TWI309654B - Aqueous dispersion containing a complex of poly (3,4-dialkoxythiophene) and a polyanion and method for producing the same - Google Patents

Aqueous dispersion containing a complex of poly (3,4-dialkoxythiophene) and a polyanion and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
TWI309654B
TWI309654B TW092120310A TW92120310A TWI309654B TW I309654 B TWI309654 B TW I309654B TW 092120310 A TW092120310 A TW 092120310A TW 92120310 A TW92120310 A TW 92120310A TW I309654 B TWI309654 B TW I309654B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
acid
polyanion
water
poly
aqueous dispersion
Prior art date
Application number
TW092120310A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200413433A (en
Inventor
Stephan Kirchmeyer
Wussow Klaus
Tetsuya Hosomi
Yasuo Chikusa
Original Assignee
Starck H C Gmbh
Nagase & Co Ltd
Nagase Chemtex Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=29997286&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TWI309654(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Starck H C Gmbh, Nagase & Co Ltd, Nagase Chemtex Corp filed Critical Starck H C Gmbh
Publication of TW200413433A publication Critical patent/TW200413433A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI309654B publication Critical patent/TWI309654B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/24Electrically-conducting paints
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/122Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
    • C08G61/123Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
    • C08G61/126Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D165/00Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G11/00Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
    • H01G11/22Electrodes
    • H01G11/30Electrodes characterised by their material
    • H01G11/48Conductive polymers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G11/00Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
    • H01G11/54Electrolytes
    • H01G11/56Solid electrolytes, e.g. gels; Additives therein
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004Details
    • H01G9/022Electrolytes; Absorbents
    • H01G9/025Solid electrolytes
    • H01G9/028Organic semiconducting electrolytes, e.g. TCNQ
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/13Energy storage using capacitors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Description

1309654 A7 B7 五、發明說明(! 技術領域 供人::::及3有聚(3’4_二烷氧基噻吩)和聚陰離孑 錯合物的水分散體及其製造方法。本發明也涉及含有該水 分散,的㈣組合物和含有—層透明導電膜的基材,所述 ^明導電膜是藉由將所述塗料組合物”在基材表面上護 得的。 背景技術 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 斤透明導電膜用於塗布液晶顯示屏、電致發光顯示屏、 等離子體顯示屏、電致變色顯示屏、太陽能電池、觸摸屏 等的透明電極,並用於塗布那些由電磁屏蔽材料製造的基 材。使用最廣泛的透明導電膜是制蒸汽沉積方法獲得的 摻雜銦的氧化錫(即ITG)冑。但是,由蒸汽沉積方法所 形成的ΙΊΌ膜存在-些問題,例如成膜需要高溫並且成本 高。ΙΤ0膜可以藉由塗布方法形成。但是,用這種方法成 膜需要高溫,膜的導電性取決於IT〇的分散程度,並且膜 的濁度值並不是總是很低。另外,對於無機氧化物膜如 ΙΤ0膜,彎曲基材往往會產生裂紋,因此降低了導電性。 另一方面,有人提出使用由可以在低溫下製造並且製 造成本低的導電聚合物製造的透明導電膜作為有機材料製 成的透明導電膜。對於可以用於製造這種透明導電膜的導 電聚合物,日本公開專利No. JP2636968公開了 一種聚 (3, 4-一院氧基n塞吩)和聚陰離子的錯合物以及該錯合物 的製造方法。這種錯合物具有良好的水分散性。藉由將含 有該錯合物水分散體的塗料組合物塗敷到基材上所生產的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 92318 A-接 A7 B7
1309654 五、發明說明(2) 薄膜具有足夠的抗靜電作用,但是透明度和導電性不足。 日本公開專利No· JP8-48858描述了一種具有改進導 電性的薄膜,所述薄膜藉由將一種塗料組合物塗敷到基材 上產生,其中所述塗層聚合物藉由將一種化合物加入到含 5有日本專利敘述書No. JP2636968中所描述的聚(3,4_二 烷氧基噻吩)和聚陰離子的錯合物的水分散體中獲得,所 述化合物選自含有兩個或兩個以上羥基的化合物、含有醯 胺基的化合物或含有内醯胺基的化合物。日本公開專利 JP20〇〇-153229描述了 一種具有改進導電性的薄膜,所述 10薄膜藉由將一種塗料組合物塗敷到基材上並在低於丨〇 〇 〇c 的伽'度下乾燥所得的基材產生,所述塗料組合物含有一種 介電常數ε g 15的非質子性化合物。 15 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 20 在之i出版物中描述的所有塗料組合物的性能夢_由向 ^分散體中加入一種特殊的化合物都能得到提高,所述水 分散體含有日本專利No. JP2636968中所描述的聚(3,4_ 二烷氧基噻吩)和聚陰離子的錯合物,同時這些塗料組合 物的導電性也相對提高了。但是’含有該錯合物(即導兩 =物)的水分散體是相同的,目此贱水分散體所得: 膜的透明性和導電性仍然不足。 2明目的在於解決上述問題,並且其目的在於開發 冷H導電聚合物的水分散體和—種含有該水分散體的 ’所述水分散舰_成具有傑 電性的導電賴。 ν 為解決這些問題,藉由深入研究本發明的發明人發 -4-
本紙張尺度適有 1309654 五、發明說明(3) 現,.在一種聚陰離子存在下可以藉由過焦硫酸作為氧化劑 或將任意氧化劑與一種酸共同使用(該酸用於降低(3,4-二烷氧基噻吩)聚合時的pH值)可以獲得一種含有具有 傑出透明性和導電性的導電聚合物的水分散體,由此完成 5 了本發明。 發明内容 本發明提供了一種製造水分散體的方法,所述水分散 體含有聚(3, 4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的錯合 物,該方法包括:將由分子式(1)表示的3, 4-二烷氧基 10 噻吩聚合: R10 OR2
其中R1和R2獨立為氫或Ch烷基,或者共同形成一個可以 任選被取代的Cw伸烷基,其中聚合反應是在聚陰離子存 15 在下藉由使用過焦硫酸作為氧化劑在含水溶劑中進行的。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明提供了一種生產水分散體的方法,所述水分散 體含有聚(3, 4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的錯合 物,該方法包括:將由分子式(1)表示的3,4-二烷氧基 噻吩化學氧化聚合: 20 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 1309654 五、發明說明(4)
其中R1和R2獨立為氫或G-4烷基,或者共同形成一個可以 任選被取代的Ch伸烷基,其中聚合反應是在聚陰離子存 在下藉由使用氧化劑在含水溶劑中進行的,其中加入一種 5 選自水溶性無機酸和水溶性有機酸的酸,用於降低所得反 應混合物的pH。 本發明提供了一種生產水分散體的方法,所述水分散 體含有聚(3, 4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的錯合 物,該方法包括:將由分子式(1)表示的3,4-二烷氧基 10 噻吩聚合:
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其中R1和R2獨立為氫或Ci-4烷基,或者共同形成一個可以 任選被取代的Cw伸烷基,其中聚合反應是在聚陰離子存 15 在下藉由使用過焦硫酸作為氧化劑在含水溶劑中進行的, 其中加入一種選自水溶性無機酸和水溶性有機酸的酸,用 於降低所得反應混合物的pH。 本發明也提供了用上面所描述的方法所製造的含有聚 (3, 4-二烷氧基噻吩)和聚陰離子的水分散體。 -6- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)
發明說明 309654 發明喊供了—種含水分散和—種化合物的塗料組 所述水分散體含有聚(3 4_二綠基㈣)和一種 離子的合物,所述化合物選自含有醯胺基的水溶性 物3有經基的水溶性化合物、水溶性亞艰類化合 勿、水>谷性石風化合物。 本么明還提供了一種具有透明導電膜的基材,其是藉 2上述塗料組合物錄在基材的表面上並乾燥所得基材 筏传的。 10 下面,將對本發明進行詳細地描述。 製造本發明的含有聚(3, 4_二燒氧基嗔吩)和一種聚 陰離子的錯合物的水分散體的方法包括:將由分子式 (1)表示的3, 4-二烷氧基噻吩聚合: R o OR2 ¥ (,) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15其中作R2駐為域ei—4絲,或者共同形成—個可以 任選被取代的Cw伸烷基’其中聚合反應是在聚陰離子存 在下藉由使用過焦硫酸作為氧化劑在含水溶劑中進行的, 或者使用一種氧化劑在含水溶劑中進行的,其中加入一種 選自水溶性無機酸和水溶性有機酸的酸,用於降低所得反 20 應混合物的pH。 在3, 4-一烧氧基嗔吩中,用r1和r2表示的cw烧基的 優選實例包括f基、乙基和正丙基。由R1和R2共同形成 -7- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 1309654 A7 _______B7______________ 五、發明說明(〇 的Ch伸烷基的實例包括1,2-伸烷基和1,3〜伸烷基,優選 亞曱基、1,2-伸乙基和1,3-伸丙基。在這些基團中,1,2-伸烷基是特別優選的。Ci-4伸烷基可以任選被取代,取代 基的實例包括Cl-i2烧基和苯基。取代的Cl-4伸燒基的實例 5包括1,2-伸環已基和2,3-伸丁基。伸烷基的一個典裂實 例是由R1和R2共同形成的1,2-伸烷基被一個CW2烷基取 代。這種1,2~伸烷基可以衍生自1,2-二溴烷烴,所述 1,2-二溴烧烴可由α -稀烴,例如乙烯、丙稀、己稀、辛 烯、十二烯或苯乙烯的溴化反應製造。 10 在上述方法中使用的聚陰離子的實例包括聚緩酸,例 如聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸和聚馬來酸;聚磺酸,例如聚 苯乙烯磺酸和聚乙烯磺酸。在這些酸中,聚苯乙烯磺酸是 特別優遥的。聚缓酸可以是乙稀基魏酸和另一種可聚合單 體的共聚物’聚續酸可以是乙婦基續酸和另一種可聚合單 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 15體的共聚物。可聚合單體的實例包括丙烯酸酯和笨乙擁。 聚陰離子的數均分子量優選為1000-2000000,更優選為 2000-500000,最優選為 10〇0〇_2〇〇〇〇〇。相對於 1〇〇 重量 份的嗔吩,聚陰離子的用量優選為5〇_3〇〇〇重量份,更優 選為100-1000重量份,最優選為15〇—5〇〇重量份。 20 在上述方法中使用的溶劑為含水溶劑,水是特別優選 的。另外,可以使用含有可與水混溶的溶劑的水,所述溶 劑例如醇類化合物(例如,甲醇、乙醇、2_丙醇和丨一丙 醇)、丙酮和乙腈。 在本發明方法中,在3, 4-二烷氧基噻吩的聚合反應中 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) A7 B7 1309654 五、發明說明(7 ) 使用的氧化劑的實例包括但並不限於,過焦硫酸,過焦硫 酸鈉,過焦硫酸鉀,過焦硫酸銨,氧化鐵的無機鹽(例如 無機酸的鐵(III)鹽)’氧化鐵的有機鹽(例如有機酸 的鐵(III)鹽),過氧化氫,高錳酸鉀,重鉻酸鉀,過 5硼酸鹼金屬鹽,和銅鹽。在這些氧化劑中,過焦硫酸、過 焦硫酸鈉、過焦硫酸鉀和過焦硫酸銨是最優選的。相對於 ί莫耳的噻吩,氧化劑的用量優選為1-5當量,更優選為 2-4當量。 在本發明方法中,優選在聚合反應過程中反應混合物 10的PH值低(優選為1.5或者更低)。因此,當從上述氧 化劑中選擇使用過焦硫酸時,簡單的將其加入到反應體系 中而不調節pH對於優選的應用來說是足夠的。當選擇其 他氧化劑時,加入一種酸來調節pH是必要的。反應混合 物的pH優選為h 5或更小,更優選1〇或更小。 、可以使用選自水溶性無機酸和水溶性有機酸的一種酸 =為上述酸。無機酸的實例包括鹽酸、硫酸、硝酸和磷 ^有機酸的實例包括對甲苯績酸、苯續酸、甲績酸和三 經濟部智慧財產局員工消費合作枉印製 氣甲續酸^。 2〇化画I另外’如果需要’可以加入催化量的金屬離子作為氧 屬餘工例如鐵、钻、錄、銦和鋪子(或可以形成這些金 屬離子的化合物)。 泸声1了抑制^反應,本方法在聚合過程中反應混合物的 又馮(Moot:,優選為0—5(rc,更優選〇 3(rc。 據氧化劑的型式和用量、聚合反應溫度、反應混合
1309654 五、發明說明(8) 物的pH值等,聚合反應可以進行5-100小時,通常反應 時間是10-40小時。 聚合反應產生了聚(3, 4-二烷氧基噻吩)。這個聚合 反應是在聚陰離子存在下進行的,因此聚(3, 4-二烷氧基 5 噻吩)與這種聚陰離子發生了錯合,因此在本敘述書中稱 其為“聚(3, 4-二烷氧基噻吩)和聚陰離子的錯合物”或 者簡稱為“錯合物”。 除了含有聚(3,4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的 錯合物的水分散體以外,本發明塗料組合物可以含有選自 10 下列物質的化合物:含有醯胺基的水溶性化合物、含有羥 基的水溶性化合物、水溶性亞礙化合物、水溶性艰化合 物。加入這種或這些化合物的目的是提高塗膜的導電性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在本發明塗料組合物中所包含的帶有醯胺基的水溶性 化合物的實例包括但並不限於,N-甲基-2-吡咯烷酮,2-15 吡咯烷酮、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-甲基甲醯胺、N,N-二曱基曱酸胺和甲酸胺。内@旨類化合物例如7 - 丁内S旨基 本上和那些帶有醯胺基的水溶性化合物具有相同的效果。 在這些化合物中,N-甲基-2-吡咯烧酮,2-吡咯烧酮、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-曱基甲醯胺、曱醯胺和N,N-二甲 20 基甲醯胺是優選的。最優選的化合物是N-曱基甲醯胺。這 些醯胺化合物可以單獨使用也可以兩種或多種共同使用。 在本發明塗料組合物中所包含的含有羥基的水溶性化 合物的優選實例包括多元醇,例如丙三醇、1, 3- 丁二醇、 乙二醇和二甘醇單乙醚。它們可以單獨使用也可以兩種或 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1309654
種共同使用 實例勺H且合物中所包含的水溶性亞職化合物的 貫例包括二甲亞砜和二乙亞砜。 σ扨扪 =發合物巾所包含的水紐魏 5例包括二乙基石風和四亞甲基艰。 ㈣貝 物nrtli高成膜性和與基材的枯接力,本發明塗層化合 有水溶性或者水分散性枯合劑樹脂。水溶性或者 枯合劑樹脂的實例包括但並不限於,聚酯、聚 ίο熵二:稀酸、聚胺酯、聚乙酸乙烯酯、聚偏二氯乙 ?、:爾、聚醯亞胺、含有氣自苯乙浠、偏二氯乙烯、 氣乙烯和(曱基)丙埽酸貌基g旨的共聚組分的共聚物。 15 為了提高對基材的潤濕性,本發明塗層化合物可以含 有少1的界面活性劑。所述界面活性劑的優選實例包括但 亚不限f,非離子界面活性劑(例如聚氧乙敎基苯基 鍵乙烯烧基醚、脫水山梨醇脂肪㈣、脂肪酸醇酸 胺)、氟碳化合物界面活性劑(例如,氣烧基羧酸、全氣 烧基苯顿、全氟和全纽絲氧乙烯醇)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 20 另外’為了提南對基材的潤濕性和盡膜的乾燥性能, 本發明塗層化合物可以含有水或可與水混溶的溶劑。可與 水混溶的溶劑的實例包括但並不限於,甲醇、乙醇、2 一丙 醇、正丙醇、異丁醇、乙二醇、丙二醇、丙酮、甲乙酮、 乙腈、四氫呋喃、二噁烷和這些化合物的混合溶劑。 可使用本發明塗層化合物進行塗布的基材的實例包 括,塑料片材、塑料膜、非織造織物和玻璃片 。構成塑料 本紙張尺度適用中國國冢標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1309654 五、發明說明(10) 片材或膜的塑料的實例包括,聚酯、聚苯乙烯、聚醯亞 胺、聚醯胺、聚砜、聚碳酸酯、聚氯乙烯、聚乙烯、聚丙 烯、這些聚合物的混合物、含有構成這些聚合物的單體的 共聚物、盼搭樹脂、環氧樹脂和ABS樹脂。 5 適當的塗布方法的實例包括但並不限於,塗布技術例 如照相凹板式塗敷、輥塗、棒塗;印刷技術例如絲網印 刷、照相凹板印刷、苯胺印刷、膠印和喷墨印刷;喷塗; 和浸塗。 藉由將塗料組合物塗布在基材上並乾燥該基材,在基 10 材表面上形成了 一層膜(即透明導電膜)。塗布液體在 20-250°C乾燥3秒至一星期,優選在70-130°C乾燥5-60 秒。 這樣’就獲得了本發明的具有透明導電膜的塗布基 材。與使用聚噻吩導電聚合物製造的傳統薄膜相比,這樣 15 在基材表面上獲得的薄膜具有柔韌性和顯著提高了的透明 性和導電性。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 所述透明導電膜優選用在下列器件中:電致發光顯示 屏的表面電極、液晶顯不屏的像素電極、電容電極、各種 透明電極例如觸摸屏的透明電極、以及陰極射線管顯示屏 20 的電磁屏蔽。 圖式簡單說明 圖1表示由本發明方法獲得的塗布基材的總透光率和 表面電阻率之間的關系。 具體實施方式 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 1309654 A7 B7 五 、發明說明 11 下面’本發明將藉由實施例和對比實施例進行更具體 的描述。但是’本發明並不限於這些實例。應當指出,在 下列實施例和對比實施例中的術語“份,,指的是“重量 5 份”。
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在這些實施例和比較例中,將Nippon NSC Ltd.生產 的VERSA-TL 72 (數均分子量:75000,固含量:20%)稀 1〇釋’並用作聚笨乙烯磺酸的水溶液,用於生產含有聚 (3’1二院氧基噻吩)和一種聚陰離子的錯合物的水分散 體。 對聚(3, 4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的水分散 體所進行的離子交換處理,使用BAYER AG生產的Lewatit 15 S1〇〇H作為陽離子交換樹脂,而使用BAYER AG生產的 Lewatit MP62作為陰離子交換樹脂。 在這些貫施例和比較例中,將Nagase Chemtex
Corporation 生產的 Gabsen ES-210 (固含量:25%)作為 用作塗料組合物粘接組分的聚酯樹脂水分散體。G〇〇 20 Chemical Co.,Ltd·生產的 Pluscoat RY-2 (固含量: 10%)用作IL碳化合物界面活性劑。 2.塗布和乾燥方法 在這些實施例和比較例中,按照下面的方法將塗料組 -13- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1309654 五、發明說明(12) 合物塗布在基材上並乾燥。一種PET膜(Toray Industries. Inc·生產的 Lumirror T-60)用作基材,使 用拉絲錠[No.8 (用於製造濕條件下厚度為18.3/zm的塗 層),No· 12 (用於製造濕條件下厚度為27. 4/zm的塗 5 層),或No. 16 (用於製造濕條件下厚度為36. 6/zm的塗 層)]將塗料組合物塗布到基材上,並在l〇〇°C藉由鼓風乾 燥1-3分鐘,由此獲得帶有薄膜的塗布基材。 3.在這些實施例和比較例中對基材表面上薄膜的評價 10 3. 1 使用 Mitsubishi Chemical Corporation 生產的
Loresta-GP (MCP-T600 )按照 JIS K 6911 測量表 面電阻率。 3.2 使用 SUGA Test Instruments Co. Ltd.生產的霧 霾電腦HGM-2B按照JIS K7150測量總透光率和霧 15 霾值。未處理過的PET膜(Lumirror T型:
Toray)的總透光率為87. 8%,霧霾值為1.9%。 3. 3按照JIS K 5 4 0 0的晶格圖案切削試驗測罝塗膜對基 材的枯接力。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 20 實施例1 首先,將49份1%硫酸鐵(III)的水溶液、8.8份 3, 4-伸乙二氧基噻吩和117份10. 9%過焦硫酸水溶液加入 到1887份含有20. 8份聚苯乙烯磺酸的水溶液中。此時反 應混合物的pH為1. 34。反應混合物在18°C攪拌23小 -14- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A7 B7 13 1309654 五、發明說明 %。然後,向反應混合物中加入154份陽離子交換樹脂和 232份陰離子交換樹脂並攪拌2小時。接著,過濾掉離子 父換祕脂,獲得一種去離子的水分散體(2〇41份:固含量 1. 32%),其含有聚(3, 4-伸乙二氧基噻吩)和聚苯乙烯 5 磺酸。 比較例1 首先’將49份1%硫酸鐵(πΐ)的水溶液、8.8份 3, 4-伸乙二氧基噻吩和17. 4份過焦硫酸鈉加入到2012份 10含有22. 2份聚苯乙烯磺酸的水溶液中。此時反應混合物 的pH為1_ 52。反應混合物在18°C攪拌23小時。然後, 向反應混合物中加入154份陽離子交換樹脂和232份陰離 子交換樹脂並攪拌2小時。接著,過濾掉離子交換樹脂, 獲得一種去離子的水分散體(2066份:固含量1.37%), 15 其含有聚(3, 4-伸乙二氧基噻吩)和聚苯乙烯磺酸。 實施例2 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 首先,將49份1%硫酸鐵(III)的水溶液、64. 2份 25%的硫酸水溶液、8. 8份3, 4-伸乙二氧基噻吩和17· 4份 20 過焦硫酸鈉加入到1964份含有22. 2份聚苯乙烯磺酸的水 溶液中。此時反應混合物的pH為0. 93。反應混合物在18 °C攪拌23小時。然後,向反應混合物中加入154份陽離 子交換樹脂和232份陰離子交換樹脂並授摔2小時。接 著,過濾掉離子交換樹脂,獲得一種去離子的水分散體 -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(21〇 X 297公釐) 1309654 A7B7 五、發明說明(14) (2082份.固含量i.35%),其含有聚(3 4_亞乙二氧基 0塞吩)和聚苯乙烯續酸。 實施例 經濟部智慧財產局員Η消費合作社印製 首先,將49份1%硫酸鐵(in)的水溶液、64. 2份 25%的硫酸水溶液、8.8份3,4_伸乙二氧基嗔吩和12〇 7 份10. 9%過焦硫酸水溶液加入到1859份含有”,2份聚苯 乙烯績酸的水溶液中。此時反應混合物的pH為〇.93。反 應混合物在18°C授拌23小時。然後,向反應混合物中加 10入154伤陽離子交換樹脂和232份陰離子交換樹脂並攪拌 2小時。接著,過濾掉離子交換樹脂,獲得一種去離子的 水分散體(2081份:固含量1.35%),其含有聚(3, 4一伸 乙二氧基噻吩)和聚苯乙烯磺酸。 15 實施例4 首先’將49份1%硫酸鐵(111)的水溶液、3〇份濃 硝酉夂/奋液、8.8份3,4-伸乙二氧基嗟吩和121份1〇9%過 焦硫酸水溶液加入到lm份含有22 2份聚苯乙烤續酸的 水广液中。此日守反應混合物的pH為〇.⑽。反應混合物在 18°C授拌19小時。然後,向反應混合物中加入154份陽 離子交換樹脂和232份陰離子交換樹脂並揽摔2小時。接 著過慮掉離子交換樹脂,獲得一種去離子的水分散體 ⑼75份:固含量,其含有聚(3 4_伸乙二氧基 喧吩)和聚苯乙烯磺酸。 5 20 訂
U -16- 1309654 A7 B7 五、發明說明 15 實施例5 # I先’將49份1%硫酸鐵(111)的水溶液、25份三 氟曱滅、8.8份3,4-伸乙二氧基嗔吩和121份1〇.⑽過 5焦2酸水溶液加入到185〇份含有22. 2份聚苯乙烯磺酸的 水冷液中。此時反應混合物的pH為1. 22。反應混合物在 18 C授拌23小時。然後’向反應混合物中加人154份陽 ,子父換樹脂和232份陰離子交換樹脂並攪拌2小時。接 著,過濾掉離子交換樹脂,獲得一種去離子的水分散體 1〇 (2〇33份:固含量1.39%),其含有聚(3, 4-伸乙二氧基 11 塞吩)和聚苯乙烯磺酸。 實施例6 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 首先’將49份1%硫酸鐵(ΠΙ)的水溶液、20份濃 15鹽酸溶液、8. 8份3, 4-伸乙二氧基噻吩和117份10· 9%過 焦硫酸水溶液加入到1887份含有22. 2份聚苯乙烯磺酸的 水溶液中。此時反應混合物的pH為〇. 95。反應混合物在 18 C授拌23小時。然後,向反應混合物中加入154份陽 離子交換樹脂和232份陰離子交換樹脂並攪拌2小時。接 20著’過濾掉離子交換樹脂,獲得一種去離子的水分散體 (2〇61份:固含量1.37%),其含有聚(3,4-伸乙二氧基 σ 塞吩)和聚苯乙烯磺酸。 實施例7 -17- 國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公楚) 1309654 五、發明說明(16) 首先,將5份聚酯樹脂水分散體、4份N-甲基甲醯胺 和1份氟碳化合物界面活性劑加入到90份實施例1中獲 得的含有聚(3, 4-亞乙二氧基噻吩)和聚苯乙烯磺酸的錯 合物的水分散體中,混合物攪拌一個小時,這樣獲得100 5 份塗料組合物。 實施例8至12 除了將在實施例1中獲得的水分散體分別用在實施例 2至6中獲得的水分散體代替外,其它操作與實施例7中 10 的相同,這樣分別獲得100份塗料組合物。 比較例2 除了將在實施例1中獲得的水分散體用在比較例1中 獲得的水分散體代替外,其它操作與實施例7中的相同, 15 這樣獲得100份塗料組合物。 實施例13 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 將在實施例7中獲得的塗料組合物分別使用三種型式 的拉絲錠塗布在PET膜的表面上,然後乾燥,這樣可得到 20 塗布有薄膜的基材。表1列出了對所獲得的塗布基材的總 透光率和霧霾值的評價結果以及基材上薄膜的表面電阻率 和粘接力。用作基材的PET膜的總透光率和霧霾值為 87. 8%和 1.9%。 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1309654 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 五、發明說明(17) 實施例14至18 除了將在實施例7中獲得的塗料組合物分別用在實施 例8至12中獲得的塗料組合物代替外,其它操作與實施 例13中的相同。表1集中列出了對在基材表面上所獲得 5 的薄膜的評價結果。 比較例3 除了將在實施例7中獲得的塗料組合物用在比較例2 中獲得的塗料組合物代替外,其它操作與實施例13中的 10 相同。表1集中列出了對在基材表面上所獲得的薄膜的評 價結果。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) 1309654
經濟部智慧財產局員工消費合作社印製
'表^中可以看出,與比較例相比,所有的實施例都 二現出更南的總透光率和更低的表面電阻率。實施例的霧 霾值和㈣力與比較·此基本相等。而且,將在實施例 13至18和比較例3中獲得的塗布有薄膜的基材彎曲5〇 次,每次都在相反的方向上,使得每一個彎曲膜凹面部分 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格^210 χ 297公髮) 1309654 五、發明說明(19) 的半徑為1 cm,並且測量’曾曲前後的表面電阻率。在所有 的情況下,表面電阻率基本上沒有變化(在±5%範圍 内),這表明它們是撓性的。圖1表示表1中列出的塗布 基材的總透光率和表面電阻率之間的關係。從圖中讀出了 5 在總透光率為80%時的表面電阻率,表2列出了所有結 果。 表2 錯合物的 水分散體 氧化劑 酸 在總透光率為 80%時的表面 電阻率 (Ω/Π) 實施例13 實施例1 過焦硫酸 - 600 實施例14 實施例2 過焦硫酸鈉 硫酸 560 實施例15 實施例3 過焦硫酸 硫酸 470 實施例16 實施例4 過焦硫酸 濃硝酸 390 實施例17 實施例5 過焦硫酸 三氟曱磺酸 420 實施例18 實施例6 過焦硫酸 濃鹽酸 350 比較例3 比較例1 過焦硫酸鈉 - .1300 10 從表2中可以看出,在實施例13中,將使用過焦硫 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 酸作為氧化劑所生產的含有水分散體(實施例1)的組合 物(實施例7)塗布到基材上,在總透光率為80%時的表 面電阻率( 600Ω/1Ι1)比使用過焦硫酸鈉的對比實施例3 低50%以上。 15 同樣在實施例14中,將含有水分散體(在實施例2 中獲得的,該水分散體對應於藉由向比較例1中加入硫酸 -21- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐)
發明說明(20 1309654 將pH調至0.93獲得的水分散體)的組合物(在實施例8 中獲得)塗布到基材上,在總透光率為80%時的表面電阻 率從1300Ω/〇 (對比實施例3,使用對比實施例丄的水 分散體)減少至560〇/口。 5 而且,藉由使用過焦硫酸作為氧化劑,並且用如實施 例3-6中相同的方式進一步加入有機酸或無機酸來降低 PH,進一步降低了在總透光率為8〇%時的表面電阻率(見 實施例15至18)。 這樣’藉由使用過焦硫酸作為氧化劑或者將任音的氧 1〇化劑與用於降低PH的酸-起使用,可以獲得一祕有良 好透明性和導電性的塗布基材。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明含有水分散體(其含有聚(3, 4_二烷氧基噻 吩)和聚陰離子的錯合物)的塗料組合物可以藉由濕法容 易地成膜,並且所述膜具有撓性和傑出的透明性和導電 15性。因此本發明塗料組合物可以用於生產電致發光顯示屏 的表面電極、液晶顯示屏的像素電極、電容電極、各種透 明電極例如觸摸屏的透明電極、以及陰極射線管顯示屏的 電磁屏蔽。另外,該組合物可以在低溫下成膜,並且所成 膜具有柔韌性,因此當作為在塑料膜基材上形成的透明導 20電膜時,該膜特別有用。 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐)

Claims (1)

1309654 申請專利範圍 A8 專利申請案第92120310號 B8 ROC Patent Application No.92120310 CB 修正之申請專利範圍中文本替換頁-附件(四) D8 Amended Claims in Chinese - Encl.i'TV') (民國97年8月β曰送呈) (Submitted on August ? 2008) 1. 一種水分散體的製造方法,所述水分散體含有聚 (3, 4-亞乙基二氧基嘍吩)和一種聚陰離子的錯合 物,該方法包括:將由分子式(1)表示的3, 4-二烷氧 基噻吩聚合: R10 OR" (i) S 其中R1和R2獨立為氫或Cm烷基,或者共同形成一個 可以任選被取代的Cw伸烷基, 其中聚合反應是在聚陰離子存在下藉由使用過焦硫酸 作為氧化劑在含水溶劑中進行的;且聚陰離子為多羧酸或 多石黃酸。 2. —種水分散體的製造方法,所述水分散體含有聚 (3, 4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的錯合物,該 方法包括:將由分子式(1)表示的3, 4-二烷氧基噻 吩化學氧化聚合: t1 10 15 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 R10 OR2 (Ο 20 其中R1和R2獨立為氫或Cw烷基,或者共同形成一個 可以任選被取代的G-4伸烷基, 其中聚合反應是在聚陰離子存在下藉由使用氧化 -23 *· 92318B-接 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) A8 1309654 B8 Co D8 六、申請專利範圍 劑在含水溶劑中進行的,其中加入一種選自水溶性無 機酸和水溶性有機酸的酸,用於降低所得反應混合物 的pH至pH值1.5或更低;且聚陰離子為多羧酸或多 績酸。 5 3. —種水分散體的製造方法,所述水分散體含有聚 (3, 4-二烷氧基噻吩)和一種聚陰離子的錯合物,該 方法包括:將由分子式(1)表示的3, 4-二烷氧基噻 吩聚合: R10 OR2
10 其中R1和R2獨立為氫或Cm烷基,或者共同形成一個 可以任選被取代的Cl-4伸烷基, 其中聚合反應是在聚陰離子存在下藉由使用過焦 硫酸作為氧化劑在含水溶劑中進行的,其中加入一種 15 選自水溶性無機酸和水溶性有機酸的酸,用於降低所 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 得反應混合物的pH至pH值1.5或更低;且聚陰離子 為多缓酸或多項酸。 4. 一種根據申請專利範圍第1至3項中任一項的方法製 造的水分散體,其含有聚(3,4-二烷氧基噻吩)和一 20 種聚陰離子的錯合物。 5. —種塗料組合物,其含有: 申請專利範圍第4項的含有聚(3,4-二烷氧基 -24 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210 X 297公釐) * A8 .1309654 ^ _D8_ 六、申請專利範圍 噻吩)和一種聚陰離子的錯合物的水分散體,和 一種化合物,其選自含有醯胺基的水溶性化合 物、含有經基的水溶性化合物、水溶性亞艰化合物、水 溶性艰化合物。 5 6. —種具有透明導電膜的基材,其藉由將申請專利範圍 第5項的塗料組合物塗敷在基材的表面上並乾燥所得 基材獲得的;其中該基材為塑膠板、塑膠膜、不織布 . 或玻璃板。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 5 2 HJ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS)A4規格(210x297公釐) 1309654 (一) 、木案指定代表圖爲:第_圖 (二) 、本代表圖之元件代表符號簡早說明: Μ /\\\
本燊若有化學式時,請掲示较能顯示#叨特徴的 迦 j\ w 第2-1頁
TW092120310A 2002-07-26 2003-07-25 Aqueous dispersion containing a complex of poly (3,4-dialkoxythiophene) and a polyanion and method for producing the same TWI309654B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002217571A JP4077675B2 (ja) 2002-07-26 2002-07-26 ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200413433A TW200413433A (en) 2004-08-01
TWI309654B true TWI309654B (en) 2009-05-11

Family

ID=29997286

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW092120310A TWI309654B (en) 2002-07-26 2003-07-25 Aqueous dispersion containing a complex of poly (3,4-dialkoxythiophene) and a polyanion and method for producing the same

Country Status (12)

Country Link
US (2) US8592520B2 (zh)
EP (1) EP1384739B1 (zh)
JP (1) JP4077675B2 (zh)
KR (1) KR100973623B1 (zh)
CN (1) CN1303153C (zh)
AT (1) ATE376018T1 (zh)
CA (1) CA2436032C (zh)
DE (1) DE60316875T2 (zh)
HK (1) HK1064691A1 (zh)
MX (1) MXPA03006692A (zh)
RU (1) RU2327708C2 (zh)
TW (1) TWI309654B (zh)

Families Citing this family (82)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10103416A1 (de) * 2001-01-26 2002-08-01 Bayer Ag Elektrolumineszierende Anordnungen
US7462298B2 (en) 2002-09-24 2008-12-09 E.I. Du Pont De Nemours And Company Water dispersible polyanilines made with polymeric acid colloids for electronics applications
ATE404609T1 (de) 2002-09-24 2008-08-15 Du Pont Wasserdispergierbare polythiophene hergestellt unter verwendung von kolloiden auf basis von polymersäuren
US7390438B2 (en) 2003-04-22 2008-06-24 E.I. Du Pont De Nemours And Company Water dispersible substituted polydioxythiophenes made with fluorinated polymeric sulfonic acid colloids
JPWO2004106404A1 (ja) * 2003-05-27 2006-07-20 富士通株式会社 有機導電性ポリマー組成物、それを用いた透明導電膜及び透明導電体、並びに、該透明導電体を用いた入力装置及びその製造方法
US7351358B2 (en) 2004-03-17 2008-04-01 E.I. Du Pont De Nemours And Company Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications
KR100586659B1 (ko) * 2004-04-01 2006-06-07 주식회사 디피아이 솔루션스 유기 전극 코팅용 조성물 및 이를 이용한 고투명성 유기전극의 제조방법
US7354532B2 (en) 2004-04-13 2008-04-08 E.I. Du Pont De Nemours And Company Compositions of electrically conductive polymers and non-polymeric fluorinated organic acids
JP2006028214A (ja) 2004-07-12 2006-02-02 Nagase Chemtex Corp ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法
JP2006310729A (ja) * 2005-03-28 2006-11-09 Dainippon Printing Co Ltd 有機薄膜太陽電池
JP2006278582A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Dainippon Printing Co Ltd 有機薄膜太陽電池
JP2006278583A (ja) * 2005-03-28 2006-10-12 Dainippon Printing Co Ltd 有機薄膜太陽電池
JP4660255B2 (ja) * 2005-04-11 2011-03-30 帝人デュポンフィルム株式会社 導電性フィルム
JP4890782B2 (ja) * 2005-04-18 2012-03-07 帝人デュポンフィルム株式会社 導電性フィルムおよびその製造方法
JP4823570B2 (ja) * 2005-05-27 2011-11-24 信越ポリマー株式会社 導電性高分子溶液及び導電性塗膜
JP5323478B2 (ja) 2005-06-27 2013-10-23 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 導電性ポリマー組成物
WO2007002737A2 (en) 2005-06-28 2007-01-04 E. I. Du Pont De Nemours And Company High work function transparent conductors
CN102708945B (zh) * 2005-09-29 2015-09-30 信越聚合物株式会社 触摸板用透明导电薄片及其制造方法以及触摸板
US9172043B2 (en) * 2005-10-28 2015-10-27 Nissan Chemical Industries, Ltd. Charge-transporting varnish for spray or ink jet application
KR20080072053A (ko) * 2005-11-16 2008-08-05 나가세케무텍쿠스가부시키가이샤 도전성 수지 조성물, 이를 사용하여 이루어진 도전성 필름,및 이를 사용하여 이루어진 저항막식 스위치
KR101327242B1 (ko) 2005-11-17 2013-11-12 헤레우스 프레셔스 메탈스 게엠베하 운트 코. 카게 폴리(3,4-디알콕시티오펜)과 폴리음이온의 복합체의수분산체의 제조방법
US20070246689A1 (en) * 2006-04-11 2007-10-25 Jiaxin Ge Transparent thin polythiophene films having improved conduction through use of nanomaterials
JP4868308B2 (ja) * 2006-06-22 2012-02-01 ナガセケムテックス株式会社 転写用機能性薄膜の形成用組成物およびそれを用いた機能性薄膜被覆樹脂成形体の製造方法
TW200828604A (en) * 2006-12-26 2008-07-01 Univ Nat Chiao Tung Polymer solar energy cell and the making method thereof
US8062553B2 (en) 2006-12-28 2011-11-22 E. I. Du Pont De Nemours And Company Compositions of polyaniline made with perfuoropolymeric acid which are heat-enhanced and electronic devices made therewith
US8153029B2 (en) 2006-12-28 2012-04-10 E.I. Du Pont De Nemours And Company Laser (230NM) ablatable compositions of electrically conducting polymers made with a perfluoropolymeric acid applications thereof
US20080191172A1 (en) 2006-12-29 2008-08-14 Che-Hsiung Hsu High work-function and high conductivity compositions of electrically conducting polymers
CN101077950B (zh) * 2007-04-23 2010-05-19 上海复旦天臣新技术有限公司 导电墨水及其制备方法和应用
US7830646B2 (en) * 2007-09-25 2010-11-09 Ioxus, Inc. Multi electrode series connected arrangement supercapacitor
JP2009190214A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Mitsubishi Plastics Inc 積層ポリエステルフィルム
US20090279230A1 (en) * 2008-05-08 2009-11-12 Renewable Energy Development, Inc. Electrode structure for the manufacture of an electric double layer capacitor
US8411413B2 (en) 2008-08-28 2013-04-02 Ioxus, Inc. High voltage EDLC cell and method for the manufacture thereof
JP2010018698A (ja) * 2008-07-10 2010-01-28 Nagase Chemtex Corp 導電性コーティング用組成物及び導電性ポリマー含有水分散体
JP4903760B2 (ja) * 2008-08-05 2012-03-28 Necトーキン株式会社 導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、電解コンデンサ、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法
JP4903759B2 (ja) * 2008-08-05 2012-03-28 Necトーキン株式会社 導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、電解コンデンサ、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法
JP5177669B2 (ja) 2008-10-15 2013-04-03 Necトーキン株式会社 導電性高分子組成物およびそれを用いた固体電解コンデンサ
JP2010104068A (ja) * 2008-10-21 2010-05-06 Dainippon Printing Co Ltd 静電アクチュエータ
JP4565522B2 (ja) * 2008-10-31 2010-10-20 テイカ株式会社 導電性高分子の分散液の製造方法、導電性高分子の分散液、導電性高分子およびその用途
JP2010182426A (ja) 2009-02-03 2010-08-19 Nec Tokin Corp 導電性高分子組成物およびその製造方法、並びに導電性高分子組成物を用いた固体電解コンデンサ
JP5317758B2 (ja) * 2009-02-26 2013-10-16 学校法人早稲田大学 ポリチオフェン又はチオフェン共重合体の溶液又は分散液並びにその製造方法
JP2011093993A (ja) * 2009-10-28 2011-05-12 Marubishi Oil Chem Co Ltd 導電性ポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)コロイド水溶液及びその製造方法
JP5410251B2 (ja) 2009-11-26 2014-02-05 Necトーキン株式会社 導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、電解コンデンサ、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法
JP5465025B2 (ja) 2010-01-27 2014-04-09 Necトーキン株式会社 導電性高分子懸濁液およびその製造方法、導電性高分子材料、固体電解コンデンサおよびその製造方法
JP2010090397A (ja) * 2010-01-29 2010-04-22 Nagase Chemtex Corp ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法
JP5491246B2 (ja) * 2010-03-25 2014-05-14 Necトーキン株式会社 導電性高分子およびその製造方法、導電性高分子分散液、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法
WO2012023992A1 (en) 2010-08-20 2012-02-23 Rhodia Operations Films containing electrically conductive polymers
CA2826072A1 (en) * 2011-02-03 2012-08-09 Nagase Chemtex Corporation Infrared reflective substrate
EP2684694B1 (en) 2011-03-08 2016-03-02 Toray Industries, Inc. Laminated polyester film, molding member, compact, and manufacturing method thereof
DE102011006751A1 (de) 2011-04-05 2014-04-10 Nec Tokin Corp. Suspension elektrisch leitfähiger Polymere und Verfahren zu deren Herstellung, elektrisch leitfähiges organisches Material sowie Elektrolytkondensator und Verfahren zu dessen Herstellung
US9087640B2 (en) 2011-04-08 2015-07-21 Nec Tokin Corporation Conductive polymer suspension and method for producing the same, conductive organic material, and electrolytic capacitor and method for producing the same
DE112012001624T5 (de) * 2011-04-08 2014-01-16 Nec Tokin Corporation Elektrisch leitende Polymerlösung, elektrisch leitendes Polymermaterial und Verfahren zur Herstellung derselben, und Festelektrolythkondensator
RU2560875C2 (ru) 2011-04-28 2015-08-20 Асахи Касеи Финечем Ко., Лтд. Новая поливинилсульфоновая кислота, ее применение и способ ее получения
US8398234B2 (en) 2011-05-03 2013-03-19 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Electro-thermal antifog optical devices
JP5441952B2 (ja) 2011-05-17 2014-03-12 Necトーキン株式会社 導電性高分子懸濁溶液およびその製造方法、導電性高分子材料、ならびに電解コンデンサおよびその製造方法
WO2013073259A1 (ja) * 2011-11-16 2013-05-23 東ソー有機化学株式会社 高純度パラスチレンスルホン酸(塩)、それを用いたポリスチレンスルホン酸(塩)、およびポリスチレンスルホン酸(塩)を用いた、分散剤、導電性ポリマードーパント、ナノカーボン材料水性分散体、導電性ポリマー水性分散体、ならびにポリスチレンスルホン酸(塩)の製造方法
JP5867005B2 (ja) * 2011-11-22 2016-02-24 東ソー株式会社 分散剤及びその分散剤を用いた分散方法
JP5952551B2 (ja) 2011-12-12 2016-07-13 Necトーキン株式会社 導電性高分子組成物およびその製造方法、導電性高分子材料の製造方法、導電性基材の製造方法、電極の製造方法、電子デバイスの製造方法並びに固体電解コンデンサの製造方法
JP5872872B2 (ja) 2011-12-12 2016-03-01 Necトーキン株式会社 導電性高分子組成物の製造方法、導電性高分子材料の製造方法、導電性基材の製造方法、電極の製造方法および固体電解コンデンサの製造方法
JP5706998B2 (ja) 2012-04-26 2015-04-22 国立大学法人大阪大学 透明導電性インク及び透明導電パターン形成方法
JP6075144B2 (ja) * 2013-03-25 2017-02-08 三菱マテリアル株式会社 LaNiO3薄膜形成用組成物及びこの組成物を用いたLaNiO3薄膜の形成方法
JP5476618B1 (ja) * 2013-03-29 2014-04-23 パナソニック株式会社 導電性高分子微粒子分散体の製造方法およびその導電性高分子微粒子分散体を用いた電解コンデンサの製造方法
US9854670B2 (en) 2013-08-22 2017-12-26 Showa Denko K.K. Transparent electrode and method for producing same
JP6459729B2 (ja) * 2015-04-02 2019-01-30 新日鐵住金株式会社 塗装基材の製造方法
CN105602347B (zh) * 2015-12-22 2018-06-19 江南大学 一种可紫外光二聚的pedot水分散液及其制备方法
CN106571457A (zh) * 2016-11-11 2017-04-19 深圳市鑫永丰科技有限公司 一种硅基负极材料及其制备方法
WO2018203830A1 (en) * 2017-05-03 2018-11-08 Agency For Science, Technology And Research A sulfone additive for conducting polymers
CN111527574B (zh) * 2017-12-25 2022-12-09 昭和电工株式会社 固体电解电容器制造用分散液组合物和固体电解电容器的制造方法
WO2020033817A1 (en) 2018-08-10 2020-02-13 Avx Corporation Solid electrolytic capacitor containing polyaniline
KR102659642B1 (ko) 2018-08-10 2024-04-22 교세라 에이브이엑스 컴포넌츠 코포레이션 고유 전도성 중합체를 포함하는 고체 전해 커패시터
JP7442500B2 (ja) 2018-08-10 2024-03-04 キョーセラ・エイブイエックス・コンポーネンツ・コーポレーション 導電性ポリマー粒子から形成される固体電解キャパシタ
CN118213199A (zh) 2018-12-11 2024-06-18 京瓷Avx元器件公司 含有本征导电聚合物的固体电解电容器
DE112020002426T5 (de) 2019-05-17 2022-01-27 Avx Corporation Festelektrolytkondensator
CN114521278A (zh) 2019-09-18 2022-05-20 京瓷Avx元器件公司 用于高电压下使用的固体电解电容器
CN114787952A (zh) 2019-12-10 2022-07-22 京瓷Avx元器件公司 包含预涂层和本征导电聚合物的固体电解电容器
KR20220113704A (ko) 2019-12-10 2022-08-16 교세라 에이브이엑스 컴포넌츠 코포레이션 안정성이 증가된 탄탈 커패시터
US11631548B2 (en) 2020-06-08 2023-04-18 KYOCERA AVX Components Corporation Solid electrolytic capacitor containing a moisture barrier
EP4347708A1 (en) 2021-06-04 2024-04-10 Agfa-Gevaert Nv Polythiophene/polyanion compositions
JP2024529789A (ja) 2021-06-08 2024-08-09 アグフア-ゲヴエルト,ナームローゼ・フエンノートシヤツプ 新規のポリチオフェン/ポリアニオン組成物
EP4279524A1 (en) 2022-05-20 2023-11-22 Agfa-Gevaert Nv Novel polythiophene/polyanion compositions
WO2024046965A1 (en) 2022-09-01 2024-03-07 Agfa-Gevaert Nv Method of preparing a polymer capacitor, a conductive polymer composition, and it's use as a conductive layer in an electronic device
CN115558399B (zh) * 2022-10-14 2023-11-07 江苏中新瑞光学材料有限公司 一种耐候电致变色涂料及其制备方法
EP4435065A1 (en) 2023-03-20 2024-09-25 Agfa-Gevaert Nv Conductive polymer dispersion

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3507419A1 (de) * 1985-03-02 1986-09-04 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur herstellung von verbundstoffen aus metallen und elektrisch leitfaehigen polymeren
DE59010247D1 (de) * 1990-02-08 1996-05-02 Bayer Ag Neue Polythiophen-Dispersionen, ihre Herstellung und ihre Verwendung
DE4216762A1 (de) * 1992-05-21 1993-11-25 Agfa Gevaert Ag Antistatische Kunststoffteile
ATE228545T1 (de) * 1994-05-06 2002-12-15 Bayer Ag Leitfähige beschichtungen
DE19507413A1 (de) * 1994-05-06 1995-11-09 Bayer Ag Leitfähige Beschichtungen
CN1155167A (zh) * 1996-01-16 1997-07-23 南京大学 聚噻吩-导电纤维复合膜及其制法和用途
JP2000060736A (ja) * 1998-08-19 2000-02-29 Meka:Kk 飲料ディスペンサ
KR100442408B1 (ko) * 1998-11-05 2004-11-06 제일모직주식회사 고전도성및고투명성을갖는폴리티오펜계전도성고분자용액조성물
US6333145B1 (en) * 1998-11-17 2001-12-25 Agfa-Gevaert Method for preparing a conductive polythiophene layer at low temperature
US6197418B1 (en) * 1998-12-21 2001-03-06 Agfa-Gevaert, N.V. Electroconductive glass laminate
JP4004214B2 (ja) 2000-08-24 2007-11-07 ナガセケムテックス株式会社 帯電防止コーティング用組成物
DE60219197T2 (de) * 2001-12-04 2008-01-03 Agfa-Gevaert Verfahren zur herstellung von lösungen oder dispersionen von polythiophenepolymeren
EP1323764A1 (en) * 2001-12-20 2003-07-02 Agfa-Gevaert Process for preparing an aqueous solution or dispersion of a polythiophene or thiophene copolymer
EP1323763A1 (en) * 2001-12-20 2003-07-02 Agfa-Gevaert 3,4-Alkylenedioxy-thiophene copolymers
US6995223B2 (en) * 2001-12-20 2006-02-07 Agfa-Gevaert 3,4-alkylenedioxy-thiophene copolymers
JP2006028214A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Nagase Chemtex Corp ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ATE376018T1 (de) 2007-11-15
CA2436032C (en) 2011-02-01
EP1384739A1 (en) 2004-01-28
DE60316875T2 (de) 2008-07-31
RU2327708C2 (ru) 2008-06-27
HK1064691A1 (en) 2005-02-04
US20130149435A1 (en) 2013-06-13
CN1303153C (zh) 2007-03-07
EP1384739B1 (en) 2007-10-17
DE60316875D1 (de) 2007-11-29
MXPA03006692A (es) 2005-04-11
US20040152832A1 (en) 2004-08-05
US8512812B2 (en) 2013-08-20
CA2436032A1 (en) 2004-01-26
US8592520B2 (en) 2013-11-26
JP4077675B2 (ja) 2008-04-16
KR100973623B1 (ko) 2010-08-02
TW200413433A (en) 2004-08-01
RU2003123019A (ru) 2005-02-10
JP2004059666A (ja) 2004-02-26
CN1488671A (zh) 2004-04-14
KR20040010392A (ko) 2004-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI309654B (en) Aqueous dispersion containing a complex of poly (3,4-dialkoxythiophene) and a polyanion and method for producing the same
KR101249258B1 (ko) 폴리(3,4-디알콕시티오펜)과 폴리음이온과의 복합체를 함유하는 수분산체의 제조방법
TW555778B (en) Process for the preparation of water-soluble pi-conjugated polymers
JP5719096B2 (ja) ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法
US7354532B2 (en) Compositions of electrically conductive polymers and non-polymeric fluorinated organic acids
US7338620B2 (en) Water dispersible polydioxythiophenes with polymeric acid colloids and a water-miscible organic liquid
US7981323B2 (en) Selenium containing electrically conductive copolymers
EP1730211B1 (en) Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications
US20080248314A1 (en) Water dispersible polythiophenes made with polymeric acid colloids
US20090140219A1 (en) Selenium Containing Electrically Conductive Polymers and Method of Making Electrically Conductive Polymers
JP2010090397A (ja) ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法
TW200307954A (en) Transparent polythiophene layers of high conductivity
US20120165467A1 (en) New polyelectrolyte complexes and the use thereof

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent