JP2004209612A - 吸着パッド - Google Patents
吸着パッド Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004209612A JP2004209612A JP2003001399A JP2003001399A JP2004209612A JP 2004209612 A JP2004209612 A JP 2004209612A JP 2003001399 A JP2003001399 A JP 2003001399A JP 2003001399 A JP2003001399 A JP 2003001399A JP 2004209612 A JP2004209612 A JP 2004209612A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pad
- support
- vacuum
- supported
- suction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 7
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 71
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 23
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract description 21
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 10
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
- F16B47/00—Suction cups for attaching purposes; Equivalent means using adhesives
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
- B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
- B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
- B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
- B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manipulator (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】吸着パッド1は、基板Wの下面W1 を真空によって吸着可能な支持面22と支持される筒状部23とを備えたパッド2、筒状部23を支持する支持ケース3、パッキン4、等を備えている。筒状部23は、その曲面状の下端部23aが支持ケース3の平面部31で横X方向に移動可能に支持されると共に内輪部32で大きな変位が規制される。又、パッドのリング面24と上端面部33との間隔によってパッドの傾斜が規制される。パッキン4はパッドの動きを妨げないように真空側34bを外気側34aからシールする。
【効果】基板が熱収縮してパッドの吸着支持面が基板で引っ張られたときにパッドがその方向に移動し、支持面と基板との間が離れず、確実に真空破壊を防止することができる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、支持される面が平面になっている対象物の前記支持される面を前記対象物による荷重を支持する支持力より大きい吸着力を発生させる真空によって吸着可能な支持面と支持される被支持部とを備えたパッド部と前記被支持部を支持可能な支持部とを備えた吸着パッドに関し、特に液晶ガラス基板の熱処理における搬送時の真空吸着面の剥離防止技術に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ用ガラス基板(以下単に「ガラス基板」という)等の平面状の被支持部を備えた対象物を熱処理やその前後の工程で搬送するときには、通常ロボットハンドに装着した複数の吸着パッドが使用される。即ち、ガラス基板をある程度高速で安全に移動・搬送するために、これを単にロボットハンドの上に乗せるだけでなく、吸着パッドを介在させて強固にガラス基板を真空吸着するようにしている。
【0003】
このような基板搬送部分の構造は、通常、例えば図5に示す如く、ガラス基板W、これを乗せている4個の吸着パッド1’のパッド2’、これを装着しているロボットハンド10に取り付けられた支持体3’、パッド2’の中に形成され支持体3’側に導通している真空引き用の通路25、パッド2’の下部と支持体3’との間に形成された球面状支持面24’及び33’、等で構成されている。そして、球面状支持面におけるパッドの回転により、ガラス基板のたわみや4個のパッドの支持面の傾斜角のばらつきに対応できるようにしている。(例えば特許文献1参照。)。
【特許文献1】
特開平07−237765号公報(図1、2及び関連説明)
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のような従来の吸着パッドにより1m角程度の大型のガラス基板を280℃程度の熱処理室に入れて熱処理した後取り出して搬送するときに、ガラス基板Wと吸着パッド1’の吸着支持面22との間の真空度が低下するという問題が発生した。
【0005】
この問題は、ガラス基板の大型化によって複数の吸着パッド間の最大間隔である図示のCmが長くなり、高温になったガラス基板を取り出したときにその温度が急速に下がって熱収縮する量が多くなり、ガラス基板とロボットハンドとの間の相対変位によってそれらの両方からその間に介在する吸着パッドに外力がかかり、従来の構造のものではそれに対応できず、真空破壊を生ずるように動作するものと考えられる。又、ガラス基板の大型化による重量増加により、搬送時にガラス基板に生ずる進行方向の慣性力の影響等も関係している可能性がある。
【0006】
即ち、図6に示す如く、従来の球面支持構造の吸着パッドでは、ガラス基板が矢印で示す方向に収縮して吸着パッドの接触面がその方向に力Fで引っ張られると、吸着パッドの球面状支持面にはその全体でそれに抵抗する力−Fが力の作用面の重心位置に作用し、引っ張り力Fと抵抗力−Fとがそれらの間隔hに対応してM=Fhなるモーメントを吸着パッドに作用させ、これを矢印のように図では時計方向に回転させようとする。
【0007】
この場合、パッド2’は支持体3’によってFの作用する方向には直接動かないように支持されているため、F、−Fはこれらの関係する部分の支持状態を変えてしまうまで大きくなる性質の力である。そして、一方側の吸着支持面22aを他方側の支持面22bを支点としてガラス基板Wの下面W1 から離そうとする剥離力が生じ、同図(a)のように、ガラス基板との接触面が開いて外気を吸入し、中の真空が破壊される可能性がある。
【0008】
又、同図(b)のように、Fと−Fの平行偶力によってガラス基板Wの収縮方向にガラス基板と共に引っ張られてパッド2’が浮き上がり、球面状支持面24’と33’との間が開き、この部分から真空になっている通路25に外気が侵入し、真空破壊が生ずる可能性があった。
【0009】
そして、上記のような原因によって実際に真空破壊する不具合が発生した。そこで本発明は、従来技術における上記問題を解決し、対象物の熱変位等が大きい場合でも、真空破壊が確実に防止される吸着パッドを提供することを課題とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決するために、請求項1の発明は、支持される面が平面になっている対象物の前記支持される面を前記対象物による荷重を支持する支持力より大きい吸着力を発生させる真空によって吸着可能な支持面と支持される被支持部とを備えたパッド部と前記被支持部を支持可能な支持部とを備えた吸着パッドにおいて、
前記被支持部と前記支持部とは前記パッド部が前記平面に平行な方向に移動可能であると共に前記支持面が傾斜可能である支持関係になっていて、前記移動の量が小移動の範囲になるように規制する移動規制構造部と前記傾斜の量が小傾斜の範囲になるように規制する傾斜規制構造部とを有することを特徴とする。
【0011】
請求項2の発明は、上記に加えて、前記支持部は前記被支持部が入れられている空間部を備えていて、前記パッド部は前記真空を形成可能なように前記支持面と導通し前記被支持部の中に形成され前記空間部に開口を持つ通路を備えていて、前記空間部において前記開口の位置から前記支持面の側で前記空間部を仕切って仕切られた両側の通気性を遮断すると共に前記移動と前記傾斜とに対応して変形可能なように形成されたシール部材を有することを特徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】
図1(a)は本発明を適用した吸着パッドの全体構成の一例を示す。
吸着パッド1は、支持される面が断面状態を図示している平面Ftになっている対象物としてのガラス基板W(以下単に「基板W」という)の支持される面である下面W1 を真空によって吸着可能な支持面として上端の中央部分21の周囲に形成された縁部分をなす支持面22と支持される被支持部である筒状部23とを備えたパッド部であるパッド2、筒状部23を支持可能な支持部としての支持ケース3、シール部材であるパッキン4、等を備えている。
【0013】
上記のような本例の吸着パッド1は、図1(b)に示す如くロボットハンド10に装着されている。即ち、支持ケース3がロボットハンド10の図示のような寸法を持つ位置に固定して取り付けられている。寸法Cmは本例では4個装着されているパッド1の最大間隔である。なお、基板Wの実際の支持体はロボットハンドであり、支持ケース3は直接ロボットハンド10に形成されていてもよい。
又、(b)では2枚のロボットハンド10が分離した状態で示されているが、図示しない位置でこれらは一体化されている。
【0014】
パッド2の筒状部23と支持ケース3とは、パッド2が平面Ftに平行な方向として図示の断面状態においては横X方向に移動可能であると共に、支持面22が傾斜可能である支持関係になっている。移動及び傾斜が可能な支持関係は、支持ケース3が筒状部23のX方向の動きを拘束しないと共に、筒状部23を支持した状態でパッド2が回転するときにその回転を妨げないようにすることによって達成される。例えば従来の吸着パッドのような球面支持関係のものでは、パッドの平面方向への動きが阻止されているので、回転可能であっても移動可能な支持関係ではない。
【0015】
そのため本例では、図示のように筒状部23の下端部23aを曲面状に形成してこれを受ける支持ケース3における下端部23aに接触する面を断面が横X方向に向いた平面部31にしている。そして、その他に移動と回転を妨げる構造部分を設けていない。なお、下端部23aと平面部31との曲面と平面との関係はこの反対であってもよい。又、一方側が小面積であれば平面同士の関係であってもよいが、回転が円滑になるように何れかの面を曲面にすることが望ましい。又、下端部23aは通常支持面22の中心に相当する位置に1箇所だけ設けられるが、複数の曲面で形成されてもよい。
【0016】
下端部23aと平面部31との関係は、パッド2の移動と回転を容易にする支持関係であることが望ましい。そのため、下端部23aと平面部31との間に大きな摩擦力が生じないようにされる。そのため、これらの部分を例えばゴムのような材料ではなく、ある程度硬度があり本来的に摩擦係数の大きくない材料にすると共に、相互の接触面がある程度円滑になるように加工し、相互間の摩擦係数が余り大きくならないようにする。この場合、吸着パッドは熱処理装置への基板Wの搬入、搬出にも使用されるので、材料としては耐熱性が要求されるため、この点が優先される。このような条件から、本例では、パッド2及び支持ケース3にそれぞれ耐熱樹脂材及びステンレス鋼を使用している。そしてこれらを、通常の加工精度で加工し、両者間の摩擦係数を0.3〜0.4程度にしている。
【0017】
移動の量が小移動の範囲になるように規制する移動規制構造部としては、本例では、被支持部を筒状部23としてその円筒外面23bと、これに狭い間隔c1 を空けて支持ケース3から突出部として形成された内輪部32とが設けられている。図1(b)のように取り付けられた吸着パッド1は、その位置決めや姿勢保持のため本来的には平面方向に動かない方がよいが、本発明では、吸着支持時に基板Wに熱膨張及び熱収縮である熱変位が生じたときにこれに容易に対応可能にするため、小移動の範囲として、上記熱変位を確実に許容できるような範囲にしている。
【0018】
なお、このような移動規制構造部としては、他の適当な構造を採用することができる。例えば、内輪部32の代わりに筒状部23にリングを取り付け、これと支持ケース3の内面との間に前記間隔c1 を設けたり、内輪32をある程度長さの長い筒状にするような構造にしてもよい。内輪を筒状にすれば、次に述べる傾斜規制構造部にも兼用することができる。
【0019】
傾斜の量が小傾斜の範囲になるように規制する傾斜規制構造部としては、本例では、パッド2の上端の中央部分21及び支持面22の下のリング面24と、これに狭い間隔c2 を空けて対向させた支持ケース3の上端面部33が設けられている。図1(b)のように取り付けられた吸着パッド1は、本来的にはロボットハンド10の面に平行である基準面になっていればよいが、既述の如く基板Wのたわみやそれぞれのパッドの支持面間の傾斜角のばらつき等に対応可能にする必要がある。間隔c2 はそのために設けられるので、例えば支持面22が5°程度の範囲まで傾斜可能なように定められる。
【0020】
なお、このような傾斜規制構造部として他の適当な構造を採用可能であることは移動規制構造部と同様である。例えば前記のように内輪32をある程度の長さを持つ筒状にすれば、吸着パッド1が傾いたときに、その傾斜した円筒外面23bを内輪32の上下端で受け止められるので、これらを傾斜規制構造部にすることができる。
【0021】
又本例の吸着パッド1では、図示のように支持ケース3が筒状部23の入れられている空間部34を備えていて、パッド2は基板Wを吸着するための真空を形成可能なように支持面22と導通し筒状部23の中に形成され空間部34に開口25aを持つ通路25を備えている。そして、空間部34において開口25aの位置から支持面22の側で空間部34を仕切って仕切られた外気側34a及び真空側34bからなる両側の通気性を遮断すると共にパッド2の移動と支持面22の傾斜とに対応して変形可能なように形成されたシール部材としての前記パッキン4が設けられている。符号35は、真空側空間部34bに導通し図示しない真空配管に接続され真空引きされるときの空気の通る中間通路である。
【0022】
パッキン4が空間部34を仕切る構造としては、本例では、筒状部23における開口25aの上の位置でパッキン4の内径側41を円筒外面23bにシール接着すると共に、支持ケース3を二つ割れの上下ケース3a、3bとし、これらの間の溝部3cにパッキン4の外径側42を入れて挟み込むようにしている。このようなパッキン4は、前記の如くパッド2の移動と支持面22の傾斜とに対応して容易に変形できるように、断面が曲線状である曲面状に形成されていると共に、柔軟性のある材料として本例ではシリコンゴムでできている。
【0023】
このようなパッキン4は、パッド2の平面方向及び回転方向の動きを許容できると共に外気側34aと真空側34bとの間をシールできればよいので、図1の形状以外の適当な形状にすることができ、図2はその一例を示す。
【0024】
そのうちの(a)のものは、パッキン4の内径側41を円筒外面23bより少し小径のリング端41aにしている。符号23cはストッパである。本例のものは、リング端41aを伸ばして円筒外面23bに嵌め込んで取り付けられる。従って取付が容易である。一方、円筒外面23bとリング端41aとの間では、その収縮力によってシール性を得ることができる。
【0025】
(b)は、パッキン4を断面U字型のリング状にした例を示す。内外径側41、42はそれぞれパッド2の筒状部23及び支持ケース3の溝部3cに嵌め込まれていて、これらに続く部分はそれぞれ円筒外面23b及び下ケース3bの内面3b1 に接触している。
【0026】
本例のパッキン4は、断面がU字状であるため、その中の外圧である大気圧Paと通路25内が真空になってそれと同じ真空になっているU字状の外の真空圧力Pvとの間に差圧が生じたときに、パッキン4の側面及び底面がパッド2及び支持ケース3で支持されるため、真空に対する耐圧性が良いものである。一方、U字状の幅が容易に拡縮するため、パッド2の横X方向の動きは容易である。更に、本例のパッキン4は、パッド2の移動を許容しつつその移動力がなくなるとパッド2をもとの中心位置に確実に復帰させる作用をなすので、パッド2の位置保持性を良くするものである。その結果、本例のパッキン4を移動及び傾斜規制構造部にすることができる。
【0027】
以上のような本発明の吸着パッド1は、通常図1(b)に示すようにロボットハンド10に取り付けられ、熱処理装置への搬入及び搬出を含む基板Wの製造工程中における移動に用いられ、以下のような作用効果を発揮する。
【0028】
熱処理装置内では、多数枚の基板Wが積載されて例えば280℃に加熱されていて、一定の加熱時間が経過すると1タクトに1枚づつ熱処理済みの基板が取り出されて新たな基板が搬入され、順次熱処理されるようになっている。このときの基板W板の出し入れのために本例の吸着パッドを装備したロボットハンドが使用される。
【0029】
ロボットハンド10が図示しない熱処理装置内に挿入されてその位置が取り出すべき基板Wの下に設定されると、上昇して図1の例では4個の吸着パッド1の支持面22上に基板Wを乗せる。このとき、支持面22の形成されたパッド2は、その筒状部23が内輪部32の中にあってほぼ基準位置にあり、支持面22の下のリング面24が支持ケース3の上端面部33によって小さい傾斜角の範囲内に維持されていて、移動及び回転が容易になっているので、パッドの支持面22上に基板Wが乗ると、支持面22はほぼ基準位置で基板Wの下面W1 に沿ってこれに接触し、基板Wを支持することになる。
【0030】
又このとき、ロボットに装着されていてロボットハンド10を駆動する図示しない真空装置が作動し、ロボットハンド内に又はその外でこれに沿って導設された図示しない真空配管を介して、順次、支持ケース3内に形成された中間通路35、真空側空間部34b、開口25a及び筒状部23内に形成された通路25を経由し、上端の中央部分21と基板の下面W1 との間の隙間部分から空気が吸引される。その結果、4個の吸着パッド1の全ての支持面22が基板の下面W1 に完全に接触してこれを吸着支持する。この吸着力は、後述するように、基板Wの重量の分担分である1個の吸着パッド1の荷重支持力よりも大きくされている。
【0031】
このときには、基板Wは、熱処理されているので280℃の温度になっている。一方、ロボットハンド10は熱処理室内に挿入されただけであるから、それ程温度が上がっていない。この状態で基板Wを支持したロボットハンドが熱処理室から搬出され、基板Wは次の処理工程ラインに移される。そしてこの間に、基板は徐冷室又は外の外気温度環境下で急速に温度を下げることになる。
【0032】
その結果、ロボットハンド10上の一定位置で支持された基板Wが収縮する。
その収縮量は、仮に基板温度が280℃から常温まで下がったとすると、1m角程度の基板Wにおける図1のパッド間最大距離Cm間では約1mmである。このとき、パッド2は基板W及び支持ケース3から外力を受けることになり、その関係を図3に示す。
【0033】
ロボットハンド10において図1(b)の最大間隔Cmの位置関係にある吸着パッド1は、基板Wが1mm程度収縮するために吸着支持面22を介して基板Wの下面W1 によってその面に平行な方向に引張力を受け、これに対してパッド2の下端部23aと支持ケース3の平面部31との間の摩擦力Rが対抗する。従って、引張力をFとすると、パッド2が動くまではF=−Rという関係になり、摩擦力と同じ大きさで方向が反対の引張力Fが作用することになる。
【0034】
一方パッド2には、上記の摩擦力Rを生じさせるもとになる下方に向いた垂直力として、基板Wの自重Gの当該吸着パッド1の分担分gと共に、真空による力がパッキン4に作用するときにこれから筒状部23に下向きにかかってくる真空分担力vが作用する。従って、上記摩擦力の作用する面間の摩擦係数をμとすると、
R=μ(g+v)
ということになる。
【0035】
又、このように摩擦によってRと−Rからなる偶力が作用すると、これらにより、
M1 =Rh
なるモーメントが生じる。hは図示のRの作用面間の距離である。このモーメントM1 は、パッドの支持面22の図において右端部分22aを図において下方に基板の下面W1 から剥がそうとする力を発生させる剥離モーメントになる。従って、この力は真空破壊を生じさせようとする力になる。
【0036】
これに対して、基板の下面W1 と支持面22との間には、真空による吸着力Vが作用しているので、上記の剥離モーメントM1 が生ずると、これに抵抗するように、図において支持面22の左端部分22bを中心として
M2 =VD/2
なる接着モーメントが発生する。
【0037】
従って、M1 がM2 以下であれば、パッドの支持面22が基板下面W1 から剥がれず、従って真空破壊は生じないことになる。ここでM1 とM2 とを比較すると次のようになる。
【0038】
真空による大気圧Paと真空圧力Pvとの差圧をΔP、支持面22及びパッキン4の圧力のかかる部分の直径をそれぞれD及びdとすれば、v<ΔP(πd2 /4)(1/2)であるが仮に
v=ΔP(πd2 /4)(1/2)
とし、
V=ΔPπD2 /4とすると、
M1 及びM2 はそれぞれ、
となる。
【0039】
ここで、ロボットハンド10はその重量軽減のためできるだけ薄く作られ、一方支持面22の直径は基板保持に必要な吸着力を得られる大きさであってD≒3h程度にされる。又、前記の如く真空吸着力Vは分担荷重の支持力gより大きい。又、M1 には例えば0.3程度のμが介在する。更に、パッキン4は支持ケース3の空間部34内に入れられるのでその直径dは支持面22の直径Dより十分小さく、例えばD=2d程度にされる。その結果、仮にVがgの2倍程度であるとしても、M2 は、M1 のうちの自重分の10倍、真空分の40倍になり、従ってM1 の8倍になる。
【0040】
その結果、接着モーメントM2 が剥離モーメントM1 より十分余裕を持って大きい値になり、基板Wに対する支持面22の剥離、それによる真空破壊は確実に防止される。
【0041】
一方、実際に使用される吸着パッドに関連した諸条件の一例として、ΔP=0.05 Mpa、1m角程度の大きさの基板のときのg=2N、d=14mm、h=10mm、D=30mm、μ=0.3としてv、V、M1 、M2 を計算すると、v≒3.8N、V≒35N、M1 ≒0.0174Nm、M2 =0.525 Nm≒30M1 となる。従って、問題にならない程大きい安全率で支持面の剥離による真空破壊を防止することができる。
【0042】
なお、このような関係において、パッド2は支持ケース3との間で移動可能な支持関係にされているので、基板Wの熱収縮により、実際には−Rを僅かに越える引張力Fでパッド2が熱収縮方向に約1mm程度動かされることになる。
【0043】
これに対して、従来の球面支持型の吸着パッドでは、パッドの基板支持面方向の移動が許容されないため、吸着面の剥離モーメントが大きくなって吸着面が剥離し、真空が破壊されるおそれがあり、実際にもそのような不具合が確認された。本発明を適用した吸着パッドによれば、上記の如くこの問題が確実に解決される。なお、吸着面が剥離すると、基板Wの搬出時にその加速度や振動等の基板Wにかかる外力により、基板Wが支持面から脱落する危険性等があることは言うまでもない。
【0044】
図4は本発明を適用した吸着パッドの他の構成例を示す。
本例の吸着パッド1は、図1のものに較べてシール部材であるパッキン4が設けられていない。そして、支持面に真空を発生させる構造部分を、図1のものと同様に被支持部である筒状部23内に設けられた通路25、支持ケース3内に開けられたガイド穴36、通路25に接続されガイド穴36を貫通しロボットハンド10の真空引き配管に接続される変形容易に形成された中間パイプ5、等で構成されている。
【0045】
中間パイプ5は、変形容易なように、本例では、入口部51、これに接続され筒状部23を一周程度螺旋状に巻かれた曲がり部52、ガイド穴36から導出される出口部53、これに続く管54、等で構成されている。このような中間パイプ5は、柔軟性のある耐熱樹脂材等で作られ、筒状部23には溶着等で取り付けられる。このような形状及び材質の中間パイプ5を導設することにより、真空の保持性を良くすることができる。そして、入口部51と出口部材53との間の変位の自在性により、パッド2の移動及び回転を容易に許容することができる。
【0046】
【発明の効果】
以上の如く本発明によれば、請求項1の発明においては、吸着パッドが、支持される面が平面になっている対象物の支持される面を対象物による荷重を支持する支持力より大きい吸着力を発生させる真空によって吸着可能な支持面と支持される被支持部とを備えたパッド部と、被支持部を支持可能な支持部とを備えているので、対象物を移動させるときに真空が維持されれば、熱処理される基板である液晶ガラス基板等の対象物を真空によって吸着支持し、熱処理室への出し入れを含めて対象物を安全に移動させることができる。
【0047】
そして、被支持部と支持部とをパッド部が平面に平行な方向に移動可能な支持関係にしているので、吸着時から移動時までの間に基板等の対象物に大きな温度差が生じて対象物が熱によって膨張や収縮をし、支持部に取り付けられたパッド部が対象物と支持部との間で平面に平行な方向の力を受けたときに、支持部に対してパッド部が吸着支持している対象物と共にその平面の方向に移動するので、対象物を支持する支持荷重より大きい十分な吸着力によって対象物と支持部との間の吸着している接触関係を確実に維持することができる。その結果、吸着部の真空を維持して対象物を安全に移動させることができる。
【0048】
この場合、対象物の支持される面とパッド部の支持面とが吸着している接触面に作用するその平面方向の力である外力に対して、パッド部の被支持部とこれを支持する支持部の間である他の接触部では、移動可能な支持関係にはなっているが接触により摩擦力が不可避的に発生し、外力が摩擦力より大きくなることによってパッド部が外力を逃がすように移動するが、それまでの間に摩擦力とこれと同じ大きさで方向が反対の外力とが偶力となり、それによって外力モーメントが生じ、吸着接触面を剥がそうそする力が発生する。
【0049】
ところが、摩擦力は対象物の荷重を支持する支持力により発生し、摩擦係数が存在するため通常支持力よりかなり小さい。これに対して、外力モーメントに対して抵抗モーメントを発生させる吸着力は、支持力そのものよりも大きく従って摩擦力より十分大きい。又、外力モーメントの大きさを定める他の条件となる吸着接触面と他の接触面との間隔は、特に大きくされる必要性がないと共に、支持部は熱処理されている基板のピッチ間に挿入されるため及び重量軽減のためにできるだけ厚みの薄いものにされるロボットハンド等に装着されるため、小さい間隔に制限されるので、通常吸着面の間隔よりもかなり小さい値にされる。その結果、抵抗モーメントは外力モーメントより十分大きい値になり、パッド部は吸着接触面を剥離させることなく平面方向に容易に移動し、確実に真空破壊の発生を防止することができる。
【0050】
又,被支持部と支持部とは対象物の支持される面に接触するパッド部の支持面が容易に傾斜できるような支持関係にされているので、通常ロボットハンド等に複数個装備される吸着パッド間で支持面の傾斜状態にばらつきがあっても、それぞれの支持面が容易に傾斜して対象物の支持される面に接触する。その結果、真空によって吸着支持するときの真空を確実に発生させることができる。
【0051】
更に、移動の量が小移動の範囲になるように規制する移動規制構造部を設けているので、パッド部の不必要な移動を制限し、これを基準の支持位置の範囲内に維持し、対象物を目的とする位置で支持するという支持条件を満たすことができる。
【0052】
そして更に、傾斜の量が小傾斜の範囲になるように規制する傾斜規制構造部を設けているので、パッド部がその支持面で対象物を支持していないときにも,支持面を必要なだけのできるだけ小さい傾斜角に維持して、対象物を支持するときに、大きな角変位による支持位置のずれを防止すると共に、対象物に接触しやすくすることができる。
【0053】
請求項2の発明においては、支持部は被支持部が入れられている空間部を備えていて、パッド部は真空を形成可能なように支持面と導通し被支持部の中に形成され空間部に開口を持つ通路を備えていて、空間部において開口の位置から支持面の側で空間部を仕切って仕切られた両側の通気性を遮断するシール部材を設けているので、開口側の空間部を真空を形成可能な真空空間にすることができる。
その結果、支持部に真空空間に開口する導通孔を設け、パッド部とは接続関係がなく動かない支持部に真空配管を接続させることができる。その結果、真空配管の接続を容易にすることができる。
【0054】
そしてこのシール部材は、パッド部の移動とその支持面の傾斜とに対応して変形可能なように形成されているので、パッド部の移動を妨げることがなく、従って対象物に熱収縮があったようなときにそれによる吸着支持面の剥離と真空破壊を助勢するようなことがない。なお、シール部材は通常ある程度柔軟な材料で形成されるので、そのような材料を使用し通常の変形可能な形状にすることにより、このようなパッド部の移動と傾斜の容易性を妨げないものにすることができる。
【0055】
一方、このようにシール部材を設けて空間部を真空状態に仕切ると、シール部材には空間部を仕切っている内外間で圧力差が生じ、シール部材は真空による外圧を受けることになるが、この外力に耐えて前記の如く通気性を遮断して真空を保持することになる。このようなシール部材の構成は、シール部材の両端を空間部を形成することになる開口のあるパッド部と支持部とに周知の適当な手段で固定すると共に、前記外圧に耐えるだけの材質や厚みのものを適当に選択することによって容易に実現される。
【0056】
又、シール部材に外圧がかかるとその一端側の力がパッド部にかかることになるので、対象物の荷重による支持力に加えてこの外圧力も被支持部と支持部との間に作用し、摩擦力を増加させることなる。しかし、空間部を大きくしシール部材を大きくする必要性がないと共に、空間部は支持部の中に形成されるので、空間部の面積は対象物の支持面の面積よりかなり小さくされるため、外圧力は接触面の吸着力よりかなり小さくなる。そして、支持力の場合と同様に摩擦係数が介在して摩擦力が生じるので、結局この付加される外圧力による力は吸着面の接触力より十分小さい値になる。その結果、支持面と対象物の支持される面との間の真空吸着による接触状態が確実に維持されることになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明を適用した吸着パッドの断面状態の一例を示す説明図で、(b)はこの吸着パッドをロボットハンドに装着した状態を示す平面図である。
【図2】(a)及び(b)は本発明を適用した吸着パッドの他の例の断面状態を示す説明図である。
【図3】図1の吸着パッドの作用の説明図である。
【図4】本発明を適用した吸着パッドの更に他の例を示す説明図で(a)及び(b)はそれぞれ(b)及び(a)のa−a線及びb−b線矢示図である。
る。
【図5】(a)は従来の吸着パッドの断面状態の一例を示す説明図で、(b)はこの吸着パッドをロボットハンドに装着した状態を示す平面図である。
【図6】(a)及び(b)は上記従来の吸着パッドの作用の説明図である。
【符号の説明】
1 吸着パッド
2 パッド(パッド部)
3 支持ケース(支持部)
4 パッキン(シール部材)
22 支持面
23 筒状部(被支持部)
23a 下端部(被支持部)
23b 円筒外面(移動規制構造部)
24 リング面(傾斜規制構造部)
25 通路
25a 開口
31 平面部(支持部)
32 内輪部(移動規制構造部)
33 上端面部(傾斜規制構造部)
34 空間部
34a、34b 外気側、真空側(仕切られた両側)
c1 狭い間隔(移動規制構造部)
c2 狭い間隔(傾斜規制構造部)
Ft 平面
g 基板の自重分担分(対象物による荷重を支持する支持力)
V 吸着力
W ガラス基板、基板(対象物)
W1 下面(支持される面)
Claims (2)
- 支持される面が平面になっている対象物の前記支持される面を前記対象物による荷重を支持する支持力より大きい吸着力を発生させる真空によって吸着可能な支持面と支持される被支持部とを備えたパッド部と前記被支持部を支持可能な支持部とを備えた吸着パッドにおいて、
前記被支持部と前記支持部とは前記パッド部が前記平面に平行な方向に移動可能であると共に前記支持面が傾斜可能である支持関係になっていて、前記移動の量が小移動の範囲になるように規制する移動規制構造部と前記傾斜の量が小傾斜の範囲になるように規制する傾斜規制構造部とを有することを特徴とする吸着パッド。 - 前記支持部は前記被支持部が入れられている空間部を備えていて、前記パッド部は前記真空を形成可能なように前記支持面と導通し前記被支持部の中に形成され前記空間部に開口を持つ通路を備えていて、前記空間部において前記開口の位置から前記支持面の側で前記空間部を仕切って仕切られた両側の通気性を遮断すると共に前記移動と前記傾斜とに対応して変形可能なように形成されたシール部材を有することを特徴とする請求項1に記載の吸着パッド。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003001399A JP3917528B2 (ja) | 2003-01-07 | 2003-01-07 | 吸着パッド |
TW092121669A TWI309226B (en) | 2003-01-07 | 2003-08-07 | Adsorption pad |
KR1020030060694A KR100730241B1 (ko) | 2003-01-07 | 2003-09-01 | 흡착 패드 |
CNB031602037A CN1329263C (zh) | 2003-01-07 | 2003-09-27 | 吸附垫 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003001399A JP3917528B2 (ja) | 2003-01-07 | 2003-01-07 | 吸着パッド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004209612A true JP2004209612A (ja) | 2004-07-29 |
JP3917528B2 JP3917528B2 (ja) | 2007-05-23 |
Family
ID=32819431
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003001399A Expired - Fee Related JP3917528B2 (ja) | 2003-01-07 | 2003-01-07 | 吸着パッド |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3917528B2 (ja) |
KR (1) | KR100730241B1 (ja) |
CN (1) | CN1329263C (ja) |
TW (1) | TWI309226B (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008073788A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Yaskawa Electric Corp | 基板吸着装置およびそれを用いた基板搬送ロボット |
JP2011029388A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | Tokyo Electron Ltd | 真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置 |
CN101472035B (zh) * | 2007-12-25 | 2011-03-30 | 株式会社理光 | 光学单元,图像读取装置以及图像形成装置 |
CN103967919A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-08-06 | 无锡微焦科技有限公司 | 真空吸盘 |
JP2015103696A (ja) * | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置 |
KR20150112381A (ko) * | 2014-03-28 | 2015-10-07 | (주)대성하이텍 | 유리판 가공용 지그 |
CN104959870A (zh) * | 2015-07-31 | 2015-10-07 | 苏州市玄天环保科技有限公司 | 一种带孔平面物体吸附装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007242787A (ja) * | 2006-03-07 | 2007-09-20 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
KR100765007B1 (ko) * | 2006-03-26 | 2007-10-09 | 엘지이노텍 주식회사 | Rfid 송수신 시스템 |
KR100809718B1 (ko) * | 2007-01-15 | 2008-03-06 | 삼성전자주식회사 | 이종 칩들을 갖는 적층형 반도체 칩 패키지 및 그 제조방법 |
CN103646905A (zh) * | 2013-12-11 | 2014-03-19 | 中国电子科技集团公司第二研究所 | 晶圆片识别旋转定位吸附台 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63136636U (ja) | 1987-02-27 | 1988-09-08 | ||
JP3977904B2 (ja) * | 1997-09-10 | 2007-09-19 | 松下電器産業株式会社 | 電子部品実装機の部品吸着ヘッド |
JP2001260065A (ja) * | 2000-03-17 | 2001-09-25 | Advantest Corp | 部品保持装置 |
JP4291497B2 (ja) * | 2000-05-11 | 2009-07-08 | 株式会社妙徳 | 吸着パッド |
JP3883171B2 (ja) * | 2000-06-16 | 2007-02-21 | 富士通アクセス株式会社 | 吸着パッド |
JP4547649B2 (ja) * | 2000-07-31 | 2010-09-22 | Smc株式会社 | 吸着用パッド |
-
2003
- 2003-01-07 JP JP2003001399A patent/JP3917528B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2003-08-07 TW TW092121669A patent/TWI309226B/zh not_active IP Right Cessation
- 2003-09-01 KR KR1020030060694A patent/KR100730241B1/ko active IP Right Grant
- 2003-09-27 CN CNB031602037A patent/CN1329263C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008073788A (ja) * | 2006-09-20 | 2008-04-03 | Yaskawa Electric Corp | 基板吸着装置およびそれを用いた基板搬送ロボット |
CN101472035B (zh) * | 2007-12-25 | 2011-03-30 | 株式会社理光 | 光学单元,图像读取装置以及图像形成装置 |
JP2011029388A (ja) * | 2009-07-24 | 2011-02-10 | Tokyo Electron Ltd | 真空吸着パッド、搬送アーム及び基板搬送装置 |
JP2015103696A (ja) * | 2013-11-26 | 2015-06-04 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板搬送装置 |
US9760023B2 (en) | 2013-11-26 | 2017-09-12 | Tokyo Electron Limited | Substrate carrying device |
KR20150112381A (ko) * | 2014-03-28 | 2015-10-07 | (주)대성하이텍 | 유리판 가공용 지그 |
KR101587461B1 (ko) | 2014-03-28 | 2016-01-21 | (주)대성하이텍 | 유리판 가공용 지그 |
CN103967919A (zh) * | 2014-05-06 | 2014-08-06 | 无锡微焦科技有限公司 | 真空吸盘 |
CN104959870A (zh) * | 2015-07-31 | 2015-10-07 | 苏州市玄天环保科技有限公司 | 一种带孔平面物体吸附装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW200412319A (en) | 2004-07-16 |
JP3917528B2 (ja) | 2007-05-23 |
CN1329263C (zh) | 2007-08-01 |
TWI309226B (en) | 2009-05-01 |
CN1517286A (zh) | 2004-08-04 |
KR20040063756A (ko) | 2004-07-14 |
KR100730241B1 (ko) | 2007-06-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5861676B2 (ja) | 吸着構造、ロボットハンドおよびロボット | |
CN107706129B (zh) | 接合装置和接合系统 | |
US8608885B2 (en) | Substrate heat treatment apparatus | |
JP2004209612A (ja) | 吸着パッド | |
JP4642787B2 (ja) | 基板搬送装置及び縦型熱処理装置 | |
TWI360858B (en) | Substrate support structure, heat treatment appara | |
JP6120748B2 (ja) | 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
JP6382769B2 (ja) | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
KR20050085784A (ko) | 기판 지지용 엔드 이펙터 조립체 | |
JP6186124B2 (ja) | 搬送アーム、搬送装置および搬送方法 | |
JP2015095579A (ja) | 接合装置及び接合システム | |
TWI618180B (zh) | 接合裝置、接合系統、接合方法及電腦記憶媒體 | |
US8297568B2 (en) | Sucking and holding device | |
JP2017005219A (ja) | 接合装置、接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | |
KR20150006377A (ko) | 흡착 구조, 로봇 핸드 및 로봇 | |
TW201524716A (zh) | 抽吸結構、自動機手及自動機 | |
TWI822993B (zh) | 基板貼合裝置及基板貼合方法 | |
JP2001223252A (ja) | ロボットの吸着レスハンド | |
JP2015013360A (ja) | 吸着構造、ロボットハンドおよびロボット | |
JP2007083322A (ja) | 基板吸着装置、基板支持体、基板搬送装置、およびガラス基板搬送用ロボット。 | |
JP2013243203A (ja) | 支持装置 | |
JP5202028B2 (ja) | 真空ピンセットおよびこれを用いた基板搬送装置ならびに基板処理装置 | |
JPH11163093A (ja) | 基板搬送ロボット | |
TWI301119B (en) | Substrate transportation apparatus | |
TWI654697B (zh) | 具有來自側壁之特徵物的處理腔室 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041021 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050811 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050830 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051031 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060328 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060526 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061107 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061221 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 3917528 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100216 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110216 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120216 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120216 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130216 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140216 Year of fee payment: 7 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |