WO2005085951A1 - マスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク取引システム - Google Patents

Abstract

　基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む複数の膜が形成されたマスクブランクのレジスト膜に対して、パターンデータに従ってパターン形成する際に、パターンと照合するための膜情報を、複数の膜それぞれについて取得する。

Description

明 細 書

マスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク取引システ ム

技術分野

[0001] 本発明は、半導体製造用のマスクブランクに関し、特に、マスクブランクの品質情報 の取得及び管理、並びに、マスクブランク及びマスクの製造に関する。

背景技術

[0002] 本発明に関連する従来技術として、 日本国特許公開公報特開 2003— 149793号 公報を挙げる。この公報に記載の技術によれば、ブランクメーカーが、検査結果に従 つて欠陥ランク別にブランクを分類し、欠陥情報を添付してマスクメーカーにブランク を供給することが記載されて 、る。

[0003] また、特開 2003— 248299号公報では、フォトマスク基板上の欠陥位置を正確に 把握するための技術が開示されている。

[0004] こうした従来の技術では、マスクブランクと共に提供される欠陥情報は、マスクブラン ク表面に存在する欠陥同士の相対的な位置関係を示すものの、マスクブランクと欠 陥情報の位置情報を対応させる基準が設けられて 、なかったために、欠陥情報があ つても実際のマスクブランク上のどこに欠陥があるのか正確に把握することができず、 描画'現像処理でのパターン不良が発生していた。更に、収納ケースに収納された マスクブランクの方向と、欠陥情報の方向を一致させる上での明確な保証がな力つた 。そのため、実際のマスクブランクと欠陥情報力 90度、 180度、 270度ずれることに より、描画'現像処理でのパターン不良が発生していた。これは、製造工程にて流通 ケース、カセット、収納ケース等の容器に収めた基板を取りだし、所定の処理を基板 に対して行った後、他の容器に再度収める際に、基板を収めた方向が先の容器と後 の容器とで同じであることを確認するための手段がな力 た力もである。

[0005] 従来、マスクメーカーがマスクを作製する上で、こうした欠陥情報で特に不都合はな かった。これは、従来の露光光源である i線 (波長 365nm)、 KrF (波長 248nm)等に おいては、許容できる欠陥のレベル、即ち、欠陥のサイズ及び個数の許容範囲がそ れほど狭くなかった力 である。

[0006] しかし、半導体デバイスの高集積ィ匕に伴 、、パターンが複雑化すると共に、ノター ンの線幅が狭くなつている。これに対応するため、露光光源の波長が短波長化され、 光源として ArF (波長 193nm)、 F2 (157nm)等が検討されており、その結果、マスク において許容できる欠陥のレベルが以前よりも厳しくなることが予想される。

[0007] また、パターンの複雑化及び微小化により、描画機にてパターンを描画してマスク を製造する際の所要時間とコストが飛躍的に増大している。このため、マスクブランク 起因によるパターン欠陥を抑える必要性が高まってきている。このようなパターン欠陥 には例えばパーティクルやピンホールと呼ばれる欠陥がある。

[0008] 他方、パターンの微細化に対応したマスクブランクとして、位相シフトマスクブランク の需要が高まって 、る。位相シフトマスクブランクの一種であるハーフトーン型位相シ フトマスクブランクは、ハーフトーン膜、遮光膜、場合によっては更にレジスト膜が形 成される。ハーフトーン膜は遮光機能と位相シフト機能を有し、遮光膜とは異なる役 割を有する。

[0009] このようなマスクの製造工程の歩留まり向上、工程の簡略化、コスト低減等を行うた めには、マスクブランクを構成する各膜の欠陥情報を得ることが必要となる。

[0010] 特許文献 1：特開 2003— 149793号公報

特許文献 2：特開 2003— 248299号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0011] しかし、従来の技術によれば、各膜の欠陥情報を取得する必要性がなぐ上述のよ うに最終出荷形態のマスクブランクを検査した結果のみが提供されて 、た。このため 、ブランクメーカーは、マスクブランクの製造工程において基板毎の欠陥情報を管理 しておらず、マスクブランクの各膜の欠陥情報をマスクメーカーに提供することができ なかった。

[0012] そのため、マスクメーカーにおいては、マスクブランク起因の欠陥を原因とする描画 •現像処理でのパターン不良の発生を抑制することができな力つた。また、通常、バタ ーン不良は、 FIB (focused ion beam、集束イオンビーム）やレーザー等を用いて パターン修正工程にて修正される力 パターンの複雑化'微小化が進んだため、修 正ができないケースが現れた。こうしたケースでは、マスクを一力も製造しなおさなけ ればならない。

[0013] 本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、マス クブランク力 マスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制す ることができるマスク作製支援方法を提供することである。また、別の目的は、マスク ブランク力 マスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制でき るように膜情報を付加したマスクブランクの提供方法、及びマスクブランクの製造方法 を提供することである。また、別の目的は、膜情報を利用して形成すべきパターンと 照合することで、製造歩留まりを向上し、製造コストを抑えることができる転写マスクの 製造方法を提供することである。

課題を解決するための手段

[0014] 上述の目的を達成するため、本発明は次のような技術を提供する。

[0015] (1)マスクブランクを構成する複数の膜の膜情報をマスクメーカーに提供し、マスク ブランクから前記膜をパターユングして転写マスクを作製する際、パターン形成不良 を抑制するためのマスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク製造 方法、該マスクブランクを使用して転写マスクを製造する方法を提供することである。

[0016] 詳しくは、マスクブランク製造工程において、基板に対し管理番号を付与し、複数 の膜の膜情報を管理番号に基づき照合する、または、複数の膜の各膜情報における 同一位置に形成された表面形態情報（凸部又は凹部）に基づ!/、て複数の膜の膜情 報を照合することにより、複数の膜情報間の位置情報が保証され、マスク作製時にお けるパターン不良を防止するものである。

[0017] 本発明の別側面は以下の通りである。

[0018] マスクブランクの製造工程において、生産に供される基板やマスクブランクの一つ 一つに対して管理番号を付与する等の手段を利用し、個体の識別を行う。

[0019] 次いで、前記基板上に複数の膜を順次積層するとともに、前記膜に関する膜情報 を取得する。

[0020] 膜情報とは、膜の表面情報、表面形態情報、例えば、膜面の凸形状、凹形状、そ れらの組合せ、或いは光学特性情報等を含む膜の状態情報であって、膜面の位置 情報に関連付けされている情報である。なおここで言う光学特性とは、透過率、反射 率、吸光率、位相差などを含む。

[0021] 基板上に積層された複数の膜それぞれについて取得された前記膜情報は管理番 号などに基づいて個体識別でき、情報どおしが照合されるので、マスクブランク個体 と取得された複数の膜情報との関係が保証されるとともに、複数の膜情報間の関係 が保証でき、また、複数の膜情報に含まれている位置情報により示されるマスクブラ ンク内の位置が保証される。

[0022] なお、ここで基板に関する基板情報を取得しても良い。

[0023] 基板情報とは、基板の表面情報、表面形態情報、例えば、基板面の凸形状、凹形 状、それらの組合せ、或いは光学特性情報等を含む基板の状態情報であって、基板 面の位置情報に関連付けされている情報である。なおここで言う光学特性とは、透過 率、反射率、吸光率、位相差などを含む。

[0024] 基板上に膜を形成するとともに、前記基板に関する基板情報と前記膜に関する膜 情報を取得すれば、基板情報と膜情報は前記管理番号などに基づいて個体識別で き、照合できるので、マスクブランク個体と、取得された基板情報及び膜情報との関 係が保証されるとともに、基板情報と膜情報との関係が保証でき、基板情報または膜 情報に含まれている位置情報により示されるマスクブランク内の位置が保証される。

[0025] また、基板に対して必ずしも管理番号を付与しなくてもよ!、。膜の表面形態は該膜 の下層の膜の表面形態、或いは基板の表面形態に従って形成されるので、複数の 膜情報或いは、膜情報と基板情報に含まれる形態情報を照合することにより、マスク ブランク個体と、取得された膜情報または基板情報との関係の保証ができ、複数の膜 情報間の関係または膜情報と基板情報との関係が保証でき、複数の膜情報に含ま れている位置情報とマスクブランク内の位置との関係が保証され、また、基板情報ま たは膜情報に含まれている位置情報とマスクブランク内の位置との関係が保証される

[0026] 本発明においては、基板と、基板上に形成された膜により構成されるマスクブランク 個体に対して、基板情報と膜情報、又は複数の膜情報力もなるマスクブランク情報が 取得されている。また、マスクブランク情報に含まれる位置情報はマスクブランク内の 位置が保証されている。即ち、本発明におけるマスクブランク情報はマスクブランクの 立体情報であり、マスクブランクの内部情報、即ちマスクブランク体内情報として認識 可能に取得されているところに特徴がある。

[0027] マスクブランク表面のみならずマスクブランク体内の情報が予め把握できるので、マ スク作製に際して不良な転写マスクの作製を防ぐことができる。

[0028] 本発明にお 、ては、マスクブランク情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、マ スタブランクの位置の基準点とが対応付けされて情報が取得される構成を含む。また 、前記基板情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、基板の位置の基準点とが 対応付けされて情報が取得される構成を含む。また、前記膜情報に含まれる位置情 報の位置の基準点と、基板又は膜の位置の基準点とが対応付けされて情報が取得 される構成を含む。

[0029] (2)表面形態情報と位置情報を含むマスクブランクの表面情報をマスクメーカーに 提供し、この表面情報とマスクブランクの表面形態とをそれぞれ設けた基準点によつ て対応付けられていることによって、マスク作製者がパターン形成の領域を特定でき るようにしたマスク作製支援方法、マスクブランク提供方法、マスクブランク製造方法、 該マスクブランクを使用して転写マスクを製造する方法を提供することである。

[0030] 詳しくは、マスクブランク製造の各工程及び、マスクメーカーにマスクブランクを提供 する際に使用する収納ケースにマスクブランクを収納する際、基板若しくは基板上に 設けた基準マークに従って基板の方向性を管理する (ある特定の方向に揃えておく） ことにより、マスクブランクにおける表面形態情報と位置情報を含む表面情報と、マス クブランクの表面形態の位置を対応させることができるので、マスク作製時における パターン不良を防止するものである。

[0031] ここで、膜情報とは、基板上に形成された直後の膜のそれぞれを検査して得られる 情報である。膜情報には、膜上の欠陥の位置 '大きさ'種別等を示す表面形態情報 や、膜材料が部分的に組成変化を起こした位置 ·範囲 ·組成変化後の状態等を含む 膜面内における組成分布を示す組成分布情報が含まれる。また、マスクブランク完成 後に表面となる最上位の膜の表面形態情報を含む表面情報を、マスクブランクの表 面情報と呼ぶ。

[0032] 本発明の別の側面は以下の通りである。

[0033] 前記マスクブランク情報をマスクメーカーに提供するに際して、マスクブランク情報と 、この情報に係るマスクブランク個体とを対応付け可能に提供することにより、マスク 作製者が該マスクブランクに所定のマスクパターンを形成すべき領域を選択できるよ うにしたマスク作製支援方法、マスクブランク情報提供方法、マスクブランク提供方法 、マスクブランク製造方法、該マスクブランクを使用して転写マスクを製造する方法を 提供することである。

[0034] 本発明にお 、ては、マスクブランク情報に含まれる位置情報の位置の基準点と、マ スタブランクの位置の基準点とが対応付けされている構成を含む。

[0035] 本発明にお 、ては、マスクブランク製造工程にお 、て、及び/又は、マスクメーカ 一にマスクブランクを提供する際において使用する収納具に基板又はマスクブランク を収納するに際し、基板又はマスクブランクの配列や方向性を管理する構成を含む。 例えば、複数の基板又は複数のマスクブランクをある所定の方向に揃えて収納して いく態様を含む。このとき、基板、膜又はマスクブランクに設けられた基準点を参照し て収納してもよい。

[0036] 例えばマスクブランク製造工程には、基板を準備する工程、基板情報を取得するェ 程 (例えば、基板検査工程)、基板上に膜を形成する工程、膜情報を取得する工程（ 例えば、膜の検査工程）、マスクメーカーにマスクブランクを提供するためにマスクブ ランクを収納具に収納する工程などが含まれるが、これらの工程で行われる基板又 はマスクブランクの収納作業にぉ 、て、基板又はマスクブランクの方向性を管理する ために、複数の基板又は複数のマスクブランクをある所定の方向に揃えて収納して いく態様を含む。

[0037] ここで言う収納具には例えば後述する保持具やケースが含まれる。ここでいう基準 点とは例えば識別可能なマークを利用できる。

[0038] 本発明において利用されるマーク、基準マークとしては、例えば後述するノッチマ ークと呼称されるような基板に付与されたマークや、膜マークと呼称されるような膜に 付与されたマークを利用することができる。 [0039] 以上のように収納されてマスクブランクが提供されると、マスクブランクが所定の配 列で、所定の方向性に揃って提供されるので、マスク作製者はマスクブランク個体を 識別でき、基準点を参照し又は参照すること無しに、マスクブランクの位置の基準点 を把握することができる。

[0040] 本発明によれば、マスク作製者は、マスクブランクの位置の基準点を媒介して、提 供されたマスクブランク情報を基に、転写マスクを作製しょうとするマスクブランクの表 面情報や内部情報を把握できるので、所定のマスクパターンを形成すべき領域を選 択できる。即ち、マスク作製者は所定のマスクパターンを形成するまえに、パターン不 良を生じせしめる、或いは転写マスクの所望の機能を阻害する表面欠陥や内部欠陥 の存在を把握することができるので製造歩留を向上せしめ、利益率の高い転写マス クの生産、或いは廉価な転写マスクの生産を行うことができる。

[0041] なお、本発明は、位相シフト膜、例えばノヽーフトーン膜が形成されたマスクブランク 、或いは転写マスクに関して利用することが好ましい。例えば、位相シフトマスクの一 種であるハーフトーン型位相シフトマスクは、透光性基板上にハーフトーン膜、遮光 膜が形成される。ハーフトーン膜は、露光光を実質的に遮断する遮光機能と露光光 の位相をシフトさせる位相シフト機能を兼ね備えるものであり、透過率と位相差を制御 して被転写体に転写されるパターンのパターンエッジを強調させる機能を有するもの である。ハーフトーン型位相シフトマスクは、透光性基板上にハーフトーン膜のパター ンが形成されており、ハーフトーン膜のパターンが形成されていない実質的に露光に 寄与する強度の光を透過させる光透過部と、ハーフトーン膜のパターンが形成されて いる実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる光半透過部とで構成し、かつ 、この光半透過部を透過した光の位相が光透過部を透過した光の位相に対して実質 的に反転した関係にすることによって、光半透過部と光透過部との境界部近傍を通 過し回折現象によって互いに相手の領域に回り込んだ光が互いに打ち消し合うよう にし、境界部における光強度をほぼゼロとし境界部のコントラストを向上させるもので ある。従って、ハーフトーン膜が形成されたマスクブランクに要求される品質は、単な る遮光膜だけを形成したマスクブランクに比べて高ぐさらに、マスクブランクにパター ユング処理を施して転写マスクを作製する場合にぉ 、て、不良率を下げる事が難し いのである。

[0042] 本発明は次のような技術を提供する。

[0043] 基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む複数の膜が形成されたマスクブ ランクから前記薄膜をパターユングして転写マスクを作製する際、パターン形成不良 を抑制するために、パターン形成する領域を特定するための膜情報をマスクメーカー に提供するマスク作製支援方法であって、膜情報は、マスクブランクを構成する複数 の膜から得られる情報であることを特徴とするマスク作製支援方法を提供する。

[0044] ノターンは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に 疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有することとしてもよい。

[0045] 膜情報は、パターン欠陥起因となる凸部又は凹部の種類、凸部又は凹部の大きさ 、凸部又は凹部の位置情報の何れかが含まれて 、ることとしてもよ!/、。

[0046] 位置情報は、基板に形成されているノッチマーク及び Z又は基板主表面上の周縁 部に形成された薄膜による膜マークを基準にして作られたものであることとしてもよい

[0047] マスクブランク情報、基板情報及び膜情報の一部乃至全部の提供は、通信回線を 利用して行われることとしてもよ!/、。

[0048] 膜は、露光光に対して位相シフト機能を有する位相シフト膜を含むこととしてもよ!ヽ

[0049] また、本発明は、上述のマスク作製支援方法をマスクブランクと共にマスクメーカー に提供するマスクブランク提供方法であって、マスクブランクは、収納ケース内に収納 され、且つ、該マスクブランクを保持すべく形成された保持スロットを備える保持具に よって保持して提供されるものであって、マスクブランク情報は、マスクブランクに間接 的に付与されるマスクブランク特定手段によって照合されることを特徴とするマスクブ ランク提供方法を提供する。

[0050] マスクブランク情報は、保持具のスロットに付与されたスロット番号によって照合され ることとしてちよい。

[0051] また、本発明は、マスクブランク用基板を準備する工程と、基板上に転写パターンと なる薄膜を形成する薄膜形成工程と、薄膜の膜情報を取得する薄膜情報取得工程 と、薄膜情報取得工程で取得された薄膜の膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存す る薄膜情報記録工程と、薄膜上にレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、レジ スト膜の膜情報を取得するレジスト膜情報取得工程と、レジスト膜情報取得工程で取 得されたレジスト膜の膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存するレジスト膜情報記録 工程と、薄膜の膜情報とレジスト膜の膜情報を照合する膜情報照合工程とを有する マスクブランクの製造方法を提供する。

[0052] なお、ここで、マスクブランク用基板を準備する工程の後に、該基板の基板情報を 取得する基板情報取得工程を含んでも良ぐ更に、基板情報取得工程で取得された 基板情報を情報蓄積媒体に記録し保存する基板情報記録工程を含んでも良い。ま た、基板情報と膜情報とを照合する照合工程とを有しても良 ヽ。

[0053] マスクブランクス用基板を準備した後、マスクブランクス用基板に管理番号を付与す る管理番号付与工程を有し、付与された管理番号に基づき薄膜の膜情報とレジスト 膜の膜情報とを照合することとしてもよい。また、基板情報と膜情報を照合してもよい

[0054] 基板情報又は膜情報は、凸部又は凹部の種類、凸部又は凹部の大きさ、凸部又は 凹部の位置情報の何れかが含まれて 、ることとしてもよ!/、。

[0055] 位置情報は、基板に形成されているノッチマーク及び Z又は基板主表面上の周縁 部に形成された薄膜による膜マークを基準にして作られたものであることとしてもよい

[0056] 基板情報や薄膜の膜情報やレジスト膜の膜情報は、基板情報や薄膜の膜情報とレ ジスト膜の膜情報に含まれる同一位置に形成された特定の形態、例えば凸部又は凹 咅によって照合することとしてもよ!/、。

[0057] また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成され たマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って前記薄膜をパター- ングし転写マスクを作製する転写マスクの製造方法であって、上述のマスク作製支援 方法によって得たマスクブランク情報と、前記パターンデータとを照合し、パターン形 成不良を抑制するように、マスクブランクにおけるパターン形成する領域を特定するこ とを特徴とする転写マスクの製造方法を提供する。 [0058] パターンは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に 疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有することとしてもよい。

[0059] また、本発明には次の発明も包含される。即ち、基板上に少なくとも転写パターンと なる薄膜を含む膜が形成されたマスクブランクから薄膜をパターユングして転写マス クを作製する際、パターン形成の不良を抑制するためにパターン形成する領域を特 定するために必要なマスクブランク情報をマスク作製者に提供するマスク作製支援方 法において、マスクブランク情報は、表面形態情報を含み、マスク作製者に提供され るマスクブランクにおける表面形態の位置の基準点と、表面形態情報に対応する位 置情報の基準点とが対応しており、マスク作製者は基準点を媒介してマスクブランク 情報をマスクブランクに反映させ、マスクブランクの状態を把握し、パターン形成すベ き領域を特定できるようにしたことを特徴とするマスク作製支援方法を提供する。

[0060] 基板若しくは基板上に基準マークを設け、位置情報の基準点は、基準マークとある 一定の関係を持って作成され、マスクブランクにおける表面形態の位置の基準点と 対応して!/、ることとしてちよ!、。

[0061] 基板又は膜若しくはマスクブランクに基準マークを設け、基板情報又は膜情報の取 得に際して、前記情報に含まれる位置情報の基準点が前記基準マークと一定の関 係を有するように情報を作成することによって、マスクブランク情報の位置の基準点と 提供されるマスクブランクの位置の基準点とを対応させてもよい。

[0062] 基準マークは、基板又はマスクブランクの向きや方向を特定可能に付与することが 好ましい。

[0063] 基準マークは基板又はマスクブランクの角部に隣接する部位に付与することが好ま しい。基準マークを偶数部位に付与する場合においては、基板又はマスクブランクを 平面視したときに、一の基準マークに対する回転対称の部位に他の基準マークを付 与しないこととすれば、基板又はマスクブランクの向きや方向性の特定が容易である ので好ましい。

[0064] 基準マークは、基板の方向性を特定できる形状とすることとしてもよい。

[0065] 基準マークは、基板の辺に対して平行でかつ基板中心を通る線に対して非対象の 位置に設けることとしてもょ 、。 [0066] 基準マークは、基板に形成されているノッチマーク及び Z又は基板主表面上に形 成された薄膜による膜マークであることとしてちょ 、。

[0067] 基板情報や膜情報は、基準マークを基準にして特定の方向で取得した情報である こととしてちよい。

[0068] 転写パターンとなる薄膜を含む膜を基板上に形成する膜形成工程と、膜の表面情 報を取得する表面情報取得工程と、を有し、膜形成工程及び表面情報取得工程に ぉ 、て、基準マークを基準にして基板又はマスクブランクの方向性を管理することと してちよい。

[0069] マスクブランクを製造する際の各工程において、基板又はマスクブランクを各工程 に搬送する際に使用するケースに基板又はマスクブランクを収納する際、基準マーク を基準にして基板又はマスクブランクの方向性を管理することとしてもよい。

[0070] 以上のように基板又はマスクブランクの方向性が所定に管理される、即ち、複数の 基板又はマスクブランクの向きが一定になるように配列され、情報を取得されるに際 しても、複数の基板又はマスクブランクが一定の方向に揃えられて情報が取得されて V、くと本発明にとつて好適である。

[0071] 表面情報は、基板の表面情報、膜の表面情報のうち少なくとも 1つを含むものであ ることとしてちよい。

[0072] 膜の表面情報は、位相シフト膜の表面情報を含むこととしてもよ!、。

[0073] 表面形態は、マスクブランク力も薄膜をパターユングして転写マスクを作製する際、 パターン形成不良となる表面粗さやうねり、凸部及び Z又は凹部、異物や凹み、膜 抜け、更には、欠陥検査装置によって取得されるパーティクル状欠陥及び Z又はピ ンホール状欠陥を含むこととしてもよ!、。

[0074] 表面情報には、粗さやうねりの高さや波長や周期、凸部の高さや大きさ、凹部の深 さや大きさ、異物の高さや大きさ、凹みの深さや大きさ、パーティクルの高さや大きさ 、ピンホールの深さや大きさの情報が含まれて 、ることとしても良 、。

[0075] パターンは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相対的に 疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有することとしてもよい。

[0076] 疎パターン形成領域は、電気特性を試験するために形成されたモニターチップ形 成領域であることとしてもよ 、。

[0077] 転写マスクは、システム LSI製造用転写マスクであることとしてもよい。

[0078] 複数枚のマスクブランクと、各マスクブランクに対応したマスクブランク情報をマスク 作製者に提供することとしてもよ 、。

[0079] また、本発明は、上述のマスク作製支援方法を行うためのマスクブランク取引システ ムであって、マスクメーカーに納める複数のマスクブランクに対して直接的又は間接 的に各マスクブランクを特定する管理番号又は管理記号を付与し、マスクブランク情 報は、管理番号又は管理記号と関連付けてマスクブランクとともに、マスクメーカーに 提供することを特徴とするマスクブランク取引システムを提供する。

[0080] 管理番号又は管理記号は、マスクブランクを保持すべくスロットが形成された保持 具、及び該保持具を収納する収納ケースに付与されたスロット番号及びケース番号 であることとしてもよい。

[0081] マスクブランク情報は、通信回線を利用してマスクメーカーに提供することとしてもよ い。

[0082] マスクブランク情報は、管理番号又は管理記号と関連付けて情報蓄積手段 (サー バー）に保存され、マスクメーカーは、通信回線を利用して情報蓄積手段 (サーバー )にアクセスし、管理番号又は管理記号を元にマスクブランク情報を得ることとしてもよ い。

[0083] また、本発明は、マスクブランク用基板を準備する工程と、基板の主表面上に転写 パターンとなる薄膜を含む膜を形成する膜形成工程と、薄膜をパターユングして転写 マスクを作製する際、パターン形成の不良を抑制するためにパターン形成する領域 を特定するために必要なマスクブランクの表面情報を取得する表面情報取得工程と 、表面情報を情報蓄積媒体に記録し保存する表面情報保存工程と、を有するマスク ブランク製造方法であって、基板若しくは基板上に基準マークを設け、該基準マーク を基準にして特定の方向で表面情報を取得することを特徴とするマスクブランク製造 方法を提供する。

[0084] 基準マークは、基板の方向性を特定できる形状とすることとしてもよい。

[0085] 基準マークは、基板の辺に対して平行で且つ基板中心通る線に対して非対象の位 置に設けることとしてもよい。

[0086] 基準マークは、基板に形成されているノッチマーク及び Z又は基板主表面上に形 成された薄膜による膜マークであることとしてちょ 、。

[0087] マスクブランクを製造する際の各工程において、基板を各工程に搬送する際に使 用するケースに基板を収納する際、基準マークを基準にして基板の方向性を管理す ることとしてちよい。

[0088] マスクブランク用基板を準備した後、マスクブランク用基板に基板を特定する管理 番号を直接的又は間接的に付与する管理番号付与工程を有し、付与された管理番 号に基づき製造されたマスクブランクの表面情報を照合することとしてもよい。

[0089] さらにマスクブランクを収納ケース内に収納し梱包する梱包工程と、を有し、マスク ブランクは、収納ケース内に収納されたマスクブランクを保持すべくスロットが形成さ れた保持具によつて保持され、該マスクブランクと表面情報とを照合するためのマスク ブランク特定手段力 マスクブランクに直接的又は間接的に付与されて収納すること としてちよい。

[0090] マスクブランク特定手段は、保持具及び収納ケースに付与されたスロット番号及び ケース番号であることとしてもよ 、。

[0091] また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成され たマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターユング し転写マスクを作製する転写マスクの製造方法であって、上述のマスク作製支援方 法によって得たマスクブランクにおける表面形態の位置が対応付けされたマスクブラ ンクの表面情報と、パターンデータと照合し、パターン形成の不良を抑制するように、 マスクブランクにおけるパターン形成する領域を特定することを特徴とする転写マスク の製造方法を提供する。

[0092] パターンデータは、相対的に密なパターンが形成される密パターン形成領域と、相 対的に疎なパターンが形成される疎パターン形成領域とを有するものであり、表面情 報にパターン不良となる表面形態が含まれている場合、表面情報とパターンデータと を照合して、パターン不良となる表面形態が、密パターン形成領域以外に配置される ように、マスクブランクに対するパターンデータの配置を特定することとしてもよ 、。 [0093] また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成され たマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターユング し転写マスクを作製する転写マスクの製造方法であって、前記マスクブランクにパタ 一ユング処理を行う前に、本発明になるマスク作製支援方法によって得られた該マス クブランクに係るマスクブランク情報と前記パターンデータとを照合し、パターン形成 の不良を抑制するように、及び Z又は、転写マスクの機能が阻害されないように、該 マスクブランクにおける前記パターンを形成すべき領域を選択することを特徴とする 転写マスクの製造方法を提供する。

[0094] 前記パターンデータは、相対的に密なパターンを有する領域と、相対的に疎なパタ ーンを有する領域とを含むものであり、前記マスクブランク情報にパターン不良の原 因となる、或いは、転写マスクの機能を阻害する原因となる状態情報、即ち、形態情 報や光学特性情報等が含まれて 、る場合に、該状態の存在する位置以外の位置を 選択して相対的に密なパターンを形成する領域を配置することができる。

[0095] また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成され たマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターユング し転写マスクを作製する転写マスク作製者を支援するための転写マスク作製支援方 法であって、

前記マスクブランクにパターニング処理を行う前に、本発明により予め取得された該 マスクブランクに係る前記マスクブランク情報と前記パターンデータとを照合し、パタ ーン形成の不良を抑制するように、及び Z又は、転写マスクの機能が阻害されないよ うに、該マスクブランクにおける前記パターンを形成すべき領域を選択する転写マス クの作製支援方法を提供する。

[0096] また、本発明は、基板上に少なくとも転写パターンとなる薄膜を含む膜が形成され たマスクブランクを使用し、形成すべきパターンデータに従って薄膜をパターユング し転写マスクを作製する転写マスク作製者を支援するための転写マスク作製支援方 法であって、

マスクブランクにパターユング処理を行う前に、本発明により予め取得されたマスク ブランクに係るマスクブランク情報と前記パターンデータとを照合し、パターン形成の 不良を抑制するために、及び Z又は、転写マスクの機能が阻害されないようにするた め、特定のマスクブランクを選択する転写マスクの作製支援方法を提供する。

[0097] 疎パターン形成領域が、電気特性を試験するために形成されたモニターチップ形 成領域であることとしてもよ 、。

[0098] 転写マスクは、システム LSI製造用転写マスクであることとしてもよい。

[0099] また、本発明は、上述のマスク作製支援方法をマスクブランクと共にマスクメーカー に提供するマスクブランク提供方法であって、マスクブランクは、収納ケース内に収納 され、収納ケース内に収納されるマスクブランクの方向性と、表面情報を取得する表 面情報取得工程における基板の方向性とを、基準マークで対応付けされていることと しても良い。

[0100] マスクブランクを製造する際の各工程において、基板を各工程に搬送する際に使 用するケースに基板を収納する際、基準マークを基準にして基板の方向性を管理す ることとしてち良い。

[0101] 本発明のマスクブランク情報取得方法は、次のように言うこともできる。

[0102] 即ち、基板面上に積層された複数の膜を備えるマスクブランクに係る情報であるマ スタブランク情報を取得する方法において、マスクブランク情報は、基板情報及び一 以上の膜情報、又は、二以上の膜情報を含み、基板情報は、基板面に対応する平 面座標系（二次元座標系）における位置情報と、位置情報に関連付けられた基板の 状態を示す状態情報とを含み、一の膜情報は、一の膜に対応する平面座標系にお ける位置情報と、位置情報に関連付けられた当該膜の状態を示す状態情報とを含み 、マスクブランク情報に含まれる基板情報又は膜情報の平面座標系は、定められた 対応関係を有することを特徴とするマスクブランク情報取得方法を、本発明は提供す る。

[0103] 例えば、基板面上又は基板面上に成膜された他の膜の上に第 1の膜を成膜する段 階と、成膜された第 1の膜の状態に係る第 1の膜情報を取得する段階と、第 1の膜の 上に第 2の膜を成膜する段階と、成膜された第 2の膜の状態に係る第 2の膜情報を取 得する段階と、第 1の膜情報及び第 2の膜情報を含むマスクブランク情報を生成する 段階とを含むように実施されることとしてもよい。 [0104] 或 ヽは、基板を準備する段階と、準備した基板の状態に係る基板情報を取得する 段階と、基板の面上に膜を成膜する段階と、成膜された膜の状態に係る膜情報を取 得する段階と、基板情報及び膜情報を含むマスクブランク情報を生成する段階とを 含むこととしてもよい。

[0105] 基板情報及び膜情報に含まれる平面座標系の基準点は、互いに予め定められた 関係を有することとしてもよいし、或いは、基板に形成されたマーク及び膜に形成され たマークの少なくとも一方を基準として定められることとしてもよ!/、。

[0106] 基板情報及び Z又は膜情報を互いに照合する段階を更に含むこととしてもよい。

[0107] 状態情報は、表面形態に関する情報及び光学特性に関する情報のうち少なくとも 一方を含むこととしてもよい。

[0108] 膜の少なくとも 1つは、露光光の位相をシフトする位相シフト膜であることとしてもよ い。

[0109] 複数の膜の膜情報を平面に投影して生成した情報を、マスクブランク情報に含むこ ととしてもよ 、。

[0110] 基板の向きを示す情報を基板に付与するには、複数の手法が考えられる。例えば

、膜情報の取得に先立って、基板上及び Z又は膜上の予め定められた位置に、状 態情報として検出可能な基準マークを付与する段階を更に含み、基準マークに基づ いて定めた基板の向きを示す情報を、マスクブランク情報に含むこととしてもよい。ま たは、基準マークは、方向を特定可能な形状を有することとしてもよい。または、基板 の輪郭は回転対称性を有する形状であって、付与された基準マークを含む基板の形 状は、回転非対称性を有することとしてもよい。基板の代表的な輪郭は正方形及び 長方形を含む方形である。

[0111] 基準マークを付与する場合、装置 Aにて基板上に膜 aを成膜すると共に、膜 aを測 定して基準マークを含む膜情報 aを取得する段階と、その基板を装置 Aから取り出す 段階と、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに 収納する段階と、ケースを装置 Bに搬送する段階と、基準マークを基準として、その 基板を予め定められた向きにして、装置 Bに設置する段階と、装置 Bにてその基板上 に膜 bを成膜すると共に、膜 bを測定して基準マークを含む膜情報 bを取得する段階 とを含むこととしてもよい。

[0112] また、基準マークを付与する場合、基板を測定装置に設置して基板を測定し、基準 マークを含む基板情報を取得する段階と、その基板を測定装置力 取り出す段階と 、基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納す る段階と、ケースを装置 Aに搬送する段階と、基準マークを基準として、その基板を予 め定められた向きにして、装置 Aに設置する段階と、装置 Aにて基板上に膜 aを成膜 すると共に、膜 aを測定して基準マークを含む膜情報 aを取得する段階とを含むことと してちよい。

[0113] 取得したマスクブランク情報を参照することにより、マスクブランクの個体を識別する こととしてちよい。

[0114] 状態情報は少なくとも 2種類の測定値を含むこととしてもよい。

[0115] 基板情報及び膜情報の少なくとも一方は、基板情報及び膜情報の少なくとも一方 は、基板または膜の厚さ方向の座標を更に含む立体座標系における位置情報を含 むこととしてちよい。

[0116] また、本発明は、基板上に複数の膜を重ねて成膜して作製されるマスクブランクに 係る情報であるマスクブランク情報を提供する方法にぉ 、て、上述のマスクブランク 情報取得方法にて取得したマスクブランク情報を、そのマスクブランクと共に提供す ることを特徴とするマスクブランク情報提供方法を提供する。

[0117] また、本発明は、マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作 製を支援する方法において、上述のマスクブランク情報提供方法により、マスクメー カーにマスクブランク情報を提供する段階を含み、提供するマスクブランク情報は、 不良な転写マスクの作製を防ぐため、対応するマスクブランクにマスクパターンを形 成するのに先立って、マスクブランク上のマスクパターンを形成する領域を特定する 際に参照されることを特徴とする転写マスク作製支援方法を提供する。

[0118] また、本発明は、マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作 製を支援する方法において、上述のマスクブランク情報提供方法により、マスクメー カーにマスクブランク情報を提供する段階を含み、マスクメーカーに対し、マスクブラ ンク情報中の座標系の基準点を、基準マークを介して通知する方法であって、提供 を受けたマスクメーカーは、基準マークを介して、平面座標系間の対応関係を取得し 、取得した対応関係及びマスクブランク情報に基づいて、マスクパターンを形成すベ き領域を定めることを特徴とする転写マスク作製支援方法を提供する。

[0119] この転写マスク作製支援方法において、マスクブランクに形成されるマスクパターン は、相対的に密なパターンのブロックと、相対的に疎なパターンのブロックとを含むこ ととしてもよ 、。

[0120] また、本発明は、マスクブランクに転写パターンとなるマスクパターンを形成して転 写マスクを製造する方法において、上述のマスクブランク情報取得方法により取得さ れたマスクブランク情報に基づ 、て、マスクブランクにマスクパターンを配置する領域 を定めることを特徴とする転写マスク製造方法を提供する。

[0121] また、本発明は、マスクブランクの製造方法において、上述のマスクブランク情報取 得方法を含むことを特徴とするマスクブランク製造方法を提供する。

[0122] また、本発明は、基板面上に積層された複数の膜を備えるマスクブランクに係る情 報であるマスクブランク情報を取得するシステムにお 、て、基板の状態に係る基板情 報を取得する手段、基板面上又は基板面上に成膜された他の膜の上に成膜された 第 1の膜の状態に係る第 1の膜情報を取得する手段、及び基板面上に成膜された第 1の膜以外の膜である第 2の膜の状態に係る第 2の膜情報を取得する手段のうち、少 なくとも 2つの情報取得手段を備え、更に、当該情報取得手段にて取得した情報を 含むマスクブランク情報を生成する手段を備えることを特徴とするマスクブランク情報 取得システムを提供する。

[0123] このマスクブランク情報取得システムにお 、て、基板情報は、基板面に対応する平 面座標系における位置情報と、位置情報に関連付けられた基板の状態を示す状態 情報を含み、一の膜情報は、一の膜に対応する平面座標系における位置情報と、位 置情報に関連付けられた当該膜の状態を示す状態情報を含み、マスクブランク情報 に含まれる基板情報又は膜情報の平面座標系は、定められた対応関係を有すること としてちよい。

[0124] 上述のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、基板は多角形であって、基板の互 いに接する二側辺に挟まれた領域に、基準マークを付与することとしてもよい。 [0125] 上述のマスクブランク情報取得方法において、偶数個の基準マークを、互いに回転 非対称の位置に付与することとしてもよい。

[0126] また、マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援す る方法において、上述のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーに複数 のマスクブランクのマスクブランク情報を提供する段階を含み、提供するマスクブラン ク情報は、マスクパターンを形成するのに先立って、複数のマスクブランクの一を選 択する際に参照されることを特徴とする転写マスク作製支援方法を、本発明は提供 する。

[0127] 上述のマスクブランク情報取得方法において、膜情報 bを取得する段階の後、基準 マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納する段階 を更に含むこととしてもよい。

[0128] 上述のマスクブランク情報取得方法において、膜情報 aを取得する段階の後、基準 マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収納する段階 を更に含むこととしてもよい。

[0129] マスクブランクを提供する方法において、マスクブランクと共に、上述のマスクブラン ク情報取得方法にて取得した当該マスクブランクに係るマスクブランク情報を提供す ることを特徴とするマスクブランク提供方法を、本発明は提供する。

発明の効果

[0130] マスクブランクの製造過程を通じて、基板情報、膜情報の向きと、実際の基板の向 きとを一致させることができる。また、仮に製造過程において基板を誤った向きで取り 扱ったとしても、基板情報 '膜情報を相互に比較することにより、向きの誤りを検出す ることがでさる。

[0131] 取得した基板情報 '膜情報に基づいて、個々のマスクブランクを識別することができ る。即ち、基板情報'膜情報を一種の識別子として用いることが出来る。

[0132] 基板の向きと対応した基板情報、膜情報を提供することにより、マスクブランクの基 板及び膜の各層に存在する欠陥の位置を正確に伝達することができる。

[0133] マスクブランクの各層の欠陥を正確に伝達することができるので、欠陥部を避けて マスクを作製することが可能となり、マスクのパターン不良を防止することができる。 [0134] また、欠陥を有する部位であっても、その種類 '大きさ'数等と、描こうとするパター ンの形状'粗密等に応じては、パターンを描いても問題がないと予め判断することが 可能であり、マスクブランクの有効利用を図ることができる。

図面の簡単な説明

[0135] [図 1]図 1は、本発明のマスクブランク膜情報取得方法を説明するためのフローチヤ ートである。

[図 2A]図 2Aは、マスクブランクの収納ケース 10について説明するための断面図であ る。

[図 2B]図 2Bは、マスクブランクの収納ケース 10について説明するための平面図であ る。

[図 3A]図 3Aは、マスクブランクの表裏を示すトレーマーク 31について説明するため の図である。

[図 3B]図 3Bは、マスクブランクの表裏を示すノッチマーク 1について説明するための 図である。

[図 4]図 4は、本発明のマスクブランク膜情報 (表面情報)取得工程により取得される マスクブランク膜情報 (表面情報)の一例を説明するためのグラフである。

[図 5]図 5は、本発明のマスクブランク膜情報管理システム 50について説明するため のブロック図である。

[図 6]図 6は、ホストコンピュータ 51について説明するためのブロック図である。

[図 7]図 7は、カセット番号、スロット番号付与装置 52について説明するためのブロッ ク図である。

[図 8]図 8は、 1次膜成膜装置 53について説明するためのブロック図である。

[図 9]図 9は、 1次膜欠陥検査装置 54について説明するためのブロック図である。

[図 10]図 10は、レジスト膜成膜装置 57について説明するためのブロック図である。

[図 11]図 11は、マスク作製支援システム 110について説明するためのブロック図であ る。

[図 12]図 12は、発注者 Zマスク工場 12内のマスク製造工程でパターンの描画 ·現像 処理を説明するためのフローチャートである。 [図 13A]図 13Aは、マスク製造工程の描画 ·現像処理を受ける前のマスクブランクの 断面図である。

[図 13B]図 13Bは、マスク製造工程を経て作製された転写マスクの断面図である。

[図 14]図 14は、ブランク膜情報及びマスクパターンデータに基づいて行う疎パターン 形成領域及び密パターン形成領域の配置について説明するための図である。

[図 15]図 15は、本発明のマスク作製支援方法において、マスクブランクの製造工程と 、マスクブランクの製造過程にぉ 、てマスクブランクの膜情報を取得し保存する方法 を説明するためのフローチャートである。

[図 16A]図 16Aは、マスクブランクのノッチマーク 1について説明するための図である

[図 16B]図 16Bは、マスクブランクの膜マーク 31について説明するための図である。

[図 17]図 17は、本発明のマスクブランク膜情報 (表面情報)取得工程により取得され るマスクブランク膜情報 (表面情報)の一例を説明するためのグラフである。

[図 18A]図 18Aは、マスクブランクを収納する収納ケース 10について説明するための 断面図である。

[図 18B]図 18Bは、マスクブランクを収納する収納ケース 10について説明するための 平面図である。

[図 19]図 19は、マスク作製支援システム 110について説明するためのブロック図であ る。

[図 20]図 20は、マスク工場 112が、ブランク膜情報を利用して、マスクブランクのレジ スト膜に描画'現像処理してパターンを形成する工程を有するマスク製造工程を説明 するためのフローチャートである。

[図 21A]図 21Aは、マスク製造工程の描画'現像処理を行う前のマスクブランクの断 面図である。

[図 21B]図 21Bは、マスク製造工程を経て作製された転写マスクの断面図である。

[図 22]図 22は、ブランク膜情報及びマスクパターンデータに基づいて行う疎パターン 形成領域及び密パターン形成領域の配置について説明するための図である。

[図 23]図 23は、本発明のマスクブランク膜情報管理システム 50について説明するた めのブロック図である。

[図 24]図 24は、カセット番号、スロット番号付与装置 52について説明するためのブロ ック図である。

[図 25]図 25は、ホストコンピュータ 51について説明するためのブロック図である。

[図 26]図 26は、 1次膜成膜装置 53について説明するためのブロック図である。

[図 27]図 27は、 1次膜欠陥検査装置 54について説明するためのブロック図である。

[図 28]図 28は、レジスト膜成膜装置 57について説明するためのブロック図である。 符号の説明

1 ノッチマーク

2 流通ケース

2，、 4，、 5，、 7，、 8 '、 9，、 10， IDタグ

3、 6、 31 膜マーク

4、 5、 7、 8、 9、 10 流通ケース

20 収納ケース

21 ケース番号

22 蓋

23 外箱

24 内箱

25 スロット

26 j面表示

50 マスクブランク生産ライン制御システム

51 ホストコンピュータ

52 カセット番号'スロット番号付与装置

53 1次膜成膜装置

54 1次膜欠陥検査装置

55 2次膜成膜装置

56 2次膜欠陥検査装置

57 レジスト膜成膜装置 レジスト膜欠陥検査装置

マスク作製支援システム

マスクブランク工場

マスク工場

データ通信回線 (インターネット）

サーバ

マスクパターン

密パターン形成領域

疎パターン形成領域

データ送受信部

工程フロー蓄積部

情報蓄積部

欠陥情報照合部

入力部

データ送受信部

ローダーポート

データ送受信部

レシピ番号ースパッタ条件照合部

スパッタ条件蓄積部

スパッタ条件制御部

スパッタ装置

スロット番号、スノッタ実績、アンローダースロット番号収集部 アンローダーポート

データ送受信部

カセット番号 レシピ番号照合部

ローダーポート

欠陥検査条件蓄積部

欠陥検査条件制御部 546 欠陥検査装置

547 アンローダーポート

548 アンローダーカセット番号、アンローダースロット番号付与部

571 データ送受信部

572 ローダーポート

573 RCレシピ No. —レジスト塗布条件、レジスト加熱条件、レジスト冷却条件照合 部

574 レジスト塗布条件、レジスト加熱条件、レジスト冷却条件蓄積部

575 レジスド塗布条件、レジスト加熱条件、レジスト冷却条件制御部

576 レジスト塗布装置

577 加熱装置

578 冷却装置

579 アンローダーポート

580 スロット番号、レジスト塗布実績、アンローダースロット番号付与部

発明を実施するための最良の形態

[0137] 本発明の第 1の実施の形態であるマスクブランク膜情報取得方法について説明す る。尚、以下実施の形態の説明において、膜情報は、上述のとおり表面情報を含む ものであり、膜情報をそのまま表面情報と読み力えることができる。

[0138] マスクブランク膜情報取得方法は、ガラス基板に 1次膜、 2次膜、レジスト膜を形成し て製造したマスクブランクを収納ケースに収納するまでの工程と並行して行われる。 1 次膜、 2次膜及びレジスト膜のそれぞれを形成する毎に、各膜の検査を行ってその結 果に応じた 1次膜膜情報、 2次膜膜情報及びレジスト膜膜情報を生成してホストコン ピュータに登録する。ホストコンピュータはこれら膜情報をまとめてマスクブランク膜情 報を生成して蓄積し、外部からの要求に応じて蓄積したマスクブランク膜情報を紙- 電子媒体'通信回線等に出力する。

[0139] 図 1を参照すると本図は点線にて上中下の三段に分かれている。下段は工程の流 れを示し、中段は各工程に対応した製造過程のマスクブランクを示し、上段は検査ェ 程で生成される膜情報を示す。以下、下段の工程の流れに沿って説明する。 [0140] (1)基板加工工程

ノッチマーク 1が形成されたガラス基板の準備する。ノッチマークは形状によって基 板の硝種を示している。次に、ガラス基板の表面を研肖 1』·研磨加工し、所望の表面粗 さと平坦度に仕上げる。研磨工程で使用した研磨剤を除去するためにガラス基板を 洗浄した後、 IDタグがついた流通ケース 2にガラス基板を収納する。流通ケース 2に はノッチマーク 1を基準にガラス基板の方向を揃えて収納されて 、る。

[0141] (2) 1次膜成膜工程

生産管理を行うホストコンピュータを使用し、流通ケース 2に添付した IDタグに、各 基板を管理する管理番号を付与する。ホストコンピュータは、製造工程の順序、製造 条件の設定、各製造工程の情報を収集して記録'保存する。流通ケース 2内に収納 されたガラス基板をスパッタリング装置に搬入して、ノッチマーク 1が形成されて!、る 側と反対側に、 1次膜である MoSiNハーフトーン膜を反応性スパッタリングにより成 膜する。この時、基板保持具により MoSiN膜が形成されない箇所に膜マーク 3が形 成される。 MoSiNハーフトーン膜付き基板を流通ケース 2とは別の流通ケース 4に収 納する。これと共に、 1次膜成膜終了の情報がホストコンピュータに保存される。流通 ケース 4の添付の IDタグに管理番号が転送される。流通ケース 4にノッチマーク 1 (又 は膜マーク 3)を基準に基板の方向を揃えて収納される。

[0142] (3) 1次膜検査工程

流通ケース 4に収納されたハーフトーン膜付き基板を、 1次膜の欠陥を検査する欠 陥検査装置に搬入し、欠陥検査を行って膜情報を取得する。膜情報 (膜の表面情報 )として、欠陥の位置情報、欠陥のサイズ (大きさをランク別で表示）、欠陥の種類 (ピ ンホール、パーティクル、その他）力 管理番号毎にホストコンピュータに保存される。 ここで取得した膜情報を 1次膜膜情報と呼ぶ。欠陥検査が完了した基板を別の流通 ケース 5に収納する。これと共に、流通ケース 5の IDタグに管理番号が転送される。 流通ケース 5に、ノッチマーク 1 (又は膜マーク 3)を基準に基板が方向を揃えて収納 される。

[0143] (4) 2次膜成膜工程

流通ケース 5内に収納されたハーフトーン膜付き基板をインライン型スパッタリング 装置に搬入して、 1次膜上に 2次膜である Cr遮光膜を反応性スパッタリングにより成 膜する。この時、基板保持部により Cr膜が形成されない箇所に膜マーク 6が形成され る。 Cr遮光膜つき基板を別の流通ケース 7に収納する。これと共に、 2次膜成膜終了 の情報がホストコンピュータに保存される。流通ケース 7に添付の IDタグに管理番号 が転送される。流通ケース 7にノッチマーク 1 (又は膜マーク 3、 6)を基準に基板の方 向を揃えて収納する。

[0144] (5) 2次膜検査工程

流通ケース 7に収納された Cr遮光膜付き基板を、 2次膜の欠陥を検査する欠陥検 查装置に搬入し、欠陥検査を行って膜情報 (膜の表面情報)を取得する。膜情報は、 欠陥の位置情報、欠陥のサイズ (大きさをランク別で表示）、欠陥の種類 (ピンホール 、パーティクル、その他）力 管理番号毎にホストコンピュータに保存される。ここで取 得した膜情報を 2次膜膜情報と呼ぶ。欠陥検査が完了した基板を別の流通ケース 8 に収納する。これと共に、流通ケース 8に添付の IDタグに管理番号が転送される。流 通ケース 8に、ノッチマーク 1 (又は膜マーク 3、 6)を基準に基板が方向を揃えて収納 される。

[0145] (6)レジスト成膜工程

流通ケース 8内に収納された Cr遮光膜付き基板を回転塗布装置に搬入して、 2次 膜上にレジスト膜を回転塗布法により塗布し、ベータ、冷却を経てレジスト膜を形成す る。レジスト膜付き基板 (マスクブランク）を別の流通ケース 9に収納する。これと共に、 レジスト膜成膜終了の情報がホストコンピュータに保存される。流通ケース 9に添付の IDタグに管理番号が転送される。流通ケース 9にノッチマーク 1 (又は膜マーク 3、 6) を基準にマスクブランクの方向を揃えて収納される。

[0146] (7)レジスト膜検査工程

流通ケース 9に収納されたレジスト膜付き基板 (マスクブランク)を、欠陥検査装置に 搬入し、欠陥検査を行って膜情報を取得する。膜情報として、欠陥の位置情報、欠 陥のサイズ (大きさをランク別で表示）、欠陥の種類 (ピンホール、パーティクル、その 他）が管理番号毎にホストコンピュータに保存される。ここで取得した膜情報をレジス ト膜膜情報と呼ぶ。欠陥検査が完了した基板を別の流通ケース 10に収納する。これ と共に、流通ケース 10に添付の IDタグに管理番号が転送される。流通ケース 10に、 ノッチマーク 1 (又は膜マーク 3、 6)を基準にマスクブランクの方向を揃えて収納する。

[0147] (8)膜情報の照合工程

1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を互いに照合することにより、膜情 報同士の間で方向が一致している力確認する。

[0148] 具体的には、位置変化しない欠陥を基準に各膜の欠陥情報データを照合する。こ れは、最下層の膜である 1次膜に欠陥がある場合、 1次膜より上層の膜である 2次膜、 レジスト膜にも欠陥が生じることを利用して、 1次膜膜情報を基準として他の膜情報の 方向の正否を判定する。

[0149] これにより、膜情報同士の間での方向は一致させることができる力 例えば、ある流 通ケース力も別の流通ケースに基板を移す際に、基板の向きを誤って流通ケースに 収めてしまう可能性があり、こうした場合、膜情報間が一致していても、膜情報と基板 の向きとが不一致となってしまう。

[0150] こうした可能性を避けるため、流通ケースや収納ケースに基板を出し入れする際、 その作業者は、ノッチマーク 膜マーク 3及び 6を基板の向きの基準として参照し、 予め定められた向きに沿って基板を出し入れすることとする。

[0151] これにより、マスクブランクの製造過程（1)一（9)における基板の向きを一定に保ち 、基板の向きと膜情報の向きとの不一致を避けると共に、膜情報同士間の向きを一 致させることができるので、基板の向きと全ての膜情報の向きとを一致させることがで きる。また、膜情報同士の一致を確認するので、仮に製造過程で基板の向きを間違 つて流通ケースや収納ケースに収めたとしても、それを検出することが可能である。

[0152] (9)ブランク梱包工程

マスクブランクを収納ケース 20に収納して梱包し、マスクメーカーに配送する。

[0153] ここで収納ケース 20について図 2A及び（B)を参照して説明する。収納ケース 20の それぞれには固有のケース番号 21が付与されて添付されている。収納ケース 20は 蓋 22と外箱 23とからなり、外箱 23の中には更に内箱 24、スロット 25からなる。内箱 2 4は外箱 23に収められて基板保持具として作用する。スロット 25は基板間の仕切りで あるが、以下説明の便宜上、隣接する 2つのスロット 25の間の基板を格納する部分を スロットと呼ぶこともある。この意味で図 2Bには 5枚の基板を格納するためのスロット がある。各スロットにはスロット番号が付与され、それぞれをスロット No. 1、スロット No . 2、…スロット No. 5と呼ぶ。外箱 23の外面のうち、スロット No. 1に近 ヽ面に収糸内ケ ース 20の向きを示す前面表示 26が記載されている。ケース番号及びスロット番号を 組み合わせて収納ケース 20に格納されているマスクブランクを識別する。

[0154] 各マスクブランクにおける膜情報の位置情報の基準点と、収納ケース 20に収納さ れた上述の位置情報の基準点と対応させるためのマスクブランクの基準点を対応さ せるために、マスクブランクを収納ケース 20に収納する際、上述のノッチマーク 1 (又 は膜マーク 3、 6)を基準にマスクブランクの方向性を揃えて収納されている。このよう に、マスクブランク製造工程における各工程において、ノッチマーク 1 (又は膜マーク 3、 6)を基準に基板の方向性を揃えて膜の成膜や、欠陥検査を行い、さらには、各 工程間における基板の搬送の際に使用する基板流通ケースにおいても、ノッチマー ク 1 (又は膜マーク 3、 6)を基準に基板の方向性を揃えて収納し、マスクブランクを収 納ケースに収納してマスクメーカーに提供する際も、ノッチマーク 1 (又は膜マーク 3、 6)を基準にマスクブランクの方向性を揃えて収納することによって、マスクブランクと 欠陥情報の位置情報を正確に対応させることができ、マスク作製時のパターン不良 を防止することができる。

[0155] ブランク梱包工程に説明を戻すと、このとき、 1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト 膜膜情報を含むブランク膜情報を、それぞれのマスクブランク毎に配送先のマスクメ 一力一に提供する。ブランク膜情報の提供方法は、（a)収納ケース 20にブランク膜情 報を印刷した印刷物を添付する、 (b)ブランク膜情報データを記録したフレキシブル ディスクや CD— ROM等の記録媒体を収納ケース 20に添付する、（c)データ通信回 線を介してブランク膜情報データを配送先のマスクメーカーのコンピュータ等に送信 する等がある。 （a)及び (b)の場合はブランク膜情報そのものをスロット番号との対応 関係と共に収納ケース 20に添付する。 （c)の場合はマスクメーカー力もケース番号及 びスロット番号を送信し、該当するブランク膜情報を受信することにより提供を受ける

[0156] 尚、 1次膜成膜工程 1次膜検査工程、及び、 2次膜成膜工程 2次膜検査工程の 間に、洗浄工程を設けても良い。

[0157] 上述の（1)一（10)の過程、更にマスクメーカーにおいて、マスクブランクの表裏は 図 3 (A)及び (B)に示すような膜マーク 31及びノッチマーク 1にて区別される。図 3 ( A)に示すように表面には膜マーク 31が記される。図 3 (B)に示すように裏面にはノッ チマーク 1が記される。

[0158] 各膜情報は、基板の所定の方向を基準として膜上に予め定められた XY座標系の X座標、 Y座標、欠陥の大きさ、欠陥の種類カゝらなる。欠陥の種類はピンホールとパ 一テイクルカもなる。パーティクルは膜上に粒状物質が付着した状態を指し、ピンホ ールはいつたん付着した粒状物質が抜け落ちた跡の状態を指す。

[0159] 図 4はブランク膜情報の例である。一次膜の段階で欠陥があった箇所には二次膜 及びレジスト膜の両方で同じ位置に欠陥が発生していることがわかる。

[0160] 次に、本発明の第 2の実施の形態であるマスクブランク生産ライン制御システム 50 について説明する。図 5を参照すると、マスクブランク生産コントロールシステム 50は 、ホストコンピュータ 51、カセット番号'スロット番号付与装置 52 (以下付与装置 52と 記す)、 1次膜成膜装置 53、 1次膜欠陥検査装置 54、 2次膜成膜装置 55、 2次膜欠 陥検査装置 56、レジスト膜成膜装置 57及びレジスト膜欠陥検査装置 58からなる。

[0161] カセットは基板を収めるスロットを複数有すると共に IDタグを備える。 IDタグには、 そのカセットに付与されるカセット番号が記録される。

[0162] 図 7を参照すると、生産ラインに基板を投入するには、基板をカセットに収め、付与 装置 52にて、カセット番号、スロット番号、工程フローを入力部 521から入力する。ェ 程フローとは、工程順位、工程にて用いられる装置名、各装置で使用するレシピ番号 からなり、生産しょうとするマスクに応じてカセット単位で与えられる。尚、生産ライン上 において、基板の特定は、工程内での位置、カセット番号、スロットにて行われる。

[0163] 付与装置 52はカセットの IDタグにカセット番号を書き込むと共に、データ送受信部 522によってホストコンピュータ 51にカセット番号、スロット番号及び工程フローを送 信する。図 6を参照すると、ホストコンピュータ 51は、データ送受信部 511にて受信後 、カセット番号、スロット番号及び工程フローを互いに関連付けて工程フロー蓄積部 5 12に蓄積する。 [0164] 付与装置 52にてカセット番号の入力を終えたカセット（以後、このカセットをカセット Aと記す）が、 1次膜成膜装置 53のローダーポート 531にセットされると、カセット Aの I Dタグ力もカセット番号を読み取ってデータ送受信部 532によりホストコンピュータ 51 に通知する。

[0165] 図 8を参照すると、これに応答して、ホストコンピュータ 51は、カセット Aのカセット番 号、スロット番号、スパッタのレシピ番号を 1次膜成膜装置 53に送信する。尚、レシピ 番号につ 、てはスパッタ装置の動作開始直前であってもよ 、。

[0166] これを受信した 1次成膜装置 53では、レシピ番号ースパッタ条件照合部 533にてレ シピ番号に対応したスパッタ条件を照合し、スパッタ条件蓄積部 534に照合したスパ ッタ条件を蓄積する。このスパッタ条件に従って、スパッタ条件制御部 535はスパッタ 装置 536を制御し、スパッタ処理を行う。

[0167] スパッタ装置 536は、カセット Aから基板を抜き取り、スパッタ処理を開始する。スパ ッタ処理の過程で、スパッタ実績を収集し、スロット番号と関連付ける。

[0168] スパッタ処理が終了した基板はアンローダーポート 538に予め準備された別のカセ ット（以後カセット Bと記す)のスロットに入る。このとき、スロット番号、スパッタ実績、ァ ンローダースロット番号収集部 537 (以後収集部 537と記す）は、カセット Aでのスロッ ト番号、関連付けられたスパッタ実績、カセット Bでのスロット番号を収集し、データ送 受信部 532を用いてホストコンピュータ 51に送信する。また、カセット Bのスロットが全 て 1次膜成膜後の基板で埋まると、収集部 537は、カセット Bのカセット番号と共にそ の旨をホストコンピュータ 51に通知する。

[0169] これを受けて、ホストコンピュータ 51は、カセット番号 B、カセット番号 A、工程フロー の手順で次の工程を特定し、不図示のカセット搬送部に対して搬送先を指示する。 また、ホストコンピュータ 51は、カセット Bのカセット番号、及び、 1次膜成膜装置 53に 送信したスパッタのレシピ番号を、 1次膜欠陥検査装置 54に送信する。

[0170] 図 9を参照すると、 1次膜欠陥検査装置 54は、データ送受信部 541にてこれらを受 信すると、カセット番号 -レシピ番号照合部 542にこれらを渡す。

[0171] ローダーポート 543にカセットが搬入されると、カセット番号 レシピ番号照合部 542 は、カセットの IDタグ力も読み取ったカセット番号に対応するレシピ番号を照合する。 ここでカセット番号がカセット Bのものであれば、カセット Bに収められた基板に対して スパッタ処理した際のレシピ番号が得られる。

[0172] 欠陥検査条件蓄積部 544には、レシピ番号と、レシピ番号が示すレシピ条件下で 成膜された膜に対して行うべき検査条件との対応関係が予め蓄積されており、カセッ ト番号 レシピ番号照合部 542からレシピ番号を受け取ると、行うべき検査条件を出 力する。

[0173] この検査条件に従って、欠陥検査条件制御部 545は、欠陥検査装置 546を制御し て検査を行う。欠陥検査装置 546は検査結果を欠陥検査情報として出力する。検査 の済んだ基板は、アンローダーポート 547に予めセットした別カセット（以下カセット C と記す）のスロットに収められる。

[0174] アンローダーカセット番号、アンローダースロット番号付与部 548は、カセット Cに力 セット番号を付与すると共に、カセット Cのカセット番号、カセット Cのスロット番号、スロ ットに収められた基板の欠陥検査情報とを関連付けて、データ送受信部 541を用い てホストコンピュータ 51に送信する。

[0175] ホストコンピュータ 51は、送信された情報を、 1次膜成膜装置 53にて得られたスパ ッタ実績等と関連付けて情報蓄積部 513に蓄積する。

[0176] 2次膜成膜装置 55、 2次膜検査装置 56、については、それぞれ 1次膜成膜装置 53 及び 1次膜検査装置 54と比較すると、成膜する膜の種類の違いに起因する相違の みで、構成要素及び動作に大きな違いがないので説明を省略する。図 10に示すレ ジスト膜成膜装置 57及びレジスト膜欠陥検査装置 58についても同様である。

[0177] このようにして、 1次膜成膜装置 53、 1次膜検査装置 54、 2次膜成膜装置 55、 2次 膜検査装置 56、レジスト膜成膜装置 57及びレジスト膜欠陥検査装置 58から、収集し た情報を元に、欠陥情報照合部 514は、第 1の実施の形態にて説明した 1次膜膜情 報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を生成すると共に、これらを互いに照合して、図 4に示すようなブランク膜情報を生成する。

[0178] 次に、本発明の第 3の実施の形態であるマスク作製支援システム 110について説 明する。

[0179] 図 11を参照すると、マスク作製支援システム 110は、マスクブランク工場 111と、マ スタブランク工場 111にて製造されたマスクブランクを元にマスクを製造するマスクェ 場 112と、両工場を接続するデータ通信回線 113からなる。更に、マスクブランクェ 場 111は、ホストコンピュータ 51及びサーバ 114力 なる。マスクブランク工場 111に て製造されたマスクブランクは前述の収納ケース 10に収めてマスク工場 112に配送 される。ホストコンピュータ 51は前述のマスクブランク生産ライン制御システム 50のホ ストコンピュータ 51である。サーバ 114は、ホストコンピュータ 51から必要な情報を受 け取り、インターネット 113を介してマスク工場 112遠隔地のコンピュータに情報を提 供する。

[0180] マスク作製支援システム 110にてマスクブランクのレジスト膜にパターンを描画する 工程について説明する。

[0181] 第 2の実施の形態にて説明したように、ホストコンピュータ 51には、予め製造したマ スタブランクのブランク膜情報が蓄積されている。ブランク膜情報は、ノッチマークまた は膜マークを基準に方向性を特定し、基準点が保証されている。また、製造されたマ スタブランクは、ノッチマークまたは膜マークを基準にマスクブランクの方向性を揃え て収納ケース 10に収めてマスク工場 112に配送される。このとき、収納ケース 10には ケース番号が添付されて 、る。ケース番号の添付は印刷等の視認可能な状態に限ら ず、例えばバーコード、磁気記録媒体、 ICチップ等の機械機械読み取り可能な状態 にて添付されることとしてもよ 、。

[0182] 図 12を参照してマスク工場 112でのマスク描画 ·現像処理について説明する。収納 ケース 10を受け取ったマスク工場 112の作業者は、視認或いは機械読み取りにより ケース番号を収納ケース 10から取得した後、コンピュータ等のデータ通信装置を用 V、て、ケース番号をインターネット等のデータ通信回線 113を介してサーバ 114に送 信する。これに応じて、サーバ 114は、そのケース番号の収納ケースの各スロットに収 めたマスクブランクのブランク膜情報を返信する (ステップ S121)。

[0183] データ通信の形態としては様々な形態が考えられる。例えばケース番号及びブラン ク膜情報の伝送の両方を、電子メールを介して行っても良いし、或いは、ケース番号 とそのケース番号の収納ケースの各スロットに収めたマスクブランクのブランク膜情報 との対応関係を表すデータベースをサーバ 114に設置し、マスク工場 112側力 入 力されたケース番号に応じたブランク膜情報を返信することとしてもよい。この段階で は、マスクブランクは図 13Aのような断面を有し、ガラス基板上に、 1次膜、 2次膜、レ ジスト膜の三層の膜が成膜された状態になっている。

[0184] ブランク膜情報を受け取ったマスク工場 112は、ブランク膜情報と、製造しょうとして いるマスクのマスクパターンとを照合する（ステップ S 122)。上述したように、このとき、 マスクブランク内の位置情報の基準点と、ブランク膜情報における位置情報の基準 点とが対応している。或いは、このとき、マスクブランク内の位置情報の基準点と、マ スクパターンデータの位置情報の基準点とが対応している。

[0185] 今、マスク工場 112は、マスクブランク工場 111からブランク膜情報 141を受け取り、 マスクパターン 142を描画しょうとしているものとする。ブランク膜情報 141は 1次膜膜 情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含んでいる。

[0186] 一般に、マスクパターンは、密度が密な密パターン形成領域 143と、密度が疎な疎 パターン形成領域 144とを有する。

[0187] 一方、一般にマスクブランクのピンホールやパーティクルは均一に分布しているの ではなぐある程度局所的に分散している。そこで、ブランク膜情報 142を参照し、ピ ンホールやパーティクルが密パターン形成領域 143以外の領域に配置されるように、 パターン描画位置を調整して決定する (ステップ S 123)。

[0188] パターン描画位置の調整方法としては、基板の向きに対するマスクパターン 142の 向きを変更することが考えられる。また、密パターン形成領域 143と疎パターン形成 領域 144の相対的な位置関係が変更可能であれば、これを変更することにより調整 してちよい。

[0189] 最後に、決定したパターン描画位置に従って、レジスト膜にパターンを描画し、現 像する (ステップ S 124)。

[0190] 次に第 4の実施の形態について説明する。本実施の形態では、ブランク膜情報と基 板の向きを一致させる技術について特に取り上げて説明する。

[0191] 再度図 1及び 3を参照すると、マスクブランクのガラス基板にはノッチマーク 1が記さ れている。従来の技術では、ノッチマーク 1はガラス基板の硝種を示すことのみを目 的として!/、て、その形状の違いによりガラス基板の硝種を示して 、た。 [0192] また、膜上には本来は膜の種類を示す目的で膜マークが記されている。ノッチマー ク 1と同様に、膜マークは、その形状の違いと、その膜と他の膜との位置関係により膜 の種類を示していた。例えば、 1次膜上の膜マーク 2は MoSiN膜であることを示す形 状を有し、 2次膜上の膜マーク 3は Cr膜であることを示す形状を有する。尚、図上で は膜マークを簡略ィ匕して記してあるので実際の形状とは一致して 、な 、。

[0193] 本発明では、これらのノッチマークや膜マークを基板の向きの目安とし、流通ケース 、カセット、収納ケース等の容器に出し入れする際、常に同じ向きに収めるようにする 。これ〖こより、 1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報の方向は、それぞれが 全て基板の方向と一致することになる。

[0194] 本実施の形態では、膜情報の膜の枚数は単一であってもよ!、。従来技術に見られ るような、マスクブランク工場出荷直前のマスクブランク表面、即ち表面膜上のみを観 察して得られた欠陥情報であっても適用することができる。この場合であっても、欠陥 情報の方向と基板の方向との一致を保障する効果がある。

[0195] 次に、本発明の第 5の実施の形態について説明する。第 5の実施の形態は上述の 第 1から第 4の実施の形態を包括的に含む形態の一部を変更したものであり、以下で は、マスクブランク情報取得方法、マスク作製支援方法、マスクメーカーに提供する マスクブランクの製造方法、転写マスクの製造方法、マスクブランクの製造過程にお いてマスクブランク情報を取得し保存する方法について説明する。また、マスクブラン ク情報提供方法、マスクブランク提供方法の具体例についても開示される。

[0196] 尚、以下実施の形態の説明において、膜情報は、表面情報を含むものであり、膜 情報を表面情報と読み力えることができる。

[0197] 膜情報とは、膜の表面を走査して取得される面情報である。また、基板情報とは、 基板の表面を走査して取得される面情報である。面情報とは、二次元座標である平 面座標に投影して把握可能な情報である。

[0198] また、以下では、欠陥検査を利用して基板情報又は膜情報を取得する例について 示すが、欠陥とは、転写マスクの機能を阻害し、又は不良な転写マスクの原因となる 表面形態或いは光学特性のことを言う。具体的には、パーティクル状欠陥やピンホー ル状欠陥を例示できる。 [0199] マスクブランク情報の取得は図 15に示す通り、ガラス基板に 1次膜、 2次膜、レジス ト膜のそれぞれの薄膜を形成して製造したマスクブランクをケースに収納するまでの 工程と並行して行われる検査工程を利用して行われる。図 15の例では基板検査を 図示していないが、鏡面研磨等の加工処理を行ったガラス基板を準備し、 1次膜成 膜に先立って基板検査を行えば、基板情報を取得できる。

[0200] 図 15に示す実施形態では、 1次膜、 2次膜及びレジスト膜のそれぞれの薄膜を形 成した都度に、薄膜の欠陥検査を行う。その検査結果に応じた 1次膜の膜情報、 2次 膜の膜情報及びレジスト膜の膜情報を生成し、各基板 (各マスクブランク）に対応させ てホストコンピュータにこれらの情報を記録し保存する。その後に、ホストコンピュータ に記録し保存されて 、る基板情報や膜情報を照合し、まとめてマスクブランク情報を 生成する。

[0201] マスクブランク情報は、基板情報、 1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報 等の面情報を、複数統合して生成される。マスクブランク情報を構成する面情報は、 それぞれが同じマスクブランクの異なる断面に関する情報である。このため、マスクブ ランク情報は、マスクブランクの内部の状態を立体的に示す情報となる。

[0202] マスクブランク情報は、マスクブランクの製造工程を経て製造され収納ケース 20内 に収納されている各マスクブランク個体と対応させられて、マスクメーカーに提供され る。上記情報は、紙書類、電子媒体、磁気媒体、通信回線等を利用してマスクブラン クメーカーからマスクメーカーに提供される。

[0203] 図 15を参照すると本図は点線にて上中下の三段に分かれている。図 15の下段は マスクブランクの製造工程と、各工程間で基板を搬送する際に使用するカセット内に 基板又はマスクブランクが収納される方向性、即ち、向きの経緯を示している。

[0204] 図 15の中段は各工程に対応した製造過程の膜の構造と、膜付き基板の形態を示 している。図 15の上段は欠陥検査工程で生成される膜情報を示す。以下、下段のマ スタブランクの製造工程の流れに沿って、膜情報を取得し保存する方法を詳細に説 明する。

[0205] (1)基板加工工程

ノッチマーク 1が形成されたガラス基板の準備する。このノッチマークによって、ガラ ス基板の硝種を判別することができる。

[0206] 例えば、ノッチマーク 1は、実開昭 62— 17948号公報に示されるような、ガラス基板 のコーナー部において、主表面と該コーナー部を形成する 2つの端面との 3面を斜 断面状に切り落としてなることによって形成された面形状を有している。なお、形成さ れて ヽるノッチマークの個数と、形成位置により該ガラス基板を構成する硝種 (ガラス の種類)を判別に利用することもできる。

[0207] 本発明の実施の形態においては、ノッチマーク 1は、基板の方向性を特定するため の基準マークとしての役割と、後述する欠陥検査工程で取得する膜情報における基 準点としての役割を有する。

[0208] ノッチマーク 1の具体例としては、図 16Aに示すように基板の一方の主表面側のコ ーナ一部 2箇所に設けることができる。対角の位置にノッチマーク 1が形成されている このガラス基板の硝種は、合成石英ガラスである。

[0209] 次に、ガラス基板の表面を研肖 ij、研磨加工し、所望の表面粗さと平坦度に仕上げる 。また、研磨加工で使用した研磨剤を除去するためにガラス基板を洗浄する。

[0210] 次に、 IDタグ 2'がついた工程内流通用のカセット 2にガラス基板を収納する。以下 このカセットを流通カセット 2と呼称する。この IDタグは、流通カセットや、流通カセット に収納される基板又はマスクブランクに関する情報を書き込み又は、読み出すことが できる情報管理手段である。 IDタグは情報を記録し保持することができる媒体である 。例えば ICタグを用いることができる。

[0211] この IDタグに対して、流通カセットに収納される各基板又は各マスクブランクを管理 する管理番号、例えば識別番号を付与し、保持させることができる。

[0212] この管理番号としては、流通カセット毎に付与するカセット番号や、該流通カセット に複数枚の基板を収納するために設けられて ヽる、複数の溝に対応して付与される スロット番号がある。管理番号に基づいて、各基板を識別し、各基板を管理すること ができる。

[0213] IDタグに付与された管理番号は、次工程以降で行われる取得される各工程の情報 、例えば、それぞれの薄膜の検査工程で生成された膜情報や、それぞれの薄膜の 形成工程で利用された製造条件や製造レシピなどと、各基板とを対応させる役割が ある。

[0214] また、流通カセット 2は、カセットの向き、即ち、前後左右が区別できるようになって いる。また、流通カセット 2の対向する二つの内壁には、上下方向に伸びる溝が所定 の間隔で複数形成されて ヽて、それぞれの溝にガラス基板又はマスクブランクを収納 できるようになつている。ノッチマーク 1を基準として、これら複数の溝の夫々に 1枚の ガラス基板又はマスクブランクが互いに方向を揃えて収納されて 、る。

[0215] 具体的には、流通カセット 2の所定位置に対して、ガラス基板に形成されているノッ チマーク 1が所定の関係に配置されるように収納される。カセット内の複数のガラス基 板又はマスクブランクは同一の向きに揃って配列され、収納される。

[0216] 本実施形態においては、流通カセット 2の前側に複数枚のガラス基板のノッチマー ク 1が手前の特定の位置にくるように収納される。

[0217] 即ち、流通カセット 2に付与された前面を基準とし、ノッチマーク 1が形成された基板 面をカセット前面に向けて配列するとともに、カセット前面からみて、収納された複数 枚のガラス基板のノッチマークが同一の位置関係に揃えられて収納されている。

[0218] 尚、次工程以降、各工程間で基板を収納する流通カセットの構造は、上述の流通 カセット 2と同じ構造を有するものを使用する。

[0219] (2) 1次膜成膜工程

生産管理を行うホストコンピュータを使用し、流通カセット 2に添付した IDタグ 2'に、 各基板を管理する管理番号を付与する。ホストコンピュータは、 IDタグに付与された 管理番号と、各基板が処理されるべき製造工程の順序、各工程で用いる製造条件と を対応させる。ホストコンピュータは、製造工程内の各装置カゝら情報 (例えば基板情 報、膜情報など)を収集して管理番号毎に記録'保存することができる機能を持つ。

[0220] 詳細には、生産管理を行うホストコンピュータは、各流通カセット毎に添付された ID タグ 2'の夫々に、流通カセット又は収納された各基板の夫々を管理するための管理 番号を付与して記録する。また、このホストコンピュータは、 IDタグ 2'に付与した管理 番号と、各基板が処理される複数の製造工程や検査工程の順序、及びそれら工程 において設定される製造条件等と、を対応させる。さらに、このホストコンピュータは、 前記複数の工程で取得された各工程毎の情報 (たとえば、基板情報、それぞれの薄 膜の検査工程で生成された膜情報、それぞれの薄膜の形成工程で利用された製造 条件や製造レシピなど)を、各基板毎に収集して、記録し、保存する機能を備える。

[0221] 流通カセット 2内に収納されたガラス基板を 1枚ずつ取り出し、ノッチマーク 1が形成 された側の基板面が上方を向くように、ノッチマークが形成されて ヽな ヽ側の基板面 力 Sスパッタリングターゲットに相対するように、スパッタリング装置の保持具に基板を配 置する。

[0222] 次に、 MoSiのスパッタリングターゲットを使用し、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガ ス雰囲気において、反応性スパッタリング法により、位相シフト膜であるハーフトーン 膜をガラス基板面に成膜し、形成する。

[0223] 成膜はノッチマーク 1が形成されている主表面に対向する（反対面の)ガラス基板の 主表面に行う。以上のようにして、ガラス基板表面に MoSiNを含むハーフトーン膜で ある位相シフト膜が形成される。

[0224] 基板の保持具には、基板主表面の周縁部の所定領域に MoSiNハーフトーン膜が 形成されな ヽように遮蔽手段を設ける。

[0225] この遮蔽手段により、基板主表面上に MoSiN膜が形成されない所定領域が形成 され、膜マーク 3となされる。

[0226] 膜マーク 3の形状の違いや、膜マークの位置、配置等により、ガラス基板上に形成 されて ヽる薄膜の種類を判別することができる。本実施形態ではハーフトーン膜用に 用いる膜マークを利用する。

[0227] 膜マーク 3は、上述のノッチマーク 1と同様に、基板の方向性を特定するための基準 マークや、後述する検査工程で取得する膜情報における基準点として使用すること ができる。

[0228] 膜マーク 31の具体例としては、図 16Bに示すようにノッチマーク 1が形成されている 側とは反対側の主表面におけるコーナー部 2箇所に、図示するように設けることがで きる。

[0229] スパッタリング装置によりガラス基板表面に MoSiN膜が形成された MoSiNハーフト ーン膜付き基板を、流通カセット 2とは別の流通カセット 4に収納する。流通カセット 4 にはノッチマーク 1又は膜マーク 3を基準に複数枚のハーフトーン膜付き基板が基板 の方向を揃えて収納される。

[0230] 具体的には、流通カセット 4の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク 3 が所定の関係に配置されるように収納される。

[0231] 本実施形態においては、複数枚のハーフトーン膜付き基板の膜マーク 3が、流通力 セット 4後側の特定の位置（図 15において流通カセットに対して下方）にくるように収 納されている。

[0232] 即ち、流通カセット 4に付与される前面を基準とし、膜マーク 3が形成されて 、な ヽ 側の基板面がカセット前面に向くように、即ち、ノッチマーク 1が形成されている基板 面がカセット前面に向くように基板を配列するとともに、カセット前面力もみて、収納さ れた複数枚の基板の膜マーク 3が同一の位置関係（図 15において流通カセットに対 して下方）になるように揃えられて収納される。

[0233] 1次膜成膜終了の情報が管理番号毎にホストコンピュータに保存される。

[0234] また、流通カセット 4の添付の IDタグ 4'に、上述の IDタグ 2'に付与されている管理 番号の情報が転送される。 IDタグ 4'に転送される管理番号は、 IDタグ 2'に付与され ている管理番号と同じであっても良いし、またはホストコンピュータ力も新たな管理番 号を付与しても構わない。後者の場合、 IDタグ 2'に付与されている管理番号と、新た に IDタグ 4'に付与された管理番号とを関連付けてホストコンピュータに保存される。

[0235] (3) 1次膜検査工程

この工程は、 1次膜の薄膜情報を取得する工程と、取得された膜情報を情報蓄積 媒体に記録し保存する薄膜情報記録工程を含む。

[0236] 流通カセット 4に収納されたノ、ーフトーン膜付き基板を取り出し、 1次膜 (MoSiNハ ーフトーン膜)の欠陥を検査する欠陥検査装置に基板を載置する。

[0237] ノッチマーク 1が形成された面を下方に向けて、膜マーク 3が形成された面を上方に 向けて基板を保持具に載置する。

[0238] その後、 1次膜の欠陥検査装置を利用して膜の表面を走査し、この 1次膜に関する 膜情報を取得する。

[0239] 膜情報は、膜の状態に係る状態情報であって、膜の表面を走査して取得される膜 の表面情報である。膜情報としては、表面形態情報や光学特性情報が挙げられる。 取得された膜情報は平面に投影して二次元の面の情報として把握可能に構成され る。

[0240] マスク製造工程でパターン不良を引き起こす可能性のある欠陥の位置情報 (例え ば平面座標系における X座標、 Y座標）、欠陥の大きさ、欠陥の種類、などが欠陥毎 に欠陥検査装置によって判定され、その結果は管理番号毎にホストコンピュータに保 存される。

[0241] その際、欠陥の大きさは、直径等の欠陥の大きさを示す測定値をそのまま保存して もよいし、または、欠陥の大きさを分類するための複数のランクを予め定め、該当する ランクを欠陥の大きさとして保存してもよい。

[0242] 欠陥の種類は、凸部形状、凹部形状、その他の欠陥などと分類して保存することが できる。凸部形状としては例えばピンホール状の欠陥があり、凹部形状としては例え ばパーティクル状の欠陥が挙げられる。

[0243] パーティクル状の欠陥とは、膜上又は膜中に異物 (例えば粒状質等)が付着した状 態の欠陥を指し、ピンホール状の欠陥とは、膜中に付着した異物が抜け落ちた跡、 膜抜けの状態の欠陥を指す。膜抜けは膜の下地の状態が確認できる完全に膜がな い状態や、膜の下地の状態が確認できない局所的に膜厚が薄くなつた状態がある。

[0244] 位置情報は、ノッチマーク 1を基準に、ガラス基板のサイズからガラス基板主表面の 中心を算出してこれを基準点（O)とし、該基準点を通りガラス基板の各辺に平行な線 を仮想の X軸、 Y軸とした XY座標系における各欠陥の X座標、 Y座標で保存される。

[0245] 詳しくは、上述の欠陥の位置情報は、まず、ノッチマーク 1の位置を基準とし、ガラス 基板のサイズ、例えば辺の長さに基づいて、ガラス基板主表面の中心を算出してこ れを基準点（O)と定め、次に、この基準点（O)を原点として、直交するガラス基板の 辺に沿う直交平面座標系（XY座標系）を定め、最後に、この二次元の XY座標系に おいて、各欠陥の X座標位置、 Y座標位置を算出し、この X座標、 Y座標の値で保存 される。

[0246] ここで取得した薄膜の膜情報を 1次膜膜情報と呼ぶ。

[0247] 欠陥検査が完了したノヽーフトーン膜付き基板を流通カセット 4とは別の流通カセット 5に収納する。流通カセット 5には、ノッチマーク 1又は膜マーク 3を基準に複数枚の ハーフトーン膜付き基板が方向を揃えて収納される。

[0248] 具体的には、流通カセット 5の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク 3 が所定の関係に配置されるように収納される。

[0249] 本実施形態においては、流通カセット 5に複数枚のハーフトーン膜付き基板の膜マ ーク 3が後側の特定の位置（図 15において流通カセットに対して下方）にくるように収 納されている。

[0250] 即ち、流通カセット 5に付与される前面を基準とし、ノッチマークが形成された基板 面がカセット前面に向き、膜マーク 3が形成された面がカセット前面とは反対側に向 力つて配列されるとともに、カセット前面力もみて、収納された複数枚の基板の膜マー ク 3が同一の位置関係（図 15において流通カセットに対して下方）に揃うように収納さ れる。

[0251] 検査前において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理され ているので、検査工程で取得された面情報の方向性、座標系と基準点は検査に供さ れた複数の基板間で統一され情報が取得される。

[0252] 検査後において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理され ているので、次の工程においても、処理に供される基板の方向性（向き）は維持され る。

[0253] これと共に、流通カセット 5の IDタグ 5'に、上述の IDタグ 4'に付与されている管理 番号の情報が転送される。尚、上述の通り、 IDタグ 5'に転送される管理番号は、 ID タグ 4'に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構 わない。

[0254] カセットに収納された複数の基板はカセットごとに次の工程に搬送される。

[0255] (4) 2次膜成膜工程

次ぎに、流通カセット 5内に収納されたノヽーフトーン膜付き基板を、インライン型スパ ッタリング装置の保持具に載置する。このとき、ノッチマーク 1が形成された側の基板 表面を上方に向けて、膜マーク 3が形成された側の面を下方に向けて保持具に載置 する。

[0256] クロム（Cr)のスパッタリングターゲットを使用し、アルゴンガス、又はアルゴンガスと 酸素ガス及び Z又は窒素ガスの混合ガス雰囲気にぉ 、て、反応性スパッタリング法 により、 1次膜である MoSiNハーフトーン膜上に 2次膜である Crを含む遮光膜 (以降 、 Cr遮光膜と称す。）を成膜し形成する。

[0257] 基板主表面周縁部の所定領域に Cr遮光膜が形成されないようにするため、基板保 持具には遮蔽手段が設けられている。このため、 MoSiNハーフトーン膜上に Cr遮光 膜が形成されない所定領域が形成され、膜マーク 6が付与される。この膜マーク 6の 形状により膜種が判別できる。本実施形態では Cr遮光膜用に付与された膜マークを 利用する。

[0258] また、 Cr遮光膜に形成された膜マーク 6は、ガラス基板に形成されたノッチマーク 1 ゃノヽーフトーン膜に形成された膜マーク 3と同様に、基板の方向性を特定するための 基準マークや、後述する欠陥検査工程で取得する膜情報における基準点として利用 することができる。

[0259] 本実施形態では、 MoSiNハーフトーン膜は Cr遮光膜によって覆われてしまう。従 つて、基板の膜が形成される側の面からは膜マーク 3は見ることが困難である。しかし 、ハーフトーン膜に付与された膜マーク 3は、基板の反対側の主表面からガラス基板 を透して確認することができる。膜マーク 3によって基板の方向性を特定しょうとする 場合には、基板の膜が形成されていない側から利用することができる。

[0260] インライン型スパッタリング装置により MoSiNハーフトーン膜上に形成された Cr遮 光膜付き基板を、流通カセット 5とは別の流通カセット 7に収納する。流通カセット 7に は膜マーク 6を基準に複数枚の Cr遮光膜付基基板が基板の方向を揃えて収納され る。

[0261] 具体的には、流通カセット 7の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク 6 が所定の関係に配置されるように収納される。

[0262] 本実施形態においては、流通カセット 7に複数枚の Cr遮光膜付き基板の膜マーク

6が後側の特定の位置（図 15において流通カセットに対して上方）にくるように収納さ れている。

[0263] 即ち、流通カセット 7に付与される前面を基準とし、膜マーク 6が形成された側の面 力 Sカセット前面とは反対側に向くように、ノッチマーク 1が形成された側の面がカセット 前面側に向くように複数の基板が配列される。カセット前面からみて、収納された複 数枚の基板の膜マーク 6が同一の位置関係（図 15において流通カセットに対して上 方）になるように揃えられて収納されている。

[0264] また、 2次膜成膜終了の情報が管理番号毎にホストコンピュータに保存される。流 通力セット 7に添付の IDタグ 7，に、上述の IDタグ 5，に付与されている管理番号の情 報が転送される。尚、上述の通り、 IDタグ 7'に転送される管理番号は、 IDタグ 5'に 付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない。

[0265] 基板上に 1次膜、 2次膜が積層された膜付き基板はカセット 7に収納されて次工程 に搬送される。

[0266] (5) 2次膜検査工程

この工程は、 1次膜検査工程と同様の工程である。この工程は、 2次膜の薄膜情報 を取得する工程と、取得された膜情報を情報蓄積媒体に記録し保存する薄膜情報 記録工程を含む。

[0267] 流通カセット 7に収納された Cr遮光膜付き基板を、 2次膜 (Cr遮光膜)の欠陥を検 查する検査装置の基板載置ステージにセットする。このとき、ノッチマーク 1が形成さ れた面を下方に向けて、膜マーク 6が形成された面を上方に向けて載置するとともに 、ノッチマーク 1を載置ステージに対して所定位置〖こなるように基板を配置する。

[0268] 前記した 1次膜の欠陥検査と同様に 2次膜の欠陥検査を行い 2次膜の膜情報を取 得する。 2次膜の欠陥検査装置を利用して膜の表面を走査し、この 2次膜に関する膜 情報を取得する。

[0269] 膜情報は、膜の状態に係る状態情報であって、膜の表面を走査して取得される膜 の表面情報である。膜情報としては、表面形態情報や光学特性情報が挙げられる。 取得された膜情報は平面に投影して二次元の面の情報として把握可能に構成され る。

[0270] マスク製造工程でパターン不良を引き起こす可能性のある欠陥の位置情報 (例え ば平面座標系における X座標、 Y座標）、欠陥の大きさ、欠陥の種類、などが欠陥検 查装置によって判定され、その結果は管理番号毎にホストコンピュータに保存される [0271] 欠陥の大きさは、欠陥のサイズを個別に保存することができるが、例えば、所定の サイズランク別に表示してもよ ヽ。

[0272] 欠陥の種類は、凸部形状、凹部形状、その他の欠陥などと分類して保存することが できる。凸部形状としては例えばピンホール状の欠陥があり、凹部形状としては例え ばパーティクル状の欠陥が挙げられる。

[0273] パーティクル状の欠陥とは、膜上又は膜中に異物 (例えば粒状質等)が付着した状 態の欠陥を指し、ピンホール状の欠陥とは、膜中に付着した異物が抜け落ちた跡、 膜抜けの状態の欠陥を指す。膜抜けは膜の下地の状態が確認できる完全に膜がな い状態や、膜の下地の状態が確認できない局所的に膜厚が薄くなつた状態がある。

[0274] 位置情報は、ノッチマーク 1を基準に、ガラス基板のサイズからガラス基板主表面の 中心を算出してこれを基準点（O)とし、該基準点を通りガラス基板の各辺に平行な線 を仮想の X軸、 Y軸とした XY座標系における各欠陥の X座標、 Y座標で保存される。

[0275] 上述の欠陥の位置情報は、 1次膜検査工程と同様に、まず、ノッチマーク 1の位置 を基準とし、ガラス基板のサイズ、例えば辺の長さに基づいて、ガラス基板主表面の 中心を算出してこれを基準点 (O)と定め、次に、この基準点 (O)を原点として、直交 するガラス基板の辺に沿う平面直交座標系（XY座標系）を定め、最後に、この二次 元の XY座標系において、各欠陥の X座標位置、 Y座標位置を算出し、この X座標、 Y座標の値で保存される。ここで取得した膜情報を 2次膜膜情報と呼ぶ。

[0276] 欠陥検査が完了した Cr遮光膜付き基板を流通カセット 7とは別の流通カセット 8に 収納する。流通カセット 8には、膜マーク 6を基準に複数枚の Cr遮光膜付き基板が方 向を揃えて収納される。

[0277] 具体的には、流通カセット 8の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク 6 が所定の関係に配置されるように収納される。

[0278] 本実施形態においては、流通カセット 8に複数枚の Cr遮光膜付き基板の膜マーク

6が後側の特定の位置（図 15において流通カセットに対して上方）にくるように収納さ れている。

[0279] 即ち、流通カセット 8に付与されるカセット前面を基準とし、膜マーク 6が形成された 面がカセット前面の反対側に向かって、即ち、ノッチマーク 1が形成された面がカセッ ト前面に向かって配列される。また、カセット前面力もみて、収納された複数枚の基板 の膜マーク 6が同一の位置関係（図 15において流通カセットに対して上方）になるよ うに揃えて収納されている。

[0280] 検査前において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理され ているので、検査工程で取得された面情報の方向性、座標系と基準点は検査に供さ れた複数の基板間で統一され情報が取得される。

[0281] 検査後において、複数の基板の収納方向が所定に揃うように収納方法が管理され ているので、次の工程においても、処理に供される基板の方向性（向き）は維持され る。

[0282] 流通カセット 8に添付の IDタグ 8'に、上述の IDタグ 7'に付与されている管理番号 の情報が転送される。尚、上述の通り、 IDタグ 8'に転送される管理番号は、 IDタグ 7 'に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わな い。

[0283] カセットに収納された複数の基板はカセットごとに次の工程に搬送される。

[0284] (6)レジスト成膜工程

流通カセット 8内に収納された Cr遮光膜付き基板を回転塗布装置に搬入して、 2次 膜上にレジスト膜を回転塗布法により塗布し、ベータ、冷却を経てレジスト膜を形成す る。

[0285] 以上のようにして、基板、 1次膜、 2次膜、レジスト膜が積層されたマスクブランクが 作製される。なおレジスト膜は所望により形成されない場合もある。

[0286] 作製されたマスクブランクを、流通カセット 8とは別の流通カセット 9に収納する。流 通力セット 9には膜マーク 6を基準に複数枚のマスクブランクがマスクブランクの方向 を揃えて収納される。

[0287] 具体的には、流通カセット 9の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク 6 が所定の関係に配置されるように収納される。

[0288] 本実施形態においては、流通カセット 9に複数枚のマスクブランクの膜マーク 6が後 側の特定の位置（図 15において流通カセットに対して上方）にくるように収納されて いる。 [0289] 即ち、流通カセット 9のカセット前面を基準とし、膜マーク 6が形成された面をカセット 前面の反対側に向けて、即ち、ノッチマーク 1が形成された面をカセット前面に向け て配列するとともに、カセット前面力 みて、収納された複数枚の基板の膜マーク 6が 同一の位置関係（図 15にお 、て流通カセットに対して上方）になるように揃えて収納 されている。

[0290] また、レジスト膜成膜終了の情報が基板番号毎にホストコンピュータに保存される。

流通ケース 9に添付の IDタグ 9'に、上述の IDタグ 8'に付与されている管理番号の 情報が転送される。尚、上述の通り、 IDタグ 9'に転送される管理番号は、 IDタグ 8' に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わない

[0291] (7)レジスト膜検査工程

この工程は、 1次膜検査工程、 2次膜検査工程と同様の工程である。この工程は、 レジスト膜の薄膜情報を取得する工程と、取得された膜情報を情報蓄積媒体に記録 し保存する薄膜情報記録工程を含む。

[0292] 流通カセット 9に収納されたレジスト膜付き基板 (マスクブランク）を、レジスト膜の欠 陥を検査する欠陥検査装置の基板を載置するステージにセットする。

[0293] このとき、該ステージにノッチマーク 1が形成された面を下側に向けて、膜マーク 6が 形成された面を上方に向けて載置する。また、ノッチマーク 1がステージに対して所 定位置に配置されるようにセットする。

[0294] レジスト膜の欠陥検査を行ってレジスト膜の膜情報を取得する。レジスト膜の欠陥検 查装置を利用して膜の表面を走査し、このレジスト膜に関する膜情報を取得する。

[0295] 膜情報は、膜の状態に係る状態情報であって、膜の表面を走査して取得される膜 の表面情報である。膜情報としては、表面形態情報や光学特性情報が挙げられる。 取得された膜情報は平面に投影して二次元の面の情報として把握可能に構成され る。

[0296] マスク製造工程でパターン不良を引き起こす可能性のある欠陥の位置情報 (例え ば平面座標系における X座標、 Y座標）、欠陥の大きさ、欠陥の種類、などが欠陥検 查装置によって判定され、その結果は管理番号毎にホストコンピュータに保存される [0297] 位置情報は、ノッチマーク 1を基準に、ガラス基板のサイズからガラス基板主表面の 中心を算出してこれを基準点（O)とし、該基準点を通りガラス基板の各辺に平行な線 を仮想の X軸、 Y軸とした XY座標系における各欠陥の X座標、 Y座標で保存される。

[0298] 尚、上述の欠陥の位置情報は、上述の 1次膜検査工程、 2次膜検査工程と同様に 、まず、ノッチマーク 1の位置を基準とし、ガラス基板のサイズ (辺の長さ）に基づいて 、ガラス基板主表面の中心を算出してこれを基準点（O)と定め、次に、この基準点（ o)を原点として、直交するガラス基板の辺に沿う直交座標系（XY座標系）を定め、 最後に、この XY座標系において、各欠陥の X座標位置、 Y座標位置を算出し、この X座標、 Y座標の値で保存される。ここで取得した膜情報をレジスト膜膜情報と呼ぶ。

[0299] 欠陥検査が完了したマスクブランクを流通カセット 9とは別の流通カセット 10に収納 する。流通カセット 10には、膜マーク 6を基準に複数枚のマスクブランクがマスクブラ ンクの方向を揃えて収納される。

[0300] 具体的には、流通カセット 10の所定位置に対して、基板に形成されている膜マーク 6が所定の関係に配置されるように収納される。

[0301] 本実施形態においては、流通カセット 10に複数枚のマスクブランクの膜マーク 6が 後側の特定の位置（図 15において流通カセットに対して上方）にくるように収納され ている。即ち、流通カセット 10のカセット前面を基準とし、膜マーク 6が形成された面 をカセット前面に対して反対方向に向けて、つまり、ノッチマーク 1が形成された面を カセット前面に向けて複数のマスクブランクを配列し、カセット前面からみて、収納さ れた複数枚の基板の膜マーク 6が同一の位置関係（図 15において流通カセットに対 して上方）になるように揃えられて収納されている。

[0302] 検査前において、複数のマスクブランクの収納方向が所定に揃うように収納方法が 管理されているので、検査工程で取得された面情報の方向性、座標系と基準点は検 查に供された複数のマスクブランク間で統一され情報が取得される。

[0303] 検査後において、複数のマスクブランクの収納方向が所定に揃うように収納方法が 管理されているので、次の工程においても、マスクブランクの方向性（向き）は維持さ れる。 [0304] 流通ケース 10に添付の IDタグ 10'に、上述の IDタグ 9'に付与されている管理番号 の情報が転送される。尚、上述の通り、 IDタグ 10'に転送される管理番号は、 IDタグ 9'に付与されている管理番号と同じであっても、新たな管理番号を付与しても構わな い。

[0305] (8)膜情報の照合工程

ガラス基板上に順次成膜された 1次膜、 2次膜、レジスト膜の各薄膜について、それ ぞれ取得された膜情報を互いに照合する。また基板情報を取得した場合は、基板情 報と膜情報とを照合することができる。

[0306] 照合されるマスクブランクに係る膜情報は、管理番号により特定することができる。

[0307] 本発明では、膜情報は面情報として取得されている。この面情報における位置の基 準点は、基板或いはマスクブランクに設けられて基準マークとなされるノッチマークや 膜マークと所定の関係を持って取得されている。また。膜情報、面情報の取得に際し ては、基板又はマスクブランクが全て同じ向きに揃えられて情報が取得されている。

[0308] 1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を互いに照合することにより、それ ぞれの膜情報が一致した向きの面情報になっているの力検証することができる。また 、検証結果に基づいて、それぞれの膜情報の向きを一致させることができる。

[0309] 具体的には、成膜工程の前後で基板上の位置が変化しない、即ち、同一位置にあ る形状を基準として各膜の膜情報を照合できる。

[0310] 例えば、最下層の膜である 1次膜に欠陥等の特定の形状が存在する場合、 1次膜 より上層の膜である 2次膜、レジスト膜にも 1次膜の形状が反映されるので、 1次膜膜 情報を基準として他の膜情報の方向性、即ち位置情報における基準点、 XY座標系 が相互に一致しているかどうかを照合して確認することができる。

[0311] 例えば、最下層の膜である 1次膜に欠陥がある場合、 1次膜より上層の膜である 2次 膜、レジスト膜にも欠陥が生じるので、 1次膜情報に含まれる欠陥を基準として他の膜 情報の方向の正否を判定できる。

[0312] 図 17は、 1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を照合した例である。図 1 7では、 1次膜の膜情報、 2次膜の膜情報、レジスト膜の膜情報に共通して検出される 欠陥を基準にした。詳しくは、基板上の位置座標が変化せず、同一位置にある欠陥（ 口、△、 Xが重なっている箇所)を基準に、 2次膜、レジスト膜の膜情報を照合した例 である。

[0313] このように膜情報の照合を行うことで、膜情報同士の方向性 (向き)、即ち、位置情 報における基準点、 XY座標系を一致させることができる。

[0314] ところで、例えば、ある流通カセットから別の流通カセットに基板を移す際に、基板 の方向性を誤って流通カセットに収めてしまう恐れが考えられる。また、流通カセット から各検査装置、各検査装置から流通カセットに基板を移す際に、基板の方向性を 誤って出し入れする恐れが考えられる。こうした場合、膜情報とマスクブランクの方向 性とが不一致となってしまう恐れがある。

[0315] こうした恐れを避けるためには、流通カセットや収納ケースに基板やマスクブランク を出し入れする際、各膜の欠陥検査装置に基板をセットする際、その作業者は、ノッ チマーク 1、膜マーク 3及び 6を基板の向きを示す基準マークとして、予め定められた 方向性（向き）に従って基板やマスクブランクを出し入れする。

[0316] 具体的には、前述の通り、各工程間で基板やマスクブランクを収納する流通カセッ トに対しては、流通カセットの前側に向力つて複数枚の基板やマスクブランクのノッチ マークが配列され、また、カセット前面からみて、所定の位置にノッチマークが揃うよう に基板やマスクブランクを収納すればょ 、。

[0317] なお、便宜的にカセットの前方表示が付与されている場合を記述している力 例え ばケースの向きが必ず同じ向きになるように配列されるのであれば、必ずしも視認可 能な前方表示は必要ではない。また、ホストコンピュータ等により、カセットの向きが把 握され管理されて!、るのであれば、必ずしも視認可能な前方表示は必要ではな 、。

[0318] 膜マーク 3が流通カセット内の下方位置に、膜マーク 6が流通ケース内の上方位置 に配置するように基板やマスクブランクが収納される。

[0319] また、各膜の欠陥検査装置に基板やマスクブランクをセットする際、ノッチマークや 膜マークが所定の方向に向くようにステージに載置し、さらに、ステージに対してノッ チマークや膜マークが所定位置にくるように載置し、所定の検査をすればよ!、。

[0320] このようにすれば、膜情報間で方向性（向き）が不一致となることを予め防止できる。

また、膜情報の方向性（向き）と、収納されたマスクブランタスの方向性（向き）が不一 致となることを予め防止できる。

[0321] マスクブランクの製造過程における基板、マスクブランクの方向性（向き）を一定に 保つことにより、マスクブランクの基準点、 XY座標系を一致させ、さらに、このマスク ブランクの基準点、 XY座標系と、各膜の膜情報の基準点、 XY座標系を一致させる ことができる。

[0322] 以上のように、膜情報、基板情報に含まれる位置情報の面座標や位置の基準点が 相互の関連付け可能にマスクブランク情報が構成されているので、このマスクブラン ク情報はマスクブランク体内の内部立体情報として認識可能である。

[0323] さらに、上記照合工程を経ているので、信頼性の高いマスクブランク体内の立体情 報として保証することができる。

[0324] (9)マスクブランク梱包工程

マスクブランクを収納ケース 20に収納して梱包し、マスクメーカーに配送する。

[0325] ここで収納ケース 20について図 18A及び 18Bを参照して説明する。収納ケース 20 のそれぞれには固有のケース番号 21が付与されて添付されている。

[0326] このケース番号 21は、後述するスロット番号と共に、上述のマスクブランクの製造過 程で、各基板と各工程の情報 (例えば、膜情報）とを対応させるために付けられてい た管理番号と関連付けて付与されている。また、ケース番号 21は、ホストコンピュータ に保存されて 、る各膜の膜情報或 、は基板情報と対応付けがされて 、る。

[0327] ケース番号 21は、収納ケース 20に添付される力 ケース番号 21の添付は、印刷等 の視認可能な状態に限らず、例えば、バーコード、磁気記録媒体、 ICチップ、 ICタグ などの、読み取り可能な媒体として添付しても良い。

[0328] 収納ケース 20は蓋 22と外箱 23と力 なり、外箱 23の中には更に内箱 24が収納さ れるようになっている。内箱 24は、上方から下方に向けて複数の仕切であるスロット 2 5が形成され、スロット 25間に溝が所定間隔で複数形成され、これらの溝にマスクブ ランクが収納できるようになって!/、る。

[0329] スロット 25はマスクブランク間の仕切りである力 以下説明の便宜上、隣接する 2つ のスロット 25間の基板を格納する溝部分をスロットと呼ぶこともある。この意味で図 18 Bには 5枚の基板を格納するための 5つの溝、即ち 5つのスロットがある。 [0330] 各溝に対応してスロット番号が付与され、それぞれをスロット No. 1、スロット No. 2、 …スロット No. 5と呼ぶ。外箱 23の外面のうち、スロット No. 1に近 ヽ面に収糸内ケース 20の向きを示す前面表示 26が記載されている。

[0331] マスクブランクは、各溝（スロット No. 1、スロット No. 2、…スロット No. 5)に、マスク ブランクに形成されているノッチマーク 1が前面表示 26側の特定の位置に配置され、 さらに膜マーク 3が収納ケースに対して下方に、膜マーク 6が収納ケースに対して上 方に配置するように収納され、梱包される。

[0332] 上述のケース番号及びスロット番号を組み合わせて収納ケース 20に格納されて！、 るマスクブランクを個体識別することができる。そして、このケース番号及びスロット番 号により、ホストコンピュータに保存されている各膜の膜情報又は基板情報と対応さ せ、マスクブランク情報が特定される。

[0333] 上述のように、梱包工程にぉ ヽても各溝に、マスクブランクに形成されて 、るノッチ マーク 1が前面表示 26側の特定の位置に配置され、膜マーク 3が収納ケースに対し て下方に、膜マーク 6が収納ケースに対して上方に配置するように収納することによ つて、各マスクブランクの基準点、 XY座標系と、各膜の膜情報又は基板情報の基準 点、 XY座標系を一致させることができる。

[0334] よって、マスクブランク個体と該マスクブランク個体に係るマスクブランク情報とを正 確に対応させることができ、マスク作製時のパターン不良を防止することができる。

[0335] また、マスク作製者はマスクブランクの表面情報のみならず、マスクブランクの内部 状態を把握することができる。

[0336] 次ぎに、ブランク梱包工程を終えた収納ケースに格納されたマスクブランクと、この マスクブランクの膜情報をマスクメーカーに提供するマスクブランク提供方法、及びマ スク作製支援システムについて図 19を参照して説明する。

[0337] 上述のように、管理番号毎にホストコンピュータに保存されている 1次膜膜情報、 2 次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含むマスクブランクの個体情報 (マスクブランク情報 )を、ケース番号及びスロット番号とにより特定されるマスクブランク個体と対応させて 、収納ケースに格納された複数枚のマスクブランクとともに、マスクメーカーに提供す る。 [0338] マスクブランク情報の提供方法は、（a)収納ケース 20に情報を印刷した印刷物を添 付する、 (b)情報データを記録したフレキシブルディスクや CD— ROM等の記録媒体 を収納ケース 20に添付する、 (c)データ通信回線を介して情報データを配送先のマ スクメーカーのコンピュータ等に送信する等がある。

[0339] (a)及び (b)の場合は情報そのものをスロット番号との対応関係と共に収納ケース 2 0に添付する。（c)の場合はマスクメーカー力もケース番号及びスロット番号を送信し 、該当する情報を受信することにより提供を受ける。

[0340] 尚、情報は、図 17のように、各欠陥がどのように配置されている力視覚的にわかる ようにマップィ匕したものでも良いし、各欠陥の種類、欠陥のサイズ、欠陥の位置情報（ X座標、 Y座標）のデータシートであっても良い。情報は、各膜の膜情報毎にマスクメ 一力一に提供するのが一般的であるが、図 17のように各膜の膜情報が一つの欠陥 マップとしてマスクメーカーに提供しても良!、。

[0341] 上述の通り、面情報として取得された基板情報又は膜情報における位置情報、例 えば欠陥の位置情報は、この実施形態ではノッチマーク 1を基準に、基板主表面の 中心を算出してこれを基準点 (O)とし、該基準点を通る XY座標系における各欠陥の X座標、 Y座標で表されており、また、収納ケースに格納されているマスクブランクも、 ノッチマーク 1が収納ケースに対して特定の位置にくるように揃えられて収納されてい るので、収納ケースに格納されているマスクブランクにおける基準点、座標系と、位置 情報における基準点、座標系とが対応関係を把握可能に、或いは一致した状態でマ スクメーカーに提供される。

[0342] 以上のように、一つ一つのマスクブランク個体に対応するマスクブランク情報がマス クメーカーに提供される。提供されるマスクブランク個体は、その位置の基準点や座 標系とブランク膜情報の位置の基準点や座標系とが対応する関係でマスクメーカー に提供される。

[0343] マスクメーカーは、ケース番号やスロット番号、管理番号や管理記号などのマスクブ ランクに間接的に付与されたマスクブランクスを特定するための手段を利用して、提 供されたマスクブランクを個体識別し、前記所定の関係にある基準点や座標系を媒 介にして、提供されたマスクブランクとマスクブランク情報とを照合できる。また、前記 所定の関係にある基準点や座標系を媒介にして、一つ一つのマスクブランクの表面 形態等の状態を的確に把握することができる。

[0344] 従って、所定の転写パターン (マスクパターン）を形成すべきマスクブランク上の領 域を所望に応じて適切に特定することができる。従って、形成すべきパターンのパタ ーン形成の不良を抑制することができる。

[0345] マスクメーカーは提供されたマスクブランク上で、転写パターンを含むマスクパター ンを形成する領域を特定し、マスクブランク上に形成された薄膜にパターユングを行 い、転写マスクを作製できる。

[0346] 次ぎに、上述 (c)のデータ通信回線を介して情報を提供する提供方法を具体例とし て、本発明のマスク作製支援システム 110について図 19を参照して説明する。

[0347] 図 19を参照すると、マスク作製支援システム 110は、マスクブランク工場 111と、マ スタブランク工場 111にて製造されたマスクブランクを元にマスクを製造するマスクェ 場 112と、両工場を接続するデータ通信回線 113からなる。更に、マスクブランクェ 場 111は、ホストコンピュータ 51及びサーバ 114力 なる。

[0348] マスクブランク工場 111にて製造されたマスクブランクは前述の収納ケース 10に収 めてマスク工場 112に配送される。ホストコンピュータ 51は前述のマスクブランク生産 ライン帘 U御システム 50のホストコンピュータ 51である。

[0349] サーバ 114は、ホストコンピュータ 51から必要な情報 (膜情報など）を受け取り、マス ク工場 112に配送したマスクブランクを特定するケース番号とスロット番号とブランク 膜情報とを対応させて保存され、インターネット 113を介してマスク工場 112遠隔地 のコンピュータに所定の情報を提供する。

[0350] 尚、ホストコンピュータ 51に、マスク工場 112に配送したマスクブランクを特定するケ ース番号とスロット番号と膜情報などのマスクブランク情報とを対応させて保存しても よい。

[0351] 次ぎに、マスク工場 112がマスク作製支援システム 110にて受け取った情報を利用 して、マスクブランクのレジスト膜にパターンを描画'現像処理する工程を有するマス ク製造工程についての一例を図 20を参照して説明する。

[0352] 収納ケース 10を受け取ったマスク工場 112の作業者は、視認或いは機械読み取り によりケース番号を収納ケース 10から取得した後、コンピュータ等のデータ通信装置 を用いて、ケース番号をインターネット等のデータ通信回線 113を介してサーバ 114 に送信する。これに応じて、サーバ 114は、そのケース番号の収納ケースの各スロット に収めたマスクブランクの膜情報を、ケース番号、スロット番号と対応させて返信する (ステップ S 121)。

[0353] データ通信の形態としては様々な形態が考えられる。例えばケース番号やスロット 番号等のマスクブランクを個体識別するための情報と、膜情報等のマスクブランク情 報の伝送の双方を電子メールを介して行っても良 、。

[0354] 或いは、ケース番号と、そのケース番号の収納ケースの各溝に収めたマスクブラン クの情報との対応関係を表すデータベースをサーバ 114に設置し、マスク工場 112 側から入力されたケース番号に応じた膜情報などのマスクブランク情報を返信するこ ととしてもよ 、。

[0355] この段階では、マスクブランクは図 21Aのような断面を有し、ガラス基板上に、 1次 膜 (ハーフトーン膜)、 2次膜 (遮光膜)、レジスト膜の複数層の膜が積層されて成膜さ れた状態になっている。

[0356] 膜情報を受け取ったマスク工場 112は、取得された膜情報と、製造しょうとしている マスクのマスクパターンデータとを照合する（ステップ S 122)。

[0357] 上述したように、このとき、マスクブランクの基準点、 XY座標系と、膜情報における 位置情報の基準点、 XY座標系とが対応しており、膜情報とマスクパターンデータとを 照合することにより、マスクブランクに対するマスクパターンの配置を決定することがで きる。

[0358] 今、マスク工場 112は、マスクブランク工場 111からマスクブランク情報 141を受け 取り、マスクパターン 142を描画しょうとしているものとする。マスクブランク情報 141は 1次膜膜情報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を含んでいる。

[0359] 一般に、図 22に示すようにマスクに形成されるマスクパターンは、パターンの密度 が密な密パターン領域 143と、パターンの密度が疎な疎パターン領域 144とを有す る。

[0360] マスクパターンとして密パターンが形成される領域 143と疎パターンが形成される領 域 144とを有するマスクとしては、システム LSI製造用マスクなどが挙げられる。

[0361] 特に、疎パターン形成領域として、電気特性を試験するために形成されたモニター チップ形成領域を有するマスクパターンの場合に本発明のマスク作製支援方法は特 に有効である。

[0362] 一方、一般にマスク製造工程においてパターン不良となる可能性があるマスクブラ ンクの欠陥、具体的にはピンホールやパーティクルは、均一に分布しているのではな ぐ偏在していることが多い。

[0363] 受け取ったマスクブランク情報である膜情報 141を参照し、パターン不良となる可能 性があるピンホールやパーティクルカ、マスクパターンデータにおける密パターン形 成領域 143以外の領域に配置されるように、パターン描画位置を調整して決定する（ ステップ S 123)。

[0364] パターン描画位置の調整方法としては、マスクブランクの向きに対するマスクパター ン 142の向きを変更することが考えられる。また、密パターン形成領域 143と疎パタ ーン形成領域 144の相対的な位置関係が変更可能であれば、これを変更することに より調整してちょい。

[0365] 最後に、決定したパターン描画位置に従って、レジスト膜にパターンを描画し、現 像することで、ガラス基板上にマスクパターン (転写パターン）が形成されたマスクを 得る（ステップ S 124)。

[0366] 以上のようなステップ S121—ステップ S124を経て作製されたマスクは、マスクブラ ンクにおけるパターン不良となる可能性があるピンホールやパーティクルカ、疎パタ ーン形成領域に配置されることになるので、マスクパターンのパターン形成の不良を 抑帘 Uすることができる。

[0367] 次に、上述の実施の形態において、ホストコンピュータ 51が、各装置から各工程の 情報 (たとえば、それぞれの検査工程で生成された基板情報、膜情報や、製造条件 、レシピなどの情報）を収集するマスクブランク生産ライン制御システム 50の一例につ いて図 23を参照して詳細に説明する。

[0368] 図 23を参照すると、マスクブランク生産コントロールシステム 50は、ホストコンビユー タ 51、カセット番号'スロット番号付与装置 52 (以下付与装置 52と記す)、 1次膜成膜 装置 53、 1次膜欠陥検査装置 54、 2次膜成膜装置 55、 2次膜欠陥検査装置 56、レ ジスト膜成膜装置 57及びレジスト膜欠陥検査装置 58からなる。

[0369] 流通カセットは複数枚の基板を収納できるように、上方から下方に向けて複数の溝 が所定間隔で形成されていると共に IDタグを備える。 IDタグには、流通カセットに収 納される各基板を管理する情報が付与される。具体的には、流通カセットのカセット 番号が記録される。

[0370] 図 24を参照すると、生産ラインに基板を投入するには、基板を流通カセットの各溝 に収め、付与装置 52にて、カセット番号、スロット番号、工程フローを入力部 521から IDタグに入力する。

[0371] 工程フローとは、工程順位、工程にて用いられる装置名、各装置で行われる処理の 処理条件に対応したレシピ番号からなり、生産しょうとするマスクブランクに応じて流 通力セット単位で与えられる。尚、生産ライン上において、基板の特定は、工程内で の位置、カセット番号、スロット番号にて行うことができる。

[0372] 付与装置 52は流通カセットの IDタグにカセット番号を書き込むと共に、データ送受 信部 522によってホストコンピュータ 51にカセット番号、スロット番号及び工程フロー を送信する。図 25を参照すると、ホストコンピュータ 51は、付与装置 52から送信され たデータをデータ送受信部 511にて受信後、カセット番号、スロット番号及び工程フ ローを互いに関連付けて工程フロー蓄積部 512に蓄積する。

[0373] 付与装置 52にてカセット番号の入力を終えた流通カセット（以後、この流通カセット をカセット Aと記す）が、 1次膜成膜装置 53のローダーポート 531にセットされると、力 セット Aの IDタグ力もカセット番号を読み取ってデータ送受信部 532によりホストコン ピュータ 51に通知する。

[0374] 図 26を参照すると、これに応答して、ホストコンピュータ 51は、カセット Aのカセット 番号、スロット番号、スパッタ成膜のレシピ番号を 1次膜成膜装置 53に送信する。尚、 レシピ番号にっ 、てはスパッタ成膜の動作開始直前であってもよ 、。

[0375] これを受信した 1次成膜装置 53では、レシピ番号ースパッタ条件照合部 533にてレ シピ番号に対応したスパッタ条件を照合し、スパッタ条件蓄積部 534に照合したスパ ッタ条件を蓄積する。このスパッタ条件に従って、スパッタ条件制御部 535はスパッタ 装置 536を制御し、スパッタ成膜を行う。

[0376] スパッタ装置 536は、カセット Aから基板を抜き取り、スパッタ成膜を開始する。スパ ッタ成膜の過程で、スパッタ実績を収集し、スロット番号と関連付ける。

[0377] スパッタ成膜が終了した基板はアンローダーポート 538に予め準備された別の流通 カセット（以後カセット Bと記す)のスロットに入る。このとき、スロット番号、スパッタ実績

、アンローダースロット番号収集部 ₅₃₇ (以後収集部 ₅₃7と記す）は、カセット Aでのス ロット番号、関連付けられたスパッタ実績、カセット Bでのスロット番号を収集し、デー タ送受信部 532を用いてホストコンピュータ 51に送信する。また、カセット Bのスロット が全て 1次膜成膜後の基板で埋まると、収集部 537は、カセット Bのカセット番号と共 にその旨をホストコンピュータ 51に通知する。

[0378] これを受けて、ホストコンピュータ 51は、カセット番号 B、カセット番号 A、工程フロー の手順で次の工程を特定し、不図示のカセット搬送部に対して搬送先を指示する。 また、ホストコンピュータ 51は、カセット Bのカセット番号、及び、 1次膜成膜装置 53に 送信したスパッタのレシピ番号を、 1次膜欠陥検査装置 54に送信する。

[0379] 図 27を参照すると、 1次膜欠陥検査装置 54は、データ送受信部 541にてこれらを 受信すると、カセット番号 -レシピ番号照合部 542にこれらを渡す。

[0380] ローダーポート 543に流通カセットが搬入されると、カセット番号 レシピ番号照合 部 542は、流通カセットの IDタグ力 読み取ったカセット番号に対応するレシピ番号 を照合する。ここでカセット番号がカセット Bのものであれば、カセット Bに収められた 基板に対してスパッタ成膜した際のレシピ番号が得られる。

[0381] 欠陥検査条件蓄積部 544には、レシピ番号と、レシピ番号が示すレシピ条件下で 成膜された膜に対して行うべき検査条件との対応関係が予め蓄積されており、カセッ ト番号 レシピ番号照合部 542からレシピ番号を受け取ると、行うべき検査条件を出 力する。

[0382] この検査条件に従って、欠陥検査条件制御部 545は、欠陥検査装置 546を制御し て検査を行う。欠陥検査装置 546は検査結果を欠陥検査情報として出力する。検査 の済んだ基板は、アンローダーポート 547に予めセットした別の流通カセット（以下力 セット Cと記す）のスロットに収められる。 [0383] アンローダーカセット番号、アンローダースロット番号付与部 548は、カセット Cに力 セット番号を付与すると共に、カセット Cのカセット番号、カセット Cのスロット番号、スロ ットに収められた基板の欠陥検査情報とを関連付けて、データ送受信部 541を用い てホストコンピュータ 51に送信する。

[0384] ホストコンピュータ 51は、送信された情報を、 1次膜成膜装置 53にて得られたスパ ッタ実績等と関連付けて情報蓄積部 513に蓄積する。

[0385] 2次膜成膜装置 55、 2次膜検査装置 56、については、それぞれ 1次膜成膜装置 53 及び 1次膜検査装置 54と比較すると、成膜する膜の種類の違いに起因する相違の みで、構成要素及び動作に大きな違いがないので説明を省略する。図 28に示すレ ジスト膜成膜装置 57及びレジスト膜欠陥検査装置 58についても同様である。

[0386] このようにして、 1次膜成膜装置 53、 1次膜検査装置 54、 2次膜成膜装置 55、 2次 膜検査装置 56、レジスト膜成膜装置 57及びレジスト膜欠陥検査装置 58から、収集し た情報を元に、欠陥情報照合部 514は、第 1の実施の形態にて説明した 1次膜膜情 報、 2次膜膜情報、レジスト膜膜情報を生成すると共に、これらを互いに照合して、図 17に示すようなマスクブランク情報を生成する。

[0387] 上述の実施の形態では、流通カセットや収納ケース、スパッタリング装置の基板の 保持具、欠陥検査装置のステージに、基板やマスクブランクをセットする際、ノッチマ ーク 1、膜マーク 3、 6を基準にある特定の方向性（向き）となるように管理したが、これ に限らず、マスクブランク製造工程全てにお ヽてノッチマーク 1のみで基板の方向性 を特定することもでき、ノッチマーク 1のみで基板の方向性を管理しても良い。

[0388] また、ノッチマーク 1や膜マーク 3、 6以外に、基板に付与する基準マークであっても 良い。この場合における基準マークは、基板の方向性（向き）を特定できる形状とする ことができる。

[0389] また、基板上、或いはマスクブランクス上の基準マークの配置位置は、基板の中心 に対して回転非対称の位置に設けたものとすることができる。

[0390] また、上述の実施の形態では、膜情報を基板上に形成される複数の膜の膜情報と したが、取得する膜情報は単一の膜であってもよい。マスクブランク工場力もマスクブ ランクが出荷されるに際して取得された情報であっても適用することができる。この場 合であっても、膜情報の基準点と XY座標系と、マスクブランクの基準点と ΧΥ座標系 との一致を保証する作用がある。また、膜情報の他に基板表面の情報を含んでも良 い。

[0391] また、上述の実施の形態では、マスクブランクとしてガラス基板上に、 MoSiNハー フトーン膜、 Cr遮光膜、レジスト膜が形成されたノヽーフトーン型の位相シフトマスクブ ランクを例に挙げて本発明のマスク作製支援方法を説明したが、これに限らず、ガラ ス基板上に、 Cr遮光膜、レジスト膜が形成された所謂、フォトマスクブランクや、ガラス 基板上に多層反射膜、吸収体膜、レジスト膜が形成された反射型マスクブランクにお 、てち適用することができる。

[0392] また、上述のマスクブランクにお 、て、レジスト膜が形成されて 、な 、マスクブランク でも本発明を利用することができる。

[0393] また、本発明においては、実施の形態に記載されているハーフトーン膜の膜材料、 遮光膜の膜材料に限定されず、一般にマスクブランクに適用することができる他の膜 材料であっても構わな ヽ。

[0394] また、上述の実施の形態では、 IDタグを各流通ケース毎に別々に設けていたが、 流通ケースは別であるが、 IDタグは次工程で使用する流通ケースに付け替えて使用 しても構わない。

[0395] 以上、本発明を実施の形態に基づいて説明した力 本発明はこれらに限定されるも のではなぐ当業者の通常の知識の範囲内でその変更や改良が可能であることは勿 論である。

[0396] 例えば、上述の実施の形態における膜情報は、基板の所定の方向を基準として膜 上に予め定められた XY座標系の X座標、 Y座標、欠陥の大きさ、欠陥の種類を含む ものであった力 各座標における測定値の種類及びその数はこれに限定されるもの ではない。平面度等の形状に係る値、電気抵抗値等の電気特性値、屈折率等の光 学特性値等を、膜情報として含むことが考えられる。これら測定値のうち、全てを膜情 報に含むこととしてもよいし、一部でもよい。

[0397] また、基板情報や各種膜情報において、座標系として直交座標系を用いたが、こ れに限定されるものではなぐ他の極座標系でもよいし、二次元座標系の代わりに三 次元座標系を用いることとしてもよい。例えば、膜情報に XYZ座標系を用いることと すれば、膜表面の X及び Yで表される点で深さ Zの位置にホールが存在すると ヽつた 情報を盛り込むことが可能となり、より詳細なマスクブランク情報を取得することが可 能となる。

Claims

請求の範囲

[1] 基板面上に積層された複数の膜を備えるマスクブランクに係る情報であるマスクブ ランク情報を取得する方法にぉ 、て、

前記マスクブランク情報は、基板情報及び一以上の膜情報、又は、二以上の膜情 報を含み、

前記基板情報は、基板面に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報 に関連付けられた基板の状態を示す状態情報とを含み、

一の前記膜情報は、一の膜に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報 に関連付けられた当該膜の状態を示す状態情報とを含み、

前記マスクブランク情報に含まれる前記基板情報又は前記膜情報の平面座標系は 、定められた対応関係を有する

ことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[2] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、

基板面上又は基板面上に成膜された他の膜の上に第 1の膜を成膜する段階と、 成膜された前記第 1の膜の状態に係る第 1の膜情報を取得する段階と、 前記第 1の膜の上に第 2の膜を成膜する段階と、

成膜された前記第 2の膜の状態に係る第 2の膜情報を取得する段階と、 前記第 1の膜情報及び第 2の膜情報を含むマスクブランク情報を生成する段階と を含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[3] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、

基板を準備する段階と、

準備した前記基板の状態に係る基板情報を取得する段階と、

前記基板の面上に膜を成膜する段階と、

成膜された前記膜の状態に係る膜情報を取得する段階と、

前記基板情報及び膜情報を含むマスクブランク情報を生成する段階と を含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[4] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、前記平面座標系の基準 点は、定められた関係を有することを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[5] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、前記平面座標系の基準 点は、基板に形成されたマーク及び膜に形成されたマークの少なくとも一方を基準と して定められることを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[6] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にお!、て、前記基板情報及び Z又 は膜情報を互いに照合する段階を更に含むことを特徴とするマスクブランク情報取得 方法。

[7] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にお!、て、前記状態情報は、表面 形態に関する情報及び光学特性に関する情報のうち少なくとも一方を含むことを特 徴とするマスクブランク情報取得方法。

[8] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、前記膜の少なくとも 1つ は、露光光の位相をシフトする位相シフト膜であることを特徴とするマスクブランク情 報取得方法。

[9] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にお!、て、前記基板情報及び 1以 上の膜の前記膜情報を平面に投影して生成した情報、または、複数の膜の前記膜 情報を平面に投影して生成した情報を、前記マスクブランク情報に含むことを特徴と するマスクブランク情報取得方法。

[10] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、

前記膜情報の取得に先立って、基板及び Z又は膜の予め定められた位置に、状 態情報として検出可能な基準マークを付与する段階を更に含み、

前記基準マークに基づいて定めた基板又はマスクブランクの向きを示す情報を、マ スタブランク情報に含む

ことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[11] 請求項 10に記載のマスクブランク情報取得方法において、基準マークは、方向を 特定可能な形状に生成することを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[12] 請求項 10に記載のマスクブランク情報取得方法において、

基板の輪郭は回転対称性を有する形状であって、

付与された基準マークを含む基板の形状は、回転非対称性を有する

ことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[13] 請求項 10に記載のマスクブランク情報取得方法において、

装置 Aにて基板上に膜 aを成膜すると共に、前記膜 aを測定して前記基準マークを 含む膜情報 aを取得する段階と、

その基板を前記装置 Aから取り出す段階と、

前記基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収 納する段階と、

前記ケースを装置 Bに搬送する段階と、

前記基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、前記装置 B に設置する段階と、

前記装置 Bにてその基板上に膜 bを成膜すると共に、前記膜 bを測定して前記基準 マークを含む膜情報 bを取得する段階と

を含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[14] 請求項 10に記載のマスクブランク情報取得方法にお 、て、

基板を測定装置に設置して基板を測定し、前記基準マークを含む前記基板情報を 取得する段階と、

その基板を前記測定装置から取り出す段階と、

前記基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、ケースに収 納する段階と、

前記ケースを装置 Aに搬送する段階と、

基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、装置 Aに設置す る段階と、

前記装置 Aにて基板上に膜 aを成膜すると共に、前記膜 aを測定して前記基準マー クを含む膜情報 aを取得する段階と

を含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[15] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法において、取得したマスクブランク 情報は、マスクブランクの個体を識別するために参照されることを特徴とするマスクブ ランク情報取得方法。

[16] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にぉ 、て、前記状態情報は少なくと も 2種類の測定値を含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[17] 請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法にお!、て、前記基板情報及び膜情 報の少なくとも一方は、基板または膜の厚さ方向の座標を更に含む立体座標系にお ける位置情報を含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[18] 基板上に複数の膜を重ねて成膜して作製されるマスクブランクに係る情報であるマ スタブランク情報を提供する方法にぉ 、て、請求項 1に記載のマスクブランク情報取 得方法にて取得したマスクブランク情報を、そのマスクブランクと共に提供することを 特徴とするマスクブランク情報提供方法。

[19] マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援する方法 において、

請求項 18に記載のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーにマスクブラ ンク情報を提供する段階を含み、

提供するマスクブランク情報は、不良な転写マスクの作製を防ぐため、対応するマ スタブランクにマスクパターンを形成するのに先立って、マスクブランク上のマスクパタ ーンを形成する領域を特定する際に参照される

ことを特徴とする転写マスク作製支援方法。

[20] マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援する方法 において、

請求項 18に記載のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーにマスクブラ ンク情報を提供する段階を含み、

マスクメーカーに対し、マスクブランク情報中の座標系の基準点を、前記基準マー クを介して通知する方法であって、

提供を受けた前記マスクメーカーは、前記基準マークを介して、前記平面座標系間 の前記対応関係を取得し、取得した前記対応関係及び前記マスクブランク情報に基 づいて、マスクパターンを形成すべき領域を定める

ことを特徴とする転写マスク作製支援方法。

[21] 請求項 19に記載の転写マスク作製支援方法において、マスクブランクに形成され るマスクパターンは、相対的に密なパターンのブロックと、相対的に疎なパターンのブ ロックとを含むことを特徴とする転写マスク作製支援方法。

[22] マスクブランクに転写パターンとなるマスクパターンを形成して転写マスクを製造す る方法にぉ 、て、請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方法により取得されたマ スタブランク情報に基づ 、て、マスクブランクにマスクパターンを配置する領域を定め ることを特徴とする転写マスク製造方法。

[23] マスクブランクの製造方法にお!、て、請求項 1に記載のマスクブランク情報取得方 法を含むことを特徴とするマスクブランク製造方法。

[24] 基板面上に積層された複数の膜を備えるマスクブランクに係る情報であるマスクブ ランク情報を取得するシステムにお 、て、

基板の状態に係る基板情報を取得する手段、

基板面上又は基板面上に成膜された他の膜の上に成膜された第 1の膜の状態に 係る第 1の膜情報を取得する手段、及び

前記基板面上に成膜された前記第 1の膜以外の膜である第 2の膜の状態に係る第 2の膜情報を取得する手段のうち、少なくとも 2つの情報取得手段を備え、更に、 当該情報取得手段にて取得した情報を含むマスクブランク情報を生成する手段を 備えることを特徴とするマスクブランク情報取得システム。

[25] 請求項 24に記載のマスクブランク情報取得システムにお 、て、

前記基板情報は、基板面に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報 に関連付けられた基板の状態を示す状態情報を含み、

一の前記膜情報は、一の膜に対応する平面座標系における位置情報と、位置情報 に関連付けられた当該膜の状態を示す状態情報を含み、

前記マスクブランク情報に含まれる前記基板情報又は前記膜情報の座標系は、定 められた対応関係を有する

ことを特徴とするマスクブランク情報取得システム。

[26] 請求項 10に記載のマスクブランク情報取得方法にお 、て、

前記基板は多角形であって、

前記基板の互いに接する二側辺に挟まれた領域に、前記基準マークを付与する ことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[27] 請求項 10に記載のマスクブランク情報取得方法において、偶数個の前記基準マ ークを、互いに回転非対称の位置に付与することを特徴とするマスクブランク情報取 得方法。

[28] マスクブランク情報をマスクメーカーに提供して、転写マスクの作製を支援する方法 において、

請求項 18に記載のマスクブランク情報提供方法により、マスクメーカーに複数のマ スタブランクのマスクブランク情報を提供する段階を含み、

提供するマスクブランク情報は、マスクパターンを形成するのに先立って、前記複 数のマスクブランクの一を選択する際に参照される

ことを特徴とする転写マスク作製支援方法。

[29] 請求項 13に記載のマスクブランク情報取得方法において、前記膜情報 bを取得す る段階の後、前記基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、 ケースに収納する段階を更に含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[30] 請求項 14に記載のマスクブランク情報取得方法にお 、て、前記膜情報 aを取得す る段階の後、前記基準マークを基準として、その基板を予め定められた向きにして、 ケースに収納する段階を更に含むことを特徴とするマスクブランク情報取得方法。

[31] マスクブランクを提供する方法において、マスクブランクと共に、請求項 1に記載の マスクブランク情報取得方法にて取得した当該マスクブランクに係るマスクブランク情 報を提供することを特徴とするマスクブランク提供方法。