1303606 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於光學用薄膜，更詳而言之，是關於可抑制 基材薄膜表面的凹凸引起的表面缺陷，同時耐擦傷性及耐裂 ， 化性優良，且可抑制基材薄膜的捲曲，例如，較爲適合用作 爲觸控面板、偏光板、1 /4波長板或光碟的遮覆薄膜及各種 ‘ 顯示器保護膜等的具有硬塗功能之光學用薄膜。 【先前技術】 近年來，作爲市場增大中的對便攜式資訊終端的輸入裝 φ 置係利用有觸控面板。該觸控面板係通過直接利用手指、筆 等接觸顯示器畫面，用以輸入資料的裝置。 現階段，上述觸控面板的90%係採用電阻膜方式。該電 阻膜方式的觸控面板，一般具有藉由絕緣隔材以使各透明導 電性薄膜呈相對面狀，將在透明塑膠基材單側面積層摻錫氧 化銦（ITO)膜等的透明導電性薄膜之觸控側塑膠基板，與在 玻璃等的透明基材單側面積層ITO膜等的透明導電性薄膜 之顯示器側透明基板，對向配置的構造。 _ 輸入係通過讓筆或手指抵壓於觸控側塑膠基板的觸控 輸入面（稱爲與透明導電性薄膜側相反側的面），以使觸控側 塑膠基板的透明導電性薄膜與顯示器側透明基板的透明導 電性薄膜接觸。 但是，在如此之電阻膜方式觸控面板中，藉由反覆進行 輸入操作，亦即，藉由反覆使觸控側塑膠基板的透明導電性 薄膜與顯示器側透明基板的透明導電性薄膜接觸，因而有使 1303606 得觸控側塑膠基板的透明導電性薄膜發生磨耗、產生裂紋、 進而發生從基材剝離等的問題。在此，爲解決此等問題，一 般在透明塑膠基板與透明導電性薄膜之間，設置硬化樹脂組 成的硬塗層。另外，還較常使用在與透明塑膠基板的透明導 電性薄膜相反側的表面設置硬塗層的方法。 另一方面，近年來，資訊記錄媒體的光碟的發展顯著， 已廣泛使用如CD、CD-ROM的資訊讀出專用磁碟、稱爲MOD 或MD的光磁碟、稱爲PD的相變化磁碟、稱爲CD-R的可 寫入的光碟。此等光碟的記錄容量爲65 0MB(Mbyte)程度， 但進一步開發出稱爲記憶容量大的DVD(數位多用途磁碟） 的一連串的光碟，具體爲 DVD-ROM(讀出專用型DVD)、 DVD-R(—次寫入型DVD)、DVD-R AM (寫入、讀出型DVD)、 DVD-RW(重覆讀寫型DVD)等的DVD系列。在此等的光碟 中，作爲保護膜或遮覆薄膜，廣泛使用硬塗層膜。 另外，近年來具備液晶顯示裝置的各式各樣的機器，例 如便攜式微型電腦、攝影機、行動電話等的民生用機器爲 首，普及至汽車、飛機的內嵌用顯示器、液晶投影機等，伴 隨此係要求彩色顯示化、高亮度化及耐久性的提升等。 該液晶顯示裝置係以具有液晶層的電性光學特性調制 入射的直線偏光，由出射側偏光板作爲透射率的強弱或著色 的信號而予以可視化的裝置。亦即，因爲將偏光用於其顯示 原理上，因此偏光板成爲必須的元件。該偏光板係將自然光 變化爲直線偏光的構件，現在，尤其是用於液晶顯示裝置的 量產實用化的大部分偏光板，係使用於聚乙烯醇薄膜組成的 1303606 基材薄膜上，讓碘或二色性染料等的二色性材料染色、吸 附’在定向延伸而成的偏光薄膜的兩面或單面貼合光學性透 明且具有機械強度的保護膜者。上述保護膜通常使用三乙醯 纖維素薄膜。 在液晶顯示裝置中，上述偏光板除設於液晶層的出射側 以外，通常還設於入射側。該偏光板在設於以液晶顯示裝置 上爲首的各種顯示裝置的表面側的情況，尤其要求有充分的 耐擦傷性及硬度，最好還具有耐污染性。 又，在液晶顯示裝置中，藉由圓偏光構件將來自一般光 源的出射光圓偏光化，並將此介以1 / 4波長板進行直線偏光 化後供給偏光板。還可相對上述1 /4波長板設置硬塗層膜。 另一方面，在PDP(電漿顯示器面板）、CRT(陰極射線 管）、LCD(液晶顯示裝置）、ELD(電致元件）等的各種顯示器 中，具有光從外部入射於畫面上，該光進行反射而較爲不易 看見顯示影像的情況，尤其是近年來，伴隨著扁平面板顯示 器的大型化，解決上述問題，越來越成爲一項重要的課題。 爲解決上述問題，迄今爲止採取對種種的顯示器施以各 式各樣的抗反射處置或防眩處置。其中之一係通過將抗反射 薄膜用於各種的顯示器來進行。並要求於該抗反射薄膜上具 有抗反射性能、同時還要求硬塗層性能、亦即表面的耐擦傷 性。 該抗反射薄膜，係藉由蒸鍍或濺鍍等的乾式處理法，進 行於基材薄膜上將低折射率的物質（MgF2)薄膜化的方法，或 交錯積層高折射率物質（ITO、Ti02等）與低折射率物質 1303606 (MgF2、Si02等）的方法，或藉由濕式處理法、亦即塗敷，來 製作具有抗反射性能的硬塗層膜。濕式處理法，例如係使用 ^ 耐氣候性優良的丙烯酸樹脂薄膜作爲基材，於其上設置電離 放射線感應型樹脂組成物的硬化層後，施以抗反射處理，用 . 作爲行動電話或PDA (便攜式資訊終端）、攝影機等的液晶顯 示裝置等的保護膜。 ~ 又，在液晶顯示裝置中，還嘗試施以在上述偏光板保護 膜面上設置抗反射層的加工處理。 在用作爲此種觸控面板、偏光板、1 /4波長板或光碟的 φ 遮覆薄膜及用作爲各種顯示器的表面保護膜等的光學用硬 塗層膜中，爲確保表面硬度高且耐擦傷性優良，少發生干涉 條紋且要求低捲曲性，同時具有良好的辨視性及操作性等， 要求爲基材薄膜表面的凹凸引起的表面缺陷少者。 以往，在製作光學用硬塗層膜時，爲了滿足該要求物 性，進行硬塗層的厚度設定，但實際上欲使基材薄膜表面的 凹凸引起的表面缺陷減少，必須要形成所需厚度以上的硬塗 層。因此，因硬塗層劑的體積收縮，而有硬塗層膜的捲曲增 馨 大，造成操作適應性降低或容易產生裂紋等的問題。在此， 爲減低該捲曲，提出有從基底（基材）薄膜面照射紫外線的方 法等（例如，參照專利文獻1 )，在使捲曲減低的效果不夠充 · 分的基礎上，爲充分讓硬塗層硬化，又將產生有必要增加紫 ： 外線照射量及照射時間等的問題。 [專利文獻1]日本特開200 1 -205 179號公報 【發明內容】 -8 - 1303606 - (發明所欲解決之課題） 本發明正是鑒於上述課題而提出者，其目的在於，提供 一種抑制基材薄膜表面的凹凸引起的表面缺陷，同時，耐擦 傷性及耐裂化性優良，且可抑制基材薄膜的捲曲，例如較爲 適合用作爲觸控面板、偏光板、1 /4波長板或光碟的遮覆薄 膜及各種顯示器的保護膜等的具有硬塗層功能的光學用薄 膜。 (解決問題之手段） 本發明者等經過應欲開發具有上述優良特性的光學用 薄膜的反覆刻意硏究的結果，發現在基材薄膜的一面以指定 厚度設置硬化收縮小之特定組成的硬化樹脂層，並於其上設 置含有根據電離放射線之硬化樹脂的指定厚度之硬塗層，或 在該硬塗層上再進一步設置抗反射層，即可達成上述目的， 並基於該發現完成了本發明。 亦即，本發明提供下述光學用薄膜。 (1) 一種光學用薄膜，其特徵爲：在基材薄膜的一面， 順序積層（A)含有70重量％以上的重量平均分子量爲3,000 以上的2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物組成的硬化樹脂且 厚度爲5〜25μιη的硬化樹脂層；及(B)含有依電離放射線的硬 化樹脂，且厚度爲1〜1 5 μιη的硬塗層。 (2) 如（1)記載之光學用薄膜，其中在（Β)層上進一步積 層（C)至少一層組成的抗反射層。 (3) 如（1)或（2)記載之光學用薄膜，其中基材薄膜係乙 醯纖維素系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、環狀聚烯烴系薄膜、丙 •9- 1303606 烯酸樹脂系薄膜或聚酯系薄膜。 (4) 如（1)、（2)或（3)記載之光學用薄膜，其中（B )層之硬 塗層的折射率爲1.49〜1.65。及 (5) 如（1)至（4)中任一項記載之光學用薄膜，其中在基 材薄膜的另一面設置厚度爲1〜40 μιη的黏接劑層。 (發明效果） 根據本發明，藉由在基材薄膜的一面設置以硬化收縮極 小的2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物組成的硬化樹脂爲主 體的硬化樹脂層，即使將設於其上的硬塗層的厚度設爲較習 知薄，仍可提供一種獲得作爲光學用硬塗層膜的目標物性， 同時’可抑制基材薄膜表面的凹凸引起的表面缺陷，提升良 率的光學用薄膜。另外，該光學用硬塗層膜，因其硬塗層的 厚度薄的緣故，具有良好的耐裂化及低捲曲性。 【實施方式】 本發明之光學用薄膜，係在基材薄膜的一面，順序設置 (Α)硬化收縮極小的硬化樹脂層及（Β)硬塗層而成的積層薄 膜。 本發明之光學用薄膜之基材薄膜，例如，使用二乙醯纖 維素薄膜、三乙醯纖維素薄膜、乙醯纖維素丁酸酯薄膜等的 乙醯纖維素系薄膜；聚碳酸酯系薄膜；環狀聚烯烴系薄膜； 丙烯酸樹脂系薄膜；聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲 酸丁二酯薄膜、聚萘二甲酸乙二酯薄膜等的聚酯系薄膜；聚 礪系薄膜；聚醚颯系薄膜；聚醚醚酮系薄膜；聚醯亞胺系薄 膜；聚醚醯亞胺系薄膜等的透明塑膠薄膜。在此等基材薄膜 -10- 1303606 - 中，從光線透射率等的光學特性、加工性、機械物性、低吸 水率、耐熱性、耐氣候性等的方面考慮，以乙醢纖維素系薄 膜、聚碳酸酯系薄膜、環狀聚烯烴系薄膜、丙烯酸樹脂系薄 膜及聚酯系薄膜爲較佳，其中尤以三乙醯纖維素薄膜、聚碳 酸酯系薄膜、環狀聚烯烴系薄膜、丙烯酸樹脂系薄膜及聚對 苯二甲酸乙二酯薄膜爲更佳。此等基材薄膜可根據光學用薄 膜的用途適宜選擇。 此等基材薄膜可著色，也可爲無色，可根據用途適宜選 擇。例如，在用作爲液晶顯示裝置的保護用的情況，以無色 透明薄膜爲較佳。 此等基材薄膜的厚度無特別限制，而可根據狀況適宜選 擇，但通常爲15〜300μιη，尤以30〜250μιη的範圍爲較佳。另 外’該基材薄fl吴爲了提升與設於其表面的層的密接性，還可 依需要於單面或兩面施以各種表面處理。另外，可施以初級 塗敷處理。上述表面處理，如可使用電暈放電處理、鉻酸處 理（濕式）、火焰處理、熱風處理、臭氧·紫外線照射處理等。 此等表面處理方法係根據基材薄膜的種類適宜選擇，但一般 從效果及操作性等方面考慮，以使用電暈放電處理法爲較 佳。 此等基材薄膜，通常在其製膜時，大多在其表面形成微 小凹凸，但是在本發明之光學用薄膜中，該基材薄膜表面的 凹凸引起的表面缺陷受到抑制，因此對表面凹凸多的基材薄 膜，可有效發揮本發明的效果。 在本發明之光學用薄膜中，在基材薄膜的一面設置硬化 -11- 1303606 收縮極小的硬化樹脂層作爲（A)層。該硬化樹脂層係含有重 量平均分子量爲3,000以上的2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡 聚物組成的硬化樹脂 70重量％以上的層，其厚度爲 5〜25μπι，尤以選定5〜20μιη的範圍爲較佳。 在上述2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物的重量平均 分子量低於3,000時，因爲硬化收縮變大，因此無法抑制所 獲得光學用薄膜的捲曲。另外，若重量平均分子量過高時， 則形成的硬化樹脂層變軟，從而有獲得的光學用薄膜的硬塗 層功能降低，或無法充分發揮表面缺陷的抑制效果的擔憂。 因此，2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物的重量平均分子量 係以3,000〜50,000爲佳，尤以5,000〜35,000爲較佳，更以 5,000〜25,000的範圍爲最佳。又，上述重量平均分子量係藉 由凝膠滲透層析術（GPC)法所測定的聚苯乙烯換算値。 本發明中，在該（Α)層的硬化樹脂層中，若上述2官能 胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物組成的硬化樹脂含有70重量％ 以上的話，即可充分發揮本發明的效果，但該硬化樹脂的較 佳含有量爲80重量％以上，尤以90重量％以上爲較佳。 上述2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物，例如可從以（甲 基）丙烯酸將聚醚多元醇或聚酯多元醇與聚異氰酸酯的反應 獲得之聚胺甲酸酯寡聚物醚化而成的胺甲酸酯丙烯酸酯系 寡聚物中，選擇2官能者所獲得。 本發明中，在該（Α)層的硬化樹脂層中，除上述2官能 胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物組成的硬化樹脂以外，還可以30 重量％以下，較佳爲2 0重量％以下，更佳爲1 〇重量％以下的 1303606 比例，含有其他的硬化樹脂。該其他的硬化樹脂，如可舉出 聚合性寡聚物、聚合性單體組成的硬化樹脂、或熱固性樹脂 等。 聚合性寡聚物如可舉出3官能以上的胺甲酸酯丙烯酸 酯系寡聚物，進一步包括聚酯丙烯酸酯系寡聚物、環氧丙烯 酸酯系寡聚物、多元醇丙烯酸酯系寡聚物等。另一方面，聚 合性單體如可舉出單官能（甲基）丙烯酸酯系單體及多官能 (甲基）丙烯酸酯系單體等。 在此’聚酯丙烯酸酯系寡聚物，例如，可通過以（甲基） 丙烯酸將藉由多元羧酸與多元醇的縮合獲得的兩末端具有 羥基的聚酯寡聚物的羥基酯化，或通過以（甲基）丙烯酸將在 多元羧酸加成環氧化物而獲得寡聚物末端之羥基酯化而獲 得。環氧丙烯酸酯系寡聚物，例如，可通過在較低分子量的 雙酚型環氧樹脂或酚醛清漆型環氧樹脂的環氧乙烷環，讓 (甲基）丙烯酸反應進行醚化所獲得。又，多元醇丙烯酸酯系 寡聚物’可通過以（甲基）丙烯酸將聚醚多元醇的羥基酯化所 獲得。此等聚合性寡聚物可單獨使用一種，也可組合二種以 上使用。 另一方面’單官能（甲基）丙烯酸酯系單體，可從（甲基） 丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸酯丁酯、（甲 基）丙烯酸己酯、（甲基）丙烯酸環己基酯、2_(甲基）丙烯酸乙 己基酯、（甲基）丙烯酸十二烷基酯、（甲基）丙烯酸硬脂酸酯、 (甲基）丙烯酸異冰片基酯等中適宜選擇至少一種予以使用。 另外’多官能（甲基）丙烯酸酯系單體，例如可從14 —丁 1303606 二醇二（甲基）丙烯酸酯、i，6-己二醇二（甲基）丙烯酸酯、新戊 二醇二（甲基）丙烯酸酯、聚乙二醇二（甲基）丙烯酸酯、羥基 · 三甲基乙酸新戊二醇二（甲基）丙烯酸酯、二環戊基二（甲基） 丙稀酸酯、己內酯改質二環戊烯二（甲基）丙烯酸酯、環氧乙 ， 院改質磷酸二（甲基）丙烯酸酯、烯丙化環己基二（甲基）丙烯 · 酸酯、三聚異氰酯二（甲基）丙烯酸酯、三甲酯丙烷三（甲基） - 丙烯酸酯、二異戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、丙酸改質二異戊 四醇三（甲基）丙烯酸酯、異戊四醇三（甲基）丙烯酸酯、環氧 丙烷改質三羥甲基丙烷三（甲基）丙烯酸酯、三（丙烯醯氧乙 · 基）三聚異氰酯、二異戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、丙酸改質二 異戊四醇五（甲基）丙烯酸酯、二異戊四醇六（甲基）丙烯酸 酯、己內酯改質二異戊四醇六（甲基）丙烯酸酯等中適宜選擇 至少一種予以使用。 又，上述熱固性樹脂，如後所述，係用於硬化系統爲熱 硬化的情況的樹脂，例如，可舉出碳-碳雙鍵或具有縮水甘 油基的丙烯酸酯系聚合物、不飽和聚酯、異戊二烯聚合物、 丁二烯聚合物、環氧樹脂、苯酚樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺 $ 樹脂等。此等可單獨使用，也可組合二種以上使用。 該（A)層的硬化樹脂層，可使用依電離放射線的硬化系 統及熱硬化系統的任一者，但考慮到對操作性、硬化收縮 · 性、基材薄膜的影響等，以依電離放射線的硬化系統爲較 ： 佳。又，在此依電離放射線的硬化系統，係指在電磁波或電 荷粒子線中具有能量量子者，亦即，藉由照射紫外線或電子 線等，進行交聯、硬化的系統。 -14- 1303606 在將電離放射線硬化系統應用於（A)層的硬化樹脂層的 形成的情況，首先，調製（A)層形成用的電離放射線感應型 樹脂組成物。在該電離放射線感應型樹脂組成物中，作爲硬 化樹脂形成成分，以上述比例使用2官能胺甲酸酯丙烯酸酯 . 系寡聚物、及視需要使用上述聚合性寡聚物或聚合性單體 (單官能（甲基）丙烯酸酯系單體及多官能（甲基）丙烯酸酯系 _ 單體等）等。另外，在不損及本發明之目的範圍內，視需要 還可含有光聚合起始劑、光增感劑、聚合抑制劑、交聯劑、 抗氧化劑、紫外線吸收劑、安定劑、調平劑、消泡劑等的各 φ 種添加成分。 光聚合起始劑對於自由聚合型係使用以往習知者，例 如，從苯乙酮類、二苯基酮類、烷胺基二苯基酮類、苯甲基 類、苯甲酸類、苯甲酸醚類、苯甲基二甲基縮醛類、苯甲醯 基苯甲酸酯類、α_醯氧酯類等的芳基酮系光聚合起始劑；亞 硫酸酯類、噻噸酮類等的含硫系光聚合起始劑；醯基二芳基 膦氧等的醯基烯丙膦氧類、蔥醌類等其他的光聚合起始劑 中’適宜選擇一種或二種以上的任意者予以使用。 _ 又’在電子線硬化型的情況，還可不使用該光聚合起始 劑。 上述光聚合起始劑的配合量，相對於全光硬化成分1 00 · 重量份，通常在0.2〜10重量份，最好在0.5〜7重量份的範圍 . 進行選擇。 光增感劑，可使用例如第3級胺類、ρ-二甲胺苯甲酸酸 酯、硫醇系增感劑等。又，在電子線硬化型的情況，還可不 -1 5- 1303606 . 使用該光增感劑。 光增感劑的配合量，係相對全光硬化成分1 0 0重量份’ 通常在1〜20重量份，最好在2〜10重量份的範圍進行選擇。 另外，抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑，可從以往 、 公知者中適宜選擇使用，尤其使用在分子內具有（甲基）丙燃 ^ 基等的反應型抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑較爲有 _ 利。該情況在藉由電離放射線的照射所形成的聚合物鏈’分 別結合抗氧化劑成分、紫外線吸收劑成分、光安定劑成分。 藉此可抑制來自從因經時的硬化層各成分之散失，即使經過 φ 長期間仍可發揮各自的功能。 本發明之（Α)層形成用的電離放射線感應型樹脂組成 物，可視需要在適當的溶劑中，以各自指定的比例加入上述 硬化樹脂形成成分及視需要使用的各種添加成分，通過溶解 或分散便可調製而成。 此時使用的溶劑，例如可使用己烷、庚烷、環己烷等的 脂肪族烴；甲苯、二甲苯等的芳香族烴；二氯甲烷、二氯乙 烷等的鹵化烴；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、1-甲氧-2-丙醇等 φ 的醇；丙酮、丁酮、2-戊酮、異佛爾酮、環己酮等的酮；乙 酸乙酯、乙酸丁酯等的酯；乙基賽珞蘇等的賽珞蘇系溶劑等。 如此般調製而成的樹脂組成物的濃度、黏度，只要爲可 · 塗敷者，並無特別的限制，可根據情況適宜選定。 . 其次，在上述基材薄膜的一面，通過使用藉由公知的方 法，例如，桿塗敷法、刮刀塗敷法、輥塗法、刮片塗敷法、 壓塗法、凹版印刷塗敷法等，塗敷形成塗膜後，予以乾燥， -16- 1303606 ， 並對此照射電離放射線，以使該塗膜硬化，形成（A)層。 電離放射線例如可使用紫外線或電子線等。上述紫外線 可由高壓水銀燈、熔融Η燈、氙燈等所獲得，通常照射量爲 100〜5 00mJ/cm2，而電子線係由電子線加速器等獲得，通常 ， 照射量爲150〜3 5 0kV。在該電離放射線中，尤其以紫外線爲 ~ 較佳。又，在使用電子線的情況，不添加聚合起始劑仍可獲 得硬化膜。 又，在依該電離放射線之硬化系統中，可藉由完全硬化 形成（A)層’還可先設爲半硬化（half-cure)狀態，於其上形成鲁 後述的（B)層時，與該（B)層一起完全使（A)層硬化。 另一方面，在將熱硬化系統用於（A)層的硬化樹脂層的 形成的情況，首先調製（A)層形成用的熱硬化型樹脂組成 物。在該熱硬化型樹脂組成物中，作爲硬化樹脂形成成分， 以上述比例使用2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物、及視需 要使用上述聚合性寡聚物或聚合性單體（單官能（甲基）丙烯 酸酯系單體及多官能（甲基）丙烯酸酯系單體等）、熱固性樹脂 等。另外，在不損及本發明之目的的範圍內，視需要還可含 有硬化劑、聚合抑制劑、交聯劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、 安定劑、調平劑、消泡劑等的各種添加成分。 硬化劑，例如，可舉出過氧化二苯甲醯、二過氧化十二 ‘ 醯、過氧化第三丁醯苯甲酸、二_2 -過氧化乙基己烷二聚碳 酸酯等的有機過氧化物；2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2，-偶氮雙 2-甲基丁腈、2,2 5-偶氮雙二甲基戊腈等的偶氮化合物；甲苯 二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸 -17- 1303606 酯、六亞甲基二異氰酸酯等的聚異氰酸酯化合物；苯二胺、 六亞甲四胺、異佛爾酮二胺、二胺二苯基甲烷等的聚氨類； 十二烯基琥珀酸酐、酞酸酐、四氫酞酸酐等的酸酐；2 -甲基 咪唑、2-乙基咪唑、2-苯基咪唑等的咪唑類或氰胍；P-甲苯 磺酸、三氟甲磺酸等的路易士酸；及甲醛等。此等硬化劑可 根據使用的硬化樹脂形成·成分的種類，適宜選擇一種或二種 以上。 另外，有關抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、溶劑、 塗敷方法等，其如在前述的依該電離放射線之硬化系統中的 說明。 該熱硬化系統係在基材薄膜的一面，塗敷上述（A)層形 成用的熱硬化型樹脂組成物，予以乾燥、加熱處理以使該塗 膜硬化，形成（A)層。 藉此，藉由依電離放射線之硬化系統或熱硬化系統形成 的（A)層的硬化樹脂層的厚度，係在5〜25 μχπ的範圍所選定。 若該厚度低於5 μιη，則不能充分發揮隱蔽基材薄膜表面凹凸 的效果，而無法達成本發明的目的，若超過25 μπι，則會成 爲硬化收縮增大，或在硬化樹脂層產生裂紋的原因。該（Α) 層的較佳厚度爲5〜20μπι的範圍。 本發明之光學用薄膜，係在上述（Α)層的硬化樹脂層上 積層作爲（Β)層的包含依電離放射線的硬化樹脂的硬塗層。 該（Β)層的硬塗層，根據光學用薄膜的用途，還可具有 防眩光性。該情況，在硬塗層中可含有依電離放射線的硬化 樹脂，同時還含有供給防眩光性的各種充塡劑。 -18- 1303606 如此之硬塗層，例如可通過將依電離放射線硬化性化合 物、及視需要含有供給防眩光性的充塡劑或光聚合起始劑等 的硬塗層形成用塗敷液塗敷於（A)層上形成塗膜，照射電離 放射線使該塗膜硬化所形成。 上述電離放射線硬化性化合物，例如，可舉出光聚合性 寡聚物及/或光聚合性單體。在上述光聚合性寡聚物具有自 由聚合型與陽離子聚合型，作爲自由聚合型的光聚合性寡聚 物，例如可舉出聚酯丙烯酸酯系、環氧丙烯酸酯系、胺甲酸 酯丙烯酸酯系、多元醇丙烯酸酯系等。有關此等光聚合性寡 聚物，如在藉由上述電離放射線的硬化系統形成（A)層的方 法中，針對聚合性寡聚物所作的說明。 另一方面，陽離子聚合型的光聚合性寡聚物，通常使用 環氧系樹脂。該環氧系樹脂，例如可舉出將雙酚樹脂或酚醛 清漆樹脂等的多價酚類以環氧氯丙烷等予以環氧化的化合 物；以過氧化物等氧化直鏈狀烴烯化合物或環狀烴烯化合物 所得之化合物等。 另外，光聚合性單體可使用（甲基）丙烯酸酯。該多官能 (甲基）丙烯酸酯，可舉出與在藉由上述電離放射線的硬化系 統形成（A)層的方法中，作爲多官能（甲基）丙烯酸酯單體所例 示者相同者。此等光聚合性單體可爲一種也可組合二種以上 使用，另外還可與上述光聚合性寡聚物合倂使用。 另一方面，作爲視需要使用的光聚合起始劑，可舉出與 對自由聚合型的光聚合性寡聚物或光聚合性單體，在藉由上 述電離放射線的硬化系統形成（A)層的方法中，作爲光聚合 1303606 起始劑所例示者相同者。另外，對自由聚合型的光聚合性寡 聚物的光聚合起始劑’如可舉出由芳香族鎏、芳香族羰基鎏 離子、芳香族二氫碘離子等的鑰；四氟硼酸鹽、六氟磷酸鹽、 六氟銻酸鹽、六氟砷酸鹽等的陰離子組成的化合物。此等可 . 使用一種，也可組合二種以上使用，其配合量係相對上述光 聚合性募聚物及/或先聚合性卓體1〇〇重量份，通常在0.2〜10 重量份的範圍進行選擇。又，在電子線硬化型的情況，也可 不使用該光聚合起始劑。 另一方面，作爲依需要使用的供給防眩光性的充塡劑，φ 可從以往的作爲供給防眩光性用的充塡劑所知者中適宜選 擇任意者使用。作爲此種充塡劑，例如，係爲平均粒徑爲 1 · 5〜7 μιη的二氧化矽顆粒、膠體狀二氧化矽顆粒的胺化合物 形成的凝聚物，可舉出平均粒徑爲0.5〜ΙΟμιη者、或平均粒 徑爲〇·5〜5μιη左右的二氧化矽顆粒與平均粒徑爲左 右的金屬氧化物微粒之混合物等。此等充塡劑的硬塗層的含 有量，可考慮獲得的光學用薄膜的防眩性能、耐擦傷性等適 宜選定。 1 g 本發明中使用的硬塗層形成用塗敷液，可視需要在適當 的溶劑中分別以指定比例添加上述電離放射線硬化性化合 物及依需要使用的上述充塡劑及光聚合起始劑，進一步添加 -各種添加劑，如反應性矽化合物、單官能單體、光增感劑、 . 聚合抑制劑、交聯劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、 調平劑、消泡劑等，藉由溶解或分散予以調製。 依需要使用的反應性矽化合物，可使用在分子內具有自 -20- 1303606 由聚合性不飽和基的矽化合物。該矽化合物係光硬化性成 分，藉由電離放射線的照射進行交聯、硬化，具有對硬塗層 供給耐污染性或低摩擦性等的作用。 作爲在分子內具有自由聚合性不飽和基的矽化合物，例 . 如，可使用在聚有機矽氧烷骨架介由伸乙基或伸丙基等的伸 烷基等組成的隔片導入（甲基）丙烯醯氧基之化合物等。在 1 此，理想的聚有機矽氧烷，可舉例如具有聚二甲基矽氧烷、 聚二苯砂氧院、聚甲苯砂氧院等。 作爲在分子內具有自由聚合性不飽和基之矽化合物的 φ 具體例，可例示由通式[1] 化學式1】 r cHa I-βίοι ^ CHa η ^ R -SiO· I CH3 Π]
[式中，m及n表示1以上的整數，R爲由化學式（Ri爲 氫原子或甲基）所表示的基]所表示的（甲基）丙烯酸酯改。質聚 二甲基矽氧烷，或是， 【化學式2】 R1
I QH2=0—COO(CH2)2 — 由通式[2Π式中，A爲由甲基或化學式（R’爲氫原子或甲 基）所表示的基，R1爲氫原子或甲基，k係表示1以上的整 數]所表示的在單末端或兩末端具有（甲基）丙烯醯氧基的聚 -2 1- [23 1303606 二甲基矽氧烷等 【化學式3 CH3 I A—Si-O-I CHa r CHs Ί I SiO·
CHs J CHa R1 丨· I -Si—(CH2)2〇OC —ό =CH2 k CHa 【化學式4】 R， I ‘ CH2=C — COO(CH2)2 — ❿ 本發明中，可單獨使用該反應性矽化合物，也可組合二 種以上使用，其配合量最好在硬塗層中含於0·05〜5重量％的 範圍內進行選定。若硬塗層中的含有量低於0·05重量％，則 有無法充分發揮耐污染性及低摩擦性之供給效果的擔憂，若 超過5重量％，則在量的比例上看不見效果提高，從而有硬 塗層的硬度降低的情況。硬塗層中的該反應性矽化合物的較 佳含有量，爲0.2〜2重量％的範圍。 作爲依上述需要使用的單官能單體，可舉出在上述（A) ® 層的說明中，與作爲單官能（甲基）丙烯酸酯系單體所例示者 相同者。另外，有關光增感劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、 光安定劑、溶劑’如在藉由依上述的電離放射線的硬化系統 形成（A)層的方法中所說明者。 ' 在（A)層上塗敷上述塗敷液而形成塗膜，並予以乾燥 „ 後’藉由對其照射電離放射線使該塗膜硬化，形成（B)層的 硬塗層。又，有關塗敷方法及照射之電離放射線，如在藉由 -22- 1303606 . 依上述的電離放射線之硬化系統形成（A)層的方法中所說明 者。 如此般形成的硬塗層的厚度係在的範圍。若該 厚度低於1 μιη，則有不能充分發揮獲得的光學用薄膜的耐摩 . 擦性的擔憂’另外’若超過15 μιη，則有在硬塗層產生裂紋 的情況。該硬塗層的較佳厚度爲2〜1 Ο μ m的範圍。 · 在本發明的光學用薄膜中，該（B )層的硬塗層的折射 率，從獲得良好的辨識性的觀點考慮，最好在1.4 9〜1 . 6 5的 範圍。 · 在如此般製作的本發明的光學用薄膜中，藉由在基材薄 膜上設置特定的性狀硬化樹脂層作爲（A)層，即使將設於其 上的硬塗層厚度設爲較以往薄，仍可獲得作爲光學用硬塗層 薄膜的目標物性，同時，還可抑制基材薄膜表面的凹凸引起 的表面缺陷，提高良率。另外，該光學用薄膜從硬塗層厚度 薄的觀點考慮，具有良好的耐裂化性及低捲曲性。 在本發明的光學用薄膜中，爲了在（B)層的硬塗層上賦 予所需的功能，可形成各種薄膜層。該薄膜層例如可舉出摻 φ 錫執化麵（IT 0 )、氧化銦、氧化錫、氧化鲜、氧化鎘等組成 的導電性薄膜，或抗反射層等。 上述導電性薄膜，通常可藉由真空蒸鍍、濺鍍、離子塗 · 敷等的物理氣相蒸鍍法（PVD法）；或化學氣相蒸鍍法（CVD : 法）來設置。 另一方面，抗反射層還可藉由乾式處理或濕式處理的任 ~處理設於（B)層的硬塗層上。 -23- 1303606 其次，說明在上述（B)層上依需要進一步積層至少一層 (C)組成之抗反射層而成的本發明光學用薄膜。 在本發明的光學用薄膜中，設於（B)層上的（C)層之抗反 射層，可具有一層組成的單層構造，還可具有二層以上組成 的多層構造，另外，可藉由乾式處理形成，也可藉由濕式處 理形成。 首先，說明藉由乾式處理形成抗反射層的方法。 在該乾式處理方法中，使用有將折射率較（B)層的硬塗 層還要低的物質、例如MgF2、CaF2、Si02等蒸鍍於（B)層上， 形成單層抗反射層的方法；或交錯蒸鍍IT Ο、氧化鈦、氧化 钽、氧化銦、氧化銷、氧化鈮、氧化給、氧化錫、摻銻氧化 錫（ΑΤΟ)、氧化鋅、氧化鋁等的高折射率物質與MgF2、CaF2、 S i 02等的低折射率物質，形成多層.抗反射層的方法。上述蒸 鍍法主要採用真空蒸鍍、濺鍍、離子塗敷等的PVD法。 如此般形成的抗反射層的厚度並無特別的限制，可依據 情況適當選定，通常爲0.01〜Ι.Ομιη，最好在0.02〜0·5μιη的 範圍進行選定。 另一方面，濕式處理方法係塗敷塗敷液以形成單層抗反 射層或多層抗反射層的方法。例如，藉由在（Β)層的硬塗層 表面，以0.05〜Ιμιη的厚度設置矽氧烷系塗膜、氟系塗膜等 的抗反射層，即可對光學用薄膜施予抗反射功能。又，該情 況，根據抗反射層的種類可達成抗靜電性的提高。 另外，在（Β)層的硬塗層上，依順序積層（C-a)含有依電 離放射線的硬化樹脂及含有摻銻氧化錫（ΑΤΟ)的至少2種類 -24- 1303606 ‘ 的金屬氧化物，折射率在 1 · 6 5〜1.8 0的範圍、厚度爲 60〜160nm的高折射率層；及（C_b)含有矽氧烷聚合物，折射 率在1.37〜1·47的範圍、厚度爲80〜180nm的低折射率層， · 作爲抗反射層，即可對光學用薄膜施予抗反射功能。 · 在上述（C-a)高折射率層中，折射率低於1.65，則不易 獲得抗反射性能優良的光學用薄膜，另外，折射率超過i .80 " 的層’從其必須成分含有AT0的觀點考慮，形成上有困難。 較佳之折射率爲1 · 7 0〜1.7 5的範圍。 上述ΑΤΟ係用以提高設於高折射率層上的（C-b)含有低 φ 折射率層的矽氧烷聚合物的低折射率層與該（C_ a)層的密接 性者，該（C-a)層的全金屬氧化物中的該ΑΤΟ含有量，通常 在25〜90重量％的範圍進行選定，最好爲40〜80重量％。該 含有量低於25重量％，則有（〇 a)層與（C-b)層的密接性變得 不充分的擔憂，另外，還有無法獲得所需折射率的情況。若 超過90重量％，則有（C-a)層的強度降低的擔憂。 作爲與上述ΑΤΟ倂用的其他金屬氧化物，只要獲得膜 厚60〜160nm且折射率爲1.65〜1·80範圍的層即可，並無特 φ 別的限制，例如，可舉出氧化鈦、ΙΤΟ、氧化鉬、氧化錫等。 此等金屬氧化物可爲一種，也可組合二種以上使用，但以折 射率較ΑΤΟ的折射率高的金屬氧化物爲較佳，尤其以氧化 _ 鈦及/或ΙΤΟ爲較佳。 ·_ 該（C-a)層的含有上述ΑΤΟ的金屬氧化物含有量，並無 特別的限制，可根據該（C-a)層的所需膜厚及折射率等適宜選 定，但通常相對硬化樹脂1〇〇重量份，爲200〜600重量份左 - 25- 1303606 . 右。 該（C-a)層可依以下的方式形成。首先，視需要在適當 的溶劑內，以指定比例添加電離放射線硬化性化合物、含 ΑΤΟ的金屬氧化物及依需要而使用的光聚合起始劑、各種添 . 加劑、例如抗氧化劑、紫外線吸收劑、光安定劑、調平劑、 消泡劑等’使其等溶解或分散調製成塗敷液。然後，將該塗 — 敷液塗敷於（Β)硬塗層上形成塗膜，照射電離放射線以使該 塗膜硬化，即可形成（C-a)高折射率層。 在此，電離放射線硬化性化合物、光聚合起始劑、用於 φ 塗敷液調製的溶劑、塗敷液的塗敷方法及電離放射線等，如 針對上述（B)硬塗層的說明所示者。 本發明中，上述（B)硬塗層及（C-a)高折射率層的形成， 依以下所示方法進行較爲有利。 首先，在形成於基材薄膜的單側面之硬化樹脂層上，塗 敷硬塗層形成用塗敷液用以形成塗膜，照射電離放射線以使 該塗膜硬化爲半硬化狀態。此時在照射紫外線的情況，光量 通常爲50〜15 OnU/cm2左右。接著，在如此般形成的半硬化 φ 狀態硬化層上，塗敷（C-a)層形成用塗敷液用以形成塗膜，充 分照射電離放射線，使與上述（B)層一起完全硬化。此時在 照射紫外線的情況，光量通常爲400〜1000mJ/cm2左右。· 如此的話，在（A)層上順序形成（B)層與（C-a)層間的密接 · 性優良的（B)硬塗層及（C-a)高折射率層。 在本發明的光學用薄膜中，在如此般形成的（C-a)高折 射率層上，形成（C-b)低折射率層。該低折射率層係含有矽 -26- 1303606 氧烷聚合物者，折射率在 1·37〜1·47的範圍、厚度爲 8 0〜18 Onm的範圍。若該折射率及厚度超出上述範圍，則不 易獲得抗反射性能及耐擦傷性優良的光學用薄膜。 作爲含有該矽氧烷聚合物的層，例如可舉出無機二氧化 . 矽系化合物（含聚矽酸）、聚有機矽氧烷系化合物、或含有此 等混合系的層。形成該層的無機二氧化矽系化合物（含聚矽 ^ 酸）、聚有機矽氧烷系化合物，可藉由以往公知的方法來製 造。 例如，最好採取使用鹽酸或硫酸等的無機酸、草酸或醋 酸等的有機酸來部分或完全加水分解由通式[3]所代表的烷 氧基矽烷化合物，進行聚縮合作用的方法。 R2aSi(〇R3)4-a [3] [式中，R2爲非加水分解性基，如院基、取代烷基（取代 基··鹵原子、羥基、硫醇基、環氧基、（甲基）丙烯醯氧基等）、 烯基、芳基或芳烷基；r3爲低級烷基；a爲0或1〜3的整數。 在R2及OR3分別爲複數的情況’複數的R2可相同也可不 同，另外，複數的OR3可相同也可不同] 該情況中，若a爲0的化合物、亦即完全加水分解四烷 氧基矽烷的話，即可獲得無機二氧化矽系的化合物，若部分 加水分解的話’即可獲得聚有機砂氧院系化合物或無機二氧 化矽系化合物與聚有機砍氧院系化合物的混合系。另一方 面，在a爲1〜3的化合物中，具有非加水分解性基，因此藉 由部分或完全加水分解可獲得聚有機矽氧烷系化合物。此 時，爲均勻進行加水分解，可使用適當的有機溶劑。 -27- 1303606 ' 作爲由上述通式[3 ]表示的烷氧基矽烷化合物的例子’ 可舉出四甲氧矽烷、四乙氧矽烷、四正丙氧矽烷、四異丙氧 砂烷、四正丁氧矽烷、四異丁氧矽烷、四第二丁氧矽烷、四 第三丁氧矽烷、甲基三甲氧矽烷、甲基三乙氧矽烷、甲基三 -丙氧矽烷、甲基三異丙氧矽烷、乙基三甲氧矽烷、乙基三乙 _ 氧矽烷、丙基三乙氧矽烷、丁基三甲氧矽烷、苯基三甲氧矽 胃 烷、苯基三乙氧矽烷、V-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷、V-丙 烯醯氧基丙基三甲氧矽烷、V-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧矽 烷、二甲基二甲氧矽烷、甲苯二甲氧矽烷、乙烯三甲氧矽烷、__ 乙烯三乙氧矽烷、二乙烯二甲氧矽烷、二乙烯二乙氧矽烷、 三乙烯甲氧矽烷、三乙烯乙氧矽烷等。此等可單獨使用一 種，也可組合二種以上使用。 另外，此時可依需要適當量添加鋁化合物，例如，氯化 鋁、三烷氧鋁等。 又，其他方法可使用在原料的矽化合物使用甲基较酸 鈉、正矽酸鈉或水玻璃（矽酸鈉混合物），讓鹽酸、硫酸、硝、 酸等的酸或氯化鎂、硝酸鈣等的金屬化合物作用，進行力卩_ 分解處理的方法。藉由該加水分解處理雖有生成遊離的石夕 酸，但該遊離的矽酸容易聚合，且依原料的種類各異，而胃 鏈狀、環狀、網眼狀者的混合物。從水玻璃獲得的聚砂酸可 由通式[4]所代表的鏈狀構造者爲主體。 -28- …[4] 1303606 _ 【化學式5】 OR4 OR4 (式中的b係表示·聚合度，R4爲氫原子、矽或鎂及鋁等 ， 的金屬） '· 如此般’即可獲得完全的無機二氧化矽系化合物。又， 無機二氧化矽系化合物還可使用二氧化矽凝膠（si〇x · η Η 2 〇) 〇 該（C - b )低折射率層，可通過使用公知的方法，例如， 桿塗敷法、刮刀塗敷法、輥塗法、刮片塗敷法、壓塗法、凹 版印刷塗敷法等，將含有上述矽氧烷系聚合物或其前軀體的 塗敷液塗敷於（C - a)高折射率層上形成塗膜後，進行加熱處理 所形成。 在如此般形成的含有矽氧烷系聚合物的低折射率層 中’在該矽氧烷系聚合物具有矽烷醇基或其他的親水性基的 情況’便獲得抗靜電性能，而不易在獲得的光學用薄膜上附 馨 著灰麈，因此較爲理想。 在本發明的光學用薄膜中，可視需要在上述（C-b)低折 射率層上設置防污塗層。該防污塗層一般可通過使用公知的 · 方法，例如，桿塗敷法、刮刀塗敷法、輥塗法、刮片塗敷法、 . 壓塗法、凹版印刷塗敷法等，將含有氟系樹脂的塗敷液塗敷 於（C - b)低折射率層上形成塗膜後，進行乾燥處理所形成。 該防污塗層的厚度通常爲1〜10nm，而以3〜8nm的範圍 -29- 1303606 - 爲較佳。藉由設置該防污塗層，獲得的光學用薄膜不僅表面 光滑性良好，而且不易沾污。 在本發明的光學用薄膜中，在與基材薄膜的硬塗層相反 側的面上，可形成黏貼於被黏著體用的黏接劑層。構成該黏 · 接劑層的黏接劑，最好使用光學用途者，例如，丙烯酸系黏 接劑、胺甲酸酯系黏接劑、矽系黏接劑。該黏接劑層的厚度 _ 通常爲1〜40μχη，而以5〜35μιη的範圍爲較佳。 又，在該黏接劑層上可設置剝離膜。該剝離膜，如可舉 出在玻璃紙、紙片、層合紙等的紙及各種塑膠薄膜上塗敷矽 φ 樹脂等的剝離劑者等。該剝離膜的厚度並無特別的限定，但 通常爲20〜1 50μιη。 第1圖及第2圖分別爲顯示本發明的光學用薄膜的不同 構成例的剖視圖。，第1圖中，光學用薄膜1 0係具有於基材 薄膜1的一面順序積層硬化樹脂層2及硬塗層3，同時，於 基材薄膜1的另一面設有黏接劑層4，並於其上黏貼有剝離 膜5的構造。 另一方面，第2圖中，光學用薄膜20，係在上述第i 馨 圖的構造中，具有在硬塗層3上積層抗反射層（單層或多層 構造）6的構造。 [實施例] ' 再者，通過實施例詳細說明本發明，但本發明並不受限 __ 於此等實施例。 又，獲得的光學用薄膜的性能，係由以下所示方法所測 定。 -30- 1303606 (1)耐擦傷性 使用鋼絲絨#〇〇〇〇，以荷重9.8x iOdN/mm2往返擦拭後， 以目視觀察’以下述判定基準進行評價。 〇：無傷痕 X :有傷痕 (2 )耐裂化性 以JIS K 5600-5-1爲基準，藉由圓筒形心軸法進行評 價。數値越小則表示硬塗層的裂紋產生少，其耐裂化性優良。 (3) 表面缺陷數 從試樣任意切出lOOmmxlOOmm尺寸的樣片，在下面襯 以黑板，以目視進行反射檢查，對於表面缺陷施以標記。然 後由顯微鏡觀察施以標記的所有缺陷，將減去附著於基材上 異物引起的缺陷數之値作爲表面缺陷數。 (4) 捲曲性 將lOOmmxlOOmm尺寸的樣片，以硬塗層面朝上釣方式 放置於平滑的玻璃板上，以單位mm表示離玻璃板4角的高 度（浮起）。又，一角的浮起限於以內。 另外，各塗層的厚度係由[Matsushita Techno Trading 0〇.，1^(1.製（？丨1111以1^8?120)]所測定，折射率係由八1&§〇(股） 製阿貝折射計所測定。 (實施例1) 在聚碳酸酯薄膜（厚度100^m)的一側面’以硬化後的厚 度成爲12·5μιη的方式而由邁耶桿No.20’塗敷混合有1〇〇 重量份的2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物[曰本合成化學 1303606 ，（股）製、商品名（紫光UV-3 520TL)、重量平均分子量14,000、 固形份濃度7〇重量％]、3.5重量份的屬苯乙酮類的作爲光聚 合起始劑的 1 -羥基環己苯酮[C i b a S p e c i. a 11 y C h e m i c a 1 s (股） 製、商品名（IRGACURE184)]及甲苯/乙基賽珞蘇的重量比爲 . 1/1的混合溶劑而成的固形份濃度爲50重量％的樹脂組成物 形成的塗敷液，作爲基材薄膜。 ' 接著以 l〇〇°C乾燥一分鐘，照射紫外線（照度 120mW/cm2、光量350mJ/cm2)，形成胺甲酸酯丙烯酸酯系寡 聚物的硬化樹脂層。又，在該硬化樹脂層上，以硬化後的厚 φ 度成爲3.7μιη的方式而由邁耶桿No.6，塗敷加入甲苯於含 有光聚合起始劑的紫外線硬化型硬塗層劑[荒川化學工業 (股）製、商品名（BEAMS ΕΤ 575 CB)、多官能胺甲酸酯丙烯酸 酯及異戊四醇三丙烯酸酯的混合物、固形份濃度1 00重量 %]，調整爲固形份濃度50重量％的硬塗層形成用塗敷液。 接著以100°C乾燥一分鐘後，照射紫外線（照度120mW/cm2、 光量250mJ/cm2)，形成硬塗層。 第1表表示如此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 _ (實施例2) 在環狀聚烯烴薄膜[JSR(股）製、商品名（ARTONFILM 100)、厚度ΙΟΟμιη]的一側面，以硬化後的厚度成爲20μιη的 · 方式而由塗敷器，塗敷混合有1 〇〇重量份的2官能胺甲酸酯 · 丙烯酸酯系寡聚物（紫光UV-3520TL)(如前）、3.5重量份的作 爲光聚合起始劑的1-羥基環己苯酮（IRGACURE 184)(如前） 及甲苯/乙基賽珞蘇的重量比爲1/1的混合溶劑而成的固形 -32- 1303606 份濃度爲50重量％的樹脂組成物形成的塗敷液，作爲基材薄 膜。 接著以100°C乾燥一分鐘後，照射紫外線（照度 120mW/cm2、光量350mJ/cm2)，形成胺甲酸酯丙烯酸酯系寡 聚物的硬化樹脂層。又，在該硬化樹脂層上，以硬化後的厚 度成爲5·0μιη的方式而由邁耶桿No.8，塗敷加入甲苯於含 有光聚合起始劑的紫外線硬化型硬塗層劑[大日精化工業 (股）製、商品名（SEICABEAMEXF-01L)、固形份濃度1〇〇重 量％]，調整爲固形份濃度50重量％的硬塗層形成用塗敷液。 接者以1 〇 〇 °C乾燥一分鐘後，照射紫外線（照度1 2 0 m W / c m 2、 光量250mJ/cm2)，形成硬塗層。 第1表顯示如此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 (實施例3) 在實施例1中，除使用邁耶桿No. 20用於硬塗層形成用 塗敷液的塗敷，將硬塗層的厚度形成爲12.5μιη以外，其餘 與實施例1相同，製成光學用硬塗層薄膜。 第1表顯示如此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能° 又，該光學用硬塗層薄膜的捲曲値爲1 10mm，但與未形 成胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物的硬化樹脂層的情況（比較 例）比較，可抑制捲曲。 (實施例4 .) 在實施例1中，除取代重量平均分子量14,000的（紫光 UV-352〇TL)，而使用[共榮社化學公司製、簡品名 (UL-5 03LN)](重量平均分子量8,000、固形份濃度爲7〇重量 1303606 %)作爲2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物以外，其餘與實施 例1相同，製成光學用硬塗層薄膜。 第1表顯示如此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 (實施例5 ) . 除將基材薄膜變換爲厚度80μχη的三乙醯纖維素薄膜 [KONICA MINOLTA公司製、商品名（KC8UN)]以外，其餘與 · 實施例1相同，製成光學用硬塗層薄膜。第1表顯示如此般 獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 (實施例ό) φ 除將基材薄膜變換爲厚度100μιη的丙烯薄膜以外，其 餘與實施例1相同，製成光學用硬塗層薄膜。第1表顯示如 此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 (實·施例7) (1) 作爲聚酯系的基材薄膜，在厚度188μιη的聚對苯二 甲酸乙二酯（PET)薄膜[東洋紡績（股）製、商品名（Α41〇〇)]的 易黏接面’與實施例1相同形成厚度i 2.5 μπι的2官能胺甲 酸酯丙烯酸酯系寡聚物的硬化樹脂層。接著，於其上以完全 φ 硬化後的厚度成爲6.Ομιη的方式而由邁耶桿No.12，塗敷紫 外線硬化型丙烯酸系硬塗層劑[JSR(股）製、商品名（Desolite KZ7 2 24)、固形份濃度46重量％]，在以80°C乾燥一分鐘後， ， 以光量SOmJ/cm2對此照射紫外線，使其硬化成爲半硬化狀 ： 態，形成硬塗層。 (2) 作爲金屬氧化物’使用1〇〇重量份氧化鈦的分散液 [大日本油墨化學工業（股）製、商品名（TF-14D)、固形份濃度 -34- 1303606 1 0重量％ ]及1 0 0重量份摻銻氧化錫的分散液[大日本油墨化 學工業（股）製、商品名（TA-01D)、固形份濃度10重量％](其 中摻銻氧化錫含有量爲50重量％)，並於其內添加6.7重量 份的紫外線硬化型丙烯酸系樹脂[大日精化工業（股）製、商品 · 名（SEICABEAM EXF-OIL(NS))、固形份濃度 100 重量 ％]， 並以全體的固形份濃度成爲3重量％的方式由液丁醇進行稀 釋而調製成塗敷液。接著，由邁耶桿No · 4，以完全硬化後的 厚度成爲90nm的方式將該塗敷液塗敷於由上述（1)步驟形成 的半硬化狀態的硬塗層上，在以8 0 °C乾燥一分鐘後，以光量 鲁 6 8 OmJ/cm2對此照射紫外線，使其硬化而形成高折射率層， 於2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡聚物的硬化樹脂層上順序形 成折射率1 · 5 1的硬塗層及折射率1 · 7 1的高折射率層。 (3)在上述（2)步驟形成的高折射率層上，由邁耶桿 No .6,以加熱處理後的厚度成爲l2〇nm的方式塗敷矽烷系抗 靜電劑[COLCOAT(股）製、商品名（Colcoat P)、固形份濃度2 重量％]，在以130°C加熱處理2分鐘後，形成折射率爲1.45 的低折射率層。 第1表顯示如此般獲得的在硬塗層上沉積抗反射層的 光學用硬塗層薄膜的性能。 又，底部反射率在5 8 0 n m的波長爲1 · 0 5 %。有關底部反 · 射率係由分光光度計[島津製作所（股）製（U V - 3 1 〇 1 p C )]所、測 定，將反射率最低的波長的反射率作爲底部反射$。 -3 5- 1303606 [第1表] 實施例 1 2 3 4 5 6 7 基材薄月 _重類 PC COP PC PC TAC 丙烯酸 PET 2官能胺甲酸酿丙烯酸 酯系寡聚物硬化樹脂層 厚度(//m) 12.5 20 12.5 12.5 12.5 12.5 12.5 寡聚物的Mw 14,000 14,000 14,000 8,000 14,000 14,000 14,000 硬塗層 厚度("m) 3.7 5 12.5 3.7 3.7 3.7 6 折射率 1.53 1.53 1.53 1.53 1.53 1.53 1.51 硬塗層薄膜 的性能 耐擦傷性(鋼絲絨） 〇 〇 〇 〇 〇 〇 〇 耐裂化性(圓筒形心軸法) 12 16 32 12 12 12 16 表面缺陷數(個數） 0 0 0 0 0 1 0 捲曲(mm) 21 54 110 23 23 19 55
(注意）PC :聚碳酸酯薄膜 COP :環狀聚烯烴系薄膜 TAC ··三乙醯纖維素 PET :聚對苯二甲酸乙二酯 Mw :重量平均分子量 (比較例1) 在實施例1中，除未形成2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡 聚物的硬化樹脂層，其餘與實施例1相同，製成光學用硬塗 層薄膜。 第2表顯示如此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 (比較例2) 在實施例1中，除未形成2官能胺甲酸酯丙烯酸酯系寡 聚物的硬化樹脂層，且使用邁耶桿No · 20將硬塗層的厚度變 換爲12.5 μιη以外，其餘與實施例1相同，製成光學用硬塗 層薄膜。 第2表顯示如此般獲得的光學用硬塗層薄膜的性能。 (比較例3) -36- 1303606 - 【圖式簡單說明】 第1圖爲表示本發明光學用薄膜的一構成例之剖視圖。 第2圖爲表示本發明光學用薄膜的另一構成例之剖視 圖。 【元件符號說明】 1 基 材 薄 膜 2 硬 化 樹 脂 層 3 硬 塗 層 4 黏 接 劑 層 5 剝 離 膜 6 抗 反 射 層 10、20 光 學 用 薄 膜 -38-