TWI275091B - Semiconductor memory device using magnetoresistive effect - Google Patents

Semiconductor memory device using magnetoresistive effect Download PDF

Info

Publication number
TWI275091B
TWI275091B TW091135286A TW91135286A TWI275091B TW I275091 B TWI275091 B TW I275091B TW 091135286 A TW091135286 A TW 091135286A TW 91135286 A TW91135286 A TW 91135286A TW I275091 B TWI275091 B TW I275091B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
line
memory cell
sensing
main
word line
Prior art date
Application number
TW091135286A
Other languages
English (en)
Other versions
TW200303019A (en
Inventor
Azuma Tomoteru
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Publication of TW200303019A publication Critical patent/TW200303019A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI275091B publication Critical patent/TWI275091B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/02Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements
    • G11C11/14Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements
    • G11C11/15Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using magnetic elements using thin-film elements using multiple magnetic layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Mram Or Spin Memory Techniques (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

1275091 (Ο 玖、發明說明 (發明說明應敘明:發明所屬之技術領域、先前技術、内容、實施方式及圖式簡單說明) 相關專利申請案交叉引用 本申請案係基於先前在2002年2月15日所申請之日本申請 案第2002-039086號,本申請案並主張優先於該案,該案之全 文以引用的方式併入本文中。 發明背景 1. 技術領域 本發明係關於半導體裝置,而更特定言之,係關於磁阻 隨機存取記憶體(MRAM)之單元陣列結構。 2. 相關技術說明 磁阻隨機存取記憶體(MRAM)是一種藉由使用磁阻效應 存取「1」或「0」資訊,執行記憶體操作的裝置,其與傳 統DRAMs,EEPROMs,與其類似之記憶體相比,被預期為可 呈現非揮發性,高度整合,高可靠性,與高速度運作的可 抹寫記憶裝置。 已經提議使用多層金屬磁性薄膜/絕緣薄膜之巨大磁阻 (GRM)與自旋極化穿隧效應引起之磁阻變化之元件,或穿隧 磁阻(TMR)元件,作為MRAM單元。TMR元件具有一絕緣薄 膜,此一絕緣薄膜爽在兩磁性薄膜之間。此一結構可以產 生兩個狀態,亦即,兩磁性薄膜之自旋方向彼此平行的狀 態,以及自旋方向彼此反平行的狀態。當自旋變成彼此平 行時,流經介於兩磁性薄膜間之薄絕緣層的穿隧電流增 加,而TMR元件之電阻值便減少。相反地,如果自旋的方 向變成彼此反平行,則穿隧電流減少,TMR元件之電阻值 便增加。可以根據此一電阻值之大小,將「0」與「1」資 82191-930915.DOC -6- 發明說明續頁 1275091⑺ 料區別開來。 使用上述TMR元件作為記憶元件之MRAM的結構已經揭 示於日本專利申請案KOKAI發行公告第2000-163950號中。 如圖1A所示,在MRAM單元陣列中,(mX 4) MRAM單元 MC11至MCm4係以矩陣的形式,排列於複數個字線WL1至 WLm (m :整數)與垂直於字線WL1至WLm之感測線SL1至SL4 的交叉點上。每一個MRAM單元MCI 1至MCm4之磁性薄膜之 一,連接到字線WL1至WLm其中之一,而其他的磁性薄膜則 連接到感測線SL1至SL4其中之一。每一感測線SL1至SL4之一 的一端,經由相應之接地開關S401至S404其中之一,連接至 接地電位,每一感測線之另一端則連接至相應之讀取/寫入 部分100-1至100-4其中之一。 每一讀取/寫入部分100-1至100-4包含寫入開關S500,讀取 開關S600,寫入電流源110,與感測電路120。寫入電流源110 與感測電路120係經由寫入開關S500與讀取開關S600,連接 至各自之感測線SL1至SL4。感測電路120具有一運算放大器 130與電流/電壓轉換器(電阻元件)140。運算放大器130具有 連接至接地之非反轉輸入端,經由讀取開關S600連接感測 線SL1至SL4其中之一的反轉輸入端,與一輸出端。電阻元 件140具有連接至運算放大器130之反轉輸入端的一端,與連 接至運算放大器130之輸出端的另一端。 接下來,藉由例證從MRAM單元MC14將資料讀取出來的情 況,敘述具有上述安排之MRAM的讀取操作。首先,電壓Vread 82191-930915.DOC -7- 1275091 (3) 發明說明續頁 施加到選擇單元MC14所連接之字線WL1。此外,連接到選 擇單元MC14所連接之感測線SL4的接地開關S404是關閉 的,而剩下的接地開關S401至S403則是打開的。此外,讀取 /寫入部分100-4中的寫入開關S500是關閉的,而讀取開關 S600則是打開的。接著將電壓Vread施加到字線WL1。結果, 讀取電流Iread經由感測線SL4與讀取開關S600,流進運算放 大器130中。電流Iread被電阻元件140轉換成電壓。然後,從 運算放大器130之輸出端將此一電壓輸出成讀取電壓Vout。 根據上述讀取方法,藉由消除存在於所選擇之感測線SL4 中的寄生阻抗,可以改善讀取精準度。這一點將參考圖1B 來敘述。圖1B係一電路圖,顯示從MRAM單元MC14讀取資料 時,存在於所選擇之感測線SL4中的寄生阻抗網路。 如圖1B所示,當資料從所選擇之單元MC14中讀取出來 時,寄生阻抗網路150與160-1至160-m和所選擇之單元MC14 同時存在。寄生阻抗網路150是連接到所選擇之字線WL1之 MRAM單元MC11至MC13之記憶單元阻抗的平行電路。此 外,寄生阻抗網路160-1至160-n (n=m-l)係與連接到所選擇之 感測線SL4之MRAM單元MC24至MCm4之記憶單元阻抗,以及 連接至未選擇字線WL2至WLm之MRAM單元MC21至MC23, MC31至MC33,MC41至MC43,…,MCml至MCm3之記憶單元 阻抗的平行電路串聯,其中各自之MRAM單元MC24至MCm4 連接到未使用之字線WL2至WLm。 根據上述讀取方法,所選擇之感測線SL4係連接到運算放
82191-930915.DOC 1275091 (4) 發明說明續頁 大斋之反轉知入端。因此,所選擇之感測線SL4是實際上接 地的。此外’所有未使用之感測線SL1至sl3都是接地的。 因此,可以/肖除未選擇單元所產生之寄生阻抗的影響,而 且可以精確地讀取寫入所選擇之單元中的資訊。 可是,根據傳統MRAM,隨著彼此並聯之記憶單元數目的 增加,在感測運作之早期階段中,流到寄生阻抗的電流增 加,導致電流消耗增加。隨著流進寄生阻抗之電流的增加, 流進運算放大器中電流量便減少。也就是說,讀取信號降 低。結果,在運算放大器啟動後,其藉由將位元線實際接 地,花費較長的時間穩定運算放大器之輸出。結果,資料 讀取速率降低,而資料讀取精準度惡化。這使增加記憶單 元的數量,亦即,MRAM的整合程度,變得困難。 發明内容 根據本發明之一態樣之半導體記憶裝置,包括: 一記憶單元陣列,其中每一個記憶單元包含一磁阻兀 件,此一磁阻元件具有第一與第二磁性層,而且形成於第 一與第二磁性層之間之第一絕緣層,係以短陣的方式排列’ 一字線,其連接到記憶單元陣列每一列上之記憶單70的 第一磁性層; 一次感測線,其連接到記憶單元陣列每一行上之Z ^單 元的第二磁性層; 一主感測線,其連接到每一次感測線; 一列解碼器,其選擇記憶單元陣列之字線’ 一行解碼器,其選擇記憶單元陣列之次感測線’ 82191-930915.DOC -9- 發明說明績頁 1275091 一第一開關元件,其將行解碼器選擇之次感測線連接至 主感測線; 一讀取電路,其經由主感測線,從列解碼器與行解碼器 選擇之記憶單元讀取資料;及 一寫入電路,其經由主感測線,將資料寫入列解碼器與 行解碼器選擇之記憶單元中。 實施方法 下面將參考圖2,敘述根據本發明之第一具體實施例之半 導體記憶裝置。圖2係一 MRAM之方塊圖。 如圖2所示,MRAM 10包含一記憶單元陣列MCA1與MCA2, 開關群SGP1至SGP8,列解碼器ROWDEC1至ROWDEC4,行解 碼器COLDEC1與COLDEC2,與讀取/寫入部分RD/WR_SEC。 每一記憶單元陣列MCA1與MCA2都具有以矩陣形式排列 的(6 X 6)記憶單元MC。記憶單元MC係排列於複數個字線 WL1至WL6與垂直於字線WL1至WL6之次感測線SSL1至SSL6 的交叉點。圖2顯示此一(6 X 6)記憶單元陣列。可是,這只 是一個例子,記憶單元陣列MCA1與MCA2中的記憶單元MC 數目並不特別地受限制。舉例來說,記憶單元MC是具有TMR 元件的MRAM單元。圖3A與3B顯示MRAM之實例。圖3A係 MRAM單元之等價電路圖。圖3B係MRAM之剖面圖。 如圖3A與3B所示,MRAM單元係由TMR元件所形成。更具 體地說,當作字線WL之金屬互連層3,係形成於介電夾層2 中,而介電夾層2則形成於矽基板1上。具有夾在磁性薄膜5 與6之間之絕緣膜4的TMR元件,係形成於金屬互連層3上。 82191-930915.DOC -10- 1275091 ⑹ 發明說明續頁 此外,當作次感測線SSL之金屬互連層7,在磁性薄膜6上, 以垂直於字線WL的方向延伸。磁性薄膜6之自旋方向被設定 成預定的方向。在此一狀態中,使磁性薄膜5的自旋方向與 磁性薄膜6的自旋方向平行或反平行,以便產生兩個狀態, 從而寫入「0」或「1」資料。 圖3C係具有與圖3B所示之MRAM不同結構之MRAM單元的 剖面圖。如圖3C所示,在圖3B的結構中,磁性薄膜26係形 成於絕緣膜4上,而磁性薄膜6則形成於絕緣薄膜27上。進 一步將磁性薄膜5與6之自旋方向設定成預定的方向,以便 彼此一致。在此一情況下,使磁性薄膜26之自旋方向與磁 性薄膜5與6之自旋方向平行或反平行,因而寫入「0」或「1」 資料。如圖3C所示之結構可以獲得比圖3B所示之結構高的 MR比,因而從資料保持的觀點來看,在可靠性上是較優越 的。注意,MR比是「0」資料寫入狀態之TMR元件阻值,對 「1」資料窝入狀態之TMR元件阻值的比。 請回到圖2,開關群SGP1與SGP2分別具有開關電晶體S11 至S16與S21至S26。每一開關電晶體S11至S16之閘極,與源極 與汲極之一,連接到列解碼器ROWDEC1,而每一開關電晶 體之其他源極與汲極則連接到記憶單元陣列MCA1中之每 一字線WL1至WL6的一端。每一開關電晶體S21至S26之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器ROWDEC2,而每 一開關電晶體之其他源極與汲極則連接到記憶單元陣列 MCA1中之每一字線WL1至WL6的一端。 開關群SGP3與SGP4分別具有六個開關電晶體S31至S36與 82191-930915.DOC -11- 發明說明續頁 1275091 ⑺ 六個開關電晶體S41至S46。開關電晶體S31至S36之閘極連接 到行解碼器C0LDEC1。每個這些開關電晶體之源極與汲極 之一連接到接地電位,而每個這些開關電晶體之其他源極 與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA1中每個次感測線SSL1 至SSL6之一端。開關電晶體S41至S46之閘極連接到行解碼器 C0LDEC1 〇每個這些開關電阻器之源極與汲極之一連接到 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA1中每個次感測線SSL1至SSL6之其他 端。 開關群SGP5與SGP6分別具有六個開關電晶體S51至S56與 六個開關電晶體S61至S66。每一開關電晶體S51至S56之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器R0WDEC3,而每 一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列 MCA2中之每一字線WL1至WL0之一端。每一開關電晶體S01 至S66之閘極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器 R0WDEC4,而每一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接 到記憶單元陣列MCA2中之每一字線WL1至WL6之其他端。 開關群SGP7與SGP8分別具有六個開關電晶體S71至S76與 六個開關電晶體S81至S86。開關電晶體S71至S76之閘極連接 到行解碼器C0LDEC2。每個這些開關電晶體之源極與汲極 之一連接到接地電位,而每個開關電晶體之其他源極與汲 極,貝ij連接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至 SSL6之一端。開關電晶體S81至S86之閘極連接到行解碼器 C0LDEC2 〇每個這些開關電晶體之源極與汲極之一連接到 82191-930915.DOC -12- 發明說明續頁 1275091 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至SSL6之其 他端。 列解碼器ROWDEC1至ROWDEC4分別控制包含於開關群 SGP1,SGP2,SGP5,與SGP6中的開關電晶體,並將預定之 電位施加到字線WL1至WL6。 行解碼器COLDEC1控制包含於開關群SGP3與SGP4中的開 關電晶體,而行解碼器COLDEC2則控制包含於開關群SGP7 與SGP8中的開關電晶體。每一行解碼器決定次感測線SSL1 至SSL6的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之間切 換。 如上所述,主感測線MSL連接到讀取/寫入部分 RD/WR—SEC,其中12次感測線SSL1至SSL6與SSL1至SSL6經由 開關群SGP4至SGP8,連接到主感測線MSL。讀取/寫入部分 RD/WR—SEC包含寫入開關電晶體S200,讀取開關電晶體 S300,寫入電流源11,與感測電路12。寫入電流源11與感測 電路12經由寫入開關電晶體S200與讀取開關電晶體S300,連 接到主感測線MSL。寫入開關電晶體S200與讀取開關電晶體 SW300之閘極,分別連接到分別輸入寫入與讀取控制信號之 寫入控制信號線WR_CNT與讀取控制信號線RD—CNT。感測 電路12具有一運算放大器π與電流/電壓轉換器(電阻元件) 14。運算放大器13具有連接至接地電位之非反轉輸入端, 經由讀取開關電晶體S300連接主感測線MSL之反轉輸入 端,與一輸出端。電阻元件14具有連接至運算放大器13之 82191-930915.DOC -13 - 發明說明續頁 1275091 (9) 反轉輸入端的一端,與連接至運算放大器13之輸出端的其 他端。寫入電流源11在寫入操作中,經由寫入開關電晶體 S200,供應電流Iwrite給主感測線MSL。在讀取操作中’感測 電路12使用電阻元件14,經由讀取開關電晶體S3〇〇 ’將攸主 感測線MSL輸入之讀取電流Iread轉換成電壓,並將其輸出為 讀取電壓Vout。 其次將敘述具有上述配置之MRAM的操作。首先將藉由例 證將資料寫入記憶單元MC66中的情況,敘述寫入操作’其 中記憶單元MC66位於記憶體陣列MCA2中之次感測線SSL6 與字線WL6的交叉點。 首先,行解碼器C0LDEC2將開關群SGP8中的開關電晶體 S86打開,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL6連接到主感 測線MSL。行解碼器C0LDEC2亦將開關群SGP7中的開關電晶 體S76打開,以將次感測線SSL6連接到接地電位。此外’藉 由施加寫入控制信號到寫入控制信號線WR__CNT,將寫入開 關電晶體S200打開。以此一操作,電流Iwrite從寫入電流源 11,經由主感測線MSL,流到記憶陣列MCA2中的次感測線 SSL6。注意,開關群SGP8中的開關電晶體S81至S85,開關群 SGP7中的開關電晶體S71至S76,與開關群SGP4中的所有開關 電晶體,均設定為關(OFF)的狀態。開關群SGP3中的開關電 晶體可以設定成開(ON)狀態,或關(OFF)狀態。 接著,列解碼器R0WDEC3與R0WDEC4打開開關群SGP5中 的開關電晶體S56與開關群SGP6中的開關電晶體S66。然後, 82191-930915.DOC -14 - 1275091 (10) 發明說明績頁 電流從列解碼器ROWDEC3—邊,或列解碼器ROWDEC4 — 邊,供應到字線WL6。藉由流經字線WL6之電流,在字線WL6 周圍形成磁場,而此一磁場便改變磁性薄膜5 (參見圖3B) 或磁性薄膜26 (參見圖3C)之自旋方向。此一自旋之方向係 由流經字線WL6之電流方向所決定。也就是說,藉由控制電 流的方向,可以產生兩種狀態,亦即,磁性薄膜5的自旋方 向是與磁性薄膜6之自旋方向平行或反平行。或者是,可以 產生兩種狀態,亦即,磁性薄膜26之自旋方向是與磁性薄 膜5與6之自旋方向平行或反平行。結果,可以將「0」或「1」 資料寫入記憶單元MC66中。注意,開關群SGP5中之開關電 晶體S51至S55,與開關群SGP6中之開關電晶體S61至S65,係 設定成關(OFF)的狀態。開關群SGP1與SGP2中的開關電晶體 可以設定成開(ON)狀態或關(OFF)狀態。 接下來,藉由例證從記憶單元MC66讀取資料的情況,敘 述讀取操作。 首先,列解碼器ROWDEC3將開關群SGP5中的開關電晶體 S56打開,而歹J解碼器ROWDEC4則將開關群SGP6中之開關電 晶體S66關閉。接著,藉由施加電壓Vread至記憶陣列MCA2 中之字線,供應電流給記憶單元MC66。在此一情況中,所 有剩下的字線WL1至WL5設定成接地電位或浮動的狀態。 接著,行解碼器COLDEC2打開開關群SGP8中的開關電晶體 S86 $以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL6連接到主感測線 MSL。行解碼器COLDEC2也將開關群SGP7中的開關電晶體 S76關閉。連接到主感測線MSL之剩下的開關電晶體S81至 82191-930915.DOC -15 - 1275091 (11) 發明說明續頁 S85,與開關群SGP4中之所有開關電晶體均設定成關(OFF) 的狀態。此外,藉由將開關群SGP7中之開關電晶體S71至S75 設定成開(ON)的狀態,將未選擇之次感測線SSL1至SSL5設 定成接地電位。開關群SGP3中的開關電晶體可以設定成開 (ON)的狀態或關(OFF)的狀態。 此外,供應讀取控制信號至讀取控制信號線RD_CNT以打 開讀取開關電晶體S300,從而連接感測電路12至主感測線 MSL。 在電壓Vread的應用上,讀取電流Iread經由次感測線 SSL6,從記憶單元MC66流到主感測線MSL,讀取電流Iread 並且流進感測電路12中。讀取電流Iread被電阻元件14轉換成 電壓,並從運算放大器13之輸出端輸出成讀取電壓Vout。 如上所述,根據本發明之第一具體實施例之MRAM,主感 測線MSL係連接到運算放大器13之反轉輸入端。因此,主感 測線MSL是實際上接地的。這使其可能消除由未選擇單元所 產生之寄生阻抗的影響,而精確地讀取寫在選擇之單元中 資訊。 此外,藉由將感測線排列成包含主感測線與次感測線層 次的位元線結構,將記憶單元陣列分成陣列。與藉由傳統 方法排列具有相同容量之單元陣列的情況相比,可以降低 與選擇單元有關的寄生阻抗。當藉由傳統方法形成具有與 圖2所示之排列相同容量的MRAM時,一個記憶單元陣列包 含(12 X 6) = 72記憶單元。因此,如果選擇一個記憶單元,則 82191-930915.DOC -16- 發明說明續頁 1275091 〇2) 71個未選擇之單元成為感測線上的寄生阻抗。根據此一具 體實施例,MRAM係由兩個記憶單元陣列形成,每一個包含 72個記.憶單元之(6 X 6)記憶單元。因此,只有35個未選擇之 單元成為主感測線MSL上的寄生阻抗。這可以避免流進寄生 阻抗之讀取電流Iread的電流量增加,因而抑制了電流消耗 的增加。換句話說,可以有效地供應讀取電流Iread給感測 電路12。同時,既然可以抑制讀取信號之信號電平的減少, 即使記憶單元數量增加,也可以保持高的資料讀取精準 度。這將實現MRAMs整合程度的進一步增加。 注意每一個MRAM單元可以由圖3A至3C中所示之TMR元 件單獨形成,或由TMR與整流元件的結合所形成。圖4A至 4C顯示包含TMR元件與二極體之MRAM元件。圖4A是MRAM 單元之等價電路圖。圖4B與4C是單元的剖面圖。如圖4A至 4C所示,在圖3B至3C所示之結構中,藉由在金屬互連層3之 間,形成η型半導體層8與p型半導體層9,作為字線WL與磁 性層5,使二極體與字線WL與次感測線SSL之間的TRM元件 串聯。 接下來,將參考圖5敘述根據本發明之第二具體實施例之 半導體記憶裝置。圖5係MRAM之方塊圖。根據此一具體實 施例之MRAM進一步使用層次字線結構。 如圖5所示,MRAM10包含記憶單元陣列MCA1至MCA4,開 關群SGP1至SGP16,列解碼器R0WDEC1至R0WDEC4,行解碼 器C0LDEC1至C0LDEC4,與讀取/寫入部分RD/WR__SEC。 每一記憶陣列MCA1至MCA4具有(6 X 3)以矩陣形式排列的 82191-930915.DOC -17- 1275091 (13) 發明說明績頁 記憶單元MC。各個記憶單元MC係排列於複數個次字線SWL1 至SWL6與垂直於次字線SWL1至SWL6之次感測線SSL1至 SSL3的交叉點上。顯然地,包含於每個記憶單元陣列MCA1 至MCA4中的記憶單元MC數目並不受限於(6 X 3)。記憶單元 MC是包含一 TMR元件的MRAM單元,其具有第一具體實施例 中所敘述之圖3A至3C或4A至4C中所示的結構。 開關群SGP1至SGP2分別具有6個開關電晶體S11至S16與六 個開關電晶體S21至S26。開關電晶體S11至S16之閘極連接到 列解碼器ROWDEC1。每個這種開關電晶體的源極與汲極之 一連接到一主字線MWL1,而每一開關電晶體之其他源極與 汲極則連接到記憶單元陣列MCA1中之每一次字線SWL1至 SWL6的一端。開關電晶體S21至S26之閘極連接到列解碼器 ROWDEC2。每個這種開關電晶體的源極與汲極之一連接到 一主字線MWL2,而每一開關電晶體之其他源極與汲極則連 接到記憶單元陣列MCA1中之每一次字線SWL1至SWL6的一 端。 開關群SGP3與SGP4分別具有三個開關電晶體S31至S33與 三個開關電晶體S41至S43。開關電晶體S31至S33之閘極連接 到行解碼器COLDEC1。每個這些開關電晶體之源極與汲極 之一連接到接地電位,而每個這些開關電晶體之其他源極 與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA1中每個次感測線SSL1 至SSL6之一端。開關電晶體S41至S43之閘極連接到行解碼器 COLDEC1 〇每個這些開關電阻器之源極與汲極之一連接到 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 82191-930915.DOC -18- 發明說明續頁 1275091 (14) 接到記憶單元陣列MCA1中每個次感測線SSL1至SSL3之其他 端。 開關群SGP5與SGP6分別具有六個開關電晶體S51至S56與 六個開關電晶體S61至S66。每一開關電晶體S51至S56之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器R0WDEC2。每一 個這種電晶體之源極與汲極之一連接到一主字線MWL3,而 每一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣 列MCA2中之每一字線SWL1至SWL6之一端。每一開關電晶體 S61至S66之閘極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器 R0WDEC1。每一個這種開關之源極與汲極之一連接到一主 字線MWL4,而每一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接 到記憶單元陣列MCA2中之每一次字線SWL1至SWL6之其他 端。 開關群SGP7與SGP8分別具有三個開關電晶體S71至S73與 三個開關電晶體S81至S83。開關電晶體S71至S73之閘極連接 到行解碼器C0LDEC2。每個這些開關電晶體之源極與汲極 之一連接到接地電位,而每個開關電晶體之其他源極與汲 極,貝1J連接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至 SSL3之一端。開關電晶體S81至S83之閘極連接到行解碼器 C0LDEC2 〇每個這些開關電晶體之源極與汲極之一,連接 到主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則 連接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至SSL3之 其他端。 開關群SGP9與SGP10分別具有六個開關電晶體S91至S96與 82191-930915.DOC -19- 發明說明續頁 1275091 (15) 六個開關電晶體S101至S106。開關電晶體S91至S96之閘極連 接到列解碼器ROWDEC3。每個這些開關電晶體之源極與汲 極之一連接到主字線MWL5,而每個開關電晶體之其他源極 與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA3中之每一次字線SWL1 至SWL6之一端。開關電晶體S101至S106之閘極連接到列解碼 器R0WDEC4。每個這些開關電晶體之源極與汲極之一,連 接到主字線MWL6,而每個開關電晶體之其他源極與汲極, 則連接到記憶單元陣列MCA3中之每一次字線SWL1至SWL6 之其他端。 開關群SGP11與SGP12分別具有三個開關電晶體S111至 S113與三個開關電晶體S121至S123。開關電晶體Sill至S113 之閘極連接到行解碼器C0LDEC3。每個這些開關電晶體之 源極與沒極之一連接到接地電位,而每個開關電晶體之其 他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA3中之每一次感 測線SSL1至SSL3之一端。開關電晶體S121至S123之閘極連接 到行解碼器C0LDEC3。每個這些開關電晶體之源極與汲極 之一,連接到主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極 與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA3中之每一次感測線 SSL1至SSL3之其他端。 開關群SGP13與SGP14分另J具有六個開關電晶體S131至 S136與六個開關電晶體S141至S146。開關電晶體S131至S136 之閘極連接到列解碼器R0WDEC4。每個這些開關電晶體之 源極與汲極之一連接到主字線MWL7,而每個開關電晶體之 其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA4中之每一次 82191-930915.DOC -20- 發明說明續頁 1275091 ⑽ 字線SWL1至SWL6之一端。開關電晶體S141至S146之閘極連 接到列解碼器R0WDEC3。每個這些開關電晶體之源極與汲 極之一,連接到主字線MWL8,而每個開關電晶體之其他源 極與沒極,則連接到記憶單元陣列MCA4中之每一次字線 SWL1至SWL6之其他端。 開關群SGP15與SGP16分別具有三個開關電晶體S151至 S153與三個開關電晶體S161至S163。開關電晶體S151至S153 之閘極連接到行解碼器C0LDEC4。每個這些開關電晶體之 源極與汲極之一連接到接地電位,而每個開關電晶體之其 他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA4中之每一次感 測線SSL1至SSL3之一端。開關電晶體S161至S163之閘極連接 到行解碼器C0LDEC4。每個這些開關電晶體之源極與沒極 之一,連接到主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極 與汲極,則連接到記憶單元陣列MCA4中之每一次感測線 SSL1至SSL3之其他端。 列解碼器R0WDEC1控制包含於開關群SGP1與SGP6中的開 關電晶體。列解碼器R0WDEC1將記憶陣列MCA1中之次字線 SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線MWL1,並將記憶陣 列MCA2'中的次字線SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線 MWL4。列解碼器R0WDEC1也選擇主字線MWL1或MWL2,並 將記憶陣列MCA1中的次字線SWL1至SWL6,設定成寫入狀 態5讀取狀態,或接地電位狀態。 列解碼器R0WDEC2控制包含於開關群SGP2與SGP5中的開 關電晶體。列解碼器R0WDEC2將記憶陣列MCA1中的次字線 82191-930915.DOC -21 - 發明說明續頁 1275091 (Π) SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線MWL2,並將記憶陣 列MCA2中的次字線SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線 MWL3。列解碼器R0WDEC2也選擇主字線MWL3或MWL4,並 將記憶陣列MCA2中的次字線SWL1至SWL6,設定成寫入狀 態,讀取狀態,或接地電位狀態。 列解碼器R0WDEC3控制包含於開關群SGP9與SGP14中的 開關電晶體。列解碼器R0WDEC3將記憶陣列MCA3中的次字 線SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線MWL5,並將記憶 陣列MCA4中的次字線SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線 MWL8。列解碼器R0WDEC3也選擇主字線MWL5或MWL6,並 將記憶陣列MCA3中的次字線SWL1至SWL6,設定成寫入狀 態,讀取狀態,或接地電位狀態。 列解碼器R0WDEC4控制包含於開關群SGP10與SGP13中的 開關電晶體。列解碼器R0WDEC4將記憶陣列MCA3中的次字 線SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線MWL6,並將記憶 陣列MCA4中的次字線SWL1至SWL6其中之一,連接到主字線 MWL7。列解碼器R0WDEC4也選擇主字線MWL7或MWL8,並 將記憶陣列MCA4中的次字線SWL1至SWL6,設定成寫入狀 態,讀取狀態,或接地電位狀態。 行解碼器C0LDEC1控制包含於開關群SGP3與SGP4中的開 關電晶體。行解碼器C0LDEC1決定記憶陣列MCA1中次字線 SSL1至SSL6的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之間 切換。 行解碼器C0LDEC2控制包含於開關群SGP7與SGP8中的開 82191-930915.DOC -22- 發明說明績頁 1275091 〇s) 關電晶體。行解碼器COLDEC2決定記憶陣列MCA2中次字線 SSL1至SSL6的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之間 切換。 行解碼器C0LDEC3控制包含於開關群SGP11與SGP12中的 開關電晶體。行解碼器C0LDEC3決定記憶陣列MCA3中次字 線SSL1至SSL6的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之 間切換。 行解碼器C0LDEC4控制包含於開關群SGP15與SGP16中的 開關電晶體。行解碼器C0LDEC4決定記憶陣列MCA4中次字 線SSL1至SSL6的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之 間切換。 如上所述,12條次感測線SSL1至SSL6,SSL1至SSL6,SSL1 至 SSL6,與 SSL1 至 SSL6經由開關群 SGP4,SGP8,SGP12,與 SGP16所連接之主字線MSL,連接到讀取/寫入部分 RD/WR__SEC。既然讀取/寫入部分RD/WR_SEC具有與第一具 體實施例中相同的佈置,將省略其敘述。 其次,將敘述具有上述佈置之MRAM的運作。首先藉由例 證將資料寫入記憶單元MC61中的情況,描述寫入操作’其 中記憶單元MC61係放在記憶陣列MCA2中之次字線SWL6與 次感測線SSL1的交叉點上。 首先,行解碼器C0LDEC2打開開關群SGP8中的開關電晶體 S81,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL1連接到主感測線 MSL。行解碼器C0LDEC2也打開開關群SGP7中之開關電晶體 S71,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL1連接到接地電 82191-930915.DOC -23 - 1275091
發明說明讀頁 位。此外,供應寫入控制信號至寫入控制信號線WR_CNT, 以打開寫入開關電晶體S200。接著,經由主感測線MSL,將 來自寫入電流源11之電流Iwrite供應給記憶陣列MCA2中的 次感測線SSL1。注意開關群SGP8中的開關電晶體882與S83, 開關群SGP7中的開關電晶體S72與S73,以及開關群SGP4, SGP12與SGP16中的所有開關電晶體,均設定成關(OFF)的狀 態。以此一操作,記憶陣列MCA2中的次感測線SSL2與SSL3, 與記憶陣列MCA1,MCA3,與MCA4中的次感測線SSL1至 SSL3,電氣地從主感測線MSL分離。開關群SGP3,SGP11, 與SGP15中的開關電晶體可以設定成開(ON)的狀態或關 (OFF)的狀態。 接著,列解碼器ROWDEC1與ROWDEC2分別打開開關群 SGP6中的開關電晶體S66,與開關群SGP5中的開關電晶體 S56。列解碼器ROWDEC2選擇主字線MWL3或MWL4,並施加 一電壓至所選擇之主字線,因而將來自所選擇之主字線的 電流,供應給次字線SW6。依據流經次字線SWL6之電流方 向,將「〇」或「1」資料寫入記憶單元MC61中。注意,連 接到剩下之主字線的開關電晶體,包括開關群SGP5中的開 關電晶體S51至S55,開關群SGP6中之開關電晶體S61至S65, 與開關電晶體SGP9,SGP10,SGP13,與SGP14中的所有開關 電晶體’均設定成關(OFF)的狀態。 接下來,藉由例證從記憶陣列MC61讀取資料的情況,敘 述讀取操作。 首先,ROWDEC2選擇主字線MWL3,並施加電壓Vread至主 82191-930915.DOC -24- 發明說明續頁 1275091 (2〇) 字線MWL3。列解碼器R0WDEC2打開開關群SGP5中的開關電 晶體S56。列解碼器R0WDEC1關閉開關群SGP6中的開關電晶 體S66。以此一操作,施加電壓Vread至記憶陣列MCA2中的 次字線SWL6。在此一情況中,所有未選擇之次字線均設定 成接地電位或浮動狀態。 行解碼器C0LDEC2打開開關群SGP8中的開關電晶體S81, 以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL1連接到主感測線 MSL。行解碼器C0LDEC2也將開關群SGP7中的開關電晶體 S71關閉。連接到主感測線MSL之剩下的開關電晶體S82與 S83,與開關群SGP4,SGP12,與SGP16中的所有開關電晶體 均設定成關(0FF)的狀態。以此一操作’記憶陣列MCA2中的 次感測線SSL2與SSL3,與記憶陣列MCA1,MCA3 ’與MCA4 中的次感測線SSL1至SSL3,電氣地從主感測線MSL分離。此 外,藉由將開關群SGP7中的開關電晶體S72與S73設定成開 (ON)的狀態,將記憶陣列MCA2中未選擇之次感測線SSL2與 SSL3設定成接地電位。開關群SGP3,SGP11,與SW-GR0UP15 中的開關電晶體可以設定成開(0N)的狀態或關(0FF)的狀 態。 此外,供應讀取控制信號到讀取控制信號線RD—CNT ’以 將讀取開關電晶體S300打開,從而將感測電路I2連接到主感 測線MSL。 在電壓Vread的應用上,讀取電流Iread,經由次感别線 SSL1,從記憶單元MC61流到主感測線MSL,此一讀取電流 Iread並流進感測電路12。讀取電流Iread被電阻元件14轉換成 82191-930915.DOC -25- 發明說明績頁 1275091 ㈤ 電壓,並從運算放大器13之輸出端輸出成為讀取電壓Vout。 如上所述,如同第一具體實施例,根據本發明之第二具 體實施例的MRAM,可以消除未選擇之單元所產生之寄生阻 抗的影響,並且可以精確地讀取寫入所選擇之單元中的資 訊。 此外,藉由以層次位元線結構的方式排列感測線,以及 以層次字線結構的方式排列字線,將記憶單元陣列分成陣 列,其中層次位元線結構包含主感測線與次感測線,而層 次字線結構則包含主字線與次字線。因此,與第一具體實 施例相比,可以減少與選擇之單元有關的寄生阻抗。在此 一具體實施例中,MRAM係由四個記憶單元陣列所形成,每 一個包含72記憶單元之(6 X 3)記憶單元。因此,在讀取操作 中,只有存在17個未選擇之單元成為主感測線MSL上的寄生 阻抗。結果,可以有效率地供應讀取電流Iread給感測電路 12。這使其可能進一步改善第一具體實施例中所敘述之效 應。 其次,將參考圖6,敘述根據本發明之第三具體實施例之 半導體記憶裝置。圖6是MRAM之方塊圖。根據此一具體實 施例之MRAM是如此設計,使得第二具體實施例中,從寫入 電流源11供應之電流方向可以改變。既然根據此一具體實 施例之MRAM結構類似於根據第二具體實施例之MRAM結 構,將僅敘述兩具體實施例之間的差異。 如圖6所示,根據此一具體實施例之MRAM是如此設計, 因而省略根據上述第二具體實施例之MRAM中的主字線 82191-930915.DOC -26- 發明說明續頁 1275091 ㈤ MWL2,MWL4,MWL6,與MWL8。開關群SGP2中之開關電晶 體S21至S26的閘極係連接到列解碼器R0WDEC1。每個這些開 關電晶體之源極與汲極之一連接到接地電位,而每一開關 電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶陣列MCA1中相應 之次字線SWL1至SWL6。開關群SGP6中之開關電晶體S61至 S66的閘極連接到列解碼器R0WDEC2。每個這些開關電晶體 之源極與汲極之一連接接地電位,而每個開關電晶體之其 他源極與汲極,則連接到記憶陣列MCA2中之相應次字線 SWL1至SWL6。開關群SGP10中之開關電晶體S101至S106的閘 極連接到列解碼器R0WDEC3。每個這些開關電晶體之源極 與汲極之一連接接地電位,而每個開關電晶體之其他源極 與汲極,則連接到記憶陣列MCA3中之相應次字線SWL1至 SWL6。開關群SGP14中之開關電晶體S141至S146的閘極連接 到列解碼器R0WDEC4。每個這些開關電晶體之源極與汲極 之一連接接地電位,而每個開關電晶體之其他源極與汲 極,則連接到記憶陣列MCA4中之相應次字線SWL1至SWL6。 歹J解碼器R0WDEC1控制包含於開關群SGP1與開關群SGP2 中的開關電晶體。列解碼器R0WDEC1也施加一電位到主字 線MWL1。以此一操作,記憶陣列MCA1中之次字線SWL1至 SWL6之一連接到主字線MWL1,而記憶陣列MCA1中的次字 線SWL1至SWL6則設定成寫入狀態,讀取狀態,或接地電位 狀態。 列解碼器R0WDEC2控制包含於開關群SGP5與開關群SGP6 中的開關電晶體。列解碼器R0WDEC2也施加一電位到主字 82191-930915.DOC -27- 發明說明續頁 1275091 ⑼ 線MWL3。以此一操作,記憶陣列MCA2中之次字線SWL1至 SWL6之一連接到主字線MWL3,而記憶陣列MCA2中的次字 線SWL1至SWL6則設定成寫入狀態,讀取狀態,或接地電位 狀態。 列解碼器R0WDEC3控制包含於開關群SGP9與開關群 SGP10中的開關電晶體。列解碼器R0WDEC3也施加一電位到 主字線MWL5。以此一操作,記憶陣列MCA3中之次字線SWL1 至SWL6之一連接到主字線MWL5,而記憶陣列MCA3中的次 字線SWL1至SWL6則設定成寫入狀態,讀取狀態,或接地電 位狀態。 列解碼器R0WDEC4控制包含於開關群SGP13與開關群 SGP14中的開關電晶體。列解碼器R0WDEC4也施加一電位到 主字線MWL7。以此一操作,記憶陣列MCA4中之次字線SWL1 至SWL6之一連接到主字線MWL7,而記憶陣列MCA4中的次 字線SWL1至SWL6則設定成窝入狀態,讀取狀態,或接地電 位狀態。 此外,在讀取/寫入部分RD/WR—SEC中,用作寫入電流源 11的電源供應,可以在正電源供應與負電源供應之間切 換。這使其可能改變從寫入電流源11供應給主感測線MSL 之電流Iwrite的方向。 接下來,將敘述具有上述佈置之MRAM的運作。首先將藉 由例證將資料寫入記憶單元MC61中的情況,敘述寫入操 作,其中記憶單元MC61位於記憶體陣列MCA2中之次字線 SWL6與次感測線SSL1的交叉點〇 82191-930915.DOC -28- 發明說明續頁 1275091 ㈤ 行解碼器C0LDEC2打開開關群SGP8中的開關電晶體S81, 以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL1連接到主感測線 MSL。行解碼器C0LDEC2也將開關群SGP7中的開關電晶體 S71打開,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL1連接到接地 電位。此外,供應寫入控制信號給寫入控制信號線 WR—CNT,以打開寫入開關電晶體S200。藉由將寫入電流源 11之電源供應電位設定成正或負電位,經由主感測線MSL, 從寫入電流源11將寫入電流Iwrite供給至記憶陣列MCA2中 的次感測線SSL1,或是以其相反之方向供應。注意開關群 SGP8中的開關電晶體S82與開關群SGP7中的開關電晶體 S72與S73,與開關群SGP4,SGP12與SGP16中的所有開關電晶 體,均設定成關(OFF)的狀態。以此一操作,記憶陣列MCA2 中的次感測線SSL2與SSL3,與記憶陣列MCA1,MCA3,與MCA4 中的次感測線SSL1至SSL3電氣地從主感測線MSL分離。開關 群SGP3,SGP11,與SGP15中的開關電晶體可以設定成開(ON) 或關(OFF)的狀態。 接著列解碼器R0WDEC2打開開關群SGP5與SGP6中的開關 電晶體S56與S66。列解碼器R0WDEC2施加一電壓至主字線 MWL3。以此一操作,從主字線MWL3供應一電流至次字線 SWL6。結果,依據流經次字線SSL1之電流方向,將「0」或 「1」資料寫入記憶單元MC61中。注意連接到剩下之主字線 之開關群SGP5中的開關電晶體S51至S55,與開關群SGP1, SGP9,與SGP13中的所有開關電晶體,均設定成關(OFF)的狀 態。開關群SGP6中的開關電晶體S61至S65,與開關群SGP2, 82191-930915.DOC -29- 1275091 (25) 發明說明續頁 SGP10,與SGP14中的所有開關電晶體,可以設定成開(ON) 的狀態或關(OFF)的狀態。 其次,將藉由例證從記憶單元MC61讀取資料的情況,敘 述讀取操作。 列解碼器ROWDEC2施加一電壓Vread主字線MWL3。列解碼 器ROWDEC2也將開關群SGP5中的開關電晶體S56打開,並將 開關群SGP6中的開關電晶體S66關閉。以此一操作,施加電 壓Vread至記憶陣列MCA2中的次字線SWL6,以供應一電流至 記憶單元MC61。在此一情況中,所有未選擇之次字線均設 定成接地電位,或浮動狀態。 接著,行解碼器COLDEC2打開開關群SGP8中的開關電晶體 S81,以連接記憶陣列MCA2中的次感測線SSL1至主感測線 MSL。行解碼器COLDEC2也將開關群SGP7中的開關電晶體 S71關閉。連接到主感測線MSL之剩下的開關電晶體S82與 S83,與開關群SGP4,SGP12,與SGP16中的所有開關電晶體, 均設定成關(OFF)的狀態。以此一操作,記憶陣列MCA2中的 次感測線SSL2與SSL3,與記憶陣列MCA1,MCA3,與MCA4 中的次感測線SSL1至SSL3,電氣地從主感測線MSL分離。此 外,將開關群SGP7中的開關電晶體S72與S73設定成開(ON) 的狀態,以將記憶陣列MCA2中未選擇之次感測線SSL2與 SS3,設定成接地電位。開關群SGP3,SGP11,與SGP15中的 開關電晶體可以設定成開(ON)的狀態或關(OFF)的狀態。 此外,施加讀取控制信號至讀取控制信號線RD_CNT,以 82191-930915.DOC -30- 發明說明續頁 1275091 ㈣ 打開讀取開關電晶體S300,從而將讀取電路12連接到主感測 線 MSL。 結果,如同第一與第二具體實施例,流出到主感測線MSL 的讀取電流Iread,被輸出成感測電路12中的讀取電壓Vout。 如上所述,根據本發明之第三具體實施例的MRAM,可以 獲得與第二具體實施例相同的效應。此外,可以改變來自 寫入電流源11之寫入電流Iwrite的方向。寫入資料係藉由控 制流經次感測線之寫入電流Iwrite的方向來控制。也就是 說,在寫入操作中,列解碼器不需要考慮流經次字線SWL1 至SWL6之電流的方向。因此,不需要將連接至每一次字線 SWL1至SWL6之一端之每一開關群中的開關電晶體,連接到 列解碼器。在此一具體實施例中,將開關群SGP2與SGP6, 與開關群SGP10與SGP14安排成彼此鄰接,並且經由共同之 互連,將鄰接之開關電晶體的源極連接至接地電位。這使 其可能減少需要形成MRAM之互連的數目,並減少晶片面 積。 接下來,將參考圖7A至7C與8,敘述根據本發明之第四具 體實施例的半導體記憶裝置。圖7A是MRAM單元之等價電路 圖。圖7B與7C是該單元之剖面圖。圖8是MRAM之方塊圖。 如圖7A所示,MRAM單元包含一 TMR元件與一單元電晶體 MC-TR。如圖7B所示,單元電晶體MC-TR包含源極與汲極區 域20a與20b與閘極電極21。源極與汲極區域20a與20b係形成 於矽基板1中,以便彼此分隔開來。閘極絕緣膜(未顯示)係 82191-930915.DOC -31- 發明說明績頁 1275091 ㈤ 形成於源極與汲極區域20a與20b之間的矽基板上。閘極電極 21當作讀取字線RD_WL。源極區域20a係經由互連層22連接 到接地電位。汲極區域20b係經由金屬互連層23與24,連接 到TMR元件之磁性薄膜5。作為寫入字線WR-WL之金屬互連 層係以介電夾層2的方式形成,以便以垂直於次感測線SSL 的方向延伸,並與TMR元件電氣地隔離。進一步將磁性薄 膜6的自旋方向設定成預定的方向。在這種情況下,使磁性 薄膜5之自旋方向變成與磁性薄膜6之自旋方向平行或反平 行,以產生兩個狀態,從而寫入「0」或「1」資料。 圖7C是具有不同於圖7B所示之結構之MRAM單元的剖面 圖。如圖7C所示,在圖7B所示的結構中,磁性薄膜26形成 於一絕緣膜4上,絕緣膜27形成於磁性薄膜26上,而磁性薄 膜6則形成於絕緣薄膜27上。進一步將磁性薄膜5與6的自旋 方向設定成預定的方向,以便彼此相符。在這種情況下, 使磁性薄膜26的自旋方向變成平行或反平行於磁性薄膜5 與6之自旋方向,從而寫入「0」或「1」資料。 在此一具體實施例中,第一具體實施例係應用於使用 MRAM單元形成單元陣列的情況,其中每一 MRAM單元具有 一 TMR元件與單元電晶體MC-TR。 如圖8所示,MRAM 10包含記憶陣列MCA1與MCA2,開關群 SGP1至SGP8,歹ij解碼器ROWDEC1至ROWDEC4,行解碼器 COLDEC1 與 COLDEC2,與讀取 / 寫入部分 RD/WR_SEC。 每一記憶陣列MCA1與MCA2具有以矩陣方式排列之(6X 6) MRAM單元MC。各個MRAM單元MC排列於寫入字線WR-WL1 82191-930915.DOC -32- 發明說明續頁 1275091 ㈤ 至WR-WL6與垂直於窝入字線WR_WL1S WR_WL6之次感測線 SSL1至SSL6之交叉點上。顯然,包含於每一記憶陣列MCA1 與MCA2之記憶單元的數目不限於(6 X 6)。此一 MRAM單元 MC具有如圖7A與7B或圖與所示之結構。圖7A中的寫入 字線WR-WL連接到圖8中的寫入字線WR-WL1至WR-WL6其中 之一,而圖7A中之次感測線SSL則連接到圖8中的次感測線 SSL1至SSL6立中之一。此外’每一行上之各個MRAM早元的 讀取字線RD-WL係連接到共同讀取字線RD-WL1至RD_WL6其 中之一。 開關群SGP1與SGP2分別具有六個開關電晶體S11至S16與 六個開關電晶體S21至S26。每一開關電晶體S11至S16之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器R0WDEC1,而每 一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列 MCA1中之每一寫入字線WR-WL1至WR-WL6的一端。每一開 關電晶體S21至S26之閘極,與源極與汲極之一 ’連接到列解 碼器R0WDEC2,而每一開關電晶體之其他源極與汲極,則 連接到記憶單元陣列MCA1中之每一寫入字線WR-WL1至 WR-WL6的其他端。 開關群SGP3與SGP4分別具有六個開關電晶體S31至S36與 六個開關電晶體S41至S46。開關電晶體S31至S36之閘極連接 到行解碼器C0LDEC1,而每一開關電晶體之其他源極與汲 極,則連接到記憶陣列MCA1中之每一次感測線SSL1至SSL6 的一端。開關電晶體S41至S46之閘極連接到行解碼器 C0LDEC1 〇每個這些開關電阻器之源極與汲極之一連接到 82191-930915.DOC -33- 1275091 ____ (29) 發明說明續頁 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA1中每個次感測線SSL1至SSL6之其他 端。 開關群SGP5與SGP6分別具有六個開關電晶體S51至S56與 六個開關電晶體S61至S66。每一開關電晶體S51至S56之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器ROWDEC3,而每 一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列 MCA2中之每一寫入字線WR-WL1至WR-WL6之一端。每一開 關電晶體S61至S66之閘極,與源極與汲極之一,連接到列解 碼器ROWDEC4,而每一開關電晶體之其他源極與汲極,則 連接到記憶單元陣列MCA2中之每一寫入字線WR-WL1至 WR-WL6之其他端。 開關群SGP7與SGP8分別具有六個開關電晶體S71至S76與 六個開關電晶體S81至S86。開關電晶體S71至S76之閘極連接 到行解碼器COLDEC2,而每個開關電晶體之其他源極與汲 極,則連接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至 SSL6之一端。開關電晶體S81至S86之閘極連接到行解碼器 COLDEC2 〇每個這些開關電晶體之源極與沒極之一連接到 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線sslI至SSL6之其 他端。 列解碼器ROWDEC1與ROWDEC2控制開關群SGP1與SGP2中 的開關電晶體。在寫入操作中,電流係供應至記憶陣列 MCA1中選擇之寫入字線WR-WL1至WR_WL6其中之一。在讀 82191-930915.DOC -34- 1275091 (30) 發明說明績頁 取操作中,列解碼器ROWDEC1選擇記憶陣列MCA1中的讀取 字線RD-WL1至RD-WL6其中之一,並施加一電壓至所選擇之 讀取字線,其中施加之電壓等於或高於單元電晶體MC-TR 之臨界電壓。 列解碼器ROWDEC3與ROWDEC4控制開關群SGP3與SGP4中 的開關電晶體。在寫入操作中,電流係供應至記憶陣列 MCA2中選擇之寫入字線WR-WL1至WR-WL6其中之一。在讀 取操作中,列解碼器ROWDEC3選擇記憶陣列MCA2中的讀取 字線RD-WL1至RD-WL6其中之一,並施加一電壓至所選擇之 讀取字線,其中施加,之電壓等於或高於單元電晶體MC-TR 之臨界電壓。 行解碼器COLDEC1控制包含於開關群SGP3與SGP4中的開 關電晶體。行解碼器COLDEC2控制包含於開關群SGP7與SGP8 中的開關電晶體。每一行解碼器決定次感測線SSL1至SSL6 的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之間切換。 如上所述,主感測線MSL連接到讀取/寫入部分 RD/WR—SEC,其中12次感測線SSL1至SSL6與SSL1至SSL6經由 開關群SGP4至SGP8,連接到主感測線MSL。讀取/寫入部分 RD/WR一SEC包含寫入開關電晶體S200,讀取開關電晶體 S300,寫入電流源11,與感測電路12。在寫入操作中,寫入 開關電晶體S200將主感測線MSL設定在接地電位。窝入開關 電晶體S200與讀取開關電晶體S300之閘極,分別連接到分別 輸入寫入控制信號與讀取控制信號之寫入控制信號線 82191-930915.DOC -35- 發明說明續頁 1275091 (30 WR—CN丁與讀取控制信號線RD_CNT〇感測電路12具有一運算 放大器13與電阻元件14。運算放大器運算放大器13具有一連 接到電源供應電位之非反轉輸入端,經由讀取開關電晶體 S300連接主感測線MSL之反轉輸入端,與一輸出端。電阻元 件14具有連接至運算放大器13之反轉輸入端的一端,與連 接至運算放大器13之輸出端的其他端。在讀取操作中,感 測電路12使用電阻元件14,經由讀取開關電晶體S300,將從 主感測線MSL輸入的讀取電流Iread轉換成電壓,並將其輸出 為讀取電壓Vout。 接著,將敘述具有上述排列之MRAM的操作。首先將藉由 例證將資料寫入記憶單元MC66中的情況,敘述寫入操作, 其中記憶單元MC66位於記憶體陣列MCA2中之次感測線 SSL6與字線WL6的交叉點。 首先,行解碼器COLDEC2將開關群SGP8中的開關電晶體 S86打開,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL6連接到主感 測線MSL。行解碼器COLDEC2亦將開關群SGP7中的開關電晶 體S76打開,以施加一寫入電壓至次感測線SSL6。此外,藉 由施加寫入控制信號到寫入控制信號線WR_CNT,將寫入開 關電晶體S200打開。以此一操作,寫入電流Iwrite從次感測 線SSL6流到主感測線MSL。注意,開關群SGP8中的開關電晶 體S81至S85,開關群SGP7中的開關電晶體S71至S75,與開關 群SGP4中的所有開關電晶體,均設定為關(OFF)的狀態。開 關群SGP3中的開關電晶體可以設定成開(ON)狀態,或關 (OFF)狀態。 82191-930915.DOC -36- 發明說明續頁 1275091 ⑼ 列解碼器R0WDEC3與R0WDEC4打開開關群SGP5中的開關 電晶體S56與開關群SGP6中的開關電晶體S66。然後,電流從 列解碼器R0WDEC3—邊,或列解碼器R0WDEC4—邊,供應 到寫入字線WR-WL6。依據流經寫入字線WR-WL6之電流的方 向,將「〇」或「1」資料寫入記憶單元MC66中。注意,開 關群SGP5中之開關電晶體S51至S55,與開關群SGP6中之開關 電晶體S61至S65,係設定成關(OFF)的狀態。開關群SGP1與 SGP2中的開關電晶體可以設定成開(ON)狀態或關(OFF)狀 態。 其次,將藉由例證從記憶單元MC66讀取資料的情況,敘 述讀取操作。 首先,行解碼器C0LDEC2打開開關群SGP8中的開關電晶體 S86,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL6連接到主感測線 MSL。行解碼器C0LDEC2也將開關群SGP7中的開關電晶體 S76關閉。連接到主感測線MSL之剩下的開關電晶體S81至 S85,與開關群SGP4中之所有開關電晶體均設定成關(OFF) 的狀態。藉由將開關群SGP7中之開關電晶體S71至S75設定成 開(ON)的狀態,將未選擇之次感測線SSL1至SSL5設定成接 地電位。開關群SGP3中的開關電晶體可以設定成開(ON)的 狀態或關(OFF)的狀態。 此外,.藉由供應讀取控制信號至讀取控制信號線RD_CNT 以打開讀取開關電晶體S300,以便將感測電路12連接至主感 測線MSL。 接著,列解碼器R0WDEC3施加一電壓至讀取字線 82191-930915.DOC -37- 發明說明續頁 1275091 (33) RD-WL6,以打開記憶單元MC66中的單元電晶體MC-TR。在 此一情況中,剩下的讀取字線RD-WL1與RD-WL5,與所有寫 入字線WR-WL1至WR-WL6均設定成接地電位或浮動狀態。 既然主感測線MSL實際上是設定成電源供應電位,讀取電 流Iread經由次感測線SSL6,從主感測線MSL流到記憶單元 MC66。此一讀取電流Iread被電阻元件14轉換成電壓。接著, 電壓被輸出成從運算放大器13之輸出端輸出的讀取電壓 Vout 〇 如上所述,根據本發明之第四具體實施例之MRAM,可以 獲得與第一具體實施例中敘述之效應相同的效應,在第一 具體實施例中,該MRAM包含一 TMR元件與單元電晶體。顯 然,包含TMR元件與單元電晶體之記憶單元,可以應用於 第二與第三具體實施例。 接下來,將參考圖9A與9B敘述根據本發明第五具體實施 例之半導體記憶裝置。圖9A是MRAM單元之等價電路圖。圖 9B是該單元之剖面圖。 如圖9A與9B所示,MRAM單元係僅由一 TMR元件所形成。 更具體地說,當作感測線SL之金屬互連層30係形成於介電 夾層2中,而介電夾層2則形成於石夕基板1上。作為寫入字線 WR-WL之金屬互連層31,係在與感測線SL相同的水平上形 成,以與感測線SL平行。TMR元件係形成於介電夾層2中, 以便經由金屬互連層32與33連接到感測線SL,並與主字線 WR-WL鄰接。TMR元件具有形成於金屬互連層33上的磁性薄 膜5,形成於磁性薄膜5上的絕緣膜4,與形成於絕緣膜4上 82191-930915.DOC -38- 發明說明續頁 1275091 ㈣ 的磁性薄膜6。當作讀取字線RD-WL之金屬互連層34係形成 於介電夾層2中,以於垂直於字線SL的方向上延伸,以便電 氣地連接到磁性薄膜6。 其次,將敘述上述MRAM單元之寫入/讀取方法。在寫入 操作中,電流係供應到寫入字線WR-WL與讀取字線RD-WL。 藉由控制流經讀取字線RD-WL之電流的方向,使磁性薄膜5 與6之自旋方向平行或反平行。以此一操作,寫入「0」或 「1」資料。在資料讀取操作中,電壓係施加到讀取字線 RD-WL。藉由擷取流經感測線SL之電流,從MRAM讀取資料。 將寫入字線WR-WL新加入到上述MRAM元件。因此,在寫 入操作中,只有供應到讀取字線RD-WL之電流直接流進 MRAM單元。這使其可能抑制寫入操作中,施加於TMR元件 上的電子應力,因此改善了 MRAM元件的可靠性。注意宜使 用相同水平的金屬互連層,作為寫入字線WR-WL與感測線 SL。在此一情況中,可以在相同的步騾中,圖案化金屬互 連層30與31,因此可以簡化製造過程。 圖9C是具有不同於圖9B所示之結構的MRAM單元的剖面 圖。如圖9C 所示,在圖9B所示的結構中,磁性薄膜26係形 成於絕緣膜4上,絕緣膜27係形成於磁性薄膜26上,而磁性 薄膜6則形成於絕緣膜27上。進一步將磁性薄膜5與6的自旋 方向設定成預定的方向,以便彼此相符。用於此一結構之 寫入/讀取方法,與用於圖9B所示之結構者相同,除了磁性 薄膜26的自旋方向是在寫入操作中控制。藉由使磁性薄膜 82191-930915.DOC -39- 發明說明讀頁 1275091 (35) 26的自旋方向平行或反平行於磁性薄膜5與6的自旋方向’ 寫入「0」或「1」資料。如圖9C所示之結構,可以獲得比 圖9B所示之結構更高的MR比。 接下來,將參考圖1〇,敘述根據本發明之第六具體實施 例的半導體記憶裝置。圖10係MRAM之方塊圖。在此一具體 實施例中,第一具體實施例係應用於使用根據第五具體實 施例之MRAM單元所形成之單元陣列的情況。 如圖10所示,MRAM 10包含記憶陣列MCA1與MCA2。開關 群SGP1至SGP8,列解碼器ROWDEC1至ROWDEC4,行解碼器 COLDEC1與COLDEC2,讀取部分RD_SEC,與寫入列解碼器 WRITE-ROWDEC。 每一記憶陣列MCA 1與MCA2具有以矩陣形式排列之(6 X 6) MRAM單元MC。各個MRAM單元MC排列於複數個讀取字線 RD_WL1至RD-WL6與垂直於讀取字線RD-WL1至RD-WL6之次 感測線SSL1至SSL6之交叉點上。顯然,包含於每一記憶陣 列MCA1與MCA2之記憶單元MC的數目不限於(6 X 6)。此一 MRAM單元MC具有如圖9A與9B或圖9A與9C所示之結構。圖 9A中的寫入字線RD-WL連接到圖10中的讀取字線RD-WL1至 RD-WL6其中之一,而圖9A中之次感測線SL則連接到圖10次 感測線SSL1至SSL6其中之一。此外,每一列上各個MRAM單 元的寫入WRL係連接到共同寫入WR-WL1至WR-WL6其中之 一。注意寫入字線WR-WL1至WR-WL6係共同地連接到記憶陣 列MCA1與MCA2。每一寫入字線WR-WL1至WR-WL6之一端係 接地,而其他端則連接到寫入行解碼器WRITE-ROWDEC。 82191-930915.DOC -40- 發明說明續頁 1275091 ㈤ 開關群SGP1與SGP2分別具有六個開關電晶體S11至S16與 六個開關電晶體S21至S26。每一開關電晶體S11至S16之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器R0WDEC1,而每 一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列 MCA1中之每一讀取字線RD-WL1至RD-WL6的一端。每一開關 電晶體S21至S26之閘極,與源極與汲極之一,連接到列解碼 器R0WDEC2 ’而每一開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA1中之每一讀取字線RD-WL1至 RD-WL6的其他端。 開關群SGP3與SGP4分別具有六個開關電晶體S31至S36與 六個開關電晶體S41至S46。開關電晶體S31至S36之閘極連接 到行解碼器COLDEC1。每個這些開關電晶體之源極與汲極 其中之一,連接到接地電位,而每一開關電晶體之其他源 極與汲極,則連接到記憶陣列MCA1中之每一次感測線SSL1 至SSL6的一端。開關電晶體S41至S46之閘極連接到行解碼器 C0LDEC1 〇每個這些開關電阻器之源極與沒極之一連接到 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA1中每個次感測線SSL1至SSL6之其他 端。 開關群SGP5與SGP6分別具有六個開關電晶體S51至S56與 7T個開關電晶體S61至S66。母一開關電晶體S51至S56之閘 極,與源極與汲極之一,連接到列解碼器R0WDEC3,而每 一開關電晶體之其他源極與汲極,則連接到記憶單元陣列 MCA2中之每一讀取字線RD-WL1至RD-WL6之一端。每一開關 82191-930915.DOC -41 - 1275091 (37) 發明說明績頁 電晶體S61至S66之閘極,與源極與汲極之一,連接到列解碼 器ROWDEC4,而每一開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA2中之每一讀取字線RD-WL1至 RD-WL6之其他端。 開關群SGP7與SGP8分別具有六個開關電晶體S71至S76與 六個開關電晶體S81至S86。開關電晶體S71至S76之閘極連接 到行解碼器COLDEC2。每個這些開關群之源極與汲極之一 連接到接地電位,而每個開關電晶體之其他源極與汲極, 則連接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至SSL6 之一端。開關電晶體S81至S86之閘極連接到行解碼器 COLDEC2 〇每個這些開關電晶體之源極與汲極之一連接到 主感測線MSL,而每個開關電晶體之其他源極與汲極,則連 接到記憶單元陣列MCA2中之每一次感測線SSL1至SSL6之其 他端。 列解碼器ROWDEC1至ROWDEC4控制包含於開關群SGP1, SGP2,SGP5,與SGP6中的開關電晶體,並施加一預定之電 位至讀取字線RD-WL1至RD-WL6。 行解碼器COLDEC1控制包含於開關群SGP3與SGP4中的開 關電晶體,而行解碼器COLDEC2控制包含於開關群SGP7與 SGP8中的開關電晶體。每一列解碼器決定次感測線SSL1至 SSL6的電位,並於主感測線MSL之連接與不連接之間切換。 在寫入操作中,使用寫入列解碼器WRITE-ROWDEC,以供 應一寫入電流給寫入字線WR-WL1至WR-WL6其中之一。 主感測線MSL連接到讀取部分RD-SEC,其中12次感測線 82191-930915.DOC -42- 發明說明績頁 1275091 (3S) SSL1至SSL6與SSL1至SSL6經由開關群SGP4至SGP8,連接到主 感測線MSL。讀取部分RD—SEC包含一讀取開關電晶體S300 與一感測電路12。感測電路12經由讀取開關電晶體S300,連 接到主感測線MSL。讀取開關電晶體S300之閘極連接到輸入 讀取控制信號的讀取控制信號線RD_CNT。感測電路12與第 一具體實施例中的感測電路相同,因此將省略其敘述。 接著,將敘述具有上述排列之MRAM的操作。首先將藉由 例證將資料寫入記憶單元MC66中的情況,敘述寫入操作, 其中記憶單元MC66位於記憶體陣列MCA2中之次感測線 SSL6與字線WL6的交叉點。 首先,行解碼器C0LDEC2將開關群SGP7與SGP8中的所有開 關電晶體關閉。注意開關群SGP4中的所有開關電晶體均設 定成關(OFF)的狀態,而開關群SGP3中的開關電晶體則可以 是開(ON)的狀態或關(OFF)的狀態。 接著,寫入列解碼器WRITE-ROWDEC供應一電流至寫入字 線 WL-WL6。 列解碼器R0WDEC3與R0WDEC4打開開關群SGP5中的開關 電晶體S56與開關群SGP6中的開關電晶體S66。列解碼器 R0WDEC3或R0WDEC4供應一電流至讀取字線RD-WL6。流經 讀取字線RD-WL6之電流,在讀取字線RD-WL6的周圍形成一 磁場。依據流經讀取字線RD-WL6之電流的方向,將「0」或 「1」資料寫入記憶單元MC66中。注意,開關群SGP8中之開 關電晶體S81至S85,與開關群SGP6中之開關電晶體S61至 S65,係設定成關(OFF)的狀態。開關群SGP1與SGP2中的開關 電晶體可以設定成開(ON)狀態或關(OFF)狀態。 82191-930915.DOC -43- 1275091 _ (39) 發明說明續頁 其次’將藉由例證從記憶單元MC66讀取資料的情況,敘 述讀取操作。 首先,列解碼器ROWDEC3打開開關群SGP5中的開關電晶 體S56,而列解碼器ROWDEC4則關閉開關群SGP6中的開關電 晶體S66。接著施加一電壓Vread至記憶陣列MCA2中的讀取 字線RD-WL6。在此一情況中,所有剩下的讀取字線RD-WL1 至RD-WL5均設定成接地電位或浮動狀態。 行解碼器COLDEC2接著打開開關群SGP8中的開關電晶體 S86,以將記憶陣列MCA2中的次感測線SSL6連接到主感測線 MSL。行解碼器COLDEC2也將開關群SGP7中的開關電晶體 S76關閉。連接到主感測線MSL之剩下的開關電晶體S81至 S85,與開關群SGP4中之所有開關電晶體均設定成關(〇FF) 的狀態。此外,藉由將開關群SGP7中之開關笔晶體S71至S75 設定成開(ON)的狀態,將未選擇之次感測線SSL1至SSL5設 定成接地電位。開關群SGP3中的開關電晶體可以設定成開 (ON)的狀態或關(OFF)的狀態。 此外,供應讀取控制信號至讀取控制信號線RD-C1S[T以打 開讀取開關電晶體S300,以便將感測電路12連接至主感測線 MSL。 結果,在電壓Vread的應用上,讀取電流1read經由次感測 線SSL6,從記憶單元MC66流到主感測線MSL。接著,電阻 元件14將讀取電流Iread轉換成一電壓。此一電壓被輸出成伙 運算放大器13之輸出端的讀取電壓^ Vout ° 如上所述,根據本發明之第六具體實施例之MRAM,可以 82191-930915.DOC -44- 1275091 (40) 發明說明續頁 獲得第一與第五具體實施例中所敘述的效應。 接下來,將參考圖11A,敘述根據本發明之第七具體實施 例的半導體記憶裝置。圖11A是顯示MRAM之一區域之剖面 結構的圖,而更具體地說,是沿著圖2,5,與6中之區域AA1 至AA3其中之一的次感測線SSL1所採取的剖面圖。 如圖11A所示,開關電晶體S31與當作行解碼器COLDEC1 之一部份的MOS電晶體,係形成於矽基板1的元件區域中。 開關電晶體S31具有雜質擴散層40a與40b與閘極電極41。雜 質擴散層40a與40b係形成於矽基板1中,以便彼此分隔開 來,並當作源極與汲極區域。閘極電極41係形成於矽基板1 上,其間插入閘極絕緣膜(未顯示)。當作行解碼器COLDEC1 之一部分的MOS電晶體也具有形成於矽基板1之中的雜質 擴散層42a與42b,以便彼此分隔,並作為源極與汲極區域, 而閘極電極43則形成於矽基板1上,其間插入一閘極絕緣膜 (未顯示)。介電夾層2係形成於矽基板1上,以覆蓋這些電晶 體。開關電晶體S31之源極與汲極區域(40a)其中之一,係經 由形成於介電失層2中的金屬互連層44與45,連接到接地電 位。次感測線SSL1係形成於介電夾層2中,以便延伸到整個 行解碼器COLDEC1,並電氣地連接到開關電晶體S31之其他 源極與汲極區域(40b)。複數個MRAM單元形成於次感測線 SSL1上,其中每個具有夾在磁性薄膜5與6之間的絕緣膜4。 字線WL6至WL3 (或次字線SWL6至SWL3)係形成於每一 MRAM單元上。
在上述結構中,開關電晶體與行解碼器係形成於MRAM 82191-930915.DOC -45 - 1275091 (41) 發明說明續頁 單元下面的空虛區域。這使其可能減少由MRAM所佔據的面 積,並減少晶片尺寸。 圖11B係顯示MRAM之一區域之剖面結構的圖,其係根據 此一具體實施例之修改,而更具體地說,是沿著圖5與6中 的AA4與AA5區域其中之一的次字線SWL2所採取的剖面圖。 如圖11B所示,開關電晶體S12與當作列解碼器ROWDEC1 之一部份的MOS電晶體,係形成於矽基板1的元件區域中。 開關電晶體S12具有雜質擴散層47a與47b與閘極電極48。雜 質擴散層47a與47b係形成於矽基板1中,以便彼此分隔開 來,並當作源極與汲極區域。閘極電極48係形成於矽基板1 上,其間插入閘極絕緣膜(未顯示)。當作列解碼器ROWDEC1 之一部分的MOS電晶體也具有形成於矽基板1之中的雜質 擴散層49a與49b,以便彼此分隔,並作為源極與汲極區域, 而閘極電極50則形成於矽基板1上,其間插入一閘極絕緣膜 (未顯示)。介電夬層2係形成於矽基板1上,以覆蓋這些電晶 體。主字線MWL1係形成介電夾層2中。開關電晶體S12之源 極與汲極(47b)之一,與當作列解碼器ROWDEC1 —部分之 MOS電晶體的源極與汲極區域(49b)之一,係經由金屬互連 層51,連接到主字線MWL1。次感測線SSL1至SSL3係形成於 介電爽層2上。MRAM單元形成於次感測線SSL1至SSL3上, 每一個具有夾在磁性薄膜5與6之間的絕緣膜4。介電爽層56 進一步形成於介電夾層2上。各個MRAM單元通用的次字線 SWL係形成於介電夾層56上。次字線SWL2經由金屬互連層51 至55,連接到開關電晶體S12之其他源極與汲極區域(47a), 82191-930915.DOC -46- 1275091 (42) 發明說明續頁 其中金屬互連層51至55形成於介電夾層2與56中。 根據上述結構,開關電晶體,列解碼器,與主字線係形 成於MRAM單元下面的空虛區域中。換句話說,MRAM單元 與其周邊電路是如此排列,以於垂直矽基板的表面的方向 上重疊。這使其可能減少MRAM所佔據的區域,並減少晶片 尺寸。顯然,可以以不同於MRAM單元的水平,形成寫入列 解碼器WRITE-ROWDEC或主感測線MSL,並獲得如上述之相 同效應。此外,讀取/寫入部分RD/WR—SEC與其他周邊電路, 可以和列解碼器與行解碼器一樣,形成於每一 MRAM單元下 面的區域中。即使是當作主字線,主感測線,與其類似之 物的金屬互連層是形成於每一 MRAM單元上面,而不是下 面,也可以獲得面積減少效應。 如上所述,根據本發明之第一至第七具體實施例的 MRAMs,藉由將感測線排列成包含主感測線與次感測線之 層狀位元線結構,將記憶單元陣列分割成陣列。根據本發 明之第二至第七具體實施例,字線也排列成包含主字線與 次字線的層狀字線結構,以將記憶單元陣列分割成陣列。 以此一結構,在讀取操作中,在感測線上與選擇之記憶單 元並存的寄生阻抗可以降低。這使其可能有效率地從選擇 之單元供應一讀取電流至感測電路,因而抑制電流消耗的 增加。此外,即使記憶單元數目增加,可以保持高的資料 讀取精確度。因此,可以進一步增進MRAM的整合程度。 根據第三具體實施例的MRAM,連接到次字線的開關群之 82191-930915.DOC -47- 1275091 (43) 發明說明續頁 一係連接到接地電位。這些開關群係排列成彼此鄰接,以 減少互連的數目與所佔據的面積。 根據第五與第六具體實施例之MRAMs,僅由一 TMR元件所 形成之MRAM單元,額外具有不直接連接到TMR元件之寫入 字線。這使其可能減少寫入操作中,施加在TMR元件上的 應力,並改善MRAM的可靠性。 根據第七具體實施例的MRAM,每一開關電晶體與周邊電 路,如解碼器,係排列於每一 MRAM單元下面的空虛區域。 此外,次字線,主字線,次感測線,與主感測線係使用不 同的互連層來形成。結果,可以減少MRAM所佔據的面積, 並減少晶片尺寸。 注意,本發明之具體實施例可以普遍與廣泛地應用於半 導體裝置,此一半導體裝置具有放置於兩互連之交叉點上 的每一個單元與MRAM。根據第一至第七具體實施例,每一 解碼器與每一開關群係以不連續的組件來處理。可是,每 一開關群可以併入每一解碼器。此外,各個具體實施例可 以組合使用。 圖12A係一顯示MRAM的方塊圖,其為第二與第六具體實 施例之結合。如圖12A所示,在第六具體實施例中,使用層 狀字線結構以將記憶單元陣列分割成四個陣列。各個記憶 陣列MCA1至MCA4中的次字線SWL1至SWL6係用作讀取字 線。以此一排列,可以獲得第二與第六具體實施例中所敘 述的效應。 圖12B係一顯示MRAM的方塊圖,其為第三與第六具體實 82191-930915.DOC -48- 發明說明續頁 1275091 ⑼ 施例的結合。如圖12B所示,在圖12A所示之MRAM中,連接 到次字線SWL1至SWL6之開關群其中之一係連接到接地電 位,而且這些開關群係排列成彼此鄰接。這使其可能獲得 第三與第六具體實施例中所敘述的效應。 熟諳此藝之士將迅速了解額外的優點與修改。因此,本 發明之更寬廣的態樣並不受限於本文中所顯示與敘述的特 定細節與代表性具體實施例。因此,可以做各種修改而不 脫離延伸申請專利範圍所定義,以及與其相當之一般發明 觀念的精神或範圍。 圖式簡單說明 圖1A係一方塊圖,顯示傳統之磁阻隨機存取記憶體 (MRAM); 圖1B係一方塊圖,顯示傳統之MRAM,而更特定言之,顯 示讀取操作中,寄生阻抗如何存在感測線中; 圖2係一方塊圖,顯示根據本發明之第一具體實施例的 MRAM ; 圖3A係一 MRAM單元之等價電路圖,其係根據本發明之第 一具體實施例; 圖3B與3C係圖3A中之MRAM單元的剖面圖; 圖4A係MRAM單元之等價電路圖,其係根據本發明之第一 具體實施例; 圖4B與4C係圖4A中之MRAM單元的剖面圖; 圖5係一方塊圖,顯示根據本發明之第二具體實施例之 MRAM ; 82191-930915.DOC -49- 發明說明績頁 1275091 ⑼ 圖6係一方塊圖,顯示根據本發明之第三具體實施例之 MRAM ; 圖7A係一 MRAM單元之等價電路圖,其係根據本發明之第 四具體實施例; 圖7B與7C係圖7A中之MRAM單元的剖面圖; 圖8係一方塊圖,顯示根據本發明之第四具體實施例之 MRAM ; 圖9A係一 MRAM單元之等價電路圖,其係根據本發明之第 五具體實施例; 圖9B與9C係圖9A中之MRAM單元的剖面圖; 圖10係一方塊圖,顯示根據本發明之第六具體實施例之 MRAM ; 圖11A係一 MRAM之剖面圖,其係根據本發明之第七具體 實施例; 圖11B係MRAM之剖面圖,其係根據本發明之第七具體實 施例之修改;及 圖12A至12B係MRAMs的剖面圖,其係根據本發明之第六 具體實施例之第一與第二修改。 圖式代表符號說明 MC11 〜MCm4 WL,WL1 〜WLm SL, SL1〜SL4 100-1〜100-4 S500 S600 110, 11 120, 12 130, 13 磁阻隨機存取記憶體單元 字線 感測線 讀取/寫入部分 寫入開關 讀取開關 寫入電流源 感測電路 運算放大器 82191-930915.DOC 50- 1275091 ⑽ 發明說明續頁
140, 14 S401〜S404 150, 160-1〜160-n 10 MCA1,MCA2 SGP1 〜SGP16, SW-GROUP15 RO WDEC hROWDEC4 COLDEC1,COLDEC2 RD/WR_SEC MC SSL, SSL1〜SSL6 3, 23, 24, 30, 31,44, 45, 51 〜55 2, 56 1 4, 27 5, 6, 26 SI卜S16, S21〜S26, S31〜S33, S41〜S43, S51〜S56, S61〜S66, S71〜S73, S81〜S83, S91〜S96, S101〜S106, S1U〜S113, S121 〜S123 MSL S200 S300 WR_CNT RD_CNT SWL1 〜SWL6 MC-TR 20a 20b 21,41,43, 48, 50 RD-WL1 〜RD-WL6 WR-WL 卜 WR-WL6 WRITE-ROWDEC 40a,40b,42a,42b, 47a, 47b,49a,49b MOS 電流/電壓轉換器(電阻元件) 接地開關 寄生阻抗網路 磁阻隨機存取記憶體 記憶單元陣列 開關群 列解碼器 行解碼器 讀取/寫入部分 記憶單元 次感測線 金屬互連層 介電夬層 碎基板 絕緣膜 磁性薄膜 開關電晶體 主感測線 寫入開關電晶體 讀取開關電晶體 寫入控制信號線 讀取控制信號線 次字線 磁阻隨機存取記憶單元電晶體 源極區域 沒極區域 閘極電極 讀取字線 寫入字線 寫入列解碼器 雜質擴散層 金屬氧化物半導體電晶體 82191-930915.DOC -51 -

Claims (1)

1275091! ..二ϋ I 拾、申請專利範圍 1. 一種半導體記憶裝置,包括: 一記憶單元陣列,其以矩陣的形式排列,而在 單元陣列中,每一個記憶單元包含具有第一與第 層的磁阻元件,與形成於第一與第二磁性層之間 絕緣層; 字線,其連接該記憶單元陣列的每一列上之記 的第一磁性層; 次感測線,其連接該記憶單元陣列的每一行上 單元的第二磁性層; 一主感測線,其連接每一個該次感測線; 一列解碼器,其選擇該記憶單元陣列之字線; 一行解碼器,其選擇該記憶單元陣列之次感測 一第一開關元件,其將該行解碼器選擇之次感 連接到該主感測線; 一讀取電路,其經由該主感測線,從該列解碼 解碼器選擇之記憶單元,讀取出資料;及 一寫入電路,其經由該主感測線,將資料寫入 碼器與行解碼器選擇之記憶單元中。 2. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中 該第一開關元件包含第一 MOS電晶體,其中第 電晶體形成於半導體基板上, 該記憶單元陣列係形成於一介電爽層上,而此 夬層則形成於該半導體基板上,以便覆蓋該第一 晶體,及 82191-930915.DOC 該記憶 二磁性 的第一 憶單元 之記憶 線; 測線, 器與行 該列解 一 MOS 一介電 MOS電 申請專利範圍續頁 1275091 至少部分該記憶單元陣列在垂直於半導體基板的方向 上,與該第一 MOS電晶體重疊。 3. 如申請專利範圍第2項之裝置,其中 該列解碼器與行解碼器分別包含第二與第三MOS電晶 體,其形成於半導體基板上,並由介電夾層所覆蓋,及 至少部分該記憶單元陣列在垂直於半導體基板之表面 的方向上,與至少該第二與第三MOS電晶體其中之一重 疊。 4. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該磁阻元件進一步包 括: 一第三磁性層’其形成於第一絕緣層與第二磁性層之 間;及 一第二絕緣層,其形成於第三磁性層與第二磁性層之 間。 5. 如申請專利範圍第1項之裝置,進一步包括第二開關元 件,其將該行解碼器選擇之次感測線,連接到第一電位 節點。 6. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該寫入電路包括: 一電流源,其於將資料寫入記憶單元時,供應一寫入 電流至該主感測線;及 第三開關元件,其於將資料寫入記憶單元時,將該電 流源連接到該主感測線;並在從記憶單元感測資料時, 使該電流源從該主感測線中斷。 7. 如申請專利範圍第1項之裝置,其中該讀取電路包括: 82191-930915.DOC -2- 申請專利範圍續頁 1275091 一感測電路,其在從記憶單元讀取出資料時,將流經 該主感測線之讀取電流,轉換成一電壓;及 第四開關元件,其在從記憶單元讀取出資料時,將該 感測電路連接到該主感測線;並於將資料寫入記憶單元 時,使該感測電路從該主感測線中斷。 8. 如申請專利範圍第7項之裝置,其中該感測電路包括: 一運算放大器,其具有連接到第二電位節點的第一輸 入端,與經由該第四開關元件,連接到該主感測線的第 二輸入端,與一輸出端;及 一電阻元件,其具有連接到第二輸入終端的一端,與 連接到該運算放大器之輸出終端的另一端。 9. 如申請專利範圍第8項之裝置,其中該電阻元件具有實質 上與該磁阻元件相同的結構。 10. —種半導體記憶裝置,包括: 一記憶單元陣列,其以矩陣的形式排列,而在該記憶 單元陣列中,每一個記憶單元包含具有第一與第二磁性 層的磁阻元件,與形成於第一與第二磁性層之間的第一 絕緣層; 次字線,其連接該記憶單元陣列的每一列上之記憶單 元的第一磁性層; 次感測線,其連接該記憶單元陣列的每一行上之記憶 單元的第二磁性層; 一主字線,其連接每一個該次字線; 82191-930915.DOC 申請專利範圍續頁 1275091 一主感測線,其連接每一該次感測線; 一列解碼器,其選擇該記憶單元陣列之次字線,並供 應電流與電壓其中之一至該主字線; 一行解碼器,其選擇該記憶單元陣列之次感測線; 一第一開關元件,其將該列解碼器選擇之次字線,連 接到該主字線; 一第二開關元件,其將該列解碼器選擇之次感測線, 連接到該主感測線; 一讀取電路,其經由該主感測線,從該列解碼器與行 解碼器選擇之記憶單元,讀取出資料;及 一寫入電路,其經由該主感測線,將資料寫入該列解 碼器與行解碼器選擇之記憶單元中。 11. 如申請專利範圍第10項之裝置,進一步包括一第三開關 元件,其連接該列解碼器選擇之該次感測線到第一電位 節點。 12. 如申請專利範圍第11項之裝置,其中該次字線藉由該第 三開關元件連接之第一電位節點,是兩個鄰接記憶單元 陣列之間分享的共用節點。 13. 如申請專利範圍第10項之裝置,其中 該第一與第二開關元件分別包含第一與第二MOS電晶 體,其形成於半導體基板上, 該記憶單元陣列係形成於一介電夬層上,而此一介電 夾層則形成於半導體基板上,以便覆蓋該第一與第二 MOS電晶體,及 82191-930915.DOC -4- 1275091 申請專利範圍續頁 至少部分該記憶單元陣列在垂直於半導體基板之表面 的万向上’與至少該第—與第二M〇s電晶體其中之 疊。 里 14·如申請專利範圍第13項之裝置,其中 赌及W解碼#與行解碼器分別包含第三與第四電晶 ^其形成於半導體基板上’纟由介電爽層所覆蓋,及 土 y >琢記憶單元陣列在垂直於半導體基板之表面 勺方向上,與至少孩第三與第四m〇s電晶體其中之一重 疊。 15·如申睛專利範圍第1〇項之裝置,其中該磁阻元件進一步 包括: 第二磁性層,其形成於第一絕緣層與第二磁性層之 間;及 第一、、、巴緣層,其形成於第三磁性層與第二磁性層之 間。 16.如申請專利範圍第10項之裝置,進一步包括第四開關元 件,其將該行解碼器選擇之次感測線,連接到第二電位 節點。 Π.如申請專利範圍第10項之裳置,其中該寫入電路包括: 一電流源,其於將資料寫入記憶單元時,供應一寫入 電流至該主感測線;及 第五開關元件’其於將資料寫入記憶單元時,將該電 流源連接到該主感測線;並在從記憶單元讀取資料時, 使該電流源從該主感測線中斷。 82191-930915.DOC 1275091 申請專利範園續頁 18·如申請專利範圍第1〇項之裝置,其中該濱取私路包括: 一感測電路,其在從記憶單元讀取出貝料時,將流經 該主感測線之讀取電流,轉換成一電壓;及 第六開關元件,其在從記憶單元讀取出資料時,將該 感測電路連接到該主感測線;並於將資料寫入記憶單元 時,使該感測電路從該彡感測線中斷。 19·如申請專利範圍第18項之裝置,其中該感測電路包括: 一運算放大器,其具有連接到第三電位節點的第一輸 入端,經由該第六開關元件,連接到咸主感d線的第二 輸入端,與一輸出端;及 一電阻元件,其具有連接到第二輸入終场的一端,與 連接到該運算放大器之輸出終端的另’端。 20·如申請專利範圍第丨9項之裝置,其中戒私阻元件具有貫 質上與該磁阻元件相同的結構。 21. —種半導體記憶裝置,包括: 一記憶單元陣列,其以矩陣的形式排列’而在該記憶 單元陣列中,每一個記憶單元包含具有第一與第二磁性 層的磁阻元件,與形成於第一與第二磁性層 < 間的第一 絕緣層,一第一字線,其電氣地從磁卩且元件獨互出來, 並與第一磁性層鄰接放置,一第二字線’其連接到該第 二磁性層,並以垂直第一字線的方向上延伸’以及一感 測線,其連接到第一磁性層; 寫入字線,其連接該記憶單元陣列的母列上之記憶 單元的第一字線; 82191-930915.DOC 1275091 申請專利範爾續頁 讀取/窝入字線,其連接該記憶單元陣列之每一列上的 第二字線; 次感測線’其連接該記憶單元陣列之每一行上的感測 線; 一主感測線,其連接每一該次感測緩· 歹J解碼斋,其選擇該記憶單元陣沔之讀取/窝入字 線; -寫入列解碼器’其選擇一寫入字線,並於將資料寫 入記憶單元時,供應對應於窝人資料到H線的電流; -行解碼器’其選擇該記憶單元陣列之次感測線; -第:開關元件,其將該行解碼器選擇之次感測線, 連接到該主感測線;及 靖取I路,其經由該主感測線,從該列解碼器與行 解碼备遠擇之記憶單元,讀取出資料。 22·如申請專利範圍第21項之裝置,其中 該第一開關元件分別包含第一 M〇s電晶體,其形成於 半導體基板上, Μ記憶單元陣列係形成於一介電夾層i,而此一介電 夾層則形成於半導體基板上,以便覆蓋該第一 MOS電晶 體,及 土少部分孩記憶單元陣列在垂直於半導體基板之表面 的方向上,與該第一 MOS電晶體重疊。 23·如申請專利範圍第22項之裝置,其中 ▲歹〗解碼备與行解碼器分別包含第三與第四M〇s電晶 82191-930915.DOC 1275091 體,其形成於半導體基板上,並由介電爽層所覆蓋,及 至少部分該記憶單元陣列在垂直於半導體基板之表面 的方向上,與至少該第三與第四MOS電晶體其中之一重 疊。 24. 如申請專利範圍第21項之裝置,其中第一字線沿著感測 線平行延伸,並由金屬互連層以和感測線相同的水平形 成。 25. 如申請專利範圍第21項之裝置,其中 感測線之電位設定成浮動狀態,而電流則供應到第一 與第二字線,因此將資料寫入磁阻元件中,及 施加一電壓至第二字線,以供應一電壓至感測線,從 而自磁阻元件讀取出資料。 26·如申請專利範圍第21項之裝置,其中該磁阻元件進一步 包括: 一第三磁性層,其形成於第一絕緣層與第二磁性層之 間;及 一第二絕緣層,其形成於第三磁性層與第二磁性層之 間。 27. 如申請專利範圍第21項之裝置,進一步包括第二開關元 件,其將該行解碼器選擇之次感測線,連接到第一電位 節點。 28. 如申請專利範圍第21項之裝置,其中該讀取電路包括: 一感測電路,其在從記憶單元讀取出資料時,將流經 該主感測線之讀取電流,轉換成一電壓;及 82191-930915.DOC 1275091 申请專利範圍讀頁 第三開關元件,其在從記憶單元讀取出資料時,將該 感測電路連接到該主感測線;並於將資料寫入記憶單元 時,使該感測電路從該彡感測線中斷。 29·如申請專利範圍第28項之裝置’其中該感測電路包括: 一運算放大器,其具有連接到第一電位節點的第一輸 入端,經由該第三開關元件’連接到該主感測線的第二 輸入端,與一輸出端;及 一電阻元件,其具有連接到第二輸入終端的一端,與 連接到該運算放大器之輸出終端的另一端。 30·如申請專利範圍第29項之裝置,其中該電阻元件具有實 質上與該磁阻元件相同的結構。 31· —種半導體記憶裝置,包括·· 一記憶單元陣列,其以矩陣的形式排列,而在該記憶 單元陣列中,每一個記憶單元包含具有第一與第二磁性 層的磁阻元件,與形成於第一與第二磁性層之間的第一 絕緣層,一第一字線,其電氣地從磁阻元件獨立出來, 並與第一磁性層鄰接放置,一第二字線,其連接到該第 二磁性層,並以垂直第一字線的方向上延伸,以及/感 測線,其連接到第一磁性層; 寫入字線,其連接該記憶單元陣列之每一列上的第/ 字線; 謂取/寫入次字線,其連接該記憶單元陣列之每一列上 的第二字線; 次感測線’其連接該記憶單元陣列之每一行上的感測 82191-930915.DOC -9- 申請專利範圍續頁 1275091 線; 一讀取/寫入主字線,其連接每一個該讀取/窝入次字 線; 一主感測線,其連接每一該次感測線; 一列解碼器,其選擇該記憶單元陣列之讀取/寫入次字 線,並供應電流與電壓之一到該讀取/窝入主字線; 一寫入列解碼器,其選擇一寫入字線,並於將資料寫 入記憶單元時,供應對應於寫入資料到寫入字線的電流; 一行解碼器,其選擇該記憶單元陣列之次感測線; 一第一開關元件,其將該列解碼器選擇之讀取/寫入次 字線,連接到該主字線; 一第二開關元件,其將該行解碼器選擇之該次感測 線,連接到該主感測線;及 一讀取電路,其經由該主感測線,從該列解碼器與行 解碼器選擇之記憶單元,讀取出資料。 32·如申請專利範圍第31項之裝置,進一步包括第三開關元 件,其將該列解碼器選擇之讀取/寫入次字線,連接到第 一電位節點。 33·如申請專利範圍第32項之裝置,其中該讀取/寫入次字線 藉由該第三開關元件連接之第一電位節點,是兩個鄰接 記憶單元陣列之間分享的共用節點。 34.如申請專利範圍第31項之裝置,其中 該第一與第二開關元件分別包含第一與第二MOS電晶 體,其形成於半導體基板上, 82191-930915.DOC -10- 1275091 中請專利範圍續頁 該記憶單元陣列係形成於—介電爽層上’而此一介電 夾層則形成於半導體基板上,以便覆蓋該第一與第二 MOS電晶體,及 〜部刀孩記憶草7C陣列在垂直於半導體基板之表面 的万向上’與至少該第—與第:應電晶體其中之一重 疊。 35·如申請專利範圍第34項之裝置,其中 該列解碼器與行解碼器分 ^巴令罘二與罘四MOS電晶 體,其形成於半導體基板上,並由介電夾層所覆蓋,及 至乂部刀琢記憶早疋陣列在垂直於半導體基板之表面 ' 與土少忒第二與第四“⑽電晶體其中之一 疊。 里 36.如申請專利範園第3丨 甘士斤、A ^ Ύ 一 <裝置,其中第一字線沿著感測 、·泉平行延伸,f @ 4 i 田屬互連層以和感測線相同的水平形 成。 37·如申租專利專爸圖链^ 1爸、 视圍罘31項又裝置,其中 感測線之電##令士、、、心 _ 一— 汉 ’予動狀態,而電流則供應到第一 與弟二竽線,因此將資料堂 肘”种寫入磁阻元件中,及 施加一電壓5笛-仝始 ^ 一 、、泉,以供應一電壓:至感測線,從 而自磁阻TL件讀取出資料。 38·如申請專利範圍第3 1置,其中該磁阻元件進一步 包括: 一第二磁性展,立 ^ ^ ^ /、y成於第一絕緣層與第二磁性層之 間,及 82191-930915.DOC 申請專利範圍續頁 1275091 一第二絕緣層,其形成於第三磁性層與第二磁性層之 間。 39·如申請專利範圍第31項之装置,進一步包括第四開關元 件,其將該行解碼器選擇之次感測線,連接到第二電位 節點。 40·如申請專利範圍第31項之裝置,其中該讀取電路包括: 一感測電路,其在從記憶單元讀取出資料時’將流經 該主感測線之讀取電流,轉換成一電麼’及 第五開關元件,其在從記憶單元讀取出資料時,將該 感測電路連接到該主感測線;並於將責料寫入記憶單元 時,使該感測電路從該主感測線中斷。 41·如申請專利範圍第40項之裝置,其中該感測電路包括: 一運算放大器,其具有連接到第三電位節點的第一輸 入端,經由該第五開關元件,連接到該主感測線的第二 輸入端,與一輸出端;及 一電阻元件,其具有連接到第二輸入終端的一端,與 連接到該運算放大器之輸出終端的另’端。 42·如申請專利範圍第41項之裝置,其中該電阻元件具有實 質上與該磁阻元件相同的結構。 82191-930915.DOC 12- 1275091 陸、(一)、本案指定代表圖為··第(二)、本代表圖之元件代表 10 I圖 符號簡單說明 11 12 13 14 磁阻隨機存取記憶體 窝入電流源 感測電路 運算放大器 私現/電壓轉換器(電阻元件) 柒、本案若有化學 ’ 發明特徵的化學式·. 82191-930915.DOC -4-
TW091135286A 2002-02-15 2002-12-05 Semiconductor memory device using magnetoresistive effect TWI275091B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002039086A JP2003242771A (ja) 2002-02-15 2002-02-15 半導体記憶装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW200303019A TW200303019A (en) 2003-08-16
TWI275091B true TWI275091B (en) 2007-03-01

Family

ID=27678218

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091135286A TWI275091B (en) 2002-02-15 2002-12-05 Semiconductor memory device using magnetoresistive effect

Country Status (5)

Country Link
US (1) US7126843B2 (zh)
JP (1) JP2003242771A (zh)
KR (1) KR100518287B1 (zh)
CN (1) CN1288664C (zh)
TW (1) TWI275091B (zh)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030117838A1 (en) * 2001-12-26 2003-06-26 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Thin film magnetic memory device writing data with bidirectional data write current
JP3812498B2 (ja) * 2001-12-28 2006-08-23 日本電気株式会社 トンネル磁気抵抗素子を利用した半導体記憶装置
JP2003242771A (ja) * 2002-02-15 2003-08-29 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US7209378B2 (en) * 2002-08-08 2007-04-24 Micron Technology, Inc. Columnar 1T-N memory cell structure
JP2004213771A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Toshiba Corp 磁気ランダムアクセスメモリ
JP2004280892A (ja) 2003-03-13 2004-10-07 Toshiba Corp 半導体記憶装置及びその制御方法
KR100663358B1 (ko) * 2005-02-24 2007-01-02 삼성전자주식회사 셀 다이오드들을 채택하는 상변이 기억소자들 및 그 제조방법들
KR100819099B1 (ko) * 2006-10-02 2008-04-03 삼성전자주식회사 가변저항 반도체 메모리 장치
WO2010041632A1 (ja) * 2008-10-06 2010-04-15 株式会社日立製作所 半導体装置
JP5404674B2 (ja) 2011-03-02 2014-02-05 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JP6599494B2 (ja) * 2018-02-14 2019-10-30 ウィンボンド エレクトロニクス コーポレーション 半導体記憶装置
WO2022064309A1 (ja) * 2020-09-22 2022-03-31 株式会社半導体エネルギー研究所 半導体装置、及び電子機器
CN116097358A (zh) * 2020-09-25 2023-05-09 株式会社半导体能源研究所 半导体装置及电子设备
US11502091B1 (en) * 2021-05-21 2022-11-15 Micron Technology, Inc. Thin film transistor deck selection in a memory device
KR102542997B1 (ko) * 2022-08-19 2023-06-14 한국과학기술원 메모리 디바이스

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5748554A (en) * 1996-12-20 1998-05-05 Rambus, Inc. Memory and method for sensing sub-groups of memory elements
TW411471B (en) 1997-09-17 2000-11-11 Siemens Ag Memory-cell device
DE19744095A1 (de) 1997-10-06 1999-04-15 Siemens Ag Speicherzellenanordnung
US5852574A (en) * 1997-12-24 1998-12-22 Motorola, Inc. High density magnetoresistive random access memory device and operating method thereof
JP2000020634A (ja) 1998-06-26 2000-01-21 Canon Inc デジタル・アナログ・多値データ処理装置および半導体装置
DE19853447A1 (de) 1998-11-19 2000-05-25 Siemens Ag Magnetischer Speicher
KR100361862B1 (ko) * 1998-12-30 2003-02-20 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리장치 및 이의 센싱전류 감소방법
DE19914489C1 (de) 1999-03-30 2000-06-08 Siemens Ag Vorrichtung zur Bewertung der Zellenwiderstände in einem magnetoresistiven Speicher
JP3415502B2 (ja) * 1999-07-30 2003-06-09 Necエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
US6226208B1 (en) * 1999-12-06 2001-05-01 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device with hierarchical control signal lines
US6483740B2 (en) * 2000-07-11 2002-11-19 Integrated Magnetoelectronics Corporation All metal giant magnetoresistive memory
US6331943B1 (en) * 2000-08-28 2001-12-18 Motorola, Inc. MTJ MRAM series-parallel architecture
US6272041B1 (en) * 2000-08-28 2001-08-07 Motorola, Inc. MTJ MRAM parallel-parallel architecture
JP3737403B2 (ja) 2000-09-19 2006-01-18 Necエレクトロニクス株式会社 メモリセルアレイ、不揮発性記憶ユニットおよび不揮発性半導体記憶装置
TW560095B (en) * 2001-04-02 2003-11-01 Canon Kk Magnetoresistive element, memory element having the magnetoresistive element, and memory using the memory element
US6485989B1 (en) * 2001-08-30 2002-11-26 Micron Technology, Inc. MRAM sense layer isolation
EP1288958A3 (en) * 2001-08-30 2003-07-09 Canon Kabushiki Kaisha Magnetoresistive film and memory using the same
JP4780874B2 (ja) 2001-09-04 2011-09-28 ルネサスエレクトロニクス株式会社 薄膜磁性体記憶装置
JP3812498B2 (ja) 2001-12-28 2006-08-23 日本電気株式会社 トンネル磁気抵抗素子を利用した半導体記憶装置
JP2003242771A (ja) * 2002-02-15 2003-08-29 Toshiba Corp 半導体記憶装置
JP4049604B2 (ja) * 2002-04-03 2008-02-20 株式会社ルネサステクノロジ 薄膜磁性体記憶装置
JP2004213771A (ja) * 2002-12-27 2004-07-29 Toshiba Corp 磁気ランダムアクセスメモリ
US6898134B2 (en) * 2003-07-18 2005-05-24 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Systems and methods for sensing a memory element

Also Published As

Publication number Publication date
KR20030069045A (ko) 2003-08-25
US7126843B2 (en) 2006-10-24
US20030156450A1 (en) 2003-08-21
JP2003242771A (ja) 2003-08-29
KR100518287B1 (ko) 2005-10-04
TW200303019A (en) 2003-08-16
CN1438650A (zh) 2003-08-27
CN1288664C (zh) 2006-12-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10580493B2 (en) Nonvolatile semiconductor memory device with a plurality of memory blocks and a shared block decoder
TWI275091B (en) Semiconductor memory device using magnetoresistive effect
KR100850508B1 (ko) 3차원적으로 배열된 메모리 셀 트랜지스터들을 구비하는낸드 플래시 메모리 장치
JP2020047814A (ja) 半導体記憶装置
KR101036363B1 (ko) 반도체 자성 메모리
KR100735748B1 (ko) 가변성 저항체들을 데이터 저장요소들로 채택하는 메모리셀들을 갖는 반도체 소자들, 이를 채택하는 시스템들 및 그구동방법들
KR100553631B1 (ko) 불휘발성 반도체 기억 장치
WO2006095389A1 (ja) 磁気メモリ装置並びにその読み出し方法及び書き込み方法
JP5664112B2 (ja) メモリセル、半導体メモリおよびシステム
JP2020113702A (ja) 抵抗変化型ランダムアクセスメモリ
TW571310B (en) Current source and drain arrangement for magnetoresistive memories (MRAMs)
JP2002151601A (ja) 半導体記憶装置
US20120068282A1 (en) Semiconductor device and manufacturing method of the same
US7613035B2 (en) Magnetic memory device and method of writing into the same
US7142447B2 (en) Nonvolatile memory device with variable resistance element
JP2002008366A (ja) 磁気ランダムアクセスメモリおよびその製造方法
JP2010165785A (ja) 半導体記憶装置およびその製造方法
JP2005277189A (ja) 磁気記憶装置
US20240155850A1 (en) Memory Device Implementing Unified Memory Architecture Integrating Multiple Memory Types
US11386967B2 (en) Voltage generator and memory device including the same
KR100565113B1 (ko) 자기저항 메모리(mrams)들 전류소스 및 드레인배치
JP5140855B2 (ja) 半導体装置
JP5101084B2 (ja) 磁気メモリセルアレイ素子
JP2024021510A (ja) 磁気メモリ
JPS60140750A (ja) 読み出し専用メモリ

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees