TWI360722B - Dye-containing resist composition and color filter - Google Patents

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TWI360722B
TWI360722B TW093122732A TW93122732A TWI360722B TW I360722 B TWI360722 B TW I360722B TW 093122732 A TW093122732 A TW 093122732A TW 93122732 A TW93122732 A TW 93122732A TW I360722 B TWI360722 B TW I360722B
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Kazuyoshi Hosaka
Mariko Shudo
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Nissan Chemical Ind Ltd
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Description

1360722 (1) 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於含有染料之光阻組成物、及使用其之彩 色濾色片。 【先前技術】 固體攝像元件或液晶顯示元件等之攝像元件用彩色濾 色片1主要因可形成細微圖案而製造出高精細彩色濾色 片,故使用添加色素的光阻形成圖案的方法而製造。該方 法中使用含有色素與高分子樹脂之光阻組成物,將其塗佈 於基板上成膜後,著色層以微影法形成圖' 顯像而形成一 著色圖案,重複進行各步驟而製造成彩色濾色片。 此時’作爲著色劑所使用的色素中,可使用一般耐熱 性或耐光性的優良顏料,分散顏料的光阻被提出。例如, 已揭示以含有經酸硬化所得之樹脂系材料、與光酸產生 劑 '與顏料爲特徵之感光性著色樹脂組成物。其爲揭示樹 脂系材料爲含有酚的樹脂,與具有N_羥甲基構造之交聯 劑。 (例如,專利文獻1 ) 然而’顏料爲因顏料本身含有ΙμΐΏ左右的粒子,故 受到該粒子的影響無法形成細微的圖案。因此,要求高解 像度之使用於電荷耦合元件(CCD)的濾色片製造成爲困 難的狀況。 相對於此’使用染料作爲色素時,因染料可溶於有機 -5- (2) (2)1360722 溶劑,故可得到均勻的光阻組成物。因此與分散顏料的光 阻組成物相比,可形成細微圖案。例如,已揭示含有由酸 硬化所得之樹脂、父聯劑 '光酸產生劑、染料及溶劑之負 型光阻組成物。作爲上述溶劑,可舉出甲基賽職素、乙基 賽璐素、甲基賽璐素乙酸鹽、乙基賽璐素乙酸鹽、二乙二 醇二甲醚、乙二醇單異丙醚 '丙二醇單甲醚、二甲基 乙醯胺、N -甲基吡咯烷酮、丁內脂、環己酮、乙酸乙 酯、乙酸正丁酯、乙酸丙二醇單乙醚、乳酸甲酯、乳酸乙 酯、丙酮酸乙酯、二甲基甲醯胺等。(例如專利文獻 2 ) 〇 【專利文獻1】 特開平4- 1 63 5 5 2號公報 【專利文獻2】 特開平6-5 1 5 1 4號公報 【發明內容】 染料一般對於有機溶劑爲低溶解性,故難以提高光阻 組成物中的染料濃度。特別爲進—步進行彩色濾片之薄膜 化時’欲表現所定分光光譜,而必須提高光阻組成物中的 染料濃度。另外’染料與樹脂的相溶性較爲低時,使用染 料 '樹脂及有機溶劑的光阻組成物於調整時染料會成不溶 化或析出。且’保存光阻組成物時,會有對有機溶劑的溶 解性較爲低的染料容易再結晶而產生異物等問題。 本案發明爲提供一種對應彩色濾片之薄膜化,既使提 局染料濃度亦不會產生異物產生等問題之光阻組成物。 本發明第]觀點爲含有乙酮醇系溶劑之光阻組成物。 -6- (3) (3)1360722 第2觀點爲含有樹脂(a-1) '光酸產生劑或光鹼產 生劑(b-〗) '交聯性化合物(c-〗)、染料(d )、及乙 酮醇系溶劑(e )的負型光阻組成物。 第3觀點爲含有樹脂(a-2)、光自由基產生劑(b-2 )、交聯性化合物(c-2 )、染料(d )及乙酮醇系溶劑 (e )之負型光阻組成物。 第4觀點爲含有樹脂(a-3 )、光酸產生劑(b-3 )、 交聯性化合物(c- 3 )、染料(d )及乙酮醇系溶劑(e ) 之正型光阻組成物》 第5觀點爲如第1觀點至第4觀點中任一項之光阻組 成物,其中溶劑爲含有對全體溶劑而言至少1重量%之乙 酮醇。 第6觀點爲如第1觀點至第5觀點中任一項之光阻組 成物,其中乙酮醇爲/3-羥基酮。 第7觀點爲如第1觀點至第5觀點中任一項之光阻組 成物,其中乙酮醇爲4-羥基-4-甲基-2-戊酮。 第8觀點爲一種彩色濾色片的製造方法,其特徵爲含 有將如第1觀點至第7觀點中任一項之光阻組成物塗佈、 乾燥、曝光於基板上後,顯像的步驟。 第9觀點爲一種彩色濾色片,其特徵爲由第8觀點之 方法所製造。 第1〇觀點爲一種固體攝像元件,其特徵爲具有如第 8觀點之方法所製造出的彩色濾色片。 第]]觀點爲一種液晶顯示:其特徵爲具有如第.8觀 (4) (4)1360722 點之方法所製造出的彩色濾色片。 第12觀點爲一種發光二級管,其特徵爲具有如第8 觀點之方法所製造出的彩色濾色片。 (發明的效果) 本案發明欲提供一種對應彩色濾片之薄膜化,既使提 高染料濃度亦可確保充分的染料溶解性,長期保存下不會 產生因染料沈澱所引起的異物等問題之保存安定性高之彩 色光阻組成物時,作爲溶劑可使用乙酮醇,較佳爲点-羥 基酮,特佳爲乙酮醇爲4-羥基-4-甲基-2-戊酮。 乙酮醇亦稱爲羥基酮,係爲具有羥基的酮之總稱。乙 酮醇之中特別以/9 -羥基酮爲佳。分子內羥基與酮之羰基 以特定關係位置(Θ位)方式存在,提高與染料分子之相 互關係而提升溶解性,對於溫度變化或長時間保存亦不會 產生因染料成分之沈澱所引起的異物等。点-羥基酮之中 特別以4_羥基-4-甲基-2-戊酮因具有這些效果而較優良。 其結果,染料的溶解性及染料與樹脂間的相溶性提高 而可確保所定染料濃度,而製造出可表現所望的分光光譜 之彩色德片。 (實施發明的最佳型態) 本案發明爲含具有乙酮醇系溶劑之染料的光阻組成 物。 更詳細而言,本案發明的光阻組成物可適用於負型與 -8- 1360722
正型。 作爲負型光阻組成物,第一爲含有樹脂(a- 1 )、光 酸產生劑或光鹼產生劑(b-Ι )、交聯性化合物(c-1 )、 染料(d )、及乙酮醇系溶劑(e )之負型光阻組成物’第 二爲含有樹脂(a-2 )、光自由基產生劑(b-2 )、交聯性 化合物(c·2 )、染料(d )及乙酮醇系溶劑(e )之負型 光阻組成物。
又,作爲正型光阻組成物爲含有樹脂(a- 3 )、光酸 產生劑(b-3 ) '交聯性化合物(c-3 )、染料(d )及乙 酮醇系溶劑(e )者。 使用於負型光阻組成物之樹脂,僅係由經熱或光照射 所產生的酸或鹼而硬化之樹脂(a -1 ),經熱或光照射之 交聯所成之感光性樹脂(a-2 ),該樹脂中的未曝光部之 塗膜可藉由顯像液除去即可並無特別限定。
作爲樹脂(a-Ι),例如可舉出具有羥基、或羧基之 樹脂等。 例如可舉出與聚乙烯醇、聚丙烯醯胺 '聚丙烯酸及具 甲基丙烯酸等丙烯系樹脂、聚胺酸、聚羥基苯乙烯、聚羥 基苯乙烯衍生物、聚甲基丙烯酯與馬來酸酐之共聚物、含 有酸樹脂、漆用酚醛樹脂、羥基及/或羧基之聚乙胺、纖 維素、纖維素衍生物、澱粉、甲殼素、殼聚醣、明膠、玉 米蛋白、糖骨架高分子化合物、聚胺 '聚對苯二甲酸乙二 酉于酯 '聚碳酸酯、聚尿烷及聚矽氧烷。這些樹脂可單獨或 組合2種以上使用。 -9- (6) (6)1360722 特佳爲聚經基苯乙稀、聚經基苯乙嫌衍生物、酣樹脂 及漆用酚醛樹脂。 作爲含有羧基的丙烯系樹脂,可舉出(甲基)丙烯酸 酯作爲主成分,配合乙烯性不飽和羧酸與其他單體進行共 聚合之丙烯系共聚物。 作爲(甲基)丙烯酸酯可舉出,甲基(甲基)丙烯酸 酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯酸酯'丁 基(甲基)丙烯酸酯、己基(甲基)丙烯酸酯、2-乙基己 基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯、苯甲基 (甲基)丙烯酸酯、二甲基胺基(甲基)丙烯酸酯、羥基 乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基丙基(甲基丙烯酸酯)、環 氧丙基(甲基)丙烯酸酯。 作爲乙烯性不飽和羧酸,可舉出丙烯酸、甲基丙烯 酸、巴豆酸、馬來酸、福馬酸、衣康酸及這些酸酐或半 酯。其中以丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸爲佳。 上述丙烯酸系共聚物的重量平均分子量爲〗〇〇〇〜】〇 萬’由顯像性及密著性來看,較佳爲2000〜3萬。這.些可 因應所需進行組合,已可單獨或2種以上組合使用。 作爲聚羥基苯乙烯及聚羥基苯乙烯衍生物,乙烯酚的 單獨聚合物、乙烯酚與其他化合物可經共聚合而得到共聚 物。作爲此時的其他化合物,可舉出丙烯酸衍生物、丙烯 腈、甲基丙烯酸衍生物、甲基丙烯腈、苯乙烯' α·甲基 苯乙嫌、對甲基苯乙烯 '鄰甲基苯乙烯、對甲氧基苯乙 烯、對氯苯乙烯等苯乙烯衍生物。 -10- (7) (7)1360722 上述聚羥基苯乙烯及聚羥基苯乙烯衍生物的重量平均 分子量爲1 000〜】0萬,由顯像性及密著性來看,較佳爲 2000〜3萬。這些可因應所需進行組合,已可單獨或2種 以上組合使用。 作爲漆用酚醛樹脂,可舉出酚化合物與醛化合物或酮 化合物於酸觸媒存在下進行縮合所得者。 作爲酚化合物可舉出,酚、間甲酚、對甲酚、鄰甲 酚、間乙基酚、對乙基酚、鄰乙基酚、2,3,5-三甲基酣、 2,3,5-三乙基酚' 4_第三丁基酚、3-第三丁基酚、2_第三 丁基酚、2 -第三丁基-4-甲基酚、2 -第三丁基-5-甲基酚' 對甲氧基酚 '間甲氧基酚、對乙氧基酚、間乙氧基酌、對 丙氧基酚、間丙氧基酚、鄰異丙烯基酚、對異丙烯基酣、 間異丙稀基酣、2 -甲基-4-異两烧基酸、2 -乙基-4-異丙稀 基酚、2,3-二甲苯酚、2,5-二甲苯酚' 3,5·二甲苯酚、3,4-—甲苯酣、間苯二酚、對苯二酚、4,4-羥基二酚、苯酣' 兒茶酚、焦掊酚、萘酚 '雙酚C'雙酚A等。這些酚化合 物可單獨或組合2種以上使用。 作爲醛化合物,可舉出甲醛 '間甲醛、乙醛、三口署 院、丙醛'丁醛 '三甲基乙醛、丙烯醛、巴豆醛、環己 醒、糖醛、呋喃基丙烯醛、苯甲醛、對苯二甲醛、苯基乙 醒、α-苯基丙醛苯基丙醛、鄰羥基苯甲醛、間羥基 苯甲醛、對羥基苯甲醛、鄰甲基苯甲醛、間甲基苯甲醛、 對甲基苯甲醛、鄰氯苯甲醛、間氯苯甲醛、對氯苯甲醛、 桂皮酸醛等。這些醛化合物可單獨或組合2種以上使用。 -11 - (8) 1360722 作爲酮化合物,可舉出丙酮、甲基乙酮、二 苯酮等,這些酮化合物可單獨或組合2種以上使 使用於縮合反應的酸觸媒,可舉出鹽酸、 酸、草酸、對甲苯磺酸等。 上述漆用酚醛樹脂的重量平均分子量爲 萬,由顯像性及密著性來看,較佳爲2000〜3萬 因應所需進行組合,已可單獨或2種以上組合使 作爲具有經熱或光照射進行交聯的感光性 (a-2 ) ’可使用還羧基的丙烯系樹脂。即,( 烯酸酯作爲主成份,因應乙烯性不飽和羧酸與其 行共聚合所得之丙烯系共聚物。 作爲(甲基)丙烯酸酯可舉出,甲基(甲基 酯 '乙基(甲基)丙烯酸酯、丙基(甲基)丙烯 基(甲基)丙稀酸醋 '己基(甲基)丙烧酸醋、 基(甲基)丙烯酸酯、環己基(甲基)丙烯酸酯 (甲基)丙烯酸酯、二甲基胺基(甲基)丙烯酸 乙基(甲基)丙烯酸酯、羥基丙基(甲基丙烯酸 氧丙基(甲基)丙烯酸酯。 作爲乙烯性不飽和羧酸,可舉出丙烯酸、 酸、巴豆酸、馬來酸、福馬酸、衣康酸及這些 酯。其中以丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸爲佳。 上述丙烯酸系共聚物的重量平均分子量爲 萬’由顯像性及密著性來看,較佳爲2000〜3萬 因應所需進行組合’已可單獨或2種以上組合使 乙酮、二 用。 硫酸、甲 1 000 〜1 0 。這些可 用。 基之樹脂 甲基)丙 他單體進 )丙烯酸 酸酯、丁 2-乙基己 '苯甲基 酯、羥基 酯)'環 甲基丙烯 酸酐或半 ]〇〇〇〜]〇 。這些可 -12 - 1360722
使用樹脂(a-l )時所使用的光起始劑(bd )中,作 爲光酸產生劑,僅可藉由光照射可直接或間接地產生酸即 可並無特別限定。作爲具體例子爲,三嗪系化合物、乙醯 苯衍生物、二碾系化合物、二偶氮甲烷系化合物、磺酸衍 生物化合物、二芳基碘鑰鹽、三芳基鎏鹽、三芳基鱗鹽、 鐵芳烴錯合物等,但並未僅限定於此。具體而言可舉出二 苯基碘錄氯化物、二苯基碘銷甲磺醯鹽、二苯基砩鐵甲本 磺醯鹽、二苯基碘鎗氯化物、二苯基碘鐺四氟硼酸鹽、一 苯基碘鎗六氟銻酸鹽、二苯基碘鎰六氟砷氣化物、雙(胃 第三丁基苯基)碘銷六氟磷酸鹽、雙(對第三丁基本)_ 鑰甲磺醯酸鹽、雙(對第三丁基苯基)碘_甲苯5黃釀^ ' 雙(對第三丁基苯基)碘鑰三氟甲磺醯醆鹽 '雙一 丁基苯基)碘鑰四氟硼酸鹽、雙(對第三丁基苯基) 氯化物、雙(對氯苯基)碘鐺氯化物、雙(對氯苯基}碘 鎰四氟硼酸鹽、三苯基鎏氯化物、三苯基璧氯化物、一 (對甲氧基苯基)鎏四氟硼酸鹽、三(對甲氧基本基)蜜 六氟膦酸鹽、三(對甲氧基苯基)鎏四譚硼酸鹽 '二本基 鳞鹽氯化物、三苯基鍈鹽溴化物、三(對甲氧基苯基} & 四氟硼酸鹽、三(對甲氧基.苯基)鱗六氟膦酸鹽 '二(對 甲氧基苯基)鱗四氟硼酸鹽。 又,可使用式(1)〜式(6S)所舉出的光酸產生 劑。 -13 - (10)1360722
式(2)
-14 - (11)1360722
-15- (12)1360722
(3 1)
Ο II -o-s-c4h9 II O 式(3 4) Ο II n-o-s-c3h7 II 式(3 3)
-16 - (13)1360722
I-O- 15 式(3 8)
OH-s=o
^-CH3 式(4 1)
-17 - (14)1360722
-18 - (15)1360722
式(5 6) (5 8) -19 - (16)1360722
•c=c Η H
N 式(6 1)
h3co-h3cct
-20- 1360722 \—/
式(6 5)
Ο ~<5_S-C8H17 ° 式(6 6)
式(6 8) 這些光酸產生劑可單獨或組合2種以上使用。又,其 導入量對]00重量份的樹脂(a-])成分而言,可選自]〜 1 0 0重量份之範圍。該量若不足1重量份時,交聯反應無 法充分進行’無法得到所望的光阻圖案,又,若超過100 重量份時’光阻組成物的保存安定性較爲差。因此,光酸 產生劑的導入量對於1 00重量份的樹脂(a_ 1 )而言,以1 〜100重量份爲佳。 作爲光鹼產生劑,僅可由光照射直接或間接地產生鹼 即可並無特別限定。例如可舉出雙〔〔(2 -硝基苯甲基) 氧基〕羰基己烷-1,6-二胺〕、硝基苯基環己基胺基甲酸 鹽 '雙(甲氧基苯甲基)六伸甲基二胺基甲酸鹽' 及以下 式(6 9 )〜式(7 1 )的結構之化合物。 -21 - 1360722
Η I Μ、% 式(6 9)
式(7 0) 3式(7 1) 然而,式(69)〜式(7 1)中,尺厂〜及R3表示氫 原子、取代或無取代的烷基、及取代或無取代的苯基。 這些光鹼產生劑與光酸產生劑相同,可單獨或組合2 種以上使用。又,該導入量與上述理由相同,對1〇〇重量 份的樹脂(a-Ι)成分而言爲I〜100重量份爲佳。 使用於樹脂(a-2 )的光自由基產生劑(b-2 ),例如 可舉出第三丁基過氧-異丁酸鹽、2,5-二甲基、255-雙(苯 醯基二氧基)己烷、I,4-雙〔α -(第三丁基二氧基)·異 丙氧基〕苯、二-第三丁基過氧化物、2;5-二甲基-2,5-雙 (第三丁基二氧基 J)己烯氫過氧化物、(異丙基苯 基)-異丙基氫過氧化物、2,5-二甲基己烷、第三丁基氫過 氧化物、1,1-雙(第三丁基二氧基)-3,3, 5-三甲基環己 烷、丁基-4,4-雙(第三丁基二氧基)戊酸鹽 '環己酮過氧 化物' 2,2’,5,5^四(第三丁基氧化羰基)二苯甲酮、 3,3’,4,4’-四(第三丁基過氧羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(第三戊基過氧羰基)二苯甲酮、3,3’,4,4’-四(第三 戊己基過氧羰基)二苯甲酮、3,3:-雙(第三丁基過氧羰 -22 - (19) (19)1360722 基)-4,4’-二羧基二苯甲酮' 第三丁基過氧苯酸鹽 '二第 三丁基二過氧異苯二酸鹽等有機過氧化物、或9,10 -蒽 醌、1-氯化蒽醌、2-氯化蒽醌、八甲基蒽醌、12 —苯甲蒽 醌等醌類、或苯偶因甲基、苯偶因乙基醚、α -甲基苯偶 因、(2·苯基苯偶因等之苯偶因衍生物等。 這些光自由基產生劑可單獨或組合2種以上使用。 又’其導入量與上述理由相同對於1〇〇重量份的樹脂(a_ 2)而言爲1〜1〇〇重量份爲佳。 且’作爲光增感劑’可使用過去公知的光增感劑。例 如硫代咕噸系 '咕噸系、酮系 '硫代吡喃鑰鹽系、鹼苯乙 稀系、份菁系、3-取代香豆素系、3,4_取代香豆素系、菁 系、吖啶系、噻嗪系 '苯噻嗪系、蒽系、暈苯系' 苯甲蒽 系、一蔡嵌苯、酮香豆素、原鴉片鹼系、硼酸鹽系。這些 可單獨或組合2種以上使用。 作爲使用於樹脂(a -])之交聯性化合物(c - 1 ),僅 具有至少1種選自羥基、羥基烷基、低級烷氧烷基所成群 之交聯形成基的化合物即可。 例如’具有羥基或烷氧基的胺基樹脂,例如可舉出蜜 胺樹脂、尿素樹脂、鳥糞胺樹脂 '乙二醇甘脲-甲醛樹 月曰、琥拍醯酵醯胺·甲醛樹脂、乙烯尿素-甲醛樹脂等。 該父聯性化合物(c -1 ),例如可使用胺基之氫原子 由經甲基或烷氧基甲基或其雙方取代之蜜胺衍生物 '苯並 鳥冀胺衍生物或乙二醇甘脲。該蜜胺衍生物及苯並鳥糞胺 衍生物以二量體或三量體的形式存在爲亦佳。這些可爲每 -23- (20) (20)1360722 個三吖嗪中平均具有3個以上6個以下的烷氧基甲基爲 佳。· 作爲如此蜜胺衍生物或苯並鳥糞胺衍生物的例子,可 舉出商品的每個三吖嗪中平均3.7個甲氧基甲基被取代之 MX-7 50、每個三吖嗪中平均 5.8個甲氧基甲基被取代的 MW-30 (以上爲三和化學製造)或 saimel300、301、 303、 350、 370、 771、 325、 327、 703、 712 等甲氧基甲 基化蜜胺、saimel235、236、238、212、253、254 等甲氧 基甲基化丁氧基甲基化蜜胺、saimel5 06、5 08等丁氧基甲 基化蜜胺、如saimelll4〗的含羧基的甲乙基甲基化異丁 氧基甲基化蜜胺、如saimeU 123-1 0的甲氧基甲基化乙氧 基甲基化苯並鳥糞胺、如saimell 1M的丁氧基甲基化苯 並鳥糞胺、如saimem 2 8- 8 0的含羧基的甲氧基甲基化乙. 氧基甲基化苯並鳥糞胺(以上爲三井山迪克製作)。又, 作爲乙二醇甘脲,可舉出saimelll70之丁氧基甲基化乙 二醇甘脲' saimelll72的羥甲基化乙二醇甘脲等。 又,具有羥基或烷氧基之苯或酚性化合物,例如可舉 出1,3,5 -三(甲氧基甲氧基)苯、1,2,4·三(異丙氧基甲 氧基)苯、1;4-雙(第二丁氧基甲氧基)苯、2,6-二羥基 甲基-對第三丁基酚等。 又,且可使用含有環氧基、異氰酸基且具有交聯形成 基之化合物。作爲具體例子’例如可舉出雙酚丙酮環氧丙 基醚、酚硼氧環氧基樹脂、甲酚硼氧環氧基樹脂、三環氧 丙基異氰尿酸鹽、四環氧丙基胺二伸苯基、四環氧丙基間 -24 - (21) 1360722 二甲苯二胺、四環氧丙基-153-雙(胺基甲基)環g 苯基環氧丙基醚乙烷 '三苯基環氧丙基醚乙烷、雙 乙醯二環氧丙基醚、13-雙環氧基丙氧 三氟甲基-2,2,2-三氟甲基)苯' 4,4_雙(2,3-環氧 基)八氟雙苯、三環氧丙基間胺酚、四環氧丙基伸 二胺、2- (4- (2,3 -環氧基丙氧基)苯基)-2-(4 雙(4_ (2,3·環氧基丙氧基)苯基)乙基)苯基) 1,3-雙(4-(1-(4-(2,3-環氧基丙氧基)苯基) (1-(4·(2,3-環氧基丙氧基苯基)-1-甲基乙基) 乙基)苯氧基)-2-丙醇等。 這些交聯性化合物(c- 1 )可單獨使用或組合 上使用。又,導入量爲對1〇〇重量份的樹脂(a-1 選自1〜200重量份的範圍。該量若不足1重量份 聯反應無法充分進行’難以得到所望的光阻圖案, 過200重量份時,光阻組成物的保存安定性較爲 此,交聯性化合物的導入量對1 〇〇重量份的樹脂成 以1〜2 0 0重量份爲佳。 作爲使用於樹脂(a-2 )之交聯性化合物(c-2 舉出以下具有聚合性不飽和基之化合物。具體而言 出分子內含有3個三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸 戊四醇三(甲基)丙烯酸鹽、二季戊四醇五(甲基 酸鹽、二(甲基)丙嫌酿氧基乙氧基二經甲基丙院 聚環氧丙基醚聚(甲基)丙烯酸鹽等聚合性不飽和 合物,且可舉出分子內含有2個乙二醇二(甲基) ,烷、四 :酚六氟 基)·1-基丙氧 甲氧基 -(1,1-丙烷、 -1 * ( 4 - 苯基) 2種以 )而言 時,交 又若超 差。因 分而言 ),可 ,可舉 鹽、季 )丙烯 、甘油 基之化 丙烯酸 -25- (22) (22)1360722 鹽、二乙二醇二(甲基)丙烯酸鹽、四乙二醇二(甲基) 丙烯酸鹽、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸鹽 '丙二醇二(甲 基)丙烯酸鹽 '聚丙二醇二(甲基)丙烯酸鹽、丁二醇二 (甲基)丙烯酸鹽、新戊二醇二(甲基)丙烯酸鹽 '伸乙 基氧化物雙酚A型二(甲基)丙烯酸鹽' 伸丙基氧化物 雙酚型二(甲基)丙烯酸鹽、1,6-己二醇二(甲基)丙烯 酸鹽、甘油二(甲基)丙烯酸鹽、季戊四醇二(甲基)丙 烯酸鹽、乙二醇環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸鹽、二乙二 醇二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸鹽、苯二酸二環氧丙基 酯二(甲基)丙烯酸鹽、羥基三甲基乙酸新戊二醇二(甲 基)丙烯酸鹽等聚合性不飽和基之化合物、另外可舉出分 子內具有1個2 -羥基乙基(甲基)丙烯酸鹽、2 -羥基丙基 (甲基)丙烯酸鹽、2-羥基丁基(甲基)丙烯酸鹽、2-苯 氧基-2 -羥基丙基(甲基)丙烯酸鹽、2-(甲基)丙烯醯 基氧基-2-羥基丙基苯二酸鹽、3 -氯-2-羥基丙基(甲基) 丙烯酸鹽、甘油單(甲基)丙烯酸鹽、2-(甲基)丙烯醯 基氧基乙基磷酸酯、N -羥甲基(甲基)丙烯醯胺等聚合性 不飽和基之化合物w 這些交聯性化,合物可單獨使用或組合2種以上使用。 又,導入量爲對100重量份的樹脂(a-2)而言選自1〜 2 0 0重量份的範圍。該量若不足1重量份時,交聯反應無 法充分進行’難以得到所望的光阻圖案,又若超過200重 量份時,光阻組成物的保存安定性較爲差。因此,交聯性 化合物的導入量對]0 0重量份的樹脂(a - 2 )成分而言以1 -26 - (23) (23)1360722 〜200重量份爲佳。 使用於正型光阻組成物之樹脂(a-3 )係藉由熱而硬 化之樹脂’藉由熱或光照射所產生的酸而進行樹脂的分 解,進而極性或分子量之變化,對於顯像液顯示溶解性 者,僅該樹脂中的曝光部分之塗膜可由顯像液除去即可並 無特別限定。 樹脂(a-3 )例如可舉出具有羥基或羧基之樹脂等。 具體而言可舉出聚乙烯醇、聚丙烯醯胺、聚丙烯酸、聚甲 基丙烯酸、聚醯胺酸、聚羥基苯乙烯、聚羥基苯乙烯衍生 物、聚甲基丙烯酸鹽與馬來酸酐之共聚物、酚樹脂及漆用 酚醛樹脂 '含有羥基及/或羧基之聚亞胺、纖維素衍生 物、糖骨架高分子化合物、聚醯胺、聚對苯二甲酸乙二醇 酯、聚碳酸酯 '聚尿烷及聚矽氧烷。更具體而言,可舉出 上述樹脂(a-1 )所示的樹脂。這些樹脂可單獨或組合2 種以上使用。 又’可使用含有羧基的丙烯系樹脂。即,以(甲基) 丙烯酸酯作爲主成分,乙烯性不飽和羧酸依必須與其他單 體進行共聚合之丙烯系共聚物β具體而言可舉出上述樹脂 (a-2 )所示的樹脂。這些樹脂可單獨或組合2種以上使 用。 使用於正型光阻組成物的光酸產生劑(b-3 )可舉出 蔡醌二迭氮化合物。一般使用1,2-醌二迭氮化合物。例如 可舉出]52·苯醌二迭氮磺酸酯、1,2-萘醌二迭氮磺酸酯、 1 ;2·苯醌二迭氮磺酸醯胺、及]:2-萘醌二迭氮磺酸醯胺 -27- (24) 1360722 等。更具體而言爲,2,3 ;4-三羥基二苯甲酮-1,2-苯 4-磺酸酯、2,3;4-三羥基二苯甲酮-I,2-萘醌二迭氮 酯、2,4,6-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二迭氮-4-磺 2J56-三羥基二苯甲酮- I,2·萘醌二迭氮-5-磺 2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二迭氮-4-磺 2,2’,4,4’-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二迭氮-5-磺 2,3,4,3’-四羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二迭氮-4-磺 2,354,35-四羥基二苯甲酮- I,2-蔡醌二迭氮-5-磺 2,3,4,4’ -四羥基二苯甲酮-1,2 -萘醌二迭氮-4 -磺 2,3,4,4四羥基二苯甲酮- I,2-萘醌二迭氮-5-磺 2.;3,4;2’-四羥基-4’-甲基二苯甲酮-1,2-萘醌二迭氮 酯、2,3,4,2;-四羥基- 4’-甲基二苯甲酮-1,2-萘醌二 磺酸酯' 2:354,4’-四羥基-3、甲基二苯甲酮-I,2-蔡 氮-4-磺酸酯、2,3,4,4’-四羥基- 3’-甲氧基二苯甲酮· 醌二迭氮-5-磺酸酯、2,3,4,2’,6-五羥基二苯甲嗣-醌二迭氮-4-磺酸酯、2;3;4,2’,6-五羥基二苯甲酮-醌二迭氮-5-磺酸酯、2,3,6,3’,4’,5、六羥基二苯甲固 蔡醌二迭氮-4-磺酸酯' 2,4,6,3’,4’:5’-六羥基二3 1,2-萘醌二迭氮-5-磺酸酯、3,4,5,3’,4’,5、六羥基 酮-1,2-萘醌二迭氮-4-磺酸酯' 3,4,5 5 3 ’,4’,5’-六經 甲酮-1 ,2-萘醌二迭氮-5-磺酸酯、雙(2:4-二羥基 甲烷- 〗,2-萘醌二迭氮_4_磺酸酯、雙(2,4-二羥基苯 烷-I,2 -萘醌二迭氮-5 -磺酸酯 '雙(間羥基苯基: 】;2-萘醌二迭氮-4·磺酸酯 '雙(間羥基苯基).甲院 醌迭氮--5-磺酸 酸酯、 酸酯、 酸酯、 酸酯、 酸酯、 酸酯、 酸酯、 酸酯、 -4 -擴酸 迭氮-5-醌二迭 -1,. 2 -萘 I,2-萘 1,2-萘 1 - 1,2-隹甲酮-二苯甲 基二苯 苯基) 基)甲 >甲烷--],2-萘 -28- (25) (25)1360722 醌二迭氮5-磺酸酯、三(間羥基苯基)甲烷-1;2-萘醌二 迭氮-4-磺酸酯、三(間羥基苯基)甲烷-1,2-萘醌二迭氮-5-磺酸酯、三(間羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二迭氮- 4- 磺酸酯' 1,1,1-三(間羥基苯基)乙烷-1;2-萘醌二迭氮- 5- 磺酸酯、雙(2,3,4-三羥基苯基)乙烷-1;2-萘醌二迭氮- 4- 磺酸酯、雙(2,3,4_三羥基苯基)乙烷-1,2-萘醌二迭氮- 5- 磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘醌二 迭氮-4-磺酸酯、2,2-雙(2,3,4-三羥基苯基)丙烷-1,2-萘 醌二迭氮-5-磺酸酯、1,1;3-三(2,5-二甲基-4-羥基苯 基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二迭氮-4-磺酸酯' 1,1,3-三 (2,5-二甲基-4-羥基苯基)-3-苯基丙烷-1,2-萘醌二迭氮-5-磺酸酯、4,4’-〔卜〔4-〔 1-〔 4-羥基苯基〕-1-甲基乙 基〕苯基〕亞乙基〕雙酚-1,2-萘醌二迭氮-4-磺酸酯、 4,4’-〔1-〔4-〔]-〔4-羥基苯基〕-:1-甲基乙基〕苯基〕亞 乙基〕雙酚-1,2 -萘醌二迭氮-5-磺酸酯、雙(2,5 -二甲基· 4 -羥基苯基)-2 -羥基苯基甲烷-1 , 2 -萘醌二迭氮· 4 -磺酸 酯、雙(2;5-二甲基-4-羥基苯基)-2-羥基苯基甲烷-1,2-萘醌二迭氮-5-磺酸酯、3,3;3’,35-四甲基-15厂-螺二 -556,7,5,,6,,7,-己醇-1,2-萘醌二迭氮-4-磺酸酯、3,3,3553;-四甲基-1,]’-螺二 -5,6,7,5’,6’,7’ -己醇-1,2-萘醌二迭氮-5-磺酸酯、2:2,4-三甲基-7,2’,4’-三羥基黃烷-1:2-萘醌二 迭氮-4-磺酸酯' 2,2,4 -三甲基-7,2’:4’ -三羥基黃烷-1,2 -萘 醌二迭氮-5-磺酸酯' 2,3:4-三羥基二苯甲酮-1,2-萘醌二迭 氮-4-磺酸酯。 -29- (26) (26)1360722 這些萘酿二迭氮化合物可單獨使用或組合2種以上使 用。又,導入量爲對100重量份的樹脂(a-3 )而言選自1 〜50重量份的範圍。該量若不足1重量份時,交聯反應 無法充分進行,難以得到所望的光阻圖案》又若超過50 重量份時,光阻組成物的保存安定性較爲差。医| & , g @ 二迭氮化合物的導入量對100重量份的樹脂成分而言以1 〜50重量份爲佳。 作爲使用於正型光阻組成物之交聯性化合物(c_ 3),可使用具有至少1種選自經基、經基院基、及低_級 院氧基所成群之交聯形成基的化合物、或含有環氧基_、異 氰基且具有交聯形成基者,更可使用具有聚合性不飽和基 之化合物。具體而言可舉出上述負型光阻組成物所示之 (c-1)。 這些交聯性化合物(c-3 )可單獨使用或組合2種以 上使用。又’導入量爲對1〇〇重量份的樹脂(a_3)而言 選自】〜2 00重量份的範圍。該量若不足丨重量份時,交 聯反應無法充分進行,難以得到所望的光阻圖案,又若超 過200重量份時’光阻組成物的保存安定性較爲差。因 此,交聯性化合物的導入量對】00重量份的樹脂成分而言 以1〜200重量份爲佳。 本案發明的負型及正型光阻組成物所使用的染料 (d)爲具有作爲彩色濾色片之較佳分光光譜者,且可直 接溶解於溶劑中’或以改性染料的形式溶劑者。作爲這些 染料可舉出酸性染料、油溶性染料 '分散染料、反應性染 -30 - (27)1360722 料、 直 接染料等 。例如偶氮 系染 料、苯醌系 染料、 萘 醌 系 染料 ' 蒽醌系染 料、 靑系 染料 、s q u a r y 1 i u m 系 染 料 c r 〇 c ( 3 n i .um系染料、份 靑系 染料 、芪系染料 、二苯 基 甲 院 系染 料 、三苯基甲烷系染料 '熒 蒽系染料、 SPIROPYRAN 系染 料 、酞菁系染料、 靛藍 系染 料、俘精酐 系染料 鎳 錯 合物 系 染料、及葜系染料。 具體 而言染料索 引號碼 如 下 〇 C . I. 溶 :劑黃色2 ' 3、 7、1 2 、13 、14、 16、 18、19 2 1 > 2 5' 2 5 :1 ' 27 ' 28、 29、 30、 33 ' 34 、 3 6、42 43 44 ' 4 7 、56 、 62 、72 ' 73 、ΊΊ 、79 、 81、 82、8 3 ' 8 3 : ]、88 、89 、 90 、93 、94、 96 • 98 ' 104、 107' 1 14 116、 1 17、 124 ' 13 0' 13 1、 13 3 、135、 141 、143、 1 45 146、 .1 57、 160: 1 ' 1 6 1、 162、 163、 167 ' ]6 9、 1 72 174、 1 75' 176、 179、 180' 18 1 、182、 183 、184、 1 85 - 186' 1 87、 189' 190、 19 1' C.I. 溶劑橙色 1、2、 3 •4 5 ' 6 ' Ί ' 1 I ' I 4 、 20 ' 23 ' 2 5 ' 31' 40: 1、4 1 4 5 54 ' 5 6 、58 、 60 ' 62 、6 3、 70 ' 75 ' 77 ' 80 、 81 ' 86 99、 102、 103、] 105' 106、 107 > 108' 109 '110、 1 1 1 112、 1 1 3、C.I. 溶劑 紅色 2、2 i ' 4、8、1 6、1 7 18 19、 2 3 > 24 ' 25 > 26 、21、 30 ' 33 ' 35 ' 4 1 ' 4 3 > 45 > 48、 49 、52 ' 68 ' 6 9、 72 ' 73 ' 83 : 1、84: 1、89 、 90 90:: 1 ' 9] 、 92 、 106' 109、 110 、118' 1 1 9 、122、 1 24 125、 1 27、 130、 132、 13 5' 14 1 、143' 145 、14 6、 1 49 、 150' 1 51' 155' 1 60 、]6 ] 、]6 4、] 6 4 : 1 ' 165' ] 66 、 168、 1 69' 172、 175' 179、 1 80 ' 181' 182 、195' ] 96 \ -31 - (28)1360722 197、 1 9 8 ' 207 2 0 8、 2 10 '212、 21 4 、2 1 5、 2 18、 22 2、 2 2 3 ' 22 5 ' 2 27 22 9 ' 23 0 ' 2 3 3、 23 4 、23 5 ' 2 3 6、 2 3 8 ' 2 3 9、 240 ' 24 1 242 、243 丨' 244 、245 ' 247 、24 8 、C.I 溶劑 紫 色 2 、8 9、1 1 ' 1 3、1 4 ' 2 1 、2 1 :1 ' 2 6' 3 1、 36、 3 7 > 3 8 、4 5 ' 4 6 ' 4 7 '48' 49 50、 5 1 ' 5 5.、 56 ' 57 ' 5 8 、 59 ' 60 、61 ' C.I .溶劑 JTTl· [」 2 ' 3 ' 4、5 、7 ' 18、 2 5 > 26 、3 5 ' 36 、3 7 、38、 43 - 44 ' 45 、48 ' 5 1、 58 ' 5 9 : 1 ' 63 > 6 4、 67、 68、< 59、 70、 78 、79、 83 ' 94、 97 、 98 100、1 01 ' 102' 1 04 1 05 111' 112、 122、 1 24 ' ] [28 12 9、 13 2 、13 6、 13 7 、1 3 8、 13 9、 143、 C.I. 溶 劑 綠 色 1 、3、 4、. 5、7、 28 、 29、 32 、33、 34、 35 ' C . I. 溶 劑丨 咖 啡色 1 ' 3、4、 5 · 12、 20 、22 ' 28 ' 38 ' 4 1 、 42 、4 3 、44 、5 2 '53' 59 60 ' 6 1 、6 2、 63 ' C.I. 溶劑黑色 3、5、 5 : 2 、7 ' 1 3、22 、22: 1 ' 26 ' 2 7 28、 29、 3 4、 3 5、43 、4 5 、4 6、 4 8、4 9、5 0、 C.I. 酸 紅 色 6 ' 1 6、26 、6 0' 88 ' 11 1 ' 18 6、 2 15、 C • I.酸 綠 色 25、 27、 C.I. 酸藍色 22 . '25 40 ' 78 ' 92 113' 1 29 > 167、 23 0、C.I •酸黃 色 1 7、 23 ' 25、 36、 3 8 、42、 4 4 ' 72 ' 78 ' C.I. 驗紅色 1 ' 2、 13 、14、 22 ' 2 7 、29、 3 9 C.I. 驗綠色3 、4、C .1. 1 驗藍 色 3、9 、4 1 、66、C.I 驗 紫色 1 > 3 ' 1 8 、39、 6 6、 C.I. 驗黃色 1 1 ' 23 、25 ' 28 4 1、 C . I. 正紅 色 4 、 23 、: 5 1 ' 75 、76、 79、 80 '81' 83 84 ' 14 9 ' 224 ' C.I. 正綠 色 26 、28、 C .1. 正 m •& jtix C-J 7 1 78 ' 98、 10 6、 108、1 92、 2 0] ' C . I.正 紫色 5 1 ' C.I 正 -32- (29) (29)1360722 黃色 26、27、28、33、44、50、86' 142、C.I.正橙色 26、29、34、37、72、c.l.硫磺紅 5、6 ' 7、C.I.硫磺 綠 2、3、6、C.I.硫磺藍 2'3、7、9、13、15.、C.I.硫 磺紫 2、3、4、C · I ·硫磺黃 4 ' C. I.染紅 1 3、2 1 ' 2 3、 28 ' 29 ' 48 ' C.I.染綠 3、5、8'C.I.染藍 6、14、 26 ' 30 ' C.I.染紫 1、3、9、13、15、16'C.I.染黃 2、12'2〇、33、C.I.染橙 2、5、11、15、18、20、C.I. 無生命結合組成物2、3、4、5、7、8、9、10、11、13、 32、37、41'48、C.I.反應性紅 8'22、46、120、C.I. 反應性藍1、2、7、19 ' C.I.反應性紫2、4、C.I.反應 性黃】、2 ' 4、1 4、1 6、C. I.反應性橙 1 ' 4、7、1 3、 16、20、C.I.分散紅 4、11、54' 55、58' 65' 73、 127、 129' 141、 196、 210、 229' 354' 356' C.I.分散 藍 3' 24、79、82、87、10 6' 125、165、183' C.I.分散 紫 1、6、12、26、27、28、C.I.分散黃 3' 4、5、7、 23、33、42、60、64、C.I.分散橙 13、29、30。這些染 料因可表現所望的分光光譜’故可單獨或組合2種以上使 用。 含有染料之負型光阻組成物中,染料(d)的導入量 對樹脂(a- 1 ) '光酸產生劑或光鹼產生劑(b-1 ) '交聯 性化合物(c-])及染料(d )所成的固體成分全體(100 而言爲選自1〜90重量%之範圍。染料的導入量若過 少時,光阻膜經薄膜化時難以表現所望的分光光譜’若染 料的導入量過多時,光阻組成物的保存安定性會變差。然 -33- (30) (30)1360722 而,本案發明的負型光阻組成物中,因使用乙酮醇系溶劑 (e ),上述染料之導入量(固體成糞中的染料濃度)爲 數重量%之低濃度下亦可使用,但設定爲30〜90重量% 的高濃度時可確保染料的充分溶解性。 又,同樣地,樹脂(a-2 )、光自由基產生劑(b-2 )、交聯性化合物(c-2 )及染料(d )所成之含染料負 型光阻組成物中,染料(d )的導入量對上述所成之固體 成分全體(100%)而言,爲選自1〜90重量%之範圍。 染料的導入量若過少時,光阻膜經薄膜化時難以表現所望 的分光光譜,若染料的導入量過多時,光阻組成物的保存 安定性會變差。然而,本案發明的負型光阻組成物中,因 使用乙酮醇系溶劑(e),上述染料之導入量(固體成糞 中的染料濃度)爲數重量%之低濃度下亦可使用,但設定 爲3〇〜90重量%的高濃度時可確保染料的充分溶解性。 且,含有染料的正型光阻組成物中,染料(d )的導 入纛對樹脂(a-3 )、光酸產生劑(b-3 )、交聯性化合物 (c-3 )及染料(d )所成之含染料負型光阻組成物中,染 料(d )的導入量對上述所成之固體成分全體(]00 % )而 言’爲選自1〜90重量%之範圍。染料的導入量若過少 胃’光阻膜經薄膜化時難以表現所望的分光光譜,若染料 的導入量過多時,光阻組成物的保存安定性會變差。然 而’本案發明的正型光阻組成物中,因使用乙酮醇系溶劑 (e ),上述染料之導入量(固體成糞中的染料濃度)爲 數重量%之低濃度下亦可使用,但設定爲30〜90重量% -34- (31) (31)1360722 的高濃度時可確保染料的充分溶解性。 本案發明的負型及正型光阻組成物中所使用的溶劑 (e )可爲乙酮醇系溶劑。其中以々-羥基酮爲佳,作爲 召-羥基酮可舉出4-羥基-4-甲基-2-戊酮'4-羥基-4-甲基-2 -己酮' 4 -羥基-4-乙基-2-己酮、4 -羥基-4-甲基-2-庚酮、 4- 羥基-4-乙基-2-庚酮、4-羥基-4-丙基-2-庚酮、2·甲基-2-羥基-4-己酮、2-甲基-2-羥基-4-戊酮' 2,3-二甲基-3-羥基- 5- 己酮及2,6-二甲基-2-羥基-4-庚酮等。 其中,由染料的溶解及使用性來看,以4-羥基-4-甲 基-2 -戊酮爲佳。 作爲本案發明的乙酮醇系溶劑爲乙酮醇,較佳爲/5-羥基酮,特佳爲4-羥基-4-甲基-2-戊酮(二丙酮醇)雖基 本上爲單獨使用,但這些乙酮醇中可混合其他溶劑使用。 欲提高染料的溶解性及染料與樹脂之相溶性,全體溶劑作 爲100%時,乙酮醇、較佳爲羥基酮,特佳爲.4-羥基-4-甲基-2-戊酮之導入量以1〜100重量%爲佳,更佳爲10 〜1 0 0重量%。 作爲混入乙酮醇的其他溶劑,例如可舉出丙酮、甲 醇、乙醇、異丙醇、甲氧基甲基戊醇 '二戊烯、乙基戊 _、甲基壬嗣、甲基乙酮、甲基異戊酮、甲基·異丙酮、甲 氧基乙醇醚、乙氧基乙醇醚、甲氧基乙醇醚乙酸鹽、乙氧 基乙醇醚乙酸鹽、丁基卡必醇、乙基卡必醇、乙二醇、乙 二醇單乙酸鹽 '乙二醇單異丙醚、乙二醇單丁基醚、丙二 醇、丙二醇單乙酸鹽、丙二醇單甲醚、丙二醇第三丁醚、 -35- (32) 1360722 二丙二醇單甲醚 '二乙二醇、二乙二醇單乙酸鹽 醇二甲醚、二丙二醇單乙酸鹽單甲醚、二丙二醇 二丙二醇單乙醚、二丙二醇單乙酸鹽單乙醚、二 丙醚 '二丙二醇單乙酸鹽單丙醚、二丙二醇單丙 二醇單乙酸鹽單丙醚、3-甲基-3-甲氧基丁基乙 丙二醇甲醚、3 -甲基-3 -甲氧基丁醇 '二異丙醚 丁醚 '二異伸丁基、戊基乙酸鹽、丁基丁酸鹽、 二異丁酮、甲基環己烯、丙醚、二己醚、二哼烷 甲基丙烯醯胺、Ν,Ν·二甲基甲醯胺、二甲基亞硕 吡咯烷酮、7-丁內酯、正己烷、正戊烷、正辛 醚、環己酮、乳酸申酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯 酯、乙酸正丁酯、乙酸丙二醇單乙醚、丙酮酸甲 酸乙酯、3 -甲氧基丙酸甲紙、3 -乙氧基丙酸甲基 甲氧基丙酸乙酯、3 -乙氧基丙酸、3 -甲氧基丙酸 基丙酸丙酯、3 -甲氧基丙酸丁酯、Diglyme等。 醇可單獨或組合2種以上使用。 本案發明的含有染料負型及正型光阻組成物 脂(a-l、a-2或a-3)、光起始劑(b-1、b-2或 交聯性化合物(c-〗' c-2或c-3 )及染料(d ) 率,即固體成分濃度爲5〜50重量%,較佳爲1 量%。 該比率若未達5重量%時’塗膜的膜厚會過 會有產生氣孔之問題。又’若超過50重量%時 成物的黏度會過大而損害到塗膜膜厚之均勻性。 單甲醒、 丙二醇單 醚、二丙 酸鹽、三 、乙基異 丁基醚、 、:N,N-二 、N-甲基 烷、二乙 、乙酸乙 酯、丙酮 乙酯、3-' 3·甲氧 這些乙酮 ,其中樹 b-3 )、 之含有比 0〜30重 小,產生 ,光阻組 -36 - (33) (33)1360722 本案發明的含染料之負型光阻組成物及正型光阻組成 物中’以提高光阻膜的塗佈性或平坦化性爲目的而可含有 界面活性劑。作爲如此界面活性劑,可舉出氟素系界面活 性劑、聚矽氧系界面活性劑、中性系界面活性劑等。 更具體而言例如可舉出 ETTOP EF301、EF3 03、 EF352 (多肯普落達克製作.)、Megfok F171 ' F173、R-(大日本墨水製作)、Florard FC430、FC431 (住友 3 Μ 製作)'ASAHIGARD AG710、沙夫隆 S-382、 SC101' SCI 02 ' SC103、SC 104 ' SC 105 ' SC106(旭硝子 製作)等。這些界面活性劑的使用比率對樹脂成分I〇〇重 量份而言較佳爲0.01〜2重量份,較佳爲 0.01〜1重量 份。界面活性劑的含有量比2重量份多時,光阻膜容易形 成斑點’若未達0 · 0 1重量份時,光阻膜上較易產生光 條。 又’以提高顯像後與基板之密著性爲目的,可含有密 著促進劑。作爲如此的密著促進劑的具體例子可舉出,三 甲基氯砂院、二甲基乙烯氯矽烷、甲基二苯基氯砂烷、氯 甲基二甲基氯矽烷等氯矽烷類、三甲基甲氧基矽烷、二甲 基二乙氧基矽烷、甲基二甲氧基矽烷、二甲基乙烯乙氧基 矽烷、二苯基二甲氧基矽烷、苯基三乙氧基矽烷等烷氧基 矽烷類 '六甲基二矽胺烷' Ν ,Ν ’ -雙(三甲基甲矽烷基) 脲、二甲基三甲基甲矽烷基胺、三甲基甲矽烷基咪唑類之 矽胺烷類、乙烯三氯矽烷' 7-氯丙基三甲氧基矽烷、 胺基丙基三乙氧基矽烷' 甲基丙烯氧基丙基三甲氧基 -37- (34) (34)1360722 矽烷、7-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷等矽烷類、苯並 三唑、苯甲咪唑、吲唑、咪唑' 2-氫硫基苯甲咪唑、2_氣 硫基苯並唾唑、2 -氫硫基苯並哼唑、尿唑、硫尿嘧陡、氣 硫基咪唑、氫硫基嘧啶等雜環狀化合物、或I丨_二伸甲基 脲、1,3 ·二甲基脲等尿素或硫代尿素化合物。 這些密著促進劑的使用比率對於1 00重量份的樹g旨$ 分而言,一般爲20重量份以下,較佳爲〇.〇5〜1〇重量 份,特佳爲1〜1 0重量份。 本案發明的含有染料之負型及正型光阻組成物,可再 加入與光阻組成物具有混合性之添加物類。例如可舉出提 高耐光性之紫外線吸收劑或抗氧化劑、抑制染料析出之相 溶化劑等。作爲抑制染料析出的相溶化劑之具體例子,可 舉出聚環氧乙烷辛醚化合物、聚環氧乙烷月桂醚化合物、 聚環氧乙烷烷基(碳數1 2〜1 3 )醚化合物、聚環氧乙烷2 級烷基(碳數I 2〜1 4 )醚化合物、聚環氧乙烷烷基(碳 數】3 )醚化合物 '聚環氧乙烷鯨臘醚化合物、聚環氧乙 烷硬脂醚化合物 '聚環氧乙烷油醚化合物、聚環氧乙烷癸 醚化合物、聚環氧烷基烷基(碳數1 1〜1 5 )醚化合物、 聚環氧烷基2級烷基(碳數12〜I4)醚化合物聚環氧 烷基鯨臘醚化合物等烷基醚化合物、聚環氧乙烷月桂胺基 醚化合物、聚環氧乙烷硬脂胺基醚化合物、聚環氧乙烷油 基胺基醚化合物等烷基胺基醚化合物、聚環氧乙烷月桂酸 醯胺醚化合物、聚環氧乙烷硬脂酸醯胺醚化合物、聚環氧 乙烷油酸醯胺醚化合物、月桂酸二乙醇醯胺化合物、硬脂 -38 - (35)1360722 酸二乙 胺醚化 烷基聚 甲醯胺 氧乙烷 等的烯 單硬脂 化合物 合物、 化合物 化合物 物、聚 化合物 酸酯化 酸鹽化 化合物 化合物 乙烷山 油酸酯 聚醣醚 化合物 環氧烷 聚環氧 (聚環 醇醯胺化合物、油酸二乙醇醯胺化合物等之烷基醯 合物、聚環氧乙烷聚均二苯乙烯醚化合物、聚環氧 均二苯乙烯醚化合物、聚環氧烷基聚均二苯乙烯醚 縮合物 '聚環氧乙烷單苯乙烯苯基醚化合物、聚環 二苯乙烯苯基醚化合物、聚環氧乙烷萘基醚化合物 丙基苯基醚化合物、甘油單月桂酸酯化合物、甘油 酸酯化合物、甘油單油酸酯化合物、甘油三油酸酯 等之甘油脂肪酸酯化合物、山梨聚醣單月桂酸酯化 山梨聚醣單棕櫚酸酯化合物、山梨聚醣單硬脂酸酯 、山梨聚醣三硬脂酸酯化合物、山梨聚醣單油酸酯 、山梨聚醣三油酸酯化合物等山梨聚醣酸酯化合 環氧乙烷二月桂酸酯化合物、聚環氧乙烷月桂酸酯 、聚環氧乙烷硬脂酸酯化合物、聚環氧乙烷二硬脂 合物、聚環氧乙烷二油酸酯化合物、聚環氧乙烷油 合物等脂肪酸醚酯化合物、聚環氧乙烷蓖麻油酸醣 、聚環氧乙烷硬化蓖麻油醚化合物等之植物油醚酯 、聚環氧乙烷山梨聚醣單月桂酸酯化合物、聚環氧 梨聚醣單硬脂酸鹽化合物、聚環氧乙烷山梨聚醣單 化合物、環氧乙烷山梨聚醣三油酸酯化合物等山梨 酯化合物、環氧烷基丁醚化合物、聚環氧烷基辛醚 、聚環氧烷基烷基(碳數 Μ〜15)醚化合物、聚 基油基醚化合物等單醇型聚醚化合物、聚環氧乙烷 丙烷縮合物等二醇型聚醚化合物、三羥甲基丙烷三 氧烷基)醚化合物、聚環氧烷基甘油醚化合物等之 -39- (36) (36)1360722 聚醇型聚醚化合物、甲基月桂酸鹽化合物、甲基油酸鹽化 合物、異丙基肉豆蔻酸鹽化合物、丙基硬脂酸鹽化合物' 辛基棕櫚酸鹽化合物、辛基硬脂酸鹽化合物、月桂基油酸 鹽化合物、異三癸基硬脂酸鹽化合物、油基油酸鹽化合 物、二油基己二酸鹽化合物、酸羥甲基丙烷三癸酸鹽化合 物、三羥甲基丙烷三月桂酸鹽化合物、季戊四醇二油酸鹽 化合物、季戊四醇硬脂酸鹽化合物、季戊四醇二硬脂酸鹽 化合物等脂肪酸烷基酯化合物、烷基磺酸鹽化合物 '長鏈 烷基苯磺酸化合物、支鏈烷基苯磺酸化合物、長鏈烷基苯 磺酸鹽化合物、分支烷基苯磺酸鹽化合物、支鏈烷基二苯 基醚二磺酸鹽化合物、單異丙基萘磺酸鹽化合物、二異丙 基萘磺酸鹽化合物、三異丙基萘磺酸鹽化合物、二丁基萘 磺酸鹽化合物、二辛基磺基琥珀酸鹽化合物等磺酸型化合 物、月桂基硫酸鹽化合物、烷基硫酸鹽化合物、烷基醚硫 酸鹽化合物等硫酸酯化合物、纖維素、纖維素衍生物、糖 骨架高分子化合物等。 這些相溶化劑的使用比例對1 〇〇重量份的樹脂成分而 言爲0.001〜20重量份。使用量較少時與使用量叫多時比 較,染料析出抑制能較爲差,較多時較難得到良好的圖案 形狀。然而,相容化劑不阻礙圖案形狀時使用量可爲20 重量份以上。 其次對於使用本發明的含有彩色濾片用染料之負型光 阻組成物及正型光阻組成物之彩色濾片製造方法作說明。 本發明的含有染料之負型光阻組成物及正型光阻組成 -40 - (37) (37)1360722 物使用滾動塗佈法等以可得到所望光阻膜厚之轉動數下塗 佈於矽晶圓或玻璃基板上,進行燒烤。燒烤僅將溶劑蒸發 即可,以5 0〜1 5 0 °C的溫度範圍下,進行3 0秒〜1 0分鐘 爲佳。其後,藉由遮蔽使曝光量爲100〜2000m】/cm2的程 度。曝光可使用例如水銀燈等紫外線、遠紫外線、電子 線、或X光等。曝光後使用含有染料的負型光阻組成物 形成負型之圖案時’進行加熱(PEB,後曝光加熱)爲 佳。藉由PEB可再進行經曝光所產生的酸或鹼所形成交 聯,提高對與未曝光部分之顯像液溶解度之間的差距,即 提高對比値。P EB爲5 0〜1 5 0 °C的溫度範圍下進行3 0秒 至5分鐘爲佳。 其次,進行顯像。作爲顯像方法雖無特別限定,可進 行斜槽法、滴入法、噴霧法等公知方法。顯像溫度爲20 °C〜3 0 °C之間爲佳,顯像液以浸漬1 〇秒〜1 0分鐘爲佳。 作爲顯像液可使用有機溶劑或鹼性水溶液等。具體而 言,可舉出異丙醇、丙二醇單甲基醚、乙胺水溶液 '正丙 胺水溶液、二乙胺水溶液、二正丙胺水溶液、三乙胺水溶 液、甲基二乙胺水溶液、二乙醇胺水溶液、三乙醇胺水溶 液、四甲基銨氫氧化物水溶液、氫氧化鈉水溶液、氫氧化 鉀水溶液、碳酸鈉水溶液、碳酸氫鈉水溶液、矽酸鈉水溶 液、甲基矽酸鈉水溶液等。且,欲提高顯像液中未曝光部 分的除去性,添加界面活性劑爲佳。具體而言可舉出聚環 氧乙烷辛醚化合物、聚環氧乙烷月桂醚化合物、聚環氧乙 烷烷基(碳數]2〜]3 )醚化合物、聚環氧乙烷2級烷基 -41 - (38) (38)1360722 (碳數12〜Μ)醚化合物、聚環氧乙烷烷基(碳數13) 醚化合物、聚環氧乙烷鯨蠟基化合物、聚環氧乙烷硬酯基 醚化合物、聚環氧乙烷油基醚化合物、聚環氧乙烷癸基醚 化合物、聚環氧烷基烷基(碳數1 1〜1 5 )醚化合物、聚 環氧烷基2級烷基(碳數1 2〜1 4 )醚化合物、聚環氧烷 基鯨蠟基醚化合物等烷基醚化合物、聚環氧乙烷月桂基胺 醚化合物、聚環氧乙烷硬脂基胺醚化合物、聚環氧乙烷油 基胺醚化合物等之烷基胺醚化合物、聚環氧乙烷月桂酸醯 胺醚化合物、聚環氧乙烷硬脂酸醯胺醚化合物、聚環氧乙 烷油酸醯胺醚化合物、月桂酸二乙醇醯胺化合物、硬脂酸 二乙醇醯胺化合物、油酸二乙醇醯胺化合物等烷基醯胺醚 化合物、聚環氧乙烷均二苯乙烯醚化合物、聚環氧乙烷聚 均苯二烯醚化合物、聚環氧烷基聚均二苯乙烯甲醯胺縮合 物、聚環氧乙烷單苯乙烯苯醚化合物、聚環氧乙烷二苯乙 烯苯基醚化合物、聚環氧乙烷萘醚化合物等烯丙基苯基醚 化合物、甘油單月桂酸鹽化合物、甘油單硬脂酸鹽化合 物、甘油單油酸鹽化合物、甘油三油酸鹽化合物等的甘油 脂肪酸酯化合物、山梨聚醣單月桂酸鹽化合物、山梨聚醣 棕櫚酸鹽化合物、山梨糖醇單硬脂酸鹽化合物、山梨糖醇 三硬脂酸鹽化合物、山梨聚醣單油酸鹽化合物、山梨聚醣 三油酸鹽化合物等山梨聚醣酯化合物、聚環氧乙烷二月桂 酸鹽化合物、聚環氧乙烷月桂酸鹽化合物、聚環氧乙烷硬 脂酸鹽化合物、聚環氧乙烷二硬脂酸鹽化合物、聚環氧乙 烷二油酸鹽化合物、聚環氧乙烷油酸鹽化合物等脂肪酸醚 -42 - (39) 1360722 酯化合物、聚環氧乙烷蓖麻油醚化合物、聚環氧乙院 蓖麻油醚化合物等植物油醚酯化合物、聚環氧乙烷山 醣單月桂酸鹽化合物、聚環氧乙烷山梨聚醣單硬脂酸 合物、聚環氧乙烷山梨聚醣單油酸鹽化合物、聚環氧 山梨聚醣三油酸鹽化合物等山梨聚醣醚酯化合物、聚 烷基丁基醚化合物、聚環氧烷基辛醚化合物、聚環氧 烷基(碳數14〜15)醚化合物、聚環氧烷基油基醚 物等單油基型聚醚化合物 '聚環氧乙烷聚環氧丙烷縮 等二醇型聚醚化合物、三羥甲基丙烷三(聚環氧烷基 化合物、聚環氧烷基甘油醚化合物等聚醇型聚醚化合 甲基月桂酸鹽化合物、甲基油酸鹽化合物、異丙基肉 酸鹽衍生物、丁基硬脂酸鹽化合物、辛基棕櫚酸鹽 物、辛基硬脂酸鹽、月桂基油酸鹽化合物、異三癸基 酸鹽化合物、油基油酸鹽化合物 '二油基己二酸鹽 物、三羥甲基丙烷三癸酸鹽化合物 '三羥甲基丙烷三 酸鹽化合物、季戊四醇二油酸鹽化合物 '季戊四醇單 酸鹽化合物、季戊四醇二硬脂酸鹽化合物等脂肪酸烷 化合物、烷基磺酸鹽化合物、長鏈烷基苯基磺酸鹽 物、支鏈烷基苯基磺酸鹽化合物、長鏈烷基苯基磺酸 合物、支鏈烷基苯基磺酸鹽化合物、支鏈烷基二苯基 磺酸鹽化合物、單異丙基萘基磺酸鹽化合物、二異丙 基磺酸鹽化合物、三異丙基萘基磺酸鹽化合物、二丁 基磺酸鹽化合物、二辛基磺基琥珀酸鹽化合物等磺酸 合物、油酸硫酸化由化合物、蓖麻硫酸化合物、辛基 硬化 梨聚 鹽化 乙烷 環氧 烷基 化合 合物 )醚 物、 鬥蔻 化合 硬脂 化合 月桂 硬脂 基酯 化合 鹽化 醚二 基萘 基萘 型化 硫酸 -43 - (40) (40)1360722 鹽化合物、月桂基硫酸鹽化合物、烷基硫酸鹽化合物 '烷 基醚硫酸鹽化合物等硫酸酯化合物。鹼性顯像液的較佳濃 度爲鹼成分爲 0.001〜10重量%,界面活性劑成分爲 0.001〜10重量%。鹼成分過高時顯像能力過強,於負型 時會浸透至未曝光部分,而於正型時會浸透至曝光部分, 而較易引起圖案表面之乾裂,若過低時無法得到顯像能 力。又,界面活性劑成分若過高時容易起泡而引起顯像斑 點,若過低時無法得到顯像能力。 顯像後,以水或一般有機溶劑潤濕爲佳。其後經乾燥 形成圖案。使用含有染料的負型光阻組成物時,形成曝光 部分經硬化,且溶解未曝光部分之負型圖案。使用含有染 料的正型光阻組成物時,形成溶解曝光部分的正型圖案。 改變上述一連串步驟中之各顏色及光罩,重複組合必 要:的顏色數可得到著色圖案。又,圖案形成後,欲使殘存 於圖案中的可聚合或縮合之官能基能夠完全反應.,可進行 後加熱(post bake )。後加熱可於每次形成各色圖案時進 行’或形成所有著色圖案後進行,以1 5 0〜5 0 0 °C之溫度 車B圍下進彳了 30分鐘〜2小時爲佳。 【實施方式】 [實施例] (含有染料之負型光阻組成物的調整) 漆用酚醛樹脂:縮合酚與甲醛所得之酚漆用酚醛樹脂 A (數平均分子量9000 (聚苯乙烯換算)) -44 - (41) (41)1360722 聚羥基苯乙烯樹脂:VP8000 (日本曹達製) 聚經基苯乙烯共聚物:馬耳卡林加CHM (莫耳比爲1:1 的對乙烯酚以及甲基丙烯酸2_羥基乙基之共聚物)(九 善石油製) 丙烯系樹脂:丙烯樹脂A((甲基)丙烯酸、羥基乙基 (甲基)丙烯酸鹽及甲基(甲基)丙烯酸鹽之共聚物以莫 耳比爲9: 25.5: 65.5之丙二醇單甲基醚乙酸鹽溶液、固 體成分濃度:22.0重量%、重量平均分子量爲6000 (聚 苯乙烯換算)) 實施例1 於50ml的茄型錐形瓶中放入1.76g的酚漆用酚醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、1.1 〇g的Valifast Red 1 3 5 5 (歐 力恩得化學製作)作爲紅色系染料、9.4 3 g的4 -羥基· 4 -甲 基-2 -戊酮作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中不會見 到不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化合物使 用 0 · 1 8 g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商品名 saimel303,三井山迪克製作) '作爲光酸產生劑使用 0.09g的三嗪系光酸產生劑(商品名TAZ-108,綠化學製 作)、作爲界面活性劑使用0.0 0 9 g的氟素系界面活性劑 (商品名爲Megfok R-30 ’大日本墨水化學製作),且於 室溫下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物(I )。得到 溶液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的負 型光阻組成物(I )的一部份使用0.2 μηι之濾器進行過 -45 - (42) (42)1360722 濾,於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀 察並無異物。 實施例2 於50ml的茄型錐形瓶中放入的酚漆用酚醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、l.l〇g的Valifast Redl355作爲 紅色系染料、9.43g的4-羥基-4·甲基-2-戊酮作爲溶劑, 於室溫下攪拌。·反應溶液中不會見到不溶物,係爲均勻的 溶液。其後,作爲交聯性化合物使用0.35g的丁氧基甲基 化乙二醇甘脲系交聯性化合物(商品名saimell70,三井 山迪克製作)、作爲光酸產生劑使用0.18g的磺醯酸鹽系 光酸產生劑(商品名NAI-105,綠化學製作)、作爲界面 活性劑使用O.〇12g的氟素系界面活性劑(商品名爲 Megfok R-30,大日本墨水化學製作),且於室溫下攪 拌,得到含染料之負型光阻組成物(2 )。得到溶液中不 會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的負型光阻組 成物(2 )的一部份使用0.2 // m之濾器進行過濾,於洗淨 後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀察並無異 物。 實施例3 於50ml的茄型錐形瓶中放入1.76g的酚漆用酚醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、l.I0g的Valifast Red 1 3 5 5作爲 紅色系染料、9.43g的4-羥基-4·甲基-2-戊酮作爲溶劑, -46 - (43) (43)1360722 於室溫下攪拌。反應溶液中不會見到不溶物,係爲均勻的 溶液。其後,作爲交聯性化合物使用〇.25g的環氧基系交 聯性化合物(商品名GT-401,大西路化學製作)、作爲 光酸產生劑使用〇.12g的鎏鹽系光酸產生劑(商品名 DTS-105,綠化學製作)、作爲界面活性劑使用〇.〇l〇g的 氣素系界面活性劑(商品名爲Megfok R-30),再於室溫 下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物(3 )。得到溶液 中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的負型光 阻組成物(3)的一部份使用0.2//m之濾器進行過濾,於 洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀察並無 異物》 實施例4 於50ml的茄型錐形瓶中放入l.OOg的酚漆用酌醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、2.00g的Valifast Redl 3 5 5作爲 紅色系染料、4.14g的4-羥基-4-甲基-2-戊酮以及6.21g的 丙二醇單甲醚作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中不會 見到不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化合物 使用0.30g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商品名 Saimel303)、作爲光酸產生劑使用0.15g的三嗪系光酸產 生劑(商品名TAZ-1 07,綠化學製作)、作爲界面活性劑 使用 0.009g的氟素系界面活性劑(商品名爲Megfok R-3 0),再於室溫下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物 (4)。得到溶液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之 -47 - (44) 1360722 含有染料的負型光阻組成物(4 )的一部份使用0.2 μιη之 濾器進行過濾,於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星 期,由目視觀察並無異物。 實施例5
於50ml的茄型錐形瓶中放入l.OOg的酚漆用酚醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、2.00g的Valifast Redl 3 5 5作爲 紅色系染料、3.11g的4-羥基-4-甲基-2-戊酮以及7.25g的 乙基丙醇酸酯作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中不會 見到不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化合物 使用〇.15g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商品名 saimel303)、作爲光酸產生劑使用〇.〇7g的三嗪系光酸產 生劑(商品名TAZ-1 08 )、作爲界面活性劑使用〇.〇〇9g 的氟素系界面活性劑(商品名爲M e g f 〇 k R - 3 0 ),再於室 溫下攪拌’得到含染料之負型光阻組成物(5 )。得到溶 液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的負型 光阻組成物(5 )的一部份使用0.2 μΐΏ之濾器進行過濾, 於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀察並 無異物。 實施例6 於100ml的茄型錐形瓶中放入7.07g的丙烯樹脂a作 爲丙烯系樹脂' 〇_27g的RedGS (日成化成製)作爲紅色 系染料、36.8〇g的4-羥基-4·甲基-2-戊酮作爲溶劑,於室 -48- (45) (45)1360722 溫下攪拌。反應溶液中不會見到不溶物’係爲均勻的溶 液。其後,使用 3.31g的交聯性化合物(商品名 KAYARADDPHA-40H,日本化藥製)、作爲〇.3〇g的光启 由基產生劑(商品名1-369’千葉特殊化學公司製作)、 〇.2〇g的光增感劑(商品名ITX ’第一化學製作).、作爲 界面活性劑使用〇.〇15g的氟素系界面活性劑(商品名爲 Megfok R-30),再於室溫下攪拌,得到含染料之負型光 阻組成物(6 )。得到溶液中不會見到不溶物之均勻溶 液。所得之含有染料的負型光阻組成物(6 )的一部份使 用0.2μιη之濾器進行過濾,於洗淨後的試料瓶中,室溫下 放置1星期,由目視觀察並無異物。 實施例7 於50ml的茄型錐形瓶中放入l.〇〇g的酚漆用酚醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、2.00g的Valifast Redl 3 5 5作爲 紅色系染料、l〇.35g的4 -羥基-4-甲基-2-戊酮作爲溶劑, 於室溫下攪拌。反應溶液中不會見到不溶物,係.爲均勻的 溶液。其後,作爲交聯性化合物使用0.3 0g的甲氧基甲基 化蜜胺系交聯性化合物(商品名saimeI 3 03 ) '作爲光酸 產生劑使用 〇.15g的三嗪系光酸產生劑(商品名 TAZ-107)、作爲界面活性劑使用0.009g的氟素系界面活性劑 (商品名爲Megfok R-30) ’再於室溫下擅祥,得到含染 料之負型光阻組成物(7 )。得到溶液中不會見到不溶物 之均勻溶液。所得之含有染料的負型光阻組成物(7 )的 -49- (46) (46)1360722 一部份使用〇.2μπι之濾器進行過濾,於洗淨後的試料瓶 中’室溫下放置1星期,由目視觀察並無異物。 實施例8 於5〇ml的茄型錐形瓶中放入l.〇〇g的酚漆用酚醛樹 脂A作爲漆用酚醛樹脂、5.08g的Savinyl Fire Red GLS 作爲紅色系染料' 13.5g的4 -羥基-4 -甲基-2 -戊酮以及 7_25g的乙基丙醇酸酯作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶 液中不會見到不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯 性化合物使用0.40g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物 (商品名 saime1303)、作爲光酸產生劑使用 〇.l8g的三 嗪系光酸產生劑(商品名TAZ-108 )、作爲界面活性劑使 用 〇.〇lg的氟素系界面活性劑(商品名爲 Megfok R-3 〇 )’再於室溫下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物 (8 )。得到溶液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之 含有染料的負型光阻組成物(8 )的一部份使用0.2 μιη之 據器進行過濾,於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置.1星 期’由目視觀察並無異物。 實施例9 於50ml的茄型錐形瓶中放入1.75g的VP8000作声聚 羥基苯乙烯、2.00g的Va】i fast Green 1501作爲綠色系染 料、9.45g的心羥基-心甲基·2_戊酮作爲溶劑,於室溫下 攪彳半。反應溶液中不會見到不溶物,係爲均勻的溶液。其 -50 - (47) 1360722 後,作爲交聯性化合物使用0.1 8g的甲氧基甲基化蜜 交聯性化合物(商品名saimel 3 03 )、作爲光酸產生 用〇.〇9g的三嗪系光酸產生劑(商品名TAZ-108 )、 界面活性劑使用0.009g的氟素系界面活性劑(商品 Megfok R-30 ),再於室溫下攪拌,得到含染料之負 阻組成物(9 )。得到溶液中不會見到不溶物之均 液。所得之含有染料的負型光阻組成物(9 )的一部 用〇.2μπι之濾器進行過濾,於洗淨後的試料瓶中,室 放置1星期,由目視觀察並無異物。 實施例1 0 於50ml的茄型錐形瓶中放入l.〇〇g的VP8000作 鞋基苯乙燃、2.00g的Valifast Green 1501作爲綠色 料' 4.14g的4-羥基-4-甲基-2-戊酮以及6.21g的丙二 甲基醚乙酸鹽作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應榕液中 見到不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化 使用0.50g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商 saimel3 03 )、作爲光酸產生劑使用0.25g的三嗓系光 生劑(商品名TAZ-】07 )、作爲界面活性劑使用〇 ’ 的氟素系界面活性劑(商品名爲MegfokR-30),再 溫下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物(1 〇 )。胃 液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的 光阻組成物(1 〇 )的一部份使用〇 _ 2 μ m之濾器進行過 於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀 胺系 劑使 作爲 名爲 型光 勻溶 份使 溫下 爲 '聚 系染 醇單 不會 合物 品名 酸產 009g 於室 到溶 負型 濾, 察並 -51 - (48) (48)1360722 無異物。 實施例1 1 於 50ml的茄型錐形瓶中放入1.76g的馬耳卡林加 CH.M作爲聚羥基苯乙烯' 1 .1 〇g的Valifast Blue 1 62 1 (歐 立彥得化學製作)作爲藍色系染料、9.43 g的4-羥基-4·甲 基-2 -戊酮作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中不會見 至IJ不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化合物使 用0 · 1 8 g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商品名 saime13 03 ) '作爲光酸產生劑使用0.09g的三嗪系光酸產 生劑(商品名TAZ-1 08 )、作爲界面活性劑使用〇. 〇〇9g 的氟素系界面活性劑(商品名爲Megfok R-.30 ),再於室 溫下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物(1 1 )。得到溶 液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的負型 光阻組成物(Π )的一部份使用0.2 μιη之濾器進行過濾, 於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀察並 無異物。 實施例]2 於5〇ml的茄型錐形瓶中放入l.OOg的馬耳卡林加 CHM作爲聚羥基苯乙烯、5.80g的ValifastBlue 1621 (歐 立彥得化學製作)作爲藍色系染料、]3.51g的4-羥基-4-甲基-2 -戊酮作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中不會 見到不溶物’係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化合物 -52- (49) 1360722 使用〇.50g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商 saimel303)、作爲光酸產生劑使用0.20g的三嗪系光 生劑(商品名TAZ-108 )、作爲界面活性劑使用〇.〇: 氣素系界面活性劑(商品名爲Megfok R-30),再於 下攪拌,得到含染料之負型光阻組成物(1 2 ) ^得到 中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的負 阻組成物(12)的一部份使用0.2 μηι之濾器進行過濾 洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀察 異物。 實施例1 3 於50ml的茄型錐形瓶中放入l.OOg的馬耳卡 CHM作爲聚羥基苯乙烯、5.80g的Valifast Blue 2620 立彥得化學製作)作爲藍色系染料、10.35g的4·羥^ 甲基· 2 -戊酮作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中 見到不溶物,係爲均勻的溶液。其後,作爲交聯性化 使用〇_30g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商 sai me 13 03 )、作爲光酸產生劑使用〇.1 5g的三嗪系光 生劑(商品名TAZ-108 ) '作爲界面活性劑使用〇. 的氟素系界面活性劑(商品名爲Megfok R-30 ),再 溫下攪拌’得到含染料之負型光阻組成物(1 3 )。得 液中不會見到不溶物之均勻溶液。所得之含有染料的 光阻組成物(1 3 )的一部份使用0 · 2 μχη之濾器進行過 於洗淨後的試料瓶中,室溫下放置1星期,由目視觀 品名 酸產 g的 室溫 溶液 型光 ,於 並無 林加 (歐 i -4, 不會 合物 品名 酸產 〇12g 於室 到溶 負型 濾, 察並 -53- (50) 1360722 無異物。 實施例1 4 於50ml的茄型錐形瓶中放入l.OOg的馬 CHM作爲聚經基苯乙烧、2.00g的ValifastBlue 立彥得化學製作)作爲藍色系染料、4.14g的4-基-2-戊酮以及6.21g的丙二醇單甲醚作爲溶劑, 攪拌。反應溶液中不會見到不溶物,係爲均勻的 後’作爲交聯性化合物使用0 _ 3 0 g的甲氧基甲基 交聯性化合物(商品名s a i m e 1 3 0 3 )、作爲光酸 用〇.15g的三嗪系光酸產生劑(商品名ΤΑΖ-10] 界面活性劑使用0 · 0 0 9 g的氟素系界面活性劑( M e g f 〇 k R - 3 0 ) ’再於室溫下攪拌,得到含染料 阻組成物(1 4 )。得到溶液中不會見到不溶物 液。所得之含有染料的負型光阻組成物(1 4 )的 用0.2 μπι之濾器進行過濾,於洗淨後的試料瓶中 放置1星期,由目視觀察並無異物。 比較例1 於50ml的茄型錐形瓶中放入i.76g的酚漆 脂A作爲漆用酚醛樹脂、l.l〇g的Valifast Red 力恩得化學製作)作爲紅色系染料、9.43g的丙 醚作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中析出 後,作爲交聯性化合物使用0 · 1 8 g的甲氧基甲基 耳卡林加 2620 (歐 羥基-4-甲 於室溫下 溶液。其 化蜜胺系 產生劑使 、作爲 商品名爲 之負型光 之均勻溶 一部份使 ,室溫下 用酚醛樹 1 3 5 5 (歐 二醇單甲 染料。其 化蜜胺系 -54 - (51) 1360722 乂聯性化口物(商品名saimel303)、作爲光酸產 用0.09g的三嗪系光酸產生劑(商品名TAZ-108、 面活性劑使用0.0 09 g的氟素系界面活性劑(商 Megfok R-30),且於室溫下攪拌但無法溶解染料 得到均勻的溶液。且由不均勻含染料之負型光阻 (1 5 )中所析出的染料經過濾時,得到〇 5 4 g的染 果’無法得到含有所定染料濃度之含有染料的負型 成物。且將相同調配方法所得之不均勻含有染料的 阻組成物(15)使用〇.2μπι2濾器進行過濾,放置 後的試料瓶中,第1天即可目視觀察到異物。 比較例2 於50ml的茄型錐形瓶中放入K76的VP8000 經基苯乙烯、l.l〇lifast Green 15(Π作爲綠色系 9.43的丙二醇單甲醚,於室溫下攪拌。反應溶液中 料。其後’作爲交聯性化合物使用〇 . 1 8 g的甲氧基 爸·目女系父聯性化合物(商品名 s a i m e 1 3 0 3 )、作爲 生劑使用0.09g的三嗪系光酸產生劑(商品名 108)、作爲界面活性劑使用〇.〇09g的氟素系界面 (商品名爲 Megfok R-30 ),再於室溫下攪拌,但 到溶解染料的均勻溶液。且於所得不均勻含染料之 組成物(1 6 )中所析出的染料經過濾後的得到0 染料°結果無法得到含有所定染料濃度的含有染料 光阻組成物。且將相同調配方法所得之不均勻含有 生劑使 作爲界 品名爲 ,無法 組成物 料。結 光阻組 負型光 於洗淨 作爲聚 染料、 析出染 甲基化 光酸產 I ΤΑΖ-活性劑 無法得 負型光 _46g 的 的負型 染料的 -55- (52) (52)1360722 負型光阻組成物(16 )使用0.2 之濾器進行過濾,放置 於洗淨後的試料瓶中,第1天即可目視觀察到異物。 比較例3 於50ml的茄型錐形瓶中放入1.76g的馬耳卡林加 CHM作爲聚羥基苯乙烯' l.l〇g的Valifast Blue 1621作 爲藍色系染料、9.43 g的乙基丙醇酸酯作爲溶劑,於室溫 下攪拌。反應溶液中析出染料。其後,作爲交聯性化合物 使用〇 · 1 8 g的甲氧基甲基化蜜胺系交聯性化合物(商品名 saimel303)、作爲光酸產生劑使用〇.〇9g的三嗪系光酸產 生劑(商品名TAZ-108)、作爲界面活性劑使用〇.〇06g 的氟素系界面活性劑(商品名爲M e g f 〇 k R · 3 0 ),再於室 溫下攪拌,但無法得到溶解染料的均勻溶液。且於所得不 均勻含染料之負型光阻組成物(1 7 )中所析出的染料經過 濾後的得到0 · 5 5 g的染料。結果無法得到含有所定染料濃 度的含有染料的負型光阻組成物。且將相同調配方法所得 之不均勻含有染料的負型光阻組成物(17 )使用0.2 μιη之 濾器進行過濾,放置於洗淨後的試料瓶中,第1天即可目 視觀察到異物。 比較例4 於50ml的茄型錐形瓶中放入1.76g的馬耳卡林加 CHM作爲聚羥基苯乙烯、1.10g的Valifast Blue 1621作 爲藍色系染料、4.72g的丙二醇單甲醚及4.72g的丙二醇 -56 - (53) 1360722
單甲醚乙酸鹽作爲溶劑,於室溫下攪拌。反應溶液中析出 染料。其後’作爲交聯性化合物使用〇 _ 1 8 g的甲氧基甲基 化蜜胺系交聯性化合物(商品名saime13〇3 )、作爲光酸 產生劑使用〇.〇9g的三嗪系光酸產生劑(商品名TAZ-1〇8)、作爲界面活性劑使用〇.〇〇9g的氟素系界面活性劑 (商品名爲Megfok R-30),再於室溫下攪拌,但無法得 到溶解染料的均勻溶液。且於所得不均勻含染料之負型光 阻組成物(1 8 )中所析出的染料經過濾後的得到〇.65g的 染料。結果無法得到含有所定染料濃度的含有染料的負型 光阻組成物。且將相同調配方法所得之不均勻含有染料的 負型光阻組成物(1 8 )使用0 · 2 μιη之濾器進行過濾,放置 於洗淨後的試料瓶中,第1天即可目視觀察到異物。 (彩色濾色片的製作)
實施例1 5至實施例2 8及比較例5至比較例8所使用 的矽晶圓皆爲相同尺寸。 且,對於觀察於矽晶圓上所形成的圖案塗膜上是否有 異物存在,係以鈉燈進行目視觀察,其爲於暗室中由砂晶 圓面離3〇cm的位置上觀察是否有異物。若確認有異物存 在,則計算於矽晶圓上觀察到的總數。又,以光學顯微鏡 下的觀察爲,確認出異物時以1 〇〇〇倍率下進行測定之方 法。 實施例1 5 -57- i (54) (54)1360722 將:實施例1所得之含染料的負型光阻組成物(i )使 用0·2μπι的濾器進行過濾’於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將,組成物塗佈於'@晶圓上·’ 於熱板上進行100 °C 1分鐘的燒烤(soft bake),形成 0·95μηι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行】2〇°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像’再以流動純水進行洗淨°其後於熱 板上進行1 5〇°C 5分鐘的後加熱(post bake )’形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至Mm且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又’光學顯微鏡下觀察時亦無觀 察到異物。 實施例1 6 將實施例2所得之含染料的負型光阻組成物(2 )使 用0.2μιη的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天》其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行1〇〇 °C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形成 Ι.ΟΟμιη膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由Cannon製 紫外光照射裝置 PLA-501 (F)以 365nm的照射量照射 3 00mJ/Cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120〇c 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 -58- (55) 1360722 一定時間浸漬後顯像’再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行1 50°C 5分鐘的後加熱(post bake ),形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至5 μπι且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察.時亦無觀 察到異物。
實施例1 7 將實施例3所得之含染料的負型光阻組成物(3 )使 用0.2μπι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行l〇〇°C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形成 0.98μιη膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120°C 1分鐘的
PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150°C 5分鐘的後加熱(post bake),形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至5 μπι且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦無觀 察到異物。 實施例1 8 -59- (56) (56)1360722 將實施例4所得之含染料的負型光阻組成物(4 )使 用0.2 μιη的濾器進行過濾’於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行100 1分鐘的燒烤(soft bake) ’形成 0 _ 96μηα膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 (F)以365nm的照射量照射 3 0 0mJ/Cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像’再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150 °C 5分鐘的後加熱(post bake) ’形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2Pm且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦無觀 察到異物。 實施例1 9 將實施例5所得之含染料的負型光阻組成物(5 )使 用0.2 μπι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行100 °C 1分鐘的燒烤(soft bake),形成 1·03μιη膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行i2〇°C」分鐘的 PEB。其後,於2;TC NMD-3顯像液(東京應化製)中經 •60- (57) 1360722 一定時間浸漬後顯像’再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150°C 5分鐘的後加熱(post bake),形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μη!且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又,.光學顯微鏡下觀察時亦無觀 察到異物。
實施例2 0 將實施例6所得之含染料的負型光阻組成物(6 )使 用0.2μιη的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行100 °C 1分鐘的燒烤(so ft bake),形成 1 ·5 μηι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cann〇n製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65 nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120°c 1分鐘的
PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行1 50°C 5分鐘的後加熱(post bake ),形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至1 〇 μιη且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又’光學顯微鏡下觀察時亦無觀 察到異物。 實施例2 1 -61 - (58) (58)1360722 將實施例7所得之含染料的負型光阻組成物(7 )使 用0.2μηι的濾器進行過濾’於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行l〇〇°C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形成 Ι.ΟΟμπι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行15(TC 5分鐘的後加熱(post bake),形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μιη且無圖案剝 離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下目視 觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦無觀 察到異物。 實施例2 2 將實施例8所得之含染料的負型光阻組成物(.8 )使 用0.2 μιη的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行100 °C 1分鐘的燒烤(so ft bake),形 〇.94μπι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 (F)以365nm的照射量照射 3 0 0mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 -62- (59) 1360722 一定時間浸漬後顯像’再以流動純水進行洗淨。其後 板上進行150 °C 5分鐘的後加熱(p0St bake),形成 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μπι且無圖 離下形成。砂晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦 察到異物。 實施例2 3 將實施例9所得之含染料的負型光阻組成物(9 用0·2μπι的濾器進行過德’於經洗淨的試料瓶中室溫 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓 於熱板上進行100 eC 1分鐘的燒烤(soft bake ), 1 · 1 0__μ m嗅厚的塗膜。該·塗膜通過測試罩後藉由canno 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65nm的照射量 3 00mJ/Cm2的紫外光。繼續於熱板上進行12〇t: 1分 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製) 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後 板上進行 150°C 5分鐘的後加熱(post bake),
Green負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μηι 圖案剝離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行 下目視觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀 亦無觀察到異物。 實施例2 4 於熱 Red 案剝 目視 無觀 )使 下放 上, 形成 丨η製 照射 鐘的 中經 於熱 形成 且無 鈉燈 察時 -63- (60) (60)1360722 將實施例】〇所得之含染料的負型光阻組成物(1 〇 ) 使用0.2μιυ的濾器進行過濾’於經洗淨的試料瓶中室溫下 放置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓 上,於熱板上進行1〇〇 °C 1分鐘的燒烤(soft bake),形 成0.98μιη膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon 製紫外光照射裝置PLA-501 ( F)以3 6 5 nm的照射量照射 3 0 0mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行120°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像’再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150°C 5分鐘的後加熱(post bake ),形成
Green負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μιη且無 圖案剝離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈 下目視觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時 亦無觀察到異物。 實施例2 5 將實施例1 1所得之含染料的負型光阻組成物(1 ]) 使用0.2 μ ηι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下 放置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓 上’於熱板上進行lOOt 1分鐘的燒烤(soft bake),形 成Ι.ΟΟμηι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cann〇n 製紫外光照射裝置P L A - 5 0 1 ( F )以3 6 5 n m的照射量照射 300mj/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行i3〇t: i分鐘的 PEB。其後,於23 °C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 -64 - (61) 1360722 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150 °C 5分鐘的後加熱(post bake),形成 Blue負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μπι且無圖 案剝離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 目視觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦 無觀察到異物。
實施例2 6 將實施例1 2所得之含染料的負型光阻組成物(1 2 ) 使用0.2 μιη的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下 放置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓 上,於熱板上進行100 °C 1分鐘的燒烤(so ft bake),形 成0·94μιη膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon 製紫外光照射裝置P L A - 5 0 1 ( F )以3 6 5 n m的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行130°C 1分鐘的
PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行 1 50°C 5分鐘的後加熱(post bake ),形成
Blue負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μπι且無圖 案剝離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 目視觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦 無觀察到異物》 實施例2 7 -65- (62) (62)1360722 將實施例1 3所得之含染料的負型光阻組成物(1 3 ) 使用0_2μηι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下 放置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓 上,於熱板上進行1 00°C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形 成0.94μηι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon 製紫外光照射裝置PLA-501 ( F)以3 65nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行130°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行15〇t 5分鐘的後加熱(post bake ),形成 Blue負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μιη且無圖 案剝離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 目視觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦 無觀察到異物。 實施例28 將實施例]4所得之含染料的負型光阻組成物(1 4使 用0·2μπι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行100°C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形成 0.9 5 μπι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 65nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行130°C 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 -66- (63) (63)1360722 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行1501: 5分鐘的後加熱(p0st bake),形成
Blue負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μιη且無圖 案剝離下形成。矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 目視觀察時並無觀察到異物。又,光學顯微鏡下觀察時亦 無觀察到異物。 比較例5 將比較例1所得之含染料的負型光阻組成物(丨5 )使 用0 · 2 μ m的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行1 0 0 °C 1分鐘的燒烤(s 〇 ft b ake ),形成 1 . 0 4 μ m膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由c an η ο η製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以3 6 5 nm的照射量照射 300mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行i3〇°C I分鐘的 pEB。其後’於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150°C 5分鐘的後加熱(post bake),形成Red 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μιη且無圖案剝 離下形成。然而矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 目視觀察時觀察到50個以上之異物。又,光學顯微鏡下 觀察時亦觀察到2〜3 μιη大的異物。 比較例6 -67- (64) (64)1360722 將比較例2所得之含染料的負型光阻組成物(1 6 )使 用0.2μΐΏ的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行100°C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形成 Ι.ΟΟμηι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置P L A - 5 0 1 ( F )以3 6 5 nm的照射量照射 3 00mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行13(TC 1分鐘的 P E B。其後,於2 3 °C N M D - 3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行1 50 °C 5分鐘的後加熱(post bake ),形成 Green負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μιη且無 圖案剝離下形成。然而矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行 鈉燈下目視觀察時觀察到5 0個以上之異物。又,光學顯 微鏡下觀察時亦觀察到2〜4μπι大的異物。 比較例7 將比較例4所得之含染料的負型光阻組成物(1 7 )使 用0.2μηι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行1 00 °C 1分鐘的燒烤(soft bake ),形成 0·94μπι膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 (F)以365nm的照射量照射 3 0 0mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行13(TC 1分鐘的 PEB。其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 -68- (65) (65)1360722 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150 °C 5分鐘的後加熱(post bake),形成 Blue負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μχη且無圖 案剝離下形成。然而矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉 燈下目視觀察時觀察到5 0個以上之異物。又,光學顯微 鏡下觀察時亦觀察到2〜4μιη大的異物。 比較例8 將比較例5所得之含染料的負型光阻組成物(1 8 )使 用0.2 μπι的濾器進行過濾,於經洗淨的試料瓶中室溫下放 置2天。其後使用轉動塗佈法將組成物塗佈於矽晶圓上, 於熱板上進行 100 °C 1分鐘的燒烤(soft bake),形成 0.99#m膜厚的塗膜。該塗膜通過測試罩後藉由cannon製 紫外光照射裝置PLA-501 ( F )以 3 65nm的照射量照射 3 00mJ/cm2的紫外光。繼續於熱板上進行130°C 1分鐘的 PEB❶其後,於23°C NMD-3顯像液(東京應化製)中經 一定時間浸漬後顯像,再以流動純水進行洗淨。其後於熱 板上進行150 °C 5分鐘的後加熱(post bake),形成Blue 負型的圖案。圖案的解像度的線/空間至2μηι且無圖案剝 離下形成。然而矽晶圓上所形成的圖案塗膜上進行鈉燈下 目視觀察時顴察到50個以上之異物。又,光學顯微鏡下 觀察時亦觀察到2〜4μιη大的異物。 [產業上可利用性] -69- 1360722 (ββ) . ;; ^ : ·· 本案發明係關於經熱或光照射後的交聯、聚合或解聚 合而形成之含有染料之負型光阻組成物或正型光阻組成 物,其中因含有較佳爲石-羥基酮,特佳爲4-羥基-4-甲 基-2-戊酮之乙酮醇系溶劑,可提高染料溶解性及染料與 樹脂的相溶性,進而確保所定染料濃.度。其結果,可製造 出可表現所定分光光譜之彩色濾色片’使用這些彩色濾色 片可製造出固體攝像元件、液晶顯示元件及發光二極體顯 示元件。且因含有4-羥基-4-甲基-2-戊酮’可抑制保存光 阻組成物時的異物產生。
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Claims (1)

1360722 第093122732號專利申請案中文申請專利範圍修正本 民國100年8月19 日修正 十、申請專利範圍 1·一種含有染料的光阻組成物,其特徵爲選自含有樹 脂(a-Ι )、光酸產生劑或光鹼產生劑(b-丨)、交聯性化 合物(c-1)、染料(d)、及乙酮醇系溶劑(e)者; 含有樹脂(a-2 )、光自由基產生劑(b-2 )、交聯性 化合物(c-2)、染料(d)及乙酮醇系溶劑(e);及 含有樹脂(a-3 )、光酸產生劑(b-3 )、交聯性化合 物(c-3)、染料(d)及乙酮醇系溶劑(e)所成群者。 2. 如申請專利範圍第1項之光阻組成物,其中乙酮醇 系溶劑爲含有對全體溶劑而言至少1重量%之乙酮醇。 3. 如申請專利範圍第1項之光阻組成物,其中乙酮醇 爲yS -羥基酮。 4 ·如申請專利範圍第1項之光阻組成物,其中乙酮醇 爲4-羥基-4-甲基-2-戊酮。 5. —種彩色濾色片的製造方法,其特徵爲含有將申請 專利範圍第1項之光阻組成物塗佈、乾燥、曝光於基板上 後,顯像的步驟。 6. —種彩色濾色片,其特徵爲由申請專利範圍第5項 之方法所製造。 7. —種固體攝像元件,其特徵爲具有如申請專利範圍 第5項之方法所製造出的彩色濾色片。 8. —種液晶顯示元件’其特徵爲具有如申請專利範圍 1360722 第5項之方法所製造出的彩色濾色片。 9. 一種發光二極管顯示元件,其特徵爲具有如申請專 利範圍第5項之方法所製造出的彩色濾色片。
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Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7776504B2 (en) * 2004-02-23 2010-08-17 Nissan Chemical Industries, Ltd. Dye-containing resist composition and color filter using same
JP4679959B2 (ja) * 2005-05-11 2011-05-11 富士フイルム株式会社 ネガ型着色剤含有硬化性組成物、並びに、カラーフィルタおよびその製造方法
DE102005026454A1 (de) * 2005-06-09 2006-12-14 Dystar Textilfarben Gmbh & Co. Deutschland Kg Mischungen roter Küpenfarbstoffe, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zum Färben von Hydroxygruppen-haltigem Material
US7972761B2 (en) * 2006-08-04 2011-07-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Photoresist materials and photolithography process
US7654637B2 (en) * 2005-09-30 2010-02-02 Lexmark International, Inc Photoimageable nozzle members and methods relating thereto
US7571979B2 (en) * 2005-09-30 2009-08-11 Lexmark International, Inc. Thick film layers and methods relating thereto
WO2007113107A1 (en) * 2006-03-30 2007-10-11 Ciba Holding Inc. Photosensitive resist composition for color filters for use in electronic paper display devices
CN101416112B (zh) * 2006-03-30 2013-09-04 西巴控股有限公司 电子纸显示器中的滤色片所用的光敏抗蚀剂组合物
EP2125960B1 (en) * 2007-02-23 2011-01-26 Basf Se Transparent colourants and colourant compositions, and their use
CN101784957B (zh) * 2007-08-30 2012-07-04 三井化学株式会社 负型感光性材料及电路基板
TWI406159B (zh) * 2009-05-13 2013-08-21 Chimei Innolux Corp 觸控式面板及觸控式顯示裝置
CN102884479B (zh) * 2010-05-04 2015-04-15 株式会社Lg化学 负性光致抗蚀剂组合物和器件的图案化方法
KR101355070B1 (ko) 2010-12-29 2014-01-24 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
US20140045966A1 (en) * 2011-03-07 2014-02-13 Shihei Motofuji Photosensitive composition. cured article, and method for producing actinically cured article
TWI435176B (zh) * 2011-06-22 2014-04-21 Chi Mei Corp 正型感光性樹脂組成物及使用該組成物形成圖案的方法
KR101515429B1 (ko) 2011-11-11 2015-04-27 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101413072B1 (ko) 2011-12-22 2014-07-09 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101574089B1 (ko) 2011-12-23 2015-12-03 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101413075B1 (ko) 2011-12-26 2014-06-30 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
TWI468860B (zh) * 2012-08-14 2015-01-11 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物及其應用
KR101556280B1 (ko) 2012-12-07 2015-09-30 제일모직 주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR20140076320A (ko) 2012-12-12 2014-06-20 제일모직주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 블랙 스페이서
KR20140083615A (ko) 2012-12-26 2014-07-04 제일모직주식회사 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
US10011672B2 (en) * 2013-05-16 2018-07-03 Samsung Sdi Co., Ltd. Photosensitive resin composition for color filter and color filter using the same
KR101750462B1 (ko) 2014-05-12 2017-06-23 제일모직 주식회사 신규한 화합물, 신규한 혼합물, 감광성 수지 조성물, 및 컬러 필터
KR101819656B1 (ko) 2014-05-13 2018-01-17 제일모직 주식회사 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR101837563B1 (ko) 2015-06-23 2018-03-12 삼성에스디아이 주식회사 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물, 및 컬러필터
KR101816232B1 (ko) 2015-10-16 2018-01-08 삼성에스디아이 주식회사 신규한 화합물, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR102020917B1 (ko) 2016-08-17 2019-09-11 삼성에스디아이 주식회사 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR102087260B1 (ko) 2016-09-26 2020-03-10 삼성에스디아이 주식회사 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
KR102087259B1 (ko) 2016-09-28 2020-03-10 삼성에스디아이 주식회사 신규한 화합물, 코어-쉘 염료, 이를 포함하는 감광성 수지 조성물 및 컬러필터
JP2018189738A (ja) * 2017-04-28 2018-11-29 メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツングMerck Patent GmbH ポジ型感光性シロキサン組成物、およびそれを用いて形成した硬化膜
KR102061244B1 (ko) 2017-05-17 2019-12-31 삼성에스디아이 주식회사 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62169163A (ja) 1986-01-22 1987-07-25 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版の製造方法
JP3004044B2 (ja) 1990-10-29 2000-01-31 東洋合成工業株式会社 感光性着色樹脂組成物
JPH0651514A (ja) 1992-07-28 1994-02-25 Sumitomo Chem Co Ltd ネガ型レジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルターの製造方法
KR100256392B1 (ko) * 1996-09-30 2000-05-15 겐지 아이다 칼라필터용 감광성 수지 착색 조성물 및 이로부터 형성된 칼라필터 및 그 제조방법
US6165676A (en) 1997-04-22 2000-12-26 Konica Corporation Light sensitive composition, image forming material and image forming material manufacturing method
JP3771714B2 (ja) 1998-05-12 2006-04-26 互応化学工業株式会社 感光性樹脂組成物及びプリント配線板製造用フォトソルダーレジストインク
JP3463866B2 (ja) * 1999-09-24 2003-11-05 富士電機株式会社 蛍光色変換膜、それを用いた蛍光色変換フィルターおよび該蛍光色変換フィルターを具備した有機発光素子
JP2002014470A (ja) 2000-06-28 2002-01-18 Fuji Photo Film Co Ltd 電子線又はx線用ネガ型レジスト組成物
JP2002049149A (ja) 2000-08-01 2002-02-15 Fuji Photo Film Co Ltd 電子線又はx線用ネガ型レジスト組成物
CN1171960C (zh) * 2001-08-17 2004-10-20 精碟科技股份有限公司 扩散板用的扩散膜
US20030215736A1 (en) 2002-01-09 2003-11-20 Oberlander Joseph E. Negative-working photoimageable bottom antireflective coating
JP2003215800A (ja) * 2002-01-24 2003-07-30 Kodak Polychrome Graphics Japan Ltd 感光性組成物および感光性平版印刷版
JP4374996B2 (ja) 2002-12-02 2009-12-02 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物

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