TWI378493B - - Google Patents

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1378493 鴿 m 九、發明說明： 【本發明所屬之技術領域】 關 裝 、本發明係關於載台裝置及曝光裝置，更詳言之，係

於具有移動於移動面之載台的載台裝置，及具備該載台 置之曝光裝置P 【先前技術】 马年來，在半導體元件、液晶顯示元件等之製造的微 二製程中’隨著半導體之高積體化’ i要係、使用能以高產 能將微細圖案以良好精度形成於感光物體上之步進重複方 式的縮小投影曝光裝置（即步進H )、或步進掃描方式之掃 指型投影#光裝置（即掃描步&器（亦稱掃描器））等逐次移動 型的曝光裝置。 此種曝光裝置中’作為驅動晶圓或玻璃板等之感光物 體（以下稱為「晶圓」）的驅動裝置者，係使用粗微動構造 之晶圓載台裝置，其具有：XY載台，係藉由空氣軸承等 懸浮支撐於平台上，藉由2軸線性馬達驅動於2維面内； 以及晶圓台’係在該XY載台上保持晶圓，藉由音圈馬達 寺而微幅驅動於Z軸方向及傾斜方向。又，最近亦進行著 —種晶圓載台裝置之開發’其具備被線性馬達或音圈馬達 驅動於6自由度方向之單一載台。 然而，上述晶圓載台裝置中，由於線性馬達及音圈馬 達所使用之配線、或空氣軸承所使用之配管（tube)等係由 外部連接至載台’因此此等配線、配管等會隨載台之驅動 而被拉扯，此即係降低晶圓之位置控制性的要因。 5 1378493 2善此種不良情形’可考量例如將用以驅動載台之 =達作成動磁型，且藉由從平台側供應用以使載台懸 於平台上的加厂堅氣體，來去除連接於載台之配管、 配4# (例如，參照專利文獻丨）。 i ^而專利文獻1所記載之從平台㈣加H體供應 載！:：=，雖能較容易地採用於如掃描器之標線片 ㈣方向（例如掃描方向）進行掃描的載台，但卻 =採用於須進行2維移動之晶圓載台。因此，晶圓載台 裝即須將上述加I氣體供應用之配管連接於載台，此 配g之拉扯依然為導致載台之位置控制性降低的要因。當 :二？線片載台裝置而言，當必須將配管等連接於標線 片載。日H樣令人擔心位置控制性降低的問題。 專利文獻1 :曰本特開2001 — 20951號公報 【發明内容】 本發明有鑑於上述情形，從第i觀點視之，係一種載 。裝置’具備移動於移動面（71a)之載台（WST)與用以對該

載台供應力量之力量供應裝置（155)，其特徵在於，該力量 供應裝置，且借·资，A ^ /、備·弟1軸部（232) ’係延伸於該移動面内之 第1軸方向；第1支撐部(234)，係將該第！轴部支撐成能 和動糸5玄第1軸方向及繞該第1軸旋轉；第2軸部(236)， 係延伸於與該第1軸交叉之第2軸方向；以及第2支撐部 () 將°玄第2軸部支撐成能移動於該第2.軸方向及繞 該第2轴旋轉。 據此，對移動於移動面之載台供應力量的力量供應裝 6 置八，第1轴部、第1支標部、第2軸部、以及第2支 :P帛麵°P被第1支標部支標成能移動於移動面内之 第軸方向及為第丄轴旋轉第2轴部㈣$ Μ撐#支 撐成能移動於與第1軸交又之第2轴方向及繞第2軸旋轉。

It此，即使隨載台之蔣备）1 & 移動而使上述4自由度方向（第1軸方 向及繞第1軸旋棘之# 紅轉方向、第2軸方向及繞第2軸旋 轉之旋轉方向)之任-方向的力作用於力量供應裝置，力量

供應裝置皆可根據該力來改變位置、姿勢來吸收該力卜 如此’藉由將力量供應裝置連接於載台，而不會產生如將 配管等用於供應力量時般，目配管之拉扯而使位置控制性 降低，可良好地確保載台之位置控制性。 此時’該力量供應裝置，可進一步具備：第3軸部（238)， 係延.伸於與該帛1軸及該第2軸交又之第3㈣向；以及 第3支揮部（239)，係將該第3軸部支稽成能移動於該第3 軸方向及繞該帛3軸旋轉。此情形下，無論隨載台之移動 _使任彳向之力作用於力量供應裝置，力量供應裝置亦 會根據該力量來改變位置與姿勢，因此能更加良好地確保 載台之位置控制性。 本發明從第2觀點視之’係一種載台裝置，其特徵在 於’具備：載台（WST)，係被支樓成能移動於移動面；第】 ㈣裝置（46U，461B，23A〜23D)，係驅動該載台；平衡 益（3〇)，係藉由以該第！驅動裝置驅動該載台時之反作用 力而移動於與該|台相反之方肖；以及力量供應裝置（155, 1 5 5 )’係透過該平衡器將力量供應至該載台。 7 1378493 &根據上述，由於具備了透過平衡器（藉由載台（被支撐 成能移動於移動面）被第1驅動裝置驅動時之反作用力而移 動於與该载台相反之方向）將力量供應至載台的力量供應裝 因此月b以位於載台附近之平衡器為中繼點將力量供應 2載。。藉此’相較於從載台裝置外部透過配管等將力量（流 )直接供應至載台之情形’能更降低隨配管之拉扯所產生 的阻力，藉此能提昇載台之位置控制性。 、本發明從第3觀點視之，為一種曝光裝置，係將裝載 載。裝置（12)之光罩（R)的圖案轉印於基板（w)，其特徵 在於：使用本發明之第卜帛2載台裝置的任一者來作為 該載台裝置。 根據上述，由於係以本發明之第丨、第2載台裝置之 任者作為移動光罩的載台裝置，因此能提昇光罩之位置 ^制性’其結果’ &良好地使形成於光罩之圖案與基板對 月（或重疊），能以較高精度將圖案轉印於基板。 本發明從第4觀點視之，為一種曝光裝置，係將圖案 轉印於裝載在載台裝置（12)之基板（w)，其特徵在於：使用 本發明之第卜第2載台裝置之任—者來作為該載台裝置。 根據上述，由於係以本發明之m 2冑台裝置之 任一者來作為移動基板的載台裝置，因此能提昇基板之位 置控制性，其結果’能以較高精度將圖案轉印於基板。 【實施方式】 《第1實施形態》 以下，根據圖1〜圖12(B)說明本發明之第】實施形態。 8 1378493 圖1仏顯不第1實施形態之曝光裝置100的概略構成。 此曝光裝置100，# 係步進掃描方式之掃描型曝光裝置，亦 即所謂的掃描步進器。 1 γ 日裝置1GG，具備：照明系·统1G，係包含光源及

: 干糸統’11由作為能量光束之照明光（曝光用光）IL 來照明作為光罩之P # 之仏線片R ;標線片載台RST，係保持標 备片R，技衫單70 Pu ;作為載台裝置之晶圓載台裝置1 2， 係'3作為載台（裝載作為物體之晶目w)之晶圓載台 主體BD ’係裝載有上述標線片載台RST及上述投 影單元PU等；以及此等之控制系統等。 上述照明系統10,係藉由照明光IL，以大致均一之照 度照明被標線片遮簾（夫阁__ ^ 最（禾圖不）規定之標線片R上的狹縫狀 照明區域。此處，竹在_ ^ 作為—例’係使用ArF準分子雷射光（波 長193nm)來作為照明光江。 上ϋ榇線片載台rst，係藉由設於其底面之未圖示的 工孔軸承等透過例如數^ m《間隙，被懸浮支推在構成後 述第2機身（eC)lumn)34之頂板的標線片基座％上。於此 才不線片載0 RST上’例如藉由真空吸附（或靜電吸附）來固 定標線片R。此處’標線片載台咖係藉由包含線性馬達 等之標線片載台驅動部"，而能在與後述投影光學系統PL 之光軸AX垂直的XY平面内，進行2維方向（χ抽方向、 Υ軸方向、以及繞與ΧΥ平面正交之Ζ轴旋轉的旋轉方⑽ Ζ方向））的微幅驅動’且能以所指定之掃描速度在標線片基 座36上驅動於既定掃描方向（此處係以圖中紙面左右方 9 1378493 鳞 向為γ軸方向、。+ 1 卜，払線片載台rst亦可係周知之粗 微動構造。 本貫力t2i形態所揼用誓+ $ 截△ 木用之對朿，係用以盡量減低在標線片 D R驅動時(特別是掃描驅動時)因作用於線性馬達之 Z定件的反作用力而造成之振動的影響。具體而言 1 11寺4平8_~ 330224號公報（對應美 :’ 74,82〇號)等所揭示般，係、分別被另設於主體 ^外^圖示支撐構件（反作用力框架，γ_ι〇Η 標，驅動標線片載A R QT。士 | m RST時作用於線性馬達固定件的反作 用力，係透過該等之反作用 刀扎永而得達（釋放）至潔淨室 此外，亦可採用利用了揭示於特開平8 - 6323 1 遽公報（對應美國專利第6,246,2〇4號）等之動量守值定律的 反作用力消除機構，來作A押 除機^ 4線片载台咖之反作用力消 b私線片載口 RS丁之载台移動面内的位置，係隨時藉由 標線片雷射干涉儀（以下稱烏「 曰 基也 冉馬钻線片干涉儀J )16透過移 ’兄？j'如以〇.5〜lnm左右之解析能力加以檢測。此時， 投影單元PU之鏡筒40側面的固定鏡14 ==置測量。此處，實際上，雖於標線片載台^ 上^具有與Μ方向正交之反射面的Y移動鏡'以及且 有與X軸方向正交之反射面的又移動鏡，並與此等移動鏡 對應而没有標線片γ干涉儀與標線片x干涉儀，且進一牛 地設有對應該等之X軸方向位置測量用固定鏡、與乂軸^ 向位置測量用固定鏡，但圖1中僅代表性的顯示移動鏡15、 10 1378493 標線片干涉儀16、固定鏡14。 標線片干涉儀1 6之測量值，被送至主控制裝置2〇。 主控制裝置20，根據標線片干涉儀16之測量值，透過標 線片載台驅動部11來驅動控制標線片載台RST。 上述投影單元PU，係在圖i之標線片載台RST下方 被主體BD之一部分所保持。此主體BD，具備：第丨機身 32,係設於潔淨室之地板F上所設的鑄框（frame caster)Fc 上方；以及第2機身34，係固定於此第1機身32之上。 上述鑄框FC，具備水平放置於地面F上之底板BS、 與固定於上述底板上之複數根（例如3根或4根）腳部39(不 過’圖1中省略紙面内側之腳部）。 上述第〗機身32,具備鏡筒平台（主框，邮心謝州， 其係被複數個、例如3 $ 4個第i防振機構％(個別固定 於構成上述鑄樞FC之複數根腳部39的各上端）支撐成大 致水平。 於上述鏡筒平台38之大致中央部位形成有未圖示之圓 形開口’投影單元PU得、從上方插入上述圓形開口内，透 過設於其外周部之突緣FLG來保持。於鏡筒平纟Μ上面 環繞投影單元PU之位置，固定有複數支、例如3支腳41(不 過圖1 :省略紙面内側的腳)的一端(下端)。此等腳41之 各另-编(上端)面大致在同一水平面上，於此等腳W之各 上述標線似％之下面。藉此，以複數 座3“支:二支標標線片基座％。亦即，藉由標線片基 m座36之3根腳4丨來構成第2機身34。 IL之通路的開 於&線片基座36中央部形成有構成照明光 D 36a。 上述投影單元Pu，包含：鏡筒4〇，係圓筒狀，於其 。部下端部附近設有突緣FLG;以及投影光學系統I "由保持於該鏡筒4〇之複數個光學元件構成。 έ作為上述投影光學系，统PL ’例如可使用折射光學系 統’其由具有z軸方向之共通光軸Αχ的複數個透鏡（透鏡 兀件）所構成。此投影光學系統PL,例如係兩側遠心並具 有既定投影倍率（例如1/4倍或1/5倍）。藉此，當來自、 照明系統1〇之照明光IL照明於標線片汉的照明區域時， 藉由通過此標線片R之照明光IL，將其照明區域内之標線 片R的電路圖案縮小像（電路圖案一部分之縮小像），透過 投影光學系統PL形成於表面塗布有光阻（感光劑）之晶圓w 上。此處，晶圓W，例如係半導體（矽等）或s〇I(矽絕緣體， Silicon lnsulat0r)等圓板狀基板，於其上塗布有光阻。 ’ 上述晶圓載台裝置12，如圖2之立體圖所示，具備： ®載台基座71，係被配置於上述底板BS上之複數個（例如3 個）弟2防振機構（省略圖示）支樓成大致水平：晶圓載二 WST’係配置於上述底板71上面之上方；配管載體丁匸， 係設於該晶圓載台之+ Y側；以及載台驅動部，係驅動此 等晶圓載台wst及配管載具tc。載台驅動部，雖如圖2 所示由包含一對Y軸線性馬達LY1、LY2之複數個馬達所 構成’但圖1中為便於圖示而僅以方塊來顯示載台驅動部 21。 12 0 1378493 接著，根據圖2至圖7詳細說明晶圓載台裝置】2。 上述載σ基座71亦被稱為平台，係由俯視（由上方觀 之)呈矩形之平板所構成c此載台基i 71，係配置在分別 6又方；底板BS之X軸方向一側與另一側的端部附近 '延伸 於γ軸方向之凸部BSa，BSb所挾的區域上。载台基座71 之上面係作成高平坦度，以作為晶圓載台wsT移動時之 移動面。 由取出晶圓載台WST後之立體圖的圖3(A)可知，上 述曰曰圓载台WST，具備：長方體狀之晶圓載台本體28、 X及以真工吸附方式固定在該晶圓载台本體2 8上面之晶 圓台WTB。 於上述晶圓載台本體28，形成有從+ χ側端面貫通至 X側糕面之3個截面呈長方形的開口 28a，28b，28c。 於上述開口 28a内側之上下對向面，分別固定有γ軸 用可動件之一對永久磁鐵22Α，22Β。 於上述開口 28b，28c内側之左右對向面，分別固定有 χ軸用可動件之磁極單元（永久磁鐵群）23A〜。 再者’於晶圓載台本體28底面之四個角落附近，設有 截面王大致三角形之磁極單元（永久磁鐵）29A〜29〇(不過， .未圖示紙面内側之磁極單元29D)。關於此等磁極單元“A 〜29D，留待後述。 如圖2及圖3(B)之立體圖所示，上述晶圓載台本體28， 係呈與延伸於χ軸方向之複數個固定件（電樞線圈）卡合的 狀態。 13 更并s之，如圖3(B)及圖4(顯示晶圓載台裝置之俯視 圖)所示，設有γ軸固定件187，由固定件6ia，㈣，⑹、 以及z轴固定件89A，89B，來作為上述複數個固定件（電 框線圈）。此等6個固定件之-X側各端面，係固定在配置 成：致平行於YZ面之板狀滑動件46, +χ側各端面，則 口疋在配置成大致平行於ΥΖ面之板狀滑動件44(參照圖2, 圖4等）。亦即，輯動件44,46與上述"固定件來構成 固定件單元ΙΜΥ。

本實施形態中，藉由Υ軸固定件187與一對永久磁鐵 22Α’ 22Β，來構成使晶圓載台WST相對固定件單元微 幅驅動於Y軸方向之磁轉式γ軸音圈馬達νγ(參照圖5和 Η 8以及示思方式顯示在晶圓載台裝置12内所產生之力 之圖6的兩箭頭（雙向箭頭）al)。 又，以固疋件61 A與一對磁極單元23A，23B，來構成 使晶圓載台WST相對固定件單元Μγ驅動於χ軸方向之 動磁式X軸線性馬達LX1，並以固定件61Β與一對磁極單 凡23C，23D來構成Χ軸線性馬達LX2(參照圊$、圖8)。 此時’藉由使各X轴線性馬達LX1，LX2產生相同之 勞倫兹力’而使晶圓載台WST被此等χ軸線性馬達LX1， LX2驅動於X軸方向，且藉由使各X軸線性馬達LX1，LX2 產生之勞倫茲力稍微相異，使晶圓載台WST藉由此等X 轴線性馬達LX I，LX2被驅動於繞Z軸旋轉之旋轉方向（0 Z方向）（參照圖6之兩箭頭a2)。 再者’如圖5所示，上述各z軸固定件89A，89B，係 14 1378493 分別與固定於晶圓載台本體28底面之上述磁極單元29a， 29B、磁極單元29C，29D卡合的狀態。各z轴固定件89A， ”有YZ截面呈倒τ字形之形狀，於各内部設有未圖 示之電樞線圈。 :極單元⑽與2轴固定件議，來構成賦與晶圓 σ Τ往ζ軸方向之驅動力@ ζ轴音圈馬達V。(參照 圖5、圖8)，同樣地，以磁極單元29Β與ζ軸固定件㈣， 來構成賦與晶圓載台肅往ζ轴方向之驅動力的ζ轴音 圈馬達VZ2(參照圖8)。 ，同樣地，以磁極單元祝與Z軸固定件89A，來構成 賦與晶圓載台WST ；?Φ *7 k + 彺z軸方向之驅動力的z軸音圈馬達 —(參’、、' 圖5、圖8)，同樣地，以磁極單元29D與z軸固 疋件89A ’來構成賦與晶圓載台術往z軸方向之驅動 力的Z軸音圈馬達VZ4(參照圖8)。 曰亦即藉由適當控制z軸音圈馬達vz丨〜VZ4，可使 日日圓載台WST相對阳中政gg -、 Λ 对固疋件早兀MY驅動於Ζ，0 X，0 y方 向（參照圖6之兩箭頭b)。 此外，晶圓载台WST之自身重量，如圖5所示，係藉 又方'日日圓載D ws丁底部之自重消除器1〇1之支撐力， 以非接觸方式支樓於載台基座71之移動面7ia上（參照圖 之兩則s貝c)。作為此自重消除器】之一例，能使用具 有固定於晶圓載台本體28底部之朝下的汽缸以及從下方 入省柱胆内邛之活塞、並於活塞底面設有氣體靜壓軸承 P止推軸承）,其與形成於柱體與活塞上端面間之柱體内部 15 1378493 的正壓空間連通。此時，於活塞外周面與柱體内周面之間， 最好設有由氣體靜壓軸承構成之徑向軸承。此外，作為自 重/肖除器1 0 1之一例，例如亦可使用伸縮型之自重消除考。 如圖3(B)及圖5所示’上述固定件1 61，係與從+ χ 側（或一 X側）所視呈矩形框狀之配管載具TC卡合，於配管 載具TC之開口部TCa内側的+ X側及一χ側内面，分別 固定有與上述磁極單元23A，23B相同之磁極單元123a， 123B。本實施形態中，藉由固定件i61與一對磁極單元 U3B ’來構成使配管載具TC相對固定件my往χ軸方向 驅動之動磁式X軸線性馬達Rx(參照圖5、圖8)。此外， 作為上述X軸線性馬達RX，亦可採用動圈式之線性馬達。 如圖3(B)及圖5所示，供氣管2〇3，排氣管2〇4之一 5而，分別透過接頭CN連接於上述配管載具TC ^ 在配管載具TC與晶圓載台WST(晶圓載台本體28)之 間设有力量供應裝置i 55，配管載具TC透過該力量供應裝 置155與晶圓載台WST連接。此外，關於力量供應裝置155 之構成等，將與對晶圓載台WST之加壓氣體的供應系統 及真空力量之供應系統（真空排氣系統）的構成等一併詳述 於後。 如圖4所不，於上述滑動件44，46之各底面設有板狀 構件188A，188B。於此板狀構件188、188B底面沿γ軸 方向设有複數個未圖示之空氣軸承。透過此等複數個空氣 轴承，將滑動件44，40透過數以m左右之間隙 '以非接觸 方式懸浮支撐於載台基座71之移動面71a。又，由於複數 16 丄 J / οη·”：) 丄 J / οη·”：) 個芏轧釉承係 懸浮力相異，而能❹=置’因此藉由使Μ氣細承之 力作用於各滑動件4；^轴旋轉之旋轉方向（θχ方向）的 浮力相異，能使固定件單_ ^错由使各滑動件44,46之懸 轉之旋轉方向…方向)二整體微幅驅動於繞γ轴旋 D )匕照圓6的兩箭頭g)。 ，·示D圖4及圖2後即可 τ Υ2，技^ 了解，上述Υ軸線性馬達LΥ1， LY2係包含由電柩單元# Μ 以及由磁極單元所“件W' 7可==;:軸線性馬達…部之構成的圖 點鏈線顯示之板狀框體Ι96Τ、動二:於 向以既定間隔配置、…方向;了6内部沿Y軸方 第1雷;te # m 向呈、，田長長方形狀之複數個 弟1電柩線圏190、以及配置於該複數㈣… 之+ X仇丨z e 複數個第1電拖線圈190 側、細長延伸於γ軸方 195。另-方…可動件48“，第2電樞線圈 Y轴對稱，具同樣構成。如圖2所干〜、:轴可動件48A於 伽分别插入γ軸固定件86 :: 4 丫軸可動件48A， 心1干Μ，之内部空間。 上述Υ轴固定件86, 87，如 部…與永久磁鐵9〇 95 3所不’具備固定件輛 ^ ^ , ’ 糟由設於其下面之未圖干洛科 靜壓輛承，例如藉由空氣軸承 之未圖不氣體 述凸部BSa BSb卜而 者既定間隙懸浮支撐於上 示之氣體物“ ，固定件86,87,係被未圖 礼體砰慶軸承'例如空氣_ BSb往X軸方向，相對凸部BSa， 兩箭頭.f)。又向的移動（參照圖ό的 )又’㈣2中雖省略圖示’但設有將Υ轴固定 17 1378493 件86, 87分別驅動於γ轴方向之γ轴微調馬達⑻〇 m〇t〇r)92A，92B(參照圖8、圖6的兩箭頭e)。 軸固疋件87亦於Y軸對稱，與上述γ軸固定 件86具相同構成。 由於Y軸線性馬達LY1，LY2為上述構成，因此藉由 =電流供應至各第1電樞線圈19〇，利用該電流與上述交 士、#門之電磁相互作用，而產生使丫轴可動件ΜΑ，4印 驅動於Y轴方向之勞儉兹力。又，藉由將電流供應至第2 電樞線圈195,利用該電流與由第2永久磁鐵群％形成之 上述磁場間的電磁交互作用，而產生使γ轴可動件似，彻 驅動於X軸方向之勞倫茲力。藉此，本實施形態，藉由υ 軸線性馬達LY1，LY2，能使固定件單元Μγ驅動於γ軸 方向及微幅驅動於X軸方向，且藉由使各線性馬達ίγι， LY2產生之γ軸方向的驅動力稍微相異，而能使固定件單 元MY(進而是晶圓載台WST)驅動於繞z軸旋轉之旋轉方 向（θ Z方向）（參照圖6之兩箭頭d)。 從至此為止之說明可知，本第i實施形態，係藉由γ 軸音圈馬達VY、X軸線性馬達LX1，LX2、γ軸線性馬達 LY1，LY2、Z軸音圈馬達VZ1〜νζ4 ' γ軸微調馬達92a， 92B，來構成驅動晶圓載台WST之晶圓載台驅動部27(參 照圖8)。構成晶圓載台裝置丨2(包含此晶圓載台驅動部27) 之各馬達、各空氣軸承之類的軸承等，係由主控制裝置2() 來控制（參照圖8)。 回到圖1 ’上述晶圓載台WST之χγ面内的位置資訊， 18 1378493 係透過固定於其上部(更具體而言是晶圓纟WTB之上面)之 移動鏡17’藉由晶圓雷射干涉儀（以下稱為「晶圓干涉儀」）18 隨時例如以0.5〜lnm的解析能力加以檢測。此晶圓干涉 儀18,係以懸吊之狀態固定於鏡筒平台38，並測量以固 定鏡固定於構成投影單A pu之鏡筒4M則面）之反射面 為基準的移動冑17反射面之位置資訊，來作為晶圓載台 WST之位置資訊。 此處’如圖3⑷所示，於晶圓台WTB實際上雖設有： Y移動鏡l7Y，係具有與掃描方向之γ軸方向正交之反射 面丄以及X移動鏡17Χ，其具有與非掃描方向之χ轴方向 正父之反射面’且雷射干涉儀及固定鏡亦對應於此而分別 設有X軸方向位置測量用與γ軸方向位置測量用者，但圖 1中僅代表性的圖示移動鏡17、晶圓干涉儀18、固定鏡57 ^ 此外，例如，亦可將晶圓台WTB之端面加工成鏡面來形 成反射面（相當於移動鏡17x，17Y之反射面）。又，X軸方 向位置測量用之雷射干涉儀及γ軸方向位置測量用之雷射 干/y儀，ό為具有複數測長軸之多轴干涉儀，除了能測量 晶圓台WTB之X、γ位置之外，亦能測量旋轉（偏轉（ζ軸 方向之旋轉））、縱搖（X軸方向之旋轉）、以及橫搖（Υ軸方 向之旋轉））。因此，以下說明中，係藉由晶圓干涉儀Η來 測量晶圓台WTB於X，γ， 0 ζ， 0 y， 0 χ的5自由度方向 位置。 晶圓載台WST之位置資訊（或速度資訊），被送至主控 制裝置20，主控制裝置20根據晶圓載台WST之位置資訊 19 1378493 (或速度資訊）’透過晶圓載台驅動部27來控制晶圓載台 WST於XY面内之位置（參照圖8)。 其次’根據圖5及圖9〜圖12(B)詳細說明對晶圓載台 WST之加壓氣體的供應系統、真空系統、以及力量供應裝 置155之構成等。 上述力量供應裝置155之+ Y端部，如圖5所示，係 固定於配管載具TC之一γ側面，其一Y端部則固定於晶 圓載台本體28之+ γ側面。 • 於上述配管載具TC内部形成有未圖示之供氣管路及 排氣管路❶在此等供氣管路及排氣管路之各一端，分別透 過接頭CN連接供氣管2〇3、排氣管204之一端^供氣管 203、排氣管204之各另一端，則分別連接設在晶圓載台 - 裝置12外部之氣體供應裝置201及真空吸引裝置202(參 照.圖8)。 於形成在上述配管載具TC内部之供氣管路及排氣管 像路的各另一端’係分別透過未圖示之接頭連接供應管 241b、真空管24ia之各一端。供應管241b、真空管241a 之各另一端則分別連接力量供應裝置1 55。 力量供應裝置155’係將從氣體供應裝置201透過供 氣管203、配管載具TC、及供應管24ib所供應之流體（加 愚氣體）’透過供應管270A供應至晶圓載台WST，且將從 真二吸引裝置202透過排氣管204、配管載具TC、及真空 g 24 1 a所供應之負壓，透過真空管27〇B供應至晶圓载台 WST 〇 20 1378493

本實施形態中，係以配管載具Tc，來中繼從氣體供應 裝置201對晶圓載台ws丁之加壓氣體（例如加壓空氣）的供 應’並將在真空吸引裝i 2G2產生之負麗中繼供應至晶圓 載台WST。 攸至此為止之說明可知，本實施形態中，於配管載具 TC雖連接有供應管及真空管等管路，但於晶圓載台WST 則完全沒有連接來自外部之配管（除了供應管270A、真空 管270B之類一體固定於晶圓載台WST之配管以外卜亦 即，本實施形態之晶圓载台WST為無管式載台。 圖9係顯示力量供應裝置155被安裝於構成晶圓載台 WST之曰曰圓載台本體28 + γ側面的狀態。如此圖”斤示， 力量供應裝置155’係組合複數個圓柱狀構件與複數個長 方體狀之構件所構成。 155，係如取出此力量供應 及力量供應裝置155之分解 1單元2 51，係由固定於晶

更詳§之’力量供應裝置 裝置155後放大顯示之圖1〇、 立體圖的圖11所示，具備：第 圓載口本體28之+ γ側端面的一對板狀固定構件23 ια, 2 3 1 Β、以及於其長邊方向兩端分別固定有該固定構件川a， 231B、以X轴方向免旦，真 長邊方向之第1軸部的χ軸圓柱狀 構件23ζ所4成，帛2單元252 ’係包含安裝於上述X轴 圓柱狀構件232外周之圓筒狀構件234 ;第3單元253， 係依序連結於上述㈣2單元252’·以及ζ支撑構件239。 藉此’·作為第1轴部之Χ轴圓柱狀構件232,亦為可對應 晶圓載台WST之χ方向的移動來移動之移動部。 21 丄）78493 如圖11所示，於構成上述第1單元251之χ軸圓柱 •構件232表面，/σ其長邊方向（X軸方向）以既定間隔形 成有複數個既定深度（例如10//m左右之深度）之表面開槽 又，於此X軸圓柱狀構件232 +χ側之端面，分別 七成有到達該X軸方向中央附近之2個圓孔232d, 232b。 如力量供應裝i 155之YZ戴面的圖12(A)、及該圖12(A) 之X轴圓柱狀構件232與圓筒狀構件234之部分放大圖的 圖12(B)所示’ 一圓孔232d係形成於較其截面中心稍偏+ Z側之位置，另—圓孔2321)則形成於較其截面令心稍偏一 z側之位置。

又如圓1 1所示，於X軸圓柱狀構件232上面之X 軸方向的中央部形成有Z軸方向之圓孔232c。如圖12(B) 所示，此圓孔232c係連通於圓孔232d。藉由圓孔幻川及 圓孔232c來形成L字形的管路，此管路為第1流體供應 用管路。 又如圖12(B)所示，於X軸圓柱狀構件232下面之 t軸方向的中央部形成有連通於圓孔232b之圓孔232a。 朴圓孔232b及圓孔232a來形成[字形的管路，此管路 =t !真工用管路。此外，圖11中’雖亦將表面開槽232p 设於圓孔232C，但從圖12即可清楚得知，於圓孔232e之 :彳形成有形成上述第i真空管路之圓孔232b。因此， 5 ’、^開圓礼232b(及圓孔2320與其附近來設置表面開 槽 2 3 2 p。 如圖1 1 所不’於上述之一固定構件231A，貫通形成 22 1378493 分別連通於上述圓孔232d及232b、以乂軸方向為長邊方 向之圓孔所構成的流路23 lAa，231 Ab。如圖9所示，於漭 路231 Aa透過未圖示接頭連接供應管27〇A之—端，於流 路23 lAb則透過未圖示之接頭連接真空管27〇b之一端。 供應管270A、.真空管27GB之各另一端係連接於晶圓載而台 本體28之-部分。上述之另一固定構件23ΐβ，與上述之 一固定構件231A不同，係由未形成管路之板狀構件構成。 如圖1〇所示，上述第2單元252，包含：上 構件Μ安裝構件235，係固定於該圓筒狀構件…之 長邊方向中央部外側，.以及Y㈣柱狀構件236,係以里 -端部Η側之端部)前端之一部分埋入該安裝構件2;5 之+ Y側端面的狀態所固定，並作為延伸於 2軸部。此外，作A9 罕万Θ之第 .a 乍為第2軸部之Y軸圓柱狀構件236,亦 疋厂圓载台WST之Υ方向的移動來移動的移動部。 口圓所示，上述圓筒狀構件23 圓柱狀構件232之直和稍大的有較上述Χ轴 插入其内部… 軸圓柱狀構件232 件…内此時，12(Β)所示，]在圓筒狀構 形成有既_。藉此，Χ軸圓柱狀構==周 筒狀構件7以妙& 干2 3 2 ’月b相對圓 構件234移動於χ軸方向及繞χ 亦即，將X軸圓柱狀構件232支撐成…μ方向。 繞χ軸旋轉的第… 2支撐“移動於X軸方向及 如圖所部，係由圓筒狀構件…所構成。 沿X輪方向二 於上述圓筒狀構件⑶，在其内周面 。无疋角度間隔分別形成有複數個(例如“固） 23 1378493 凹才曰234cl，234C2，...，234cm。如圖12(B)所示，其中】個 凹槽234C1係位於與χ轴圓柱狀構件出之圓孔2也對 向的位置，於該凹槽234cl之底面_部分’形成有貫通至 0同狀構件234外面之圓孔·。又，在與凹槽2如對 向之圓筒狀構件234内面的位置係有與上述圓孔仙對向 234Cn，於該凹槽234cn底面之一部分形成有使圓 孔，貫通至圓筒狀構件…外面之孔234a。此外，此 不曰234ci，234c2，…，234cn，亦可不設於圓筒狀構件234 之内周面，而設於X軸圓柱狀構件232之外周面。再者， 此凹槽 234cl，234c2, ... 234m - ，，234cn,並不一定要沿X軸方向 =，亦可於X軸圓柱狀構件232外周面沿χ軸方向以既 疋間隔設置複數個。 料圖U所示，上述安裝構件235，係具有大致正方 !=3 ’並形成有從其+χ側端面到-側端面之圓形 貝“ 35a’將圓筒狀構件234插入該貫通孔2仏内部， 並將安裝構件235安裝成與在其圓筒狀構件234之X軸方 向中央部外側兩者間無間隙的狀態。 如圖12(A)所示，於安裝構件 …，⑽，其各一端呈連通分別形成有管 之圓孔㈣、圓孔加的在圓筒狀構件234 的狀悲。以下為便於說明，將 孔雇與管路235e併稱為第2流體供應用管路 234a與管路2351}併稱為第2真空用管路。 · 0 如圖12(A)所示，於安裝構件235 有較淺之圓形凹部235d，以將γ击 貝，端面形成 以將Υ軸圓柱狀構件236之_γ 24 1378493 % 側前端部嵌合於此凹部235d之狀態，將安裝構件235固 定成Y軸圓柱狀構件236與x軸圓柱狀 正父’只要兩者係交又即可。 、如圖12⑷所示，於上述γ軸圓柱狀構件咖内部， 分別形成有其各一端與形成於上述安裝構件2乃之管路 235c，235b另一端分別連通、截面呈[字形之第3流二供 •應用管路236b以及第3真空用管路236a。又，如圖η所 不，於Υ軸圓柱狀構件236表面，沿其長邊方向軸方向） 以既定間隔形成有複數個既定深度（例如1〇以m左右之深 度）的表面開槽236p。此外，形成於γ軸圓柱狀構件 表面之複數個表面開槽236ρ，亦最好避開γ軸圓桎狀構件 236表面之圓扎236a(及圓孔236b)來加以設置。 如圖10所示，上述第3單元253之構成，包含：Y支 撐構件237，係設於γ軸圓柱狀構件236之+ γ側端部附 _近的外周側’大致呈正方體外形；以及作為帛3轴部之z 軸圓柱狀構件238，係以與X軸圓柱狀構件232及γ軸圓 柱狀構件236正交之方式固定於該γ支撐構件237下面 Ζ側面）^作為第3軸部之ζ軸圓柱狀構件238，亦是對應 晶圓載台wst之ζ方向的移動來移動的移動部。此外，ζ 軸圓柱狀構件238並不一定要以與X軸圓柱狀構件232及 Υ轴圓柱狀構件236正交之方式安裝於γ支撐構件237。 於上述γ支撐構件237形成有從其+ Υ側端面到—Υ 側端面的圓形貫通孔237a(參照圖η)，γ軸圓柱狀構件2% 25 1378493 係於全周透過既定間隙插入兮+ 丨承描入忒貝通孔237a内部。藉此，γ 轴圓柱狀構件2 3 6，待能；j：日斜v +冰 知把相對Υ支撐構件237移動於γ輛 方向及繞Υ轴旋轉之旌隸古a . ?寻之奴轉方向。亦即，將Y軸圓柱狀構件 236支樓成能移動於γ站古a 釉方向及繞Y軸旋轉的第2支撐部， •係由Y支撐構件237所構成。 如圖12(A)所示，於γ支撐構件π内周面，係與上 述圓筒狀構件234之凹槽234el，234c2，...，234en同樣地， 以既定角度間隔形成有複數個延伸於γ軸方向之凹槽 237bj(j_ 1〜n，n例如為8)(但於圖僅圖示2個凹槽 237b1，237bn’參照圖U)。在連通於其中位在最靠一Z側 之凹槽237bn的狀態下，於支樓構件237形成有第4真空 用g路237c又，在連通於最靠+ Z側之凹槽237bl的狀 心下，於Y支撐構件237形成有流體供應用管路237d2 ^ 此流體供應用管路237d2，係透過流體供應用管路237d3 連通於形成在Y支撐構件237下半部之流體供應用管路 237dl ^此處，流體供應用管路237d3，係形成於γ支撐構 件237内部之圖12(Α)中紙面内側半部的半圓弧狀管路。 以下，亦將流體供應用管路237dl，237d2及237d3併稱為 「第4流體供應用管路237d」。此外，複數個凹槽237bj 亦可不设於Y支撐構件237内周面，而設於γ軸圓柱狀構 件2 3 6外周，又，亦不須沿γ軸方向設置。 如圖1 1所示，於上述Z軸圓柱狀構件238，在其外周 面之長邊方向中央部沿長邊方向（Z軸方向）以既定間隔形 成有既定深度（例如# m左右之深度）的表面開槽238p。 26 1378493 又，此Z軸圓柱狀構件238，係以其上端嵌合於形成在γ 支禮構件237下端面之較淺圓形凹部237e内的狀態來加以 固定。如圖12(A)所示，於此Z軸圓柱狀構件238内部， 係以連通於第4真空用管路237c(形成於上述γ支撐構件 237)之狀態，將ζ軸方向之第5真空用管路238a以貫穿狀 態形成於此。又，於Z轴圓柱狀構件238内部第5真空 用管路238a之—Y側，以連通於上述第4流體供應用管路 237d之狀態下形成有z軸方向之第5流體供應用管路 23 8b於第5真空用官路238a之-z側端部，透過未圖示 之接頭連接上述真空管241ai,於流體供應用管路纖 之一Z側端部則透過未圖示之接頭連接上述供應管24比一 端。 Z軸圓柱狀構件238中，形成有從第5真空用管路… 之Z轴方向大致中央部向+γ方向的分岐管路现，此分 岐管路⑽前端，係、往ζ軸圓柱狀構件⑶之外周面外 !=(參照圖u)。於2轴圓柱狀構件咖形成有從第〗 "π·體供應用管路2 3 8 h夕7 *丄Ht*二l 岭238b之2軸方向大致中央部位向_¥方 = = 238d，此分岐管路238d前端，係往2轴圓 ^件238之外周面外側開放。此外，形成於！轴圓柱 及並238之表面開槽238p，最好係避開分岐管路238c 及其附近來形成。 如圖10、圖]?_ ，、丄. . 等斤不，上述Z支撐構件239，係具 具方^大面之外形’其+ 丫側端面239c固定於配管載 ^ Y〜面[翏照圖12(A)]。 27 1378493 於z支樓構件239形成有從其+ z側 @ Sj — Z側娘 面的圓形貫通扎239a(參照圖11)，Z軸圓桎狀構件 , 於全周透過既定間隙插入該貫通孔239a内部。藉* 係 圓柱狀構件238，能相對Z支撐構件239 Z轴 π初πζ軸方向 及繞Ζ轴旋轉之旋轉方向。亦即，將ζ轴圓柱狀構件咖 支撐成能移動於Ζ軸方向及繞ζ軸旋轉的第3 ^ 又得部，择 由Ζ支撐構件239所構成。 ’、 如圖12(A)所示，於2支撐構件239内周面，與上述 圓筒狀構件234之凹槽234cl，234c2，...，234cn同樣地，以^ 既定角度間隔形成有複數個延伸於z轴方向之凹槽 =1〜η，《例如為8)(但於圖12(A)僅圖示2個凹^⑽丄1 239bn，參照圖n)。此外，複數個凹槽237μ亦;不設於 Z支撐構件239内周面，而設於z軸圓柱狀構件236外周， 又，亦不須沿Z軸方向設置。 又，可使用陶瓷或鋁來作為x軸圓柱狀構件232、圓 筒狀構件234、Y軸圓柱狀構件236、以及z轴圓柱狀構 件2 3 8之材料。 接著，簡單說明以上述方式構成之力量供應裝置155 的作用。 如則所述，從氣體供應裝置2〇1透過供氣管2〇3而供 應至配管載具tc之流k (加壓氣體），係透過配管載具Tc 内的供氣官路、供應官241b，供應至力量供應襞置155之 ζ軸圓柱狀構件238内的第5流體供應用管路238卜其次， 被供應至此第5流體供應用管路238b内之加壓氣體，其 28 1^78493 -部分透過分咬管路238d排出至z轴圓柱狀構件238之 外周面外側’剩餘之大部分，即通過第5流體供應用管路 238b而流向形成於丫支標構件237之上述第 管路237d。 货您用 此處，排出至Z軸圓柱狀構件238之外周面外側的加 壓氣體’係分別透過形成於z支樓構件239内周面之槽 239bl〜 239bn ’迅速地充滿2軸圓柱狀構件238與z支樓 構件239間之間隙的z軸方向整體，且進入2軸圓柱狀‘ 件238外周面之表面開槽239P之間，而亦充滿Z轴圓柱 狀構件238與Z支樓構件239間之間隙的圓周方向全區。 藉此，Z軸圓柱狀構件238，即藉由進入表面開槽叫之 加壓氣壓的靜壓（亦即間隙内壓力）以非接觸方式相對支撑 於Z支樓構件239。亦即，以上述方式，而於表面開槽2脚 全區構成-種氣體靜壓軸承。此情形下，由於Z軸圓柱狀 構件238之表面開槽238p係、形成於z.㈣柱狀構件238 之外面全周，而使該加壓氣體之靜壓於全周為大致均等的 -力’因此即在Z軸圓柱狀構件238之全圓周方向形成相 同間隙。其結果，z軸圓柱狀構件238，即成為對z支撐 構件239能往Z軸及繞Z軸旋轉之旋轉方向移動的狀態。 另一方面，向上述第4流體供應用管路””流動之加 壓氣體，其一部分係依序經由流體供應用管路237di、 237d3、237d2，而從形成於凹#㈣丨㈣底面之流體供 應用管路237d2的開口端排出至γ軸圓柱狀構件⑽與γ 支撐構件237間之微小㈣，且剩餘之大部分，係透過形 29 1378493 成於Y軸圓柱狀構件236内之第3流體供應用管路236b 流向形成於安裝構件235内之第2流體供應用管路 234b) ° ， 此處，排出至γ軸圓柱狀構件236與γ支撐構件 間之微小間隙的加麼氣體，分別透過形成於Υ支樓構件237 内周面之槽237Μ〜237bn，迅速地充滿γ抽圓柱狀構件236 與Y支撐構件237間之間隙的Y軸方向整體，且進入γ 軸圓柱狀構件236外周面之表面開槽236ρ之間，而亦充 滿γ軸圓柱狀構件236與丫支樓構件237間之間隙的圓周 方向全區。藉此，Υ轴圓柱狀構件236，即藉由進入表面 開槽236ρ之加壓氣壓的靜壓（亦即間隙内壓力）以非接觸方 式相對支樓於Υ支撐構件237。亦即，以上述方式，而於 表面開槽236ρ全區構成—種氣體靜壓轴承。此時，由於γ ^圓柱狀構件236之表面開槽236ρ係形成於¥軸圓柱狀 籌件236之外面全周，因此使其加廢氣體之靜壓為於全周 籲大致均等的壓力，藉此’即於Υ軸圓柱狀構件236之圓周 方向全面形成相同間隙。其結果’ γ軸圓柱狀構件23。 2呈對Υ支撑構件237能往γ軸及繞旋轉之旋轉方 向移動的狀態。 方© ’供應至第2流體供應用管路（235e，23叫之 體，其一部分從該第2流體供應用管路十形成於圓 =構^取圓^糾透過凹㈣⑽排出至圓筒狀構 則心4與X軸圓柱狀構件232間的微小間隙内，剩餘部分 、〜至形成於X軸圓柱狀構件232内部的第i流體供應 30 1378493 用管路（232c，232d)。 此處排出至圓筒狀構件n4貞χ轴圓柱狀構件⑴ 微J門隙的加壓氣體，係分別透過形成於圓筒狀構件 4内周面之槽234Μ〜234en，迅速地充滿圓筒狀構件… 與x軸圓柱狀構件232間之間隙的X軸方向整體，且進入 w狀構件232外周面之表面開槽2叫之間，而亦充 滿X軸圓柱狀構件232與圓筒狀構件234間之間隙的圓周 方向全區。藉此，X軸圓柱狀構件232，即藉由進入表面 開槽232P之加磨氣壓的靜麼（亦即間隙内愿力）以非接觸方 式相對支撐於圓筒狀構件234。亦即，以上述方式，而於 表面開槽232p全區構成一種氣體靜壓軸承。此時，由於X 軸圓柱狀構件232之表面開槽232p係形成於χ軸圓柱狀 構件232之外面全周，因此該加壓氣體之靜壓於全周大致 均等，藉此，即於X軸圓柱狀構件232之圓周方向全面形 成相同間隙《其結果，X軸圓柱狀構件232，即呈對圓筒 狀構件234能往X軸及繞X軸旋轉之旋轉方向移動的狀 態。 另一方面，供應至第1流體供應用管路（232c，232d)之 加壓氣體’係依序透過該第1流體供應用管路、形成於固 疋構件23 1 A之流路231 Aa(參照圖11)、以及供應管27〇a(來 照圖9)，送至晶圓載台本體28内部。送至此晶圓載台本 體28内部之加壓氣體，係通過晶圓載台本體内部之未 圖示氡體供應管路，供應至晶圓載台WST中之各種機構 來加以使用。本實施形態中，送至晶圓載台本體28内部 31 1378493 之加壓氣體’例如供應至上述自重消除器1 01，且亦供應 至使未圖示.之上下動銷（中央上升構件，用以使設於晶圓保 持具25之晶圓W升降）升降的未圖示升降機構。 另一方面’當開始真空吸引裝置202之真空吸引 (Vacumn)時’真空吸引裝置2〇2所產生之負壓，即透過排 氣管204、配管載具TC、真空管241a、力量供應裝置155、 以及真空管270B ’供應至晶圓載台本體28内部之真空管 路0 •此時’從晶圓载台本體28側開始，依序透過真空管 270B及形成於固定構件231A之流路231Ab、X軸圓柱狀 構件232内部之第丨真空用管路（232b，232a)、以及形成於 圓筒狀構件234之凹槽234cn，而產生朝向形成於圓筒狀 構件234及安裝構件235之第2真空用管路（23“，235b)的 氣流。藉由此氣流所產生之負壓，吸引供應至χ軸圓柱狀 構件232與圓筒狀234間之間隙的加壓氣體，藉由此吸引 使上述加壓氣體快速地充滿X軸圓柱狀構件2 3 2之圓 周方向整體，且於上述間隙内恆維持一定量之加壓氣體。 ^又，於Υ軸圓柱狀構件236及Υ支撐構件237内部， 係產生從形成於γ軸圓柱狀構件236之第3真空用管路 透過形成於γ支樓構件237之凹槽237b/、而流向第 4真空用管路237c的氣流。藉由此氣流之負壓，吸引供應 Μ轴圓柱狀構件236與Y支樓構件237間之間隙的加麼 氣體，使該加壓氣體快速地充滿γ軸圓柱狀構件236之圓 周方向整體，且於上述間隙内值維持一定量之加壓氣體。 32 1378493 又，在形成於Z軸圓柱狀構件238之第5真空用管路 238a内部係產生流向真空管24U之氣流。藉此氣流之負 壓，來透過分岐管路238c吸引供應至z軸圓柱狀構件238 與Z支撐構件239間之間隙的加壓氣體，藉此使該加壓氣 體快速地充滿Z轴圓柱狀構件23 8之圓周方向整體，且於 上述間隙内恆維持一定量之加壓氣體。 又，於真空管241a、配管載具TC、排氣管2〇4内部 係產生向真空吸引裝置202之氣流。 ® 本實施形態中，藉由以真空吸引裝置2〇2所產生之負 壓而產生的上述氣流，而能在晶圓載台WST内部，進行 例如晶圓保持具25對晶圓w之真空吸附、晶圓載台本體 28對晶圓台WTB之真空吸附、或以上述未圖示之上下動 銷（中央上升構件）前端部對晶圓進行真空吸附。 又，如W02004/05 3 953號所記載，在將液體（例如純 水）供應至投影光學系統PL與晶圓W間之狀態下將圖案曝 光於晶圓的液浸型曝光裝置中，已揭示了一種將有可能迁 ®迴流入晶圓W背面之液體加以吸引的技術。藉此，例如亦 可除了排氣管270B以外另外設置新吸引管，並以真空方 式吸引有可能迂迴流入晶圓保持具25背面之液體。除此 之外’亦可使用力量供應裝置155來適時吸引液體中有可 月&迁迴流入晶圓載台W S T之部分。此外，因液體吸引而 產生振動等之干擾，而對曝光精度造成影響時，只要在未 進行曝光動作時（例如，曝光動作結束後之晶圓交換中）進 行液體之吸引即可。又，將對應W02004/ 053953號之美 33 1378493 國專利申請案的揭示内容援用為本說明書記載的一部分。 此外，力量供應裝置155,亦可將已調溫之液體供應 至晶圓載台wst。具體而言，可設置從供應管27〇A獨立 出之供應官，來將已調溫之液體供應至設於晶圓載台本體 28的永久磁鐵22A，22B、23A〜230、以及29A〜29D。藉 此，可降低因渴流產生之永久磁鐵22a，22B、23A〜23D、 以及29A〜29D的發熱。又 藉由將已調溫之液體供應至 晶圓保持具25，而能調整晶圓保持具25之溫度。 又’ s供應管或排氣管之數目增加時，亦可設置複數 個力里供應裝置155。例如，設置2個力量供應裝置155 時，可設置成左右對稱或上下對稱。 於曝光動作期間，主控制裝置2〇，係透過χ軸線性馬 達RX將配管載具TC驅動於與晶圓載台WST之步進移動 相同的方向，使配管載具TC大致跟隨晶圓載台WS1^此 時，本實施形態之主控制裝置2〇，係使配管載具TC能等 速移動之驅動力作用於X軸線性馬達RX。本實施形態中， 即使配管載具TC未能以高精度來跟隨晶圓載台WST往 X、Y之各方向，圓筒狀構件234亦可將χ軸圓柱狀構件 232支撐成能移動，且γ支撐構件237亦將γ軸圓柱狀構 件236支撐成能移動。藉此，來自力量供應裝置155之力 不會施加於晶圓載台WST。同樣地，即使使晶圓載台Wst 驅動於z方向時，由於z支撐構件239將z軸圓柱狀構件 238支撐成能移動，因此來自力量供應裝置i 55之力（例如 張力）不會施加於晶圓載台WST。 34 ^/«493 如以上之詳細說明，根據本實施形態之晶圓載台裝置 12，連接於在載台基座71上面71a上移動之晶圓載台 =st、對該晶圓載台WST供應加壓氣體（流體）或真空之力 f =應裝置155，包含：X軸圓柱狀構件232(第】轴部）、 圓筒狀構件234(第1支撲部）、Y軸圓柱狀構件236(第2 軸。P)、Y支禮構件237(第2支樓部）、z轴圓柱狀構件2叫第 :1部)、以及Z支撐構件239(第3支撐部)，χ軸圓柱狀 / 232係被圓筒狀構件…支標成能移動於乂軸方向及 。軸旋轉Υ軸圓柱狀構件236係被γ支撐構件237支 撐成能移動於Υ軸方向及繞Υ軸旋轉，Ζ軸圓桎狀構件238 :被ζ支撐構件239支樓成能移動於ζ軸方向及繞ζ轴旋 ^藉此’即使隨晶圓WST之移動使6自由度方向之任 1方向的力作用於力量供應裝置155，力量 亦，該力量而改變位置、姿勢來吸收上述力量，因此 力里供應裝置155不會 ^ ^ m , $对碾戰口之移動。據此，不會如將 ^方、",L體之供應般因受配管拉扯而使位置控制性降 低，能良好地確保晶圓載台WST之位置控制性。 又’由於在各X軸圓柱狀構件232與圓筒 之間、Y軸圓柱狀構件236與γ支撑 :rr 238與…構件-之間，分別設^ 第2、第3氣體靜麗軸承， :圓筒狀構…間，圓柱狀構 3:之間、以及z轴圓柱狀構件238 牙 之間分別作成非接觸的構成，藉此，即使隨晶圓 35 1378493 移動而使6自由度方向之任一方向的力作用，力量供應裝 置155亦能在不產生阻力之狀態下改變其位置、姿勢 此，能大致完全避免因力量供應裝^ 155造成之晶圓載台 的位置控制性降低。 又’本實施形態中’力量供應裝置155，由於係設於 T X轴方向進行等速運動之配管载具Tc，因此藉由使配 管載具tc大致跟隨晶圓载台WST之χ轴方向的移動，而 月匕將力里供應裝置155《X軸方向的容許移動範圍設計成 較小，其結果，即可謀求晶圓載台裝£ 12之小型化及藉 由其小型化來減低線性馬達之發熱量。 又，根據本實施形態之曝光裝置100,由於係將上述 晶圓載台裝置12用作為移動晶圓w(基板)之載台裝置，因 此能提升進行步進掃描方式之曝光動作（將標線片R之圖 案轉印於晶圓w上的複數個照射區域)時晶圓w(晶圓載台 wst)的位置控制性，其結果，能以高精度將標線# r之 圖案轉印於晶圓w。 此外，上述實施形態中，雖說明了使配管載具Tc進 行等速運動，但亦可在配管載具TC S置反射面，並使用 :涉儀或編碼器等測量配管載具TC t位置，再根據該測 1結果將配管載具TC驅動成跟隨於晶圓載台WST。 此外，上述實施例中，雖係對z軸圓柱狀構件238來 安裝丫軸_狀構件236’但亦可對z軸圓柱狀構件238 來安裝圓筒狀構件234、X軸圓柱狀構件232 〇 又’上述實施例巾’雖係將χ 14圓柱狀構件232作為 36 移動部，但亦可係將圓筒狀 门狀構件234作為移動部的構成。 问樣地’雖將Y軸圓柱狀構 冉1干236及z軸圓柱狀構件238

移動部’但亦可係將包圍各γ軸圓柱狀構件W及Z 軸圓柱狀構件238之構件作為移動部的構成❶ 《第2實施形態》 其次’根據圖13〜圖15說明本發明之第2實施形態。 n述第1實施形態相同或相等之部分係使用同 _夺號並簡略或省略其說明。此第2實施形態之曝光裝 置’僅有晶圓載台裝置（載台裝置）之構成一部分相里，立 他部分之構成則與上述第1實施形態之曝光裝置100相 圖13係以立體圖來顯示本第2實施形態之晶圓載台裝 置的構成。將此圖13與圖2相較後可知，本第2實施 形態之晶圓載台裝置12，’其被¥軸線性馬達LYi，⑴驅 動於Y李由方向的部分，係與第ι實施形態之晶圓載台裝置 鑄不同。亦即，晶圓載台裝置η·，係設置移動體單元Μγ， 來代#上述固定件單元Μγ，並設有於其内部組裝有晶圓 载台wst之反向平衡器3〇，來代替安裝於固定件單元Μγ 之配官載具TC。以下’從避免重複說明之觀點，以此等之 相異點為中心來進行說明。此外，本實施形態之晶圓載台 裝置1 2的基本構成’亦記載於先前提出之特願2004 -1 1 6〇43號的說明書。 圖1 4(A)’係以立體圖來顯示從晶圓載台裝置ι2，取出 平衡益30及安裝於該平衡器之晶圓載台WST，圖14(]3)係 37 丄： 顯丁圖14(A)之χ — z截面圖。又圖 台WST取出晶圓台WTB夕也曰 糸顯不從晶圓載 視圖。 <狀悲之曰曰圓載台裝i 12_的俯 從圖15可知’上述平衡器3〇，係於其

位形成有矩形開口，並 中央。P

^ v, 並有四方之側壁、特別是Y鮎t A 兩側之側壁厚度較厚 軸方向 收容於此平衡器30 ㈣。本體28

^ ^ ^ , 〇工間之狀態下，將晶圓載台WST 、月b目對平衡器3G進行移動(參照圖“⑻）。 將γ軸固定件48〇(由與上述γ軸固定件8" 之電樞單元所構成彳 成1 請成)之長邊方向的-端與另-端分別插入形 成於平衡器3〇之+ X側側壁的開口 3〇a、以及與此對向之 -Y側側壁的開口’加以固定。γ軸固定件，與上述 Υ轴固疋件1 87同樣地’係插人設於晶圓載台本體28之- 對永久磁鐵22Α，22Β彼此的空間中，並藉由Υ軸固定件48〇 與一對永久磁鐵22Α，22Β來構成使晶圓載台貿打沿丫軸 方向微幅聪動之線性馬達。 又’將X軸固定件461Α，461Β(由與上述X軸固定件 61Α，61Β相同構成之電樞單元所構成）之長邊方向的一端 與另一端分別插入形成於平衡器3〇之開口 3〇b及3〇c，加

以固定（參照圖14(A))。各X軸固定件461A，461B，係與 上述X軸固定件6 1A，6 1B同樣地，分別插入設於晶圓載 台本體28之磁極單元23 A，23B彼此的空間中、以及磁極 單元23C，23D彼此的空間中。亦即，藉由X軸固定件46 1 a， 461B與磁極單元23A〜23D ’來構成使晶圓載台WST沿X 38 13764^3 軸方向驅動 如圖Μ⑷所在形成於上述平衡器3〇之開口烟， 30e各内部，分別設有由延伸於父虹+ i _ 、釉万向之各一對磁極單 元（永久磁鐵群）構成的X軸可動杜^ 動件24A，24B。並將延伸於 轴方向之電框單元（以後述方式構成移動體心)所構成 的Χ軸固定件（電框線圈）26Α，細分別插入各X軸可動件 24Α，24Β的内部空間。藉由Χ軸可動件2紙㈣與X轴 固定件26Α，26Β來構成使平衡器沿X轴方向驅動之線性 馬達（第2驅動裝置）。 如圖15所示，上述移動體單元Μγ，，具備：上述χ 軸固定件26Α，26Β ;第1柘壯Μ。，

籌件1 84 ’係位在從各該X 轴固定件26Α’遍在Υ軸方向等距離的位置，且配置於 平衡器30下方’平行於ΧΥ面且延伸於χ軸方向；ζ軸固 疋件89Α，89Β’係分別配置於該第α狀構件184之γ車由 :向的-側與另-側，以Χ軸方向為長邊方向；第2板狀 冓件⑻，係配置於乂軸固定件細之+ 丫側，以X袖方 =為長邊方向；以及滑動件44, 46,係固定於此等χ轴固 又件26Α，26Β、第α狀構件m、z轴固定件似卿、 以及第2板狀構件186之長邊方向-端旧端側）與另— =卜χ端側）。藉由滑動件44,46，將χ轴固定件26α，、 :1板狀構件184、電枢單元89Α，_、以及第2板狀構 件186維持於既定位置關係。 、，曰上述第1板狀構件184,其上面（+ζ側面）係被加工成 平-狀如圖15所示’配置於平衡器30底面之下方。另 39 1378493 —方面’於平衡器30底面之γ軸方向中央部位，固定有 於其底面沿X軸方向以既定間隔設有未圖示之複數個氣體 靜屢袖承（例如空氣軸承）的構件83。平衡器3〇，藉由從此 等複數個空氣袖承吹往第1板狀構件1 84之加壓氣體的靜 壓’來以非接觸方式支撐於移動體單元ΜΥ，各部。 如圖14(B)所示，於上述晶圓載台WST(晶圓載台本體 28)底面設有自重消除器1〇1。如圖i4(b)所示於平衡器 30中與自重消除器101對向之面為晶圓載台WST之移動 面由於平衡器30具有晶圓載台WST之移動面，因此能 以便宜價格製作载台基座7 1。 如圖1 5所示，於平衡器3〇與晶圓載台本體28之間， =有與第1實施形態相同構成之力量供應裝置155。此力 蓋供應裝i 15 5 ’係用作為將加壓氣體或負壓供應至晶圓 載σ WST時之中繼機構，該加壓氣體，係透過連接於平 衡益30之供應官2G3而從設於晶圓載台裝置外部之氣體 供應裝置（未圖示）所供應’該負壓，係透過連接於平衡器 3〇之真空f 204而在設於晶圓載台裝置外部之真空吸引裝 置（未圖示）所產生。 晶圓載台裝置12，之it他馗士 /、他構成，與上述第1實施形態之 晶圓載台裝置1 2相同。因此 .^ J U此，在移動體單元MY、Y軸線 性馬達LY1 LY2、平a 71 、 ’ ° 、以及鑄框FC之間，係作用與 第1實施形態相同之力。 以上述方式構成之本第 行與上述第1實施形態相同 實施形態的曝光裝置，係進 的動作。不過，本第2實施形 40 1378493 ‘:中*於具備平衡器30，因此當晶圓載台wst被驅動 ；轴方向之方向（+X方向或-X方向）時，平衡器30 「會又其反作用力’被驅動於與其相反之方向(-X方向(或 X方向。X ’主控制裝置2〇 ’為減少平衡H 30之移動 行程，係藉由構成第2驅動裝置之χ轴可動件24八，MB X軸固疋件26A，26B，對平衡器30賦與初速，使其驅 動於與晶圓載台WST相同之方向。 此外’晶圓載台裝置12，之晶圓載台WST中所使用之 日日圓保持具25的真空供應、或對自重消除$】。】之加壓 氣體的供應、或用於晶圓升降用置中上提構件 之升降的加壓氣體的供應，係透過平衡器3〇、以及設於平 衡器30與BB圓载台本體28間之力量供應裝置來進行。 此日τ /、要根據第1實施形態所說明之圓筒狀構件234沿 晶載台本體28與平衡器3〇之χ方向的相對移動量，來將 軸圓柱狀構件2 3 2支撐成能沿χ方向移動即可。同樣地， 根據晶圓載台本體28之γ方向、ζ方向的移動，將各γ 支撐構件237與Ζ支撐構件239支撐成能移動於γ軸圓柱 狀構件236與Ζ軸圓柱狀構件238。 如以上說明，根據本第2實施形態之晶圓載台裝置 12仏具備與在載台基座7丨上面7la上移動之晶圓載台 wst連接的上述力量供應裝置，由於此力量供應裝置Μ] 係设於平衡器3〇，因此與上述第1實施型態同樣地，能大 致完全避免因力量供應裝置155造成之晶圓载台的位置控 制性降低。又，本第2實施形態中，力量供應裝置i 55， 41 1378493 ,過因晶圓載自WST被驅動於χ轴方向時之反作用力而 二動於與該載台相反方向的平衡$ 30,而將流體(加塵氣 、供應至晶圓載台WST ’亦即以位於晶圓載台WST附近 :平衡益30為中繼點來進行對晶圓載台wst的流體供 〜因此相車乂於從載台裝置外部透過配管等將流體直接供 應至晶圓載台之情形，能降低隨配管之牽引而產生的阻 力’藉此，能提昇晶圓載台WST之位置控制性。

s又’根據本第2實施形態之曝光裝置，由於係將上述 晶圓載台裝置12,用作為移動晶圓w(基板）之載台裝置因 此能提升進行步進掃描方式之曝光動作（將標線片r之圖 案轉印於晶圓w上的複數個照射區域)時晶w(晶圓載台 WST)的位置控制性，其結果，能以高精度將標線片^ 圖案轉印於晶圓W。 此外’上述第2實施形態中，雖說明了將呈包圍晶圓 載台WST之狀態、亦即所謂「區域型平衡器」採用為平 衡器30 <情形，但本發明並不限於此’只要係能藉由驅 動晶圓載台WST時之反作用力來使平衡器移動於與晶圓 載台W S T相反的方向者，任何構成皆可。 《變形例》 其次，根據圖16〜圖22說明力量供應裝置之變形例。 圖1 6係顯示本變形例之力量供應裝置〗55，的立體圖 圖17係顯示力量供應裝置155,之分解立體圖。 _ 人，圖18 係顯示力量供應裝置155'在Y軸方向大約中央 、<-入乙戴面 的截面立體圖；圖19係顯示力量供應裝置155，在X軸方 42 1378493 二t’”央之YZ截面的截面立體圖。又，圖20、圖2】 $刀別顯示用以說明力量供應裝置i5 a

中，岡ΟΛ〆i W之氣流的圖〇 JL 3 20係相當於力量供應裝f 155的截 ’、 相當於沿與圖丨9相同之γ ，圖2 1係 之截面圖。 ΥΖ截面來截斷力量供應裝置ι55. 力量供應裝置155，，係藉由將如圖17 軸部的第I構件丨〇3、筮ο姐止 < 作為弟1 第… 構件1〇5、第3構件⑼、以及 弟4構件111加以组八所谣 人反 與上述第2音/ 成。此力量供應裝置听，係 實鈿形態同樣地，組裝於具有平衡器3 台裝置（參照圖22)。此外， A D 之載 罢1CC, 圓17係將組裝成力量供應梦 5之狀態（圖16之狀態）的各第:、 ...an _ , 乐4構件取出來加 U在實際上’第3構件107、第4構件ln亦 可由複數個零件構成，俾能安裝其他構件。 夺：二17所示’上述第1構件1〇3,係由以x轴方向為 狀構件構成’除長邊方向之兩端部外的中 央部位外周面，係以既定間隔形成有複數個既定深度（例如 10//m左右）之表面開槽]〇3b。於此第】構彳之+ χ 側端部設有制部购，於—⑽端部則設有與接頭部仙 相同之接頭部103c(圖17中未圖示，參照圖18)。於接頭 部l〇3a連接有未圖示之供氣管—端，此供氣管之另一端則 連接有上述氣體供應裝置2〇1(參照圖8)<>於接頭部1〇处 連接有未圖示之真空管一端，此真空管之另—端則連接有 上述真空吸引裝置202。 如圖18所示’於第1構件103内部分別形成有：供氣 43 1378493 官路211a ’係從接頭部103a之端面起往一X側方向略微 超過X軸方向中央而到達一X側部分；以及真空管路2 1 ic， 係攸接頭部l〇3c之端面起往+ X側方向略微超過χ轴方 向中央而到達+ X側部分。 上述供氣管路21 la之+ X側端部，其直徑係形成為稍 微小於其他部位。如圖20及圖21所示，於此供氣管路2Ua 之—X側端部附近，係沿放射方向形成有7條到達第1構 件丨〇3外周面之分岐管路2nbl〜211b7。此等分岐管路 211Μ〜2Ub7 ’其各外周側之端部直徑係形成為小於兑他 部分。 〃 圖21所示，有一條分岐管路211d從上述真空管路 1C之+ X側端部附近分岐至下側（一 Z側），且以連通至 第1構件1 03外部之狀態來形成。 狀二圖：7所示，上述第2構件1〇5,具有大致長方體形 支撐部104a、以及分別沿z軸方向—體突設於該 1〇4 W咖之上下面（±Z側面）的-對第2軸部104b， 於上述第1支撐部〗04a， X m ^ ^ ^ 仏风,攸+ X側端面到達一 X側鸲面之圓形貫通孔105a 通孔lfK h 使弟1構件103能插入此貫 通孔心内部。如圖17、圖2〇、及圖 撐部104a之♦、s 所不，於第i支 之貝通孔1 05a内周面形成有 105b7，A盥^ 7條槽部105bl〜 其與形成於第1構件1〇3之7 211b7對鹿❶v 之/條刀岐官路211bl〜 心又，於第1支揮部1 〇4a之»· 面，形成右,v, a之貝通孔I05a内周 小成有1條槽部105c , ''與形成於第1構件103之真 44 1378493 空管路2 1 1 c側的分歧管路2 1 1 d對應。 如圖1 7所示，於上述一方（位於+ z側）之第2軸部1 〇补 形成有表面開槽114a。此表面開槽丨14a，包含：沿第2轴 部104b外周面所形成之！條第i槽；以及以與上述第丄 槽連通之狀態沿第2軸部1 〇4b外周面以既定.間隔形成、 延伸於Z軸方向之複數條第2槽。上述另一方（位於〜z側） 之第2軸部l〇4c，雖與第2軸部i〇4b上下對稱，但亦為 同樣之構成，於其外周面形成有表面開槽丨14b。 如圖20及圖21所示，於此第2構件1〇5内部形成有 從第2軸部1〇4b之上端面（+z端面）中央部連通槽部i〇5w 的貫通孔1〇5d’以自。此貫通孔1〇5d與槽部1〇5μ連通 之下端部附近直徑，係形成小於其他部分。 又，於第2構件1〇5，以從第2軸部1〇41)之下端面（― Z端面）中央部位貫通至開口 1〇5a之狀態形成有貫通孔 版。此貫通孔105e，其上端部附近之直徑係設定為較小， 呈與槽部1 0 5 c連通之狀態。 如圖所示，上述第3構件1〇7，具有：第2支撐部 ⑽a，係長方體狀外形，形成有從+ χ冑之面貫通至—X 側之面的矩形（大致正方形）開口 1〇7a;以及—對第3軸部 腦，108c’係分別沿乂軸方向一體突設於該第2支撐； 1 〇8a之X軸方向的兩側面（±χ側面於第3轴部^嶋，職 外周面分別形成有表面開槽109a, 1 〇9b »

如圖20及圖21所示，於上述第2支撐部 l〇7a上壁面形成有以上下方向為軸向 l〇8a、上述 之圓形開口 45 1^/8493 107b，且連通於該圓形開口 1〇7b上端之中* 第2支標部_内部。本變形例中，係將上述 ,,λ -τ- . ^ 工地弟2輛部！ 〇4b :下方插入.圓形開。1〇7,内，此插入狀態 與圓形開口 _内周面之間形成有既定之間二： ^此第2轴部料插人圓形開口嶋内之圖2〇、圖21 二=下’於第2支標部―内部之第2軸部_上 W形成有構成氣體室的㈣8Qe以下亦將此空間8 為軋體室80。

又，如圖2〇及圖21所示，於第2支樓部108a、上述 開口 107a之下側壁面形成有以上下方向為軸向的圓形開口 l〇7c ’且連通於該圓形開口 iQ7e下端之中空部係形成於第 ^支撐部1G8a内部。本變形例中，係將上述第2轴部104c 從上方插入圓形開口 1〇7。内’在此插入狀態下，於第2軸 邛l〇4c與圓形開口 1〇7c内周面之間形成有既定間隙。 又’在將此第2軸部104c插入圓形開口 1〇7。内之圖、 圖21等狀態下’於第2支樓部1〇8a内部之第2轴部叫。 下側係形成有構成真空室的空間81。以下，亦將此空間 稱為真空室81。 士圖21所示，於上述第3構件I。？ 一方之第3轴部〖Mb 内。卩，分別於上下相隔既定距離形成有通氣路} 〇7f，丨〇7h， 於另一方之第3軸部108c内部，亦分別於上下相隔既定距 样隹形成有通氣路l〇7g，1〇7卜各上述通氣路i〇7f，1〇7g，係 分別透過延伸於z軸方向之通氣管路107〗，107k連通至氣 體室80。又，各上述通氣路1〇7h, 1〇7i，則分別透過延伸 46 於z軸方向之通氣管路1〇7n, 1〇7〇連通至真空室81。又， 於第3軸部1()8b，形成有將通氣路l〇7f與第3轴部嶋 外周面外部連通的通氣管路则、以將通氣路襲與第3 軸部1〇8b外周面外部連通的通氣管路107p。又，於第3 轴部版，形成有將通氣路1Q7g與第3軸部綠外周面 :卜部連通的通氣管路1〇7m、以及將通氣路Μ”與第3軸 部108c外周面外部連通的通氣管路i〇7q。

如圖：7所示’上述第4構件"i，係由上下開口之俯 硯（從上方觀之）呈矩形框狀㈣狀構件所構成，於其X轴 方向兩側壁分別形成有第1直徑之圓形開口 lllb，lllc， 於Y轴方向兩側壁則形成有第2直徑（>第！徑長）之圓形 開口 11ld，1 lie。 "'丄处圆取间口 1Ud，1Ue分別插入 逑第3構件107之第3轴部嶋，職。另一方面，在 形開Dlllb’lllc，則如圖2。所示，相隔既 疋間隙插入第1構件3。 如圖17及圖21所示，於第4構件⑴之圓形開口⑴^ 内壁面下側 '與上述通氣瞢故 机S路1〇7卩對向之位置，形成有 上下連通之真空管路Illf。又， 也成有 ^ 7 ! 1 > n ^ ϋ 21所不，於第4構 件U 1之®形如口 U丨d内壁面 蚪a — >苗π # 士 與上述通氣管路1 07ρ 對向之位置形成有凹部⑴g。此等凹部⑴ ⑴卜係透過形成於第4構件⑴内部 ^真工1 照圖20)而呈連通狀態。如圖17所示，於直:从iIlh(> 、查垃古冰於筮4 At V、 於真空管路1 Π f 連接有4 4構件下面側之接頭"5。 47 1378493 又，如圖17及圖21所示，於第4構件1U之圓形開 口 me内壁面下側、與上述通氣管路i〇7m對向之位置， 形成有上下連通之供氣管路Π1ι，並於此供氣管路⑴ 接有設於第4構件111上面側的接頭η6β 如圖22所示，具有上述構成之力量供應裝置155,，於 平衡器30之X軸方向—側與另—側側壁連接有第】構件 103之長邊方向—端部與另一端部且在於晶圓載台本體 2 §底部連接有第3構件上 舟什上ί而。fs之狀態下，安裝於平衡器3〇 與晶圓載台本體28。接著，在此安裝後之狀態下，上述接 碩U5係透過未圖示之真空用配管，連接於設在晶圓載台 ST上構成曰日圓保持具25的真空夹頭上述接頭⑴， 則透過未圖示之配管連接於晶圓载台本體2…之未圖 不氣體供應管路。 其次，根據圖20、圖21說明以上述方式構成之力量 ;應裝置⑸|的作用。此外，於圖20、圖21之中，白底 :貝）、表不因加壓氣體之供應而產生的氣流；黑色箭頭， 係表示藉由真空吸引(Vacumn)而產生之氣流。 =從氣體供應裝置2G1透過未圖示之供應管及連接於 ^ 〇之接碩°P 1 〇3a、如圖20中之箭頭A所示將加壓 P體供應至第]構件1〇3内部之供氣管路2na内時，其加 ^體，係'沿箭5員B方向流動（上昇）在分歧管路川bi内 其他分歧管路2llb2〜211b7内亦如圖η所示，沿箭頭 2:向流向第1構件103之外周面外部。又，在分歧管路 b 1内流動之加饜痛體，i + 、 氣體 /、大。卩分係如圖20所示，沿箭 48 頭D方向流動在貫通孔w 択應至上述氣體室80，且 剩餘σΡ分即如圖20所示，沿箭頭c 姐从 引頌L方向流動於形成在第2 1 〇 $之槽部10 5 b 1使該加壓痛興*试 rt ^ 仗发刀反乱體充填於由槽部l〇5bl 人弟1構件1 〇3所形成之*問內。 β. 成。玉門内又，於槽部105b2〜105b7 内加屬氣體亦流動於與箭頭C之同 七电 則项L之冋—方向，而將加壓氣體 =於由槽部105b2〜胸與第丨構件1〇3所形成之空 =内。接著，此加壓氣體，亦流動於形成在第丨構件ι〇3 表面之表面開槽l03b内。此時， ,.L 町興上迆第1實施形態同 樣地’藉由表面開槽！ 〇3b盥第2婼从，Λ ，、弟2構件105間之間隙之加 土氣體的靜壓’使第1構件1G3以非接觸方式支禮於第2 構件1〇5之第1支#部_。亦即，以此方式，而於表面 開槽職全區構成一種氣體靜壓軸承。其結果…構 件1〇3’即呈對第！支撐部购能往乂轴方向移動及繞乂 軸之旋轉的狀態。 另一方面，於上述氣體t80内部，充填以前述方式供 應之加壓氣體，該已充填之加壓氣體的—部分，如圖2〇 所示，沿箭頭E之方向流動於(漏出至)形成於第3構件 叫第2支禮部論）之開口職與第2構件ig5之第2 轴部難間的微小間隙内。藉此，與上述同樣地，於表 面開槽103b全區構成一種氣體靜麼軸承，使第2軸部 咖，呈對第2支料1Q8a能往4方向移動及繞2轴 旋轉的狀態。 已充填至氣體室 所示，沿箭頭F方向 8〇内部之加壓氣體的—部分，如圖21 (~ z方向）流動於通氣管路1〇7』，1〇7k 49 1378493 内，並依序經由通氣路1〇7f, 107g、以及通氣管路丨〇刀 ’流出至第3構件1〇7之第3軸部i〇8b，1〇8c外部與 第4構件1 1 1間的間隙。此加壓氣體，流動於分別形成在 第3構件1〇7之第3軸部l〇8b，1〇計之表面開槽i〇9a，1〇外 内（參照圖17) 〇藉此，與上述同樣地，在分別形成於第3 軸部108b，108c之表面開才曹1〇9a，1〇9b全區，分別構成一 種氣體靜壓軸承，使第3軸部108b，108c呈對第4構件ln

迠往Y軸方向移動及繞γ軸旋轉的狀態。 又，透過通氣管路107m流出至第3軸部1〇8c外部之 加壓氣體，係透過與上述通氣管路1〇7m對向、形成於第4 構件111之供氣管路！丨Η，而送至晶圓載台本體28内部， 例如供應至上述自重消除器1〇1，且亦供應至使未圖示之 上下動銷（中央上升構件，用以使設於晶圓保持具25之晶圓 W升降）升降的未圖示升降機構。 ^當真空吸引裝置202之動作開始而產生負壓時，該負 魘即透過連接於第丨構件丨〇3之接頭部丨〇3c的真空管，被 供應=真空管路211c，於真空管路2Uc内部產生如圖 中之箭頭A,所示的氣流。藉由以此氣流產生之負壓，使上 述真空室81内部之氣體被吸引至真空管路2nc側，而在 貫通孔H)5e内產生圖20中之箭頭〇，所示的氣流，且在藉 由第1構# 1〇3與形成於第2構件105之槽敝所形成的 空間内’產生圖20中之箭頭C，所示方向的氣流。藉由後 者：氣流’而如前所述地，透過槽1〇5Μ〜丨剛而流出 至第1構件1 〇3盘第2構件10S >日日 ”弟/稱仟間之間隙的加壓氣體，即 50 1378493 沿第1構件103之表面開槽104b而被吸引，使加壓氣體 迅速地橫越上述表面開槽104b全周並加以充滿，且，回 收達槽105c之加壓氣體。 因於上述貫通孔105e内圖20中之箭頭D，所示的氣流 使真空室8丨為負壓（真空狀態），如圖2〇圖21所示，藉2 此負壓，而於第2構件105之第2轴部1〇4c與形成於第3 構件107(第2支撐部1G8a)之圓形開σ 1Q7e間產生箭頭 方向的氣流，藉由使氣流流動於形成在第2軸部1〇切之表 面開槽114b内，而於形成在第2轴部1〇4c之表面開槽⑽ 全區構成一種氣體靜壓軸承。使第2軸部1〇4c呈對第2支 擇部108a能往Z轴方向移動及繞z轴旋轉的狀態。因此， 此變形例之力量供應裝i 155，，係一能改變6自由度方向 之位置、姿勢的構成。 又，藉由真空室81内部之負壓，使通氣路i〇7f，1〇几 内部之氣體被真空室81吸引，於通氣管路iQ7n，ι〇7。内 部產生圖21中之箭頭P所示的氣流。藉由此氣流，使通 氣路1〇7f，㈣内部呈負壓’藉由此負壓，使形成於第4 構件111之真空管路lllf内部、以及透過通氣管路⑴h 與該真空管路nlf遠雨 逑通之凹Hlg内部，產生圖21中箭 頭O’所示之氣流’且於第4構件⑴之圓形開口⑴」愈 第3轴部】08b間的間隙、以及圓形開口⑴e與第3轴部 敝間的間隙’產生如圖2〗中箭頭H，所示之氣流。如前 所述’藉助後者之氣流，使從通氣管路削，1G7m分別流 至第3轴部刪與圓形開口⑴"之間隙、與流至第3 51 丄）78493 柄部108c與圓形開口 ！丨le間之間隙的加壓氣體，分別沿 第3軸部l〇8b，108c之表面開槽1〇9a，l〇9b被吸引，使加 壓氣體快速地橫越上述表面開槽i 〇9a，1 〇9b全周並充滿， 且將到達表面開槽1 〇9a，1 〇9b最下部之加壓氣體加以回 收。 藉由上述箭頭G’所示之氣流，使通氣管路n丨f•内部 王負塵，藉由該負壓，使連接晶圓保持具25之真空夹具 與第4構件111的真空管内產生圖21中的箭頭Γ，所示之氣 流，使晶圓W被真空夾具吸附。 如上述§兄明，由於本變形例之力量供應裝置155，具有 6自由度’且能藉由此力量供應裝置155，之流體透過平衡 器來進行加麼氣體的供應，因此可獲得與上述帛2實施形 態同等之效果。. 亦可採用設置與第1實施形態 此外，上述變形例中 相同之配管載具的構成。

贷 且刀里1六避衣直 i 5 5丨之 弟4構件1 1 1。此時，力量 择 ”應裝置之自由度雖為4自由 又，但A採用配管（tube)之情 载台控制。 九相較，能進行更高精度之 上迷各實施形態及變形 之韵二驻罢y 例中，雖說明了將本發明 之載口裝置採用為晶圓載台 货月 台RST之標線片载台裝置。’、可採用為包含標線片载 又，上述各實施形態及變 適用掃描步進機之情形，但 ^，雖例示了將本發明 知明之適用範圍並不限定於 52 1378493 此’本發明亦可適用於使光罩與基板在靜止狀態下進行曝 光之步進益寺靜止型曝光裝置。又本發明亦可適用於步 進接合（step and stitch)方式之曝光裝置。 又’作為曝光裝置之曝光對象的物體，並不限定於如 上述貝把形態之製造半導體用的晶圓，例如，亦可係用於 製造液晶顯示元件、電漿顯示器、或有機EL等顯示裝置 之方型玻璃板、或用於製造薄膜磁頭、攝影元件（CC；D等）、 光罩或標線片等的基板。 又’上述實施形態中，作為曝光裝置之照明光IL，並 不限於波長大於l〇〇nm之光，亦可使用波長未滿1〇〇nm之 光。例如，近年來，為了曝光7〇nm以下之圖案，已進行 EUV曝光裝置之開發，其係以s〇R或電漿雷射為光源來 產生軟X線區域（例如5〜15nm之波長域）之Ευν(ΕΜαΜ Ultra Violet)光，且使用根據其曝光波長（例如丨3 5⑽）所設 計之全反射縮小光學系統及反射型光罩。再者，亦可將本 發明適用於國際公開W〇99// 49504號說明書所揭示、於 才又影光學系統PL與晶圓間充滿液體（例如純水）之液浸型曝 光裝置。 ’ 又，本發明亦能適用於使用電子束或離子束等之荷電 粒子線的曝光裝置。此外，電子束曝光裝置，亦可為錐束 方式、可變成形光束方式、單元投影㈣丨—“㈣方式'

遮蔽光闌陣列（blanking aperture array)方式、以及光罩投 影方式中之任一方式。 X 再者，本發明之載台裝置並不限於曝光裝置，亦能可 53 丄j :==他基板處理裝置(例如雷射修補(— 品定位；广板檢查裝置及其他)、或其他精密機械之樣 裝置、及引線接合裝置等。 等丄：由複數個透鏡構成之照明單元、投影光學系統 上沭、、光裝置本體内，進行光學調整。接著，藉由將 標線X轴固定件、x抽可動件、¥軸固定件、晶圓載台、 組入載台、及其他各種零件，施以機械方式及電氣方式 等\調整，並進一步實施综合調整（電氣調整、動作確認 而此製造上述實施形態之曝光裝置1〇〇等本發明的曝 :置#者，曝光裝置之製造，最好係在溫度及潔淨度 寻文到管理的潔淨室内進行。 此外，半導體元件，係經過下述步驟所製造：進行元 力月匕性此设汁的步驟；根據此設計步驟來製作標線 步驟，從矽材料製作晶圓之步驟；藉由以前述調整方 法來調整圖案轉印特性之上述實施形態的曝光裝置，將形 成；光罩之圖案轉印於感光物體上的微影步驟；元件裝^配 之步驟（包含切割製程、接合製程、封裝製程）；檢查步驟 等。此時，微影步驟中，由於使用了上述實施形態之曝光 裝置’因此能以良好良率製造高積體元件。 如以上述說明，本發明之載台裝置，適用於使載台沿 移動面移動者。又，本發明之曝光裝置，適用於將圖案曝 光於基板者。 【圖式簡單說明】 圖1係顯示第1實施形態之曝光裝置的概略圖。 54 1378493 圖2係顯示圖.1之晶圓载台襄置12的立體圖。 圖3(A)係顯示晶圓載〇之立體圖；圖3(B)係顯示圖3(A) 之晶圓載台與構成移動體單元之固定件卡合時狀態的圖。 圖4係顯示晶圓載台裝置12之俯視圖。 圖5係包含固定件單元MY、以可移動之方式卡合於 該固定件MY之晶圓載台WST及配管載具tc之構成部分 的XZ截面圖。 圖6係以示意方式顯示晶圓載台裝置内所產生之力的 鲁圖。 圖7係概略顯示Y軸線性馬達之内部構成的立體圖。 圖8係顯示第1實施形態之控制系統的方塊圖。 圖9係顯示第1實施形態之力量供應裝置安裝於晶圓 載台之狀態的立體圖。 圖10係顯示第1實施形態之力量供應裝置的立體圖。 圖11係第1實施形態之力量供應裝置的分解立體圖。 圖12(A)係第1實施形態之力量供應裝置的χζ截面 籲圖；圖12(B)係第！圓柱狀構件及圓筒狀構件的放大截面 圖。 圖1 3係顯示第2實施形態之晶圓載台裝置1 2,的立體 圖。 圖14(A)係從圖13之晶圓載台裝置12’取出平衡器3〇 及安裝於該平衡器之晶圓載台WST來加以顯示的立體圖， 係圖14(A)之構成部分的χζ截面圖。 圖1 5係取出晶圓台之狀態的晶圓載台褒置121俯視 55 1378493 圖1 6係顯示變形例之力量供應裝置的立體圖。 圖17係圖16之力量供應裝置的分解立體圖。 圖18係力量供應裝置之部分截面之圖（其1)。 圖1 9係力量供應裝置之部分截面之圖（其2)。 圖20係用以說明力量供應裝置内之氣流的圖（其1)。 圖2 1係用以說明力量供應裝置内之氣流的圖（其2)。 圖22係已組裝變形例之力量供應裝置之狀態的晶圓載 鲁台及平衡器截面圖。 【主要元件代表符號】 12 晶圓載台裝置（載台裝置） 100 曝光裝置 155 力量供應裝置 232 X軸圓柱狀構件（第1軸部） 234 圓筒狀構件（第1支撐部） 236 Y軸圓柱狀構件（第2軸部） 237 Y支撐構件（第2支撐部） 238 Z軸圓柱狀構件（第3軸部） 239 Z支撐構件（第3支撐部） LX，，LX2， X軸線性馬達（第1驅動裝置之一部分） LY1, LY2 Y軸線性馬達（第1、第2驅動裝置之一部分) R 標線片（光罩） RX1, RX2 X軸粗動馬達（第2驅動裝置之一部分） TC 配管載具(載具） 56 1378493 VZ1〜VZ4 Z軸音圈馬達（第1、第2驅動裝置之一部分) W 晶圓（基板） WST 晶圓載台（載台）

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Claims (1)

1. 丄5/8493 修正 補充 、申請專利範園： ； 1.一種載台裝置，具備移動於移動面之載台、與用以 該载台供應力量之力量供應*置，其特徵在於，該力量 供應裝置，具備： 里 第1軸部，係延伸於該移動面内之第1軸方向； 係將該第1轴部支撑成能移動於該第1 軸方向及繞該第1軸旋轉； 第2轴部，係延伸於與該第1轴交叉之第2轴方向. 以及 第2支撐部’係將該第2軸部支撐成能移動於該 軸方向及繞該第2軸旋轉。 2. 如申請專利_ 1項之載台裝置，其中，該力曰 供應裝置進一步具備： 1 第二軸部，係延伸於與該第Μ及該第 3轴方向；以及 卑 第3支撐部，係將該第3 軸方向及繞該第3軸旋轉。 ’ ％移動於該第3 3. 如申請事利範圍第2項之載台裝 1軸部與該第1支撐部之間、診楚0 、中在該第 之間、以及該，3轴部與該第；支二::該第2支樓部 i、第2、及第3氣體靜壓轴承。牙奴間’分別設有第 4·如申請專利範圍第1項之載台裝置，其中 供應裝置，係設於沿該第i軸方向 、中，戎力量 5.如申請專利範圍第1項之恭#等速運動之載具。 戰台裝置，其中，在該第 58 1378493 1轴部與該第1支撐部之間、以及該第2軸部與該第2支 樓部之間，設有第1、第2氣體靜壓軸承。 6.如申請專利範圍第1項之載台裝置，其中，該力量 供應裝置具有吸引裝置。 7·如申請專利範圍第6項之載台裝置，其中，該吸引 裝置係吸引該載台之液體。 8·如申請專利範圍第1項之載台裝置，其中，具備驅 動該載台之驅動裝置； 該力暈供應裝置’係將調整該驅動裝置之溫度的調溫 流體供應至該驅動裝置。 9.如申請專利範圍第8項之載台裝置，其中，該驅動 裝置具有設於該載台之開口部的磁鐵。 10_如申請專利範圍第1項之載台裝置，其中，設有複 數個該力量供應裝置。 π.一種曝光裝置，係將裝載於載台裝置之光罩的圖案 曝光於基板，其特徵在於： 係使用申請專利範圍第i項之載台裝置來作Μ 裝置。 σ 12. 一種曝光裝置，係對裝載於載台裝置之基板進行曝 光以形成圖案，其特徵在於： 係使用申請專利範圍第i項夕掘△壯堪Α〜& 裝置。 秋。 13. 一種元件製造方法’其特徵在於，包含： 微影步驟，係使用申請專利益阁你， 月寻刊範圍第11項之曝光裝置將 59 1378493 元件圖案轉印至基板。 14·一種元件製造方法，其特徵在於，包含 微影步驟’係使用申請專利銘圍势,Λ τ耳寻才圍第12項之曝光裝置對 基板進行曝光以形成元件圖案。 15.—種載台裝置，其特徵在於，具備： 載台，係被支樓成能移動於移動面； 第1驅動裝置，係驅動該載台； 平衡Is，係藉由以該第丨驅動裝置 作用力而移動於與該載台相反之方向；以及〃口之反 如申請專利範圍第15項之載台裝置 勤面係形成於該平衡器。 κ如申請專利範圍第15項之載台裝置 備驅動該平衡器之第2驅動裝置。 ^ Μ.如申請專利範圍第〗5項之載台 ®供應裝置’具備對應該载台之、， '中’ ㈠·-種曝光裝置，係將裝栽於載而台移移動部 曝光於基板，其特徵在於： 、置之光罩的圖案 係使用申請專利範圍帛 裝置。 载台裝置來作為該載台 置，係透過該平衡器將力量供應至該載台。 其中，該移 其進一步具 其中，該力 2〇,種曝光裝置’係對裝裁於载台 裝置之基板進行曝 光以形成圖案，其特徵在於： 係使用申請專利範圍第15 裴置。 栽口裝置來作為 該载台 60 1378493 21. —種元件製造方法，其特徵在於，包含： 微影步驟’係使用申請專利範圍第丨9項之曝光裝置將 元件圖案轉印至基板。 22. —種元件製造方法，其特徵在於，包含： 微影步驟’係使用申請專利範圍第2〇項之曝光裝置對 基板進行曝光以形成元件圖案。 23. —種曝光方法，具備將力量供應至移動於2維平面 内之載台，而將圖案曝光於基板，其特徵在於： 使该力置供應裝置移動於該2維平面内之第1轴方 向、及繞該第1軸旋轉；以及 使該力量供應裝置移動於與該第丨軸交叉之第2輛方向 及繞該第2轴旋轉。 秦 24. 如申請專利範圍第23項之曝光方法，其中，該力量 供應裝置，不對該載台裝置實質上施加阻力。 25. 如申請專利範圍第23項之曝光方法，其中，該力量 供應裝置，係移動於與該第1軸方向及該第2軸方向交又 之第3軸方向、及繞該第3軸旋轉。 26_如申請專利範圍第23項之曝光方法，其中，該力量 供應裝置係吸引該載台之液體。 27. 如申請專利範圍第26項之曝光方法，其中，該液體 之吸引，係在曝光動作結束後進行。 28. 如申請專利範圍第23項之曝光方法，其中，該力量 供應裝置，係將調整該驅動裝置溫度之調溫流體供應至驅 動該載台的該驅動裝置。 61 丄： 29. 一種元件製造方法，其特徵在於，包含： 微影步驟’係使用申請專利範圍第23項之曝光裝置對 基板進行曝光以形成元件圖案。 30, 一種載台裝置，其特徵在於，包含： 載台，其可相對於移動面而在四個或多個自由度中移 力量供應裝置，其供應力量至該载台；其中 該力量供應裝置包含： 移動部，其具有供應力量並且可獨立於載台而相對於 移動面移動的供應元件； 第1單元’其具有可在第i軸的方向上移動的第丄元 件和第2元件’該第2元件具有相對於㈣i元件的區段 並且能夠相對於第1元件在至少兩個或多個自由度上移 動，該自由度包含該第！軸之方向作為其中Η固自由度， 且該第1單元執行該第1元件以及第2元件之間的力量傳 送；以及 吁 配置在該移動部以及該第2元件之間的第2單元者 至少兩個自由度從四個自由度排除時，㈣2 : 動部和第2單元之間在自由度的剩餘方向上的相對運^ 並且執仃供應70件和第2單元之間的力量傳送。 31. 如申請專利範圍第3〇項所述之載台，其中， 台相對於該移動面在六個自由度上作相對運動；以及 該第1元件和該第2元件在兩個自由度上作相 。 32. 如申請專利範圍第30項所述之載台，其中，第工 62 U78493 靜止氡體係配置在第 中 1 7L ΎΤ 33.如申請專利範圍第3〇項所述之載台， 動部传古截目 # /、中’該移 係叹有載具，其不斷地延著第丨軸的方向移動。 ^如中請專利範圍第30項所述之載台，其中° 1疋件係固定至該載台。 第. 35.如申請專利範圍第3〇項所述之載台 兀件包含第1軸部，其在^轴方向上延伸； 及^該第2元件包含第1支樓部，其在第1，轴的方向以 4該第1轴的方向上可移動地支撐該第i轴部 該第2單元包含…轴部，其係延伸於與該第 父又，之第2軸方向；以及第2 *掩如 , 撐成能移動於該第2軸方向及繞^ 第2抽部支 2單===:項〜，，該第 ^ 2 ^ 軸。卩，係延伸於與該第1軸及該 第2轴交又之第3袖方向；以及 神及口裹 第3支撐部，係將該第3 軸方向及繞該第3轴旋轉。…成-移動於該第3 37. 一種曝光裝置，係將裝 轉印至基板，其特徵在於： 載°裝置之光罩的圖案 係使用申請專利範圍第3〇項 裝置。 之載口裝置來作為該載台 38. —種曝光裝置，係 光以形成圖案，其特徵在# ；載台裝置之基板進行曝 63 係使用申請專利範圍第30 裝置。 項之载口裝置來作為該栽台 39. -種元件製造方法，其特徵在於，包含： 將 微影步驟，係使用申請專利範圍第37項之曝光裝置 凡件圖案轉印至基板。 40, 種元件製造方法，其特徵在於，包含： 微影步騾’係使用申請專利範圍第38項之曝光裝置對 基板進行曝光以形成元件圖案。 Η一、圖式： 如次頁。

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