WO2013146482A1

WO2013146482A1 - ハードコーティング組成物および高屈折率アンチブロッキング層形成組成物

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Publication number: WO2013146482A1
Application number: PCT/JP2013/057891
Authority: WO
Inventors: 小林　和人; 侑助中田; 今村　公一; 竜平神崎; 陽平岡田
Original assignee: 日本ビー・ケミカル株式会社; 帝人株式会社
Priority date: 2012-03-30
Filing date: 2013-03-19
Publication date: 2013-10-03
Also published as: CN104487524B; CN104487524A; KR102066759B1; US9938426B2; US20150049261A1; TW201400561A; KR20140143212A

Abstract

　高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有するハードコート層を形成する、ハードコーティング組成物を提供すること。視認性に悪影響を及ぼすことなく、樹脂フィルムなどの層状物間におけるブロッキング現象を効果的に防止することができる技術を提供すること。　本発明は（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート化合物を含む、ハードコーティング組成物であって、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は６０～８５質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１５～３０質量部含まれる、コーティング組成物を提供する。

Description

ハードコーティング組成物および高屈折率アンチブロッキング層形成組成物

　本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有するハードコート層を提供する、ハードコーティング組成物に関する。本発明はまた、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物、この高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装することによって得られるアンチブロッキングフィルム、およびこのアンチブロッキングフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された透明導電性積層体に関する。

　液晶表示装置（液晶ディスプレイ）は、薄型、軽量、低消費電力などの利点を有しており、コンピュータ、ワードプロセッサ、テレビジョン、携帯電話、携帯情報端末機器等の様々な分野で使用されている。またこれらの液晶表示装置において、画面上の表示を押さえることによって機器を操作する機構を有する、いわゆるタッチパネルが急速に普及している。このようなタッチパネルは、その優れた操作性により、例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣ、携帯情報端末機器、銀行ＡＴＭ、自動販売機、携帯情報端末（ＰＤＡ）、複写機、ファクシミリ、ゲーム機、博物館およびデパートなどの施設に設置される案内表示装置、カーナビゲーション、マルチメディアステーション（コンビニエンスストアに設置される多機能端末機）、鉄道車両のモニタ装置などにおいて広く用いられている。

　タッチパネルにおいては、一般に、透明基材上に設けられた透明導電層を有する透明導電性積層体が一般に用いられている。透明導電層の形成は、一般に、インジウム－スズ酸化物（ＩＴＯ）などが用いられている。

　透明導電層を有するフィルムを構成する基材フィルムとしては、透明性の高さおよび価格などの点から、ＰＥＴフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのフィルムが用いられることが多い。そしてこれらの基材フィルムには、耐擦傷性および耐久性などを向上させることを目的として、透明ハードコート層が設けられることがある。一方で、透明基材フィルム上に透明ハードコート層を設けることによって、干渉縞が発生するという問題がある。この干渉縞の発生は、視認性の低下をもたらす。

　干渉縞の発生は、透明基材フィルムと透明ハードコート層との間における屈折率差、そして透明ハードコート層の膜厚の極めて微々たるばらつきに依存している。このような干渉縞の発生は、理論の上では、透明ハードコート層の膜厚のばらつきを完全に無くすことによって解消される。しかしながらこのような手段は、現状の技術においては非現実的であり、実施が極めて困難な手段である。

　干渉縞の発生を防止する他の手段として、透明基材フィルムの屈折率と透明ハードコート層の屈折率との屈折率差を小さくする手法が挙げられる。このような手法においては、従来は、屈折率の高い金属酸化物などの高屈折率剤を、透明ハードコート層中に含めることによって、透明ハードコート層の屈折率を高くし、透明基材フィルムの屈折率に近づける手法が取られていた。例えば、特開２００９－２６５５９０号公報（特許文献１）には、ジルコニア、酸化チタン、ＩＴＯ、ＡＴＯ、ＺｎＯ、酸化スズ、アンチモン酸亜鉛などの金属酸化物の微粒子を高屈折率剤としてハードコート剤に配合することによって、ハードコート層の屈折率を調節する手法が記載されている。しかしながら、金属酸化物などの高屈折率剤を透明ハードコート層に含めることによって、ハードコート層の伸長性および耐屈曲性が低下するという問題がある。

　特開２００２－２４１５２７号公報（特許文献２）には、視認性に優れた透明ハードコート層保有フィルムについて記載されている。そしてこの特許文献２には高屈折率層についての言及がある。この特許文献２における高屈折率層は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２、ＩＴＯなどの金属酸化物を、蒸着またはスパッタリングすることによって形成するか、これら金属酸化物の微粒子をバインダー樹脂に分散させることによって形成されている（［０００７］段落など）。

　特開２００３－０５５６０７号公報（特許文献３）には、透明基材本体上に層状に形成される、干渉縞が目立たないコート材について記載されている。このコート材は、微粒子および／または色素を配合することにより、減衰係数が調整されていることを特徴とする。ここで、微粒子として、種々の金属、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物が挙げられており、色素としてアゾ系顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサン系顔料、キノフタロン系顔料が挙げられている（［００２１］段落など）。

　これらの特許文献１～３は、干渉縞の生成を防ぎ視認性を向上させる手段が開示されている。しかしながらこれらの特許文献１～３は何れも、金属酸化物などの高屈折率剤などが用いられている点において、本発明とは発明の構成が異なる。

　特開２００７－２９２８８３号公報（特許文献４）には、高屈折率ハードコート層が臭素系樹脂を含むことを特徴とする光学積層体について記載されている（請求項１など）。そしてこの光学積層体は、光学特性、耐光性、ハード性能などが改善されていると記載されている。一方で、本発明は、ハードコート層の高屈折率化において、臭素系樹脂を用いるものではなく、この発明とは発明の構成が異なる。

　特開２００８－２３９６７３号公報（特許文献５）には、ビニルエステル組成物、多官能アクリレートおよびフルオレン骨格を有する（メタ）アクリレート含む組成物を硬化、架橋させてなる、透明架橋フィルムについて記載されている（請求項１）。そしてこの透明架橋フィルムは、表面硬度に優れ、干渉縞がないことを特徴としている。しかしながらこの特許文献５においては、フィルム厚５０μｍという条件で試験を行っている。このフィルム厚は、ハードコート層の分野において一般的に用いられる膜厚と比較して非常に高いものとなっている。そのため、コスト面での不利益がある。また、この特許文献５に記載される組成によって得られた架橋フィルムにおける干渉縞発生抑制効果は、現時点において求められているレベルに達していない。

特開２００９－２６５５９０号公報特開２００２－２４１５２７号公報特開２００３－０５５６０７号公報特開２００７－２９２８８３号公報特開２００８－２３９６７３号公報

　本発明は上記従来技術の問題点を解決することを課題とする。より特定すれば、本発明は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有するハードコート層を形成する、ハードコーティング組成物を提供することを課題とする。本発明は、また、視認性に悪影響を及ぼすことなく、樹脂フィルムなどの層状物間の付着などの不具合、すなわちブロッキング現象、を効果的に防止することができる技術も提供できる。

　本発明は、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート化合物
を含む、ハードコーティング組成物であって、
　ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は６０～８５質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１５～３０質量部含まれる、
ハードコーティング組成物、を提供するものであり、これにより上記課題が解決される。

　上記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）

　　　　　　　　（Ｉ）

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２～５であり、ｍは０～５である。］
で示される化合物であるのがより好ましい。

　また上記（メタ）アクリレート（Ｂ）は、屈折率が１．５６～１．６４の範囲内である、芳香族基含有（メタ）アクリレートであるのがより好ましい。

　また、上記ハードコーティング組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物の総含有量が組成物中の０．０００１質量％以下であるのがより好ましい。

　さらに、上記ハードコートコーティング組成物は、成分（Ａ）および（Ｂ）の他に、さらに成分（Ｃ）２またはそれ以上の（メタ）アクリレート基を有する、フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート、
を含んでもよく、
　その場合、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は４０～７０質量部、（メタ）アクリレート（Ｂ）は１０～３０質量部およびフルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）は１５～４０質量部で含まれるのが好ましい。

　また、上記フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）は、下記式（II）

　　　　　　　　（II）

［式（II）中、Ｒ^３はそれぞれ独立してＨまたはＣＨ_３であり、
Ｒ^４は、－Ａ－ＯＣ（Ｏ）ＣＲ＝ＣＨ_２であって、Ａはそれぞれ独立して、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－または－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－であり、Ｒはそれぞれ独立してＨまたはＣＨ_３である。］
で示される化合物であるのがより好ましい。

　本発明はまた、
　透明高分子基材、および、
　上記ハードコーティング組成物を、基材に塗装することによって形成されるハードコート層、
を有するハードコートフィルムであって、
　ハードコート層は、１．５６５～１．６２０の屈折率を有する、
ハードコートフィルム、も提供する。

　上記ハードコート層の厚さが０．０５～１０μｍであるのがより好ましい。

　上記ハードコートフィルムは、
　基材が、厚さ２０～３００μｍのＰＥＴフィルムであり、
　ハードコートフィルムは、２０℃において引っ張り速度５ｍｍ/秒の条件においてフィルムをＭＤ方向に１５％引き伸ばした際、上記ハードコート層にクラックが発生しないことを特徴とするものがより好ましい。

　上記ハードコートフィルムは、
　基材が、厚さ３０～２００μｍのポリカーボネートフィルムであり、
　ハードコートフィルムは、２５℃および６０度／秒の条件において１８０°折り曲げた際、上記ハードコート層および基材の何れにおいてもクラックが発生しないことを特徴とするものもより好ましい。

　本発明はまた、上記ハードコートフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された、透明導電性積層体も提供する。上記透明導電層が酸化インジウムを含む結晶質層であり、かつ、透明導電層の厚さが５～５０ｎｍであるのがより好ましい。

　また、上記ハードコート層および透明導電層の間に金属酸化物層が存在し、金属酸化物層の厚さが０．５～５．０ｎｍである態様もより好ましい。

　本発明はまた、上記透明導電性積層体を有するタッチパネルも提供する。

　本発明は、
　第１成分および第２成分を含む、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物であって、
　第１成分が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体であり、
　第２成分が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート
を含み、
第２成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は６０～８５質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１５～３０質量部含まれており、
　第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１～４の範囲内であり、
　組成物中に含まれる第１成分および第２成分の質量比は、第１成分：第２成分＝０．５：９９．５～２０：８０であり、
　高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分および第２成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物、を提供するものであり、これにより上記課題が解決される。

　　　　　　　　　　　　（Ｉ）

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２～５であり、ｍは０～５である。］
で示される化合物であるのが好ましい。

　また、上記（メタ）アクリレート（Ｂ）は、屈折率が１．５６～１．６４の範囲内である、芳香族基含有（メタ）アクリレートであるのが好ましい。

　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物の総含有量が組成物中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。

　本発明はまた、
　透明高分子基材、および、
　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を、基材に塗装することによって形成されるアンチブロッキング層、
を有するアンチブロッキングフィルムであって、
　アンチブロッキング層は、１．５６５～１．６２０の屈折率を有し、かつ、
　アンチブロッキング層は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１～０．０９μｍであり、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０１～０．５μｍである、
アンチブロッキングフィルム、も提供する。

　上記アンチブロッキング層の厚さが０．０５～１０μｍであるのが好ましい。

　上記アンチブロッキングフィルムの好ましい１態様として、
　基材が、厚さ２０～３００μｍのＰＥＴフィルムであり、
　アンチブロッキングフィルムは、２０℃において引っ張り速度５ｍ／分の条件においてフィルムをＭＤ方向に１５％引き伸ばした際、アンチブロッキング層にクラックが発生しないことを特徴とするものが挙げられる。

　上記アンチブロッキングフィルムの好ましい他の１態様として、
　基材が、厚さ３０～２００μｍのポリカーボネートフィルムであり、
　アンチブロッキングフィルムは、２５℃および６０度／秒の条件において１８０°折り曲げた際、アンチブロッキング層および基材の何れにおいてもクラックが発生しないことを特徴とするものが挙げられる。

　上記アンチブロッキングフィルムは、全光線透過率が８８％以上であり、かつ、ヘイズ値が２％以下であるのが好ましい。

　本発明はさらに、上記アンチブロッキングフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された、透明導電性積層体も提供する。

　上記透明導電層が酸化インジウムを含む結晶質層であり、かつ、透明導電層の厚さが５～５０ｎｍであるのが好ましい。

　上記アンチブロッキング層および透明導電層の間に金属酸化物層が存在し、金属酸化物層の厚さが０．５～５．０ｎｍであるのが好ましい。

　本発明のハードコーティング組成物は、透明高分子基材の上に設けられる透明ハードコート層を提供する。そして本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、良好な硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明における透明ハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。

　本発明のハードコーティング組成物はさらに、金属酸化物などの高屈折率剤を含まなくても屈折率が高いことを特徴とする。そのため、得られる透明ハードコート層は、硬度および屈折率が高いことに加えて、高い伸長性を有するという特徴がある。更に、屈折率を高める場合には、成分（Ａ）および（Ｂ）に加えて、成分（Ｃ）として２またはそれ以上の（メタ）アクリレート基を有する、フルオレン骨格含有（メタ）アクリレートを配合することもできる。成分（Ｃ）を配合した場合には、より屈折率を高く設定することができる。

　本発明のハードコーティング組成物を用いることによって、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に透明ハードコート層を形成した場合であっても、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、伸長性をも有するハードコート層が提供されるという利点がある。

　本発明のアンチブロッキング層形成組成物は、基材上に塗布し必要に応じて乾燥させた後に、光硬化させるのみで、表面に凹凸を有する樹脂層であるアンチブロッキング層を提供することができる。得られたアンチブロッキングフィルムは、高い硬度を有しており、傷が付きにくい。また、平均粒子径０．５μｍを超える粒子状物を用いていないので、視認性および光学特性などが損なわれることがないという利点がある。本発明のアンチブロッキング層形成組成物を塗装して得られるアンチブロッキングフィルムは、複数枚重ね合わせても、ブロッキング現象（例えば、層間付着）が生じない効果を発揮する。また、得られたアンチブロッキングフィルムを巻回ロールとして保存しても、ブロッキング現象（例えば、巻回ロールからの剥離の困難性）が起こらないという利点がある。

　本発明においては、上記のブロッキング現象を抑制する効果に加えて、得られるアンチブロッキング層が高屈折率を有し、かつ、優れた伸長性をも有するという特徴もある。この特徴によって干渉縞の発生をも抑制することができ、極めて高い視認性が達成されるという利点がある。

実施例Ｅ１のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００～８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。比較例Ｅ１０のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００～８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。実施例Ｆ１のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００～８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。

ハードコーティング組成物
　本発明のハードコーティング組成物は、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート化合物
を含む。そして上記ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は４０～９０質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１０～３０質量部含まれる。

　　（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート
　本発明のハードコーティング組成物は、（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレートを含む。ハードコーティング組成物がフェノールノボラック型アクリレート（Ａ）を含むことによって、得られるハードコート層が、透明であり、かつ、高い硬度を有する高屈折率層となる。これにより、干渉縞の発生を効果的に防ぐことができる。

　フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）

　　　　　　　　　　　　（Ｉ）

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２～５であり、ｍは０～５である。］
で示される、フェノールノボラック型アクリレートであるのが好ましい。上記式（Ｉ）中、ｎは２～４でありｍは０～３であるであるのがより好ましく、ｎは２～４でありｍは０～１であるのがさらに好ましい。

　フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の重量平均分子量は、４００～２５００であるのが好ましく、４５０～２０００であるのがさらに好ましい。また、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の水酸基価は、１００～１８０ｍｇＫＯＨ／ｇであるのが好ましく、１２０～１６０ｍｇＫＯＨ／ｇであるのがさらに好ましい。

　本明細書において、各成分の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法によって測定することができる。重量平均分子量の測定においては、ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）などの高速ＧＰＣ装置などを用いることができる。ＨＬＣ－８２２０ＧＰＣ（東ソー株式会社製）を用いた、重量平均分子量の具体的な測定条件として、試験サンプル２ｇを秤量し、真空乾燥機内にて４０℃２時間処理し水分を除去した後、ＴＨＦ溶液にて０．２％の濃度となるように希釈し、カラム注入量：１０μｌ、流速：０．３５ｍｌ/ｍｉｎの条件で測定する態様が挙げられる。

　上記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、６０～８５質量部含まれることを条件とする。フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が６０質量部未満である場合、および、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が８５質量部を超える場合は、いずれも、得られるハードコート層の硬度が低くなる不具合がある。

　　（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート化合物
　本発明のハードコーティング組成物は、（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレートを含む。この（メタ）アクリレート（Ｂ）は、粘度３００ｍＰａ・ｓ未満であり、かつ屈折率が１．５６～１．６４の範囲内であるのが好ましい。

　成分（Ｂ）の（メタ）アクリレートにおいて、炭素数２または３のアルキレンオキシド構造が分子中に１～２ｍｏｌ含まれることによって、成分（Ｂ）の粘度を３００ｍＰａ・ｓ未満に設計することが可能となる。また、成分（Ｂ）の（メタ）アクリレートにおいて、炭素数２または３のアルキレンオキシド構造が分子中に１～２ｍｏｌ含まれることによって、得られるハードコート層の伸長性が向上することとなる。ここで「炭素数２または３のアルキレンオキシド構造」として、エチレンオキシド構造、プロピレンオキシド構造が挙げられる。

　成分（Ｂ）の（メタ）アクリレートはさらに、芳香族基を有することも特徴とする。成分（Ｂ）の（メタ）アクリレートが芳香族基を有することによって、例えば１．５６～１．６４の範囲の屈折率というような、高屈折率が達成されることとなる。

　本発明において成分（Ｂ）として好ましく用いることができる芳香族基含有（メタ）アクリレートとして、例えば、炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、アルキレンオキシ化フェノール（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化オルトフェニルフェノール（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化メタフェニルフェノール（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化パラフェニルフェノール（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化クミルフェノール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、２個の芳香族基を有する（メタ）アクリレートが、高い屈折率を有する点においてより好ましい。

　成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ　Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計によって測定することができる。

　成分（Ｂ）の粘度は、３００ｍＰａ・ｓ未満であるのが好ましい。成分（Ｂ）の粘度が３００ｍＰａ・ｓを超える場合は、組成物の硬化反応性が劣ることとなり、得られるハードコート層の硬度が低くなるという問題がある。成分（Ｂ）の粘度は１～３００ｍＰａ・ｓの範囲であるのがより好ましく、１～２００ｍＰａ・ｓの範囲であるのがさらに好ましい。

　成分（Ｂ）の粘度の測定は、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ－２２Ｌ　東機産業株式会社製）によって測定することができる。Ｂ型粘度計として、例えば、ＴＶＢ－２２Ｌ（東機産業株式会社製）などが挙げられる。

　成分（Ｂ）は、重量平均分子量が１５０～６００の範囲内であるのが好ましく、２００～４００の範囲内であるのがより好ましい。

　本発明においては、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、成分（Ｂ）は１５～３０質量部含まれることを条件とする。上記（メタ）アクリレート（Ｂ）が上記質量範囲でハードコーティング組成物中に含まれることによって、得られるハードコート層が高硬度かつ高屈折率となる利点がある。成分（Ｂ）の量が１５質量部より少ない場合、および成分（Ｂ）の量が３０質量部を超える場合は、いずれも、得られるハードコート層の硬度が低くなる不具合がある。

　　（Ｃ）２またはそれ以上の（メタ）アクリレート基を有する、フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート
　本発明のハードコーティング組成物の１態様として、上記成分（Ａ）および（Ｂ）に加えて、２またはそれ以上の（メタ）アクリレート基を有する、フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）をさらに含む態様が挙げられる。フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）は高屈折率を有するため、得られるハードコート層の屈折率を高く設定することができるという利点がある。

　フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）の好ましい例として、下記式（II）

　　　　　　　　（II）

［式（II）中、Ｒ^３はそれぞれ独立してＨまたはＣＨ_３であり、
Ｒ^４は、－Ａ－ＯＣ（Ｏ）ＣＲ＝ＣＨ_２であって、Ａはそれぞれ独立して、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－または－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－であり、Ｒはそれぞれ独立してＨまたはＣＨ_３である。］
で示される、アクリレートモノマーが挙げられる。

　フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）のさらに好ましい例として、下記式（II）－１で示されるアクリレートモノマーが挙げられる。

　　　　　　　　　　　　　（II）－１
［上記式（II）－１中、各Ｒは水素原子またはメチル基を示し、ｍおよびｎは、それぞれ独立して、１～５の整数を示す。］

　フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）として、市販品を用いてもよい。市販されるフルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）として、例えば、新中村化学工業（株）から市販されるＮＫエステルシリーズ、大阪ガスケミカル（株）から市販されるオグソールＥＡシリーズなどが挙げられる。

　また、上記式（II）－１で示される市販のアクリレートモノマーとして、例えば、大阪ガスケミカル（株）から市販される、オグソールＥＡ－０２００（各Ｒが水素原子で、ｍ＋ｎ＝２）、ＥＡ－０５００（各Ｒが水素原子で、ｍ＋ｎ＝５）、ＥＡ－１０００（各Ｒが水素原子で、ｍ＋ｎ＝１０）、ＥＡ－Ｆ５００３（各Ｒが水素原子で、低粘度タイプのもの）、ＥＡ－Ｆ５５０３（各Ｒが水素原子で、低粘度タイプのもの）などが挙げられる。

　成分（C）がハードコートコーティング組成物に含まれる場合には、それぞれの成分はハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は４０～７０質量部、（メタ）アクリレート（Ｂ）は１０～３０質量部およびフルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）は１５～４０質量部含まれる。

　成分（C）のフルオレン骨格含有（メタ）アクリレートがハードコートコーティング組成物に含まれる場合、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、４０～７０質量部含まれることが必要である。フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が４０質量部未満である場合、および、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が７０質量部を超える場合は、いずれも、得られるハードコート層の硬度が低くなる不具合がある。

　成分（C）のフルオレン骨格含有（メタ）アクリレートがハードコートコーティング組成物に含まれる場合、成分（B）の（メタ）アクリレートは、ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、１０～３０質量部含まれることが必要である。上記（メタ）アクリレート（Ｂ）が上記質量範囲でハードコーティング組成物中に含まれることによって、得られるハードコート層が高硬度かつ高屈折率となる利点がある。成分（Ｂ）の量が１０質量部より少ない場合、および成分（Ｂ）の量が３０質量部を超える場合は、いずれも、得られるハードコート層の硬度が低くなる不具合がある。

　成分（C）のフルオレン骨格含有（メタ）アクリレートがハードコートコーティング組成物に含まれる場合、成分（Ｃ）は、ハードコーティング組成物に含まれる樹脂成分１００質量部に対して１５～４０質量部含まれることを条件とする。成分（Ｃ）の量が４０質量部を超える場合は、得られるハードコート層の硬度が低くなるおそれがある。

　　他の（メタ）アクリレート類
　本発明のハードコーティング組成物は、上記成分（Ａ）および（Ｂ）、必要に応じて成分（Ｃ）に加えて、他の（メタ）アクリレート類を含んでもよい。このような（メタ）アクリレート類として、例えば、多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物が挙げられる。これらの多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物は、ハードコーティング組成物を塗装した後の活性エネルギー線の照射により、（メタ）アクリロイル基の反応に基づく硬化反応が生じ、高硬度を有するハードコート層が得られるという利点がある。

　多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物は、（メタ）アクリロイル基を３つ以上有するものが好ましい。（メタ）アクリロイル基を３つ以上有することによって、活性エネルギー線照射後に、高硬度を有するハードコート層が得られるという利点がある。

　多官能（メタ）アクリレートモノマーおよび／またはオリゴマー化合物の具体例として、例えば、ヒドロキシプロピル化トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、およびこれらのオリゴマーなどが挙げられる。これらのモノマーまたはオリゴマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。

　ハードコーティング組成物が、他の（メタ）アクリレート類を含む場合は、ハードコーティング組成物に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、１～３０質量部の範囲であるのが好ましく、１～２５質量部の範囲であるのがより好ましい。

　　光重合開始剤など
　本発明のハードコーティング組成物は光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤が存在することによって、紫外線などの活性エネルギー線照射により樹脂成分が良好に重合することとなる。光重合開始剤の例として、例えば、アルキルフェノン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤、チタノセン系光重合開始剤、オキシムエステル系重合開始剤などが挙げられる。アルキルフェノン系光重合開始剤として、例えば２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルホリニル）フェニル］－１－ブタノンなどが挙げられる。アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤として、例えば２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－フォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイドなどが挙げられる。チタノセン系光重合開始剤として、例えば、ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウムなどが挙げられる。オキシムエステル系重合開始剤として、例えば、１．２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）、オキシフェニル酢酸、２－［２－オキソ－２－フェニルアセトキシエトキシ］エチルエステル、２－（２－ヒドロキシエトキシ）エチルエステルなどが挙げられる。これらの光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、また２種以上を併用してもよい。

　上記光重合開始剤のうち、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１および２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オンなどがより好ましく用いられる。

　光重合開始剤の好ましい量は、上記成分（Ａ）、（Ｂ）、必要に応じて成分（Ｃ）および他の（メタ）アクリレート類（これらを合わせて「樹脂成分」という。）１００質量部に対して、０．０１～２０質量部であり、より好ましくは１～１０質量部である。

　本発明で用いられるハードコーティング組成物は、溶媒を含んでもよい。溶媒は、特に限定されるものではなく、組成物中に含まれる成分、塗装される基材の種類および組成物の塗装方法などを考慮して適時選択することができる。用いることができる溶媒の具体例としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒；メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；ジエチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アニソール、フェネトールなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル、エチレングリコールジアセテートなどのエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジエチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドンなどのアミド系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノールなどのアルコール系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルムなどのハロゲン系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒を単独で使用してもよく、また２種以上を併用して使用してもよい。これらの溶媒のうち、エステル系溶媒、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒およびケトン系溶媒が好ましく使用される。

　本発明のハードコーティング組成物は、必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。このような添加剤として、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤などの常用の添加剤が挙げられる。

　本発明のハードコーティング組成物は、上記構成によって、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２またはインジウム－スズ酸化物などの金属酸化物からなる高屈折率剤などを含ませなくても、高い屈折率を有するハードコート層を形成することができることに特徴がある。そのため、本発明のハードコーティング組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物からなる群から選択される金属酸化物などの高屈折率剤を含まないのが好ましい。より詳しくは、上記ハードコーティング組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物の総含有量が組成物中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。金属酸化物などの高屈折率剤が、ハードコート層中に存在する場合は、樹脂成分のみの層と比較して、一般に伸長性および耐屈曲性が劣ることとなるためである。

ハードコートフィルム
　本発明はさらに、上記ハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコートフィルムも提供する。このハードコートフィルムは、透明高分子基材、および、上記ハードコーティング組成物を、基材に塗装することによって形成されるハードコート層、を有する。そして本発明におけるハードコート層は、１．５６５～１．６２０という高い屈折率を有することを特徴とする。

　本発明のハードコートフィルムにおいては、透明高分子基材として、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましく用いられる。ＰＥＴフィルムおよびポリカーボネートフィルムは、フィルム強度および透明性が高く、かつ安価であるなどの点から、タッチパネルを構成する、透明導電層を有するフィルムの基材フィルムとして好適に用いられるためである。一方で、これらのフィルムは、一般に、１．５以上と高い屈折率を有する。これらのフィルムの屈折率は、通常用いられるハードコートフィルムを構成する樹脂成分の屈折率と比較して高いため、ハードコート層との屈折率差が大きくなり、干渉縞の発生頻度が高くなるという問題がある。

　ここで干渉縞とは、透明フィルムおよび透明コート層などから構成される多層体において、各界面で反射する光が干渉しあうことによって生じる虹彩状反射をいう。この干渉縞は、特に、３波長発光型蛍光灯の照射下において、顕著に現れる傾向がある。３波長発光型蛍光灯は、ものがハッキリクッキリ見えるということを特徴とする特定の波長の発光強度が強いことを特徴とする蛍光灯である。

　本発明のハードコーティング組成物は、高い屈折率を有するハードコート層を形成することができることを特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの透明基材フィルム上に透明ハードコート層を形成しても、干渉縞が発生しないという特徴がある。

　なお、本発明のハードコーティング組成物は、上記ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルム以外の基材フィルムに塗装してもよい。このような基材フィルムとして、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムなどが挙げられる。

　透明高分子基材の厚さは、用途に応じて適時選択することができるが、一般に２０～３００μｍ程で用いられる。

　ハードコート層は、透明高分子基材上に、上記のハードコーティング組成物を塗布することにより形成される。ハードコーティング組成物の塗布方法は、ハードコーティング組成物および塗装工程の状況に応じて適時選択することができ、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）などにより塗布することができる。

　ハードコート層の厚みは、特に制限されるものではなく、種々の要因を考慮して適時設定することができる。例えば、０．０１～２０μｍのハードコート層が得られるようにハードコーティング組成物を塗布することができる。

　コーティング組成物の塗布により得られた塗膜を硬化させることによって、ハードコート層が形成される。この硬化は、必要に応じた波長の活性エネルギー線を発する光源を用いて照射することによって行うことができる。照射する活性エネルギー線として、例えば露光量０．１～１．５Ｊ／ｃｍ^２の光、好ましくは０．３～１．５Ｊ／ｃｍ^２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。

　本発明のハードコートフィルムは、高屈折率剤を用いなくても、ハードコート層の屈折率１．５６５～１．６２０と高い屈折率が達成されていることを特徴とする。ハードコート層の屈折率は、例えば、アッベ屈折計を用いて、ＪＩＳＫ７１４２に準拠して測定することができる。

　本発明のハードコートフィルムは、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましく、９０％以上であるのがより好ましい。また、本発明のハードコートフィルムは、ヘイズが２％以下であるのが好ましく、１％以下であるのがより好ましい。
　本件発明においては、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２などの高屈折率剤を含まなくても高屈折率化が達成されているため、このような高屈折率剤を含める必要がない。そのため、上記のように高い全光線透過率および低いヘイズ値を達成することが可能となる。

　全光線透過率（Ｔ_ｔ(％)）は、ハードコートフィルムに対する入射光強度（Ｔ_０）とハードコートフィルムを透過した全透過光強度（Ｔ_１）とを測定し、下記式により算出される。

　ヘイズは、ＪＩＳＫ７１０５に準拠して、下記式より算出される。

Ｈ：ヘイズ（曇価）（％）
Ｔ_ｄ：拡散透光率（％）
Ｔ_ｔ：全光線透過率（％）

　全光線透過率およびヘイズ値の測定は、例えばヘイズメーター（スガ試験機社製）を用いて測定することができる。

　本発明のハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層は、高い硬度および屈折率を有することに加えて、高い伸長性を有することも特徴とする。そのため、本発明におけるハードコートフィルムは、例えばタッチパネル等を構成する、透明導電層を有するフィルムの調製において好適に用いることができる。

　タッチパネルを搭載するスマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣ、携帯情報端末機器などにおいては、機器の小型・薄型化および軽量化が強く求められている。そのため、タッチパネル電極を構成する部材においても、基材フィルムの薄膜化が求められている。一方で、基材フィルムの厚さを薄くすることによって、基材フィルムにハードコート層を設けた場合においてフィルムの反りまたはカールが生じる不具合の発生頻度が高くなり、作業性・生産性が低下するという問題がある。これらの不具合は、ハードコート層と基材フィルムとの物理的性質（例えば熱収縮率、熱膨張率など）が相違することに依存すると考えられる。本発明におけるハードコートフィルムは高い伸長性を有するため、種々の基材に対しカールが小さくなる傾向がある。

　本発明におけるハードコートフィルムには、用途に応じて透明導電層、光学干渉により反射率を制御する光学干渉層を必要に応じて適切な順に、組み合わせて用いることができる。これら透明導電層、光学干渉層、ハードコート層の積層順は用途に応じて発現を期待される機能を果たしていれば特に限定するものではない。これらの積層順を例えばタッチパネル用基板として用いる場合、透明導電層をＡ、光学干渉層をＢ、本発明の対象となるハードコート層をＣ、透明高分子基材をＤ、本発明の対象外となるハードコート層をＥとすると、例えばＡ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅ、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ、Ａ／Ｂ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅ、Ａ／Ｂ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｅ／Ｂ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｂ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｅ／Ｂ／Ｂ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｂ／Ｂなどとすることができる。

　先に述べた光学干渉層は、高屈折率層と低屈折率層を適宜組み合わせることにより反射光を防止あるいは抑制する層を指す。光学干渉層は少なくとも一層の高屈折率層と少なくとも一層の低屈折率層より構成される。高屈折率層と低屈折率層の組み合わせ単位を二つ以上とすることも出来る。光学干渉層が一層の高屈折率層と一層の低屈折率層から構成される場合、光学干渉層の膜厚は３０ｎｍ～１５０ｎｍが好ましく、更に好ましくは５０ｎｍ～１５０ｎｍである。光学干渉層は、湿式法、乾式法のいずれの方法でも形成することができる。例えば湿式法ではドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコータ-等、スプレー法、浸漬法等、乾式法ではスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法あるいは印刷法、ＣＶＤ法などを適応することが出来る。

　タッチパネル等を構成する透明導電性積層体は、一般に、透明導電層を有するフィルムである。この透明導電層は、特に制限はいが、酸化インジウムを含む結晶質層、より具体的にはＩＴＯ（インジウム－スズ酸化物）およびＩＺＯ（インジウム－亜鉛酸化物）などの、インジウムを主成分とする結晶質層が好適に用いられる。透明導電層の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法あるいは塗工法、印刷法、ＣＶＤ法があるが、ＰＶＤ法またはＣＶＤ法が好ましい。

　透明導電層を設けるためのこれらの加工処理を行うことによって、ハードコート層を有する基材フィルムに部分的負荷がかかるため、透明導電性積層体の透明導電層、ハードコート層と基材フィルムとの間における熱収縮率・熱膨張率の相違に基づくフィルムのよれが生じることがある。本発明のハードコーティング組成物を用いて設けられるハードコート層は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、高い伸長性を有することを特徴とする。得られるハードコート層が高い伸長性を有することによって、透明導電層を設ける段階における加熱などにより、基材フィルムが局所的に熱膨張した場合であっても、ハードコート層が良好に追随し、その結果、フィルムのよれなどの不具合が発生しないという利点がある。

　ハードコート層の伸長性について、より具体的には、ハードコーティング組成物が塗装される透明高分子基材が、厚さ２０～３００μｍのＰＥＴフィルムであるハードコートフィルムの場合において、このハードコートフィルムを２０℃において、引っ張り速度５ｍｍ／秒の条件において、ＭＤ方向に１５％引き伸ばした際、ハードコート層にクラックが発生しない状態が挙げられる。ここで、ハードコート層の膜厚として、例えば０．０５～１０μｍである場合が挙げられる。

　一般に、高分子基材フィルムの製造は、溶融状態にある樹脂基材を、ロール状に巻き取りながら、縦方向（巻き取り方向：ＭＤ方向）と横方向（ＴＤ方向：ＭＤ方向に対して直交する方向）の２方向に延伸し、均一な厚さのフィルムを製造する、二軸延伸法によって製造される。この製造方法においては、ＭＤ方向に高い応力が残ることとなる。そのため、得られたフィルムは、特にＭＤ方向において、熱膨張・熱収縮が生じる傾向がある。得られたハードコートフィルムを、高分子基材フィルム製造時において巻き取られた方向であるＭＤ方向に引き伸ばす試験を行うことによって、クラック（フィルム割れ）などの発生を効果的に検証することができるという利点がある。

　また、ハードコートフィルムを構成する透明高分子基材が、ポリカーボネートフィルムである場合は、ハードコートフィルムの耐屈曲性を検証することによって、形成されたハードコート層の伸長性能を評価することができる。ポリカーボネートは、耐熱性および耐衝撃性などの物理的性能が優れる素材である一方で、特にフィルム厚が薄いポリカーボネートフィルムの場合においては、折り曲げなどの応力によって、クラック（割れ）が発生することがある。このようにフィルム厚が薄いポリカーボネートフィルムを基材フィルムとして用いる場合において、この基材フィルム上に形成されるハードコート層の伸長性が高い場合は、ハードコート層を設けることによって、基材フィルムのクラックの発生を防ぐことが可能となる。本発明のハードコーティング組成物によって形成されるハードコート層は、高い伸長性を有している。そのため、フィルム厚が薄いポリカーボネートを基材フィルムとして用いるハードコートフィルムにおいて、曲げ応力に対する靱性を向上させることができるという利点がある。より具体的には、ハードコーティング組成物が塗装される透明高分子基材が、厚さ３０～２００μｍのポリカーボネートフィルムであるハードコートフィルムの場合において、このハードコートフィルムを、２５℃および６０度／秒の条件において１８０°折り曲げた場合であっても、ハードコート層および基材の何れにおいてもクラックが発生しない状態が挙げられる。ここで、ハードコート層の膜厚として、例えば０．０５～１０μｍある場合が挙げられる。

　本発明のハードコーティング組成物を用いて形成されるハードコート層は、良好な硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明における透明ハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。本発明におけるハードコート層は、特に、タッチパネル電極を構成する、透明導電層を有するフィルムにおいて好適に用いることができる。

高屈折率アンチブロッキング層形成組成物
　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分を含む。上記第１成分は、不飽和二重結合含有アクリル共重合体である。上記第２成分は、（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート、を含む。そして、第２成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は６０～８５質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１５～３０質量部含まれることを条件とする。さらに、上記第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１～４の範囲内であり、組成物中に含まれる第１成分および第２成分の質量比は、第１成分：第２成分＝０．５：９９．５～２０：８０であることを条件とする。この高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、塗装した後に、第１成分および第２成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることを特徴とする。

第１成分
　第１成分として、不飽和二重結合含有アクリル共重合体が用いられる。不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、例えば（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合した樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびエポキシ基を有するモノマーとを反応させた樹脂、（メタ）アクリルモノマーと他のエチレン性不飽和二重結合およびイソシアネート基を有するモノマーとを反応させた樹脂などにアクリル酸やグリシジルアクリレートなどの不飽和二重結合を有しかつ他の官能基を有する成分を付加させたものなどが挙げられる。これらの不飽和二重結合含有アクリル共重合体は１種を単独で用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。この不飽和二重結合含有アクリル共重合体は、重量平均分子量で２０００～１０００００であるのが好ましく、５０００～５００００であるのがより好ましい。

第２成分
　第２成分は、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート、
を含む。以下、各成分（Ａ）および（Ｂ）について詳述する。

　　（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート
　この成分（Ａ）は、ハードコートコーティング組成物の成分（Ａ）と同じ２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレートであるので、記載を省略する。

　上記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、第２成分１００質量部に対して、６０～８５質量部含まれることを条件とする。フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が６０質量部未満である場合、および、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）の量が８５質量部を超える場合は、いずれも、得られるアンチブロッキング層の硬度が低くなる不具合がある。

　　（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート化合物
　この成分（Ｂ）はハードコートコーティング組成物の成分（Ｂ）と同じ、炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート化合物なので記載を省略する。

　本発明においては、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物中に含まれる第２成分１００質量部に対して、成分（Ｂ）は１５～３０質量部含まれることを条件とする。上記（メタ）アクリレート（Ｂ）が上記質量範囲で高屈折率アンチブロッキング層形成組成物中に含まれることによって、得られるアンチブロッキング層が高硬度かつ高屈折率となる利点がある。成分（Ｂ）の量が１５質量部より少ない場合、および成分（Ｂ）の量が３０質量部を超える場合は、いずれも、得られるアンチブロッキング層の硬度が低くなる不具合がある。

　　他の（メタ）アクリレート類
　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物における第２成分は、上記成分（Ａ）および（Ｂ）に加えて、他の（メタ）アクリレート類を含んでもよい。このような（メタ）アクリレート類はハードコートコーティング組成物に記載の「他の（メタ）アクリレート類」と同じであるので省略する。

　高屈折率アンチブロッキング層形成組成物に含まれる第２成分が、他の（メタ）アクリレート類を含む場合は、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物に含まれる第２成分１００質量部に対して、１～３０質量部の範囲であるのが好ましく、１～２５質量部の範囲であるのがより好ましい。

高屈折率アンチブロッキング層形成組成物
　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分、そして必要に応じた溶媒、光重合開始剤、触媒、光増感剤などの添加剤を混合することにより調製される。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物中における第１成分と第２成分との比率は、第１成分：第２成分＝０．５：９９．５～２０：８０である。この比率は、第１成分：第２成分＝１：９９～２０：８０がより好ましく、１：９９～１５：８５であるのがさらに好ましい。

　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、第１成分および第２成分それぞれのＳＰ値の差によって相分離がもたらされる。この相分離によって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成されることとなる。本発明において、第１成分のＳＰ値と第２成分のＳＰ値との差（△ＳＰ）は、１～４の範囲内であることを条件とする。第１成分のＳＰ値と第２成分のＳＰ値との差が１以上ある場合は、互いの樹脂の相溶性が低く、それによりアンチブロッキング層形成組成物の塗布後に第１成分と第２成分との相分離がもたらされると考えられる。上記△ＳＰは、２．０～３．５の範囲内であるのがより好ましい。

　ＳＰ値とは、ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙｐａｒａｍｅｔｅｒ（溶解性パラメーター）の略であり、溶解性の尺度となるものである。ＳＰ値は数値が大きいほど極性が高く、逆に数値が小さいほど極性が低いことを示す。

　例えば、ＳＰ値は次の方法によって実測することができる［参考文献：ＳＵＨ、ＣＬＡＲＫＥ、Ｊ．Ｐ．Ｓ．Ａ－１、５、１６７１～１６８１（１９６７）］。

　測定温度：２０℃
サンプル：樹脂０．５ｇを１００ｍｌビーカーに秤量し、良溶媒１０ｍｌをホールピペットを用いて加え、マグネティックスターラーにより溶解する。
　溶媒：
　　良溶媒…ジオキサン、アセトンなど
　　貧溶媒…ｎ－ヘキサン、イオン交換水など
　濁点測定：５０ｍｌビュレットを用いて貧溶媒を滴下し、濁りが生じた点を滴下量とする。

　樹脂のＳＰ値δは次式によって与えられる。

Ｖi：溶媒の分子容（ｍｌ／ｍｏｌ）
φi：濁点における各溶媒の体積分率
δi：溶媒のＳＰ値
ｍｌ：低ＳＰ貧溶媒混合系
ｍｈ：高ＳＰ貧溶媒混合系

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、上記第１成分および第２成分に加えて、各種溶媒、光重合開始剤、添加剤などの成分をさらに含んでもよい。

　第１成分および第２成分が上記組み合わせである場合に好ましい有機溶媒として、例えば、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノールなどのアルコール系溶媒；アニソール、フェネトールプロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は１種を単独で用いてもよく、また２種以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。溶媒を用いる場合は、第１成分および第２成分の総量（これらを合わせて「樹脂成分」という。）１００質量部に対して、例えば１～９９００質量部、好ましくは１０～９００質量部加えることができる。

　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、光重合開始剤を含むのが好ましい。光重合開始剤として、例えば、２－ヒドロキシ－２メチル－１フェニル－プロパン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２，２－ジメトキシ－１、２－ジフェニルエタン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタンノン－１などが挙げられる。光重合開始剤の好ましい量は、上記樹脂成分１００質量部に対して、０．０１～２０質量部であり、より好ましくは１～１０質量部である。

　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、可塑剤、界面活性剤、酸化防止剤、および紫外線吸収剤などの常用の添加剤を含んでもよい。これらの添加剤を用いる場合は、樹脂成分１００質量部に対して、０．０１～２０質量部であるのが好ましく、１～１０質量部であるのがより好ましい。

　高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、上記のような第１成分および第２成分を用いることによって、樹脂粒子などを含ませなくても、凹凸を有する樹脂層を形成することができることに特徴がある。そのため、上記アンチブロッキング層形成組成物は、樹脂粒子を含まないのが好ましい。しかしながら、上記アンチブロッキング層形成組成物は、必要に応じて、無機粒子または有機粒子、若しくはそれらの複合物を少なくとも一種以上含んでもよい。これらの粒子は、特に表面に凹凸を形成する目的のために添加されるのではなく、相分離や析出を制御して、より均一で微細な凹凸を形成する為に添加される。これらの粒子の粒径は、平均粒径で０．５μｍ以下、好ましくは０．０１～０．３μｍである。０．５μｍを超えると、若干透明性が低下する。

　無機粒子の例としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ゼオライト、雲母、合成雲母、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、フッ化マグネシウム、スメクタイト、合成スメクタイト、バーミキュライト、ＩＴＯ（酸化インジウム／酸化錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン／酸化錫）、酸化錫、酸化インジウムおよび酸化アンチモンからなる群から選択される少なくとも１種類が挙げられる。

　有機粒子の例としては、アクリル、オレフィン、ポリエーテル、ポリエステル、ウレタン、ポリエステル、シリコーン、ポリシラン、ポリイミドおよびフッ素粒子からなる群から選択される少なくとも１種類が挙げられる。

　上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装し、次いで硬化させることによって、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層を形成することができる。アンチブロッキング層形成組成物の塗装方法として、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法などが挙げられる。アンチブロッキング層の厚さとして、例えば、０．０１～２０μｍの厚さである態様が挙げられる。

　高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後、光を照射することによって、相分離および硬化させることができる。照射する光として、例えば露光量０．１～３．５Ｊ／ｃｍ^２の光、好ましくは０．５～１．５Ｊ／ｃｍ^２の光を用いることができる。またこの照射光の波長は特に限定されるものではないが、例えば、３６０ｎｍ以下の波長を有する照射光などを用いることができる。このような光は、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などを用いて得ることができる。このように光を照射することによって、相分離および硬化が生じることとなる。

アンチブロッキングフィルム
　本発明はさらに、上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されるアンチブロッキングフィルムも提供する。このアンチブロッキングフィルムは、透明高分子基材、および、上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を、基材に塗装することによって形成されるアンチブロッキング層、を有する。そして本発明におけるアンチブロッキング層は、優れたアンチブロッキング性能を有することに加えて、１．５６５～１．６２０という高い屈折率を有することも特徴とする。

　本発明のアンチブロッキングフィルムにおいては、透明高分子基材として、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムが好ましく用いられる。ＰＥＴフィルムおよびポリカーボネートフィルムは、フィルム強度および透明性が高く、かつ安価であるなどの点から、タッチパネルを構成する、透明導電層を有するフィルムの基材フィルムとして好適に用いられるためである。一方で、これらのフィルムは、一般に、１．５以上と高い屈折率を有する。これらのフィルムの屈折率は、通常用いられるアンチブロッキングフィルムを構成する樹脂成分の屈折率と比較して高いため、アンチブロッキング層との屈折率差が大きくなり、干渉縞の発生頻度が高くなるという問題がある。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、高い屈折率を有するアンチブロッキング層を形成することができることを特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの透明基材フィルム上にアンチブロッキング層を形成しても、干渉縞が発生しないという特徴がある。

　なお、本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、上記ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルム以外の基材フィルムに塗装してもよい。このような基材フィルムとして、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム、ジアセチレンセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムなどが挙げられる。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されるアンチブロッキング層は、微細凹凸を有することを特徴とする。このアンチブロッキング層の表面の粗さ曲線の算術平均粗さ（Ｒａ）は、０．１μｍ未満であることが好ましく、０．００１～０．０９μｍであることがさらに好ましく、０．００２～０．０８μｍであることが特に好ましい。ここで粗さ曲線の算術平均粗さ（Ｒａ）とは、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２００１において規定されるパラメーターである。アンチブロッキング層の表面の粗さ曲線の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以上である場合は、ギラツキの発生、塗膜の白化などの問題が生じるおそれがある。Ｒａの値が前記の特に好ましい範囲を下回ると、ブロッキング現象が発生して好ましくない。なおＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２００１は日本工業規格であり、ＩＳＯ　４２８８に準拠した規格である。

　粗さ曲線の算術平均粗さ（Ｒａ）とは、粗さ曲線からその平均線の方向に基準長さだけを抜き取り、この抜取り部分の平均線の方向にＸ軸を、縦倍率の方向にＹ軸を取り、粗さ曲線をｙ＝ｆ(ｘ)で表したときに、下記式によって求められる値をマイクロメートル（μｍ）で表したものをいう。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されるアンチブロッキング層は、Ｒｚが０．５μｍ以下であるのが好ましい。ここでＲｚとは、粗さ曲線の十点平均粗さであり、ＪＩＳＢ０６０１－２００１において規定されるパラメーターである。Ｒｚが０．３μｍ以下であるのがより好ましく、０．２μｍ以下であるのがさらに好ましい。下限は０．０１μｍであるのが好ましい。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されるアンチブロッキング層の表面の粗さ曲線の算術平均粗さ（Ｒａ）および十点平均粗さ（Ｒｚ）は、例えば小坂研究所社製の高精度微細形状測定器、または（株）キーエンス製のカラー３Ｄレーザー顕微鏡などを用いて、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１－２００１に準拠して測定することができる。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物により形成されたアンチブロッキング層は、不規則で微細緻密な凹凸形状を有するため、優れたアンチブロッキング性を発揮する。本発明におけるアンチブロッキング層また、例えば液晶モジュールなどの光源によって表示される画像の鮮明性を低下させることがないという利点もある。特に、近年における高精細液晶表示装置においては、液晶から発せられる光線のピッチがより細かくなっている。そのため、画像鮮明性を保持するためにはより微細で緻密な凹凸形状が求められることとなっている。本発明におけるアンチブロッキング層は、微細で緻密な凹凸形状を有する、コントラスト低下、輝度の低下などの画像鮮明性低下を伴わないという利点がある。

　本発明におけるアンチブロッキング層は、高屈折率剤を用いなくても、アンチブロッキング層の屈折率１．５６５～１．６２０と高い屈折率が達成されていることを特徴とする。アンチブロッキング層の屈折率は、例えば、アッベ屈折計を用いて、ＪＩＳＫ７１４２に準拠して測定することができる。

　本発明のアンチブロッキングフィルムは、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましく、９０％以上であるのがより好ましい。また、本発明のアンチブロッキングフィルムは、ヘイズが２％以下であるのが好ましく、１％以下であるのがより好ましい。
　本件発明においては、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２などの高屈折率剤を含まなくても高屈折率化が達成されているため、このような高屈折率剤を含める必要がない。そのため、上記のように高い全光線透過率および低いヘイズ値を達成することが可能となる。より詳しくは、上記高屈折率アンチブロッキング層形成組成物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物の総含有量が組成物中の０．０００１質量％以下であるのが好ましい。金属酸化物などの高屈折率剤が、アンチブロッキング層中に存在する場合は、樹脂成分のみの層と比較して、一般に伸長性および耐屈曲性が劣ることとなるためである。

　全光線透過率（Ｔ_ｔ(％)）は、アンチブロッキングフィルムに対する入射光強度（Ｔ_０）とアンチブロッキングフィルムを透過した全透過光強度（Ｔ_１）とを測定し、下記式により算出される。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されるアンチブロッキング層は、高い硬度および屈折率を有することに加えて、高い伸長性を有することも特徴とする。そのため、本発明におけるアンチブロッキングフィルムは、例えばタッチパネル等を構成する、透明導電層を有するフィルムの調製において好適に用いることができる。

　タッチパネルを搭載するスマートフォンなどの携帯電話、タブレットＰＣ、携帯情報端末機器などにおいては、機器の小型・薄型化および軽量化が強く求められている。そのため、タッチパネル電極を構成する部材においても、基材フィルムの薄膜化が求められている。一方で、基材フィルムの厚さを薄くすることによって、基材フィルムにアンチブロッキング層を設けた場合においてフィルムの反りまたはカールが生じる不具合の発生頻度が高くなり、作業性・生産性が低下するという問題がある。これらの不具合は、アンチブロッキング層と基材フィルムとの物理的性質（例えば熱収縮率、熱膨張率など）が相違することに依存すると考えられる。本発明におけるアンチブロッキングフィルムは高い伸長性を有するため、種々の基材に対しカールが小さくなる傾向がある。

　本発明におけるアンチブロッキングフィルムには、用途に応じて透明導電層、光学干渉により反射率を制御する光学干渉層を必要に応じて適切な順に、組み合わせて用いることができる。これら透明導電層、光学干渉層、高屈折率アンチブロッキング層の積層順は用途に応じて発現を期待される機能を果たしていれば特に限定するものではない。これらの積層順を例えばタッチパネル用基板として用いる場合、透明導電層をＡ、光学干渉層をＢ、本発明の対象となる高屈折率アンチブロッキング層をＣ、透明高分子基材をＤ、本発明の対象外となるアンチブロッキング層をＥとすると、例えばＡ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅ、Ａ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ、Ａ／Ｂ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅ、Ａ／Ｂ／Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｃ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｅ／Ｂ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｂ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｅ／Ｂ／Ｂ、Ａ／Ｃ／Ｄ／Ｃ／Ｂ／Ｂなどとすることができる。

　先に述べた光学干渉層は、高屈折率層と低屈折率層を適宜組み合わせることにより反射光を防止あるいは抑制する層を指す。光学干渉層は少なくとも一層の高屈折率層と少なくとも一層の低屈折率層より構成される。高屈折率層と低屈折率層の組み合わせ単位を二つ以上とすることもできる。光学干渉層が一層の高屈折率層と一層の低屈折率層から構成される場合、光学干渉層の膜厚は３０ｎｍ～１５０ｎｍが好ましく、更に好ましくは５０ｎｍ～１５０ｎｍである。光学干渉層は、湿式法、乾式法のいずれの方法でも形成することができる。例えば湿式法ではドクターナイフ、バーコーター、グラビアロールコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、スピンコータ-等、スプレー法、浸漬法等、乾式法ではスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法あるいは印刷法、ＣＶＤ法などを適応することができる。

　タッチパネル等を構成する透明導電性積層体は、一般に、透明導電層を有するフィルムである。この透明導電層は、特に制限はないが、酸化インジウムを含む結晶質層、より具体的にはＩＴＯ（インジウム－スズ酸化物）およびＩＺＯ（インジウム－亜鉛酸化物）などの、インジウムを主成分とする結晶質層が好適に用いられる。透明導電層の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等のＰＶＤ法あるいは塗工法、印刷法、ＣＶＤ法があるが、ＰＶＤ法またはＣＶＤ法が好ましい。

　透明導電層を設けるためのこれらの加工処理を行うことによって、アンチブロッキング層を有する基材フィルムに部分的負荷がかかるため、透明導電性積層体の透明導電層、アンチブロッキング層と基材フィルムとの間における熱収縮率・熱膨張率の相違に基づくフィルムのよれが生じることがある。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて設けられるアンチブロッキング層は、高い視認性および良好な硬度を有すると共に、高い伸長性を有することを特徴とする。得られるアンチブロッキング層が高い伸長性を有することによって、透明導電層を設ける段階における加熱などにより、基材フィルムが局所的に熱膨張した場合であっても、アンチブロッキング層が良好に追随し、その結果、フィルムのよれなどの不具合が発生しないという利点がある。

　アンチブロッキング層の伸長性について、より具体的には、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物が塗装される透明高分子基材が、厚さ２０～３００μｍのＰＥＴフィルムであるアンチブロッキングフィルムの場合において、このアンチブロッキングフィルムを２０℃において、引っ張り速度５ｍｍ／秒の条件において、ＭＤ方向に１５％引き伸ばした際、アンチブロッキング層にクラックが発生しない状態が挙げられる。ここで、アンチブロッキング層の膜厚として、例えば０．０５～１０μｍである場合が挙げられる。

　一般に、高分子基材フィルムの製造は、溶融状態にある樹脂基材を、ロール状に巻き取りながら、縦方向（巻き取り方向：ＭＤ方向）と横方向（ＴＤ方向：ＭＤ方向に対して直交する方向）の２方向に延伸し、均一な厚さのフィルムを製造する、二軸延伸法によって製造される。この製造方法においては、ＭＤ方向に高い応力が残ることとなる。そのため、得られたフィルムは、特にＭＤ方向において、熱膨張・熱収縮が生じる傾向がある。得られたアンチブロッキングフィルムを、高分子基材フィルム製造時において巻き取られた方向であるＭＤ方向に引き伸ばす試験を行うことによって、クラック（フィルム割れ）などの発生を効果的に検証することができるという利点がある。

　また、アンチブロッキングフィルムを構成する透明高分子基材が、ポリカーボネートフィルムである場合は、アンチブロッキングフィルムの耐屈曲性を検証することによって、形成されたアンチブロッキング層の伸長性能を評価することができる。ポリカーボネートは、耐熱性および耐衝撃性などの物理的性能が優れる素材である一方で、特にフィルム厚が薄いポリカーボネートフィルムの場合においては、折り曲げなどの応力によって、クラック（割れ）が発生することがある。このようにフィルム厚が薄いポリカーボネートフィルムを基材フィルムとして用いる場合において、この基材フィルム上に形成されるアンチブロッキング層の伸長性が高い場合は、アンチブロッキング層を設けることによって、基材フィルムのクラックの発生を防ぐことが可能となる。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層は、高い伸長性を有している。そのため、フィルム厚が薄いポリカーボネートを基材フィルムとして用いるアンチブロッキングフィルムにおいて、曲げ応力に対する靱性を向上させることができるという利点がある。より具体的には、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物が塗装される透明高分子基材が、厚さ３０～２００μｍのポリカーボネートフィルムであるアンチブロッキングフィルムの場合において、このアンチブロッキングフィルムを、２５℃および６０度／秒の条件において１８０°折り曲げた場合であっても、アンチブロッキング層および基材の何れにおいてもクラックが発生しない状態が挙げられる。ここで、アンチブロッキング層の膜厚として、例えば０．０５～１０μｍある場合が挙げられる。

　本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されるアンチブロッキング層は、良好なアンチブロッキング性能および硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるアンチブロッキング層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点がある。本発明におけるアンチブロッキング層は、特に、タッチパネル電極を構成する、透明導電層を有するフィルムにおいて好適に用いることができる。

　以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「％」は、ことわりのない限り、質量基準による。

製造例１　フェノールノボラック型アクリレート（１）の製造
　攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂（重量平均分子量７００～９００、エポキシ当量１５０～２００）１５０ｇおよびエピクロルヒドリン５５０ｇを混合し、１００℃、１００～２００ｍｇの減圧条件下にて４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを２時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
　得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分１００重量部に対し、メトキノン１０００ｐｐｍ、トリフェニルホスフィン２０００ｐｐｍを加え、１００℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を得た。
　得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）は、重量平均分子量が９５０であり、水酸基価は１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ、屈折率は１．５７２であった。また、ＳＰ値は１２．７であった。

製造例２　フェノールノボラック型アクリレート（２）の製造
　攪拌装置、温度計、滴下漏斗および還流装置のついた反応装置に、フェノールノボラック樹脂（重量平均分子量９００～１１００、エポキシ当量１５０～２００）１５０ｇおよびエピクロルヒドリン５５０ｇを混合し、１００℃、１００～２００ｍｇの減圧条件下にて４８．５％の水酸化ナトリウム水溶液１１０ｇを２時間かけて滴下した。反応終了後、温度を室温まで冷却し過剰の水酸化ナトリウム水溶液を酸で中和、減圧下にて加熱し過剰のエピクロルヒドリンを除去した後、生成物をメチルイソブチルケトンに溶解させ、水洗濾別により副生成塩を除去してフェノールノボラック型のエポキシ樹脂溶液を得た。
　得られたフェノールノボラック型のエポキシ樹脂の固形分１００重量部に対し、メトキノン１０００ｐｐｍ、トリフェニルホスフィン２０００ｐｐｍを加え、１００℃にてアクリル酸を滴下し、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下になるまで反応させフェノールノボラック型エポキシアクリレート（２）を得た。
　得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（２）は、重量平均分子量が１２００であり、水酸基価は１３７ｍｇＫＯＨ／ｇ、屈折率は１．５７１であった。また、ＳＰ値は１２．６であった。

実施例Ｅ１
　成分（Ａ）として、製造例１で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を、成分（Ｂ）として、エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート（エトキシ構造を分子中に１ｍｏｌ有するアクリレート、２５℃における粘度１３０ｍＰａ・ｓ、屈折率１．５７７）を用いてハードコーティング組成物を調製した。表１に示された原料を、表１に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、ハードコーティング組成物を得た。
　なお、成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレートの粘度測定は、試験サンプルとして成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート１００ｍｌをガラス容器に採取し、２０℃に温度調整した後、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ－２２Ｌ　東機産業株式会社製）およびＭ１Ｒｏｔｏｒを用いて、６０ｒｐｍの回転速度にて測定した。
　また、成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ　Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。

　得られたハードコーティング組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）上に滴下し、バーコーター＃１２を用いて塗工した。
　塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。

　また、得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）上に滴下し、バーコーター＃９を用いて塗工した。
　塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。

実施例Ｅ２～Ｅ５
　成分（Ａ）の種類および量を表１に記載されたものに変更し、他の（メタ）アクリレート類としてペンタエリスリトールトリアクリレートを用いたこと以外は、実施例Ｅ１と同様にして、ハードコーティング組成物を調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例Ｅ１と同様にして２種類のハードコートフィルムを得た。

比較例Ｅ１～Ｅ５、Ｅ９
　表２に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例Ｅ１と同様にして２種類のハードコートフィルムを得た。

比較例Ｅ６、Ｅ１０
　表２に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。
　得られたハードコーティング組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）に滴下し、バーコーター＃１３を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。
　また、得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）に滴下し、バーコーター＃１０を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。

比較例Ｅ７、Ｅ１１
　表２に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。
　得られたハードコーティング組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）に滴下し、バーコーター＃１６を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。
　また、得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）に滴下し、バーコーター＃１２を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。

比較例Ｅ８、Ｅ１２、Ｅ１３
　表２に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。
　得られたハードコーティング組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）に滴下し、バーコーター＃２０を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射した。比較例Ｅ１２のハードコーティング組成物を用いた場合においては、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。一方で、比較例Ｅ８およびＥ１３のハードコーティング組成物を用いた場合においては、コーティング組成物が硬化せず、ハードコート層を設けることができなかった。
　また、得られたハードコーティング組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）に滴下し、バーコーター＃１４を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射した。比較例Ｅ１２のハードコーティング組成物を用いた場合においては、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのハードコート層を有するハードコートフィルムを得た。一方で、比較例Ｅ８およびＥ１３のハードコーティング組成物を用いた場合においては、コーティング組成物が硬化せず、ハードコート層を設けることができなかった。

実施例Ｅ１－Ｅ６
　実施例Ｅ１で得られたハードコートフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム－酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。得られた透明導電性積層体の干渉縞は視認されなかった。

　上記実施例Ｅ１～Ｅ５および比較例Ｅ１～Ｅ１３において得られたハードコートフィルムについて、下記評価を行った。評価結果を表１および２に示す。

屈折率の測定
　アッベ屈折計（アタゴ社製２Ｔ　測定範囲　ｎＤ＝１．３～１．７）を用いて下記方法にて測定した。
　主プリズムに、中間液（モノブロモナフタレンなど）をスポイドで１滴を落とし、測定するサンプルを置いた。サンプル上に中間液をスポイドで１滴を落とし、副プリズムを閉じた。ここで、中間液層に空気が入らないことを条件とした。
　副プリズムにランプ光を入射させ、接眼鏡をのぞきながら測定つまみを回して、屈折視野の明暗の境を交点に合わせ、目盛視野の値を小数点以下４桁まで読み取り、屈折率を測定した。

硬度の評価
　鉛筆引掻塗膜硬さ試験機（東洋精機製作所製　型式Ｐ　加圧荷重１００ｇ～１ｋｇ）を用いて測定した。
　三菱ユニ製　鉛筆引かき値試験用鉛筆（日本塗料検査協会検査済みのもの）を使用し、芯の先端が平滑で円形の断面になるように研磨紙（３Ｍ　Ｐ－１０００）にて調整した。試料を測定台に設置後、引掻角度が４５°になるよう鉛筆を固定し、荷重７５０ｇの条件で試験を行った。試験毎に、芯を平滑にしながら、試験場所をずらして５回試験を繰り返した。
　塗膜表面に凹みの発生有無下記評価基準に基づき、目視で確認した。
例えば２Ｈの鉛筆を用いた試験の場合、
凹みの発生が１本も無い場合、２Ｈと判断した。
凹みの発生が１～２本の場合、鉛筆の硬度を１段階下げて評価し、１段階下げて凹みの発生が１本も無い場合は硬度の評価は中間領域（Ｈ～２Ｈ等）と判断した。
凹みの発生が３本以上の場合は、Ｈ以下と判断し、1段階下げての評価を同様に実施した。

　なお、実施例および比較例のハードコートフィルムの調製において用いられたＰＥＴフィルムの硬度はＨＢ～Ｆであり、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルムの硬度は５Ｂ～４Ｂである。
　そのため、ＰＥＴフィルムおよびハードコート層を有するハードコートフィルムにおいては、硬度がＨ以上であれば、硬度が２段階以上高くなっており、ハードコート層が十分な硬度を有していると判断される。
　また、ポリカーボネートフィルムおよびハードコート層を有するハードコートフィルムにおいては、硬度が３Ｂ以上であれば、硬度が２段階以上高くなっており、ハードコート層が十分な硬度を有していると判断される。

伸びの評価
　オートグラフ（島津製作所製　ＡＧ－１Ｓ）を用いて測定を行った。
　試験サンプルを１０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、サンプル長手方向を伸張させる向きにて測定機器の上下のチャックに挟む。室温（２０℃）条件下にて、試料サンプルを２ｃｍ／ｓｅｃの速さで伸張させた際、破断・クラックの発生しない伸張率を求めた。

耐屈曲試験方法
　試料を５０ｍｍ×５０ｍｍに調整し、試料を１８０°折り曲げた時の評価を行った。下記の評価基準に基づき、目視にて行った。
○　：　塗膜・基材にクラックは生じない。
△　：　塗膜にのみクラック発生が確認できる。
×　：　塗膜・基材共にクラック発生が確認できる。

干渉縞評価方法
干渉縞（外観評価）
　試験片を１００×１００ｍｍの黒色アクリル板に光学フィルム用粘着剤を用い塗工面が表面にくるように貼り合せた。スタンド式３波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ製　ＳＬＨ－３９９型）の蛍光管から垂直下１０ｃｍの距離にサンプルを設置して目視観察をし、評価結果が○以上のサンプルについては、更に太陽光下での目視観察を実施し、下記の評価基準に基づき、判定した。
◎　：　干渉縞（干渉模様）が３波長蛍光灯下でも太陽光下でも視認されない。
○　：　３波長蛍光灯下で干渉縞（干渉模様）が視認されないが太陽光下では僅かに視認される
△　：　干渉縞（干渉模様）が僅かに視認される
×　：　干渉縞（干渉模様）がはっきりと視認される

干渉縞（透過スペクトル振幅）
　試験片の光線透過率を紫外可視分光光度計（島津製作所製UV-2450）によって測定し、
５００～７５０ｎｍの範囲における透過率の振幅に対し、下記評価基準に基づき、判定した。
○　：　透過率の最大値と最小値の差が０．５％未満
△　：　透過率の最大値と最小値の差が０．５％以上１．０％未満
×　：　透過率の最大値と最小値の差が１．０％以上

上記表１、表２中、
Ｉ－１８４：１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
ビスフェノールＡ　ＥＯ変性ジアクリレート：東亜合成株式会社製、アロニックスＭ－２１１Ｂ、ビスフェノールＡ　ＥＯ（２ｍｏｌ）変性ジアクリレート
高屈折率フィラー１：ジルコニアＺＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％（酸化ジルコニウム、ＣＩＫナノテック社製）
高屈折率フィラー２：チタニアＴｉＭＩＢＫ１５ＷＴ％（酸化チタン、（ＣＩＫナノテック社製）
２官能ウレタンアクリレート：ＮＶ１００：ＣＮ－９８９３（サートマー社製）
を示す。

　実施例のハードコーティング組成物を用いて形成されたハードコート層を有するハードコーティングフィルムは、何れも、干渉縞の発生がなく、かつ、高い屈折率、良好な硬度を有していた。さらに得られたハードコーティングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高いものであった。
　比較例Ｅ１およびＥ２は、成分（Ｂ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、何れも、得られるフィルムの硬度が低くなる不具合があった。
　比較例Ｅ３は、成分（Ａ）の代わりに、ビスフェノールＡ骨格を有するジアクリレートを用いた例である。この比較例３では、得られるフィルムの屈折率が低くなり、干渉縞の発生が確認された。また、硬度が低くなる不具合があった。
　比較例Ｅ４は、成分（Ｂ）の代わりに、アクリロイルモルフォリンを用いた例である。この比較例Ｅ４でもまた、得られるフィルムの屈折率が低くなり、干渉縞の発生が確認された。また、伸長性も劣っていた。
　比較例Ｅ５～Ｅ８は、成分（Ａ）および（Ｂ）を用いる代わりに、高屈折率剤である酸化ジルコニアまたは酸化チタンを用いた例である。これらの比較例では、硬度は良好である一方で、伸長性が大きく劣っていた。なお比較例Ｅ８の組成物は硬化しなかった。
　比較例Ｅ９～Ｅ１３は、ハードコート層に伸長性を付与することを目的として、２官能ウレタンアクリレートを用いた例である。これらの比較例では、伸長性が多少向上した例もあるものの、硬度および屈折率のバランスが悪くなった。なお比較例Ｅ１３の組成物は硬化しなかった。

　比較例Ｅ５～Ｅ１３のハードコーティング組成物には、高屈折率フィラーが含まれている。高屈折率フィラーが含まれることによって、得られたハードコート層の屈折率自体は確かに高くなっている。その一方で、これらの比較例で得られたハードコート層は、何れも、干渉縞が確認されている。これらの比較例において干渉縞が確認された理由として、ハードコート層を形成する樹脂成分の屈折率が低い一方で、この樹脂成分中に、屈折率の高い高屈折率フィラーが混ざり込んでいる状態であるためと考えられる。このため、ハードコート層の屈折率自体は高くなっても、低屈折率である樹脂成分が悪影響を及ぼしてしまい、優れた干渉縞発生抑制効果が得られないと考えられる。
　また、これらの実施例および比較例の結果からも、本発明によって得られるハードコート層において、優れた干渉縞抑制効果が達成されていることがわかる。

　図１は、実施例Ｅ１のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００～８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。また図２は、比較例Ｅ１０のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００～８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。これらの図１および２の透過スペクトルに示されるように、本発明のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層は、透過スペクトルにおける振幅幅が非常に小さく、可視波長範囲における光学的ぶれが小さいことが理解できる。一方で、比較例Ｅ１０のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層は、透過スペクトルにおける振幅幅が大きく、可視波長範囲における光学的ぶれが大きいことが理解できる。これらの透過スペクトル結果からも、本発明における技術的効果を確認的に理解することができる。

実施例Ｆ１
　成分（Ａ）として、製造例１で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を、成分（Ｂ）として、エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート（エトキシ構造を分子中に１ｍｏｌ有するアクリレート、２５℃における粘度１３０ｍＰａ・ｓ、屈折率１．５７７）を、成分（Ｃ）として、オグソールＥＡ－０２００（下記式（II）－１において各Ｒが水素原子であり、ｍ＋ｎ＝２である、フルオレン骨格含有アクリレート、大阪ガスケミカル社製）

　　　　　　　　　　　　　（II）－１

を用いてハードコーティング組成物を調製した。表１に示された原料を、表１に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、ハードコーティング組成物を得た。
　なお、成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレートの粘度測定は、試験サンプルとして成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート１００ｍｌをガラス容器に採取し、２０℃に温度調整した後、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ－２２Ｌ　東機産業株式会社製）およびＭ１Ｒｏｔｏｒを用いて、６０ｒｐｍの回転速度にて測定した。
　また、成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ　Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。

実施例Ｆ２～Ｆ４
　成分（Ａ）の種類および量を表３に記載されたものに変更し、他の（メタ）アクリレート類としてペンタエリスリトールトリアクリレートを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ハードコーティング組成物を調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例１と同様にして２種類のハードコートフィルムを得た。
　なお、実施例Ｆ４では、成分（Ｃ）として、オグソールＥＡ－Ｆ５５０３（大阪ガスケミカル社製）を用いた。

比較例Ｆ１およびＦ２
　表４に示された配合により、ハードコーティング組成物を、実施例と同様にして調製した。得られたハードコーティング組成物を用いて、実施例Ｆ１と同様にして２種類のハードコートフィルムを得た。

実施例Ｆ５
　実施例Ｆ１で得られたハードコートフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム－酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。得られた透明導電性積層体の干渉縞は視認されなかった。

　上記実施例Ｆ１～Ｆ４および比較例Ｆ１およびＦ２において得られたハードコートフィルムについて、実施例Ｅ６と同じ評価を行った。評価結果を表３および表４に示す。

上記表３、表４中、
Ｉ－１８４：１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
を示す。

　実施例Ｆ１～Ｆ４のハードコーティング組成物を用いて形成されたハードコート層を有するハードコーティングフィルムは、何れも、干渉縞の発生がなく、かつ、高い屈折率、良好な硬度を有していた。さらに得られたハードコーティングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高いものであった。
　比較例Ｆ１は、成分（Ａ）および成分（Ｃ）の量が本発明における範囲より少ない例である。この比較例Ｆ１では、フィルムの伸長性および耐屈曲性が劣っていた。
　比較例Ｆ２は、成分（Ａ）の量が本発明における範囲より少なく、成分（Ｃ）の量が本発明における範囲を超える例である。この比較例Ｆ２では、得られるフィルムの硬度が低くなる不具合があった。
　これらの実施例および比較例の結果からも、本発明によって得られるハードコート層において、優れた干渉縞抑制効果が達成されていることがわかる。

　図３は、実施例Ｆ１のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層の、波長４００～８００ｎｍの範囲における透過スペクトル（透過率（％））を示すグラフである。図３の透過スペクトルに示されるように、本発明のハードコーティング組成物を用いて得られたハードコート層は、透過スペクトルにおける振幅幅が非常に小さく、可視波長範囲における光学的ぶれが小さいことが理解できる。これらの透過スペクトル結果からも、本発明における技術的効果を確認的に理解することができる。

製造例３　不飽和二重結合含有アクリル共重合体（Ｉ）の製造
　イソボロニルメタクリレート１８７．２ｇ、メチルメタクリレート２．８ｇ、メタクリル酸１０．０ｇからなる混合物を混合した。この混合物を、攪拌羽根、窒素導入管、冷却管および滴下漏斗を備えた１０００ｍｌ反応容器中の、窒素雰囲気下で１１０℃に加温したプロピレングリコールモノメチルエーテル３６０ｇにターシャリーブチルペルオキシ－２－エチルヘキサエート２．０ｇを含むプロピレングリコールモノメチルエーテルの８０．０ｇ溶液と同時に３時間かけて等速滴下し、その後、１時間、１１０℃で反応させた。

　その後、ターシャリーブチルペルオキシ－２－エチルヘキサエート０．２ｇを含むプロピレングリコールモノメチルエーテル１７ｇ溶液を滴下して、１１０℃で３０分反応させた。

　その反応溶液にテトラブチルアンモニウムブロマイド１．５ｇとハイドロキノン０．１ｇを含む６ｇのプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液を加え、空気バブリングしながら、さらに４－ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテル２４．４ｇとプロピレングリコールモノメチルエーテル５．０ｇの溶液を１時間かけて滴下し、その後５時間かけて更に反応させた。

　数平均分子量５５００、重量平均分子量（Ｍｗ）１８０００の不飽和二重結合含有アクリル共重合体を得た。この樹脂は、ＳＰ値：９．７、Ｔｇ：９２℃であった。

実施例Ｇ１
　第１成分として、製造例３で得られた不飽和二重結合含有アクリル共重合体（Ｉ）を用いた。第２成分の成分（Ａ）として、製造例１で得られたフェノールノボラック型エポキシアクリレート（１）を、成分（Ｂ）として、エトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート（エトキシ構造を分子中に１ｍｏｌ有するアクリレート、２５℃における粘度１３０ｍＰａ・ｓ、屈折率１．５７７、ＳＰ値１０．６）を用いてアンチブロッキング層形成組成物を調製した。表１に示された原料を、表５に示された固形分質量で順次混合し、撹拌して、アンチブロッキング層形成組成物を得た。

　なお、成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレートの粘度測定は、試験サンプルとして成分（Ｂ）のエトキシ化オルトフェニルフェノールアクリレート１００ｍｌをガラス容器に採取し、２０℃に温度調整した後、Ｂ型粘度計（ＴＶＢ－２２Ｌ　東機産業株式会社製）およびＭ１Ｒｏｔｏｒを用いて、６０ｒｐｍの回転速度にて測定した。
　また、成分（Ｂ）の屈折率は、ＪＩＳ　Ｋ００６２に準拠した方法により、アッベ屈折率計を用いて測定した。

　なお第２成分のＳＰ値は、第２成分に含まれる成分（Ａ）、成分（Ｂ）および他の成分などの各成分のＳＰ値、含有量に対し、重量平均にて算出した。

　得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）上に滴下し、バーコーター＃１２を用いて塗工した。
　塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。

　また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）上に滴下し、バーコーター＃９を用いて塗工した。
　塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。

実施例Ｇ２～Ｇ５
　成分（Ａ）の種類および量を表５に記載されたものに変更し、第２成分に含まれる他の（メタ）アクリレート類としてペンタエリスリトールトリアクリレート（ＳＰ値：１２．７）を用いたこと以外は、実施例Ｇ１と同様にして、アンチブロッキング層形成組成物を調製した。得られたアンチブロッキング層形成組成物を用いて、実施例Ｇ１と同様にして２種類のアンチブロッキングフィルムを得た。

比較例Ｇ１～Ｇ５、Ｇ９
　表６に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例と同様にして調製した。得られたアンチブロッキング層形成組成物を用いて、実施例Ｇ１と同様にして２種類のアンチブロッキングフィルムを得た。

比較例Ｇ６、Ｇ１０
　表６に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例Ｇ１と同様にして調製した。
　得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）に滴下し、バーコーター＃１３を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
　また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）に滴下し、バーコーター＃１０を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。

比較例Ｇ７、Ｇ１１
　表６に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例Ｇ１と同様にして調製した。
　得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）に滴下し、バーコーター＃１６を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。
　また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）に滴下し、バーコーター＃１２を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射し、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。

比較例Ｇ８、Ｇ１２、Ｇ１３
　表６に示された配合により、アンチブロッキング層形成組成物を、実施例Ｇ１と同様にして調製した。
　得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人デュポン製１８８μｍ光学用ＰＥＴフィルム（ＫＥＦＷ）に滴下し、バーコーター＃２０を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射した。比較例Ｇ１２のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、ＰＥＴフィルムおよび膜厚６．５μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。一方で、比較例Ｇ８およびＧ１３のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、コーティング組成物が硬化せず、アンチブロッキング層を設けることができなかった。
　また、得られたアンチブロッキング層形成組成物を、帝人化成製１００μｍ光学用ＰＣフィルム（ピュアエース）に滴下し、バーコーター＃１４を用いて塗工した。塗工後、７０℃にて１分間乾燥させ、紫外線照射機（Ｆｕｓｉｏｎ製）にて３５０ｍＪの紫外線を照射した。比較例１２のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、ポリカーボネートフィルムおよび膜厚５．０μｍのアンチブロッキング層を有するアンチブロッキングフィルムを得た。一方で、比較例Ｇ８およびＧ１３のアンチブロッキング層形成組成物を用いた場合においては、コーティング組成物が硬化せず、アンチブロッキング層を設けることができなかった。

実施例Ｇ６
　実施例Ｇ１で得られたアンチブロッキングフィルムを用い、さらにこの硬化樹脂層上に、酸化インジウムと酸化錫が重量比９５：５の組成で充填密度９８％の酸化インジウム－酸化錫ターゲットを用いるスパッタリング法によって、ＩＴＯ層を形成し、可動電極基板となる透明導電性積層体を作製した。形成されたＩＴＯ層の膜厚は約３０ｎｍ、製膜後の表面抵抗値は約１５０Ω／□であった。得られた透明導電性積層体の干渉縞は視認されなかった。

　上記実施例Ｇ１～Ｇ５および比較例Ｇ１～Ｇ１３において得られたアンチブロッキングフィルムについて、実施例Ｅ１と同じ評価を行った。また、アンチブロッキング（ＡＢ）性能についても以下に記載のように評価した。評価結果を表５および表６に示す。

アンチブロッキング（ＡＢ）性能の評価
　実施例および比較例で得られたアンチブロッキングフィルムを、２×５ｃｍの大きさに切り出し、塗工面をＰＥＴフィルム（易接着層未塗布）面に重ね合わせ、ガラス板に挟んで２００ｇｆ／ｃｍ^２条件にて、室温で２４時間放置した。その後、ブロッキング現象（ＡＢ性）を、下記基準により目視評価した。
○　：　アンチブロッキング性あり
×　：　アンチブロッキング性なし

上記表５、表６中、
Ｉ－１８４：１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、光重合開始剤
ビスフェノールＡ　ＥＯ変性ジアクリレート：東亜合成株式会社製、アロニックスＭ－２１１Ｂ、ビスフェノールＡ　ＥＯ（２ｍｏｌ）変性ジアクリレート、ＳＰ値１１．３
アクリロイルモルフォリン：ＳＰ値１１.９
２官能ウレタンアクリレート：ＮＶ１００：ＣＮ－９８９３（サートマー社製）、ＳＰ値１１．１
高屈折率フィラー１：ジルコニアＺＲＭＩＢＫ３０ＷＴ％（酸化ジルコニウム、ＣＩＫナノテック社製）
高屈折率フィラー２：チタニアＴｉＭＩＢＫ１５ＷＴ％（酸化チタン、（ＣＩＫナノテック社製）
を示す。

　実施例のアンチブロッキング層形成組成物を用いて形成されたアンチブロッキング層を有するアンチブッキングフィルムは、何れも、良好なアンチブロッキング性能を有し、干渉縞の発生がなく、かつ、高い屈折率、良好な硬度を有していた。さらに得られたアンチブッキングフィルムは、伸長性および耐屈曲性も高いものであった。
　比較例Ｇ１およびＧ２は、成分（Ｂ）の量が本発明の範囲外である例である。これらの場合は、何れも、得られるフィルムの硬度が低くなる不具合があった。
　比較例Ｇ３は、成分（Ａ）の代わりに、ビスフェノールＡ骨格を有するジアクリレートを用いた例である。この比較例Ｇ３では、得られるフィルムの屈折率が低くなり、干渉縞の発生が確認された。また、硬度が低くなる不具合があった。
　比較例Ｇ４は、成分（Ｂ）の代わりに、アクリロイルモルフォリンを用いた例である。この比較例Ｇ４でもまた、得られるフィルムの屈折率が低くなり、干渉縞の発生が確認された。また、伸長性も劣っていた。
　比較例Ｇ５～Ｇ８は、成分（Ａ）および（Ｂ）を用いる代わりに、高屈折率剤である酸化ジルコニアまたは酸化チタンを用いた例である。これらの比較例では、硬度は良好である一方で、アンチブロッキング性および伸長性が大きく劣っていた。なお比較例Ｇ８の組成物は硬化しなかった。
　比較例Ｇ９～Ｇ１３は、アンチブロッキング層に伸長性を付与することを目的として、２官能ウレタンアクリレートを用いた例である。これらの比較例では、アンチブロッキング性が劣っていた、また、伸長性が多少向上した例もあるものの、硬度および屈折率のバランスが悪くなった。なお比較例Ｇ１３の組成物は硬化しなかった。

　比較例Ｇ５～Ｇ１３のアンチブロッキング層形成組成物には、高屈折率フィラーが含まれている。高屈折率フィラーが含まれることによって、得られたアンチブロッキング層の屈折率自体は確かに高くなっている。その一方で、これらの比較例で得られたアンチブロッキング層は、何れも、干渉縞が確認されている。これらの比較例において干渉縞が確認された理由として、アンチブロッキング層を形成する樹脂成分の屈折率が低い一方で、この樹脂成分中に、屈折率の高い高屈折率フィラーが混ざり込んでいる状態であるためと考えられる。このため、アンチブロッキング層の屈折率自体は高くなっても、低屈折率である樹脂成分が悪影響を及ぼしてしまい、優れた干渉縞発生抑制効果が得られないと考えられる。

　本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、良好な硬度を有すると共に、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のハードコーティング組成物によって形成される透明ハードコート層は、屈折率が高いことを特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明における透明ハードコート層を設けた場合であっても、干渉縞が発生せず、かつ、高い伸長性が達成されているという利点がある。

　本発明のアンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層は、優れたアンチブロッキング性能を有すると共に、良好な硬度、高い視認性および伸長性を有することを特徴とする。本発明のアンチブロッキング層形成組成物によって形成されるアンチブロッキング層はさらに、屈折率が高いことも特徴とする。そのため、ＰＥＴフィルムまたはポリカーボネートフィルムなどの屈折率が高い基材フィルム上に、本発明におけるアンチブロッキング層を設けた場合であっても、干渉縞が発生しないという利点もある。

Claims

（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート、
を含み、
ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は６０～８５質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１５～３０質量部含まれるハードコーティング組成物。
　前記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）

　　　　　　　　　　　　（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２～５であり、ｍは０～５である。］
で示される、請求項１記載のハードコーティング組成物。
　前記（メタ）アクリレート（Ｂ）は、屈折率が１．５６～１．６４の範囲内である、芳香族基含有（メタ）アクリレートである、請求項１または２に記載のハードコーティング組成物。
成分（Ａ）および（Ｂ）の他に、さらに
（Ｃ）２またはそれ以上の（メタ）アクリレート基を有する、フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート、
を含む、ハードコーティング組成物であって、
　ハードコーティング組成物中に含まれる樹脂成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は４０～７０質量部、（メタ）アクリレート（Ｂ）は１０～３０質量部およびフルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）は１５～４０質量部含まれる、
請求項１記載のハードコーティング組成物。
　前記フルオレン骨格含有（メタ）アクリレート（Ｃ）は、下記式（II）

　　　　　　　　（II）
［式（II）中、Ｒ^３はそれぞれ独立してＨまたはＣＨ_３であり、
Ｒ^４は、－Ａ－ＯＣ（Ｏ）ＣＲ＝ＣＨ_２であって、Ａはそれぞれ独立して、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２－または－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）－であり、Ｒはそれぞれ独立してＨまたはＣＨ_３である。］
で示される、請求項４に記載のハードコーティング組成物。
　ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物の総含有量が組成物中の０．０００１質量％以下である、請求項１～５いずれかに記載のハードコーティング組成物。
　透明高分子基材、および、
　請求項１～６いずれかに記載のハードコーティング組成物を、基材に塗装することによって形成されるハードコート層、
を有するハードコートフィルムであって、
　ハードコート層は、１．５６５～１．６２０の屈折率を有する、
ハードコートフィルム。
　前記ハードコート層の厚さが０．０５～１０μｍである、請求項７記載のハードコートフィルム。
　前記基材が、厚さ２０～３００μｍのＰＥＴフィルムであり、
　ハードコートフィルムは、２０℃において引っ張り速度５ｍｍ/秒の条件においてフィルムをＭＤ方向に１５％引き伸ばした際、前記ハードコート層にクラックが発生しないことを特徴とする、
請求項７または８記載のハードコートフィルム。
　前記基材が、厚さ３０～２００μｍのポリカーボネートフィルムであり、
　ハードコートフィルムは、２５℃および６０度／秒の条件において１８０°折り曲げた際、前記ハードコート層および基材の何れにおいてもクラックが発生しないことを特徴とする、
請求項７または８記載のハードコートフィルム。
　請求項７～１０いずれかに記載のハードコートフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された、透明導電性積層体。
　前記透明導電層が酸化インジウムを含む結晶質層であり、かつ、透明導電層の厚さが５～５０ｎｍである、請求項１１記載の透明導電性積層体。
　前記ハードコート層および透明導電層の間に金属酸化物層が存在し、金属酸化物層の厚さが０．５～５．０ｎｍである、請求項１１または１２記載の透明導電性積層体。
　請求項１１～１３いずれかに記載の透明導電性積層体を有するタッチパネル。
　第１成分および第２成分を含む、高屈折率アンチブロッキング層形成組成物であって、
　第１成分が、不飽和二重結合含有アクリル共重合体であり、
　第２成分が、
（Ａ）２またはそれ以上のアクリレート基を有する、フェノールノボラック型アクリレート、および
（Ｂ）炭素数２または３のアルキレンオキシド構造を分子中に１～２ｍｏｌ有する、芳香族基含有モノまたはポリ（メタ）アクリレート
を含み、
第２成分１００質量部に対して、フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は６０～８５質量部および（メタ）アクリレート（Ｂ）は１５～３０質量部含まれており、
　第１成分のＳＰ値（ＳＰ１）および第２成分のＳＰ値（ＳＰ２）の差△ＳＰが１～４の範囲内であり、
　組成物中に含まれる第１成分および第２成分の質量比は、第１成分：第２成分＝０．５：９９．５～２０：８０であり、
　高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を塗装した後に、第１成分および第２成分が層分離を生じ、表面に微細な凹凸を有するアンチブロッキング層が形成される、
高屈折率アンチブロッキング層形成組成物。
　前記フェノールノボラック型アクリレート（Ａ）は、下記式（Ｉ）

　　　　　　　　　　　　（Ｉ）
［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、ＨまたはＣＨ_２ＯＨであり、Ｒ^２は、ＨまたはＯＨであり、ｎは２～５であり、ｍは０～５である。］
で示される、請求項１５記載の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物。
　前記（メタ）アクリレート（Ｂ）は、屈折率が１．５６～１．６４の範囲内である、芳香族基含有（メタ）アクリレートである、請求項１５または１６に記載の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物。
　ＺｎＯ、ＴｉＯ_２、ＣｅＯ_２、ＳｎＯ_２、ＺｒＯ_２およびインジウム－スズ酸化物の総含有量が組成物中の０．０００１質量％以下である、請求項１５～１７いずれかに記載の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物。
　透明高分子基材、および、
　請求項１５～１８いずれかに記載の高屈折率アンチブロッキング層形成組成物を、基材に塗装することによって形成されるアンチブロッキング層、
を有するアンチブロッキングフィルムであって、
　アンチブロッキング層は、１．５６５～１．６２０の屈折率を有し、かつ、
　アンチブロッキング層は、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．００１～０．０９μｍであり、十点平均粗さ（Ｒｚ）が０．０１～０．５μｍである、
アンチブロッキングフィルム。
　前記アンチブロッキング層の厚さが０．０５～１０μｍである、請求項１９記載のアンチブロッキングフィルム。
　基材が、厚さ２０～３００μｍのＰＥＴフィルムであり、
　アンチブロッキングフィルムは、２０℃において引っ張り速度５ｍ／分の条件においてフィルムをＭＤ方向に１５％引き伸ばした際、アンチブロッキング層にクラックが発生しないことを特徴とする、
請求項１９または２０記載のアンチブロッキングフィルム。
　基材が、厚さ３０～２００μｍのポリカーボネートフィルムであり、
　アンチブロッキングフィルムは、２５℃および６０度／秒の条件において１８０°折り曲げた際、アンチブロッキング層および基材の何れにおいてもクラックが発生しないことを特徴とする、
請求項１９または２０記載のアンチブロッキングフィルム。
　前記アンチブロッキングフィルムは、全光線透過率が８８％以上であり、かつ、ヘイズ値が２％以下である、請求項１９～２２いずれかに記載のアンチブロッキングフィルム。
　請求項１９～１３いずれかに記載のアンチブロッキングフィルムの少なくとも一方の面上に透明導電層が形成された、透明導電性積層体。
　前記透明導電層が酸化インジウムを含む結晶質層であり、かつ、透明導電層の厚さが５～５０ｎｍである、請求項２４記載の透明導電性積層体。
　前記アンチブロッキング層および透明導電層の間に金属酸化物層が存在し、金属酸化物層の厚さが０．５～５．０ｎｍである、請求項２４または２５記載の透明導電性積層体。
　請求項２４～２６いずれかに記載の透明導電性積層体を有するタッチパネル。