JPS5915938A - マ−キングを施されたフオトマスクブランクス用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明はフォトマスクフランクスの１重類を識別する
ため、フォ１−マスクフランクス川基（ｈ（以１：基板
という）の側周辺部に、所定の記ぢをマーキングする方
法に関するものである。。

フ７″ｒトマスクフランクスを識別するための従来から
あるマーキンク方法どし、では人さく分け０次の：３種
類かある。１ ＋　）　ｌ１１−坂のｊ−ソシを削る方法ニジ）基板の
側周辺部に着色する方イＪミ′３）基板表面の隅に印を
する／７法 １−記従来例１）の方法は、第１図にハスずように＆扱
端面／の隅を所定の角度をて）けて削り取り、マー９３
を１すするものである。ｐけ而取り部である。２）の方
法は第２図に示すように基板端面／に染料ｑ等を用いで
着色する。３）の方法は第３図に示すように基板表面の
隅に表示部３４設けるものである。

−１−記／）の方法においては、識別するためにマ〜り
３の個数で分類しなければならないため。

識別に時間かかかる［−、マーク３白体も小さくμにく
い。これは基板表面の有効エリアのためである。また２
）の方法においては、染料ダが研摩、洗浄等の１．程−
Ｃタメージを受けたり剥がわたりし、その］：Ｎ、自体
でも害をなすほか、クリーンルー１１にチップをもちこ
むことになるの℃−その影響は多大なものがある。しか
も表示が薄くなっＣｒｌにくくなる。３）の方Ｃ去にお
いては、基板の表面の有効エリア外に表示部６を設（−
ＪＬ印をっけなＩ−ｊＩｔはならないため、印か小さい
Ｌに表示部３か他の部分と高さが違うようになるため、
：１ンタクト露光においで害になる。

また研摩、洗冷工稈のり勺イクル、特に研摩において消
えてし、まい、もう一度印字しなければならない。

この発明は、」−記のような従来の欠点を除去するため
になされたもので、基板の種類、薄膜のｆｆ［類の識別
を簡単に行うことかでき、フォトマスクブランクスの口
約どする回路パターン作成にはなんら害を（ｊえること
なく、シ、かもそのマークか′４′永久的に持続する〕
７１１・マスク＝ノ°）ンクス用基板を得ることを［１
的どしたものである。

先に本発明者は、基板の側周辺部をっＮ）出し加−ｒ−
Ｌ、、次いでこのつや出し、部多）に所定の記号を精密
加Ｊ−によりマーキンクすることを特徴どするフＡトマ
スクブラシクス月１基手反のマーキ〕・ツカ法を開発し
た。本発明者かその筺研究を進めた結果、基板の側周辺
部のつや消し部２目；所定の記Ｓ′ｆをレーサー加」−
により施せば、結果的につや消し部分を片足とするっ＼
〕出し状の　＝）や出し１部分にマーキングを施したも
のよりも鮮明で、非常に見易い２吟部分か得らＡしると
いう知見を得た。

すなわち本発明のマーキンクを施されへフＡトマスクフ
ランク入用基板は、基板の側周辺部のつやメｊ′１シ部
分に、つや出し状に施された所定の記号を有することを
特徴とするものてあζ、６本発明においては、基板の側
周辺部のマーキ〉グしよ二）どする部分をつや消し、状
態で用意する。、こＪＬ　Ｉｔ：　、基板をＩＶＪり出
し、た状態をも含むか。

通常はナレト・＼ルト（ＳｉＣ砥粒（＝Ｆ着）等により
）や消し加にし、たものである。勿論つや消し手段はこ
れに限られるものではなく、また加］二時間も適宜決定
することがでさる、 地板のつや消し状の側周辺部に所定の記号を施す手段と
しでは、Ｌ・−ザー加」二が望ましい１こわはつＮ〕消
し１部分にレーザー加］、により所定の；１１！号を施
し、で見たどころ、意外にも記号を施した箇所がつや出
し状どなり、つや消し部分を４７７？（どし、た鮮明な
マーキングが得らｈたためである、勿論＝Ｊや出し状の
記号部分が得らＪＬるなら＋１：、１・−」）゛−加土
ど同様の精密加１−とじて超音波棚上もし、くけ電子ピ
ー１１加１．を用いでマーキングし又も良い。

以１：本発明を・実施例に基いて詳細に説明する。

実施例 第、１図に示すよ）に、側周辺部を明り出したままの二
）や１ｔ’ｌ　Ｌ、状態で、基板と１ろ１ｘ・１′／す
。

０　！Ｊ　（ｉｎ（、ｔ＋）　（１）Ｑ−１８［（株）
保谷型ｒ　商品名］を被加工物どしでレーク゛−ＩＪＩ
Ｉ　ｌ：　磯１−レノ；・する１１次いで入ｔ１．　Ｊ
：　）どする所５ｉ４記号の八つたマスク７（・＼リリ
ウ１１銅のチフＩＩ　：、コート）を、Ｌ・二、・ス８
を介白さけ°てン功ＩＪｋｌ　’Ｉ−物、７−Ｊ前にｌ
ごノドする。その後、レークｌ−Ｙ、　（λ＝　ｌ　ｆ
Ｊ　、　ｔ３μ）を　Ｉ・　−リゞ−一　発＋ｈＧ　器
　４　か　１ら　５　．１　　／　　Ｉ　　７ノ：、／
　　Ｉ　　ＩＩＩＩＩｓで！１（（射する。得られた基
板は、側周辺部のつや消し部分１０に所定の記号９を鮮
明ｆ、冒）や出し状ＣＴｆするものであった。１−記Ｑ
−１８カラスの場合、５１・１】Ｊ５て照射部５１かは
−２さりした）や出し、状態となる１、これを従来例と
比ＩＱ　ｔ−たものを次表に示す。

表 ＋　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１
”　　　　　　ｌ　　　　　　　ｌ　　　　　　　’ｌ
　　　　　　　ｌ：恥Ａ−従来例１．Ｂ−従来例２．Ｃ
−従来例３Ｄ−比較例（つや出し状部分に記号を施した
もの）、Ｅ−実施例 つや出し状・を有する所定記号は、フォトマスクフラン
クス用基板の厚みの範囲内であればサイスは何ら限定さ
Ｊｌるものではなく、その作成も、」一連のようにＬ・
−ザー光による加工のみならず、他の加ゴ一方法（電子
ビーｌ、加工、超音波ｊ）１１工）を用いてもかまわな
い。また」−２のようｆ：Ｃマスクを用いず、照射面積
を絞りなから照射器をＸ−Ｙ軸方向に移動させてマーキ
ングしてもよい１゜ この二［段によりマーキングを施された基板では、硝種
、ｉｗ膜の種類の判読が−か所を確Ｊ、Ｂするだけなの
で簡単で、しかも詳細な部分まで表示することができ、
マーキングは１１′永久的である。またｉｆ工程かいら
ず、しかも後工程１例えは得た）寸１−マスクブランク
スによるＩＣ回路パターン作成工程に何ら害を及ぼさな
い１゜

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第：３図はそＪｔぞ１℃従来例を；１＜す斜
視図、第４図はマーキング−１段の一’−１９１１を示
す立面図、第５図は１Ｆられたフッ１−１−マスフブラ
ユ・クス用基板を示す斜視図て゛ある。 ／・・・端面　　　　　　−１９，而取り面３１１．マ
ーク　　　　　ダ・・・染料６９９９表示部　　　　　
乙、、、Ｌ、−リ゛−１発振器７９．マスク　　　　　
＆、、、Ｌ、＞ズ？１．．記号　　　　　　１０．、、
つや〆肖し部鋒特許出願人　株式会ネ１　保谷電子 代理人　弁理士　王　橋　博　司 代理人　弁理士　−に　橋　　強 第１図 第２図 幾３図 ’ｊＭ４　図 第５図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、フづトマスクブランク入用基板の側周辺部の−１）
   や消し部分し；、つや出し、状に施された所定の２吟を
   有することを特徴とするマーキングを施されたフＡ１〜
   マスクブランク入用基板。 ２、所定の記号か、レーサー加重によりつや出し１＃、
   に施さＡｔ　℃ｉ＞：る特許請求の範囲第１項記載のマ
   ーキングを施されたフ寸１−マスクフランクス川基板。 、（、所定の記号か、超ｆ４波加りによりつや出し状（
   二施さオドＣなる特許請求の範囲第１項記載のマーキン
   グを施された〕７１トマスクフランクス用基扱。 、１．所定ｑ）記号か　電子ヒーｌ＼ＪＪＩＩ　１．：
   によりつや出し状に施されＣ１，る特許請求の範囲第１
   項記載のマーキングを施されたフ第１・マスクブランク
   ス用ｔ１１＋仮。