, 표면 형태, 재료, 결함, 및 막 형성 조건 중 적어도 하나를 포함하는 정보이다.
상기 박막의 물리적 특성으로는, 예컨대 열팽창계수 등이 언급된다. 상기 박막의 화학적 특성으로는, 내산성, 알칼리내성, 내수성 등이 언급된다. 상기 박막의 전기적 특성으로는, 저항 등이 언급된다. 상기 박막의 표면 형태로는, 표면거칠기, 표면기복, 평탄도, 평행 정도, 볼록 형상, 오목 형상 등이 언급된다. 상기 박막의 재료로는, 성분, 조성, 두께방향 또는 평면내 방향의 조성분포 등이 언급된다. 상기 박막의 결함으로는, 불순물의 혼입으로 인한 투과율의 이상(abnormality), 파티 클 또는 핀홀 등의 결함 등이 언급된다. 상기 박막의 막 형성 조건으로는, 막 형성 장치, 가스의 종류, 기체압, 스퍼터링 타겟 정보(sputtering target information), 기체흐름속도, 가열 조건, 막 형성 날짜 등이 언급된다. 상술한 유리기판의 결함과 마찬가지로, 상술한 종류의 결함 이외에 박막내의 결함의 위치 또는 크기 등의 정보를 추가함으로써, 예컨대, 마스크 제조시에 결함을 회피하도록 마스크 패턴을 설계하거나, 또는 결함이 의심되지 않는 정도의 마스크 블랭크에 유리기판을 적용함으로써 마스크 패턴을 취급할 수 있다.
상기 박막 정보를 사용하는 방식으로는, 다음의 사용 방식이 구체적으로 고려된다. 상기 마킹 단계에서는 마스크 블랭크 유리기판의 두께를 식별하기 위한 마커를 형성하고, 상기 마스크 블랭크의 제조방법은 예컨대, 마스크 패턴 박막의 박막 정보인 광학 특성, 표면 형상, 및 결함 중 적어도 하나를 검사하는 박막 검사 단계를 포함하며, 상기 박막 검사 단계는 마스크 블랭크의 사양을 만족하는지의 여부를 판단하는 통과/실패(pass/fail) 판단 단계를 포함하며, 상기 마스크 블랭크 제조 방법은, 마스크 블랭크의 사양을 만족하지 않는 것으로 판단된 마스크 블랭크로부터 마스크 패턴 박막을 박리하는 박막 박리 단계(thin film stripping step), 상기 마커로부터 판독된 정보를 사용하여, 상기 박막 박리 단계에서 마스크 패턴 박막이 박리된 마스크 블랭크 유리기판의 두께를 식별하는 두께 식별 단계, 및 상기 두께 식별 단계에서 식별된 두께에 따라서 결정된 연마량(polishing amount) 만큼 마스크 블랭크 유리기판의 주요표면을 연마하는 재연마 단계(repolishing step)를 더 포함하고, 상기 막 형성 단계에서는 상기 재연마 단계에서 연마된 마스크 블 랭크 유리기판의 주요표면상에 새로운 마스크 패턴 박막을 형성한다.
마스크 블랭크 유리 기판의 재료로서는, 예컨대 합성석영유리 또는 SiO2-TiO2계 다성분 유리가 사용된다. 이러한 유리는 고가이기 때문에, 유리기판은 낭비없이 유효하게 사용되는 것이 바람직하다. 상술한 방식에 따르면, 마스크 패턴 박막의 형성 등에 실패(failure)가 발생하여 마스크 블랭크의 사양을 만족하지 않더라도, 마스크 블랭크 유리기판을 효과적으로 재사용할 수 있다. 재사용된 마스크 블랭크 유리기판을 사용하여, 새로운 마스크 블랭크를 적절히 제조할 수 있다. 이 마스크 블랭크 유리기판은 재사용되기 전의 등급과는 다른 등급의, 예컨대 보다 낮은 등급의 마스크 블랭크 유리기판으로서 재사용될 수 있다.
또한, 상술한 방식에 따르면, 두께 식별 단계에서 유리기판의 두께를 식별할 수 있기 때문에, 재연마 이전에 두께 분류 단계를 단순화할 수 있다. 게다가, 식별된 두께에 따라서, 연마량 등의 연마 조건을 용이하게 적절히 설정할 수 있다. 재연마 단계에서는, 예컨대 두께에 따라 가공량(machining amount)을 설정하여, 상기 두께에 대응되는 연마량만큼 연마를 실시한다. 재연마 단계 후, 예컨대 재사용후에 마스크 블랭크 유리기판을 식별하기 위한 마커가 형성된다. 여기서, 재연마 단계에서 연마함으로써, 재사용 이전의 마스크 블랭크 유리기판의 마커를 제거할 수 있다는 것을 인지해야 한다.
(구조 9)
구조 5에 따른 마스크 블랭크의 제조방법에 있어서,
상기 막 형성 단계 후에 마스크 패턴 박막상에 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 단계, 및
상기 레지스트막에 관한 레지스트막 정보를 작성하는 레지스트막 정보 작성 단계를 더 포함하며,
상기 마커는 상기 레지스트막 정보 작성 단계에서 얻어지는 상기 레지스트 막 정보와 상호관련된다.
구조 9에 따르면, 구조 4에서와 동일한 효과를 얻을 수 있다. 상기 레지스트막 정보 작성 단계는 구체적으로, 예컨대 상기 레지스트막을 검사하는 레지스트막 검사 단계를 나타낸다.
(구조 10)
구조 9에 따른 방법에 있어서,
상기 레지스트막 정보는 상기 레지스트막의 물리적 특성, 화학적 특성, 표면 형태, 재료, 결함 및 막 형성 조건 중 적어도 하나를 포함하는 정보이다.
상기 레지스트막의 물리적 특성으로는, 예컨대 경도(hardness) 등이 언급된다. 상기 레지스트막의 화학적 특성으로는, 내산성, 내염기성 등이 언급된다. 상기 레지스트막의 표면 형태로는, 표면거칠기, 표면기복, 평탄도, 평면내 두께 균일성, 평균 두께, 레지스트막 두께의 조감도(bird's-eye view) 등이 언급된다. 상기 레지스트막의 재료로는, 수지재, 분자량, 레지스트의 종류 등이 언급된다. 상기 레지스트막의 결함으로는, 파티클 등의 볼록 결함, 핀홀 등의 오목 결함 등이 언급된다. 상기 레지스트막의 결함에 대하여, 상술한 종류의 결함 이외에 상기 레지스트막의 결함의 위치 또는 크기 등의 정보를 추가함으로써, 예컨대 마스크의 제조시 결함을 회피하도록 마스크 패턴을 설계하거나 또는 결함이 의심되지 않는 정도의 마스크 블랭크에 레지스트막을 적용함으로써 마스크 패턴을 취급할 수 있다. 상기 레지스트막의 형성 조건으로는, 코팅장치, 스핀 코팅 조건, 가열 조건, 히터, 냉각 조건, 냉각기(cooler), 레지스트막 형성 날짜, 레지스트막 형성 환경 등이 언급된다.
레지스트막 정보를 사용하는 방식으로는, 다음의 사용 방식이 구체적으로 고려된다. 상기 마킹 단계에서는 상기 마스크 패턴 박막상에 형성될 레지스트막을 식별하기 위한 마커를 형성하고, 상기 마스크 블랭크의 제조방법은 마스크 패턴 박막상에 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 단계 및, 예컨대 형성된 레지스트막의 레지스트막 정보인 결함 및 평면내 두께 균일성 중 적어도 하나를 검사하는 레지스트막 검사 단계를 포함하며, 상기 레지스트막 검사 단계는 마스크 블랭크의 사양을 만족하는지의 여부를 판단하는 통과/실패 판단 단계를 포함하며, 상기 마스크 블랭크의 제조 방법은, 마스크 블랭크의 사양을 만족하지 않는 것으로 판단된 마스크 블랭크로부터 레지스트막을 박리하는 레지스트막 박리 단계(resist film stripping step), 상기 마커로부터 판독된 정보를 사용하여, 상기 레지스트막 박리 단계에서 레지스트막이 박리된 유리기판상의 마스크 패턴 박막상에 형성될 레지스트막을 식별하는 레지스트 식별 단계, 및 상기 레지스트 식별 단계에서 식별된 레지스트막을 마스크 패턴 박막 상에 형성하는 레지스트막 재형성 단계(resist film re-forming step)를 더 포함한다.
상술한 방식에 따르면, 예컨대, 레지스트막의 도포시에 실패가 발생하는 경 우에도, 레지스트막을 적절히 재도포/재형성할 수 있다. 또한, 재형성될 레지스트막을 신뢰성있게 선택할 수 있기 때문에, 상기 단계들의 관리를 단순화할 수 있다.
(구조 11)
마스크 블랭크 유리기판상에 마스크 패턴 박막을 가지며 상기 마스크 패턴 박막상에 레지스트막을 가지는 제조된 마스크 블랭크를 사용하여 새로운 마스크 블랭크를 얻기 위한 마스크 블랭크의 제조방법으로서,
상기 마스크 블랭크 유리기판에는, 상기 마스크 블랭크 유리기판의 표면 상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면에, 상기 마스크 블랭크 유리기판 및/또는 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커가 형성되며, 상기 마커는 레이저광의 조사에 의해 형성되고,
상기 마커는, 상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보, 상기 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보, 및 상기 레지스트막에 관한 레지스트막 정보 중 적어도 하나를 포함하는 정보와 상호관련되며,
상기 방법은,
상기 제조된 마스크 블랭크의 레지스트막 또는 상기 제조된 마스크 블랭크의 레지스트막과 마스크 패턴 박막을 박리하는 막 박리 단계;
상기 박리된 막 이외의 레지스트막 또는 상기 박리된 막 이외의 마스크 패턴 박막과 레지스트막을 형성하는 막 재형성 단계; 및
상기 막 재형성 단계에서 형성된 레지스트막에 관한 레지스트막 정보 및 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보 중 적어도 하나를 얻는 단계를 포함하며,
상기 레지스트막 정보 및 상기 박막 정보 중 적어도 하나는 상기 마커와 상호관련된다.
상기 막 박리 단계는 구체적으로, 예컨대 레지스트막 박리 단계 또는 박막 박리 단계를 나타낸다.
또한, 마스크 블랭크 유리기판상에, 마스크 패턴으로 형성될 마스크 패턴 박막, 상기 마스크 패턴 박막상에 형성된 레지스트막, 그리고 상기 레지스트막을 식별하기 위한 마커, 상기 마스크 패턴 박막을 식별하기 위한 마커, 또는 상기 유리기판을 식별하기 위한 마커를 가지는 제조된 마스크 블랭크를 사용하여, 새로운 마스크 블랭크를 제조하기 위한 마스크 블랭크 제조방법은, 상기 제조된 마스크 블랭크를 준비하는 준비 단계, 상기 제조된 마스크 블랭크로부터 상기 레지스트막을 박리하는 레지스트막 박리 단계, 상기 마커로부터 판독된 정보를 사용하여, 상기 제조된 마스크 블랭크상에 형성될 레지스트막을 선택하는 레지스트막 선택 단계, 및 상기 레지스트막 선택 단계에서 선택된 레지스트막을 상기 마스크 패턴 박막상에 형성하는 레지스트막 재형성 단계를 포함한다.
상술한 방식에 따르면, 상기 제조된 마스크 블랭크의 레지스트막에 감도 변화(저하 등)가 발생하더라도, 마스크 블랭크를 유효하게 재사용할 수 있다. 또한, 상기 마커가 상기 마스크 블랭크 자체에 형성되기 때문에, 마스크 블랭크에 관한 정보와 마스크 블랭크를 상호관련시킬 수 있다. 이는 상기 단계들의 관리를 단순화할 수 있다.
(구조 12)
구조 11에 따른 마스크 블랭크 제조방법에 있어서,
상기 마커는 상기 마스크 블랭크 유리기판의 표면상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면으로 레이저광을 조사함으로써 형성된 피트 형상(pit shape)을 가진다.
이는 먼지 발생 가능성이 매우 적은 마커를 형성할 수 있도록 한다.
(구조 13)
구조 11에 따른 방법에 있어서,
상기 레지스트막은 화학증폭형 레지스트막(chemically amplified resist film)이며,
상기 레지스트막의 코팅으로부터 소정 시간 경과한 후의 마스크 블랭크를 상기 제조된 마스크 블랭크로서 준비한다.
이는 감도가 빨리 변하는 화학증폭형 레지스트막을 사용하는 마스크 블랭크까지도 적절히 재사용할 수 있도록 한다. 화학증폭형 레지스트막은, 예컨대 2주 정도의 단시간에 감도가 크게 변하는 경우가 있다. 감도의 변화가 큰 레지스트막이 형성된 마스크 블랭크를 사용하여 마스크를 제조할 경우, 형성된 마스크 패턴의 CD 변화가 바람직하지 않게 커진다. 일반적인 레지스트막의 경우, 감도의 변화가 큰 시간 주기는, 예컨대 1개월 내지 3개월 정도이다.
(구조 14)
본 발명에 따른 마스크의 제조방법은,
구조 5에 따른 방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크의 마스크 패턴 박막을 패 터닝함으로써 마스크 블랭크 유리기판상에 마스크 패턴을 형성하는 단계를 포함한다.
구조 14에 따르면, 마커를 통해 마스크 블랭크 정보를 얻어서 마스크 블랭크로부터 마스크로의 제조과정 전체에 걸쳐서 원-바이-원 관리를 신뢰성있게 달성할 수 있다.
(구조 15)
본 발명에 따른 마스크 블랭크 유리기판은,
상기 마스크 블랭크 유리기판의 표면상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면상의 피트(pit)를 포함하며,
상기 피트는 레이저광의 조사에 의해 형성되며, 상기 마스크 블랭크 유리기판 및/또는 상기 마스크 블랭크 유리기판상의 마스크 패턴 박막이 형성된 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커로서 사용된다.
(구조 16)
구조 15에 따른 마스크 블랭크 유리기판에 있어서,
상기 피트는 상기 마스크 블랭크 유리기판의 상기 마스크 패턴 박막이 형성되는, 주요표면에 수직인 단면상의, 패턴 형성 영역에 존재하는 결함을 적어도 확인하는, 검사광(inspection light)의 광학경로 외측의 영역에 형성된다.
상기 피트가 상기 마스크 블랭크 유리기판의 단면상의 패턴 형성 영역에 존재하는 결함을 적어도 확인하는 검사광의 광학경로 외측의 영역에 형성되기 때문에, 상기 피트는 검사광을 차단하지 않는다. 따라서, 불완전한 품질에 대해 보증된 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 얻을 수 있다.
(구조 17)
본 발명에 따른 마스크 블랭크 유리기판은,
주요표면의 양측으로부터 1.2mm의 영역을 제외한, 마스크 블랭크 유리기판의, 전사 패턴이 되는 마스크 패턴 박막이 형성되는, 주요표면에 수직인 단면 상에 마스크 블랭크 유리기판의 4개의 코너 중 대응되는 하나로부터 10mm 이하의 영역의 피트를 포함하며,
상기 피트는 레이저광의 조사에 의해 형성되며, 상기 마스크 블랭크 유리기판 및/또는 상기 마스크 블랭크 유리기판상의 마스크 패턴 박막이 형성된 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커로서 사용된다.
이는 구조 1 또는 구조 15와 동일한 효과를 얻을 수 있다. 또한, 스핀코팅법에 의해 마스크 패턴 박막상에 레지스트막이 형성되는 경우, 유리기판의 단면상에 형성된 피트에 의해 야기되는 레지스트막의 평면내 두께 균일성의 저하를 방지할 수 있다.
(구조 18)
구조 15 또는 구조 17에 따른 마스크 블랭크 유리기판에 있어서,
상기 피트의 개구 폭(L1)은 150㎛ 이상이고, 상기 피트의 깊이(D)는 10㎛ 이상이며, 상기 개구 폭과 깊이의 비율(L1/D)은 10 이상이다.
이는 충분한 판독 정확도를 확보할 수 있도록 하며, 더욱이 상기 피트의 내부를 사이드 브러시(side brush) 등에 의해 쉽게 청소할 수 있기 때문에 먼지의 발 생을 억제할 수 있도록 한다.
상기 피트의 표면거칠기는 상기 유리기판의 경면의 표면거칠기와 다른 것이 바람직하며, 예컨대, Ra(산술평균 표면거칠기)로서 0.1 내지 5nm의 범위로 설정되는 것이 바람직하며, 0.1 내지 2nm로 설정되는 것이 보다 바람직하다. 산술평균 표면거칠기(Ra)는 일본공업규격(JIS) B0601을 따른다. 상기 피트의 표면거칠기는 구체적으로 피트의 바닥부의 표면거칠기이다.
피트의 개구부를 둘러싸도록 피트의 개구부의 둘레에 환형 볼록부가 형성될 수도 있다. 이러한 구조에 의하면, 마커의 판독 정확도를 향상시킬 수 있다. 따라서, 예컨대, 피트의 폭이 좁은 경우에도, 마커를 충분히 정밀하게 판독할 수 있다. 피트의 폭이 좁을 경우, 마커를 삭제하는데 요구되는 연마량이 감소된다. 따라서, 이러한 구조에 의하면, 예컨대, 마스크 블랭크 유리기판을 재사용할 때, 마커를 쉽게 변경할 수 있다. 상기 환형 볼록부는 완만하게 상승하도록 형성되는 것이 바람직하다. 상기 볼록부의 높이는 0.05 내지 5㎛로 설정되는 것이 바람직하며, 0.05 내지 1㎛로 설정되는 것이 보다 바람직하다.
(구조 19)
구조 15 또는 구조 17에 따른 마스크 블랭크 유리기판에 있어서,
상기 마커는 상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보와 상호관련된다.
(구조 20)
본 발명에 따른 마스크 블랭크는,
구조 15 또는 구조 17에 따른 마스크 블랭크 유리기판, 및
상기 마스크 블랭크 유리기판상에 형성되는, 마스크 패턴으로 형성될 마스크 패턴 박막을 포함한다.
(구조 21)
구조 20에 따른 마스크 블랭크에 있어서,
상기 마커는 상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보, 상기 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보, 및 상기 마스크 패턴 박막상에 형성된 레지스트막에 관한 레지스트막 정보 중 적어도 하나를 포함하는 정보와 상호관련된다.
(구조 22)
본 발명에 따른 마스크는,
구조 15에 따른 마스크 블랭크 유리기판; 및
상기 마스크 블랭크 유리기판상에 형성된 마스크 패턴을 포함한다.
본 발명에 따르면, 마스크 블랭크 유리기판상에 먼지 발생 가능성이 매우 적은 마커를 형성할 수 있다. 또한, 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 유효하게 재사용할 수 있다. 게다가, 불완전한 품질에 대해 보증되는 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 얻을 수 있다. 아울러, 스핀코팅법에 의해 마스크 패턴용 박막상에 레지스트막을 형성할 경우, 단면상에 형성된 마커에 의해 야기되는 레지스트막의 평면내 두께 균일성의 저하를 방지하는 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 얻을 수 있다.
(실시형태)
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시형태에 대하여 도면을 참조하면서 설명할 것이다.
도 1A 및 도 1B는 본 발명의 실시형태에 따른 마스크 블랭크(10)의 구조의 일례를 나타낸다. 도 1A는 마스크 블랭크(10)의 측면도이다. 이 예에 있어서, 마스크 블랭크(10)는 예컨대, ArF 엑시머레이저(파장: 193nm) 또는 F2 엑시머레이저(파장: 157nm) 등의 200nm 이하의 파장을 가진 노광광원용 마스크 블랭크이며, 유리기판(12), 마스크 패턴용 박막(14), 및 레지스트막(16)을 포함한다.
유리기판(12)은 마스크 블랭크용 유리기판이며, 합성석영유리 등의 기판재료로 이루어진다. 유리기판(12)은 거울면(예컨대, 산술평균 표면거칠기(Ra)가 1nm 이하)이 되는 소정 표면거칠기로 각기 연마되는 주요표면 및 단면(측면 및 모따기면)을 가진다. 또한, 이 예에서, 유리기판(12)은 단면의 일부에, 유리기판(12)의 식별 또는 관리를 위해 사용되는 마커(18)를 구비한다. 마커(18)를 사용함으로써, 유리기판(12) 또는 마스크 블랭크(10)는 하나씩 차례로(one-by-one) 관리된다.
마스크 패턴 박막(14)은 차광막 또는 위상시프트막 등의 박막이다. 마스크 패턴 박막(14)은 마스크의 제조공정에서 마스크 패턴으로 패터닝된다. 레지스트막(16)은 마스크 패턴 박막(14)상에 형성된다.
도 1B는 마커(18)의 구조의 일례를 나타낸다. 이 예에서, 마커(18)는 2차원 코드이며, 상기 2차원 코드의 각 포인트를 형성하는 복수의 중공(hollow) 또는 피트(pit)(20)를 가진다. 각 피트(20)는 레이저광의 조사에 의해 유리기판(12)의 단 면의 일부를 융해 또는 승화함으로써 형성된다.
이 예에 있어서, 마커(18)는 유리기판(12)에 대한 독특한 식별정보를 나타낸다. 또한, 이 식별정보는 예컨대, 마스크 블랭크(10)의 제조공정에서 얻어지는 표면 형상, 평탄도, 결함 등에 관한 정보와 상호관련된다.
도 2는 피트(20)의 상세한 형상의 일례를 나타낸다. 이 예에 있어서, 각 피트(20)는 이산화탄소(CO2) 가스 레이저를 사용하는 레이저 마커에 의해 형성된 홀(hole)이다. 피트(20)의 개구부는 일반적으로 원형상을 가진다. 또한, 피트(20)의 개구부의 둘레에는 유리기판(12)의 단면으로부터 완만하게 상승하도록 환형 볼록부가 형성되며, 이것에 의해 피트(20)의 개구부를 둘러싼다. 이러한 방식으로 개구부를 형성함으로써, 마커(18)의 판독 정확도를 향상시킬 수 있다(도 1A 및 도 1B 참조). 피트(20)의 개구부는 둥근 코너를 가진 사각형 또는 다각형 등의 다각형 형상을 가져도 된다.
여기서, 피트(20)의 개구 폭(L1)은, 예컨대 100 내지 500㎛이며, 약 150 내지 300㎛인 것이 보다 바람직하다. 피트(20)의 바닥 폭(L2)은, 예컨대 10 내지 450㎛이며, 약 30 내지 250㎛인 것이 보다 바람직하다. 피트(20)의 경사부의 폭(L3)은 예컨대 5 내지 75㎛이며, 약 15 내지 60㎛인 것이 보다 바람직하다. 피트(20)의 깊이(D)는, 예컨대 3 내지 20㎛이며, 약 5 내지 15㎛인 것이 보다 바람직하다. 피트(20)의 개구부 상승 높이는, 예컨대 0.05 내지 5㎛이며, 약 0.05 내지 1㎛인 것이 보다 바람직하다. 또한, 피트(20)의 표면거칠기는, 예컨대 Ra(산술평균 표면거칠 기)로 0.1 내지 5nm이며, 0.1 내지 2nm인 것이 보다 바람직하다.
충분한 판독 정확도를 확보하기 위해, 또한 사이드 브러시 등을 사용하여 피트(20)의 내부를 용이하게 청소함으로써 먼지 발생을 억제하기 위해서는, 피트(20)의 개구 폭(L1)은 150㎛ 이상이고, 피트(20)의 깊이(D)는 10㎛ 이상이고, 피트(20)의 개구 폭과 깊이의 비(L1/D)는 10 이상인 것이 바람직하다.
유리기판(12)은, 마스크 패턴이 형성되는 영역에서 적어도 볼록 결함(파티클 등), 오목 결함(핀홀, 크랙 등), 맥리(脈理; striae), 기포, 불순물의 혼입에 의한 투과율의 이상(abnormality) 등의 존재를 확인하기 위한 결함 검사가 실시된다. 예컨대, 일본특허 제3422935호에 기재된 바와 같은 검사 방법은 유리기판(12)의 표면상의 볼록 또는 오목 결함의 존재 또는 유리기판(12) 내부의 맥리 또는 기포의 존재를 확인하기 위해 수행된다. 이 검사 방법에 있어서, 유리기판(12)의 양쪽 주요표면 및 상기 주요표면에 수직인 적어도 한쌍의 측면에 대하여, 전체 반사 조건을 만족하면서 유리기판(12)의 내부에 검사광이 전파되는 조건하에서, 주요표면과 측면 사이에 위치하는 모따기면(chamfered surface)으로부터 검사광(레이저광)이 도입되어, 볼록 또는 오목 결함에 기인한 전체 반사 조건으로부터의 벗어남에 의한 검사광의 누출에 의해 야기되는 누출광을 제거함으로써 상술한 결함의 존재를 확인한다. 한편, 유리기판(12)에서 불순물의 혼입에 의한 투과율의 이상의 존재를 확인하기 위해, 유리기판(12)의 측면으로부터 노광파장을 가지는 광이 도입되며, 상기 노광파장을 가진 도입된 광에 의해 유리기판(12)의 내부결함으로부터 방출되는, 상기 노광파장 보다 장파장인 광을 수신함으로써, 수신된 광의 품질에 기초하여 상기 내부결함이 검사된다. 상술한 검사방법 중 어느 것이든, 검사광이 유리기판(12)의 측면에 도달한다. 따라서, 검사광이 도달하는 유리기판(12)의 측면상에 마커로서의 피트가 형성되면, 결함검사를 수행할 수 없으며, 또는 결함검사를 수행할 수 있다 하더라도, 충분한 검사 정확도를 얻을 수 없다. 결과적으로, 마커로서의 피트는, 마스크 패턴 박막이 형성되는 주요표면에 수직인 단면인 측면상의, 패턴 형성 영역에 존재하는 결함을 적어도 확인하는, 검사광의 광학경로 외측의 영역의 위치에 형성되는 것이 바람직하다. 구체적으로, 크기 152.4mm×152.4mm×6.35mm를 가진 유리기판(12)에 있어서, 유리기판(12)의 측면상의 132mm의 중심부 외측의 위치에, 즉 유리기판(12)의 4개의 코너 중 대응되는 하나로부터 10mm 이하의 영역에 마커로서 피트를 형성하는 것이 바람직하다.
유리기판(12)의 주요표면의 양측으로부터 1.2mm의 영역을 제외한 유리기판(12)의 4개의 코너 중 대응되는 하나로부터 10mm 이하의 영역에 마커로서의 피트를 형성하는 것이 보다 바람직하다. 상술한 구체적인 위치에 마커로서의 피트를 형성함으로써, 스핀코팅법에 의해 마스크 패턴 박막상에 레지스트막을 형성할 경우, 마스크 패턴 박막상의 레지스트막의 평면내 두께 균일성의 저하를 방지할 수 있다.
도 3은 마스크 블랭크(10)의 제조방법의 일례를 나타내는 플로우차트이다. 후술하는 것을 제외하고는, 제조방법의 각각의 단계는 공지된 마스크 블랭크 제조방법의 단계와 동일하거나 유사하다. 이 예에서는, 먼저, 모서리가 깎인 단면을 가진 유리기판(12)을 양면 래핑머신(both-side lapping machine)을 사용하여 래핑한다(래핑단계(S102)).
그후, 유리기판(12)의 단면 및 주요표면을 양면 연마기계를 사용하여 연마하고(연마단계(S104)), 상기 연마후 세정을 수행한다(세정단계(S106)). 연마단계(S104)에 있어서, 유리기판(12)의 단면 및 주요표면에, 예컨대 거친 연마(rough polishing), 정밀 연마, 및 초정밀 연마가 수행되어 각기 예컨대 RMS(제곱평균)로 표면거칠기 0.2nm이하를 가진 거울면으로 마무리가공한다.
그리고 나서, 유리기판(12)의 표면 형상, 평탄도 및 결함에 관한 정보를 얻기 위해 기판 검사가 수행된다(기판 검사 단계(S108)). 기판 검사 단계(S108)에서는, 유리기판(12)의 표면 형상에 대하여, 예컨대 주요표면의 두께, 평탄도, 굽음 형상(전체 주요표면의 요철상태) 등을 확인한다. 또한, 유리기판(12)의 결함에 대하여, 기판 검사 단계(S108)에서는, 예컨대, 결함의 위치, 종류, 크기 등을 확인한다. 이 경우, 결함의 크기는, 0.2㎛ 이하, 0.2 내지 0.5㎛, 0.5 내지 1㎛, 및 1㎛ 이상으로 구분된다. 이러한 방식으로 결함의 크기를 구분함으로써, 유리기판(12)의 등급을 적절히 분류할 수 있다.
그후, 예컨대, 이산화탄소 가스 레이저의 레이저 마커를 사용하여, 유리기판(12)의 단면의 일부를 레이저광의 조사에 의해 융해 또는 승화함으로써 마커(18)의 각각의 피트(20)를 형성한다(마킹 단계(S110)). 마커(18)는 유리기판(12)에 대한 독특한 식별정보를 나타낸다. 또한, 이 식별정보는 기판 검사 단계(S108)의 검사 결과와 상호관련된다. 그리하여, 마커(18)를 사용하여, 두께, 평탄도, 굽음 형상 등의 유리기판(12)의 형상, 및 결함의 위치, 종류, 크기 등을 식별할 수 있다. 따라서, 이 예에 따르면, 마스크 패턴 박막(14) 등을 유효하게 형성할 수 있다. 또 한, 예컨대, 마스크의 제조시, 결함을 회피하도록 마스크 패턴을 설계할 수 있다.
마킹 단계(S110)에 있어서, 마커(18)에서의 각 피트(20)에 대해 레이저광을 복수 회 조사할 수도 있다. 이는 피트(20)의 형상의 변화를 감소시켜, 마커(18)의 판독 정확도를 향상시킬 수 있다.
그후, 마커(18)를 판독하고, 판독된 마커(18)에 기초하여, 유리기판(12)상에 형성될 마스크 패턴 박막(14)을 결정한다(박막 결정 단계(S112)). 이 예에 있어서, 박막 결정 단계(S112)에서는 마커(18)와 상호관련되는 기판 검사 단계(S108)의 검사 결과로부터 유리기판(12)의 표면 형상을 식별한다. 그리고 나서, 예컨대, 주요표면의 굽음 형상 등의 식별된 형상에 따라서, 유리기판(12)을 사용하기에 적당한 마스크 블랭크의 타입이 선택된다. 이것에 기초하여, 박막 결정 단계(S112)에서는, 형성될 마스크 패턴 박막(14)이 되는 이러한 마스크 블랭크에 필요한 차광막 및 위상시프트막 등을 결정한다.
이 예에 따르면, 기판 검사 단계(S108)의 검사 결과에 기초하여 마스크 패턴 박막(14)의 타입을 결정할 수 있다. 따라서, 유리기판(12)을 낭비없이 유효하게 사용할 수 있다.
이 예에 있어서, 박막 결정 단계(S112)에서는 또한 선택된 마스크 블랭크(10)에 사용될 레지스트막(16)을 암시하는 정보를 마커(18)의 식별정보와 상호관련시킨다. 그리하여, 마커(18)를 사용함으로써, 마스크 패턴 박막(14)상에 코팅될 레지스트막(16)을 또한 식별할 수 있다.
박막 결정 단계(S112)에 이어서, 결정된 마스크 패턴 박막(14)을 유리기판 (12)의 주요표면상에, 요구되는 광학특성을 달성할 수 있는 두께로 형성하고(막 형성 단계(S114)), 그후, 형성된 마스크 패턴 박막(14)을 검사한다(박막 검사 단계(S116)). 이 예에 있어서, 박막 검사 단계(S116)는 통과/실패 판단 단계를 포함하며, 상기 형성된 마스크 패턴 박막(14)이 마스크 블랭크의 사양을 만족하는지의 여부를 판단한다. 박막 검사 단계(S116)의 검사를 통과한 경우(S116: Pass), 마스크 패턴 박막(14)상에 레지스트막(16)을 코팅(형성)하고(레지스트막 형성 단계(S118)), 그후, 코팅된 레지스트막(16)을 검사한다(레지스트막 검사 단계(S120)). 레지스트막 검사 단계(S120)는 통과/실패 판단 단계를 포함하며, 상기 코팅된 레지스트막(16)이 마스크 블랭크의 사양을 만족하는지의 여부를 판단한다. 레지스트막 검사 단계(S120)의 검사를 통과하면(S120: Pass), 마스크 블랭크(10)가 완성된다.
박막 검사 단계(S116) 및 레지스트막 검사 단계(S120)는 각각 패턴 전사에 영향을 미치는 사양, 예컨대, 0.2㎛ 이상의 결함의 수가 몇개뿐인지에 대한 검사를 수행한다. 박막 검사 단계(S116)는 또한, 예컨대 소정의 광학특성(투과율 등)에 대해 검사한다.
박막 검사 단계(S116)를 통과한 경우, 마스크 패턴 박막(14)을 유리기판(12)으로부터 박리한다(박막 박리 단계(S206)). 그후, 유리기판(12)의 마커(18)를 판독하고, 상기 판독된 마커(18)와 상호관련되는 기판 검사 단계(S108)의 검사 결과로부터 유리기판(12)의 두께를 식별한다(두께 식별 단계(S208)). 유리기판(12)이 재연마에 의해 재사용이능한 두께를 가질 경우(S210: Yes), 유리기판(12)을 두께 식별 단계(S208)에서 식별된 두께에 따라 결정되는 연마량만큼 재연마한다(재연마 단 계(S212)). 예컨대, 식별된 두께에 기초하여, 재연마 단계(S212)에서는 유리기판(12)을 두께에 따라 구분되는 그룹 중 하나로 분류하여, 그 그룹에 대해 미리설정되어 있는 연마량만큼 상기 유리기판(12)을 연마한다.
다음에, 재연마 후, 세정 단계(S106)으로 돌아가 그후 단계를 반복한다. 이 경우, 마킹 단계(S110)에서는 재연마에 의해 재사용된 유리기판(12)을 식별하기 위한 마커(18)를 형성한다. 또한, 막 형성 단계(S114)에서는 재연마 단계(S212)에서 연마된 유리기판(12)의 주요표면상에 새로운 마스크 패턴 박막(14)을 형성한다. 이 예에 따르면, 고가의 유리기판(12)을 낭비없이 유효하게 사용할 수 있다.
단계(S210)에서는, 품질을 만족하기 위해 최소로 요구되는 가공량만큼 유리기판(12)을 재연마한 후 마스크 블랭크 유리기판에 대해 결정된 최소 두께가 남아있는지의 여부에 기초하여, 유리기판(12)이 재사용 가능한지의 여부를 판단한다. 충분하지 않은 두께로 인해 재사용 불가능으로 판단될 경우(S210: No), 유리기판(12)은 폐기한다.
한편, 레지스트막 검사 단계(S210)에서 실패된 경우(S210: Fail), 유리기판(12)으로부터 레지스트막(16)을 박리하고(레지스트막 박리 단계(S202)), 그후, 유리기판(12)의 재사용을 위해 재연마가 필요한지의 여부를 판단한다(S204). 단계(S204)에서는 예컨대, 레지스트막(16)을 소정 횟수 재코팅함으로써도 레지스트막 검사를 통과할 수 없을 때 재연마가 필요하다고 판단한다. 단계(S204)에서는 기판 검사 단계(S108)의 검사 결과에 기초하여, 재연마가 필요한지의 여부를 판단할 수도 있다.
재연마가 불필요하다고 판단될 경우(S204: No), 마커(18)를 판독하고, 상기 판독된 마커(18)에 기초하여, 마스크 패턴 박막(14)상에 코팅될 레지스트막(16)을 선택한다(레지스트 선택 단계(S214)). 그후, 상기 선택된 레지스트막(16)을 마스크 패턴 박막(14)상에 코팅하고(레지스트 재형성 단계(S216)), 레지스트막 검사 단계(S120)를 재차 진행한다. 이 예에 따르면, 레지스트막(16)의 코팅/형성이 성공적이지 않은 경우에도, 그 재코팅/재형성을 적절히 수행할 수 있다. 또한, 재코팅/재형성될 레지스트막(16)을 신뢰성있게 선택할 수 있기 때문에, 상기 단계들의 관리를 단순화할 수 있다.
한편, 재연마가 필요하다고 판단될 경우(S204: Yes), 박막 박리 단계(S206) 및 그후 단계를 반복한다. 이는 단지 레지스트막(16)을 재코팅/재형성함으로써 재사용 불가능한 유리기판(12)을 재사용할 수 있도록 한다.
비록 상술한 설명에서 생략되었지만, 기판 검사 단계(S108)에서는, 예컨대, 또한 유리기판(12)이 요구되는 품질을 만족하는지의 여부를 판단한다. 이 경우, 요구되는 품질을 만족하지 않는 것으로 판단될 경우, 예컨대, 마커(18)가 형성되는 마킹 단계(S110)로 진행하고, 그후 두께 식별 단계(S208) 및 유리기판(12)을 재연마하기 위한 그 다음 단계를 진행한다. 이는 유리기판(12)을 낭비없이 보다 유효하게 사용할 수 있도록 한다. 예컨대, ArF 엑시머레이저 노광용 마스크 블랭크를 위한 유리기판의 경우, 유리기판(12)에 요구되는 품질이란, 예컨대, 표면거칠기가 RMS로 0.2nm 이하이고, 평탄도가 0.5㎛ 이하이며, 또는 0.2㎛ 이상의 결함이 없는 등의 패턴 전사에 영향을 미치는 유리기판에 관련된 사양을 나타낸다.
도 4는 제조된 마스크 블랭크(4)를 사용하여 새로운 마스크 블랭크(10)를 제조하기 위한 제조방법의 일례를 나타내는 플로우차트이다. 이 예에 있어서, 마스크 블랭크(10)는 레지스트막(16)으로서 형성된 화학증폭형 레지스트막을 가진다.
이 예에 있어서, 먼저, 예컨대, 마스크 제작자로부터의 회수(recovery)에 의해 제조된 마스크 블랭크(10)를 준비한다(준비 단계(S302)). 예컨대, 준비 단계(S302)에서는 제조된 마스크 블랭크(10)로서, 레지스트막(16)의 코팅으로부터 소정시간(예컨대, 1개월 이상) 경과한 후의 마스크 블랭크(10)를 준비한다. 준비 단계(S302)에서는 각각 상이한 레지스트막(16)이 형성된 복수의 타입의 마스크 블랭크(10)를 준비할 수도 있다.
그후, 마스크 블랭크(10)의 레지스트막(16)을 박리한다(레지스트막 박리 단계(S304)). 레지스트막 박리 단계(S304)에 있어서, 복수의 타입의 마스크 블랭크(10)의 레지스트막(16)을 동시에 박리할 수도 있다.
다음으로, 마커(18)를 판독하고, 상기 판독된 마커(18)에 기초하여, 레지스트막을 박리하기 전에 마스크 블랭크(10)에 형성되었던 레지스트막(16)을 선택한다(레지스트 선택 단계(S306)). 그후, 선택된 레지스트막(16)을 마스크 패턴 박막(14)상에 코팅(형성)한다(레지스트 재형성 단계(S308)).
따라서, 제조된 마스크 블랭크(10)의 레지스트막(16)이 열화되더라도, 마스크 블랭크(10)를 유효하게 재사용할 수 있다. 또한, 마커(18)의 사용에 의해 상기 단계들의 관리를 단순화할 수 있다.
(실시예 1)
실시예 1에 따라 ArF 엑시머레이저 노광용의 100개의 마스크 블랭크 유리기판을 제조하였다. 각 유리기판의 단면 상에, 이산화탄소(CO2) 가스 레이저를 사용하는 레이저 마커에 의해 도 1B에 도시된 것과 같은 마커를 형성하였다. 상기 레이저 마커의 출력을 20mW/shot로 설정하고, 각 피트를 한번의 샤트(shot)에 의해 형성하였다. 전체 마커의 크기를 3.25mm×3.5mm로 설정하였다. 마커의 형성을 제외한 단계들은, ArF 엑시머레이저 노광용의 공지된 마스크 블랭크 유리기판을 제조할 때의 단계와 동일하였다. 기판 검사 단계에서 이들 유리기판을 검사하였더니, 이들 모두 ArF 엑시머레이저 노광용 마스크 블랭크 유리기판에 요구되는 품질을 만족하였다.
(비교예)
비교예는 이산화탄소(CO2) 가스 레이저 대신에 YAG레이저를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하였다. 비교예에 따라 ArF 엑시머레이저 노광용의 100개의 마스크 블랭크 유리기판을 제조하였다. 기판 검사 단계에서 이들 유리기판을 검사하였더니, 이들 중 27%(즉, 27개의 유리기판)만이 ArF 엑시머레이저 노광용 마스크 블랭크 유리기판에 요구되는 품질을 만족하였다.
(실시예 2)
실시예 1의 조건과 동일한 조건하에서 마스크 블랭크 유리기판 각각의 단면인 측면상에 마커를 형성하였다. 각 유리기판은 크기 152.4mm×152.4mm×6.35mm를 가지고 있었다. 도면에 나타낸 바와 같이, 마커는 유리 노치 마크(glass notch mark)가 형성된 유리기판의 코너로부터 7mm 떨어져 있고 유리기판의 주요표면으로 부터 3.18mm 떨어진 곳에 그 중심이 위치되도록 크기 3mm×3mm로 형성하였다. 마커를 형성하는 각 피트의 개구 폭(L1)은 170㎛, 그 깊이(D)는 17㎛, 따라서 개구 폭과 깊이의 비(L1/D)은 10이었다. 마커로서 피트를 형성한 후, 세정 브러시를 사용하여 유리기판의 단면을 세정하였고, 그후 유리기판에 결함 검사를 수행하였다. 그 결과, 이들 모두가 ArF 엑시머레이저 노광용의 마스크 블랭크 유리기판에 요구되는 품질을 만족하였다. 또한, 각 유리기판 상에 마스크 패턴 박막을 형성한 후, 스핀코팅법에 의해 마스크 패턴 박막상에 레지스트막(평균두께: 3000Å)을 형성하였다. 그리하여, ArF 엑시머레이저 노광용 마스크 블랭크를 얻었다. 각 마스크 블랭크의 레지스트막의 평면내 두께 균일성을 측정하였다. 레지스트막의 평면내 두께 균일성은 다음의 방식으로 유도하였다. 스펙트럼 반사형 두께측정기(spectral reflection type thickness gauge)(AFT6100M; 나노메트릭 재팬사 제조)를 사용하여, 유리기판의 중심에서 132mm×132mm의 전체 보증 영역(마스크 패턴 형성 영역)에 걸쳐서 균일하게 배치된 (11×11=121 포인트) 에서 레지스트막의 두께를 측정하여, 평면내 두께 분포(각각의 측정 포인트에서의 두께 데이터)를 유도하였다. 유도된 평면내 두께 분포 데이터로부터, 평면내 두께 균일성은 "(최대 두께값)-(최소 두께값)=(평면내 두께 균일성)"으로서 유도되었다. 그 결과, 각 레지스트막의 평면내 두께 균일성은 22Å으로서 작았으며, 따라서 매우 우수하였다. 또한, 각 마스크 블랭크를 사용하여 마스크를 제조하였으며, 얻어진 마스크의 CD 정확도는 ArF 엑시머레이저 노광용 마스크에 요구되는 품질을 만족하였다.
이상, 본 발명에 대하여 바람직한 실시형태에 기초하여 설명하였지만, 본 발 명의 기술적범위가 여기에 한정되는 것은 아니다. 당업자에 의해 상술한 실시형태에 각종 수정 또는 개선방안이 추가될 수 있다는 것을 쉽게 이해할 수 있을 것이다. 열거되는 청구범위로부터 이들 수정 또는 개선방안이 추가된 형태도 본 발명의 기술적범위에 포함될 수 있다는 것은 명백하다.
본 발명은 예컨대 마스크 블랭크 유리기판 및 마스크 블랭크에 적절히 적용될 수 있다.
본 발명에 따르면, 마스크 블랭크 유리기판상에 먼지 발생 가능성이 매우 적은 마커를 형성할 수 있다. 또한, 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 유효하게 재사용할 수 있다. 게다가, 불완전한 품질에 대해 보증되는 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 얻을 수 있다. 아울러, 스핀코팅법에 의해 마스크 패턴용 박막상에 레지스트막을 형성할 경우, 단면상에 형성된 마커에 의해 야기되는 레지스트막의 평면내 두께 균일성의 저하를 방지하는 마스크 블랭크 유리기판 또는 마스크 블랭크를 얻을 수 있다.
Claims (22)
- 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법으로서,마스크 블랭크 유리기판의 표면 상의, 전사(transfer)에 영향을 미치지 않는 영역의 경면(mirror-like surface)으로 레이저광을 조사함으로써, 상기 마스크 블랭크 유리기판을 식별 또는 관리하기 위한 마커(marker)로서 사용되는 피트(pit)를 형성하는 마킹 단계를 포함하는 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보를 작성하는 단계를 더 포함하며,상기 기판 정보는 상기 마커와 상호관련되는(correlated) 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법.
- 제 2 항에 있어서,상기 기판 정보는 상기 마스크 블랭크 유리기판의 물리적 특성, 화학적 특성, 광학 특성, 표면 형태, 표면 형상, 재료, 및 결함 중 적어도 하나를 포함하는 정보인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법.
- 마스크 블랭크의 제조방법으로서,제 1 항에 기재된 마스크 블랭크 유리기판의 제조방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크 유리기판의 주요표면 상에 마스크 패턴 박막을 형성하는 막 형성 단계를 포함하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 마스크 블랭크의 제조방법으로서,유리기판의 주요표면상에 마스크 패턴 박막을 형성하는 막 형성 단계; 및상기 유리기판의 표면 상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면으로 레이저광을 조사함으로써, 상기 유리기판 및/또는 상기 유리기판상에 마스크 패턴 박막이 형성된 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커로서 사용되는 피트를 형성하는 마킹 단계를 포함하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 막 형성 단계 이전에 상기 유리기판에 관한 기판 정보를 작성하는 단계로서, 상기 마커는 상기 기판 정보와 상호관련되는 단계; 및상기 마커로부터 판독된 기판 정보에 기초하여, 형성될 마스크 패턴 박막을 결정하는 박막 결정 단계를 더 포함하며,상기 막 형성 단계는 상기 박막 결정 단계에서 결정된 마스크 패턴 박막을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 막 형성 단계 이후에 상기 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보를 작성하는 박막 정보 작성 단계를 더 포함하며,상기 마커는 상기 박막 정보 작성 단계에서 얻어지는 박막 정보와 상호관련되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 박막 정보는 상기 마스크 패턴 박막의 물리적 특성, 화학적 특성, 전기적 특성, 광학 특성, 표면 형태, 재료, 결함, 및 막 형성 조건 중 적어도 하나를 포함하는 정보인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 5 항에 있어서,상기 막 형성 단계 후에 상기 마스크 패턴 박막상에 레지스트막을 형성하는 레지스트막 형성 단계; 및상기 레지스트막에 관한 레지스트막 정보를 작성하는 레지스트막 정보 작성 단계를 더 포함하며,상기 마커는 상기 레지스트막 정보 작성 단계에서 얻어진 레지스트 막 정보와 상호관련되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 9 항에 있어서,상기 레지스트막 정보는 상기 레지스트막의 물리적 특성, 화학적 특성, 표면 형태, 재료, 결함 및 막 형성 조건 중 적어도 하나를 포함하는 정보인 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 마스크 블랭크 유리기판상에 마스크 패턴 박막을 가지며 상기 마스크 패턴 박막상에 레지스트막을 가지는 제조된 마스크 블랭크를 사용하여 새로운 마스크 블랭크를 얻기 위한 마스크 블랭크의 제조방법으로서,상기 마스크 블랭크 유리기판에는, 상기 마스크 블랭크 유리기판의 표면 상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면에, 상기 마스크 블랭크 유리기판 및/또는 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커가 형성되며, 상기 마커는 레이저광의 조사에 의해 형성되고,상기 마커는, 상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보, 상기 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보, 및 상기 레지스트막에 관한 레지스트막 정보 중 적어도 하나를 포함하는 정보와 상호관련되며,상기 방법은,상기 제조된 마스크 블랭크의 레지스트막 또는 상기 제조된 마스크 블랭크의 레지스트막과 마스크 패턴 박막을 박리하는 막 박리 단계(film stripping step);상기 박리된 막 이외의 레지스트막 또는 상기 박리된 막 이외의 마스크 패턴 박막과 레지스트막을 형성하는 막 재형성 단계; 및상기 막 재형성 단계에서 형성된 레지스트막에 관한 레지스트막 정보 및 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보 중 적어도 하나를 얻는 단계를 포함하며,상기 레지스트막 정보 및 상기 박막 정보 중 적어도 하나는 상기 마커와 상호관련되는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 마커는 상기 마스크 블랭크 유리기판의 표면상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면으로 레이저광을 조사함으로써 형성된 피트 형상(pit shape)을 가지는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 제 11 항에 있어서,상기 레지스트막은 화학증폭형 레지스트막(chemically amplified resist film)이며,상기 레지스트막의 코팅으로부터 소정 시간 경과한 후의 마스크 블랭크를 상기 제조된 마스크 블랭크로서 준비하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크의 제조방법.
- 마스크의 제조방법으로서,제 5 항에 기재된 마스크 블랭크의 제조방법에 의해 얻어진 마스크 블랭크의 마스크 패턴 박막을 패터닝함으로써 마스크 블랭크 유리기판상에 마스크 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 마스크의 제조방법.
- 마스크 블랭크 유리기판으로서,상기 마스크 블랭크 유리기판의 표면상의, 전사에 영향을 미치지 않는 영역의 경면에 피트(pit)를 포함하며,상기 피트는 레이저광의 조사에 의해 형성되며, 상기 마스크 블랭크 유리기판 및/또는 상기 마스크 블랭크 유리기판상에 마스크 패턴 박막이 형성된 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커로서 사용되는 마스크 블랭크 유리기판.
- 제 15 항에 있어서,상기 피트는 상기 마스크 패턴 박막이 형성되는, 상기 마스크 블랭크 유리기판의 주요표면에 수직인 단면(端面; end surface)상의, 패턴 형성 영역에 존재하는 적어도 결함을 확인하는, 검사광(inspection light)의 광학경로 외측의 영역에 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 유리기판.
- 마스크 블랭크 유리기판으로서,주요표면의 양측으로부터 1.2mm 영역을 제외한, 전사 패턴이 되는 마스크 패턴 박막이 형성될, 마스크 블랭크 유리기판의 주요표면에 수직인 단면 상에 마스크 블랭크 유리기판의 4개의 코너 중 대응되는 하나로부터 10mm 이하의 영역에 피트를 포함하고,상기 피트는 레이저광의 조사에 의해 형성되며, 상기 마스크 블랭크 유리기판 및/또는 상기 마스크 블랭크 유리기판상에 마스크 패턴 박막이 형성된 마스크 블랭크를 식별 또는 관리하기 위한 마커로서 사용되는 마스크 블랭크 유리기판.
- 제 15 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 피트의 개구 폭(L1)은 150㎛ 이상이고,상기 피트의 깊이(D)는 10㎛ 이상이며,상기 개구 폭과 깊이의 비율(L1/D)은 10 이상인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 유리기판.
- 제 15 항 또는 제 17 항에 있어서,상기 마커는 상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보와 상호관련되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크 유리기판.
- 마스크 블랭크로서,제 15 항 또는 제 17 항에 기재된 마스크 블랭크 유리기판; 및상기 마스크 블랭크 유리기판상에 형성되며, 마스크 패턴으로 형성될 마스크 패턴 박막을 포함하는 마스크 블랭크.
- 제 20 항에 있어서,상기 마커는 상기 마스크 블랭크 유리기판에 관한 기판 정보, 상기 마스크 패턴 박막에 관한 박막 정보, 및 상기 마스크 패턴 박막상에 형성된 레지스트막에 관한 레지스트막 정보 중 적어도 하나를 포함하는 정보와 상호관련되는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크.
- 마스크로서,제 15 항에 기재된 마스크 블랭크 유리기판; 및상기 마스크 블랭크 유리기판상에 형성된 마스크 패턴을 포함하는 마스크.
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| JP2002372775A (ja) | 位相シフトマスク用ブランクスの製造方法、位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク用ブランクス |
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