TWI358390B - Method for making microfluidic devices and devices - Google Patents

Description

1358390 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發W綱於製紐流縣置之方法錢 製造出之產物。 【先前技術】

本發明所揭示的微流體裝置是包含流體通道或舱室的 裝置，-般財至少-個而通妓更乡較在次公羞到公 i之間的範圍。部份是因為其特別低的總處理流體量，和 特別高的表面體積比，微流體裝置在實施上實施上為困難 的，危險的或甚至不太可能的化學反應含處理時是很有用 的，而且是以安全，有效的，和不汙染環境的方式處理，流量 大約是100 ml/minute或更高的流量。 微流體裝置是由各種材料製成，包括金屬，陶瓷，石夕和 聚合物。這些材料所面臨的缺點有很多。 例如，聚合物製成的裝置通常無法承受超過2〇〇。〇到 300 C的溫度一段期間。更且，很難有效去控制這種結構内 的表面狀態。 ^

石夕裝置通常較為昂貴，而且無法和某些化學性或生物 性流體相容。更者，矽的半導體特性在使用某些泵運技術 時會產生問題，譬如電流體動力抽運和電滲透果運。更且 在形成石夕微流體裝置所使用的光微影技術會自然產生小的 通道(通常小於100/zm)。运種小的溝道有很高的反壓很難 達到生產的總量需求。 金屬製成的裝置很容易腐蝕通常無法和某些化學性或 生物性流體相容。 因而在很多方面最好有玻璃製的微流體結構，或至少 有以玻璃襯裏的反應溝道。 玻璃製的微流體裝置可藉由化學性或物理性钱刻而得 到。可彳吏用蝕刻在玻璃基板上產生凹溝，此凹溝可以玻璃 第 5 頁 1358390 覆蓋密封。然而，這種技術並不是全然令人滿意的。均向 性的化，蝕刻並不能得到顯著的寬高比而物理性姓刻則 由於其咼成本和限制的生產量而很難實施。為了封閉開放 式的凹溝，最常用來附加或封蓋的技;I标是離子附著。然而， 這種技術很昂貴，而且到目前為止因其對灰塵很敏感也很 難^施。而且，每層的表面必須是非常平的以提供:高品質 的岔封。由結構化固結玻璃料形成的微流體裝置界定出在 兩個或以上^板之間的凹處或通道，已經在本發明發明人 和/或其相關人員先前的工作中開發，範例說明於美x國第67 69444 號專利，其發明名稱為"Microfiuidic j)evice an(j

Manufacture Thereof'以及其相關專利或專利出版物。 其中說明的方法包括各種步驟像是提供第一基板，提供第 二基板，在第一基板的正面形成第一玻璃料結構，在第二基 ’的正面形？第二玻璃料結構然後朝向彼此一起固結:匕 第一基板和第二絲和第一以及第二玻璃料結構以在第一 和第二基板之間形成一個或以上固結玻璃料界定出的凹處 或通道。在這種型態的裝置中，因為固結玻璃料界定出流 體通道，這種通道可以固結玻璃料的玻璃或陶 襯裏，即使使用的是非玻璃基板。 喝符抖 另一種製造玻璃微流體裝置的方式是關於在暫時性美 板表面上玻璃的汽相沉積塑型成一個負模來生 & 例如國際第W0 03/_58號公告專利中所說明的。藉= ni目沉積絲_成玻猶，赠侧方式從麵上移曰除 暫時性勤反。汽相沉積和蝕刻方式是相當緩慢 會影響環境的處理過程。 ’ 梦番人f/或其相關人員已經開發一種形成微流體 裝置的方法，真空形成-薄片玻璃，產纽璃反面 f結構’然後藉著和-個或以上其它真空形成或扁玻 璃片融合_合，如顯國第懸纖聽號公告專利 第6 頁 是可以ϋ I ίϋ的方法在說明目的上是有用的，但最好 銳的凹^如9；^技= 更細緻更複雜的結構，包括尖 【發明t】 更多種溝道形狀和大小。 ^發明說明生產微流體裝置的方法。其中描述 著震置的優點有部份將在敘述中說明，或者也可以藉 申^^ίΪί雛而學得1下描述的優點將可藉^ 【實施方^^現和達成。 一些名詞在底下 界定伽崎删中， 整個說明書，除非另有說％人們了解所謂" 明特徵鱗徵步驟或群組，但是並不排除包括任 可〃他特徵或步驟或群組特徵或步驟。 除非ί^ί及申請專利範圍中所使用單數形式

Hi，包含多數含意。因而所提及"玻_料"包含 兩種或多種該材料,等等。 一在一項中，製造含玻璃微流體裝置的方法包括:提供第 :片具有圖案化模造表®堅硬，非黏‘1·生的材料;提供第-數 置玻璃組成份;以圖案化模造表面接觸第一數量含玻璃組 成份;在圖案化模造表面和第二表面之間緊壓第一數量含 玻璃組成份;一起加熱這片堅硬非黏性的材料和第一數量 3玻璃，成份以軟化該數量含玻璃組成份，使得圖案化模 造，面複，在第一數量含玻璃組成份，第一數量含玻璃組 成份形成第一成型的含玻璃的製品;密封第一成型的含玻 璃製品至少-赌喊生具有鈔—個流體通道的微流體 裝置。 其中使用的含玻璃材料是任何在加熱時會轉變成黏性 材料的含料。含_辦何歧㈣機形式，包 1358390 ^ 破璃材料也可以是薄片的形式 數方ί米到數十平方公尺，薄片的厚度從 ㈣ίιίΐϊ料可包括玻璃玻璃料和填充料。可藉由緊 。^ 和填充料，以玻璃料形式準備複合材料 合娜_紐補，可以本發明 成，或其他結·接使用作為含 二it材料°這可保證玻璃片在整張片中具有-致 充材°其中細某蝴玻璃料和填 = 料是任何在加熱時會轉變成黏性材料的玻璃材料 使用各種?料。在某方面，玻璃'料包括祕和 :一種，、他的驗性氧化物，驗土氧化物，過渡金屬氧 ，非金屬氧化物(譬如礬土或磷氧化物)，或其组合。在 方面，玻璃料包括鹼性矽酸鹽，鹼土矽酸鹽，或其組合。 用來作為玻璃料的範例材料包括雜制性是领石夕酸趟 絡哪δ夕酸鹽，或納蝴石夕酸鹽。 見’ 再說明填充料，填紐對_料❿言最好是近乎 全是惰性的以保持填充料的熱和機械性質。當填料二 璃玻璃料而言是近乎或完全是惰性晚填充料在填充料/玻 基質之内沒有或只有極小的反應，使得沒有泡珠，新相 形成，裂隙和任何其他和固結作用干擾的過程。在這些條 件下，就可能產生有極小孔隙率的複合材料。 一” 填充料也最好是無孔隙的，或有極小的孔隙並擁有低 表面區域。就像一般使用在此項技術上的有機化合物，在 燒結期間填充料並不會燃燒殆盡。在熱處理過象填充 可以保持缺，軟化或甚至。在某方面，填充料的軟化 頁 第 1358390 點或熔點大於玻璃料的。根據填充料的選擇，填充料可以 形成一種氧化物，促使其混合到最後的複合材料/ 填充料餅增加複合材料的平;t句熱_ 填，料你平均鱗性大於等於2W/m/K，大於等於3w/m/K大 於$4W/01/K，或大於等於5W/m/K。其中有用的填充料^ 非限制性是碳化石夕，氮化銘，碳化爛氮化佩漠化 ，田銘、，.工柱>5,結，銀，金，紙鶴，碳，石夕，鐵 任何組合。 ，作，如，戎，、 填充料的量可能依據所選的玻璃料型態和所需的 而定。在某方面，填充料的量是大於等於5%複合材 。在另-方面，填充料的量是從15%到_複合材料 的置。 就用來製造模造的材料來看，除了模造材料相對於玻 璃的CTE/Y_g模數之外，還要考慮模造的孔隙率和化 疋性。就孔隙率來看，模造最好擁有某種程度的孔隙率以。 使熱處理期間產生的氣體可以藉多孔模造逸出炫化玻璃， ^會陷入在玻璃内。在某方面，模造有大於5%開放的孔 隙率，也就是說大於模造量的5%是開放的。在另一方 造有至少10%的孔隙率。 ’、 f選擇模造材料時的另一種考量是在提升的溫度下， 尤”是將玻璃片轉換成熔化玻璃的溫度，模造應該是化學 ffH。其中所脚化學鋪定"―詞是指將模造材料 界疋為杈造材料由惰性材料轉換成可和熔化玻璃交互作用 的材料時之阻力。·，當氮化_，氮_可以在大 於700 C的溫度下轉換成氧化硼。氧化硼可以和玻璃進行 化學性父互伽產钱著械造的麟。目此，依據本發 明的某方面，可以使用氮化蝴，但不是最佳的選擇。x 模造材料最好是包含碳，而且最好是和含玻璃材料〇15： 匹配的夕孔性&，譬如纟Garbone Loiraine :等級2450 第9 頁

「 h. f㈤1118 1737或類似的玻璃，或譬如由poco 姑衣造等級从5的石墨用於類似熱膨脹係數.土 附使用。2450PT石墨在300〇c時有25χ1〇-7/<5(：的CTE >==隙率水準約1〇%。奶石墨在30(TC時有72.3X10-7 / C的CTE，和類似的開放孔隙率。 • = CNC蝴的技術’超高速鑽石切削，放電切削，或這 都可以用來製造狀的模造表面。模造表面的設計 =據所需的特性而改變。如同在以下詳細討論的，其中 允許使用高寬比的模造表面(高/寬大於3)，絕 ’度韻微米驗公釐。簡高度和高寬比並不限定在 早:的值’而是從模造表面的某個區到另一區而有所改變 。杈型表面可哺有各料同三度蝴(3_凹面結構（ 冓道，孔穴)和凸面結構(例如牆，柱)，這在微流體裝置 疋很理想的。更且，9〇度的脫模肖度和模造的凹面或凸 面結構是可行的，其相關情形將在以下更詳細說明。 現在請參考圖1所說明生產成型含玻璃製品的實施範 ，。在這個例子中，第-數量含玻璃組成份是以薄片2的形 式置放在堅硬非黏性材料的第一片3的圖案化模造表面14 和包含堅硬雜性材料的第二片！的扁平上表面的第二表 果含玻璃組成份是以薄片2的形式，通常薄片 2 =好疋有咼度的平面性。圖案化表面14和第二表面a可 以是由相同或不同的材料所構成。在某方面，圖案化表面 14包含碳，氮化硼陶竞，或其組合。在另一方面，當圖案化 ，面14和第二表面12是由相同材料所構成時，此材料是 琅好是多孔性的碳，譬如由Carbone製造等級， 2450PT的石墨，或譬如由p〇c〇 Graphite製造等級網的石 墨。 一也可以選擇使用脫模劑。可以依需要施用脫模劑在第 二表面12,含玻璃組成份2,和圖案化表面14。脫模劑的數 第10 頁 13583,90 看，贿化賴姑面14可_—倾以上表面 巧區域或舰31，錄品5丨财完斜，細第二片的第 4所示。在這個範例中區域或特徵31是以和圖 面14的周邊分開的區域的形式和表面14的大部分 ^中的垂直神有足_雜使其在熱處理0 S玻=成份2,並在成型的製品51中產生通孔16，如圖5 域31的形狀可以是任何形狀，譬如®形或長方形 二在熱處理觸’通⑽形成侧了成魏品511的 =可能是很昂貴的，而且會傷害或破壞製品。當形成完， 晚第-片3也有另-個區域接觸第二結構的第二表面^ 圖案化表面14周邊的區域32,並選擇性地圍繞第 _ 案化第二表面14作為圖案化表面14的另一項選擇性$ 。這種圍繞触面_可赠為玻姻器，以 寺徵 ，玻璃流止回器也有助 於在處理期間確保玻璃均勻的厚度和均質性。 如圖3所示，片3的表面14上的多個凸面區域33 禮璃組成份内產生成型的槪。請參相4，在加熱時 含玻璃組成份轉換成軟化或黏性狀態，這時區域31和區域 33會滲透含玻璃组成份。圖5顯示的 — 開的成型製品5卜 之衣面14移 堆疊系統10或20的熱處理溫度和期間，可以在 參數之間做變化，包括非限制性之含玻璃組成份的黏产1 面14的寬高比，和表面14的複雜度。製造玻璃模造 型的技術會限制於較短的加鱗間以避免溶化玻璃黏於、 表面。這導致簡單槪表面的形成。其巾所描述的方為 處理期間可避免炫化玻璃黏著於模造表面。因此，較 加熱時間在其中所描述的方法是可行的，這使得軟含 玻璃組成份滲透複雜模造表面的每個開口。最後會致3 複雜成型的含玻璃製品的形成。因此，堆疊系統可以加熱 第12頁 1358390 更ΐ，比典型的加熱形成技術有更大 的I，圍。在加熱步驟之後，堆疊系統可以慢慢冷 100C，而且最好一直冷卻到室溫。其中所指述的方法不口 匕的含玻璃組成份黏著於模造表面，其中所描述的、 方法還可以慢慢冷卻含玻璃組成份以及模造表面，而不會 讓玻璃絲(即黏著)順造表面。藉由慢速冷卻可以避

内的裂隙形成，使得第―片3和 再次使用。更者，因為圖案化表面 ^並不會黏者到成型的製口5 51，因此用手就可以從成型的 衣品移除圖案化表面14,❿不必用到此技術中平常使用的 侧技巧。這在整體生產成本和整個成型製品的品 有非常正面的影響。 如上舰，其巾職述的紐允許生產具複雜和細緻 特徵的成型含玻璃製品。例如，模造表面擁有可滲透含玻 璃成分到大於1GG_深度以及大於1GQ/Zra寬度的多個區域 。在另一方面，深度可以從1〇〇//111到1〇麵，寬度可以從議 ，到10 mm。在另一方面，模造表面的寬高比大於3，寬高 比是指表面14(圖中的垂直方向）區域或特徵的高度比區域 或特徵的寬度。請參考圖5,脫模角度52在某實驗中是1〇5 度。剛好90度的脫模角度，由於含玻璃組成份黏著於模造 表面，使用先前已知的技術通常是不可行的。但因為其中 所描述的方法避免含玻璃組成份以及模造表面之間的黏著 ，因此可使用接近90度的脫模角度。更進一步，高寬高比加 上接近90度的脫模角度也是可行的。又因為軟化的含玻璃 組成份不會黏著在模造表面，也可以使用較長的加熱時間， 如此會造成增加的高寬高比和接近9〇度的脫模角度，這在 譬如微流體裝置的某些應用上是令人喜愛的。 雖然圖1中第二片1的第二表面12是平面的但第二表 面也可以是圖案化表面。請參考圖6,含玻璃組成份6〇插在 第13 頁 和61的第m^在34方面，第一和第二結構62 面θ和12都是圖案化的，但互相在凸 巧域的數罝和大小是不同卻 生成型的含破璃製品吼製品的每-面有模造 ί L在 ，兩個或以上的第—或第^可置放 ίίίί分的相同表面，這些片包含同樣或不同的圖案 料產:=7广，成型的含玻璃製品70已經由四個第二片 型圖案71和73是相同的，而產生的成型圖案 和玻璃組成份特定量的橫向程度， # 一片接一片在含玻璃組成份的表面上， 並且讓產生的堆豐進行熱處理。 、^上描述的技術也可以用在同時製造多佩即兩個或 含玻璃製品。請參考圖8,數量含破璃組成份 =3 85 87和89像三曰月治夹心一樣放在片8〇和片82, 84， ^88和90之間。在這個例子中，片82,84, 86和88每片都有 化麵。耻，可以從—個堆餘贼生多個成 的3玻璃製品。如圖8所示，在熱處理並移除成型製品之 1>太生五個成型製品91，93,95,97,99。有可能在短時間 内產生报多成型製品。雖然結構82,84, 86和88 都有相 同的兩個圖案化表面，但細認為具有兩伽上不同表面 ，結構也可輯麵來，眺_時產生乡解_成型 製品。 辟其中所描述的方法所生產的成型含玻璃製品,在生產 s如微型反應益的微流體裝置上是很有用的。藉著密封成 型，t的至少一部份以建立至少一個流體通道，可以從成 型^σσ形成微型反應器。藉由堆疊多個具有共面結構的成 型製品’可用或不要用譬如玻璃料的密封促進劑，然後在空 第丨4 頁 丄咖3,90 ί中ft溫度下密封堆疊結構，就可以達到某種密封方 度和時暇娜觀成難品所使用的材料 口之門二―丄加熱的時間要夠久，以保證制固接觸成型製 :之間疋元全的密封。在微型反應器的例子 統㈣出，並且轉微瓶應内部壓力為& if ΐ。因為成型製品的兩面可能是結構化的，結構化到 、，丨關的程度，此方法盡量減少了製造玻璃微流體裝置 所需的玻璃元件健，尤其是具有多層的玻

f其他扣，最好細加賴含玻贼蝴不是玻璃 丄上。例如，密封到高熱導性基板的成型含玻璃片可 ii善所產生微型反應器的熱傳輸。在某方面，基板使用的- 2_^彡__德將要成獅含玻雜雜的熱膨 X係氣可耐得住處理溫度。其中可用的勒反範例包括非 馨灿麵力材料。依冑纟發 法’使用高熱導性基板，可增加所形成微流體裝置的埶效能 。在本發明的這方面，第二表面12包含級100的表面，含 玻璃組成份會在其上形成，如圖14的橫截面所示。然後加 熱步驟會很有效的附加或連結含玻璃組成份到基板的表面 。圖13就是以此種方式，讓含坡璃成分2形成在矽晶片ι〇〇 上的透視圖照片產生包含玻璃和基板100材料，在這個例子 是石夕的成型製品。 請參考圖15,含玻璃組成份緊壓的第二表面12可進一 步包含置放在堅硬非黏性材料的第二片1或基板1〇〇上的一 個或以上f造插件102,103的一個或以上的表面。插件也 T以放在第一片3的圖案化表面用來合併到所產生的成型 含玻璃製品51如圖16所示。 試驗： 圖案化(模造)表面的製造 第15 頁 ^58390 圖案化表面的製造例如圖9顯示的，可藉著CNC切削一 片石墨塊而達到(使用的等級包括法國Gennevi丨丨iers的

Carbone Lorraine公司的C25和2450PT，以及美國德州 Dec^ur 的 P〇co Graphite 公司的 AF5)。C25 在 30(TC時有 33 xlO /C的熱膨脹係數，和約1〇%的開放孔隙率水準，允許氣 體在處理姻可逸出玻璃，避免氣觸形成。圖9的圖案化 表面14的設計是使用在微型反應器的代表性結構。其中模 造上的特徵高度是從100/zm到1. 5 _，寬度是從到7麵 。請參考圖9,模造包括-個盤曲結構(高度=1咖寬度=4麵 )，對應混合區的多部份結構，和一些具各種寬高比的柱形 結構，和一些同心圓結構。 模造玻璃片之配製： 請參考圖1，堅硬雜性材料的第一# 3具有第一圖案 化表面14如圖9所示，以B〇rofi〇at玻璃片的型式置放 成份2上。玻璃片下面是由第二片i的第支 f ΐ成的金屬重量形式置放在第一片3的頂端以增 14在加熱期間，特徵或區域渗透到含玻璃組 東西的重量和直徑是h啦和100咖。 Ϊίίΐ一項特別的價值是不需要很大的壓力，重力和 就可以提供很不錯的結果。尤其是，模造表面 ιί 之間的壓力最好是小於100kPa，更好是小於 ，豐元件10載入供爐中，並在氮氣 敎 爐内的空氣移除:以 π 〇Ji; / ‘ 丁糟上述長式形成的kof loat成型玻璃片（-開始 第16 頁 1358390 任何玻璃的破裂。 實施第二個測試，直接在礬土基板上形成玻璃片。提 供礬土^(161χ131χ1麵)和玻璃片（165x135x2. 25_)和 - 圖案化核造表面上述的材料成分。仔細沖洗和清潔緣土基 和玻璃片。 土 以圖案朝上的方式置放圖案化或模造表面，接著是玻 璃片形式的含玻璃組成份，然後堆疊攀土基板，再接著是石 墨塊和5公斤的重量。為避免空氣跑進去玻璃和礬土基板 之間，^20宅巴的真空下實施加熱，直到達到1〇25〇c數值。 φ 然後以氮氣再力σ壓供爐，直到加熱循環階段結束。 冷卻後，將堆疊分開。在分解期間，沒有遇到任何特別 =困難。所有圖案特徵完全被複製(溝痕深度約450-470微 米）。礬土基板的背面是平的，這說明了因為殘餘壓力並沒 有引發任何翹曲或曲度，所以CTE和最終的大小不匹配相當 低。然而，在溝道以下(礬土之上)殘餘玻璃層的厚度是約 1· 8 _，大於較好的最佳熱交換能力。 第二個測試從類似條件下！麵厚的玻璃片開始，測得 溝道以下的殘餘玻璃層是7〇〇 # m。 第四個測試不用玻璃片，含玻璃組成份2在礬土基板 • 100上採取一層玻璃料和糊狀臘的形式，以扁平式模造技術 沈積’然後在空氣中以l〇〇〇°C預燒結1小時留下棚—620 厚的釉層。接著在這層上面堆疊圖案化表面，以公斤 的負載置於其上，然後在氮氣中以1〇25t：的溫度加熱堆疊 元件1小時。在此期間沒有使用真空。大部份的圖案特徵 都被元全複製，除了邊緣和孔隙上的一些缺陷，這說明了起 始層的厚麟該可狀哨和/歧H由填充玻璃 料形成，^雜，私m 土填充賴料，和結構化的馨 土基板都是目前以本發明的方法可形成的微流體裝置 實施範例。 第18 頁 1358390 【圖式簡單說明】 圖1顯示的是將包含玻璃組成份形成成型製品的堆蟲 系統。 圖2顯示經由運送帶，透過烘爐處理的多個堆疊系統。 圖3是顯示在開始力口熱處理之後放在第一和第二結構 的表面之間含玻璃組成份的橫截面圖。 圖4是顯示放在第一和第二結構之間含玻璃組成份的橫 截面圖，其中某一個結構的表面已渗透到組成份中。

圖5是顯示從模造表面和印模的脫模角度移除，成型的 含玻璃組成份的橫截面圖。 圖6是顯示放在兩個不同模造表面之間一數量含玻璃 組成份的橫截面圖，以印模在兩侧產生成型製品。 圖7是顯示玻璃片的每一面上，有四個印模表面的玻璃 片。 贿鄉轉之間多個 数里3玻竭組成伤所構成的堆疊系統。 形式卿紐石墨結構

孔ί生石墨結齡7所產生成型玻璃片的照片。 圖Π-12疋糟由將兩片成型玻璃片壓在一 人 裝屮置:照片，灰色溝道是裝置内開放的“ 片。圖13."I不出成型玻璃片觀製並融合成一梦晶片的照 成份位Ϊ模造表面與第二表面間以冓成玻璃組 g之斷議第—表面包含______ 成份之斷面Ϊ" ^位^造表面與第二表面間之構成玻璃組 表面或由堅硬非雜表 第19 頁 13583.90 多個模造插入物102,103位於表面12,14上或中。 圖16顯示出具有一個或多個插入物102,103包含其中 之成形物體51的斷面。 【主要元件符號說明】 第二片1;含玻璃組成份2;第一片3;負載4;堆疊系 統10;第二表面12;圖案化表面14;通孔16;堆疊系統 20;烘爐21;輸送帶22;區域31, 32, 33;玻璃製品51;缺 陷53;通道55;裝置57;含玻璃組成份60;第二片61;第 一片62;成型的含玻璃製品63, 70;成型圖案71，72, 73， 74;片狀物80,82,84,86,88, 90;數量含玻璃組成份81，83 ，85, 87, 89;成型製品 91，93, 95, 97, 99;基板 100;模造插 件 102,103。 第20 頁

Claims (1)

1. !35839〇

   十、申請專利範圍： 1· 一種形成含有玻璃微流體裝置的方法，該裝置具有至少 :·=·個流體通道通過其中，該方法包括： 提供第一片堅硬非黏性的材料，其具有圖案化模造表面； 提供第一數量玻璃組成份； 以圖案《莫造表面接觸第一數量含玻璃組成份； 在圖案似莫造表面和第二表面之間緊壓第一數量含玻璃 組成份； 一起加熱該片堅硬非黏性的材料和第一數量含玻璃組成 份以軟化該數量含玻璃組成份，使得圖案/fb^造表面複製 於第一數量含玻璃組成份中，第一數量含玻璃組成份开;成 第一成型的含玻璃的製品； 密封第一成型的含玻璃製品至少一部份以產生具有至少 一個流體通道的微流體裝置； 八 鉍il 片堅硬非黏性的材料*碳構成;以及第-片堅硬非黏性的 材枓由具有至少_放孔隙率之多孔性材料構成。 2.依據申請專利細第！項之方法其中第二表面由第二片 堅硬非黏性的材料表面構成。 申範圍第1項之方法，其中第二表面由魏表 份形成於該絲上，加熱步驟有效地將 a玻璃組成份黏附至基板表面。 2 其中第二表面更進 ，材料或紙以加入至最終4:璃物-體片 =據申請專利範圍第2.或3項之方法其中第二表面為平 6案!S申__第2或3項之方法，其中第二表面為圖 ?〇97ΪΘ695& 第21 頁 Ά月4日帅正替換頁 依據申請專利細第2或- 個之-個或多個模造插入物由」ϋ中紐或至少- :r::r入物由」種或“陶=二 9·依據申請專利範圍第2或3項 個之-個或夠模造插人物峰缺或至少一 10·依據申請專利範圍第2或3項之 ί由繼嶋曝硬細生的材 ==利範圍第2或3項之方法，其中含玻璃組成份包含-種 瓷所專利祕第2或3項之方法，其中含魏域份由玻璃陶 玻—玻 ^依射糊麵2 ° 成份之步驟包含提供片狀形式之含坡点=供第數里3玻璃、、且 16·，據中請專利範圍第2或3項之方法其;提供第一數量含玻璃组 料或固結破璃料層形式之含玻璃組成份。 ，組舰含提供為玻 第-數|含__储_鴻造表面之間的步驟。 頁 第22 -Γ 山園3S:3B班