TWI309226B - Adsorption pad - Google Patents

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1309226 玖、發明說明：

t Λ ~J 發明領域 本發明涉及一種吸附墊，它包括墊部和支撐部，該墊 5部具有：由產生比支撐上述對象物産生的負荷的支撐力大 的吸附力的真空、對被支撐的面爲平面的對象物的上述被 支撐面進行吸附的支撐面以及被支撐的被支撐部，該支撐 部，支撐上述被支撐部，尤其涉及在液晶玻璃基板的熱處 理的移送時防止真空吸附面脫落的技術。 背景技術 對液晶顯示器用玻璃基板（以下，簡稱爲“玻璃基板，，) 等具有平面狀的被支撐部的對象物、在熱處理或其前後的 工序進行移送時，通常使用安裝在機械手上的多個吸附 15 墊。即’爲了以某種程度的高速且安全地移動.移送玻璃 基板，不但將它簡單地放在機械手上，而且通過吸附墊牢 固地真空吸附玻璃基板。 這種基板移送部分的結構，通常，如第5圖所示，由玻 璃基板W、承栽該基板W的4個吸附墊1’的墊2’、被配置於 20機械手1〇上並安裝著該墊2’的支撐體3’、與形成在塾2’中並 與支撐體3’一側相導通的真空吸引用的通路25、形成在墊2’ 的下部與支撐體3’之間的球面狀支撐面24’及33’等構成。而 ，通過球面狀支撐面的墊的旋轉’可與玻璃基板的彎曲 或4個墊的支撐面的傾斜角的誤差相對應。（例如參照專利 1309226 文獻1。） 專利文獻1 :特開平07 —237765號公報（第1圖、第2圖 及相關說明） 但是，在由上述的現行的吸附墊將lm左右的方形的大 5 型的玻璃基板放入280°C左右的熱處理室進行熱處理後取 出進行移送時’産生玻璃基板W與吸附墊Γ的吸附支擇面22 之間的真空度降低的問題。 這個問題被認爲是由於玻璃基板的大型化而使作爲多 個吸附塾之間的最大間隔的圖示的Cm變長，並在取出高溫 10 的玻璃基板時，其溫度急劇地下降而使熱收縮的量變大， 又因玻璃基板與機械手之間的相對變位使它們雙方均向處 在其中間的吸附墊施加外力，而在現行的結構中不能與之 相對應，是産生破壞真空的動作。另外，由於玻璃基板的 大型化而産生重量增加’故也關係到在移送時在玻璃基板 15上産生的前進方向的慣性力的影響等。 即’如第ό圖所示’在現行的球面支撐結構的吸附墊 中’右玻璃基板沿箭頭所示方向收縮、吸附墊的接觸面沿 其方向被力F拉引’則在吸附墊的球面狀支撐面上産生的以 I體阻止其拉引的力—F、作用在力的作用面的重心位置， 20對應於拉力F與阻力—F和它們的間隔h，使爲M==Fh的力矩 作用於吸附塾上，而使其如箭頭方向所示在圖中沿順時針 方向旋轉。 在這種情況下，由於墊2,被支撐體3,所支撐、不能直接 沿F的作用方向運動，故F、—F是具有要大到改變與它們相 6 1309226 關部分的支撐狀態的性質的力。而且，會産生使一側的吸 附支撐面22a以另一側的支撐面22b爲支點 '從玻璃基板W 的下面\\^要離開的脫離力，如第6(a)圖所示那樣，有與玻 璃基板的接觸面離開而吸入大氣、破壞其中的真空狀態的 5 可能性。 另外，如第6(b)圖所示，由F與一F的平行力偶使墊2與 玻璃基板一起沿玻璃基板W的收縮方向被拉引而浮起，使 球面狀支撐面24,與33,之間離開，並使外部氣體從該部分進 入處於真空狀態的通路25，而會對真空産生破壞。 10 【屬^明内容】 發明概要 而且，實際上由上述原因會產生破壞真空的不良現 象。因此，本發明解決了現行技術的上述問題，其目的在 於提（、種即使在對象物的熱變位元等大的情況下也能可 15罪地防止真空破壞的吸附塾。 本發明爲了上述目的，第丨項發明的吸附墊，包括墊部 和支撐部’該墊部具有：由産生比支撐上述對象物産生的 負荷的讀力大的吸附力的真空、對被讀的面爲平面的 對象物的上述被切面進行韻的域面以及被支撐的被 支撐部’該切部，支撐上述被支撐部，其特徵在於： "^被支卩與上述支撐部，冑上述墊部可沿與上述 平才，平仃的方向移動、並且上述支撐面可傾斜的支撐關 有限制上述移動的量在小移動範圍内的移動限制 、’。^、限制上述傾斜的量在小傾斜範圍内的傾斜限制結 20 1309226 構部。 在第2項發明中，除上述以外，其特徵在於：上述支撐 部具有放入上述被支撐部的空間部；上述墊部具有與上述 支樓面相導通、形成在上述被支撐部中並在上述空間部具 5有開口的通路，以形成上述真空；並且還具有密封部件， »亥ί&、封部件，在上述空間部的從上述開口位置到上述支樓 面一側分隔上述空間部，遮斷被分隔的兩側的透氣性，並 且對應上述移動與上述傾斜可變形。 圖式簡單說明 10 第i(a)圖是表示應用本發明的吸附墊的截面狀態的一 例的說明圖、第1(b)圖是表示將該吸附墊安裝在機械手上的 狀態的俯視圖。 第2(a)及2(b)圖是表示應用本發明的吸附墊的另一例 的載面狀態的說明圖。 15 第3圖是弟1圖的吸附塾的原理的說明圖。 第4圖是表示應用本發明的吸附墊的再一例的說明 圖’第4⑷及4(b)圖分別是第4(b)及4(a)圖的a_a線及b — b 線的箭頭不意圖。 第5(a)圖是表示現行的吸附墊的截面狀態的一例的說 20明圖、第5(b)圖是表示將該吸附墊安裝在機械手上的狀態的 俯視圖。 第6(a)及6(b)圖是上述現行的吸附墊的原理的說明圖。 【實施冷式2 具體實施方式 1309226 第1(a)圖是表示應用本發明的吸附墊的整體構成的一 例的說明圖。 吸附墊1 ’包括.具有支撐面22和作爲被支撐的被支撐 部的筒狀部23的墊部的墊2、作爲可支撐筒狀部23的支撐部 5的支撐箱3、及作爲密封部件的襯片4等，其中，上述支撐 面22,爲形成在上端的中央部分21的周圍的邊緣部分、由 真空可吸附作爲被支撐的面的截面狀態爲圖示的平面汛的 對象物的玻璃基板W(以下簡稱爲“基板w”)的被支撐的下 面W!。 1〇 上述的本實施例的吸附塾卜如第吵)_示，被安裝 在機械手10上。即，將支樓箱3固定安裝在機械手職具有 如圖示的尺寸的位置。尺寸Cm是在本實施例中安裝4個的 墊1的最大_。此外’基板w的實際的支撑體是機械手， 支撐箱3也可直接形成在機械手1〇上。另外，在⑼圖中以2 b個機械手10相分離的狀態進行表示，但它們在未圖示的位 置爲一體化。 墊2的筒狀部23與支撐箱3，具有墊2可沿與平面Ft相平

行的方向、即圖示的截面狀態的橫又方向移動、且支撐面U 可傾斜的支撐關係。可移動及傾斜的支撐關係，是以使支 2〇撐箱3不限制筒狀部23的X方向的運動、並且在墊2以支撐筒 狀部23的狀態旋轉時使不會妨礙其旋轉的方式實現的。例 如，在如現行的吸附墊那樣的球面支撐關係中因爲阻止 墊向平面方向移動’所以即使可旋轉也並不是可移動的支 撐關係。 1309226 由此，在本實施例中，如圖示那樣，將筒狀部23的下 端部23a形成爲曲面狀’並將承受其的支撐箱3的與下端部 23a相接觸的面設置成截面朝向橫X方向的平面部31。而 且’除此之外沒有設置妨礙移動與旋轉的結構部分。此外， 5 下端部23a與平面部31的曲面和平面的關係也可相反。另 外，雖然只要一側爲小面積則、即使是平面之間的關係也 可以’但是爲了使旋轉圓滑，最好是將任一個面設爲曲面。 另外’下端部23a通常只在相當於支撐面22的中心的位置設 置1處，但也可形成多個曲面。 10 下端部23a與平面部31之間的關係，理想是使塾2容易 移動與旋轉的支撐關係。由此，在下端部23a與平面部31之 間不産生大的摩擦力。這樣，不把這些部分設爲例如橡膠 那樣的材料，而設成具有一定程度的硬度、原本摩擦係數 不大的材料’並且相互的接觸面加工成爲一定程度圓滑的 15 .面，以使相互間的摩擦係數不太大。在這種情況下，因爲 吸附墊也被使用在向熱處理裝置移入、移出基板w，所以 作爲其材料要求要具有耐熱性，應優先考慮這方面。基於 這樣的條件，在本實施例中，在墊2及支撐箱3上分別使用 耐熱性樹脂材料及不銹鋼。而且，以一般的加工精度對它 2〇們進行加工，使兩者之間的摩擦係數在0.3〜0.4左右。 作爲限制移動的量在小移動的範圍内的移動限制結構 P在本實施例中’設有將被支撐部作爲筒狀部23的其圓 筒外面23b、和與圓筒外面空出窄間隔以並作爲從支擇箱3 凸出的凸出部而形成的内圈部32。如第1(b)圖所示的被安裝 1309226 、=附塾卜雖㈣了對其妹跡或勢而原本最好 :沿平面方向運動’但在本發明中，由於在吸附支撑時容 與基板w上産生的熱膨脹及熱收縮的熱變位相對應，故 作爲小移動的範圍，設定爲能夠確實允許上述熱變位的範

此外，作爲這種移動限制結構部，能夠採用其他適當 、、、-構例如纟可取代内圈部32而在筒狀部上安裝環， 並在其與支撑箱3的内面之間設置上述間隔q，或將内圈部 32攻成具有-定長度的長的筒狀的結構。如果將内圈部設 1〇成筒狀’則也可㈣在接著敍述的傾斜限懸構部上。

作爲限制傾斜量在小傾斜範圍内的傾斜限制結構部， 在本實施例中，设有塾2的上端的中央部分21及支揮面22的 下環面24、和與其相對向空出窄間隔&的支掉㈤的上端面 部33。如第1(b)圖那樣安裝的吸附墊卜雖然原本只要成爲 15與機械手10的面相平行的基準面即可，但必須可與前述的 基板W的彎曲或各自的墊的支撐面之間的傾斜角的誤差等 相對應。因爲間隔C2是爲此而設置的，所以例如支撐面22 可定爲傾斜到5°左右的範圍。 此外’作爲這種傾斜限制結構部，與移動限制結構部 20相同地也可採用其他適當的結構。例如，如上所述，如果 將内圈部32 s史爲具有一定的長度的筒狀，則在吸附藝丨傾斜 時’由内圈部32的上下端阻擋其傾斜的圓筒外面23b，因此 能夠將其作爲傾斜限制結構部。 另外，在本實施例的吸附塾1中，如圖所示，支樓箱3 11 1309226 具有放入筒狀部23的空間部34，墊2具有與支撐面22相導 通、形成在筒狀部23中並在空間部34中具有開口 25a的通路 25’以形成用於吸附基板w的真空。而且，設有上述襯片4, 該襯片4，在空間部34内的從開口 25a的位置到支撐面22一 5側分隔空間部34，並遮斷由被分隔開的外氣側34a及真空側 34b形成的兩側的透氣性，並且作爲對應墊2的移動與支撐 面22的傾斜可變形地形成的密封部件。符號35是與真空側 空間部34b相導通並與未圖示的真空配管相連接、在真空吸 引時通空氣的中間通路。 10 襯片4作爲分隔空間部34的結構，本實施例中，在筒狀 部23的開口 25a上方的位置，在圓筒外面23b對襯片4的内徑 側41進行密封黏接，同時，將支撐箱3分割成上下箱3a、3b 兩部分，並將襯片4的外徑側42夾在它們之間的槽部3(;中β 這樣的襯片4,被形成截面爲曲線狀的曲面狀，並且在本實 15施例中利用矽酮橡膠作爲具有柔軟性的材料，以便容易與 如上所述的墊2的移動與支撐面22的傾斜相對應而産生變 形。 這種襯片4,因爲只要能夠允許墊2向平面方向及旋轉 方向的運動、並且可對外氣側34a與真空側34b之間進行密 20 封即可’所以可設爲除第1圖的形狀以外的其他的適當的形 狀，第2圖表示其另一例。 … 其中（a)的結構’是將襯片4的内徑側41設成比圓筒外面 23b稍小徑的環端41a。符號23(；是限位件。本實施例的結構 是延伸環端41a並嵌在圓筒外面23b上進行安裝的。從而， 12 "'衣合易。另一方面，在圓筒外面23b與環端41a之間可由 其收縮力得到密封性。 夕（咖出的疋將概片4設爲截φυ字形的環狀的例子。内 &側41、42分別嵌入墊2的筒狀部刀及支撐箱3的槽部3c 並與匕們相接續的部分分別與圓筒外面23b及下箱外的 内面3比相接觸。 本實施例的襯片4,由於截面爲u字形 ，所以，當在其 土的作爲外部壓力的大氣壓Pa、和與通路25㈣真空相同 地幵;成真空的u字形外的真空壓力Pv之間產生壓力差時，由 4用塾2及支#箱3支撐襯丨4的側面及底面，故對於真空 的耐壓性好。另-方面，由於U字形的寬度容易擴大縮小， 故塾2容易沿橫X方向運動。並且，本實施例的概片4,因爲 具有既允許墊2移動又若其移動力肖失舰夠可#地使塾2 回復到原來的中心位置的作用，所以墊2的位置保持性好。 其結果，能夠使本實施例的襯片4設爲移動及傾斜限制結構 部。 ， 以上所述的本發明的吸附墊丨，通常如第1(b)圖所示被 安裝在機械手10上，用於基板w的向熱處理裝置的移入及 移出的製造工序中的移動，發揮以下的作用效果。 在熱處理裝置内，疊放多張基板评，例如加熱到2⑽ °C，若經過一定的加熱時間，則在丨個生産工序内逐張取出 熱處理元畢的基板並移入新的基板，依次進行熱處理。此 時使用裝備了本實施例的吸附墊的機械手來進行基板w板 的取出放入。 1309226 若將機械手10插入未圖示的熱處理裝置内、設定其位 置在應取出的基板W的下方，則上升並使基板w承載在第1 圖例中的4個吸附墊1的支撐面22上。此時，形成有支撐面 22的塾2 ’處於其筒狀部23在内圈部32中的大致基準位置， 5並由支撐箱3的上端面部33維持支撐面22的下方的環面24 在小傾斜角的範圍内，以使其容易移動及旋轉，因此若在 墊的支撐面22上承載基板W，則支撐面22在大致基準位置 沿基板W的下面相接觸，以支撐基板w。 另外’此時’安裝在自動機械上並驅動機械手1〇的未 10圖示的真空裝置動作，通過在機械手内或其外部、沿其導 引設置的未圖示的真空配管，依次經過形成在支撐箱3内的 中間通路35、真空側空間部34b、開口25a及形成在筒狀部 23内的通路25 ’從上端的中央部分21與基板的下面Wi之間 的間隙部分吸引空氣。其結果，4個吸附墊1的所有支撐面 15 22完全與基板的下面W!相接觸而對其進行吸附支撐。該吸 附力，如後所述，被設定爲比1個吸附墊丨所分擔的基板w 的重量部分的負荷支撐力大。 此時，基板W因熱處理而成爲280°C的溫度。另一方 面，因爲只是機械手10插入熱處理室内，所以溫度並不怎 20麼上升。在該狀態從熱處理室移出支撐基板W的機械手， 再將基板W移到下面的處理生產線。而且在這之間，基板 可在慢冷卻室或外面的外氣溫度環境下急劇地降低溫度。 其結果’在機械手1〇上的一定位置被支撐的基板貿産 生收縮。其收縮量，假如基板溫度從280°C下降到常溫，則 1309226 在1m左右的方形基板w的第丨圖的墊之間的最大距離之 間約爲lmm。此時，墊2承受來自基板w及支撐箱3的外力， 其關係表示在第3圖中。 在機械手10上，處在第1(b)圖的最大間隔(：111的位置關係 的吸附墊1，爲了使基板w收縮lmm左右而通過吸附支撐面 22由基板W的下面Wi沿平行其面的方向承受拉力，與此相 對’克服塾2的下端部23a與支撐箱3的平面部31之間的摩擦 力R。從而’若將拉力設爲F，則在墊2到運動之前爲F=—r 的關係，即作用有與摩擦力大小相同、方向相反的拉力F。 另一方面，在墊2上，作爲産生上述摩擦力尺的朝向下 方的垂直力，作用有基板W的自重G的這些吸附墊1的分擔 部分g，和在由真空産生的力作用在襯片4上時、因其産生 的向下施加在筒狀部23上的真空分擔力v。從而，若在上述 摩擦力作用的面之間的摩擦係數設爲V，則尺=#(§ + 4。 另外，若這樣因摩擦而作用由R與一R構成的力偶，則 據此，産生M^^Rh的力矩。h是圖示的R的作用面之間的距 離。該力矩Μι ’在墊的支撐面22的圖中，成爲産生要使右 端部分22a從基板的下面界,向圖中的下方脫離的力的脫離 力矩。從而，該力成爲要産生真空破壞的力。 與此相對’因爲在基板的下面霤丨與支撐面22之間作用 有由真空產生的吸附力V，所以若産生上述脫離力矩Ml， 則在圖中以支撐面22的左端部分22b爲中心産生M2 = VD/2 的黏接力矩，以與其相對抗。 從而，只要小於M2，則墊的支撐面22就不會從基板 15 1309226 下面W,脫離，因此不産生真空破壞。在此’比較]^1與肘2， 如下所示0

如果將由真空產生大氣壓Pa與真空壓力Pv的壓力差設 爲ΔΡ，將對支撐面22及襯片4的壓力部分的直徑分別設爲D 5 及d，貝J ν< ΔΡ(7Γ d2/4)(l/2)，假設v= APk d2/4)(l/2)、ν= ΔΡ7Γ D2/4)，則MAM2分別爲：

Mi=/z (g + v)h=/z gh+ μ. vh sygh(自重部分)+μ (真空部分)--(1) 10 M2=VD/2= △ Ρ( 7Γ D2/4)(D/2)---⑺。 在此’機械手1 〇儘董製作得較薄，以減輕其重量，另 一方面，支撐面22的直徑，爲要獲得保持基板所必需的吸 附力的大小、被設爲D与3h左右。另外，如前所述的真空吸 附力V，比分擔負％的支樓力g大。另外，在中存在例如 15 〇.3左右的A。並且，因舄概片4被放入支撐箱3的空間部34 内，所以其直徑d比支撐面22的直徑〇充分小，例如被設爲 D=2d左右。其結果，假使v爲g的2倍左右，m2也是Μι中的 自重部分的10倍、真空部分的4〇倍，從而成爲!^的8倍。 其結果，黏接力矩M2爲大值、與脫離力矩^^相比具有 20充分的餘量，能可靠地防止支撐面22相對基板W的脫離、 及由其産生的真空破壞。 另一方面，作爲與實際使用的吸附墊相關的各條件的 一例，若按ΔΡ=0·05ΜΡ&、lm左右大小的方形基板時的 g=2N、d=14mm、h=l〇mm、D=3〇mm、#=〇 3計算v、v、 16 1309226

M'Jv = 3.8N'V=35N'M1 = 〇.〇174Nm'M2 = 〇.525N 与30“丨。從而，能夠以大到不產生問題的安全係數防止由 支撐面的脫離産生的真空破壞。 此外’在這種關係中’因爲墊2被設成可在與支押狀3 5之間移動的支撐關係，所以對於基板W的熱收縮，|咖 I際上 以稍超過一R的拉力F使墊2沿熱收縮方向運動limn左右。

對於這點，在現行的球面支撐型的吸附墊中，由於不 允許墊沿基板支撐面方向移動，故具有吸附面的脫離力矩 變大、使吸附面相脫離、破壞真空狀態的缺點，實際上也 10確實産生如上所述的不良現象。根據應用本發明的吸附 墊，能夠確實解決如上所述的這類問題。此外，若吸附面 相脫離，則在基板W的移出時，由其加速度或振動等施加 在基板W上的外力，不用說有基板W從支撐面上脫落的危 險性等。 15 第4圖是表示應用本發明的吸附墊的另一構成例。

本實施例的吸附墊1，與第1圖的相比較不設置作爲密 封部件的襯片4。而且，由與第1圖的相同作爲被支撐部的 筒狀部23内所設的通路25、開在支撐箱3内的導引孔36、及 與通路25相連接的貫通導引孔36並與機械手1〇的真空吸引 20 配管相連接的容易變形地形成的中間管5等構成在支撐面 上産生真空的結構部分。 中間管5以容易變形的方式、在本實施例中由入口部 51、 呈螺旋狀繞與其相連接的筒狀部23—圈左右的彎曲部 52、 從導引孔36導出的出口部53、及與其相接續的管54等 17 1309226 構成。這種中間管5由具有柔軟性的耐熱樹脂材料等製成， 並以焊接等方式安裝在筒狀部23上。通過導引設置這種形 狀及材質的中間管5，而能夠使真空的保持性良好。而且， 利用入口部51與出口部件53之間的變位的自由性，能夠容 5 易允許墊2的移動及旋轉。 (發明的效果） 根據如上所述的本發明，在第丨項發明中，吸附墊包括 墊。卩和支撐部，該墊部具有：由産生比支撑由對象物産生 的負荷的支撐力大的吸附力的真空、對被支撐的面爲平面 1〇的對象物的被支撐面進行吸附的支撐面以及被支撐的被支 撐部，該支撐部，支撐被支撐部，所以如果在使對象物移 動時維持真空，則由真空吸附支擇作爲被熱處理的基板的 液曰B玻璃基板等對象物，而包含向熱處理室内的移出放入 在内，能夠安全地使對象物移動。 15 而且，由於將被支標部與支撐部設爲墊部可沿與平面 相平行方向移動的支擇關係、，所以當從吸附開始到移動時 期間、在基板等對象物上産生大的溫度差而使對象物因熱 産生膨脹或收縮、安裝於支撐部上的墊部在對象物與支撐 邛之間文到沿與平面相平行方向的力時，相對支撐部，墊 部與進行吸附支樓的對象物—起沿其平面的方向移動，因 此月b夠由比支撐對象物的支推負荷大的充分的吸附力、 可罪地維持對象物與支撐部之間的進行吸附的接觸關係。 其釔果，旎夠維持吸附部的真空並將對象物安全地移動。 在泛種情況下’針對作用於對象物的被支撐的面與墊 1309226 部的支撐面吸附的接觸面上的其平面方向的外力 ，在墊部 的被支揮部與續其的支撐部之帛的$ _賤部處，㈣ - 爲可移動的支撐關係，但由接觸不可避免地産生摩擦力， 亚由於外力比摩擦力大，故墊部移動以釋放外力，但在此 5之刚摩擦力和與其大小相等方向相反的外力成爲力偶， 據此産生外力力矩，產生要脫離吸附接觸面的力。 —疋’摩擦力由支撐對象物的負荷的支撐力産生，並 由於存在摩擦係數故通常比支撐力較小。與此相對，相對 鲁 於外力力矩産生對抗力矩的吸附力，與支撐力相比越大， 10 Ϊ尤越比摩擦更大。另外，成爲決定外力力矩的大小的其他 條件的吸附接觸面與其他的接觸面的間隔，無需設定得特 別大，爲了使支撐部插入進行熱處理的基板的間距之間以 及減輕重量而被安裝在厚度儘量設得薄的機械手等上，故 受到小間隔的限制’因此通常設爲比吸附面的間隔較小的 15值。其結果’對抗力矩爲比外力力矩充分大的值，墊部不 會使吸附接觸面脫離地容易沿平面方向移動，能夠可靠地 # 防止産生真空破壞。 另外’因爲被支撑部及支撐部，爲使與對象物的被支 撲的面相接觸的塾部的支揮面能夠容易傾斜那樣的支撐關 2〇係所以通吊即使在裝備於機械手等上的多個吸附塾之帛 __ 支撑面的傾斜狀態有誤差，也因各支撐面容易傾斜而可與 對象物的被支揮面相接觸。其結果，能夠可靠産生由真空 進行吸附支撐時的真空。 並且’因爲設有限制移動的量在小移動的範圍的移動 19 1309226 限制結構部，所以限制墊部不必要的移動，並將其維持在 基準的支撐位置的範圍内，能夠滿足在以對象物爲目的的 位置進行支撐的支撐條件。 進而’因爲設有限制傾斜的量在小傾斜的範圍的傾斜 5限制結構部，所以即使在墊部的支撐面不支撐對象物時， 也將支撐面維持在只必需的儘量小的傾斜角内在支撑對 象物時，防止由大的角變位産生的支撐位置的錯位並且 能夠易於與對象物相接觸。 10 15 20 在第2項發明中，因爲支撐部具有放入被支揮部的空間 部；塾部具有與支擇面相導通、形成在被支撑部中並在^ 間=具有開口的通路，以形成所述；並且還具有密封部件， «封部件部的從開σ位置到支撐面—側分隔空 間和遮斷被分隔的兩侧的透氣性，所以能夠使開口側的 空間部成爲可形成真空的真空空間。其結果，在支撐部上 設有開口於真空空間的導通孔，與墊部沒有連接關係、可 =運動的切部上連接真她#。其絲，能夠 接真空配管。 勿逆 口么珂部件

囚舄可與墊部的移動與盆 的傾斜相對應變形，所以不會妨礙塾部的移動，從而在 =:!縮時不會有助於由此産生的吸附支撐面的脫 一二m因爲密封部件通常由某種 材料形成，所叫過❹這樣的㈣«通常可變形的 狀，而㈣不妨礙這種墊部容易移動與傾斜的特性。 另一方面，若這樣設置密封部件，將空間部分隔成 20 1309226 真空狀態，則在密封部件處、在被分隔的空間部的内外之 間産生壓力差，密封部件雖然受到基於真空的外壓，但能 ' 夠承受得住該外力、並遮斷如前所述的透氣性、保持真空。 這種密封部件的構成，以公知的適當的方法將密封部件的 5 兩端固定在具有成爲形成空間部的開口的墊部與支撐部 上，並且通過適當地選擇僅承受得住上述外壓的材質或厚 度的材料而容易實現。 另外，因爲若外壓加在密封部件上、則其一端側的力 鲁 加在墊部上，所以除由對象物的負荷產生的的支撐力外， 10 該外壓力也作用在被支撐部與支撐部之間，使摩擦力增 加。但是，因爲無需增大空間部並增大密封部件，而且空 間部被形成在支撐部中，所以空間部的面積被設定得比對 象物的支撐面的面積較小，故外壓力遠遠小於接觸面的吸 附力。而且，因爲與支撐力的情況相同，通過摩擦係數產 15 生摩擦力，所以最終由該附加的外壓力産生的力成爲比吸 附面的接觸力充分小的值。其結果，可靠地維持由支撐面 鲁 與對象物的被支撐面之間的真空吸附產生的接觸狀態。 t圖式簡單說明3 第1(a)圖是表示應用本發明的吸附墊的截面狀態的一 20 例的說明圖、第1(b)圖是表示將該吸附墊安裝在機械手上的 / 狀態的俯視圖。 - 第2(a)及2(b)圖是表示應用本發明的吸附墊的另一例 的截面狀態的說明圖。 第3圖是第1圖的吸附墊的原理的說明圖。 21 1309226 第4圖是表示應用本發明的吸附墊的再一例的說明 圖’第4(a)及4(b)圖分別是第4(b)及4(a)圖的a —a線及b — b 線的箭頭示意圖。 第5(a)圖是表示現行的吸附墊的截面狀態的一例的說 明圖、第5(b)圖是表示將該吸附墊安裝在機械手上的狀態的 俯視圖。 第6(a)及6(b)圖是上述現行的吸附墊的原理的說明圖。 【圖式之主要件代表符號表】 1…吸附墊 24…環面(傾斜限制結構部） 2“_墊(墊部） 25…通路 3…支撐箱(支撐部） 25a…開口 3a…上箱 3卜·平面部(支撐部） 3b…下箱 32…内圈部(移動限制結構部） 3c…槽部 33.·.上端面部(傾斜限制結構部) 4…襯片（密封部件） 34.··空間部 5…中間管 1〇…機械手 ϋ外氣側、真空側(被 隔開的兩側） 21…中央部分 35…中間通路 22…支撐面 36…導引孔 22a···右端部分 41…内徑側 22b…左端部分 41a…環端 23…筒狀部(被支撐部） 42···外徑側 23a…下端部(被支撐部） 51···入口部 23b· ··圓筒外面(移動限制結構部） 52····彎曲部 22 1309226 53…出口部 54…管

Cl…窄間隔(移動限制結構部) c2…窄間隔(傾斜限制結構部) Ft…平面 g···基板的自重分擔部分(支撐 對象物的負荷的支撐力） V···吸附力 W…玻璃基板、基板(對象物） W丨…下面(被支撐的面）

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Claims (1)

1. 拾、申讀專利範固·· 5 支，部，所述墊部具有:由産 的真空，對，/古象物產生的負荷的支撐力大的吸附力 進行吸附的ΙΓ面料㈣對象物的所述被支樓面 10 ^與所述支撐部形成為所述被支撐部 I '撐部接觸且接觸面為曲面與平面之支撐關 '、使所述墊部可沿與所述平面相平行的方向移動，並 且所述支撐面可傾斜，而且具有限制所述移動的量在小 移動範圍内的移動限制結構部與限制所述傾斜的量在 小傾斜範圍内的傾斜限制結構部。 15 2009.U0 2·如申明專利範圍第1項所述的吸附塾，其中，所述支樓 部具有放入所述被支撐部的空間部；所述墊部具有與所 述支撐面相導通，且形成在所述被支撑部中並在所述空 間部具有開口的通路，以形成所述真空；並且還具有密 封部件，該密封部件在所述空間部中從所述開口位置到 所述支撐面一側分隔所述空間部，遮斷被分隔的兩側的 透氣性，並且可對應所述移動與所述傾斜而變形。 24