JP2006089819A - Cvdコーティング方法およびcvdコーティング装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 CVD炉4内には、CVDコーティングを施すワークWの一部に係止して、ワークをCVD炉内において吊り下げる形態で支持するワーク支持部材11が配置されている。このワーク支持部材11は連結部材12および回転軸13によって、水平方向に回転可能となるように保持されて、回転駆動機構16により間欠的に回転駆動動作が付与されるように構成されている。CVD処理中において、前記回転軸13には回転駆動機構16により間欠的に回転駆動動作が付与され、ワーク支持部材11を介してワークWにも回転動作が伝達される。これにより、前記ワークWに作用する遠心力の働きが変化し、前記ワークWは揺動動作を受けてワークWに対するワーク支持部材11の接触位置が変更されるようになされる。
【選択図】 図1
Description
2 断熱材
3 加熱ヒータ
4 容器(CVD炉)
11 ワーク支持部材
11a,11d ベース部材
11b,11c 係止部材
11e 稜線部
12 連結部材
13 回転軸
14 駆動軸
15 気密部材
16 回転駆動機構
W ワーク
Claims (6)
- CVD炉内に配置されたワーク支持部材によってワークを吊り下げる形態で支持すると共に、CVD処理中において、水平方向に回転可能になされた前記ワーク支持部材に対して間欠的に回転駆動動作を与え、ワーク支持部材の水平方向への回転および停止に伴う前記ワークに作用する遠心力の働きの変化により、前記ワークに対するワーク支持部材の接触位置が変更されるようにしたことを特徴とするCVDコーティング方法。
- CVD炉内に配置され、CVDコーティングを施すワークの一部に係止して、前記ワークをCVD炉内において吊り下げる形態で支持するワーク支持部材と、
前記ワーク支持部材を水平方向に回転可能となるように保持する回転軸を含む回転支持機構と、
CVD処理中において、前記回転支持機構を構成する回転軸に対して間欠的に回転駆動動作を付与させる回転駆動機構とが具備され、
前記ワーク支持部材の水平方向への回転および停止に伴う前記ワークに作用する遠心力の働きの変化により、前記ワークに対するワーク支持部材の接触位置が変更されるように構成したことを特徴とするCVDコーティング装置。 - 前記ワーク支持部材は、前記回転支持機構に保持されて水平方向に回転されるベース部材と、このベース部材に対してワークの一部に点接触の状態で係止する凸状の係止部材が、鉛直方向に向いて形成されていることを特徴とする請求項2に記載のCVDコーティング装置。
- 前記凸状の係止部材は、前記ベース部材の回転中心部を挟んで当該ベース部材上の2箇所に形成されていることを特徴とする請求項3に記載のCVDコーティング装置。
- 前記ワーク支持部材は、角柱状に形成され、その長手方向が水平の姿勢を保つと共に、一つの稜線部が鉛直方向に向いた状態で前記回転支持機構に保持されていることを特徴とする請求項2に記載のCVDコーティング装置。
- 前記CVD炉の炉外に配置された前記回転駆動機構からの駆動力が、前記回転軸を介して前記ワーク支持部材に伝達されるように構成されていることを特徴とする請求項2ないし請求項5のいずれか1項に記載のCVDコーティング装置。
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JP2004278699A JP2006089819A (ja) | 2004-09-27 | 2004-09-27 | Cvdコーティング方法およびcvdコーティング装置 |
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2957830A1 (fr) * | 2010-03-26 | 2011-09-30 | Snecma | Dispositif de maintien d'une piece pour un depot total d'un revetement protecteur. |
US20110308459A1 (en) * | 2009-02-10 | 2011-12-22 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Cvd apparatus |
CN102691054A (zh) * | 2011-03-22 | 2012-09-26 | 财团法人工业技术研究院 | 传动机构及应用该传动机构的镀膜装置 |
WO2019143075A1 (ko) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 한화케미칼 주식회사 | 폴리실리콘 제조용 cvd 반응기의 벨자 코팅 장비 및 이를 이용한 코팅 방법 |
CN117646195A (zh) * | 2024-01-30 | 2024-03-05 | 湖南德智新材料有限公司 | 支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08100265A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-16 | Kawasaki Steel Corp | Cvd装置およびcvd皮膜の形成方法 |
JP2000178743A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-27 | Asahi Glass Co Ltd | Cvdコーティング方法及びcvd装置 |
JP2001358076A (ja) * | 2000-06-09 | 2001-12-26 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置用基板支持ボート |
-
2004
- 2004-09-27 JP JP2004278699A patent/JP2006089819A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08100265A (ja) * | 1994-09-30 | 1996-04-16 | Kawasaki Steel Corp | Cvd装置およびcvd皮膜の形成方法 |
JP2000178743A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-27 | Asahi Glass Co Ltd | Cvdコーティング方法及びcvd装置 |
JP2001358076A (ja) * | 2000-06-09 | 2001-12-26 | Asm Japan Kk | 半導体製造装置用基板支持ボート |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20110308459A1 (en) * | 2009-02-10 | 2011-12-22 | Toyo Tanso Co., Ltd. | Cvd apparatus |
FR2957830A1 (fr) * | 2010-03-26 | 2011-09-30 | Snecma | Dispositif de maintien d'une piece pour un depot total d'un revetement protecteur. |
CN102691054A (zh) * | 2011-03-22 | 2012-09-26 | 财团法人工业技术研究院 | 传动机构及应用该传动机构的镀膜装置 |
WO2019143075A1 (ko) * | 2018-01-17 | 2019-07-25 | 한화케미칼 주식회사 | 폴리실리콘 제조용 cvd 반응기의 벨자 코팅 장비 및 이를 이용한 코팅 방법 |
CN117646195A (zh) * | 2024-01-30 | 2024-03-05 | 湖南德智新材料有限公司 | 支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备 |
CN117646195B (zh) * | 2024-01-30 | 2024-04-26 | 湖南德智新材料有限公司 | 支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备 |
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