TWI361889B - Defect inspection apparatus, pattern drawing apparatus, pattern drawing system and recording medium storing defect inspection program - Google Patents
Defect inspection apparatus, pattern drawing apparatus, pattern drawing system and recording medium storing defect inspection program Download PDFInfo
- Publication number
- TWI361889B TWI361889B TW97102547A TW97102547A TWI361889B TW I361889 B TWI361889 B TW I361889B TW 97102547 A TW97102547 A TW 97102547A TW 97102547 A TW97102547 A TW 97102547A TW I361889 B TWI361889 B TW I361889B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- data
- area
- defect
- length data
- difference
- Prior art date
Links
- 230000007547 defect Effects 0.000 title claims description 417
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 114
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 136
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 72
- 230000002950 deficient Effects 0.000 claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 47
- 230000008439 repair process Effects 0.000 claims description 47
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 30
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 19
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 14
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 11
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 7
- 238000013079 data visualisation Methods 0.000 claims description 6
- 230000008520 organization Effects 0.000 claims description 3
- 210000004556 brain Anatomy 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 20
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 13
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 8
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 241000283690 Bos taurus Species 0.000 description 1
- 235000010627 Phaseolus vulgaris Nutrition 0.000 description 1
- 244000046052 Phaseolus vulgaris Species 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 208000028831 congenital heart disease Diseases 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Image Analysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Software Systems (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2007090093 | 2007-03-30 | ||
| JP2007276775A JP5015721B2 (ja) | 2007-03-30 | 2007-10-24 | 欠陥検査装置、欠陥検査プログラム、図形描画装置および図形描画システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW200900684A TW200900684A (en) | 2009-01-01 |
| TWI361889B true TWI361889B (en) | 2012-04-11 |
Family
ID=39995562
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW97102547A TWI361889B (en) | 2007-03-30 | 2008-01-23 | Defect inspection apparatus, pattern drawing apparatus, pattern drawing system and recording medium storing defect inspection program |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5015721B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
| KR (1) | KR100938324B1 (enrdf_load_stackoverflow) |
| CN (1) | CN101275917B (enrdf_load_stackoverflow) |
| TW (1) | TWI361889B (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5373518B2 (ja) * | 2009-09-15 | 2013-12-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | データ変換方法、描画システムおよびプログラム |
| JP5371658B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2013-12-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | パターン描画装置およびパターン描画方法 |
| TW201314376A (zh) | 2011-09-30 | 2013-04-01 | Dainippon Screen Mfg | 直接描繪裝置用之圖像顯示裝置及記錄媒體 |
| JP6034112B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-11-30 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 支援装置、描画システム、および、支援方法 |
| JP2015103226A (ja) * | 2013-11-28 | 2015-06-04 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | データ演算方法、データ演算装置および欠陥検査装置 |
| JP6460660B2 (ja) * | 2014-07-01 | 2019-01-30 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | データ演算装置、データ演算方法および欠陥検査装置 |
| JP6350204B2 (ja) | 2014-10-21 | 2018-07-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 |
| CN104463928B (zh) * | 2014-12-15 | 2018-01-05 | 重庆市勘测院 | 利用Region类代替AutoCAD面域进行图形计算的方法 |
| KR102536331B1 (ko) * | 2017-12-31 | 2023-05-26 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 결함 검사 및 검토를 위한 시스템들 및 방법들 |
| TWI764770B (zh) * | 2021-06-29 | 2022-05-11 | 倍利科技股份有限公司 | 用於判定電路之線路區域的方法 |
| JP7685395B2 (ja) * | 2021-08-27 | 2025-05-29 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 描画装置、描画方法およびプログラム |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6097482A (ja) * | 1983-10-31 | 1985-05-31 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | パタ−ン認識装置 |
| KR100268777B1 (ko) | 1993-11-12 | 2000-11-01 | 김영환 | 반도체소자의 패턴결함 검사방법 |
| JP2816091B2 (ja) * | 1994-01-31 | 1998-10-27 | 大日本スクリーン製造株式会社 | デジタル検版装置 |
| JPH1083452A (ja) * | 1996-09-09 | 1998-03-31 | Kokusai Gijutsu Kaihatsu Kk | パターン欠陥検出装置 |
| JPH10171093A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-26 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 検版装置 |
| JP2000155408A (ja) * | 1998-09-14 | 2000-06-06 | Matsushita Electronics Industry Corp | パタ―ンデ―タ検証方法およびパタ―ンデ―タ補正方法 |
| JP2000250960A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-14 | Sony Corp | 描画装置用データの検証方法およびフォトマスクの製造方法 |
| JP4538135B2 (ja) * | 2000-05-30 | 2010-09-08 | 株式会社メック | 欠陥検査装置 |
| JP2001344302A (ja) * | 2000-06-02 | 2001-12-14 | Nec Corp | 電子線露光装置用データの検証方法およびその検証装置 |
| JP2002071330A (ja) * | 2000-08-25 | 2002-03-08 | Seiko Instruments Inc | パターン欠陥検査方法及び装置 |
| JP3952358B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2007-08-01 | 大日本スクリーン製造株式会社 | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム |
| JP2003099771A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-04 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | データ変換装置およびその方法、並びに当該方法を用いたプログラム |
| JP4281314B2 (ja) * | 2002-09-02 | 2009-06-17 | 日本電気株式会社 | レチクル製造方法 |
| US6878495B1 (en) * | 2003-10-15 | 2005-04-12 | Eastman Kodak Company | Producing an image data to be used by a laser thermal transfer apparatus for use in making color emissive sites |
| JP4518835B2 (ja) * | 2004-05-13 | 2010-08-04 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 欠陥検出装置、配線領域抽出装置、欠陥検出方法および配線領域抽出方法 |
| JP4648660B2 (ja) * | 2004-07-21 | 2011-03-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 画像の領域分割による物体の表面領域配置の取得 |
| JP2006078421A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Olympus Corp | パターン欠陥検出装置及びその方法 |
| JP4695942B2 (ja) * | 2005-08-22 | 2011-06-08 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | データの検証方法 |
| JP2007081326A (ja) | 2005-09-16 | 2007-03-29 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 配線形成システムおよびその方法 |
-
2007
- 2007-10-24 JP JP2007276775A patent/JP5015721B2/ja active Active
-
2008
- 2008-01-23 TW TW97102547A patent/TWI361889B/zh active
- 2008-03-07 KR KR1020080021639A patent/KR100938324B1/ko active Active
- 2008-03-25 CN CN 200810086302 patent/CN101275917B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101275917A (zh) | 2008-10-01 |
| KR100938324B1 (ko) | 2010-01-22 |
| JP2008277730A (ja) | 2008-11-13 |
| CN101275917B (zh) | 2013-03-06 |
| KR20080089175A (ko) | 2008-10-06 |
| TW200900684A (en) | 2009-01-01 |
| JP5015721B2 (ja) | 2012-08-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI361889B (en) | Defect inspection apparatus, pattern drawing apparatus, pattern drawing system and recording medium storing defect inspection program | |
| JP6609057B2 (ja) | 画像処理装置 | |
| JP3448041B2 (ja) | パターン欠陥検査装置 | |
| US8848244B2 (en) | Image inspection method, apparatus, control program overlapping inspection images to obtain positional shift | |
| JP4542164B2 (ja) | パターン検査装置、パターン検査方法及びプログラム | |
| US20120092482A1 (en) | Method and device for creating composite image | |
| US20200118247A1 (en) | Image composition method, image composition device, and recording medium | |
| Castro et al. | A dataset of 1050-tampered color and grayscale images (CG-1050) | |
| CN115443407A (zh) | 损伤评价装置、方法及程序 | |
| CN116912830A (zh) | 一种基于计算机视觉大模型的缺陷标注方法 | |
| US7715650B2 (en) | Method and apparatus for digital processing of images | |
| TW201314376A (zh) | 直接描繪裝置用之圖像顯示裝置及記錄媒體 | |
| JPH03182976A (ja) | ディジタル画像の接合方法 | |
| JP7329951B2 (ja) | 画像処理装置およびその制御方法 | |
| Chen et al. | Towards improved semiconductor defect inspection for high-NA EUVL based on SEMI-SuperYOLO-NAS | |
| JP2008014717A (ja) | 欠陥検査システムおよび欠陥検査方法 | |
| CN116583871A (zh) | 信息处理装置、信息处理方法及信息处理程序 | |
| JP4467591B2 (ja) | 試料検査装置、及び、試料検査方法 | |
| JP2000258349A (ja) | フォトマスク外観検査装置 | |
| CN113205110B (zh) | 一种面板缺陷分类模型的建立方法及面板缺陷分类方法 | |
| CN116152807B (zh) | 一种基于U-Net网络的工业缺陷语义分割方法及存储介质 | |
| JP2006091790A (ja) | パターン検査方法 | |
| JP2007085995A (ja) | インデックス情報作成装置、試料検査装置、レビュー装置、インデックス情報作成方法及びプログラム | |
| WO2023223883A1 (ja) | コンピュータプログラム、および、データ処理装置 | |
| JP2005346300A (ja) | 筋状欠陥検出方法及び装置 |