TWI260418B - Inspecting apparatus, inspecting method of LCD array substrate and manufacturing method of LCD - Google Patents

Description

1260418 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明主要與正確測定液晶顯示器陣列基板的電特性、檢出缺陷（不 良）之檢查裝置與檢查方法有關。 【先前技術】 一般的液晶顯示器及其液晶顯示器組裝完成前的液晶單元(Cdl)之 中，陣列基板(Array)與彩色濾光片（Color Filter)基板會以一定間隔對向排 歹4，液晶則是密封在兩基板之間。陣列基板在玻璃基板上面有縱橫的閘極 線與彳§號線等配線，其交叉部位設置有薄膜電晶體(TFT)。TFp閘極電極 接在閘極線上，没極電極接在信號線上。TFr的源極電極上，連接著畫素 電極。在此有與晝素電極在電性方面並列的補助電容的設計。補助電容主 要用來把晝素電極的電位在所需時間内保持一定。 電視機等所使用的液晶顯示器陣列基板等通常是大型的，製造良率下 降時，相失很大，所以，不止在液晶單元與液晶顯示器階段，在陣列基板 階段也必須進行檢查。 陣列基板的檢查方式是：首先設定陣列基板上形成的補助電容電荷， 讀取並且確認經過-定時間後希望的電荷能否維持，也就是使用充電感應 法(Charge sensmg)。充電感應法可用來檢查各種配線斷線及畫素缺陷的問 題（參照日本專利公報：特開2003-149281號）。 不過’陣列基板檢查時即使發現某些缺陷狀況，有時使用這塊基板組 裝成或液晶顯示||之後，卻發生檢查不到這些缺陷的狀況，這表 不陣列基板P純檢查或液晶單元或液晶齡器階段檢查出的缺陷狀況其 中有卩白#又疋有誤的。但無論如何，組裝成液晶單元或最終液晶顯示器前 必》頁此正確判別疋否有缺陷狀況才行，否則若在陣列基板的階段無法正確 檢查’ W仍有必要_液日日日元件或液錢示器，製造良率可能就會大受影 1260418 因此本^明主要目的在於防止：即使陣列基板檢查中可發現缺陷狀 液曰曰單元與液aa顯示器檢查卻無法發現這些缺陷财盾現象；並提供 陣列基板階段就能正確_缺陷的檢查裝置與檢查方法。 ’、 【發明内容】 一本^明相關的檢錄置主要内容有，用來檢查具有縱橫配線的液晶顯 不杰陣列基板之檢錄置，也就是包含有··用來配置卩翔基板之平台，以 及檢查上述_基板統雜的檢查部，以制來遮上述卩物基板防止受 光的遮光蓋，以及在上述_基板表面上絲吹進乾线的吹氣裝置等等 之檢查裝置。 、然後，在平台的地方配置陣列基板，在檢查部的地方進行檢查。此外， 為了避免卩翔基板因為光照射而產生錯魏作，必彡貞使用遮光蓋遮住光 線。又’為了除錄絲面的水分，必須财氣裝置吹綠空氣。 上述吹氣裝置包含：在與上述陣列基板表面的對面而吹乾空氣的吹氣 口以n從上述吹氣口所吹出乾空氣壓力的調整器。以調節器調節乾 空氣壓力，將乾空氣從吹出口吹進陣列基板表面。 上述吹出口為了能對陣列基板吹進乾空氣，必須言免計在遮光蓋上與陣 列基板面對的一側。 複數的上述陣列基板形成時通常為一整片，為了檢查各陣列基板，上 述平台必須能移動。也就是為了能從—整片玻璃基板製造出複數陣列基 板而必須在；7割成複數陣列基板之前進行檢查時，必須移動平台，檢查 所有陣列基板。 本發明相’查方法要旨，包括：準備具有縱橫配線驗晶顯示器陣 列基板的步驟，以及遮上述陣列基板光的步驟，以及對上述陣列基板表面 17人乾空氣的步驟，以及檢查上述陣列基板電特性的步驟等等。 上述遮光的步驟以及吹乾空氣的步驟，以及檢查電特性的步驟，可同 時進行。 1260418 t述吹乾空氣的步驟，其本身包含調整乾空氣吹出壓力的步驟。 複數的上述陣列基板形成時為一整片，因此為了檢查各陣列基板，尚 包含移動陣列基板的步驟。 根據本發明，因為能對陣列基板邊吹進乾空氣邊進行檢查，陣列基板 上的水分會被吹走。因鱗膽板上的水倾吹走，卿，不會產生水分 導致配線短路的狀況’可以做這方面確實的檢查。所以，也不會因為陣列 基板缺陷導致液晶顯示器製造良率下降，致液晶顯示雜造過程中出現 損失。 【實施方式】 …本發明實施型恶之前，先說明本發明的出發點與相關概念。 傳統上使用陣列基板檢查裝置進行的各種檢查，其結果會因為陣列基 板種4不同產生在這個階段能正確檢查基板以及不能正確檢查基板兩種 狀况。因此’有必要比較、檢討能正確檢查與不能正確檢查基板彼此之構 造差異。 陣列基板部分瞒圖如圖2所示。陣舰板在賴基板上縱橫地配置 閘極線30與信號線32之配線，其交又部設置τρΓ 34。tft 34問極電極 接在閘極、線30，沒極則連接信號線32。為了在液晶上施加電場而設計的 晝素電極36，其連接著TFT源極。此外，除了畫素電極％之外，也另外 並列地設置補助電容（未繪示）。 圖3顯不可能以傳統陣列基板之檢查裝置正確進行檢查的陣列基板 12a之斷面圖。此外，圖4(a)，（b)代表沒辦法正確檢查的陣列基板丨％、 12c的斷面圖。說明如下述。 圖3之陣列基板12a乃傳統使用、周知的陣列基板。圖4中為無法正 確檢查的陣列基板12b、12c，乃近來為了因應液晶顯示器高精細化而使 用的陣列基板。任何一個陣列基板12a、12b、12c都在玻璃基板38上形 成信號線32與晝素電極36。 1260418 比較傳統的陣列基板12a與近來常用的陣列基板⑶、仏的構造， =會發現，兩者在«電極36與聽電極4_置_上有差里 漸受應用的陣列基板12b與12c，其共通電極4〇會暴露出來，或在 子層44上形成。與傳統做法相比，高精細化陣列基板⑶、仏的電極 36與40空隙比較窄，而在陣列其^ 乍隹I早歹j基板12b、Uc的階段之中，電極36盥4〇 θ/妾觸到空氣。另-方面’傳統的陣列基板12a，其共通電極4〇則 護膜（p —S i N) 42覆蓋。 ’、 如上述的兩類構造，經過各方研究的結果，在陣細反12的檢查階 財’若是電極36與4〇會暴露在空氣中者，妓中所含的水分可能會附 者兩電極導致漏電（短路）狀況，無法保持原先希望的電荷。從而，容易 造成檢查結果的誤判，認定此為—有缺陷之晝素；然而，但組裝完成液晶 兀件或液a顯轉之後，_ _基板丨2的雜36舆W轉暴露在空 氣之中，電極36與40之間不會附著水分，漏電的顧可能就^此解^ 就能進行正_檢查。這纽U何树會發生_級檢查時即使發現 某些缺陷狀況，使賤塊基板組裝成液晶單域液晶顯轉之後，卻檢查 不到這些缺陷的矛盾現象。 因此，在沒辦法正確檢查的陣列基板（構造如斷面圖⑶、12幻類 型進行檢查陣列基板12時，必須先排除陣列基板12表面附著的水分才能 正確地進行。這也是本發日·狀…以下進—步_本發_關内容。 如圖1所示，本發明檢查裝置時包含配置陣列基板12的平台14，以 及用來檢查_基板12電特性的檢查部，用來遮掩陣列基板12使它不被 光線照射的遮光蓋16、往_基板12吹進乾域18的吹氣裝置等等。 用來檢查電氣特性的檢查部，可在陣列基板12的各畫素上寫進電荷 而讀取之，因此就可檢查陣列基板12配線是否有斷線、短路以及晝素是 否缺陷等狀況。本發明所使用的檢查部，可利用充電感應法進行檢查。陣 列基板12端部設計有可接驅動IC的端子。檢查部則包含接上述端子，本 1260418 身配備可施加所希望電壓的探針20之探針組22，以及可產生所希望脈 衝、以所希望時間來施加的探針2〇而藉以打開丁間極的回路，以及能 在陣列基板12各晝素上寫進電荷时寫回路，以及能讀出所寫電荷的檢 測回路等等。 遮光蓋16使用可遮光的板狀體。探針組π成框形，把遮光蓋μ和 探針組22 #疊（如圖丨所示），就可完全遮光。之所以進行縣，主要是 為了防轉列基板12上造成TFT受光感應導致錯誤動作的情況。 吹氣裝置主要是為了吹走陣列基板表面附著的水分而把乾空㈣ 吹向陣列基板12表面。吹綠置包含齡乾域18的域箱％、和陣 列基板12表面對向的乾空氣18吹出口 ％，以及調整從吹出口 ％所吹出 乾空氣18的壓力調節器(regulat〇r) 28等等。比如，乾空氣18之澄度約 〇%，露點為-60°C〜-7(TC，以調節器28產生的塵力約〇 15黯〜〇 5〇 顺。陣列基板12表面上，有-點點務微可感受到的風量。吹出口 ％為 稷數设計，目的是讓乾空氣18能均勻吹向陣列基板表面。比如，吹出 口 26的數目大約8〇個，大小約直徑imm。 吹出口 26例如是設計在與位於遮光蓋16上的陣列基板12對面的位 置。目的是把乾空氣18吹向陣列基板12。 複數的陣列基板12形成時為一整片，為了檢查各陣列基板12，平台 14可以移動。換言之，為了從一整片玻璃基板製造出複數的陣列基板12， 必須在为割成各陣列基板12之前進行檢查，因此，必須移動平台μ 檢查。 口 其次說明本發明之檢查方法： (1) 準備配線縱彳頁排列的液晶顯不器陣列基板12。這項準備工作是在 玻璃基板上反覆進行材料積層及圖案化，由此就可做出陣列基板12，再 把它放到平台14上。 (2) 陣列基板12必須遮光。探針組22做成框形，從陣列基板對面的 1260418 位置遮光’然後讓遮光蓋16和探針組22重疊，用這樣的方法就可以為陣 列基板I2遮光。完成遮光之後，就可以防止陣列基板12上造成TFT受 光產生各種誤動作。 (3) 把乾空氣18吹向陣列基板12表面，從複數吹出口 ％將乾空氣18 均勻吹向陣列基板12。有了乾空氣18就可吹走陣列基板12表面附著的 水分，防止陣列基板12出現回路短路等狀況。 (4) 檢查_基板12電的雜。糊·感應法進行檢查。 上述⑺〜(4)同時進行。在此為了進行電特性的檢查，因此必須對陣列 基板12進行遮光與除去水分的工作。 上述(3)將乾空氣18吹向陣列基板12時，必須以調節器28 一面調整 乾空氣18之吹出壓力。以上述所定壓力把乾空氣18吹出知就可去除水 分。 複數陣列基板12為-大片的情況下，為了檢查各陣列基板^，必須 移動陣列基板12。意即，為了從—片玻璃基板做出複數陣列基板12，必 須讓複數陣聽板I2成為—體，然後檢查時移鮮台M，賤樣的方法 檢查各陣列基板12。 如圖5所示，不同日期分別以本發明及傳統檢查裝置進行陣列基板 I2的檢紅作，關查最終液晶齡器之缺陷（不良）率。點線框内是 傳統檢查裝置，並沒有實施吹氣。使用本發明之檢錄置時，與傳統做法 相比，液晶顯不器缺陷率將會減少，並能在陣列基板^的檢查階段確認 是否有缺陷。 如圖6所示，不同日分別以本發明及傳統的檢查裝置進行陣列基板 12的檢查工作’測定從陣列基板12讀出的電荷最大值(ΜΑχ)、最小值 (ΜΙΝ)、平均值(AVE)。點線她巾乃是傳統檢魏置，並沒有實施吹氣。 實施吹氣的本發明檢查裝置1G，可確認所讀&的電荷值高低差異較小， 因此，就可證明吹了空氣，從寫入電荷到讀出為止，過程中水分導致漏電 1260418 的情況較輕微。 本I明主要是把乾空氣吹向陣列基板12表面，用這種方式除去附著 陣列基板12表面的水分，如此便可進行正確檢查。若照傳統做法，組裝 液晶單几件或液晶面板時不能保持乾燥，就無法了解陣列基板12的真正 缺陷狀況。但用這種方法，即便在陣列基板12的階段，也可真正了解缺 陷狀況’不只可以提高液晶單元或液晶顯示器製造的良率，也可降低損失。 以上乃針對本發明實施狀態之說明，但本發明的内容並未限定於上述 貫施型恶。除此之外，本發明在不超出主旨的範圍内，可由各 相關知識進行各種改良、修正與變更。 σ心、土；

【圖式簡單說明】 圖1乃本發明檢查裝置構成圖示。 圖2乃部分陣列基板等價回路的圖示。 圖3乃傳統陣列基板之中圖2之Α—Α，斷面圖。 圖4乃近年來普遍使用的陣列基板圖2之Α—Α,斷面 電極暴露出之後的圖，（b)乃是使用高分子層的圖示。 /、 圖5乃找出液晶顯示器缺陷（不良）率差異的圖表。 圖6乃測定晝素所蓄積電荷差異的圖表。

【主要元件符號說明】 10 :檢查裝置 12、12a、12b、12c :陣列基板 14 平台 16 遮光蓋 18 乾空氣 20 探針 22 探針組 24 空氣箱 12 1260418 26 :吹出口 28 :調節器 30 :閘極線 32 :信號線 34 ： TFT 36 :畫素電極 38 :玻璃基板 40 :共通電極 42 :保護膜 44 :高分子層

Claims (1)

1260418 I 十、申請專利範圍： 一一 1· 一種檢查液晶顯示器陣列基板之檢查裝置，包括： 一用於配置至少一陣列基板的平台； 一檢查該陣列基板電氣特性的檢查部； 一用來遮蔽該陣列基板使避免受光的遮光蓋；以及 一用來向該陣列基板吹氣體的吹氣裝置，其中該檢查部具有一探針 組以進行該陣列基板之檢查，並且該遮光蓋係與該探針組有部分重 疊、以完全遮住該陣列基板避免其受光導致檢查之誤動作。 2·如申請專利範圍第1項之檢查裝置，其中該吹氣裝置更包括·· 面對該陣列基板表面的至少一氣體吹出口；以及調整自該吹出口所吹 擊 出氣體壓力的一調節器。 3·如申請專利範圍第1項之檢查裝置，其中該吹氣裝置所吹出為一乾空 氣。 4·如申請專利範圍第1項之檢查裝置，其中該檢查部之該探針組係為框 形。 5·如申請專利範圍第2項之檢查裝置，其中該吹氣裝置所吹出為一乾空 氣。 6·如申請專利範圍第2項之檢查裝置，其中該氣體吹出口係配置於該遮 0 光蓋上且位於與該陣列基板面對的區域。 7·如申請專利範圍第3項之檢查裝置，其中該吹氣裝置更包括一儲存有 一乾空氣的空氣箱，該乾空氣的濕度約0%，露點為-60°C〜-70°C。 8.如申請專利範圍第1、2、3、4、5、6或7項之檢查裝置，其中配置該 些陣列基板的平台為可移動以供檢查該些陣列基板。 9· 一種檢查液晶顯示器陣列基板之檢查方法，包括： 一配置至少一陣列基板於一平台的步驟； 一遮蔽該陣列基板使避免受光的步驟； 14 1260418 ---一層仙·，一崖編一·n^-r『rr- . τ· 1260418 ---一層仙·，一崖編一·n^-r『rr- . τ· f 修正 ; -r* 補兄 *·*«·榻.，彻1·」ιΐ|. | βΛΓ」 一對该陣列基板表面吹氣體的步驟；以及 一檢查該陣列基板電氣特性的步驟。 Η).如申請專利範圍第9項之檢查方法，其中該對該陣列基板表面吹氣體 的步驟係為一吹乾空氣的步驟。 如中請專利綱第9項之檢查方法，其中該遮光的步驟、該吹氣體的 步驟以及該檢查陣列基板電氣特性的步驟係為同時進行。 L如帽專利綱第9、1G或η項之檢查方法，其中麟稱列基板表 面吹氣體的步驟更包括一調整吹出氣體壓力的步驟。 13·如申請專利範圍第9、1〇或U項之檢查方法，更包括移動該平台以供

檢查該些陣列基板的步驟。 14·如申,月專利範圍第12項之檢查方法，其中該調整吹出氣體壓力的步 驟，係包含調整一調節器使該調節器產生之壓力約〇15 Mpa〜〇5〇 MPa的步驟。 15·種檢查薄膜電晶體陣列基板之檢查裝置，包括： 一用於配置至少一薄膜電晶體陣列基板的平台； 一檢查該陣列基板電氣特性的檢查部； 一用來遮蔽該陣列基板使避免受光的遮光蓋；以及 一用來向該陣列基板吹氣體的吹氣裝置，其中該檢查部具有一探針 組以進行該陣列基板之檢查，並且該遮光蓋係與該探針組有部分重 ®、以完全遮住該陣列基板避免其受光導致檢查之誤動作。 16·如申請專利範圍第15項之檢查裝置，其中該吹氣裝置更包括： 面對該陣列基板表面的至少一氣體吹出口；以及調整自該吹出口所吹 出氣體壓力的一調節器。 17 •如申請專利範圍第15項之檢查裝置，其中該吹氣裝置所吹出為一乾空 氣。 18 • °申請專利範圍第15項之檢查裝置，其中該檢查部之該探針組係為框 15 1260418 形0

19. 20. 21. 22. 23. 24. 25. 26. 如申請專利範圍第16項之檢查裝置，其中該吹氣裝置所吹出為一乾空 氣。 如申請專利範圍第16項之檢查裝置，其中該氣體吹出口係配置於該遮 光蓋上且位於與該陣列基板面對的區域。 如申請專利範圍第17項之檢查裝置，其中該吹氣裝置更包括一儲存有 一乾空氣的空氣箱，該乾空氣的濕度約0%，露點為-60°C〜-70°C。 如申請專利範圍第15、16、17、18、19、20或21項之檢查裝置，其 中配置該些陣列基板的平台為可移動以供檢查該些陣列基板。 一種液晶顯示器之製造方法，包括： 一形成具有縱橫配線之一陣列基板的步驟； 一配置至少一陣列基板於一平台的步驟；以及 一檢查該陣列基板的步驟其係包括：一檢查該陣列基板電氣特性的 步驟、一對該陣列基板表面吹氣體的步驟。 如申請專利範圍第23項之製造方法，其中該檢查該_基板的步驟更 包括一遮蔽該陣列基板避免受光的步驟。 如申請專利範圍第23項之製造方法，其中有一段時間係同時進行著該 檢查該陣列基板電氣特性的步驟以及對該陣列基板表面吹氣體的步 驟。 如申凊專利範圍第24項之製造方法，其中有—段時間侧時進行著該 檢查該陣贿板電氣特性的步驟以及職陣列基板表面吹氣體的步 驟。 16