TWI460529B - 光罩之製造方法 - Google Patents

Description

光罩之製造方法

本案係根據於2008年6月27日申請之日本專利申請案第2008-168239號並主張其優先權，將其全部揭露內容以參考的方式併入本文。

本發明係關於光罩之製造方法。

從前，在先進遮罩製造中，採用將係屬其材料之空白光罩(mask blank)的品質加以回饋之手法。例如，從前，已知有避開空白光罩之缺陷部位來形成圖案之方法(例如，參照特開2001-33941號公報(專利文獻1))。

為了進行此種回饋，必須識別各個空白光罩。作為識別空白光罩的方法，從前，已知有如下構成：形成用於識別、或管理空白光罩用玻璃基板之識別標記的構成，及將光學讀取型的區域碼(area code)設於空白光罩用玻璃基板的端面等之構成(例如，參照特開2006-309143號公報(專利文獻2))。

在避開空白光罩的缺陷部位形成圖案的情況下，例如，將包含缺陷種類及缺陷座標之缺陷資訊賦予空白光罩。然後，在作成光罩時，根據該缺陷資訊，避開缺陷部位。又，作為避開缺陷部位的方法，考量例如，藉由在與主表面平行的面內使空白光罩旋轉，以避開缺陷位置的方式改變空白光罩的指向而使用。

但是，例如在使用已將識別標記形成於空白光罩之玻璃基板端面的空白光罩的情況下，一旦改變空白光罩的指向，則形成有識別標記之端面所朝向的方向亦會改變。因此，成為每個空白光罩形成有識別標記的端面方向會不同，使管理空白光罩變得困難。

又，一旦形成有識別標記的端面方向變得零亂，則例如在光罩的製造程序中，會使利用檢測器自動地讀取識別標記之事變困難。又，其結果，例如，會有難以進行光罩製造程序的自動化之虞。因此，本發明係以提供能解決上述課題之光罩製造方法為目的。

針對為了解決由於空白光罩的旋轉而造成形成有識別標記之端面朝向的方向改變之問題，亦考慮例如將識別標記形成於玻璃基板的全部端面。如此進行的話，則不論空白光罩的旋轉角度為何，皆可從一定的方向讀取識別標記。在使用光罩來將遮罩圖案轉印於轉印對象物(晶圓上的阻劑膜等)的曝光裝置中，就光罩之識別，在利用識別標記來取代從前所使用的盲區(blind area)上之條碼的情況，較佳為將識別標記形成在玻璃基板的全部端面。這是起因於在曝光裝置的情況，由於設置於遮罩台時之光罩的設置方向，係僅依光罩上所形成之遮罩圖案的方向予以決定，所以識別標記例如僅位在1個端面且不知道當設置於遮罩台時識別標記會在什麼方向，會造成識別標記的檢測器無法檢測。

另一方面，在取得空白光罩的缺陷資訊(缺陷位置、缺陷種類、缺陷大小)程序的階段；及以曝光描繪機對空白光罩之阻劑膜進行遮罩圖案的曝光描繪程序的階段；以遮罩檢查機，將進行阻劑膜之顯影處理及遮罩圖案用薄膜之蝕刻處理所製作之光罩的遮罩圖案加以檢查程序的階段中，不是在基板的全部端面設有識別標記的方法者優勢大。這是因為在此等程序的各階段，必須有空白光罩的方向基準點，較佳為利用識別標記當此基準點，一旦在基板的全部端面有識別標記，便成為不能以識別標記來特定方向的緣故。如果識別標記為1個端面的話，能使用其作為基準點，即使在識別標記為設於2個或3個端面的情況，亦可藉由有識別標記的端面及沒有識別標記的端面之位置關係來特定方向。當然，能夠藉由預先獲取能將方向特定於4個端面之識別標記中之1個的資訊來對應。然而，恐有因設計複數種類的識別標記的勞力、資訊量增加所產生之識別標記複雜化、將識別標記形成於全部端面的情況之作業量增加而導致空白光罩成本上升之虞。又，在要求高品質之尖端遮罩製造中，因形成識別標記所產生之異物等亦可能成為缺陷的原因。然而，在不使用將識別標記設於基板全部端面的方法之情況，會留下所謂發生因空白光罩及光罩的設置方向而無法以檢測器檢測識別標記的問題。此外，亦有所謂無法防止因在改變空白光罩方向時以人工作業進行所產生之人為失誤的問題。

對此，本案發明人，針對光罩製造程序中之空白光罩的操作方式專心研究，藉以完成能夠解決此等問題點之本發明。本發明具有以下構成。

(構成1)一種光罩的製造方法，係將在基板上面依序積層遮罩圖案用薄膜及阻劑膜而成之空白光罩設置於旋轉裝置之載置部，以前述旋轉裝置控制空白光罩的方向來設置於曝光描繪機，以前述曝光描繪機將遮罩圖案曝光描繪於前述阻劑膜；該方法具有：缺陷資訊記憶程序，係將由與已在基板之至少一端面設有識別標記的空白光罩中之基板、遮罩圖案用薄膜、及阻劑膜當中至少一個有關之缺陷種類，及以識別標記的位置作為基準之缺陷位置所構成的缺陷資訊，與識別標記相對應地記憶於資訊記憶裝置；設置方向決定程序，係以前述識別標記的方向作為基準來決定前述空白光罩對前述曝光描繪機的設置方向；及方向補正程序，係以前述識別標記的方向作為基準，以使前述載置部上之前述空白光罩的方向成為已在前述設置方向決定程序決定之前述設置方向的方式，旋轉控制前述旋轉裝置；設置方向決定程序，係以檢測器檢測經設置於載置部上之空白光罩的識別標記，查詢資訊記憶裝置取得缺陷資訊，由曝光描繪機曝光描繪之遮罩圖案的描繪資訊及缺陷資訊決定設置方向，使遮罩圖案在基板上的配置不會讓缺陷對由空白光罩所製作之光罩的圖案轉印功能產生不良影響。

「識別標記的方向」係指，例如，形成有識別標記的端面朝向之方向。「以識別標記的方向作為基準來決定設置方向」係指，例如，以應將形成有識別標記的端面朝向的方向作為設置方向來決定。方向補正程序，例如係藉由旋轉控制旋轉驅動機，將形成有識別標記的端面朝向設置方向。「遮罩圖案在基板上的配置不會讓缺陷對光罩的圖案轉印功能產生不良影響」係指，例如，不會產生在對光罩進行遮罩檢查中成為問題的缺陷之配置。「以識別標記的位置作為基準之缺陷位置」係指，例如，顯示成可算出相對於識別標記之相對位置之缺陷位置。此缺陷位置可為，例如，藉由已知座標系所顯示之相對於識別標記之相對位置的位置。

設置方向，係例如，於曝光描繪時，對曝光描繪機設置空白光罩的指向。旋轉台係例如被設於曝光描繪裝置內。此情況，設置方向決定程序及方向補正程序例如對經設置於曝光描繪機之空白光罩，進行設置方向的決定及旋轉控制。又，亦可將轉台設於曝光描繪裝置的外部。此情況，設置方向決定程序及方向補正程序例如對被設置於曝光描繪機前之空白光罩，進行設置方向的決定及旋轉控制。

曝光描繪機例如藉由對阻劑膜照射電子束之EB曝光描繪，進行遮罩圖案之曝光描繪。又，識別標記例如可光學地讀取的識別標記。作為識別標記，能適合使用例如資料矩陣(data matrix)、QR碼、SP碼、Veri碼(Veri Code)、Maxi碼、CP碼、Codel、Aztec碼(Azteccode)、INTACTA碼(INTACTA CODE)、Card e等二維碼。

較佳為將識別標記形成在不會對使用由空白光罩所製造之遮罩時之圖案轉印造成影響的區域。雖然將識別標記形成於基板的至少端面上，但是對於在此所謂的端面，除了基板狹義的端面以外，亦包含：形成在主表面與端面之間的去角面、及切口標記(notch mark)形成部、係屬製作遮罩時不會有影響的領域之端面周邊的主基板表面。

如此一來的話，例如，便能適切地管理空白光罩的指向。因此，可防止形成有識別標記之端面方向變得零亂，確實地以檢測器檢測識別標記。藉此，例如，能適切地將光罩製造程序自動化。進一步地，可旋轉空白光罩，避開缺陷而適切地形成遮罩圖案。又，藉此，能使光罩製造良率提高。

在此，方向補正程序，係因應在設置方向決定程序所決定之設置方向，例如使空白光罩旋轉0°、90°、180°或270°之任何旋轉角度量。旋轉角度為0°之旋轉，係指例如，不使空白光罩旋轉，而維持空白光罩的指向之動作。

光罩製造程序自動化，係指例如，在光罩製造程序所使用之各裝置間自動進行空白光罩方向的旋轉，且，亦自動進行在各裝置的作業，藉以不經由人手，將空白光罩加工為光罩之情事。在各裝置間，空白光罩或製造後的光罩係以被收納於箱子的狀態予以搬送。作為此箱子，可使用例如，一個箱子收納一片空白光罩或光罩的單片式箱子。

又，針對為了避開缺陷來進行遮罩圖案的曝光描繪，亦考量例如，不要使空白光罩側旋轉而是使遮罩圖案旋轉。然而，此情況，作為空白光罩的資料，例如，必須預先準備經因應各旋轉角度之複數種類資料。然而，準備遮罩圖案的資料(CAD資料等設計資料)，係須要例如光學近接效果補正(OPC)等許多計算處理之花費人力及時間的作業。再者，由於曝光描繪機通常不能直接以設計資料來進行曝光描繪，所以必須將設計資料全部轉換為使用之曝光描繪機能夠認識的描繪指令資訊。而，該轉換作業必須對依各旋轉角度所準備之全部設計資料來進行。因此，如果準備複數種類之資料變成必要的話，便會有準備光罩製造程序的負擔變得非常大之虞。對此，如果依構成1般進行的話，例如，便能在不會使準備的負擔大量增加的情況下，避開缺陷來進行遮罩圖案的曝光描繪。

(構成2)進一步具有：方向復歸程序，係將經以曝光描繪機對阻劑膜進行曝光描繪之前述空白光罩設置於前述載置部，旋轉控制旋轉裝置，將前述識別標記的方向回復為方向補正程序前的狀態。

如此進行的情況，例如，即使在進行曝光描繪前不論如何地使空白光罩旋轉，之後，亦能統一將空白光罩的指向朝向固定的方向。因此，如果依此進行的話，例如，便能更適切地防止形成有識別標記的端面方向變零亂。又，例如在方向復歸程序後之程序中讀取識別標記的情況，可利用檢測器確實地檢測識別標記。進一步地，藉此，能更適切地將光罩製造程序自動化。

(構成3)進一步具有：檢查用圖案資料傳送程序，係將進行對曝光描繪後之阻劑膜的顯影處理及遮罩圖案用薄膜的蝕刻處理所製作之光罩設置於遮罩旋轉裝置之遮罩載置部，以檢測器檢測識別標記，查詢資訊記憶裝置取得對應前述光罩之檢查用圖案資料而傳送至遮罩檢查機；及遮罩方向補正程序，係以前述識別標記的方向作為基準，以使前述遮罩載置部上之前述光罩的方向，成為與以前述設置方向決定程序所決定之前述空白光罩的設置方向相同的方向之方式，旋轉控制前述遮罩旋轉裝置。

如此進行的話，例如，便能在以遮罩檢查機進行光罩的遮罩檢查前，配合曝光描繪遮罩圖案時之空白光罩的指向，使光罩旋轉。又，藉此，例如，能於遮罩檢查機適切地進行蝕刻處理後之遮罩圖案用薄膜與檢查用圖案資料的比對。

(構成4)進一步具有：遮罩方向復歸程序，係將經以前述遮罩檢查機進行遮罩檢查之前述光罩設置於前述遮罩載置部，旋轉控制前述遮罩旋轉裝置而將前述識別標記的方向回復為前述遮罩方向補正程序前的狀態。

如此進行的話，例如，便能將已進行遮罩檢查後之光罩指向統一朝向固定的方向。因此，如此進行的話，例如，便能更適切地防止形成有識別標記的端面方向變零亂。又，藉此，例如，能將光罩製造程序更適切地自動化。

依照本發明的話，便能以識別標記作為基準，根據經特定缺陷位置之空白光罩的缺陷資訊，使用旋轉裝置，以使轉印於遮罩圖案用薄膜之遮罩圖案的配置不會因缺陷而受到不良影響的方式，自動控制空白光罩對曝光描繪機的設置方向(描繪方向)。藉此，能解決在以人工作業旋轉空白光罩及光罩方向之情況下的人為失誤。又，因為即使當使用將識別標記設置於基板全部端面的方法時，亦能藉由旋轉裝置旋轉控制空白光罩及光罩的方向，所以能以檢測器確實地檢知識別標記。

再者，即使在進行所製作之光罩的遮罩檢查之情況，亦能藉由將對空白光罩進行曝光描繪時之朝曝光描繪機的設置方向預先記憶於資訊記憶裝置，利用遮罩旋轉裝置自動控制朝遮罩檢查裝置之光罩設置方向。

以下，一邊參照圖式一邊說明本發明相關實施形態。第1A圖顯示在本發明之一實施形態之光罩製造方法所使用的空白光罩10之構成一例。

空白光罩10係由在基板12上依序積層遮罩圖案用薄膜14及阻劑膜16所構成之空白光罩。

基板12係空白光罩用玻璃基板，例如以合成石英玻璃所形成。又，除此之外，亦可適用SiO2-TiO2系的低熱膨脹玻璃、經析出β石英固溶體之結晶化玻璃、鹼石灰玻璃等玻璃基板。將基板12的主表面及端面分別研磨為指定的表面粗糙度的鏡面。在本例中，在基板12的一端面形成有識別標記18。遮罩圖案用薄膜14係在光罩製造程序中用於形成遮罩圖案的遮光膜或半透光膜等，被形成於基板12上。遮罩圖案用薄膜14亦可為複數種類的薄膜積層膜。阻劑膜16係在將遮罩圖案用薄膜14圖案化之光微影程序中所使用的阻劑膜。又，亦可在例如光罩製造程序中形成阻劑膜16。又，此空白光罩可用於光微影術用的遮罩製造。此遮罩係用於例如ArF準分子雷射(波長193nm)的光透過型遮罩。又，代替遮罩圖案用薄膜14，藉由作成以下構造：於基板12的材質適用例如低熱膨脹玻璃，在該基板12上面，形成以例如Mo層與Si層作為1周期而進行多周期成膜之多層反射膜，在其上面形成由Ru等所構成之蓋頂膜(cap film)及以Cr等作為主成分的緩衝膜(buffer film)，進一步形成以Ta等作為主成分之吸收體膜，則可適用於EUV曝光用反射型遮罩，其被用於以極端紫外光(Extreme Ultra Violet：以下稱為EUV光)作為光源之反射系微影術。

第1B圖顯示識別標記18之構成的一例。識別標記顯示，例如，空白光罩10中固有的識別號碼或識別記號等識別碼、及管理號碼或管理記號等管理碼等識別資訊。識別標記18，係在例如空白光罩用玻璃基板的製造程序中，藉由例如照射二氧化碳氣體雷射等雷射光所形成。在本例中，識別標記18係以凹部20之2維配列所表現之可光學讀取的2維碼。在本例中，此2維碼適用資料矩陣。

又，在本例中，識別標記18，係在例如光罩製造程序所進行之缺陷資訊記憶程序中，與空白光罩10的缺陷資訊對應地附加。缺陷資訊記憶程序，係與識別標記18對應地將缺陷資訊記憶於資訊記憶裝置。缺陷資訊，係例如由關於基板12、遮罩圖案用薄膜14及阻劑膜16當中至少1個之缺陷種類；及以識別標記18的位置作為基準之缺陷位置所構成的資訊。缺陷位置，係例如藉由已知的座標系來顯示對識別標記18的相對位置。

以下，針對使用空白光罩10所進行之光罩製造程序更詳細地說明。在本例中，光罩製造程序係半自動化。在各裝置間，空白光罩10或製造後之光罩，係以經收納於箱子的狀態予以搬送。

第2圖顯示當在各裝置間搬送時收納空白光罩10之箱子30之構成的一例。箱子30，係收納一片空白光罩10或光罩(以下，稱為「空白光罩10等」)之單片式箱子，藉由將空白光罩10等收納於內部，而在程序間保護空白光罩10等。在本例中，箱子30，在收納空白光罩10的情況下，具有各自與空白光罩10之各端面22a~22d成為平行的邊32a~32d。各邊32a~32d可以相互區別。箱子30，係使空白光罩10中之形成有識別標記18的端面22a與任一邊32平行，而收納空白光罩10。在第2圖所示狀態中，箱子30的邊32a成為與空白光罩10的端面22a平行。藉此，空白光罩10係以端面22a朝向箱子30的邊32a之方向的狀態，被收納於箱子30。又，只要是可識別空白光罩10的端面22a對箱子30的指向的話，便可使用例如周知的單片式箱子作為箱子30。

第3圖顯示光罩製造程序之第1例。在本例之光罩製造程序，在最初準備空白光罩的各程序中，進行記憶缺陷資訊之缺陷資訊記憶程序。即，首先，設置識別標記18，準備已於基板主表面及端面等實施指定的研磨之基板12，以基板缺陷檢查機對基板12進行缺陷檢查，取得：與識別標記18之位置關連地附加基板缺陷檢查機中之座標系的缺陷位置、缺陷種類、缺陷大小等基板12的缺陷資訊，對應識別標記18而記憶於資訊記憶裝置。接著，以指定條件將遮罩圖案用薄膜14形成於基板12上面，以薄膜缺陷檢查機對遮罩圖案用薄膜14進行缺陷檢查，取得：與識別標記18之位置關連地附加薄膜缺陷檢查機中之座標系的缺陷位置、缺陷種類、缺陷大小等遮罩圖案用薄膜14的缺陷資訊，對應識別標記18而記憶於資訊記憶裝置。又，此時，在遮罩圖案用薄膜14成為例如，於基板上面形成相移膜(phase shift film)，接著以其他成膜裝置形成遮光膜之2層構造等、多層構造的情況下，每當以各成膜裝置成膜時，便以指定的缺陷檢查機進行缺陷檢查，同樣地對應識別標記18而記憶於資訊記憶裝置。進一步地，以指定條件在遮罩圖案用薄膜14的上面塗布阻劑膜16，以阻劑缺陷檢查機對阻劑膜16進行缺陷檢查，取得：與識別標記18之位置關連地附加阻劑缺陷檢查機中之座標系的缺陷位置、缺陷種類、缺陷大小等阻劑膜16的缺陷資訊，對應識別標記18而記憶於資訊記憶裝置。

又，亦可比對基板12、遮罩圖案用薄膜14、阻劑膜16之各缺陷資訊而成為將以1個座標系表現之缺陷位置加以特定的缺陷資訊，使記憶於資訊記憶裝置。又，當製造光罩時，在不需要多達基板12、遮罩圖案用薄膜14、阻劑膜16之全部缺陷資訊的情況，亦可以只將其必須的缺陷資訊記憶於資訊記憶裝置的方式進行。例如，在以長波長的光進行曝光的光罩之情況，有不需要基板12的缺陷資訊之情況，對此，便可以只將遮罩圖案用薄膜14、阻劑膜16之缺陷資訊記憶於資訊記憶裝置的方式進行。在準備空白光罩的程序所使用之資訊記憶裝置與在光罩製造程序所使用之資訊記憶裝置不一定要相同。在各資訊記憶裝置為不同的情況，亦可以使用網際網路(internet)等通訊回路、及FD、CD、DVD等記憶媒體，將缺陷資訊移送到在光罩製造程序所使用之資訊記憶裝置的方式來進行。

如以上般，把已將缺陷資訊與識別標記18對應地記憶於資訊記憶裝置之空白光罩10收納於箱子30。例如，空白光罩準備程序，係以端面22a朝向箱子30之邊32a的方向之狀態將空白光罩10收納於箱子30。

然後，以將空白光罩10朝進行遮罩圖案之曝光描繪的曝光描繪機102收納於盒子30的狀態，藉由人力或移送裝置移送，進行在曝光描繪機102的各程序。在本例中，曝光描繪機102具有經具備載置空白光罩10之載置部的旋轉裝置。具有可載置空白光罩10的載置部之機器人手臂(robot arm)適合作為此旋轉裝置。又，雖然亦可為所謂經具備旋轉驅動機之旋轉台的構成，但此情況，便另外需要用於從箱子30取出空白光罩10載置於旋轉台的裝置。以下記載將機器人手臂應用於旋轉裝置。曝光描繪機102，係對藉由機器人手臂(旋轉裝置)從箱子30所取出而設置於載置部之空白光罩10，控制空白光罩10的方向，使空白光罩10旋轉。而且，在使空白光罩10旋轉後，藉由機器人手臂，直接以該方向將空白光罩10設置於曝光描繪機102之描繪台，將遮罩圖案曝光描繪於空白光罩10之阻劑膜16。

又，曝光描繪機102，係曝光描繪後，藉由機器人手臂將空白光罩10從描繪台取出而放置於載置部，再次使空白光罩10旋轉，使空白光罩10的指向復歸至與原先旋轉前相同的方向。而且，將經復歸方向的空白光罩10收納於箱子30。藉此，曝光描繪機102，將形成有識別標記18之端面22a的指向統一朝一定的方向，將空白光罩10交遞至下一個程序。在本例中，曝光描繪機102將曝光描繪後的空白光罩10朝圖案加工裝置104交遞。又，之後將就在曝光描繪機102進行的各程序更詳細地說明。

圖案加工裝置104係例如進行曝光描繪後之顯影及蝕刻等光微影術之各程序的裝置，依照由曝光描繪機102所曝光描繪之遮罩圖案，將遮罩圖案用薄膜14圖案化加工。又，圖案加工裝置104係藉由此圖案加工而形成遮罩圖案40，將空白光罩10加工為光罩50。

在本例中，圖案加工裝置104，係例如將在前段的曝光描繪機102被收納於箱子30之空白光罩10，在進行圖案化加工前，藉由機器人手臂等從箱子30取出。又，進行圖案化加工後，以將形成有識別標記18之端面22a朝向指定方向的狀態，藉由機器人手臂等將空白光罩10(光罩50)收納於箱子30。藉此，圖案加工裝置104會將形成有識別標記18之端面22a的指向統一朝一定的方向，將光罩50朝下一個程序交遞。在本例中，圖案加工裝置104將圖案化加工後之光罩50朝遮罩檢查裝置106交遞。

遮罩檢查裝置106係檢查圖案化加工後之遮罩圖案用薄膜14的檢查裝置，使用對應光罩50的檢查用圖案資料(pattern data)，比對經圖案化加工後之遮罩圖案用薄膜14與檢查用圖案資料。又，在本例中，遮罩檢查裝置106具有遮罩旋轉裝置，其具備載置光罩50之遮罩載置部。具有可載置光罩50的遮罩載置部之機器人手臂適合作為此遮罩旋轉裝置。又，雖然亦可為具備旋轉驅動機之遮罩旋轉台的構成，但此情況，便另外須要用於將光罩50從箱子30取出而載置於旋轉台的裝置。以下記載將機器人手臂應用於遮罩旋轉裝置的情況。而且，遮罩檢查裝置106，係對藉由機器人手臂(遮罩旋轉裝置)從箱子30所取出而設置於載置部之光罩50，配合曝光描繪時設置空白光罩10的設置方向而使其旋轉後，設置於遮罩檢查裝置106之檢查台，進行與檢查用圖案資料的比對。

又，檢查後，藉由機器人手臂將光罩50從檢查台取出放置於載置部，使光罩50再次旋轉，使光罩50的指向朝與原先旋轉前相同的方向復歸。然後，將己使方向復歸之光罩50收納於箱子30。藉此，遮罩檢查裝置106，對檢查後之光罩50，將形成有識別標記18之端面22a的指向統一朝向一定的方向。又，稍後亦針對以遮罩檢查裝置106進行各程序更詳細地說明。

藉由以上的程序，可製造本例的光罩50。又，除了在上述及以下說明的事項以外，曝光描繪機102、圖案加工裝置104、及遮罩檢查裝置106亦可為與周知的曝光描繪機、圖案加工裝置、及遮罩檢查裝置同一或同樣的裝置。又，在例如對遮罩圖案用薄膜14進行複數次圖案化加工的情況，例如亦可反覆進行複數次以曝光描繪機102進行的程序、及以圖案加工裝置104進行的程序。

第4圖係更詳細地顯示以曝光描繪機102進行各程序的流程圖。在本例中，曝光描繪機102具有檢測器202，其係從指定方向以光學方式讀取識別標記18的讀取裝置。檢測器202被設置在與收納空白光罩10之箱子30中之邊32a對向的位置，讀取空白光罩10之端面22a~22d當中、位於朝向邊32a方向之端面22的識別標記18。在本例中，曝光描繪裝置102收取之空白光罩10係將端面22a朝向箱子30的邊32a，被收納於箱子30。又，曝光描繪機102具有具備載置空白光罩10的載置部之機器人手臂(旋轉裝置)，使被設置於載置部的空白光罩10適當地旋轉。

在本例中，曝光描繪機102首先收取在經收納於箱子30的狀態下、已在缺陷資訊記憶程序中進行缺陷資訊記憶的空白光罩10，使用機器人手臂將空白光罩10從箱子30取出擺上載置部(S102)。然後，進行設置方向決定程序，以識別標記18的方向作為基準，決定係屬曝光描繪時設置空白光罩10對曝光描繪機102的指向之設置方向(S104)。在設置方向決定程序中，曝光描繪機102首先以檢測器202檢測經設置於曝光描繪機102載置部之空白光罩10的識別標記18。然後，查詢記憶有缺陷資訊的資訊記憶裝置，取得缺陷資訊。然後，由曝光描繪機102曝光描繪之遮罩圖案的描繪資訊及缺陷資訊，來決定設置方向，其使空白光罩10在基板上的配置不會讓缺陷對由空白光罩10製作的光罩圖案轉印功能造成不良影響。

在此，例如在空白光罩10中，形成有識別標記18的端面22a，一旦朝向邊32a以外的邊32b~32d的方向，則會變成無法以檢測器202讀取識別標記18。然而，在本例中，曝光描繪機102收取以端面22a朝向箱子30的邊32a的方向之狀態而被收納在箱子30之空白光罩10。因此，如果依照本例的話，便能夠適當地讀取識別標記18。又，即使由於在前程序的任何問題，成為以端面22a的方向不同於邊32a的方向之狀態而被收納於箱子30，亦能重複所謂以機器人手臂90度旋轉空白光罩10，以檢測器202進行讀取動作的一連串手續，能藉以讀取識別標記18，能將載置部之空白光罩10的位置補正為初期位置。

接著設置方向決定程序，曝光描繪機102進行方向補正程序(S106)。在方向補正程序中，曝光描繪機102係以識別標記18的方向作為基準，以使載置部之空白光罩10的方向成為在設置方向決定程序所決定之設置方向的方式，旋轉控制旋轉驅動機。曝光描繪機102會因應設置方向來使空白光罩10旋轉例如0°、90°、180。、或270°之任何旋轉角度量。

接下來，藉由機器人手臂，直接以該方向將空白光罩10設置於曝光描繪機102的描繪台，進行描繪程序(S108)。在描繪程序中，曝光描繪機102藉由朝阻劑膜16照射電子線之電子線(EB)曝光描繪，進行曝光描繪。藉此，曝光描繪機102會對已被朝向設置方向的空白光罩10進行遮罩圖案的曝光描繪。

接下來，曝光描繪機102進行方向復歸程序(S110)。在方向復歸程序中，曝光描繪機102藉由機器人手臂將曝光描繪後的空白光罩10從描繪台取出而擺至載置部，以機器人手臂旋轉控制，將識別標記18的方向回復為方向補正程序前的狀態。又，在本例的方向復歸程序中，曝光描繪機102藉由機器人手臂將已使方向復歸的空白光罩10，以復歸後的指向，收納於箱子30。然後，將空白光罩10朝箱子30收納後，曝光描繪機102朝下一個程序送出空白光罩10。

如果依照本例的話，即使在進行曝光描繪前使空白光罩10如何地旋轉，之後，亦能統一將空白光罩10的指向朝一定的方向。因此，例如，能夠適切地防止形成有識別標記18的端面22a方向變成零亂的現象。

又，藉此，例如，在進行以後程序之圖案加工裝置104等中，使用與檢測器202同樣的讀取裝置，使自動讀取識別標記18成為可能。然後，根據例如經讀取的識別標記18，使自動進行圖案化加工等成為可能。因此，若依照本例的話，例如，能適切地將光罩製造程序自動化。

又，在本例中，例如，不會使在後續程序讀取識別標記18的問題發生，能適切地進行曝光描繪前空白光罩10的旋轉。因此，例如能將空白光罩10朝向已分別因應空白光罩10之缺陷資訊的方向，進行曝光描繪。又，藉此，例如，能使光罩製造良率提升。

又，如使用第3圖所說明般，在本例中，即使在以圖案加工裝置104所進行的程序結束時點，形成有識別標記18之端面22a的方向係統一於指定的方向。因此，在本例中，例如，即使是在以圖案加工裝置104所進行的程序之後續程序中，亦不會發生讀取識別標記18的問題。因此，若依照本例的話，便能更適切地將光罩製造程序自動化。

第5A~5C圖係就空白光罩10的旋轉動作更詳細地說明的圖。第5A圖顯示圖案資料60一例的概略，圖案資料60顯示所曝光描繪的遮罩圖案62。在本例中，圖案資料60係顯示被形成在空白光罩10主表面一部分區域的遮罩圖案62的資訊之資料。

第5B圖、第5C圖顯示遮罩圖案40之曝光描繪後之空白光罩10的狀態之一例。在本例中，空白光罩10主表面之中，在對應圖案資料60之遮罩圖案62的區域，進行遮罩圖案40的曝光描繪。又，空白光罩10有在一部分區域具有缺陷的情況。此缺陷，係例如空白光罩10中之基板12或遮罩圖案用薄膜14的缺陷。缺陷亦可為由空白光罩10之阻劑膜16缺陷所產生的遮罩圖案用薄膜14的缺陷。例如，在已圖示的情況中，空白光罩10在一部分區域具有複數個缺陷42。

第5B圖顯示在不旋轉空白光罩10而進行曝光描繪的情況下曝光描繪後之空白光罩10的狀態一例。在第5B圖所示之狀態中，一部分的缺陷42存在於遮罩圖案40所形成的區域內。因此，一旦在此狀態下進行曝光描繪，則遮罩圖案40所形成的區域內缺陷42便會對光罩的轉印功能產生不良影響。因此，在此狀態下，會變成無法適切地形成光罩50。

第5C圖顯示在旋轉空白光罩10而進行曝光描繪的情況下曝光描繪後之空白光罩10的狀態一例。此狀態係從形成有識別標記18的端面22a朝向圖中下方的第5B圖所示的狀態，以使端面22a朝向圖中左側的方式，使空白光罩10旋轉的狀態。藉由進行此種旋轉，例如，能將空白光罩10中之全部缺陷42配置於遮罩圖案40所形成區域之外。因此，只要如此進行的話，便能藉由缺陷42不會對光罩的圖案轉印功能產生不良影響的配置，進行遮罩圖案40的曝光描繪。又，藉此，例如，即使在缺陷42存在於主表面一部分的情況下，亦可適切地進行遮罩圖案40的圖案化加工。

第6圖係更詳細地顯示以遮罩檢查裝置106進行各程序的流程圖。在本例中，遮罩檢查裝置106考量已在曝光描繪前使空白光罩10旋轉的旋轉角度，進行光罩50的檢查。又，遮罩檢查裝置106具有：具備載置光罩50的遮罩載置部機器人手臂(遮罩旋轉裝置)、及識別標記18的檢測器204。具備遮罩載置部之機器人手臂及識別標記18的檢測器204，例如，具有與曝光描繪機102中之機器人手臂及檢測器202(參照第4圖)同一或同樣的構成。

在本例中，遮罩檢查裝置106，首先收取在經收納於箱子30的狀態下、已在圖案加工裝置104進行各程序的光罩50。然後，使用機器人手臂將光罩50從箱子30取出而擺至遮罩載置部(S202)，進行檢查用圖案資料傳送程序(S204)。在檢查用圖案資料傳送程序中，遮罩檢查裝置106，首先在將光罩50放置於遮罩載置部的狀態下，以檢測器204檢測識別標記18。然後，查詢記憶有檢查用圖案資料的資訊記憶裝置，將對應光罩50的檢查用圖案資料傳送至遮罩檢查裝置106。藉此，遮罩檢查裝置106取得檢查用圖案資料。

接下來，遮罩檢查裝置106進行遮罩方向補正程序(S206)。在遮罩方向補正程序中，遮罩檢查裝置106係以識別標記18的方向作為基準，以使遮罩旋轉台上光罩50的方向，成為與在曝光描繪機102之描繪台的設置方向決定程序所決定之空白光罩10的設置方向相同的方向之方式，旋轉控制機器人手臂。藉此，遮罩檢查裝置106將光罩50朝向對應曝光描繪時空白光罩10的設置方向之方向。

接下來，藉由機器人手臂，直接以該方向，將光罩50設置於遮罩檢查裝置106的檢查台，進行遮罩檢查程序(S208)。在遮罩檢查程序中，遮罩檢查裝置106會比對：經藉由圖案化加工所形成之光罩50的遮罩圖案40、與作為檢查用圖案資料而被取得之圖案資料60中之遮罩圖案62。

接下來，遮罩檢查裝置106進行遮罩方向復歸程序(S210)。在遮罩方向復歸程序中，遮罩檢查裝置106會藉由機器人手臂將光罩50從檢查台取出而放置於載置部，旋轉控制機器人手臂，將識別標記18的方向回復為遮罩方向補正程序前的狀態。又，在本例的遮罩方向復歸程序中，遮罩檢查裝置106將已使方向復歸的光罩50，直接以藉由機器人手臂復歸後的指向，收納於箱子30。

如果依照本例的話，例如，便能在光罩50之遮罩檢查前，配合在曝光描繪時的空白光罩10的指向，使光罩50適切地旋轉。藉此，例如，能適切地進行遮罩檢查。

第7圖顯示光罩製造程序的第2例。又，除了在以下說明的事項以外，本例的製造程序係與使用第3圖~第6圖所說明的製造程序同一或同樣。

本例之製造程序係使用設置於曝光描繪機102外部(離線，offline)之空白光罩旋轉用裝置(旋轉裝置)108，進行在曝光描繪前後之空白光罩10的旋轉。具有可載置空白光罩10之遮罩載置部的機器人手臂適合作為此空白光罩旋轉用裝置108。又，雖然亦可為所謂具備旋轉驅動機構的旋轉台之構成，但在此情況，為了將空白光罩10從箱子30取出而載置於旋轉台便需要其他的裝置。又，空白光罩旋轉用裝置108具有，例如，與使用第3圖所說明之檢測器202同一或同樣的檢測器。

此情況，空白光罩旋轉用裝置108，進行在使用第3圖及第4圖所說明的各程序中之例如設置方向決定程序及方向補正程序。然後，將旋轉後的空白光罩10，以例如經旋轉的狀態收納於箱子30，交遞至曝光描繪機102。空白光罩旋轉用裝置108，亦可藉由與例如使用第3圖及第4圖所說明之設置方向決定程序及方向補正程序中，曝光描繪機102所進行者同一或同樣的方法來進行此等程序。

然後，已從空白光罩旋轉用裝置108收取旋轉後的空白光罩10的曝光描繪機102會進行描繪程序。此情況，曝光描繪機102會將從空白光罩旋轉用裝置108所收取的空白光罩10自箱子30取出，進行曝光描繪。然後，將曝光描繪後的空白光罩10再次收納於箱子30，交遞至空白光罩旋轉用裝置108。

然後，已收取曝光描繪後的空白光罩10之空白光罩旋轉用裝置108會從箱子30取出空白光罩10，藉由與使用例如第3圖及第4圖所說明的方向復歸程序中，曝光描繪機102所進行者同一或同樣的方法，進行方向復歸程序。方向復歸程序之後，空白光罩旋轉用裝置108會將經收納於箱子30的空白光罩10交遞至圖案加工裝置104。之後，與使用例如第3圖所說明的程序同一或同樣地，進行各程序。

若依照本例的話，便能夠，例如，不須於曝光描繪機102設置旋轉台等，而適切地旋轉曝光描繪前的空白光罩10。又，能夠適切地防止在後續程序讀取識別標記18的問題發生。

又，與空白光罩旋轉用裝置108同一或同業的裝置，亦能在以遮罩檢查裝置106(參照第3圖)進行遮罩檢查程序前後，作為遮罩旋轉用裝置使用。此遮罩旋轉用裝置係例如具有經具備遮罩旋轉驅動機之旋轉台的裝置，在遮罩方向補正程序及遮罩方向復歸程序中，使光罩50旋轉。如果依照此種構成的話，便能夠，例如，不須於遮罩檢查裝置106設置遮罩旋轉台等而適切地進行遮罩檢查程序。

以上，雖然使用實施形態就木發明加以說明，但是本發明的技術性範圍並非限定於上述實施形態所記載的範圍。本發明所屬技術領域之業者自可就上述實施形態施加各種變更或改良。可由申請專利範圍之記載清楚得知，經施加該種變更或改良的形態亦能被包含於本發明的技術性範圍內。

10．．．空白光罩

12．．．基板

14．．．遮罩圖案用薄膜

16．．．阻劑膜

18．．．識別標記

20．．．凹部

22a~22d．．．端面

30．．．箱子

32a~32d．．．邊

42．．．缺陷

50．．．光罩

60．．．圖案資料

62．．．遮罩圖案

102．．．曝光描繪機、曝光描繪裝置

104．．．圖案加工裝置

106．．．遮罩檢查裝置

108．．．空白光罩旋轉用裝置

202、204．．．檢測器

第1A圖係顯示在本發明之一實施形態之光罩製造方法所使用的空白光罩10之構成一例的圖。

第1B圖係顯示識別標記18之構成一例的圖。

第2圖係顯示當在各裝置間搬送時收納空白光罩10之箱子30之構成一例的圖。

第3圖係顯示光罩製造程序之第1例的圖。

第4圖係更詳細地顯示以曝光描繪機102進行各程序的流程圖。

第5A圖顯示圖案資料60一例的概略，圖案資料60顯示所曝光描繪的遮罩圖案62。

第5B圖顯示在不旋轉空白光罩10而進行曝光描繪的情況下曝光描繪後之空白光罩10的狀態一例。

第5C圖顯示在旋轉空白光罩10而進行曝光描繪的情況下曝光描繪後之空白光罩10的狀態一例。

第6圖係更詳細地顯示以遮罩檢查裝置106進行各程序的流程圖。

第7圖係顯示光罩製造程序的第2例之圖。

10．．．空白光罩

18．．．識別標記

22a．．．端面

30．．．箱子

32a．．．邊

40．．．遮罩圖案

50．．．光罩

102．．．曝光描繪機、曝光描繪裝置

104．．．圖案加工裝置

106．．．遮罩檢查裝置

Claims (8)

1. 一種光罩之製造方法，係將在基板上面依序積層遮罩圖案用薄膜及阻劑膜而成之空白光罩(mask blank)設置於旋轉裝置之載置部，以前述旋轉裝置控制前述空白光罩的方向來設置於曝光描繪機，以前述曝光描繪機將遮罩圖案曝光描繪於前述阻劑膜；其特徵為，具有：缺陷資訊記憶程序，係將由缺陷種類及缺陷位置所構成的缺陷資訊，與識別標記相對應地記憶於資訊記憶裝置，其中前述缺陷種類係與已在前述基板之至少一端面設有前述識別標記的前述空白光罩中之基板、前述遮罩圖案用薄膜、及前述阻劑膜當中至少一個有關，而前述缺陷位置係以前述識別標記的位置作為基準；設置方向決定程序，係以前述識別標記的方向作為基準來決定前述空白光罩對前述曝光描繪機的設置方向；及方向補正程序，係以前述識別標記方向作為基準，以使前述載置部上之前述空白光罩的方向成為已在前述設置方向決定程序決定之前述設置方向的方式，旋轉控制前述旋轉裝置，前述設置方向決定程序，係以檢測器檢測經設置於前述載置部上之前述空白光罩的識別標記，查詢前述資訊記憶裝置取得前述缺陷資訊，由前述曝光描繪機曝光 描繪之遮罩圖案的描繪資訊及前述缺陷資訊決定前述設置方向，使遮罩圖案在前述基板上的配置不會讓前述缺陷對由前述空白光罩所製作之光罩的圖案轉印功能產生不良影響。
2. 如申請專利範圍第1項之光罩之製造方法，其中進一步具有：方向復歸程序，係將經以曝光描繪機對阻劑膜進行曝光描繪之前述空白光罩設置於前述載置部，旋轉控制旋轉裝置，將前述識別標記的方向回復為方向補正程序前的狀態。
3. 如申請專利範圍第2項之光罩之製造方法，其中進一步具有：檢查用圖案資料傳送程序，係將進行對曝光描繪後之阻劑膜的顯影處理及遮罩圖案用薄膜的蝕刻處理所製作之光罩設置於遮罩旋轉裝置之遮罩載置部，以檢測器檢測識別標記，查詢資訊記憶裝置取得對應前述光罩之檢查用圖案資料而傳送至遮罩檢查機；及遮罩方向補正程序，係以前述識別標記的方向作為基準，以使前述遮罩載置部上之前述光罩的方向，成為與以前述設置方向決定程序所決定之前述空白光罩的設置方向相同的方向之方式，旋轉控制前述遮罩旋轉裝置。
4. 如申請專利範圍第3項之光罩之製造方法，其中進一步具有：遮罩方向復歸程序，係將經以前述遮罩檢查機進行遮罩檢查的前述光罩設置於前述遮罩載置部，旋轉控 制前述遮罩旋轉裝置而將前述識別標記的方向回復為前述遮罩方向補正程序前的狀態。
5. 一種EUV曝光用反射型遮罩之製造方法，係將在基板上面依序積層遮罩圖案用薄膜及阻劑膜而成之EUV曝光用反射型遮罩用的空白光罩設置於旋轉裝置之載置部，以前述旋轉裝置控制前述空白光罩的方向來設置於曝光描繪機，以前述曝光描繪機將遮罩圖案曝光描繪於前述阻劑膜；其特徵為，具有：缺陷資訊記憶程序，係將由缺陷種類及缺陷位置所構成的缺陷資訊，與識別標記相對應地記憶於資訊記憶裝置，其中前述缺陷種類係與已在前述基板之至少一端面設有前述識別標記的前述空白光罩中之基板、前述遮罩圖案用薄膜、及前述阻劑膜當中至少一個有關，而前述缺陷位置係以前述識別標記的位置作為基準；設置方向決定程序，係以前述識別標記的方向作為基準來決定前述空白光罩對前述曝光描繪機的設置方向；及方向補正程序，係以前述識別標記方向作為基準，以使前述載置部上之前述空白光罩的方向成為已在前述設置方向決定程序決定之前述設置方向的方式，旋轉控制前述旋轉裝置，前述設置方向決定程序，係以檢測器檢測經設置於前述載置部上之前述空白光罩的識別標記，查詢前述資 訊記憶裝置取得前述缺陷資訊，由前述曝光描繪機曝光描繪之遮罩圖案的描繪資訊及前述缺陷資訊決定前述設置方向，使遮罩圖案在前述基板上的配置不會讓前述缺陷對由前述空白光罩所製作之EUV曝光用反射型遮罩的圖案轉印功能產生不良影響。
6. 如申請專利範圍第5項之EUV曝光用反射型遮罩之製造方法，其中進一步具有：方向復歸程序，係將經以曝光描繪機對阻劑膜進行曝光描繪之前述空白光罩設置於前述載置部，旋轉控制旋轉裝置，將前述識別標記的方向回復為方向補正程序前的狀態。
7. 如申請專利範圍第6項之EUV曝光用反射型遮罩之製造方法，其中進一步具有：檢查用圖案資料傳送程序，係將進行對曝光描繪後之阻劑膜的顯影處理及遮罩圖案用薄膜的蝕刻處理所製作之EUV曝光用反射型遮罩設置於遮罩旋轉裝置之遮罩載置部，以檢測器檢測識別標記，查詢資訊記憶裝置取得對應前述EUV曝光用反射型遮罩之檢查用圖案資料而傳送至遮罩檢查機；及遮罩方向補正程序，係以前述識別標記的方向作為基準，以使前述遮罩載置部上之前述EUV曝光用反射型遮罩的方向，成為與以前述設置方向決定程序所決定之前述空白光罩的設置方向相同的方向之方式，旋轉控制前述遮罩旋轉裝置。
8. 如申請專利範圍第7項之EUV曝光用反射型遮罩之製造方法，其中進一步具有：遮罩方向復歸程序，係將經以前述遮罩檢查機進行遮罩檢查的前述EUV曝光用反射型遮罩設置於前述遮罩載置部，旋轉控制前述遮罩旋轉裝置而將前述識別標記的方向回復為前述遮罩方向補正程序前的狀態。