JP6899891B2 - 基板を制御して接合する方法およびサンプルホルダ - Google Patents
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Description
第1の基板を第1の保持装置の第1の保持面で保持し、第2の基板を第2の保持装置の第2の保持面で保持するステップ、
基板を保持面に固定エレメントによって取り付けるステップ、
接触面同士の接触前に接触面のうちの少なくとも1つを湾曲させるステップ、を有している方法において、接触後にまずは、ただ1つの接触軸線に沿って一軸的に配置されている固定エレメントだけを停止させ、その他の固定エレメントは作動させたままにし、これにより基板をまずはこの接触軸線に沿って一軸的にのみ互いに接続させ、その後、その他の固定エレメントを停止させ、これにより基板を全面的に互いに接続させる、方法が提案されている。
第1の基板を第1の保持面で保持する第1の保持装置および第2の基板を第2の保持面で保持する第2の保持装置と、
接触面同士の接触前に接触面のうちの少なくとも1つを湾曲させる湾曲手段と、を有している装置において、
この装置は制御手段を有しており、これにより接触後にまずは、ただ1つの接触軸線に沿って一軸的に配置されている固定エレメントだけを停止させることができ、その他の固定エレメントは作動させたままにすることができ、これにより基板をまずは接触軸線に沿って一軸的にのみ互いに接続させることができ、
その後、その他の固定エレメントを停止させることができ、これにより基板を全面的に互いに接続させることができる、装置が設けられている。
・線的もしくは一軸的な、
・n角形型の、特に
・三角形の、
・四角形の、
・五角形、
・六角形の、
・七角形の、
・八角形の、
・星形の、
対称性を有している。湾曲の対称性は、接合ウェーブが進行する際にできるだけ小さい「ランアウト」が生じるように調節することができる。
本発明による基板ホルダは、固定手段、特に複数の固定エレメントを有している。固定エレメントは区域ごとにグループ化されてよい。区域ごとの固定エレメントのグループ化により、形状的、または光学的、または好適には機能的な課題も満たされる。機能的な課題とは例えば、1つの区域の全ての固定エレメントを同時に切り換えることができることを意味する。1つの区域の全ての固定エレメントを個々に切り換えることができることも考えられる。したがって、複数の固定エレメントを同時に、基板の固定もしくは解放を行うために、区域の内側で駆動制御することができ、または個別に駆動制御することもできるが、区域内で、極めて固有の基板の変形特性が生じる。区域は特に次のようなジオメトリであってよい。
・片面、
・円セグメント、
・特に三角形、四角形、または六角形としての、タイル張りのような区域、
・円環セグメント。
・ピラミッド、特に三角錐または四角錐
・円筒、特に平坦なまたは丸み付けされた頭部を備えた円筒
・直方体
・円錐
・球シェル。
・温度センサおよび/または
・圧力センサおよび/または
・距離センサ、である。
・金属、特に
・純金属、特に
・アルミニウム
・合金、特に
・鋼、特に
・低合金鋼、
・セラミック、特に
・ガラスセラミック、特に
・ゼロデュア、
・窒化物セラミック、特に
・窒化ケイ素、
・炭化物セラミック、特に
・炭化ケイ素、
・ポリマ、特に
・高温ポリマ、特に
・テフロン、
・ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)。
本発明による装置は、本発明による2つの保持装置および/または基板ホルダから成る。好適には、少なくとも上側の基板ホルダは測定穴を有している。測定穴は特に閉鎖可能、かつ/またはガス密に形成されている。
本発明による第1のプロセスの本発明による第1のプロセスステップでは、第1の基板を第1の基板ホルダに、第2の基板を第2の基板ホルダにロードし、特に少なくとも周囲の区分で固定する。
・線的もしくは一軸的な、
・n角形型の、特に
・三角形の、
・四角形の、
・五角形の、
・六角形の、
・七角形の、
・八角形の、
・星形の、
対称性を有している。湾曲の対称性は、接合ウェーブが進行する際にできるだけ小さい「ランアウト」が生じるように調節することができる。
・変形手段の停止中における、基板の突然の完全な解放、
・変形手段が自然に出発状態に置かれ、ひいてはすぐに基板への作用をやめるときの、基板の突然の完全な解放、
・変形手段が段階的に、しかしながら継続的に基板への作用をやめるときの、基板の突然の完全な解放、
・変形手段が基板に作用している間に行われる、固定の段階的な停止による、段階的に、特に区域ごとに、好適には内側から外側に向かって行われる基板の解放、
・上記方法の組み合わせ。
・リソグラフィ装置、特に、
・フォトリソグラフィ装置、特に
・ステッパ
・インプリントリソグラフィ装置、
・ステッパ
・放射線リソグラフィ装置、特に
・電子ビームリソグラフィ
・イオンビームリソグラフィ
・レーザリソグラフィ
が挙げられる。
1IV,1V,1VI,1VII 保持装置/基板ホルダ
1o 第1の保持装置/上側の基板ホルダ
1u 第2の保持装置/下側の基板ホルダ
1s,1s’,1s’’,1s’’’ 保持面
2,2’,2’’,2’’’ 固定エレメント
2o’’’ 固定エレメント表面
3,3’ センサ
4o 第1の/上側の基板
4u 第2の/下側の基板
4a 基板保持面
5,5’ 変形エレメント/湾曲エレメント
6 管路
7,7’,7’’,7’’’,7’’’’ 隆起部/突起
7o 突起表面
8 ウェブ
9 空間領域
10 縁部エレメント
11 突起平面
12 測定穴
13 接合機
14u,14o 実際湾曲
15u,15o 目標湾曲
16u,16o 圧力経過
17u,17o 構造体
L,L’ 線
x 位置
d 距離
p 圧力
R1,R2 湾曲半径
X 接触軸線
Y,Z 軸線
Z1〜Z6 区域
Claims (12)
- 第1の基板(4o)を第2の基板(4u)に、前記基板(4o,4u)の互いに向かい合う接触面(4k)で接合する方法であって、以下のステップ、すなわち、
前記第1の基板(4o)を第1の保持装置(1,1’,1’’,1’’’,1IV,1V,1VI,1VII)の第1の保持面(1s,1s’,1s’’,1s’’’)で保持し、前記第2の基板(4u)を第2の保持装置(1,1’,1’’,1’’’,1IV,1V,1VI,1VII)の第2の保持面(1s,1s’,1s’’,1s’’’)で保持するステップと、
前記基板(4o,4u)を前記保持面(1s,1s’,1s’’,1s’’’)に固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)によって取り付けるステップと、
前記接触面(4k)同士の接触前に前記接触面(4k)のうちの少なくとも1つを湾曲させるステップと、
を有している方法において、
前記接触後にまずは、ただ1つの接触軸線(X)に沿って一軸的に配置されている固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)だけを停止させ、その他の固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)は作動させたままにし、これにより前記基板(4o,4u)をまずは前記接触軸線(X)に沿って一軸的にのみ互いに接続させ、
その後、前記その他の固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)を停止させ、これにより前記基板(4o,4u)を全面的に互いに接続させる、
ことを特徴とする方法。 - 前記固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)は、格子状に配置されており、隣接する固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)間の間隔は、一定である、
請求項1記載の方法。 - 前記固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)を内側から外側に向かって、かつ/または同じ時間間隔で停止させる、
請求項1または2記載の方法。 - 前記固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)を1つの直線に沿って、同時に停止させる、
請求項1または2記載の方法。 - 前記湾曲を、前記接触軸線(X)に沿って縦長に形成された1つの変形エレメント(5,5’)によって、かつ/または前記接触軸線(X)に沿って配置された複数の変形エレメント(5,5’)によって形成する、
請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。 - 前記湾曲を、対向する前記基板(4o,4u)から見て凸状に形成する、
請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。 - 前記両基板の湾曲を互いに鏡像対称的に形成する、
請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。 - 前記接触軸線(X)は、前記基板(4o,4u)のうちの一方の中心を通って、または両基板(4o,4u)の中心を通って、延在している、
請求項1から7までのいずれか1項記載の方法。 - 前記基板(4o,4u)の前記接触を前記基板(4o,4u)の中心で開始し、前記基板(4o,4u)の前記接触を、前記接触軸線(X)に沿って完全に前記基板(4o,4u)の外縁まで行う、
請求項1から8までのいずれか1項記載の方法。 - 前記基板(4o,4u)の固定を、前記基板の外縁でのみ行う、
請求項1から9までのいずれか1項記載の方法。 - 前記固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)は、複数の区域(Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,Z6)にまとめられており、前記複数の区域(Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,Z6)は、別個に作動および停止させることができ、かつ/または前記基板(4o,4u)の外縁に配置されており、前記複数の区域(Z1,Z2,Z3,Z4,Z5,Z6)は、互いに均一な間隔で分配されて、前記基板(4o,4u)の前記外縁に配置されている、
請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。 - 第1の基板(4o)を第2の基板(4u)に、前記基板(4o,4u)の互いに向かい合う接触面(4k)で接合する装置であって、
前記第1の基板(4o)を第1の保持面(1s,1s’,1s’’,1s’’’)で保持する第1の保持装置(1,1’,1’’,1’’’,1IV,1V,1VI,1VII)および前記第2の基板(4u)を第2の保持面(1s,1s’,1s’’,1s’’’)で保持する第2の保持装置(1,1’,1’’,1’’’,1IV,1V,1VI,1VII)と、
前記接触面(4k)同士の接触前に前記接触面(4k)のうちの少なくとも1つを湾曲させる湾曲手段と、
を有している装置において、
前記装置は、制御手段を有しており、これにより前記接触後にまずは、ただ1つの接触軸線(X)に沿って一軸的に配置されている固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)だけを停止させることができ、その他の固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)は、作動させたままにすることができ、これにより前記基板(4o,4u)をまずは前記接触軸線(X)に沿って一軸的にのみ互いに接続させることができ、
その後、前記その他の固定エレメント(2,2’,2’’,2’’’)を停止させることができ、これにより前記基板(4o,4u)を全面的に互いに接続させることができる、
ことを特徴とする装置。
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