CN117646195A - 支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备。该支撑机构包括：长条形的支撑件和旋转组件，基体的管状结构套设在支撑件上，旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转，在支撑件旋转的过程中，支撑件的与基体接触的初始表面相对支撑件自身会发生旋转，在基体自身的重力、以及支撑件与管状结构的内壁之间的摩擦力的作用下，支撑件能够相对于基体沿其管状结构的内壁发生滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，使得基体的表面可以在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体的全表面的薄膜制备，简化了基体全表面薄膜制备的过程及工艺，并能够为不同形状的、数量更多的基体提供支撑。

Description

支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备

技术领域

本申请涉及薄膜制备技术领域，尤其涉及一种支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备。

背景技术

在对基体的全表面制备薄膜时，需要用支撑装置对基体进行支撑。支撑装置包括多个尖点，由多个尖点对基体进行支撑。

但是，现有的支撑装置通过多个尖点对基体进行支撑时，支撑装置与基体的接触处的位置是固定不变的，使得基体表面与支撑装置的接触处无法裸露，导致无法对基体的全表面一次性完成薄膜制备。并且，一个支撑装置只能支撑一个基体。

发明内容

有鉴于此，本申请实施例提供了一种支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备，以解决支撑装置与基体的接触处的位置固定不变，使得基体表面与支撑装置的接触处无法裸露，导致无法对基体的全表面一次性完成薄膜制备的问题。

第一方面，本申请一实施例提供了一种支撑机构，应用于薄膜制备设备，薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，支撑机构被配置为对基体进行支撑，基体包括管状结构；其中，支撑机构包括：长条形的支撑件，基体的管状结构套设在支撑件上；旋转组件，与支撑件连接，带动支撑件绕第一轴线旋转，第一轴线与支撑件的延伸方向平行；其中，在支撑件旋转的过程中，支撑件沿管状结构的内壁滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，支撑件上的每一点与第一轴线的距离均保持不变。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑件为丝状，丝状的支撑件一端与旋转组件连接，另一端穿过管状结构并与旋转组件连接，以利用旋转组件张紧丝状的支撑件。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，旋转组件包括平行设置的两个连接盘，两个连接盘形成第一容纳空间，第一容纳空间用于容纳支撑件和基体，连接盘绕第一轴线旋转；其中，支撑件具有第一端和第二端，第一端和第二端分别与两个连接盘可拆卸连接，以利用两个连接盘张紧丝状的支撑件。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，连接盘包括环状主体和多个固定杆；其中，多个固定杆呈辐射状排布，多个固定杆的第一端均与环状主体连接，多个固定杆的第二端连接在一起。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，旋转组件还包括平行设置的两个支撑盘，两个支撑盘之间形成第二容纳空间，用于容纳两个连接盘，支撑盘与连接盘平行设置且可拆卸连接。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，旋转组件还包括多个连接杆，多个连接杆设置于两个支撑盘之间，每个连接杆的两端分别与两个支撑盘连接；其中，多个连接杆包括卡槽，连接盘的边缘插入卡槽。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑件上套设有多个基体；其中，旋转组件还包括间隔件，间隔件的两端分别连接两个连接杆，以分隔相邻的基体。

结合第一方面，在第一方面的某些实现方式中，支撑件的数量为多个，多个支撑件平行设置。

第二方面，本申请一实施例提供了一种支撑装置，支撑装置应用于薄膜制备设备，薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，支撑装置被配置为对基体进行支撑，基体包括管状结构；其中，支撑装置包括：第一方面任意一项所述的支撑机构；驱动模块，与支撑机构连接，被配置为驱动支撑机构旋转。

第三方面，本申请一实施例提供了一种薄膜制备设备，包括：第二方面所述的支撑装置。

本申请实施例提供的支撑机构，包括长条形的支撑件和旋转组件，基体的管状结构套设在支撑件上，旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转，在支撑件旋转的过程中，支撑件的与基体接触的初始表面相对支撑件自身会发生旋转，在基体自身的重力、以及支撑件与管状结构的内壁之间的摩擦力的作用下，支撑件能够相对于基体沿其管状结构的内壁发生滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，使得基体的表面可以在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体的全表面的薄膜制备，简化了基体全表面薄膜制备的过程及工艺，提高了生产效率，支撑件为丝状，丝状的支撑件一端与旋转组件连接，另一端穿过管状结构并与旋转组件连接，张紧丝状的支撑件对基体进行支撑，减小了支撑件与基体管状结构的内壁的接触面积，使得基体的管状结构的内壁更充分地暴露在腔室中，有利于基体的薄膜制备，提升了薄膜制备效率，并且，将支撑件穿过基体对基体进行支撑，有利于支撑件支撑不同形状的具有管状结构的基体，通过设置两个平行的连接盘提供第一容纳空间，有利于增加旋转组件的容纳空间，进而有利于增加支撑机构的容纳空间，从而使支撑机构为更多数量的基体提供支撑。

附图说明

通过结合附图对本申请实施例进行更详细的描述，本申请的上述以及其他目的、特征和优势将变得更加明显。附图用来提供对本申请实施例的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请实施例一起用于解释本申请，并不构成对本申请的限制。在附图中，相同的参考标号通常代表相同部件或步骤。

图1所示为本申请一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的结构示意图。

图2所示为本申请一实施例提供的另一视角的图1所示的适用于支撑机构的应用场景的结构示意图。

图3所示为本申请另一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的机构示意图。

图4所示为本申请一实施例提供的支撑机构的结构示意图。

图5所示为本申请一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的爆炸图。

图6所示为本申请一实施例提供的连接盘的结构示意图。

图7所示为本申请又一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的机构示意图。

附图标记：

1、薄膜制备设备；10、支撑机构；11、支撑件；110、支撑件的第一端；111、支撑件的第二端；12、旋转组件；120、连接盘；1200、环状主体；1201、固定杆；1202、固定杆的第一端；1203、固定杆的第二端；1204、第一凹槽；1205、第二凹槽；121、支撑盘；122、连接杆；1220、卡槽；123、间隔件；2、基体；20、腔体；21、腔室；30、支撑装置；31、驱动模块。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

在对基体的全表面制备薄膜时，需要用支撑装置对基体进行支撑。支撑装置包括多个尖点，由多个尖点对基体进行支撑。

但是，现有的支撑装置通过多个尖点对基体进行支撑时，支撑装置与基体的接触处的位置是固定不变的，使得基体表面存在多个尖点的支撑印记，并且基体表面与支撑装置的接触处无法裸露，导致无法对基体的全表面一次性完成薄膜制备。由于基体表面的未裸露处还未制备薄膜，因此还需要对基体表面的薄膜进行修补，过程繁琐，工艺复杂。其中，基体的全表面可以是基体本身能够裸露的所有表面。

针对上述问题，本申请实施例提供了一种支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备。下面结合附图和具体实施例详细描述支撑机构、支撑装置和薄膜制备设备的具体结构。

图1所示为本申请一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的结构示意图。图2所示为本申请一实施例提供的另一视角的图1所示的适用于支撑机构的应用场景的结构示意图。图4所示为本申请一实施例提供的支撑机构的结构示意图。图5所示为本申请一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的爆炸图。

如图1和图2所示，支撑机构10应用于薄膜制备设备1。薄膜制备设备1用于对基体2进行镀膜。支撑机构10被配置为对基体2进行支撑。基体2包括管状结构。

支撑机构10包括长条形的支撑件11和旋转组件12。基体2的管状结构套设在支撑件11上。旋转组件12与支撑件11连接，带动支撑件11绕第一轴线旋转。第一轴线与支撑件11的延伸方向平行。在支撑件11旋转的过程中，支撑件11沿管状结构的内壁滚动，以使支撑件11与基体2之间的接触位置发生变化，支撑件11上的每一点与第一轴线的距离均保持不变。

薄膜制备设备1可以是任何用于制备薄膜的设备。薄膜制备设备1可以通过物理气相沉积、化学气相沉积、喷涂等方法中的一种或多种对基体2进行涂层或者镀膜等工艺。示例性地，薄膜制备设备1可以用于基于化学气相沉积方法在基体2的表面沉积碳化硅（SiC）膜层。在一些实施例中，如图1所示，薄膜制备设备1包括腔体20。腔体20包括中空结构，以形成腔室21。支撑机构10可以设置在腔室21内，并被配置为在腔室21内对基体2进行支撑。

基体2的管状结构套设在支撑件11上，从而使基体2可以放置在支撑件11上，以使支撑件11对基体2进行支撑，使得基体2可以悬在空中。基体2包括管状结构。示例性地，基体2的外形可以是管状。在一些实施例中，基体的形状还可以是其他形状。示例性地，基体的形状可以是立方体。支撑件设置在基体的下表面对基体进行支撑。支撑件在旋转组件的带动下可以沿基体的下表面进行滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化。

支撑件11可以是长条形。支撑件11的横截面形状可以是圆形、椭圆形、多边形等形状。支撑件11可以为刚性物体，例如，支撑杆、支撑轴等。支撑件11也可以为柔性物体，例如，支撑绳、支撑线等。示例性地，支撑件11的材料可以包括耐高温材料，以使支撑件11可以在高温环境下工作。示例性地，支撑件11包括的耐高温材料可以是熔点约高于2620℃的材料。

旋转组件12的形状、以及旋转组件12与支撑件11的连接方式和连接位置，可以根据实际需求进行设置，只要满足旋转组件12可以带动支撑件11绕第一轴线旋转即可。第一轴线可以是旋转组件12的旋转轴线。示例性地，第一轴线可以穿过旋转组件12，旋转组件12绕第一轴线自转。示例性地，第一轴线也可以不穿过旋转组件12，旋转组件12绕第一轴线公转。第一轴线与支撑件的延伸方向平行设置即可，第一轴线的具体位置可以根据实际需求进行设置。

在一些实施例中，如图1和图2所示，支撑件11可以为回转体，支撑件11的中心轴线与第一轴线重合，又由于旋转组件12可以带动支撑件11绕轴线旋转，这样设置可以使支撑件11上的每一点与第一轴线的距离均保持不变，使得支撑件11可以绕自身的中心轴线自转。在一些实施例中，如图3和图4所示，支撑件11可以为回转体，支撑件11的中心轴线与第一轴线平行但不共线，这样设置可以使支撑件11上的每一点与第一轴线的距离均保持不变，以使支撑件11围绕第一轴线公转。

在一些实施例中，如图1和图2所示，支撑件11可以为回转体，支撑机构10与支撑件11同旋转轴线旋转。即，支撑机构10的中心轴线和支撑件11的中心轴线均与第一轴线重合。支撑机构10和支撑件11均绕第一轴线自转。在一些实施例中，如图3和图4所示，支撑件11可以为回转体，支撑机构10的中心轴线与第一轴线重合。支撑机构10的中心轴线与第一轴线平行但不共线。支撑机构10绕第一轴线自转，支撑件11绕第一轴线公转。

示例性地，如图4所示，基体2的管状结构套设在支撑件11上时，支撑件11背离地面的上表面与基体2的管状结构的内壁接触，以对基体2进行支撑，在支撑件11的旋转过程中，示例性地，支撑件11在旋转组件12的带动下绕第一轴线顺时针旋转，支撑件11与管状结构的内壁接触的初始表面会在旋转组件12的带动下相对支撑件11自身发生顺时针转动，由于支撑件11与管状结构的内壁之间的摩擦力、以及基体2自身的重力，基体2相对自身能够发生顺时针旋转，即，支撑件11相对于管状结构会沿其的内壁发生逆时针滚动，使得支撑件11与基体2之间的接触位置发生变化，从而使基体2的表面在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体2的全表面的薄膜制备。

本实施例提供的支撑机构，包括长条形的支撑件和旋转组件，基体的管状结构套设在支撑件上，旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转，在支撑件旋转的过程中，支撑件的与基体接触的初始表面相对支撑件自身会发生旋转，在基体自身的重力、以及支撑件与管状结构的内壁之间的摩擦力的作用下，支撑件能够相对于基体沿其管状结构的内壁发生滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，使得基体的表面可以在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体的全表面的薄膜制备，简化了基体全表面薄膜制备的过程及工艺，提高了生产效率。

在一些实施例中，如图3和图5所示，支撑件11为丝状。丝状的支撑件11一端与旋转组件12连接，另一端穿过基体2的管状结构并与旋转组件12连接，以利用旋转组件12张紧丝状的支撑件11。

丝状的支撑件11与旋转组件12的连接可以是固定连接，也可以是可拆卸连接。示例性地，丝状的支撑件的两端可以绑定或者焊接在旋转组件上。在一些实施例中，当丝状的支撑件上的基体需要拆下时，可以通过剪断丝状支撑件，以将支撑机构上的基体拆下。

由于支撑件为丝状物体，通过旋转组件对丝状的支撑件进行张紧，使得支撑件可以为基体提供支撑。通过丝状的支撑件对基体进行支撑，减小了支撑件与基体管状结构的内壁的接触面积，使得基体的管状结构的内壁更充分地暴露在腔室中，有利于基体的薄膜制备，提升了薄膜制备效率。此外，柔性的丝状支撑件与旋转组件之间的连接方式可以更简单，更容易实现，简化了支撑机构的复杂程度。

在一些实施例中，丝状的支撑件的材料可以包括耐高温材料，以使丝状的支撑件可以在高温环境下工作。示例性地，丝状的支撑件包括的耐高温材料可以是熔点约高于2620℃的材料。示例性地，支撑件的材料可以包括钨或者钼。在一些实施例中，支撑件的材料与基体的材料不同，这样设置使得支撑件与基体不容易粘结，能够确保基体管状结构的内壁的薄膜制备均匀。

图6所示为本申请一实施例提供的连接盘的结构示意图。

在一些实施例中，如图3和图5所示，旋转组件12包括平行设置的两个连接盘120。两个连接盘120形成第一容纳空间，第一容纳空间用于容纳支撑件11和基体2。连接盘120绕第一轴线旋转。支撑件的第一端110和支撑件的第二端111分别与两个连接盘120可拆卸连接，以利用两个连接盘120张紧丝状的支撑件11。

具体地，连接盘的形状可以根据实际需求进行设置。示例性地，参考图3和图6，连接盘120的外形可以为圆盘状。示例性地，丝状的支撑件与两个连接盘之间的可拆卸连接，可以通过将丝状支撑件的两端绑定或者通过夹子等结构夹紧在两个连接盘上。

通过设置两个连接盘，为支撑件和基体的安装提供了更大的空间以及牢固的支撑，可以在支撑件上设置多个基体，旋转组件还可以通过两个连接盘带动支撑件绕第一轴线旋转，并张紧丝状支撑件，来为基体提供支撑。此外，由于支撑件的第一端和支撑件的第二端分别与两个连接盘可拆卸连接，便于基体在支撑机构中的拆装，便于支撑件的更换，提高了支撑机构使用的便捷性以及可维护性。

在一些实施例中，如图6所示，连接盘120包括环状主体1200和多个固定杆1201。多个固定杆1201呈辐射状排布，多个固定杆的第一端1202均与环状主体1200连接，多个固定杆的第二端1203连接在一起。

环状主体1200和多个固定杆1201之间可以是固定连接，也可以是可拆卸连接。在一些实施例中，连接盘120可以是一体制造而成。

由于连接盘包括环状主体和多个呈辐射状排布的固定杆，使得连接盘可以包括镂空结构，实现了连接盘的轻量化设计，便于连接盘的安装与支撑机构的组装。此外，由于多个固定杆呈辐射状排布，可以将连接盘所受的外力分散到各个固定杆上，增强了连接盘的抵抗径向力的能力，当基体的数量较多或者重量较大时，能够对支撑件提供更好的支撑作用，延长了连接盘的使用寿命。

在一些实施例中，如图3和图5所示，支撑件11的数量为多个。多个支撑件11平行设置。这样设置，可以在每个支撑件上都能至少设置一个基体，使得支撑机构可以同时支撑多个基体，更加充分地利用连接盘之间的空间，提高了基体薄膜制备的生产效率以及产量。

在一些实施例中，如图3和图5所示，支撑件的第一端110和支撑件的第二端111分别与两个连接盘120的固定杆1201连接。这样设置使得丝状支撑件可以通过两个连接盘的固定杆被张紧。

在一些实施例中，参考图3、图5和图6，固定杆1201上包括一个或多个第一凹槽1204。在一些实施例中，丝状的支撑件可以绑定在固定杆的第一凹槽上，以实现支撑件与连接盘的可拆卸连接。这样设置，充分利用了丝状支撑件的柔性特性，进一步简化了支撑件与连接盘的连接方式，便于基体在支撑机构中的拆装，便于支撑件的更换，提高了支撑机构使用的便捷性以及可维护性。此外，固定杆的第一凹槽可以对支撑件的位置进行限制，以牢靠地固定丝状支撑件，防止支撑件在基体的薄膜制备过程中出现滑移，避免不同支撑件上的基体之间因此产生粘结等问题，还有利于增加支撑件的设置数量，从而更加充分地利用连接盘之间的空间，提高了基体薄膜制备的生产效率以及产量。

在一些实施例中，如图3和图5所示，旋转组件12还包括平行设置的两个支撑盘121。两个支撑盘121之间形成第二容纳空间，用于容纳两个连接盘120，支撑盘121与连接盘120平行设置且可拆卸连接。

支撑盘121的形状可以根据实际需求进行设置。示例性地，如图3和图5所示，支撑盘121的形状为圆盘形，支撑盘121的中心线与连接盘120的中心线共线。

通过设置两个支撑盘并且支撑盘与连接盘连接，可以为连接盘提供第二容纳空间，并为连接盘提供支撑，增加支撑机构的整体性和稳定性。通过将支撑盘和连接盘可拆卸连接，便于支撑机构组装，由于连接盘直接连接放置有基体的支撑件，比较容易损坏、使用寿命较短，这样设置便于连接盘的更换，提高了支撑机构的可维护性，延长了支撑机构其他部件的使用寿命。

在一些实施例中，如图3和图5所示，旋转组件12还包括多个连接杆122。多个连接杆122设置于两个支撑盘121之间，每个连接杆122的两端分别与两个支撑盘121连接。多个连接杆122包括卡槽1220，连接盘120的边缘插入卡槽1220。

连接杆122的形状可以根据实际需求进行设置。卡槽1220的形状可以根据连接杆122和/或连接盘120边缘的形状进行设置。示例性地，连接杆122的形状为柱状，卡槽1220的形状为环形槽。示例性地，卡槽1220的宽度大于等于连接盘120的边缘的宽度。连接杆122的数量可以根据连接盘120的形状或者连接杆122所承载的连接盘120、基体2等的重量进行设置。示例性地，连接杆的数量可以是3根、4根或者5根等。在一些实施例中，如图3和图5所示，连接杆122的两端分别与两个支撑盘121可拆卸连接。示例性地，可拆卸连接可以通过螺钉、螺栓螺母、卡接、插接等方式实现。

本实施例通过设置多个连接杆连接两个支撑盘，实现了两个支撑盘的固定，并为连接盘的设置提供容纳空间。通过在多个连接杆上设置卡槽，使得连接盘可以通过插入连接杆上的卡槽实现其位置的固定，并实现了与连接杆和支撑盘的可拆卸连接。

在一些实施例中，如图5和图6所示，连接盘120的边缘包括多个第二凹槽1205。第二凹槽1205的形状可以适形于卡槽1220。这样设置可以增加连接盘的边缘与连接杆的卡槽的接触面积，使得连接盘与连接杆的插入连接更加稳固，提升了支撑机构的稳定性。

图7所示为本申请又一实施例提供的适用于支撑机构的应用场景的机构示意图。

在一些实施例中，如图3、图5和图7所示，每个连接杆122包括多个卡槽1220。多个连接杆122上的卡槽1220对应设置，以使多个连接杆122可以具有多个插入连接盘120的位置。由于多个连接杆具有多个插入连接盘的位置，使得连接盘的位置可以调整，从而可以调整连接盘之间的间距，使得两连接盘之间的距离可以根据支撑基体所需的空间的变化而变化，提高了支撑机构对不同尺寸或者数量的基体的适应能力。示例性地，可以根据两连接盘之间放置的基体的大小或者数量，调整两相邻连接盘的距离。

如图7所示，旋转组件12包括多个连接盘120。连接盘120的数量可以是至少3个。这样设置，使得支撑机构可以在多个连接盘之间放置基体，可以对更多基体进行支撑，更加充分地利用了支撑盘之间的空间，提高了基体薄膜制备的生产效率以及产量。

进一步地，每个连接杆122包括多个卡槽1220。多个连接杆122上的卡槽1220对应设置，以使多个连接杆122可以形成多个插入连接盘120的位置。这样设置可以使旋转组件可拆卸连接地设置更多连接盘，并可以根据需求调节连接盘的数量、以及两相邻连接盘之间的距离。

在一些实施例中，如图3和图7所示，支撑件11上套设有多个基体2。旋转组件12还包括间隔件123，间隔件123的两端分别连接两个连接杆122，以分隔相邻的基体2。

示例性地，如图7所示，一个支撑件11上可以套设有多个基体2。示例性地，如图7所示，间隔件123可以用于分隔同一支撑件11上的多个基体。由于多个支撑件上可以分别套设尺寸不同的基体，不同支撑件上的基体之间可能存在空间上的干涉，因此，间隔件还可以用于分隔不同支撑件上的基体。示例性地，间隔件还可以设置在基体和连接盘之间，以防止基体和连接盘在薄膜制备过程中发生接触。

间隔件的形状和材料可以根据实际需求进行设置。在一些实施例中，间隔件的形状和/或材料与支撑件相同。示例性地，如图3和图7所示，间隔件123可以是丝状的物体。例如，间隔件可以是钨丝或者钼丝。通过设置间隔件，可以分隔支撑件上套设的多个基体，避免两基体在薄膜制备过程中出现粘结或者粘连。

在一些实施例中，如图3所示，连接杆122上设置有卡槽1220，间隔件123的两端可以分别连接在两个连接杆122的卡槽1220内。这样设置，使得卡槽可以限制间隔件的位置，以牢靠地固定间隔件，防止间隔件在基体的薄膜制备过程中出现滑移，避免不同支撑件上的基体之间因此产生粘结等问题。

上文详细描述了本申请的支撑机构实施例，下面详细描述本申请的支撑装置实施例。应理解，支撑装置实施例的描述与支撑机构实施例的描述相互对应，因此，未详细描述的部分可以参见前面支撑机构实施例。

如图3所示，本申请一实施例还提供一种支撑装置30。支撑装置30应用于薄膜制备设备1，薄膜制备设备1用于对基体2进行镀膜。支撑装置30被配置为对基体2进行支撑。基体2包括管状结构。支撑装置30包括上述任意实施例中提及的支撑机构10、以及驱动模块31。驱动模块31与支撑机构10连接，被配置为驱动支撑机构10旋转。

驱动模块31可以为任意类型的驱动装置，只要可以驱动支撑机构10旋转即可。驱动模块31与支撑机构10可以是固定连接，也可以是可拆卸连接。示例性地，驱动模块31设置于薄膜设备1的腔室21中。示例性地，驱动模块可以用于驱动支撑机构的旋转组件旋转，以使旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转。支撑装置还可以包括其他模块或者结构。示例性地，支撑装置还包括控制模块，控制模块与驱动模块通讯连接，以控制驱动模块的转速。

本实施例提供的支撑装置中，支撑机构包括长条形的支撑件和旋转组件，基体的管状结构套设在支撑件上，驱动模块驱动支撑机构旋转，以使旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转，在支撑件旋转的过程中，支撑件的与基体接触的初始表面相对支撑件自身会发生旋转，在基体自身的重力、以及支撑件与管状结构的内壁之间的摩擦力的作用下，支撑件能够相对于基体沿其管状结构的内壁发生滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，使得基体的表面可以在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体的全表面的薄膜制备，简化了基体全表面薄膜制备的过程及工艺，提高了生产效率。

在一些实施例中，驱动模块与支撑机构可拆卸连接。示例性地，如图3和图5所示，驱动模块31可以是滚筒组件。驱动模块31设置于支撑机构10的下方，被配置为放置支撑机构10，并驱动支撑机构10旋转。这样设置，可以实现驱动模块与支撑机构的可拆卸连接，并且，只需将支撑机构放置到驱动模块上就可实现驱动模块驱动支撑机构旋转，简化了支撑装置的结构，提高了支撑装置的组装效率。此外，这样设置使得支撑机构可以从驱动模块上直接取下，并可以从腔室中取出，便于基体于支撑机构上的拆装，可以提高基体薄膜制备的生产效率，还便于支撑机构的维护，提高了支撑装置的可维护性。

在一些实施例中，支撑盘与驱动模块接触的表面可以设置为粗糙表面。这样设置，增加了驱动模块与支撑机构之间的摩擦力，能够防止驱动模块驱动支撑机构旋转时支撑机构打滑，使驱动模块更平稳地驱动支撑机构旋转。

上文详细描述了本申请的支撑装置实施例，下面详细描述本申请的薄膜制备设备实施例。应理解，薄膜制备设备实施例的描述与支撑装置实施例的描述相互对应，因此，未详细描述的部分可以参见前面支撑装置实施例。

如图3所示，本申请一实施例还提供一种薄膜制备设备1。薄膜制备设备1包括上述任意实施例中提及的支撑装置30。

如前文所述，薄膜制备设备1可以是任何用于制备薄膜的设备。薄膜制备设备1可以通过物理气相沉积、化学气相沉积、喷涂等方法中的一种或多种对基体2进行涂层或者镀膜等工艺。在一些实施例中，支撑装置30可以设置在腔室21内，并被配置为在腔室21内对基体2进行支撑。薄膜制备设置还可以包括其他模块或者结构。示例性地，薄膜制备设备还包括加热装置，用于在基体表面制备薄膜时进行加热。

本实施例提供的薄膜制备设备中，支撑机构包括长条形的支撑件和旋转组件，基体的管状结构套设在支撑件上，驱动模块驱动支撑机构旋转，以使旋转组件带动支撑件绕第一轴线旋转，在支撑件旋转的过程中，支撑件的与基体接触的初始表面相对支撑件自身会发生旋转，在基体自身的重力、以及支撑件与管状结构的内壁之间的摩擦力的作用下，支撑件能够相对于基体沿其管状结构的内壁发生滚动，以使支撑件与基体之间的接触位置发生变化，使得基体的表面可以在薄膜制备过程中能够完全裸露，使得薄膜制备设备可以一次性完成对基体的全表面的薄膜制备，简化了基体全表面薄膜制备的过程及工艺，提高了生产效率。

以上结合具体实施例描述了本申请的基本原理，但是，需要指出的是，在本申请中提及的优点、优势、效果等仅是示例而非限制，不能认为这些优点、优势、效果等是本申请的各个实施例必须具备的。另外，上述公开的具体细节仅是为了示例的作用和便于理解的作用，而非限制，上述细节并不限制本申请为必须采用上述具体的细节来实现。

本申请中涉及的器件、装置、设备、系统的方框图仅作为例示性的例子并且不意图要求或暗示必须按照方框图示出的方式进行连接、布置、配置。如本领域技术人员将认识到的，可以按任意方式连接、布置、配置这些器件、装置、设备、系统。诸如“包括”、“包含”、“具有”等等的词语是开放性词汇，指“包括但不限于”，且可与其互换使用。这里所使用的词汇“或”和“和”指词汇“和/或”，且可与其互换使用，除非上下文明确指示不是如此。这里所使用的词汇“诸如”指词组“诸如但不限于”，且可与其互换使用。

还需要指出的是，在本申请的装置、设备和方法中，各部件或各步骤是可以分解和/或重新组合的。这些分解和/或重新组合应视为本申请的等效方案。

提供所公开的方面的以上描述以使本领域的任何技术人员能够做出或者使用本申请。对这些方面的各种修改对于本领域技术人员而言是非常显而易见的，并且在此定义的一般原理可以应用于其他方面而不脱离本申请的范围。因此，本申请不意图被限制到在此示出的方面，而是按照与在此公开的原理和新颖的特征一致的最宽范围。

为了例示和描述的目的已经给出了以上描述。此外，此描述不意图将本申请的实施例限制到在此公开的形式。尽管以上已经讨论了多个示例方面和实施例，但是本领域技术人员将认识到其某些变型、修改、改变、添加和子组合。

Claims (9)

1.一种支撑机构，其特征在于，应用于薄膜制备设备，所述薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，所述支撑机构被配置为对所述基体进行支撑，所述基体包括管状结构；

其中，所述支撑机构包括：

长条形的支撑件，所述基体的管状结构套设在所述支撑件上；

旋转组件，与所述支撑件连接，带动所述支撑件绕第一轴线旋转，所述第一轴线与所述支撑件的延伸方向平行；

其中，在所述支撑件旋转的过程中，所述支撑件沿所述管状结构的内壁滚动，以使所述支撑件与所述基体之间的接触位置发生变化，所述支撑件上的每一点与所述第一轴线的距离均保持不变；

其中，所述支撑件为丝状，丝状的所述支撑件一端与所述旋转组件连接，另一端穿过所述管状结构并与所述旋转组件连接，以利用所述旋转组件张紧丝状的所述支撑件；

所述旋转组件包括平行设置的两个连接盘，两个所述连接盘形成第一容纳空间。

2.根据权利要求1所述的支撑机构，其特征在于，所述第一容纳空间用于容纳所述支撑件和所述基体，所述连接盘绕所述第一轴线旋转；

其中，所述支撑件具有第一端和第二端，所述第一端和所述第二端分别与两个所述连接盘可拆卸连接，以利用两个所述连接盘张紧丝状的所述支撑件。

3.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述连接盘包括环状主体和多个固定杆；

其中，多个所述固定杆呈辐射状排布，多个所述固定杆的第一端均与所述环状主体连接，多个所述固定杆的第二端连接在一起。

4.根据权利要求3所述的支撑机构，其特征在于，所述旋转组件还包括平行设置的两个支撑盘，两个所述支撑盘之间形成第二容纳空间，用于容纳两个所述连接盘，所述支撑盘与所述连接盘平行设置且可拆卸连接。

5.根据权利要求4所述的支撑机构，其特征在于，所述旋转组件还包括多个连接杆，多个所述连接杆设置于两个所述支撑盘之间，每个所述连接杆的两端分别与两个所述支撑盘连接；

其中，多个所述连接杆包括卡槽，所述连接盘的边缘插入所述卡槽。

6.根据权利要求5所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑件上套设有多个所述基体；

其中，所述旋转组件还包括间隔件，所述间隔件的两端分别连接两个所述连接杆，以分隔相邻的所述基体。

7.根据权利要求2所述的支撑机构，其特征在于，所述支撑件的数量为多个，多个所述支撑件平行设置。

8.一种支撑装置，其特征在于，应用于薄膜制备设备，所述薄膜制备设备用于对基体进行镀膜，所述支撑装置被配置为对所述基体进行支撑，所述基体包括管状结构；

其中，所述支撑装置包括：

权利要求1至7任一项所述的支撑机构；

驱动模块，与所述支撑机构连接，被配置为驱动所述支撑机构旋转。

9.一种薄膜制备设备，其特征在于，包括：

权利要求8所述的支撑装置。