JP4488822B2 - 露光用マスクの製造方法、露光装置、半導体装置の製造方法およびマスクブランクス製品 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の第1の実施形態に係るフォトマスクの製造工程から半導体デバイスの製造工程までの流れを示す図である。
図2は、本発明の第2の実施形態に係るフォトマスクの製造工程から半導体デバイスの製造工程までの流れを示す図である。なお、図1と対応する部分には図1と同一符号を付してあり、構成や効果等の詳細な説明は省略する。
図3は、本発明の第3の実施形態に係るフォトマスクの製造工程から半導体デバイスの製造工程までの流れを示す図である。なお、図1と対応する部分には図1と同一符号を付してあり、構成や効果等の詳細な説明は省略する。
図4は、本発明の第4の実施形態に係るフォトマスクの製造工程から半導体デバイスの製造工程までの流れを示す図である。また、図5は、本実施形態の描画装置7aを模式的に示す図である。なお、図1と対応する部分には図1と同一符号を付してあり、構成や効果等の詳細な説明は省略する。
図6は、本発明の第5の実施形態に係るフォトマスクの製造工程から半導体デバイスの製造工程までの流れを示す図である。また、図7は、本実施形態の描画装置7bを模式的に示す図である。なお、図2と対応する部分には図2と同一符号を付してあり、構成や効果等の詳細な説明は省略する。
図8は、本発明の第6の実施形態に係るフォトマスクの製造工程から半導体デバイスの製造工程までの流れを示す図である。また、図9は、本実施形態の描画装置7cを模式的に示す図である。なお、図3と対応する部分には図3と同一符号を付してあり、構成や効果等の詳細な説明は省略する。
図10は、本発明の第7の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。
図11は、本発明の第8の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図10と対応する部分には図10と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
図12は、本発明の第9の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図10と対応する部分には図10と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
図13は、本発明の第10の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図10と対応する部分には図10と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
図14は、本発明の第11の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図10と対応する部分には図10と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
図15は、本発明の第12の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図14と対応する部分には図14と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
図16は、本発明の第13の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図14と対応する部分には図14と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
図17は、本発明の第14の実施形態に係るマスクブランクス製品を模式的に示す図である。なお、図15、図16と対応する部分には図15、図16と同一符号を付してあり、詳細な説明は省略する。
Claims (11)
- 露光用マスクとなるマスクブランクス基板に係る平坦度変化量データであって、露光装置内のチャック手段により前記マスクブランクス基板をチャックすることで生じる、前記マスクブランクス基板の平坦度の変化に係る平坦度変化量データを、生成または準備する工程と、
前記平坦度変化量データに基づいて、前記チャック手段により前記露光用マスクをチャックした状態で、前記露光用マスクのマスクパターンが所定の位置になるように、前記マスクブランクス基板の上に描画されるパターンの位置補正データを生成する工程と、
前記マスクブランクス基板の上にパターンを描画する工程であって、前記パターンに対応した描画データおよび前記位置補正データを描画装置内に入力し、前記パターンの描画位置を補正しながら前記パターンを描画する工程と
を含み、前記マスクブランクス基板の枚数は複数であり、かつ、各マスクブランクス基板毎に、前記三つの工程を行うことを特徴とする露光用マスクの製造方法。 - 前記平坦度変化量データを生成または準備する工程において、前記平坦度変化量データを生成する場合、前記チャック手段によりチャックされていない状態の前記マスクブランクス基板の平坦度と前記チャック手段によりチャックされた状態の前記マスクブランクス基板の予測平坦度とを準備する工程と、前記マスクブランクス基板の前記平坦度と前記マスクブランクス基板の前記予測平坦度とに基づいて、前記平坦度変化量データを生成することを特徴とする請求項1に記載の露光用マスクの製造方法。
- 前記平坦度変化量データを生成または準備する工程において、前記平坦度変化量データを生成する場合、前記チャック手段によりチャックされていない状態の前記マスクブランクス基板の平坦度と前記チャック手段に係るデータとを準備する工程と、前記マスクブランクス基板の平坦度と前記チャック手段に係るデータとに基づいて、前記平坦度変化量データを生成することを特徴とする請求項1に記載の露光用マスクの製造方法。
- 露光装置内のチャック手段によりチャックした状態の露光用マスクのマスクパターンが所定の位置になるように、前記露光用マスクとなるマスクブランクス基板の上に描画されるパターンの位置補正データを生成する位置補正データ生成手段と、
前記マスクブランクス基板の上に前記パターンを描画する描画手段であって、前記パターンに対応した描画データおよび前記位置補正データに基づいて、前記パターンの描画位置を補正しながら前記パターンを描画する描画手段と
を具備してなり、前記マスクブランクス基板の枚数は複数であり、かつ、各マスクブランクス基板毎に、前記位置補正データ生成手段により前記位置補正データを生成し、前記描画手段により前記パターンを描画することを特徴とする描画装置。 - 前記位置補正データ生成手段は、前記チャック手段によりチャックされていない状態の前記マスクブランクス基板の平坦度と前記チャック手段によりチャックされた状態の前記マスクブランクス基板の予測平坦度とに基づいて、前記位置補正データを生成することを特徴とする請求項4に記載の描画装置。
- 前記位置補正データ生成手段は、前記チャック手段によりチャックされていない状態の前記マスクブランクス基板の平坦度と前記チャック手段に係るデータとに基づいて、平坦度変化量データを生成し、前記平坦度変化量データに基づいて、前記位置補正データを生成することを特徴とする請求項4に記載の描画装置。
- 前記位置補正データ生成手段は、前記チャック手段により前記マスクブランクス基板をチャックすることで生じる、前記マスクブランクス基板の平坦度の変化に係る平坦度変化量データに基づいて、前記位置補正データを生成することを特徴とする請求項4に記載の描画装置。
- 半導体基板を含む基板上にレジストを塗布する工程と、
前記基板の上方に、請求項1ないし3のいずれか1項に記載の露光用マスクの製造方法により製造された露光用マスクを露光装置内に配置し、前記露光装置内のチャック手段により前記露光用マスクをチャックした状態で、前記露光用マスクを介して前記レジストに荷電ビームまたは光を照射した後、前記レジストを現像してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをマスクにして前記基板をエッチングして、パターンを形成する工程と
を含むことを特徴する半導体装置の製造方法。 - マスクパターンを含む露光用マスクとなるマスクブランク基板と、
露光装置内のチャック手段によりチャックされた状態の前記露光用マスクの前記マスクパターンが所定の位置になるように、前記マスクブランクス基板の上に描画されるパターンの位置補正データが記録された記録媒体と
を具備してなり、前記マスクブランク基板の枚数は複数であり、かつ、各マスクブランク基板毎に、前記位置補正データが前記記録媒体に記録されていることを特徴とするマスクブランクス製品。 - マスクパターンを含む露光用マスクとなるマスクブランク基板と、
露光装置内のチャック手段によりチャックされる際に生じる前記露光用マスクの平坦度変化量を予測した予測平坦度変化量データが記録された記録媒体と
を具備してなり、前記マスクブランク基板の枚数は複数であり、かつ、各マスクブランク基板毎に、前記位置補正データが前記記録媒体に記録されていることを特徴とするマスクブランクス製品。 - 前記チャック手段によりチャックされていない状態の前記マスクブランクス基板の平坦度および前記チャック手段によりチャックされた状態の前記マスクブランクス基板の予測平坦度の少なくとも一方が記録された記録媒体をさらに備えていることを特徴とする請求項9または10に記載のマスクブランクス製品。
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