TWI334965B - - Google Patents
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1334965 (1) ' 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 * 本發明係關於感光性樹脂組成物、感光性元件、光阻 ： 圖型之形成方法及印刷電路板之製造方法。 【先前技術】 在印刷配線板、電漿顯示面板用電路板、液晶顯示面 φ 板用電路板、大規模積體電路、薄型晶體三極管、半導體 , 封裝等之微細電子回路，一般而言係經由所謂的光微影術 形成光阻圖.型之步驟而製造。光微影術係例如依下述作法 於基板上形成導體圖型，首先在設置於基板上之感光層上 ，介著具有所定的圖型之光罩薄膜照射紫外線等之光進行 曝光，然後藉由曝光部與非曝光部之溶解度不同的顯影液 進行顯影後形成光阻圖型，接著藉由以此光阻圖型作爲光 罩使基板進行電鍍加工、蝕刻加工等，在基板上形成導體 φ 圖型。 特別是於印刷電路板、半導體封裝等的表面安裝技術 領域，正積極進行使電子回路的電路更高密度化之技術開 發，所以要求以1〇μιη以下尺寸形成構成電路的導體圖 型，因此，對於光微影術所使用的感光性樹脂組成物，要 求10/zm以下尺寸的解析度。 此外，對於感光性組成物則要求更高感度化。伴隨著 電路的高密度化，會有因爲電源線的電阻而電壓降低之問 題顯著化的傾向。相對於此問題，藉由使光阻圖型的膜厚 -5- (2) (2)1334965 變厚，使構成電路的導體層厚至l〇ym左右以上爲有效 的作法，爲了以高生產性形成膜厚爲厚的光阻圖型，而要 求感光性樹脂更高感度化。 另一方面，作爲光阻圖型之形成方法，不使用光罩圖 型而直接繪圖光阻圖型之所謂的直接繪圖曝光法受到注目 ，認爲依據此直接繪圖曝光法，可形成高生產性且高解析 度之光阻圖型。於是，近年漸漸可實際使用振盪出波長 405nm雷射光，壽命長且高輸出率的氮化鎵系藍色雷射光 源可作爲光源，期望於直接繪圖曝光法中使用如此的短波 長的雷射光，可形成對於先前技術而言製造困難的高密度 的光阻圖型，作爲如此的直接繪圖曝光法，由Ball S emiconductor公司提案使用Texas Instruments公司所提 唱的 DLP( Digital Light Processing，數位光學處理）系 統之方法，而適用於此方法之曝光裝置己開始實用化。 而且，意圖藉由使用如上述的藍色雷射等之雷射作爲 活性光線之直接繪圖曝光法來形成光阻圖型之感光性樹月旨 組成物，目前爲止亦有幾個提案（參考例如專利文獻！、 2 ) » 專利文獻1 :日本特開2002-296764號公報 專利文獻2 :日本特開2004-45596號公報 【發明內容】 [發明所欲解決之課題] 但是，先前技術的感光性樹脂組成物，藉由直接繪圖 -Q - (3)1334965 曝光法形成高密度的光阻圖型時，由感度與解析度之觀點 而言並不夠充足。 因此，本發明的目的係提供能以充足的感度及解析度 進行藉由直接繪圖曝光法形成光阻圖型之感光性樹脂組成 物、使用其感光性元件、光阻圖型之形成法及印刷電路板 之製造方法。 [解決課題之方法] 本發明爲解決上述之課題’提供含有（A)黏合劑聚 合物、（B)具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化合物、及 (C1)下述—般式（1)所表示之化合物之感光性樹脂組 成物。 [化1]
在此，式（1)中，R係至少1個表示碳數1〜10的 或碳數1〜12的院基，a、b及c的總和爲1〜6 ’而a、b及c的總和爲2〜6時，同一分子中的複數的各 個R可相同或相異。 本發明的感光性樹脂組成物，因爲組合如上述的特定 成份而構成，故能以充足的感度及解析度進行藉由直接繪 圖曝光形成光阻圖型。藉由使用如上述（C1)成份之具有 (4) 1334965 特定的取代基的吡唑啉衍生物之光聚合起始劑。 . 此外’本發明的感光性樹脂組成物的上述（C1)成份 中’ a、b及c各自地表示〇〜2的整數爲佳。 本發明的感光性樹脂組成物，其（A ) ^份係含有以 來自丙烯酸及/或甲基丙烯酸之單體單元、與來自丙烯酸 的烷基酯及/或甲基丙烯酸的烷基酯之單體單元作爲構成 單元之丙烯酸系聚合物爲佳，藉此，更提高鹼顯影性及光 • 照射後的光阻剝離性。 本發明的感光性樹脂組成物，除了上述成份，更含有 作爲（C2 )成份之2,4,5 _三芳基咪唑二聚物或其衍生物 / 爲佳，此（C2)成份與（C1)成份同樣具有作爲光聚合 起始劑的功能，藉由倂用（C 1 )成份與（C2 )成份作爲 光聚合起始劑，產生更提高感度及解析度之相乘效果，同 時亦可提高對於基板的密合性。 本發明的感光性樹脂組成物，係相對於（A )成份及 ® (B)成份的總量1〇〇質量份，（B)成份的摻合量爲20 〜80質量份、（C1)成份的摻合量爲0.001〜5.0質量份 較佳。 此外，於上述一般式（1)所表示的化合物中，R表 示碳數碳數1〜10的烷氧基、或碳數1〜3的烷基時，此 R爲甲氧基及/或異丙基較佳，而a、b及c的總和爲1〜 2較佳。 再者，於上述一般式（1)所表示的化合物中，R表 示碳數4〜12的烷基時，此R可爲1種以上選自由n- 丁 -8- 1334965
基' tert— 丁基、tert—辛基及十二烷I 吡唑啉衍生物具有該相關的取代基時， 具有確實且充足的感度及解析度。 本發明的感光性樹脂組成物，係 350nm以上且未達440nm的波長範圍 形成光阻圖型較佳，被使用於曝光於 未達41 Onm的波長範圍內具有波峰之 更佳。藉由使用在3 50nm以上且未達 內具有波峰之光作爲活性光線之直接繪 形成高密度的光阻圖型。本發明的感光 於藉由如此特定波長的光形成光阻圖型 此處，「具有波峰」係意味著在所 強度顯示出極大値。 此本發明的感光性樹脂組成物，（ 收波長爲3 70nm以上且未達420nm較 長」係意味著吸光度達到最高之波長。 的感光性樹脂組成物中所含有的成份， 直接繪圖曝光法的感光性樹脂組成物之 加光聚合起始劑的添加量，以增大全波 在390nm以上且未達440nm的波長範 亦增大其吸光度而確保感度之方法。 4，4’ -雙（二乙胺基）二苯甲酮作爲起 組成物，其最大吸收波長爲 365nm 390nm以上且未達440nm的波長範圍 :所成之群的烷基， 感光性樹脂組成物 被使用於曝光於在 內具有波峰之光後 又在 390nm以上且 光後形成光阻圖型 440nm的波長範圍 圖曝光法，可輕易 性樹脂組成物，對 而言特別有幫助。 定的波長範圍內光 C 1 )成份的最大吸 佳，「最大吸收波 作爲使用先前技術 而得到適用於上述 方法，有單純地增 長的吸光度，對於 圍內具有波峰之光 但先前技術之含有 始劑之感光性樹脂 附近，因此，在 內具有波峰之光， (6) (6)1334965 係位於感光性樹脂組成物的吸光度的波峰（最大吸收波長 :3 65 nm )的波腳部，故如果照射的光的波長偏差數nm 左右，則其感度變動極大，另一方面，直接繪圖曝光法等 所使用的雷射光，具有某程度的波長分佈，照射時的波長 具有數nm左右的振動幅度，由上述可知，僅單純的增加 光聚合起始劑的添加量，會有降低感度穩定性的傾向。 另一方面，上述本發明的感光性樹脂組成物，以在 3 5 0nm以上且未達440nm的波長範圍內具有波峰之光進 行曝光時，藉由使（C1)成份的最大吸收波長爲37 Onm 以上且未達420nm，即使所吸收的光的波長偏差數nm左 右，其感度的變動亦充分地被抑制，因此，對於照射光的 波長的數nm左右的偏差，亦可更優異的應對》 此外，（C1)成份的取大吸收波長未達3 7 0nm，則對 於在3 90nm以上且未達440nm的波長範圍內具有波峰之 光（例如405nm的雷射光），會有感度降低的傾向，最 大吸收波長爲420nm以上，則會有在黃光環境下穩定性 降低的傾向. 本發明係提共具備載體、設置於該載體上之由上述本 發明的感光性樹脂組成物所形成的感光層之感光性元件「 此感光性元件係藉由具備上述本發明的感光性樹脂組成物 作爲感光層，而能以充足的感度及解析度進行藉由直接繪 圖曝光法形成光阻圖型。所以，此感光性元件可適用於具 有高密度的電路圖型之印刷電路板的製造等。 本發明提供光阻圖型之形成方法，其具備於基板上形 -10- (7) 1334965 成由上述感光性樹脂組成物所成的感光層之感光層形成步 . 驟、及使感光層的所定部份曝光於在3 5 0nm以上且未達 _ 440nm的波長範圍內具有波峰之光之曝光步驟、及使經曝 光的感光層顯影後形成光阻圖型之顯影步驟。此外，本發 明提供印刷電路板之製造方法，其係具備上述步驟以外， 再加上以所形成的光阻圖型爲基礎，於該基板上形成導體 圖型之導體圖型形成步驟。 Φ 本發明的光阻圖型之形成方法，較佳係具備於基板上 形成由上述感光性樹脂組成物所成的感光層之感光層形成 步驟、及使感光層的所定部份曝光於在35 Onm以上且未 達440nm的波長範圍內具有波峰之光之曝光步驟、及使 經曝光的感光層顯影後形成光阻圖型之顯影步驟。此外， 本發明提供印刷電路板之製造方法，其係具備上述步驟以 外，再加上以所形成的光阻圖型爲基礎，於該基板上形成 導體圖型之導體圖型形成步驟。 ® 依據上述光阻圖型之形成方法及印刷電路板之製造方 法，可藉由使用本發明的感光性樹脂組成物，以高生產性 在基板上形成高密度的光阻圖型或導體圖型。 [發明效果] 依據本發明，提供能以充足的感度及解析度進行藉由 直接繪圖曝光法形成光阻圖型之感光性樹脂組成物、使用 其之感光性元件、光阻圖型之形成方法、印刷電路板之製 造方法。 -11 - (8) (8)1334965 [實施發明之最佳型態] 以下，必要時參考圖式，詳細說明關於本發明的較適 合的實施型態。再者，圖式中同一要素附上同一符號，省 略重複說明。此外，上下左右等的位置關係，在沒有特別 的限制下’係基於圖式中所表示的位置關係，而且圖式的 尺寸比率並非拘限於圖示的比率者。此外，本說明書中「 (甲基）丙烯酸」係意味「丙烯酸」及與其對應的「甲基 丙烯酸」’ 「（甲基）丙烯酸酯」係意味「丙烯酸酯」_及 與其對應的「甲基丙烯酸酯」，「（甲基）丙烯醯基」係 意味「丙烯醯基」及與其對應的「甲基丙烯醯基」。 本實施型態的感光性樹脂組成物，係含有（A )黏合 劑聚合物、（B)具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化合物 '及（C1)上述一般式（1)所表示之吡唑啉衍生物者。 作爲（A)成份之黏合劑聚合物，只要是可均均的溶 解或分散樹脂組成物中的其他成份之高分子即可，並沒有 特別的限制。作爲（A )成份，可列舉例如丙烯酸系樹脂 、苯乙烯系樹脂、環氧系樹脂、醯胺樹脂、醯胺環氧系樹 脂、醇酸系樹脂、苯酚系樹脂等。此等可單獨或組合2種 以上作爲（A)成份使用，此等中由鹼顯像性優異的觀點 ’以及光照射後的光阻的剝離性優異的觀點而言，（a) 成份中含有丙燏酸系樹脂較佳。此外，此丙烯酸系聚合物 係具有以來自丙烯酸及/或甲基丙烯酸之單體單元、與來 自丙烯酸的烷基酯及/或甲基丙烯#的烷基酯之單體單元 -12- (9) (9)1334965 兩者作爲構成單元較佳，此處，「丙烯酸系聚合物」係意 味主要含有來自具有（甲基）丙烯酸基之聚合性單體的單 體單元之聚合物。 上述丙烯酸系聚合物，係藉由使具有（甲基）丙稀酸 基之聚合性單體進行自由基聚合等而製造，作爲具有（甲 基）丙烯酸基之聚合性單體，可列舉例如丙烯醯胺、丙烧 腈、丙烯醯胺’丙烯腈、（甲基）丙烯酸烷基酯、（甲基 )丙烯酸四氫糠基酯、（甲基）丙烯酸二甲基胺基乙醋、 (甲基）丙烯酸二乙基胺基乙酯' (甲基）丙烯酸環氧丙 酯、2,2,2_三氟乙基（甲基）丙烯酸酯、2,2,3,3 —四氟 丙基（甲基）丙儲酸醋、（甲基）丙烯酸、〇： -溴（甲基 )丙烯酸、β —氯（甲基）丙烯酸、点―呋喃基（甲基） 丙烯酸、/3 -苯乙烯基（甲基）丙烯酸等，此等可單獨或 組合2種以上作爲聚合性單體使用。再者，此等中作爲（ 甲基）丙稀酸院基醋，可列舉（甲基）丙嫌酸甲醋、（甲 基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丙酯、（甲基）丙烯酸 丁酯、（甲基）丙烯酸戊酯、（甲基）丙烯酸己酯、（甲 基）丙烯酸庚酯、（甲基）丙烯酸辛酯、（甲基）丙條酸 2 —乙基己醋及此等的結構異構物等，此等聚合性單體可 使用單獨1種或組合2種以上使用。 此外，丙烯酸系聚合物除了如上述之具（甲基）丙稀 酸基之聚合性單體之外，亦可共聚1種或2種以之苯乙燒 、乙烧甲苯、α —甲基苯乙燒、ρ 一甲基苯乙燒及ρ_乙 基苯乙烯等可聚合的苯乙烯衍生物，乙烯一 η-丁基酸等 -13- (10) 1334965 之乙烯醇的酯類，馬來酸、馬來酸酐、馬來酸單甲酯、馬 . 來酸單乙酯及馬來酸單異丙酯等之馬來酸單酯，富馬酸、 - 肉桂酸 α 氯基肉桂酸、衣康酸、巴見酸、丙块酸等聚 合性單體。 黏合劑聚合物’爲了成爲鹼顯影性特別優異者，以具 有羧基較佳’作爲具有羧基之黏合劑聚合物，可列舉例如 上述的丙烯酸系聚合物’含有具有羧基之聚合性單體（較 ® 佳爲甲基丙烯酸）作爲單體單元者。 在此’黏合劑聚合物具有羧基時，其酸價以30〜 200mgKOH/g爲佳，以45〜150mgKOH/g更佳；酸價未達 30mgKOH/g時’會有顯像時間變長的傾向，超過 200mgKOH/g時’則會有曝光後光硬化的感光層的耐顯像 液性降低之傾向。 此外’由密合性及剝離特性皆優異者的觀點而言，黏 合劑聚合物係含有苯乙烯或苯乙烯衍生物作爲聚合性單體 ® 較佳。黏合劑聚合物係以其全體量爲基準，苯乙烯或苯乙 烯衍生物之含量以3〜30質量％爲佳，含有4〜28質量％ 較佳，含有5〜27質量％更佳》此含量未達3質量％時， 會有密合性劣化之傾向，超過30質量％時，會有剝離片 變大、剝離時間變長之傾向。含有苯乙烯或苯乙烯衍生物 作爲單體單元之黏合劑聚合物，係如上述的丙烯酸系聚合 物，其具有（^基）丙酸基/之聚合性單體，同時共聚苯 乙烯或苯乙烯衍生物者爲佳 。 而且，必要時黏合劑聚合物亦可具有乙烯性不飽和鍵 -14- (11) 1334965 等之感光性基。 • 黏合劑聚合物係分散度（質量平均分子量/數 子量）爲〗〇〜3.0較佳’ 1.〇〜2.0爲更佳，分散 3.0則會有黏著性及解析度降低的傾向，此處，本 態中之質量平均分子量及數平均分子量，係藉由凝 色譜法測量，以標準聚苯乙烯作爲標準試料所換算 〇 Φ 黏合劑聚合物的質量平均分子量（使用凝膠滲 法測量（GPC )所測量的標準聚苯乙烯換算値） 5000〜300000爲佳，以4000〜150000較佳，以 〜80000更佳。此量平均分子量未達5000時，會 像液性降低之傾向，超過300000時，會有顯影時 的傾向。 黏合劑聚合物係聚合物單獨1種或組合2種以 合物所構成，組合2種以上的聚合物時，可列舉例 ® 成份互爲不同的2種以上的共聚物、質量平均分子 不同的2種以上的聚合物、分散度不同的2種以上 物等之組合。此外，日本特開平H-3 27 1 37號公報 可使用具有多模態分子量分佈之聚合物作爲黏合劑 〇 (A)成份的黏合劑聚合物的感光性樹脂組成 摻合比例，係相對於（A )成份與後述的（B )成 計量100質量份’以20〜80質量份爲佳’ 30〜70 較佳，40〜60質量份更佳。此摻合比例未達2〇重 平均分 度超過 實施型 膠滲透 之數値 透色譜 ，係以 45000 有耐顯 間變長 上的聚 如共聚 量互爲 的聚合 記載之 聚合物 物中之 份的合 質量份 量份， -15- (12) 1334965 與摻合比例位於上述範圍內者比較，則令由感光性樹脂組 . 成物所成的感光性樹脂組成物層曝光後硬化的部份易變脆 . ’作爲感光性元件使用時會有塗膜性劣化的傾向，摻合比 例超過8 0質量份，與摻合比例位於上述範圍內者比較， 會有光感度變不足的傾向。 作爲（B)成份之具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化 合物，具有1個以上的乙烯性不飽和鍵者即可，特別佳爲 • 組合具有1個乙烯性不飽和鍵之單官能性的光聚合性化合 物、與具有2個以上的乙烯性不飽和鍵之多官能性之光聚 合性化合物作爲（B )成份。 作爲（B)成份之具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化 合物，只要可光聚合即可，並沒有特別的限制，可列舉例 如（甲基）丙烯酸酯基等之—不飽和羰基。具有作 爲乙烯性不飽和鍵之α，/3 _不飽和羰基之光聚合性化合 物’可列舉例如多元醇的a，y3 -不飽和羧酸酯、含有雙 ® 酚A骨架之（甲基）丙烯酸酯化合物、含有環氧丙基之 化合物的—不飽和羧酸加成物、含有尿烷鍵之（甲 基）丙烯酸酯化合物、壬基苯氧基聚乙烯氧基丙烯酸酯、 含有苯二甲酸骨架之（甲基）丙烯酸酯化合物、（甲基） 丙烯酸烷基酯等，此等可單獨使用1種或組合2種以上使 用。此等中又以耐電鍍性、密合性的觀點而言，以含有雙 酚A骨架之（甲基）丙烯酸酯化合物及含有尿烷鍵之（ 甲基）丙烯酸酯化合物爲佳，特別佳爲含有雙酚A骨架 之（甲基）丙稀酸酯化合物。 -16- (13) (13)1334965 作爲多價醇中以α，/3 -不飽和羧酸酯，可列舉例如 乙烯基數爲2〜14之聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、丙烯 基數爲2〜14之聚丙二醇二（甲基）丙烯酸酯、乙烯基數 爲2〜Η且丙烯數爲2〜14之聚乙烯•聚丙二醇二（甲基 )丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二（甲基）丙烯酸酯、三羥甲 基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、Ε0改性三羥甲基丙烷三（ 甲基）丙烯酸酯、Ρ0改性三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯 酸酯、ΕΟ，ΡΟ改性三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、 四羥甲基甲烷三（甲基）丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四（甲 基）丙烯酸酯、二季戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二季戊 四醇六（甲基）丙烯酸酯等，此等可使用單獨1種或組合 2種以上使用。再者，上述化合物名稱中，「Ε0改性」 係意味著具有環氧乙烷的嵌段結構者，「Ρ0改性」係意 味具有環氧丙烷的嵌段結構者。 作爲含有雙酚Α骨架之（甲基）丙烯酸酯化合物， 只要是含有雙酚骨架（自雙酚A的2個酚性羥基去除氫 原子之結構），而且具有甲基丙烯酸酯基及丙烯酸酯基中 的至少一方者之化合物即可，並沒有特別的限制。具體而 言’可列舉2,2 —雙（4—((甲基）丙烯氧基聚乙氧基） 苯基）丙烷、2，2-雙（4—((甲基）丙烯氧基聚丙氧基 )苯基）丙烷、2，2 —雙（4一（（甲基）丙烯氧基聚丁氧 基）苯基）丙烷' 2,2—雙（4_ ((甲基）丙烯氧基聚乙 氧基聚丙氧基）苯基）丙烷等。 2，2_雙（4一（（甲基）丙烯氧基聚乙氧基）苯基） (14) 1334965 丙垸’係環氧乙院基之數爲4〜20個較佳，8·'15個更佳 • 。具體而曰，作爲2,2_雙（4~ ((甲基）丙燒氧基聚乙 . 氧基）苯基）丙烷’可列舉2,2-雙（4一（（甲基）丙燃 氧基二乙氧基）苯基）丙烷、2,2 —雙（4-((甲基）丙 烯氧基三乙氧基）苯基）丙烷、2，2—雙（4—((甲基） 丙烧氧基四乙氧基）苯基）丙院、2，2_雙（4一（（甲基 )丙烯氧基五乙氧基）苯基）丙院、2,2_雙（4_ ((甲 • 基）丙烯氧基六乙氧基）苯基）丙烷、2，2 —雙（4一（（ 甲基）丙烯氧基七乙氧基）苯基）丙烷、2,2一雙（4_ ( (甲基）丙烧氧基八乙氧基）苯基）丙院、2,2 —雙（4_ ((甲基）丙烧氧基九乙氧基）苯基）丙院、2，2—雙（4 —((甲基）丙嫌氧基十乙氧基）苯基）丙烷、2,2-雙 (4一（（甲基）丙烯氧基十一乙氧基）苯基）丙烷、2，2 一雙（4一（（甲基）丙烯氧基十二乙氧基）苯基）丙烷 、2,2 —雙（4—((甲基）丙烯氧基十三乙氧基）苯基） •丙烷、2,2 —雙（4_ ((甲基）丙烯氧基十四乙氧基）苯 基）丙烷、2,2_雙（4一（（甲基）丙烯氧基十五乙氧基 )苯基）丙烷、2,2 —雙（4_ ((甲基）丙烯氧基十六乙 氧基）苯基）丙烷等。 上述化合物中，2，2 —雙（4一（甲基丙烯氧基五乙氧 基）苯基）丙烷，係可由商業上取得BPE-500 (新中村化 學工業股份有限公司製，商品名）；此外，2，2—雙（4 — (甲基丙烯氧基十五乙氧基）苯基）丙烷，係可由商業上 取得BPE- 1 3 00 (新中村化學工業（股）製，商品名）。 -18- (15) 1334965 作爲含有尿烷鍵之（甲基）丙烯酸酯化合物，可 例如位上具有0H之（甲基）丙烯酸基單體與二異 酯化合物（異氟爾酮二異氰酸酯、2,6—甲苯二異氰 、2,4_甲苯二異氰酸酯、1，6 —六伸甲基二異氰酸酯 之加成反應物、及參（（甲基）丙烯氧基四乙二醇異 酯）六伸甲基三聚異氰酸酯、E0改性尿烷二（甲基 烯酸酯、EO，PO改性尿烷二（甲基）丙烯酸酯等。 E0改性尿烷二（甲基）丙烯酸酯的市售品，可列舉 「UA-11」（新中村化學工業（股）製，商品名）， 作爲ΕΟ,ΡΟ改性尿烷二（甲基）丙烯酸酯的市售 可列舉例如「UA-1 3」（新中村化學工業（股）製， 名），此等可單獨使用或組合2種以上使用。 作爲壬基苯氧基聚乙烯氧基丙烯酸酯，可列舉例 基苯氧基四乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基五乙烯氧 焼酸醋、壬基苯氧基六乙稀氧基丙燃酸醋、壬基苯氧 乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基八乙烯氧基丙烯酸酯 基苯氧基九乙烯氧基丙烯酸酯、壬基苯氧基十乙烯氧 烯酸酯及壬基苯氧基十一乙烯氧基丙烯酸酯，此等可 使用或組合2種以上使用。 作爲上述含有苯二甲酸骨架之（甲基）丙烯酸酯 物，只要是含有苯二甲酸骨架（自苯二甲酸的2個羧 除氫原子之結構），而且具有甲基丙烯酸酯基及丙烯 基中的至少一方者之化合物即可，並沒有特別的限制 體而言，可列舉例如r —氯~ /3 -羥基丙基_ /3, 一 列舉 氰酸 酸酯 等） 氰酸 )丙 作爲 例如 此外 品， 商品 如壬 基丙 基七 、壬 基丙 單獨 化合 基去 酸酯 。具 (甲 -19- (16) (16)1334965 基）丙烯醯氧基乙基—〇—苯二甲酸酯、沒一羥基烷基-/5’一 （甲基）丙烯醯氧基烷基一 〇-苯二甲酸酯等。 (B)成份之具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化合物 的摻合比例，係相對於（A )成份與後述的（B )成份的 合計量100質量份，以20〜80質量份爲佳，30〜70質量 份較佳，40〜60質量份更佳。此摻合比例未達20重量份 ，與摻合比例位於上述範圍內者比較，會有光感度變不足 的傾向，摻合比例超過80質量份，與摻合比例位於上述 範圍內者比較，會有光硬化部變脆的傾向。 (C1)成份之吡唑啉衍生物，只要是上述一般式（1 )所表示者即可，並沒有特別的限制，式（1 )中，R係 至少1個表示碳數1〜10的烷氧基、或碳數1〜12的烷基 ，a、b及c的總和爲1〜6，a、b及c的總和爲2〜6時， 而同一分子中的複數的各個R可相同或相異。 於（C1)成份之R可爲直鏈狀或支鏈狀，R可列舉例 如甲氧基、異丙基、η — 丁基、tert — 丁基、tert—辛基、 十二烷基，此等並沒有特別的限制。此外，一般式（1 ) 中的a、b及c的總和爲1〜6較佳，1〜4更佳，1或2特 別佳。 (C1)成份中，由更提高感度及溶解性之觀點而言， R爲表示碳數1〜10的烷氧基或碳數1〜3的烷基之吡唑 啉衍生物較佳，此外，由合成的容易度及提高感度之觀點 而言，特別佳爲1 一苯基_3—（4一甲氧基苯乙烯基）一 5 —（4 一甲氧基苯基）-吡唑啉，由合成的容易度及更提 -20- (17) (17)1334965 高溶解度之觀點而言，特別佳爲1 一苯基-3 -（4_異丙 基苯乙烯基）_5_ (4_異丙基苯基）一吡唑啉。 此外，（C1)成份的最大吸收波長，由使用本發明的 感光性樹脂組成物進行直接繪圖法時可更確實的獲得光感 度及解析度之觀點而言，3 70nm以上且未達420ηπι較佳 ，3 80nm以上且未達400nm更佳。 作爲（C1 )成份之吡唑啉衍生物的具體例，可列舉1 _ (4 一甲氧基苯基）一3 —苯乙烯基一5 -苯基一吡唑啉 、1 一苯基—3 — （4 一甲氧基苯乙烯基）—5- (4 —甲氧 基苯基）_吡唑啉、1，5_雙—（4 —甲氧基苯基）一 3_ (4 —甲氧基苯乙烯基）_吡唑啉、1 一（4 -異丙基苯基 )一 3 —苯乙烯基一5 —苯基一吡唑啉、1—苯基一3 —（4 —異丙基苯乙烯基）—5— (4 -異丙基苯基）一吡唑啉、 1,5—雙—（4 一異丙基苯基）_3—（4 一異丙基苯乙烯基 )_吡唑啉、1一 （4 一甲氧基苯基）—3— (4 — tert — 丁 基一苯乙烯基）—5— (4 — tert_ 丁基—苯基）_吡唑啉 、1_ (4 一 tert — 丁基一苯基）一 3— （4 —甲氧基苯乙烯 基）一5- (4 —甲氧基苯基）_吡唑啉、1— (4 一異丙基 一苯基）—3— (4—tert— 丁 基—苯乙烯基）一5— (4 — tert 一 丁基—苯基）一卩ϋ哩琳、1 一（4 一 tert _ 丁基—本基 )—3— (4 -異丙基—苯乙烯基）—5_ (4—異丙基—苯 基）一吡唑啉' 1一（4 一甲氧基苯基）-3— (4_異丙基 苯乙烯基）—5— (4 —異丙基苯基）_吡唑啉、1— (4_ 異丙基一苯基）一 3_ (4—甲氧基苯乙烯基）_5—（4 — -21 - (18) 1334965 甲氧基苯基）—吡唑啉、1 一苯基一3_ (3,5—二 苯乙烯基）-5- (3,5 —二甲氧基苯基）一吡唑财 苯基—3— (3,4_二甲氧基苯乙烯基）—5— (3,4 氧基苯基）-吡唑啉、1_苯基—3— (2,6_二甲 乙烯基）一 5— (2,6_二甲氧基苯基）-吡唑啉、 基一 3_ (2,5 —二甲氧基苯乙稀基）—5— (2,5 — 基苯基）一吡唑啉、1_苯基_3_ (2,3 —二甲氧 烯基）_5_(2,3-二甲氧基苯基）_吡唑啉、1 _3— （2,4_二甲氧基苯乙烯基）一5_ (2,4一二 苯基）一吡唑啉、1— (4_甲氧基苯基）_3 —（3 甲氧基苯乙烯基）—5- (3,5_二甲氧基苯基）一 、1_(4_甲氧基苯基）_3_(3,4-二甲氧基苯 )—5— (3,4_二甲氧基苯基）_吡唑啉、1- (4 基苯基）一3_ (2,6_二甲氧基苯乙烯基）_5_ 二甲氧基苯基）一吡唑啉、1 一 （4 —甲氧基苯基） (2,5——甲氧基苯乙稀基）一 5_ (2,5_ __甲氧 )_吡唑啉、1_ (4_甲氧基苯基）—3_ (2,3_ 基苯乙烯基）一5_ (2,3_二甲氧基苯基）—吡吗 —(4 —甲氧基苯基）_3_ (2,4_二甲氧基苯乙 一 5_ (2,4_二甲氧基苯基）一吡唑啉、1_ (4_ 丁基一苯基）一3_ (3,5 —二甲氧基苯乙烯基）一 3,5—二甲氧基苯基）一吡唑啉、1_ (4— tert- 丁 基）一3— (3,4—二甲氧基苯乙烯基）一5_ (3,4 氧基苯基）_吡唑啉、1一（4-tert — 丁基—苯基） 甲氧基 本、1 — -二甲 氧基苯 1 -苯 二甲氧 基苯乙 一苯基 甲氧基 丨，5 -二 吡唑啉 乙烯基 —甲氧 (2,6--3 -基苯基 二甲氧 ¥啉、1 燃基） tert — 5 -( 基-苯 -二甲 -22- (19) 1334965 (2,6 —二甲氧基苯乙烯基）_5_ (2,6_二甲 . )一耻哗琳、1一（4— tert — 丁基一苯基）_3 二甲氧基苯乙烯基）_5— (2,5 —二甲氧基苯基 琳、1 — (4 _ tert 一 丁 基 _ 苯基）一 3 _ ( 2,3 _ 苯乙烯基）—5 - （2,3—二甲氧基苯基）一毗巧 (4 一 tert — 丁基一苯基）—3— (2,4 —二甲氧基 )—5—（2,4_二甲氧基苯基）一吡唑啉、1_ # 基一苯基）-3- (3,5 -二甲氧基苯乙烯基）一 -二甲氧基苯基）一吡唑啉、1一（4 -異丙基-3 — （3,4—二甲氧基苯乙烯基）一5— (3,4—二 基）一吡唑啉、1一（4_異丙基—苯基）—3_ 甲氧基苯乙烯基）一5- (2,6_二甲氧基苯基） 、1— (4_異丙基一苯基）—3— (2,5 —二甲氧 基）一5-(2,5-二甲氧基苯基）_吡唑啉、1-丙基一苯基）一 3 — （2,3_二甲氧基苯乙烯基） Φ 2,3 —二甲氧基苯基）一吡唑啉、1— (4_異丙 )一3_ (2,4_二甲氧基苯乙燃基）一5— (2,4 基苯基）一卩]t哩琳、1 一（4— tert_ 丁基—苯基） 乙烯基—5—苯基—吡唑啉、1_苯基_3—（4-基一苯乙燃基）_5_ (4— tert _ 丁基_苯基） ' 1 ,5 —雙 一（4 _ tert _ 丁 基 _ 苯基）_ 3 _ ( 4 -基—苯乙烯基）_吡唑啉、1_ (4— tert —辛基 一 3 —苯乙烧基—5 -苯基一卩仕哩琳、1_苯基_ tert —辛基—苯乙燒基）—5— (4_tert —辛基一 氧基苯基 -(2,5 - )一吡唑 二甲氧基 爸琳、1 — 苯乙烯基 (4 _異丙 5 - ( 3,5 苯基）一 甲氧基苯 (2,6 -二 -吡唑啉 基苯乙烯 -(4 -異 -5-( 基-苯基 _二甲氧 —3 —苯 -tert — 丁 -吡唑啉 -tert — 丁 一苯基） 3 — (4 — 苯基）一 -23- (20)1334965 吡唑啉、1，5-雙—（4 一 tert —辛基—苯基）_3_ (4 — tert—辛基—苯乙烯基）一吡唑啉' 1 一（4_十二烷基-苯基）_3—苯乙烯基一 5_苯基一吡唑啉、1_苯基一 3 — (4 一十一院基一苯乙嫌基）—5_ (4_十二院基一苯基 )—吡唑啉、1_ (4 一十二烷基一苯基）—3_ (4_十二 烷基一苯乙烯基）—5_ (4_十二烷基_苯基）一吡唑啉 、1一（4— tert —辛基一苯基）一 3— (4 — tert — 丁 基一苯
乙烯基）_5_ (4-tert — 丁基一苯基）_吡唑啉、1_ ( 4— tert—丁基一苯基）一3— (4— tert—辛基一苯乙烯基 )_ 5 — ( 4 — tert —辛基—苯基）—吡唑啉、1_ (4 —十 二烷基—苯基）—3— (4-tert- 丁基—苯乙烯基）一5-
(4一161^_丁基_苯基）_吡唑啉、1_(4_161^_丁基 —苯基）—3—（4_十二烷基一苯乙烯基）—5_ (4_十 二烷基一苯基）一吡唑啉、1 一（4一十二烷基_苯基）一 3— (4— tert-辛基—苯乙烯基）一5_ (4— tert—辛基-苯基）—吡唑啉、1 一（4-tert_辛基—苯基）_3—（4 一十二烷基一苯乙烯基）一5_ (4 —十二烷基一苯基）_ 口比哩琳、(2,4 — 一 一 η — 丁基—苯基）—3— (4_ 十 二烷基一苯乙烯基）一5— (4_十二烷基—苯基）-吡唑 琳、1 一苯基—3— (3,5_ — — tert — 丁基一苯乙燃基）_ 5— (3，5 —二一 tert — 丁基一苯基）一吡唑啉' 1-苯基— 3— (2,6— 二一 tert— 丁 基-苯乙烯基）—5 — （2,6_ 二 — tert — 丁基一苯基）_卩比哩琳、1 一苯基_3_ (2,5_二 — tert— 丁 基-苯乙烯基）_5 -（2,5—二一 tert— 丁基一 -24- (21) 1334965 苯基）_卩比哗琳、1 一苯基一 3 -（2,6_二一 n_ 丁基 乙烯基）—5-（2,6—二一 η—丁基—苯基）一吡唑明 —(3,4~二—tert — 丁基一苯基）—苯乙燒基—5 基一吡唑啉、1- (3,5 —二一 tert - 丁基—苯基）—3 乙烯基一 5 —苯基一吡唑啉、1— (4— tert — 丁基—苯 —3— (3,5— 二一tert— 丁 基—苯乙烧基）—5—(] 二—tert— 丁基—苯基）一吡唑啉及1 一（3,5—二-—丁基一苯基）一3— (3,5 —二一 tert — 丁基一苯乙 )_5 —（3,5_二—tert— 丁基一苯基）—卩比啤啉。 (C1)成份可使用單獨1種或組合2種以上使用 (C 1 )成份的接合比例’係相對於（A )成份與 的（B)成份的合計量質量份’以〇·001〜5.〇質 爲佳，0.05〜0.8質量份較佳，〇.〇1〜2.0質量份更 0-1〜0.5質量份特別佳，0.2〜0.40質量份爲極佳。 合比例超出上述範圍時，與摻合比例位於上述範圍內 較，則會有光感度變不足的傾向，摻合比例超過80 份，與摻合比例位於上述範圍內者比較，會有很難使 度及解析度兩者皆充足之傾向。 本發明相關的該（C1)成份的吡唑啉衍生物可用 的方法合成，此啦吨啉衍生物，可使用例如日本特 293 1 693號公報中所記載的合成方法或依據此之合成 獲得。例如首先將特定的苯甲醛及丙酮或特定的苯乙 合物，以習知的縮合方法’例如在水一醇類的混合溶 鹼性物質的存在下進行縮合；或者將特定的苯甲醛化 -苯 t ' 1 -苯 一苯 基） ，5 — tert 烯基 後述 量份 佳， 此摻 者比 質量 光感 習知 許第 方法 酮化 劑中 合物 -25- (22) (22)1334965 與特定的苯乙酮化合物，於有機溶劑中鹼性觸媒，例如哌 啶的存在下進行縮合；接著，將藉由此等縮合所得到的芳 基丙烯醯芳烴化合物、與特定的肼化合物，使用習知的方 法進行縮合，例如藉由使其於乙酸中或醇類中進行反應， 可得到本發明相關的吡唑啉衍生物。 此外，本發明相關的（C1)成份的毗唑啉衍生物可由 市售品取得，市售的（C1)成份，可取得1-苯基—3 -(4— tert — 丁基·-苯乙嫌基）—5- （4— tert — 丁 基—苯 基）一吡唑啉（（股）日本化學工業所製）。 本發明者等，認爲本實施型態的感光性樹脂組成物在 直接繪圖曝光法可達成充足的高感度及解析度的主要原因 之一，可列舉（C 1 )成份之吡唑啉衍生物與其他成份倂用 〇 本實施型態的感光性樹脂組成物，由密合性及感度的 觀點而言，除了（C1)成份之外，再含有（C2)成份的 2,4,5 -三芳基咪唑二聚物或其衍生物作爲光聚合起始劑 較佳’藉由使用上述（C2)成份，可使更高感度化及高解 析度化的效果奏效。 作爲2,4,5 -三芳基咪唑二聚物，可列舉例如2_ (〇 一氯代苯基）—4,5 -二苯基咪哩二聚物、2-（〇_氯代 苯基）一 4,5 —二（甲氧基苯基）咪啤二聚物、2— (〇 — 氟代苯基）—4,5_二苯基咪唑二聚物、2一 （〇 -甲氧基 苯基）一 4,5 —二苯基咪唑二聚物、2_ (p一甲氧基苯基 )—4,5 一二苯基咪唑二聚物等，此等可單獨1種或組合2 -26- (23) 1334965 種以上作爲（C2 )成份使用。 . (C2 )成份之2,4,5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物 的摻合比例，係相對於（A )成份與後述的（B )成份的 合計量1〇〇質量份，以0.1〜20質量份爲佳，0.5〜10質 量份較佳，1〜5質量份更佳，3〜5質量份特別佳。此摻 合比例低於〇. 1質量份時，會有很難藉由摻合（C2 )成份 而達到上述效果的傾向，超過2 0質量份時，則會有阻礙 # 其他成份所能達到的效果之傾向。 而且，除了（C1)及（C2)成份之外，必要時可在 感光性樹脂組成物中再添加香豆素衍生物，二苯甲酮， N，N’ -四甲基—4,4’ -二胺基二苯甲酮（米蚩酮）、N，N’ —四乙基一 4，4’-二胺基二苯甲酮等N，N，—四烷基-4,4’ —二胺基二苯甲酮，2_苄基一2-二甲基胺基—1_ (4 一 嗎啉代苯基）一丁酮一1，2 _甲基一 1 [4 _(甲基硫代）苯 基]一 2—嗎啉代一丙酮—1等之芳香族酮，烷基蒽醌等之 • 醌類，苯偶姻烷基醚等之苯偶姻醚化合物，苯偶姻、烷基 苯偶姻等之苯偶姻化合物，苄基二甲基酮縮醇等之苄基衍 生物、9 —苯基吖啶、1，7 _雙（9,9 一吖啶基）庚烷等之 吖啶衍生物，N -苯基甘氨酸，N苯基甘氨酸衍生物等之 光聚合起始劑。 本實施型態的感光性樹脂組成物，係除了上述各成份 之外，再含有無色結晶紫內酯較佳，藉此，本實施型態的 感光性樹脂組成物可均衡的提高光感度及解析度，無色結 晶紫內酯係具有作爲吸收光而發出特定顏色之光發色劑之 -27- (24) 1334965 性質，認爲此性質爲使上述效果奏效的原因。 . 由使此效果更有效地奏效之觀點而言，本實施型態的 感光性樹脂組成物中之無色結晶紫內酯的摻合比例，係相 對於（A)成份與後述的（B)成份的合計量100質量份 ，以0.01〜10質量份爲佳，0.05〜5質量份較佳。 本實施型態的感光性樹脂組成物中加入如以上所說明 的成份，必要時可含有相對於（A)成份與後述的（B) 9 成份的合計量1〇〇質量份而言爲〇.〇1〜20質量份左右之 孔雀綠等之染料、三溴苯基硒、無色結晶紫內酯以外的光 發色劑 '熱發色防止劑、P.—甲苯碾醯胺等之可塑劑、顏 料、塡充劑、消泡劑 '難燃劑、穩定劑、密合性賦予劑、 塗平劑、剝離促進劑、抗氧化劑、香料、顯影劑、熱交聯 劑等之其他添加劑。 本實施型態的感光性樹脂組成物，係可被使用於曝光 於在350nm以上且未達440nm(更佳爲335〜365nm或 ® 4〇5nm )的波長範圍內具有波峰之光後形成光阻圖型者爲 佳。 在3 50nm以上且未達440nm的波長範圍內具有波峰 之光，可爲習知的光源，可列舉碳極電弧燈、水銀蒸氣電 弧燈、高壓水銀燈、氙燈、Ar離子雷射及半導體雷射等 之可有效地放射紫外線或可見光者。 此外，作爲可有效地使用於後述的直接繪圖法之光源 ，可列舉振盪3 64nm的光之氬氣雷射、振盪3 5 5ηπι的光 之固體UV雷射、振盪4〇5nm的光之氮化鎵系藍色雷射等 -28- (25) 1334965 ，其中由較容易形成光阻圖型的觀點而言，較適合使用氮 # 化鎵系藍色雷射，又亦可使用日立Via Mechanics公司製 的「DE-1AH」（商品名）等之數位直接曝光機。 或者可使用高壓水銀燈等之水銀燈作爲光源之光中阻 隔9.5%以上的波長365nm以下的光之活性光線（例如h 線），用於阻隔波長365nm以下的光之濾光鏡，可列舉 SIGMA光機公司製的尖銳濾光鏡「SCF-100S-39L」（商 # 品名）、朝日分光公司製的分光濾光鏡「HG0405」（商 品名）等。 如經上述說明的感光性樹脂組成物，作爲液狀光阻塗 佈於銅、銅系合金、鐵、鐵系合金等之金屬面上乾燥後， 必要時被覆保護薄膜而使用，或是以下述的感光性元件型 態使用於光微影術。 圖1係表示本實施型態的感光性元件的一較佳實施型 態之模型截面圖’圖1中所示的感光性元件1係由載體 # 10、與設置於載體10上的感光層14所構成，感光層14 係由上述本實施型態的感光性樹脂組成物所成。 感光層1 4的厚度並沒有特別的限制，但以1〜丨〇 〇 左右爲佳，此外’與感光層14上的載體1〇的相反側 面F1上亦可被覆保護膜，作爲此保護薄膜，可列舉聚乙 烯、聚丙烯等之薄膜等。與感光層14的黏著力，小於載 體1〇與感光層Μ的黏著力者爲佳，此外以低魚眼的薄膜 爲佳。 作爲載體10，較佳爲可使用聚對苯二甲酸乙二醇酯 -29- (26) (26)1334965 、聚丙嫌、聚乙稀、聚醋等之薄膜，令其厚度爲1〜100 从m爲佳。 此外’感光性元件1中除了如上述的載體10、感光 層14及保護薄膜之外’亦可再設置緩衝層、黏著層、光 吸收層、阻氣層等之中間層及保護層。 感光性元件1，係在載體1 〇上塗佈感光性樹脂組成 物後，乾燥後形成感光層14而製得。塗佈可使用例如輥 軋塗佈、點塗佈（comma coater)、照相凹版塗佈、氣刀 刮塗、模具式塗佈、棒塗佈等習知的方法進行，此外，乾 燥可以70〜150 °C、5〜30分鐘左右進行。 於載體10上塗佈感光性樹脂組成物時，較佳係塗佈 必要時將感光性樹脂組成物溶解於甲醇、乙醇、丙酮、甲 基乙基酮、甲基溶纖素、乙基溶纖素、甲苯、n，n —二甲 基甲醯胺、丙二醇單甲基醚等之溶劑或此等的混合溶劑所 成之固體成份30〜60質量％左右的溶液，但是，此時爲 了防止後續步驟的有機溶劑的擴散，使乾燥後的感光層中 的殘留有機溶劑量成爲2質量％以下爲佳。 所得到的感光性元件1，可直接、或在感光層14上 再層合上述保護薄膜後，以圓筒狀的卷芯卷起來貯藏，再 者，卷起來時，使載體10位於外側下卷起來爲佳，卷芯 較佳可使用由聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、 聚氯乙烯樹脂、ABS樹脂（丙烯腈-丁二烯一苯乙烯共聚 物）等之塑膠所成者》 卷成圓筒狀之感光性元件卷筒的端面上，設置用於保 -30- (27) (27)1334965 護端面的端面分離器較佳，由耐邊緣溶解（EDGE FUSION )的觀點而言，設置防濕端面分離器較佳，此外 ，卷成圓筒狀之感光性元件，用透濕性小的黑色薄片包裝 起來後進行梱包較佳。 本實施型態的光阻圖型之形成方法，係具備於基板上 形成由上述本實施型態的感光性樹脂組成物所成的感光層 之感光層形成步驟、及使感光層的所定部份曝光於在所定 的波長內具有波峰之光之曝光步驟、及使經曝光的感光層 顯影後形成光阻圖型之顯影步驟。 更具體而言，本實施型態的光阻圖型之形成方法，係 具備於基板上形成由上述本實施型態的感光性樹脂組成物 所成的感光層之感光層形成步驟、及使感光層的所定部份 曝光於在350nm以上且未達440nm的波長範圍內具有波 峰之光之曝光步驟、及使經曝光的感光層顯影後形成光阻 圖型之顯影步驟。以下，說明關於此時的光阻圖型之形成 方法。 感光層形成步驟中，較佳可使用上述本實施型態的感 光性元件，使用感光性元件時，若感光性元件具有保護膜 時可將其去除後，一邊以70〜130 °C左右加熱感光層，一 邊在減壓下或常壓下，以0.1〜IMPa ( 1〜10kgf/cm2左右 )的壓力壓黏後層合於基板上，在基板上形成感光層。作 爲此基板，較佳可使用例如由玻璃纖維強化環氧樹脂等之 絕緣性材料所成的層的單面或雙面上設置銅箔之貼銅層合 板。 -31 - (28) 1334965 於曝光步聚，層合於基板上的感光層中，對於對應於 . 所希望的光阻圖型之所定部份，照射光（活性光線），曝 光係能以介著光罩圖型進行之光罩曝光法、及雷射直接繪 圖曝光法及DLP曝光法等之直接繪圖曝光法進行，但由 解析度等觀點而言，直接繪圖曝光法較佳。作爲上述活性 光線的光源，可使用習知的光源，例如碳極電弧燈、水銀 蒸氣電弧燈、高壓水銀燈、氙燈、Ar離子雷射及半導體 # 雷射等之可有效地放射紫外線或可見光者。 本實施型態由高感度及高解析度的觀點而言，較佳爲 .使用直接繪圖法，作爲直接繪圖法所使用的光源，較佳可 使用振擾364nm的光之氣氣雷射、振塗355nm的光之固 體UV雷射、振盪405nm的光之氮化鎵系藍色雷射等，其 中由較容易形成光阻圖型的觀點而言，較適合使用氮化鎵 系藍色雷射，又亦可使用日_立Via Mechanics公司製的「 DE-1 AH」（商品名）等之數位直接曝光機。 ® 採用直接繪圖法時’不需要使用爲了形成電路圖型所 用的光照圖（Phototool)，此外，光源爲振盪特定波長的 光之雷射時，亦不需要使用尖銳濾光鏡。 作爲上述光，可使用來自發出在3 5 Onm以上且未達 440nm的波長範圍內具有波峰的活性光線之光源的光，或 使用藉由經濾光器分光等而使波峰調整於上述波長範圍內 之光’關於其他光源的詳細內容，與說明感光性樹脂組成 物時所敍述的內容相同。 曝光後，在感光層上具有載體時將其去除後，藉由用 -32- (29) 1334965 鹼性水溶液、水系顯影液及有機溶劑等的顯影液的濕式顯 . 影、及乾式顯影將未曝光部份去除而顯影後，形成光阻圖 . 型，顯影的方式並沒有特別的限制，但可使用例如浸漬方 式、噴霧方式、刷洗方式、粗紡方式等之方法進行顯影。 作爲顯影所使用的鹼性水溶液，可列舉例如〇. 1〜5 質量％碳酸鈉水溶液、0.1〜5質量％碳酸鉀水溶液、0.1 〜5質量％氫氧化鈉水溶液等，此外，使鹼性水溶液的 • pH位於9〜11的範圍內較佳。其溫度可依感光層的溶解 性適當的調節，鹼性水溶液中可再加入表面活性劑、消泡 劑、有機溶劑等，再者，在顯影步驟後形成導體圖型前， 必要時可藉由60〜250 °C左右的加熱或0.2〜10J/cm2左右 的曝光，再使形成了光阻圖型的樹脂硬化。 本實施型態的印刷電路板之製造方法，以上述作法所 形成的光阻圖型爲基礎，經由於該基板上形成導體圖型之 導體圖型形成步驟，製造印刷電路板。導體圖型的形成， ^ 係以經顯影的光阻圖型作爲光罩，將未被掩蓋而露出的銅 箔部份，以蝕刻、電鍍等習知的方法進行處理，作爲進行 電鍍的方法，可列舉例如銅電鍍、焊接電鍍（SOLDER PLATED )、鎳電鍍、金電鍍等，此外，飽刻可使用例如 氯化銅溶液、氯化鐡溶液、鹼鈾刻溶液等進行。可藉由採 用此等方法，在光阻圖型的溝的部份（基板的露出部份） 選擇性的形成導體層後，形成導體圖.型。或者，與此相反 ，亦可在被顯影後殘留的感光層保護的部份選擇性的形成 導體層。 -33- (30) 1334965 藉由將蝕刻或電鍍之處理後形成光阻圖型的感光層， . 經由例如使用比顯影所使用的鹼性水溶液更強鹼性的水溶 液等進行剝離之步驟，而得到形成了所定的導體圖型的印 刷電路板，作爲強鹼性的水溶液，可使用例如1〜1 0質量 %氫氧化鈉水溶液、1〜10質量％氫氧化鉀水溶液等。作 爲剝離感光層之方法，可列舉例如浸漬方式、噴霧方式等 〇 • 採用如上述的製造方法，可適合製造具有小孔徑貫通 孔之多層印刷電路板等之印刷電路板。 以上’說明了關於本發明的較佳實施型態，但本發明 並非拘限於上述實施型態者。 【實施方式】 以下，藉由實施例更詳細說明本發明，但本發明並非 拘限於此等實施例之發明。 [實施例1〜7、比較例1、2] <調製感光性樹脂組成物溶液> 將表1所示的各原料、表2、3所示的（C1)成份、 表3所不的4，4’一雙（二乙胺基）二苯甲酮（表3以「 EAB」表示），依各表的摻合量均勻混合後，調製實施例 1〜7及比較例1' 2之感光性樹脂組成物的溶液β再者， 作爲（C1)成份，使用1—苯基—3— (4_甲氧基苯乙烯 基）—5-（4 —甲氧基苯基）吡唑啉（表2以rpYR M」 -34- (31) 1334965 表示）、1 一苯基一3 — （4 一異丙基苯乙烯基） 一異丙基苯基）吡唑啉（表2以「PYR—I」表示 一苯基一3— (4—tert—丁基—乙烯基）—5—( 丁基一苯基）吡唑啉（表3以「PYR-B」表示） 由可均衡地提高感度及解析度兩者之觀點而 於溶劑的溶解性高之PYR-M、PYR-I及PYR-B 此外’溶解性高則調製感光性樹脂組成物溶液變 操作性優異，於23。(：對於l〇〇mL的甲苯溶劑之 表4所示。 -5-(4 )、及1 4—tert — 〇 言，以對 較適合， 容易，其 溶解度如
-35- (32)1334965
[表1] 摻合量（g) (A)成份 甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯 (重量比 2 5/5 0/25,重量平均分子量 ••55000)的 2-甲氧基乙醇/甲苯溶液， 固體成份酸値：163.lmgKOH/g 54 (固體成分） (B)成份 雙酣A骨架的EO改性二甲基丙烯酸 酯 46 (C2)成份 2,2’-雙（〇-氯代苯基）-4,5-4’，5’-四苯 基-1，2’-聯二咪唑 3.7 發色劑 無色結晶紫內酯（LCV) 0.5 染料 孔雀綠（MKG) 0.03 溶劑 丙酮 10 甲苯 7 Ν,Ν-二甲基甲醯胺 3 甲醇 3 -36- 1334965
is 議 1 OO JQ 8 8 y — 00 OC in i 1 m· 〇 0.70 JO VO OO 窗_4 1 cs 〇 0.49 JO JO in m I fi oo 1 8 8 oo oo (N 画 1 〇 0.77 In \〇 VO oo Ϊ s 1 0.52 m 〇 JO \〇 PYR-Mi#^gg) PYR-Ii#^*g) 百 ft 1 s 365nm 405nm 1 Μ w ST=14/41 ST=17/41 ST=20/41 (Cl)成份 O.D値 «S) 脈破 (//m) 1 -37- (34) 1334965 [表3] 比較例1 比較例2 實施例7 PYR-B摻合量（g) 0.2 EAB摻合量（g) 0.4 感光層膜厚（// m) 25 25 25 O.D.値 365nm 0.21 1.70 0.44 (吸光度） 405nm 0.13 0.52 0.45 感度（mJ/cm2) 557 120 95 ST=14/41 16 20 15 解析度 ST=17/41 18 18 16 (β m) ST = 20/41 20 20 20 [表4] P YR-M P YR-I PYR-B 溶解度（g) 3 20 5.2 <感光性元件> 將依上述所調製的實施例1〜7、比較例1、2的感光 性樹脂組成物的溶液，均勻塗佈於16//m厚的聚對苯二 甲酸乙二醇酯薄膜上，然後將已塗佈的溶液（塗膜），使 用熱風對流式乾燥器以7〇°C乾燥10分鐘及以l〇〇°C乾燥 10分鐘，在作爲載體之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的單 面上，而得到設置了由上述感光性樹脂組成物所成的感光 層之感光性元件。感光層的膜厚爲25/zm。 -38- (35) (35)1334965 使用UV分光光度計（（股）日立製作所製的U-3310 分光光度計）測量相對於感光層的曝光波長之光學密度（ O.D.値），測量係使用與載體同種類之聚對苯二甲酸乙二 醇酯薄膜作爲參考，藉由吸光度模組連續測量5 5 0〜 3 00nm止而得到UV吸收光譜，將在3 65nm、405nm的吸 光度之値，作爲各波長的O.D.値，UV吸收光譜列示於圖 2。圖中，（cl )爲實施例1、 （ c2 )爲實施例4、 （ c3 ) 爲實施例7之相關的UV吸收光譜，在圖2中，於約340 〜420nm的波長範圍的（c2)及（c3)的光譜幾乎重疊， 實施例4與實施例7的吸光度，係照射.3 65 nrn的光時， 各爲0.48及0.44，照射405nm的光時，各爲0.49及0.45 。此外，於實施例 1 (PYR-M) 、4 ( PYR-I )及 7(PYR- B)的最大吸收波長（吸光度變最大的波長）之値，各爲 3 8 5.2nm ' 3 86.2nm 及 3 8 7.2 nm ° <光阻圖型的形成> 準備在玻璃纖維強化環氧樹脂層的兩面上層合銅箔（ 厚度35#m)之雙面貼銅層合板（日立化成工業（股）製 ’ 「MCL-E-67」（商品名）），將其層合板的銅表面， 使用裝上相當於# 600的刷子之硏磨機（三啓（股）製） 硏磨，水洗後後以空氣流使其乾燥。接著，一邊將雙面貼 銅層合板以80 °C加溫，一邊將上述所得到的感光性元件 ’以感光層側緊密的貼合於銅箔表面，一邊以1 20 °C加熱 ，一邊以〇.4MPa加壓’然後’冷卻至23°C，而得到雙面 -39- (36) 1334965 貼銅層合板的兩面上設置了感光層之層合板。 , 接著，在位於上述層合板的最外層的聚對苯二甲酸乙 二醇酯薄膜的表面上，依序層合具有41段階梯片（stage step tablet)之光照圖、具有作爲解析度評估用負型之線 寬/間隔寬爲6/6〜35/35 (單位：//m)的電路圖型之 光照圖，於光照圖之41段階梯片係濃度範圍〇.〇2〜2.00 、濃度階梯0.05'片（矩形）的大小爲20mmxl87mm，各 φ 階梯（矩形）的大小3mmxl2mm，更於其上設置分光波長 405nm±30nm的光之帶通濾波器（bandpass filter)之朝日 分光股份有限公司製的分光濾光鏡「HG0405」（商品名 )° 在此狀態下，使用以5kW短電弧燈作爲光源之平行 光曝光機（ORC製作所製，「EXM-1201」（商品名）， 以41段階梯片的顯影後的殘留階梯段數成爲14段、17 段、20段的曝光量進行曝光，此時，41段階梯片的顯影 • 後的殘留階梯段數成爲17段之曝光量作爲感度，此外， 使用紫外線積算光量計及受光器，測量透過帶通濾波器之 光的照度，照度X曝光時間作爲曝光量。此外，使用「 UIT-150-A」（商品名，USHIO電機股份有限公司製，亦 可作爲照度計）作爲紫外線積算光量計、使用「UVD_ S405」（商品名，感度波長區域：320nm〜470nm，絕對 校正波長：405nm)作爲受光器。 接著，去除聚對苯二甲酸乙二醇酯，將經曝光的感光 層，藉由用1.0重量％碳酸鈉水溶液以30 °c噴霧24秒去 -40- (37) (37)1334965 除未曝光部份後，進行顯影處理，可乾淨地去除未曝光部 份，而且將線未產生蛇行、缺口所生成的線寬之間的間隔 寬的最小値作爲解析度，此解析度及上述感度之値，皆數 値愈小爲愈佳値。 關於實施例1〜7及比較例1、2的感光性樹脂組成物 所進行的如上述的評估結果，整理列示於表2及表3。 [實施例8〜13、比較例3] <調製感光性樹脂組成物溶液> 將表5所示的各原料、表6所示的（C1)成份及無色 結晶紫內酯，依各表的摻合量均勻混合後，調製實施例8 〜1 3及比較例3之感光性樹脂組成物的溶液。再者，作 爲（C1)成份’使用 1 —苯基一3 _ (4 — tert — 丁基一苯 乙烯基）_5— (4-tert — 丁基一苯基）一吡唑啉（（股 )曰本化學工業公司製，表3之「PYR-B」）。此吡唑啉 衍生物的最大吸收波長λ max (吸光度成爲最大的波長） 之値爲387.2nm。 -41 - (38) 1334965 (38)
[表5] 原料 摻合量（g) (A)成份 甲基丙烯酸/甲基丙烯酸甲酯/苯乙 烯（重量比2 5/5 0/2 5,重量平均分子 量：55000)的2-甲氧基乙醇/甲苯溶 液，固體成份酸値：163. lmgKOH/g 54 (固體成份） (B)成份 雙酚A骨架的EO改性二甲基丙烯 酸酯 46 (C2)成份 2,2’-雙（〇-氯代苯基）-4,5-4’，5’-四 苯基-1,2’-聯二咪唑 3.7 染料 孔雀綠 0.03 溶劑 丙酮 10 甲苯 7 Ν,Ν-二甲基甲醯胺 3 甲醇 3 -42 - (39)1334965
比較例3 1 1 1 0.30 (N 0.063 0.107 557 in m 實施例13 0.25 〇 in (N 0.515 0.586 v〇 OO 實施例12 0.25 0.50 0.504 0.570 m oo OO 宕 (N 實施例11 0.25 1 0.30 (Ν 1.202 1.221 m oo 寸 VO 實施例10 0.70 0.30 m 1.229 1.482 m (N 實施例9 0.50 0.30 (Ν 0.998 1.183 κη <N oo OO 實施例8 0.30 0.30 CN 0.673 0.725 S； 00 \D (C1)成份摻合量(g) 無色結晶紫內酯摻合量（g) 感光層膜厚（μ m) 365nm i405nm 感度(mJ/cm2) ST=14/41 ST=17/41 ST=20/41 O.D.値 (吸光度） 解析度 (β m) -43- (40) 1334965 <感光性元件> , 將如上述所調製的實施例8〜1 3、比較例3的感光性 樹脂組成物的溶液，均勻塗佈於16^m厚的聚對苯二甲 酸乙二醇酯薄膜上，然後將已塗佈的溶液（塗膜），使用 熱風對流式乾燥器以70°c乾燥10分鐘及以100eC乾燥10 分鐘，在作爲載體之聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的單面上 ，而得到設置了由上述感光性樹脂組成物所成的感光層之 # 感光性元件。感光層的膜厚爲25//m。 使用UV分光光度計（（股）日立製作所製的U-3310 分光光度計），與實施例1〜7及比較例1、2同樣的測量 相對於感光層的曝光波長之光學密度（O.D.値）"UV吸 收光譜列示於圖3〜圖6， （al)爲實施例8、（a2)爲 實施例9、（a3)爲實施例10、（a4)爲實施例11、（ a5)爲實施例12、（a6)爲實施例13、（bl)爲比較例 3之相關的UV吸收光譜。 • <光阻圖型的形成> 首先與實施例1〜7及比較例1、2同樣的作法，得到 雙面貼銅層合板的兩面上設置感光層之層合板。接著，在 位於上述層合板的最外層的聚對苯二甲酸乙二醇酯薄膜的 表面上’與實施例1〜7及比較例1、2同樣的作法，依序 層合具有41段階梯片之光照圖、具有所定電路圖型之光 照圖，更於其上設置分光波長4〇5nm±3 0nm的光之帶通濾 波器之朝日分光股份有限公司製的分光濾光鏡「HG〇4〇5 -44 - (41) (41)1334965 j (商品名）。 在此狀態下，與實施例1〜7及比較例1、2同樣的作 法進行曝光。此時，41段階梯片的顯影後的殘留階梯段 數成爲17段之曝光量作爲感度，此外，與上述同樣的使 用紫外線積算光量計及受光器，測量穿透帶通濾波器之光 的照度，照度X曝光時間作爲曝光量。 接著，去除聚對苯二甲酸乙二醇酯，將經曝光的感光 層，藉由用1.0重量％碳酸鈉水溶液以30 °C噴灑24秒去 除未曝光部份後，進行顯影處理，可乾淨地去除未曝光部 份，而且將線未產生蛇行、缺口所生成的線寬之間的間隔 寬的最小値作爲解析度，此解析度及上述感度之値，皆數 値愈小爲愈佳値。 顯影處理後的光阻形狀，係使用日立掃描型電子顯微 鏡「S-50 0A」進行觀察，希望光阻形狀接近矩形。 對於實施例8〜1 3及比較例3的感光性樹脂組成物進 行如上述的評估的結果，整理列示於表6。 [產業上的可利用性] 依據本發明，提供能以充足的感度及解析度進行藉由 直接繪圖曝光法形成光阻圖型之感光性樹脂組成物、使用 其感光性元件、光阻圖型之形成法及印刷電路板之製造方 法。 【圖式簡單說明】 -45- (42) 1334965 [® 1]表示本發明之感光性元件的一實施型態之模型 _ 截面圖。 . [圖2]表示本發明實施例相關的感光層的UV吸收光 譜之圖。 [圖3]表示本發明實施例相關的感光層的UV吸收光 譜之圖。 [圖4]表示本發明實施例相關的感光層的UV吸收光 • 譜之圖。 [圖5]表示本發明的實施例及比較例相關的感光層的 UV吸收光譜之圖。 [圖6]表示本發明的實施例及比較例相關的感光層的 UV吸收光譜之圖》 【主要元件符號說明】 1 :感光性元件 φ 10 :載體 Μ :感光層 -46-
Claims (1)
1334965 ____ ΒΓΤ8 月曰修正本 . 公告本 ' 十、申請專利範圍 第95 1 1 8 3 00號專利申請案 中文申請專利範圍修正本 民國99年6月18曰修正 1. 一種感光性樹脂組成物，其特徵爲含有（A)選 自丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、環氧系樹脂、醯胺系樹脂 、醯胺環氧系樹脂、醇酸系樹脂、及酚系樹脂的至少1種 黏合劑聚合物、（B)具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化 合物、（C 1 )下述一般式（1 )所表示之化合物 '及（C2 )2,4,5 _三芳基咪唑二聚物或其衍生物， 對於前述（A)成分及前述（B)成分的總量100質量份 而言，前述（C1)成分的摻合量爲〇.〇5〜0.8質量份，前 述（C2)成分的摻合量爲3〜5質量份； 〔化1〕
(式（1)中，至少1個R係表示碳數4〜12的烷基 ，a、b及c的總和爲1〜6，a、b及c的總和爲2〜6時， 同一分子中的複數的各個R可相同或相異）。 2.如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其 中該（A)成份係含有具有以來自丙烯酸及/或甲基丙烯 酸之單體單元、與來自丙烯酸的烷基酯及/或甲基丙烯酸 的烷基酯之單體單元作爲構成單元之丙烯酸系聚合物者。 1334965 3 .如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物’其 對於該（A)成份及該（B)成份的總量1〇〇質量份而言 ，該（B)成份的摻合量爲20〜80質量份。 4 ·如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其 中該a、b及c的總和爲1〜2。 5. 如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其 中該R爲選自η - 丁基、tert- 丁基、tert—辛基及十二烷 基所成之群的1種以上烷基。 6. 申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其係 被使用於曝光於在350nm以上且未達440nm的波長範圍 內具有波峰之光後形成光阻圖型。 7. 申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其中 該（C1)成份的最大吸收波長爲 3 70nm以上且未逹 420nm 。 8. —種感光性元件，其特徵係具備載體、及設置於 該載體上之由申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物所 形成的感光層。 9. —種光阻圖型之形成方法，其特徵爲具備：於基 板上形成由申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物所成 的感光層之感光層形成步驟、及使感光層的所定部份曝光 於在3 5 0nm以上且未逹440nm的波長範圍內具有波峰之 光之曝光步驟、及使經曝光的前述感光層顯影後形成光阻 圖型之顯影步驟。 10. —種印刷電路板之製造方法，其特徵爲具備：於 1334965 基板上形成由申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物所 成的感光層之感光層形成步驟、及使前述感光層的所定部 份曝光於在35〇nm以上且未逹440nm的波長範圍內具有波 峰之光之曝光步驟、及使經曝光的感光層顯影後形成光阻 圖型之顯影步驟、及以該光阻圖型爲基礎，於該基板上形 成導體圖型之導體圖型形成步驟。 Π·如申請專利範圍第1項之感光性樹脂組成物，其 | 爲使用於直接繪圖曝光法。 12.如申請專利範圍第8項之感光性元件，其爲使用 於直接繪圖曝光法。 1 3 ·如申請專利範圍第9項之光阻圖型之形成方法， 其中前述曝光步驟藉由直接繪圖曝光法而進行。 14. 如申請專利範圍第10項之印刷電路板之製造方 法，其中前述曝光步驟藉由直接繪圖曝光法而進行。 15. —種感光性樹脂組成物，其特徵爲含有（A)重 φ 量平均分子量爲40000〜80000之選自丙烯酸系樹脂、苯 乙烯系樹脂、環氧系樹脂、醯胺系樹脂、醯胺環氧系樹 月旨、醇酸系樹脂、及酚系樹脂之至少一種黏合劑聚合物、 (B)具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化合物、及 (C1)下述一般式（1)所表示之化合物， -3- 1334965
〔式（1)中’至少1個R係表示碳數1〜10的烷氧 基，a、b及C的總和爲1〜6’a、b及C的總和爲2〜6 時，同一分子中的複數的各個尺可相同或相異〕。 1 6 ·如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其中前述（A)成分係含有具有以來自丙烧酸及/或甲基丙 烯酸之單體單位、與來自丙烯酸的烷基酯及/或甲基丙烯 酸的烷基酯之單體單位作爲構成單位之丙烯酸系聚合物 者。 1 7.如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其中更含有（C2) 2，4,5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物。 1 8 ·如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其中對於前述（A)成分及前述（B)成分之總量1〇〇質 量份而言，前述（B)成分的摻合量爲20〜80質量份’前 述（C1)成分的摻合量爲0.001〜5.0質量份。 1 9 ·如申請專利範圍第1 7項之感光性樹脂組成物， 其中對於前述（A)成分及前述（B)成分的總量100質 量份而言，（C2 ) 2,4,5-三芳基咪唑二聚物或其衍生物之 接合量爲3〜5質量份。 20·如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， -4- 1334965 其中前述R爲甲氧基。 2 1 ·如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其中前述a、b及c的總和爲1〜2。 2 2 .如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物’ 其係被使用於曝光於在3 5 0nm以上且未達440nm之波長 範圍內具有波峰之光後形成光阻圖型。 2 3 .如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物’ $ 其中前述（C1 )成分的最大吸收波長爲3 70nm以上且未 達 420nm ° 24 ·如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其爲使用於直接繪圖曝光法。 25. 一種感光性元件，其特徵係具備載體、及設置於 該載體上之由申請專利範圍第15項之感光性樹脂組成物 所成之感光層。 26. 如申請專利範圍第25項之感光性元件，其爲使 φ 用於直接繪圖曝光法。 27. —種光阻圖型之形成方法，其特徵爲具備： 基板上形成由申請專利範圍第15項之感光性樹脂組 成物所成的感光層之感光層形成步驟、及使前述感光層的 所定部分曝光於在3 5 0nm以上且未達440nm的波長範圍 內具有波峰之光之曝光步驟、及曝光下將前述感光層顯影 後形成光阻圖型之顯影步驟。 28. 如申請專利範圍第27項之光阻圖型之形成方 法，其中前述曝光步驟藉由直接繪圖曝光法而進行。 -5- 1334965 29. —種印刷電路板之製造方法，其特徵爲具備：於 基板上形成由申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物 所成的感光層之感光層形成步驟、及使前述感光層的所定 部分曝光於在3 5 0nm以上且未達440nm的波長範圍內具 有波峰之光之曝光步驟、及使經曝光的前述感光層顯影後 形成光阻圖型之顯影步驟、及以前述光阻圖型爲基礎，於 前述基板上形成導體圖型之導體圖型形成步驟。 30. 如申請專利範圍第29項之印刷電路板之製造方 法，其中前述曝光步驟藉由直接繪圖曝光法而進行。 3 1 .如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其中對於前述（A)成分及前述（B)成分的總量100質 量份而言，前述（C1 )成分的摻合量爲〇.〇5〜0.8質量 份。 3 2 ·如申請專利範圍第1 5項之感光性樹脂組成物， 其中前述（B)具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化合物爲 含有具有雙酚A骨架之（甲基）丙烯酸酯化合物。 33. 一種感光性樹脂組成物，其特徵爲含有（A)選 自丙烯酸系樹脂' 苯乙烯系樹脂、環氧系樹脂 '醯胺系樹 脂、醯胺環氧系樹脂、醇酸系樹脂、及酚系樹脂之至少一 種黏合劑聚合物、 (B)具有乙烯性不飽和鍵之光聚合性化合物、及 (C1)下述一般式（1)所表示之化合物， 1334965
〔式（1)中’至少1個R係表不異丙基’ a、b及c 的總和爲1〜6，a、b及c的總和爲2〜6時，同一分子中 的複數的各個R可相同或相異〕。 3 4 .如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物， 其中前述（A)成分係含有具有以來自丙烯酸及/或甲基丙 烯酸之單體單位、與來自丙烯酸的烷基酯及/或甲基丙烯 酸的烷基酯之單體單位作爲構成單位之丙烯酸系聚合物 者。 3 5 ·如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物， 其係更含有（C2) 2,4,5·三芳基咪唑二聚物或其衍生物。 3 6 ·如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物， 其中對於前述（A)成分及前述（B)成分的總量100質 量份而言，前述（_B)成分的摻合量爲20〜80質量份，前 述（C1)成分的摻合量爲0.001〜5.0質量份》 3 7.如申請專利範圍第3 5項之感光性樹脂組成物， 其中對於前述（A)成分及前述（B)成分的總量1〇〇質 量份而言’ （C2) 2，4,5 -三芳基咪唑二聚物或其衍生物的 摻合量爲3〜5質量份。 3 8 ·如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物， 1334965 其中前述a、b及c的總和爲1〜2。 3 9 .如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物， 其係被使用於曝光於3 50nm以上且未達440nm的波長範 圍內具有波峰之光後形成光阻圖型。 4 0 .如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物’ 其中前述（C1 )成分的最大吸收波長爲3 70nm以上且未 達 420nm ° 4 1 .如申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物， 其係使用於直接繪圖曝光法。 42. —種感光性元件，其特徵爲具備載體 '及設置於 該載體上之由申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物 所成之感光層。 43 ·如申請專利範圍第42項之感光性元件，其係使 用於直接繪圖曝光法。 44. 一種光阻圖型之形成方法，其特徵爲具備：於基 板上形成由申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物所 成之感光層的感光層形成步驟 '及使前述感光層的所定部 分曝光於在3 5 0nm以上且未達440nm的波長範圍內具有 波峰之光之曝光步驟、及使經曝光的前述感光層顯影後形 成光阻圖型之顯影步驟。 45. 如申請專利範圍第44項之光阻圖型之形成方 法，其中前述曝光步驟藉由直接繪圖曝光法而進行》 46. —種印刷電路板之製造方法，其特徵爲具備：於 基板上形成由申請專利範圍第3 3項之感光性樹脂組成物 -8 - 1334965 所成的感光層之感光層形成步驟'及使前述感光層的所定 部分曝光於3 5 0nm以上且未達440nm的波長範圍內具有 波峰之光之曝光步驟、及使經曝光的前述感光層顯影後形 成光阻圖型之顯影步驟 '及以前述光阻圖型爲基礎，於前 述基板上形成導體圖型之導體圖型形成步驟。 47.如申請專利範圍第46項之印刷電路板之製造方 法，其中前述曝光步驟藉由直接繪圖曝光法而進行》
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