JP2020525824A - 露呈方法、露出デバイス、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2017年7月5日に出願された欧州特許出願第17179804.4号の優先権を主張する。これは援用により全体が本願に含まれる。
a)生産的ターゲット部分(yielding target portion)を有する基板上の第1のエリア及び非生産的ターゲット部分(non-yielding target portion)を有する基板上の第2のエリアの位置を決定するステップと、
b)第2のエリア内のフィーチャを覆っている層のフィーチャ領域を少なくとも部分的に除去して第2のエリア内のフィーチャを露出させるステップと、
c)第2のエリア内の露出させたフィーチャの位置を測定するステップと、
d)第2のエリア内の露出させたフィーチャの測定位置に基づいて第1のエリア内のセンサターゲットの位置を決定することと、
e)第1のエリア内のセンサターゲットの決定位置を用いて第1のエリア内のセンサターゲットを覆っている層のセンサターゲット領域を少なくとも部分的に除去するステップと、
を含む。
層除去デバイスと、
フィーチャ位置決定デバイスと、
制御ユニットと、
を備え、制御ユニットは、生産的ターゲット部分を有する基板上の第1のエリア及び非生産的ターゲット部分を有する基板上の第2のエリアに関する情報を受信及び/又は記憶するように構成され、制御ユニットは更に、
第2のエリア内のフィーチャを覆っている層のフィーチャ領域を少なくとも部分的に除去して第2のエリア内のフィーチャを露出させるように層除去デバイスを制御し、
第2のエリア内の露出させたフィーチャの位置を測定するようにフィーチャ位置決定デバイスを制御し、
第2のエリア内のフィーチャの測定位置に基づいて第1のエリア内のセンサターゲットの位置を決定し、
第1のエリア内のセンサターゲットの決定位置を用いて第1のエリア内のセンサターゲットを覆っている層のセンサターゲット領域を除去するように層除去デバイスを制御する、
ように構成されている。
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成されたサポートと、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと、
を備える。
放射ビームB(例えばUV放射又はEUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1のポジショナPMに接続された支持構造(例えばマスクテーブル)MTと、
基板(例えばレジストコートウェーハ)Wを保持するように構成され、特定のパラメータに従って基板を正確に位置決めするように構成された第2のポジショナPWに接続された基板テーブル(例えばウェーハテーブル)WTa又はWTbと、
パターニングデバイスMAによって放射ビームBに付与されたパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば1つ以上のダイを含む)に投影するように構成された投影システム(例えば屈折投影レンズシステム)PSとを備える。
1.ステップモードでは、支持構造MT及び基板テーブルWTa/WTbは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに付与されたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光できるように、基板テーブルWTa/WTbがX方向及び/又はY方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Cのサイズが制限される。
2.別のモードでは、支持構造MTはプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTa/WTbを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTa/WTbを移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に利用できる。
Claims (15)
- 層で覆われた基板上のセンサターゲットを露出させるための方法であって、
a)生産的ターゲット部分を有する前記基板上の第1のエリア及び非生産的ターゲット部分を有する前記基板上の第2のエリアの位置を決定するステップと、
b)前記第2のエリア内のフィーチャを覆っている前記層のフィーチャ領域を少なくとも部分的に除去して前記第2のエリア内の前記フィーチャを露出させるステップと、
c)前記第2のエリア内の前記露出させたフィーチャの位置を測定するステップと、
d)前記第2のエリア内の前記露出させたフィーチャの前記測定位置に基づいて前記第1のエリア内のセンサターゲットの位置を決定することと、
e)前記第1のエリア内の前記センサターゲットの前記決定位置を用いて前記第1のエリア内の前記センサターゲットを覆っている前記層のセンサターゲット領域を少なくとも部分的に除去するステップと、
を含む方法。 - ステップb)において、実質的に離間している少なくとも2つのフィーチャを露出させる、請求項1に記載の方法。
- 前記層の前記フィーチャ領域及び/又は前記センサターゲット領域を除去する前記ステップはレーザアブレーションによって実行される、請求項1又は2に記載の方法。
- 少なくとも前記除去したセンサターゲット領域を充填するステップを更に含む、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- ステップa)において、非生産的ターゲット部分は前記基板のエッジにおける少なくとも不完全なターゲット部分である、請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- 前記フィーチャ領域の面積は前記センサターゲット領域の面積よりも大きい、請求項1から5のいずれかに記載の方法。
- 層で覆われた基板上のセンサターゲットを露出させるために構成された露出デバイスであって、
層除去デバイスと、
フィーチャ位置決定デバイスと、
制御ユニットと、
を備え、前記制御ユニットは、生産的ターゲット部分を有する前記基板上の第1のエリア及び非生産的ターゲット部分を有する前記基板上の第2のエリアに関する情報を受信及び/又は記憶するように構成され、前記制御ユニットは更に、
前記第2のエリア内のフィーチャを覆っている前記層のフィーチャ領域を少なくとも部分的に除去して前記第2のエリア内の前記フィーチャを露出させるように前記層除去デバイスを制御し、
前記第2のエリア内の前記露出させたフィーチャの位置を測定するように前記フィーチャ位置決定デバイスを制御し、
前記第2のエリア内の前記フィーチャの前記測定位置に基づいて前記第1のエリア内のセンサターゲットの位置を決定し、
前記第1のエリア内の前記センサターゲットの前記決定位置を用いて前記第1のエリア内の前記センサターゲットを覆っている前記層のセンサターゲット領域を除去するように前記層除去デバイスを制御する、
ように構成されている、露出デバイス。 - 前記層除去デバイスはレーザである、請求項7に記載の露出デバイス。
- 前記フィーチャ位置決定デバイスはカメラである、請求項7又は8に記載の露出デバイス。
- 前記フィーチャ領域の面積は前記センサターゲット領域の面積よりも大きい、請求項7から9のいずれかに記載の露出デバイス。
- 前記フィーチャ位置決定デバイスは更に、前記層除去デバイスによる層除去の結果を検査するように構成されている、請求項7から10のいずれかに記載の露出デバイス。
- 少なくとも前記除去されたセンサターゲット領域に別の材料を充填する充填デバイスを更に備える、請求項7から11のいずれかに記載の露出デバイス。
- 請求項8から12のいずれかに記載の露出デバイスを備えるリソグラフィ装置。
- 前記露出デバイスは前記リソグラフィ装置のフレームに取り付けられている、請求項13に記載のリソグラフィ装置。
- 請求項7から12のいずれかに記載の露出デバイス及び/又は請求項13又は14のいずれかに記載のリソグラフィ装置を使用するデバイス製造方法。
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